JPH02129601A - Substrate for color filter - Google Patents
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- JPH02129601A JPH02129601A JP63282441A JP28244188A JPH02129601A JP H02129601 A JPH02129601 A JP H02129601A JP 63282441 A JP63282441 A JP 63282441A JP 28244188 A JP28244188 A JP 28244188A JP H02129601 A JPH02129601 A JP H02129601A
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Landscapes
- Optical Filters (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
この発明は、例えば液晶表示素子に用いられるカラーフ
ィルタ基板に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention relates to a color filter substrate used, for example, in a liquid crystal display element.
(従来の技術)
液晶表示素子に用いられるカラーフィルタ基板は、例え
ばガラス基板上に赤、緑及び青のカラーフィルタを各画
素ごとに規則正しく配列し、更に、この各画素の周囲に
金属等を蒸着してブラックマトリックスを形成し、各画
素のコントラストを強調させている。(Prior Art) A color filter substrate used in a liquid crystal display element is made by arranging red, green, and blue color filters regularly for each pixel on a glass substrate, and then depositing metal, etc. around each pixel. This creates a black matrix and emphasizes the contrast of each pixel.
このカラーフィルタは、染色法、印刷法及び電着等の手
段によって形成されているが°、一般には1μm以上の
深さの凹凸形状を有している。この凹凸形状を平滑化し
て液晶表示素子の一方の電極となるべき透明導電性膜を
この上に安定な状態で形成するために、カラーフィルタ
上には通常、オーバーコート層が形成されている。ここ
で、オーバーコート層の材料としてはアクリル系樹脂が
一般に使用されている。This color filter is formed by means such as dyeing, printing, and electrodeposition, but generally has an uneven shape with a depth of 1 μm or more. An overcoat layer is usually formed on the color filter in order to smooth out the uneven shape and form a transparent conductive film, which is to become one electrode of the liquid crystal display element, thereon in a stable state. Here, acrylic resin is generally used as the material for the overcoat layer.
ところで、カラーフィルタを使用した液晶表示素子とし
ては、従来よりポリシリコン、非晶質シリコン(a−3
i )等を半導体層として用いる薄膜トランジスタ(T
hin Film Transistor、 TPT)
、或いはM I M (Metal−Insulato
r−Metal )素子等の非線形素子を用いたアクテ
ィブマトリックス型のものが、例えば特開昭56−25
714@公報や特開昭56−25777号公報等により
開示されて知られている。By the way, as liquid crystal display elements using color filters, polysilicon, amorphous silicon (a-3
i) etc. as a semiconductor layer (T
hin Film Transistor, TPT)
, or M I M (Metal-Insulato
An active matrix type using nonlinear elements such as r-Metal) elements is disclosed in, for example, JP-A-56-25.
It is disclosed and known in 714@ publication, Japanese Patent Application Laid-open No. 56-25777, and the like.
しかし、カラーフィルタを使用した液晶表示素子として
実用化されているのは、10吋以下の小型に属するカラ
ー液晶表示素子である。また、TPTをスイッチング素
子として用いた液晶表示素子では、カラーフィルタ上に
順次形成したオーバーコート層及び透明導電膜は基板全
面を覆う膜で、透明導電膜の膜厚は数百オングストロー
ム程度に薄くて十分である。However, what has been put into practical use as a liquid crystal display element using a color filter is a small color liquid crystal display element of 10 inches or less. In addition, in a liquid crystal display device using TPT as a switching element, an overcoat layer and a transparent conductive film, which are sequentially formed on a color filter, cover the entire surface of the substrate, and the thickness of the transparent conductive film is as thin as several hundred angstroms. It is enough.
この種の液晶表示素子では、大型化と大幅なコストの低
下を要求されるようになってきている。This type of liquid crystal display element is required to be larger in size and significantly lower in cost.
液晶表示用のカラーフィルタ基板においても、MIM素
子のようなフォトリソグラフィー工程の少ない安価なO
A (Office Automation >として
使用される大型液晶表示素子用やTPT素子を用いた大
型液晶TV用のものの開発が要請されている。Color filter substrates for liquid crystal displays also use inexpensive O2 that requires less photolithography process, such as MIM elements.
There is a demand for the development of products for large liquid crystal display devices used as A (Office Automation) and large liquid crystal TVs using TPT elements.
MIM素子を用いたカラー液晶表示用のカラーフィルタ
では、オーバーコート層の上に透明導電膜として数千オ
ンゲス1〜ロームの厚さのITO(Indium Ti
n 0xide)膜を形成し、フォトリングラフイー法
によって、カラーフィルタの画素サイズに合せたストラ
イプ状の電極を形成する必要がある。一方、TPT素子
を用いた大型カラー液晶表示装置でも、大型化に伴ない
電極抵抗を低下させるため、オーバーコート層上の透明
導電膜として従来より膜厚の厚いものが要求されるよう
になっている。In color filters for color liquid crystal displays using MIM elements, a transparent conductive film made of ITO (Indium Ti
It is necessary to form a stripe-shaped electrode corresponding to the pixel size of the color filter by forming a n 0 xide) film and using a photophosphorography method. On the other hand, even in large color liquid crystal display devices using TPT elements, in order to reduce electrode resistance as the size increases, the transparent conductive film on the overcoat layer is required to be thicker than before. There is.
(発明が解決しようとする課題)
ところで、上)ホしたオーバーコート層の種類としては
、今までに多数のものが知られている。例えば、アクリ
ル系樹脂を使用したオーバーコート層は、特開昭57−
150806号公報や特開昭58−160902@公報
等に開示されているが、この上に数千オングストローム
の厚さのITO膜を形成すると、全面に微細なしわが発
生し、正常なITO電極の形成は不可能となる欠点があ
る。また、エポキシ樹脂を使用したオーバーコート層は
、特開昭60−2113307号公報や特開昭81−6
624号公報等に開示されているが、カラーフィルタを
構成する素材とのなじみが悪く、表面に微小なつぶ状の
欠陥か発生する。更に、無機物を使用したオーバーコー
ト層は、特開昭57−78003号公報、特開昭58−
78107号公報、特開昭58−153903号公報及
び特開昭58−224310号公報等に開示されている
が、カラーフィルタの凹凸を平滑化する作用の点で、ア
クリル系樹脂やエポキシ樹脂といった有機物を使用した
オーバーコート層に比べて劣る。また、無機物を使用し
たオーバーコート層は形成に際し、CVD(Chemi
cal Vapor Depotion ) ’IA置
或いは高温の熱処理を必要とし、カラーフィルタの製法
を著しく特殊化したり、高価な装置で生産性が十分でな
かったりして、低コストの液晶表示用カラーフィルタを
作成する意図に沿わない。更に、有機物からなるオーバ
ーコート層上に無機物からなるオーバーコート層を重ね
る方法が、特開昭60−112001号公報や特開昭5
9−17191号公報等で開示されているが、無機物か
らなるオーバーコート層の形成が上述した欠点を伴なっ
てしまうことは言うまでもない。(Problems to be Solved by the Invention) By the way, a large number of types of overcoat layers as described in (a) above are known so far. For example, the overcoat layer using acrylic resin is
As disclosed in Japanese Patent Application Laid-open No. 150806 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 160902/1983, when an ITO film with a thickness of several thousand angstroms is formed on the film, fine wrinkles occur on the entire surface, which prevents the formation of a normal ITO electrode. has the disadvantage that it is impossible. In addition, overcoat layers using epoxy resin are disclosed in Japanese Patent Application Laid-open No. 60-2113307 and Japanese Patent Application Laid-open No. 81-6.
Although it is disclosed in Japanese Patent Application No. 624, etc., it is not compatible with the material constituting the color filter, and minute defects are generated on the surface. Furthermore, an overcoat layer using an inorganic substance is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 57-78003 and 1988-
Although disclosed in Japanese Patent Application Laid-open No. 78107, Japanese Patent Application Laid-open No. 58-153903, and Japanese Patent Application Laid-open No. 58-224310, organic materials such as acrylic resins and epoxy resins are effective in smoothing the unevenness of color filters. Inferior to overcoat layers using In addition, when forming an overcoat layer using an inorganic material, CVD (Chemical
Cal Vapor Deposition) 'Creating low-cost color filters for LCD displays that require IA placement or high-temperature heat treatment, require extremely specialized color filter manufacturing methods, and lack productivity due to expensive equipment. Not in accordance with the intention. Furthermore, a method of layering an overcoat layer made of an inorganic material on an overcoat layer made of an organic material is disclosed in Japanese Patent Application Laid-open No. 60-112001 and Japanese Patent Application Laid-open No. 5
Although it is disclosed in Japanese Patent No. 9-17191 and the like, it goes without saying that the formation of an overcoat layer made of an inorganic substance is accompanied by the above-mentioned drawbacks.
このように、従来の液晶表示用カラーフィルタにおいて
、特に、大型の液晶TVや例えばMIM素子を用いたO
A用カラー液晶表示に適していて、カラーフィルタの表
面の凹凸を平坦化して表示品位を向上させ、透明導電膜
からなる電極を安定且つ安価に製造するために必要な下
地のオーバーコート層として十分なものがなかった。In this way, conventional color filters for liquid crystal displays are particularly useful for large-sized liquid crystal TVs and, for example, OLEDs using MIM elements.
Suitable for A-type color LCD displays, it flattens unevenness on the surface of color filters to improve display quality, and is sufficient as an underlying overcoat layer necessary to stably and inexpensively manufacture electrodes made of transparent conductive films. There was nothing.
この発明は、カラーフィルタの表面の凹凸を平坦化する
のに優れ、厚さ数千オングストロームのITO膜の形成
を何ら阻害することなく行なえるうえに、スピンコード
或いは印刷等の量産に適した方法で作成可能なオーバー
コート層を有するカラーフィルタ基板を提供することを
目的とする。This invention is excellent in flattening unevenness on the surface of color filters, allows the formation of an ITO film with a thickness of several thousand angstroms without any hindrance, and is suitable for mass production such as spin cord or printing. An object of the present invention is to provide a color filter substrate having an overcoat layer that can be created using the following methods.
[発明の構成]
(課題を解決するための手段)
この発明は光透過性基板上に、規則性のめるカラーフィ
ルタを形成した後、少なくとも二層以上の異なった樹脂
からなるオーバーコート層を形成してなる。カラーフィ
ルタと接触する部分のオーバーコート層の下層は、カラ
ーフィルタを構成するバインダ等に対して濡れ性の良い
樹脂からなり、この上の層は上記下部層を形成する樹脂
との濡れ性が良いことが望まれる。そして、ITO膜と
接触するオーバーコート層の最上層の樹脂は、ITO膜
が安定して形成できるものがよく、オーバーコート層の
各層はそれぞれ塗布可能な形態のものが選ばれる。ここ
では、例えば下層の樹脂として、アクリル樹脂のセロソ
ルブアセテート液をスピンコードで形成し、最上層はエ
ポキシ樹脂或いは大部分がエポキシからなる樹脂等をス
ピンコードで塗布して形成したものが挙げられる。[Structure of the Invention] (Means for Solving the Problem) This invention forms a regular color filter on a light-transmissive substrate, and then forms an overcoat layer made of at least two or more different resins. It becomes. The lower layer of the overcoat layer in contact with the color filter is made of a resin that has good wettability with the binder that makes up the color filter, and the upper layer has good wettability with the resin that forms the lower layer. It is hoped that The resin in the uppermost layer of the overcoat layer in contact with the ITO film is preferably one that can form an ITO film stably, and each layer of the overcoat layer is selected to have a form that can be coated. Here, for example, the lower layer resin may be formed by using a spin cord to form an acrylic resin cellosolve acetate solution, and the uppermost layer may be formed by applying an epoxy resin or a resin made mostly of epoxy using a spin cord.
(作 用)
この発明は印刷法、染色法及び電着法等により形成され
ているカラーフィルタ上に、このカラーフィルタの成分
に対し、濡れ性の良い樹脂溶液をスピンコード或いは印
刷法により1〜3μmの厚さに被覆する。カラーフィル
タの表面はへ瀧度の顔料或いはタンニン酸等で不溶性処
理を施した染料と、バインダーとからなり、着色材が各
色で異なるのは勿論であるが、バインダーも色別に異な
る場合もある。これらの異なった表面状態を有するカラ
ーフィルタに対し、溶媒としてセロソルブアセテートを
有するアクリル樹脂液は良好な濡れ性を示す。この濡れ
性の良否は、各色毎に透明基板上に平滑な膜を形成し、
オーバーコート材の溶液を滴下し、その接触角を測定し
たり、また、オーバーコート材の溶液の一定量を滴下し
、広がり速度を含めて判断する。濡れ性の悪い材料を使
用すると、カラーフィルりとオーバーコート層との接着
が弱く、電極が形成されている他方の基板と接着し、液
晶を封入する過程で剥離や浮きが発生する場合がある。(Function) This invention applies a resin solution having good wettability to the components of the color filter onto a color filter formed by a printing method, a dyeing method, an electrodeposition method, etc., using a spin cord or a printing method. Coat to a thickness of 3 μm. The surface of the color filter is made of a hard pigment or a dye treated to make it insoluble with tannic acid, etc., and a binder.Of course, the coloring material is different for each color, but the binder may also be different for each color. An acrylic resin liquid having cellosolve acetate as a solvent exhibits good wettability for color filters having different surface conditions. The quality of this wettability is determined by forming a smooth film on a transparent substrate for each color.
A solution of the overcoat material is dropped and its contact angle is measured, or a certain amount of the solution of the overcoat material is dropped and the spreading speed is evaluated. If a material with poor wettability is used, the adhesion between the color fill and overcoat layer will be weak, and it may adhere to the other substrate on which the electrodes are formed, resulting in peeling or lifting during the process of encapsulating the liquid crystal. .
ここでは上記の溶媒として、30%濃度のアクリル樹脂
を含む溶液を、スピンナにより約1.5μmの厚さに塗
布する。次に、90〜120 °Cで数分から数十分間
加熱して、アクリル樹脂から溶媒の一部を蒸発固化させ
る。Here, a solution containing a 30% concentration acrylic resin as the above solvent is applied to a thickness of about 1.5 μm using a spinner. Next, it is heated at 90 to 120°C for several minutes to several tens of minutes to evaporate and solidify a portion of the solvent from the acrylic resin.
オーバーコート層におけるカラーフィルタ部分と接する
下層は、カラーフィルタを構成する材料との濡れ性が良
くなくてはいけない。また、この上に塗イ5するオーバ
ーコートの上層の材料との濡れ性及び耐溶媒性も配慮さ
れる。ここでは、アクリル系樹脂を例に挙げて説明した
が、他にはアルキッド樹脂等でもよい。オーバーコート
層の下層は凹凸の大きいカラーフィルタ部分に直接塗イ
5されるので、膜厚が大きいと空気の混入する確率が大
きく、膜厚が小さい方が仕上りは良好である。The lower layer of the overcoat layer that is in contact with the color filter portion must have good wettability with the material constituting the color filter. In addition, wettability with the material of the upper layer of the overcoat applied thereon and solvent resistance are also taken into consideration. Although acrylic resin has been described here as an example, other materials such as alkyd resin may also be used. Since the lower layer of the overcoat layer is applied directly to the highly uneven color filter portion, the larger the film thickness, the greater the probability of air being mixed in, and the smaller the film thickness, the better the finish.
そして、下層土に更に固型分が30〜40%のエポキシ
樹脂を、約2μmの厚さにスピンナで塗布する。ここで
、エポキシ樹脂はITO電極を安定に形成できる材料と
して選択した。アクリル系樹脂は通常160 ’Cで3
0分以上加熱して完全に固化するが、完全に固化すると
エポキシ樹脂との濡れ性が悪いので、上)ホの加熱条件
を選び、エポキシ樹脂液とのなじみの良い条件を与えた
。更にこの後、エポキシ樹脂は160〜180’Cで6
0分以上加熱して完全に固化させて、オーバーコート層
を完成させる。Then, an epoxy resin having a solid content of 30 to 40% is further applied to the subsoil to a thickness of about 2 μm using a spinner. Here, epoxy resin was selected as a material capable of stably forming an ITO electrode. Acrylic resins are usually 3 at 160'C.
It is completely solidified by heating for 0 minutes or more, but since the wettability with the epoxy resin is poor when it is completely solidified, the heating conditions in (a) above were selected to provide conditions that are compatible with the epoxy resin liquid. Furthermore, after this, the epoxy resin was heated at 160 to 180'C.
Heat for 0 minutes or more to completely solidify and complete the overcoat layer.
オーバーコート層の最上層は、ITO電極の形成が容易
で、且つオーバーコート層における下層ともなじみの良
い条件を満たす材料からなり、スピンコーナまたは印刷
等の手段で容易に形成できることが望ましい。ここでは
、エポキシ樹脂を例に挙げて説明したが、このような条
件を満たす材料としてポリイミド系樹脂、ポリアミド系
樹脂、メラミン系樹脂及びシリコーン樹脂等がある。ま
た、これらの樹脂は、近縁の種々の化合物を反応させて
変性したものから選んでもよい。このようなオーバーコ
ート層は、カラーフィルタの凹凸が2μmであっても、
厚さ0.5μm以内に平滑化でき、更に、この上に0.
2〜0.4μmのITO膜を形成し、フォトリソグラフ
ィ法によって、TTO電極を再現性良く形成できる。ま
た、オーバーコート層はスピンコード或いは印刷法が適
用できるので生産性が高い。The uppermost layer of the overcoat layer is preferably made of a material that satisfies the conditions that the ITO electrode can be easily formed and that it is compatible with the lower layer in the overcoat layer, and that it can be easily formed by means such as a spin corner or printing. Although epoxy resin has been described as an example here, examples of materials that satisfy such conditions include polyimide resins, polyamide resins, melamine resins, and silicone resins. Further, these resins may be selected from those modified by reacting various closely related compounds. Such an overcoat layer can be used even if the unevenness of the color filter is 2 μm.
It can be smoothed to a thickness of 0.5 μm or less, and on top of this, 0.5 μm or less can be smoothed.
A TTO electrode can be formed with good reproducibility by forming an ITO film with a thickness of 2 to 0.4 μm and using photolithography. Further, since the overcoat layer can be formed using a spin cord or a printing method, productivity is high.
(実施例) 以下、この発明の詳細を図面を参照して説明する。(Example) The details of this invention will be explained below with reference to the drawings.
第1図はこの発明の一実施例を1qるための製造工程を
説明するための図である。まず、第1図(a)に示すよ
うに、例えばガラスからなる光透過性基板1上に、感光
性染色基材2を塗布する。FIG. 1 is a diagram for explaining the manufacturing process for manufacturing one embodiment of the present invention. First, as shown in FIG. 1(a), a photosensitive dyed substrate 2 is applied onto a light-transmissive substrate 1 made of, for example, glass.
ここで、感光性染色基材2の膜厚は0.8〜1.2μm
程度あればよい。次に、所定のマスク上から紫外線を照
射し、架橋反応によって、第1図(b)に示すように、
感光性染色基材2の潜像3を形成する。続いて、現像を
行ない、第1図(C)に示すように、所定の規則性があ
る開口部4を有する樹脂膜5を形成する。そして、ベー
キングにより樹脂WA5を固化させた後、ブラック18
1(日本化薬製)の酢酸酸性液で染料処理を行ない、第
1図(d>に示すように、遮光WA6を形成する。ここ
で、遮光膜6は染料を吸着することにより、樹脂膜5の
ときに比べ膜厚が1.5μm程度まで増大する。そして
、タンニン酸と吐酒石を含む溶液中で、遮光11!6の
固着処理を行なう。次に、印刷法を用い、第1図(e)
に示すように、赤(R)、緑(G)及び青(B)のカラ
ーフィルタ7を開口部4に相当する部分に形成して、ベ
ーキングによりカラーフィルタ7のインクを固定する。Here, the film thickness of the photosensitive dyed substrate 2 is 0.8 to 1.2 μm.
A certain degree is fine. Next, ultraviolet rays are irradiated onto the predetermined mask to cause a crosslinking reaction, as shown in FIG. 1(b).
A latent image 3 is formed on the photosensitive dyed substrate 2. Subsequently, development is performed to form a resin film 5 having openings 4 with a predetermined regularity, as shown in FIG. 1(C). After solidifying the resin WA5 by baking, Black 18
1 (manufactured by Nippon Kayaku) to form a light-shielding WA6 as shown in FIG. The film thickness increases to about 1.5 μm compared to No. 5.Then, a fixation treatment of light shielding No. 11!6 is performed in a solution containing tannic acid and tartarite.Next, using the printing method, the first Figure (e)
As shown in FIG. 2, red (R), green (G), and blue (B) color filters 7 are formed in portions corresponding to the openings 4, and the ink on the color filters 7 is fixed by baking.
このようにして得られたカラーフィルタ7は、約2μm
の深さの規則正しい凹凸形状を有している。The color filter 7 thus obtained has a thickness of approximately 2 μm.
It has a regular uneven shape with a depth of .
次に、カラーフィルタ7上に第1図(f)に示すように
、メチルセロソルブアセテートを溶媒として含むアクリ
ル樹脂をスピンコー1−で塗布し、厚さ1.0〜2.5
μrn、好ましくは厚さ1.5μmのオーバーコート層
8の第1樹脂層8aを形成する。Next, as shown in FIG. 1(f), an acrylic resin containing methyl cellosolve acetate as a solvent is applied onto the color filter 7 using a spin coat 1- to a thickness of 1.0 to 2.5 cm.
The first resin layer 8a of the overcoat layer 8 is formed to have a thickness of μrn, preferably 1.5 μm.
続いて、90〜120℃で数分から数十分間加熱して、
溶媒の一部を蒸発させ固化する。そして、アクリル系樹
脂からなる第1樹脂層8a上に、メチルセロソルブアセ
テートを溶媒として含むエポキシ樹脂液をスピンコード
で塗布し、厚さ1.5〜3.0μm1好ましくは厚さ2
.0μmのオーバーコート層8の第2樹脂層8bを形成
する。次に、iao’cで100分間加熱して第2樹脂
層8bを完全に固化させ、オーバーコート層8を完成さ
せる。Next, heat at 90 to 120°C for several minutes to several tens of minutes,
Part of the solvent is evaporated and solidified. Then, on the first resin layer 8a made of acrylic resin, an epoxy resin liquid containing methyl cellosolve acetate as a solvent is applied with a spin cord to a thickness of 1.5 to 3.0 μm, preferably 2
.. A second resin layer 8b of the overcoat layer 8 with a thickness of 0 μm is formed. Next, the second resin layer 8b is completely solidified by heating with iao'c for 100 minutes, thereby completing the overcoat layer 8.
この実施例では、オーバーコート層8の構成として、カ
ラーフィルタ7と接触する第1樹脂層8aをカラーフィ
ルり7のインクとの濡れ性が良いアクリル系樹脂とし、
且つこの上の第2樹脂層8bをITO膜が安定に形成で
きるエポキシ樹脂としたので、俊にオーバーコート層8
上にITO電極を形成したとぎに、微細なしわや微小な
つぶ状の欠陥の発生を防止することができる。また、こ
の実施例で得られたオーバーコート層80表面はゆるや
かな起伏があり、高い部分と低い部分との差は0.5μ
m以内である。仮に、カラーフィルタ7の凹凸形状が例
えば4μmの深さであっても、上述した条件のわずかな
変更により、オーバーコート層8で被覆した後の凹凸形
状は、0.5μm以内に平滑化可能である。なお、平滑
化の点では、第1樹脂層8aは凹凸形状が大きいため、
膜厚が薄い方が良好な結果が得られ、第2樹脂層8bは
厚目に塗布した方が良い。In this embodiment, as the structure of the overcoat layer 8, the first resin layer 8a in contact with the color filter 7 is made of an acrylic resin that has good wettability with the ink of the color filter 7.
In addition, since the second resin layer 8b on this is made of epoxy resin that can stably form an ITO film, the overcoat layer 8b can be easily formed.
Once the ITO electrode is formed thereon, it is possible to prevent the occurrence of minute wrinkles and minute defects. Further, the surface of the overcoat layer 80 obtained in this example has gentle undulations, and the difference between high and low parts is 0.5μ.
It is within m. Even if the uneven shape of the color filter 7 is, for example, 4 μm deep, by slightly changing the conditions described above, the uneven shape after being coated with the overcoat layer 8 can be smoothed to within 0.5 μm. be. In addition, in terms of smoothing, since the first resin layer 8a has a large uneven shape,
The thinner the film, the better the results, and it is better to apply the second resin layer 8b thicker.
第2図はこの実施例により1qられたカラーフィルタ基
板20を用い且つMIM素子をスイッチング素子とする
液晶表示素子の一例を示す概略断面図である。カラーフ
ィルタ基板20のオーバーコート層8上にITO膜を厚
さ0.2〜0.4五m1好ましくは厚さ0.25μmの
ITOIIaをスパッタリングにより形成する。そして
、フォトリソグラフィー法により、各色のカラーフィル
タ7上に、ストライプ状の電極21を形成するとともに
、新たに、光透過性基板22上にマトリックス配線23
、画素電極24及びスイッチング素子(図示せず)等が
形成されてなるアレイ基1反25を用意する。そして、
カラーフィルタ基板20とアレイ基板25を、各々のカ
ラーフィルタ7と画素電極24、及び遮光膜6とマトリ
ックス配線23の部分が対向するようにして重ね合わせ
、この間隙には液晶層26を挟持する。更に、カラーフ
ィルタ基板20とアレイ基板25の外面にはそれぞれ、
偏光板27.28を被着することにより、所望の液晶表
示素子か得られ、表示を行うときは、例えばカラーフィ
ルタ基板20側から照明を施すとよい。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing an example of a liquid crystal display element using a color filter substrate 20 of this embodiment and using an MIM element as a switching element. An ITO film having a thickness of 0.2 to 0.45 m, preferably 0.25 μm, is formed on the overcoat layer 8 of the color filter substrate 20 by sputtering. Then, by photolithography, striped electrodes 21 are formed on the color filters 7 of each color, and matrix wiring 23 is newly formed on the light-transmitting substrate 22.
, an array base 25 on which pixel electrodes 24, switching elements (not shown), etc. are formed is prepared. and,
The color filter substrate 20 and the array substrate 25 are stacked so that the color filter 7 and the pixel electrode 24 and the light shielding film 6 and the matrix wiring 23 face each other, and a liquid crystal layer 26 is sandwiched in the gap. Furthermore, on the outer surfaces of the color filter substrate 20 and the array substrate 25,
By applying the polarizing plates 27 and 28, a desired liquid crystal display element can be obtained, and when displaying, it is preferable to provide illumination from, for example, the color filter substrate 20 side.
[発明の効果]
この発明は液晶表示用カラーフィルタのオーバーコート
層に少なくとも二種類の異なった樹脂からなる層を順次
スピンコードまたは印刷法で形成することにより、透明
電極を安定して形成可能とし、且つカラーフィルタを構
成する各画素部分との付着力も十分な強度を有し、表示
品質の高いカラーフィルタ基板を低コストで提供するこ
とができる。[Effects of the Invention] The present invention makes it possible to stably form transparent electrodes by sequentially forming layers made of at least two different resins on the overcoat layer of a color filter for a liquid crystal display using a spin code or printing method. , and has sufficient adhesive force with each pixel portion constituting the color filter, making it possible to provide a color filter substrate with high display quality at low cost.
第1図はこの発明の一実施例を1qるための製造工程を
説明するための断面図、第2図はこの発明の一実施例か
ら構成される液晶表示素子の一例を示す断面図である。
1・・・光透過性基板
7・・・カラーフィルタ
8・・・オーバーコート層
8a・・・第1樹脂層
8b・・・第2樹脂層
代理人 弁理士 則 近 憲 佑
同 竹 花 喜久男FIG. 1 is a cross-sectional view for explaining the manufacturing process for manufacturing one embodiment of this invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of a liquid crystal display element constructed from one embodiment of this invention. . 1... Light-transmissive substrate 7... Color filter 8... Overcoat layer 8a... First resin layer 8b... Second resin layer Agent Patent attorney Noriyuki Noriyuki Yudo Takehana Kikuo
Claims (1)
ーフィルタと、このカラーフィルタ上に形成されたオー
バーコート層を備えたカラーフィルタ基板において、前
記オーバーコート層が種類の異なつた材料からなる樹脂
層を複数個積層してなることを特徴とするカラーフィル
タ基板。A color filter substrate comprising a light transmitting substrate, a color filter formed on the light transmitting substrate, and an overcoat layer formed on the color filter, wherein the overcoat layer is made of different materials. A color filter substrate characterized by being formed by laminating a plurality of resin layers.
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63282441A JPH02129601A (en) | 1988-11-10 | 1988-11-10 | Substrate for color filter |
EP89120632A EP0368260B1 (en) | 1988-11-10 | 1989-11-07 | Liquid crystal display device and color filter for use with the liquid crystal display device and method of making the color filter |
DE68920702T DE68920702T2 (en) | 1988-11-10 | 1989-11-07 | Liquid crystal display device, color filter therefor, and method of manufacturing the color filter. |
US07/434,004 US5042920A (en) | 1988-11-10 | 1989-11-09 | Liquid crystal display device and color filter for use with the liquid crystal display device with two resin layers over the color filter |
KR1019890016272A KR920010016B1 (en) | 1988-11-10 | 1989-11-10 | Liquid crystal display device and color filter for use with the liquid crystal display device and method of making the color filter |
US07/708,726 US5190794A (en) | 1988-11-10 | 1991-05-31 | Liquid crystal display device and color filter for use with the liquid crystal display device and method of making the color filter |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP63282441A JPH02129601A (en) | 1988-11-10 | 1988-11-10 | Substrate for color filter |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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Family
ID=17652458
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP63282441A Pending JPH02129601A (en) | 1988-11-10 | 1988-11-10 | Substrate for color filter |
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Country | Link |
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JP (1) | JPH02129601A (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6088162A (en) * | 1995-08-28 | 2000-07-11 | Alps Electric Co., Ltd. | Multilayered filter films |
JP2016188914A (en) * | 2015-03-30 | 2016-11-04 | 凸版印刷株式会社 | Color filter |
JP2018005023A (en) * | 2016-07-05 | 2018-01-11 | 大日本印刷株式会社 | Laminate, display device, and method of manufacturing laminate |
JP2018010094A (en) * | 2016-07-12 | 2018-01-18 | 大日本印刷株式会社 | Substrate with coating layer for display device, color filter substrate with coating layer for display device, laminate, and method for manufacturing substrate with coating layer for display device |
-
1988
- 1988-11-10 JP JP63282441A patent/JPH02129601A/en active Pending
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