JP6702022B2 - Touch panel, multilayer film, and method for manufacturing multilayer film - Google Patents

Touch panel, multilayer film, and method for manufacturing multilayer film Download PDF

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Description

本発明は、基材と防汚層とを有する多層フィルム、該多層フィルムの製造方法、及び該多層フィルムを備えたタッチパネルに関する。   The present invention relates to a multilayer film having a substrate and an antifouling layer, a method for producing the multilayer film, and a touch panel including the multilayer film.

近年、有機EL(エレクトロルミネッセンス)ディスプレイ(ELD)や液晶ディスプレイ(LD)などの表示体の表面に、指やペンなどで押圧することによって情報を入力するタッチパネルが、普及している。タッチパネルは、電子手帳、携帯電話等の携帯端末や発券機など、種々多様に使用されている。   2. Description of the Related Art In recent years, a touch panel that inputs information by pressing a finger or a pen on the surface of a display body such as an organic EL (electroluminescence) display (ELD) or a liquid crystal display (LD) has become widespread. Touch panels are used in various applications such as electronic notebooks, mobile terminals such as mobile phones, and ticket issuing machines.

タッチパネルの表面には、操作時に指紋や皮脂などの汚れが付着したり、傷が付いたりする場合があり、このような汚れや傷は、視認性の低下や操作性に悪影響を及ぼすことがある。そのため、タッチパネルの表面には、汚れの付着防止性や汚れの拭き取りやすさといった特性(防汚性)、及び耐擦傷性(硬度)を付与することが求められる。   Fingerprints, sebum, and other stains may be attached or scratched on the surface of the touch panel during operation, and such stains and scratches may reduce visibility and adversely affect operability. .. For this reason, it is required that the surface of the touch panel be provided with characteristics such as antifouling property of dirt and easiness of wiping off dirt (antifouling property) and scratch resistance (hardness).

これに対して、基材上に防汚層やハードコート層を設けた光学フィルムを利用することにより、タッチパネル表面に防汚性や耐擦傷性(硬度)を付与することが一般になされている。
例えば、特許文献1には、透明支持体上に、ハードコート層、高屈折率層、低屈折率層が順に設けられ、さらに、該低屈折率層上にパーフルオロアルキルポリエーテル側鎖を有する重合体を含むオーバーコート層が積層された反射防止膜が開示されている。
また、特許文献2には、基材表面に光重合開始剤とアクリレート及び/又はメタクリレートとを含有する中間層を形成し、光照射して硬化させ、該中間層上にフッ素含有単量体及び溶剤の混合溶液を塗布し、活性エネルギー線を照射してフッ素含有重合体含被膜を設けてなる防汚性表面材料が開示されている。
On the other hand, by using an optical film provided with an antifouling layer or a hard coat layer on a substrate, it is generally performed to impart antifouling property and scratch resistance (hardness) to the touch panel surface.
For example, in Patent Document 1, a hard coat layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer are sequentially provided on a transparent support, and further, a perfluoroalkyl polyether side chain is provided on the low refractive index layer. An antireflection film having an overcoat layer containing a polymer laminated thereon is disclosed.
Further, in Patent Document 2, an intermediate layer containing a photopolymerization initiator and an acrylate and/or a methacrylate is formed on the surface of a base material, and the intermediate layer is irradiated with light to be cured. There is disclosed an antifouling surface material obtained by applying a mixed solution of a solvent and irradiating it with an active energy ray to form a film containing a fluorine-containing polymer.

特開2000−284102号公報JP, 2000-284102, A 特開2005−231128号公報JP, 2005-231128, A

特許文献1では、パーフルオロアルキルポリエーテル化合物の優れた滑り性を利用し、反射防止膜の表面側の層を汚れから保護し、耐擦傷性を向上させている。しかしながら、パーフルオロアルキルポリエーテル化合物は単に表面に塗布形成されているだけであるため繰り返しのこすりにより剥がれやすく、オーバーコート層(防汚層)の耐久性に劣るという問題があった。
また、特許文献2では、非フッ素溶媒に溶解可能なフッ素含有単量体を用いているため、硬化膜(フッ素含有重合体含被膜)の防汚性は十分なものではなかった。
In Patent Document 1, the excellent slipperiness of the perfluoroalkylpolyether compound is utilized to protect the layer on the surface side of the antireflection film from stains and improve scratch resistance. However, since the perfluoroalkylpolyether compound is simply applied and formed on the surface, it is easily peeled off by repeated rubbing, and there is a problem that the durability of the overcoat layer (antifouling layer) is poor.
Further, in Patent Document 2, since a fluorine-containing monomer that is soluble in a non-fluorine solvent is used, the antifouling property of the cured film (fluorine-containing polymer coating) is not sufficient.

本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであり、高硬度、かつ防汚性に優れると共に、耐久性に優れた防汚層を有する多層フィルム、該多層フィルムの製造方法、及び該多層フィルムを備えたタッチパネルを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such circumstances, high hardness, and excellent in antifouling property, a multilayer film having an antifouling layer excellent in durability, a method for producing the multilayer film, and An object is to provide a touch panel provided with a multilayer film.

本発明者らは、上記の課題を解決するべく鋭意検討した結果、後述する(A)成分と(B)成分、又は(C)成分とを組み合わせて用いることにより、上記課題を解決することを見出した。
本発明は、かかる知見に基づいて完成したものである。
As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors intend to solve the above-mentioned problems by using a combination of the component (A) and the component (B) or the component (C) described below. I found it.
The present invention has been completed based on such findings.

すなわち、本発明は、以下の[1]〜[17]を提供する。
[1]基材と防汚層とを有する多層フィルムを備えたタッチパネルであって、前記防汚層が、(A)パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと、(B)トリアルコキシシリル基及び重合性基を有する化合物、又は(C)少なくとも1つのアルコキシ基及び重合性基を有する前記(B)成分の誘導体との縮重合物を含む硬化物である、タッチパネル。
[2]前記防汚層が、前記縮重合物と電離放射線硬化性樹脂とを用いてなる硬化物である、上記[1]に記載のタッチパネル。
[3]防汚層の基材側の面にハードコート層を有する、上記[1]又は[2]に記載のタッチパネル。
[4]前記パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランが、パーフルオロポリエーテル構造を有するトリメトキシシランである、上記[1]〜[3]のいずれか一項に記載のタッチパネル。
[5]防汚層表面の純水の接触角が95°以上、且つ、滑落角が30°以下である、上記[1]〜[4]のいずれか一項に記載のタッチパネル。
[6]防汚層表面のアルコール系溶剤による拭き取り前後における該防汚層表面の純水の接触角の減少率が0〜15%である、上記[1]〜[5]のいずれか一項に記載のタッチパネル。
[7]少なくとも基材と防汚層とを有する多層フィルムの製造方法であって、
基材上に、(A)パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと、(B)トリアルコキシシリル基及び重合性基を有する化合物、又は(C)少なくとも1つのアルコキシ基及び重合性基を有する前記(B)成分の誘導体とを、有機溶媒、水、及び酸を含む混合溶媒中で加水分解、縮重合して得られた縮重合物を配合してなる防汚層形成用組成物の未硬化層を形成し、硬化させて防汚層を形成する、多層フィルムの製造方法。
[8]前記未硬化層を電離放射線の照射により硬化させて防汚層を形成する、上記[7]に記載の多層フィルムの製造方法。
[9]前記防汚層形成用組成物が、さらに電離放射線硬化性樹脂を配合したものである、上記[7]又は[8]に記載の多層フィルムの製造方法。
[10]未硬化層の形成前に、基材上に電離放射線硬化性樹脂を含むハードコート層形成用組成物の塗膜を形成し、電離放射線を照射して半硬化層を形成し、次いで、該半硬化層の基材とは反対側の面に接するように前記未硬化層を形成し、該半硬化層と、該未硬化層とに同時に電離放射線を照射し硬化させて、各々ハードコート層と防汚層とを形成する、上記[8]又は[9]に記載の多層フィルムの製造方法。
[11]前記半硬化層を形成する際に照射する電離放射線の照射量Xα(mJ/cm)、及び前記半硬化層と、前記未硬化層とに同時に照射する電離放射線の照射量Xβ(mJ/cm)が下記式(I)の関係を満たす、上記[10]に記載の多層フィルムの製造方法。
0.01≦Xα/(Xα+Xβ)≦0.80 (I)
(但し、Xαは3以上100以下である)
[12]基材と防汚層とを有する多層フィルムであって、
前記防汚層が、(A)パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと、(B)トリアルコキシシリル基及び重合性基を有する化合物、又は(C)少なくとも1つのアルコキシ基及び重合性基を有する前記(B)成分の誘導体との縮重合物を含む硬化物である、多層フィルム。
[13]前記防汚層が、前記縮重合物と電離放射線硬化性樹脂とを用いてなる硬化物である、上記[12]に記載の多層フィルム。
[14]防汚層の基材側の面にハードコート層を有する、上記[12]又は[13]に記載の多層フィルム。
[15]前記パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランが、パーフルオロポリエーテル構造を有するトリメトキシシランである、上記[12]〜[14]のいずれか一項に記載の多層フィルム。
[16]防汚層表面の純水の接触角が95°以上、且つ、滑落角が30°以下である、上記[12]〜[15]のいずれか一項に記載の多層フィルム。
[17]防汚層表面のアルコール系溶剤による拭き取り前後における該防汚層表面の純水の接触角の減少率が0〜15%である、上記[12]〜[16]のいずれか一項に記載の多層フィルム。
That is, the present invention provides the following [1] to [17].
[1] A touch panel comprising a multilayer film having a substrate and an antifouling layer, wherein the antifouling layer comprises (A) an alkoxysilane having a perfluoropolyether structure, (B) a trialkoxysilyl group, and A touch panel, which is a cured product containing a compound having a polymerizable group, or (C) a polycondensation product of at least one alkoxy group and a derivative of the component (B) having a polymerizable group.
[2] The touch panel according to [1], wherein the antifouling layer is a cured product using the condensation polymer and an ionizing radiation curable resin.
[3] The touch panel according to the above [1] or [2], which has a hard coat layer on the surface of the antifouling layer on the substrate side.
[4] The touch panel according to any one of [1] to [3] above, wherein the alkoxysilane having a perfluoropolyether structure is trimethoxysilane having a perfluoropolyether structure.
[5] The touch panel according to any one of the above [1] to [4], wherein a contact angle of pure water on the surface of the antifouling layer is 95° or more and a sliding angle is 30° or less.
[6] The reduction rate of the contact angle of pure water on the surface of the antifouling layer before and after wiping off the surface of the antifouling layer with an alcohol solvent is 0 to 15%, according to any one of the above [1] to [5]. Touch panel described in.
[7] A method for producing a multilayer film having at least a substrate and an antifouling layer, the method comprising:
On the substrate, (A) an alkoxysilane having a perfluoropolyether structure, (B) a compound having a trialkoxysilyl group and a polymerizable group, or (C) having at least one alkoxy group and a polymerizable group, Uncured composition for forming an antifouling layer, which comprises a polycondensation product obtained by hydrolyzing and polycondensing a derivative of component (B) with a mixed solvent containing an organic solvent, water and an acid. A method for producing a multilayer film, which comprises forming a layer and curing it to form an antifouling layer.
[8] The method for producing a multilayer film according to the above [7], wherein the uncured layer is cured by irradiation with ionizing radiation to form an antifouling layer.
[9] The method for producing a multilayer film according to the above [7] or [8], wherein the antifouling layer forming composition further contains an ionizing radiation curable resin.
[10] Before the formation of the uncured layer, a coating film of a composition for forming a hard coat layer containing an ionizing radiation-curable resin is formed on a substrate and irradiated with ionizing radiation to form a semi-cured layer. Forming the uncured layer in contact with the surface of the semi-cured layer opposite to the substrate, and simultaneously irradiating the semi-cured layer and the uncured layer with ionizing radiation to cure the hardened layer. The method for producing a multilayer film according to the above [8] or [9], wherein a coat layer and an antifouling layer are formed.
[11] Irradiation dose X α (mJ/cm 2 ) of ionizing radiation to be applied when forming the semi-cured layer, and ionizing radiation dose X of simultaneous irradiation to the semi-cured layer and the uncured layer. The method for producing a multilayer film according to the above [10], wherein β (mJ/cm 2 ) satisfies the relationship of the following formula (I).
0.01≦X α /(X α +X β )≦0.80 (I)
(However, X α is 3 or more and 100 or less)
[12] A multilayer film having a substrate and an antifouling layer,
The antifouling layer has (A) an alkoxysilane having a perfluoropolyether structure, (B) a compound having a trialkoxysilyl group and a polymerizable group, or (C) at least one alkoxy group and a polymerizable group. A multilayer film, which is a cured product containing a polycondensation product with the derivative of the component (B).
[13] The multilayer film according to the above [12], wherein the antifouling layer is a cured product using the condensation polymer and an ionizing radiation curable resin.
[14] The multilayer film according to the above [12] or [13], which has a hard coat layer on the surface of the antifouling layer on the substrate side.
[15] The multilayer film according to any one of the above [12] to [14], wherein the alkoxysilane having a perfluoropolyether structure is trimethoxysilane having a perfluoropolyether structure.
[16] The multilayer film according to any one of the above [12] to [15], wherein the surface of the antifouling layer has a contact angle of pure water of 95° or more and a sliding angle of 30° or less.
[17] The reduction rate of the contact angle of pure water on the surface of the antifouling layer before and after being wiped off with an alcohol solvent on the surface of the antifouling layer is 0 to 15%, according to any one of the above [12] to [16]. The multilayer film according to.

本発明によれば、高硬度、かつ防汚性に優れると共に、耐久性に優れた防汚層を有する多層フィルム、該多層フィルムの製造方法、及び該多層フィルムを備えたタッチパネルを提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a multilayer film having a high hardness and excellent antifouling property and having an antifouling layer excellent in durability, a method for producing the multilayer film, and a touch panel provided with the multilayer film. it can.

本発明の抵抗膜式タッチパネルの一実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one Embodiment of the resistive film type touch panel of this invention. 本発明の静電容量式タッチパネルの一実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one Embodiment of the electrostatic capacitance type touch panel of this invention. 本発明の多層フィルムの断面の一形態を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows one form of the cross section of the multilayer film of this invention. 本発明の多層フィルムの断面の一形態を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows one form of the cross section of the multilayer film of this invention.

以下、本発明の実施形態を説明する。
[タッチパネル]
本発明のタッチパネルは、基材と防汚層とを有する多層フィルムを備え、該防汚層が、(A)パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと、(B)トリアルコキシシリル基及び重合性基を有する化合物、又は(C)少なくとも1つのアルコキシ基及び重合性基を有する上記(B)成分の誘導体との縮重合物を含む硬化物であることを特徴とする。
ここで、本発明において「パーフルオロポリエーテル構造を有する」とは、パーフルオロポリエーテル結合を含む基を有することを意味する。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described.
[Touch panel]
The touch panel of the present invention comprises a multilayer film having a substrate and an antifouling layer, the antifouling layer comprising (A) an alkoxysilane having a perfluoropolyether structure, (B) a trialkoxysilyl group and a polymerizable group. A cured product containing a compound having a group, or (C) a polycondensation product of the derivative of the component (B) having at least one alkoxy group and a polymerizable group.
Here, in the present invention, “having a perfluoropolyether structure” means having a group containing a perfluoropolyether bond.

タッチパネルとしては、静電容量式タッチパネル、抵抗膜式タッチパネル、光学式タッチパネル、超音波式タッチパネル及び電磁誘導式タッチパネル等が挙げられる。これらタッチパネルは、ガラス基材、プラスチックフィルム基材等の基材を有し、該基材上の表面には、防汚性、耐擦傷性等の諸特性を有する層が形成される場合がある。
本発明のタッチパネルは、該タッチパネルの表面部材として後述する多層フィルムを用い、かつ該多層フィルムの防汚層側の面が表面側を向くように設置することが好ましい。
Examples of the touch panel include a capacitive touch panel, a resistive film touch panel, an optical touch panel, an ultrasonic touch panel, an electromagnetic induction touch panel, and the like. These touch panels have a base material such as a glass base material and a plastic film base material, and a layer having various properties such as stain resistance and scratch resistance may be formed on the surface of the base material. ..
The touch panel of the present invention preferably uses a multilayer film described below as a surface member of the touch panel, and is installed so that the surface of the multilayer film on the antifouling layer side faces the surface side.

抵抗膜式タッチパネル1は、図1に示すように、導電膜12を有する上下一対の透明基板11a、11bの導電膜12同士が対向するようにスペーサー13を介して配置されてなる基本構成に、図示しない回路が接続されてなるものである。抵抗膜式タッチパネルの場合、上部透明基板11aとして、後述する多層フィルムを用いることが好ましい。なお、上部透明基板11a及び下部透明基板11bは、2以上の基材からなる多層構造として、上部透明基板11aのうちの最表面の基材として後述する多層フィルムを用いてもよい。   As shown in FIG. 1, the resistive film type touch panel 1 has a basic configuration in which conductive films 12 of a pair of upper and lower transparent substrates 11 a and 11 b having a conductive film 12 are arranged via a spacer 13 so as to face each other. A circuit (not shown) is connected. In the case of a resistive film type touch panel, it is preferable to use a multilayer film described below as the upper transparent substrate 11a. The upper transparent substrate 11a and the lower transparent substrate 11b may have a multilayer structure including two or more base materials, and a multilayer film described below may be used as the outermost surface base material of the upper transparent substrate 11a.

静電容量式タッチパネルは、表面型及び投影型等が挙げられ、投影型が多く用いられている。投影型の静電容量式タッチパネルは、X軸電極と、該X電極と直交するY軸電極とを絶縁体を介して配置した基本構成に、回路が接続されてなるものである。該基本構成をより具体的に説明すると、1枚の透明基板上の別々の面にX電極及びY電極を形成する態様、透明基板上にX電極、絶縁体層、Y電極をこの順で形成する態様、図2に示すように、上部透明基板21a上にX電極22を形成し、下部透明基板21b上にY電極23を形成し、接着剤層24等を介して積層する態様等が挙げられる。
静電容量式タッチパネルの場合、上部透明基板21aとして、後述する多層フィルムを用いることが好ましい。なお、上部透明基板21a及び下部透明基板21bは、2以上の基材からなる多層構造として、上部透明基板21aのうちの最表面の基材として後述する多層フィルムを用いてもよい。
The capacitive touch panel includes a surface type and a projection type, and the projection type is often used. The projected capacitive touch panel has a circuit connected to a basic configuration in which an X-axis electrode and a Y-axis electrode orthogonal to the X electrode are arranged with an insulator interposed therebetween. The basic configuration will be described more specifically. A mode in which an X electrode and a Y electrode are formed on separate surfaces of a single transparent substrate, and an X electrode, an insulating layer, and a Y electrode are formed in this order on the transparent substrate. As shown in FIG. 2, the X electrode 22 is formed on the upper transparent substrate 21a, the Y electrode 23 is formed on the lower transparent substrate 21b, and the Y electrode 23 is laminated via the adhesive layer 24 or the like. Be done.
In the case of a capacitive touch panel, it is preferable to use a multilayer film described below as the upper transparent substrate 21a. The upper transparent substrate 21a and the lower transparent substrate 21b may have a multilayer structure including two or more base materials, and a multilayer film described below may be used as the outermost base material of the upper transparent substrate 21a.

[多層フィルム]
図3は本発明の多層フィルムの断面の一形態を示す模式図である。なお、図3に示す模式図において、説明の容易化のために、厚み方向(図の上下方向)の縮尺を幅方向(図の左右方向)の縮尺よりも大幅に拡大誇張して図示してある。多層フィルム3は、基材31上に、防汚層32が設けられている。また、図4に示すように、防汚層42の基材側の面にハードコート層43を有していてもよい。
[Multilayer film]
FIG. 3 is a schematic view showing one form of a cross section of the multilayer film of the present invention. In the schematic diagram shown in FIG. 3, the scale in the thickness direction (vertical direction in the drawing) is greatly enlarged and exaggerated compared to the scale in the width direction (horizontal direction in the drawing) for ease of explanation. is there. The multilayer film 3 includes a base material 31 and an antifouling layer 32 provided on the base material 31. Further, as shown in FIG. 4, a hard coat layer 43 may be provided on the surface of the antifouling layer 42 on the substrate side.

以下、本発明の多層フィルムを構成する各層の実施の形態について説明する。
<基材>
本発明の多層フィルムに用いる基材としては、例えば、ガラス板、酸化アルミ板、スピン−オン−グラス(SOG)材料などの各種無機系材料、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂などの各種有機系樹脂材料、有機−無機複合材料などが挙げられる。
上記基材としては、光透過性、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度に優れたものが好ましく、有機系樹脂材料からなることが好ましい。有機樹脂系材料としては、トリアセチルセルロース(TAC);ニトロセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース等のセルロース系樹脂;ポリ(メタ)アクリル酸メチル、ポリ(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸ブチル共重合体、(メタ)アクリル酸メチル−スチレン共重合体等のアクリル樹脂;ポリカーボネート樹脂;ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル樹脂;ポリスチレン、環状ポリオレフィン、ポリエチレン、ポリプロピレン等のオレフィン系樹脂;ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂;ナイロン−6、ナイロン−6,6等のポリアミド系樹脂等が例示される。
これらの中でも、光学特性や強度の観点から、TAC、PET、アクリル樹脂、PENが好ましく、TAC、PET、PENがより好ましく、TACおよびPETが更に好ましい。
なお、上記基材の形状は、平面構造であってもよいし、立体構造であってもよい。
Hereinafter, embodiments of each layer constituting the multilayer film of the present invention will be described.
<Substrate>
Examples of the substrate used for the multilayer film of the present invention include various inorganic materials such as glass plates, aluminum oxide plates, spin-on-glass (SOG) materials, thermoplastic resins, thermosetting resins, and ionizing radiation curable materials. Examples include various organic resin materials such as resins and organic-inorganic composite materials.
The above-mentioned substrate is preferably one having light transparency, smoothness, heat resistance, and excellent mechanical strength, and is preferably made of an organic resin material. Organic resin materials include triacetyl cellulose (TAC); cellulose resins such as nitrocellulose, cellulose acetate propionate, and ethyl hydroxyethyl cellulose; methyl poly(meth)acrylate, poly(meth)butyl acrylate, (meth) ) Acrylic resins such as methyl acrylate-butyl (meth)acrylate copolymer and methyl (meth)acrylate-styrene copolymer; polycarbonate resins; polyester resins such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN) Examples thereof include olefin resins such as polystyrene, cyclic polyolefin, polyethylene and polypropylene; vinyl resins such as polyvinyl chloride and polyvinylidene chloride; polyamide resins such as nylon-6 and nylon-6,6.
Among these, TAC, PET, acrylic resin, and PEN are preferable, TAC, PET, and PEN are more preferable, and TAC and PET are further preferable from the viewpoint of optical characteristics and strength.
The shape of the base material may be a planar structure or a three-dimensional structure.

基材の厚みは特に限定されないが、光学特性や強度の観点から、好ましくは1〜500μmであり、より好ましくは3〜300μmであり、更に好ましくは5〜200μmである。
基材の表面には、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理の他、アンカー剤又はプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行ってもよい。
The thickness of the substrate is not particularly limited, but from the viewpoint of optical characteristics and strength, it is preferably 1 to 500 μm, more preferably 3 to 300 μm, and further preferably 5 to 200 μm.
On the surface of the base material, in order to improve the adhesiveness, a physical treatment such as a corona discharge treatment or an oxidation treatment, or a coating called an anchor agent or a primer may be applied in advance.

また、ディスプレイ等として用いる観点から、上記基材の全光線透過率は85%以上であることが好ましく、90%以上であることがより好ましい。基材の透過率は、JIS K7361−1(プラスチック−透明材料の全光線透過率の試験方法)に準拠する方法により測定することができる。   Further, from the viewpoint of use as a display or the like, the total light transmittance of the above-mentioned substrate is preferably 85% or more, more preferably 90% or more. The transmittance of the base material can be measured by a method according to JIS K7361-1 (Testing method for total light transmittance of plastic-transparent material).

<防汚層>
本発明の多層フィルムに用いる防汚層は、防汚性を有する層であり、(A)パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと、(B)トリアルコキシシリル基及び重合性基を有する化合物、又は(C)少なくとも1つのアルコキシ基及び重合性基を有する上記(B)成分の誘導体との縮重合物(以下、単に「縮重合物」ともいう)を含む硬化物である。上記縮重合物が、パーフルオロポリエーテル構造を有することにより、防汚層の表面自由エネルギーを低下させ、汚れを付き難くすることができる。また、上記縮重合物が、上記(A)成分と、上記(B)成分又は上記(C)成分とが縮重合した構造であるため、隣接するパーフルオロポリエーテル構造部位の間隔が広く疎になり、該パーフルオロポリエーテル構造部位が動きやすく柔軟性を有することにより、滑落性が向上し、更に汚れを付き難くし、かつ、付いた汚れの拭き取りを容易にすることができる。
また、上記(B)成分及び上記(C)成分が重合性基を有することから、防汚層と隣接する層(基材又はハードコート層)との密着性が高まり、防汚層の耐久性を優れたものとすることができる。
<Anti-fouling layer>
The antifouling layer used in the multilayer film of the present invention is a layer having antifouling properties, and includes (A) an alkoxysilane having a perfluoropolyether structure, and (B) a compound having a trialkoxysilyl group and a polymerizable group, Alternatively, it is a cured product containing (C) a polycondensation product with the derivative of the component (B) having at least one alkoxy group and a polymerizable group (hereinafter, also simply referred to as “polycondensation product”). When the polycondensation product has a perfluoropolyether structure, the surface free energy of the antifouling layer can be reduced and stains can be made difficult to adhere. Further, since the polycondensation product has a structure in which the component (A) is polycondensed with the component (B) or the component (C), the intervals between adjacent perfluoropolyether structural sites are wide and sparse. Since the perfluoropolyether structure part is easy to move and has flexibility, slipperiness is improved, stains are less likely to adhere, and stains attached can be easily wiped off.
Further, since the component (B) and the component (C) have a polymerizable group, the adhesion between the antifouling layer and the adjacent layer (base material or hard coat layer) is increased, and the durability of the antifouling layer is improved. Can be excellent.

上記防汚層を占める上記縮重合物の割合は、60〜100質量%であることが好ましく、70〜100質量%であることがより好ましく、80〜100質量%であることが更に好ましい。また、上記防汚層が、上記縮重合物と後述する電離放射線硬化性樹脂とを用いてなる硬化物である場合、該防汚層を占める上記縮重合物の割合は、0.01〜20質量%であることが好ましく、0.02〜20質量%であることがより好ましく、0.02〜10質量%であることが更に好ましい。   The polycondensation product occupying the antifouling layer is preferably 60 to 100% by mass, more preferably 70 to 100% by mass, and further preferably 80 to 100% by mass. When the antifouling layer is a cured product of the condensation polymer and an ionizing radiation curable resin described later, the proportion of the condensation polymer occupying the antifouling layer is 0.01 to 20. It is preferably mass%, more preferably 0.02 to 20 mass%, still more preferably 0.02 to 10 mass%.

〔(A)パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシラン〕
上記縮重合物の原料として用いられる(A)成分のパーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランは、パーフルオロポリエーテル構造を有することにより、防汚層の表面自由エネルギーを低下させ、汚れを付き難くする。更に、隣接するパーフルオロポリエーテル構造部位の間隔が広く疎になり、該パーフルオロポリエーテル構造部位が動きやすく柔軟性を有することにより、更に汚れを付き難くし、かつ、付いた汚れの拭き取りを容易にすると考えられる。
上記(A)成分のパーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランとしては、例えば、下記一般式(1)乃至(4)で表される化合物が挙げられ、防汚性の観点から、下記一般式(1)で表される化合物が好ましい。
[(A) Alkoxysilane Having Perfluoropolyether Structure]
The alkoxysilane having a perfluoropolyether structure, which is the component (A) used as a raw material for the above condensation polymer, has a perfluoropolyether structure, thereby lowering the surface free energy of the antifouling layer and making it difficult for dirt to attach. To do. Furthermore, the spacing between adjacent perfluoropolyether structural parts becomes wide and sparse, and the perfluoropolyether structural parts are easy to move and have flexibility, thereby making it more difficult for dirt to adhere and wiping off the dirt that has adhered. It is supposed to be easy.
Examples of the alkoxysilane having a perfluoropolyether structure as the component (A) include compounds represented by the following general formulas (1) to (4), and from the viewpoint of antifouling property, the following general formula ( The compound represented by 1) is preferable.


(式中、Rは、炭素数1〜6のアルキル基である。但し、複数のRは同一でも異なっていてもよい。R〜Rは、それぞれ独立に、炭素数1〜12の2価の有機基を示す。Zはシロキサン結合を有する1〜10価のオルガノポリシロキサン基であり、Zはシロキサン結合を有する2〜10価のオルガノポリシロキサン基である。Qはパーフルオロポリエーテル結合を含む基である。Rfは、直鎖または分岐鎖構造のフッ化アルキル基である。nは1〜200の整数、mは1〜10の整数である。)

(Wherein, R 1 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. However, a plurality of R 1 may optionally be the same or different .R 2 to R 9 are each independently, a carbon number 1 to 12 Z 1 is a 1 to 10 valent organopolysiloxane group having a siloxane bond, Z 2 is a 2 to 10 valent organopolysiloxane group having a siloxane bond, and Q is a par. Rf is a linear or branched fluorinated alkyl group having a fluoropolyether bond, n is an integer of 1 to 200, and m is an integer of 1 to 10.)

上記Rの炭素数1〜6のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、n−ヘキシル基、イソヘキシル基等が挙げられ、防汚性及び反応性の観点からメチル基、エチル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
上記R〜Rは、それぞれ独立に、炭素数1〜12、好ましくは炭素数3〜8の2価の有機基であり、具体的には、メチレン基、エチレン基、プロピレン基(トリメチレン基、メチルエチレン基)、ブチレン基(テトラメチレン基、メチルプロピレン基)、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基等のアルキレン基、フェニレン基等のアリーレン基、又はこれらの基の2種以上の組み合わせ等が挙げられる。また、これらの基は、エーテル結合、アミド結合、エステル結合、及びビニル結合を含んでいてもよく、更に、酸素原子、窒素原子及びフッ素原子を含んでいてもよい。
Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms of R 1 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a t-butyl group, an n-pentyl group, an isopentyl. Group, neopentyl group, n-hexyl group, isohexyl group and the like. From the viewpoint of antifouling property and reactivity, methyl group and ethyl group are preferable, and methyl group is more preferable.
R 2 to R 9 are each independently a divalent organic group having 1 to 12 carbon atoms, preferably 3 to 8 carbon atoms, and specifically, methylene group, ethylene group, propylene group (trimethylene group). , Methylethylene group), butylene group (tetramethylene group, methylpropylene group), hexamethylene group, octamethylene group and other alkylene groups, phenylene group and other arylene groups, or a combination of two or more of these groups. Be done. Moreover, these groups may contain an ether bond, an amide bond, an ester bond, and a vinyl bond, and may further contain an oxygen atom, a nitrogen atom, and a fluorine atom.

上記Zのシロキサン結合を有する2〜10価のオルガノポリシロキサン基としては、例えば、以下の一般式(5−1)〜(5−12)で表される基が挙げられる。 Examples of the divalent to 10-valent organopolysiloxane group having a siloxane bond of Z 2 include groups represented by the following general formulas (5-1) to (5-12).

上記一般式(5−1)〜(5−12)で表される基の中でも、本発明の効果である防汚性を得る観点から、一般式(5−1)、(5−2)、(5−3)、(5−4)、(5−7)で表される基が好ましい。   Among the groups represented by the general formulas (5-1) to (5-12), from the viewpoint of obtaining the antifouling property which is the effect of the present invention, the general formulas (5-1), (5-2), The groups represented by (5-3), (5-4) and (5-7) are preferable.

上記Qのパーフルオロポリエーテル結合を含む基としては、例えば、−CFO−、−CFCFO−、−CFCFCFO−、−CF(CF)CFO−、−OCFOCFCF−、−CFCFCFCFO−、−CFCF(CF)CFO−、−CFCFCFCFCFCFO−、−C(CFO−などが挙げられる。
中でも、防汚性の観点から、−CFCFO−、−CFCFCFO−、−CF(CF)CFO−、−OCFOCFCF−、−CFCF(CF)CFO−が好ましい。これらは、1種類のみでも2種類以上を含んでもよい。
The group containing a perfluoropolyether bond of the Q, for example, -CF 2 O -, - CF 2 CF 2 O -, - CF 2 CF 2 CF 2 O -, - CF (CF 3) CF 2 O- , -OCF 2 OCF 2 CF 2 - , - CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 O -, - CF 2 CF (CF 3) CF 2 O -, - CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 O- , -C (CF 3) 2 O- and the like.
Among them, from the viewpoint of antifouling property, -CF 2 CF 2 O -, - CF 2 CF 2 CF 2 O -, - CF (CF 3) CF 2 O -, - OCF 2 OCF 2 CF 2 -, - CF 2 CF (CF 3) CF 2 O- are preferred. These may include only one type or two or more types.

上記Rfは、直鎖または分岐鎖構造のフッ化アルキル基であり、本発明の効果を得る観点から、直鎖のフッ化アルキル基が好ましい。
直鎖のフッ化アルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基、ウンデカフルオロペンチル基、トリデカフルオロヘキシル基等が挙げられ、分岐鎖構造のフッ化アルキル基としては、1−(トリフルオロメチル)−1,2,2,2−テトラフルオロエチル基、1,1−ジ(トリフルオロメチル)−2,2,2−トリフルオロエチル基、2−(トリフルオロメチル)−1,1,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基などが挙げられる。
Rf is a linear or branched fluorinated alkyl group, and a linear fluorinated alkyl group is preferable from the viewpoint of obtaining the effect of the present invention.
Examples of the linear fluorinated alkyl group include a trifluoromethyl group, a difluoromethyl group, a pentafluoroethyl group, a heptafluoropropyl group, a nonafluorobutyl group, an undecafluoropentyl group, and a tridecafluorohexyl group. Examples of the branched alkyl fluoride group include a 1-(trifluoromethyl)-1,2,2,2-tetrafluoroethyl group and a 1,1-di(trifluoromethyl)-2,2,2 group. -Trifluoroethyl group, 2-(trifluoromethyl)-1,1,3,3,3-pentafluoropropyl group and the like.

上記nは、1〜200の整数であり、防汚性の観点から、好ましくは2〜100、より好ましくは、3〜60である。nを1以上とすることで基材表面を十分に被覆することができ、防汚層表面の表面自由エネルギーが低下し、防汚性を向上させることができる。nを200以下とすることで、アルコキシシリル基(−Si(OR)の反応性を高めることができる。 The above n is an integer of 1 to 200, and is preferably 2 to 100, more preferably 3 to 60 from the viewpoint of antifouling property. When n is 1 or more, the surface of the base material can be sufficiently covered, the surface free energy of the surface of the antifouling layer is reduced, and the antifouling property can be improved. By setting n to 200 or less, the reactivity of the alkoxysilyl group (—Si(OR 1 ) 3 ) can be increased.

上記mは、1〜10の整数であり、防汚性の観点から、好ましくは1〜7、より好ましくは、1〜5である。mを1以上とすることで滑り性が向上し、より高い防汚性が得られる。mを10以下とすることで、表面自由エネルギーの増大を抑制し、防汚性の低下を抑制できる。   The above m is an integer of 1 to 10, and is preferably 1 to 7, more preferably 1 to 5 from the viewpoint of antifouling property. When m is 1 or more, slipperiness is improved and higher antifouling property is obtained. By setting m to 10 or less, an increase in surface free energy can be suppressed and a decrease in antifouling property can be suppressed.

上記(A)成分のパーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランは、防汚性及び反応性の観点から、パーフルオロポリエーテル構造を有するトリメトキシシランであることが好ましい。
また、上記(A)成分のパーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランとしては、信越化学(株)製「X−71−195」、「KY−178」、「KY−164」、「KY−108」、「KP−911」、ダイキン工業(株)製「オプツールDSX」、「オプツールDSX−E」、「オプツールUF503」等が商業的に入手可能であり、生産性及び防汚性の観点から、「X−71−195」が好ましい。
The alkoxysilane having a perfluoropolyether structure of the component (A) is preferably trimethoxysilane having a perfluoropolyether structure from the viewpoint of antifouling property and reactivity.
Further, as the alkoxysilane having a perfluoropolyether structure as the component (A), there are "X-71-195", "KY-178", "KY-164", and "KY-108" manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. , “KP-911”, “Optool DSX” manufactured by Daikin Industries, Ltd., “Optool DSX-E”, “Optool UF503” and the like are commercially available, and from the viewpoint of productivity and antifouling property, "X-71-195" is preferable.

〔(B)トリアルコキシシリル基及び重合性基を有する化合物〕
前記縮重合物の原料として用いられる(B)成分のトリアルコキシシリル基及び重合性基を有する化合物は、少なくとも1つのトリアルコキシシリル基と、少なくとも1つの重合性基とを有する化合物であれば特に限定されず、複数のトリアルコキシシリル基や、複数の重合性基を有する化合物であってもよい。中でも、反応性及び入手容易性の観点から、1つのトリアルコキシシリル基と、1つの重合性基とを有する化合物であることが好ましい。
[(B) Compound Having Trialkoxysilyl Group and Polymerizable Group]
The compound having a trialkoxysilyl group and a polymerizable group of the component (B) used as a raw material of the condensation polymer is particularly preferably a compound having at least one trialkoxysilyl group and at least one polymerizable group. It is not limited and may be a compound having a plurality of trialkoxysilyl groups or a plurality of polymerizable groups. Among them, a compound having one trialkoxysilyl group and one polymerizable group is preferable from the viewpoint of reactivity and availability.

(B)成分が有する重合性基は、ラジカル重合性基、カチオン重合性基のいずれでもよく、特に限定されない。カチオン重合性基としては、ビニルエーテル基、オキシラニル基、オキセタニル基等が例示され、ラジカル重合性基としては、(メタ)アクリロイルオキシ基、(メタ)アクリルアミド基、ビニル基、スチリル基、アリル基等が例示される。
(B)成分が有する重合性基としては、反応性の観点から、ラジカル重合性基であることが好ましく、特に、(メタ)アクリロイルオキシ基を有することが好ましい。
The polymerizable group contained in the component (B) may be either a radical polymerizable group or a cationic polymerizable group and is not particularly limited. Examples of the cationically polymerizable group include vinyl ether group, oxiranyl group, oxetanyl group and the like, and examples of the radically polymerizable group include (meth)acryloyloxy group, (meth)acrylamide group, vinyl group, styryl group and allyl group. It is illustrated.
From the viewpoint of reactivity, the polymerizable group contained in the component (B) is preferably a radical polymerizable group, and particularly preferably a (meth)acryloyloxy group.

(B)成分が有するトリアルコキシシリル基中のアルコキシ基としては、炭素数1〜6のアルコキシ基が好ましく、炭素数1〜3のアルコキシ基がより好ましく、炭素数1又は2のアルコキシ基が更に好ましく、メトキシ基が特に好ましい。
なお、複数存在するアルコキシ基は、同一でも異なっていてもよいが、合成上の観点からは、同一であることが好ましい。
As the alkoxy group in the trialkoxysilyl group contained in the component (B), an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms is preferable, an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms is more preferable, and an alkoxy group having 1 or 2 carbon atoms is further preferable. A methoxy group is preferable and a methoxy group is particularly preferable.
The plural alkoxy groups may be the same or different, but from the viewpoint of synthesis, it is preferable that they are the same.

(B)成分の具体例としては、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。中でも、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリエトキシシランが好ましく、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシランがより好ましい。   Specific examples of the component (B) include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 3-(meth)acryloxypropyltrimethoxysilane, and 3-(meth)acryloxypropyltriethoxysilane. Among them, 3-(meth)acryloxypropyltrimethoxysilane and 3-(meth)acryloxypropyltriethoxysilane are preferable, and 3-(meth)acryloxypropyltrimethoxysilane is more preferable.

〔(C)少なくとも1つのアルコキシ基及び重合性基を有する前記(B)成分の誘導体〕
前記縮重合物の原料として用いられる(C)成分は、少なくとも1つのアルコキシ基及び重合性基を有する上記(B)成分の誘導体であり、例えば、上記(B)成分と、(D)下記一般式(6)で表されるアルコキシシランとの縮合物が挙げられる。
[(C) Derivative of Component (B) Having At least One Alkoxy Group and Polymerizable Group]
The component (C) used as a raw material for the polycondensation product is a derivative of the component (B) having at least one alkoxy group and a polymerizable group, and includes, for example, the component (B) and the following general formula (D). Examples thereof include a condensate with an alkoxysilane represented by the formula (6).


(式中、R10は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数2〜8のアルケニル基、環形成原子数3〜10のシクロアルキル基、環形成原子数6〜20のアリール基である。R11は、それぞれ独立に炭素数1〜6のアルキル基である。R10及びR11が複数ある場合、複数のR10及びR11は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。xは1〜4の整数である。)

(In the formula, each R 10 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 ring atoms, and 6 to 6 ring atoms. 20 aryl group .R 11 are each independently if .R 10 and R 11 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is more, a plurality of R 10 and R 11 are each be the same or different X is an integer of 1 to 4.)

上記R10は、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数2〜8のアルケニル基、環形成原子数3〜10のシクロアルキル基、環形成原子数6〜20のアリール基である。中でも、反応性の観点から、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数2〜8のアルケニル基が好ましく、炭素数1〜10のアルキル基がより好ましい。 R 10 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 ring atoms, or an aryl group having 6 to 20 ring atoms. .. Among them, from the viewpoint of reactivity, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms are preferable, and an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is more preferable.

上記R10の炭素数1〜10、好ましくは1〜6のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、n−ヘキシル基、イソヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基等が挙げられる。中でも、防汚性及び反応性の観点から、好ましくはメチル基、エチル基であり、より好ましくはメチル基である。 Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 6 carbon atoms of R 10 include, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, t-butyl group, Examples thereof include n-pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, n-hexyl group, isohexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group and n-decyl group. Among them, from the viewpoint of antifouling property and reactivity, a methyl group and an ethyl group are preferable, and a methyl group is more preferable.

上記R10の炭素数2〜8、好ましくは2〜4のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基などが挙げられる。 Examples of the alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, preferably 2 to 4 carbon atoms for R 10 include a vinyl group, an allyl group, a butenyl group, a pentenyl group and the like.

上記R10の環形成原子数3〜10のシクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基等が挙げられる。
上記R10の環形成原子数6〜20、好ましくは6〜12のアリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ビフェニル基等が挙げられる。
Examples of the cycloalkyl group having 3 to 10 ring atoms of R 10 include a cyclopropyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cyclooctyl group, and the like.
Examples of the aryl group having 6 to 20, preferably 6 to 12 ring-forming atoms of R 10 include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group and a biphenyl group.

上記アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、及びアリール基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子が好ましい。   The alkyl group, alkenyl group, cycloalkyl group, and aryl group may have a substituent. As the substituent, a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom is preferable.

11の炭素数1〜6のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、n−ヘキシル基、イソヘキシル基等が挙げられる。中でも、防汚性及び反応性の観点から、メチル基、エチル基が好ましく、メチル基がより好ましい。 Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms of R 11 include, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, t-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group. , Neopentyl group, n-hexyl group, isohexyl group and the like. Of these, a methyl group and an ethyl group are preferable, and a methyl group is more preferable, from the viewpoint of antifouling property and reactivity.

xは1〜4の整数であり、防汚性及び反応性の観点から、好ましくは2、3、又は4であり、より好ましくは3又は4である。   x is an integer of 1 to 4, and is preferably 2, 3 or 4 from the viewpoint of antifouling property and reactivity, and more preferably 3 or 4.

前記(D)成分の一般式(6)で表されるアルコキシシランとしては、反応性や防汚性の観点から、アルキル基を有するトリアルコキシシランもしくはテトラアルコキシシランが好ましい。具体例としては、トリメトキシ(メチル)シラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等が挙げられる。中でも、トリメトキシ(メチル)シラン、エチルトリメトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランが好ましく、トリメトキシ(メチル)シラン、テトラメトキシシランがより好ましい。   As the alkoxysilane represented by the general formula (6) of the component (D), a trialkoxysilane or tetraalkoxysilane having an alkyl group is preferable from the viewpoint of reactivity and antifouling property. Specific examples include trimethoxy(methyl)silane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, tetramethoxysilane, and tetraethoxysilane. Among them, trimethoxy(methyl)silane, ethyltrimethoxysilane, tetramethoxysilane, and tetraethoxysilane are preferable, and trimethoxy(methyl)silane and tetramethoxysilane are more preferable.

上記(C)成分は、上記(B)成分が有するアルコキシ基の一部と、上記(D)成分が有するアルコキシ基の一部とが縮合反応した縮合物であることが好ましい。具体例としては、(B)成分として、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランの有するメトキシ基の一部と、(D)成分として、トリメトキシ(メチル)シランの有するメトキシ基の一部とが縮合反応した縮合物が挙げられる。   The component (C) is preferably a condensate in which part of the alkoxy groups of the component (B) and part of the alkoxy groups of the component (D) have undergone a condensation reaction. As a specific example, as a component (B), a part of a methoxy group of 3-acryloxypropyltrimethoxysilane and a part of a methoxy group of trimethoxy(methyl)silane as a component (D) are subjected to a condensation reaction. Examples of the condensate include

上記(B)成分と上記(D)成分との重量比は、防汚性や密着性の観点から、好ましくは1:0.05〜10、より好ましくは1:0.07〜8、更に好ましくは1:0.1〜5である。   The weight ratio of the component (B) to the component (D) is preferably 1:0.05 to 10, more preferably 1:0.07 to 8, and even more preferably from the viewpoint of antifouling property and adhesiveness. Is 1:0.1-5.

上記(C)成分中に含まれるアルコキシ基とシラノール基との合計含有量は、(A)成分との反応性の観点から、好ましくは1〜30mmol/g、より好ましくは2〜25mmol/g、更に好ましくは3〜15mmol/gである。   From the viewpoint of reactivity with the component (A), the total content of the alkoxy group and the silanol group contained in the component (C) is preferably 1 to 30 mmol/g, more preferably 2 to 25 mmol/g, More preferably, it is 3 to 15 mmol/g.

また、上記(C)成分中に含まれる重合性基の含有量は、密着性向上の観点から、好ましくは0.1〜40mmol/g、より好ましくは0.5〜30mmol/g、更に好ましくは1〜20mmol/gである。   The content of the polymerizable group contained in the component (C) is preferably 0.1 to 40 mmol/g, more preferably 0.5 to 30 mmol/g, and further preferably from the viewpoint of improving the adhesiveness. It is 1 to 20 mmol/g.

前記防汚層は、前記縮重合物と電離放射線硬化性樹脂とを用いてなる硬化物であることが、高硬度化及び密着性向上の観点から好ましい。
電離放射線硬化性樹脂としては、アルコキシ基を有さず、電離放射線(紫外線または電子線)の照射によって架橋硬化することができるラジカル重合性樹脂を用いることができる。ラジカル重合性樹脂は、分子中にラジカル重合性基を有する。ラジカル重合性基としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合含有基が挙げられる。なかでも、得られる防汚層の強度及び硬化性の観点から、ラジカル重合性樹脂としては、分子中にエチレン性不飽和結合含有基を2つ以上有する化合物が好ましく、分子中に(メタ)アクリロイル基を2つ以上有する多官能(メタ)アクリレート化合物がより好ましい。多官能(メタ)アクリレート化合物としては、モノマー、オリゴマー、及びポリマーのいずれも用いることができるが、防汚層の強度及び硬化性の観点から、少なくとも多官能(メタ)アクリレートモノマーを含むことが好ましい。
ここで、本発明において「(メタ)アクリレート」とは、アクリレート又はメタクリレートを意味する。
The antifouling layer is preferably a cured product obtained by using the polycondensation product and an ionizing radiation curable resin, from the viewpoint of increasing hardness and improving adhesion.
As the ionizing radiation curable resin, a radical polymerizable resin which has no alkoxy group and can be crosslinked and cured by irradiation with ionizing radiation (ultraviolet ray or electron beam) can be used. The radical polymerizable resin has a radical polymerizable group in the molecule. Examples of the radically polymerizable group include ethylenically unsaturated bond-containing groups such as (meth)acryloyl group, vinyl group and allyl group. Among them, from the viewpoint of strength and curability of the resulting antifouling layer, the radical-polymerizable resin is preferably a compound having two or more ethylenically unsaturated bond-containing groups in the molecule, and (meth)acryloyl is included in the molecule. A polyfunctional (meth)acrylate compound having two or more groups is more preferable. As the polyfunctional (meth)acrylate compound, any of a monomer, an oligomer and a polymer can be used, but it is preferable to contain at least a polyfunctional (meth)acrylate monomer from the viewpoint of strength and curability of the antifouling layer. ..
Here, in the present invention, "(meth)acrylate" means acrylate or methacrylate.

多官能(メタ)アクリレート化合物のうち、好ましい2官能(メタ)アクリレートモノマーとしては、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
3官能以上の(メタ)アクリレートモノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸変性トリ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
また、上記(メタ)アクリレートモノマーは、分子骨格の一部を変性しているものでもよく、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、カプロラクトン、イソシアヌル酸、アルキル、環状アルキル、芳香族、ビスフェノール等による変性がなされたものも使用することができる。
Among the polyfunctional (meth)acrylate compounds, preferable bifunctional (meth)acrylate monomers include 1,6-hexanediol di(meth)acrylate and 1,9-nonanediol di(meth)acrylate.
Examples of trifunctional or higher functional (meth)acrylate monomers include trimethylolpropane tri(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, dipenta. Examples thereof include erythritol tetra(meth)acrylate and isocyanuric acid-modified tri(meth)acrylate.
Further, the (meth)acrylate monomer may be one in which a part of the molecular skeleton is modified, and modified with ethylene oxide, propylene oxide, caprolactone, isocyanuric acid, alkyl, cyclic alkyl, aromatic, bisphenol, etc. Things can also be used.

また、多官能(メタ)アクリレートオリゴマーとしては、2官能以上の(メタ)アクリレート系オリゴマーであれば特に制限はなく、例えば、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー、エポキシ(メタ)アクリレートオリゴマー、ポリエステル(メタ)アクリレートオリゴマー、ポリエーテル(メタ)アクリレートオリゴマー等の各種(メタ)アクリレート系オリゴマー等が挙げられる。
ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーは、例えば、多価アルコール及び有機ジイソシアネートとヒドロキシ(メタ)アクリレートとの反応によって得られる。
また、好ましいエポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーは、3官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と(メタ)アクリル酸とを反応させて得られる(メタ)アクリレート、2官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と多塩基酸と(メタ)アクリル酸とを反応させて得られる(メタ)アクリレート、及び2官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等とフェノール類と(メタ)アクリル酸とを反応させて得られる(メタ)アクリレートである。
The polyfunctional (meth)acrylate oligomer is not particularly limited as long as it is a bifunctional or higher functional (meth)acrylate oligomer, and examples thereof include a urethane (meth)acrylate oligomer, an epoxy (meth)acrylate oligomer, and a polyester (meth). Examples include various (meth)acrylate oligomers such as acrylate oligomers and polyether (meth)acrylate oligomers.
The urethane (meth)acrylate oligomer is obtained, for example, by reacting a polyhydric alcohol and an organic diisocyanate with a hydroxy (meth)acrylate.
A preferred epoxy (meth)acrylate oligomer is a (meth)acrylate obtained by reacting a (meth)acrylic acid with a trifunctional or higher functional aromatic epoxy resin, alicyclic epoxy resin, aliphatic epoxy resin, or the like, 2 (Meth)acrylate obtained by reacting a polyfunctional acid or more with an aromatic epoxy resin, an alicyclic epoxy resin, an aliphatic epoxy resin or the like and a polybasic acid and (meth)acrylic acid, and a bifunctional or more aromatic epoxy resin , (Meth)acrylate obtained by reacting an alicyclic epoxy resin, an aliphatic epoxy resin and the like with phenols and (meth)acrylic acid.

多官能(メタ)アクリレートオリゴマーは、重量平均分子量(GPC法で測定したポリスチレン換算の重量平均分子量)が4,000未満のものが好ましく、より好ましくは1,000超、3,000未満である。
また、多官能(メタ)アクリレートオリゴマーは、より好ましくは3〜12官能、さらに好ましくは3〜10官能である。官能基数が上記範囲内であると、優れた強度の硬化層が得られる。
The polyfunctional (meth)acrylate oligomer preferably has a weight average molecular weight (polystyrene-equivalent weight average molecular weight measured by GPC method) of less than 4,000, more preferably more than 1,000 and less than 3,000.
Further, the polyfunctional (meth)acrylate oligomer is more preferably 3 to 12 functional, and further preferably 3 to 10 functional. When the number of functional groups is within the above range, a cured layer having excellent strength can be obtained.

多官能(メタ)アクリレートポリマーとしては、2官能以上の(メタ)アクリレート系ポリマーであれば特に制限はなく、例えば、ウレタン(メタ)アクリレートポリマー、エポキシ(メタ)アクリレートポリマー、ポリエステル(メタ)アクリレートポリマー、ポリエーテル(メタ)アクリレートポリマー等の各種(メタ)アクリレート系ポリマーを用いることができる。   The polyfunctional (meth)acrylate polymer is not particularly limited as long as it is a bifunctional or higher functional (meth)acrylate polymer, and examples thereof include urethane (meth)acrylate polymers, epoxy (meth)acrylate polymers, polyester (meth)acrylate polymers. Various (meth)acrylate-based polymers such as polyether (meth)acrylate polymers can be used.

多官能(メタ)アクリレートポリマーは、屈折率の観点から、重量平均分子量(GPC法で測定したポリスチレン換算の重量平均分子量)が4,000以上のものが好ましく、好ましくは10,000〜100,000、より好ましくは10,000〜50,000である。重量平均分子量が100,000以下であれば、硬化性及び塗工性が良好である。
また、多官能(メタ)アクリレートポリマーの官能基数には特に制限はないが、硬化性の観点から、1分子あたりの官能基数が多い(すなわち、官能基当量が低い)ことが好ましい。多官能(メタ)アクリレートポリマーの官能基当量は、好ましくは400g/当量以下、より好ましくは300g/当量以下、さらに好ましくは250g/当量以下である。
From the viewpoint of the refractive index, the polyfunctional (meth)acrylate polymer preferably has a weight average molecular weight (polystyrene-equivalent weight average molecular weight measured by the GPC method) of 4,000 or more, and preferably 10,000 to 100,000. , And more preferably 10,000 to 50,000. When the weight average molecular weight is 100,000 or less, curability and coatability are good.
Further, the number of functional groups of the polyfunctional (meth)acrylate polymer is not particularly limited, but from the viewpoint of curability, it is preferable that the number of functional groups per molecule is large (that is, the functional group equivalent is low). The functional group equivalent of the polyfunctional (meth)acrylate polymer is preferably 400 g/equivalent or less, more preferably 300 g/equivalent or less, further preferably 250 g/equivalent or less.

以上の電離放射線硬化性樹脂は1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。   The above ionizing radiation curable resins may be used alone or in combination of two or more.

(防汚層形成用組成物)
前記防汚層を形成する防汚層形成用組成物は、上記縮重合物を含む。該縮重合物は、有機溶媒と水と酸との混合溶媒中で、前記(A)パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと、前記(B)トリアルコキシシリル基及び重合性基を有する化合物、又は前記(C)少なくとも1つのアルコキシ基及び重合性基を有する前記(B)成分の誘導体とを加水分解、縮重合して得られる態様が好ましい。
具体的には、上記縮重合物は、上記(A)成分が有するアルコキシ基と、上記(B)成分又は上記(C)成分が有するアルコキシ基とが、それぞれ加水分解してシラノール基を形成した後、それぞれのシラノール基が縮重合することにより得られる。
(Composition for forming antifouling layer)
The composition for forming an antifouling layer, which forms the antifouling layer, contains the condensation polymer. The polycondensation product is a compound having the (A) alkoxysilane having a perfluoropolyether structure and the (B) trialkoxysilyl group and a polymerizable group in a mixed solvent of an organic solvent, water and an acid, Alternatively, an embodiment obtained by hydrolyzing and polycondensing the derivative of the component (B) having at least one alkoxy group and the polymerizable group (C) is preferable.
Specifically, in the polycondensation product, the alkoxy group contained in the component (A) and the alkoxy group contained in the component (B) or the component (C) are each hydrolyzed to form a silanol group. Then, each silanol group is obtained by polycondensation.

有機溶媒としては、上記(A)成分のパーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランを溶解させる観点から、好ましくはフッ素系溶媒が用いられる。また、水との溶解性の観点から、フッ素系溶媒と両親媒性溶媒との混合有機溶媒であることが好ましい。
両親媒性溶媒としては、例えば、アルコール類、ケトン類等の水溶性の有機溶媒が好適に用いられる。上記アルコール類としては、例えば、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、2−メチル−1−プロパノール、ターシャリーブチルアルコール等が挙げられる。上記ケトン類としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が挙げられる。その他の水溶性の有機溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アセトニトリル、酢酸エチル等が用いられる。これらは単独又は2種以上混合して使用することができる。
As the organic solvent, a fluorine-based solvent is preferably used from the viewpoint of dissolving the alkoxysilane having the perfluoropolyether structure of the component (A). Further, from the viewpoint of solubility in water, a mixed organic solvent of a fluorine-based solvent and an amphipathic solvent is preferable.
As the amphipathic solvent, for example, water-soluble organic solvents such as alcohols and ketones are preferably used. Examples of the alcohols include methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, 2-methyl-1-propanol, tertiary butyl alcohol and the like. Examples of the above-mentioned ketones include acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone. As other water-soluble organic solvents, tetrahydrofuran, dioxane, acetonitrile, ethyl acetate and the like are used. These can be used alone or in combination of two or more.

防汚層形成用組成物中の有機溶媒の配合量は、好ましくは90.000〜99.999質量%、より好ましくは92.00〜99.99質量%、更に好ましくは95.0〜99.9質量%である。90.000質量%以上とすることで、混合溶媒中での反応を均一に進めると共に、該防汚層形成用組成物から形成された防汚層を均一透明なものとすることができ、99.999質量%以下とすることで、基材表面に十分な防汚層を形成することができる。   The content of the organic solvent in the antifouling layer forming composition is preferably 90.000 to 99.999% by mass, more preferably 92.00 to 99.99% by mass, and further preferably 95.0 to 99.%. It is 9% by mass. When the content is 90.000% by mass or more, the reaction in the mixed solvent can be uniformly promoted, and the antifouling layer formed from the antifouling layer-forming composition can be made uniform and transparent. When the content is 0.999 mass% or less, a sufficient antifouling layer can be formed on the surface of the base material.

水としては、イオン交換水、蒸留水等が挙げられる。また、上記混合溶媒中に含有される水の配合量は、0.001質量%以上であれば、特に限定されないが、好ましくは0.001〜1.000質量%、より好ましくは0.005〜0.500質量%の割合で配合する。0.001質量%以上とすることで、上記加水分解が促進され、1.000質量%以下とすることで、パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランの沈殿を抑制することができる。   Examples of water include ion-exchanged water and distilled water. The amount of water contained in the mixed solvent is not particularly limited as long as it is 0.001% by mass or more, but preferably 0.001 to 1.000% by mass, more preferably 0.005% by mass. It is compounded at a rate of 0.500% by mass. When the content is 0.001 mass% or more, the above hydrolysis is promoted, and when the content is 1.000 mass% or less, the precipitation of alkoxysilane having a perfluoropolyether structure can be suppressed.

酸としては、上記加水分解を促進する作用を有するものであれば特に限定されず、塩酸、硫酸、硝酸、ホウ酸、リン酸、コハク酸、酢酸、蟻酸、シュウ酸、クエン酸、安息香酸等が挙げられ、反応性や乾燥時の防汚層からの除去の観点から、塩酸が好ましい。また、上記混合溶媒中に含有される酸の配合量は、上記加水分解を促進させる観点から、好ましくは0.000001〜10.000000質量%、より好ましくは0.00001〜5.00000質量%、更に好ましくは0.0001〜1.0000質量%である。   The acid is not particularly limited as long as it has an action of promoting the hydrolysis, hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, boric acid, phosphoric acid, succinic acid, acetic acid, formic acid, oxalic acid, citric acid, benzoic acid and the like. From the viewpoint of reactivity and removal from the antifouling layer during drying, hydrochloric acid is preferable. The amount of the acid contained in the mixed solvent is preferably 0.000001 to 10.000000 mass%, more preferably 0.00001 to 5.00000 mass% from the viewpoint of promoting the hydrolysis. More preferably, it is 0.0001 to 1.0000 mass %.

上記防汚層形成用組成物は、さらに、上述の電離放射線硬化性樹脂を含有してもよい。
上記防汚層形成用組成物の固形分全量に対する電離放射線硬化性樹脂の含有量は、硬化性の観点から、好ましくは10〜99質量%、より好ましくは20〜98質量%である。
The antifouling layer forming composition may further contain the above-mentioned ionizing radiation curable resin.
From the viewpoint of curability, the content of the ionizing radiation-curable resin with respect to the total solid content of the antifouling layer-forming composition is preferably 10 to 99% by mass, and more preferably 20 to 98% by mass.

上記防汚層形成用組成物は、光重合開始剤を配合することができる。
光重合開始剤としては、アセトフェノン系、ケトン系、ベンゾフェノン系、ベンゾイン系、ケタール系、アントラキノン系、ジスルフィド系、チオキサントン系、チウラム系、フルオロアミン系などの光重合開始剤が挙げられる。なかでも、アセトフェノン系、ケトン系、ベンゾフェノン系が好ましく挙げられる。これらの光重合開始剤は、それぞれ単独で使用することができ、また複数を組み合わせて使用することもできる。
上記防汚層形成用組成物の固形分全量に対する光重合開始剤の含有量は、硬化性の観点から、好ましくは1.0〜15質量%、より好ましくは1.5〜10質量%である。
The composition for forming an antifouling layer may contain a photopolymerization initiator.
Examples of the photopolymerization initiator include acetophenone-based, ketone-based, benzophenone-based, benzoin-based, ketal-based, anthraquinone-based, disulfide-based, thioxanthone-based, thiuram-based, and fluoroamine-based photopolymerization initiators. Among them, acetophenone type, ketone type, and benzophenone type are preferable. These photopolymerization initiators can be used alone or in combination of two or more.
From the viewpoint of curability, the content of the photopolymerization initiator relative to the total solid content of the antifouling layer-forming composition is preferably 1.0 to 15% by mass, and more preferably 1.5 to 10% by mass. ..

上記防汚層形成用組成物には、以上の各成分の他に、本発明の効果を阻害しない範囲で、酸発生剤、光塩基発生剤、光重合促進剤、レベリング剤等の添加剤をさらに含有させることもできる。
光酸発生剤もしくは光塩基発生剤を配合することにより、より強固な防汚層を形成することができる。
光重合促進剤は、硬化時の空気による重合阻害を軽減させ硬化性を速めることができるものであり、例えば、p−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、p−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル等から選ばれる1種以上が挙げられる。
In the antifouling layer-forming composition, in addition to the above components, an additive such as an acid generator, a photobase generator, a photopolymerization accelerator, and a leveling agent, in a range that does not impair the effects of the present invention. Further, it can be contained.
By adding a photoacid generator or a photobase generator, a stronger antifouling layer can be formed.
The photopolymerization accelerator is capable of reducing polymerization inhibition by air during curing and accelerating curability, and is selected from, for example, p-dimethylaminobenzoic acid isoamyl ester and p-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester. One or more may be mentioned.

レベリング剤としては、特に限定されないが、防汚性を高める観点から、光重合性基を有さない非重合性フッ素含有化合物が好ましい。非重合性フッ素含有化合物の中でも、重量平均分子量が30,000〜40,000の化合物が好ましい。このような非重合性フッ素含有化合物の市販品としては、例えば、DIC(株)製のF568やF477が挙げられる。   The leveling agent is not particularly limited, but a non-polymerizable fluorine-containing compound having no photopolymerizable group is preferable from the viewpoint of enhancing antifouling property. Among the non-polymerizable fluorine-containing compounds, compounds having a weight average molecular weight of 30,000 to 40,000 are preferable. Examples of commercially available products of such a non-polymerizable fluorine-containing compound include F568 and F477 manufactured by DIC Corporation.

さらに、上記防汚層形成用組成物は、溶剤を含有することができる。溶剤としては、防汚層形成用組成物に含まれる各成分を溶解する溶剤であれば特に制限なく用いることができるが、アルコール類、エーテル類、ケトン類、エステル類が好ましく、アルコール類、エーテル類がより好ましい。アルコール類としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等が挙げられ、中でもイソプロピルアルコールが好ましい。エーテル類としては、例えば、含フッ素エーテル化合物であるハイドロフルオロエーテルや、n−プロピルエーテル等が挙げられる。
上記溶剤は、単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
上記防汚層形成用組成物中の溶剤の含有量は、好ましくは40〜99質量%、より好ましくは50〜95質量%である。溶剤の含有量が上記範囲内であると、塗布適性に優れる。
Further, the antifouling layer-forming composition may contain a solvent. The solvent can be used without particular limitation as long as it is a solvent that dissolves each component contained in the antifouling layer forming composition, alcohols, ethers, ketones, esters are preferred, alcohols, ethers Classes are more preferred. Examples of alcohols include methanol, ethanol and isopropyl alcohol, and among them, isopropyl alcohol is preferable. Examples of ethers include hydrofluoroether, which is a fluorine-containing ether compound, and n-propyl ether.
The said solvent can be used individually or in combination of 2 or more types.
The content of the solvent in the antifouling layer-forming composition is preferably 40 to 99% by mass, more preferably 50 to 95% by mass. When the content of the solvent is within the above range, the coating suitability is excellent.

また、上記防汚層形成用組成物の固形分濃度は、好ましくは0.1〜60.0質量%であり、より好ましくは0.5〜50.0質量%であり、更に好ましくは1.0〜45.0質量%である。0.1質量%以上とすることで、防汚層の硬化を促進することができ、60.0質量%以下とすることで、防汚層の着色や防汚性の低下を抑制することができる。   The solid content concentration of the antifouling layer-forming composition is preferably 0.1 to 60.0% by mass, more preferably 0.5 to 50.0% by mass, and still more preferably 1. It is 0 to 45.0 mass %. When it is 0.1% by mass or more, curing of the antifouling layer can be promoted, and when it is 60.0% by mass or less, coloring of the antifouling layer and deterioration of antifouling property can be suppressed. it can.

本発明の多層フィルムが、後述するハードコート層を有する場合、防汚層の厚みは、防汚性及び耐久性の観点から、好ましくは1〜50nm、より好ましくは1〜30nmである。また、多層フィルムが、後述するハードコート層を有さない場合、防汚層の厚みは、好ましくは1〜30μm(推定値)、より好ましくは2〜20μm(推定値)である。   When the multilayer film of the present invention has a hard coat layer described below, the thickness of the antifouling layer is preferably 1 to 50 nm, more preferably 1 to 30 nm from the viewpoint of antifouling property and durability. Moreover, when the multilayer film does not have a hard coat layer described below, the thickness of the antifouling layer is preferably 1 to 30 μm (estimated value), and more preferably 2 to 20 μm (estimated value).

防汚層は、従来、汚れを付き難くするために、水と油脂との接触角を大きくすることが検討されてきた。これに対して、本発明では、水と油脂との接触角を大きくするとともに、両者の滑落角を小さくすることで、高い滑落性が得られることにより、汚れを付き難く、かつ付いた汚れをふき取りやすくしている。
滑落性は、純水及びn−ヘキサデカンの滑落角を測定することで評価でき、該滑落角が小さいほど滑落性が良好である。滑落角は、測定対象物である多層フィルムの防汚層表面に、水平な状態で10μLの純水及び3μLのn−ヘキサデカンを滴下し、多層フィルムを徐々に傾斜させて、液滴が滑り始める傾斜角度(滑落角)を測定することにより求められる。測定装置としては、例えば、協和界面科学(株)製の接触角計「DM 500」を用いることができる。滑落角は、具体的には実施例に記載の方法により測定できる。
In the past, it has been considered to increase the contact angle between water and fats and oils in order to make it difficult for the antifouling layer to become dirty. On the other hand, in the present invention, by increasing the contact angle between water and fats and oils and decreasing the sliding angle of both, it is possible to obtain high sliding property, so that it is difficult for dirt to adhere, and dirt that adheres can be removed. It is easy to wipe.
The sliding property can be evaluated by measuring the sliding angles of pure water and n-hexadecane. The smaller the sliding angle, the better the sliding property. The sliding angle is such that 10 μL of pure water and 3 μL of n-hexadecane are dropped in a horizontal state on the surface of the antifouling layer of the multi-layer film which is the measurement object, and the multi-layer film is gradually inclined so that the liquid drops start to slide. It is obtained by measuring the inclination angle (sliding angle). As the measuring device, for example, a contact angle meter “DM 500” manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd. can be used. The sliding angle can be specifically measured by the method described in Examples.

本発明の多層フィルムは、防汚層表面の純水の接触角が好ましくは95°以上であり、より好ましくは112°以上であり、更に好ましくは114°以上である。また、防汚層表面の純水の滑落角が好ましくは30°以下であり、より好ましくは15°以下であり、更に好ましくは8°未満である。
上記接触角が95°以上であると、防汚層が低い表面自由エネルギーを有していることを示しており、汚れを付き難くすることができる。また、上記滑落角が30°以下であると、防汚層表面の滑落性が向上し、さらに汚れを付き難くし、かつ、付いた汚れを拭き取りやすくすることができる。
本発明において、上記接触角を95°以上とすることができるのは、上記縮重合物が、パーフルオロポリエーテル構造部位を有することに起因すると考えられる。また、上記滑落角を30°以下とすることができるのは、上記縮重合物が、前記(A)成分のパーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと、前記(B)成分のトリアルコキシシリル基及び重合性基を有する化合物、又は前記(C)成分の少なくとも1つのアルコキシ基及び重合性基を有する前記(B)成分の誘導体とが縮重合した構造であるため、隣接するパーフルオロポリエーテル構造部位の間隔が広く疎になり、該パーフルオロポリエーテル構造部位が動きやすく柔軟性を有することに起因すると考えられる。
なお、接触角は、接触角測定装置(例えば、協和界面科学(株)製の接触角計「DM 500」)を用いて、純水及びn−ヘキサデカンに対する接触角をθ/2法により測定することで求められる。接触角は、具体的には実施例に記載の方法により測定できる。
In the multilayer film of the present invention, the contact angle of pure water on the surface of the antifouling layer is preferably 95° or more, more preferably 112° or more, still more preferably 114° or more. Further, the sliding angle of pure water on the surface of the antifouling layer is preferably 30° or less, more preferably 15° or less, and further preferably less than 8°.
When the contact angle is 95° or more, it indicates that the antifouling layer has low surface free energy, and it is possible to make it difficult for dirt to attach. Further, when the sliding angle is 30° or less, the sliding property of the surface of the antifouling layer is improved, dirt is less likely to adhere, and the adhered dirt can be easily wiped off.
In the present invention, the reason why the contact angle can be 95° or more is considered to be that the polycondensation product has a perfluoropolyether structure site. Further, the sliding angle can be set to 30° or less because the polycondensation product is an alkoxysilane having a perfluoropolyether structure of the component (A) and a trialkoxysilyl group of the component (B). And a compound having a polymerizable group, or at least one alkoxy group of the component (C) and a derivative of the component (B) having a polymerizable group are polycondensed, so that adjacent perfluoropolyether structures It is considered that this is due to the fact that the spacing between the sites becomes wide and sparse, and that the perfluoropolyether structure site easily moves and has flexibility.
The contact angle is measured with a contact angle measuring device (for example, a contact angle meter “DM 500” manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.) with respect to pure water and n-hexadecane by the θ/2 method. Required by that. The contact angle can be specifically measured by the method described in Examples.

本発明の多層フィルムは、防汚層表面のn−ヘキサデカンの接触角が好ましくは50°以上であり、より好ましくは55°以上であり、更に好ましくは60°以上である。また、防汚層表面のn−ヘキサデカンの滑落角が好ましくは15°以下であり、より好ましくは10°以下であり、更に好ましくは6°以下である。   In the multilayer film of the present invention, the contact angle of n-hexadecane on the surface of the antifouling layer is preferably 50° or more, more preferably 55° or more, still more preferably 60° or more. The sliding angle of n-hexadecane on the surface of the antifouling layer is preferably 15° or less, more preferably 10° or less, and further preferably 6° or less.

また、本発明の多層フィルムは、防汚層表面のアルコール系溶剤による拭き取り前後における該防汚層表面の純水の接触角の減少率が好ましくは0〜15%、より好ましくは0〜13%、さらに好ましくは0〜10%である。
本発明によれば、防汚層表面の純水の接触角の減少率を上記範囲内とすることができ、防汚層と隣接する層(基材又はハードコート層)との密着性を高め、防汚層の耐久性を優れたものとすることができる。
Further, in the multilayer film of the present invention, the reduction rate of the contact angle of pure water on the surface of the antifouling layer before and after wiping with an alcohol solvent is preferably 0 to 15%, more preferably 0 to 13%. , And more preferably 0 to 10%.
According to the present invention, the reduction rate of the contact angle of pure water on the surface of the antifouling layer can be set within the above range, and the adhesion between the antifouling layer and the adjacent layer (base material or hard coat layer) can be improved. The durability of the antifouling layer can be made excellent.

本発明者らは、防汚層が前記(A)成分と、前記(B)成分又は前記(C)成分との縮重合物を含む硬化物であることにより、防汚層表面と、指や拭き取りに用いる布等との摩擦係数を小さくし、滑り性を向上させることを見出した。本発明の多層フィルムは、水と油脂との接触角を大きくすることにより防汚層の表面自由エネルギーを低下させ、水と油脂との滑落角を小さくすることにより、高い滑落性が得られることに加え、高い滑り性が得られることにより、上記防汚層表面に対し、更に汚れを付き難くし(指紋付着量が少ない)、かつ付いた汚れをふき取りやすくすること(指紋拭取性が良好)ができる。
このように、本発明の多層フィルムが、従来の防汚部材では得られなかった極めて優れた防汚性を有するのは、上記縮重合物が有する隣接するパーフルオロポリエーテル構造部位の間隔が広く疎になり、該パーフルオロポリエーテル構造部位が動きやすく柔軟性を有することに起因すると考えられる。
特に、タッチパネル等のような指でスライドさせて用いる表面の防汚性を得るには、上記滑り性の向上は重要である。
なお、本発明において「滑り性」とは、多層フィルムの防汚層表面の滑らかさを表す指標である。滑り性は、具体的には実施例に記載の方法により評価することができる。
The present inventors propose that the antifouling layer is a cured product containing a polycondensation product of the component (A) and the component (B) or the component (C). It was found that the coefficient of friction with a cloth or the like used for wiping is reduced to improve the slipperiness. The multi-layer film of the present invention, by lowering the surface free energy of the antifouling layer by increasing the contact angle between water and fats and oils, and by reducing the sliding angle between water and fats and oils, high slidability can be obtained. In addition, the high slip property makes it more difficult for dirt to adhere to the surface of the antifouling layer (the amount of fingerprints attached is small), and makes it easier to wipe off the adhered dirt (good fingerprint wipeability. ) Can be done.
Thus, the multilayer film of the present invention has an extremely excellent antifouling property that cannot be obtained by the conventional antifouling member, because the interval between the adjacent perfluoropolyether structural moieties of the polycondensation product is wide. It is considered that it is sparse and the perfluoropolyether structure site is easy to move and has flexibility.
In particular, in order to obtain the antifouling property of the surface used by sliding with a finger such as a touch panel, it is important to improve the slipperiness.
In addition, in the present invention, "slipperiness" is an index representing the smoothness of the surface of the antifouling layer of the multilayer film. The slipperiness can be evaluated specifically by the method described in Examples.

<ハードコート層>
本発明の多層フィルムは、防汚層の基材側の面にハードコート層を有することが高硬度化の観点から、好ましい。
ハードコート層は、多層フィルムの表面硬度を高くし、多層フィルムに傷つき防止性を付与する役割を有するものである。
なお、本発明においてハードコート層とは、鉛筆硬度試験で「2H」以上の硬度を示すものをいう。本発明におけるハードコート層は、耐擦傷性と割れ防止とのバランスの観点から、鉛筆硬度試験で2H〜6Hであることが好ましく、3H〜6Hであることがより好ましい。
<Hard coat layer>
The multilayer film of the present invention preferably has a hard coat layer on the surface of the antifouling layer on the substrate side from the viewpoint of increasing the hardness.
The hard coat layer has a role of increasing the surface hardness of the multilayer film and imparting scratch resistance to the multilayer film.
In addition, in the present invention, the hard coat layer refers to one having a hardness of “2H” or more in a pencil hardness test. The hard coat layer in the present invention preferably has a pencil hardness test of 2H to 6H, more preferably 3H to 6H, from the viewpoint of a balance between scratch resistance and crack prevention.

上記ハードコート層は、表面硬度を高くする観点から、電離放射線硬化性樹脂組成物から形成されてなるものが好ましい。
電離放射線硬化性樹脂組成物は、電離放射線硬化性樹脂と共に、好ましくは光重合開始剤を含む。さらに、必要に応じて、溶剤、及び光重合促進剤、レベリング剤等の添加剤を含有してもよい。
上記電離放射線硬化性樹脂、光重合開始剤、溶剤、及び添加剤は、前記防汚層の項で説明したものを用いることができる。
The hard coat layer is preferably formed of an ionizing radiation curable resin composition from the viewpoint of increasing the surface hardness.
The ionizing radiation curable resin composition preferably contains a photopolymerization initiator together with the ionizing radiation curable resin. Further, if necessary, a solvent and additives such as a photopolymerization accelerator and a leveling agent may be contained.
As the ionizing radiation curable resin, photopolymerization initiator, solvent, and additive, those described in the section of the antifouling layer can be used.

上記ハードコート層の厚み(硬化時)は、前記基材の強度や要求性能に応じて適宜選択することができ、通常0.1〜100μm、好ましくは0.8〜30μmである。また、十分な硬度を発現させ、反りやクラックの発生を抑制する観点から、より好ましくは3〜20μmである。   The thickness (when cured) of the hard coat layer can be appropriately selected depending on the strength of the base material and the required performance, and is usually 0.1 to 100 μm, preferably 0.8 to 30 μm. Further, from the viewpoint of exhibiting sufficient hardness and suppressing the occurrence of warpage and cracks, it is more preferably 3 to 20 μm.

上記ハードコート層の厚みは、例えば、走査型透過電子顕微鏡(STEM)を用いて撮影した断面の画像から20箇所の厚みを測定し、20箇所の値の平均値から算出できる。STEMの加速電圧は10kV〜30kVとすることが好ましい。STEMの倍率は、1000〜7000倍とすることが好ましい。   The thickness of the hard coat layer can be calculated, for example, by measuring the thickness at 20 points from an image of a cross section taken by using a scanning transmission electron microscope (STEM) and averaging the values at 20 points. The accelerating voltage of STEM is preferably 10 kV to 30 kV. The STEM magnification is preferably 1000 to 7000 times.

[多層フィルムの製造方法]
次に、前述する多層フィルムの製造方法を説明する。
本発明の多層フィルムの第1の態様の製造方法は、少なくとも基材と防汚層とを有する多層フィルムの製造方法であって、基材上に、(A)パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと、(B)トリアルコキシシリル基及び重合性基を有する化合物、又は(C)少なくとも1つのアルコキシ基及び重合性基を有する上記(B)成分の誘導体とを、有機溶媒、水、及び酸を含む混合溶媒中で加水分解、縮重合して得られた縮重合物を配合してなる防汚層形成用組成物の未硬化層を形成し、硬化させて防汚層を形成することを特徴とする。
[Method for producing multilayer film]
Next, a method for manufacturing the above-mentioned multilayer film will be described.
The method for producing a multilayer film according to the first aspect of the present invention is a method for producing a multilayer film having at least a substrate and an antifouling layer, wherein (A) alkoxy having a perfluoropolyether structure is provided on the substrate. A silane and (B) a compound having a trialkoxysilyl group and a polymerizable group, or (C) a derivative of the component (B) having at least one alkoxy group and a polymerizable group, an organic solvent, water, and an acid. Hydrolyzed in a mixed solvent containing, polycondensation polymer to form an uncured layer of the composition for forming an antifouling layer obtained by blending a polycondensation product, and to form an antifouling layer by curing. Characterize.

まず、有機溶媒と水と酸との混合溶媒中に、上記(A)成分と、上記(B)成分又は上記(C)成分とを混合、攪拌し、上記(A)成分と、上記(B)成分又は上記(C)成分とを加水分解し、次いで縮重合することにより縮重合物を得る。
(A)成分、(B)成分、(C)成分、有機溶媒、水、及び酸としては、それぞれ上記多層フィルムの項で説明したものを用いることができ、有機溶媒、水、及び酸の配合量は、それぞれ上記多層フィルムの項で説明した範囲内で適宜調整する。
また、上記パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランの重量平均分子量は、GPC測定により求めることができる。
First, the component (A) and the component (B) or the component (C) are mixed and stirred in a mixed solvent of an organic solvent, water and an acid, and the component (A) and the component (B) are mixed. Component) or the above component (C) is hydrolyzed and then polycondensed to obtain a polycondensation product.
As the component (A), the component (B), the component (C), the organic solvent, water, and the acid, those described in the section of the above-mentioned multilayer film can be used, and the combination of the organic solvent, water, and the acid can be used. The amount is appropriately adjusted within the range described in the above section of the multilayer film.
The weight average molecular weight of the alkoxysilane having the perfluoropolyether structure can be determined by GPC measurement.

上記(A)成分と、上記(B)成分又は上記(C)成分との重量比は、好ましくは1:0.1〜10.0、より好ましくは1:0.15〜8.0、更に好ましくは1:0.2〜6.0である。上記範囲内とすることにより、本発明の効果を発揮することができる。   The weight ratio of the component (A) to the component (B) or the component (C) is preferably 1:0.1 to 10.0, more preferably 1:0.15 to 8.0, and further It is preferably 1:0.2 to 6.0. Within the above range, the effects of the present invention can be exhibited.

加水分解および縮重合反応は、これらの反応が適切に起こる一定の雰囲気下で行うことが好ましい。具体的には、−25〜120℃の範囲で、0.1〜200時間程度行うことが好ましく、−10〜100℃で、0.5〜150時間程度行うことがより好ましく、0〜70℃で、1〜120時間程度行うことが更に好ましい。   The hydrolysis and polycondensation reactions are preferably carried out under a constant atmosphere in which these reactions occur appropriately. Specifically, it is preferably performed in the range of -25 to 120°C for about 0.1 to 200 hours, more preferably at -10 to 100°C for about 0.5 to 150 hours, and more preferably 0 to 70°C. It is more preferable to carry out the treatment for about 1 to 120 hours.

次に、基材上に上記で得られた縮重合物を配合してなる防汚層形成用組成物を塗布して未硬化層を形成し、硬化させることにより防汚層を形成する。
上記組成物を塗布する方法は、所望の厚みに均一に塗布できる方法であればよく、従来公知の方法の中から適宜選択すればよい。例えば、グラビアコート法、ナイフコート法、ディップコート法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、ロールコート法、カーテンコート法、ダイコート法、キャスティング法、バーコート法、エクストルージョンコート法等が挙げられる。
Next, the antifouling layer-forming composition prepared by blending the polycondensation product obtained above is applied onto the substrate to form an uncured layer, and the composition is cured to form the antifouling layer.
The method of applying the above composition may be any method capable of uniformly applying a desired thickness, and may be appropriately selected from conventionally known methods. For example, gravure coating method, knife coating method, dip coating method, spray coating method, air knife coating method, spin coating method, roll coating method, curtain coating method, die coating method, casting method, bar coating method, extrusion coating method, etc. Is mentioned.

上記未硬化層は、乾燥処理、電離放射線の照射などにより硬化させることができ、電離放射線の照射により硬化させることが好ましい。また、上記未硬化層に電離放射線を照射する前に、乾燥処理を行ってもよい。
乾燥処理の設定条件は、原料、溶媒や、雰囲気の温度や湿度によって変わるが、本発明の効果が得られるのに適した一定の雰囲気下にコントロールした状況で行うことが好ましい。例えば、通常、室温(25℃)〜300℃で、0.1〜48時間程度行うことが好ましく、25〜250℃で、0.2〜24時間程度行うことがより好ましい。これらの処理は1種類の雰囲気下で完結させてもよく、2種類以上の雰囲気下で段階的に処理してもよい。
The uncured layer can be cured by drying treatment, irradiation with ionizing radiation, or the like, and is preferably cured by irradiation with ionizing radiation. Further, a drying treatment may be performed before irradiating the uncured layer with ionizing radiation.
The setting conditions of the drying treatment vary depending on the raw materials, the solvent, the temperature and the humidity of the atmosphere, but it is preferable to carry out the drying treatment under a controlled atmosphere suitable for obtaining the effects of the present invention. For example, it is usually carried out at room temperature (25°C) to 300°C for about 0.1 to 48 hours, and more preferably at 25 to 250°C for about 0.2 to 24 hours. These treatments may be completed in one atmosphere or may be conducted stepwise in two or more atmospheres.

電離放射線としては、紫外線(UV)を好ましく用いることができる。紫外線としては、通常、波長190〜380nmの紫外線を含むものを放射する。紫外線源としては特に制限はなく、例えば高圧水銀燈、低圧水銀燈、メタルハライドランプ、カーボンアーク燈等が用いられる。紫外線照射は、酸素濃度1000ppm以下の窒素雰囲気下で行うことが好ましい。
紫外線の照射量は、好ましくは50〜300mJcm−2、より好ましくは50〜250mJcm−2である。
Ultraviolet rays (UV) can be preferably used as the ionizing radiation. As ultraviolet rays, those containing ultraviolet rays having a wavelength of 190 to 380 nm are usually emitted. The ultraviolet source is not particularly limited, and for example, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a carbon arc lamp, etc. can be used. Ultraviolet irradiation is preferably performed in a nitrogen atmosphere having an oxygen concentration of 1000 ppm or less.
The irradiation amount of ultraviolet rays is preferably 50 to 300 mJcm −2 , more preferably 50 to 250 mJcm −2 .

上記防汚層形成用組成物は、さらに電離放射線硬化性樹脂を配合したものであることが、硬化物の高硬度化及び密着性向上の観点から好ましい。
防汚層形成用組成物中に含まれる上記縮重合物の含有量は、電離放射線硬化性樹脂100質量部に対して、好ましくは0.1〜1.0質量部、より好ましくは0.2〜0.6質量部である。上記範囲内とすることにより、本発明の効果を発揮することができる。
It is preferable that the composition for forming an antifouling layer further contains an ionizing radiation curable resin from the viewpoint of increasing the hardness and improving the adhesion of the cured product.
The content of the polycondensation product contained in the composition for forming an antifouling layer is preferably 0.1 to 1.0 parts by mass, more preferably 0.2 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the ionizing radiation curable resin. ~0.6 parts by mass. Within the above range, the effects of the present invention can be exhibited.

本発明の多層フィルムの第2の態様の製造方法として、未硬化層の形成前に、基材上に電離放射線硬化性樹脂を含むハードコート層形成用組成物の塗膜を形成し、電離放射線を照射して半硬化層を形成し、次いで、該半硬化層の基材とは反対側の面に接するように上述の未硬化層を形成し、該半硬化層と、該未硬化層とに同時に電離放射線を照射し硬化させて、各々ハードコート層と防汚層とを形成してもよい。   As the method for producing the second aspect of the multilayer film of the present invention, a coating film of a composition for forming a hard coat layer containing an ionizing radiation-curable resin is formed on a substrate before the formation of an uncured layer, and an ionizing radiation is used. To form a semi-cured layer, and then the uncured layer is formed so as to be in contact with the surface of the semi-cured layer opposite to the substrate, and the semi-cured layer and the uncured layer are formed. The hard coat layer and the antifouling layer may be respectively formed by simultaneously irradiating and curing with ionizing radiation.

まず、上述の電離放射線硬化性樹脂と共に、好ましくは上述の光重合開始剤を含有することにより、ハードコート層形成用組成物を調製する。該ハードコート層形成用組成物は、さらに上述の溶剤や光重合促進剤、レベリング剤等の添加剤を含有してもよい。   First, a composition for forming a hard coat layer is prepared by containing the above-mentioned photopolymerization initiator together with the above-mentioned ionizing radiation curable resin. The composition for forming a hard coat layer may further contain additives such as the above-mentioned solvent, photopolymerization accelerator, and leveling agent.

ハードコート層形成用組成物全量に対する、電離放射線硬化性樹脂の含有量は、ハードコート性や密着性の観点から、好ましくは10〜99質量%、より好ましくは15〜98質量%である。
また、ハードコート層形成用組成物中の光重合開始剤の含有量は、硬化性の観点から、電離放射線硬化性樹脂100質量部に対して、好ましくは1〜10質量部、より好ましくは1〜8質量部である。
The content of the ionizing radiation-curable resin with respect to the total amount of the composition for forming a hard coat layer is preferably 10 to 99% by mass, and more preferably 15 to 98% by mass, from the viewpoint of hard coat properties and adhesiveness.
The content of the photopolymerization initiator in the composition for forming a hard coat layer is preferably 1 to 10 parts by mass, more preferably 1 part by mass with respect to 100 parts by mass of the ionizing radiation curable resin from the viewpoint of curability. ~8 parts by mass.

次に、基材上に、上記で調製したハードコート層形成用組成物を塗布して塗膜を形成する。
上記組成物を塗布する方法は、所望の厚みに均一に塗布できる方法であればよく、従来公知の方法の中から適宜選択すればよい。具体的には、上記第1の態様で説明した方法が挙げられる。
Next, the hard coat layer-forming composition prepared above is applied onto the substrate to form a coating film.
The method of applying the above composition may be any method as long as it can be applied uniformly to a desired thickness, and may be appropriately selected from conventionally known methods. Specifically, the method described in the first aspect can be used.

次に、上記塗膜に電離放射線を照射して、半硬化層を形成する。電離放射線は、上記第1の態様で説明した紫外線を好ましく用いることができる。
紫外線の照射量は、好ましくは3〜100mJcm−2、より好ましくは5〜80mJcm−2である。上記範囲内とすることで、電離放射線硬化性樹脂が適度に硬化し、半硬化層を形成することができる。紫外線照射は、紫外線照射量の選択により半硬化層を形成できる条件であれば窒素雰囲気下でも空気雰囲気下で行っても良いが、空気雰囲気下で行うのがより好ましい。
Next, the coating film is irradiated with ionizing radiation to form a semi-cured layer. As the ionizing radiation, the ultraviolet rays described in the first aspect can be preferably used.
The irradiation amount of ultraviolet rays is preferably 3 to 100 mJcm −2 , more preferably 5 to 80 mJcm −2 . When the content is within the above range, the ionizing radiation curable resin is appropriately cured and a semi-cured layer can be formed. The ultraviolet irradiation may be carried out under a nitrogen atmosphere or an air atmosphere as long as the semi-cured layer can be formed by selecting the irradiation amount of the ultraviolet light, but it is more preferably carried out under the air atmosphere.

次に、上記半硬化層の基材とは反対側の面に接するように第1の態様の製造方法で説明した未硬化層を形成し、該半硬化層と、該未硬化層とに同時に電離放射線を照射し硬化させて、各々ハードコート層と防汚層とを形成する。半硬化層及び未硬化層を同時に硬化させることにより、ハードコート層(半硬化層)と防汚層(未硬化層)との密着性を向上させることができる。
電離放射線は、紫外線を用いることが好ましい。紫外線の照射量は、好ましくは30〜300mJcm−2、より好ましくは50〜200mJcm−2である。上記範囲内とすることで、各層の硬化を十分に行うことができ、ハードコート層と防汚層との密着性を優れたものとすることができる。
Next, the uncured layer described in the manufacturing method of the first aspect is formed so as to contact the surface of the semi-cured layer opposite to the substrate, and the semi-cured layer and the uncured layer are simultaneously formed. It is irradiated with ionizing radiation and cured to form a hard coat layer and an antifouling layer, respectively. By simultaneously curing the semi-cured layer and the uncured layer, the adhesion between the hard coat layer (semi-cured layer) and the antifouling layer (uncured layer) can be improved.
Ultraviolet rays are preferably used as the ionizing radiation. The irradiation amount of ultraviolet rays is preferably 30 to 300 mJcm −2 , more preferably 50 to 200 mJcm −2 . Within the above range, each layer can be sufficiently cured, and the adhesion between the hard coat layer and the antifouling layer can be made excellent.

また、第2の態様の製造方法では、上記半硬化層を形成する際に照射する電離放射線の照射量Xα(mJ/cm)、及び上記半硬化層と、上記未硬化層とに同時に照射する電離放射線の照射量Xβ(mJ/cm)が下記式(I)の関係を満たすことが好ましい。
0.01≦Xα/(Xα+Xβ)≦0.80 (I)
(但し、Xαは3以上100以下である)
Further, in the manufacturing method of the second aspect, the dose X α (mJ/cm 2 ) of ionizing radiation that is applied when forming the semi-cured layer, and the semi-cured layer and the uncured layer simultaneously. The dose X β (mJ/cm 2 ) of the ionizing radiation to be applied preferably satisfies the relationship of the following formula (I).
0.01≦X α /(X α +X β )≦0.80 (I)
(However, X α is 3 or more and 100 or less)

上記Xαは、好ましくは3以上100以下であり、より好ましくは3以上95以下、さらに好ましくは4以上90以下、よりさらに好ましくは5以上80以下である。3以上とすることで、半硬化層を適度に硬化させることができ、該半硬化層上に防汚層形成用組成物を塗布した際に半硬化層の溶解や、傷やゆがみの発生を抑え、最終的なフィルムの接触角や滑落性を良好にすることができる。また、100以下とすることで、半硬化層の硬化が進行し過ぎるのを抑制することができ、次いで、半硬化層及び未硬化層を同時に硬化させて、ハードコート層(半硬化層)と防汚層(未硬化層)との密着性を向上させることができる。 The above X α is preferably 3 or more and 100 or less, more preferably 3 or more and 95 or less, further preferably 4 or more and 90 or less, and still more preferably 5 or more and 80 or less. When it is 3 or more, the semi-cured layer can be appropriately cured, and when the antifouling layer-forming composition is applied onto the semi-cured layer, the semi-cured layer is not dissolved, and scratches and distortions are not generated. It is possible to suppress the contact angle and improve the sliding property of the final film. Further, by setting it to 100 or less, it is possible to suppress the curing of the semi-cured layer from proceeding too much, and then the semi-cured layer and the uncured layer are simultaneously cured to form a hard coat layer (semi-cured layer). The adhesion with the antifouling layer (uncured layer) can be improved.

また、上記Xα/(Xα+Xβ)は、好ましくは0.01以上0.80以下、より好ましくは0.011以上0.60以下、さらに好ましくは0.012以上0.50以下、よりさらに好ましくは0.014以上0.35以下である。0.01以上とすることで、半硬化層を適度に硬化させることができ、該半硬化層上に防汚層形成用組成物を塗布した際に半硬化層の溶解や、傷やゆがみの発生を抑え、最終的なフィルムの接触角や滑落性を良好にすることができる。また、0.80以下とすることで、半硬化層の硬化が進行し過ぎるのを抑制することができ、次いで、半硬化層及び未硬化層を同時に硬化させて、ハードコート層(半硬化層)と防汚層(未硬化層)との密着性を向上させることができる。 Further, the above X α /(X α +X β ) is preferably 0.01 or more and 0.80 or less, more preferably 0.011 or more and 0.60 or less, further preferably 0.012 or more and 0.50 or less, and More preferably, it is 0.014 or more and 0.35 or less. When it is 0.01 or more, the semi-cured layer can be appropriately cured, and when the composition for forming an antifouling layer is applied onto the semi-cured layer, the semi-cured layer is dissolved, and scratches and distortions are not generated. It is possible to suppress the generation and improve the contact angle and sliding property of the final film. Further, by setting it to 0.80 or less, it is possible to suppress the curing of the semi-cured layer from proceeding too much. Then, the semi-cured layer and the uncured layer are simultaneously cured to form a hard coat layer (semi-cured layer). ) And the antifouling layer (uncured layer) can be improved in adhesiveness.

このようにして得られる本発明の多層フィルムは、全光線透過率(JIS K7361−1:1997)が90%以上であることが好ましく、92%以上であることがより好ましい。また、本発明の多層フィルムは、ヘイズ(JIS K7136:2000)が1.0%以下であることが好ましく、0.5%以下であることがより好ましく、0.3%以下であることがさらに好ましい。
全光線透過率及びヘイズを測定する際の光入射面は防汚層側である。
The thus obtained multilayer film of the present invention preferably has a total light transmittance (JIS K7361-1:1997) of 90% or more, more preferably 92% or more. The haze (JIS K7136:2000) of the multilayer film of the present invention is preferably 1.0% or less, more preferably 0.5% or less, and further preferably 0.3% or less. preferable.
The light incident surface at the time of measuring the total light transmittance and the haze is the antifouling layer side.

本発明の多層フィルムの表面(ハードコート層側の表面)の算術平均粗さRa(JIS B0601:1994)は、10nm以下であることが好ましく、1〜8nmであることがより好ましい。   The arithmetic average roughness Ra (JIS B0601:1994) of the surface (surface on the hard coat layer side) of the multilayer film of the present invention is preferably 10 nm or less, and more preferably 1 to 8 nm.

本発明の多層フィルムは、高硬度、かつ防汚性に優れると共に、耐久性に優れた防汚層を有するため、特にタッチパネルディスプレイを有する携帯用電子機器に好適に使用することができる。   Since the multilayer film of the present invention has high hardness and excellent antifouling property and also has an excellent antifouling property, it can be suitably used especially for portable electronic devices having a touch panel display.

以下、実施例及び比較例を挙げて本発明を具体的に説明する。なお、本発明は、実施例に記載の形態に限定されるものではない。
実施例及び比較例の多層フィルムの評価は以下のようにして行った。なお、評価結果を表5及び6に示す。
Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples. The present invention is not limited to the form described in the embodiments.
The multilayer films of Examples and Comparative Examples were evaluated as follows. The evaluation results are shown in Tables 5 and 6.

1.測定
1−1.接触角の測定
(イソプロピルアルコールによる拭き取り前の接触角)
協和界面科学(株)製の接触角計「DM 500」を用いて、純水及びn−ヘキサデカンの接触角を測定した。多層フィルムの防汚層表面に1.5μLの純水を滴下し、着滴1秒後に、θ/2法に従って、滴下した液滴の左右端点と頂点を結ぶ直線の、固体表面に対する角度から接触角を算出した。5回測定した平均値を、接触角の値とした。
(イソプロピルアルコールによる拭き取り後の接触角)
イソプロピルアルコール(IPA)を含浸させた不織布(旭化成(株)製、商品名:ベンコットン)を用いて、多層フィルムの防汚層表面を、500g荷重をかけた状態で拭き取る操作を5往復行った。その後、IPAによる拭き取り前の接触角と同様にして、IPAによる拭き取り後の接触角を求めた。
1. Measurement 1-1. Contact angle measurement (contact angle before wiping with isopropyl alcohol)
The contact angle of pure water and n-hexadecane was measured using a contact angle meter “DM 500” manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd. 1.5 μL of deionized water was dropped on the surface of the antifouling layer of the multilayer film, and 1 second after landing, according to the θ/2 method, contact was made from the angle of the straight line connecting the left and right end points and the vertex of the dropped droplet with respect to the solid surface. The angle was calculated. The average value measured 5 times was used as the value of the contact angle.
(Contact angle after wiping with isopropyl alcohol)
Using a nonwoven fabric impregnated with isopropyl alcohol (IPA) (manufactured by Asahi Kasei Corp., trade name: Bencotton), the surface of the antifouling layer of the multilayer film was wiped 5 times under a load of 500 g. .. After that, the contact angle after wiping with IPA was obtained in the same manner as the contact angle before wiping with IPA.

1−2.表面自由エネルギー
上記1−1で測定したIPAによる拭き取り前の接触角から、以下の基準で表面自由エネルギーを評価した。接触角が大きいほど、表面自由エネルギーが低く優れることを示す。
◎:純水110°以上、かつn−ヘキサデカン60°以上
○:純水110°未満95°以上、かつn−ヘキサデカン60°未満50°以上
×:純水95°未満もしくはn−ヘキサデカン50°未満
1-2. Surface Free Energy From the contact angle before wiping with IPA measured in the above 1-1, the surface free energy was evaluated according to the following criteria. The larger the contact angle, the lower the surface free energy and the better.
⊚: Pure water 110° or more and n-hexadecane 60° or more ○: Pure water less than 110° 95° or more and n-hexadecane less than 60° 50° or more ×: Pure water less than 95° or n-hexadecane less than 50°

1−3.滑落角の測定
協和界面科学(株)製の接触角計「DM 500」を用いて、純水及びn−ヘキサデカンの滑落角を測定した。多層フィルムを水平に配置し、該多層フィルムの防汚層表面に10μLの純水、及び3μLのn−ヘキサデカンをそれぞれ滴下し、多層フィルムを徐々に傾斜させて、液滴が滑り始める傾斜角度(滑落角)を測定した。5回測定した平均値を、滑落角の値とした。
1-3. Measurement of sliding angle Using a contact angle meter "DM 500" manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd., the sliding angles of pure water and n-hexadecane were measured. The multilayer film is placed horizontally, 10 μL of pure water and 3 μL of n-hexadecane are dropped on the surface of the antifouling layer of the multilayer film, respectively, and the multilayer film is gradually tilted, and the tilt angle ( The sliding angle) was measured. The average value measured 5 times was taken as the value of the sliding angle.

1−4.滑落性
上記1−3で測定した滑落角から、以下の基準で滑落性を評価した。純水とn−ヘキサデカンとで評価結果が異なる場合には、より低い結果を採用した。なお、滑落角が小さいほど、滑落性に優れることを示す。
[純水]
◎:15°未満
○:15°以上30°以下
×:30°超
[n−ヘキサデカン]
◎:10°未満
○:10°以上15°以下
×:15°超
1-4. Sliding property From the sliding angle measured in 1-3 above, the sliding property was evaluated according to the following criteria. When the evaluation results differ between pure water and n-hexadecane, the lower result was adopted. The smaller the sliding angle, the better the sliding property.
[Pure water]
◎: Less than 15° ○: 15° or more and 30° or less ×: Over 30° [n-hexadecane]
◎: Less than 10° ○: 10° or more and 15° or less ×: Over 15°

1−5.滑り性の評価
被験者10名が、実施例1〜23、及び比較例1〜2で作製した各多層フィルムの防汚層表面に指を接触させて、その指を防汚層表面と平行に横方向に往復移動させた(スマートフォンでスライド操作をする様な動き)。その際の指と防汚層表面との摩擦による触感を下記評価基準により判定し、被験者10名の平均値を求めた。この平均値を下記判定基準に従って判定した。
<評価基準>
5点:常に滑らか
3点:滑らか
0点:悪い
<判定基準>
○:4.4点以上
△:2.1点以上4.4点未満
×:2.1点未満
1-5. Evaluation of Sliding Property 10 subjects contacted their fingers with the surface of the antifouling layer of each of the multilayer films prepared in Examples 1 to 23 and Comparative Examples 1 to 2, and laid the finger parallel to the surface of the antifouling layer. Moved back and forth in a direction (movement like sliding on a smartphone). At that time, the tactile sensation due to the friction between the finger and the surface of the antifouling layer was judged by the following evaluation criteria, and the average value of 10 test subjects was obtained. This average value was judged according to the following judgment criteria.
<Evaluation criteria>
5 points: always smooth 3 points: smooth 0 point: bad <criteria>
○: 4.4 points or more △: 2.1 points or more and less than 4.4 points ×: Less than 2.1 points

1−6.指紋付着
シリコーン樹脂版(10mmφ×30mmの円柱状)に人工指紋液(伊勢久(株)製、JIS C9606の付属書4に準拠)を付着させたものを多層フィルムの防汚層表面に押し付けて指紋を付着させた。指紋の付着状態を目視観察し、以下の基準で評価した。
◎:指紋を強く弾いており、付着量が非常に少ない
○:指紋を弾いており、付着量が少ない
△:指紋を弾くが、付着する
×:指紋が広く付着する
1-6. Fingerprint adhesion A fingerprint is obtained by pressing an artificial fingerprint liquid (made by Isekyu Co., Ltd., according to Annex 4 of JIS C9606) onto a silicone resin plate (columnar shape of 10 mmφ×30 mm) to the antifouling layer surface of the multilayer film. Was attached. The adhered state of fingerprints was visually observed and evaluated according to the following criteria.
◎: Fingerprint is strongly repelled and the amount of adhesion is very small ○: Fingerprint is repelled and the amount of adhesion is small Δ: Fingerprint is repelled but adhered ×: Fingerprint is widely adhered

1−7.指紋拭取性
シリコーン樹脂版(10mmφ×30mmの円柱状)に人工指紋液(伊勢久(株)製、JIS C9606の付属書4に準拠)を付着させたものを多層フィルムの防汚層表面に押し付けて指紋を付着させた。付着させた指紋を不織布(旭化成(株)製、商品名:ベンコットン)で拭取り、指紋の残り跡を目視観察し、以下の基準で評価した。
◎:3回までの拭取りで、指紋の付着跡が完全に見えない
○:4回〜7回の拭取りで、指紋の付着跡が完全に見えない
△:8回〜10回の拭取りで、指紋の付着跡が完全に見えない
×:10回の拭取り後に指紋の拭き取り跡がはっきりと視認できる
1-7. Fingerprint wiping property A silicone resin plate (cylindrical shape of 10 mmφ x 30 mm) to which an artificial fingerprint liquid (made by Isekyu Co., Ltd., conforming to Annex 4 of JIS C9606) is attached is pressed against the antifouling layer surface of the multilayer film. Fingerprints were attached. The adhered fingerprint was wiped with a non-woven fabric (Asahi Kasei Co., Ltd., trade name: Ben Cotton), and the residual traces of the fingerprint were visually observed and evaluated according to the following criteria.
⊚: Fingerprint sticking marks are not completely visible after wiping up to 3 times ○: Fingerprint sticking marks are not completely visible after 4 to 7 times wiping Δ: 8 to 10 times wiping And, the traces of fingerprint sticking are not completely visible. ×: The traces of fingerprint wipe are clearly visible after 10 times of wiping.

1−8.鉛筆硬度試験
多層フィルムの防汚層表面について、JIS K5600−5−4に準じて鉛筆硬度を測定した。
1-8. Pencil hardness test The pencil hardness of the antifouling layer surface of the multilayer film was measured according to JIS K5600-5-4.

1−9.SW試験
多層フィルムの基材面をガラス板にしわが生じないように貼りつけ、防汚層表面に#0000のスチールウールを9.8N荷重で接触させた状態で片道10cmの移動距離を10往復した。その後の防汚層表面の傷の有無を目視により確認した。
1-9. SW test The substrate surface of the multilayer film was adhered to a glass plate so as not to cause wrinkles, and #0000 steel wool was brought into contact with the surface of the antifouling layer at a load of 9.8 N, and a 10 cm one-way movement distance was repeated 10 times. .. Then, the presence or absence of scratches on the surface of the antifouling layer was visually confirmed.

2.多層フィルム(ハードコート層なし)の製造
2−1.(A)成分と(B)成分との縮重合物の製造
表1に示す成分の各配合量を混合した(A)成分、(B)成分、及び溶剤の混合溶液中に、表1に示す配合量の水と、1M 塩酸とを添加し、25℃で3時間攪拌し、(A)成分と(B)成分との縮重合物を含む組成物を得た(製造例1〜4)。
なお、上記縮重合物の製造に使用した表1に記載の各成分の詳細は以下のとおりである。
2. Production of multilayer film (without hard coat layer) 2-1. Production of Polycondensation Polymer of Component (A) and Component (B) In a mixed solution of the component (A), the component (B), and a solvent, which are obtained by mixing the respective compounding amounts of the components shown in Table 1, are shown in Table 1. Mixing amounts of water and 1M hydrochloric acid were added, and the mixture was stirred at 25° C. for 3 hours to obtain a composition containing a polycondensation product of the component (A) and the component (B) (Production Examples 1 to 4).
The details of each component shown in Table 1 used for the production of the condensation polymer are as follows.

〔(A)成分〕
・X−71−195(パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシラン溶液):信越化学工業(株)製、商品名、固形分20%
〔(B)成分〕
・KBM−5103(3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン):信越化学工業(株)製、商品名
〔溶剤〕
・Novec 7300(フッ素系有機溶媒):3M製、商品名
・2−プロパノール(両親媒性溶媒):関東化学(株)製、商品名
[(A) component]
X-71-195 (alkoxysilane solution having a perfluoropolyether structure): manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name, solid content 20%
[(B) component]
KBM-5103 (3-acryloxypropyltrimethoxysilane): manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name [solvent]
-Novec 7300 (fluorine-based organic solvent): 3M, trade name-2-propanol (amphiphilic solvent): Kanto Chemical Co., Inc., trade name

2−2.防汚層形成用組成物の調製
表2に示す成分の各配合量を混合して、防汚層形成用組成物を調製した。なお、表2中、空欄は配合なしを表す。
防汚層形成用組成物の調製に使用した表2に記載の各成分の詳細は以下のとおりである。
2-2. Preparation of Antifouling Layer-Forming Composition The respective amounts of the components shown in Table 2 were mixed to prepare an antifouling layer-forming composition. In addition, in Table 2, a blank column represents no compounding.
Details of each component shown in Table 2 used for preparing the composition for forming an antifouling layer are as follows.

・X−71−195(パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシラン溶液):信越化学工業(株)製、商品名、固形分20%
・KAYARAD−PET−30(ペンタエリスリトールトリアクリレート):日本化薬(株)製、商品名
・イルガキュア184(光重合開始剤):チバ・ジャパン(株)製、商品名
・イソプロピルアルコール:関東化学(株)製
・Novec 7300(フッ素系有機溶媒):3M製、商品名
・メチルイソブチルケトン(MIBK):昭和インク工業(株)製、商品名
X-71-195 (alkoxysilane solution having a perfluoropolyether structure): manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name, solid content 20%
・KAYARAD-PET-30 (pentaerythritol triacrylate): manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name ・Irgacure 184 (photopolymerization initiator): manufactured by Ciba Japan Co., Ltd., trade name ・Isopropyl alcohol: Kanto Kagaku ( Ltd.-Novec 7300 (fluorine-based organic solvent): 3M, trade name-Methyl isobutyl ketone (MIBK): Showa Ink Industry Co., Ltd., trade name

2−3.実施例1〜4、及び比較例1の多層フィルムの完成
基材:PETフィルム(東洋紡(株)製、商品名:A4100、厚さ100μm)上にバーコーターを用いて、表2に示す防汚層形成用組成物を、塗布速度6m/minにて塗布し、塗膜を形成した。その塗膜を70℃で1分間乾燥し、溶剤を除去した。次いで、その塗膜に紫外線照射装置を用いて、照射量100mJ/cmで紫外線照射を行い、塗膜を硬化させて、硬化後膜厚5μmの防汚層を有する多層フィルムを得た。得られた多層フィルムを温度80℃、相対湿度95%の恒温恒湿装置に入れ、1時間処理を行った。
2-3. Completion of the multilayer films of Examples 1 to 4 and Comparative Example 1 Substrate: PET film (manufactured by Toyobo Co., Ltd., trade name: A4100, thickness 100 μm) was used and a bar coater was used to show the antifouling properties shown in Table 2. The layer forming composition was applied at a coating speed of 6 m/min to form a coating film. The coating film was dried at 70° C. for 1 minute to remove the solvent. Then, the coating film was irradiated with ultraviolet rays at an irradiation dose of 100 mJ/cm 2 using an ultraviolet irradiation device to cure the coating film, thereby obtaining a multilayer film having an antifouling layer with a film thickness of 5 μm after curing. The obtained multilayer film was placed in a thermo-hygrostat at a temperature of 80° C. and a relative humidity of 95% and treated for 1 hour.

3.多層フィルム(ハードコート層あり)の製造
(実施例5)
3−1.ハードコート層形成用組成物の調製
以下の各成分を混合して、ハードコート層形成用組成物を調製した。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート(日本化薬(株)製、KAYARAD PET−30)100質量部
・光重合開始剤(チバ・ジャパン(株)製、イルガキュア184)4質量部
・レベリング剤(DIC(株)製、F568)0.1質量部
・メチルイソブチルケトン(MIBK)(昭和インク工業(株)製、商品名)187質量部
3. Production of multilayer film (with hard coat layer) (Example 5)
3-1. Preparation of Hard Coat Layer Forming Composition The following components were mixed to prepare a hard coat layer forming composition.
-Pentaerythritol triacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd., KAYARAD PET-30) 100 parts by mass-Photopolymerization initiator (Ciba Japan Co., Ltd., Irgacure 184) 4 parts by mass-Leveling agent (DIC Co., Ltd.) Manufactured by F568) 0.1 part by mass Methyl isobutyl ketone (MIBK) (manufactured by Showa Ink Industry Co., Ltd., trade name) 187 parts by mass

3−2.半硬化層の形成
基材:PETフィルム(東洋紡(株)製、商品名:A4100、厚さ100μm)上にバーコーターを用いて、上記3−1で調製したハードコート層形成用組成物を、塗布速度6m/minにて塗布し、塗膜を形成した。その塗膜を70℃で1分間乾燥し、溶剤を除去した。次いで、その塗膜に紫外線照射装置を用いて、照射量10mJ/cmで紫外線照射を行い、半硬化層を形成した。
3-2. Formation of Semi-Cured Layer Substrate: PET film (manufactured by Toyobo Co., Ltd., trade name: A4100, thickness 100 μm), using a bar coater, the composition for forming a hard coat layer prepared in 3-1 above, Coating was performed at a coating speed of 6 m/min to form a coating film. The coating film was dried at 70° C. for 1 minute to remove the solvent. Then, the coating film was irradiated with ultraviolet rays at an irradiation dose of 10 mJ/cm 2 using an ultraviolet irradiation device to form a semi-cured layer.

3−3.防汚層形成用組成物の調製(製造例5)
フッ素系有機溶媒(3M製、商品名:Novec 7300)12.1gと、両親媒性溶媒(関東化学(株)製、商品名:2−プロパノール)2.1gと、パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシラン溶液(信越化学工業(株)製、商品名「X−71−195」、固形分20%)0.30gと、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製、商品名「KBM−5103」)0.047gとを混合した混合溶液中に、水2.3mgと、1M 塩酸13mgとを添加し、25℃で3時間攪拌し、パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランとの縮重合物を含む組成物を得た。
3-3. Preparation of antifouling layer forming composition (Production Example 5)
Fluorine-based organic solvent (3M, trade name: Novec 7300) 12.1 g, amphiphilic solvent (Kanto Chemical Co., Inc., trade name: 2-propanol) 2.1 g, and a perfluoropolyether structure Alkoxysilane solution (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name "X-71-195", solid content 20%) 0.30 g and 3-acryloxypropyltrimethoxysilane (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., product Alkoxysilane having a perfluoropolyether structure was prepared by adding 2.3 mg of water and 13 mg of 1M hydrochloric acid into a mixed solution prepared by mixing 0.047 g of "KBM-5103") and stirring at 25°C for 3 hours. A composition containing a polycondensation product of 3-acryloxypropyltrimethoxysilane was obtained.

次いで、以下の各成分を混合して、防汚層形成用組成物を調製した。
・上記3−3で得た組成物(固形分:0.7質量%)291質量部(上記3−1のハードコート層形成用組成中のペンタエリスリトールトリアクリレート100質量部に対する割合)
・光重合開始剤(チバ・ジャパン(株)製、イルガキュア184)0.085質量部
Then, the following components were mixed to prepare an antifouling layer-forming composition.
291 parts by mass of the composition (solid content: 0.7% by mass) obtained in 3-3 above (ratio to 100 parts by mass of pentaerythritol triacrylate in the composition for forming a hard coat layer of 3-1 above)
-Photopolymerization initiator (Ciba Japan Co., Ltd., Irgacure 184) 0.085 parts by mass

3−4.実施例5の多層フィルムの完成
上記3−2で形成した半硬化層上にバーコーターを用いて、上記3−3で調製した防汚層形成用組成物を、塗布速度6m/minにて塗布し、未硬化層を形成した。次いで、半硬化層及び未硬化層に紫外線照射装置を用いて、照射量100mJ/cmで紫外線照射を行い、基材上にハードコート層(硬化後膜厚5μm)及び防汚層(硬化後膜厚30nm)を有する多層フィルムを得た。
3-4. Completion of the multilayer film of Example 5 On the semi-cured layer formed in 3-2 above, a bar coater was used to apply the antifouling layer-forming composition prepared in 3-3 above at a coating speed of 6 m/min. Then, an uncured layer was formed. Then, the semi-cured layer and the uncured layer were irradiated with ultraviolet rays at an irradiation amount of 100 mJ/cm 2 using an ultraviolet irradiation device, and a hard coat layer (film thickness after curing 5 μm) and an antifouling layer (after curing) were formed on the substrate. A multilayer film having a film thickness of 30 nm) was obtained.

3−5.実施例6〜23、及び比較例2の多層フィルムの製造
表3に示す成分の各配合量を混合し、縮重合物を含む組成物(製造例5〜17)、及び(A)成分を含む組成物(比較製造例1)を得た。また、表4に記載の種類及び配合量の各成分を用い、表4に示す紫外線照射量で、実施例5と同様にして多層フィルムを得た。なお、表3及び表4中、空欄は配合なしを表す。
3-5. Production of Multilayer Films of Examples 6 to 23 and Comparative Example 2 Compositions containing polycondensates (Production Examples 5 to 17) and (A) component were mixed by mixing the compounding amounts of the components shown in Table 3. A composition (Comparative Production Example 1) was obtained. Further, a multilayer film was obtained in the same manner as in Example 5 except that the components shown in Table 4 and the compounding amounts were used and the ultraviolet irradiation amount shown in Table 4 was used. In addition, in Tables 3 and 4, the blank column represents no compounding.

表3に記載の各成分の詳細は以下のとおりである。
〔(A)成分〕
・X−71−195(パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシラン溶液):信越化学工業(株)製、商品名、固形分20%
〔(B)成分〕
・KBM−5103(3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン):信越化学工業(株)製、商品名
・KBM−1003(ビニルトリメトキシシラン):信越化学工業(株)製、商品名
〔(C)成分〕
・KP−513(3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランとトリメトキシ(メチル)シランとの重合物):信越化学工業(株)製、商品名
〔その他の成分〕
・Novec 7300(フッ素系有機溶媒):3M製、商品名
・2−プロパノール(両親媒性溶媒):関東化学(株)製、商品名
Details of each component shown in Table 3 are as follows.
[(A) component]
X-71-195 (alkoxysilane solution having a perfluoropolyether structure): manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name, solid content 20%
[(B) component]
-KBM-5103 (3-acryloxypropyltrimethoxysilane): manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name-KBM-1003 (vinyl trimethoxysilane): manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name [(C) component〕
KP-513 (polymer of 3-acryloxypropyltrimethoxysilane and trimethoxy(methyl)silane): manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name [other components]
-Novec 7300 (fluorine-based organic solvent): 3M, trade name-2-propanol (amphiphilic solvent): Kanto Chemical Co., Inc., trade name

(結果のまとめ)
(A)成分と(B)成分、又は(C)成分とを組み合わせて用いた実施例1〜23では、防汚層表面に指紋が付着しにくく、指紋が付着しても容易に拭取ることができ、また、SW試験では防汚層表面に傷が確認されなかった。
(Summary of results)
In Examples 1 to 23 in which the component (A) and the component (B) or the component (C) are used in combination, fingerprints are unlikely to adhere to the surface of the antifouling layer, and even if fingerprints adhere, they can be easily wiped off. In addition, no scratch was confirmed on the surface of the antifouling layer in the SW test.

本発明の多層フィルムは、高硬度、かつ防汚性に優れると共に、耐久性に優れた防汚層を有するため、特にタッチパネルディスプレイを有する携帯用電子機器に好適に使用することができる。   Since the multilayer film of the present invention has high hardness and excellent antifouling property and also has an excellent antifouling property, it can be suitably used especially for portable electronic devices having a touch panel display.

1 抵抗膜式タッチパネル
11a 上部透明基板
11b 下部透明基板
12 透明導電膜
13 スペーサー
2 静電容量式タッチパネル
21a 上部透明基板
21b 下部透明基板
22 透明導電膜(X電極)
23 透明導電膜(Y電極)
24 接着剤層
3,4 多層フィルム
31,41 基材
32,42 防汚層
43 ハードコート層
1 Resistive Touch Panel 11a Upper Transparent Substrate 11b Lower Transparent Substrate 12 Transparent Conductive Film 13 Spacer 2 Capacitive Touch Panel 21a Upper Transparent Substrate 21b Lower Transparent Substrate 22 Transparent Conductive Film (X Electrode)
23 Transparent conductive film (Y electrode)
24 Adhesive layer 3,4 Multilayer film 31,41 Base material 32,42 Antifouling layer 43 Hard coat layer

Claims (20)

基材と防汚層とを有する多層フィルムを備えたタッチパネルであって、
前記防汚層が、(A)パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと、(B)トリアルコキシシリル基及び重合性基を有する化合物、又は(C)少なくとも1つのアルコキシ基及び重合性基を有する前記(B)成分の誘導体との縮重合物を含む硬化物である、タッチパネル。
A touch panel comprising a multilayer film having a base material and an antifouling layer,
The antifouling layer has (A) an alkoxysilane having a perfluoropolyether structure, (B) a compound having a trialkoxysilyl group and a polymerizable group, or (C) at least one alkoxy group and a polymerizable group. A touch panel, which is a cured product containing a condensation polymer with the derivative of the component (B).
前記防汚層が、前記縮重合物と電離放射線硬化性樹脂とを用いてなる硬化物である、請求項1に記載のタッチパネル。   The touch panel according to claim 1, wherein the antifouling layer is a cured product obtained by using the condensation polymer and an ionizing radiation curable resin. 防汚層の基材側の面にハードコート層を有する、請求項1又は2に記載のタッチパネル。   The touch panel according to claim 1, which has a hard coat layer on the surface of the antifouling layer on the substrate side. 前記パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランが、パーフルオロポリエーテル構造を有するトリメトキシシランである、請求項1〜3のいずれか一項に記載のタッチパネル。   The touch panel according to claim 1, wherein the alkoxysilane having a perfluoropolyether structure is trimethoxysilane having a perfluoropolyether structure. 防汚層表面の純水の接触角が95°以上、且つ、滑落角が30°以下である、請求項1〜4のいずれか一項に記載のタッチパネル。   The touch panel according to claim 1, wherein a contact angle of pure water on the surface of the antifouling layer is 95° or more and a sliding angle is 30° or less. 防汚層表面のアルコール系溶剤による拭き取り前後における該防汚層表面の純水の接触角の減少率が0〜15%である、請求項1〜5のいずれか一項に記載のタッチパネル。   The touch panel according to any one of claims 1 to 5, wherein a reduction rate of a contact angle of pure water on the surface of the antifouling layer before and after wiping the surface of the antifouling layer with an alcohol solvent is 0 to 15%. 少なくとも基材と防汚層とを有する多層フィルムの製造方法であって、
基材上に、(A)パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと、(B)トリアルコキシシリル基及び重合性基を有する化合物、又は(C)少なくとも1つのアルコキシ基及び重合性基を有する前記(B)成分の誘導体とを、有機溶媒、水、及び酸を含む混合溶媒中で加水分解、縮重合して得られた縮重合物を配合してなる防汚層形成用組成物の未硬化層を形成し、硬化させて防汚層を形成する、多層フィルムの製造方法。
A method for producing a multilayer film having at least a substrate and an antifouling layer,
On the substrate, (A) an alkoxysilane having a perfluoropolyether structure, (B) a compound having a trialkoxysilyl group and a polymerizable group, or (C) having at least one alkoxy group and a polymerizable group, Uncured composition for forming an antifouling layer, which is obtained by blending a polycondensation product obtained by hydrolyzing and polycondensing a derivative of component (B) with a mixed solvent containing an organic solvent, water, and an acid. A method for producing a multilayer film, which comprises forming a layer and curing it to form an antifouling layer.
前記未硬化層を電離放射線の照射により硬化させて防汚層を形成する、請求項7に記載の多層フィルムの製造方法。   The method for producing a multilayer film according to claim 7, wherein the uncured layer is cured by irradiation with ionizing radiation to form an antifouling layer. 前記防汚層形成用組成物が、さらに電離放射線硬化性樹脂を配合したものである、請求項7又は8に記載の多層フィルムの製造方法。   The method for producing a multilayer film according to claim 7, wherein the composition for forming an antifouling layer further contains an ionizing radiation curable resin. 未硬化層の形成前に、基材上に電離放射線硬化性樹脂を含むハードコート層形成用組成物の塗膜を形成し、電離放射線を照射して半硬化層を形成し、次いで、該半硬化層の基材とは反対側の面に接するように前記未硬化層を形成し、該半硬化層と、該未硬化層とに同時に電離放射線を照射し硬化させて、各々ハードコート層と防汚層とを形成する、請求項8又は9に記載の多層フィルムの製造方法。   Before the formation of the uncured layer, a coating film of a composition for forming a hard coat layer containing an ionizing radiation curable resin is formed on a substrate and irradiated with ionizing radiation to form a semi-cured layer. The uncured layer is formed so as to be in contact with the surface of the cured layer opposite to the substrate, and the semi-cured layer and the uncured layer are simultaneously irradiated with ionizing radiation to be cured to form a hard coat layer. The method for producing a multilayer film according to claim 8 or 9, which comprises forming an antifouling layer. 前記半硬化層を形成する際に照射する電離放射線の照射量Xα(mJ/cm)、及び前記半硬化層と、前記未硬化層とに同時に照射する電離放射線の照射量Xβ(mJ/cm)が下記式(I)の関係を満たす、請求項10に記載の多層フィルムの製造方法。
0.01≦Xα/(Xα+Xβ)≦0.80 (I)
(但し、Xαは3以上100以下である)
Irradiation dose X α (mJ/cm 2 ) of the ionizing radiation irradiated when the semi-cured layer is formed, and ionizing radiation dose X β (mJ of the semi-cured layer and the uncured layer simultaneously. /Cm< 2 >) satisfy|fills the relationship of following formula (I), The manufacturing method of the multilayer film of Claim 10.
0.01≦X α /(X α +X β )≦0.80 (I)
(However, X α is 3 or more and 100 or less)
基材と防汚層とを有する多層フィルムであって、
前記防汚層が、(A)パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと、(B)トリアルコキシシリル基及び重合性基を有する化合物、又は(C)少なくとも1つのアルコキシ基及び重合性基を有する前記(B)成分の誘導体との縮重合物を含む硬化物である、多層フィルム。
A multilayer film having a base material and an antifouling layer,
The antifouling layer has (A) an alkoxysilane having a perfluoropolyether structure, (B) a compound having a trialkoxysilyl group and a polymerizable group, or (C) at least one alkoxy group and a polymerizable group. A multilayer film, which is a cured product containing a polycondensation product with the derivative of the component (B).
前記防汚層が、前記縮重合物と電離放射線硬化性樹脂とを用いてなる硬化物である、請求項12に記載の多層フィルム。   The multilayer film according to claim 12, wherein the antifouling layer is a cured product obtained by using the condensation polymer and an ionizing radiation curable resin. 防汚層の基材側の面にハードコート層を有する、請求項12又は13に記載の多層フィルム。   The multilayer film according to claim 12, which has a hard coat layer on the surface of the antifouling layer on the substrate side. 前記パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランが、パーフルオロポリエーテル構造を有するトリメトキシシランである、請求項12〜14のいずれか一項に記載の多層フィルム。   The multilayer film according to any one of claims 12 to 14, wherein the alkoxysilane having a perfluoropolyether structure is trimethoxysilane having a perfluoropolyether structure. 防汚層表面の純水の接触角が95°以上、且つ、滑落角が30°以下である、請求項12〜15のいずれか一項に記載の多層フィルム。   The multilayer film according to any one of claims 12 to 15, wherein a contact angle of pure water on the surface of the antifouling layer is 95° or more and a sliding angle is 30° or less. 防汚層表面のアルコール系溶剤による拭き取り前後における該防汚層表面の純水の接触角の減少率が0〜15%である、請求項12〜16のいずれか一項に記載の多層フィルム。   The multilayer film according to any one of claims 12 to 16, wherein a reduction rate of a contact angle of pure water on the surface of the antifouling layer before and after wiping the surface of the antifouling layer with an alcohol solvent is 0 to 15%. 基材と防汚層とを有する多層フィルムであって、A multilayer film having a base material and an antifouling layer,
前記防汚層が、(A)パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと、(B)トリアルコキシシリル基及び重合性基を有する化合物、又は(C)少なくとも1つのアルコキシ基及び重合性基を有する前記(B)成分の誘導体との縮重合物を含み、(A)成分と、(B)成分又は(C)成分との重量比が1:0.1〜10.0である硬化物であ請求項12記載の多層フィルム。The antifouling layer has (A) an alkoxysilane having a perfluoropolyether structure, (B) a compound having a trialkoxysilyl group and a polymerizable group, or (C) at least one alkoxy group and a polymerizable group. A cured product containing a polycondensation product of the derivative of the component (B), wherein the weight ratio of the component (A) to the component (B) or the component (C) is 1:0.1 to 10.0. The multilayer film according to claim 12.
前記(B)成分及び(C)成分が有する重合性基が、ビニルエーテル基、オキシラニル基、オキセタニル基、(メタ)アクリロイルオキシ基、(メタ)アクリルアミド基、ビニル基、スチリル基又はアリル基である請求項12記載の多層フィルム。The polymerizable group contained in the component (B) and the component (C) is a vinyl ether group, an oxiranyl group, an oxetanyl group, a (meth)acryloyloxy group, a (meth)acrylamide group, a vinyl group, a styryl group or an allyl group. Item 12. A multilayer film according to item 12. 前記(C)成分が、(B)成分と、(D)下記一般式(6)で表されるアルコキシシランとの縮合物である請求項12記載の多層フィルム。The multilayer film according to claim 12, wherein the component (C) is a condensate of the component (B) and (D) an alkoxysilane represented by the following general formula (6).

(式中、R(In the formula, R 1010 は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数2〜8のアルケニル基、環形成原子数3〜10のシクロアルキル基、環形成原子数6〜20のアリール基である。RAre each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 ring atoms, and an aryl group having 6 to 20 ring atoms. .. R 1111 は、それぞれ独立に炭素数1〜6のアルキル基である。RAre each independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. R 1010 及びRAnd R 1111 が複数ある場合、複数のRIf there are multiple R 1010 及びRAnd R 1111 は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。xは1〜4の整数である。)May be the same or different. x is an integer of 1 to 4. )
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