JP6720625B2 - Polarizer and method for manufacturing polarizer - Google Patents

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本発明は、ワイヤーグリッド型偏光子に関するものである。 The present invention relates to a wire grid type polarizer.

従来、液晶表示装置では、透明電極を配置したガラス板により液晶材料を挟持して液晶セルが形成され、この液晶セルの両面に直線偏光板が配置されて液晶表示パネルが構成される。また近年、この液晶表示パネルの入射面(バックライト側面)に、反射型の直線偏光板を配置してバックライトによる照明光の利用効率を向上する工夫が図られている。 Conventionally, in a liquid crystal display device, a liquid crystal material is sandwiched between glass plates on which transparent electrodes are arranged to form a liquid crystal cell, and linear polarizing plates are arranged on both surfaces of the liquid crystal cell to form a liquid crystal display panel. Further, in recent years, a device for improving the utilization efficiency of illumination light by the backlight by arranging a reflective linear polarizing plate on the incident surface (backlight side surface) of the liquid crystal display panel has been devised.

このような偏光子には、ポリビニルアルコール(PVA)にヨウ素等を含浸させた後、延伸して作製する構成(いわゆるシート・ポラライザーである)、ワイヤーグリッド型偏光子等が利用されている。特許文献1、2には、ワイヤーグリッド型偏光子に関する工夫が提案されている。また特許文献3には、凹状溝の繰り返しによる周期構造において、凹状溝の間の凸部と凹状溝による凹部とにそれぞれ金属材料を配置してワイヤーグリッド型偏光子を構成する方法が開示されている。 As such a polarizer, a structure (so-called sheet polarizer) produced by impregnating polyvinyl alcohol (PVA) with iodine or the like and then stretching it, a wire grid type polarizer, or the like is used. Patent Documents 1 and 2 propose a device for a wire grid type polarizer. Further, Patent Document 3 discloses a method of forming a wire grid type polarizer by disposing a metal material in each of the convex portions between the concave grooves and the concave portions of the concave grooves in the periodic structure by repeating the concave grooves. There is.

ところで近年、液晶表示装置は薄型化が進んでおり、特に携帯型の液晶表示装置では、一段と薄膜化することが求められている。これにより液晶表示装置の構成部品においても、薄型化することが求められている。 By the way, in recent years, liquid crystal display devices have been made thinner, and in particular, portable liquid crystal display devices are required to be further thinned. As a result, it is required to make the components of the liquid crystal display device thinner.

しかしながらこのような液晶表示装置に適用されるシート・ポラライザーによる偏光子は、耐熱性が劣り、さらに厚みを薄くすることが困難な欠点がある。これによりシート・ポラライザーに代えてワイヤーグリッド型偏光子の利用が考えられる。しかしながら従来のワイヤーグリッド型偏光子は、生産効率が低く、かつ大面積の製品を作製することが難しく、これにより大面積の製品を効率良く生産できない問題があった。 However, a polarizer using a sheet polarizer applied to such a liquid crystal display device has a drawback that it is inferior in heat resistance and it is difficult to further reduce the thickness. As a result, it is possible to use a wire grid type polarizer instead of the sheet polarizer. However, the conventional wire grid type polarizer has low production efficiency, and it is difficult to produce a large area product, which causes a problem that a large area product cannot be produced efficiently.

なお延伸してワイヤーグリッド型偏光子に係る微細周期構造を作製することも考えられるものの、この場合、中央部と端部とで変形率が異なることにより、充分な精度により作製することが困難になり、また効率良く材料を使用できない問題がある。 Although it is conceivable to fabricate a fine periodic structure relating to a wire grid type polarizer by stretching, in this case, it is difficult to fabricate with sufficient accuracy because the deformation rate is different between the central portion and the end portion. In addition, there is a problem that materials cannot be used efficiently.

特開2006−330521号公報JP, 2006-330521, A 特開2012−27221号公報JP, 2012-27221, A 米国特許第7158302号明細書U.S. Pat. No. 7,158,302

本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、ワイヤーグリッド型偏光子に関して、大面積の製品を効率良く生産できるようにすることを目的とする。 The present invention has been made in view of such a situation, and an object of the present invention is to enable a product with a large area to be efficiently produced for a wire grid type polarizer.

本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、凹状溝の繰り返しによる周期構造を備えた凹凸形状を作製し、この凹状溝の間の頂部に第1の金属線状部を形成して偏光子を構成するようにして、少なくともこの凹状溝による周期構造を巻取体から連続的に巻出し、巻取りを行う方式(いわゆるRoll to Roll方式)による賦型処理により作製する、との着想に至り、本発明を完成するに至った。 The present inventor has conducted extensive studies in order to solve the above problems, and creates an uneven shape having a periodic structure by repeating concave grooves, and forms a first metal linear portion on the top between the concave grooves. Then, at least the periodic structure of the concave grooves is continuously unwound from the winding body so as to form the polarizer, and is manufactured by a shaping process by a method of winding (so-called Roll to Roll method). This led to the completion of the present invention.

具体的には、本発明では、以下のようなものを提供する。 Specifically, the present invention provides the following.

(1) 入射する電磁波の透過を偏光面に応じて制限する偏光子において、
透明フィルム材による基材の一方の面に、透過を制限する波長帯域の最短波長以下のピッチによる凹状溝の繰り返しによる凹凸形状面が形成され、
少なくとも前記凹状溝間の頂部には、前記凹状溝に沿って延長する金属材料による第1の金属線状部が設けられ、
前記第1の金属線状部は、
前記凹状溝間の頂部と接する部位の幅が、前記凹状溝間の頂部の幅以下であり、
前記凹状溝間の頂部と接する部位より遠ざかるに従って徐々に幅が増大する涙滴形状の断面形状である偏光子。
(1) In a polarizer that limits the transmission of incident electromagnetic waves according to the plane of polarization,
On one surface of the substrate made of a transparent film material, a concave-convex surface is formed by repeating concave grooves at a pitch of the shortest wavelength or less of a wavelength band that limits transmission,
At least a top portion between the recessed grooves is provided with a first metal linear portion made of a metal material and extending along the recessed grooves,
The first metal linear portion,
The width of the portion in contact with the top between the recessed grooves is not more than the width of the top between the recessed grooves,
A polarizer having a teardrop-shaped cross-sectional shape in which the width gradually increases as the distance from the portion in contact with the top of the concave groove increases.

(1)によれば、巻取体から連続的に巻出し、巻取りを行う方式による賦型処理により凹凸形状面を作製して、大面積の製品を効率良く生産することができる。またさらにエッチング処理して形成される第1の金属線状部の断面形状を備えることにより、この場合、エッチング処理により第1の金属線状部間の間隔を拡大して特性を確保でき、充分な特性により入射光を処理することができる。 According to (1), it is possible to efficiently produce a large-area product by producing a concavo-convex surface by a shaping process by a method of continuously unwinding from the winding body and winding. Further, by providing the cross-sectional shape of the first metal linear portions formed by the etching treatment, in this case, the space between the first metal linear portions can be expanded by the etching treatment to secure the characteristics, which is sufficient. The incident light can be processed by such characteristics.

(2) (1)において、
さらに前記凹状溝の底部に、前記凹状溝に沿って延長する金属材料による第2の金属線状部が設けられた偏光子。
(2) In (1),
Furthermore, the polarizer in which a second metal linear portion made of a metal material and extending along the concave groove is provided at the bottom of the concave groove.

(2)によれば、第1及び第2の金属線状部による2層構造の金属線状部を備えた偏光子を作製することができる。 According to (2), it is possible to fabricate a polarizer including a metal linear portion having a two-layer structure including the first and second metal linear portions.

(3) (1)、(2)の何れかにおいて、前記凹状溝の延長方向が、前記基材の遅相軸方向である偏光子。 (3) In the polarizer according to any one of (1) and (2), the extending direction of the concave groove is the slow axis direction of the base material.

(3)によれば、金属線状部による反射及び透過を手助けする方向に基材が機能するように配置することができ、これにより一段と効率良く入射光を処理することができる。 According to (3), the base material can be arranged so as to function in a direction that assists reflection and transmission by the metal linear portion, and thus the incident light can be processed more efficiently.

(4) (1)、(2)、(3)の何れかにおいて、前記凹凸形状面の表面には、前記第1の金属線状部との密着力を強化する密着層が設けられた偏光子。 (4) In any one of (1), (2) and (3), a polarized light having an adhesive layer provided on the surface of the uneven surface for enhancing the adhesive force with the first metal linear portion. Child.

(4)によれば、密着層により信頼性を向上できることにより、一段と確実に、巻取体から連続的に巻出し、巻取りを行う方式による賦型処理により凹凸形状面を作製して、大面積の製品を効率良く生産することができる。 According to (4), the reliability can be improved by the adhesion layer, so that the uneven surface can be produced more reliably and continuously by unwinding from the winding body, and the uneven surface is formed by the shaping process by the winding method. Area products can be produced efficiently.

(5) 長尺透明フィルム材による基材をロールから引き出しながらロール版を使用して賦型処理して、透過を制限する波長帯域の最短波長以下のピッチによる凹状溝の繰り返しによる凹凸形状面を前記基材に作製する凹凸形状作製工程と、
前記凹凸形状面の表面に、金属材料を堆積させて、前記凹状溝の間の頂部に設けられた前記金属材料による第1の金属線状部を作製する金属線状部作製工程とを備え、
さらに前記凹凸形状面の表面に堆積した金属材料をエッチングするエッチング工程を備える偏光子の製造方法。
(5) A base material made of a long transparent film material is drawn out from a roll and subjected to a shaping process using a roll plate to form an uneven surface by repeating concave grooves at a pitch equal to or shorter than the shortest wavelength of a wavelength band that limits transmission. An uneven shape producing step of producing the base material;
A metal linear part forming step of depositing a metal material on the surface of the uneven surface to form a first metal linear part made of the metal material provided at the top between the concave grooves,
The method for manufacturing a polarizer, further comprising an etching step of etching the metal material deposited on the surface of the uneven surface.

(5)によれば、少なくとも賦型処理して凹凸形状面を作製するようにして、この賦型処理を巻取体から連続的に巻出し、巻取りを行う方式により実行して偏光子を作製することができることにより、大面積の製品を効率良く生産することができる。またエッチング処理により金属材料を堆積して狭まった第1の金属線状部間の空隙幅を拡大して特性を確保することができ、これにより充分な特性により入射光を処理することができる。 According to (5), at least an imprinting process is performed to produce an uneven surface, and this imprinting process is continuously unwound from the winding body and is performed by a winding method to form a polarizer. By being able to manufacture, a large-area product can be efficiently produced. Further, the characteristic can be secured by expanding the width of the gap between the first metal linear portions narrowed by depositing the metallic material by the etching treatment, and thus the incident light can be treated with sufficient characteristics.

(6) (5)において、
前記凹凸形状作製工程は、
前記凹状溝の延長方向が、前記基材の遅相軸方向であるように前記凹凸形状面を作製する偏光子の製造方法。
(6) In (5),
The uneven shape manufacturing step,
The method for manufacturing a polarizer, wherein the concavo-convex shaped surface is formed so that the extending direction of the concave groove is the slow axis direction of the base material.

(6)によれば、金属線状部による反射及び透過を手助けする方向に基材が機能するように配置することができ、これにより一段と効率良く入射光を処理することができる。 According to (6), the base material can be arranged so as to function in a direction that assists reflection and transmission by the metal linear portion, and thus the incident light can be processed more efficiently.

本発明によれば、ワイヤーグリッド型偏光子に関して、大面積の製品を効率良く生産することができる。 According to the present invention, it is possible to efficiently produce a large-area product for the wire grid type polarizer.

本発明の第1実施形態に係る画像表示装置を示す図である。It is a figure which shows the image display apparatus which concerns on 1st Embodiment of this invention. 図1の画像表示装置に適用される偏光子を示す図である。It is a figure which shows the polarizer applied to the image display apparatus of FIG. 図2の偏光子のピッチの説明に供する図である。FIG. 3 is a diagram for explaining a pitch of the polarizer of FIG. 2. 図3の続きの説明に供する図表である。FIG. 4 is a chart provided for explaining the continuation of FIG. 3. 図2の偏光子の製造工程を示すフローチャートである。3 is a flowchart showing manufacturing steps of the polarizer of FIG. 2. 図5の説明に供する図である。FIG. 6 is a diagram provided for explaining FIG. 5. エッチング処理の説明に供する図である。It is a figure with which explanation of an etching process is offered. 金属線状部の断面形状の説明に供する図である。It is a figure with which it uses for explanation of sectional shape of a metal linear part. 積層工程の説明に供する図である。It is a figure with which explanation of a lamination process is offered. ロール版の説明に供する図である。It is a figure with which explanation of a roll plate is offered. 他の実施形態に係る偏光子を示す図である。It is a figure which shows the polarizer which concerns on other embodiment.

〔第1実施形態〕
〔画像表示装置の全体構成〕
図1は、本発明によって製造される偏光子を用いた画像表示装置を示す断面図である。この画像表示装置1は、液晶表示装置であり、液晶表示パネル2の背面にバックライト3が配置され、この液晶表示パネル2のバックライト3側に偏光子4が配置される。ここでバックライト3は、エッジライト型、直射型等、種々の構成の面光源装置を広く適用することができる。液晶表示パネル2は、直交ニコル配置又は平行ニコル配置による直線偏光板6、7により液晶セル5を挟持して構成され、液晶セル5は、透明電極を形成したガラス基板により液晶材料を挟持して形成される。これにより画像表示装置1は、液晶セル5に設けられた透明電極への印加電圧により画素単位で透過光を光強度変調して出力し、所望の画像を表示する。なおここで直線偏光板6、7は、いわゆるシート・ポラライザー型の偏光子である。
[First Embodiment]
[Overall configuration of image display device]
FIG. 1 is a sectional view showing an image display device using a polarizer manufactured according to the present invention. The image display device 1 is a liquid crystal display device, in which a backlight 3 is arranged on the back surface of the liquid crystal display panel 2, and a polarizer 4 is arranged on the backlight 3 side of the liquid crystal display panel 2. Here, as the backlight 3, surface light source devices of various configurations such as an edge light type and a direct type can be widely applied. The liquid crystal display panel 2 is configured by sandwiching a liquid crystal cell 5 between linear polarizing plates 6 and 7 arranged in a crossed Nicols arrangement or a parallel Nicols arrangement. The liquid crystal cell 5 sandwiches a liquid crystal material between glass substrates having transparent electrodes formed thereon. It is formed. As a result, the image display device 1 modulates the intensity of the transmitted light on a pixel-by-pixel basis by the voltage applied to the transparent electrode provided in the liquid crystal cell 5 and outputs the modulated image to display a desired image. The linear polarization plates 6 and 7 are so-called sheet-polarizer type polarizers.

偏光子4は、ワイヤーグリッド型偏光子であり、透過軸方向と直交する偏光面による入射光を選択的に効率良く反射するいわゆる反射型の偏光子である。偏光子4は、液晶セル5の入射面側(バックライト3側)に配置された直線偏光板7の透過軸方向と、透過軸方向が一致するようにして、液晶表示パネル2とバックライト3との間に配置され、これにより画像表示装置1は、バックライト3からの照明光の利用効率を向上する。この実施形態において、偏光子4は、事前に、直線偏光板7と一体化された後、液晶表示パネル2の製造工程に提供され、これにより画像表示装置1は、偏光子4に係る組み立て作業を簡略化することができる。なおこのように直線偏光板7との一体化に代えて、別体により配置してもよい。 The polarizer 4 is a wire grid type polarizer, and is a so-called reflection type polarizer that selectively and efficiently reflects incident light from a polarization plane orthogonal to the transmission axis direction. The polarizer 4 is arranged such that the transmission axis direction of the linearly polarizing plate 7 arranged on the incident surface side (backlight 3 side) of the liquid crystal cell 5 is aligned with the transmission axis direction, and the liquid crystal display panel 2 and the backlight 3 are arranged. And the image display device 1 improves the utilization efficiency of the illumination light from the backlight 3. In this embodiment, the polarizer 4 is integrated with the linear polarizing plate 7 in advance and then provided to the manufacturing process of the liquid crystal display panel 2, whereby the image display device 1 is assembled by the polarizer 4. Can be simplified. It should be noted that instead of being integrated with the linear polarizing plate 7 in this way, it may be arranged as a separate body.

なおこの一体化は、偏光子4と直線偏光板7とを紫外線硬化性樹脂等による接着剤により貼り合せて実行されるものの、偏光子としての光学的機能を担う層(後述する第1及び第2の金属線状部12、13を備えた賦型樹脂層16である)のみを転写法により転写して実行するようにしてもよい。なお転写法とは、例えば基材の上に所望の層を形成する場合に、この層を直接当該基材上に形成するのでは無く、一旦、離型性の支持体上に剥離可能に該層を積層形成して転写体を作製した後、工程、需要等に応じて、該支持体上に形成した層を、最終的に該層を積層すべき基材(被転写基材)上に接着、積層し、その後、該支持体を剥離除去することにより、該基材上に所望の層を形成する方法である。 This integration is performed by bonding the polarizer 4 and the linear polarizing plate 7 with an adhesive made of an ultraviolet curable resin or the like, but a layer having an optical function as a polarizer (first and second layers to be described later). Only the shape-imparting resin layer 16 including the two metal linear portions 12 and 13) may be transferred by a transfer method to be executed. Note that the transfer method is, for example, when a desired layer is formed on a base material, this layer is not directly formed on the base material but is once peeled off on a releasable support. After forming layers to form a transfer body, the layer formed on the support is finally placed on the base material (transferred base material) on which the layer is to be laminated, depending on the process, demand, etc. It is a method of forming a desired layer on the base material by adhering and laminating, and then peeling and removing the support.

〔偏光子〕
図2は、偏光子4の構成を示す図である。偏光子4は、入射する電磁波である入射光の透過を、当該入射光の偏光面に応じて制限する偏光子である。偏光子4は、透過を制御する波長帯域で透明な透明部材10の表面に、一定のピッチPにより凹状溝11が繰り返し設けられ、この凹状溝11の延長方向と直交する方向への繰り返しの凹凸形状による周期構造が設けられる。
[Polarizer]
FIG. 2 is a diagram showing the configuration of the polarizer 4. The polarizer 4 is a polarizer that restricts the transmission of incident light, which is an incident electromagnetic wave, according to the plane of polarization of the incident light. In the polarizer 4, concave grooves 11 are repeatedly provided at a constant pitch P on the surface of a transparent member 10 which is transparent in a wavelength band for controlling transmission, and the concave and convex are repeatedly formed in a direction orthogonal to the extending direction of the concave grooves 11. A periodic structure with a shape is provided.

偏光子4は、この周期構造に係る凹状溝11間の凸部の頂部に、金属材料が配置され、これにより前記凹状溝に沿って延長する金属材料による第1の金属線状部が設けられる。また凹状溝11による凹部の底面部に同一の金属材料が配置され、凹状溝に沿って延長する金属材料による第2の金属線状部13が設けられる。偏光子4は、この第1及び第2の金属線状部12及び13の繰り返しピッチP(凹状溝11の繰り返しピッチである)が、この偏光子4により透過を制御する波長帯域である可視光域の最短波長λmin以下のピッチP(P≦<λmin)により作製される。これにより偏光子4は、凹状溝11間の頂部に設けられた第1の金属線状部12と、凹状溝11の底面に設けられた第2の金属線状部13とによる2層構造により金属線状部12、13が形成され、偏光子として機能するように構成される。なおこの実施形態において、可視光域は、波長780nm以下380nm以上の範囲である。 In the polarizer 4, a metallic material is arranged on top of the convex portions between the concave grooves 11 according to this periodic structure, and thereby a first metallic linear portion made of a metallic material extending along the concave grooves is provided. .. Further, the same metal material is arranged on the bottom surface of the concave portion formed by the concave groove 11, and the second metal linear portion 13 made of the metal material extending along the concave groove is provided. The polarizer 4 has a repeating pitch P of the first and second metal linear portions 12 and 13 (which is a repeating pitch of the recessed grooves 11) in a visible wavelength band in which transmission is controlled by the polarizer 4. It is manufactured with a pitch P (P≦<<λmin) which is equal to or shorter than the shortest wavelength λmin in the region. As a result, the polarizer 4 has a two-layer structure including the first metal linear portions 12 provided on the tops of the concave grooves 11 and the second metal linear portions 13 provided on the bottom surface of the concave grooves 11. The metal linear portions 12 and 13 are formed and configured to function as a polarizer. In this embodiment, the visible light range is a wavelength range of 780 nm or less and 380 nm or more.

ここでこの凹状溝11の繰り返しによる凹凸形状は、平坦な部位を間に挟んで、断面矩形形状による凹状溝11が作製され、これにより偏光子4は、凸部の頂部及び凹部の底面部がそれぞれ平坦面により作製されて、この頂部及び底面部に一定の厚みT1及びT2により金属材料を配置して第1及び第2の金属線状部12及び13が形成される。これにより第1及び第2の金属線状部12、13は、それぞれ凸部の頂部形状、凹部の底面部形状に対応して凸部の頂部側及び凹状溝の底面側が平坦面により形成される。しかしながら凸部の頂部及び又は凹部の底面部にあっては、例えば断面円弧形状等により形成してもよく、種々の形状を広く適用することができ、またこれにより第1及び第2の金属線状部12及び13は、凸部の頂部形状、凹部の底面部形状に応じた種々の形状を適用することができる。またこれに対応して金属線状部12及び13は、凸部の頂部側とは逆側、凹部の底面部側とは逆側にあっても、種々の形状を適用することができる。 Here, the concave and convex shape formed by repeating the concave groove 11 is such that the flat groove is sandwiched between the concave grooves 11, and the concave groove 11 having a rectangular cross section is produced, whereby the polarizer 4 has the top of the convex portion and the bottom of the concave portion. The first and second metal linear portions 12 and 13 are formed by flat surfaces, and a metal material is arranged on the top and bottom portions with a constant thickness T1 and T2, respectively. As a result, the first and second metal linear portions 12 and 13 are formed with flat surfaces on the top side of the convex portion and the bottom side of the concave groove corresponding to the top shape of the convex portion and the bottom portion of the concave portion, respectively. .. However, the top portion of the convex portion and/or the bottom portion of the concave portion may be formed, for example, in an arc shape in cross section, and various shapes can be widely applied. As a result, the first and second metal wires can be formed. Various shapes corresponding to the top shape of the convex portion and the bottom surface shape of the concave portion can be applied to the shape portions 12 and 13. Correspondingly, various shapes can be applied to the metal linear portions 12 and 13 even if they are on the side opposite to the top side of the convex portion and on the side opposite to the bottom side of the concave portion.

しかしながら単純に、このように透過を制御する波長帯域の最短波長λmin以下のピッチPにより凹状溝11を繰り返して第1及び第2の金属線状部12、13の2層構造により偏光子4を形成したのでは、この偏光子4が透過を制御する波長帯域である可視光域の広い波長域で十分に透過率を確保できなくなる。より具体的に、透過率の波長分散が大きくなり、その結果、短波長側で透過率が低下する。 However, simply, the concave groove 11 is repeated at the pitch P which is the shortest wavelength λmin or less of the wavelength band for controlling the transmission, and the polarizer 4 is formed by the two-layer structure of the first and second metal linear portions 12 and 13. If it is formed, it becomes impossible to secure sufficient transmittance in a wide wavelength range of the visible light range, which is a wavelength range in which the polarizer 4 controls transmission. More specifically, the wavelength dispersion of the transmittance increases, and as a result, the transmittance decreases on the short wavelength side.

ここで図3は、このような第1及び第2の金属線状部12、13による2層構造により偏光子において、ピッチPの変化による透過率Tp(透過軸方向)の波長分散特性を示す特性曲線図である。なおこの図3の特性曲線図及び以下に説明する各種の特性は、Rsoftsy社製の光学計算用シミュレーションソフト「DiffractMOD」を使用して計算したものである。 Here, FIG. 3 shows the wavelength dispersion characteristic of the transmittance Tp (transmission axis direction) depending on the change of the pitch P in the polarizer having the two-layer structure including the first and second metal linear portions 12 and 13. It is a characteristic curve figure. The characteristic curve diagram of FIG. 3 and various characteristics described below are calculated by using the optical calculation simulation software “DiffractMOD” manufactured by Rsoftsy.

この図3において、符号L1は、ピッチPを100nmとした場合であり、第1の金属線状部12間の空隙幅S(図6(E)参照)を40nmとし、ピッチPに対する空隙幅Sの比率S/Pを0.4とし、凹状溝11の深さDを100nm、金属線状部12、13の厚みT1及びT2を40nmとした例である。なおここで凹状溝11の深さDは、後述する密着層等設けた場合には、この密着層等を含む溝全体の深さであり、第1及び第2の金属線状部12、13の底面間の間隔である。またこの実施形態において、金属線状部12、13の厚みT1、T2は、溝幅方向において最も厚みの厚い部位を、金属線状部の延長方向の複数個所で計測した計測結果の平均値である。またこの実施形態において、第1の金属線状部12間の空隙幅S等あっても、同様の複数個所の計測値の平均値である。 In FIG. 3, reference numeral L1 represents the case where the pitch P is 100 nm, the gap width S between the first metal linear portions 12 (see FIG. 6E) is 40 nm, and the gap width S with respect to the pitch P is S. Is 0.4, the depth D of the concave groove 11 is 100 nm, and the thicknesses T1 and T2 of the metal linear portions 12 and 13 are 40 nm. Here, the depth D of the concave groove 11 is the depth of the entire groove including the adhesive layer and the like when the adhesive layer and the like to be described later are provided, and the first and second metal linear portions 12 and 13 are provided. Is the distance between the bottoms of the. In addition, in this embodiment, the thicknesses T1 and T2 of the metal linear portions 12 and 13 are average values of the measurement results obtained by measuring the thickest portion in the groove width direction at a plurality of positions in the extension direction of the metal linear portions. is there. Further, in this embodiment, even if there is a gap width S between the first metal linear portions 12 or the like, it is an average value of measured values at a plurality of similar positions.

これに対して符号L2は、ピッチPを64nmとし、ピッチPに対する第1の金属線状部12間の空隙幅Sの比率S/Pを0.3とし、凹状溝11の深さDを75nmとしたものであり、これら以外は、符号L1の構成と同一である。これに対して符号L3は、ピッチPを64nmとし、ピッチPに対する第1の金属線状部12間の空隙幅Sの比率S/Pを0.4としたものであり、これら以外は、符号L2の構成と同一である。また符号L4は、ピッチPに対する第1の金属線状部12間の空隙幅Sの比率S/Pを0.5としたものであり、符号L5は、比率S/Pを0.6としたものであり、これら以外は、符号L2の構成と同一である。なおこれらの構成において、透明部材10には、紫外線硬化性樹脂(屈折率n=1.51、消衰係数k=0.00:at550nm)を適用し、金属線状部12、13に係る金属材料はアルミニウム(屈折率n=0.75、消衰係数k=5.44:at550nm)を適用した。 On the other hand, reference numeral L2 indicates that the pitch P is 64 nm, the ratio S/P of the gap width S between the first metal linear portions 12 to the pitch P is 0.3, and the depth D of the concave groove 11 is 75 nm. Other than these, the configuration is the same as that of the symbol L1. On the other hand, reference numeral L3 indicates that the pitch P is 64 nm, and the ratio S/P of the gap width S between the first metal linear portions 12 to the pitch P is 0.4. It has the same configuration as L2. The symbol L4 is the ratio S/P of the gap width S between the first metal linear portions 12 to the pitch P is 0.5, and the symbol L5 is the ratio S/P is 0.6. Other than these, the configuration is the same as that of the symbol L2. In these configurations, the ultraviolet curable resin (refractive index n=1.51, extinction coefficient k=0.00: at 550 nm) is applied to the transparent member 10, and the metal related to the metal linear portions 12 and 13 is applied. Aluminum (refractive index n=0.75, extinction coefficient k=5.44: at 550 nm) was used as the material.

この図3の計測結果によれば、可視光域の最短波長以下の100nmにピッチPを設定した場合、短波長側で透過率の急激な低下が観察され、これにより透過率に関して波長分散特性の劣化が観察される。しかしながらピッチPが64nmの場合、このような透過率に関する波長分散特性の劣化が解消され、また図3には示されていないものの、反射率においても波長分散特性の劣化が解消され、さらにはこの図3に示す偏光成分と偏光面が直交する偏光成分に係る透過率においても波長分散特性の劣化が解消される。これらにより2層構造により金属線状部12、13を形成した偏光子において、単純に、透過を制御する波長帯域の最短波長λmin以下のピッチPにより凹状溝11を繰り返しただけでは、可視光域の広い波長域で十分に透過率を確保できないことが判る。またピッチPを64nmとするとこのような短波長側における特性の劣化が解消されることが判る。 According to the measurement results of FIG. 3, when the pitch P is set to 100 nm, which is less than or equal to the shortest wavelength in the visible light range, a sharp decrease in the transmittance is observed on the short wavelength side, which results in a wavelength dispersion characteristic of the transmittance. Degradation is observed. However, when the pitch P is 64 nm, such deterioration of the wavelength dispersion characteristic relating to the transmittance is eliminated, and although not shown in FIG. 3, deterioration of the wavelength dispersion characteristic is also eliminated in the reflectance, and further, Deterioration of the wavelength dispersion characteristic is eliminated even in the transmittance of the polarization component whose polarization plane is orthogonal to the polarization component shown in FIG. In the polarizer in which the metal linear portions 12 and 13 are formed by the two-layer structure by these, by simply repeating the concave groove 11 at the pitch P which is equal to or shorter than the shortest wavelength λmin of the wavelength band for controlling transmission, It can be seen that the transmittance cannot be sufficiently secured in a wide wavelength range of. Further, it can be seen that when the pitch P is set to 64 nm, such characteristic deterioration on the short wavelength side is eliminated.

図4は、この図3の計測結果を考慮して、さらにピッチP等を可変した場合の計測結果を示す図表である。この図4の各偏光子においては、図3について上述したと同様の材料及び構成により透明部材及び金属線状部を作製した。ここで偏光子No.1〜5及び偏光子No.6、7は、それぞれピッチPを40nm及び60nmとした場合であり、ピッチPに対する第1の金属線状部12間の空隙幅Sの比率S/Pは0.4とした。凹状溝11は深さDを40nm(No.1)、60nm(No.2、No.4〜No.7)、80nm(No.3)とし、金属線状部12、13の厚みT(=T1、T2)を16nm(No.1〜3、No.6)、32nm(No.4、7)、48nm(No.5)とした。 FIG. 4 is a table showing the measurement results when the pitch P and the like are further changed in consideration of the measurement results of FIG. In each of the polarizers of FIG. 4, a transparent member and a metal linear portion were made of the same material and structure as those described above with reference to FIG. Here, the polarizer No. 1 to 5 and polarizer No. 6 and 7 are the cases where the pitch P was 40 nm and 60 nm, respectively, and the ratio S/P of the gap width S between the first metal linear portions 12 to the pitch P was 0.4. The concave groove 11 has a depth D of 40 nm (No. 1), 60 nm (No. 2, No. 4 to No. 7), 80 nm (No. 3), and the thickness T (= of the metal linear portions 12 and 13). T1 and T2) were set to 16 nm (No. 1 to 3, No. 6), 32 nm (No. 4 and 7) and 48 nm (No. 5).

図3の計測結果を参考にこの図4の計測結果を判断すれば、ピッチPが64nm以下である場合には、透過率に関する波長分散特性の劣化を実用上十分に解消できることが判る。またこのピッチPを前提に、ピッチPに対する第1の金属線状部12間の空隙幅Sの比率S/Pを0.4として、波長400nm、600nm、800nmにおける透過率Tpを80%以上とすることができ、これにより透過軸方向における透過率にあっても、実用上十分な特性を確保することができ、これらにより可視光域の広い波長帯域で十分に透過率を確保できることが確認される。なおこの図4では、短波長側の計測波長を400nmとしているものの、可視光域の最短波長である380nmにおいても、この図4の波長400nmにおける計測結果とほぼ同等の透過率が計測された。 When the measurement result of FIG. 4 is judged with reference to the measurement result of FIG. 3, it can be understood that the deterioration of the wavelength dispersion characteristic relating to the transmittance can be sufficiently solved practically when the pitch P is 64 nm or less. Further, assuming this pitch P, the ratio S/P of the gap width S between the first metal linear portions 12 to the pitch P is 0.4, and the transmittance Tp at wavelengths 400 nm, 600 nm, and 800 nm is 80% or more. As a result, it is confirmed that even if the transmittance in the transmission axis direction is sufficient, practically sufficient characteristics can be secured, and by these, sufficient transmittance can be secured in a wide wavelength band of the visible light region. It In FIG. 4, the measurement wavelength on the short wavelength side is 400 nm, but even at 380 nm, which is the shortest wavelength in the visible light range, a transmittance almost equal to the measurement result at the wavelength of 400 nm in FIG. 4 was measured.

ここでこの図4では、ピッチPに対する第1の金属線状部12間の空隙幅Sの比率S/Pを0.4とした偏光子の計測結果を表しているものの、ピッチPに対する第1の金属線状部12間の空隙幅Sの比率S/Pにあっては、0.3以上0.5以下により作製して、好ましは0.35以上0.45以下により作製して、同様に、可視光域の広い波長帯域で十分に透過率を確保することができる。また同様に、ピッチPは80nm以下として、好ましくは70nm以下として、より好ましくは50nm以下として、透過率に関する波長分散特性の劣化を実用上十分に解消することができる。 Here, in FIG. 4, although the measurement result of the polarizer in which the ratio S/P of the gap width S between the first metal linear portions 12 to the pitch P is 0.4 is shown, In the ratio S/P of the void width S between the metal linear portions 12 of, it is produced by 0.3 or more and 0.5 or less, preferably 0.35 or more and 0.45 or less, Similarly, it is possible to secure sufficient transmittance in a wide wavelength band of the visible light range. Similarly, the pitch P is set to 80 nm or less, preferably 70 nm or less, and more preferably 50 nm or less, so that the deterioration of the wavelength dispersion characteristic relating to the transmittance can be sufficiently solved practically.

またこの計測結果においては、金属線状部12、13の厚みTが16nmの場合には、透過軸方向と直交する方向についての透過率Tsが10%以上であるものが、厚みTが32nm,48nmの場合(No.4、5、7)には、急激に透過率Tsが減少する。これにより金属線状部12、13は、厚み32nm以上により作製することが好ましい。なお金属線状部12、13の厚みの最大値は、凹状溝11の深さDである。このように厚みTを32nm以上により作製することにより、金属線状部12、13の延長方向が偏光面である入射光の透過率Tsを1.3%以下とすることができる。 Further, in this measurement result, when the thickness T of the metal linear portions 12 and 13 is 16 nm, the thickness T of 32 nm is obtained when the transmittance Ts in the direction orthogonal to the transmission axis direction is 10% or more. In the case of 48 nm (Nos. 4, 5, and 7), the transmittance Ts sharply decreases. As a result, it is preferable that the metal linear portions 12 and 13 be manufactured to have a thickness of 32 nm or more. The maximum value of the thickness of the metal linear portions 12 and 13 is the depth D of the concave groove 11. By producing the thickness T with a thickness of 32 nm or more in this way, the transmittance Ts of incident light whose polarization direction is the extension direction of the metal linear portions 12 and 13 can be 1.3% or less.

またこの計測結果において、偏光子No.1〜3においては、ピッチP、比率S/P、金属線状部12、13の厚みTが等しい場合にあって、凹状溝11の深さDの変化により透過軸方向と直交する方向についての透過率Tsが大きく変化する。これにより凹状溝11は深さDを60nm以上120nmにより作製することが望ましいものの、金属線状部12、13の繰り返し方向に係る透過率Tを充分に確保し、さらには可視光域において充分な特性を確保する観点からは、深さDは、70nm以上100nm以下が望ましく、より好ましくは、75nm以上85nm以下であることが望ましい。 In addition, in this measurement result, the polarizer No. In Nos. 1 to 3, when the pitch P, the ratio S/P, and the thickness T of the metal linear portions 12 and 13 are the same, the change in the depth D of the concave groove 11 causes a change in the direction orthogonal to the transmission axis direction. The transmittance Ts greatly changes. As a result, although it is desirable to form the concave groove 11 with a depth D of 60 nm or more and 120 nm, a sufficient transmittance T P in the repeating direction of the metal linear portions 12 and 13 is ensured, and further, in the visible light region. From the viewpoint of ensuring such characteristics, the depth D is preferably 70 nm or more and 100 nm or less, and more preferably 75 nm or more and 85 nm or less.

これらによりこの実施形態では、第1及び第2の金属線状部12、13による2層構造を前提に、ピッチPを80nm以下により偏光子4を作製する。またピッチPに対する第1の金属線状部12間の空隙幅Sの比率S/Pを0.3以上0.5以下により偏光子4を作製する。 As a result, in this embodiment, the polarizer 4 is manufactured with a pitch P of 80 nm or less on the premise of a two-layer structure including the first and second metal linear portions 12 and 13. Further, the polarizer 4 is manufactured by setting the ratio S/P of the gap width S between the first metal linear portions 12 to the pitch P to 0.3 or more and 0.5 or less.

偏光子4は、透明フィルム材による基材15に、透明部材10に係る賦型樹脂層16が設けられ、この賦型樹脂層16の賦型処理により凹状溝11に係る周期構造が形成される。またこの周期構造が作製されてなる面に、蒸着、スパッタリング、電界メッキ、無電解メッキ等により金属層が作製されて金属線状部12、13が作製される。偏光子4は、この基材15が紫外線硬化性樹脂等の接着剤層により直線偏光板7に貼り付けられて一体化されて保持される。なおこれとは逆向きに、金属線状部12側より直線偏光板7に貼り付けて保持するようにしてもよい。またこのように基材15側、又はこれとは逆側を直線偏光板7側として、直線偏光板7と別体に配置するようにしてもよい。 In the polarizer 4, a shaping resin layer 16 of the transparent member 10 is provided on a base material 15 made of a transparent film material, and a shaping process of the shaping resin layer 16 forms a periodic structure of the concave grooves 11. .. Further, a metal layer is formed on the surface on which the periodic structure is formed by vapor deposition, sputtering, electroplating, electroless plating, or the like to form the metal linear portions 12 and 13. The base material 15 of the polarizer 4 is adhered to the linear polarizing plate 7 with an adhesive layer such as an ultraviolet curable resin to be held integrally. In addition, in the opposite direction, the linear linear polarization plate 7 may be attached and held from the metal linear portion 12 side. In addition, the base material 15 side or the side opposite to the base material side may be the linear polarizing plate 7 side and may be arranged separately from the linear polarizing plate 7.

ここでこの基材15は、延伸して作製される樹脂材料による透明フィルム材が適用され、この延伸による光学異方性の発現により、延伸方向の屈折率が延伸方向と直交する方向に比して増大する樹脂材(すなわち延伸方向が遅相軸方向である樹脂材)が適用される。なおこのような樹脂材料は、正の複屈折性を示す樹脂材料であり、例えばPET(ポリエチレンテレフタラート)樹脂等である。また、COP(シクロオレフィンポリマー)フィルム、TAC(トリアセチルセルロース)フィルム、ポリイミドフィルム、PEN(ポリエチレンナフタレート)が挙げられる。但し、製造工程におけるエッチング処理においてWetプロセスを適用する場合は、吸水による体積変化が大きいことによりTACフィルムは好ましくない。また転写法により賦型樹脂層16、第1及び第2の金属線状部12、13のみ直線偏光板7に配置してもよく、この場合、基材15には、PETフィルム、ポリオレフィンフィルム、離型層付フィルム等、製造工程での意図しない剥離が生じない範囲で各種基材を適用可能である。 Here, as the base material 15, a transparent film material made of a resin material produced by stretching is applied, and due to the expression of optical anisotropy due to this stretching, the refractive index in the stretching direction is higher than that in the direction orthogonal to the stretching direction. A resin material that increases as a result (that is, a resin material whose stretching direction is the slow axis direction) is applied. Note that such a resin material is a resin material exhibiting positive birefringence and is, for example, a PET (polyethylene terephthalate) resin or the like. Moreover, a COP (cyclo olefin polymer) film, a TAC (triacetyl cellulose) film, a polyimide film, and PEN (polyethylene naphthalate) are mentioned. However, when the Wet process is applied in the etching process in the manufacturing process, the TAC film is not preferable because the volume change due to water absorption is large. Alternatively, only the shape-imparting resin layer 16 and the first and second metal linear portions 12 and 13 may be arranged on the linear polarizing plate 7 by a transfer method. In this case, the base material 15 includes a PET film, a polyolefin film, Various base materials, such as a film with a release layer, can be applied to the extent that unintended peeling does not occur in the manufacturing process.

偏光子4は、この基材15の遅相軸方向に対して、第1及び第2の金属線状部12、13の延長方向が平行となるように形成される。ここでこのように設定すれば、基材15においては、金属線状部12、13で反射する偏光成分に対して面内方向の屈折率が最も大きい向きであることにより、金属線状部12、13で反射する偏光成分を、最も効率良く反射する向きに基材15が配置されることになる。またこれにより金属線状部12、13で透過する偏光成分に対しては、界面反射が最も小さくなる向きに基材15が配置されることになり、金属線状部12、13を透過する偏光成分を最も効率良く透過する向きに基材15が配置されることになる。 The polarizer 4 is formed such that the extending directions of the first and second metal linear portions 12 and 13 are parallel to the slow axis direction of the base material 15. If the setting is made in this way, in the base material 15, the metal linear portions 12 and 13 have the largest refractive index in the in-plane direction with respect to the polarization component reflected by the metal linear portions 12 and 13. , 13 is arranged so that the polarized component reflected by the light sources 13 and 13 is reflected most efficiently. Further, as a result, with respect to the polarized light component transmitted through the metal linear portions 12 and 13, the base material 15 is arranged in the direction in which the interface reflection is minimized, and the polarized light transmitted through the metal linear portions 12 and 13 is obtained. The base material 15 is arranged in the direction in which the components are most efficiently transmitted.

これらにより偏光子4は、金属線状部12、13による反射及び透過を、基材15の反射及び透過によりそれぞれ手助けするように配置される。なお偏光子4の反射光は、バックライト3に戻り、バックライトにおける内部反射等により偏光面が変化して偏光子4に再入射することになり、これによりバックライト光の利用効率を向上することができる。 With these, the polarizer 4 is arranged so as to assist the reflection and transmission by the metal linear portions 12 and 13 by the reflection and transmission of the base material 15, respectively. The reflected light of the polarizer 4 returns to the backlight 3, the polarization plane is changed due to internal reflection in the backlight, and the light is incident on the polarizer 4 again, thereby improving the utilization efficiency of the backlight light. be able to.

賦型樹脂層16は、賦型処理可能な各種の硬化性樹脂を適用することができるものの、この実施形態では紫外線硬化性樹脂が適用される。なお基材15を加熱して軟化させた状態で賦型用金型に押圧して賦型処理してもよく、この場合、賦型樹脂層16は、基材15により構成されることになる。 Although various curable resins that can be subjected to a mold treatment can be applied to the shape-imparting resin layer 16, an ultraviolet-curable resin is applied in this embodiment. The base material 15 may be heated and softened to be pressed by a molding die to perform a shaping process. In this case, the shaping resin layer 16 is composed of the base material 15. ..

なお賦型樹脂層16の表面には、金属線状部12、13との密着性を向上するために密着層を設けるようにしてもよい。この密着層は特に制限されないが、主としてSi又はその化合物を適用することができ、SiO(xは1以上2以下)、SiC、などが好ましい。なお、これらは、例えばスパッタリング等の表面処理により作製することができる。密着層の厚さは2nm以上30nm以下であることが好ましく、2nm以上10nm以下であることがより好ましい。 An adhesive layer may be provided on the surface of the shape-imparting resin layer 16 in order to improve the adhesiveness with the metal linear portions 12 and 13. The adhesion layer is not particularly limited, but Si or a compound thereof can be mainly applied, and SiO x (x is 1 or more and 2 or less), SiC, or the like is preferable. In addition, these can be produced by surface treatment such as sputtering. The thickness of the adhesive layer is preferably 2 nm or more and 30 nm or less, more preferably 2 nm or more and 10 nm or less.

金属線状部12、13に係る金属材料は、例えば各種の導体に係る金属、合金、金属化合物等を広く適用することができるものの、アルミニウム、ニッケル、クロム、銀の何れかによる金属、これら何れかの金属による合金、これら金属の化合物を適用することが望ましい。なお透過を制限する電磁波を効率良く反射する観点からは、アルミニウム、ニッケル、銀等の反射率の高い金属、合金、化合物を適用することが望ましく、可視光に対しては特にアルミニウムが好ましい。またこれとは逆に、透過を制限する電磁波の反射を抑圧する観点からは、クロム等の反射率の低い金属、合金、化合物を適用することが望ましい。 As the metal material for the metal linear portions 12 and 13, for example, metals, alloys, metal compounds, etc. relating to various conductors can be widely applied, but any of these metals made of aluminum, nickel, chromium or silver, or any of these. It is desirable to apply alloys of these metals and compounds of these metals. From the viewpoint of efficiently reflecting electromagnetic waves that limit transmission, it is desirable to use metals, alloys, and compounds with high reflectance such as aluminum, nickel, and silver, and aluminum is particularly preferable for visible light. On the contrary, from the viewpoint of suppressing reflection of electromagnetic waves that limit transmission, it is desirable to apply a metal, alloy or compound having a low reflectance such as chromium.

金属線状部12、13は、複数の層構造により作製してもよい。このような層構造により作製することにより、例えば金属線状部12、13の上下から入射する入射光に対して特性を異ならせ、金属線状部12、13の両面の色合いを異ならせたりすることができる。 The metal linear parts 12 and 13 may be manufactured by a plurality of layer structures. By producing with such a layered structure, for example, the characteristics of the incident light incident from above and below the metal linear portions 12 and 13 are made different, and the hues of both surfaces of the metal linear portions 12 and 13 are made different. be able to.

なお金属線状部12、13の作製においては、蒸着、スパッタリングにより作製することができ、さらには化学気相成長、原子層堆積法等の適用も可能である。 The metal linear portions 12 and 13 can be manufactured by vapor deposition, sputtering, and further, chemical vapor deposition, atomic layer deposition, etc. can be applied.

〔製造工程〕
図5は、偏光子4の製造工程を示すフローチャートである。この製造工程は、ロールに巻き取った長尺透明フィルム材により基材15が提供される。この製造工程は、ロールより基材15を引き出して搬送しながら、凹凸形状作製工程SP2により、基材15の表面に凹凸形状を作製する。
〔Manufacturing process〕
FIG. 5 is a flowchart showing the manufacturing process of the polarizer 4. In this manufacturing process, the base material 15 is provided by a long transparent film material wound on a roll. In this manufacturing process, while the base material 15 is being pulled out from the roll and conveyed, a concavo-convex shape is formed on the surface of the base material 15 in the concavo-convex shape forming step SP2.

より具体的に、この凹凸形状作製工程では、図6(A)に示すように、始めに、基材15に紫外線硬化性樹脂の塗工液を塗工した後、周側面に微細凹凸形状が作製されている賦型用金型であるロール版に基材15を押圧して搬送しながら、紫外線を照射して紫外線硬化性樹脂を硬化させ、その後、硬化した紫外線硬化性樹脂を基材15と一体にロール版より剥離する。これによりこの工程では、図6(B)に示すように、ロール版の周側面に形成された微細凹凸形状を転写して、基材15の表面に、凹状溝11の繰り返しによる凹凸形状を作製する。この実施形態では、円周方向に延長する向きにより凸条が作製されてなるロール版30を使用して凹状溝11を作製し、これにより基材15の長手方向に延長するように凹状溝11を作製することにより、この基材15の遅相軸方向に対して、凹状溝11の延長方向が平行となるようにし、基材15の遅相軸方向に対して、第1及び第2の金属線状部12、13の延長方向が平行となるように形成される。 More specifically, in this unevenness forming step, as shown in FIG. 6(A), first, after coating the base material 15 with the coating liquid of the ultraviolet curable resin, fine unevenness is formed on the peripheral side surface. While the base material 15 is pressed and conveyed to the roll plate which is the mold for making, the ultraviolet curable resin is cured by irradiating the ultraviolet light, and then the cured ultraviolet curable resin is applied to the base material 15. Peel from the roll plate together with. As a result, in this step, as shown in FIG. 6B, the fine concavo-convex shape formed on the peripheral side surface of the roll plate is transferred, and the concavo-convex shape is formed on the surface of the base material 15 by repeating the concave grooves 11. To do. In this embodiment, the concave groove 11 is formed by using the roll plate 30 in which the ridges are formed by the direction extending in the circumferential direction, and thus the concave groove 11 is extended so as to extend in the longitudinal direction of the base material 15. By making the direction of extension of the concave groove 11 parallel to the slow axis direction of the base material 15, and the first and second directions with respect to the slow axis direction of the base material 15. The metal linear portions 12 and 13 are formed so that the extending directions thereof are parallel to each other.

続いて偏光子4の製造工程は、必要に応じて密着層作製工程SP3が設けられ、この密着層作製工程SP3において、このようにして作製した凹凸形状による賦型樹脂層16の表面に密着層17を作製する(図6(C))。より具体的に、この実施形態では、スパッタリングによりSiO層を作製する。 Subsequently, in the manufacturing process of the polarizer 4, an adhesion layer preparation process SP3 is provided as needed, and in the adhesion layer preparation process SP3, the adhesion layer is formed on the surface of the imprinted resin layer 16 having the uneven shape thus manufactured. 17 is manufactured (FIG. 6C). More specifically, in this embodiment, the SiO x layer is formed by sputtering.

続いてこの製造工程は、金属線状部作製工程SP4において、蒸着、スパッタリング等により、図6(D)に示すように、凹状溝11が作製されてなる凹凸形状面の全面に、金属材料を堆積させる。ここでこのように凹状溝11が作製されてなる凹凸形状面に金属材料を堆積させる場合、この凹凸形状に係る凹状溝11間である頂部においては、到来する金属材料が順次堆積して第1の金属線状部12が形成されることになる。これに対して凹状溝11に到来する金属材料においては、凹状溝11に侵入して底面に堆積し、その結果、第2の金属線状部13が形成されることになる。これによりこの実施形態では、第1及び第2の金属線状部12、13を作製する。 Subsequently, in this manufacturing process, in the metal linear part manufacturing process SP4, as shown in FIG. 6D, a metal material is deposited on the entire surface of the concave-convex shaped surface in which the concave grooves 11 are manufactured by vapor deposition, sputtering, or the like. Deposit. Here, when the metal material is deposited on the concave-convex surface formed with the concave grooves 11 in this manner, the incoming metallic material is sequentially deposited at the tops between the concave grooves 11 according to the concave-convex shape, and the first metal is deposited. Thus, the metal linear portion 12 is formed. On the other hand, the metal material reaching the concave groove 11 enters the concave groove 11 and is deposited on the bottom surface, and as a result, the second metal linear portion 13 is formed. Thereby, in this embodiment, the first and second metal linear portions 12 and 13 are manufactured.

このようにして金属材料を堆積して第1及び第2の金属線状部12、13を作製すると、続いてこの製造工程は、エッチング工程SP5により隣接する第1の金属線状部12間の空隙幅Sを拡大する。 When the metal material is deposited in this manner to produce the first and second metal linear portions 12 and 13, subsequently, this manufacturing process is performed between the first metal linear portions 12 adjacent to each other by the etching process SP5. The void width S is enlarged.

すなわちこのように蒸着、スパッタリング等により金属材料を堆積する場合、第1及び第2の金属線状部12、13の間の、凹状溝11の壁面にも金属材料が付着することになるものの、この壁面に付着する金属材料は、極めて少量であって厚みが薄く、これにより金属材料層として機能することなく、金属線状部12、13は、幅方向について、隣接する金属線状部12、13との間で絶縁性が担保され、偏光子4においては、偏光面による透過率の選択性が担保される。 That is, when the metal material is deposited by vapor deposition, sputtering, or the like as described above, the metal material adheres also to the wall surface of the concave groove 11 between the first and second metal linear portions 12 and 13, The metal material adhered to the wall surface is extremely small in amount and thin, so that the metal linear portions 12, 13 do not function as the metal material layer, and the metal linear portions 12, 13 are adjacent to each other in the width direction. Insulation is secured between the polarizer 13 and the polarizer 4, and the transmittance of the polarizer 4 is ensured by the plane of polarization.

しかしながら例えば蒸着により金属材料を堆積させる場合にあっては、図6(E)により示すように、第1の金属線状部12において、厚み方向だけでなく、幅方向にも金属材料が成長し、その結果、第1の金属線状部12間の空隙幅Sが極端に低下する恐れがある。このように空隙幅Sが極端に低下すると、第1の金属線状部12おける開口率(金属線状部12の繰り返し方向に係る空隙幅Sの占める割合)が低下し、その結果、透過率が低下することになる。 However, for example, in the case of depositing a metal material by vapor deposition, as shown in FIG. 6E, in the first metal linear portion 12, the metal material grows not only in the thickness direction but also in the width direction. As a result, the gap width S between the first metal linear portions 12 may be extremely reduced. When the void width S is extremely reduced in this way, the aperture ratio in the first metal linear portion 12 (the ratio of the void width S in the repeating direction of the metal linear portion 12) is reduced, and as a result, the transmittance is reduced. Will be reduced.

これによりこの実施形態では、エッチング液を使用したエッチングにより開口率を増大させる。図7(A)及び(B)は、このエッチングによる特性の変化を示す特性曲線図である。この図7において、Tp、Tsは、それぞれ透過軸方向及び吸収軸方向の透過率であり、Rp、Rsは、それぞれ透過軸方向及び吸収軸方向の反射率である。またピッチPを64nm、凹状溝11は深さDを60nm、金属線状部12、13の厚みT(=T1、T2)を40nm、空隙幅Sを30nmにより作製した例である。なお金属材料はアルミニウムである。図7(A)は、隣接する第1の金属線状部12間の空隙幅Sが最少部分で20nmであり、この例では透過軸方向の透過率Tpの波長による変化が著しく、また透過率自体も小さいことが判る。また透過軸方向の反射率Rpも大きいことが判る。 Thereby, in this embodiment, the aperture ratio is increased by etching using the etching liquid. FIGS. 7A and 7B are characteristic curve diagrams showing changes in characteristics due to this etching. In FIG. 7, Tp and Ts are transmittances in the transmission axis direction and the absorption axis direction, respectively, and Rp and Rs are reflectances in the transmission axis direction and the absorption axis direction, respectively. In addition, the pitch P is 64 nm, the depth of the concave groove 11 is 60 nm, the thickness T (=T1, T2) of the metal linear portions 12 and 13 is 40 nm, and the gap width S is 30 nm. The metal material is aluminum. In FIG. 7A, the gap width S between the adjacent first metal linear portions 12 is 20 nm at the minimum, and in this example, the change in the transmittance Tp in the transmission axis direction with the wavelength is remarkable, and the transmittance It turns out that itself is small. It can also be seen that the reflectance Rp in the transmission axis direction is also large.

これに対して図7(B)は、この図7(A)の構成の偏光子を、濃度0.01mol/lの水酸化ナトリウム水溶液によるエッチング液(温度23度)に40±5秒の範囲で浸漬したものである。これにより隣接する第1の金属線状部12間の空隙幅Sは最少部分が36〜40nmに変化し、また厚みTは、元の厚みから−3nm未満の範囲に変化した。この図7(B)によれば、特性が向上し、可視光域の広い波長域で十分に透過率を確保できることが判る。なおエッチング処理では、金属線状部12の厚みTも減少することになるものの、この厚みTの減少に比して空隙幅Sをいち早く広げることができる。しかしながらエッチング時間が余りに長いと、第2の金属線状部13の厚みが薄くなって光学特性が劣化し、特に吸収軸方向の反射率Rsが急激に低下する。しかしながら余りにエッチング時間が短いと、透過軸方向の透過率Tpが低下する。これによりエッチング時間は、濃度0.005mol/l以上0.015mol/l以下の水酸化ナトリウム水溶液により液温15度以上34度以下でエッチングする場合、10秒以上60秒以下であることが望ましい。 On the other hand, FIG. 7(B) shows that the polarizer having the configuration shown in FIG. 7(A) was exposed to an etching solution (temperature 23° C.) of a sodium hydroxide aqueous solution having a concentration of 0.01 mol/l within a range of 40±5 seconds. It was dipped in. Thereby, the minimum width of the gap width S between the adjacent first metal linear portions 12 was changed to 36 to 40 nm, and the thickness T was changed from the original thickness to less than -3 nm. According to FIG. 7B, it is understood that the characteristics are improved and the transmittance can be sufficiently secured in the wide wavelength range of the visible light range. Although the thickness T of the metal linear portion 12 is also reduced by the etching process, the gap width S can be expanded faster than the reduction of the thickness T. However, if the etching time is too long, the thickness of the second metal linear portion 13 becomes thin and the optical characteristics deteriorate, and in particular, the reflectance Rs in the absorption axis direction sharply decreases. However, if the etching time is too short, the transmittance Tp in the transmission axis direction decreases. Thus, the etching time is preferably 10 seconds or more and 60 seconds or less when etching is performed at a liquid temperature of 15 degrees or more and 34 degrees or less with a sodium hydroxide aqueous solution having a concentration of 0.005 mol/l or more and 0.015 mol/l or less.

なおこのようなウエットエッチングに代えて、いわゆるドライエッチングにより空隙幅Sを広げるようにしてもよい。また実用上充分に空隙幅Sが確保されている場合には、エッチング工程を省略してもよい。なおこのエッチング工程により、凹状溝11の壁面に付着した金属材料も全部又は一部が除去され、これにより第1及び第2の金属線状部12、13間の絶縁性を向上して特性を向上することができる。 Instead of such wet etching, so-called dry etching may be used to widen the gap width S. Further, when the void width S is sufficiently secured in practical use, the etching step may be omitted. By this etching step, the metal material attached to the wall surface of the concave groove 11 is also wholly or partially removed, thereby improving the insulating property between the first and second metal linear portions 12 and 13 to improve the characteristics. Can be improved.

なおこのエッチング処理により、図8に示すように、第1の金属線状部12は、エッチングの進行により幅方向に厚みが徐々に低下し、これにより密着層17と接する部位の幅が、凹状溝間の頂部の幅以下であり、かつ密着層17と接する部位より遠ざかるに従って徐々に幅が増大する涙滴形状の断面形状により形成される。なお、凹状溝内の底部に存在する金属線状部13は断面視において円弧状の凹状の窪みが形成されている。ここで金属線状部の涙滴形状とは、図8の断面視において、全体が円弧で形成されており、密着層17側の金属線状部の基部の幅に比べて、それより上部の幅が広く膨らんだ紡錘形状を意味するものである。 As a result of this etching treatment, as shown in FIG. 8, the thickness of the first metal linear portion 12 gradually decreases in the width direction due to the progress of etching, so that the width of the portion in contact with the adhesion layer 17 becomes concave. It is formed to have a teardrop-shaped cross-sectional shape that is equal to or less than the width of the top portion between the grooves and gradually increases in width as it goes away from the portion in contact with the adhesion layer 17. In addition, the metal linear portion 13 existing at the bottom of the concave groove is formed with a concave recess having an arc shape in a sectional view. Here, the teardrop shape of the metal linear part means that the whole is formed in an arc in the cross-sectional view of FIG. 8, and is larger than the width of the base of the metal linear part on the adhesion layer 17 side. It means a spindle shape that is wide and bulged.

エッチングにおいては、このようにして作製された金属線状部12の全周をほぼ均一にエッチングすることにより、密着層17と接する部位の幅が、凹状溝間の頂部の幅以下であり、また、好ましくは凹状溝間の頂部の幅より狭く、かつ密着層17と接する部位より遠ざかるに従って徐々に幅が増大する涙滴形状の断面形状により第1の金属線状部12が作製される。なおこれによりこのような涙滴形状により作製されている場合、エッチング処理の実施を確認することができる。なおエッチング時間が長くなれば、第2の金属線状部13もエッチングにより厚みが薄くなるものの、この場合、中央部程、厚みが薄くなる。 In the etching, the width of the portion in contact with the adhesion layer 17 is equal to or less than the width of the top between the concave grooves by etching the entire circumference of the metal linear portion 12 thus manufactured almost uniformly, and Preferably, the first metal linear portion 12 is made to have a teardrop-shaped cross-sectional shape that is narrower than the width of the top portion between the concave grooves and gradually increases in width as it moves away from the portion in contact with the adhesion layer 17. It should be noted that this makes it possible to confirm the execution of the etching treatment when the teardrop shape is produced. If the etching time becomes longer, the thickness of the second metal linear portion 13 also becomes thinner due to the etching, but in this case, the thickness becomes thinner toward the central portion.

このようにして金属線状部12、13を作製すると、この製造工程は、ロールに巻き取って偏光子巻取体が作製され、この偏光子巻取体が続く処理工程に搬送されて直線偏光板との一体化処理、切断処理等が実行される。なお偏光子4を所望の形状に切断した後、直線偏光板7と一体化してもよい。 When the metal linear parts 12 and 13 are manufactured in this manner, in this manufacturing process, the polarizer winding body is wound up on a roll, and the polarizer winding body is conveyed to the subsequent processing step to be linearly polarized light. Integration processing with a board, cutting processing, etc. are performed. The polarizer 4 may be cut into a desired shape and then integrated with the linear polarizing plate 7.

〔積層工程〕
ここでシート・ポラライザーによる直線偏光板7は、延伸して作製され、その結果、ロールにより提供される直線偏光板7の巻取体36は、図9において矢印により透過軸方向を示すように、幅方向が透過軸方向となる。この実施形態では、図6の製造工程において、円周方向に延長する向きにより凸条が作製されてなるロール版30を使用して凹状溝11を作製して、基材15の長手方向に延長するように凹状溝11を作製することにより、基材15の遅相軸方向に対して、第1及び第2の金属線状部12、13の延長方向が平行となるように形成し、これにより基材15の幅方向が透過軸方向となるように長尺フィルム形状により偏光子4を作製する。
[Lamination process]
Here, the linear polarizing plate 7 by the sheet polarizer is stretched and produced, and as a result, the winding body 36 of the linear polarizing plate 7 provided by the roll has a transmission axis direction indicated by an arrow in FIG. The width direction is the transmission axis direction. In this embodiment, in the manufacturing process of FIG. 6, the concave groove 11 is formed by using the roll plate 30 in which the ridges are formed by the direction extending in the circumferential direction, and the groove 11 is extended in the longitudinal direction of the base material 15. By forming the concave groove 11 as described above, the extending direction of the first and second metal linear portions 12 and 13 is parallel to the slow axis direction of the base material 15. Thus, the polarizer 4 is manufactured in the shape of a long film so that the width direction of the base material 15 becomes the transmission axis direction.

積層工程は、この長尺フィルム形状による偏光子4の巻取体35から偏光子4を引き出して搬送しながら、直線偏光板巻取体36から同様の長尺フィルム形状による直線偏光板7を引き出して積層一体化し、その後、液晶セル5への配置に適した長方形形状にシートカットする。 In the laminating step, while pulling out and transporting the polarizer 4 from the winding body 35 of the polarizer 4 having the long film shape, the linear polarizing plate 7 having the same long film shape is drawn from the linear polarizing plate winding body 36. Then, the sheets are laminated and integrated, and then the sheet is cut into a rectangular shape suitable for arrangement in the liquid crystal cell 5.

このように、直線偏光板の透過軸方向に対応するように透過軸方向を設定して転写フィルム、偏光子を作製するようにして、長尺フィルム形状の状態で直線偏光板と積層一体化した後、シートカットすることにより、一段と効率良く生産することができる。 As described above, the transmission axis direction was set so as to correspond to the transmission axis direction of the linear polarizing plate, and the transfer film and the polarizer were produced, and the linear polarizing plate was laminated and integrated in a state of a long film shape. After that, by cutting the sheet, the production can be performed more efficiently.

〔ロール版〕
図10は、ロール版の説明に供する図である。ロール版30は、周側面に微細凹凸形状が作製された賦型用金型であり、凹状溝11に対応する凸条による微細凹凸形状が周側面に形成されている。この実施形態において、この凸条は、円周方向に延長するように、凹状溝11の溝幅に対応する幅により形成され、これにより賦型処理して基材15の長手方向に延長するように凹状溝11が作製される。
[Roll version]
FIG. 10 is a diagram for explaining the roll plate. The roll plate 30 is a mold for molding in which a fine concavo-convex shape is formed on the peripheral side surface, and the fine concavo-convex shape is formed on the peripheral side surface by a ridge corresponding to the concave groove 11. In this embodiment, the ridge is formed to have a width corresponding to the groove width of the concave groove 11 so as to extend in the circumferential direction, so that the ridge is subjected to a shaping process to extend in the longitudinal direction of the base material 15. The concave groove 11 is formed in the.

ロール版30は、切削加工が容易な金属材料による円筒形状又は円柱形状により母材31が形成され、この実施形態では、銅のパイプ材が母材31に適用される。この製造工程は、平滑化工程において、バイトを使用した母材31の周側面の切削処理により母材31の周側面を平滑化した後、電解溶出作用と、砥粒による擦過作用の複合による電解複合研磨法により母材31の周側面を超鏡面化する。 The roll plate 30 has a base material 31 formed in a cylindrical shape or a cylindrical shape made of a metal material that can be easily cut. In this embodiment, a copper pipe material is applied to the base material 31. In this manufacturing process, in the smoothing process, after the peripheral side surface of the base material 31 is smoothed by cutting the peripheral side surface of the base material 31 using a cutting tool, electrolysis is performed by a combination of electrolytic elution action and abrasive action by abrasive grains. The peripheral side surface of the base material 31 is made into a super-mirror surface by the composite polishing method.

続いてこの製造工程は、切削工程において、母材31を切削装置に装着した後、バイト32の先端を母材31の周側面に押し当て、この状態で矢印Bにより示すように母材31を回転させながら、矢印Cにより示すようにバイト32を母材31の管軸に沿った方向に移動させ、これにより母材31の周側面をらせん状に切削加工する。これによりこの製造工程は、円周方向に延長する断面矩形形状による、凹状溝に対応する凸条を母材31の周側面に作製する。なおバイト32は、同時並列的に複数の凹状溝を作製可能に、先端が櫛歯状に形成されており、これによりこの工程では、ロール版の作製に要する時間を短縮する。なおこのような微細な櫛歯形状によるバイト32の作製方法は、特に限定されないが、一般にこれらを達成する微細精密加工法として知られる高エネルギ線加工やリソグラフィ加工、化学的Et又は精密切削法を適宜選択し、またこれらを自由に組み合わせて作製する事ができる。 Subsequently, in this manufacturing process, in the cutting process, after mounting the base material 31 on the cutting device, the tip of the cutting tool 32 is pressed against the peripheral side surface of the base material 31, and in this state, the base material 31 is attached as indicated by arrow B. While rotating, the bite 32 is moved in the direction along the pipe axis of the base material 31 as indicated by the arrow C, whereby the peripheral side surface of the base material 31 is spirally cut. As a result, in this manufacturing process, a ridge corresponding to the concave groove having a rectangular cross section extending in the circumferential direction is formed on the peripheral side surface of the base material 31. The tip of the cutting tool 32 is formed in a comb-like shape so that a plurality of concave grooves can be manufactured in parallel at the same time, which shortens the time required to manufacture the roll plate in this step. The method for manufacturing the cutting tool 32 having such a fine comb tooth shape is not particularly limited, but high energy beam processing, lithography processing, chemical Et, or precision cutting method generally known as a fine precision processing method for achieving these is used. It can be appropriately selected and can be produced by freely combining these.

以上の構成によれば、巻取体から連続的に巻出し、巻取りを行う方式による賦型処理により凹凸形状面を作製して充分な信頼性を確保することができ、これにより大面積の製品を効率良く生産することができる。 According to the above configuration, it is possible to produce a concavo-convex surface by a shaping process by a method of continuously unwinding from the winding body and winding, and to secure sufficient reliability. Products can be produced efficiently.

また第1の金属線状部が、徐々に幅が増大する涙滴形状の断面形状であることにより、金属材料を堆積して第1の金属線状部を作製して、第1の金属線状部間の間隔が狭まって充分な特性を確保できない場合に、エッチングにより第1の金属線状部間の間隔を拡大して特性を確保していることになり、これにより充分な特性により入射光を処理することができる。 Further, since the first metal linear portion has a teardrop-shaped cross-sectional shape in which the width gradually increases, a metal material is deposited to form the first metal linear portion, and the first metal linear portion is formed. When the space between the linear portions is so narrow that sufficient characteristics cannot be ensured, the space between the first metal linear portions is expanded by etching to secure the characteristics. It can handle light.

またさらに凹状溝の底部に、凹状溝に沿って延長する金属材料による第2の金属線状部が設けられていることにより、第1及び第2の金属線状部による2層構造の金属線状部を備えた偏光子を作製することができる。 Further, since the second metal linear portion made of a metal material extending along the concave groove is provided at the bottom of the concave groove, the metal wire having the two-layer structure of the first and second metal linear portions is formed. It is possible to manufacture a polarizer having a rib portion.

また凹状溝の延長方向が、基材の遅相軸方向であることにより、金属線状部による反射及び透過を手助けする方向に基材が機能するように配置することができ、これにより一段と効率良く入射光を処理することができる。 Further, since the extending direction of the concave groove is the slow axis direction of the base material, the base material can be arranged so as to function in a direction that assists reflection and transmission by the metal linear portion, thereby further improving efficiency. The incident light can be processed well.

また基材をロールから引き出しながらロール版を使用して賦型処理して凹凸形状面を作製した後、金属材料を堆積させて第1の金属線状部を作製することにより、少なくとも賦型処理して凹凸形状面を作製するようにして、この賦型処理を巻取体から連続的に巻出し、巻取りを行う方式により実行して偏光子を作製することができることにより、大面積の製品を効率良く生産することができる。 In addition, at least the shaping treatment is performed by forming a first metal linear portion by depositing a metal material after forming a concave-convex surface by performing a shaping treatment using a roll plate while pulling out the base material from the roll. As described above, a surface of a product having a large area can be produced by performing the shaping treatment continuously by unwinding from the winding body and performing the winding method so that a polarizer can be produced. Can be produced efficiently.

また凹凸形状面の表面に堆積した金属材料をエッチングするエッチング工程を設ることにより、金属材料を堆積して狭まった第1の金属線状部間の間隔を拡大して開口率を確保することができ、これにより充分な特性により入射光を処理することができる。 Further, by providing an etching process for etching the metal material deposited on the surface of the uneven surface, the gap between the first metal linear portions narrowed by depositing the metal material is expanded to secure the aperture ratio. Therefore, incident light can be processed with sufficient characteristics.

〔他の実施形態〕
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態を種々に組み合わせ、さらには上述の実施形態の構成を種々に変更することができる。
[Other Embodiments]
The specific configuration suitable for carrying out the present invention has been described above in detail. However, the present invention variously combines the above-described embodiments without departing from the spirit of the present invention, and further, the configuration of the above-described embodiment. Can be variously changed.

すなわち上述の実施形態では、断面矩形形状により凹状溝を作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、図11(A)に示すように、対向する壁面が先細りのテーパ面である断面楔形形状により凹状溝を作製するようにしてもよく、また図11(B)により示すように、全体が正弦波形状による凹凸面形状となる断面形状により凹状溝を作製してもよく、種々の形状を適用することができる。 That is, in the above-described embodiment, the case where the recessed groove is formed by the rectangular cross section is described, but the present invention is not limited to this, and as shown in FIG. 11A, the opposing wall surfaces are tapered taper surfaces. The concave groove may be formed with a wedge-shaped cross-section, or as shown in FIG. 11B, the concave groove may be formed with a cross-sectional shape that is a sine wave-shaped uneven surface. The shape of can be applied.

また上述の実施形態では、第1及び第2の金属線状部による2層構造により偏光子を構成する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、第1の金属線状部のみによる1層構造により偏光子を作製してもよい。なおこの場合、上述の実施形態に比して凹状溝の溝幅に比して凹状溝の深さを深くしたり、金属材料の堆積方向を変更したりすることにより、凹状溝間の頂部に比して凹状溝内に堆積する金属材料を低減し、これにより第1の金属線状部に比して薄い厚みにより第2の金属線状部を作製する。その後、エッチング処理することにより、第2の金属線状部を除去し、かつ第1の金属線状部が取り残されるようにして偏光子を作製することができる。 Further, in the above-described embodiment, the case where the polarizer is configured by the two-layer structure of the first and second metal linear portions has been described, but the present invention is not limited to this, and only the first metal linear portions are used. You may produce a polarizer by 1 layer structure. In this case, as compared with the above-described embodiment, the depth of the recessed groove is made deeper than the groove width of the recessed groove, or the deposition direction of the metal material is changed so that the top portion between the recessed grooves is formed. In comparison, the amount of metal material deposited in the recessed groove is reduced, whereby the second metal linear portion is formed with a thickness smaller than that of the first metal linear portion. Then, by performing an etching process, the second metal linear portion can be removed and the first metal linear portion can be left, so that the polarizer can be manufactured.

また上述の実施形態では、液晶表示装置に関して、液晶セルとバックライトとの間に本発明に係る偏光子を配置する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、例えば金属線状部を多層により作製して充分に反射率を抑圧するようにして、液晶セルを構成する直線偏光板に代えて配置するようにしてもよい。 Further, in the above-described embodiment, the case where the polarizer according to the present invention is arranged between the liquid crystal cell and the backlight has been described in the liquid crystal display device, but the present invention is not limited to this, and for example, a metal linear portion may be provided. It may be arranged in place of the linear polarizing plate that constitutes the liquid crystal cell by being manufactured by a multilayer structure so as to sufficiently suppress the reflectance.

また上述の実施形態では、液晶表示装置に係る画像表示装置に本発明を適用する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、プロジェクタによる画像表示装置に適用してもよく、種々の構成に広く適用することができる。 Further, in the above-described embodiment, the case where the present invention is applied to the image display device related to the liquid crystal display device has been described, but the present invention is not limited to this, and may be applied to the image display device by the projector, and various configurations are possible. Can be widely applied to.

1 画像表示装置
2 液晶表示パネル
3 バックライト
4 偏光子
5 液晶セル
6、7 直線偏光板
10 透明部材
11 凹状溝
12、13 金属線状部
15 基材
16 賦型樹脂層
17 密着層
30 ロール版
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Image display device 2 Liquid crystal display panel 3 Backlight 4 Polarizer 5 Liquid crystal cell 6, 7 Linearly polarizing plate 10 Transparent member 11 Recessed groove 12, 13 Metal linear part 15 Base material 16 Adhesive resin layer 17 Adhesive layer 30 Roll plate

Claims (3)

入射する電磁波の透過を偏光面に応じて制限する偏光子において、
透明フィルム材による基材の一方の面に、透過を制限する波長帯域の最短波長以下のピッチによる凹状溝の繰り返しによる凹凸形状面が形成され、
少なくとも凹状溝間の頂部には、前記凹状溝に沿って延長する金属材料による第1の金属線状部が設けられ、
前記第1の金属線状部は、
前記凹状溝間の頂部と接する部位の幅が、前記凹状溝間の頂部の幅以下であり、
前記凹状溝間の頂部と接する部位より遠ざかるに従って徐々に幅が増大する涙滴形状の断面形状であり、
さらに前記凹状溝の底部に、前記凹状溝に沿って延長する金属材料による第2の金属線状部が設けられており、
前記第2の金属線状部は、前記凹状溝の中央部程、厚みが薄い
偏光子。
In a polarizer that limits the transmission of incident electromagnetic waves according to the plane of polarization,
On one surface of the substrate made of a transparent film material, a concave-convex surface is formed by repeating concave grooves at a pitch of the shortest wavelength or less of a wavelength band that limits transmission,
At least a top portion between the concave grooves is provided with a first metal linear portion made of a metal material and extending along the concave grooves,
The first metal linear portion,
The width of the portion in contact with the top between the recessed grooves is not more than the width of the top between the recessed grooves,
Ri sectional shape der teardrop shape width gradually increases as the distance from the portion contacting with the top between the concave groove,
Furthermore, a second metal linear portion made of a metal material and extending along the concave groove is provided at the bottom of the concave groove,
The second metal linear portion is a polarizer in which the thickness is smaller in the central portion of the concave groove .
前記凹状溝の延長方向が、前記基材の遅相軸方向である
請求項1に記載の偏光子。
The extending direction of the concave groove is the slow axis direction of the base material.
The polarizer according to claim 1 .
前記凹凸形状面の表面には、前記第1の金属線状部との密着力を強化する密着層が設けられた
請求項1、請求項2の何れかに記載の偏光子。
The polarizer according to any one of claims 1 and 2 , wherein an adhesive layer that strengthens an adhesive force with the first metal linear portion is provided on a surface of the uneven surface.
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