JP6729892B2 - タイヤ用ゴム組成物の製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は、ゴム組成物に関し、特に、タイヤ用ゴム組成物の製造方法に関する。
近年、環境問題への関心の高まりに伴う世界的な二酸化炭素排出の規制の動きに関連して、自動車の低燃費化に関する要求が高まりつつある。このような要求に対応するため、タイヤ性能についても転がり抵抗の低減が求められている。従来、タイヤの転がり抵抗を減少する手法として、タイヤ構造を最適化する手法も検討されてきたが、タイヤに適用するゴム組成物としてより発熱性の低い(低発熱性)ゴム組成物を用いることが、現在、最も一般的な手法として行われている。
このような低発熱性のゴム組成物を得る方法として、充填材としてシリカ等の無機充填材を使用する方法が知られている。しかし、無機充填材としてシリカを配合する際には、シリカはゴム組成物中で凝集してしまうために(シリカ表面の水酸基が原因で凝集してしまうため)未加硫粘度が高くなり、作業性(加工性)に難がある。そのため、破断強力、耐摩耗性が大幅に低下し加硫遅延、充填材の分散不良等の問題が発生する。
上記問題に対して、シランカップリング剤を配合することで、シリカの凝集を防止して未加硫粘度を低減し、耐摩耗性を向上させると共に、加硫促進剤のシリカ表面への吸着を防ぐことが、一般に行われている。さらには、非イオン系界面活性剤を併せて配合することによって、シランカップリング剤の配合量を低減し得ると共に、低転がり抵抗(低燃費性)、ウェット性能、耐摩耗性、破壊特性を向上し得るゴム組成物が提案されている(例えば、特許文献1及び2参照)。
特開平11−130908号公報 特開2015−157879号公報
しかしながら、本発明者が検討したところ、上記特許文献1及び2に開示の薬品を用いても、シリカの分散性には依然として改良の余地があることが分かった。また、タイヤの転がり抵抗を低減するために、タイヤに使用するゴム組成物には、低ロス性(低tanδ)も求められており、本発明者が更に検討したところ、上記特許文献1及び2に記載の技術には、低ロス性に改善の余地があることが分かった。
そこで、本発明は、上記従来技術の問題を解決し、加工性、低ロス性に優れたゴム組成物を提供することを課題とする。
また、本発明は、転がり抵抗が小さいタイヤを提供することを更なる課題とする。
本発明者は、特定の混練条件にてゴム組成物を製造することで、低発熱性に優れるタイヤ用ゴム組成物を製造できることを見出し、本発明を完成させるに至った。
本発明は、以下の[1]〜[4]を提供するものである。
[1]ジエン系ゴム(A)と、シリカ(B)と、シランカップリング剤(C)と、加硫促進剤、システイン類、チオウレア類、チオシアン酸アンモニウム、ジアルキルジチオリン酸亜鉛及びチアジアゾール類からなる群から選ばれる少なくとも一種の活性剤(D)の全部又は一部と、非イオン系界面活性剤(E)の全部又は一部とを含む第1混合物を調製し、該第1混合物を混練することによって予備組成物を調製する第1工程と、該予備組成物に加硫剤(F)を加えて第2混合物を調製し、該第2混合物を混練することによってゴム組成物を調製する第2工程とを含み、該第1工程において、該ジエン系ゴム(A)、該シリカ(B)、該活性剤(D)の全部又は一部、及び該非イオン系界面活性剤(E)の全部又は一部を混練りした後、該シランカップリング剤(C)を加えて更に混練するタイヤ用ゴム組成物の製造方法。
[2]前記非イオン系界面活性剤(E)が、グリセリン脂肪酸エステルである[1]に記載のタイヤ用ゴム組成物の製造方法。
[3]前記加硫促進剤が、1,3−ジフェニルグアニジンである[1]又は[2]に記載のタイヤ用ゴム組成物の製造方法。
[4]前記活性剤(D)が、チオウレア類である[1]〜[3]のいずれかに記載のタイヤ用ゴム組成物の製造方法。
本発明によれば、シリカの分散性を高めた後にシランカップリング剤を反応させることにより、低発熱性に優れるタイヤ用ゴム組成物の製造方法を提供することができる。
本発明の実施の形態に係るタイヤ用ゴム組成物の製造方法について詳細に説明する。
本発明の実施の形態に係るタイヤ用ゴム組成物の製造方法は、ジエン系ゴム(A)と、シリカ(B)と、シランカップリング剤(C)と、加硫促進剤、システイン類、チオウレア類、チオシアン酸アンモニウム、ジアルキルジチオリン酸亜鉛及びチアジアゾール類からなる群から選ばれる少なくとも一種の活性剤(D)の全部又は一部と、非イオン系界面活性剤(E)の全部又は一部とを含む第1混合物を調製し、第1混合物を混練することによって予備組成物を調製する第1工程と、予備組成物に加硫剤(F)を加えて第2混合物を調製し、第2混合物を混練することによってゴム組成物を調製する第2工程とを含む。そして、本発明の実施の形態に係るタイヤ用ゴム組成物の製造方法は、第1工程において、ジエン系ゴム(A)、シリカ(B)、活性剤(D)の全部又は一部、及び非イオン系界面活性剤(E)の全部又は一部を混練りした後、シランカップリング剤(C)を加えて更に混練する。
[第1工程]
第1工程は、ジエン系ゴム(A)と、シリカ(B)と、シランカップリング剤(C)と、加硫促進剤、システイン類、チオウレア類、チオシアン酸アンモニウム、ジアルキルジチオリン酸亜鉛及びチアジアゾール類からなる群から選ばれる少なくとも一種の活性剤(D)の全部又は一部と、非イオン系界面活性剤(E)の全部又は一部とを含む第1混合物を調製し、該第1混合物を混練することによって予備組成物を調製する工程である。
なお、加硫促進剤等の活性剤(D)及び非イオン系界面活性剤(E)は、第1工程で全部を配合しなくともよく、第2工程において所望により適量(一部)を配合してもよい。
第1工程において、ジエン系ゴム(A)、シリカ(B)、活性剤(D)の全部又は一部、及び非イオン系界面活性剤(E)の全部又は一部を混練りした後、シランカップリング剤(C)を加えて更に混練する。
第1工程で、ジエン系ゴム(A)、シリカ(B)、活性剤(D)及び非イオン系界面活性剤(E)を加えた後、シランカップリング剤(C)を加えるまでの混練時間を30秒以上180秒以下とすることが好ましい。この混練時間の下限値は、45秒以上であることがより好ましく、60秒以上であることがさらに好ましい。また、この混練時間の上限値は、150秒以下であることがより好ましく、120秒以下であることがさらに好ましい。混練時間が30秒以上であれば予備組成物中における非イオン系界面活性剤(E)の分散性を高くすることができる。混練時間が180秒を超えても予備組成物中における非イオン系界面活性剤(E)の分散性が十分に高くなっているので、更なる効果は享受しにくい。
第1工程で活性剤(D)及び非イオン系界面活性剤(E)を投入して混練した後にシランカップリング剤(C)を加えて更に混練することで、予備組成物中における非イオン系界面活性剤(E)により、シリカ(B)の分散性を高くした後にシランカップリング剤(C)を加えることになり、シリカ(B)とシランカップリング剤(C)を効率的に反応させることができ、低発熱性が向上する。
第1工程における予備組成物の最高温度は、120℃以上190℃以下であることが好ましい。シリカ(B)とシランカップリング剤(C)との反応を十分に進行させるためである。この観点から、第1段階における予備組成物の最高温度が、130℃以上190℃以下であることがより好ましく、140℃以上180℃以下であることがさらに好ましい。
以下に、第1工程で配合するジエン系ゴム(A)、シリカ(B)、シランカップリング剤(C)、活性剤(D)及び非イオン系界面活性剤(E)について説明する。
<ジエン系ゴム(A)>
ジエン系ゴム(A)としては、天然ゴム(NR)及び合成ジエン系ゴムが挙げられる。合成ジエン系ゴムとして、具体的には、ポリブタジエンゴム(BR)、合成ポリイソプレンゴム(IR)、スチレン−ブタジエン共重合体ゴム(SBR)、スチレン−イソプレン共重合体ゴム(SIR)等が挙げられる。ジエン系ゴム(A)は、スチレン−ブタジエン共重合体ゴム(SBR)を含むことが好ましい。ジエン系ゴム(A)は、1種単独で用いてもよいし、2種以上のブレンドとして用いてもよい。ジエン系ゴム(A)は、変性されていても、未変性であってもよい。
<シリカ(B)>
シリカ(B)としては、特に制限はなく、例えば、湿式シリカ(含水ケイ酸)、乾式シリカ(無水ケイ酸)、コロイダルシリカ等が挙げられ、これらの中でも、湿式シリカが好ましい。シリカ(B)は、一種単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。
シリカ(B)のBET比表面積(ISO 5794/1に準拠して測定する)は、40m/g以上350m/g以下の範囲が好ましく、80m/g以上350m/g以下の範囲がより好ましく、120m/g以上350m/g以下の範囲がさらに好ましい。シリカ(B)のBET比表面積が上記範囲であることによって、ゴム補強性とジエン系ゴム中への分散性とを両立できる。
シリカ(B)としては、東ソー・シリカ社製、商品名「ニプシルAQ」(BET比表面積=205m/g)、「ニプシルKQ」、デグッサ社製、商品名「ウルトラジルVN3」(BET比表面積=175m/g)等の市販品を用いることができる。
シリカ(B)の配合量は、低発熱性を向上させる観点から、ジエン系ゴム(A)100質量部に対して、好ましくは5質量部以上、より好ましくは10質量部以上、さらに好ましくは20質量部以上、よりさらに好ましくは40質量部以上である。シリカ(B)の配合量は、加工性を向上させる観点から、ジエン系ゴム(A)100質量部に対して、好ましくは200質量部以下、より好ましくは150質量部以下、さらに好ましくは120質量部以下である。シリカ(B)の配合量は、ジエン系ゴム(A)100質量部に対して10〜120質量部の範囲が特に好ましい。
<シランカップリング剤(C)>
シランカップリング剤(C)は、下記一般式(I)、(II−a)、(II−b)、(III)及び(IV)で表わされる化合物からなる群から1種以上選択される化合物であることが好ましい。
本発明の製造方法において、シランカップリング剤(C)を用いることにより、ゴム加工時の作業性に更に優れると共に、より低ロス性、耐摩耗性の良好な空気入りタイヤを与えることができる。
以下、下記一般式(I)、(II−a)、(II−b)、(III)及び(IV)を順に説明する。
上記一般式(I)中、Rは複数ある場合には同一でも異なっていてもよく、各々炭素数1〜8の直鎖、環状又は分枝のアルキル基及び炭素数2〜8の直鎖又は分枝のアルコキシアルキル基から選ばれる置換基であり、Rは複数ある場合には同一でも異なっていてもよく、各々炭素数1〜8の直鎖、環状又は分枝のアルキル基であり、Rは複数ある場合には同一でも異なっていてもよく、各々炭素数1〜8の直鎖又は分枝のアルキレン基である。aは平均値として2〜6であり、p及びrは同一でも異なっていてもよく、各々平均値として0〜3である。但しp及びrの双方が3であることはない。
上記一般式(I)で表わされるシランカップリング剤(C)の具体例として、ビス(3−トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィド、ビス(3−トリメトキシシリルプロピル)テトラスルフィド、ビス(3−メチルジメトキシシリルプロピル)テトラスルフィド、ビス(2−トリエトキシシリルエチル)テトラスルフィド、ビス(3−トリエトキシシリルプロピル)ジスルフィド、ビス(3−トリメトキシシリルプロピル)ジスルフィド、ビス(3−メチルジメトキシシリルプロピル)ジスルフィド、ビス(2−トリエトキシシリルエチル)ジスルフィド、ビス(3−トリエトキシシリルプロピル)トリスルフィド、ビス(3−トリメトキシシリルプロピル)トリスルフィド、ビス(3−メチルジメトキシシリルプロピル)トリスルフィド、ビス(2−トリエトキシシリルエチル)トリスルフィド、ビス(3−モノエトキシジメチルシリルプロピル)テトラスルフィド、ビス(3−モノエトキシジメチルシリルプロピル)トリスルフィド、ビス(3−モノエトキシジメチルシリルプロピル)ジスルフィド、ビス(3−モノメトキシジメチルシリルプロピル)テトラスルフィド、ビス(3−モノメトキシジメチルシリルプロピル)トリスルフィド、ビス(3−モノメトキシジメチルシリルプロピル)ジスルフィド、ビス(2−モノエトキシジメチルシリルエチル)テトラスルフィド、ビス(2−モノエトキシジメチルシリルエチル)トリスルフィド、ビス(2−モノエトキシジメチルシリルエチル)ジスルフィド等が挙げられる。
上記一般式(II−a)中、Rは−Cl、−Br、RO−、RC(=O)O−、R10C=NO−、R10N−、及び−(OSiR10(OSiR1011)から選択される一価の基(R、R10及びR11は各々水素原子又は炭素数1〜18の一価の炭化水素基であり、hは平均値として1〜4である。)であり、RはR、水素原子又は炭素数1〜18の一価の炭化水素基であり、RはR、R、水素原子又は−[O(R12O)]0.5 −基(R12は炭素数1〜18のアルキレン基、jは1〜4の整数である。)であり、Rは炭素数1〜18の二価の炭化水素基であり、Rは炭素数1〜18の一価の炭化水素基である。x、y及びzは、x+y+2z=3、0≦x≦3、0≦y≦2、0≦z≦1の関係を満たす数である。
上記一般式(II−a)において、R、R、R10及びR11は同一でも異なっていてもよく、好ましくは各々炭素数1〜18の直鎖、環状もしくは分枝のアルキル基、アルケニル基、アリール基及びアラルキル基からなる群から選択される基であることが好ましい。また、Rが炭素数1〜18の一価の炭化水素基である場合は、直鎖、環状もしくは分枝のアルキル基、アルケニル基、アリール基及びアラルキル基からなる群から選択される基であることが好ましい。R12は直鎖、環状又は分枝のアルキレン基であることが好ましく、特に直鎖状のものが好ましい。Rは例えば炭素数1〜18のアルキレン基、炭素数2〜18のアルケニレン基、炭素数5〜18のシクロアルキレン基、炭素数6〜18のシクロアルキルアルキレン基、炭素数6〜18のアリーレン基、炭素数7〜18のアラルキレン基を挙げることができる。アルキレン基及びアルケニレン基は、直鎖状、枝分かれ状のいずれであってもよく、シクロアルキレン基、シクロアルキルアルキレン基、アリーレン基及びアラルキレン基は、環上に低級アルキル基等の置換基を有していてもよい。このRとしては、炭素数1〜6のアルキレン基が好ましく、特に直鎖状アルキレン基、例えばメチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基を好ましく挙げることができる。
上記一般式(II−a)におけるR、R、R10及びR11の炭素数1〜18の一価の炭化水素基の具体例としては、メチル基,エチル基,n−プロピル基,イソプロピル基,n−ブチル基,イソブチル基,sec−ブチル基,tert−ブチル基,ペンチル基,ヘキシル基,オクチル基,デシル基,ドデシル基,シクロペンチル基,シクロヘキシル基,ビニル基,プロぺニル基,アリル基,ヘキセニル基,オクテニル基,シクロペンテニル基,シクロヘキセニル基,フェニル基,トリル基,キシリル基,ナフチル基,ベンジル基,フェネチル基,ナフチルメチル基等が挙げられる。
上記一般式(II−a)におけるR12の例としては、メチレン基,エチレン基,トリメチレン基,テトラメチレン基,ペンタメチレン基,ヘキサメチレン基,オクタメチレン基,デカメチレン基,ドデカメチレン基等が挙げられる。
上記一般式(II−a)で表されるシランカップリング剤(C)の具体例としては、3−ヘキサノイルチオプロピルトリエトキシシラン、3−オクタノイルチオプロピルトリエトキシシラン、3−デカノイルチオプロピルトリエトキシシラン、3−ラウロイルチオプロピルトリエトキシシラン、2−ヘキサノイルチオエチルトリエトキシシラン、2−オクタノイルチオエチルトリエトキシシラン、2−デカノイルチオエチルトリエトキシシラン、2−ラウロイルチオエチルトリエトキシシラン、3−ヘキサノイルチオプロピルトリメトキシシラン、3−オクタノイルチオプロピルトリメトキシシラン、3−デカノイルチオプロピルトリメトキシシラン、3−ラウロイルチオプロピルトリメトキシシラン、2−ヘキサノイルチオエチルトリメトキシシラン、2−オクタノイルチオエチルトリメトキシシラン、2−デカノイルチオエチルトリメトキシシラン、2−ラウロイルチオエチルトリメトキシシラン等を挙げることができる。これらの内、3−オクタノイルチオプロピルトリエトキシシラン(Momentive Performance Materials社製、登録商標:NXTシラン)が特に好ましい。
上記一般式(II−b)中、R、R、R、R、x、y及びzは、上記一般式(II−a)におけるR、R、R、R、x、y及びzと同じ意味をもつ。
上記一般式(II−b)で表されるシランカップリング剤(C)の具体例としては、3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、2−メルカプトエチルトリエトキシシラン、2−メルカプトエチルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン等が挙げられる。このようなメルカプト基を有するシランカップリング剤としては、例えば、信越化学工業(株)から、商品名「KBM−802」(3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン)、「KBM−803」(3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン)等が市販されている。
上記一般式(III)中、R13は複数ある場合には同一でも異なっていてもよく、各々炭素数1〜8の直鎖、環状又は分枝のアルキル基及び炭素数2〜8の直鎖又は分枝のアルコキシアルキル基から選ばれる置換基であり、R14は複数ある場合には同一でも異なっていてもよく、各々炭素数1〜8の直鎖、環状又は分枝のアルキル基であり、R15は複数ある場合には同一でも異なっていてもよく、各々炭素数1〜8の直鎖又は分枝のアルキレン基である。R16は一般式(−S−R17−S−)、(−R18−Sm1−R19−)及び(−R20−Sm2−R21−Sm3−R22−)から選ばれる二価の基(R17〜R22は各々炭素数1〜20の二価の炭化水素基、二価の芳香族基、並びに硫黄及び酸素以外のヘテロ元素を含む二価の有機基から選ばれる二価の置換基であり、m1、m2及びm3は各々平均値として1以上4未満である。)であり、複数あるkは同一でも異なっていてもよく、各々平均値として1〜6であり、s及びtは各々平均値として0〜3である。但しs及びtの双方が3であることはない。
上記一般式(III)で表わされるシランカップリング剤(C)の具体例として、
平均組成式(CHCHO)Si−(CH−S−(CH−S−(CH−Si(OCHCH
平均組成式(CHCHO)Si−(CH−S−(CH10−S−(CH−Si(OCHCH
平均組成式(CHCHO)Si−(CH−S−(CH−S−(CH−Si(OCHCH
平均組成式(CHCHO)Si−(CH−S−(CH−S−(CH−Si(OCHCH
平均組成式(CHCHO)Si−(CH−S−(CH−S−(CH−S−(CH−Si(OCHCH
平均組成式(CHCHO)Si−(CH−S−(CH−S2.5−(CH−S−(CH−Si(OCHCH
平均組成式(CHCHO)Si−(CH−S−(CH−S−(CH−S−(CH−Si(OCHCH
平均組成式(CHCHO)Si−(CH−S−(CH−S−(CH−S−(CH−Si(OCHCH
平均組成式(CHCHO)Si−(CH−S−(CH10−S−(CH10−S−(CH−Si(OCHCH
平均組成式(CHCHO)Si−(CH−S−(CH−S−(CH−S−(CH−Si(OCHCH
平均組成式(CHCHO)Si−(CH−S−(CH−S−(CH−S−(CH−Si(OCHCH
平均組成式(CHCHO)Si−(CH−S−(CH−S−(CH−S−(CH−S−(CH−Si(OCHCH等で表される化合物が好適に挙げられる。
上記一般式(III)で表わされるシランカップリング剤(C)は、例えば特開2006−167919号公報に記載された方法により製造することができる。
上記一般式(IV)中、R23は炭素数1〜20の直鎖、分岐又は環状のアルキル基であり、複数あるGは同一でも異なっていてもよく、各々炭素数1〜9のアルカンジイル基又はアルケンジイル基であり、複数あるZは同一でも異なっていてもよく、各々二つの珪素原子と結合することのできる官能基であり、かつ [−0−]0.5、[−0−G−]0.5及び[−O−G−O−] 0.5から選ばれる官能基であり、複数あるZは同一でも異なっていてもよく、各々二つの珪素原子と結合することのできる官能基であり、かつ [−O−G−O−] 0.5で表される官能基であり、複数あるZは同一でも異なっていてもよく、各々−Cl、−Br、−OR、RC(=O)O−、RC=NO−、RN−、R−及びHO−G−O−(Gは上記表記と一致する。)から選ばれる官能基であり、R及びRは各々炭素数1〜20の直鎖、分岐又は環状のアルキル基である。m、n、u、v及びwは、1≦m≦20、0≦n≦20、0≦u≦3、0≦v≦2、0≦w≦1であり、かつ(u/2)+v+2w=2又は3である。A部が複数である場合、複数のA部におけるZ 、Z 及びZ それぞれにおいて、同一でも異なっていてもよく、B部が複数である場合、複数のB部におけるZ 、Z 及びZ それぞれにおいて、同一でも異なってもよい。
上記一般式(IV)で表わされるシランカップリング剤(C)の具体例として、化学式(V)、化学式(VI)及び化学式(VII)が挙げられる。
(式中、Lはそれぞれ独立して炭素数1〜9のアルカンジイル基又はアルケンジイル基であり、x=m、y=nである。)
化学式(V)で表されるシランカップリング剤としては、Momentive Performance Materials社製、登録商標「NXT Low−V Silane」、が市販品として入手できる。
また、化学式(VI)で表されるシランカップリング剤としては、Momentive Performance Materials社製、登録商標「NXT Ultra Low−V Silane」、が同様に市販品として入手することができる。
更に、化学式(VII)で表されるシランカップリング剤としては、Momentive Performance Materials社製、登録商標「NXT−Z」として挙げることができる。
上記一般式(II−a)、化学式(V)及び化学式(VI)で得られるシランカップリング剤は、保護されたメルカプト基を有するので、加硫工程以前の工程での加工中に初期加硫(スコーチ)の発生を防止することができるため、加工性が良好となる。
また、化学式(V)、(VI)及び(VII)で得られるシランカップリング剤はアルコキシシラン炭素数が多いため、揮発性化合物VOC(特にアルコール)の発生が少なく、作業環境上好ましい。また、化学式(VII)のシランカップリング剤はタイヤ性能として好適な低発熱性を得ることから更に好ましい。
本発明においては、シランカップリング剤(C)は一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
本発明に係るタイヤ用ゴム組成物のシランカップリング剤(C)の配合量は、低発熱性向上及び経済性の観点から、質量比{シランカップリング剤(C)/シリカ(B)}として(5/100)〜(25/100)であることが好ましく、(5/100)〜(20/100)であることがより好ましく、質量比(5/100)〜(15/100)であることが更に好ましく、質量比(5/100)〜(10/100)であることが特に好ましい。
<活性剤(D)>
活性剤(D)は、加硫促進剤、システイン類、チオウレア類、チオシアン酸アンモニウム、ジアルキルジチオリン酸亜鉛及びチアジアゾール類からなる群から選ばれる少なくとも一種である。システイン類、チオウレア類、チオシアン酸アンモニウム、ジアルキルジチオリン酸亜鉛、チアジアゾール類は、加硫促進剤と同様に、ジエン系ゴム(A)と反応するポリスルフィド結合部位の活性化作用を有するものである。
第1工程における活性剤(D)の使用量は、ジエン系ゴム(A)100質量部に対し、0.1質量部以上5.0質量部以下であることが好ましく、0.2質量部以上3.0質量部以下であることがより好ましく、0.3質量部以上2.0質量部以下であることがさらに好ましい。
《加硫促進剤》
加硫促進剤は、グアニジン類、スルフェンアミド類、チアゾール類、チウラム類、ジチオカルバミン酸類、キサントゲン酸類等が挙げられる。
第1工程における加硫促進剤の使用量は、第1工程における活性剤(D)の使用量と同じように、ジエン系ゴム(A)100質量部に対し、0.1質量部以上5.0質量部以下であることが好ましく、0.2質量部以上3.0質量部以下であることがより好ましく、0.3質量部以上2.0質量部以下であることがさらに好ましい。
グアニジン類としては、1,3−ジフェニルグアニジン(DPG)、1,3−ジ−o−トリルグアニジン、1−o−トリルビグアニド、ジカテコールボレートのジ−o−トリルグアニジン塩、1,3−ジ−o−クメニルグアニジン、1,3−ジ−o−ビフェニルグアニジン、1,3−ジ−o−クメニル−2−プロピオニルグアニジン等が挙げられ、1,3−ジフェニルグアニジン、1,3−ジ−o−トリルグアニジン及び1−o−トリルビグアニドは反応性が高いので好ましく、1,3−ジフェニルグアニジン(DPG)は反応性がより高いので特に好ましい。
スルフェンアミド類としては、例えば、N−シクロヘキシル−2−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N,N−ジシクロヘキシル−2−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N−tert−ブチル−2−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N−オキシジエチレン−2−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N−メチル−2−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N−エチル−2−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N−プロピル−2−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N−ブチル−2−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N−ペンチル−2−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N−ヘキシル-2-ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N−ペンチル−2−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N−オクチル−2−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N−2−エチルヘキシル−2−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N−デシル−2−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N−ドデシル−2−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N−ステアリル−2−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N,N−ジメチル−2−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N,N−ジエチル−2−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N,N−ジプロピル−2−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N,N−ジブチル−2−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N,N−ジペンチル−2−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N,N−ジヘキシル−2−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N,N−ジペンチル−2−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N,N−ジオクチル−2−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N,N−ジ−2−エチルヘキシルベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N−デシル−2−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N,N−ジドデシル−2−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N,N−ジステアリル−2−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド等が挙げられる。これらの中で、N−シクロヘキシル−2−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド及びN−tert−ブチル−2−ベンゾチアゾリルスルフェンアミドは、反応性が高いので好ましい。
チアゾール類としては、例えば、2−メルカプトベンゾチアゾール、ジ−2−ベンゾチアゾリルジスルフィド、2−メルカプトベンゾチアゾールの亜鉛塩、2−メルカプトベンゾチアゾールのシクロヘキシルアミン塩、2−(N,N−ジエチルチオカルバモイルチオ)ベンゾチアゾール、2−(4’−モルホリノジチオ)ベンゾチアゾール、4−メチル−2−メルカプトベンゾチアゾール、ジ−(4−メチル−2−ベンゾチアゾリル)ジスルフィド、5−クロロ−2−メルカプトベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾチアゾールナトリウム、2−メルカプト−6−ニトロベンゾチアゾール、2−メルカプト-ナフト[1,2−d]チアゾール、2−メルカプト−5−メトキシベンゾチアゾール、6−アミノ−2−メルカプトベンゾチアゾール等が挙げられる。これらの中で、2−メルカプトベンゾチアゾール(M)及びジ−2−ベンゾチアゾリルジスルフィド(DM)は、反応性が高く好ましい。
チウラム類としては、例えば、テトラメチルチウラムジスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、テトラプロピルチウラムジスルフィド、テトライソプロピルチウラムジスルフィド、テトラブチルチウラムジスルフィド、テトラペンチルチウラムジスルフィド、テトラヘキシルチウラムジスルフィド、テトラヘプチルチウラムジスルフィド、テトラオクチルチウラムジスルフィド、テトラノニルチウラムジスルフィド、テトラデシルチウラムジスルフィド、テトラドデシルチウラムジスルフィド、テトラステアリルチウラムジスルフィド、テトラベンジルチウラムジスルフィド、テトラキス(2−エチルヘキシル)チウラムジスルフィド、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラエチルチウラムモノスルフィド、テトラプロピルチウラムモノスルフィド、テトライソプロピルチウラムモノスルフィド、テトラブチルチウラムモノスルフィド、テトラペンチルチウラムモノスルフィド、テトラヘキシルチウラムモノスルフィド、テトラヘプチルチウラムモノスルフィド、テトラオクチルチウラムモノスルフィド、テトラノニルチウラムモノスルフィド、テトラデシルチウラムモノスルフィド、テトラドデシルチウラムモノスルフィド、テトラステアリルチウラムモノスルフィド、テトラベンジルチウラムモノスルフィド、ジペンタメチレンチウラムテトラスルフィド等が挙げられる。これらの中で、テトラキス(2−エチルヘキシル)チウラムジスルフィド及びテトラベンジルチウラムジスルフィドは、反応性が高いので好ましい。
ジチオカルバミン酸塩類としては、例えば、ジメチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジエチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジプロピルジチオカルバミン酸亜鉛、ジイソプロピルジチオカルバミン酸亜鉛、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジペンチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジヘキシルジチオカルバミン酸亜鉛、ジヘプチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジオクチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジ(2−エチルヘキシル)ジチオカルバミン酸亜鉛、ジデシルジチオカルバミン酸亜鉛、ジドデシルジチオカルバミン酸亜鉛、N−ペンタメチレンジチオカルバミン酸亜鉛、N−エチル−N−フェニルジチオカルバミン酸亜鉛、ジベンジルジチオカルバミン酸亜鉛、ジメチルジチオカルバミン酸銅、ジエチルジチオカルバミン酸銅、ジプロピルジチオカルバミン酸銅、ジイソプロピルジチオカルバミン酸銅、ジブチルジチオカルバミン酸銅、ジペンチルジチオカルバミン酸銅、ジヘキシルジチオカルバミン酸銅、ジヘプチルジチオカルバミン酸銅、ジオクチルジチオカルバミン酸銅、ジ(2−エチルヘキシル)ジチオカルバミン酸銅、ジデシルジチオカルバミン酸銅、ジドデシルジチオカルバミン酸銅、N-ペンタメチレンジチオカルバミン酸銅、ジベンジルジチオカルバミン酸銅、ジメチルジチオカルバミン酸ナトリウム、ジエチルジチオカルバミン酸ナトリウム、ジプロピルジチオカルバミン酸ナトリウム、ジイソプロピルジチオカルバミン酸ナトリウム、ジブチルジチオカルバミン酸ナトリウム、ジペンチルジチオカルバミン酸ナトリウム、ジヘキシルジチオカルバミン酸ナトリウム、ジヘプチルジチオカルバミン酸ナトリウム、ジオクチルジチオカルバミン酸ナトリウム、ジ(2−エチルヘキシル)ジチオカルバミン酸ナトリウム、ジデシルジチオカルバミン酸ナトリウム、ジドデシルジチオカルバミン酸ナトリウム、N−ペンタメチレンジチオカルバミン酸ナトリウム、ジベンジルジチオカルバミン酸ナトリウム、ジメチルジチオカルバミン酸第二鉄、ジエチルジチオカルバミン酸第二鉄、ジプロピルジチオカルバミン酸第二鉄、ジイソプロピルジチオカルバミン酸第二鉄、ジブチルジチオカルバミン酸第二鉄、ジペンチルジチオカルバミン酸第二鉄、ジヘキシルジチオカルバミン酸第二鉄、ジヘプチルジチオカルバミン酸第二鉄、ジオクチルジチオカルバミン酸第二鉄、ジ(2−エチルヘキシル)ジチオカルバミン酸第二鉄、ジデシルジチオカルバミン酸第二鉄、ジドデシルジチオカルバミン酸第二鉄、N−ペンタメチレンジチオカルバミン酸第二鉄、ジベンジルジチオカルバミン酸第二鉄等が挙げられる。これらの中で、ジベンジルジチオカルバミン酸亜鉛、N−エチル−N−フェニルジチオカルバミン酸亜鉛、ジメチルジチオカルバミン酸亜鉛及びジメチルジチオカルバミン酸銅は、反応性が高いため好ましい。
キサントゲン酸塩類としては、例えば、メチルキサントゲン酸亜鉛、エチルキサントゲン酸亜鉛、プロピルキサントゲン酸亜鉛、イソプロピルキサントゲン酸亜鉛、ブチルキサントゲン酸亜鉛、ペンチルキサントゲン酸亜鉛、ヘキシルキサントゲン酸亜鉛、ヘプチルキサントゲン酸亜鉛、オクチルキサントゲン酸亜鉛、2−エチルヘキシルキサントゲン酸亜鉛、デシルキサントゲン酸亜鉛、ドデシルキサントゲン酸亜鉛、メチルキサントゲン酸カリウム、エチルキサントゲン酸カリウム、プロピルキサントゲン酸カリウム、イソプロピルキサントゲン酸カリウム、ブチルキサントゲン酸カリウム、ペンチルキサントゲン酸カリウム、ヘキシルキサントゲン酸カリウム、ヘプチルキサントゲン酸カリウム、オクチルキサントゲン酸カリウム、2−エチルヘキシルキサントゲン酸カリウム、デシルキサントゲン酸カリウム、ドデシルキサントゲン酸カリウム、メチルキサントゲン酸ナトリウム、エチルキサントゲン酸ナトリウム、プロピルキサントゲン酸ナトリウム、イソプロピルキサントゲン酸ナトリウム、ブチルキサントゲン酸ナトリウム、ペンチルキサントゲン酸ナトリウム、ヘキシルキサントゲン酸ナトリウム、ヘプチルキサントゲン酸ナトリウム、オクチルキサントゲン酸ナトリウム、2−エチルヘキシルキサントゲン酸ナトリウム、デシルキサントゲン酸ナトリウム、ドデシルキサントゲン酸ナトリウム等が挙げられる。これらの中で、イソプロピルキサントゲン酸亜鉛は、反応性が高いので好ましい。
《システイン類》
システイン類としては、例えば、(L−)システイン、N−アセチル−L−システイン、(L−)システイン塩酸塩、(L−)システインエチルエステル塩酸塩、(L−)システインメチルエステル塩酸塩等が挙げられる。
《チオウレア類》
チオウレア類としては、例えば、N,N’−ジフェニルチオウレア、トリメチルチオウレア、N,N’−ジエチルチオウレア、N,N’−ジメチルチオウレア、N,N’−ジブチルチオウレア、エチレンチオウレア、N,N’−ジイソプロピルチオウレア、N,N’−ジシクロヘキシルチオウレア、1,3−ジ(o−トリル)チオウレア、1,3−ジ(p−トリル)チオウレア、1,1−ジフェニル−2−チオウレア、2,5−ジチオビウレア、グアニルチオウレア、1−(1−ナフチル)−2−チオウレア、1−フェニル−2−チオウレア、p−トリルチオウレア、o−トリルチオウレア等が挙げられる。これらの中で、N,N’−ジエチルチオウレア、トリメチルチオウレア、N,N’−ジフェニルチオウレア及びN,N’−ジメチルチオウレアは、反応性が高いので好ましい。
《チオシアン酸アンモニウム》
チオシアン酸アンモニウムは、チオシアン酸のアンモニウム塩で、下記式(VIII)で示される化合物である。
《ジアルキルジチオリン酸亜鉛》
ジアルキルジチオリン酸亜鉛(ZnDTP)としては、例えば、炭素数4〜12のアルキル基またはアリール基を有するジアルキルジチオリン酸亜鉛が挙げられる。
《チアジアゾール類》
チアジアゾール類としては、2,5−ジメルカプト−1,3,4−チアジアゾール、2−メルカプト−1,3,4−チアジアゾール−5−チオベンゾエート等が挙げられる。
<非イオン系界面活性剤(E)>
非イオン系界面活性剤(E)としては、多価アルコール型、ポリオキシエチレンアルキルエーテル型、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル型、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレングリコール型、ポリエチレングリコール型、グリコシド型、及び脂肪酸アルカノールアミド型等の中から選ばれる少なくとも1種が用いられる。
非イオン系界面活性剤(E)は、得られるタイヤ用ゴム組成物の低燃費性と耐摩耗性を向上させる。
非イオン系界面活性剤(E)における、多価アルコール型としては、グリセリン(グリセロール)の脂肪酸エステル、ペンタエリスリトールの脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタンの脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビットの脂肪酸エステル及びソルビタンの脂肪酸エステル等の中から選ばれる少なくとも1種;ポリオキシエチレンアルキルエーテル型としては、ポリオキシエチレンのモノもしくはジアルキル又はアルケニルエーテル等の中から選ばれる少なくとも1種;ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル型としては、ポリオキシエチレンベンジルフェニルエーテル、ポリオキシエチレントリベンジルフェニルエーテル及びポリオキシエチレンジスチレン化フェニルエーテル等の中から選ばれる少なくとも1種が挙げられる。
ポリオキシエチレンポリオキシプロピレングリコール型としては、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレングリコール及びそのモノ又はジ脂肪酸エステル等の中から選ばれる少なくとも1種;ポリエチレングリコール型としては、ポリエチレングリコールのモノ又はジ脂肪酸エステル等の中から選ばれる少なくとも1種;グルコシド型としては、アルキル基の炭素数が8〜20のアルキルグルコシド等の中から選ばれる少なくとも1種;脂肪酸アルカノールアミド型としては、脂肪酸のジエタノールアミド及び脂肪酸のN−アルキルエタノールアミド等の中から選ばれる少なくとも1種が挙げられる。
これらの非イオン系界面活性剤(E)の中で、好ましいものとしては、多価アルコール型として、親油型モノステアリン酸グリセリン、自己乳化型モノステアリン酸グリセリン、親油型モノオレイン酸グリセリン、モノカプリル酸グリセリン、モノステアリン酸プロピレングリコール、モノステアリン酸ソルビタン、モノオレイン酸ソルビタン、セスキオレイン酸ソルビタン、ヤシ油脂肪酸ソルビタン、モノパルミチン酸ソルビタン、トリステアリン酸ソルビタン、トリオレイン酸ソルビタン、モノラウリン酸ポリオキシエチレンソルビタン、モノパルミチン酸ポリオキシエチレンソルビタン、モノステアリン酸ポリオキシエチレンソルビタン、トリステアリン酸ポリオキシエチレンソルビタン、モノオレイン酸ポリオキシエチレンソルビタン、トリオレイン酸ポリオキシエチレンソルビタン、トリイソステアリン酸ポリオキシエチレンソルビタン、テトラオレイン酸ポリオキシエチレンソルビット等を挙げることができる。
ポリオキシエチレンアルキルエーテル型として、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルドデシルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル等を挙げることができる。
また、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレングリコール型として、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレングリコール等が挙げられ、ポリエチレングリコール型として、モノラウリン酸ポリエチレングリコール、モノステアリン酸ポリエチレングリコール、ジステアリン酸ポリエチレングリコール等が挙げられる。
グルコシド型として、デシルグルコシド、ラウリルグルコシド等が挙げられ、脂肪酸アルカノールアミド型として、パーム核油脂肪酸ジエタノールアミド、ラウリン酸ジエタノールアミド、ヤシ油脂肪酸N−メチルエタノールアミド等が挙げられる。さらに、その他の好ましい非イオン系界面活性剤として、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、イソステアリルグリセリルエーテル等が挙げられる。
本発明においては、非イオン系界面活性剤(E)は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
本発明に係るタイヤ用ゴム組成物の非イオン系界面活性剤(E)の配合量は、ジエン系ゴム(A)100質量部に対して、0.1質量部以上20質量部以下であることが好ましく、0.5質量部以上10質量部以下であることがより好ましく、1.0質量部以上5.0質量部以下であることがさらに好ましい。
また、非イオン系界面活性剤(E)の配合量は、シリカ(B)の配合量に対して、効果の観点から、質量比{非イオン系界面活性剤(E)/シリカ(B)}が(1/100)〜(20/100)であることが好ましく、(1/100)〜(15/100)であることがより好ましく、(1/100)〜(10/100)であることがさらに好ましい。
<その他の充填材>
第1工程において、その他の充填材としてカーボンブラックを配合してもよい。カーボンブラックを配合することにより、電気抵抗を下げて帯電を抑止することができる。
カーボンブラックとしては、特に制限はなく、例えば高、中又は低ストラクチャーのSAF、ISAF、IISAF、N339、HAF、FEF、GPF、SRFグレードのカーボンブラック、特にSAF、ISAF、IISAF、HAF、FEFグレードのカーボンブラックを用いるのが好ましい。
カーボンブラックの窒素吸着比表面積(NSA、JISK 6217−2:2001に準拠して測定する)が30m/g以上250m/g以下であることが好ましく、40m/g以上225m/g以下であることがより好ましく、50m/g以上200m/g以下であることがさらに好ましい。
カーボンブラックは1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
[第2工程]
第2工程は、予備組成物に加硫剤(F)を加えて第2混合物を調製し、第2混合物を混練することによってゴム組成物を調製する。
なお、第1工程において、加硫促進剤等の活性剤(D)及び非イオン系界面活性剤(E)の全部を配合しない場合は、第2工程において残部を配合する。
以下に、第2工程で配合する加硫剤(F)について説明する。
<加硫剤(F)>
加硫剤(F)としては、硫黄等が挙げられる。加硫剤(F)の配合量は、ジエン系ゴム(A)100質量部に対し、1質量部以上7質量部以下であることが好ましく、1質量部以上5質量部以下であることがより好ましく、1質量部以上3質量部以下であることがさらに好ましい。加硫剤(F)の配合量が上記範囲であることによって、ゴム組成物の耐久性を向上させることができる。
<その他の配合剤>
本発明のタイヤ用ゴム組成物では、通常、ゴム工業界で通常使用される配合剤、例えば、老化防止剤、軟化剤(オイル)、ワックス、ステアリン酸、亜鉛華、加硫促進助剤等を、本発明の目的を阻害しない範囲内で、各種配合剤を、必要に応じ、第1工程又は第2工程、あるいは第1工程と第2工程の中間段階において混練りされる。
本発明における混練装置としては、バンバリーミキサー、ロール、インテンシブミキサー等が用いられる。
以下に、実施例を挙げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明は下記の実施例に何ら限定されるものではない。
なお、加硫ゴム(ゴム組成物を160℃で20分間加硫処理)の低発熱性(tanδ指数)を下記の方法により評価した。
<低発熱性(tanδ指数)>
得られたゴム組成物を160℃で20分加硫後、粘弾性測定装置(レオメトリックス社製)を使用し、温度50℃、動歪5%、周波数15Hzでtanδを測定し、表1においては比較例1のtanδを100として、それぞれ指数表示とした。指数値が小さい程、tanδが小さく、低ロス性に優れることを示す。
tanδ指数={(供試加硫ゴム組成物のtanδ)/(比較例1の加硫ゴム組成物のtanδ)}×100
《実施例1〜2》
実施例1〜2は、表1に示す配合処方により、第1工程において、まず、ジエン系ゴム、シリカ、活性剤、非イオン系界面活性剤、及び表1に示すカーボンブラック、オイル、ワックス、老化防止剤を同時に加えて90秒混練した(練り方A)。次いで、シランカップリング剤を加えてさらに混練して予備組成物を調製した。表1に示す第1工程におけるゴム組成物の最高温度は150℃であった。
次に、第2工程において、予備組成物に加硫剤を加えて最終段階の混練を行い、実施例1〜2のタイヤ用ゴム組成物を調製した。
《比較例1〜3》
比較例1〜3は、第1工程において、表1に示す配合処方の全てを一括に加えて混練した(練り方B)。表1に示す第1工程におけるゴム組成物の最高温度は150℃であった。
次に、第2工程において、予備組成物に加硫剤を加えて最終段階の混練を行い、比較例1〜3のタイヤ用ゴム組成物を調製した。
実施例1〜2及び比較例1〜3のタイヤ用ゴム組成物は、いずれも混練機としてバンバリーミキサーを用いた。
実施例1〜2及び比較例1〜3のタイヤ用ゴム組成物について、その加硫ゴムの低発熱性を評価した結果を表1に示す。

[注]
*1:スチレン−ブタジエン共重合体ゴム、旭化成株式会社製、溶液重合SBR、商品名「タフデン2000」
*2:ISAF−HS、三菱化学社製、商品名「ダイヤブラックN234」
*3:東ソー・シリカ社製、商品名「ニプシルAQ」(BET表面積210m/g)
*4:ビス(3−トリエトキシシリルプロピル)ジスルフィド、デグサ社製、商品名「Si75」(登録商標)
*5:マイクロクリスタリンワックス、日本精鑞株式会社製、商品名「オゾエース0280」
*6:N−(1,3−ジメチルブチル)−N’−フェニル−p−フェニレンジアミン、大内新興化学工業株式会社製、商品名「ノクラック6C」
*7:親油型モノステアリン酸グリセリン、花王株式会社製、商品名「エキセルS−95」
*8:1,3−ジフェニルグアニジン、三新化学工業株式会社製、商品名「サンセラーD」
*9:N,N’−ジエチルチオ尿素、ラインケミー社製、商品名「レノグランETU−80」
*10:ジ−2−ベンゾチアゾリルジスルフィド、三新化学工業株式会社製、商品名「サンセラーDM」
*11:N−シクロヘキシル−2−ベンゾチアジルスルフェンアミド、大内新興化学工業株式会社製、商品名「ノクセラーCZ」
表1より、実施例1〜2のタイヤ用ゴム組成物は、比較例1〜3のタイヤ用ゴム組成物と比較して、低発熱性(tanδ指数)が良好であった。
本発明で製造されたタイヤ用ゴム組成物は、乗用車用、小型トラック用、軽乗用車用、軽トラック用及び大型車両用(トラック、バス、建設車両用等)等の各種空気入りタイヤの各部材、特に空気入りラジアルタイヤのトレッド用部材として好適に用いられる。

Claims (4)

  1. ジエン系ゴム(A)と、シリカ(B)と、シランカップリング剤(C)と、加硫促進剤、システイン類、チオウレア類、チオシアン酸アンモニウム、ジアルキルジチオリン酸亜鉛及びチアジアゾール類からなる群から選ばれる少なくとも一種の活性剤(D)の全部又は一部と、非イオン系界面活性剤(E)の全部又は一部とを含む第1混合物を調製し、該第1混合物を混練することによって予備組成物を調製する第1工程と、
    該予備組成物に加硫剤(F)を加えて第2混合物を調製し、該第2混合物を混練することによってゴム組成物を調製する第2工程とを含み、
    該第1工程において、該ジエン系ゴム(A)、該シリカ(B)、該活性剤(D)の全部又は一部、及び該非イオン系界面活性剤(E)の全部又は一部を混練りした後、該シランカップリング剤(C)を加えて更に混練するタイヤ用ゴム組成物の製造方法。
  2. 前記非イオン系界面活性剤(E)が、グリセリン脂肪酸エステルである請求項1に記載のタイヤ用ゴム組成物の製造方法。
  3. 前記加硫促進剤が、1,3−ジフェニルグアニジンである請求項1又は2に記載のタイヤ用ゴム組成物の製造方法。
  4. 前記活性剤(D)が、チオウレア類である請求項1〜3のいずれか1項に記載のタイヤ用ゴム組成物の製造方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7009812B2 (ja) * 2016-09-30 2022-01-26 住友ゴム工業株式会社 タイヤ用ゴム組成物の製造方法およびタイヤの製造方法
JP6665879B2 (ja) * 2018-03-12 2020-03-13 横浜ゴム株式会社 タイヤ用ゴム組成物及びスタッドレスタイヤ
JP7251071B2 (ja) * 2018-08-08 2023-04-04 住友ゴム工業株式会社 トレッド用ゴム組成物及び空気入りタイヤ
CN113968997B (zh) * 2020-07-24 2023-05-30 中国石油化工股份有限公司 含l-半胱氨酸的用于鞋底的橡胶组合物及其应用、硫化橡胶及其制备方法和应用以及鞋底

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4977939B2 (ja) * 2000-10-26 2012-07-18 Jsr株式会社 ゴム組成物及びその製造方法
JP2013043900A (ja) * 2011-08-22 2013-03-04 Sumitomo Rubber Ind Ltd タイヤ用ゴム組成物、その製造方法及び空気入りタイヤ
JP5845102B2 (ja) * 2012-02-01 2016-01-20 住友ゴム工業株式会社 ゴム組成物の製造方法
JP6703369B2 (ja) * 2014-05-29 2020-06-03 株式会社ブリヂストン タイヤ用ゴム組成物

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