JP6708030B2 - Base material with coating layer for display device, color filter base material with coating layer for display device, laminate and method for producing base material with coating layer for display device - Google Patents
Base material with coating layer for display device, color filter base material with coating layer for display device, laminate and method for producing base material with coating layer for display device Download PDFInfo
- Publication number
- JP6708030B2 JP6708030B2 JP2016137820A JP2016137820A JP6708030B2 JP 6708030 B2 JP6708030 B2 JP 6708030B2 JP 2016137820 A JP2016137820 A JP 2016137820A JP 2016137820 A JP2016137820 A JP 2016137820A JP 6708030 B2 JP6708030 B2 JP 6708030B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- coating layer
- display device
- functional layer
- base material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Description
本発明は、被覆層を有する表示装置用被覆層付き基材、表示装置用被覆層付きカラーフィルタ基材、積層体、および表示装置用被覆層付き基材の製造方法に関する。 The present invention relates to a substrate with a coating layer for a display device having a coating layer, a color filter substrate with a coating layer for a display device, a laminate, and a method for producing a substrate with a coating layer for a display device.
近年、パーソナルコンピューター、特に携帯用のパーソナルコンピューターの発達に伴い、表示装置の需要が増している。また、最近では、家庭用の液晶テレビの普及率も高まっており、スマートフォン、タブレット端末も広く普及しつつあることから、益々表示装置の市場は拡大する状況にある。 With the recent development of personal computers, especially portable personal computers, the demand for display devices has increased. In addition, recently, the popularity of home-use liquid crystal televisions has been increasing, and smartphones and tablet terminals are also becoming widespread. Therefore, the market of display devices is expanding more and more.
このような表示装置を製造する方法としては、例えば、基材から順に各構成部材を形成して表示装置を製造する方法や、基材上に形成された構成部材上に、転写法を用いて他の構成部材を積層して表示装置を製造する方法等があるが、高い生産性を有するといった観点から、転写法を用いた方法により表示装置を製造する要望が高まっている。 As a method for manufacturing such a display device, for example, a method of forming each constituent member in order from a base material to manufacture a display device or a transfer method on a constituent member formed on a base material is used. There is a method of manufacturing a display device by stacking other constituent members, but from the viewpoint of high productivity, there is an increasing demand for manufacturing a display device by a method using a transfer method.
転写法を用いた表示装置の製造方法では、例えば、図11(a)に示すように、基材1a上に形成された第1機能層2aに、粘着層6を介して、転写基材1b上に形成された第2機能層2bを貼り合せ、その後、図11(b)に示すように、転写基材1bを剥離することで表示装置100が得られる。ところで、このような表示装置の製造方法において用いられる転写基材には、転写基材としてガラス基材を用いても良く、あるいはフィルム基材を用いても良い。例えば、特許文献1、2では、転写基材としてフィルム基材を用いた転写法について開示されている。 In the method for manufacturing a display device using the transfer method, for example, as shown in FIG. 11A, the transfer base material 1b is formed on the first functional layer 2a formed on the base material 1a via the adhesive layer 6 and the transfer base material 1b. The display device 100 is obtained by pasting the second functional layer 2b formed above and then peeling off the transfer substrate 1b as shown in FIG. 11(b). By the way, a glass substrate or a film substrate may be used as the transfer substrate for the transfer substrate used in the method for manufacturing such a display device. For example, Patent Documents 1 and 2 disclose a transfer method using a film base material as a transfer base material.
表示装置を製造するに際し、粘着層を第1機能層側に配置して、その後、粘着層および第2機能層を貼り合せる場合、第1機能層の粘着層側の面が凹凸形状を有する場合には、例えば、図12(a)に示すように、粘着層6の第1機能層2aとは反対側の最表面にまで、第1機能層2aの凹凸形状が影響してしまう。そのため、図12(b)に示すように、粘着層6を介して第1機能層2aおよび第2機能層2bを貼り合せたときに、粘着層6と第2機能層2bとの接触界面において、非接触領域となる空隙が生じてしまい、表示装置の表示特性が低下してしまうという問題がある。なお、図12(a)、(b)では、第1機能層2aは、赤色着色層21R、緑色着色層21G、青色着色層21Bを含む着色層21、および遮光部22から構成されたカラーフィルタ、ならびにオーバーコート層23を有する。
また、粘着層を第2機能層側に配置して、その後、粘着層および第1機能層を貼り合せる場合には、例えば、図13に示すように、粘着層6と第1機能層2aとの接触界面において、非接触領域となる空隙が生じてしまい、表示装置の表示特性が低下してしまうという問題がある。
When a pressure-sensitive adhesive layer is arranged on the side of the first functional layer and then the pressure-sensitive adhesive layer and the second functional layer are bonded together when manufacturing a display device, and the surface of the first functional layer on the pressure-sensitive adhesive layer side has an uneven shape. For example, as shown in FIG. 12A, the uneven shape of the first functional layer 2a affects the outermost surface of the adhesive layer 6 on the opposite side to the first functional layer 2a. Therefore, as shown in FIG. 12( b ), when the first functional layer 2 a and the second functional layer 2 b are bonded via the adhesive layer 6, at the contact interface between the adhesive layer 6 and the second functional layer 2 b. However, there is a problem that a void serving as a non-contact region is generated and the display characteristics of the display device are deteriorated. In FIGS. 12A and 12B, the first functional layer 2a is a color filter including a red coloring layer 21R, a green coloring layer 21G, a coloring layer 21 including a blue coloring layer 21B, and a light shielding portion 22. , And the overcoat layer 23.
When the adhesive layer is arranged on the second functional layer side and then the adhesive layer and the first functional layer are bonded together, for example, as shown in FIG. 13, the adhesive layer 6 and the first functional layer 2a There is a problem in that a void, which is a non-contact area, is generated at the contact interface, and the display characteristics of the display device are deteriorated.
ところで、第1機能層の凹凸形状には、例えば、図12(a)、(b)や図13に示すように、カラーフィルタにおける着色層と遮光部との段差等がある。
一方、本発明の発明者等は、例えば、第1機能層が、表示装置に用いられる表示装置用部材である場合、第1機能層には、表示装置として用いられる製品領域と、上記製品領域の外周に位置する非製品領域とがあり、これら製品領域と非製品領域との間で、特に大きな段差が生じることに着目した。
By the way, the uneven shape of the first functional layer has, for example, a step between the colored layer and the light-shielding portion in the color filter as shown in FIGS. 12A, 12B and 13.
On the other hand, the inventors of the present invention, for example, when the first functional layer is a member for a display device used in a display device, the first functional layer includes a product region used as a display device and the product region described above. Attention was paid to the fact that there is a non-product region located on the outer periphery of the product and a particularly large step is generated between the product region and the non-product region.
このことについて、図14(a)〜図14(c)を参照しながら説明する。図14(a)は、多面付けされた表示装置の一例を示す概略平面図であり、図14(b)は図14(a)のA−A線断面図であり、図14(c)は図14(a)のB−B線断面図である。例えば、第1機能層2aが加飾部24および保護層25を有する加飾部材である場合、図14(b)の矢印で示すように、加飾部24が形成されることにより、加飾部24の製品領域Y側に段差が生じ、上述したカラーフィルタと同様に、空隙の発生による表示特性の低下が問題となる。また、図14(c)の矢印で示すように、加飾部24が形成されることにより、加飾部24の非製品領域X側に段差が生じ、上述したカラーフィルタと同様に、空隙が発生する。なお、本明細書では、図14(a)〜図14(c)に示す符号Xで示す領域を非製品領域といい、符号Yで示す領域を製品領域という。また、図14(a)〜図14(c)では、図の簡略化のために、その他の機能層については省略する。 This will be described with reference to FIGS. 14(a) to 14(c). FIG. 14A is a schematic plan view showing an example of a multi-faced display device, FIG. 14B is a sectional view taken along the line AA of FIG. 14A, and FIG. It is the BB sectional view taken on the line of FIG. For example, when the first functional layer 2a is a decorative member having the decorative portion 24 and the protective layer 25, the decorative portion 24 is formed as shown by the arrow in FIG. A step is generated on the side of the product region Y of the portion 24, and similarly to the above-described color filter, there is a problem that display characteristics are deteriorated due to the generation of voids. Further, as shown by the arrow in FIG. 14(c), by forming the decorative portion 24, a step is generated on the non-product region X side of the decorative portion 24, and a void is formed as in the color filter described above. Occur. In addition, in this specification, the area|region shown with the code|symbol X shown to FIG. 14(a)-FIG.14(c) is called a non-product area|region, and the area|region shown with the code|symbol Y is called a product area. Further, in FIGS. 14A to 14C, other functional layers are omitted for simplification of the drawings.
また、図15は、多面付けされた表示装置において、図14(a)のB−B線断面図に相当する領域の一例を示す概略断面図である。図15に示すように、通常、表示装置においては、配線等の部材が配置される外周領域に、第1機能層2aとして額縁遮光部22’が配置される。このとき、図15の矢印で示すように、隣接する表示装置の額縁遮光部22’間となる非製品領域X側に段差が生じ、上述したカラーフィルタと同様に、空隙が発生する。なお、ここでは多面付けされた表示装置を例として説明したが、上述した空隙の発生は、多面付けされた表示装置に限られた問題ではなく、製品領域および非製品領域を有する場合に生じ得る問題である。さらに、図15では、図の簡略化のために、その他の機能層については省略する。 Further, FIG. 15 is a schematic cross-sectional view showing an example of a region corresponding to the cross-sectional view taken along the line BB of FIG. As shown in FIG. 15, in a display device, a frame light-shielding portion 22' is usually arranged as a first functional layer 2a in an outer peripheral area where members such as wirings are arranged. At this time, as shown by the arrow in FIG. 15, a step is formed on the non-product region X side between the frame light-shielding portions 22 ′ of the adjacent display devices, and a void is generated as in the color filter described above. It should be noted that although the multi-faceted display device has been described here as an example, the occurrence of the voids described above is not a problem limited to the multi-faceted display device, and may occur when the product region and the non-product region are included. It's a problem. Further, in FIG. 15, other functional layers are omitted for simplification of the drawing.
上述した図14(a)〜図14(c)や図15に示すように、製品領域Yおよび非製品領域Xで段差が生じ、当該段差により空隙が発生した場合には、次のような不具合が生じるおそれがある。すなわち、図11(a)に示すように、基材1a上の第1機能層2aの表面に、粘着層6を介して第2機能層2bを貼り合せる際、減圧吸着法が用いられることがある。減圧吸着法により貼り合せが行われる場合であって、基材1a、1bとしてガラス基材が用いられる場合、第1機能層2aと粘着層6との接触界面、または第2機能層2bと粘着層6との接触界面において非接触領域となる空隙が生じてしまうと、当該空隙に含まれる空気が減圧により弾け、ガラス基材1a、1bが割れてしまう等の不具合が生じるおそれがある。 As shown in FIGS. 14A to 14C and FIG. 15 described above, when a step is generated in the product region Y and the non-product region X and a void is generated due to the step, the following problems are caused. May occur. That is, as shown in FIG. 11A, when the second functional layer 2b is attached to the surface of the first functional layer 2a on the base material 1a via the adhesive layer 6, a vacuum adsorption method may be used. is there. When bonding is performed by a reduced pressure adsorption method and a glass base material is used as the base materials 1a and 1b, the contact interface between the first functional layer 2a and the adhesive layer 6 or the second functional layer 2b and the adhesive surface. If a void that forms a non-contact area is generated at the contact interface with the layer 6, the air contained in the void may bounce off due to the reduced pressure, and the glass substrates 1a and 1b may be broken.
このような問題に対しては、例えば、次のような方法が考えられる。すなわち、第1機能層上に配置される粘着層の厚みを厚くして、第1機能層の製品領域および非製品領域を含む表面の凹凸形状を埋めて平坦にするという方法が考えられる。そこで本発明者等が上記方法を試みたところ、第1機能層の製品領域および非製品領域を含む表面の凹凸形状を埋めて平坦にするためには、粘着層の厚みを、上記凹凸形状の最大段差の約10倍程度必要であり、この場合、表示装置全体としての厚みが厚くなってしまうという問題がある。なお、「凹凸形状の最大段差」とは、凹凸形状において、最も深さのある凹部の表面から、最も高さのある凸部の表面までの距離をいい、例えば、図12(a)の符号tで示す距離をいう。また、本明細書では、「第1機能層の製品領域および非製品領域を含む表面の凹凸形状」を、単に「第1機能層の表面の凹凸形状」と略して説明する場合がある。さらに、「第1機能層」を単に「機能層」と略して説明する場合がある。 For such a problem, for example, the following method can be considered. That is, a method of increasing the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer arranged on the first functional layer and filling the unevenness of the surface of the first functional layer including the product region and the non-product region to make the surface flat is conceivable. Therefore, when the inventors of the present invention tried the above method, in order to fill and flatten the unevenness of the surface of the first functional layer including the product region and the non-product region, the thickness of the adhesive layer was set to the above unevenness. It is necessary to have about 10 times the maximum step, and in this case, there is a problem that the thickness of the entire display device becomes large. The “maximum step of the uneven shape” means the distance from the surface of the concave portion having the deepest depth to the surface of the convex portion having the highest height in the uneven shape, and is, for example, the symbol of FIG. Refers to the distance indicated by t. In addition, in the present specification, the “concavo-convex shape of the surface including the product region and the non-product region of the first functional layer” may be simply referred to as the “concavo-convex shape of the surface of the first functional layer”. Further, the “first functional layer” may be simply abbreviated as “functional layer”.
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、機能層の製品領域および非製品領域を含む表面における所定の段差を有する凹凸形状を平坦にすることができ、かつ、機能層の段差による空隙の発生を抑制することができる表示装置用被覆層付き基材を提供することを主目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is possible to flatten the uneven shape having a predetermined step on the surface including the product region and the non-product region of the functional layer, and The main object of the present invention is to provide a base material with a coating layer for a display device capable of suppressing the generation of voids.
本発明の発明者等は、上記課題を解決するために鋭意研究を行った。その結果、所定の方法により被覆層を形成することにより、機能層表面の所定の段差を有する凹凸形状を埋めることができ、表面を平坦化することができるという知見を得た。本発明の発明者等は、このような知見に基づいて、本発明を完成させるに至った。 The inventors of the present invention have conducted earnest research to solve the above problems. As a result, it was found that by forming the coating layer by a predetermined method, it is possible to fill the uneven shape having a predetermined step on the surface of the functional layer and to flatten the surface. The inventors of the present invention have completed the present invention based on such findings.
すなわち、本発明は、基材と、上記基材の一方の面上に配置された第1機能層と、上記第1機能層の上記基材とは反対側の面上に配置され、透明性を有する被覆層とを有する表示装置用被覆層付き基材であって、上記表示装置用被覆層付き基材は、表示装置となる製品領域、および上記製品領域の外周に配置された非製品領域を有し、上記第1機能層の上記製品領域および上記非製品領域は、上記被覆層側の面の段差が1.5μm以上であり、上記被覆層の上記製品領域および上記非製品領域は、上記第1機能層とは反対側の面の段差が0.1μm以下であることを特徴とするを提供する。 That is, the present invention provides a base material, a first functional layer arranged on one surface of the base material, and a surface of the first functional layer opposite to the base material, and the transparency is improved. A substrate with a coating layer for a display device having a coating layer having a, wherein the substrate with a coating layer for a display device is a product region to be a display device, and a non-product region arranged on the outer periphery of the product region. The product area and the non-product area of the first functional layer have a step difference of 1.5 μm or more on the surface on the coating layer side, and the product area and the non-product area of the coating layer are: The step of the surface opposite to the first functional layer is 0.1 μm or less.
本発明によれば、第1機能層の製品領域および非製品領域を含む所定の段差を有する表面に、被覆層を有することにより、第1機能層の製品領域および非製品領域を含む表面の段差を平坦にすることができ、かつ、第1機能層の段差による空隙の発生を抑制することができる表示装置用被覆層付き基材とすることができる。 According to the present invention, by providing the coating layer on the surface having the predetermined step including the product region and the non-product region of the first functional layer, the step of the surface including the product region and the non-product region of the first functional layer. It is possible to provide a base material with a coating layer for a display device, which is capable of flattening and suppressing the generation of voids due to the step of the first functional layer.
また、本発明は、基材と、上記基材の一方の面上に配置された第1機能層と、上記第1機能層の上記基材とは反対側の面上に配置され、透明性を有する被覆層とを有する表示装置用被覆層付きカラーフィルタ基材であって、上記表示装置用被覆層付きカラーフィルタ基材は、表示装置となる製品領域、および上記製品領域の外周に配置された非製品領域を有し、上記第1機能層は、開口部を有する遮光部と、上記開口部に配置された着色層とを有するカラーフィルタであり、上記第1機能層の上記製品領域および上記非製品領域は、上記被覆層側の面の段差が1.5μm以上であり、上記被覆層の上記製品領域および上記非製品領域は、上記第1機能層とは反対側の面の段差が0.1μm以下であることを特徴とする表示装置用被覆層付きカラーフィルタ基材を提供する。 Further, the present invention provides a base material, a first functional layer arranged on one surface of the base material, and a surface of the first functional layer opposite to the base material, which is transparent. A coating-layer-containing color filter substrate for a display device having a coating layer having, wherein the display-device coating layer-coated color filter substrate is a product region to be a display device, and is arranged on the outer periphery of the product region. A non-product region, the first functional layer is a color filter having a light-shielding portion having an opening, and a colored layer arranged in the opening, and the first functional layer has the product region and The non-product region has a step difference of 1.5 μm or more on the surface on the coating layer side, and the product region and the non-product region of the coating layer have a step difference on the side opposite to the first functional layer. Provided is a color filter substrate with a coating layer for a display device, which has a thickness of 0.1 μm or less.
本発明によれば、カラーフィルタの製品領域および非製品領域を含む所定の段差を有する表面に、被覆層を有することにより、カラーフィルタの表面の段差を平坦にすることができ、かつ、カラーフィルタの段差による空隙の発生を抑制することができる表示装置用被覆層付きカラーフィルタ基材とすることができる。 According to the present invention, by providing a coating layer on a surface of a color filter having a predetermined area including a product area and a non-product area, the surface of the color filter can be made flat and the color filter can be made flat. It is possible to provide a color filter substrate with a coating layer for a display device that can suppress the generation of voids due to the step.
本発明においては、上記基材の上記非製品領域は、上記第1機能層側の面に、上記着色層と同一の材料を有する平坦化層を有し、上記平坦化層の上記基材とは反対側の面に、上記被覆層が配置されていることが好ましい。第1機能層の製品領域および非製品領域での所定の段差を、平坦化層により埋めることができるからである。 In the present invention, the non-product region of the base material has a flattening layer made of the same material as the colored layer on the surface of the first functional layer side, and the non-product area of the flattening layer is the same as the base material. It is preferable that the coating layer is disposed on the opposite surface. This is because a predetermined level difference in the product region and the non-product region of the first functional layer can be filled with the flattening layer.
さらに、本発明は、上述した表示装置用被覆層付きカラーフィルタ基材と、表示パネルとを有することを特徴とする積層体を提供する。 Furthermore, the present invention provides a laminate including the above-described color filter substrate with a coating layer for a display device and a display panel.
本発明によれば、表示装置用被覆層付きカラーフィルタ基材が、カラーフィルタの製品領域および非製品領域を含む所定の段差を有する表面に、被覆層を有することにより、カラーフィルタの製品領域および非製品領域を含む表面の段差を平坦にすることができ、かつ、カラーフィルタの段差による空隙の発生を抑制することができる。したがって、表示特性に優れ、表示装置用被覆層付きカラーフィルタ基材の空隙による不具合の発生を抑制することができる積層体とすることができる。 According to the present invention, the color filter substrate with the coating layer for the display device has the coating layer on the surface having the predetermined step including the product region and the non-product region of the color filter, and thus the product region of the color filter and The steps on the surface including the non-product region can be flattened, and the generation of voids due to the steps of the color filter can be suppressed. Therefore, it is possible to obtain a laminate having excellent display characteristics and capable of suppressing the occurrence of defects due to the voids of the color filter substrate with a coating layer for a display device.
さらにまた、本発明は、基材と、上記基材の一方の面上に配置された第1機能層と、上記第1機能層の上記基材とは反対側の面上に配置され、透明性を有する被覆層とを有する表示装置用被覆層付き基材を製造する表示装置用被覆層付き基材の製造方法であって、上記第1機能層の上記基材とは反対側の面に、上記被覆層を形成する被覆層形成工程と、上記被覆層形成工程後に、上記被覆層の上記第1機能層とは反対側の面を研磨する研磨工程とを有し、上記表示装置用被覆層付き基材は、表示装置となる製品領域、および上記製品領域の外周に配置された非製品領域を有し、上記第1機能層の上記製品領域および上記非製品領域は、上記被覆層側の面の段差が1.5μm以上であり、上記被覆層形成工程で得られる上記被覆層は、少なくとも上記第1機能層の上記被覆層側の段差に相当する厚みを有し、上記研磨工程で得られる上記被覆層の上記製品領域および上記非製品領域は、上記第1機能層とは反対側の面の段差が0.1μm以下であることを特徴とする表示装置用被覆層付き基材の製造方法を提供する。 Furthermore, the present invention provides a base material, a first functional layer arranged on one surface of the base material, and a surface opposite to the base material of the first functional layer, which is transparent. A method for producing a substrate with a coating layer for a display device, comprising: a substrate having a coating layer having properties, wherein the surface of the first functional layer opposite to the substrate is provided. A coating layer forming step of forming the coating layer, and a polishing step of polishing the surface of the coating layer opposite to the first functional layer after the coating layer forming step, The layered substrate has a product region to be a display device and a non-product region arranged on the outer periphery of the product region, and the product region and the non-product region of the first functional layer are the coating layer side. Has a step difference of 1.5 μm or more, and the coating layer obtained in the coating layer forming step has a thickness corresponding to at least the step difference of the first functional layer on the coating layer side. In the product area and the non-product area of the obtained coating layer, the step on the surface opposite to the first functional layer has a step of 0.1 μm or less. A manufacturing method is provided.
本発明によれば、被覆層形成工程後に、被覆層を研磨する研磨工程を有することにより、被覆層形成工程で形成される被覆層の厚みを厚くした場合であっても、研磨工程において被覆層の厚みを所望の厚みに調整することができる。したがって、被覆層形成工程で形成する被覆層の厚みを厚くすることで、第1機能層の製品領域および非製品領域を含む所定の段差を埋めて、第1機能層の製品領域および非製品領域を含む表面の段差を平坦にすることができ、かつ、第1機能層の段差による空隙の発生を抑制することができる表示装置用被覆層付き基材を得ることができる。 According to the present invention, by including the polishing step of polishing the coating layer after the coating layer forming step, even when the thickness of the coating layer formed in the coating layer forming step is increased, the coating layer is formed in the polishing step. Can be adjusted to a desired thickness. Therefore, by increasing the thickness of the coating layer formed in the coating layer forming step, the predetermined step including the product region and the non-product region of the first functional layer is filled, and the product region and the non-product region of the first functional layer are filled. It is possible to obtain a base material with a coating layer for a display device, which can flatten the level difference on the surface including the above and can suppress the generation of voids due to the level difference on the first functional layer.
また、本発明は、基材と、上記基材の一方の面上に配置された第1機能層と、上記第1機能層の上記基材とは反対側の面上に配置され、透明性を有する被覆層とを有する表示装置用被覆層付き基材を製造する表示装置用被覆層付き基材の製造方法であって、上記第1機能層の上記基材とは反対側の面に、上記被覆層を構成する被覆層形成用組成物を配置する被覆層形成用組成物配置工程と、上記被覆層形成用組成物配置工程後に、上記被覆層形成用組成物を、上記第1機能層とは反対側の面からプレートを用いて押圧しつつ、上記被覆層形成用組成物を硬化して上記被覆層を形成する被覆層形成工程とを有し、上記表示装置用被覆層付き基材は、表示装置となる製品領域、および上記製品領域の外周に配置された非製品領域を有し、上記第1機能層の上記製品領域および上記非製品領域は、上記被覆層側の面の段差が1.5μm以上であり、上記被覆層形成工程で得られる上記被覆層の上記製品領域および上記非製品領域は、上記第1機能層とは反対側の面の段差が0.1μm以下であることを特徴とする表示装置用被覆層付き基材の製造方法を提供する。 Further, the present invention provides a base material, a first functional layer arranged on one surface of the base material, and a surface of the first functional layer opposite to the base material, which is transparent. A method for producing a substrate with a coating layer for a display device for producing a substrate with a coating layer for a display device having a coating layer having, wherein the surface of the first functional layer opposite to the substrate, After the coating layer forming composition arranging step of arranging the coating layer forming composition constituting the coating layer, and the coating layer forming composition arranging step, the coating layer forming composition is treated with the first functional layer. And a coating layer forming step of curing the coating layer forming composition to form the coating layer while pressing the plate from the surface opposite to the above, the substrate with a coating layer for the display device. Has a product region to be a display device and a non-product region arranged on the outer periphery of the product region, and the product region and the non-product region of the first functional layer are steps on the surface on the coating layer side. Is 1.5 μm or more, and the product region and the non-product region of the coating layer obtained in the coating layer forming step have a step difference of 0.1 μm or less on the surface opposite to the first functional layer. There is provided a method for producing a substrate with a coating layer for a display device.
本発明によれば、被覆層形成用組成物配置工程後に、被覆層形成用組成物をプレートにより押圧し、その状態で被覆層形成用組成物を硬化する被覆層形成工程を有することにより、第1機能層の製品領域および非製品領域を含む表面の段差の隅々まで被覆層形成用組成物を入り込ませることができる。したがって、第1機能層の製品領域および非製品領域を含む所定の段差を埋めて、第1機能層の製品領域および非製品領域を含む表面の段差を平坦にすることができ、かつ、第1機能層の段差による空隙の発生を抑制することができる表示装置用被覆層付き基材を得ることができる。 According to the present invention, after the coating layer forming composition arranging step, the coating layer forming composition is pressed by the plate, and the coating layer forming step of curing the coating layer forming composition in that state is performed. The composition for forming a coating layer can be incorporated into every corner of the surface step including the product region and the non-product region of one functional layer. Therefore, it is possible to fill a predetermined step including the product region and the non-product region of the first functional layer to make the step on the surface including the product region and the non-product region of the first functional layer flat, and It is possible to obtain a base material with a coating layer for a display device that can suppress the generation of voids due to the step of the functional layer.
さらに、本発明は、基材と、上記基材の一方の面上に配置された第1機能層と、上記第1機能層の上記基材とは反対側の面上に配置され、透明性を有する被覆層とを有し、表示装置となる製品領域、および上記製品領域の外周に配置された非製品領域を有する表示装置用被覆層付き基材を製造する表示装置用被覆層付き基材の製造方法であって、上記製品領域に、上記第1機能層を準備する第1機能層準備工程と、上記非製品領域に、平坦化層を形成する平坦化層形成工程と、上記第1機能層および上記平坦化層上に、上記被覆層を形成する被覆層形成工程とを有し、上記第1機能層の上記製品領域および上記非製品領域は、上記被覆層側の面の段差が1.5μm以上であり、上記被覆層の上記製品領域および上記非製品領域は、上記第1機能層とは反対側の面の段差が0.1μm以下であることを特徴とする被覆層付き基材の製造方法を提供する。 Furthermore, the present invention provides a base material, a first functional layer arranged on one surface of the base material, and a surface of the first functional layer opposite to the base material. And a coating layer having a coating layer, and a substrate having a coating layer for a display device for producing a substrate having a coating layer for a display device having a product region to be a display device and a non-product region arranged on the outer periphery of the product region. A first functional layer preparing step of preparing the first functional layer in the product area, a planarizing layer forming step of forming a planarizing layer in the non-product area, and A coating layer forming step of forming the coating layer on the functional layer and the flattening layer, wherein the product region and the non-product region of the first functional layer have a step on the coating layer side. 1.5 μm or more, and the product region and the non-product region of the coating layer have a step difference of 0.1 μm or less on the surface opposite to the first functional layer, and a substrate with a coating layer. A method for manufacturing a material is provided.
本発明によれば、基材の非製品領域が平坦化層を有することにより、第1機能層の製品領域および非製品領域での所定の段差を、平坦化層により埋めることができ、かつ、当該段差による空隙の発生を抑制することができる表示装置用被覆層付き基材を得ることができる。 According to the present invention, since the non-product region of the base material has the flattening layer, a predetermined step in the product region and the non-product region of the first functional layer can be filled with the flattening layer, and It is possible to obtain a substrate with a coating layer for a display device that can suppress the generation of voids due to the step.
本発明は、機能層の製品領域および非製品領域を含む表面の、所定の段差を有する凹凸形状を平坦にすることができ、かつ、機能層の段差による空隙の発生を抑制することができる表示装置用被覆層付き基材を提供することができるという効果を奏する。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention makes it possible to flatten the uneven shape having a predetermined step on the surface of the functional layer including the product region and the non-product region, and to suppress the generation of voids due to the step of the functional layer. An effect that a substrate with a coating layer for a device can be provided is exhibited.
以下、表示装置用被覆層付き基材、表示装置用被覆層付きカラーフィルタ基材、積層体および表示装置用被覆層付き基材の製造方法について説明する。 Hereinafter, a method for manufacturing a substrate with a coating layer for a display device, a color filter substrate with a coating layer for a display device, a laminate, and a substrate with a coating layer for a display device will be described.
A.表示装置用被覆層付き基材
本発明の表示装置用被覆層付き基材は、基材と、上記基材の一方の面上に配置された第1機能層と、上記第1機能層の上記基材とは反対側の面上に配置され、透明性を有する被覆層とを有する表示装置用被覆層付き基材であって、上記表示装置用被覆層付き基材は、表示装置となる製品領域、および上記製品領域の外周に配置された非製品領域を有し、上記第1機能層の上記製品領域および上記非製品領域は、上記被覆層側の面の段差が1.5μm以上であり、上記被覆層の上記製品領域および上記非製品領域は、上記第1機能層とは反対側の面の段差が0.1μm以下であることを特徴とする部材である。
A. Base Material with Cover Layer for Display Device The base material with a cover layer for a display device of the present invention includes a base material, a first functional layer disposed on one surface of the base material, and the first functional layer described above. A substrate with a coating layer for a display device, which is disposed on a surface opposite to the substrate and has a transparent coating layer, wherein the substrate with the coating layer for a display device is a product to be a display device. An area and a non-product area arranged on the outer periphery of the product area, and the product area and the non-product area of the first functional layer have a step difference of 1.5 μm or more on the surface on the coating layer side. The product region and the non-product region of the coating layer are members characterized in that the level difference on the surface opposite to the first functional layer is 0.1 μm or less.
本発明の表示装置用被覆層付き基材は、表示装置に用いられる部材である。ここで、表示装置については、後述する「C.積層体」の項に記載する内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 The substrate with a coating layer for a display device of the present invention is a member used for a display device. Here, the display device can have the same contents as those described in the section "C. Laminated body" described later, and thus the description thereof is omitted here.
本発明の表示装置用被覆層付き基材について、図を参照しながら説明する。
図1(a)、(b)は、本発明の表示装置用被覆層付き基材の一例を示す概略断面図である。図1(a)は、第1機能層2aとして、複数の開口部を有する遮光部22と、開口部内にパターン状に配置された着色層21(ここでは、赤色着色層21R、緑色着色層21G、青色着色層21B)と、加飾部24を有する加飾部材とを有するカラーフィルタを用いた場合の一例である。また、図1(b)は、第1機能層2aとして、複数の開口部を有する遮光部22と、表示装置の外周部に配置される額縁遮光部22’と、開口部内にパターン状に配置された着色層21とを有するカラーフィルタを用いた場合の一例である。本発明の表示装置用被覆層付き基材10は、図1(a)、(b)に示すように、基材1と、基材1の一方の面上に配置された第1機能層2aと、第1機能層2aの基材1とは反対側の面上に配置され、透明性を有する被覆層3とを有する。また、本発明の表示装置用被覆層付き基材10は、表示装置となる製品領域Y、および上記製品領域Yの外周に配置された非製品領域Xを有する。さらに、本発明の表示装置用被覆層付き基材10は、第1機能層2aの製品領域Yおよび非製品領域Xは、被覆層3側の面が所定の段差を有する凹凸形状であり、また、製品領域Yおよび非製品領域Xの段差を埋めるように配置された平坦化層4を有し、さらに、第1機能層2aとは反対側の面が、所定の段差以下である。なお、図1(b)は、上述した図14(a)のB−B線断面図と同様の断面図である。
The substrate with a coating layer for a display device of the present invention will be described with reference to the drawings.
1A and 1B are schematic cross-sectional views showing an example of a substrate with a coating layer for a display device of the present invention. FIG. 1A shows, as the first functional layer 2a, a light shielding part 22 having a plurality of openings, and a colored layer 21 arranged in a pattern in the openings (here, a red colored layer 21R and a green colored layer 21G). , A blue colored layer 21B) and a decorative member having a decorative portion 24 are used as an example. Further, FIG. 1B shows, as the first functional layer 2a, a light-shielding portion 22 having a plurality of openings, a frame light-shielding portion 22' arranged on the outer peripheral portion of the display device, and a pattern arranged in the opening. This is an example of the case where a color filter having the colored layer 21 formed is used. As shown in FIGS. 1A and 1B, a substrate 10 with a coating layer for a display device of the present invention includes a substrate 1 and a first functional layer 2a arranged on one surface of the substrate 1. And a transparent coating layer 3 disposed on the surface of the first functional layer 2a opposite to the base material 1. In addition, the substrate 10 with a coating layer for a display device of the present invention has a product region Y to be a display device and a non-product region X arranged on the outer periphery of the product region Y. Further, in the substrate 10 with a coating layer for a display device of the present invention, the product region Y and the non-product region X of the first functional layer 2a have an uneven shape in which the surface on the coating layer 3 side has a predetermined step, and The flattening layer 4 is arranged so as to fill the steps in the product region Y and the non-product region X, and the surface opposite to the first functional layer 2a has a predetermined step or less. Note that FIG. 1B is a sectional view similar to the sectional view taken along the line BB of FIG. 14A described above.
本発明によれば、第1機能層の製品領域および非製品領域を含む所定の段差を有する表面に、被覆層を有することにより、第1機能層の表面の段差を平坦にすることができ、かつ、第1機能層の段差による空隙の発生を抑制することができる表示装置用被覆層付き基材とすることができる。
以下、本発明の上記効果について詳細に説明する。
According to the present invention, by providing the coating layer on the surface having the predetermined step including the product region and the non-product region of the first functional layer, the step on the surface of the first functional layer can be made flat, In addition, it is possible to provide a base material with a coating layer for a display device that can suppress the generation of voids due to the step of the first functional layer.
Hereinafter, the above effects of the present invention will be described in detail.
まず、上述した図11(a)、(b)に示すように、表示装置を製造する方法として、第1機能層2aを有する積層体と、第2機能層2bを有する積層体とを、粘着層を介して貼り合せる方法がある。
また、表示装置の製造する場合、生産性の観点から、例えば、図14(a)に示すように、まずは多面付けされた表示装置を製造し、その後、各単位に切断して、表示装置を得るという方法がある。多面付けされた表示装置においては、最終的に表示装置となる製品領域と、製品領域の外周に、各単位に切断した際に除去される非製品領域とがある。
ここで、多面付けされた表示装置を、上述した粘着層による貼り合せ方法により製造する方法について説明する。多面付けされた表示装置を貼り合せにより製造する方法としては、多面付けされた第1機能層を有する積層体、および多面付けされた第2機能層を有する積層体のいずれか一方の全面に粘着層を配置し、当該粘着層を介して2つの積層体を貼り合わせる方法が挙げられる。上記方法においては、粘着層が2つの積層体のいずれか一方の全面に配置されるため、得られた多面付け表示装置は、製品領域および非製品領域のいずれの領域においても、粘着層を介して2つの積層体が貼り合わさった構成となる。
したがって、粘着層を介して貼り合せる面を平坦にしようとする場合には、製品領域だけでなく、非製品領域での平坦性も必要となる。
また、粘着層を介して2つの積層体を貼り合せる場合、具体的には、表示装置用被覆層付き基材の被覆層側の面に他の部材を貼り合せる場合には、例えば、減圧吸着法が用いられることがある。このとき、例えば第1機能層と被覆層との間に空隙があると、当該空隙に含まれる空気が弾けて、貼り合せの際に基材等の部材が割れる等の不具合が発生するおそれがある。
First, as shown in FIGS. 11A and 11B described above, as a method of manufacturing a display device, a laminate having the first functional layer 2a and a laminate having the second functional layer 2b are adhered to each other. There is a method of laminating the layers.
Further, in the case of manufacturing a display device, from the viewpoint of productivity, for example, as shown in FIG. 14A, first, a multi-faced display device is manufactured, and then, the display device is cut into units. There is a way to get it. In a multi-faced display device, there is a product region that will eventually become the display device, and a non-product region that is removed when cut into each unit on the outer periphery of the product region.
Here, a method for manufacturing the multi-faced display device by the above-mentioned bonding method using the adhesive layer will be described. As a method for manufacturing a multi-faced display device by laminating, a multi-faced laminate having a first functional layer and a multi-faced laminate having a second functional layer are adhered to the entire surface of either one of them. A method of arranging the layers and bonding the two laminated bodies via the adhesive layer can be mentioned. In the above method, since the adhesive layer is arranged on the entire surface of either one of the two laminates, the obtained multi-faced display device has the adhesive layer interposed between the product area and the non-product area. As a result, the two laminated bodies are bonded together.
Therefore, in order to flatten the surface to be bonded via the adhesive layer, flatness is required not only in the product region but also in the non-product region.
Further, when the two laminated bodies are bonded together via the adhesive layer, specifically, when other members are bonded to the surface of the base material with the coating layer for the display device on the coating layer side, for example, vacuum adsorption The method may be used. At this time, for example, if there is a gap between the first functional layer and the coating layer, the air contained in the gap may bounce off, causing a problem such as cracking of a member such as a base material during bonding. is there.
これに対し、本発明においては、所定の段差を有する第1機能層の製品領域および非製品領域を含む表面に被覆層を有することにより、第1機能層の表面の段差を埋めて、被覆層の基材とは反対側の面の平坦にすることができる。
また、本発明においては、所定の被覆層を有することにより、第1機能層との間の接触界面において非接触領域となる空隙の発生を抑制し、減圧吸着法による貼り合せの際の不具合の発生を抑えることができ、さらには、製品領域において表示装置の表示領域での空隙の発生を抑制することで、表示特性の低下を抑制することができる。
On the other hand, in the present invention, by providing the coating layer on the surface including the product region and the non-product region of the first functional layer having a predetermined step, the step on the surface of the first functional layer is filled and the coating layer The surface opposite to the base material can be made flat.
Further, in the present invention, by having a predetermined coating layer, it is possible to suppress the generation of voids that are non-contact areas at the contact interface with the first functional layer, and to prevent problems during bonding by the reduced pressure adsorption method. Generation can be suppressed, and furthermore, generation of voids in the display area of the display device in the product area can be suppressed, so that deterioration in display characteristics can be suppressed.
以下、本発明の表示装置用被覆層付き基材について詳細に説明する。 Hereinafter, the substrate with a coating layer for a display device of the present invention will be described in detail.
1.被覆層
本発明における被覆層は、後述する第1機能層の基材とは反対側の面上に配置され、透明性を有する部材である。また、被覆層の製品領域および非製品領域は、第1機能層とは反対側の面は、段差が0.1μm以下である。すなわち、本発明における被覆層は、第1機能層の表面の段差を埋めて平坦化する平坦化層としての機能を有する部材である。
1. Coating Layer The coating layer in the present invention is a member that is disposed on the surface of the first functional layer, which will be described later, on the side opposite to the base material and has transparency. Further, in the product region and the non-product region of the coating layer, the step difference is 0.1 μm or less on the surface opposite to the first functional layer. That is, the coating layer in the present invention is a member having a function as a flattening layer that fills a step on the surface of the first functional layer to flatten it.
本発明における被覆層の製品領域および非製品領域では、第1機能層とは反対側の面が段差0.1μm以下である。すなわち、本発明における被覆層は、第1機能層とは反対側の面が所定の平坦性を有する。中でも、本発明においては、被覆層の第1機能層とは反対側の面の段差が、0.1μm以下であることが好ましく、0.05μm以下であることがより好ましく、特に、被覆層の第1機能層とは反対側の面の段差が全くないことが好ましい。なお、本発明において、被覆層の第1機能層とは反対側の面の段差が所定の範囲内であることは、例えば、被覆層の断面を観察することにより確認することができる。また、「被覆層の段差」とは、被覆層の厚み方向への最大距離から、被覆層の厚み方向への最小距離を差し引いた値を意味する。 In the product region and the non-product region of the coating layer in the present invention, the surface on the side opposite to the first functional layer has a step difference of 0.1 μm or less. That is, the surface of the coating layer of the present invention opposite to the first functional layer has a predetermined flatness. Among them, in the present invention, the step difference on the surface of the coating layer on the side opposite to the first functional layer is preferably 0.1 μm or less, more preferably 0.05 μm or less, and particularly preferably It is preferable that there is no step on the surface opposite to the first functional layer. In the present invention, the fact that the level difference on the surface of the coating layer opposite to the first functional layer is within a predetermined range can be confirmed by, for example, observing the cross section of the coating layer. The “step of the coating layer” means a value obtained by subtracting the minimum distance in the thickness direction of the coating layer from the maximum distance in the thickness direction of the coating layer.
本発明における被覆層の厚みは、第1機能層の種類や、本発明の表示装置用被覆層付き基材の用途等に応じて適宜調整することができ、特に限定されない。本発明においては、後述する第1機能層の表面における1.5μm以上の段差を埋めて、被覆層の表面の段差が0.1μm以下となるように平坦化することができる程度の厚みを有することが好ましい。 The thickness of the coating layer in the present invention can be appropriately adjusted depending on the type of the first functional layer, the use of the substrate with a coating layer for a display device of the present invention, and the like, and is not particularly limited. In the present invention, the thickness is such that the step difference of 1.5 μm or more on the surface of the first functional layer, which will be described later, can be buried and the step difference on the surface of the coating layer can be flattened to be 0.1 μm or less. Preferably.
具体的には、後述する第1機能層がカラーフィルタである場合には、被覆層の厚みは、例えば、0.05μm以上2μm以下の範囲内であることが好ましく、中でも0.05μm以上1.5μm以下の範囲内であることが好ましく、特に0.05μm以上1μm以下の範囲内であることが好ましい。 Specifically, when the first functional layer described later is a color filter, the thickness of the coating layer is preferably, for example, in the range of 0.05 μm or more and 2 μm or less, and more preferably 0.05 μm or more and 1. It is preferably in the range of 5 μm or less, and particularly preferably in the range of 0.05 μm or more and 1 μm or less.
また、後述する第1機能層が加飾部材であって、当該加飾部材を構成する加飾部が黒色加飾部である場合には、被覆層の厚みは、例えば、1.0μm以上8.0μm以下の範囲内であることが好ましく、中でも1.0μm以上7.5μm以下の範囲内であることが好ましく、特に1.0μm以上7μm以下の範囲内であることが好ましい。 Further, when the first functional layer described later is a decorative member and the decorative portion forming the decorative member is a black decorative portion, the thickness of the coating layer is, for example, 1.0 μm or more 8 It is preferably in the range of not more than 0.0 μm, more preferably in the range of not less than 1.0 μm and not more than 7.5 μm, and particularly preferably in the range of not less than 1.0 μm and not more than 7 μm.
さらに、後述する第1機能層が加飾部材であって、当該加飾部材を構成する加飾部が白色加飾部である場合には、被覆層の厚みは、例えば、5μm以上40μm以下の範囲内であることが好ましく、中でも5μm以上35μm以下の範囲内であることが好ましく、特に5μm以上30μm以下の範囲内であることが好ましい。 Furthermore, when the 1st functional layer mentioned later is a decoration member and the decoration part which comprises the said decoration member is a white decoration part, the thickness of a coating layer is 5 micrometers or more and 40 micrometers or less, for example. It is preferably in the range, particularly preferably in the range of 5 μm or more and 35 μm or less, and particularly preferably in the range of 5 μm or more and 30 μm or less.
被覆層の厚みが上記範囲内であることにより、第1機能層の表面の段差を埋めて平坦にすることができ、かつ、被覆層を設けることにより本発明の表示装置用被覆層付き基材が厚くなり過ぎるのを抑制し、本発明の表示装置用被覆層付き基材を表示装置に用いた際に、表示装置全体としての厚みの増加を抑制することができる。 When the thickness of the coating layer is within the above range, the step on the surface of the first functional layer can be filled and flattened, and by providing the coating layer, the substrate with a coating layer for a display device of the present invention Can be prevented from becoming too thick, and an increase in the thickness of the entire display device can be suppressed when the substrate with a coating layer for a display device of the present invention is used in the display device.
また、本発明においては、被覆層を有することにより、第1機能層の表面の段差により、第1機能層と被覆層との間における空隙の発生を抑制することができる。本発明の表示装置用被覆層付き基材における空隙の発生の有無は、次のような方法により確認することができる。例えば、第1機能層の凹凸形状を有する表面に、粘着剤または接着剤を用いて第2機能層を転写し、空隙の発生の有無を確認することができる。さらに、第1機能層の凹凸形状を有する表面に、紫外線硬化型樹脂からなる粘着剤を配置し、当該粘着剤を露光硬化させた後に、接触式の膜厚計で測定することにより、第1機能層の凹凸形状を有する表面に被覆部材を形成することによる、表面の平坦性を確認することができる。 Further, in the present invention, by providing the coating layer, it is possible to suppress the generation of voids between the first functional layer and the coating layer due to the step difference on the surface of the first functional layer. The presence or absence of voids in the substrate with a coating layer for a display device of the present invention can be confirmed by the following method. For example, the presence or absence of voids can be confirmed by transferring the second functional layer to the surface of the first functional layer having an uneven shape using an adhesive or an adhesive. Further, by arranging a pressure-sensitive adhesive made of an ultraviolet curable resin on the surface of the first functional layer having an uneven shape, exposing and curing the pressure-sensitive adhesive, and then measuring with a contact-type film thickness meter, The flatness of the surface can be confirmed by forming the covering member on the surface of the functional layer having the uneven shape.
本発明における被覆層は、透明性を有する部材である。ここで、「透明性を有する」とは、被覆層が配置される第1機能層の種類に応じて、次のように定義することができる。
例えば、図1(a)に示すように、第1機能層2aとしてカラーフィルタを用い、当該カラーフィルタ上であって、本発明の表示装置用被覆層付き基材を用いた表示装置の表示領域に相当する領域に被覆層3を形成する場合には、被覆層3は、表示装置の操作者が、操作面からの視認を妨げない程度に透明であることをいう。したがって、「透明」は、無色透明、および表示装置の操作者が、操作面からの視認性を妨げない程度の有色透明を含み、また厳密な透過率で定義されず、本発明の表示装置用被覆層付き基材の用途等に応じて透過性の度合いを決定することができる。
The coating layer in the present invention is a member having transparency. Here, “having transparency” can be defined as follows according to the type of the first functional layer in which the coating layer is arranged.
For example, as shown in FIG. 1A, a color filter is used as the first functional layer 2a, and the display region of the display device using the base material with the display device coating layer of the present invention is on the color filter. When the coating layer 3 is formed in the region corresponding to, it means that the coating layer 3 is transparent to the extent that the operator of the display device does not hinder visual recognition from the operation surface. Therefore, “transparent” includes colorless and transparent, and colored and transparent to the extent that the operator of the display device does not hinder the visibility from the operation surface, and is not defined by strict transmittance, and therefore, for the display device of the present invention. The degree of permeability can be determined according to the application of the substrate with the coating layer and the like.
本発明における被覆層の材料としては、例えば、電離放射線硬化性樹脂組成物、熱硬化性樹脂組成物および熱可塑性樹脂組成物等が挙げられ、中でも電離放射線硬化性樹脂組成物であることが好ましい。 Examples of the material of the coating layer in the present invention include an ionizing radiation curable resin composition, a thermosetting resin composition and a thermoplastic resin composition, and among them, an ionizing radiation curable resin composition is preferable. ..
ここで、「電離放射線硬化性樹脂組成物」とは、電離放射線の照射により硬化するものをいう。「電離放射線」とは、電磁波または荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋し得るエネルギー量子を有するものをいい、例えば、紫外線や電子線の他、可視光線、X線、γ線等の電磁波、α線等の荷電粒子線が挙げられる。 Here, the "ionizing radiation curable resin composition" refers to a resin that is cured by irradiation with ionizing radiation. “Ionizing radiation” refers to an electromagnetic wave or charged particle beam having an energy quantum capable of polymerizing or cross-linking a molecule. For example, in addition to ultraviolet rays and electron beams, visible light rays, X-rays, γ-rays and other electromagnetic waves. , Charged particle beams such as α rays.
電離線硬化性樹脂組成物としては、電離放射線により硬化するモノマー、またはプレポリマーやオリゴマー等が挙げられる。モノマー、プレポリマーやオリゴマーとしては、例えば、特許第4436441号公報に記載されているプライマー層に用いられる電離線硬化性樹脂が挙げられる。モノマーおよびプレポリマーは、1種類単独で用いても良く、2種類以上混合して用いても良く、モノマーおよびプレポリマーを混合して用いても良い。 Examples of the ionizing radiation curable resin composition include monomers, prepolymers and oligomers that are cured by ionizing radiation. Examples of the monomers, prepolymers and oligomers include ionizing radiation curable resins used in the primer layer described in Japanese Patent No. 4436441. The monomers and prepolymers may be used alone or in combination of two or more, or the monomers and prepolymers may be mixed and used.
熱硬化性樹脂組成物としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ユリア樹脂等が挙げられる。 Examples of the thermosetting resin composition include epoxy resin, phenol resin, melamine resin, unsaturated polyester resin, urea resin and the like.
熱可塑性樹脂組成物としては、例えば、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂等が挙げられる。 Examples of the thermoplastic resin composition include acrylic resins such as polymethylmethacrylate, vinyl chloride-vinyl acetate copolymers, polyester resins, and polyolefin resins.
本発明における被覆層の形成方法は、第1機能層の表面の段差を埋めるように形成することができ、本発明の効果が十分に得られる方法であることが好ましい。例えば、流動性を有する被覆層形成用組成物を、第1機能層の段差を有する表面に塗布することにより、被覆層を形成することが好ましい。被覆層を構成する被覆層形成用組成物として流動性を有する材料を用いることにより、第1機能層の表面の段差に被覆層形成用組成物が入り込み、第1機能層と被覆層との接触界面において、非接触領域となる空隙の発生を抑制することが可能となる。 The method for forming the coating layer in the present invention is preferably a method that can be formed so as to fill the step on the surface of the first functional layer and can sufficiently obtain the effects of the present invention. For example, it is preferable to form the coating layer by applying a coating layer-forming composition having fluidity onto the stepped surface of the first functional layer. By using a fluid material as the coating layer-forming composition forming the coating layer, the coating layer-forming composition enters the step on the surface of the first functional layer, and the first functional layer and the coating layer come into contact with each other. It is possible to suppress the generation of voids that are non-contact areas at the interface.
ここで、「流動性を有する」とは、被覆層形成用組成物を、第1機能層の段差を有する表面に塗布した際に、被覆層形成用組成物が段差の隅まで入り込み、第1機能層と被覆層との接触界面において、非接触領域となる空隙の発生を抑制することができる程度であることを意味する。具体的には、室温23℃以下の条件下において、回転式粘度計を用いて測定した値が、例えば10mPa・s以下であることが好ましい。 Here, “having fluidity” means that when the coating layer forming composition is applied to the stepped surface of the first functional layer, the coating layer forming composition enters the corners of the step and At the contact interface between the functional layer and the coating layer, it means that it is possible to suppress the generation of voids that are non-contact areas. Specifically, it is preferable that the value measured with a rotary viscometer is, for example, 10 mPa·s or less under the condition of room temperature of 23° C. or less.
本発明において用いられる、流動性を有する被覆層形成用組成物は、例えば、溶剤を含有することが好ましい。被覆層形成用組成物に十分な流動性を付与するという観点から、被覆層形成用組成物に含まれる溶剤の含有量は、固形分量の比率に応じて適宜調整することが好ましい。例えば、被覆層形成用組成物中の固形分量としては、5質量%以上30質量%以下の範囲内であることが好ましく、中でも6質量%以上28質量%以下の範囲内であることが好ましく、特に7質量%以上26質量%以下の範囲内であることが好ましい。 The coating layer-forming composition having fluidity used in the present invention preferably contains, for example, a solvent. From the viewpoint of imparting sufficient fluidity to the coating layer forming composition, the content of the solvent contained in the coating layer forming composition is preferably appropriately adjusted according to the ratio of the solid content. For example, the solid content in the coating layer forming composition is preferably in the range of 5% by mass or more and 30% by mass or less, and more preferably in the range of 6% by mass or more and 28% by mass or less, In particular, it is preferably in the range of 7% by mass or more and 26% by mass or less.
本発明における被覆層を形成する際に、第1機能層の段差を有する表面に、被覆層形成用組成物を塗布する方法としては、例えば、スピンコート法、ロールコート法、ダイコート法、スプレーコート法、ビードコート法等の公知の塗布法が挙げられる。なお、被覆層を形成する具体的な方法については、後述する「D.表示装置用被覆層付き基材の製造方法」の項に記載するため、ここでの記載は省略する。 When forming the coating layer in the present invention, the method for applying the coating layer forming composition to the stepped surface of the first functional layer may be, for example, a spin coating method, a roll coating method, a die coating method, or a spray coating method. Known coating methods such as a coating method and a bead coating method can be used. The specific method for forming the coating layer is described in the section “D. Method for manufacturing a substrate with a coating layer for a display device” described later, and thus the description thereof is omitted here.
2.第1機能層
本発明における第1機能層は、基材の一方の面上に配置され、第1機能層の製品領域および非製品領域は、被覆層側の面の段差が1.5μm以上である部材である。なお、「第1機能層の表面の段差」とは、基材の表面から第1機能層の表面までの厚み方向への最大距離から、基材の表面から第1機能層の表面までの厚み方向への最小距離を差し引いた値を意味する。例えば、後述する図1(a)、図2(a)および図3(b)における符号tで示す距離、または、図2(b)における符号t1、および符号t2で示す距離を指す。
2. First Functional Layer The first functional layer in the present invention is disposed on one surface of the base material, and the product area and the non-product area of the first functional layer have a step difference of 1.5 μm or more on the surface on the coating layer side. It is a certain member. The “step of the surface of the first functional layer” means the thickness from the surface of the base material to the surface of the first functional layer from the maximum distance in the thickness direction from the surface of the base material to the surface of the first functional layer. It means the value obtained by subtracting the minimum distance to the direction. For example, it refers to a distance indicated by reference numeral t in FIGS. 1A, 2A and 3B described later, or a distance indicated by reference numerals t 1 and t 2 in FIG. 2B.
本発明における第1機能層は、本発明の表示装置用被覆層付き基材の用途に応じて適宜選択することができる。例えば、本発明の表示装置用被覆層付き基材を表示装置に用いる場合には、第1機能層には、カラーフィルタ、加飾部材、タッチパネル等を用いることができ、中でもカラーフィルタや加飾部材を好適に用いることができる。また、本発明における第1機能層としては、上述した機能層を1つ用いても良く、複数の機能層を複数積層して用いても良い。 The first functional layer in the present invention can be appropriately selected according to the application of the substrate with a coating layer for a display device of the present invention. For example, when the substrate with a coating layer for a display device of the present invention is used for a display device, a color filter, a decorating member, a touch panel, or the like can be used for the first functional layer, and among them, the color filter or the decorating member can be used. The member can be preferably used. Further, as the first functional layer in the present invention, one functional layer described above may be used, or a plurality of functional layers may be laminated and used.
本発明における第1機能層がカラーフィルタである場合、第1機能層の表面の段差は、例えば、図2(a)に示すように、遮光部22の厚みと着色層21の厚みとの差により生じる符号tに示す高さの差とすることができる。また、図2(b)に示すように、額縁遮光部22’の厚みに相当する符号t1に示す高さ、あるいは遮光部22’の厚みと着色層21の厚みとの差により生じる符号t2で示す高さの差とすることができる。本発明における第1機能層がカラーフィルタである場合の、具体的な第1機能層の表面の段差は、例えば、1.5μm以上6.0μm以下の範囲内であることが好ましく、中でも1.7μm以上5.5μm以下の範囲内であることが好ましく、特に1.9μm以上5.0μm以下の範囲内であることが好ましい。本発明においては、第1機能層がカラーフィルタである場合には、本発明においては、上述のような遮光部または額縁遮光部の厚みと着色層のお厚みの差により生じる段差、あるいは額縁遮光部の厚みに相当する基材表面と額縁遮光部表面との段差を埋めて平坦化することができるという効果を奏する。 When the first functional layer in the present invention is a color filter, the step difference on the surface of the first functional layer may be a difference between the thickness of the light shielding portion 22 and the thickness of the colored layer 21, as shown in FIG. The difference in height indicated by t can be obtained. Further, as shown in FIG. 2B, the height t indicated by reference numeral t 1 corresponding to the thickness of the frame light-shielding portion 22 ′, or the reference numeral t generated by the difference between the thickness of the light-shielding portion 22 ′ and the colored layer 21. The height difference can be represented by 2 . When the first functional layer in the present invention is a color filter, the specific step difference on the surface of the first functional layer is preferably in the range of, for example, 1.5 μm or more and 6.0 μm or less, and particularly 1. It is preferably in the range of 7 μm or more and 5.5 μm or less, and particularly preferably in the range of 1.9 μm or more and 5.0 μm or less. In the present invention, in the case where the first functional layer is a color filter, in the present invention, a step caused by the difference between the thickness of the light-shielding portion or the frame light-shielding portion and the thickness of the colored layer, or the frame light-shielding It is possible to fill a step between the surface of the base material and the surface of the frame light-shielding portion, which corresponds to the thickness of the portion, to flatten it.
本発明における第1機能層が加飾部材である場合、第1機能層の表面の段差は、例えば、図3(a)、(b)に示すように、加飾部24が形成されることにより生じる符号tに示す高さの差とすることができる。なお、図3(a)は、多面付けした加飾部材の一例を示す概略平面図であり、図3(b)は、図3(a)のC−C線断面図である。本発明においては、図3(a)、(b)に示すように、加飾部材の表面の段差は、加飾部24の表示領域D側に生じる段差であっても良く、あるいは加飾部24の非表示領域N側に生じる段差であっても良い。本発明における第1機能層が加飾部材である場合の、具体的な第1機能層の表面の段差は、例えば、1.0μm以上40μm以下の範囲内であることが好ましく、中でも1.1μm以上35μm以下の範囲内であることが好ましく、特に1.2μm以上30μm以下の範囲内であることが好ましい。したがって、第1機能層が加飾部材である場合には、本発明においては、上述のような加飾部が配置されることにより生じる段差を埋めて平坦化することができるという効果を奏する。 When the first functional layer in the present invention is a decorative member, the step on the surface of the first functional layer is formed with the decorative portion 24 as shown in FIGS. 3A and 3B, for example. The difference in height indicated by t can be obtained. Note that FIG. 3A is a schematic plan view showing an example of the decorating member provided with multiple faces, and FIG. 3B is a cross-sectional view taken along the line CC of FIG. 3A. In the present invention, as shown in FIGS. 3A and 3B, the step on the surface of the decorative member may be a step generated on the display region D side of the decorative portion 24, or the decorative portion. It may be a step generated on the non-display area N side of 24. When the first functional layer in the present invention is a decorative member, the specific step difference on the surface of the first functional layer is preferably in the range of 1.0 μm or more and 40 μm or less, and particularly 1.1 μm. It is preferably in the range of not less than 35 μm and particularly preferably in the range of not less than 1.2 μm and not more than 30 μm. Therefore, when the first functional layer is a decorative member, the present invention has an effect of being able to fill and flatten the step caused by the arrangement of the decorative portion as described above.
以下、第1機能層について、カラーフィルタおよび加飾部材を例にして説明する。 Hereinafter, the first functional layer will be described by taking a color filter and a decorative member as an example.
(1)カラーフィルタ
本発明におけるカラーフィルタは、複数の開口部を有する遮光部、および開口部に配置された着色部を有する。
以下、カラーフィルタを構成する各部材について説明する。
(1) Color Filter The color filter according to the present invention has a light-shielding portion having a plurality of openings and a colored portion arranged in the openings.
Hereinafter, each member constituting the color filter will be described.
(a)遮光部
本発明における遮光部は、基材上に配置され複数の開口部を有する部材である。
(A) Light-shielding portion The light-shielding portion in the present invention is a member arranged on a base material and having a plurality of openings.
本発明における遮光部は、第1の方向および第1の方向に交差する第2の方向に延伸するように並列に配置され、開口部を画定する部材である。開口部の平面視形状としては、例えば、矩形形状が挙げられる。また、遮光部における開口部の幅としては、一般的なカラーフィルタにおける遮光部の開口部の幅と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 The light-shielding portion in the present invention is a member that is arranged in parallel so as to extend in the first direction and the second direction intersecting the first direction and defines the opening. Examples of the plan view shape of the opening include a rectangular shape. Further, the width of the opening in the light shielding part can be the same as the width of the opening in the light shielding part in a general color filter, and therefore the description thereof is omitted here.
本発明における遮光部の線幅としては、本発明のカラーフィルタ基材の用途等に応じて適宜選択することができ、特に限定されないが、例えば、1μm以上30μm以下の範囲内であることが好ましく、中でも1.5μm以上28μm以下の範囲内であることが好ましく、特に2μm以上25μm以下の範囲内であることが好ましい。遮光部の線幅が上記範囲内であることにより、十分に開口部を画定することができ、高精細なカラーフィルタ基材を得ることができる。なお、遮光部の線幅が一定でない場合には、遮光部の線幅が、全て上記範囲内であることが好ましい。 The line width of the light-shielding portion in the present invention can be appropriately selected depending on the application of the color filter substrate of the present invention and is not particularly limited, but is preferably in the range of 1 μm or more and 30 μm or less, for example. Above all, it is preferably in the range of 1.5 μm or more and 28 μm or less, and particularly preferably in the range of 2 μm or more and 25 μm or less. When the line width of the light-shielding portion is within the above range, the opening can be sufficiently defined and a high-definition color filter substrate can be obtained. When the line width of the light shielding portion is not constant, it is preferable that the line width of the light shielding portion is all within the above range.
本発明における遮光部の厚みとしては、所望の遮光性を示すことができる程度の厚みであれば特に限定されず、遮光部に用いられる材料に応じて適宜調整される。本発明における遮光部の具体的な厚みとしては、例えば、0.5μm以上3.0μm以下の範囲内とすることができる。 The thickness of the light shielding portion in the present invention is not particularly limited as long as it has a thickness capable of exhibiting a desired light shielding property, and is appropriately adjusted according to the material used for the light shielding portion. The specific thickness of the light-shielding portion in the present invention may be, for example, in the range of 0.5 μm or more and 3.0 μm or less.
本発明における遮光部の構成材料は、所望の遮光性を発揮することができるような材料であれば良く、特に限定されない。具体的には、遮光部は、通常、バインダ樹脂に黒色色材を含有した硬化物であるが、黒色色材の他にも必要に応じて有色色材を含有していても良い。なお、遮光部の具体的な構成材料については、一般的なカラーフィルタに用いられる遮光部と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 The constituent material of the light shielding portion in the present invention is not particularly limited as long as it is a material that can exhibit a desired light shielding property. Specifically, the light-shielding portion is usually a cured product of a binder resin containing a black color material, but it may contain a colored color material as necessary in addition to the black color material. Note that the specific constituent material of the light-shielding portion can be the same as that of the light-shielding portion used for a general color filter, and thus the description thereof is omitted here.
本発明における遮光部は、上述した構成材料の他にも、必要に応じてその他の材料を含有していても良い。その他の材料としては、例えば、光重合開始剤、増感剤、塗布性改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等が挙げられる。 The light-shielding portion in the present invention may contain other materials, if necessary, in addition to the constituent materials described above. Examples of other materials include photopolymerization initiators, sensitizers, coatability improvers, crosslinking agents, polymerization inhibitors, plasticizers, flame retardants, and the like.
(b)額縁遮光部
本発明における額縁遮光部は、配線等が配置される表示装置の外周部を覆うように配置される部材である。
(B) Frame light-shielding portion The frame light-shielding portion in the present invention is a member arranged so as to cover the outer peripheral portion of the display device on which the wiring and the like are arranged.
本発明における額縁遮光部の平面形状としては、本発明の表示装置用被覆層付き基材を表示装置に用いた際に、表示装置の外周部を覆うような形状が挙げられる。なお、額縁遮光部の線幅や詳細な設計については、本発明の表示装置用被覆層付き基材の用途に応じて適宜調整することができるため、特に限定されない。なお、額縁遮光部の厚みや材料については、上述した「(a)遮光部」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 Examples of the planar shape of the frame light-shielding portion in the present invention include a shape that covers the outer peripheral portion of the display device when the substrate with a coating layer for a display device of the present invention is used in the display device. The line width and the detailed design of the frame light-shielding portion are not particularly limited because they can be appropriately adjusted depending on the application of the substrate with a coating layer for a display device of the present invention. Note that the thickness and material of the frame light-shielding portion can be the same as those described in the above-mentioned section "(a) Light-shielding portion", and thus the description thereof is omitted here.
(c)着色層
本発明における着色層は、遮光部により形成された開口部に配置される部材である。
(C) Colored layer The colored layer in the present invention is a member arranged in the opening formed by the light shielding part.
本発明においては、例えば赤、緑、青の3色の着色層を有する。着色層の色としては、赤、緑、青の3色を少なくとも含むものであれば良く、例えば、赤、緑、青の3色、赤、緑、青、黄の4色、または、赤、緑、青、黄、シアンの5色等とすることもできる。 In the present invention, for example, there are colored layers of three colors of red, green and blue. The color of the colored layer may include at least three colors of red, green and blue, and for example, three colors of red, green and blue, four colors of red, green, blue and yellow, or red, It is also possible to use five colors such as green, blue, yellow, and cyan.
本発明における着色層の厚みとしては、一般的なカラーフィルタに用いられる着色層の厚みと同様とすることができ、例えば1μm〜5μmの範囲内で設定することができる。 The thickness of the colored layer in the invention can be the same as the thickness of the colored layer used in a general color filter, and can be set, for example, in the range of 1 μm to 5 μm.
着色層としては、例えば色材をバインダ樹脂中に分散させたものを用いることができる。着色層に用いられる色材としては、各色の顔料や染料等が挙げられる。例えば、赤色着色層に用いられる色材としては、例えば、ペリレン系顔料、レーキ顔料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、アントラキノン系顔料、アントラセン系顔料、イソインドリン系顔料等が挙げられる。また、緑色着色層に用いられる色材としては、例えば、ハロゲン多置換フタロシアニン系顔料もしくはハロゲン多置換銅フタロシアニン系顔料等のフタロシアニン系顔料、トリフェニルメタン系塩基性染料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料等が挙げられる。さらに、青色着色層に用いられる色材としては、例えば、銅フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、インダンスレン系顔料、インドフェノール系顔料、シアニン系顔料、ジオキサジン系顔料等が挙げられる。これらの顔料や染料は単独で用いてもよく2種以上を混合して用いてもよい。着色層に用いられるバインダ樹脂としては、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が挙げられる。 As the coloring layer, for example, a material in which a coloring material is dispersed in a binder resin can be used. Examples of the color material used in the colored layer include pigments and dyes of each color. Examples of the coloring material used in the red colored layer include perylene pigments, lake pigments, azo pigments, quinacridone pigments, anthraquinone pigments, anthracene pigments, and isoindoline pigments. Examples of the coloring material used in the green colored layer include phthalocyanine-based pigments such as halogen poly-substituted phthalocyanine pigments or halogen poly-substituted copper phthalocyanine pigments, triphenylmethane-based basic dyes, isoindoline-based pigments, isoindolin. Examples thereof include linone-based pigments. Furthermore, examples of the coloring material used in the blue colored layer include a copper phthalocyanine pigment, an anthraquinone pigment, an indanthrene pigment, an indophenol pigment, a cyanine pigment, and a dioxazine pigment. These pigments and dyes may be used alone or in combination of two or more. Examples of the binder resin used in the colored layer include a photosensitive resin having a reactive vinyl group such as an acrylate type, a methacrylate type, a polyvinyl cinnamate type, or a cyclized rubber type.
着色層には、上述した材料の他にも、必要に応じて、光重合開始剤、増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を含有させることができる。 In the colored layer, in addition to the above materials, if necessary, a photopolymerization initiator, a sensitizer, a coatability improver, a development improver, a crosslinking agent, a polymerization inhibitor, a plasticizer, a flame retardant, etc. Can be included.
また、着色層が形成されている同一平面上には、上述した色材を含有せず、バインダ樹脂を含有する白色層が形成されていても良い。 Further, a white layer containing no binder and containing a binder resin may be formed on the same plane where the colored layer is formed.
(d)アライメントマーク
本発明におけるアライメントマークは、例えば、図1(b)に示すように、額縁遮光部22’を有する場合に、隣接する額縁遮光部22’の間の非製品領域Xに配置することができる部材である。本発明における第1機能層がアライメントマークを有する場合、当該アライメントマークを覆うように被覆層が形成されるが、本発明における被覆層は所定の透明性を有するため、被覆層を介してアライメントマークを読み取ることが可能となる。さらに、図1(b)に示すように、非製品領域Xには平坦化層4が配置されていても良く、非製品領域Xにアライメントマークが配置される場合には、アライメントマークを覆うように平坦化層が形成されるが、所定の透過性を有する平坦化層を用いることにより、アライメントマークを読み取ることが可能となる。
(D) Alignment mark The alignment mark in the present invention is arranged in the non-product region X between the adjacent frame light-shielding portions 22' when the frame light-shielding portion 22' is provided, for example, as shown in Fig. 1(b). It is a member that can be. When the first functional layer in the present invention has an alignment mark, the coating layer is formed so as to cover the alignment mark. However, since the coating layer in the present invention has a predetermined transparency, the alignment mark is provided via the coating layer. Can be read. Further, as shown in FIG. 1B, the flattening layer 4 may be arranged in the non-product region X, and when the alignment mark is arranged in the non-product region X, the alignment mark is covered. A flattening layer is formed on the substrate, and the alignment mark can be read by using the flattening layer having a predetermined transparency.
本発明におけるアライメントマークは、一般的に用いられるものと同様とすることができる。具体的には、例えば、特開2015−125322号公報に記載された内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 The alignment mark in the present invention can be the same as that generally used. Specifically, for example, the content can be the same as that described in Japanese Patent Laid-Open No. 2005-125322, and thus the description here is omitted.
(2)加飾部材
本発明における加飾部材は、例えば表示装置の額縁部に相当する領域に加飾部を有する部材である。
(2) Decorative member The decorative member in the present invention is a member having a decorative portion in a region corresponding to a frame portion of a display device, for example.
本発明における加飾部の厚みは、本発明の表示装置用被覆層付き基材を用いた表示装置の用途等に応じて適宜調整することができ、一般的な加飾部と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。 The thickness of the decorative portion in the present invention can be appropriately adjusted according to the application of the display device using the substrate with the coating layer for a display device of the present invention, and should be the same as a general decorative portion. Therefore, the description thereof is omitted here.
本発明における加飾部が呈する色は、表示装置のデザイン等に応じて適宜選択することができる。加飾部が黒色を呈する黒色加飾部である場合、黒色加飾部の構成材料は、上述した遮光部の構成材料と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。また、加飾部が白色を呈する白色加飾部である場合、白色加飾部の構成材料としては、例えば、酸化チタン、シリカ、タルク、カオリン、クレイ、硫酸バリウム、水酸化カルシウム等が挙げられる。 The color exhibited by the decorative portion in the present invention can be appropriately selected according to the design of the display device and the like. When the decoration portion is a black decoration portion that exhibits a black color, the constituent material of the black decoration portion can be the same as the constituent material of the light shielding portion described above, and thus the description thereof is omitted here. Further, when the decorative portion is a white decorative portion exhibiting a white color, examples of the constituent material of the white decorative portion include titanium oxide, silica, talc, kaolin, clay, barium sulfate, calcium hydroxide and the like. ..
(3)その他の部材
本発明における第1機能層は、上述したカラーフィルタや加飾部材以外に、必要に応じてその他の部材を有していても良い。その他の部材としては、第1機能層の表面が所定の凹凸形状であれば特に限定されない。その他の部材としては、例えば、カラーフィルタや加飾部材を覆うように配置される反射防止層や保護層等が挙げられる。
(3) Other members The first functional layer in the present invention may have other members, if necessary, in addition to the color filter and the decorative member described above. Other members are not particularly limited as long as the surface of the first functional layer has a predetermined uneven shape. Examples of other members include an antireflection layer and a protective layer arranged so as to cover the color filter and the decorative member.
また、第1機能層として、基材側から順に加飾部材およびカラーフィルタを積層して用いる場合には、その他の部材としては、加飾部材およびカラーフィルタの間を貼り合せるための粘着層が挙げられる。
以下、反射防止層、保護層および粘着層について説明する。
When the decorative member and the color filter are laminated in order from the base material side as the first functional layer, an adhesive layer for bonding the decorative member and the color filter is used as the other member. Can be mentioned.
Hereinafter, the antireflection layer, the protective layer and the adhesive layer will be described.
(a)反射防止層
本発明における反射防止層は、第1機能層として用いられるカラーフィルタや加飾部材の基材側の面に配置することができる。反射防止層が配置されていることにより、本発明の表示装置用被覆層付き基材表面への外光の反射を抑制することができ、視認性を高めることが可能となる。
(A) Antireflection Layer The antireflection layer in the present invention can be arranged on the surface of the color filter used as the first functional layer or the decorative member on the base material side. By disposing the antireflection layer, it is possible to suppress the reflection of external light on the surface of the base material with the coating layer for a display device of the present invention, and it is possible to improve the visibility.
本発明の反射防止層を構成する材料には、所定の光透過性を有し、また所定のフレキシブル性を有する材料を用いることが好ましい。具体的には、一般的な反射防止層に用いることができる材料が挙げられるため、ここでの記載は省略する。 As the material forming the antireflection layer of the present invention, it is preferable to use a material having a predetermined light transmittance and a predetermined flexibility. Specific examples thereof include materials that can be used for a general antireflection layer, so description thereof will be omitted here.
反射防止層の厚みは、例えば反射防止層としての反射防止機能を発揮することができ、また本発明の表示装置用被覆層付き基材を表示装置に用いることができる程度の厚みであることが好ましい。なお、具体的な反射防止層の厚みについては、反射防止層を構成する材料等に応じて適宜調整することができるため、ここでの記載は省略する。 The thickness of the antireflection layer may be such that, for example, the antireflection function as the antireflection layer can be exhibited, and the substrate with the coating layer for a display device of the present invention can be used in a display device. preferable. Note that the specific thickness of the antireflection layer can be appropriately adjusted according to the material forming the antireflection layer, and thus the description thereof is omitted here.
(b)保護層
本発明における保護層は、第1機能層として用いられるカラーフィルタや加飾部材の基材とは反対側の面を覆うように配置することができる。保護層が配置されていることにより、本発明における第1機能層の保護機能を高めることが可能となる。
(B) Protective Layer The protective layer in the present invention can be arranged so as to cover the surface of the color filter used as the first functional layer or the surface of the decorative member opposite to the base material. By disposing the protective layer, it becomes possible to enhance the protective function of the first functional layer in the present invention.
本発明における保護層を構成する材料には、所定の光透過性を有し、また所定のフレキシブル性を有する材料を用いることが好ましい。例えば、一般的な保護層に用いることができる樹脂材料が挙げられ、中でも耐熱性や耐擦傷性を有する樹脂材料であることが好ましい。具体的には、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等が挙げられる。 As a material forming the protective layer in the present invention, it is preferable to use a material having a predetermined light transmittance and a predetermined flexibility. For example, a resin material that can be used for a general protective layer is mentioned, and among them, a resin material having heat resistance and scratch resistance is preferable. Specific examples include epoxy resin, acrylic resin, and polyimide resin.
保護層の厚みは、例えば保護層としての保護機能を発揮することができ、また第1機能層の表面に凹凸形状が出現する程度の厚みであることが好ましい。具体的には、例えば1μm〜5μmの範囲内であることが好ましい。 The thickness of the protective layer is preferably such that, for example, a protective function as the protective layer can be exhibited, and an uneven shape appears on the surface of the first functional layer. Specifically, it is preferably within the range of 1 μm to 5 μm, for example.
(c)粘着層
本発明における粘着層は、第1基材として加飾部材およびカラーフィルタを積層して用いる場合に、加飾部材およびカラーフィルタの間に配置することができる。粘着層が配置されていることにより、加飾部材およびカラーフィルタを容易に貼り付けることが可能となる。なお、この場合には、カラーフィルタは透明基材と、上記透明基材上に配置された着色層および遮光部を有する構成とすることができる。カラーフィルタに用いられる透明基材については、後述する基材と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
(C) Adhesive Layer The adhesive layer in the present invention can be arranged between the decorative member and the color filter when the decorative member and the color filter are laminated and used as the first base material. By disposing the adhesive layer, it becomes possible to easily attach the decorative member and the color filter. In this case, the color filter may be configured to have a transparent base material, and a colored layer and a light shielding portion arranged on the transparent base material. The transparent base material used for the color filter can be the same as the base material described later, and thus the description thereof is omitted here.
本発明における粘着層を構成する材料には、所定の光透過性を有し、また加飾部と同様に所定の屈曲性を有する材料を用いることが好ましい。具体的には、光硬化性樹脂や熱硬化性樹脂等の一般的な材料を用いることができる。 As a material forming the adhesive layer in the present invention, it is preferable to use a material having a predetermined light transmittance and a predetermined flexibility like the decorative portion. Specifically, a general material such as a photocurable resin or a thermosetting resin can be used.
粘着層の厚みは、例えば本発明の表示装置用被覆層付き基材を表示装置に用いることができる程度の厚みであることが好ましい。 The thickness of the adhesive layer is preferably such that the substrate with a coating layer for a display device of the present invention can be used in a display device.
3.平坦化層
本発明においては、後述する基材の非製品領域は、第1機能層側の面に、第1機能層と同一の材料を有する平坦化層を有し、平坦化層の基材とは反対側の面に、被覆層が配置されていることが好ましい。
3. Planarizing Layer In the present invention, the non-product region of the base material described later has a planarizing layer having the same material as the first functional layer on the surface on the first functional layer side, and the base material of the planarizing layer. A coating layer is preferably arranged on the surface opposite to the surface.
平坦化層は、基材の製品領域に配置された第1機能層と、非製品領域との段差を埋める機能を有することが好ましい。したがって、平坦化層は、少なくとも基材の非製品領域に配置されることが好ましく、例えば、図1(b)に示すように、基材1aの製品領域Yの一部と非製品領域Xとを覆うように配置されていても良い。なお、図1(b)については、上述した説明と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 The flattening layer preferably has a function of filling a step between the first functional layer arranged in the product region of the base material and the non-product region. Therefore, it is preferable that the flattening layer is arranged at least in the non-product region of the base material. For example, as shown in FIG. 1B, a part of the product region Y and the non-product region X of the base material 1a are formed. May be arranged so as to cover. Note that the description of FIG. 1B can be omitted because it can be similar to the above description.
平坦化層は、透明性を有しても良く、有さなくても良い。例えば、基材の非製品領域にアライメントマークや製品番号等の識別情報が形成される場合には、基材上のアライメントマークや製品番号等を覆うように平坦化層が配置されることとなる。そのため、この場合には、平坦化層が所定の透明性を有することが好ましい。ここでの「透明」は、無色透明、および非製品領域に配置されたアライメントマークや製品番号等の視認を妨げない程度の有色透明を含み、また、厳密な透過率で定義されず、本発明の表示装置用被覆層付き基材の用途等に応じて透過性の度合いを決定することができる。 The flattening layer may or may not be transparent. For example, when identification information such as an alignment mark or a product number is formed in the non-product area of the base material, the flattening layer is arranged so as to cover the alignment mark or the product number on the base material. .. Therefore, in this case, the flattening layer preferably has a predetermined transparency. The term "transparent" as used herein includes colorless and transparent, and colored transparent to the extent that it does not hinder the visibility of alignment marks, product numbers, etc. arranged in the non-product area, and is not defined by strict transmittance. The degree of transparency can be determined according to the intended use of the substrate with a coating layer for a display device, etc.
また、本発明における平坦化層が、非製品領域に形成される場合、具体的には、図1(b)に示すように、製品領域Yおよび非製品領域Xでの段差を埋めるように平坦化層4が形成される場合には、平坦化層4の材料として、第1機能層2aと同一の材料を用いることができる。なお、図1(b)では、平坦化層4が、製品領域Yにおける額縁遮光部22’の表面と、非製品領域Xにおける基材1aの表面とで生じた段差を埋めるように形成された例であり、ここでは、平坦化層4の材料として、カラーフィルタに用いられる着色層21と同一の材料を用いている。 When the flattening layer in the present invention is formed in the non-product region, specifically, as shown in FIG. 1B, the flattening layer is formed so as to fill the step in the product region Y and the non-product region X. When the functionalized layer 4 is formed, the same material as the first functional layer 2 a can be used as the material of the planarization layer 4. In FIG. 1B, the flattening layer 4 is formed so as to fill the step formed between the surface of the frame light-shielding portion 22 ′ in the product region Y and the surface of the base material 1 a in the non-product region X. This is an example, and the same material as the colored layer 21 used for the color filter is used as the material of the flattening layer 4 here.
製品領域および非製品領域での段差を埋めるように平坦化層が形成される場合であって、平坦化層の材料として第1機能層と同一の材料を用いる場合、平坦化層の具体的な材料としては、第1機能層を構成するいずれかの部材と同一の材料であることが好ましい。第1機能層を形成する際に、同時に平坦化層を形成することができ、製造工程数の増加を抑制できるからである。また、本発明においては、例えば、非製品領域の基材の被覆層側の面にアライメントマークや製品番号等の識別情報が配置されている場合、被覆層の材料は、第1機能層と同一の材料のうち、より透過性の高い材料を選択することが好ましい。したがって、例えば、図1(b)に示すように、平坦化層4の材料が着色層21の材料と同一とする場合には、カラーフィルタに用いられる着色層21のうち、より透過性の高い着色層21と同一の材料を選択することが好ましい。したがって、図1(b)に示すように、着色層21が、赤色着色層21R、緑色着色層21Gおよび青色着色層21Bを有する場合には、より透過率の高い緑色着色層21Gを選択することが好ましい。非製品領域にアライメントマークや製品番号等が形成された際に、平坦化層を介して、当該アライメントマークや製品番号等を良好に読み取ることができるからである。なお、着色層の材料については、上述した「2.第1機能層 (1)カラーフィルタ」の項で説明するため、ここでの記載は省略する。 When the flattening layer is formed so as to fill the step in the product region and the non-product region, and when the same material as the first functional layer is used as the material of the flattening layer, a specific flattening layer The material is preferably the same material as any of the members forming the first functional layer. This is because the flattening layer can be formed at the same time when the first functional layer is formed, and an increase in the number of manufacturing steps can be suppressed. Further, in the present invention, for example, when identification information such as an alignment mark or a product number is arranged on the surface of the base material in the non-product region on the side of the coating layer, the material of the coating layer is the same as that of the first functional layer. Of these materials, it is preferable to select a material having higher transparency. Therefore, for example, as shown in FIG. 1B, when the material of the flattening layer 4 is the same as the material of the colored layer 21, the colored layer 21 having higher transparency is used among the colored layers 21 used for the color filter. It is preferable to select the same material as the colored layer 21. Therefore, as shown in FIG. 1B, when the colored layer 21 includes the red colored layer 21R, the green colored layer 21G and the blue colored layer 21B, the green colored layer 21G having higher transmittance should be selected. Is preferred. This is because when the alignment mark, the product number, or the like is formed in the non-product region, the alignment mark, the product number, or the like can be satisfactorily read through the flattening layer. The material of the colored layer is described in the above section “2. First functional layer (1) Color filter”, and thus the description thereof is omitted here.
本発明における平坦化層の厚みは、平坦化層により埋めようとする製品領域および非製品領域での段差に応じて適宜調整することができ、特に限定されない。また、平坦化層が第1機能層と同時に形成される場合には、同時に形成される第1機能層と同じ厚みとすることができる。 The thickness of the flattening layer in the present invention can be appropriately adjusted according to the step difference in the product region and the non-product region to be filled with the flattening layer, and is not particularly limited. When the planarizing layer is formed simultaneously with the first functional layer, it can have the same thickness as the first functional layer formed simultaneously.
本発明における平坦化層の形成方法としては、例えば、製品領域および非製品領域の段差を埋めるように、平坦化層を構成する平坦化層形成用組成物を塗布する方法が挙げられる。平坦化層形成用組成物の塗布方法としては、例えば、スピンコート法、ロールコート法、ダイコート法、スプレーコート法、ビードコート法等の公知の塗布法が挙げられる。なお、平坦化層が第1機能層と同一の材料であり、同時に形成される場合には、当該第1機能層と同様の形成方法により平坦化層を形成することができる。 Examples of the method of forming the planarizing layer in the present invention include a method of applying the composition for planarizing layer forming the planarizing layer so as to fill the step between the product region and the non-product region. Examples of the method for applying the composition for forming a planarizing layer include known application methods such as spin coating, roll coating, die coating, spray coating, and bead coating. When the flattening layer is made of the same material as the first functional layer and is formed at the same time, the flattening layer can be formed by the same forming method as that of the first functional layer.
4.基材
本発明における基材は、上述した第1機能層および被覆部材を支持すること部材である。
4. Base Material The base material in the present invention is a member that supports the first functional layer and the covering member described above.
本発明における基材は、通常、透明性を有する透明基材である。
ここで、「透明」という場合には、特段の断りがない限り、本発明の表示装置用被覆層付き基材が用いられた表示装置の操作者の、操作面からの視認を妨げない程度の透明性をいう。したがって、「透明」は、無色透明、および視認性を妨げない程度の有色透明を含み、また厳密な透過率で定義されず、本発明の表示装置用被覆層付き基材の用途等に応じて透過性の度合いを決定することができる。
The base material in the present invention is usually a transparent base material having transparency.
Here, unless otherwise specified, the term “transparent” means that the operator of the display device using the substrate with a coating layer for a display device of the present invention does not hinder visual recognition from the operation surface. Refers to transparency. Therefore, “transparent” includes colorless and transparent and colored and transparent to the extent that visibility is not hindered, and is not defined by strict transmittance, and it depends on the use of the substrate with a coating layer for a display device of the present invention. The degree of transparency can be determined.
本発明における基材の厚みとしては、各部材を支持できる程度の厚みであれば特に限定されず、本発明の表示装置用被覆層付き基材の用途等に応じて適宜設計が可能である。基材の具体的な厚みは、一般的な表示装置に用いられる基材の厚みと同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 The thickness of the substrate in the present invention is not particularly limited as long as it is a thickness that can support each member, and can be appropriately designed according to the application of the substrate with a coating layer for a display device of the present invention. The specific thickness of the base material can be the same as the thickness of the base material used in a general display device, and thus the description thereof is omitted here.
本発明における基材の材料は、一般的な表示装置に用いられる基材と同様の材料を用いることができ、例えば、石英ガラス、パイレックス(登録商標)ガラス、合成石英板等の可撓性のない無機基板、および、透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する樹脂基板等が挙げられる。中でも樹脂基板を用いることが好ましく、樹脂基板の中でもポリエチレンテレフタレート(PET)基板を用いることが好ましい。位相差調整基材にフレキシブル性を付与することができるからである。 As the material of the base material in the present invention, the same material as the base material used in a general display device can be used, and for example, a flexible glass material such as quartz glass, Pyrex (registered trademark) glass, or synthetic quartz plate can be used. Inorganic substrates, and flexible resin substrates such as transparent resin films and optical resin plates can be used. Above all, a resin substrate is preferably used, and among the resin substrates, a polyethylene terephthalate (PET) substrate is preferably used. This is because flexibility can be imparted to the phase difference adjusting substrate.
5.第2機能層
本発明の表示装置用被覆層付き基材は、被覆層の第1機能層とは反対側の面上に、粘着層を介して配置された第2機能層を有していても良い。
5. Second Functional Layer The substrate with a coating layer for a display device of the present invention has a second functional layer disposed on the surface of the coating layer opposite to the first functional layer via an adhesive layer. Is also good.
本発明において用いられる第2機能層は、上述した第1機能層の種類や、本発明の表示装置用被覆層付き基材の用途に応じて適宜選択することができる。以下、本発明における第1機能層がカラーフィルタである態様(第1態様)と、第1機能層が加飾部材である態様(第2態様)と、第1機能層がカラーフィルタおよび加飾部材である態様(第3態様)とに分けて説明する。 The second functional layer used in the present invention can be appropriately selected depending on the type of the first functional layer described above and the use of the substrate with a coating layer for a display device of the present invention. Hereinafter, an aspect in which the first functional layer in the present invention is a color filter (first aspect), an aspect in which the first functional layer is a decorative member (second aspect), and a first functional layer is a color filter and decorative The description will be made separately for the aspect (third aspect) that is a member.
(1)第1態様
本態様は、第1機能層がカラーフィルタである態様である。
(1) First Mode This mode is a mode in which the first functional layer is a color filter.
図4(a)は、本態様の表示装置用被覆層付き基材の一例を示す概略断面図である。図4(a)に示すように、本態様の表示装置用被覆層付き基材10は、第1機能層2aが、着色層21および遮光部22を有するカラーフィルタであり、被覆層3の第1機能層2aとは反対側の面に第2機能層2bを有する態様である。なお、説明していない符号については、図1(a)と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。また、図4(a)〜図4(c)に示す表示装置用被覆層付き基材では、図の簡略化のために、非製品領域については図示していない。なお、図4(a)〜図4(c)に示す表示装置用被覆層付き基材の非製品領域については、図1(a)、(b)と同様とすることができる。 FIG. 4A is a schematic cross-sectional view showing an example of a substrate with a coating layer for a display device of this aspect. As shown in FIG. 4A, in the base material 10 with a coating layer for a display device of the present embodiment, the first functional layer 2 a is a color filter having a colored layer 21 and a light shielding portion 22, and the first functional layer 2 a is a color filter having the first coating layer 3. In this embodiment, the second functional layer 2b is provided on the surface opposite to the first functional layer 2a. Note that the reference numerals not described can be the same as those in FIG. 1A, and thus the description thereof is omitted here. In addition, in the substrate with the coating layer for a display device shown in FIGS. 4A to 4C, the non-product region is not shown for the sake of simplification of the drawing. Note that the non-product region of the substrate with a coating layer for a display device shown in FIGS. 4A to 4C can be the same as in FIGS. 1A and 1B.
本態様における第2機能層としては、本態様の表示装置用被覆層付き基材の用途等に応じて適宜選択することができる。例えば、本態様の表示装置用被覆層付き基材を表示装置に用いる場合には、第2機能層としてタッチパネル、光学機能層等を用いることができる。
以下、タッチパネルおよび光学機能層について説明する。
The second functional layer in this aspect can be appropriately selected according to the application of the substrate with the coating layer for a display device in this aspect. For example, when the base material with the coating layer for a display device of this aspect is used for a display device, a touch panel, an optical functional layer, or the like can be used as the second functional layer.
Hereinafter, the touch panel and the optical functional layer will be described.
(a)タッチパネル
本態様におけるタッチパネルは、少なくともセンサ電極を有する。また、タッチパネルは通常、センサ電極を覆うように配置された絶縁層を有する。
(A) Touch panel The touch panel in this aspect has at least sensor electrodes. Further, the touch panel usually has an insulating layer arranged so as to cover the sensor electrode.
図4(b)は、本態様の表示装置用被覆層付き基材の他の例を示す概略断面図である。本態様におけるタッチパネルは、図4(b)に示すように、センサ電極25、およびセンサ電極25を覆う用に配置された絶縁層26を有する。なお、説明していない符号については、図4(a)と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 FIG. 4B is a schematic cross-sectional view showing another example of the base material with a coating layer for a display device of this embodiment. As shown in FIG. 4B, the touch panel according to this aspect includes the sensor electrode 25 and the insulating layer 26 arranged to cover the sensor electrode 25. Note that the reference numerals not described can be the same as those in FIG. 4A, and thus the description thereof is omitted here.
本態様におけるタッチパネルには、例えば、抵抗膜方式、静電容量方式、光学方式、電磁誘導方式、超音波方式等のものを用いることができる。 As the touch panel in this aspect, for example, a resistance film type, an electrostatic capacitance type, an optical type, an electromagnetic induction type, an ultrasonic type, or the like can be used.
(i)センサ電極
本態様におけるセンサ電極は、タッチパネルの位置検知を行うために用いられる部材である。
(I) Sensor Electrode The sensor electrode in this aspect is a member used for detecting the position of the touch panel.
本態様におけるセンサ電極は、透明性を有する透明導電層であっても良く、例えば、図4(b)に示すように、細線によるメッシュ状のメッシュ電極であっても良い。本態様においては、センサ電極が細線によるメッシュ状のメッシュ電極である場合、センサ電極に用いられる材料が不透明な金属材料であったとしても、見かけ上透明なセンサ電極とすることが可能である。 The sensor electrode in this embodiment may be a transparent conductive layer having transparency, and may be, for example, a mesh-shaped mesh electrode formed of thin wires as shown in FIG. In the present aspect, when the sensor electrode is a mesh-shaped mesh electrode made of fine wires, it is possible to make the sensor electrode apparently transparent even if the material used for the sensor electrode is an opaque metal material.
本態様におけるセンサ電極が透明導電層である場合、センサ電極の厚み等については、本態様により得られる位相差調整基材の用途に応じて適宜調整することができ、一般的なセンサ電極と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
また、本態様におけるセンサ電極がメッシュ電極である場合、センサ電極の厚み、線幅、ピッチおよび開口率等については、本態様により得られる位相差調整基材の用途に応じて適宜調整することができ、一般的なセンサ電極と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
When the sensor electrode in this aspect is a transparent conductive layer, the thickness of the sensor electrode and the like can be appropriately adjusted according to the application of the phase difference adjusting substrate obtained in this aspect, and is similar to a general sensor electrode. Therefore, the description here is omitted.
Further, when the sensor electrode in this aspect is a mesh electrode, the thickness, line width, pitch, aperture ratio, etc. of the sensor electrode may be appropriately adjusted according to the application of the phase difference adjusting substrate obtained in this aspect. Since it can be made the same as a general sensor electrode, the description thereof is omitted here.
本態様におけるセンサ電極の構成材料は、センサ電極が透明電極層である場合、例えば、酸化スズ、ITOと称される酸化インジウムスズ、IZOと称される酸化インジウム亜鉛等の透明導電材料等を用いることができる。
また、本態様におけるセンサ電極が不透明な金属材料により構成されたメッシュ電極である場合、金属材料には、例えば、銀、金、銅、クロム、プラチナ、アルミニウムの単体、あるいはこれらのいずれかを主体とする合金等が挙げられる。金属合金としては、APCと称される銀、パラジウム、銅の合金等を用いることができる。さらに、金属の複合体としては、MAMと称されるモリブデン、アルミニウム、モリブデンの3層構造体等も適用可能である。さらに、例えばPEDOT等の樹脂層形成用組成物に上記金属を加えた導電性高分子を用いることもできる。
When the sensor electrode is a transparent electrode layer, for example, a transparent conductive material such as tin oxide, indium tin oxide called ITO, and indium zinc oxide called IZO is used as the constituent material of the sensor electrode in this embodiment. be able to.
When the sensor electrode in this embodiment is a mesh electrode composed of an opaque metal material, the metal material may be, for example, a simple substance of silver, gold, copper, chromium, platinum, or aluminum, or any one of them. And the like. As the metal alloy, an alloy of silver, palladium, copper, or the like called APC can be used. Furthermore, as the metal composite, a three-layer structure of molybdenum, aluminum, molybdenum referred to as MAM, or the like can be applied. Further, a conductive polymer obtained by adding the above metal to a resin layer forming composition such as PEDOT can also be used.
(ii)絶縁層
本態様における絶縁層は、上述したセンサ電極を絶縁する際に用いることができる部材である。
(Ii) Insulating Layer The insulating layer in this aspect is a member that can be used when insulating the above-mentioned sensor electrode.
本態様における絶縁層は、通常、センサ電極を覆うように配置される。絶縁層の厚みは、
センサ電極を絶縁して短絡を防止することができる程度の厚みであることが好ましく、センサ電極の設計に応じて適宜調整することができる。例えば、絶縁層の厚みは、0.5μm〜3μmの範囲内とすることができる。
The insulating layer in this aspect is usually arranged so as to cover the sensor electrode. The thickness of the insulating layer is
The thickness is preferably such that the sensor electrode can be insulated to prevent a short circuit, and can be appropriately adjusted according to the design of the sensor electrode. For example, the thickness of the insulating layer can be in the range of 0.5 μm to 3 μm.
本態様における絶縁層の構成材料は、所望の絶縁性を有する材料であることが好ましく、タッチパネルに一般的に用いられるものを使用することができる。具体的には、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、カルド樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂等の絶縁性樹脂材料等や、ガラス等の無機材料等が挙げられる。なお、絶縁層に用いられる構成材料は、1種を単独で用いても良く、2種以上を組み合わせて用いても良い。また、絶縁層の層構造は、1層であっても良く、2層以上を含む多層であっても良い。 The constituent material of the insulating layer in this embodiment is preferably a material having a desired insulating property, and a material generally used for a touch panel can be used. Specific examples thereof include insulating resin materials such as polyimide resin, acrylic resin, cardo resin, epoxy resin, and melamine resin, and inorganic materials such as glass. The constituent materials used for the insulating layer may be used alone or in combination of two or more kinds. The layer structure of the insulating layer may be a single layer or a multilayer including two or more layers.
(iii)透明基材
本態様におけるタッチパネルは、必要に応じて、被覆層側の面にセンサ電極を支持すると透明基材を有していても良い。なお、本態様における透明基材については、上述した「3.基材」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
(Iii) Transparent Substrate The touch panel according to this embodiment may have a transparent substrate as needed to support the sensor electrode on the surface on the coating layer side. The transparent base material in this embodiment can be the same as the content described in the above section “3. Base material”, and thus the description thereof is omitted here.
(b)光学機能層
本態様における光学機能層は、液晶材料を固定した位相差層を有する部材である。
(B) Optical functional layer The optical functional layer in this embodiment is a member having a retardation layer in which a liquid crystal material is fixed.
図4(c)は、本態様の表示装置用被覆層付き基材の他の例を示す概略断面図である。本態様における光学機能層は、図4(c)に示すように、配向層27および位相差層28を有する。なお、説明していない符号については、図4(a)と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
以下、光学機能層に含まれる位相差層および配向層に分けて説明する。
FIG. 4C is a schematic cross-sectional view showing another example of the substrate with a coating layer for a display device of this aspect. The optical functional layer in this embodiment has an alignment layer 27 and a retardation layer 28, as shown in FIG. Note that the reference numerals not described can be the same as those in FIG. 4A, and thus the description thereof is omitted here.
Hereinafter, the retardation layer and the alignment layer included in the optical functional layer will be described separately.
(i)位相差層
本態様における位相差層は、光学機能層を構成する部材であり、液晶材料を固定した部材である。
(I) Retardation Layer The retardation layer in this embodiment is a member that constitutes the optical function layer, and is a member to which a liquid crystal material is fixed.
本態様における位相差層は、液晶材料を含む部材であり、当該液晶材料は光学機能層に所望の光学特性を付与することが可能な配列状態であることが好ましい。液晶材料の具体的な配列状態としては、例えば、位相差層の長さ方向に液晶材料が配向した状態や、位相差層の厚さ方向に液晶材料が配向した状態が挙げられる。前者の液晶構造はホモジニアス構造(平行配向構造)と称され、このような構造を有することにより、光学機能層に光学的にAプレートとしての性質を付与することができる。また、後者の液晶構造はホメオトロピック構造(垂直配向構造)と称され、このような構造を有することにより、光学機能層に光学的に正のCプレートとしての性質を付与することができる。さらに、液晶材料の配列状態としては、液晶材料が規則的な螺旋構造を示すコレステリック配列状態であっても良い。このような配列状態を有することにより、光学機能層に光学的に負のCプレートとしての性質を付与することができる。 The retardation layer in this embodiment is a member containing a liquid crystal material, and the liquid crystal material is preferably in an array state capable of imparting desired optical characteristics to the optical functional layer. Examples of the specific alignment state of the liquid crystal material include a state in which the liquid crystal material is aligned in the length direction of the retardation layer and a state in which the liquid crystal material is aligned in the thickness direction of the retardation layer. The former liquid crystal structure is referred to as a homogeneous structure (parallel alignment structure), and by having such a structure, it is possible to optically impart the property as an A plate to the optical functional layer. Further, the latter liquid crystal structure is called a homeotropic structure (vertical alignment structure), and by having such a structure, it is possible to give the optically functional layer a property as an optically positive C plate. Furthermore, the alignment state of the liquid crystal material may be a cholesteric alignment state in which the liquid crystal material exhibits a regular spiral structure. By having such an arrangement state, it is possible to give the optically functional layer a property as an optically negative C plate.
光学機能層を構成する位相差層の厚みは、液晶材料の種類や光学機能層に付与しようとする光学特性に応じて適宜調整することができ、特に限定されない。例えば、位相差層の面内レターデーションがλ/4に相当するような範囲内で形成されることが好ましい。位相差層の面内レターデーション値は、例えば、100nm〜160nmの範囲内であることが好ましく、110nm〜150nmの範囲内であることがより好ましく、120nm〜140nmの範囲内であることがさらに好ましい。位相差層の厚みを位相差層の面内レターデーションがλ/4分に相当するような範囲内の距離にする場合、具体的にどの程度の距離にするかは、後述する位相差層に含まれる液晶材料の種類に応じて適宜決定することができる。例えば、一般的な液晶材料を用いる場合には、位相差層の厚みは0.5μm〜2μmの範囲内とすることができる。 The thickness of the retardation layer constituting the optical functional layer can be appropriately adjusted according to the type of liquid crystal material and the optical characteristics to be imparted to the optical functional layer, and is not particularly limited. For example, it is preferable that the retardation layer is formed within a range corresponding to an in-plane retardation of λ/4. The in-plane retardation value of the retardation layer is, for example, preferably in the range of 100 nm to 160 nm, more preferably in the range of 110 nm to 150 nm, and further preferably in the range of 120 nm to 140 nm. .. When the thickness of the retardation layer is set to a distance within a range where the in-plane retardation of the retardation layer corresponds to λ/4 minutes, the specific distance is determined by the retardation layer described later. It can be appropriately determined according to the type of liquid crystal material included. For example, when a general liquid crystal material is used, the thickness of the retardation layer can be set in the range of 0.5 μm to 2 μm.
光学機能層を構成する位相差層は、本態様の表示装置用被覆層付き基材を、例えば表示装置に用いた際に、光源から照射された光を透過する部材となる。したがって、本態様における位相差層は、所定の透明性を有することが好ましい。ここで、「透明」とは、特段の断りがない限り、光源から照射された光を透過する程度に透明であることをいう。なお、位相差層の具体的な透過率については、一般的な光学機能層に用いられる位相差層と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。 The retardation layer that constitutes the optical functional layer serves as a member that transmits light emitted from a light source when the base material with a coating layer for a display device of the present embodiment is used in, for example, a display device. Therefore, the retardation layer in this embodiment preferably has a predetermined transparency. Here, the term “transparent” means being transparent to the extent that light emitted from a light source is transmitted, unless otherwise specified. The specific transmittance of the retardation layer can be the same as that of the retardation layer used for a general optical function layer, and thus the description thereof is omitted here.
位相差層に含まれる液晶材料は、位相差層に所望の光学機能性を付与することができる材料であれば良く、特に限定されない。中でも、感光性を示す液晶材料であることが好ましく、特に、ネマチック相を示す液晶材料が好適に用いられる。ネマチック液晶は、他の液晶相を示す液晶材料と比較して規則的に配列させることが容易だからである。なお、位相差層に用いられる具体的な材料については、一般的な位相差層に用いられる材料と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 The liquid crystal material contained in the retardation layer is not particularly limited as long as it is a material that can impart desired optical functionality to the retardation layer. Among them, a liquid crystal material exhibiting photosensitivity is preferable, and a liquid crystal material exhibiting a nematic phase is particularly preferably used. This is because nematic liquid crystals can be regularly arranged more easily than liquid crystal materials showing other liquid crystal phases. Note that the specific material used for the retardation layer can be the same as the material used for the general retardation layer, and thus the description thereof is omitted here.
(ii)配向層
本態様における光学機能層は、配向層を有していても良く、配向層を有さなくても良い。本態様においては、光透過性の観点から、配向層を有しないことが好ましい。配向層は、配向機能を有する部材である。配向機能は、例えば、光配向法やラビング法により付与される機能であり、光配向法を用いる場合には、配向層は光配向材料を含むことが好ましい。
以下、配向層の一例として、光配向法により配向機能が付与された配向層について説明する。なお、ラビング法により配向機能が付与された配向層については、一般的なものと同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
(Ii) Alignment Layer The optical functional layer in the present embodiment may or may not have an alignment layer. In the present embodiment, it is preferable not to have the alignment layer from the viewpoint of light transmittance. The alignment layer is a member having an alignment function. The alignment function is a function provided by, for example, a photo-alignment method or a rubbing method. When the photo-alignment method is used, the alignment layer preferably contains a photo-alignment material.
Hereinafter, as an example of the alignment layer, an alignment layer provided with an alignment function by a photo-alignment method will be described. The alignment layer provided with the alignment function by the rubbing method can be the same as a general one, and thus the description thereof is omitted here.
ここで、配向層に含まれる「光配向材料」は、光配向法により配向規制力を発現できる材料を指す。また、「光配向法」とは、任意の偏光状態を有する光(偏光)を配向層に照射することにより配向層の配向規制力(異方性)を発現させる方法である。したがって、本態様における光配向材料は、偏光を照射することにより配向規制力を発現できる材料ということができる。さらに、「配向規制力」とは、上述した光学機能層に含まれる液晶性化合物を配列させる相互作用を意味する。 Here, the "photo-alignment material" contained in the alignment layer refers to a material that can exhibit an alignment regulating force by a photo-alignment method. Further, the “photo-alignment method” is a method in which the alignment layer is exposed to light (polarized light) having an arbitrary polarization state so that the alignment layer exhibits an alignment regulating force (anisotropy). Therefore, the photo-alignment material in this embodiment can be said to be a material capable of exhibiting the alignment regulating force by irradiating polarized light. Furthermore, the "alignment regulating force" means an interaction for aligning the liquid crystal compounds contained in the above-mentioned optical functional layer.
本態様における配向層は、構成材料に応じて厚みを調整することができる。本態様における配向層の厚みは、例えば、0.01μm〜0.5μmの範囲内であることが好ましく、中でも0.02μm〜0.1μmの範囲内であることが好ましく、特に0.03μm〜0.05μmの範囲内であることが好ましい。本態様における配向層の厚みが上記範囲内であることにより、上述した光学機能層に含まれる液晶性化合物に対して所望の配向規制力を発現することができる。
なお、本態様における配向層の厚みは、例えば、走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて断面を観察することにより測定することができる。
The thickness of the alignment layer in this embodiment can be adjusted according to the constituent material. The thickness of the alignment layer in this embodiment is, for example, preferably in the range of 0.01 μm to 0.5 μm, more preferably in the range of 0.02 μm to 0.1 μm, and particularly preferably 0.03 μm to 0 μm. It is preferably within the range of 0.05 μm. When the thickness of the alignment layer in this embodiment is within the above range, a desired alignment regulating force can be exhibited for the liquid crystal compound contained in the above-mentioned optical functional layer.
The thickness of the alignment layer in this embodiment can be measured, for example, by observing the cross section using a scanning electron microscope (SEM).
本態様における配向層は、本態様の表示装置用被覆層付き基材を表示装置に用いた際に、光源から照射された光を透過する部材となる。したがって、本態様における配向層は、所定の透明性を有することが好ましい。ここで、「透明」とは、特段の断りがない限り、光源から照射された光を透過する程度に透明であることをいう。なお、配向層の具体的な透過率については、一般的な配向層と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。 The alignment layer in this embodiment serves as a member that transmits light emitted from a light source when the substrate with a coating layer for a display device in this embodiment is used in a display device. Therefore, the alignment layer in this embodiment preferably has a predetermined transparency. Here, the term “transparent” means being transparent to the extent that light emitted from a light source is transmitted, unless otherwise specified. The specific transmittance of the alignment layer may be the same as that of a general alignment layer, and thus the description thereof is omitted here.
配向層に含まれる配向材料は、偏光を照射することにより配向規制力を発現することができる材料であれば特に限定されない。このような光配向材料は、シス−トランス変化によって分子形状のみを変化させて配向規制力を可逆的に変化させる光異性化材料と、偏光を照射することにより、分子そのものを変化させる光反応材料とに大別することができる。本態様においては、光異性化材料および光反応材料のいずれであっても好適に用いることができるが、光反応材料を用いることがより好ましい。
光反応材料は、偏光が照射されることによって分子が反応して配向規制力を発現するものであるため、不可逆的に配向規制力を発現することが可能になる。したがって、光反応材料の方が配向規制力に経時安定性において優れている。
The alignment material contained in the alignment layer is not particularly limited as long as it is a material that can exhibit the alignment regulating force by irradiation with polarized light. Such photo-alignment materials include photo-isomerization materials that change only the molecular shape by cis-trans change to reversibly change the alignment control force, and photo-reactive materials that change the molecules themselves by irradiating polarized light. Can be roughly divided into In this embodiment, either a photoisomerization material or a photoreactive material can be preferably used, but a photoreactive material is more preferably used.
Since the photoreactive material expresses an alignment regulating force by reacting molecules when irradiated with polarized light, it becomes possible to irreversibly develop the alignment regulating force. Therefore, the photo-reactive material is superior in alignment regulating force and stability over time.
光反応材料は、偏光照射によって生じる反応の種類によってさらに分別することができる。具体的には、光二量化反応を生じることによって配向規制力を発現する光二量化型材料、光分解反応を生じることによって配向規制力を発現する光結合型材料、および光分解反応と光結合反応とを生じることによって配向規制力を発現する光分解−結合型材料等に分けることができる。本態様においては、上述した光反応材料のいずれであっても好適に用いることができるが、中でも安定性および反応性(感度)等の観点から光二量化型材料を用いることが好ましい。 Photoreactive materials can be further sorted by the type of reaction that occurs with polarized irradiation. Specifically, a photodimerization-type material that develops an alignment control force by causing a photodimerization reaction, a photocoupling material that develops an alignment control force by causing a photolysis reaction, and a photolysis reaction and a photocoupling reaction Can be divided into photo-decomposition-bonding type materials and the like that exhibit orientation regulating force. In this embodiment, any of the photoreactive materials described above can be preferably used, but among them, the photodimerization type material is preferably used from the viewpoint of stability, reactivity (sensitivity) and the like.
本態様において用いられる光配向材料は、1種類のみであっても良く、2種類以上であっても良い。 The photo-alignment material used in this embodiment may be only one kind or two or more kinds.
(c)その他の部材
本態様における第2機能層は、上述したタッチパネルや光学機能層の他にも、必要に応じてその他の材料を有していても良い。その他の部材としては、例えば、粘着層、保護層等が挙げられる。なお、粘着層および保護層については、上述した「2.第1機能層 (3)その他の部材」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
(C) Other members The second functional layer in the present aspect may include other materials, if necessary, in addition to the touch panel and the optical functional layer described above. Examples of other members include an adhesive layer and a protective layer. The adhesive layer and the protective layer can be the same as the contents described in the above section “2. First functional layer (3) Other members”, and therefore description thereof is omitted here.
(2)第2態様
本態様は、第1機能層が加飾部材である態様である。
(2) Second Mode This mode is a mode in which the first functional layer is a decorative member.
図5(a)は、本態様の表示装置用被覆層付き基材の一例を示す概略断面図である。図5(a)に示すように、本態様の表示装置用被覆層付き基材10は、第1機能層2aが、加飾部24を有する加飾部材であり、被覆部3の第1機能層2aとは反対側の面に第2機能層2bを有する態様である。なお、説明していない符号については、図1(a)、(b)と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 FIG. 5A is a schematic cross-sectional view showing an example of the substrate with a coating layer for a display device of this embodiment. As shown in FIG. 5A, in the display device-attached base material 10 for a display device, the first functional layer 2 a is a decorative member having a decorative portion 24, and the first function of the covering portion 3 is provided. This is a mode in which the second functional layer 2b is provided on the surface opposite to the layer 2a. Note that reference numerals not described can be the same as those in FIGS. 1A and 1B, and thus description thereof is omitted here.
本態様における第2機能層としては、本態様の表示装置用被覆層付き基材の用途等に応じて適宜選択することができる。例えば、本態様の表示装置用被覆層付き基材を表示装置に用いる場合には、第2機能層としてカラーフィルタ、タッチパネル等を用いることができる。
以下、カラーフィルタおよびタッチパネルについて説明する。
The second functional layer in this aspect can be appropriately selected according to the application of the substrate with the coating layer for a display device in this aspect. For example, when the base material with the coating layer for a display device of the present aspect is used for a display device, a color filter, a touch panel, or the like can be used as the second functional layer.
Hereinafter, the color filter and the touch panel will be described.
(a)カラーフィルタ
本態様におけるカラーフィルタは、少なくとも着色層を有する。また、カラーフィルタは通常、開口部を有する遮光部を有する。
(A) Color filter The color filter in this embodiment has at least a coloring layer. In addition, the color filter usually has a light shielding portion having an opening.
図5(b)は、本態様の表示装置用被覆層付き基材の他の例を示す概略断面図である。本態様におけるカラーフィルタは、図5(b)に示すように、開口部を有する遮光部22と、開口部に配置された着色層21とを有する。なお、説明していない符号については、図5(a)と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 FIG. 5B is a schematic cross-sectional view showing another example of the base material with a coating layer for a display device of this embodiment. As shown in FIG. 5B, the color filter according to this aspect includes a light shielding portion 22 having an opening and a colored layer 21 arranged in the opening. Note that the reference numerals not described can be the same as those in FIG. 5A, so description thereof will be omitted here.
本態様におけるカラーフィルタについては、上述した「2.第1機能層 (1)カラーフィルタ」の項に記載した内容と同様とすることができるためここでの記載は省略する。 The color filter in this embodiment can be the same as the content described in the above section “2. First functional layer (1) Color filter”, and therefore description thereof is omitted here.
(b)タッチパネル
本態様におけるタッチパネルは、少なくともセンサ電極を有する。また、タッチパネルは通常、センサ電極を覆うように配置された絶縁層を有する。
(B) Touch panel The touch panel in this aspect has at least a sensor electrode. Further, the touch panel usually has an insulating layer arranged so as to cover the sensor electrode.
図5(c)は、本態様の表示装置用被覆層付き基材の他の例を示す概略断面図である。本態様におけるタッチパネルは、図5(c)に示すように、センサ電極25、およびセンサ電極25を覆う用に配置された絶縁層26を有する。なお、説明していない符号については、図5(a)と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 FIG. 5C is a schematic cross-sectional view showing another example of the substrate with a coating layer for a display device of this embodiment. As shown in FIG. 5C, the touch panel according to this aspect includes a sensor electrode 25 and an insulating layer 26 arranged to cover the sensor electrode 25. Note that the reference numerals not described can be the same as those in FIG. 5A, and thus the description thereof is omitted here.
本態様におけるタッチパネルについては、上述した「4.第2機能層 (1)第1態様 (a)タッチパネル」の項に記載した内容と同様とすることができるためここでの記載は省略する。 The touch panel in this aspect can be the same as the content described in the above section “4. Second functional layer (1) First aspect (a) Touch panel”, and therefore the description thereof is omitted here.
(c)その他の部材
本態様における第2機能層は、上述したカラーフィルタやタッチパネルの他にも、必要に応じてその他の材料を有していても良い。その他の部材としては、例えば、粘着層、保護層等が挙げられる。なお、粘着層および保護層については、上述した「2.第1機能層 (3)その他の部材」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
(C) Other members The second functional layer in this aspect may include other materials, if necessary, in addition to the above-described color filter and touch panel. Examples of other members include an adhesive layer and a protective layer. The adhesive layer and the protective layer can be the same as the contents described in the above section “2. First functional layer (3) Other members”, and thus the description thereof is omitted here.
(3)第3態様
本態様は、第1機能層がカラーフィルタおよび加飾部材である態様である。
(3) Third Mode This mode is a mode in which the first functional layer is a color filter and a decorative member.
図6(a)は、本態様の表示装置用被覆層付き基材の一例を示す概略断面図である。図6(a)に示すように、本態様の表示装置用被覆層付き基材10は、第1機能層2aが、加飾部24を有する加飾部材、および着色層21および遮光部22を有するカラーフィルタであり、被覆層3の第1機能層2aとは反対側の面に第2機能層2bを有する態様である。なお、説明していない符号については、図1(a)と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 FIG. 6A is a schematic cross-sectional view showing an example of a substrate with a coating layer for a display device of this aspect. As shown in FIG. 6A, in the base material 10 with a cover layer for a display device of the present embodiment, the first functional layer 2a includes a decorative member having a decorative portion 24, a colored layer 21 and a light shielding portion 22. The color filter has the second functional layer 2b on the surface of the coating layer 3 opposite to the first functional layer 2a. Note that the reference numerals not described can be the same as those in FIG. 1A, and thus the description thereof is omitted here.
本態様における第2機能層としては、本態様の表示装置用被覆層付き基材の用途等に応じて適宜選択することができる。例えば、本態様の表示装置用被覆層付き基材を表示装置に用いる場合には、第2機能層としてタッチパネル、光学機能層等を用いることができる。
以下、タッチパネルおよび光学機能層について説明する。
The second functional layer in this aspect can be appropriately selected according to the application of the substrate with the coating layer for a display device in this aspect. For example, when the base material with the coating layer for a display device of this aspect is used for a display device, a touch panel, an optical functional layer, or the like can be used as the second functional layer.
Hereinafter, the touch panel and the optical functional layer will be described.
(a)タッチパネル
本態様におけるタッチパネルは、少なくともセンサ電極を有する。また、タッチパネルは通常、センサ電極を覆うように配置された絶縁層を有する。
(A) Touch panel The touch panel in this aspect has at least sensor electrodes. Further, the touch panel usually has an insulating layer arranged so as to cover the sensor electrode.
図6(b)は、本態様の表示装置用被覆層付き基材の他の例を示す概略断面図である。本態様におけるタッチパネルは、図6(b)に示すように、センサ電極25、およびセンサ電極25を覆う用に配置された絶縁層26を有する。なお、説明していない符号については、図6(a)と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 FIG.6(b) is a schematic sectional drawing which shows the other example of the base material with a coating layer for display devices of this aspect. As shown in FIG. 6B, the touch panel according to this aspect includes a sensor electrode 25 and an insulating layer 26 arranged to cover the sensor electrode 25. Note that reference numerals not described can be the same as those in FIG. 6A, and thus description thereof is omitted here.
本態様におけるタッチパネルについては、上述した「4.第2機能層 (1)第1態様 (a)タッチパネル」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 The touch panel in this aspect can be the same as the content described in the above section “4. Second functional layer (1) First aspect (a) Touch panel”, and thus the description thereof is omitted here.
(b)光学機能層
本態様における光学機能層は、液晶材料を固定した位相差層を有する部材である。
(B) Optical functional layer The optical functional layer in this embodiment is a member having a retardation layer in which a liquid crystal material is fixed.
図6(c)は、本態様の表示装置用被覆層付き基材の他の例を示す概略断面図である。本態様における光学機能層は、図6(c)に示すように、配向層27および位相差層28を有する。なお、説明していない符号については、図6(a)と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 FIG.6(c) is a schematic sectional drawing which shows the other example of the base material with a coating layer for display devices of this aspect. The optical functional layer in this embodiment has an alignment layer 27 and a retardation layer 28, as shown in FIG. Note that reference numerals not described can be the same as those in FIG. 6A, and thus description thereof is omitted here.
本態様における光学機能層については、上述した「4.第2機能層 (1)第1態様 (b)光学機能層」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 The optical functional layer in this embodiment can be the same as the content described in the above section “4. Second functional layer (1) First embodiment (b) Optical functional layer”, and therefore the description here. Is omitted.
(c)その他の部材
本態様における第2機能層は、上述したタッチパネル、光学機能層の他にも、必要に応じてその他の材料を有していても良い。その他の部材としては、例えば、粘着層、保護層等が挙げられる。なお、粘着層および保護層については、上述した「2.第1機能層 (3)その他の部材」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
(C) Other members The second functional layer in this aspect may include other materials, if necessary, in addition to the touch panel and the optical functional layer described above. Examples of other members include an adhesive layer and a protective layer. The adhesive layer and the protective layer can be the same as the contents described in the above section “2. First functional layer (3) Other members”, and thus the description thereof is omitted here.
6.その他の部材
本発明における表示装置用被覆層付き基材は、上述した被覆部材、第1機能層および基材を有していれば良く、必要に応じてその他の部材を有していても良い。その他の部材としては、例えば、粘着層、保護層、反射防止層等が挙げられる。なお、粘着層、保護層および反射防止層については、上述した「2.第1機能層 (3)その他の部材」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
6. Other members The base material with a coating layer for a display device according to the present invention may have the above-mentioned covering member, the first functional layer and the base material, and may have other members as necessary. .. Examples of other members include an adhesive layer, a protective layer, an antireflection layer, and the like. The adhesive layer, the protective layer, and the antireflection layer can have the same contents as those described in the above section “2. First functional layer (3) Other member”, and therefore the description here is omitted. Omit it.
B.表示装置用被覆層付きカラーフィルタ基材
本発明の表示装置用被覆層付きカラーフィルタ基材は、基材と、上記基材の一方の面上に配置された第1機能層と、上記第1機能層の上記基材とは反対側の面上に配置され、透明性を有する被覆層とを有する表示装置用被覆層付きカラーフィルタ基材であって、上記表示装置用被覆層付きカラーフィルタ基材は、表示装置となる製品領域、および上記製品領域の外周に配置された非製品領域を有し、上記第1機能層は、開口部を有する遮光部と、上記開口部に配置された着色層とを有するカラーフィルタであり、上記第1機能層の上記製品領域および上記非製品領域は、上記被覆層側の面の段差が1.5μm以上であり、上記被覆層の上記製品領域および上記非製品領域は、上記第1機能層とは反対側の面の段差が0.1μm以下であることを特徴とする部材である。
B. A color filter substrate with a coating layer for a display device A color filter substrate with a coating layer for a display device according to the present invention includes a substrate, a first functional layer disposed on one surface of the substrate, and the first functional layer. A color filter substrate with a coating layer for a display device, which is disposed on the surface of the functional layer opposite to the substrate and has a transparent coating layer, the color filter substrate having a coating layer for the display device. The material has a product region to be a display device, and a non-product region arranged on the outer periphery of the product region, and the first functional layer has a light-shielding portion having an opening and a coloring arranged in the opening. A color filter having a layer, the product region and the non-product region of the first functional layer have a step difference of 1.5 μm or more on the surface on the coating layer side, and the product region and the product layer of the coating layer. The non-product region is a member having a step difference of 0.1 μm or less on the surface opposite to the first functional layer.
本発明の表示装置用被覆層付きカラーフィルタ基材は、上述した表示装置用被覆層付き基材における第1機能層がカラーフィルタである部材である。したがって、表示装置用被覆層付きカラーフィルタ基材の図面の説明は、上述した図1(a)、(b)と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 The color filter substrate with a coating layer for a display device of the present invention is a member in which the first functional layer in the substrate with a coating layer for a display device is a color filter. Therefore, the description of the drawing of the color filter substrate with a coating layer for a display device can be the same as that in FIGS. 1A and 1B described above, and thus the description thereof is omitted here.
本発明によれば、カラーフィルタの製品領域および非製品領域を含む所定の段差を有する表面に、被覆層を有することにより、カラーフィルタの製品領域および非製品領域を含む表面の段差を平坦にすることができ、かつ、カラーフィルタの段差による空隙の発生を抑制することができる表示装置用被覆層付きカラーフィルタ基材とすることができる。なお、具体的な効果の説明については、上述した「A.表示装置用被覆層付き基材」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 According to the present invention, by providing the coating layer on the surface having the predetermined step including the product area and the non-product area of the color filter, the step of the surface including the product area and the non-product area of the color filter is made flat. It is possible to provide a color filter substrate with a coating layer for a display device, which is capable of suppressing the generation of voids due to the step of the color filter. Note that the description of the specific effects can be the same as the content described in the above-mentioned section "A. Substrate with a coating layer for a display device", and thus the description thereof is omitted here.
本発明の表示装置用被覆層付きカラーフィルタ基材は、基材の非製品領域は、第1機能層側の面に、着色層と同一の材料を有する平坦化層を有し、平坦化層の基材とは反対側の面に、被覆層が配置されていることが好ましい。なお、平坦化層については、上述した「A.表示装置用被覆層付き基材 3.平坦化層」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 In the color filter substrate with a coating layer for a display device of the present invention, the non-product region of the substrate has a flattening layer made of the same material as the colored layer on the surface on the first functional layer side. It is preferable that the coating layer is arranged on the surface opposite to the base material. The flattening layer can be the same as the content described in the above section “A. Substrate with coating layer for display device 3. Flattening layer”, and thus the description thereof is omitted here.
本発明の表示装置用被覆層付きカラーフィルタ基材は、少なくとも基材、着色層、遮光部および被覆層を有する。本発明の表示装置用被覆層付きカラーフィルタ基材における基材、着色層、遮光部および被覆層については、上述した「A.表示装置用被覆層付き基材」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。また、本発明の表示装置用被覆層付きカラーフィルタ基材は、上述した部材の他にも、必要に応じて、額縁遮光部や加飾部材、第2機能層等のその他の部材を有していても良い。本発明におけるその他の部材についても、上述した「A.表示装置用被覆層付き基材」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 The color filter substrate with a coating layer for a display device of the present invention has at least a substrate, a colored layer, a light shielding part, and a coating layer. The base material, the colored layer, the light-shielding portion, and the coating layer in the color filter substrate with the coating layer for a display device of the present invention are the same as those described in the above-mentioned "A. Substrate with a coating layer for a display device". Therefore, the description here is omitted. Further, the color filter substrate with a coating layer for a display device of the present invention has, in addition to the above-mentioned members, other members such as a frame light-shielding portion, a decorative member, and a second functional layer, if necessary. It may be. The other members in the present invention can be the same as the contents described in the above-mentioned section "A. Substrate with a coating layer for a display device", and therefore the description thereof is omitted here.
C.積層体
本発明の積層体は、上述した表示装置用被覆層付きカラーフィルタ基材と、表示パネルとを有することを特徴とする装置である。
C. Laminated body A laminated body of the present invention is a device including the above-mentioned color filter substrate with a coating layer for a display device and a display panel.
図7は、本発明の積層体の一例を示す概略平面図である。図7に示すように、本発明の積層体100は、表示装置用被覆層付きカラーフィルタ基材20および表示パネル40を有する。なお、図7に示す積層体100は、表示装置用被覆層付きカラーフィルタ基材20が加飾部材を有しない場合であって、表示装置用被覆層付きカラーフィルタ基材20の表示パネル40とは反対側の面に加飾部材30を有する場合を示す例である。 FIG. 7: is a schematic plan view which shows an example of the laminated body of this invention. As shown in FIG. 7, the laminate 100 of the present invention has a color filter substrate 20 with a coating layer for a display device and a display panel 40. The laminated body 100 shown in FIG. 7 is a case where the color filter substrate 20 with a coating layer for a display device does not have a decorating member, and is the same as the display panel 40 of the color filter substrate 20 with a coating layer for a display device. Is an example showing a case where the decorative member 30 is provided on the opposite surface.
また、図7に示す積層体100は、単一の表示装置を示す例であるが、例えば、単一の基材に、複数の機能層が多面付けされた多面付け表示装置であっても良い。この場合、本発明における表示装置用被覆層付きカラーフィルタ基材は、例えば、図1(b)に示すように、各表示装置の配線等が配置される外周部に、額縁遮光部22’を有することが好ましい。本発明においては、例えば図2(b)に示すように、額縁遮光部22’により生じた段差t1、t2を、被覆層により埋めて平坦化することができ、かつ被覆層との間に、非接触領域となる空隙の発生を抑制することができる。 Further, the laminate 100 shown in FIG. 7 is an example showing a single display device, but may be, for example, a multi-faced display device in which a plurality of functional layers are multi-faced on a single base material. .. In this case, the color filter substrate with a coating layer for a display device according to the present invention has, for example, as shown in FIG. 1B, a frame light-shielding portion 22 ′ on the outer peripheral portion where the wiring of each display device is arranged. It is preferable to have. In the present invention, for example, as shown in FIG. 2B, the steps t 1 and t 2 generated by the frame light-shielding portion 22 ′ can be filled with a coating layer to be planarized, and between the coating layer and In addition, it is possible to suppress the generation of voids that are non-contact areas.
なお、本発明の積層体の具体的な構成については、例えば、特許第5392641号と同様とすることができるため、ここでの詳しい記載は省略する。 The specific structure of the laminate of the present invention can be the same as that of, for example, Japanese Patent No. 5392644, and thus detailed description thereof is omitted here.
本発明の積層体の用途としては、例えば、スマートフォン等の携帯電話、タブレットPC等の携帯情報端末、パーソナルコンピュータ、カーナビゲーション、デジタルカメラ、電子手帳、ゲーム機器、自動販売機、ATM端末、POS端末等が挙げられる。 Applications of the laminate of the present invention include, for example, mobile phones such as smartphones, mobile information terminals such as tablet PCs, personal computers, car navigations, digital cameras, electronic organizers, game machines, vending machines, ATM terminals, POS terminals. Etc.
1.表示装置用被覆層付きカラーフィルタ基材
本発明における表示装置用被覆層付きカラーフィルタ基材は、基材と、上記基材の一方の面上に配置された第1機能層と、上記第1機能層の上記基材とは反対側の面上に配置され、透明性を有する被覆層とを有する表示装置用被覆層付きカラーフィルタ基材であって、上記表示装置用被覆層付きカラーフィルタ基材は、表示装置となる製品領域、および上記製品領域の外周に配置された非製品領域を有し、上記第1機能層は、開口部を有する遮光部と、上記開口部に配置された着色層とを有するカラーフィルタであり、上記第1機能層の上記製品領域および上記非製品領域は、上記被覆層側の面の段差が1.5μm以上であり、上記被覆層の上記製品領域および上記非製品領域は、上記第1機能層とは反対側の面の段差が0.1μm以下であることを特徴とする部材である。
なお、本発明における表示装置用被覆層付きカラーフィルタ基材については、上述した「B.表示装置用被覆層付きカラーフィルタ基材」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
1. A color filter substrate with a coating layer for a display device A color filter substrate with a coating layer for a display device according to the present invention includes a substrate, a first functional layer disposed on one surface of the substrate, and the first functional layer. A color filter substrate with a coating layer for a display device, which is disposed on the surface of the functional layer opposite to the substrate and has a transparent coating layer, the color filter substrate having a coating layer for the display device. The material has a product region to be a display device, and a non-product region arranged on the outer periphery of the product region, and the first functional layer has a light-shielding portion having an opening and a coloring arranged in the opening. A color filter having a layer, the product region and the non-product region of the first functional layer have a step difference of 1.5 μm or more on the surface on the coating layer side, and the product region and the product layer of the coating layer. The non-product region is a member having a step difference of 0.1 μm or less on the surface opposite to the first functional layer.
The color filter substrate with a coating layer for a display device according to the present invention can be the same as the content described in the above section “B. Color filter substrate with a coating layer for a display device”, The description in is omitted.
2.表示パネル
本発明における表示パネルは、液晶表示パネル、電解発光(EL)パネルが代表的であるが、その他、電子ペーパーパネル、ブラウン管によるディスプレイ装置でも良く、公知の各種表示パネルでも良い。
2. Display Panel The display panel in the present invention is typically a liquid crystal display panel or an electroluminescent (EL) panel, but may be an electronic paper panel, a display device using a cathode ray tube, or various known display panels.
上述した表示パネルについては、一般的な表示装置に用いられるものと同様とすることができるため、ここでの具体的な説明は省略する。 The display panel described above can be the same as that used in a general display device, and thus a detailed description thereof will be omitted here.
D.表示装置用被覆層付き基材の製造方法
本発明の表示装置用被覆層付き基材の製造方法は、所望の表示装置用被覆層付き基材を得ることができる方法であれば特に限定されない。本発明においては、次の3つの態様(Aの態様、Bの態様、Cの態様)が挙げられる。
以下、本発明の表示装置用被覆層付き基材の製造方法については、Aの態様、Bの態様、Cの態様に分けて説明する。
D. Method for producing base material with coating layer for display device The production method for the base material with coating layer for display device of the present invention is not particularly limited as long as it is a method capable of obtaining a desired base material with coating layer for display device. In the present invention, the following three modes (A mode, B mode, C mode) are included.
Hereinafter, the method for producing the base material with the coating layer for a display device of the present invention will be described separately in the A mode, the B mode, and the C mode.
1.Aの態様
本態様の表示装置用被覆層付き基材の製造方法は、基材と、上記基材の一方の面上に配置された第1機能層と、上記第1機能層の上記基材とは反対側の面上に配置され、透明性を有する被覆層とを有する表示装置用被覆層付き基材を製造する表示装置用被覆層付き基材の製造方法であって、上記第1機能層の上記基材とは反対側の面に、上記被覆層を形成する被覆層形成工程と、上記被覆層形成工程後に、上記被覆層の上記第1機能層とは反対側の面を研磨する研磨工程とを有し、上記表示装置用被覆層付き基材は、表示装置となる製品領域、および上記製品領域の外周に配置された非製品領域を有し、上記第1機能層の上記製品領域および上記非製品領域は、上記被覆層側の面の段差が1.5μm以上であり、上記被覆層形成工程で得られる上記被覆層は、少なくとも上記第1機能層の上記被覆層側の段差に相当する厚みを有し、上記研磨工程で得られる上記被覆層の上記製品領域および上記非製品領域は、上記第1機能層とは反対側の面の段差が0.1μm以下であることを特徴とするる製造方法である。
1. Aspect of A The method for producing a substrate with a coating layer for a display device according to this aspect includes a substrate, a first functional layer disposed on one surface of the substrate, and the substrate of the first functional layer. A method for producing a substrate with a coating layer for a display device, which is disposed on a surface opposite to the substrate, and has a coating layer having a transparency, the method comprising: The coating layer forming step of forming the coating layer on the surface of the layer opposite to the base material, and the surface of the coating layer opposite to the first functional layer is polished after the coating layer forming step. And a polishing step, the substrate with a coating layer for a display device has a product region to be a display device, and a non-product region arranged on the outer periphery of the product region, and the product of the first functional layer. The region and the non-product region have a step difference of 1.5 μm or more on the surface on the coating layer side, and the coating layer obtained in the coating layer forming step is at least a step on the coating layer side of the first functional layer. In the product region and the non-product region of the coating layer obtained in the polishing step, the step difference on the surface opposite to the first functional layer is 0.1 μm or less. It is a characteristic manufacturing method.
図8(a)、(b)は、本態様の表示装置用被覆層付き基材の製造方法の一例を示す概略工程図である。本態様の表示装置用被覆層付き基材の製造方法は、図8(a)に示すように第1機能層2aの記基材1とは反対側の面に、被覆層3を形成する被覆層形成工程と、図8(b)に示すように、被覆層形成工程後に、被覆層3の第1機能層2aとは反対側の面を研磨する研磨工程とを有する。なお、図8(a)、(b)では、第1機能層2aとして着色層21および遮光部22を有するカラーフィルタを用いた例であり、図の簡略化のために、非製品領域は省略している。図8(a)、(b)に示す表示装置用被覆層付き基材の非製品領域については、図1(a)、(b)と同様とすることができる。また、図8(a)、(b)で説明していない符号については、図1(a)と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 FIG. 8A and FIG. 8B are schematic process diagrams showing an example of a method of manufacturing the substrate with a coating layer for a display device according to this embodiment. As shown in FIG. 8( a ), the method for producing a base material with a coating layer for a display device according to this embodiment is a coating method for forming a coating layer 3 on the surface of the first functional layer 2 a opposite to the base material 1. A layer forming step and, as shown in FIG. 8B, after the coating layer forming step, there are a polishing step of polishing the surface of the coating layer 3 opposite to the first functional layer 2a. 8A and 8B are examples in which a color filter having the colored layer 21 and the light shielding portion 22 is used as the first functional layer 2a, and the non-product region is omitted for simplification of the drawing. is doing. The non-product region of the base material with a coating layer for a display device shown in FIGS. 8A and 8B can be the same as in FIGS. 1A and 1B. The reference numerals not described in FIGS. 8A and 8B can be the same as those in FIG. 1A, and thus the description thereof is omitted here.
本態様によれば、被覆層形成工程後に、被覆層を研磨する研磨工程を有することにより、被覆層形成工程で形成される被覆層の厚みを厚くした場合であっても、研磨工程において被覆層の厚みを所望の厚みに調整することができる。したがって、被覆層形成工程で形成する被覆層の厚みを厚くすることで、第1機能層の所定の段差を埋めて、第1機能層の表面の段差を平坦にすることができ、かつ、第1機能層の段差による空隙の発生を抑制することができる表示装置用被覆層付き基材を得ることができる。 According to this aspect, by including the polishing step of polishing the coating layer after the coating layer forming step, even when the thickness of the coating layer formed in the coating layer forming step is increased, the coating layer is formed in the polishing step. Can be adjusted to a desired thickness. Therefore, by increasing the thickness of the coating layer formed in the coating layer forming step, it is possible to fill a predetermined step of the first functional layer and flatten the step of the surface of the first functional layer. It is possible to obtain a substrate with a coating layer for a display device, which can suppress the generation of voids due to the step of the one-functional layer.
以下、本態様の表示装置用被覆層付き基材の製造方法について、各工程に分けて説明する。 Hereinafter, the method for producing the substrate with a coating layer for a display device according to this embodiment will be described in each step.
(1)被覆層形成工程
本態様における被覆層形成工程は、第1機能層の基材とは反対側の面に、被覆層を形成する工程である。
(1) Covering Layer Forming Step The covering layer forming step in this embodiment is a step of forming a covering layer on the surface of the first functional layer opposite to the base material.
本態様における被覆層形成工程は、第1機能層の所定の段差を有する表面に、被覆層を形成することができる工程であれば特に限定されない。本態様においては、第1機能層の表面の段差を埋めて平坦化することができ、かつ第1機能層と被覆層との接触界面において、非接触領域となる空隙が生じないように被覆層を形成することができる工程であることが好ましい。ここで、本態様においては、被覆層形成工程後に、被覆層を所望の厚みに研磨する研磨工程を有するため、本態様における被覆層形成工程により得られる被覆層の厚みは特に考慮する必要がない。したがって、本態様における被覆層形成工程において形成される被覆層は、第1機能層の表面の段差を埋めて平坦化することができ、かつ第1機能層と被覆層との接触界面において、非接触領域となる空隙が生じないような厚みとすることができる。 The coating layer forming step in this aspect is not particularly limited as long as the coating layer can be formed on the surface of the first functional layer having a predetermined step. In this aspect, the surface of the first functional layer can be filled with the steps to be flattened, and the coating layer is formed so as not to generate voids which are non-contact areas at the contact interface between the first functional layer and the coating layer. Is preferable. Here, in the present aspect, since the coating layer forming step has a polishing step of polishing the coating layer to a desired thickness, it is not necessary to particularly consider the thickness of the coating layer obtained by the coating layer forming step in the present aspect. .. Therefore, the coating layer formed in the coating layer forming step in the present embodiment can fill the steps on the surface of the first functional layer and flatten it, and at the contact interface between the first functional layer and the coating layer, The thickness can be set so that no voids that are contact regions are generated.
本態様における被覆部材形成工程で形成する被覆層の厚みは、第1機能層の表面の段差を埋めて平坦化することができ、かつ第1機能層と被覆層との接触界面において、非接触領域となる空隙が生じないような厚みであることが好ましい。具体的には、第1機能層の表面の段差に応じて適宜調整することができ、例えば、第1機能層の表面の段差の1倍〜15倍の範囲内であることが好ましく、中でも1.5倍〜12倍の範囲内であることが好ましく、特に2倍〜10倍の範囲内であることが好ましい。被覆層形成工程で形成する被覆層の厚みを上記範囲内とすることにより、第1機能層の表面の段差を十分に埋めて平坦化することができ、かつ、第1機能層と被覆層との接触界面において、非接触領域となる空隙の発生を十分に抑制することが可能となる。 The thickness of the coating layer formed in the coating member forming step in this aspect can be flattened by filling the step on the surface of the first functional layer, and is non-contact at the contact interface between the first functional layer and the coating layer. It is preferable that the thickness is such that voids that form regions are not generated. Specifically, it can be appropriately adjusted according to the level difference on the surface of the first functional layer, and for example, it is preferably within a range of 1 to 15 times the level difference on the surface of the first functional layer, and among them, 1 It is preferably in the range of 0.5 times to 12 times, and particularly preferably in the range of 2 times to 10 times. By setting the thickness of the coating layer formed in the coating layer forming step within the above range, it is possible to sufficiently fill the level difference on the surface of the first functional layer and planarize it, and to form the first functional layer and the coating layer. It is possible to sufficiently suppress the generation of voids that are non-contact areas at the contact interface.
本態様における被覆層形成工程の具体的な方法としては、例えば、被覆層を構成する被覆層形成用組成物を第1機能層の表面に塗布する方法が挙げられる。 As a specific method of the coating layer forming step in this embodiment, for example, a method of applying the coating layer forming composition forming the coating layer to the surface of the first functional layer can be mentioned.
ここで、被覆層形成用組成物は、所定の流動性を有することが好ましい。流動性を有する被覆層形成用組成物を、第1機能層の所定の段差を有する表面に塗布することにより、第1機能層の表面の段差に被覆層形成用組成物が入り込み、第1機能層と被覆層との接触界面において、非接触領域となる空隙の発生を十分に抑制することができる。 Here, the coating layer forming composition preferably has a predetermined fluidity. By coating the coating layer-forming composition having fluidity on the surface of the first functional layer having a predetermined step, the coating layer-forming composition enters the step of the surface of the first functional layer to form the first function. At the contact interface between the layer and the coating layer, it is possible to sufficiently suppress the generation of voids that are non-contact areas.
なお、「流動性を有する」とは、被覆層形成用組成物を、第1機能層の所定の段差を有する表面に塗布した際に、被覆層形成用組成物が第1機能層の段差の隅々まで入り込み、第1機能層と被覆層との接触界面において、非接触領域となる空隙の発生を抑制することができる程度であることを意味する。具体的には、E型粘度計を用いて22℃の条件下で測定した際に、3cp以上20cp以下の範囲内であることが好ましい。 The term “having fluidity” means that when the coating layer-forming composition is applied to the surface of the first functional layer having a predetermined step, the coating layer-forming composition has a step difference of the first functional layer. This means that it is possible to suppress the generation of voids, which are non-contact areas, at the contact interface between the first functional layer and the coating layer, which penetrates into every corner. Specifically, it is preferably in the range of 3 cp or more and 20 cp or less when measured using an E-type viscometer at 22° C.
本工程において用いられる、流動性を有する被覆層形成用組成物は、例えば、溶剤を含有することが好ましい。被覆層形成用組成物に十分な流動性を付与するという観点から、被覆層形成用組成物に含まれる溶剤の含有量は、固形分量の比率に応じて適宜調整することが好ましい。例えば、被覆層形成用組成物中の固形分量としては、1質量%以上40質量%以下の範囲内であることが好ましく、中でも3質量%以上35質量%以下の範囲内であることが好ましく、特に5質量%以上30質量%以下の範囲内であることが好ましい。 The composition for forming a coating layer having fluidity used in this step preferably contains, for example, a solvent. From the viewpoint of imparting sufficient fluidity to the coating layer forming composition, the content of the solvent contained in the coating layer forming composition is preferably appropriately adjusted according to the ratio of the solid content. For example, the solid content in the coating layer forming composition is preferably in the range of 1% by mass or more and 40% by mass or less, and more preferably in the range of 3% by mass or more and 35% by mass or less, In particular, it is preferably in the range of 5% by mass or more and 30% by mass or less.
本工程において形成される被覆層は、上述のような流動性を有する被覆層形成用組成物を用いて形成されることが好ましい。被覆層の材料としては、例えば、電離放射線硬化性樹脂組成物、熱硬化性樹脂組成物および熱可塑性樹脂組成物等が挙げられ、中でも電離放射線硬化性樹脂組成物であることが好ましい。なお、電離放射線硬化性樹脂組成物、熱硬化性樹脂組成物および熱可塑性樹脂組成物の詳細については、上述した「A.表示装置用被覆層付き基材 1.被覆層」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 The coating layer formed in this step is preferably formed using the above-mentioned composition for forming a coating layer having fluidity. Examples of the material of the coating layer include an ionizing radiation curable resin composition, a thermosetting resin composition, and a thermoplastic resin composition. Among them, the ionizing radiation curable resin composition is preferable. The details of the ionizing radiation curable resin composition, the thermosetting resin composition and the thermoplastic resin composition are described in the above-mentioned "A. Substrate with coating layer for display device 1. Coating layer". Since it can be the same as the content, the description here is omitted.
被覆層形成用組成物を塗布する方法としては、一般的な塗布方法を用いることができ、例えば、スピンコーティング方法、ダイコーティング方法、スリットコーティング方法、グラビア印刷法、オフセット印刷法、凸版印刷法、スクリーン印刷法、転写印刷法、静電印刷法、無版印刷法等の各種印刷法や、グラビアコート法、ロールコート法、ナイフコート法、エアナイフコート法、バーコート法、ディップコート法、キスコート法、スプレーコート法、コンマコート法、インクジェット法等が挙げられる。 As a method for applying the composition for forming a coating layer, a general application method can be used, for example, a spin coating method, a die coating method, a slit coating method, a gravure printing method, an offset printing method, a relief printing method, Various printing methods such as screen printing method, transfer printing method, electrostatic printing method, plateless printing method, gravure coating method, roll coating method, knife coating method, air knife coating method, bar coating method, dip coating method, kiss coating method , A spray coating method, a comma coating method, an inkjet method and the like.
本態様における被覆層形成工程においては、被覆層形成用組成物を塗布した後、仮乾燥して被覆層形成用塗膜を形成する仮乾燥工程を有していても良い。仮乾燥工程を有することにより、塗布された被覆層形成用組成物を被覆層形成用塗膜とすることができる。 The coating layer forming step in the present embodiment may include a temporary drying step of applying the coating layer forming composition and then temporarily drying it to form a coating layer forming coating film. By having the temporary drying step, the applied coating layer forming composition can be used as a coating layer forming coating film.
本態様における仮乾燥工程は、被覆層形成用組成物を仮乾燥させることができる工程であることが好ましく、具体的には、被覆層形成用組成物に含まれる溶剤を除去し、溶剤の含有量が所定の範囲内である被覆層形成用塗膜が得られる工程であることが好ましい。 The provisional drying step in this embodiment is preferably a step in which the coating layer forming composition can be provisionally dried. Specifically, the solvent contained in the coating layer forming composition is removed, and the solvent is contained. It is preferable that the step is such that a coating film for forming a coating layer having an amount within a predetermined range is obtained.
ここで、「塗膜」とは、膜が硬化乾燥状態に至っていない状態を指す。例えばJIS K 5600−1−1に規定された指触乾燥状態や半硬化乾燥状態を含み、塗膜表面を直接触ることで確認することができる。
また、「溶剤の含有量が所定の範囲内である被覆層形成用塗膜」とは、被覆層形成用組成物から溶剤が全て除去されていない状態を指し、具体的には、被覆層形成用塗膜中の溶剤の量が、5wt%以上30wt%以下の範囲内となることが好ましく、中でも、5wt%以上20wt%以下の範囲内となることが好ましく、特に、5wt%以上10wt%以下の範囲内となることが好ましい。
Here, the "coating film" refers to a state in which the film is not in a cured and dried state. For example, it can be confirmed by directly touching the surface of the coating film, including the dry state to the touch and the semi-cured state defined in JIS K 5600-1-1.
Further, the "coating layer forming coating film having a solvent content within a predetermined range" refers to a state in which all the solvent is not removed from the coating layer forming composition, and specifically, the coating layer forming film. The amount of the solvent in the coating film for use is preferably in the range of 5 wt% or more and 30 wt% or less, particularly preferably in the range of 5 wt% or more and 20 wt% or less, and particularly 5 wt% or more and 10 wt% or less It is preferably within the range of.
仮乾燥工程において被覆層形成用組成物を仮乾燥させる方法としては、所望の被覆層形成用塗膜が得られる方法であれば特に限定されないが、例えば、減圧乾燥や加熱乾燥させる方法が挙げられる。なお、仮乾燥工程における仮乾燥時間等の条件については、被覆層形成用組成物の種類に応じて適宜調整することができるため、特に限定されない。 The method for temporarily drying the coating layer-forming composition in the temporary drying step is not particularly limited as long as it is a method capable of obtaining a desired coating layer-forming coating film, and examples thereof include a method of drying under reduced pressure and heating and drying. .. The conditions such as the temporary drying time in the temporary drying step are not particularly limited because they can be appropriately adjusted according to the type of the coating layer forming composition.
本態様における被覆層形成工程においては、被覆層形成用組成物を塗布した後、または仮乾燥工程を有する場合には仮乾燥工程の後に、被覆層形成用組成物または被覆層形成用塗膜を焼成する焼成工程を有することが好ましい。 In the coating layer forming step in the present embodiment, after applying the coating layer forming composition, or after the provisional drying step if there is a temporary drying step, the coating layer forming composition or the coating layer forming coating film. It is preferable to have a firing step of firing.
本態様における焼成工程は、被覆層形成用組成物または被覆層形成用塗膜を焼成して所望の被覆層を得ることができる方法であることが好ましく、例えば、オーブンやホットプレート等を用いた一般的な焼成方法を用いることができる。また、焼成工程における焼成温度や焼成時間については、被覆層形成用組成物の種類等に応じて適宜調整することができるため、特に限定されない。 The firing step in this embodiment is preferably a method capable of firing a coating layer-forming composition or coating layer-forming coating film to obtain a desired coating layer. For example, an oven or a hot plate was used. A general baking method can be used. Further, the firing temperature and firing time in the firing step are not particularly limited because they can be appropriately adjusted depending on the type of the coating layer forming composition and the like.
本発明における被覆部材形成工程は、上述した塗布工程、仮乾燥工程、焼成工程の他にも必要に応じてその他の工程を有していても良い。その他の工程としては、例えば、得られた被覆部材において、不要となる領域を除去する除去工程が挙げられる。 The coating member forming step in the present invention may include other steps, if necessary, in addition to the above-mentioned coating step, temporary drying step, and firing step. Examples of other steps include a removal step of removing an unnecessary area in the obtained covering member.
なお、本態様における被覆層形成工程において被覆層が形成される第1機能層や被覆層の詳細な説明については、上述した「A.表示装置用被覆層付き基材」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。また、第1機能層の形成方法については、一般的な機能層の形成方法と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 In addition, regarding the detailed description of the first functional layer and the coating layer in which the coating layer is formed in the coating layer forming step in the present embodiment, the contents described in the above-mentioned section "A. Substrate with coating layer for display device". The description can be omitted here because it can be the same. The method of forming the first functional layer can be the same as the method of forming a general functional layer, and thus the description thereof is omitted here.
(2)研磨工程
本態様におけるは、上述した被覆部材形成工程後に、被覆層の第1機能層とは反対側の面を研磨する工程である。
(2) Polishing step In this embodiment, after the above-mentioned coating member forming step, the surface of the coating layer opposite to the first functional layer is polished.
被覆層を研磨する具体的な方法としては、被覆層の第1機能層とは反対側の面の段差が0.1μm以下となるように被覆層を研磨することができる方法であれば良く、被覆層を構成する材料や、目標とする被覆層の厚みに応じて適宜調整することができる。なお、具体的な研磨方法については、一般的に公知の方法を用いることができるため、ここでの記載は省略する。 A specific method for polishing the coating layer may be any method capable of polishing the coating layer such that the step difference on the surface of the coating layer opposite to the first functional layer is 0.1 μm or less. It can be appropriately adjusted according to the material forming the coating layer and the target thickness of the coating layer. Note that since a generally known method can be used as a specific polishing method, description thereof is omitted here.
なお、本態様における研磨工程で得られる被覆層の厚み等については、上述した「A.表示装置用被覆層付き基材」の記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 The thickness and the like of the coating layer obtained in the polishing step in this embodiment can be the same as those described in the above-mentioned “A. Substrate with coating layer for display device”, and therefore the description here is omitted. Omit it.
(3)第1機能層準備工程
本態様においては、被覆層形成工程の前に、第1機能層準備工程を有することが好ましい。第1機能層準備工程は、基材上に第1機能層を形成する工程であっても良く、予め基材上に第1機能層が配置された第1機能層付き基材を準備する工程であっても良い。
(3) First functional layer preparation step In this aspect, it is preferable to have a first functional layer preparation step before the coating layer formation step. The first functional layer preparation step may be a step of forming the first functional layer on the base material, and a step of preparing a base material with a first functional layer in which the first functional layer is previously arranged on the base material. May be
本態様においては、基材の一方の面に、第1機能層を準備することができる工程であれば良く、具体的な方法については、第1機能層の種類に応じて適宜選択することができる。なお、第1機能層を基材上に形成する場合の具体的な形成方法については、一般的な第1機能層の形成方法と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 In this embodiment, the step may be any one capable of preparing the first functional layer on one surface of the base material, and the specific method may be appropriately selected depending on the type of the first functional layer. it can. The specific method of forming the first functional layer on the base material can be the same as the general method of forming the first functional layer, and thus the description thereof is omitted here.
(4)第2機能層形成工程
本態様においては、上述した被覆層形成工程、研磨工程および第1機能層準備工程の他にも、被覆層の基材とは反対側の面に第2機能層を配置する第2機能層配置工程を有していても良い。
(4) Second functional layer forming step In this embodiment, in addition to the above-mentioned coating layer forming step, polishing step and first functional layer preparing step, the second function is provided on the surface of the coating layer opposite to the base material. You may have the 2nd functional layer arrangement|positioning process of arrange|positioning a layer.
本態様においては、被覆層の基材とは反対側の面上に、第2機能層を配置することができる工程であれば良く、例えば、被覆層上に転写により第2機能層を配置しても良く、または被覆層上に直接第2機能層を形成しても良い。 In this embodiment, it is sufficient that the step is such that the second functional layer can be arranged on the surface of the coating layer opposite to the base material. For example, the second functional layer is arranged on the coating layer by transfer. Alternatively, the second functional layer may be formed directly on the coating layer.
本態様においては、生産性の観点から、ロールトゥロール方式により第2機能層を配置することが好ましい。なお、本態様における第2機能層としては、第1機能層の種類に応じて適宜選択することができる。第2機能層としては、例えば、カラーフィルタ、タッチパネル、光学機能層等が挙げられ、これら第2機能層の具体的な形成方法は、一般的なカラーフィルタ、タッチパネル、光学機能層の形成方法と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。また、第2機能層についての詳細な説明については、上述した「A.表示装置用被覆層付き基材 5.第2機能層」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 In this aspect, it is preferable to arrange the second functional layer by a roll-to-roll method from the viewpoint of productivity. The second functional layer in this embodiment can be appropriately selected according to the type of the first functional layer. Examples of the second functional layer include a color filter, a touch panel, an optical functional layer, and the like. A specific method for forming the second functional layer includes a general color filter, a touch panel, and an optical functional layer. Since the same can be applied, the description here is omitted. The detailed description of the second functional layer can be the same as the content described in the above section “A. Substrate with coating layer for display device 5. Second functional layer”. The description in is omitted.
(5)その他の工程
本態様においては、上述した被覆層形成工程、研磨工程、第2機能層配置工程の他にも、必要に応じてその他の部材を形成するその他の工程を有していても良い。例えば、粘着層を形成する粘着層形成工程や、保護層を形成する保護層形成工程や、反射防止層を形成する反射防止層形成工程等が挙げられる。これらその他の部材の具体的な形成方法は、一般的な粘着層、保護層、反射防止層等の形成方法と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。また、その他の部材についての詳細な説明は、上述した「A.表示装置用被覆層付き基材 6.その他の部材」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
(5) Other steps In this embodiment, in addition to the above-mentioned coating layer forming step, polishing step, and second functional layer arranging step, there are other steps for forming other members as necessary. Is also good. For example, an adhesive layer forming step of forming an adhesive layer, a protective layer forming step of forming a protective layer, an antireflection layer forming step of forming an antireflection layer, etc. may be mentioned. The specific method of forming these other members can be the same as the method of forming a general adhesive layer, protective layer, antireflection layer, and the like, and thus the description thereof is omitted here. Further, the detailed description of the other members can be the same as the contents described in the above-mentioned section “A. Substrate with coating layer for display device 6. Other members”, and therefore the description here. Is omitted.
2.Bの態様
本態様の表示装置用被覆層付き基材の製造方法は、基材と、上記基材の一方の面上に配置された第1機能層と、上記第1機能層の上記基材とは反対側の面上に配置され、透明性を有する被覆層とを有する表示装置用被覆層付き基材を製造する表示装置用被覆層付き基材の製造方法であって、上記第1機能層の上記基材とは反対側の面に、上記被覆層を構成する被覆層形成用組成物を配置する被覆層形成用組成物配置工程と、上記被覆層形成用組成物配置工程後に、上記被覆層形成用組成物を、上記第1機能層とは反対側の面からプレートを用いて押圧しつつ、上記被覆層形成用組成物を硬化して上記被覆層を形成する被覆層形成工程とを有し、上記表示装置用被覆層付き基材は、表示装置となる製品領域、および上記製品領域の外周に配置された非製品領域を有し、上記第1機能層の上記製品領域および上記非製品領域は、上記被覆層側の面の段差が1.5μm以上であり、上記被覆層形成工程で得られる上記被覆層の上記製品領域および上記非製品領域は、上記第1機能層とは反対側の面の段差が0.1μm以下であることを特徴とする製造方法である。
2. Aspect B: The method for producing a substrate with a coating layer for a display device according to this aspect includes a substrate, a first functional layer arranged on one surface of the substrate, and the substrate of the first functional layer. A method for producing a substrate with a coating layer for a display device, which is disposed on a surface opposite to the substrate, and has a coating layer having a transparency, the method comprising: On the surface opposite to the base material of the layer, a coating layer forming composition arranging step of arranging a coating layer forming composition constituting the coating layer, and after the coating layer forming composition arranging step, A coating layer forming step of curing the coating layer forming composition to form the coating layer while pressing the coating layer forming composition from the surface opposite to the first functional layer using a plate. The substrate with a coating layer for a display device has a product region to be a display device, and a non-product region arranged on the outer periphery of the product region, and the product region of the first functional layer and the The non-product region has a step difference of 1.5 μm or more on the surface on the coating layer side, and the product region and the non-product region of the coating layer obtained in the coating layer forming step are different from the first functional layer. The manufacturing method is characterized in that the step on the opposite surface is 0.1 μm or less.
図9(a)〜図9(c)は、本態様の表示装置用被覆層付き基材の製造方法の他の例を示す概略工程図である。本態様の表示装置用被覆層付き基材の製造方法は、図9(a)に示すように、第1機能層2aの基材1とは反対側の面に、被覆層を構成する被覆層形成用組成物3’を配置する被覆層形成用組成物配置工程と、図9(b)に示すように、被覆層形成用組成物配置工程後に、被覆層形成用組成物3’を、第1機能層2aとは反対側の面からプレートPを用いて押圧しつつ、被覆層形成用組成物3’を硬化して、図9(c)に示すように、被覆層3を形成する被覆層形成工程とを有する。なお、図9(a)〜図9(c)では、第1機能層2aとして着色層21および遮光部22を有するカラーフィルタを用いた例であり、図の簡略化のために、非製品領域は省略している。図9(a)〜図9(c)に示す表示装置用被覆層付き基材の非製品領域については、図1(a)、(b)と同様とすることができる。また、図9(a)〜図9(c)で説明していない符号については、図1(a)と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 FIG. 9A to FIG. 9C are schematic process diagrams showing another example of the method for manufacturing the substrate with the coating layer for a display device according to this embodiment. As shown in FIG. 9( a ), the method for producing a base material with a coating layer for a display device according to the present embodiment includes a coating layer that forms a coating layer on the surface of the first functional layer 2 a opposite to the base material 1. After the coating layer forming composition arranging step of arranging the coating layer forming composition 3 ′ and the coating layer forming composition arranging step, as shown in FIG. A coating for curing the coating layer forming composition 3′ while pressing the plate P from the surface opposite to the functional layer 2a to form the coating layer 3 as shown in FIG. 9(c). A layer forming step. 9(a) to 9(c) are examples in which a color filter having a colored layer 21 and a light shielding portion 22 is used as the first functional layer 2a, and a non-product region is shown for simplification of the drawing. Is omitted. The non-product region of the substrate with a coating layer for a display device shown in FIGS. 9A to 9C can be the same as in FIGS. 1A and 1B. The reference numerals not described in FIGS. 9A to 9C can be the same as those in FIG. 1A, and thus the description thereof is omitted here.
本態様によれば、被覆層形成用組成物配置工程後に、被覆層形成用組成物をプレートにより押圧し、その状態で被覆層形成用組成物を硬化する被覆層形成工程を有することにより、第1機能層の表面の段差の隅々まで被覆層形成用組成物を入り込ませることができる。したがって、第1機能層の所定の段差を埋めて、第1機能層の表面の段差を平坦にすることができ、かつ、第1機能層の段差による空隙の発生を抑制することができる表示装置用被覆層付き基材を得ることができる。 According to this aspect, after the coating layer forming composition disposing step, the coating layer forming composition is pressed by the plate, and the coating layer forming step of curing the coating layer forming composition in that state is performed. The composition for forming a coating layer can be incorporated into every step of the surface of the one-functional layer. Therefore, it is possible to fill a predetermined step of the first functional layer to make the step of the surface of the first functional layer flat, and to suppress the generation of voids due to the step of the first functional layer. It is possible to obtain a substrate with a coating layer.
以下、本態様の表示装置用被覆層付き基材の製造方法について、各工程に分けて説明する。 Hereinafter, the method for producing the substrate with a coating layer for a display device according to this embodiment will be described in each step.
(1)被覆層形成用組成物配置工程
本態様における被覆層形成用組成物は、第1機能層の基材とは反対側の面に、被覆層を構成する被覆層形成用組成物を配置する工程である。
(1) Coating Layer Forming Composition Arranging Step In the coating layer forming composition according to the present aspect, the coating layer forming composition forming the coating layer is arranged on the surface of the first functional layer opposite to the base material. It is a process to do.
本態様における被覆層形成用組成物配置工程において用いられる被覆層形成用組成物、および被覆層形成用組成物の配置方法については、上述した「1.Aの態様 (1)被覆層形成工程」の項で説明した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 Regarding the coating layer forming composition used in the coating layer forming composition arranging step in the present aspect, and the method of arranging the coating layer forming composition, the above-mentioned “1. A aspect (1) coating layer forming step” Since the contents can be the same as the contents described in the above section, the description here is omitted.
本工程において第1機能層の段差を有する表面に配置される被覆層形成用組成物の量または厚みは、本工程後の被覆層形成工程においてプレートを用いて押圧し、その状態で被覆層形成用組成物が硬化した際に、第1機能層の所定の段差を埋めて平坦化し、かつ第1機能層と被覆層との間の接触界面において、非接触領域となる空隙の発生を抑制することができ、さらには、被覆層の基材とは反対側の面の段差を0.1μm以下とすることができる程度の量または厚みであることが好ましい。なお、具体的な被覆層形成用組成物の量または厚みについては、第1機能層の種類や、被覆層形成用組成物の材料等に応じて適宜調整することができるため、特に限定されない。 In this step, the amount or thickness of the composition for forming a coating layer arranged on the stepped surface of the first functional layer is adjusted by pressing with a plate in the coating layer forming step after this step and forming the coating layer in that state. When the composition for curing is hardened, a predetermined step of the first functional layer is filled and flattened, and generation of voids which are non-contact regions at the contact interface between the first functional layer and the coating layer is suppressed. Further, it is preferable that the amount or thickness is such that the step on the surface of the coating layer on the side opposite to the substrate can be set to 0.1 μm or less. The specific amount or thickness of the coating layer forming composition is not particularly limited because it can be appropriately adjusted depending on the type of the first functional layer, the material of the coating layer forming composition, and the like.
本態様における被覆層形成用組成物配置工程は、被覆層形成用組成物を配置した後に、被覆層形成用組成物を仮乾燥する仮乾燥工程を有していても良い。なお、仮乾燥工程や、本態様における被覆層形成用組成物配置工程において用いられる被覆層形成用組成物、被覆層形成用組成物が配置される第1機能層等の詳細な説明については、上述した「1.Aの態様 (1)被覆層形成工程」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。また、第1機能層の形成方法については、一般的な機能層の形成方法と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 The coating layer forming composition disposing step in this embodiment may include a temporary drying step of temporarily drying the coating layer forming composition after disposing the coating layer forming composition. The detailed description of the provisional drying step, the coating layer forming composition used in the coating layer forming composition arranging step in the present aspect, the first functional layer in which the coating layer forming composition is arranged, and the like are described below. Since the contents can be the same as the contents described in the section of “1. A mode (1) coating layer forming step” described above, description thereof is omitted here. The method of forming the first functional layer can be the same as the method of forming a general functional layer, and thus the description thereof is omitted here.
(2)被覆層形成工程
本態様における被覆層形成工程は、被覆層形成用組成物配置工程後に、被覆層形成用組成物を、第1機能層とは反対側の面からプレートを用いて押圧しつつ、被覆層形成用組成物を硬化して被覆層を形成する工程である。
(2) Covering Layer Forming Step In the covering layer forming step in this embodiment, after the covering layer forming composition arranging step, the covering layer forming composition is pressed using a plate from the surface opposite to the first functional layer. Meanwhile, it is a step of curing the composition for forming a coating layer to form a coating layer.
本態様における被覆層形成工程において用いられるプレートは、本工程により得られる被覆層の基材とは反対側の面の段差を0.1μm以下に平坦化することができるような、少なくとも平坦面を有するプレートであることが好ましい。なお、本工程において用いられるプレートについては、一般的な押圧等に用いられるプレートと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。 The plate used in the coating layer forming step in this embodiment has at least a flat surface such that the step of the surface of the coating layer obtained in this step on the side opposite to the substrate can be flattened to 0.1 μm or less. It is preferable that the plate has a plate. Note that the plate used in this step can be the same as the plate used for general pressing and the like, so description thereof will be omitted here.
本工程において被覆層形成用組成物を硬化させる方法としては、被覆層形成用組成物の種類等に応じて適宜選択することができ、特に限定されない。本態様においては、例えば、被覆層形成用組成物を焼成する方法が挙げられる。なお、被覆層形成用組成物を焼成する方法については、上述した「1.Aの態様 (1)被覆層形成工程」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 The method of curing the coating layer forming composition in this step can be appropriately selected depending on the type of the coating layer forming composition and the like, and is not particularly limited. In this aspect, for example, a method of firing the composition for forming a coating layer may be mentioned. The method for firing the composition for forming a coating layer can be the same as the content described in the above-mentioned section “1. A. Mode (1) Coating layer forming step”, and therefore the description here. Is omitted.
(3)第1機能層配置工程
本態様においては、被覆層形成工程の前に、第1機能層準備工程を有することが好ましい。第1機能層準備工程は、基材上に第1機能層を形成する工程であっても良く、予め基材上に第1機能層が配置された第1機能層付き基材を準備する工程であっても良い。なお、第1機能層準備工程については、上述した「1.Aの態様 (3)第1機能層準備工程」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
(3) First functional layer arranging step In this aspect, it is preferable to have a first functional layer preparing step before the covering layer forming step. The first functional layer preparation step may be a step of forming the first functional layer on the base material, and a step of preparing a base material with a first functional layer in which the first functional layer is previously arranged on the base material. May be The first functional layer preparation step can be the same as the content described in the section “1. A aspect (3) First functional layer preparation step” described above, and therefore description thereof is omitted here. To do.
(4)第2機能層配置工程
本態様においては、上述した被覆層形成用組成物配置工程および被覆層形成工程の他にも、被覆層の基材とは反対側の面に第2機能層を配置する第2機能層配置工程を有していても良い。なお、第2機能層配置工程については、上述した「1.Aの態様 (4)第2機能層配置工程」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
(4) Second functional layer arranging step In this embodiment, in addition to the coating layer forming composition arranging step and the covering layer forming step described above, the second functional layer is provided on the surface of the covering layer opposite to the base material. You may have the 2nd functional layer arrangement|positioning process which arrange|positions. Note that the second functional layer arranging step can be the same as the content described in the section “1. A aspect (4) Second functional layer arranging step” described above, and therefore the description thereof is omitted here. To do.
(5)その他の工程
本態様においては、上述した被覆層形成用組成物配置工程、被覆層形成工程、第2機能層配置工程の他にも、必要に応じてその他の部材を形成するその他の工程を有していても良い。なお、その他の工程については、上述した「1.Aの態様 (5)その他の工程」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
(5) Other Steps In the present embodiment, other than the above-mentioned coating layer forming composition arranging step, coating layer forming step, second functional layer arranging step, other members are formed as necessary. You may have a process. Since the other steps can be the same as those described in the above section “1. Aspect (5) Other steps”, the description thereof is omitted here.
3.Cの態様
本態様の表示装置用被覆層付き基材の製造方法は、基材と、上記基材の一方の面上に配置された第1機能層と、上記第1機能層の上記基材とは反対側の面上に配置され、透明性を有する被覆層とを有し、表示装置となる製品領域、および上記製品領域の外周に配置された非製品領域を有する表示装置用被覆層付き基材を製造する表示装置用被覆層付き基材の製造方法であって、上記製品領域に、上記第1機能層を準備する第1機能層準備工程と、上記非製品領域に、平坦化層を形成する平坦化層形成工程と、上記第1機能層および上記平坦化層上に、上記被覆層を形成する被覆層形成工程とを有し、上記第1機能層の上記製品領域および上記非製品領域は、上記被覆層側の面の段差が1.5μm以上であり、上記被覆層の上記製品領域および上記非製品領域は、上記第1機能層とは反対側の面の段差が0.1μm以下であることを特徴とする製造方法である。
3. Aspect of C The method for producing a base material with a coating layer for a display device of the present aspect includes a base material, a first functional layer disposed on one surface of the base material, and the base material of the first functional layer. And a cover layer for a display device having a transparent coating layer disposed on a surface opposite to the display region, and a product region to be a display device, and a non-product region disposed on the outer periphery of the product region. A method for manufacturing a base material with a coating layer for a display device for manufacturing a base material, comprising: a first functional layer preparing step of preparing the first functional layer in the product area; and a flattening layer in the non-product area. And a coating layer forming step of forming the coating layer on the first functional layer and the planarizing layer, wherein the product region of the first functional layer and the non-coating layer are formed. The product region has a step difference of 1.5 μm or more on the surface on the side of the coating layer, and the product region and the non-product region of the coating layer have a step difference on the side opposite to the first functional layer of 0. It is a manufacturing method characterized by being 1 μm or less.
図10(a)〜図10(c)は、本態様の表示装置用被覆層付き基材の製造方法の他の例を示す概略工程図である。本態様の表示装置用被覆層付き基材の製造方法は、図10(a)に示すように、非製品領域Xに、平坦化層4を形成する平坦化層形成工程を有する。ここで、本態様においては、平坦化層4に含まれる材料が、第1機能層2aに含まれる材料、図10(a)では、緑色着色層21Gの材料と同一の材料である。また、本態様における平坦化層形成工程は、第1機能層2aを形成する工程、図10(a)では、緑色着色層21Gを形成する工程と同時に行われる。その後、本態様においては、図10(b)に示すように、第1機能層2aを構成する赤色着色層21Rや青色着色層21Bを形成する工程を有する。なお、図10(a)、(b)では、第1機能層2aとして着色層21および遮光部22を有するカラーフィルタを用いた例である。最後に、図10(c)に示すように、製品領域Yおよび非製品領域Xに被覆層3を形成する被覆層形成工程を有する。図10(a)〜図10(c)で説明していない符号については、図1(b)と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 10(a) to 10(c) are schematic process diagrams showing another example of the method for producing the substrate with a coating layer for a display device according to this embodiment. As shown in FIG. 10A, the method for manufacturing a base material with a coating layer for a display device according to this embodiment includes a flattening layer forming step of forming the flattening layer 4 in the non-product region X. Here, in this aspect, the material included in the planarizing layer 4 is the material included in the first functional layer 2a, and the same material as the material of the green colored layer 21G in FIG. 10A. Further, the planarizing layer forming step in this embodiment is performed at the same time as the step of forming the first functional layer 2a, that is, the step of forming the green colored layer 21G in FIG. 10A. Then, in this aspect, as shown in FIG. 10B, there is a step of forming the red colored layer 21R and the blue colored layer 21B that form the first functional layer 2a. 10A and 10B are examples in which a color filter having the colored layer 21 and the light shielding portion 22 is used as the first functional layer 2a. Finally, as shown in FIG. 10C, there is a coating layer forming step of forming the coating layer 3 on the product region Y and the non-product region X. Reference numerals not described in FIGS. 10A to 10C can be the same as those in FIG. 1B, and thus description thereof is omitted here.
本態様によれば、基材の非製品領域が平坦化層を有することにより、第1機能層の製品領域および非製品領域での所定の段差を、平坦化層により埋めることができ、かつ、当該段差による空隙の発生を抑制することができる表示装置用被覆層付き基材を得ることができる。 According to this aspect, since the non-product region of the base material has the flattening layer, predetermined steps in the product region and the non-product region of the first functional layer can be filled with the flattening layer, and It is possible to obtain a substrate with a coating layer for a display device that can suppress the generation of voids due to the step.
以下、本態様の表示装置用被覆層付き基材の製造方法について、各工程に分けて説明する。 Hereinafter, the method for producing the substrate with a coating layer for a display device according to this embodiment will be described in each step.
(1)平坦化層形成工程
本態様における平坦化層形成工程は、基材の非製品領域の第1機能層側の面に、平坦化層を形成する工程である。また、本態様における平坦化層形成工程は、平坦化層に含まれる材料が、第1機能層に含まれる材料と同一の材料であることで、第1機能層と同時に行われる工程である。
(1) Planarizing Layer Forming Step The planarizing layer forming step in this embodiment is a step of forming a planarizing layer on the surface of the non-product region of the base material on the first functional layer side. Further, the planarizing layer forming step in this aspect is a step performed at the same time as the first functional layer because the material contained in the planarizing layer is the same material as the material contained in the first functional layer.
平坦化層形成工程で得られる平坦化層については、上述した「A.表示装置用被覆層付き基材 3.平坦化層」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。また、製造方法については、平坦化層と同時に形成される第1機能層と同様とすることができ、上述した The flattening layer obtained in the flattening layer forming step can be the same as the contents described in the above-mentioned section “A. Substrate with coating layer for display device 3. Flattening layer”. Is omitted. The manufacturing method may be the same as that of the first functional layer formed at the same time as the flattening layer, and
(2)被覆層形成工程
本態様における被覆層形成工程は、第1機能層の基材とは反対側の面の、製品領域および非製品領域に被覆層を形成する工程である。なお、具体的な被覆層の材料や、被覆層の形成方法、第1機能層の詳細な説明については、上述した「1.Aの態様 (1)被覆層形成工程」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
(2) Coating layer forming step The coating layer forming step in this embodiment is a step of forming a coating layer in the product region and the non-product region on the surface of the first functional layer opposite to the base material. In addition, regarding the specific material of the coating layer, the method of forming the coating layer, and the detailed description of the first functional layer, the contents described in the above-mentioned section “1. A mode (1) coating layer forming step”. The description can be omitted here because it can be the same.
(3)第1機能層配置工程
本態様においては、平坦化層形成工程の前に、第1機能層準備工程を有することが好ましい。第1機能層準備工程は、基材上に第1機能層を形成する工程であっても良く、予め基材上に第1機能層が配置された第1機能層付き基材を準備する工程であっても良い。なお、第1機能層準備工程については、上述した「1.Aの態様 (3)第1機能層準備工程」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
(3) First functional layer arranging step In this aspect, it is preferable to have a first functional layer preparing step before the planarizing layer forming step. The first functional layer preparation step may be a step of forming the first functional layer on the base material, and a step of preparing a base material with a first functional layer in which the first functional layer is previously arranged on the base material. May be The first functional layer preparation step can be the same as the content described in the section “1. A aspect (3) First functional layer preparation step” described above, and therefore description thereof is omitted here. To do.
(4)第2機能層配置工程
本態様においては、上述した被覆層形成工程の他にも、被覆層の基材とは反対側の面に第2機能層を配置する第2機能層配置工程を有していても良い。なお、第2機能層配置工程については、上述した「1.Aの態様 (4)第2機能層配置工程」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
(4) Second functional layer arranging step In this aspect, in addition to the above-mentioned coating layer forming step, a second functional layer arranging step of arranging the second functional layer on the surface of the coating layer opposite to the base material. May have. Note that the second functional layer arranging step can be the same as the content described in the section “1. A aspect (4) Second functional layer arranging step” described above, and therefore the description thereof is omitted here. To do.
(5)その他の工程
本態様においては、上述した被覆層形成工程、第2機能層配置工程の他にも、必要に応じてその他の部材を形成するその他の工程を有していても良い。なお、その他の工程については、上述した「1.Aの態様 (5)その他の工程」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
(5) Other Steps In addition to the above-described coating layer forming step and second functional layer arranging step, this embodiment may include other steps for forming other members as necessary. Since the other steps can be the same as those described in the above section “1. Aspect (5) Other steps”, the description thereof is omitted here.
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。 The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, has substantially the same configuration as the technical idea described in the scope of the claims of the present invention, and has the same operational effect It is included in the technical scope of the invention.
[実施例]
以下のようにして、本発明の表示装置用被覆層付きカラーフィルタ基材を作製した。
[Example]
A color filter substrate with a coating layer for a display device of the present invention was produced as follows.
(共重合樹脂溶液の調製)
重合槽中にメタクリル酸メチル(MMA)を63質量部、アクリル酸(AA)を12質量部、メタクリル酸−2−ヒドロキシエチル(HEMA)を6質量部、ジエチレングリコールジメチルエーテル(DMDG)を88質量部仕込み、攪拌し溶解させた後、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)を7質量部添加し、均一に溶解させた。その後、窒素気流下、85℃で2時間攪拌し、更に100℃で1時間反応させた。得られた溶液に、更にメタクリル酸グリシジル(GMA)を7質量部、トリエチルアミンを0.4質量部、およびハイドロキノンを0.2質量部添加し、100℃で5時間攪拌し、共重合樹脂溶液(固形分50%)を得た。
(Preparation of copolymer resin solution)
Charge 63 parts by mass of methyl methacrylate (MMA), 12 parts by mass of acrylic acid (AA), 6 parts by mass of 2-hydroxyethyl methacrylate (HEMA), and 88 parts by mass of diethylene glycol dimethyl ether (DMDG) into the polymerization tank. After stirring and dissolving, 7 parts by mass of 2,2′-azobis(2-methylbutyronitrile) was added and uniformly dissolved. Then, the mixture was stirred at 85° C. for 2 hours under a nitrogen stream, and further reacted at 100° C. for 1 hour. 7 parts by mass of glycidyl methacrylate (GMA), 0.4 parts by mass of triethylamine, and 0.2 parts by mass of hydroquinone were added to the obtained solution, and the mixture was stirred at 100° C. for 5 hours to prepare a copolymer resin solution ( Solid content 50%) was obtained.
(被覆層形成用組成物の合成)
下記の材料を室温で攪拌及び混合して被覆層形成用組成物を得た。
<被覆層形成用組成物の組成>
・上記共重合樹脂溶液(固形分50%): 16質量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(商品名:SR399、サートマー社製): 24質量部
・オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(商品名:エピコート180S70、油化シェルエポキシ社製): 4質量部
・2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン
(商品名:イルガキュア907、チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製):4質量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル(純正化学社製): 52質量部
(Synthesis of coating layer forming composition)
The following materials were stirred and mixed at room temperature to obtain a coating layer forming composition.
<Composition of coating layer forming composition>
-The above copolymer resin solution (solid content 50%): 16 parts by mass-Dipentaerythritol pentaacrylate (trade name: SR399, manufactured by Sartomer): 24 parts by mass-Orthocresol novolac type epoxy resin (trade name: Epicoat 180S70, Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.): 4 parts by mass 2-methyl-1-(4-methylthiophenyl)-2-morpholinopropan-1-one (trade name: Irgacure 907, Ciba Specialty Chemicals) : 4 parts by mass diethylene glycol dimethyl ether (manufactured by Junsei Chemical Co., Ltd.): 52 parts by mass
(カラーフィルタ基材の形成)
(遮光部の形成)
まず、下記の分量の成分を混合し、サンドミルにて十分に分散し、黒色顔料分散液を調製した、
(Formation of color filter substrate)
(Formation of light shielding part)
First, the following components were mixed and sufficiently dispersed by a sand mill to prepare a black pigment dispersion,
<黒色顔料分散液の組成>
・黒色顔料 23質量部
・高分子分散材(ビックケミー・ジャパン(株) Disperbyk111) 2質量部
・溶剤(ジエチレングリコールジメチルエーテル) 75質量部
<Composition of black pigment dispersion>
・Black pigment 23 parts by mass ・Polymer dispersant (Big Chemie Japan KK Disperbyk111) 2 parts by mass ・Solvent (diethylene glycol dimethyl ether) 75 parts by mass
次に、下記の分量の成分を十分に混合し、遮光部形成用組成物を得た。
<遮光部形成用組成物の組成>
・上記黒色顔料分散液 61質量部
・上記硬化性樹脂組成物 20質量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル 30質量部
Next, the following amounts of components were sufficiently mixed to obtain a light-shielding portion forming composition.
<Composition of composition for forming light-shielding portion>
61 parts by mass of the black pigment dispersion 20 parts by mass of the curable resin composition 30 parts by mass of diethylene glycol dimethyl ether
厚み0.7mmのガラス基板(旭硝子(株) AN材)上に上記遮光部形成用組成物をスピンコーターで塗布し、100℃で3分間乾燥させ、膜厚約1μmの遮光層を形成した。当該遮光層を、超高圧水銀ランプで遮光パターン(RGBの繰り返しが75μmピッチのストライプ状)に露光した後、0.05wt%水酸化カリウム水溶液で現像し、その後、基板を200℃の雰囲気下に30分間放置することにより加熱処理を施して複数の開口部を有する遮光部を形成した。 The composition for forming a light-shielding portion was applied onto a glass substrate (AN material manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) having a thickness of 0.7 mm by a spin coater and dried at 100° C. for 3 minutes to form a light-shielding layer having a thickness of about 1 μm. The light-shielding layer is exposed to a light-shielding pattern (stripe pattern in which RGB is repeated at a pitch of 75 μm) with an ultra-high pressure mercury lamp, and then developed with a 0.05 wt% potassium hydroxide aqueous solution, and then the substrate is placed in an atmosphere of 200° C. A heat treatment was performed by leaving it for 30 minutes to form a light-shielding portion having a plurality of openings.
(着色層の形成)
上記のようにして遮光部を形成したガラス基板上に、下記組成の赤色硬化性樹脂組成物をスピンコーティング法により塗布(塗布厚み2.0μm)し、その後、70℃のオーブン中で3分間乾燥した。次いで、赤色硬化性樹脂組成物の塗布膜から100μmの距離にフォトマスクを配置してプロキシミティアライナにより2.0kWの超高圧水銀ランプを用いて着色部の形成領域に相当する領域のみに紫外線を10秒間照射した。次いで、0.05wt%水酸化カリウム水溶液(液温23℃)中に1分間浸漬してアルカリ現像し、赤色硬化性樹脂組成物の塗布膜の未硬化部分のみを除去した。その後、基板を200℃の雰囲気下に15分間放置することにより、加熱処理を施して遮光部の開口部に赤色のレリーフパターン(赤色着色層)を形成した。
次に、下記組成の緑色硬化性樹脂組成物を用いて、赤色のレリーフパターン形成と同様の工程により、遮光部の開口部に緑色のレリーフパターン(緑色着色層)を形成した。
さらに、下記組成の青色硬化性樹脂組成物を用いて、赤色のレリーフパターン形成と同様の工程により、遮光部の開口部に青色のレリーフパターン(青色着色層)を形成した。
(Formation of colored layer)
A red curable resin composition having the following composition was applied by a spin coating method (coating thickness: 2.0 μm) on a glass substrate having a light shielding part formed as described above, and then dried in an oven at 70° C. for 3 minutes. did. Then, a photomask is arranged at a distance of 100 μm from the coating film of the red curable resin composition, and an ultraviolet ray is applied only to a region corresponding to the formation region of the colored portion by using a 2.0 kW ultra-high pressure mercury lamp with a proximity liner. Irradiate for 10 seconds. Then, it was immersed in a 0.05 wt% potassium hydroxide aqueous solution (liquid temperature 23° C.) for 1 minute for alkali development to remove only the uncured portion of the coating film of the red curable resin composition. After that, the substrate was left in an atmosphere of 200° C. for 15 minutes to perform heat treatment to form a red relief pattern (red coloring layer) in the opening of the light shielding part.
Next, a green curable resin composition having the following composition was used to form a green relief pattern (green colored layer) in the opening of the light-shielding portion by the same process as the formation of the red relief pattern.
Further, a blue curable resin composition having the following composition was used to form a blue relief pattern (blue colored layer) in the opening of the light-shielding portion by the same process as the formation of the red relief pattern.
(被覆層の形成)
最後に、得られた遮光部および着色層上に被覆層を形成し、本発明の表示装置用被覆層付きカラーフィルタ基材とした。被覆層は、次のように形成した。すなわち、まず、硬化性樹脂組成物をスピンコーティング法により塗布、乾燥し、厚さ25μmの塗布膜を形成した。次いで、硬化性樹脂組成物の塗布膜から100μmの距離にフォトマスクを配置してプロキシミティアライナにより2.0kWの超高圧水銀ランプを用いて紫外線を10秒間照射した。その後、200℃の雰囲気中に15分間放置することにより加熱処理を施して被覆層を形成した。
(Formation of coating layer)
Finally, a coating layer was formed on the obtained light-shielding portion and the coloring layer to obtain a color filter substrate with a coating layer for a display device of the present invention. The coating layer was formed as follows. That is, first, the curable resin composition was applied by a spin coating method and dried to form a coating film having a thickness of 25 μm. Then, a photomask was arranged at a distance of 100 μm from the coating film of the curable resin composition, and ultraviolet rays were irradiated for 10 seconds by a proximity liner using a 2.0 kW ultra-high pressure mercury lamp. Then, by leaving it in an atmosphere of 200° C. for 15 minutes, heat treatment was performed to form a coating layer.
(研磨工程)
ダイヤモンド研磨ベルトを用いて、得られた表示装置用被覆層付きカラーフィルタ基材における被覆層を研磨した。研磨工程後の被覆層の厚みは、2μmであった。
(Polishing process)
The coating layer in the obtained color filter substrate with a coating layer for a display device was polished using a diamond polishing belt. The thickness of the coating layer after the polishing step was 2 μm.
(転写用光学機能層の形成)
転写用基材上に、硬化後の膜厚がおよそ0.1μm程度となるように、ポリビニルシンナメート(PVCi)基を有する光配向材料を含有する光配向膜組成物(溶剤としてPGMEを使用)をダイコート法により塗布した。
そして、90℃に調整した乾燥機内で2分間乾燥させ、溶媒を蒸発させるとともに組成物を熱硬化させて光配向膜(配向層)を形成した。
その上に、光重合性ネマチック相を示す液晶化合物と、光重合開始剤とを含有する液晶組成物(固形分30%、溶剤としてMIBKを使用)をダイコート法により塗布して乾燥させて1μmの液晶層を形成し、位相差層を有する転写フィルムを得た。
その後、得られた転写フィルムの位相差層側の面に、厚さ3μmの紫外線硬化型接着層を形成した。
(Formation of optical function layer for transfer)
A photo-alignment film composition containing a photo-alignment material having a polyvinyl cinnamate (PVCi) group on the transfer substrate so that the film thickness after curing is about 0.1 μm (PGME is used as a solvent) Was applied by the die coating method.
Then, it was dried in a dryer adjusted to 90° C. for 2 minutes to evaporate the solvent and heat cure the composition to form a photo-alignment film (alignment layer).
A liquid crystal composition (solid content 30%, MIBK is used as a solvent) containing a liquid crystal compound exhibiting a photopolymerizable nematic phase and a photopolymerization initiator is applied thereon by a die coating method and dried to 1 μm. A liquid crystal layer was formed to obtain a transfer film having a retardation layer.
After that, an ultraviolet curable adhesive layer having a thickness of 3 μm was formed on the surface of the obtained transfer film on the retardation layer side.
(転写工程)
得られた表示装置用被覆層付きカラーフィルタ基材における被覆層側と、転写用光学機能層上に形成された紫外線硬化型接着層とを、空気が入らないようにして貼合した。その後、光学機能層側の面から紫外線を照射して、紫外線硬化型接着層を硬化させた。その後、転写用基材を剥離した。
(Transfer process)
The coating layer side of the obtained color filter substrate with a coating layer for a display device and the ultraviolet curable adhesive layer formed on the transfer optical functional layer were bonded together so that air could not enter. Then, ultraviolet rays were irradiated from the surface on the optical functional layer side to cure the ultraviolet curable adhesive layer. Then, the transfer substrate was peeled off.
[評価]
上述した実施例により、カラーフィルタ基材および光学機能層が粘着層を介して貼り合わされた表示装置用被覆層付きカラーフィルタ基材を得た。得られた表示装置用被覆層付きカラーフィルタ基材は、カラーフィルタの段差による空隙の発生を抑制することができた。
[Evaluation]
According to the above-described examples, a color filter substrate with a coating layer for a display device was obtained in which the color filter substrate and the optical functional layer were bonded together via the adhesive layer. The obtained color filter substrate with a coating layer for a display device was able to suppress the generation of voids due to the steps of the color filter.
1、1a …基材
2a …第1機能層
2b …第2機能層
3 …被覆層
4 …平坦化層
10 …表示装置用被覆層付き基材
20 …表示装置用被覆層付きカラーフィルタ基材
40 …表示パネル
100 …積層体
1, 1a... Base material 2a... 1st functional layer 2b... 2nd functional layer 3... Covering layer 4... Flattening layer 10... Base material with a coating layer for display devices 20... Color filter base material with a coating layer for display devices 40 ... Display panel 100 ... Laminated body
Claims (2)
前記表示装置用被覆層付きカラーフィルタ基材は、表示装置となる製品領域、および前記製品領域の外周に配置された非製品領域を有し、
前記第1機能層は、開口部を有する遮光部と、前記開口部に配置された着色層とを有するカラーフィルタであり、
前記第1機能層の前記製品領域および前記非製品領域は、前記被覆層側の面の段差が1.5μm以上であり、
前記被覆層の前記製品領域および前記非製品領域は、前記第1機能層とは反対側の面の段差が0.1μm以下であり、
前記基材の前記非製品領域は、前記第1機能層側の面に、前記着色層と同一の材料を有する平坦化層を有し、
前記平坦化層の前記基材とは反対側の面に、前記被覆層が配置されていることを特徴とする表示装置用被覆層付きカラーフィルタ基材。 A base material, a first functional layer arranged on one surface of the base material, and a transparent coating layer arranged on a surface of the first functional layer opposite to the base material. A color filter substrate with a coating layer for a display device, comprising:
The color filter substrate with a coating layer for a display device has a product region to be a display device, and a non-product region arranged on the outer periphery of the product region,
The first functional layer is a color filter having a light-shielding portion having an opening and a colored layer arranged in the opening,
In the product region and the non-product region of the first functional layer, the step on the surface on the coating layer side is 1.5 μm or more,
Wherein said product area and the non-product area of the coating layer state, and are stepped 0.1μm or less surface opposite to the first functional layer,
The non-product region of the base material has a flattening layer having the same material as the colored layer on the surface on the first functional layer side,
Wherein the surface opposite to the base material of the planarizing layer, a display device for a coating layer with a color filter substrate, wherein the coating layer is characterized that you have been placed.
表示パネルと
を有することを特徴とする積層体。 A color filter substrate with a coating layer for a display device according to claim 1 .
And a display panel.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016137820A JP6708030B2 (en) | 2016-07-12 | 2016-07-12 | Base material with coating layer for display device, color filter base material with coating layer for display device, laminate and method for producing base material with coating layer for display device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016137820A JP6708030B2 (en) | 2016-07-12 | 2016-07-12 | Base material with coating layer for display device, color filter base material with coating layer for display device, laminate and method for producing base material with coating layer for display device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018010094A JP2018010094A (en) | 2018-01-18 |
JP6708030B2 true JP6708030B2 (en) | 2020-06-10 |
Family
ID=60995460
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016137820A Active JP6708030B2 (en) | 2016-07-12 | 2016-07-12 | Base material with coating layer for display device, color filter base material with coating layer for display device, laminate and method for producing base material with coating layer for display device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6708030B2 (en) |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63246701A (en) * | 1987-11-28 | 1988-10-13 | Dainippon Printing Co Ltd | Multifaced color stripe filter |
JPH02129601A (en) * | 1988-11-10 | 1990-05-17 | Toshiba Corp | Substrate for color filter |
JP3147314B2 (en) * | 1991-08-06 | 2001-03-19 | 大日本印刷株式会社 | Manufacturing method of color filter |
JPH07159611A (en) * | 1993-12-07 | 1995-06-23 | Nippon Oil Co Ltd | Color filter and its production |
JPH09311322A (en) * | 1996-05-24 | 1997-12-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Formation of color filter substrate and color filter substrate obtained by this formation |
JPH1123832A (en) * | 1997-06-30 | 1999-01-29 | Toppan Printing Co Ltd | Manufacture of color filter for liquid crystal projector |
JP2002055219A (en) * | 2000-08-10 | 2002-02-20 | Toray Ind Inc | Method for manufacturing color filter substrate |
JP4676168B2 (en) * | 2004-06-11 | 2011-04-27 | 大日本印刷株式会社 | Filter substrate and color display using the same |
JP2008090191A (en) * | 2006-10-04 | 2008-04-17 | Dainippon Printing Co Ltd | Manufacturing method of color filter substrate |
JP2009139738A (en) * | 2007-12-07 | 2009-06-25 | Sharp Corp | Method for manufacturing liquid crystal display panel, and liquid crystal display panel |
JP6459170B2 (en) * | 2013-12-26 | 2019-01-30 | 大日本印刷株式会社 | Multi-surface color filter, organic electroluminescence display device, and method for manufacturing multi-surface color filter |
-
2016
- 2016-07-12 JP JP2016137820A patent/JP6708030B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2018010094A (en) | 2018-01-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8936839B2 (en) | Display panel with flat plate, method for manufacturing display panel with flat plate, and resin composition | |
CN106443857B (en) | Polarization plates, composite polarizing plate and liquid crystal display device | |
KR102469311B1 (en) | Fabrication Method for Flexible Display Device | |
TW201808641A (en) | Optical laminate | |
TWI605272B (en) | Anisotropic optical film | |
TW201908781A (en) | Elliptical polarizer | |
TW201310140A (en) | Pattern phase difference plate and manufacturing method thereof, and liquid crystal display device | |
KR20100038147A (en) | Polarizing plate and liquid crystal display | |
JP2013195672A (en) | Anisotropic optical film | |
JP6500458B2 (en) | PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURING MEMBER COMPRISING THE SAME, AND IMAGE DISPLAY DEVICE PROVIDED WITH THE SAME | |
TWI672530B (en) | Polarizers | |
US11874437B2 (en) | Black structure and self-luminous image display device comprising same | |
JP6708030B2 (en) | Base material with coating layer for display device, color filter base material with coating layer for display device, laminate and method for producing base material with coating layer for display device | |
CN112041712B (en) | Optical laminate and method for producing same | |
JP6716913B2 (en) | Color filter substrate with optical function layer | |
TW201921000A (en) | Retardation plate with optical compensation function for flexible display | |
JP2018005023A (en) | Laminate, display device, and method of manufacturing laminate | |
JP6460147B2 (en) | Color filter substrate, liquid crystal display device, and method of manufacturing color filter substrate | |
JP6716912B2 (en) | Substrate for display device | |
WO2018218884A1 (en) | Liquid crystal panel and manufacturing method therefor, liquid crystal display | |
JP2020144455A (en) | Laminate and image display device | |
KR20190036085A (en) | Touch sensor and manufacturing method thereof | |
JP2018004672A (en) | Phase difference adjustment substrate, color filter substrate, display device, and method of manufacturing color filter substrate | |
JP2017181530A (en) | Method for producing member with functional layer and method for producing member for display device | |
JP2017181529A (en) | Transfer member and member for transfer |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190530 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20200217 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200303 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200406 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200421 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200504 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6708030 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |