JP6761563B2 - 除染装置および除染方法 - Google Patents
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Description
本発明の除染装置は、チャンバーと、チャンバーにそれぞれ接続する過酸化水素蒸気発生装置と、オゾンガス発生装置とを備える。これにより本発明は、殺菌処理とエンドトキシン不活化処理とを同時期に行える。本発明は、チャンバー内の相対湿度として、みかけの相対湿度と実質相対湿度とのいずれか一つ以上を測定する測定装置を備えることが好ましい。本発明においてチャンバー内の相対湿度とは、過酸化水素蒸気とオゾンガスとの供給開始時から供給終了時までのチャンバー内の所定の温度における平均相対湿度を意味する。さらに詳しくは、みかけの相対湿度の平均値または実質相対湿度の平均値である。
A:除染方法実施前のエンドトキシン活性(EU/ml)
B:除染方法実施後のエンドトキシン活性(EU/ml)
エンドトキシン不活化率(%)=[(A-B)/A]*100
本発明の除染方法は、チャンバー内に過酸化水素蒸気を供給する過酸化水素蒸気供給工程と、チャンバー内にオゾンガスを供給するオゾンガス供給工程とを含み、チャンバー内で被処理物と過酸化水素蒸気とオゾンガスとを接触させて、被処理物を殺菌し、かつ被処理物を汚染するエンドトキシンを不活化する除染方法である。
実施例1ないし実施例8と比較例1ないし比較例5との除染装置では、チャンバーとしてステンレス製容器を用いた。各チャンバーは恒温槽に設置した。各チャンバーには過酸化水素蒸気発生装置とオゾンガス発生装置とを接続させ、チャンバー内に過酸化水素蒸気とオゾンガスとを別々の供給口から供給できるようにした。また上記の装置の排気ラインには、分解装置を設けた。
[過酸化水素蒸気発生装置]澁谷工業製HYDEC相当品
実施例1ないし実施例8と比較例1ないし比較例5(以下、「実施例1等」と記載する場合がある。)について、実質相対湿度を補足するための補足試験1を行った。補足試験1の実施方法では、二種類の測定装置をチャンバーに装備し、相対湿度を観察した。第一の測定装置は実施例1等で用いたものと同じで、みかけの相対湿度を測定した。第二の測定装置と第一の測定装置との相違点は、感応部に過酸化水素を分解する触媒のフィルターが設けられていることである(ヴァイサラ社製NMT338相当品)。これにより第二の測定装置は、チャンバー内の過酸化水素の吸着の影響を抑制できる。したがって第二の測定装置で実質相対湿度を測定した。
本発明の滅菌効果を確認するため実施例9ないし実施例12を行い、BI殺菌のD値を算出した。実施例9ないし実施例12においては、D値の滅菌処理単位を時間で示した。
D=T/(logN-log(In(n/r))
BI:芽胞菌(Mesa Labs社製、菌種:Geobacillus stearothermophilus ATCC 12980)
担体:ステンレス(Tyvek袋入り)
菌数:およそ1.0×106
実施例13ないし実施例17を行い、エンドトキシン不活化率とBI殺菌結果とを得た。BI殺菌結果は、実施例1と同様の方法で得た。実施例13ないし実施例17のBI殺菌結果を図9に示す。エンドトキシン不活化率は、下記の方法で得た。
E. coli ATCC 23501 由来LPSをエンドトキシン試験用水に溶解し、ガラス板(6×6×1 mm)の片面に5μL塗布した後、室温で風乾し、EIとした。図9に示す実施条件のチャンバー内にEIを静置した。その後、チャンバーから取り出したEIは、ガラス製試験管に入れ、エンドトキシン試験用水1.0mlを加えた。続いて4℃の水浴中で10分間の超音波処理を行い、エンドトキシンを溶液中に回収した。
実施例13ないし実施例17について実質相対湿度を補足するため、図10に示す条件で補足試験1と同様の試験を行った。得られた実質相対湿度を図10に示す。なお実施例16は、実施例15と過酸化水素蒸気濃度を同じにするため、その実質相対湿度は、実施例15Sの実質相対湿度と同等になると推定できる。
2 過酸化水素蒸気発生装置
3 オゾンガス発生装置
4 チャンバー
5 調湿装置
6 分解装置
7 減圧装置
8 相対湿度の測定装置
9 恒温槽
10 調温装置
Claims (10)
- チャンバーと、
前記チャンバーに接続する過酸化水素蒸気発生装置と、
前記チャンバーに接続するオゾンガス発生装置と、
前記チャンバー内のみかけの相対湿度を測定する測定装置と、
を備え、
前記測定装置は、過酸化水素を分解する触媒のフィルターが設けられていない感応部を備える、除染装置。 - 前記みかけの相対湿度の測定結果に基づいて、前記チャンバー内を結露が発生しないように調節する調湿機能を備える、請求項1記載の除染装置。
- 前記チャンバー内を減圧する減圧装置と、前記チャンバー内の温度を調節する調温装置とのいずれか一つ以上を備え、
前記チャンバー内の前記みかけの相対湿度が調整される、請求項1記載の除染装置。 - 前記チャンバー内の前記みかけの相対湿度が、30〜50℃において、90〜99.9%RHになるように調節される、請求項1記載の除染装置。
- 前記過酸化水素蒸気発生装置は、
過酸化水素水溶液から過酸化水素蒸気を発生させるものであって、
前記過酸化水素水溶液の水分量や滴下量の調節により、過酸化水素蒸気の濃度やみかけの相対湿度の調節機能を備える、
請求項2の記載の除染装置。 - チャンバー内に過酸化水素蒸気を供給する過酸化水素蒸気供給工程と、
チャンバー内にオゾンガスを供給するオゾンガス供給工程と、
前記チャンバー内のみかけの相対湿度を測定するみかけの相対湿度測定工程と、
を含み、
前記測定工程は、前記過酸化水素蒸気中の過酸化水素を水分量に含めて相対湿度を測定し、
前記チャンバー内で被処理物と過酸化水素蒸気とオゾンガスとを接触させて、被処理物を殺菌し、かつ被処理物を汚染するエンドトキシンを不活化する、除染方法。 - 前記みかけの相対湿度の測定結果に基づいて、前記チャンバー内を結露が発生しないように調節する調湿工程を含む、請求項6記載の除染方法。
- 前記チャンバー内を減圧する減圧工程と前記チャンバー内の温度を調節する調温工程とのいずれか一つ以上を備え、
前記チャンバー内の前記みかけの相対湿度を調整する、請求項6記載の除染方法。 - 前記チャンバー内の前記みかけの相対湿度を、30〜50℃において、90〜99.9%RHになるようにする調節工程を含む、請求項6記載の除染方法。
- 前記過酸化水素蒸気供給工程は過酸化水素水溶液から過酸化水素蒸気を発生させるものであって、
前記過酸化水素水溶液の水分量や滴下量を調節できる工程を含み、
過酸化水素蒸気の濃度やみかけの相対湿度を調節できる工程を含む、
請求項7の記載の除染方法。
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