JP6732240B2 - X線測定装置 - Google Patents

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Description

本発明は、X線測定装置に関する。
X線を測定対象に照射し、測定対象から反射された後方散乱X線を検出して、測定対象の透視画像を取得する技術が知られている。しかしながら、通常のX線源では発生するX線の指向性が乏しいので、後方散乱X線は測定対象の透視画像を取得するには微弱である。
これに対し、特許文献1は、広がり角が十分小さい高指向性のパルスX線を周期的に発生するX線源を使用する技術を提案している。
また、特許文献2は、X線管で発生したX線を、ピンホールを通して形成しビーム上にして測定対象に照射し、後方散乱X線を、円形スリットを通してX線検査装置の内周面に入射させる技術を提案している。
特開2008−2940号公報(2008年1月10日公開) 特開2001−208795号公報(2001年8月3日公開)
しかしながら、上述した技術は、X線をスポットビーム状にして測定対象に照射して、微弱な後方散乱X線を捉える。このため、照射タイミングに合わせて後方散乱X線のみを検出する装置、X線管の近傍に設けられた、スポットビームを形成するためのコリメーション機構、スポットビームで対象物をスキャンするための機構、スポットビーム状のX線照射部の周辺に多くの検出装置を配置する装置等の特殊な装置が必要である。特に、X線管のエネルギーが高くなると、X線管の近傍に設けられたコリメーション機構が大型化するという問題がある。
本発明の一態様は、微弱なX線を捉えるための特別な構成を用いることなくX線を検出し、後方散乱X線像を結像させることを目的とする。
上記の課題を解決するために、本発明の一態様に係るX線測定装置は、測定対象にX線を照射するX線照射部と、上記測定対象で反射した後方散乱X線に応じた電気信号を検出するX線検出部と、上記X線検出部が出力する電気信号を参照して上記測定対象を測定する測定部と、上記後方散乱X線を通過させ、上記後方散乱X線を上記X線検出部上に結像させる開口が形成されたる開口部と、上記後方散乱X線の進行方向の上記開口部に対する上流側、および下流側のそれぞれに配された、所定のエネルギー量のX線を透過するフィルタとを備えている。
本発明の一態様によれば、微弱なX線を捉えるための特別な構成を用いることなくX線を検出し、後方散乱X線像を結像させることができる。
本発明の実施形態1に係るX線測定装置の概観図である。 散乱角毎のエネルギーと後方散乱X線の強度との関係を示す。 本発明の実施形態1に係るX線検出部の概観図である。 本発明の実施形態2に係るX線測定装置の概観図である。 本発明の実施形態3に係るX線測定装置の概観図である。 本発明の実施形態4に係るX線測定装置の概観図である。 本発明の実施形態5に係るX線測定装置の概観図である。
〔実施形態1〕
以下、本発明の実施の形態について、詳細に説明する。図1は本実施形態に係るX線測定装置1の概観図である。
(X線測定装置)
本実施形態において、X線測定装置1は、X線照射部10、センサ20、重金属板30、および測定部40を備えている。
X線照射部10は、測定対象2にX線を照射する。本実施形態のX線照射部10は、メートルサイズの従来品と比較して、小型かつ軽量である。例えば、本実施形態のX線照射部10として、大きさがCDケースサイズであり、厚さが70mmであり、重さが数kgであるものを採用することができる。本実施形態では、小型かつ軽量なX線照射部10を用いるので、X線測定装置1に備わる各部材の配置の自由度が、従来品と比較して圧倒的に高い。
X線照射部10は、X線を、集約等を行わず照射する。したがって、X線照射部10は、X線を、測定対象2からの一定領域の照射域に照射する。照射域は、X線照射部10が照射するX線のエネルギー量、およびX線照射部10と測定対象2との距離により決まる。
X線照射部10から照射されたX線の大部分は、測定対象2を透過するか、測定対象2に吸収されるが、一部のX線は測定対象2で反射される。反射されたX線を、後方散乱X線と呼ぶ。
センサ20は、測定対象2で反射した後方散乱X線に応じた電気信号を検出するX線検出部である。
重金属板30は、後方散乱X線を通過させる開口であるピンホール32を有する開口部である。ピンホール32は、後方散乱X線をセンサ20上に結像させる。センサ20は、ピンホール32を通過した後方散乱X線を検出する。重金属板30に含まれる重金属とは、例えば鉛、タングステン等である。
測定部40は、センサ20が出力する電気信号に応じた測定対象2の撮像画像を参照して測定対象2を測定する。
図2は、散乱角θsを異ならせた場合の、X線照射部10に与える電圧(横軸)と、後方散乱X線の強度(縦軸)との関係を示す。ここで、散乱角θsとは、照射したX線の進行方向に対して、変更された進行方向の角度を指す。図2は、150°、120°、100°の3種類の散乱角θsについて示す。
図2に示すように、散乱角θsが180°に近い方が、後方散乱X線の強度が大きくなる。このため、本実施形態では、図1の矢印Aに示すように、X線照射部10とセンサ20とをできるだけ近づけて配置することが重要である。すなわち、本実施形態のX線照射部10を小型にすることは重要である。
(センサ)
図3は、センサ20の上面図である。センサ20は、フラットパネルディスプレイであり、複数の素子22が配列され、ガラス状に製膜された素子アレイ、および素子アレイ全面を覆うシンチレータで構成されている。シンチレータは、後方散乱X線を受光し、後方散乱X線を光に変換する機能を備えるX線光変換部である。
複数の素子22の各々は、例えば200μm*200μmのサイズを有する。また、素子アレイは、例えば行方向に512個に並べ、列方向に512個並べて、計262144個並べる。この場合、有感面積は、102.4mm*102.4mmである。
複数の素子22の各々は、光電変換部であるフォトダイオードPD、保持部であるコンデンサCO、転送部の一部である薄膜トランジスタTFTを含んでいる。
フォトダイオードPDは、シンチレータが変換した光を受光し、電荷Qpdを発生する。フォトダイオードPDは、電圧印加端子VCC_PDと接続している。
コンデンサCOは、酸化物半導体を含み、フォトダイオードPDが発生した電荷Qpdを蓄積する。
薄膜トランジスタTFTは、酸化物半導体を含み、コンデンサCOと測定部40との接続をオンオフするスイッチとして機能する。薄膜トランジスタTFTは、コンデンサCOに保持されている電気信号を、測定部40へ転送する。
センサ20は、電気信号を保持、および転送する機構が酸化物半導体を含む。酸化物半導体は、アモルファスシリコンと比較してリーク電流が非常に小さいという特性がある。具体的には、酸化物半導体を用いた場合のリーク電流は、アモルファスシリコンを用いた場合のリーク電流の1/100以下である。したがって、センサ20は、微弱な後方散乱X線で発生する微小な電荷を長時間蓄えておくことができる。すなわち、X線測定装置1は、長時間に渡り微弱な後方散乱X線を検出し、増幅する事ができ、後方散乱X線の強弱を画像に表現することができる。
センサ20の検出面の中心は、X線照射部10から照射されるX線の中心線に対する角度が150°から180°の範囲内の位置に配される。
本実施形態に係るX線測定装置1によれば、測定対象2を透過したX線から得られる透過画像では確認できない、X線照射部10と対向する面側の構成を確認することができる。
〔実施形態2〕
本発明の他の実施形態について、以下に説明する。なお、説明の便宜上、上記実施形態にて説明した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付記し、その説明を繰り返さない。
図4に示すように、本実施形態において、X線測定装置1aは、第1のフィルタ41、および第2のフィルタ42をさらに備えている。
X線測定装置1aは、後方散乱X線の進行方向の重金属板30に対して上流側に配された第1のフィルタ41、および重金属板30に対して下流側に配された第2のフィルタ42を備えている。
第1のフィルタ41、および第2のフィルタ42は、例えば、銅、アルミニウム等の金属で形成されている。第1のフィルタ41、および第2のフィルタ42は、特定のエネルギー量のX線のみを透過させて、不要なX線を遮断する。第1のフィルタ41、および第2のフィルタ42は、用いる材質、後方散乱X線の進行方向の厚さを調整することにより、透過させるエネルギー量が調整される。
本実施形態において、第1のフィルタ41は、エネルギー量の大きなX線のみを透過させて、エネルギー量の小さいX線を遮断する。したがって、ピンホールを通過する後方散乱X線は、エネルギー量の大きなX線である。また、第2のフィルタ42は、ピンホール32を通過することで生じる特定のエネルギー量のX線を遮断する。X線がピンホール32の縁と衝突して散乱角が変わると、X線のエネルギー量が変わる。このため、特に特定のエネルギー量の後方散乱X線のみをセンサ20に結像させたい場合は、ピンホール32の縁と衝突し、エネルギー量が変わったX線を遮断することが好ましい。
第1のフィルタ41を設けることにより、エネルギー量の大きい後方散乱X線から得られる情報を選択的に取得することができる。X線は、エネルギー量が大きい程、測定対象2の表面の内部の深い箇所まで透過して散乱される。つまり、エネルギー量の大きい後方散乱X線は、測定対象2の内部で散乱されたX線である。したがって、本実施形態に係るX線測定装置1は、測定対象2の内部の画像を選択的に取得することができる。
また、第2のフィルタ42を設けることにより、ピンホール32を通過することで生じた不要な情報を撮像画像から除くことができる。
なお、本実施形態において、フィルタは、後方散乱X線の進行方向の重金属板30に対する上流側、および下流川の両方に配されている。しかしながら、フィルタは、後方散乱X線の進行方向の重金属板30に対する上流側、および下流側の少なくとも一方に配されていればよい。
〔実施形態3〕
本発明の他の実施形態について、以下に説明する。なお、説明の便宜上、上記実施形態にて説明した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付記し、その説明を繰り返さない。
図5に示すように、本実施形態に係るX線測定装置1bは、第1のセンサ20b1、第2のセンサ20b2、および不図示の立体画像生成部を備えている。すなわち、本実施形態に係るX線測定装置1bは複数のセンサを備えており、異なる方向から撮像した複数の画像から立体画像を生成することができる。また、X線測定装置1bは、第1のセンサ20b1に対応する第1の重金属板30b1、および第2のセンサ20b2に対応する第2の重金属板30b2を備えている。
立体画像生成部は、第1のセンサ20b1、および第2のセンサ20b2の測定結果に応じて立体画像を生成する。
複数のセンサが後方散乱X線を検出するために、(1)X線照射部10が、X線を、広がりをもって照射されていること、(2)X線照射部10の近くに各々のセンサを配置すること、および(3)少量の後方散乱X線を長時間にわたり収集できるセンサであることが必須である。
本実施形態に係るX線測定装置1bは、(1)X線照射部10はX線を、集約等を行わず照射し、(2)X線照射部10は小型であり、(3)電気信号を保持、および転送する機構が酸化物半導体を含む。つまり、本実施形態に係るX線測定装置1bは上記必須事項を満たしている。
〔実施形態4〕
本発明の他の実施形態について、以下に説明する。なお、説明の便宜上、上記実施形態にて説明した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付記し、その説明を繰り返さない。
図6に示すように、本実施形態に係るX線測定装置1cは、第1のセンサ20c1、第2のセンサ20c2を備えている。また、X線測定装置1cは、第1のセンサ20c1に対応する第1の重金属板30c1、および第2のセンサ20c2に対応する第2の重金属板30c2を備えている。
図6に示すように、第1の重金属板30c1に形成された第1のピンホール32c1と、第2の重金属板30c2に形成された第1のピンホール32c1とは、開口径が異なる。本実施形態において、矢印A1および矢印A2で示すように、第1のピンホール32c1の径は、第2のピンホール32c2の径と比較して大径である。同様に、第2のピンホール32c2の径は、第1のピンホール32c1の径と比較して小径である。
比較的大径な第1のピンホール32c1を通過した後方散乱X線は、第1のセンサ20c1に検出される。したがって、第1のセンサ20c1による検出により、比較的高速に測定対象2をスクリーニングすることができる。すなわち、第1のセンサ20c1により、比較的粗いが、広範囲を撮像した撮像画像51を取得することができる。
一方、比較的小径な第2のピンホール32c2を通過した後方散乱X線は、第2のセンサ20c2に検出される。したがって、第2のセンサ20c2による検出により、比較的詳細に測定対象2を測定することができる。すなわち、第2のセンサ20c2により、比較的精密な撮像画像52を取得することができる。
本実施形態に係るX線測定装置1cによれば、例えば、インフラの検査等の測定箇所が広大な場合に、まず、第1のセンサ20c1で、測定対象全体を、比較的高速にスクリーニングし、比較的粗い撮像画像を取得する。そして、その後、欠陥が疑われる箇所を、第2のセンサ20c2で比較的詳細な測定をすることができる。
〔実施形態5〕
本発明の他の実施形態について、以下に説明する。なお、説明の便宜上、上記実施形態にて説明した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付記し、その説明を繰り返さない。
図7に示すように、本実施形態に係るX線測定装置1dは、透過X線センサ(透過X線検出部)60を備えている。透過X線センサ60は、測定対象2に対して、X線照射部10の反対側に配置され、測定対象2を透過した透過X線を検出する。
本実施形態に係るX線測定装置1dによれば、測定対象2を反射した後方散乱X線に応じた撮像画像と測定対象2を透過したX線に応じた撮像画像との両方を取得することができる。
さらに、本実施形態に係るX線測定装置1dにおいて、X線照射部10が照射するX線のエネルギー量を調節し、様々なエネルギー量のX線を測定対象2に照射することで、測定対象2の内部構造を含む360°画像を取得することができる。
測定対象2を透過したX線に応じた撮像画像により、光電効果の結果を得ることができる。一方、測定対象2を反射した後方散乱X線に応じた撮像画像は、コンプトン効果の結果を得ることができる。光電効果、およびコンプトン効果は、測定対象2を構成する物質の組成に密接に関わっているので、各々の撮像画像から、測定対象2を構成する物質の組成の情報を得ることができる。
例えば、セキュリティ用途において荷物等を検査する場合、荷物を反射した後方散乱X線に応じた撮像画像と荷物を透過したX線に応じた撮像画像との両方から、危険物の有無等の評価をより高精度することができる。
〔まとめ〕
本発明の態様1に係るX線測定装置1,1a,1b,1c,1dは、測定対象2にX線を照射するX線照射部10と、上記測定対象2で反射した後方散乱X線に応じた電気信号を検出するX線検出部(センサ20)と、上記X線検出部(センサ20)が出力する電気信号を参照して上記測定対象2を測定する測定部40と、上記後方散乱X線を通過させ、上記後方散乱X線を上記X線検出部(センサ20)上に結像させる開口(ピンホール32)が形成された開口部(重金属板30)とを備えている。
上記の構成によれば、微弱なX線を捉えるための特別な構成を用いることなくX線を検出し、後方散乱X線像を結像させ、測定対象2を測定することができる。
本発明の態様2に係るX線測定装置1,1a,1b,1c,1dは、上記態様1において、上記X線検出部(センサ20)は、酸化物半導体を含み、上記後方散乱X線に応じた電気信号を保持する保持部(コンデンサCO)と、酸化物半導体を含み、上記保持部(コンデンサCO)に保持された上記電気信号を上記測定部40へ転送する転送部(薄膜トランジスタTFT)とを備えていてもよい。
上記の構成によれば、微弱なX線を捉えるための特別な構成を用いることなくX線を検出することができる。
本発明の態様3に係るX線測定装置1,1a,1b,1c,1dは、上記態様1または2において、上記X線検出部(センサ20)の検出面の中心は、上記X線照射部10から照射されるX線の中心線に対する角度が150°から180°の範囲内の位置に配されてもよい。
上記の構成によれば、比較的強度の強いX線を検出することができる。
本発明の態様4に係るX線測定装置1aは、上記態様1から3において、上記後方散乱X線を通過させる開口(ピンホール32)が形成された開口部(重金属板30)と、上記後方散乱X線の進行方向の上記開口部(重金属板30)に対する上流側、および下流川の少なくとも一方に配された、所定のエネルギー量のX線を透過するフィルタ41,42とを備えていてもよい。
上記の構成によれば、特定のエネルギー量のX線のみを検出することができる。
本発明の態様5に係るX線測定装置1bは、上記態様1から4において、上記X線検出部(センサ20b1,20b2)を複数備え、上記複数のX線検出部(センサ20b1,20b2)の測定結果に応じて立体画像を生成する立体画像生成部とを備えてもよい。
上記の構成によれば、立体画像を取得することができる。
本発明の態様6に係るX線測定装置1cは、上記態様1から4において、上記X線検出部(センサ20c1,20c2)を複数備え、上記複数のX線検出部(センサ20c1,20c2)の各々に対応させて設けられ、各々開口径が異なる開口(32c1,32c2)が形成された複数の上記開口部(32d1,32d2)を備えていてもよい。
上記の構成によれば、同一の測定対象2を、異なる解像度で検出することができる。
本発明の態様7に係るX線測定装置1dは、上記態様1から6において、上記測定対象2を透過した透過X線を検出する透過X線検出部(透過X線センサ)60を備えていてもよい。
上記の構成によれば、より高精度の測定をすることができる。
本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。さらに、各実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を組み合わせることにより、新しい技術的特徴を形成することができる。
1,1a,1b,1c,1d X線測定装置
2 測定対象
10 X線照射部
20 センサ(X線検出部)
CO コンデンサ(保持部)
TFT 薄膜トランジスタ(転送部)
30 重金属板(開口部)
32 ピンホール(開口)
60 透過X線センサ(透過X線検出部)

Claims (6)

  1. 測定対象にX線を照射するX線照射部と、
    上記測定対象で反射した後方散乱X線に応じた電気信号を検出するX線検出部と、
    上記X線検出部により検出された電気信号を参照して上記測定対象を測定する測定部と、
    上記後方散乱X線を通過させ、上記後方散乱X線を上記X線検出部上に結像させる開口が形成されたる開口部と
    上記後方散乱X線の進行方向の上記開口部に対する上流側、および下流側のそれぞれに配された、所定のエネルギー量のX線を透過するフィルタと
    を備える
    ことを特徴とするX線測定装置。
  2. 上記X線検出部は、
    酸化物半導体を含み、上記後方散乱X線に応じた電気信号を保持する保持部と、
    酸化物半導体を含み、上記保持部に保持された上記電気信号を上記測定部へ転送する転送部と
    を備える
    ことを特徴とする請求項1に記載のX線測定装置。
  3. 上記X線検出部の検出面の中心は、上記X線照射部から照射されるX線の中心線に対する角度が150°から180°の範囲内の位置に配される
    ことを特徴とする請求項1または2に記載のX線測定装置。
  4. 上記X線検出部を複数備え、
    上記複数のX線検出部の検出結果に応じて立体画像を生成する立体画像生成部と
    を備える
    ことを特徴とする請求項1からの何れか1項に記載のX線測定装置。
  5. 測定対象にX線を照射するX線照射部と、
    上記測定対象で反射した後方散乱X線に応じた電気信号を検出するX線検出部と、
    上記X線検出部により検出された電気信号を参照して上記測定対象を測定する測定部と、
    上記後方散乱X線を通過させ、上記後方散乱X線を上記X線検出部上に結像させる開口が形成されたる開口部と
    を備えるX線測定装置であって、
    上記X線検出部を複数備え、
    上記複数のX線検出部の各々に対応させて設けられ、各々開口径が異なる開口が形成された複数の上記開口部を備える
    ことを特徴とするX線測定装置。
  6. 上記測定対象を透過した透過X線を検出する透過X線検出部
    を備える
    ことを特徴とする請求項1からの何れか1項に記載のX線測定装置。
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