JP2016164618A - Transfer film, roll body of transfer film, optical film, roll body of optical film, image display device, production method of transfer film, and production method of optical film - Google Patents

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祐一 宮崎
Yuichi Miyazaki
祐一 宮崎
洋一郎 大橋
Yoichiro Ohashi
洋一郎 大橋
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a wire grid polarizer that can be made thinner compared to conventional ones and maintain sufficient mechanical strength.SOLUTION: A transfer film 9 includes, on a transfer layer 4, a polarizer layer 10 that limits transmission of incident electromagnetic waves depending on polarization planes, and the transfer film comprises a support body 15 and the transfer layer 4 laminated as peelable on the support body 15. On the transfer layer 4, a plurality of recessed grooves are fabricated by use of a molding resin material, with a pitch and a groove width less than the shortest wavelength of a wavelength band where transmission is to be limited; and a metal material is disposed in the recessed grooves to form metal wires 11 having a pitch and a line width less than the shortest wavelength of the wavelength band where transmission is to be limited.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、ワイヤーグリッド型偏光子に関するものである。   The present invention relates to a wire grid polarizer.

従来、画像表示装置等では、偏光子を使用する構成が種々に提案されている。すなわち例えば、液晶表示装置では、透明電極を配置したガラス板により液晶材料を挟持して液晶セルが形成され、この液晶セルの両面に直線偏光板が配置されて液晶表示パネルが構成される。また近年、この液晶表示パネルの入射面(バックライト側面)に、反射型の直線偏光板を配置してバックライトによる照明光の利用効率を向上する工夫が図られている。   Conventionally, in image display devices and the like, various configurations using a polarizer have been proposed. That is, for example, in a liquid crystal display device, a liquid crystal cell is formed by sandwiching a liquid crystal material with a glass plate on which a transparent electrode is arranged, and a linear polarizing plate is arranged on both sides of the liquid crystal cell to constitute a liquid crystal display panel. In recent years, a device has been devised in which a reflective linear polarizing plate is arranged on the incident surface (backlight side surface) of the liquid crystal display panel to improve the use efficiency of illumination light by the backlight.

また画像表示装置では、直線偏光板と1/4波長板との積層による円偏光板を画像表示パネルのパネル面に配置することにより、外来光の反射防止を図る工夫も図られている。   In addition, the image display device has been devised to prevent reflection of extraneous light by arranging a circularly polarizing plate formed by laminating a linearly polarizing plate and a quarter-wave plate on the panel surface of the image display panel.

このような偏光子には、ポリビニルアルコール(PVA)にヨウ素等を含浸させた後、延伸して作製する構成(いわゆるシート・ポラライザーである)、ワイヤーグリッド型偏光子等が利用されている。特許文献1,2には、ワイヤーグリッド型偏光子に関する工夫が提案されている。   As such a polarizer, a configuration (so-called sheet polarizer), a wire grid type polarizer, and the like, which are made by impregnating polyvinyl alcohol (PVA) with iodine or the like and then stretching, are used. Patent Documents 1 and 2 propose a device relating to a wire grid polarizer.

ところで画像表示装置は、近年、薄型化が進んでおり、これにより画像表示装置に使用される偏光子にあっても、薄型化することが求められている。また小型の画像表示装置では、携帯して使用することにより、機械的強度が求められ、これにより小型の画像表示装置に使用される偏光子にあっては、耐衝撃、耐擦性等の機械的強度を充分に確保することが求められる。   By the way, in recent years, image display devices have been made thinner, and accordingly, it is required to make the polarizers used in the image display devices thinner. In addition, in a small image display device, mechanical strength is required by carrying it around, and therefore, in a polarizer used in a small image display device, a machine having impact resistance, abrasion resistance, etc. It is required to ensure sufficient strength.

しかしながらこのような偏光子において、シート・ポラライザーは、耐熱性が劣り、さらに厚みを薄くすることが困難な欠点がある。これによりシート・ポラライザーに代えてワイヤーグリッド型偏光子の利用が考えられる。しかしながら従来のワイヤーグリッド型偏光子は、原理上は薄くすることは可能であるものの、実際には厚みを薄くすることが難しく、また充分に機械的強度を確保することが困難な問題があった。   However, in such a polarizer, the sheet polarizer has poor heat resistance and further has a drawback that it is difficult to reduce the thickness. Accordingly, it is conceivable to use a wire grid type polarizer instead of the sheet polarizer. However, although the conventional wire grid polarizer can be made thin in principle, it has a problem that it is difficult to reduce the thickness and to secure sufficient mechanical strength. .

特開2006−330521号公報JP 2006-330521 A 特開2012−27221号公報JP 2012-27221 A

本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、ワイヤーグリッド型偏光子に関して、従来に比して厚みを薄くすることができ、さらに充分な機械的強度を確保することができるようにすることを目的とする。   This invention is made | formed in view of such a condition, About wire grid type polarizer, thickness can be made thin compared with the former, and also sufficient mechanical strength can be ensured. The purpose is to do.

本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、透明樹脂層の表面の凹状溝に金属材料を配置するようにして、この透明樹脂層を転写層として他の部材に転写できるようにする、との着想に至り、本発明を完成するに至った。   In order to solve the above-mentioned problems, the present inventor has made extensive studies and arranged a metal material in the concave groove on the surface of the transparent resin layer so that the transparent resin layer can be transferred to another member as a transfer layer. The present invention has been completed.

具体的には、本発明では、以下のようなものを提供する     Specifically, the present invention provides the following.

(1) 入射する電磁波の透過を偏光面に応じて制限する偏光子層を転写層に備えた転写フィルムであって、
支持体と該支持体上に剥離可能に積層した転写層とを含んでなり、
前記転写層に、
賦型樹脂材料により透過を制限する波長帯域の最短波長未満のピッチ及び溝幅による凹状溝が、複数作製され、
前記凹状溝に金属材料が配置されて、透過を制限する波長帯域の最短波長未満のピッチ及び線幅による金属線状部が作製された転写フィルム。
(1) A transfer film including a transfer layer having a polarizer layer that restricts transmission of incident electromagnetic waves according to a polarization plane,
Comprising a support and a transfer layer releasably laminated on the support,
In the transfer layer,
A plurality of concave grooves with pitches and groove widths less than the shortest wavelength of the wavelength band that restricts transmission by the shaping resin material are produced,
A transfer film in which a metal material is disposed in the concave groove to form a metal linear portion having a pitch and a line width less than the shortest wavelength in a wavelength band that restricts transmission.

(1)によれば、凹状溝に金属材料を配置して金属線状部が作製されていることにより、金属線状部の損傷を従来に比して低減することができ、これにより従来に比して機械的強度を向上することができる。またこの金属線状部が作製されてなる賦型樹脂により転写層が作製されていることにより、転写法を適用して全体の厚みを薄くすることができる。   According to (1), by arranging a metal material in the concave groove to produce the metal wire portion, damage to the metal wire portion can be reduced as compared with the conventional case. In comparison, the mechanical strength can be improved. Further, since the transfer layer is made of the shaping resin formed from the metal linear portion, the entire thickness can be reduced by applying the transfer method.

(2) (1)において、
前記転写層は、
厚みが20μm以下0.2μm以上である転写フィルム。
(2) In (1),
The transfer layer is
A transfer film having a thickness of 20 μm or less and 0.2 μm or more.

(2)によれば、より具体的構成により全体の厚みを薄くすることができる。   According to (2), the overall thickness can be reduced by a more specific configuration.

(3) (1)又は(2)において、
前記金属線状部は、
前記凹状溝の底面側及び又は前記底面側とは逆面側に、他の部位に比して反射率の低い低反射層が作製された転写フィルム。
(3) In (1) or (2),
The metal linear part is:
A transfer film in which a low-reflective layer having a lower reflectance than other portions is formed on the bottom surface side of the concave groove and / or on the side opposite to the bottom surface side.

(3)によれば、例えば画像表示パネルに配置して、外来光の反射による表示画面のコントラスト、鮮明度の低下を防止することができる。   According to (3), for example, it can be arranged on an image display panel to prevent a decrease in contrast and sharpness of the display screen due to reflection of extraneous light.

(4) 長尺フィルム形態による転写フィルムを巻き取った転写フィルムの巻取体において、
支持体基材上に、入射する電磁波の透過を偏光面に応じて制限する偏光子層を備えた転写層を備え、
前記転写層に、
賦型樹脂材料により透過を制限する波長帯域の最短波長未満のピッチ及び溝幅による凹状溝が、前記支持体基材の長手方向に延長するように複数作製され、
前記凹状溝に金属材料が配置されて、透過を制限する波長帯域の最短波長未満のピッチ及び線幅による金属線状部が作製された転写フィルムの巻取体。
(4) In a winding body of a transfer film obtained by winding a transfer film in the form of a long film,
On the support substrate, a transfer layer including a polarizer layer that restricts transmission of incident electromagnetic waves according to the polarization plane,
In the transfer layer,
A plurality of concave grooves with a pitch and a groove width less than the shortest wavelength of the wavelength band for limiting transmission by the shaping resin material are produced so as to extend in the longitudinal direction of the support substrate,
A winding body of a transfer film in which a metal material is disposed in the concave groove, and a metal linear portion having a pitch and a line width less than the shortest wavelength in a wavelength band that restricts transmission is produced.

(4)によれば、凹状溝に金属材料を配置して金属線状部が作製されていることにより、金属線状部の損傷を従来に比して低減することができ、これにより従来に比して機械的強度を向上することができる。またこの金属線状部が作製されてなる賦型樹脂層側が転写層に設けられていることにより、転写法を適用して全体の厚みを薄くすることができる。またこのように金属線状部を設けた賦型樹脂層が転写層に設けられることにより、この転写層における金属線状部の配置に種々の工夫を図り、偏光子として機能する部位が界面の影響を受けることを極力低減して凹状溝を保護し、一段と機械的強度を得ることができる。また凹状溝が、支持体基材の長手方向に延長する向きにより作製されていることにより、透過軸方向を支持体基材の幅方向に設定することができ、例えばシート・ポラライザーによる直線偏光板との積層工程を簡略かつ効率良く実行することができる。   According to (4), by arranging a metal material in the concave groove to produce the metal wire portion, damage to the metal wire portion can be reduced as compared with the conventional case. In comparison, the mechanical strength can be improved. Further, since the shaping resin layer side formed with the metal linear portion is provided in the transfer layer, the entire thickness can be reduced by applying the transfer method. In addition, since the shaping resin layer provided with the metal linear portion is provided in the transfer layer in this manner, various arrangements are made for the arrangement of the metal linear portion in the transfer layer, and the portion functioning as the polarizer is located at the interface. It is possible to reduce the influence as much as possible to protect the concave groove and to obtain further mechanical strength. Further, since the concave groove is formed in a direction extending in the longitudinal direction of the support base material, the transmission axis direction can be set in the width direction of the support base material. For example, a linear polarizer using a sheet polarizer Can be executed simply and efficiently.

(5) (4)において、
前記転写層は、
厚みが20μm以下0.2μm以上である転写フィルムの巻取体。
(5) In (4),
The transfer layer is
A transfer film roll having a thickness of 20 μm or less and 0.2 μm or more.

(5)によれば、より具体的構成により全体の厚みを薄くすることができる。   According to (5), the overall thickness can be reduced by a more specific configuration.

(6) (4)又は(5)において、
前記金属線状部は、
前記凹状溝の底面側及び又は前記底面側とは逆面側に、他の部位に比して反射率の低い低反射層が作製された転写フィルムの巻取体。
(6) In (4) or (5),
The metal linear part is:
A winding body of a transfer film in which a low reflection layer having a lower reflectance than other portions is formed on the bottom surface side of the concave groove and / or on the side opposite to the bottom surface side.

(6)によれば、例えば画像表示パネルに配置して、外来光の反射による表示画面のコントラスト、鮮明度の低下を防止することができる。   According to (6), for example, the display screen can be arranged on the image display panel to prevent a decrease in contrast and sharpness of the display screen due to reflection of external light.

(7) 所望の光学的機能を担う光学機能層を備え、
前記光学機能層に、(1)、(2)、(3)の何れかに記載の転写フィルムの転写層が積層された光学フィルム。
(7) Provided with an optical functional layer responsible for a desired optical function,
An optical film in which the transfer layer of the transfer film according to any one of (1), (2), and (3) is laminated on the optical functional layer.

(7)によれば、直線偏光板、1/4波長板、あるいは光学補償のための位相差フィルム等と積層する場合に、従来に比して厚みを薄くすることができ、さらに充分な機械的強度を確保することができる。   According to (7), when laminated with a linearly polarizing plate, a quarter-wave plate, or a retardation film for optical compensation, the thickness can be reduced as compared with the prior art, and a sufficient machine Strength can be ensured.

(8) 長尺フィルム形態による光学フィルムを巻き取った光学フィルムの巻取体において、
所望の光学的機能を担う光学機能層と、(4)、(5)、(6)の何れかに記載の転写フィルムの転写層が積層された光学フィルムの巻取体。
(8) In a wound body of an optical film obtained by winding an optical film in the form of a long film,
An optical film winding body in which an optical functional layer having a desired optical function and a transfer layer of the transfer film according to any one of (4), (5), and (6) are laminated.

(8)によれば、ロール状に巻き取ってなる直線偏光板、1/4波長板、あるいは光学補償のための位相差フィルム等の巻取体と積層する場合に、積層工程を簡略化し、従来に比して厚みを薄くすることができ、さらに充分な機械的強度を確保することができる。   According to (8), when laminating with a winding body such as a linear polarizing plate wound up in a roll shape, a quarter wavelength plate, or a retardation film for optical compensation, the laminating process is simplified, The thickness can be reduced as compared with the conventional case, and further sufficient mechanical strength can be secured.

(9) (1)、(2)、(3)の何れかに記載の転写フィルムの転写層が、画像表示パネルに配置された画像表示装置。   (9) An image display device in which the transfer layer of the transfer film according to any one of (1), (2), and (3) is disposed on an image display panel.

(9)によれば、円偏光板の機能による反射防止フィルムを配置した画像表示装置、液晶表示パネルによる画像表示装置等に適用して、従来に比して厚みを薄くすることができ、さらに充分な機械的強度を確保することができる。   According to (9), the present invention can be applied to an image display device provided with an antireflection film by the function of a circularly polarizing plate, an image display device using a liquid crystal display panel, etc. Sufficient mechanical strength can be ensured.

(10) (7)の光学フィルムが、画像表示パネルに配置された画像表示装置。   (10) An image display device in which the optical film of (7) is disposed on an image display panel.

(10)によれば、円偏光板の機能による反射防止フィルムを配置した画像表示装置、液晶表示パネルによる画像表示装置等に適用して、従来に比して厚みを薄くすることができ、さらに充分な機械的強度を確保することができる。   According to (10), the present invention can be applied to an image display device provided with an antireflection film by the function of a circularly polarizing plate, an image display device using a liquid crystal display panel, etc. Sufficient mechanical strength can be ensured.

(11) 支持体基材に転写層を作製する転写層作製工程を備え、
前記転写層作製工程は、
前記支持体基材に賦型樹脂層を作製して賦型処理し、前記賦型樹脂層の表面に、透過を制限する波長帯域の最短波長未満のピッチ及び溝幅による凹状溝を複数作製する凹凸形状作製工程と、
前記凹状溝に金属材料を配置して、透過を制限する波長帯域の最短波長未満のピッチ及び線幅による金属線状部を作製する金属線状部作製工程とを備える転写フィルムの製造方法。
(11) A transfer layer preparation step of preparing a transfer layer on a support substrate,
The transfer layer preparation step includes
A moldable resin layer is prepared on the support substrate and subjected to a mold treatment, and a plurality of concave grooves are formed on the surface of the moldable resin layer with pitches and groove widths less than the shortest wavelength of the wavelength band for limiting transmission. Concave and convex shape manufacturing process,
A method for producing a transfer film, comprising: arranging a metal material in the concave groove to produce a metal linear part with a pitch and a line width less than the shortest wavelength in a wavelength band for limiting transmission.

(11)によれば、凹状溝に金属材料を配置して金属線状部を作製することにより、金属線状部の損傷を従来に比して低減することができ、これにより従来に比して機械的強度を向上することができる。またこの金属線状部が作製されてなる賦型樹脂層が転写層であることにより、転写法を適用して全体の厚みを薄くすることができる。   According to (11), by arranging the metal material in the concave groove to produce the metal wire portion, damage to the metal wire portion can be reduced as compared with the conventional case. And mechanical strength can be improved. In addition, since the shaping resin layer formed from the metal linear portion is a transfer layer, the entire thickness can be reduced by applying a transfer method.

(12) 前記支持体基材が、長尺フィルム形態であり、
前記凹凸形状作製工程は、
前記凹状溝を、前記支持体基材の長手方向に延長する向きにより作製する転写フィルムの製造方法。
(12) The support substrate is in the form of a long film,
The uneven shape manufacturing step includes
A method for producing a transfer film, wherein the concave groove is produced in a direction extending in the longitudinal direction of the support substrate.

(12)によれば、凹状溝が、支持体基材の長手方向に延長する向きにより作製されていることにより、透過軸方向を支持体基材の幅方向に設定することができ、例えばシート・ポラライザーによる直線偏光板等との積層工程を簡略かつ効率良く実行することができる。   According to (12), since the concave groove is formed in a direction extending in the longitudinal direction of the support substrate, the transmission axis direction can be set in the width direction of the support substrate. -A lamination process with a linear polarizer using a polarizer can be performed simply and efficiently.

(13) 支持体基材に転写層を作製する転写層作製工程と、
前記転写層を他の部材に転写する転写工程とを備え、
前記転写層作製工程は、
前記支持体基材に賦型樹脂層を作製して賦型処理し、前記賦型樹脂層の表面に、透過を制限する波長帯域の最短波長未満のピッチ及び溝幅による凹状溝を複数作製する凹凸形状作製工程と、
前記凹状溝に金属材料を配置して、透過を制限する波長帯域の最短波長未満のピッチ及び線幅による金属線状部を作製する金属線状部作製工程とを備える光学フィルムの製造方法。
(13) a transfer layer preparation step of preparing a transfer layer on a support substrate;
A transfer step of transferring the transfer layer to another member,
The transfer layer preparation step includes
A moldable resin layer is prepared on the support substrate and subjected to a mold treatment, and a plurality of concave grooves are formed on the surface of the moldable resin layer with pitches and groove widths less than the shortest wavelength of the wavelength band for limiting transmission. Concave and convex shape manufacturing process,
A method for producing an optical film, comprising: arranging a metal material in the concave groove to produce a metal linear part having a pitch and a line width less than the shortest wavelength in a wavelength band for limiting transmission.

(13)によれば、凹状溝に金属材料を配置して金属線状部を作製することにより、金属線状部の損傷を従来に比して低減することができ、これにより従来に比して機械的強度を向上することができる。またこの金属線状部が作製されてなる賦型樹脂層が転写層であることにより全体の厚みを薄くすることができる。   According to (13), by arranging a metal material in the concave groove to produce the metal wire portion, damage to the metal wire portion can be reduced as compared with the conventional case. And mechanical strength can be improved. Further, since the shaping resin layer formed by forming the metal linear portion is a transfer layer, the entire thickness can be reduced.

(14) (13)において、
前記支持体基材が、長尺フィルム形態であり、
前記凹凸形状作製工程は、
前記凹状溝を、前記支持体基材の長手方向に延長する向きにより作製する光学フィルムの製造方法。
(14) In (13),
The support substrate is in the form of a long film,
The uneven shape manufacturing step includes
The manufacturing method of the optical film which produces the said concave groove with the direction extended in the longitudinal direction of the said support body base material.

(14)によれば、凹状溝が、支持体基材の長手方向に延長する向きにより作製されていることにより、透過軸方向を支持体基材の幅方向に設定することができ、シート・ポラライザーによる直線偏光板等との積層工程を簡略かつ効率良く実行することができる。   According to (14), by forming the concave groove in a direction extending in the longitudinal direction of the support substrate, the transmission axis direction can be set in the width direction of the support substrate. A lamination process with a linear polarizing plate or the like by a polarizer can be performed simply and efficiently.

本発明によれば、ワイヤーグリッド型偏光子に関して、従来に比して厚みを薄くすることができ、さらに充分な機械的強度を確保することができるようにする。   According to the present invention, it is possible to reduce the thickness of the wire grid type polarizer as compared with the related art and to secure a sufficient mechanical strength.

本発明の第1実施形態に係る画像表示装置を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the image display apparatus which concerns on 1st Embodiment of this invention. 図1の画像表示装置に係る転写フィルムの構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the transfer film which concerns on the image display apparatus of FIG. 図2の転写フィルムの偏光子層の断面形状を示す図である。It is a figure which shows the cross-sectional shape of the polarizer layer of the transfer film of FIG. 転写フィルムの製造工程を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the manufacturing process of a transfer film. 図4の各工程の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of each process of FIG. 直線偏光板との積層工程の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of a lamination process with a linearly-polarizing plate. ロール版の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of a roll version. 本発明の第2実施形態に係る画像表示装置を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the image display apparatus which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 図8の画像表示装置に係る偏光子層の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the polarizer layer which concerns on the image display apparatus of FIG. 本発明の第3実施形態に係る画像表示装置を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the image display apparatus which concerns on 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第4実施形態に係る画像表示装置を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the image display apparatus which concerns on 4th Embodiment of this invention. 本発明の第5実施形態に係るロール版の製造方法の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of the manufacturing method of the roll plate which concerns on 5th Embodiment of this invention.

〔第1実施形態〕
〔画像表示装置〕
図1は、本発明の第1実施形態に係る画像表示装置を示す断面図である。この画像表示装置1は、液晶表示装置であり、液晶表示パネル2の背面にバックライト3が配置される。ここでバックライト3は、エッジライト型、直射型等、種々の構成の面光源装置を広く適用することができる。液晶表示パネル2は、直交ニコル配置又は平行ニコル配置による直線偏光板6、7により液晶セル5を挟持して構成され、液晶セル5は、透明電極を形成したガラス基板により液晶材料による液晶層を挟持して形成される。これにより画像表示装置1は、液晶セル5に設けられた透明電極への印加電圧により画素単位で透過光を光強度変調して出力し、所望の画像を表示する。
[First Embodiment]
[Image display device]
FIG. 1 is a sectional view showing an image display apparatus according to the first embodiment of the present invention. The image display device 1 is a liquid crystal display device, and a backlight 3 is disposed on the back surface of the liquid crystal display panel 2. Here, as the backlight 3, various surface light source devices such as an edge light type and a direct light type can be widely applied. The liquid crystal display panel 2 is configured by sandwiching a liquid crystal cell 5 between linear polarizing plates 6 and 7 having a crossed Nicol arrangement or a parallel Nicol arrangement, and the liquid crystal cell 5 includes a liquid crystal layer made of a liquid crystal material by a glass substrate on which a transparent electrode is formed. It is formed by pinching. As a result, the image display device 1 modulates the intensity of the transmitted light in units of pixels by the voltage applied to the transparent electrode provided in the liquid crystal cell 5 and outputs it, thereby displaying a desired image.

この画像表示装置1は、液晶表示パネル2のバックライト3側に、偏光子として機能する光学機能層(以下、偏光子層と呼ぶ)を備えた転写層4が、直線偏光板4に貼り付けてられて配置される。直線偏光板6,7は、いわゆるシート・ポラライザー型の偏光板であり、ポリビニルアルコール(PVA)にヨウ素等を含浸させた後、延伸して偏光子としての光学的機能を担う光学機能層が形成され、この光学機能層を保護用の基材により挟持して作製される。   In this image display device 1, a transfer layer 4 having an optical functional layer functioning as a polarizer (hereinafter referred to as a polarizer layer) is attached to a linear polarizing plate 4 on the backlight 3 side of a liquid crystal display panel 2. Placed. The linear polarizing plates 6 and 7 are so-called sheet polarizer type polarizing plates, and after impregnating polyvinyl alcohol (PVA) with iodine or the like, the linear polarizing plates are stretched to form an optical functional layer that bears the optical function as a polarizer. The optical functional layer is produced by being sandwiched between protective substrates.

転写層4は、転写法により配置される層であり、この実施形態では、後述するように偏光子層が設けられた賦型樹脂層である。なお転写法とは、例えば基材の上に所望の層を形成する場合に、この層を直接当該基材上に形成するのでは無く、一旦、離型性を有する支持体上に剥離可能に該層を積層形成して転写体を作製した後、工程、需要等に応じて、該支持体上に形成した層を、最終的に該層を積層すべき基材(被転写基材)上に接着、積層し、その後、該支持体を剥離除去することにより、該基材上に所望の層を形成する方法である。   The transfer layer 4 is a layer disposed by a transfer method. In this embodiment, the transfer layer 4 is a shaping resin layer provided with a polarizer layer as described later. The transfer method refers to, for example, when a desired layer is formed on a substrate, this layer is not directly formed on the substrate but can be peeled once on a support having releasability. After producing the transfer body by laminating the layers, according to the process, demand, etc., the layer formed on the support is finally placed on the substrate (transferred substrate) on which the layer is to be laminated. In this method, a desired layer is formed on the substrate by peeling and removing the support.

この転写層4に設けられた偏光子層は、ワイヤーグリッド型偏光子として機能する光学機能層であり、透過軸方向と直交する偏光面による入射光を選択的に反射するいわゆる反射型の偏光子である。転写層4は、液晶セル5の入射面側(バックライト3側)に配置された直線偏光板7の透過軸方向と、この偏光子層における透過軸方向が一致するように配置され、これにより画像表示装置1は、バックライト3からの照明光の利用効率を向上する。この実施形態において、転写層4は、事前に、直線偏光板7と一体化された後、液晶表示パネル2の製造工程に提供され、これにより画像表示装置1は、組み立て作業を簡略化することができる。また転写法の適用により、ワイヤーグリッド型偏光子をハンドリングするのに必要な支持体が最終的に不要になるため、画像表示装置1の厚みを薄くすることができる。   The polarizer layer provided in the transfer layer 4 is an optical functional layer that functions as a wire grid polarizer, and is a so-called reflective polarizer that selectively reflects incident light from a polarization plane orthogonal to the transmission axis direction. It is. The transfer layer 4 is arranged so that the transmission axis direction of the linearly polarizing plate 7 arranged on the incident surface side (backlight 3 side) of the liquid crystal cell 5 coincides with the transmission axis direction of the polarizer layer. The image display device 1 improves the utilization efficiency of the illumination light from the backlight 3. In this embodiment, the transfer layer 4 is integrated with the linear polarizing plate 7 in advance, and then provided to the manufacturing process of the liquid crystal display panel 2, whereby the image display device 1 simplifies the assembly work. Can do. Further, by applying the transfer method, a support necessary for handling the wire grid type polarizer is finally unnecessary, so that the thickness of the image display device 1 can be reduced.

なおこの一体化は、転写層4と直線偏光板7とを紫外線硬化性樹脂等による接着剤により貼り合せて実行される。   This integration is performed by bonding the transfer layer 4 and the linear polarizing plate 7 together with an adhesive such as an ultraviolet curable resin.

〔転写フィルム〕
図2は、転写層4の配置に使用する転写フィルムの構成を示す図である。転写フィルム9は、支持体基材15上に賦型樹脂層による転写層4が形成され、紫外線硬化性樹脂等の接着剤により転写層4を直線偏光板7に貼り付けた後、支持体基材15を剥離することにより、転写層4が直線偏光板7に配置される。転写フィルム9は、この転写層4の表面側に、偏光子としての光学的機能を担う偏光子層10が設けられる。なおこれにより転写層4の偏光子層10が設けられていない支持体基材15側の部位は、偏光子層10の支持体として機能する支持体層を構成すると共に、偏光子層10を保護する保護層を構成することになる。
[Transfer film]
FIG. 2 is a diagram showing a configuration of a transfer film used for disposing the transfer layer 4. The transfer film 9 is formed by forming a transfer layer 4 of a shaping resin layer on a support base material 15 and attaching the transfer layer 4 to the linear polarizing plate 7 with an adhesive such as an ultraviolet curable resin. The transfer layer 4 is disposed on the linearly polarizing plate 7 by peeling the material 15. In the transfer film 9, a polarizer layer 10 having an optical function as a polarizer is provided on the surface side of the transfer layer 4. As a result, the portion of the transfer layer 4 on the side of the support substrate 15 where the polarizer layer 10 is not provided constitutes a support layer that functions as a support for the polarizer layer 10 and protects the polarizer layer 10. A protective layer is formed.

ここで偏光子層10は、入射する電磁波である入射光の透過を偏光面に応じて制限する偏光子としての光学的機能を担い、金属線状部11が、線幅の方向に離間して複数配置される。ここで金属線状部11は、透過を制限する電磁波の波長帯域の最短波長λmin未満の線幅Wmにより、金属材料により形成される。また金属線状部11は、この最短波長λmin未満のピッチPにより、規則的に又は不規則に繰り返し配置される。なおこれにより隣接する金属線状部11間の間隔Wt(後述する透明固体誘電体部12の幅である)は、デューティー比D(=Wm/P=Wm/(Wm+Wt))が0.2以上0.8以下、好ましくは0.3以上0.7以下になるように作製される。なお偏光子層10の表面が曲面形状である場合もあることにより、線幅Wmは、金属線状部11の延長方向と、金属線状部11の繰り返し方向とに直交する方向から見た幅により定義される。なお最短波長λminは、この実施形態のように画像表示装置に適用して可視光域の全波長帯域に対してその透過を制限する場合、可視光域の最短波長380nm未満とすればよいものの、例えば紫外線による露光装置に適用して露光に供する紫外線の透過を制限する場合等においては、適宜、380nmとは異なる波長が適用される。   Here, the polarizer layer 10 has an optical function as a polarizer that restricts transmission of incident light, which is an incident electromagnetic wave, according to the polarization plane, and the metal linear portion 11 is separated in the line width direction. Several are arranged. Here, the metal linear portion 11 is formed of a metal material with a line width Wm less than the shortest wavelength λmin in the wavelength band of the electromagnetic wave that restricts transmission. Further, the metal linear portions 11 are repeatedly arranged regularly or irregularly by the pitch P less than the shortest wavelength λmin. As a result, the interval Wt between adjacent metal linear portions 11 (the width of a transparent solid dielectric portion 12 described later) has a duty ratio D (= Wm / P = Wm / (Wm + Wt)) of 0.2 or more. It is made to be 0.8 or less, preferably 0.3 or more and 0.7 or less. Since the surface of the polarizer layer 10 may have a curved surface shape, the line width Wm is a width viewed from a direction orthogonal to the extending direction of the metal linear portion 11 and the repeating direction of the metal linear portion 11. Defined by Note that, when the shortest wavelength λmin is applied to the image display device as in this embodiment and its transmission is limited with respect to the entire wavelength band of the visible light region, the shortest wavelength λmin may be less than 380 nm. For example, in the case of limiting the transmission of ultraviolet rays used for exposure by applying to an exposure apparatus using ultraviolet rays, a wavelength different from 380 nm is appropriately applied.

また金属線状部11は、この最短波長λminに対して、厚みHがλmin以下になるように形成され、この実施形態では断面略矩形形状により形成される。これらにより偏光子層10は、ワイヤーグリッド型偏光子として機能するように構成される。なお偏光子層10では、例えば可視光域の波長帯域において、最短波長380nm、中心波長550nm、最長波長780nm等の複数波長を設計基準波長に設定し、これらの設計基準波長で所望する光学特性(例えば消光比)を確保することができるように、金属材料及び透明誘電体材料の屈折率n及び消衰係数kを元に、シミュレーションによってピッチP、線幅Wm、厚みHに対応するP波透過率、S波透過率、S波反射率、消光比を算出することで、必要なピッチP、線幅Wm、厚みHの好適値が導きだされる。これにより、例えば波長550nmにおいて十分な消光比を確保する場合にあって、金属層にアルミニウム、透明誘電体に一般的な紫外線硬化樹脂(n=1.5、k=0 at550nm)を用いる場合、ピッチPは75nm以上175nm以下、好ましくは100nm以上150nm以下が望ましい。厚みは90nm以上200nm以下、好ましくは110nm以上160nm以下、更に好ましくは120nm以上150nmが望ましい。   The metal linear portion 11 is formed so that the thickness H is equal to or less than λmin with respect to the shortest wavelength λmin. In this embodiment, the metal linear portion 11 is formed in a substantially rectangular shape in cross section. Accordingly, the polarizer layer 10 is configured to function as a wire grid polarizer. In the polarizer layer 10, for example, in the visible light wavelength band, a plurality of wavelengths such as the shortest wavelength 380 nm, the center wavelength 550 nm, and the longest wavelength 780 nm are set as the design reference wavelengths, and desired optical characteristics at these design reference wavelengths ( For example, based on the refractive index n and the extinction coefficient k of the metal material and the transparent dielectric material, P wave transmission corresponding to the pitch P, the line width Wm, and the thickness H is obtained by simulation. By calculating the ratio, the S wave transmittance, the S wave reflectance, and the extinction ratio, suitable values for the necessary pitch P, line width Wm, and thickness H are derived. Thereby, for example, when a sufficient extinction ratio is ensured at a wavelength of 550 nm, when a general ultraviolet curable resin (n = 1.5, k = 0 at 550 nm) is used for the metal layer and the transparent dielectric, The pitch P is 75 nm or more and 175 nm or less, preferably 100 nm or more and 150 nm or less. The thickness is 90 nm to 200 nm, preferably 110 nm to 160 nm, and more preferably 120 nm to 150 nm.

さらに偏光子層10は、隣接する金属線状部11の間に、透過の制限を図る波長帯域の電磁波に対して透明な固体誘電体による透明固体誘電体部12が設けられる。このように隣接する金属線状部11の間に透明固体誘電体部12を設けることにより、偏光子層10は、各種部材の接触等による金属線状部11の損傷を低減することができ、従来に比して耐摩耗性を向上し、機械的強度を向上することができる。またこのように隣接する金属線状部11の間に透明固体誘電体部12を設けた構成は、金属線状部11に対応する凹状溝による凹凸形状を賦型樹脂層(4)に作製した後、この凹状溝に金属線状部11に係る材料を充填して作製することができ、これにより大面積の転写フィルムを効率良く生産することができ、従来に比して量産性を向上することができる。またこのようにして作製可能であることにより、金属線状部11の作製精度も向上することができ、その結果、偏光子層10の作製精度も向上することができる。なお充填により金属線状部11を作製する際に、必要に応じて凹状溝上に密着性や表面保護のための機能層を設けても良い。この機能層については特に制限されないが、主としてSiまたはその化合物である、SiO、SiCなどが好適に用いられる。また機能層としてではなく、賦型樹脂層(4)自体に金属との密着性改善成分を含有させても良い。 Further, the polarizer layer 10 is provided with a transparent solid dielectric portion 12 made of a solid dielectric transparent to an electromagnetic wave in a wavelength band for limiting transmission between adjacent metal linear portions 11. Thus, by providing the transparent solid dielectric portion 12 between the adjacent metal linear portions 11, the polarizer layer 10 can reduce damage to the metal linear portions 11 due to contact of various members, Abrasion resistance can be improved and mechanical strength can be improved as compared with the prior art. Moreover, the structure which provided the transparent solid dielectric material part 12 between the metal linear parts 11 which adjoined in this way produced the uneven | corrugated shape by the concave groove | channel corresponding to the metal linear part 11 in the shaping resin layer (4). Thereafter, the concave groove can be filled with a material related to the metal linear portion 11, whereby a large-area transfer film can be efficiently produced, and mass productivity is improved as compared with the conventional case. be able to. Moreover, by being able to be manufactured in this manner, the manufacturing accuracy of the metal linear portion 11 can be improved, and as a result, the manufacturing accuracy of the polarizer layer 10 can also be improved. When the metal linear portion 11 is produced by filling, a functional layer for adhesion and surface protection may be provided on the concave groove as necessary. The functional layer is not particularly limited, but Si 2 or SiC, which is mainly Si or a compound thereof, is preferably used. Moreover, you may make the shaping resin layer (4) itself contain an adhesive improvement component with a metal, not as a functional layer.

これらによりこの実施形態では、ワイヤーグリッド型偏光子に関して、従来に比して格段的に機械的強度を確保することができる。特にこの実施形態では、支持体基材15上に設けられた賦型樹脂層の表面に偏光子層10が作製されることにより、金属線状部11を内側にして転写層4を直線偏光板7に貼り付けることができ、これにより金属線状部11の損傷を充分に防止して機械的強度を確保することができる。またこのようにして転写層4のみ転写する場合にあって、転写層4は、凹状溝を作製できる程度の厚みにより作製すれば足り、これにより全体の厚みを薄型化することができる。   Accordingly, in this embodiment, the mechanical strength can be significantly ensured with respect to the wire grid type polarizer as compared with the related art. In particular, in this embodiment, the polarizer layer 10 is formed on the surface of the shaping resin layer provided on the support substrate 15, so that the transfer layer 4 is linearly polarizing plate with the metal linear portion 11 inside. 7, which can sufficiently prevent the metal linear portion 11 from being damaged and ensure the mechanical strength. Further, in the case where only the transfer layer 4 is transferred in this way, it is sufficient to produce the transfer layer 4 with a thickness that can produce a concave groove, and thus the overall thickness can be reduced.

ここで図3に線幅方向の断面形状を示すように、金属線状部11は、その1方の端面を、平坦面として、凹状溝より突出するようにしても良く、透明固体誘電体部12の表面と平坦としても良く(図3(A))、透明固体誘電体部12の表面より奥まった形状としてもよい。また線幅方向に係る中央部分が突出する曲面形状により作製しても良く、(図3(B))、これとは逆の曲面形状により作製してもよい。また図3(C)に示すように、隣接する金属線状部11をこの金属線状部11の材料により接続するようにして、この接続した部位の厚みdが、透過の制限を図る波長帯域の電磁波に対して十分に透明である場合には、このように隣接する金属線状部11をこの金属線状部11の材料により全面的に又は部分的に接続するようにしてもよい。また、図3(D)に示すように、転写前の状態での金属層保護のために、透明樹脂によるオーバーコート層12Aを設けても良い。   Here, as shown in the cross-sectional shape in the line width direction in FIG. 3, the metal linear portion 11 may protrude from the concave groove with one end surface thereof being a flat surface, and the transparent solid dielectric portion. 12 may be flat (FIG. 3A), or may have a shape deeper than the surface of the transparent solid dielectric portion 12. Further, it may be produced by a curved shape in which the central portion in the line width direction protrudes (FIG. 3B), or may be produced by a curved shape opposite to this. Further, as shown in FIG. 3C, the adjacent metal wire portions 11 are connected by the material of the metal wire portions 11, and the thickness d of the connected portions is a wavelength band for limiting transmission. In this case, the adjacent metal wire portions 11 may be connected entirely or partially by the material of the metal wire portions 11. Further, as shown in FIG. 3D, an overcoat layer 12A made of a transparent resin may be provided to protect the metal layer before transfer.

〔各部の詳細構成〕
ここで金属線状部11に係る金属材料は、例えば各種の導体に係る金属、合金、金属化合物等を広く適用することができるものの、アルミニウム、ニッケル、クロム、銀の何れかによる金属、これら何れかの金属による合金、これら金属の化合物を適用することが望ましい。なお透過を制限する電磁波を効率良く反射する観点からは、アルミニウム、ニッケル、銀等の反射率の高い金属、合金、化合物を適用することが望ましく、可視光に対しては特にアルミニウムが好ましい。またこれとは逆に、透過を制限する電磁波の反射を抑圧する観点からは、クロム等の反射率の低い金属、合金、化合物を適用することが望ましい。
[Detailed configuration of each part]
Here, as the metal material related to the metal linear portion 11, for example, metals, alloys, metal compounds, and the like related to various conductors can be widely applied. However, any of these metals such as aluminum, nickel, chromium, and silver, whichever It is desirable to apply alloys of these metals and compounds of these metals. From the viewpoint of efficiently reflecting electromagnetic waves that restrict transmission, it is desirable to use metals, alloys, and compounds having high reflectivity such as aluminum, nickel, and silver, and aluminum is particularly preferable for visible light. On the other hand, from the viewpoint of suppressing the reflection of electromagnetic waves that limit transmission, it is desirable to apply a metal, alloy, or compound having a low reflectance such as chromium.

金属線状部11は、複数の層構造により作製するようにしても良い。このような層構造により作製することにより、例えば偏光子層10の両面から入射する入射光に対して特性を異ならせ、偏光子層10の両面の色合いを異ならせたりすることができる。   The metal linear portion 11 may be formed by a plurality of layer structures. By making such a layer structure, for example, it is possible to change the characteristics with respect to incident light incident from both surfaces of the polarizer layer 10 and to change the hue of both surfaces of the polarizer layer 10.

転写フィルム9(図2)は、透明フィルム材による支持体基材15に、賦型樹脂層(4)が設けられ、この賦型樹脂層(4)の賦型処理により微細凹凸形状が作製されて透明固体誘電体部12が作製される。また微細凹凸形状が作製されてなる面に、蒸着、スパッタリング、電解メッキ、無電解メッキ等により金属層が作製されて金属線状部11が作製される。転写フィルム9は、その後、エッチング、切削、研磨等の処理により透明固体誘電体部12の端面が露出するように、金属線状部間である透明固体誘電体部12の端面の金属層が除去される。また必要に応じて、金属層を除去した後、凹状溝に残る金属材料に、選択的に金属材料を堆積させる。ここで凹状溝への金属の充填は、例えば一回の処理で不十分な場合もあることにより、複数回に分けて行っても良い。また例えば高アスペクトの凹状溝等に金属を充填する場合等では、金属を充填する際に入り口が途中で塞がってしまう場合があることにより、このような場合は、入り口を塞ぐ金属を一旦除去した後、再度充填する処理を実行するようにしてもよい。なおこのようにして各充填工程にて充填される金属層の間には、酸化皮膜等の薄層が存在しても良い。   The transfer film 9 (FIG. 2) is provided with a shaping resin layer (4) on a support substrate 15 made of a transparent film material, and a fine uneven shape is produced by the shaping treatment of the shaping resin layer (4). Thus, the transparent solid dielectric portion 12 is produced. Further, a metal layer is formed on the surface on which the fine concavo-convex shape is formed by vapor deposition, sputtering, electrolytic plating, electroless plating, etc., and the metal linear portion 11 is manufactured. Thereafter, the metal film on the end surface of the transparent solid dielectric portion 12 between the metal linear portions is removed from the transfer film 9 so that the end surface of the transparent solid dielectric portion 12 is exposed by processes such as etching, cutting, and polishing. Is done. If necessary, after removing the metal layer, the metal material is selectively deposited on the metal material remaining in the concave groove. Here, the filling of the metal into the concave groove may be performed in a plurality of times because, for example, a single treatment may be insufficient. In addition, for example, in the case of filling a metal in a high-aspect concave groove or the like, there is a case where the entrance may be blocked in the middle when filling the metal. In such a case, the metal that closes the entrance is once removed. Thereafter, the filling process may be executed again. A thin layer such as an oxide film may be present between the metal layers filled in each filling step in this way.

なお金属線状部11の作製においては、化学気相成長、原子層堆積法、酸化還元反応法、ナノ粒子の堆積法等の適用も可能である。ここで酸化還元反応法とは、酸化した金属材料を還元剤により還元して金属層を作製する金属層作製手法を意味し、例えば銀鏡反応で代表される金属層作製手法である。ここで還元剤は凹凸形状を形成する透明固体誘電体部に含まれていても良い。またナノ粒子の堆積法とは、アルミニウム等の金属によるナノ粒子を凹凸形状面に堆積させて金属層を作製する手法、又は凹状溝に選択的に堆積させて金属線状部を作製する手法であり、必要に応じて、ナノ粒子を堆積させた後、焼成等の工程を設けて堆積したナノ粒子を凹状溝に固定する。また金属層を除去した後の、凹状溝に残る金属材料への選択的な金属材料の堆積には、電鋳処理を適用することができる。   In the production of the metal linear portion 11, chemical vapor deposition, atomic layer deposition, oxidation-reduction reaction, nanoparticle deposition, or the like can be applied. Here, the oxidation-reduction reaction method means a metal layer preparation method in which a metal layer is prepared by reducing an oxidized metal material with a reducing agent, and is, for example, a metal layer preparation method represented by a silver mirror reaction. Here, the reducing agent may be included in the transparent solid dielectric portion forming the uneven shape. In addition, the nanoparticle deposition method is a method in which a metal layer is produced by depositing nanoparticles such as aluminum on a concavo-convex surface, or a method in which a metal linear portion is produced by selectively depositing in a concave groove. Yes, if necessary, after depositing the nanoparticles, a step such as firing is provided to fix the deposited nanoparticles to the concave groove. An electroforming process can be applied to the selective deposition of the metal material on the metal material remaining in the concave groove after the metal layer is removed.

支持体基材15は、一般的な転写フィルムに用いられる基材を適用可能であるが、クリーン度の観点からは光学フィルムに用いられる基材が好ましく、また賦型樹脂層に紫外線硬化樹脂を用いる場合は紫外線を良好に透過する基材が好ましい。具体的には、COP(シクロオレフィンポリマー)フィルム、TAC(トリアセチルセルロース)フィルム、PET(ポリエステルテレフタレート)フィルム、ポリイミドフィルム等が適用可能である。但し、製造工程でエッチング等のWetプロセスを適用する場合は、吸水による体積変化が大きいことによりTACフィルムは好ましくない。また機械強度やコストの点からは、PETフィルムが好ましく、賦型面に易接着処理がなされていないものがより好適である。   As the support substrate 15, a substrate used for a general transfer film can be applied, but from the viewpoint of cleanliness, a substrate used for an optical film is preferable, and an ultraviolet curable resin is used for the shaping resin layer. When used, a base material that transmits UV rays well is preferable. Specifically, a COP (cycloolefin polymer) film, a TAC (triacetyl cellulose) film, a PET (polyester terephthalate) film, a polyimide film, and the like are applicable. However, when a wet process such as etching is applied in the manufacturing process, the TAC film is not preferable because the volume change due to water absorption is large. Also, from the viewpoint of mechanical strength and cost, a PET film is preferable, and a film that does not undergo easy adhesion treatment on the molding surface is more preferable.

支持体基材15には、製造工程での意図しない剥離が生じない範囲で、支持体基材15と賦型樹脂層である転写層4との密着力を低減して支持体基材15を良好に剥離可能とする離形層を設けるようにしてもよい。なお離形層には、例えばシリコン樹脂(有機珪素系高分子化合物)、弗素系樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、又はこれら樹脂と適宜の他の樹脂(アクリル樹脂、セルロース系樹脂、ポリエステル樹脂等)との混合物を適用することができる。   In the support base material 15, the adhesive strength between the support base material 15 and the transfer layer 4, which is the shaping resin layer, is reduced to the extent that the unintended peeling in the manufacturing process does not occur. You may make it provide the release layer which can peel favorably. For the release layer, for example, silicon resin (organosilicon-based polymer compound), fluorine-based resin, melamine resin, epoxy resin, or other resin and other appropriate resins (acrylic resin, cellulose-based resin, polyester resin, etc.) A mixture with can be applied.

転写層4に係る賦型樹脂層は、賦型処理可能な各種の硬化性樹脂を適用することができるものの、この実施形態では紫外線硬化性樹脂が適用される。なおこれにより転写層4は、支持体基材15と偏光子層10との間に、賦型樹脂層の残部による透過を制限する波長帯域の電磁波に対して透明な透明層が設けられ、上述したように、この透明層が偏光子層10の保護層として機能することになる。   Although various curable resins that can be subjected to a shaping process can be applied to the shaping resin layer according to the transfer layer 4, an ultraviolet curable resin is applied in this embodiment. As a result, the transfer layer 4 is provided between the support substrate 15 and the polarizer layer 10 with a transparent layer that is transparent to electromagnetic waves in a wavelength band that restricts transmission by the remainder of the shaping resin layer. As described above, this transparent layer functions as a protective layer for the polarizer layer 10.

なお支持体基材15にハードコート層等を形成すると共に、このハードコート層等を賦型樹脂層と一体に転写するようにして、このハードコート層等も転写層4に含めるようにして偏光子層10の保護層とするようにしてもよい。なおこのような保護層は、被転写基材に転写層4を配置した後、作製するようにしても良いことは言うまでも無い。   In addition, while forming a hard-coat layer etc. in the support base material 15 and transferring this hard-coat layer etc. integrally with a shaping resin layer, this hard-coat layer etc. are also included in the transfer layer 4, and polarized light The protective layer of the child layer 10 may be used. Needless to say, such a protective layer may be prepared after the transfer layer 4 is disposed on the transfer substrate.

転写層4は、偏光子層10を除く部位が偏光子層10の支持体、保護層として機能するものの、厚みを厚くすると、画像表示装置1における厚みが厚くなる。しかしながら賦型処理可能であって、転写処理可能な厚みであることも必要である。これにより転写層4は、厚み10μm以下0.2μm以上により、好ましくは5μm以下1μm以上により作製される。   Although the transfer layer 4 functions as a support and a protective layer for the polarizer layer 10 except for the polarizer layer 10, when the thickness is increased, the thickness of the image display device 1 is increased. However, it is necessary to have a thickness that can be subjected to a shaping process and can be transferred. Thereby, the transfer layer 4 is produced with a thickness of 10 μm or less and 0.2 μm or more, preferably 5 μm or less and 1 μm or more.

また転写フィルム9は、賦型樹脂層と支持体基材15との剥離力が軽すぎると不要な剥がれによる不良が発生しやすく、重すぎると加工性が低下する。具体的に、例えば300mm/minの剥離速度で0.125N/50mm幅(180度剥離)程度まで小さくなると、不要な剥離のリスクが増加する。また0.19N/50mm幅(180度剥離)程度であれば転写フィルムとして使用可能であるが、実際に製品として使用する場合は高速での剥離重さが重要になってくることにより未だ不十分である。しかしながら10m/minの剥離速度で0.28N/50mm幅以上0.36N/50mm幅以下(180度剥離)だと安定して支持体基材を剥がすことができる。0.40N/50mm幅(180度剥離)を超えてくると支持体基材を剥がすのに大きな力が必要となってくるのであまり望ましくはないが、これらはプロセス設計あるいは被転写基材の強度によっても影響を受ける。いずれにしろ樹脂の破断強度や引張り弾性率は、上記剥離に掛かる応力にて賦型樹脂層が破断したり、大きく伸びて金属線状部が追従できず破断しない範囲で設計をする必要があり、これらは樹脂骨格や組成、硬化条件等を変更することで調整可能である。なおこれらの剥離強度は、幅50mmの試験片による計測値である。   Moreover, if the peeling force between the shaping resin layer and the support substrate 15 is too light, the transfer film 9 is liable to cause defects due to unnecessary peeling, and if it is too heavy, the workability is lowered. Specifically, for example, when the peeling speed is 300 mm / min and the width is reduced to about 0.125 N / 50 mm width (180 degree peeling), the risk of unnecessary peeling increases. If it is about 0.19 N / 50 mm width (180 degree peeling), it can be used as a transfer film. However, when it is actually used as a product, the peeling weight at high speed becomes important, and it is still insufficient. It is. However, when the peeling speed is 10 m / min and the width is 0.28 N / 50 mm width or more and 0.36 N / 50 mm width or less (180-degree peeling), the support substrate can be peeled stably. If it exceeds 0.40N / 50mm width (180 degree peeling), a large force is required to peel off the support substrate, but this is not very desirable. Also affected by. In any case, it is necessary to design the fracture strength and tensile modulus of the resin within the range where the molded resin layer breaks due to the stress applied to the peeling or does not break because the metal linear part cannot be stretched greatly. These can be adjusted by changing the resin skeleton, composition, curing conditions, and the like. These peel strengths are measured values with a test piece having a width of 50 mm.

〔製造工程〕
図4は、転写フィルム9の製造工程を示すフローチャートである。この製造工程は、ロールに巻き取った透明長尺フィルム形態により支持体基材15が提供される。この製造工程は、ロールより支持体基材15を引き出して搬送しながら、凹凸形状作製工程SP2により、支持体基材15の表面に凹凸形状を作製する。
〔Manufacturing process〕
FIG. 4 is a flowchart showing the manufacturing process of the transfer film 9. In this manufacturing process, the support substrate 15 is provided in the form of a transparent long film wound up on a roll. In this manufacturing process, a concavo-convex shape is formed on the surface of the support base material 15 by the concavo-convex shape preparation step SP2 while the support base material 15 is pulled out and conveyed from the roll.

より具体的に、この凹凸形状作製工程では、図5(A)に示すように、始めに、支持体基材15に紫外線硬化性樹脂の塗工液を塗工した後、周側面に微細凹凸形状が作製されている賦型用金型であるロール版の周側面に支持体基材15を押圧して搬送しながら、紫外線を照射して紫外線硬化性樹脂を硬化させ、その後、硬化した紫外線硬化性樹脂を支持体基材15と一体にロール版より剥離する。これにより図5(B)に示すように、この工程では、ロール版の周側面に形成された微細凹凸形状を転写して、支持体基材15の表面に、金属線状部11に対応する凹状溝21を作製してなる賦型樹脂層(4)を作製する。なおこれによりこの凹状溝21は、透過を制限する波長帯域の最短波長未満の、金属線状部11の線幅Wmに対応する溝幅により、また金属線状部11の繰り返しピッチPに対応するピッチにより作製されることになる。   More specifically, in this uneven shape manufacturing step, as shown in FIG. 5A, first, after applying a coating liquid of an ultraviolet curable resin to the support base material 15, fine unevenness on the peripheral side surface. While pressing and conveying the support base material 15 to the peripheral side surface of the roll plate which is a shaping mold whose shape has been produced, the ultraviolet curable resin is cured by irradiating ultraviolet rays, and then the cured ultraviolet rays The curable resin is peeled off from the roll plate integrally with the support substrate 15. As a result, as shown in FIG. 5B, in this step, the fine uneven shape formed on the peripheral side surface of the roll plate is transferred to correspond to the metal linear portion 11 on the surface of the support substrate 15. The shaping resin layer (4) formed by producing the concave groove 21 is produced. Accordingly, the concave groove 21 corresponds to the groove width corresponding to the line width Wm of the metal linear portion 11 and less than the shortest wavelength of the wavelength band for limiting transmission, and also corresponds to the repetition pitch P of the metal linear portion 11. It is produced by the pitch.

続いて転写フィルムの製造工程は、金属線状部作製工程SP3において、凹状溝21に金属材料を配置して金属線状部11を形成する。より具体的に、この実施形態では、蒸着、スパッタリング、電解メッキ、無電解メッキ等により、図5(C)に示すように、凹状溝21が作製されてなる凹凸形状面の全面に、金属層22を作製することにより、金属線状部11を作製する。   Then, the manufacturing process of a transfer film forms the metal linear part 11 by arrange | positioning a metal material in the concave groove 21 in metal linear part preparation process SP3. More specifically, in this embodiment, as shown in FIG. 5C, a metal layer is formed on the entire surface of the concavo-convex shape formed by the concave grooves 21 by vapor deposition, sputtering, electrolytic plating, electroless plating, or the like. 22 is produced, and the metal linear part 11 is produced.

続いてこの製造工程は、金属除去工程SP4において、エッチング、研磨、切削等により、図5(D)に示すように、余分な金属層を削除する。(図3(A))より具体的に、例えばエッチングにより金属層を除去する場合には、エッチングに供する薬液の種類、濃度、温度、エッチング時間の管理により、金属線状部11の端面の突出程度を調整することができる。また例えば研磨により金属層を除去する場合、研磨に供する研磨剤、この研磨剤による研磨液の温度、研磨液に添加する薬液の濃度、押圧力等の管理により、金属線状部11の端面の突出程度を調整することができる。また金属除去工程SP4は、例えば切削した後に、エッチングにより端面を処理する場合のように、必要に応じてエッチング、研磨、切削等が組み合わされて実行される。またこのようにして凹状溝間の金属層を除去した後、必要に応じて凹状溝に残る金属材料に、選択的に金属材料を堆積する処理、あるいは金属線状部作成工程SP3と金属除去工程SP4の処理が繰り返し実行される。   Subsequently, in this manufacturing process, an extra metal layer is deleted by etching, polishing, cutting, or the like in the metal removing process SP4 as shown in FIG. More specifically, when the metal layer is removed by etching, for example, when the metal layer is removed by etching, the protrusion of the end face of the metal linear portion 11 is controlled by controlling the type, concentration, temperature, and etching time of the chemical solution used for etching. The degree can be adjusted. For example, when the metal layer is removed by polishing, the end surface of the metal linear portion 11 is controlled by controlling the polishing agent used for polishing, the temperature of the polishing solution by the polishing agent, the concentration of the chemical solution added to the polishing solution, the pressing force, and the like. The degree of protrusion can be adjusted. Further, the metal removal step SP4 is performed by combining etching, polishing, cutting, and the like as necessary, as in the case of processing the end face by etching after cutting, for example. In addition, after removing the metal layer between the concave grooves in this way, a process of selectively depositing a metal material on the metal material remaining in the concave grooves as necessary, or a metal linear portion creating step SP3 and a metal removing step The processing of SP4 is repeatedly executed.

なお金属除去工程SP4に代えて、又は金属除去工程SP4に加えて、金属層の表面を透明化する工程を設けるようにしてもよい。なおここでいう透明化とは対応する波長帯域の電磁波に対して金属層表面を透明化する処理であり、例えばアルミニウムによる金属層の表面を酸化処理することにより、金属層表面のアルミニウムを酸化アルミニウムに変質させることにより実行される。なおこのようにして作製される透明層を、偏光子層の保護層として機能させるようにしてもよい。   Instead of the metal removal step SP4 or in addition to the metal removal step SP4, a step of making the surface of the metal layer transparent may be provided. The transparency here is a treatment for making the surface of the metal layer transparent with respect to electromagnetic waves in the corresponding wavelength band. For example, by oxidizing the surface of the metal layer with aluminum, the aluminum on the surface of the metal layer is converted into aluminum oxide. It is executed by changing the quality. In addition, you may make it function the transparent layer produced in this way as a protective layer of a polarizer layer.

この実施形態では、これら各工程SP2〜SP4が、支持体基材15を搬送しながら順次実行された後、ロールに巻き取って転写フィルム巻取体が作製され、この転写フィルム巻取体が続く処理工程に搬送される。   In this embodiment, these steps SP2 to SP4 are sequentially performed while transporting the support base material 15, and then wound onto a roll to produce a transfer film winder, followed by the transfer film winder. It is conveyed to the processing process.

このように最短波長未満の溝幅による凹状溝を複数配置してなる凹凸形状を作製した後、金属線状部を形成することにより、転写フィルムは、隣接する金属線状部の間に透明固体誘電体部を備えた構造とすることができ、これにより従来のワイヤーグリッド構造に比して耐擦傷性を向上することができる。また量産性、作製精度を向上することができる。さらに金属線状部の上から全面を覆う形でオーバーコート層を形成することにより、転写フィルムの状態での耐擦傷性や耐久性を向上させることができる。   In this way, after forming a concavo-convex shape formed by arranging a plurality of concave grooves with a groove width of less than the shortest wavelength, the transfer film is transparent solid between adjacent metal linear portions by forming a metal linear portion. It can be set as the structure provided with the dielectric material part, and, thereby, abrasion resistance can be improved compared with the conventional wire grid structure. Further, mass productivity and production accuracy can be improved. Furthermore, by forming the overcoat layer so as to cover the entire surface of the metal linear portion, it is possible to improve the scratch resistance and durability in the state of the transfer film.

また全体に金属層を作製した後、透明固体誘電体部に係る金属層を除去することにより、大面積の転写フィルムを効率良く量産することができ、一段と量産性を向上することができる。また賦型処理により凹状溝を複数配置してなる凹凸形状を作製することによって、大面積の転写フィルムを効率良く量産することができ、一段と量産性を向上することができる。   Further, by removing the metal layer relating to the transparent solid dielectric portion after the metal layer is entirely formed, a large-area transfer film can be mass-produced efficiently, and the mass productivity can be further improved. Moreover, by producing a concavo-convex shape formed by arranging a plurality of concave grooves by a shaping process, a large-area transfer film can be mass-produced efficiently, and the mass productivity can be further improved.

図6は、直線偏光板7との一体化工程の説明に供する図である。一体化工程は、それぞれロールに巻き取った長尺フィルム形態である直線偏光板巻取体35、転写フィルム巻取体36により直線偏光板7、転写フィルム9が提供される。一体化工程は、転写フィルム巻取体36から転写フィルム9を引き出して搬送しながら、図示しない塗工装置により紫外線硬化性樹脂等の接着剤を塗工する。またさらに直線偏光板巻取体35から直線偏光板7を引き出して転写フィルム9と積層した後、矢印により示すように紫外線を照射して直線偏光板7と転写フィルム9とを一体化し、その後、支持体基材15を剥離してシートカットにより所望の大きさに切断する。なお、支持体基材15を剥離するタイミングは実際の組立工程において任意に設計できる。また接着剤としては熱硬化タイプ、2液硬化タイプなども適用でき、あるいは粘着材を用いることもできる。   FIG. 6 is a diagram for explaining an integration process with the linearly polarizing plate 7. In the integration step, the linearly polarizing plate 7 and the transfer film 9 are provided by the linearly polarizing plate winding body 35 and the transfer film winding body 36 which are each in the form of a long film wound around a roll. In the integration step, an adhesive such as an ultraviolet curable resin is applied by a coating apparatus (not shown) while the transfer film 9 is pulled out from the transfer film winding body 36 and conveyed. Further, after the linearly polarizing plate 7 is pulled out from the linearly polarizing plate winding body 35 and laminated with the transfer film 9, ultraviolet rays are irradiated as shown by arrows to integrate the linearly polarizing plate 7 and the transfer film 9, and then The support substrate 15 is peeled off and cut into a desired size by sheet cutting. In addition, the timing which peels the support body base material 15 can be arbitrarily designed in an actual assembly process. As the adhesive, a thermosetting type, a two-component curing type, or the like can be applied, or an adhesive material can be used.

このようにして一体化するにつき、直線偏光板7は、シート・ポラライザー型であり、ポリビニルアルコールにヨウ素等を含浸させた後、延伸して偏光子として機能する光学的機能が作製されることにより、このような長尺フィルム形態においては、矢印A1により示すように、長尺方向である搬送方向と直交する幅方向が透過軸方向となるように作製される。   In this way, the linear polarizing plate 7 is a sheet polarizer type, and after impregnating polyvinyl alcohol with iodine or the like, it is stretched to produce an optical function that functions as a polarizer. In such a long film form, as shown by the arrow A1, the width direction perpendicular to the transport direction, which is the long direction, is made to be the transmission axis direction.

これに対してワイヤーグリッド型偏光子に係る転写フィルム9では、金属線状部11の延長方向に対して直交する方向が透過軸方向となり、これより賦型樹脂層に作製する凹状溝に応じて、さらにはこの凹状溝の作製に供する賦型用金型に応じて、自由に透過軸方向を設定することができる。しかしてこの実施形態では、このように長尺フィルム形態により搬送しながら直線偏光板7と一体化することにより、直線偏光板7の透過軸方向に、矢印A2により示すように偏光子層10の透過方向が一致するように、支持体基材15の長尺方向に延長するように金属線状部11が作製される。これによりこの製造工程は、効率良く直線偏光板7に偏光子層10を設け、生産性を向上することができる。   On the other hand, in the transfer film 9 according to the wire grid type polarizer, the direction orthogonal to the extending direction of the metal linear portion 11 becomes the transmission axis direction, and according to the concave groove to be formed in the shaping resin layer from this. Furthermore, the direction of the transmission axis can be freely set according to the molding die used for producing the concave groove. In this embodiment, however, the polarizer layer 10 is integrated with the linearly polarizing plate 7 while being conveyed in the form of a long film as described above in the transmission axis direction of the linearly polarizing plate 7 as indicated by an arrow A2. The metal linear part 11 is produced so that it may extend in the elongate direction of the support base material 15 so that a permeation | transmission direction may correspond. Thereby, this manufacturing process can provide the polarizer layer 10 in the linearly polarizing plate 7 efficiently, and can improve productivity.

なおこのように直線偏光板7に転写層4を一体化した場合、この転写層4が直線偏光板7の光学機能層の保護層として機能することになる。これにより直線偏光板7の光学機能層に直接転写層4を積層するようにして、この偏光子層10側の直線偏光板基材を省略するようにしてもよい。このようにすれば、一段と全体の厚みを薄くすることができる。   When the transfer layer 4 is integrated with the linearly polarizing plate 7 as described above, the transfer layer 4 functions as a protective layer for the optical functional layer of the linearly polarizing plate 7. Thus, the transfer layer 4 may be directly laminated on the optical functional layer of the linear polarizing plate 7 so that the linear polarizing plate base on the polarizer layer 10 side may be omitted. In this way, the overall thickness can be further reduced.

〔ロール版〕
図7は、ロール版の説明に供する図である。ロール版30は、周側面に微細凹凸形状が作製された賦型用金型であり、凹状溝21に対応する凸条による微細凹凸形状が周側面に形成されている。この実施形態において、この凸条は、円周方向に延長するように形成され、これにより賦型処理して支持体基材15の長手方向に延長するように凹状溝21が作製される。
[Roll version]
FIG. 7 is a diagram for explaining the roll plate. The roll plate 30 is a mold for molding having a fine uneven shape on the peripheral side surface, and a fine uneven shape by a ridge corresponding to the concave groove 21 is formed on the peripheral side surface. In this embodiment, the ridges are formed so as to extend in the circumferential direction, whereby the concave groove 21 is formed so as to extend in the longitudinal direction of the support base material 15 by shaping.

ロール版30は、切削加工が容易な金属材料による円筒形状又は円柱形状により母材31が形成され、この実施形態では、銅のパイプ材が母材31に適用される。この製造工程は、平滑化工程において、バイトを使用した母材31の周側面の切削処理により母材31の周側面を平滑化した後、電解溶出作用と、砥粒による擦過作用の複合による電解複合研磨法により母材31の周側面を超鏡面化する。   In the roll plate 30, a base material 31 is formed in a cylindrical shape or a columnar shape made of a metal material that is easy to cut. In this embodiment, a copper pipe material is applied to the base material 31. In this smoothing process, after the peripheral side surface of the base material 31 is smoothed by cutting processing of the peripheral surface of the base material 31 using a cutting tool in the smoothing step, electrolysis is performed by a combination of an electrolytic elution action and a rubbing action by abrasive grains. The peripheral side surface of the base material 31 is made into a super mirror surface by a composite polishing method.

続いてこの製造工程は、切削工程において、母材31を切削装置に装着した後、バイト32の先端を母材31の周側面に押し当て、この状態で矢印Bにより示すように母材31を回転させながら、矢印Cにより示すようにバイト32を母材31の管軸に沿った方向に移動させ、これにより母材31の周側面をらせん状に切削加工する。これによりこの製造工程は、円周方向に延長する断面矩形形状による、凹状溝21に対応する凸条を母材31の周側面に作製する。なおバイト32は、同時並列的に複数の凸条を作製可能に、先端が櫛歯状に形成されており、これによりこの工程では、ロール版の作製に要する時間を短縮する。なお、本実施形態のようなシームレス(つなぎ目無し)のロール版は、フォトリソグラフィ等の手法でも作成することが可能ではあるものの、広幅化にはあまり適さない欠点がある。これに対してこの実施形態のロール版では簡易に広幅化することができる。   Subsequently, in this cutting process, after the base material 31 is mounted on the cutting device in the cutting process, the tip of the cutting tool 32 is pressed against the peripheral side surface of the base material 31, and in this state, the base material 31 is moved as shown by an arrow B. While rotating, the cutting tool 32 is moved in the direction along the tube axis of the base material 31 as indicated by the arrow C, and the peripheral side surface of the base material 31 is cut into a spiral shape. Thereby, this manufacturing process produces the protruding item | line corresponding to the concave groove | channel 21 by the cross-sectional rectangular shape extended in the circumferential direction on the surrounding side surface of the base material 31. FIG. Note that the tip of the cutting tool 32 is formed in a comb-like shape so that a plurality of protrusions can be manufactured simultaneously and in parallel, thereby reducing the time required for manufacturing the roll plate in this step. Note that a seamless (seamless) roll plate as in this embodiment can be produced by a technique such as photolithography, but has a drawback that it is not suitable for widening. In contrast, the roll plate of this embodiment can be easily widened.

なお凸条の延長方向にあっては、必要に応じて回転軸の延長方向としてもよく、回転軸方向に対して斜めに傾くようにしてもよい。   In the extension direction of the ridges, the extension direction of the rotation shaft may be used as necessary, or may be inclined obliquely with respect to the rotation axis direction.

この実施形態の構成によれば、液晶セルの入射面側に配置して全体形状を薄型化し、充分な機械的強度を確保することができる。   According to the structure of this embodiment, it can arrange | position to the entrance plane side of a liquid crystal cell, can reduce the whole shape thinly, and can ensure sufficient mechanical strength.

〔第2実施形態〕
図8は、第2実施形態に係る画像表示装置を示す断面図である。この画像表示装置41は、転写層4、液晶表示パネル2に代えて、液晶表示パネル42が配置される点を除いて、第1実施形態の画像表示装置1と同一に構成される。液晶表示パネル42は、透明電極を形成したガラス基板5A、5Bにより液晶材料による液晶層5Cを挟持して液晶セルが形成され、このガラス基板5A、5Bに、直線偏光板としての機能を担う光学的機能層を備えた転写層43、44がそれぞれ転写法により配置される。なお転写層43、44の一方を直線偏光板により置き換えるようにしてもよい。またバックライト3と転写層44との間に、第1実施形態について上述した転写層4を設けるようにしてもよく、従来の液晶表示装置に使用される反射型直線偏光板を設けるようにしてもよい。
[Second Embodiment]
FIG. 8 is a cross-sectional view showing an image display apparatus according to the second embodiment. The image display device 41 is configured in the same manner as the image display device 1 of the first embodiment except that a liquid crystal display panel 42 is disposed instead of the transfer layer 4 and the liquid crystal display panel 2. In the liquid crystal display panel 42, a liquid crystal cell is formed by sandwiching a liquid crystal layer 5C made of a liquid crystal material between glass substrates 5A and 5B on which transparent electrodes are formed, and the glass substrate 5A and 5B has an optical function serving as a linear polarizing plate. Transfer layers 43 and 44 each having a functional layer are disposed by a transfer method. One of the transfer layers 43 and 44 may be replaced with a linear polarizing plate. Further, the transfer layer 4 described in the first embodiment may be provided between the backlight 3 and the transfer layer 44, and a reflective linear polarizing plate used in a conventional liquid crystal display device may be provided. Also good.

図9(A)及び(B)は、転写層43、44の転写に供する転写フィルム52、51をそれぞれ示す図である。転写フィルム51は、金属線状部11に係る凹状溝の底面側と逆面側に、他の部位に比して反射率の低い低反射層11Aが作製され、これにより低反射層11A、中心材層11Bの2層構造により金属線状部11が作製される。また転写フィルム52は、金属線状部11に係る凹状溝の底面側と、この底面側とは逆側面とに、他の部位に比して反射率の低い低反射層11Aが作製され、これにより低反射層11A、中心材層11B、低反射層11Aの3層構造により金属線状部11が作製される。この金属線状部11に関する構成が異なる点を除いて、転写フィルム51、52は、転写フィルム9と同一に構成される。なお図9(D)は、図3(D)との対比により透明樹脂によるオーバーコート層12Aを設けた例である。   FIGS. 9A and 9B are views showing transfer films 52 and 51 used for transferring the transfer layers 43 and 44, respectively. In the transfer film 51, a low reflection layer 11 </ b> A having a lower reflectance than other portions is produced on the opposite side to the bottom surface side of the concave groove related to the metal linear portion 11, whereby the low reflection layer 11 </ b> A, the center The metal linear part 11 is produced by the two-layer structure of the material layer 11B. In addition, the transfer film 52 is formed with a low reflection layer 11A having a lower reflectance than other portions on the bottom surface side of the concave groove related to the metal linear portion 11 and the side surface opposite to the bottom surface side. Thus, the metal linear portion 11 is formed by a three-layer structure of the low reflection layer 11A, the central material layer 11B, and the low reflection layer 11A. The transfer films 51 and 52 are configured the same as the transfer film 9 except that the configuration related to the metal linear portion 11 is different. FIG. 9D shows an example in which an overcoat layer 12A made of a transparent resin is provided in comparison with FIG. 3D.

すなわち転写層4を直線偏光板に代えて液晶セルの出射面に配置する場合、何ら画像表示していない状態で、外来光が金属線状部11により反射され、コントラスト、鮮明度が低下することが判った。またこの場合、液晶セルの入射面側の直線偏光板を透過してきたバックライトからの光が転写層4で反射することによっても、コントラスト、鮮明度が低下することが判った。   That is, when the transfer layer 4 is arranged on the exit surface of the liquid crystal cell instead of the linear polarizing plate, extraneous light is reflected by the metal linear portion 11 in a state where no image is displayed, and the contrast and sharpness are lowered. I understood. Further, in this case, it was found that the contrast and the sharpness are also lowered by the light from the backlight that has been transmitted through the linear polarizing plate on the incident surface side of the liquid crystal cell being reflected by the transfer layer 4.

また同様に、転写層4を直線偏光板に代えて液晶セルの入射面に配置する場合、液晶セルを透過した外来光がこの転写層4に設けられた金属線状部11により反射され、この場合も、コントラスト、鮮明度が低下することが判った。   Similarly, when the transfer layer 4 is disposed on the incident surface of the liquid crystal cell in place of the linear polarizing plate, extraneous light transmitted through the liquid crystal cell is reflected by the metal linear portion 11 provided in the transfer layer 4, and Even in this case, it was found that the contrast and the sharpness were lowered.

しかしながらこの実施形態によれば、液晶セルの出射面に配置する転写層43にあっては、低反射層11Aが設けられていることにより、このような偏光子層からの反射を低減し、コントラスト、鮮明度の低下を充分に低減することができる。また液晶セルの入射面に配置する転写層44にあっては、同様に低反射層11Aが設けられていることにより、このような反射防止を低減し、コントラスト、鮮明度の低下を防止することができる。   However, according to this embodiment, in the transfer layer 43 disposed on the exit surface of the liquid crystal cell, the reflection from the polarizer layer is reduced by providing the low reflection layer 11A, and the contrast is increased. Therefore, it is possible to sufficiently reduce the decrease in sharpness. Further, in the transfer layer 44 arranged on the incident surface of the liquid crystal cell, the low reflection layer 11A is similarly provided, so that such antireflection is reduced, and deterioration of contrast and sharpness is prevented. Can do.

ここでこの低反射層11Aは、目視により見て取られる色調が黒色であることが望ましく、これにより特開2012−208145号公報等に開示の黒化処理を適用して黒化層であることが望ましい。なお凹状溝の底面に低反射層を作製する場合、黒化層の厚みにより金属層を作製して黒化処理した後、中心材層11Bに係る金属材料を堆積することにより作製することができる。また凹状溝の底面側とは逆側面に作製する場合、中心材層11Bに係る金属材料層を作製した後、黒化層の厚みにより金属層を作製して黒化処理することにより作製することができる。なおこれらの場合に、黒化処理に供する金属材料を中間材層に適用するようにしてもよい。なお低反射層11Aには、クロム等の金属材料を適用する場合、黒化Ni、黒化Cu、黒化Al、黒化Zn等を適用する場合、低反射のカーボンによるナノ粒子を適用する場合等、種々の構成を広く適用することができる。   Here, it is desirable that the low reflection layer 11 </ b> A has a black color tone as seen by visual observation, and is thus a blackened layer by applying the blackening process disclosed in JP 2012-208145 A or the like. Is desirable. In the case where the low reflection layer is formed on the bottom surface of the concave groove, the metal layer can be formed according to the thickness of the blackened layer and blackened, and then deposited by depositing the metal material related to the central material layer 11B. . When the concave groove is manufactured on the side opposite to the bottom surface side, the metal material layer related to the central material layer 11B is manufactured, and then the metal layer is manufactured according to the thickness of the blackened layer and then blackened. Can do. In these cases, a metal material used for the blackening treatment may be applied to the intermediate material layer. In the case of applying a metal material such as chromium to the low reflection layer 11A, in the case of applying blackened Ni, blackened Cu, blackened Al, blackened Zn, or the like, or in the case of applying nanoparticles of low reflective carbon. Various configurations can be widely applied.

この実施形態によれば、液晶セルに係る入射面側、出射面側の直線偏光板に代えて適用して、全体の厚みを薄くし、充分な機械的強度を確保することができる。   According to this embodiment, the present invention can be applied in place of the linearly polarizing plates on the incident surface side and the output surface side of the liquid crystal cell, thereby reducing the overall thickness and ensuring sufficient mechanical strength.

〔第3実施形態〕、
図10は、第3実施形態に係る画像表示装置を示す断面図である。この画像表示装置61は、いわゆるインセル型の液晶表示パネルによる画像表示装置であり、透明電極を形成したガラス基板5A、5Bにより液晶材料による液晶層5Cを挟持して液晶セル65が形成され、この液晶セル5のバックライト3側に直線偏光板7が配置される。なおこの直線偏光板7にあっては、偏光子層10を備えた転写層4、又は51を適用するようにしてもよい。液晶セル65は、出射面側のガラス基板5Aの内側面に、カラーフィルタ62、転写層63、位相差板64が積層されて配置される。なお転写層63は、カラーフィルタ62とガラス基板5Aとの間に配置するようにしてもよい。
[Third Embodiment]
FIG. 10 is a cross-sectional view showing an image display apparatus according to the third embodiment. This image display device 61 is an image display device using a so-called in-cell type liquid crystal display panel, and a liquid crystal cell 65 is formed by sandwiching a liquid crystal layer 5C made of a liquid crystal material between glass substrates 5A and 5B on which transparent electrodes are formed. A linearly polarizing plate 7 is disposed on the backlight 3 side of the liquid crystal cell 5. In this linearly polarizing plate 7, the transfer layer 4 or 51 provided with the polarizer layer 10 may be applied. The liquid crystal cell 65 is disposed by laminating a color filter 62, a transfer layer 63, and a retardation plate 64 on the inner surface of the glass substrate 5A on the emission surface side. The transfer layer 63 may be disposed between the color filter 62 and the glass substrate 5A.

ここで転写層63は、金属線状部11に係る凹状溝の底面側、逆面側の双方に低反射層11Aが作製され、転写法によりカラーフィルタ62又は位相差板64に積層されて配置され、又はカラーフィルタ62とガラス基板5Aの積層体に積層されて配置される。転写層63に係る転写フィルムは、この低反射層11Aに関する構成が異なる点を除いて、上述の実施形態と同一に構成される。   Here, the transfer layer 63 is formed by forming the low reflection layer 11A on both the bottom surface side and the reverse surface side of the concave groove related to the metal linear portion 11, and is laminated on the color filter 62 or the phase difference plate 64 by the transfer method. Alternatively, the color filter 62 and the glass substrate 5A are stacked and arranged. The transfer film according to the transfer layer 63 is configured in the same manner as the above-described embodiment except that the configuration regarding the low reflection layer 11A is different.

この実施形態のようにインセル型偏光子を備えた画像表示装置に適用するようにしても、全体を薄型化して十分な機械的強度を確保することができる。   Even if it is applied to an image display device provided with an in-cell type polarizer as in this embodiment, the entire structure can be made thin and sufficient mechanical strength can be ensured.

〔第4実施形態〕
図11は、第4実施形態に係る画像表示装置を示す断面図である。この画像表示装置71は、画像表示パネルである液晶表示パネル2のパネル面(視聴者側面)に反射防止フィルム72が配置される。ここで反射防止フィルム72は、円偏光板の機能により反射防止を図る反射防止フィルムであり、1/4波長板74に、転写層73が積層されて構成される。
[Fourth Embodiment]
FIG. 11 is a cross-sectional view showing an image display apparatus according to the fourth embodiment. In this image display device 71, an antireflection film 72 is disposed on the panel surface (viewer side surface) of the liquid crystal display panel 2 which is an image display panel. Here, the antireflection film 72 is an antireflection film that prevents reflection by the function of a circularly polarizing plate, and is configured by laminating a transfer layer 73 on a quarter-wave plate 74.

ここで転写層73は、第2実施形態について上述した転写フィルム52より転写層44を転写して作製される。   Here, the transfer layer 73 is produced by transferring the transfer layer 44 from the transfer film 52 described above for the second embodiment.

この実施形態のように、円偏光板の機能により反射防止を図る反射防止フィルムに適用して、全体の厚みを薄くし、充分な機械的強度を確保することができる。   As in this embodiment, the present invention can be applied to an antireflection film that prevents reflection by the function of a circularly polarizing plate, thereby reducing the overall thickness and ensuring sufficient mechanical strength.

〔第5実施形態〕
図12は、第5実施形態に係るロール版の製造方法の説明に供する図である。この実施形態では、このロール版の製造方法が異なる点を除いて、上述の実施形態と同一に構成される。
[Fifth Embodiment]
FIG. 12 is a diagram for explaining a roll plate manufacturing method according to the fifth embodiment. This embodiment is configured in the same manner as the above-described embodiment except that the roll plate manufacturing method is different.

この実施形態の製造工程は、平板の賦型版を使用した賦型処理により、凹状溝21による凹凸形状を形成してなる平版による複製版81を作製する。この製造工程は、この複製版81を定盤82に密接して、又は一定の間隔により隔てて、複数配置する(図12(A))。またその後、ニッケル等による電鋳処理により、表面に所望の厚みにより金属層83を作製し(図12(B))、その後、この金属層83を剥離する(図12(C))。   In the manufacturing process of this embodiment, a replica plate 81 using a lithographic plate formed by forming a concavo-convex shape by the concave groove 21 is formed by a forming process using a flat plate forming plate. In this manufacturing process, a plurality of the duplicate plates 81 are arranged in close contact with the surface plate 82 or separated by a predetermined interval (FIG. 12A). Thereafter, a metal layer 83 is formed on the surface with a desired thickness by electroforming with nickel or the like (FIG. 12B), and then the metal layer 83 is peeled off (FIG. 12C).

これによりこの工程は、1つの原版を使用して複数の複製版を作製し、この複数の複製版のタイリングにより、表面に微細凹凸形状を作製してなる大面積によるシート状版(83)を作製する。   Thus, in this step, a sheet-shaped plate (83) having a large area in which a plurality of duplicate plates are produced using one original plate, and fine irregularities are produced on the surface by tiling of the plurality of duplicate plates. Is made.

この製造工程は、全体が筒形状となるようにこのシート状版(83)の両端部を接続し、これによりスリーブ版を形成する。この実施形態は、円筒形状又は円柱形状による心材をこのスリーブ版に差し込んでこの心材の周側面にスリーブ版を配置し、これにより賦型処理に係る微細凹凸形状を周側面に作製してなるロール版を作製する。   In this manufacturing process, both end portions of the sheet-like plate (83) are connected so as to form a cylindrical shape as a whole, thereby forming a sleeve plate. This embodiment is a roll formed by inserting a core material in a cylindrical shape or a columnar shape into this sleeve plate and arranging the sleeve plate on the peripheral side surface of this core material, thereby producing a fine uneven shape related to the shaping process on the peripheral side surface. Make a plate.

この実施形態のように1つの原版を使用して作製した複製版のタイリングによりスリーブ版を作製してロール版を作製するようにしても、上述の実施形態と同様の効果を得ることができる。またこの場合、タイリングに供する賦型版を傾けて配置すること等により、ロール版の周側面に形成される凸条の傾きを種々に設定することができ、簡易に所望の傾きによるロール版を作製することができる。   Even if the sleeve plate is produced by tiling the duplicate plate produced using one original plate as in this embodiment to produce the roll plate, the same effect as in the above embodiment can be obtained. . In this case, the inclination of the ridge formed on the peripheral side surface of the roll plate can be variously set by inclining and arranging the shaping plate used for tiling, and the roll plate with a desired inclination can be easily set. Can be produced.

なおこれに代えて、簡易的に、シート状版(83)から更に樹脂で再賦型した樹脂シートを心材に巻きつけて固定し、ロール版としてもよく、あるいは、電鋳処理により金属層を作製する代わりに(図12(B),(C))、直接樹脂で再賦型したシートをそのままシート状版(83)として心材に巻きつけて固定し、ロール版としてもよい。   Instead of this, simply, a resin sheet reshaped with a resin from the sheet plate (83) may be wound and fixed around a core material to form a roll plate, or the metal layer may be formed by electroforming. Instead of manufacturing (FIGS. 12B and 12C), a sheet re-molded directly with a resin may be wound and fixed as it is as a sheet-like plate (83) to form a roll plate.

〔他の実施形態〕
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態を種々に組み合わせ、さらには上述の実施形態の構成を種々に変更することができる。
[Other Embodiments]
The specific configuration suitable for the implementation of the present invention has been described in detail above. However, the present invention is not limited to the scope of the present invention, and various combinations of the above-described embodiments, and further the configuration of the above-described embodiments. Can be variously changed.

すなわち上述の実施形態では、画像表示装置に適用して透過を制限する波長帯域が可視光域(波長380nm〜800nm)である場合について述べたが、本発明はこれに限らず、例えば紫外線や赤外線の透過を制限する場合等にも広く適用することができる。なおこのように可視光域以外の電磁波について透過を制限する場合には、必ずしも可視光において透明固体誘電体部の見た目が透明である必要は無く、可視光において不透明であってもよい。   That is, in the above-described embodiment, the case where the wavelength band that is applied to the image display device and restricts transmission is in the visible light range (wavelength of 380 nm to 800 nm) has been described. The present invention can be widely applied to the case where the transmission of light is limited. When the transmission of electromagnetic waves outside the visible light region is limited in this way, the appearance of the transparent solid dielectric portion is not necessarily transparent in visible light, and may be opaque in visible light.

また上述の実施形態では、直線偏光板、1/4波長板に転写層を転写して偏光子を積層する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、例えば光学補償のための位相差フィルム等、種々の光学的機能を備える光学機能層に転写することができる。   Further, in the above-described embodiment, the case where the transfer layer is transferred to the linearly polarizing plate and the quarter-wave plate and the polarizer is laminated is described. However, the present invention is not limited to this, for example, a phase difference for optical compensation. It can be transferred to an optical functional layer having various optical functions such as a film.

また上述の第4実施形態では、液晶表示パネルによる画像表示パネルを備えた画像表示装置に本発明を適用する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、有機ELによる画像表示パネルを備えた画像表示装置等にも広く適用することができる。   In the above-described fourth embodiment, the case where the present invention is applied to an image display device including an image display panel using a liquid crystal display panel has been described. However, the present invention is not limited thereto, and an image display panel using an organic EL is provided. The present invention can be widely applied to image display devices.

また上述の実施形態では、本発明を画像表示装置に適用する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、例えば露光装置、プロジェクタ、照明、サングラス、調光シート等、種々の光学装置や調光装置に広く適用することができる。   In the above-described embodiment, the case where the present invention is applied to an image display device has been described. However, the present invention is not limited thereto, and various optical devices such as an exposure device, a projector, illumination, sunglasses, a light control sheet, and the like can be used. It can be widely applied to a dimmer.

また上述の実施形態ではロール版による賦型用金型を使用した長尺フィルム材の賦型処理により偏光子を作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、平板による金型を使用した枚葉の処理により作製する場合にも広く適用することができる。   Moreover, although the above-mentioned embodiment described the case where a polarizer was produced by the shaping process of the long film material using the shaping mold by the roll plate, the present invention is not limited to this, and a mold by a flat plate is used. The present invention can be widely applied to the case of manufacturing by processing the used single wafer.

1、41、61、71 画像表示装置
2、42 液晶表示パネル
3 バックライト
4、43、44、63、73 転写層
5、64 液晶セル
5A、5B ガラス基板
5C 液晶層
6、7 直線偏光板
9、51、52、 転写フィルム
10 偏光子層
11 金属線状部
12 透明固体誘電体部
13 偏光子層
15 支持体基材
21 凹状溝
22 金属層
30 ロール版
31 母材
32 バイト
35 直線偏光板巻取体
36 転写フィルム巻取体
62 カラーフィルタ
64 位相差板
72 反射防止フィルム
74 1/4波長板
81 複製版
82 定盤
83 金属層
1, 41, 61, 71 Image display device 2, 42 Liquid crystal display panel 3 Backlight 4, 43, 44, 63, 73 Transfer layer 5, 64 Liquid crystal cell 5A, 5B Glass substrate 5C Liquid crystal layer 6, 7 Linearly polarizing plate 9 , 51, 52, Transfer film 10 Polarizer layer 11 Metal linear portion 12 Transparent solid dielectric portion 13 Polarizer layer 15 Support base material 21 Concave groove 22 Metal layer 30 Roll plate 31 Base material 32 Byte 35 Linear polarizing plate winding Holder 36 Transfer film winding body 62 Color filter 64 Phase difference plate 72 Antireflection film 74 1/4 wavelength plate 81 Replica plate 82 Surface plate 83 Metal layer

Claims (14)

入射する電磁波の透過を偏光面に応じて制限する偏光子層を転写層に備えた転写フィルムであって、
支持体と該支持体上に剥離可能に積層した転写層とを含んでなり、
前記転写層に、
賦型樹脂材料により透過を制限する波長帯域の最短波長未満のピッチ及び溝幅による凹状溝が、複数作製され、
前記凹状溝に金属材料が配置されて、透過を制限する波長帯域の最短波長未満のピッチ及び線幅による金属線状部が作製された
転写フィルム。
A transfer film provided with a polarizer layer that restricts transmission of incident electromagnetic waves according to the plane of polarization,
Comprising a support and a transfer layer releasably laminated on the support,
In the transfer layer,
A plurality of concave grooves with pitches and groove widths less than the shortest wavelength of the wavelength band that restricts transmission by the shaping resin material are produced,
A transfer film in which a metal material is disposed in the concave groove, and a metal linear portion having a pitch and a line width less than the shortest wavelength in a wavelength band for limiting transmission is produced.
前記転写層は、
厚みが20μm以下0.2μm以上である
請求項1に記載の転写フィルム。
The transfer layer is
The transfer film according to claim 1, wherein the thickness is 20 μm or less and 0.2 μm or more.
前記金属線状部は、
前記凹状溝の底面側及び又は前記底面側とは逆面側に、他の部位に比して反射率の低い低反射層が作製された
請求項1又は請求項2に記載の転写フィルム。
The metal linear part is:
The transfer film according to claim 1, wherein a low reflection layer having a lower reflectance than other portions is formed on a bottom surface side of the concave groove and / or on a surface opposite to the bottom surface side.
長尺フィルム形態による転写フィルムを巻き取った転写フィルムの巻取体において、
支持体基材上に、入射する電磁波の透過を偏光面に応じて制限する偏光子層を備えた転写層を備え、
前記転写層に、
賦型樹脂材料により透過を制限する波長帯域の最短波長未満のピッチ及び溝幅による凹状溝が、前記支持体基材の長手方向に延長するように複数作製され、
前記凹状溝に金属材料が配置されて、透過を制限する波長帯域の最短波長未満のピッチ及び線幅による金属線状部が作製された
転写フィルムの巻取体。
In the winding body of the transfer film in which the transfer film in the form of a long film is wound,
On the support substrate, a transfer layer including a polarizer layer that restricts transmission of incident electromagnetic waves according to the polarization plane,
In the transfer layer,
A plurality of concave grooves with a pitch and a groove width less than the shortest wavelength of the wavelength band for limiting transmission by the shaping resin material are produced so as to extend in the longitudinal direction of the support substrate,
A winding body of a transfer film in which a metal material is disposed in the concave groove, and a metal linear portion having a pitch and a line width less than the shortest wavelength in a wavelength band that restricts transmission is produced.
前記転写層は、
厚みが20μm以下0.2μm以上である
請求項4に記載の転写フィルムの巻取体。
The transfer layer is
The winding body of the transfer film according to claim 4, wherein the thickness is 20 μm or less and 0.2 μm or more.
前記金属線状部は、
前記凹状溝の底面側及び又は前記底面側とは逆面側に、他の部位に比して反射率の低い低反射層が作製された
請求項4又は請求項5に記載の転写フィルムの巻取体。
The metal linear part is:
The winding of the transfer film according to claim 4 or 5, wherein a low-reflective layer having a lower reflectance than other portions is formed on a bottom surface side of the concave groove and / or on a surface opposite to the bottom surface side. Toru.
所望の光学的機能を担う光学機能層を備え、
前記光学機能層に、請求項1、請求項2、請求項3の何れかに記載の転写フィルムの転写層が積層された
光学フィルム。
Provided with an optical functional layer responsible for a desired optical function,
An optical film in which the transfer layer of the transfer film according to claim 1, 2, or 3 is laminated on the optical functional layer.
長尺フィルム形態による光学フィルムを巻き取った光学フィルムの巻取体において、
所望の光学的機能を担う光学機能層と、請求項4、請求項5、請求項6の何れかに記載の転写フィルムの転写層が積層された
光学フィルムの巻取体。
In the wound body of the optical film in which the optical film in the form of a long film is wound,
An optical film winding body in which an optical functional layer having a desired optical function and the transfer layer of the transfer film according to any one of claims 4, 5, and 6 are laminated.
請求項1、請求項2、請求項3の何れかに記載の転写フィルムの転写層が、画像表示パネルに配置された
画像表示装置。
An image display device in which the transfer layer of the transfer film according to claim 1, 2 or 3 is disposed on an image display panel.
請求項7に記載の光学フィルムが、画像表示パネルに配置された
画像表示装置。
An image display device in which the optical film according to claim 7 is disposed on an image display panel.
支持体基材に転写層を作製する転写層作製工程を備え、
前記転写層作製工程は、
前記支持体基材に賦型樹脂層を作製して賦型処理し、前記賦型樹脂層の表面に、透過を制限する波長帯域の最短波長未満のピッチ及び溝幅による凹状溝を複数作製する凹凸形状作製工程と、
前記凹状溝に金属材料を配置して、透過を制限する波長帯域の最短波長未満のピッチ及び線幅による金属線状部を作製する金属線状部作製工程とを備える
転写フィルムの製造方法。
Provided with a transfer layer preparation step for preparing a transfer layer on a support substrate,
The transfer layer preparation step includes
A moldable resin layer is prepared on the support substrate and subjected to a mold treatment, and a plurality of concave grooves are formed on the surface of the moldable resin layer with pitches and groove widths less than the shortest wavelength of the wavelength band for limiting transmission. Concave and convex shape manufacturing process,
A method for producing a transfer film, comprising: arranging a metal material in the concave groove to produce a metal linear part with a pitch and a line width less than the shortest wavelength of a wavelength band for limiting transmission.
前記支持体基材が、長尺フィルム形態であり、
前記凹凸形状作製工程は、
前記凹状溝を、前記支持体基材の長手方向に延長する向きにより作製する
請求項11に記載の転写フィルムの製造方法。
The support substrate is in the form of a long film,
The uneven shape manufacturing step includes
The method for producing a transfer film according to claim 11, wherein the concave groove is formed in a direction extending in a longitudinal direction of the support base material.
支持体基材に転写層を作製する転写層作製工程と、
前記転写層を他の部材に転写する転写工程とを備え、
前記転写層作製工程は、
前記支持体基材に賦型樹脂層を作製して賦型処理し、前記賦型樹脂層の表面に、透過を制限する波長帯域の最短波長未満のピッチ及び溝幅による凹状溝を複数作製する凹凸形状作製工程と、
前記凹状溝に金属材料を配置して、透過を制限する波長帯域の最短波長未満のピッチ及び線幅による金属線状部を作製する金属線状部作製工程とを備える
光学フィルムの製造方法。
A transfer layer preparation step of preparing a transfer layer on a support substrate,
A transfer step of transferring the transfer layer to another member,
The transfer layer preparation step includes
A moldable resin layer is prepared on the support substrate and subjected to a mold treatment, and a plurality of concave grooves are formed on the surface of the moldable resin layer with pitches and groove widths less than the shortest wavelength of the wavelength band for limiting transmission. Concave and convex shape manufacturing process,
A method for producing an optical film, comprising: arranging a metal material in the concave groove to produce a metal linear part having a pitch and a line width less than the shortest wavelength in a wavelength band for limiting transmission.
前記支持体基材が、長尺フィルム形態であり、
前記凹凸形状作製工程は、
前記凹状溝を、前記支持体基材の長手方向に延長する向きにより作製する
請求項13に記載の光学フィルムの製造方法。
The support substrate is in the form of a long film,
The uneven shape manufacturing step includes
The method for producing an optical film according to claim 13, wherein the concave groove is formed in a direction extending in a longitudinal direction of the support base material.
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