JP6722937B2 - 光輝材およびその利用 - Google Patents
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Description
本発明の光輝材において、上記フィルム片の膜厚は50nm〜2μmであることが好ましい。
本発明の光輝材は、グラファイト状窒化炭素フィルム(以下、「g−C3N4フィルム」ということがある)のフィルム片を含むものである。なお、本明細書において、「光輝材」とは、光の干渉または散乱等に基づく呈色を利用した材質であって、光沢性を付与できる材質を意味するものとする。
本発明の光輝材は、g−C3N4フィルムのフィルム片であればその調製方法は特に限定されるものではないが、例えば、本発明の光輝材は、g−C3N4フィルムを、例えば、粉砕等の方法によって、g−C3N4フィルムの単層または多層のシート構造を維持しながら小片化することによって容易に得ることができる。
g−C3N4フィルムは、例えば、X+ mYm−で表される化合物(X+は、グアニジニウムイオン、メラミニウムイオン、メラミウムイオン、メレミウムイオン、下記式(I)で示されるグアニジン誘導体イオン、または下記式(II)で示されるグアニジン誘導体イオンであり、Ym−は陰イオンであり、mはYの価数である)を原料として加熱し、当該化合物またはその反応物を気化させて、加熱した基材の表面に付着させ、当該基材上で当該化合物またはその反応物を重合させてグラファイト状窒化炭素を生成させることによって得られる。なお、基材は、表面が負電荷を帯びているまたは表面にπ電子を有している基材であることが好ましい。
原料として用いられる化合物は、X+ mYm−で表される化合物(「化合物X+ mYm−」と称する)である。X+ mYm−におけるX+は、グアニジニウムイオン、メラミニウムイオン、メラミウムイオン、メレミウムイオン、上記式(I)で示されるグアニジン誘導体イオン、または上記式(II)で示されるグアニジン誘導体イオンである。
上述したg−C3N4フィルムの製造方法において用いられる基材は、表面が負電荷を帯びているか、または表面にπ電子を有している基材が好ましく、これらの基材としては、具体的には本発明の光輝材の説明において例示した基材が挙げられる。
g−C3N4フィルムの製造方法では、上述の原料となる化合物を加熱して、当該化合物またはその反応物を気化させる。「その反応物」とは、原料の化合物が、加熱によって互いに反応し、別の構造の化合物に変化したものを指す。例えば原料としてグアニジン炭酸塩を用いた場合、加熱することにより、下記のスキームに従って変化することが予想される。
本発明の光輝材に係るフィルム片は、例えば上記のようにして得られたg−C3N4フィルムを粉砕することによって得られる。g−C3N4フィルムの粉砕は、例えば、g−C3N4フィルムを含む媒質に超音波振動を付与する方法(以下、この方法を「超音波粉砕法」ということがある)によって行うことができる。以下、超音波粉砕法について、具体的に説明する。
超音波粉砕法は、g−C3N4フィルムを含む媒質に超音波振動を付与することによって本発明のフィルム片を得るものである。
本発明の光輝材は、そのままの状態で、あるいは常法により濾過、洗浄、乾燥等の処理を施して用いることができる。さらに、必要に応じてポリマーコーティング、無機微粒子の付着等で表面処理して用いることも可能である。
本発明の光輝材を配合した化粧料の調製は、常法に従い、従来の化粧料成分を本発明の光輝材と組み合わせることにより行うことができる。
本発明の光輝材を配合した塗料の調製は、常法に従い、従来の塗料成分を本発明の光輝材と組み合わせることにより行うことができる。
<窒素雰囲気下でのg−C3N4フィルムの作製>
以下の方法によりg−C3N4フィルムを作製した。グアニジン炭酸塩(3.0g,16.7mmol)を、ガラス製試験管(18mm径)の底に敷き詰め、試験管の中間に基板を設置し、穴を開けたアルミホイルで封をした。基材として、イーグルXG (登録商標) ガラス基板を用いた。試験管を石英管の中に静置し、窒素ガスをフローしながらチューブ型炉を用いて10℃/分で430℃まで昇温し、最高温度が530℃〜560℃になるまで2℃/分で昇温した。なお、最高温度が異なるのは炉によって最適温度が異なるためである。最高温度で30分加熱した後、室温まで自然放冷したところ、ガラス基板上に付着したg−C3N4フィルムを得た。
ガラス基板上に付着したg−C3N4フィルムを70℃〜80℃程度に維持したお湯に数日間浸し、g−C3N4フィルムに対して手振りによる振動、または超音波振動(超音波振動の周波数42kHzまたは38kHz)を付与しながら、g−C3N4フィルムをガラス基板から剥離させた。剥離したg−C3N4フィルムに対して、さらに超音波振動(超音波振動の周波数42kHzまたは38kHz)を付与することによって、水中でg−C3N4フィルムを粉砕し、g−C3N4フィルム片を得た。得られたg−C3N4フィルム片の平均的なサイズは、膜厚が100nm〜300nm、長さが10μm〜500μm、幅が10μm〜500μm、形状が略多角形盤状であった。得られたg−C3N4フィルム片の様子を図1に示す。図1は、超音波振動付与後のg−C3N4フィルム片の分散液の外観を示す写真に基づく図である。図1に示すように、得られたg−C3N4フィルム片は干渉色を有しており、g−C3N4フィルム片の分散液からは、様々な色の反射光が観測できた。
<マイカ基板上でのg−C3N4フィルムの作製>
以下の方法によりg−C3N4フィルムを作製した。グアニジン炭酸塩 (6.0g,33.4mmol) をガラス製試験管(30mm径)の底に敷き詰め、脱脂綿で封をしたのちに試験管の中間に基材を設置した。基材としてマイカ基板を用いた。チューブ型炉(KOYO KTF035N1)を用いて、10℃/分で昇温し、空気中、550℃で30分加熱した。加熱終了後、室温まで自然放冷したところ、マイカ基板上に付着したg−C3N4フィルムを得た。
上述のようにして得られた、マイカ基板上に付着したg−C3N4フィルムの光化学物性を調べるために、拡散反射スペクトル(JASCO V-670, JASCO ISN-723)の測定を行った。その結果を図3に示す。図3中、aはマイカ基板上に付着したg−C3N4フィルム(左側)およびマイカ基板(右側)のそれぞれの外観を示す写真に基づく図であり、bは、aに対応したグラフであって、マイカ基板上に付着したg−C3N4フィルムおよびマイカ基板それぞれの拡散反射スペクトルを示している。
Claims (10)
- グラファイト状窒化炭素フィルムのフィルム片を含み、
上記グラファイト状窒化炭素フィルムはg−C 3 N 4 フィルムである、光輝材。 - 上記グラファイト状窒化炭素フィルムは、X+ mYm−で表される化合物(X+は、グアニジニウムイオン、メラミニウムイオン、メラミウムイオン、メレミウムイオン、下記式(I)で示されるグアニジン誘導体イオン、または下記式(II)で示されるグアニジン誘導体イオンであり、Ym−は陰イオンであり、mはYの価数である)の重合物であり、単層または多層のシート構造を有している、請求項1に記載の光輝材。
- 上記フィルム片の膜厚は50nm〜2μmである、請求項1または2に記載の光輝材。
- 上記フィルム片の長さは1μm〜2mmである、請求項1〜3のいずれか1項に記載の光輝材。
- 上記フィルム片は基材に付着している、請求項1〜4のいずれか1項に記載の光輝材。
- グラファイト状窒化炭素フィルムのフィルム片を含み、
上記フィルム片は基材に付着しており、
上記基材は、表面が負電荷を帯びているか、または表面にπ電子を有している、光輝材。 - 上記基材は、マイカである、請求項6に記載の光輝材。
- グラファイト状窒化炭素フィルムのフィルム片を含む光輝材が配合された化粧料。
- グラファイト状窒化炭素フィルムのフィルム片を含む光輝材が配合された塗料。
- グラファイト状窒化炭素フィルムのフィルム片を含む光輝材の製造方法であって、
X + m Y m− で表される化合物(X + は、グアニジニウムイオン、メラミニウムイオン、メラミウムイオン、メレミウムイオン、下記式(I)で示されるグアニジン誘導体イオン、または下記式(II)で示されるグアニジン誘導体イオンであり、Y m− は陰イオンであり、mはYの価数である)を重合して上記グラファイト状窒化炭素フィルムを得る工程を含む、製造方法。
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