JP6765429B2 - 光学積層体 - Google Patents
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Description
波長選択性反射素子の一種であるコレステリック液晶は特定の波長の特定の円偏光を選択的に反射し、その他の波長および円偏光を透過させる性質を有し、表示装置におけるカラーフィルタや輝度向上フィルム等に使用されている。
絶対位相調整層は、屈折率および膜厚の少なくとも一方に面内分布を有することにより膜厚方向の光路長に面内分布を有し、
絶対位相調整層側から入射した光のうち、波長選択性反射素子による特定の反射波長領域の光を、入射した光の波面とは異なる波面を有する反射光として出射する。
図1は、本発明の第1の実施形態の光学積層体10の側面図およびその絶対位相調整層14の面内一方向における光路長Lの変化(光路長の面内分布)を示す。
本光学積層体10は、この絶対位相調整層14を備えたことにより、本光学積層体10に絶対位相調整層14側から入射した入射光Iのうち、波長選択性反射素子12による選択反射波長領域の左円偏光成分もしくは右円偏光成分光である反射光Rを、入射時の波面とは異なる波面を有する光として出射することができる。
本実施形態の構成においては、面に垂直に入射する入射光Iのうち、波長選択性反射素子12で反射された反射光Rは、面の法線に角度を持った斜め方向に出射される。
すなわち、絶対位相調整層14の光路長の面内分布によって反射光の波面を制御することができる。
本発明の光学積層体においては、絶対位相調整層14により絶対位相を変化させることにより反射光の波面を制御できるので、コレステリック液晶層からなる反射層自体には微細な配向方向制御の必要がなく、面内一様配向処理を用いることができる。
図5に示す光路長の面内分布パターンは凸面レンズの機能を示し、反射光を発散させることができる。
図6に示す光路長の面内分布パターンは凹面レンズの機能を示し、反射光を集光させることができる。
図8は、絶対位相調整層14における光路長のx軸方向の変化を示す図である。絶対位相調整層14は、図8に示すようなフレネルレンズ様の光路長の面内分布パターンを有するものとしてもよい。
本実施形態の光学積層体110は、上述の第1の実施形態の光学積層体10における、コレステリック液晶層である反射層からなる波長選択性反射素子12に代えて、屈折率の異なる少なくとも2つの層が交互に多層積層された誘電体多層膜である反射層からなる波長選択性反射素子112を備えている。
他方、誘電体多層膜を構成する高屈折率層112Hと低屈折率層112Lの少なくとも一方が面内異方性を有し、特定の直線偏光を反射するように構成されていてもよい。
[[反射層:コレステリック液晶層]]
コレステリック液晶相における螺旋構造のピッチまたは屈折率を変えることにより反射中心波長を調整することができる。この螺旋構造のピッチはキラル剤の添加量を変えることによって容易に調整可能である。具体的には富士フイルム研究報告No.50(2005年)p.60−63に詳細な記載がある。また、コレステリック液晶相を固定するときの温度や照度と照射時間などの条件などで調整することもできる。
コレステリック液晶層は、選択反射波長領域において右円偏光および左円偏光のいずれか一方の円偏光を選択的に反射し、他方の円偏光を透過させる。
コレステリック液晶層を形成するための重合性液晶組成物は、棒状液晶化合物もしくは円盤状液晶化合物を含有し、さらに、キラル剤、配向制御剤、重合開始剤および配向助剤などのその他の成分を含有していてもよい。
棒状液晶化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性分子だけではなく、高分子液晶性分子も用いることができる。
円盤状液晶化合物としては、例えば、特開2007−108732号公報や特開2010−244038号公報に記載のものを好ましく用いることができる。
コレステリック液晶層を形成するために用いられる組成物には、上記円盤状液晶化合物の他、キラル剤、配向制御剤、重合開始剤、および配向助剤などのその他の成分を含有していてもよい。いずれも公知の材料を利用することができる。
コレステリック液晶層を形成するための組成物の溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド(例、N、N−ジメチルホルムアミド)、スルホキシド(例、ジメチルスルホキシド)、ヘテロ環化合物(例、ピリジン)、炭化水素(例、ベンゼン、ヘキサン)、アルキルハライド(例、クロロホルム、ジクロロメタン)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸ブチル)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン)、エーテル(例、テトラヒドロフラン、1、2−ジメトキシエタン)が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
重合性液晶組成物の塗布は、重合性液晶組成物を溶媒により溶液状態としたり、加熱による溶融液等の液状物としたりしたものを、ロールコーティング方式やグラビア印刷方式、スピンコート方式などの適宜な方式で展開する方法などにより行うことができる。さらにワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、等の種々の方法によって行うことができる。また、インクジェット装置を用いて、液晶組成物をノズルから吐出して、塗布膜を形成することもできる。
重合性液晶組成物の塗布後であって、硬化のための重合反応前に、塗布膜は、公知の方法で乾燥してもよい。例えば放置によって乾燥してもよく、加熱によって乾燥してもよい。
重合性液晶組成物の塗布および乾燥の工程で、重合性液晶組成物中の液晶化合物分子が配向していればよい。
誘電体多層膜は、互いに異なる屈折率を有する2以上の誘電体層が積層されて構成され、各層の屈折率や厚みを調整することにより、所望の波長領域が選択的に反射可能な反射層となる。
絶対位相調整層を構成する組成物は、光学的に等方性を有し、光路長に面内分布を形成することができれば、特に制限はない。例えば、ITO(酸化インジウムスズ)の他、樹脂材料中に金属酸化物微粒子を添加したものが挙げられる。屈折率調整用透明材料として公知の材料を適宜使用することができる。
高屈折率を実現する素材としては、例えば、特開2002−311204号公報中の[0054]〜[0057]段落に記載のものや一般的な公知の高屈折率の材料も用いることができる。具体的には、特開2008−262187号公報の段落番号[0074]〜[0094]に記載のものを用いることができる。また、光照射によって屈折率の値を変える屈折率光変調型の材料も用いることが出来る。例えばホログラフィーに用いられるようなフォトポリマー等の材料を用いることが出来る。
上記の低屈折率を実現する素材あるいは高屈折率を実現する素材を含有する組成物を複数用意して、マスクを利用する等により波長選択性反射素子上のあるいは仮支持体上の所望の位置に塗布し、露光硬化させる手順を組成物毎に繰り返すことにより、異なる屈折率を有する領域をパターン形成することができる。
支持体としては、透明支持体が好ましく、ポリメチルメタクリレート等のポリアクリル系樹脂フィルム、セルローストリアセテート等のセルロース系樹脂フィルム、およびシクロオレフィンポリマー系フィルム[例えば、商品名「アートン」、JSR社製、商品名「ゼオノア」、日本ゼオン社製]等を挙げることができる。支持体は、可撓性のフィルムに限らず、ガラス基板等の非可撓性の基板であってもよい。
なお、本発明の光学積層体は、製膜する際の支持体に支持されたまま使用されるものであってもよいし、製膜する際の支持体は仮支持体とし、他の支持体に転写され、仮支持体を剥離して用いられるものであってもよい。
波長選択性反射素子がコレステリック液晶層を備える場合にはその製膜面に配向層が備えられていてもよい。配向層は有機化合物(好ましくはポリマー)のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成等の手段で設けることができる。さらには、電場の付与、磁場の付与、或いは光照射により配向機能が生じる配向層も知られている。配向層は、ポリマーの膜の表面を、ラビング処理することにより形成することが好ましい。配向層は、支持体と共に剥離することが好ましい。
本明細書において、「接着」は「粘着」も含む概念で用いられる。
波長選択性反射素子と絶対位相調整層とを積層させる場合には接着層を介して積層されていてもよい。
波長選択性反射素子としてコレステリック液晶層からなる反射層を備えた光学積層体を作製した。ガラス基板上に設けられた配向層上にコレステリック液晶層を形成し、別途作製した絶対位相調整層をコレステリック液晶層と貼り合せることにより光学積層体を作製した。以下詳細について説明する。
下記に示す配向層形成用組成物Aの成分を、80℃に保温された容器中にて攪拌、溶解させ、配向層形成用組成物Aを調製した。
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
配向層形成用組成物A(質量部)
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純水 97.2
PVA−205 (クラレ製) 2.8
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下記に示すコレステリック液晶組成物Gmの成分を、25℃に保温された容器中にて、攪拌、溶解させ、コレステリック液晶組成物Gmを調製した。
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
コレステリック液晶組成物Gm(質量部)
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メトキシエチルアクリレート 145.0
下記の棒状液晶化合物の混合物 100.0
IRGACURE 819 (BASF社製) 10.0
下記構造のキラル剤A 5.98
下記構造の界面活性剤 0.08
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
ガラス基板上の配向層上に設けられたコレステリック液晶層の上に、互いに屈折率が異なる第1〜第6の領域が図2に示したように一方向に配列されたパターンが周期的に繰り返された面内分布を有する絶対位相調整層を形成した。
[分散液D1の調製]
下記組成の分散液D1の成分を調合し、これをジルコニアビーズ(0.3mmφ)17,000質量部と混合し、ペイントシェーカーを用いて12時間分散を行った。ジルコニアビ−ズ(0.3mmφ)をろ別し、分散液D1を得た。
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分散液D1(質量部)
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二酸化ジルコニウム(ジルコニア)
(日産化学工業(株)製、商品名:ナノユースZR、
平均一次粒径:10〜30nm) 1875
DISPERBYK−111(ビックケミー・ジャパン(株)製)
30%PGMEA溶液 2200
溶剤 PGMEA 3425
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3つ口フラスコにMEDG(ジエチレングリコールメチルエチルエーテル:東邦化学工業製)89gを入れ、窒素雰囲気下において90℃に昇温した。その溶液にMAEVE(1−エトキシエチルメタクリレート:和光純薬工業社製)0.4モル当量、GMA(グリシジルメタクリレート:和光純薬工業製)0.3モル当量、MAA(メタクリル酸:和光純薬工業社製)0.1モル当量、HEMA(ヒドロキシエチルメタクリレート:和光純薬工業社製)0.2モル当量、V−65(アゾ系重合開始剤;和光純薬工業製、全単量体成分の合計100mol%に対して4mol%に相当)を溶解させ、2時間かけて滴下した。滴下終了後2時間撹拌し、反応を終了させた。それによりポリマーE1を得た。なお、MEDGとその他の成分の合計量との比を60:40とした。すなわち、固形分濃度40%の重合体溶液を調製した。
下記表1に示す組成(質量部)にて、各素材を混合して均一な溶液とした後、0.2μmのポアサイズを有するポリエチレン製フィルターを用いてろ過して、屈折率層形成用組成物C1〜C6を調製した。
PAG−1:特表2002−528451号公報の段落番号[0108]に記載の方法に従って合成した下記構造の化合物(Ts部分はトリスルホネートを表す)。
[[光増感剤]]
増感剤1:下記構造のジブトキシアントラセン(製造元:川崎化成社製、品番:9,10−ジブトキシアントラセン)
[[塩基性化合物]]
塩基性化合物:下記構造の化合物(製造元:東洋化成工業製、品番:CMTU)
[[界面活性剤]]
界面活性剤F−554:下記構造式で示されるパーフルオロアルキル基含有ノニオン界面活性剤(DIC製)
上記で作製したコレステリック層付きガラス基板上に、上記組成物C1をスリットコーターを用いて均一塗布し、80℃、60秒間乾燥した後に、キヤノン(株)製PLA−501F露光機(超高圧水銀ランプ)を用い、ライン線幅13.3μm、L/S=1/5のマスクを介して露光した。そして、露光後、組成物C1を、アルカリ現像液(0.4質量%のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液)で23℃/60秒間現像した後、超純水で20秒リンス、200℃で30分間のポストベーク加熱処理を行った。出来上がったC1層(第1の領域)の厚みは0.71μm、線幅は13.3μm、屈折率は1.50であった。
(屈折率層形成用組成物C7〜11の調整)
表2に示す組成(質量部)にて、各素材を混合して均一な溶液とした後、0.2μmのポアサイズを有するポリエチレン製フィルターを用いてろ過して、屈折率層形成用組成物C7〜11を調製した。
実施例1で作製した配向膜付きガラス基板の配向膜上にコレステリック液晶層が設けられてなるものを比較例1とした。すなわち、比較例1は絶対位相調整層を備えない従来の波長選択性反射素子からなる反射偏光子である。
各光学積層体について、絶対位相調整層の表面側から、表面に対する法線方向(極角0°)から光を入射させ、その反射光の反射角を測定した。
反射角の測定は、532nmに出力の中心波長をもつレーザ光を表面に対する法線方向から50cmの距離から入射し、その反射光のスポットを50cmの距離に配置したスクリーンで捉えて、反射角度を算出した。
波長選択性反射素子として誘電体多層膜D1からなる反射層を備えた光学積層体を作製した。波長選択性反射素子は特表平11−508378号公報を参照して作製した。以下詳細について説明する。
誘電体多層膜D1を、2種類の配向複屈折ポリマー層を交互に積層し、その面内屈折率が2種類の層で異なるように2軸延伸させることで作製した。2種類の配向屈折率ポリマーの層のそれぞれの厚さにそれぞれの屈折率を掛けた値である光路長が、所望の反射波長(ここでは、532nm)の4分の1に等しくなるよう誘電体多層膜の厚さを設計した。本実施例では、特表平11-508378号公報に記載の誘電体多層膜の作製方法は1軸延伸であるが、ここでは2軸延伸とし、各層の屈折率は面内異方性が無いものとした。2種類の配向屈折率ポリマーのうち低屈折率層の屈折率が1.64、高屈折率層の屈折率が1.88になるようにした。532nmを中心波長とした波長領域を選択的に反射する反射層とするために、低屈折率層の厚さを81.1nm、高屈折率層の厚さを70.7nmとし、これを交互に128層ずつ積層し計256層からなるフィルムを作製した。このようにして、反射中心波長が532nmである特定の選択反射領域を有する誘電体多層膜D1からなる反射層を作製した。なお、選択反射領域の半値幅は約80nmであった。
絶対位相調整層は、実施例1のものと同一の作製方法で誘電体多層膜D1上に作製した。すなわち、実施例1と同じ、屈折率層形成用組成物C1〜C6を用いて作製した第1から第6の領域が周期配置されたパターン構成の絶対位相調整層を作製した。
実施例11と同様にして誘電体多層膜D1からなる反射層を作製した。絶対位相調整層は、実施例2のものと同一の作製方法で誘電体多層膜D1上に作製した。すなわち、実施例2と同じ、屈折率層形成用組成物C7〜C11を用いて作製した第1から第6の領域が周期配置されたパターン構成の絶対位相調整層を作製した。
波長選択性反射素子として誘電体多層膜D2からなる反射層を備えた光学積層体を作製した。
誘電体多層膜D2を、2種類の配向複屈折ポリマー層を交互に積層する。このとき、2種類の配向性屈折率ポリマー層は、その面内の一方向(例えばx軸)の屈折率が略等しく、それと直交の方向(例えばy軸)の屈折率が互いに異なるものとし、それぞれの厚さにy軸方向の屈折率を掛けた値である光路長が、所望の反射波長(ここでは532nm)の4分の1に等しくなるよう誘電体多層膜の厚さを設計した。本実施例では、特表平11−508378号公報に記載の誘電体多層膜の作製方法に則って1軸延伸により特表平11−508378号公報の図1、図2の構成と同様の、特定の直線偏光を選択的に偏光反射する構成とした。532nmを中心波長とした波長領域を選択的に反射する反射層とするために、低屈折率層の厚さを81.1nm、高屈折率層の厚さを70.7nmとし、これを交互に128層ずつ積層し計256層からなるフィルムを作製した。このようにして、反射中心波長が550nmであり、特定の選択反射領域を有し、かつ特定の直線偏光を反射する誘電体多層膜D2からなる反射層を作製した。なお、半値幅は約80nmであった。
絶対位相調整層は、実施例1のものと同一の作製方法で誘電体多層膜D2上に作製した。すなわち、実施例1と同じ、屈折率層形成用組成物C1〜C6を用いて作製した第1から第6の領域が周期配置されたパターン構成の絶対位相調整層を作製した。
実施例11で作製した誘電体多層膜D1からなる波長選択性反射素子を比較例11とした。すなわち、比較例11は絶対位相調整層を備えず波長選択性反射素子のみからなるものとした。
12 波長選択性反射素子(コレステリック液晶層)
14 絶対位相調整層
112 波長選択性反射素子(誘電体多層膜)
A1〜A6、S1〜S6 領域
n、n1〜n6 屈折率
d、d1〜d6 膜厚
L、L1〜L6 光路長
I 入射光
R 反射光
Claims (7)
- 特定の反射波長領域の光を選択的に反射する反射層を備えた波長選択性反射素子と、前記波長選択性反射素子の少なくとも一方の面側に備えられた、光学等方性を有する絶対位相調整層とを備え、
前記波長選択性反射素子は厚みが均一であり、
前記絶対位相調整層は、膜厚が均一であり、かつ、屈折率に面内分布を有することにより膜厚方向の光路長に面内分布を有し、
該絶対位相調整層側から入射した光のうち、前記波長選択性反射素子による前記特定の反射波長領域の光を、前記入射した光の波面とは異なる波面を有する反射光として出射する光学積層体。 - 前記波長選択性反射素子の前記反射層が、コレステリック液晶層からなる請求項1記載の光学積層体。
- 前記波長選択性反射素子の前記反射層が、屈折率の異なる少なくとも2つの層が交互に多層積層された誘電体多層膜からなる請求項1記載の光学積層体。
- 前記光路長の前記面内分布は、前記光路長が階段状に変化するパターンを有する請求項1から3いずれか1項記載の光学積層体。
- 前記光路長の前記面内分布は、一点から離れるにつれて前記光路長が徐々に長くなるパターンを有する請求項1から4いずれか1項記載の光学積層体。
- 前記光路長の前記面内分布は、一点から離れるにつれて前記光路長が徐々に短くなるパターンを有する請求項1から4いずれか1項記載の光学積層体。
- 前記パターンが周期的に繰り返されている請求項4から6いずれか1項記載の光学積層体。
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