JP6679849B2 - Resin composition - Google Patents

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Description

本発明は、電子部品、特に、高周波領域で使用される電子部品の高誘電率絶縁材料や、指紋センサー用の高誘電率絶縁材料として有用な樹脂組成物に関する。また、本発明は該樹脂組成物を使用したシート状積層材料、及び該樹脂組成物の硬化物により絶縁層が形成されている多層プリント配線板等の電子部品にも関する。   TECHNICAL FIELD The present invention relates to a resin composition useful as a high dielectric constant insulating material for electronic parts, particularly electronic parts used in a high frequency region, and a high dielectric constant insulating material for fingerprint sensors. The present invention also relates to a sheet-like laminated material using the resin composition, and an electronic component such as a multilayer printed wiring board having an insulating layer formed of a cured product of the resin composition.

近年、情報通信機器はますます高性能及び高機能化し、情報通信機器に使用される電子部品には、小型化、高密度実装化の要求が高まる中、有機絶縁材料に誘電体粉末を配合した高誘電率絶縁材料が注目されている。   In recent years, information and telecommunications equipment has become more and more highly functional and highly functional, and electronic parts used in information and telecommunications equipment have been required to be compact and have high density. Attention is focused on high dielectric constant insulating materials.

例えば、情報通信機器では、デジタルICなどの電子部品の誤作動やノイズを防止するために多量のチップコンデンサを配線板上に搭載しているが、実装密度の向上のため、プリント配線板の導体層間に高誘電率絶縁層を設けることにより、コンデンサを多層プリント配線板内に内蔵させる方法が知られている(特許文献1)。また、指紋センサーにおいては、アレイ状に並べられた多数の金属電極とそれを覆うように形成された高誘電率絶縁層からなる部材を形成し、指が高誘電絶縁層に接触する際の指紋の凹部と凸部の静電容量の違いを検出する方法が知られている(特許文献2)。   For example, in information communication equipment, a large amount of chip capacitors are mounted on a wiring board in order to prevent malfunction and noise of electronic parts such as digital ICs. A method is known in which a capacitor is built in a multilayer printed wiring board by providing a high dielectric constant insulating layer between layers (Patent Document 1). Further, in a fingerprint sensor, a member composed of a large number of metal electrodes arranged in an array and a high dielectric constant insulating layer formed so as to cover the metal electrodes is formed, and a fingerprint when a finger comes into contact with the high dielectric insulating layer is formed. There is known a method of detecting the difference in electrostatic capacitance between the concave portion and the convex portion (Patent Document 2).

高誘電率絶縁層を形成するための、絶縁材料としては、例えば、樹脂組成物中に誘電体粉末を分散させた材料が挙げられるが、樹脂との組み合わせによっては、誘電体粉末の分散性が悪く、また比重が大きいために樹脂組成物(特にワニス状態とした樹脂組成物)中で誘電体粉末が沈降してしまうことがある。このため、樹脂組成物により絶縁層用の樹脂組成物層を形成すると、誘電体粉末の凝集物による突起が生じて均一な性状の樹脂組成物層を形成することができない場合があった。このような凝集物を有する樹脂組成物層を硬化して得られる絶縁層は絶縁層厚さを凝集物のサイズ以下にすることができないため、該絶縁層を有する多層プリント配線板において所望の静電容量を得られないという問題が生じる。また、指紋センサーにおいては高誘電絶縁層の静電容量が凝集物部分とそれ以外の部分とで異なり、一定でなくなるため、正しく指紋を認証できなくなるという問題が生じる。   Examples of the insulating material for forming the high-dielectric-constant insulating layer include a material in which dielectric powder is dispersed in a resin composition. However, depending on the combination with a resin, the dispersibility of the dielectric powder may be increased. Poor, and because of its large specific gravity, the dielectric powder may settle in the resin composition (particularly in the varnished resin composition). For this reason, when a resin composition layer for an insulating layer is formed from the resin composition, projections due to agglomerates of dielectric powder may occur, and it may not be possible to form a resin composition layer having uniform properties. Since the insulating layer obtained by curing the resin composition layer having such an aggregate cannot make the insulating layer thickness equal to or smaller than the size of the aggregate, a desired static electricity is not required in the multilayer printed wiring board having the insulating layer. There is a problem that the electric capacity cannot be obtained. Further, in the fingerprint sensor, the electrostatic capacitance of the high dielectric insulating layer is different between the agglomerate portion and the other portions and is not constant, which causes a problem that the fingerprint cannot be correctly authenticated.

特開2008−274002号公報JP, 2008-274002, A 特開2003−050994号公報JP, 2003-050994, A

上記の事情に鑑み、本発明が解決しようとする課題は、誘電体粉末の凝集物の生成が高いレベルで抑制された、高誘電率絶縁層を形成し得る樹脂組成物を提供することである。   In view of the above circumstances, the problem to be solved by the present invention is to provide a resin composition capable of forming a high dielectric constant insulating layer in which the generation of aggregates of dielectric powder is suppressed at a high level. .

本発明者は、上記の課題を解決するために鋭意検討した結果、ノニオン性界面活性剤を用いることで、誘電体粉末の分散性が著しく向上することを見出し、かかる知見に基づき本発明を完成するに至った。   The present inventor, as a result of extensive studies to solve the above problems, found that by using a nonionic surfactant, the dispersibility of the dielectric powder is significantly improved, and the present invention was completed based on such findings. Came to do.

すなわち、本発明は以下の通りである。
[1] (A)エポキシ樹脂、(B)誘電体粉末、(C)ノニオン性界面活性剤、及び(D)硬化剤を含有する樹脂組成物。
[2] (C)ノニオン性界面活性剤が、ポリオキシアルキレン骨格を有する、上記[1]記載の樹脂組成物。
[3] (C)ノニオン性界面活性剤がエーテル型ノニオン性界面活性剤を含む、上記[1]または[2]記載の樹脂組成物。
[4] (C)ノニオン性界面活性剤の数平均分子量が400以上である、上記[1]〜[3]のいずれか1つに記載の樹脂組成物。
[5] (B)誘電体粉末が、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウム、チタン酸マグネシウム、チタン酸ビスマス、チタン酸ジルコニウム、チタン酸亜鉛及び二酸化チタンからなる群から選択される1種または2種以上を含む、上記[1]〜[4]のいずれか1つに記載の樹脂組成物。
[6] (B)誘電体粉末が、チタン酸バリウムである、上記[1]〜[5]のいずれか1つに記載の樹脂組成物。
[7] (B)誘電体粉末が、(C)ノニオン性界面活性剤により処理されている、上記[1]〜[6]のいずれか1つに記載の樹脂組成物。
[8] (D)硬化剤が、フェノール系硬化剤、シアネートエステル系硬化剤及び活性エステル系硬化剤からなる群から選択される1種又は2種以上を含む、上記[1]〜[7]のいずれか1つに記載の樹脂組成物。
[9] 多層プリント配線板内のコンデンサ形成用樹脂組成物である、上記[1]〜[8]のいずれか1つに記載の樹脂組成物。
[10] 指紋センサー用樹脂組成物である、上記[1]〜[8]のいずれか1つに記載の樹脂組成物。
[11] 上記[1]〜[8]のいずれか1つに記載の樹脂組成物による樹脂組成物ワニス。
[12] 上記[1]〜[8]のいずれか1つに記載の樹脂組成物を用いてなるシート状積層材料。
[13] 上記[1]〜[6]のいずれか1つに記載の樹脂組成物の硬化物からなる絶縁層が2つの導電層間に挟まれてコンデンサを形成している、コンデンサを内蔵する多層プリント配線板。
That is, the present invention is as follows.
[1] A resin composition containing (A) epoxy resin, (B) dielectric powder, (C) nonionic surfactant, and (D) curing agent.
[2] The resin composition according to the above [1], wherein the nonionic surfactant (C) has a polyoxyalkylene skeleton.
[3] The resin composition according to the above [1] or [2], wherein the nonionic surfactant (C) contains an ether type nonionic surfactant.
[4] The resin composition according to any one of the above [1] to [3], wherein the (C) nonionic surfactant has a number average molecular weight of 400 or more.
[5] The (B) dielectric powder is one selected from the group consisting of barium titanate, strontium titanate, calcium titanate, magnesium titanate, bismuth titanate, zirconium titanate, zinc titanate and titanium dioxide. Alternatively, the resin composition according to any one of the above [1] to [4], which contains two or more kinds.
[6] The resin composition according to any one of the above [1] to [5], wherein the (B) dielectric powder is barium titanate.
[7] The resin composition according to any one of the above [1] to [6], wherein the (B) dielectric powder is treated with (C) a nonionic surfactant.
[8] The above-mentioned [1] to [7], wherein the (D) curing agent contains one or more selected from the group consisting of a phenol-based curing agent, a cyanate ester-based curing agent and an active ester-based curing agent. The resin composition according to any one of 1.
[9] The resin composition according to any one of the above [1] to [8], which is a resin composition for forming a capacitor in a multilayer printed wiring board.
[10] The resin composition according to any one of the above [1] to [8], which is a fingerprint sensor resin composition.
[11] A resin composition varnish made of the resin composition according to any one of [1] to [8].
[12] A sheet-shaped laminated material obtained by using the resin composition according to any one of the above [1] to [8].
[13] A multilayer containing a capacitor, wherein an insulating layer made of a cured product of the resin composition according to any one of the above [1] to [6] is sandwiched between two conductive layers to form a capacitor. Printed wiring board.

本発明によれば、誘電体粉末の凝集物の生成が高いレベルで抑制され、しかも、保存安定性にも優れる、誘電体粉末を含む、高誘電率絶縁層形成用の樹脂組成物を得ることができる。
また、本発明によれば、突起等がない性状均一性に優れる樹脂組成物層を形成することができる。
また、本発明によれば、絶縁信頼性が高い、高誘電率絶縁層を形成することができる。
また、本発明によれば、絶縁信頼性が高い、高誘電率絶縁層が、2つの導電層間に挟まれた、高信頼性のコンデンサを内蔵する多層プリント配線板を得ることができる。
また、本発明によれば、指紋認証精度の高い、指紋センサーを実現できる。
According to the present invention, it is possible to obtain a resin composition for forming a high-dielectric-constant insulating layer, which contains a dielectric powder, in which generation of aggregates of the dielectric powder is suppressed at a high level and which is also excellent in storage stability. You can
Further, according to the present invention, it is possible to form a resin composition layer having no protrusions and the like and excellent in property uniformity.
Further, according to the present invention, a high dielectric constant insulating layer having high insulation reliability can be formed.
Further, according to the present invention, it is possible to obtain a multilayer printed wiring board having a highly reliable capacitor in which a high dielectric constant insulating layer having high insulation reliability is sandwiched between two conductive layers.
Further, according to the present invention, it is possible to realize a fingerprint sensor with high fingerprint authentication accuracy.

以下、本発明を詳しく説明する。
本発明の樹脂組成物は、(A)エポキシ樹脂、(B)誘電体粉末、(C)ノニオン性界面活性剤、及び(D)硬化剤を含有することが主たる特徴である。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The resin composition of the present invention is mainly characterized by containing (A) epoxy resin, (B) dielectric powder, (C) nonionic surfactant, and (D) curing agent.

一般に、エポキシ樹脂および硬化剤等を含むエポキシ樹脂組成物により絶縁層を形成する場合、樹脂組成物を有機溶剤に溶解乃至分散させてワニス状態とし(以下、かかる「ワニス状態の樹脂組成物」を「樹脂組成物ワニス」と称する。また、単に「ワニス」と略称する。)、かかるワニスを塗工し、加熱や熱風吹きつけ等により有機溶剤を乾燥させて樹脂組成物層を形成し、該樹脂組成物層を熱硬化することで、絶縁層を形成する。   Generally, when the insulating layer is formed of an epoxy resin composition containing an epoxy resin and a curing agent, etc., the resin composition is dissolved or dispersed in an organic solvent to form a varnish (hereinafter, such a "varnish state resin composition" The term "resin composition varnish" is used herein. It is also simply referred to as "varnish".), The varnish is applied, and the organic solvent is dried by heating, blowing hot air or the like to form a resin composition layer, An insulating layer is formed by thermosetting the resin composition layer.

本発明の樹脂組成物により絶縁層を形成する場合も、通常、上述の一般的なエポキシ樹脂組成物による絶縁層の形成方法と同様であり、樹脂組成物をワニス状態とし、ワニスを塗工、乾燥して樹脂組成物層を形成し、該樹脂組成物層を熱硬化することで、絶縁層を形成する。本発明の樹脂組成物により形成される絶縁層は、後記にて、詳述するように、絶縁信頼性が高い、高誘電率の絶縁層となる。   Also when forming an insulating layer from the resin composition of the present invention, usually, it is the same as the method of forming an insulating layer by the above-described general epoxy resin composition, the resin composition in a varnish state, varnish coating, An insulating layer is formed by forming a resin composition layer by drying and thermosetting the resin composition layer. The insulating layer formed of the resin composition of the present invention becomes an insulating layer having high insulation reliability and high dielectric constant, as will be described later in detail.

<(A)エポキシ樹脂>
本発明に使用する「エポキシ樹脂」とは、1分子中に二つ以上のエポキシ基を有し、エポキシ当量が、6000g/eq以下である熱硬化性樹脂を意味する。なお、後述の高分子樹脂の一例であるフェノキシ樹脂はエポキシ樹脂と同様にエポキシ基を有し得るが、エポキシ当量が6000g/eqを超える熱可塑性樹脂であり、エポキシ樹脂と区別される。エポキシ樹脂のエポキシ当量は、好ましくは2000g/eq以下であり、より好ましくは80〜1000g/eq、特に好ましくは100〜800g/eqである。なお、「エポキシ当量」とは1グラム当量のエポキシ基を含む樹脂のグラム数(g/eq)であり、JIS K 7236に規定された方法に従って測定される。
<(A) Epoxy resin>
The "epoxy resin" used in the present invention means a thermosetting resin having two or more epoxy groups in one molecule and having an epoxy equivalent of 6000 g / eq or less. A phenoxy resin, which is an example of a polymer resin described later, may have an epoxy group similarly to an epoxy resin, but is a thermoplastic resin having an epoxy equivalent of more than 6000 g / eq and is distinguished from an epoxy resin. The epoxy equivalent of the epoxy resin is preferably 2000 g / eq or less, more preferably 80 to 1000 g / eq, and particularly preferably 100 to 800 g / eq. The "epoxy equivalent" is the number of grams (g / eq) of a resin containing 1 gram equivalent of epoxy group, and is measured according to the method specified in JIS K7236.

エポキシ樹脂の具体例としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビスフェノールAF型エポキシ樹脂、ビキシレノール型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、tert−ブチルカテコール型エポキシ樹脂、ナフトール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ナフタレン型4官能エポキシ樹脂、ナフチレンエーテル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、アントラセン型エポキシ樹脂、線状脂肪族エポキシ樹脂、ブタジエン構造を有するエポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、スピロ環含有エポキシ樹脂、シクロヘキサンジメタノール型エポキシ樹脂、トリメチロール型エポキシ樹脂、ハロゲン化エポキシ樹脂等が挙げられる。中でも、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビキシレノール型エポキシ樹脂、ナフトール型エポキシ樹脂、ナフタレン型4官能エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂が好ましい。エポキシ樹脂は1種又は2種以上を使用することができる。   Specific examples of the epoxy resin include, for example, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, bisphenol AF type epoxy resin, bixylenol type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, tert-butyl catechol. Type epoxy resin, naphthol type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, naphthalene type tetrafunctional epoxy resin, naphthylene ether type epoxy resin, glycidyl amine type epoxy resin, glycidyl ester type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin , Biphenyl aralkyl type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, anthracene type epoxy resin, linear aliphatic epoxy resin, butadiene structure Epoxy resins, alicyclic epoxy resins, heterocyclic epoxy resins, spiro ring-containing epoxy resins, cyclohexanedimethanol type epoxy resins, trimethylol type epoxy resins, and halogenated epoxy resins. Among them, bisphenol A type epoxy resin, bixylenol type epoxy resin, naphthol type epoxy resin, naphthalene type tetrafunctional epoxy resin, and biphenylaralkyl type epoxy resin are preferable. Epoxy resin can use 1 type (s) or 2 or more types.

樹脂組成物における(A)エポキシ樹脂の含有量は、樹脂組成物の基材や導体層との密着性、樹脂組成物の機械特性等の観点より、樹脂組成物中の不揮発成分全体当たり、3〜40質量%であることが好ましく、5〜30質量%であることがより好ましい。   The content of the (A) epoxy resin in the resin composition is 3 based on the total amount of the nonvolatile components in the resin composition, from the viewpoints of the adhesion of the resin composition to the base material and the conductor layer, the mechanical properties of the resin composition, and the like. -40 mass% is preferred, and 5-30 mass% is more preferred.

<(B)誘電体粉末>
本発明に使用する誘電体粉末は、例えば、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウム、チタン酸マグネシウム、チタン酸ビスマス、チタン酸ジルコニウム、チタン酸亜鉛、二酸化チタンなどを挙げることができる。好ましくはチタン酸バリウムである。これらの多くは、通常、合成物であり、誘電体粉末としては市販品を使用することができる。誘電体粉末は、25℃、測定周波数5.8GHzでの比誘電率が20〜20000の範囲内にあるものが好ましく、40〜20000の範囲内にあるものがより好ましい。また、誘電体粉末の平均粒径は0.01〜10μmが好ましく、0.03〜5μmがより好ましく、0.02〜2μmが特に好ましい。
<(B) Dielectric powder>
Examples of the dielectric powder used in the present invention include barium titanate, strontium titanate, calcium titanate, magnesium titanate, bismuth titanate, zirconium titanate, zinc titanate and titanium dioxide. Barium titanate is preferred. Most of these are usually synthetic products, and commercially available dielectric powders can be used. The dielectric powder preferably has a relative dielectric constant in the range of 20 to 20,000 at 25 ° C. and a measurement frequency of 5.8 GHz, and more preferably in the range of 40 to 20,000. The average particle size of the dielectric powder is preferably 0.01 to 10 μm, more preferably 0.03 to 5 μm, and particularly preferably 0.02 to 2 μm.

誘電体粉末の平均粒径はミー(Mie)散乱理論に基づくレーザー回折・散乱法により測定することができる。具体的にはレーザー回折式粒度分布測定装置により、誘電体粉末の粒度分布を体積基準で作成し、そのメディアン径を平均粒径とすることで測定することができる。測定サンプルは、誘電体粉末を超音波により水中に分散させたものを好ましく使用することができる。レーザー回折式粒度分布測定装置としては、株式会社堀場製作所製LA−500等を使用することができる。   The average particle diameter of the dielectric powder can be measured by a laser diffraction / scattering method based on Mie scattering theory. Specifically, it can be measured by creating a particle size distribution of the dielectric powder on a volume basis with a laser diffraction type particle size distribution measuring device and setting the median diameter as the average particle diameter. As a measurement sample, a dielectric powder dispersed in water by ultrasonic waves can be preferably used. As the laser diffraction type particle size distribution measuring device, LA-500 manufactured by Horiba Ltd. can be used.

また、本発明における誘電体粉末は、例えば、BET比表面積が1〜50m/gである誘電体粉末を用いることができる。BET比表面積は、BET法に従って、比表面積測定装置(Macsorb HM Model-1210 マウンテック社製)を用いて測定される。なお、誘電体粉末の比表面積は、焼成条件(温度、時間)、粉砕による微粒化等によって調整できる。 Moreover, as the dielectric powder in the present invention, for example, a dielectric powder having a BET specific surface area of 1 to 50 m 2 / g can be used. The BET specific surface area is measured according to the BET method using a specific surface area measuring device (Macsorb HM Model-1210 manufactured by Mountech Co., Ltd.). The specific surface area of the dielectric powder can be adjusted by firing conditions (temperature, time), atomization by pulverization, and the like.

誘電体粉末の粒子形状は特に限定されず、無定形のものでも球形のものでもよいが、球形の誘電体粉末の方が好ましく、樹脂組成物への含有量を上げることができ、それによって、樹脂組成物を硬化して得られる絶縁層の誘電率をより高めることができる。   The particle shape of the dielectric powder is not particularly limited, and may be amorphous or spherical, but spherical dielectric powder is preferable, and the content in the resin composition can be increased, thereby, The dielectric constant of the insulating layer obtained by curing the resin composition can be further increased.

誘電体粉末は1種又は2種以上を使用できる。樹脂組成物における誘電体粉末の含有量は、樹脂組成物の不揮発分全体当たり、好ましくは40質量%〜95質量%、さらに好ましくは50質量%〜90質量%である。   As the dielectric powder, one kind or two or more kinds can be used. The content of the dielectric powder in the resin composition is preferably 40% by mass to 95% by mass, more preferably 50% by mass to 90% by mass, based on the entire nonvolatile content of the resin composition.

<(C)ノニオン性界面活性剤>
本発明では、ノニオン性界面活性剤を分散剤として使用する。ノニオン性界面活性剤は特に限定されず、種々のタイプを使用することができる。
<(C) Nonionic surfactant>
In the present invention, a nonionic surfactant is used as a dispersant. The nonionic surfactant is not particularly limited, and various types can be used.

本発明に好適なノニオン性界面活性剤としては、例えば、エーテル型、エステル型、ソルビタンエスエル型、ソルビタンエステル・エチレンオキシド付加型、ジエステル型、モノグリセライド型、モノグリセライド・エチレンオキシド付加型、トリグリセライド・エチレンオキシド付加型、ソルビットエステル・エチレンオキシド付加型、ポリグリセリンアルキルエステル型、ポリエーテルアミン型、アルカノールアミド型、アルカノールアミド・エチレンオキシド付加型、アミンオキシド型、ポリエチレングリコール・ポリプロピレングリコール・ブロックエーテル型(ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレン・ブロックポリマー型)、エチレンジアミンベース型、フェノール型等を挙げることができ、好ましくは、エーテル型である。   Examples of the nonionic surfactant suitable for the present invention include, for example, ether type, ester type, sorbitan ester type, sorbitan ester / ethylene oxide addition type, diester type, monoglyceride type, monoglyceride / ethylene oxide addition type, triglyceride / ethylene oxide addition type, Solbit ester / ethylene oxide addition type, polyglycerin alkyl ester type, polyether amine type, alkanolamide type, alkanolamide / ethylene oxide addition type, amine oxide type, polyethylene glycol / polypropylene glycol / block ether type (polyoxyethylene / polyoxypropylene -Block polymer type), ethylenediamine base type, phenol type, etc., and preferably ether type

エーテル型ノニオン性界面活性剤は、代表的には、
一般式(1):
The ether type nonionic surfactant is typically
General formula (1):

で表されるポリオキシアルキレンアルキルエーテル、
一般式(2):
A polyoxyalkylene alkyl ether represented by
General formula (2):

で示されるポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテル等が挙げられる。 And a polyoxyalkylene alkyl phenyl ether represented by

式(1)及び式(2)において、Rはアルキル基又はアルケニル基を表し、その炭素数が好ましくは6〜22、より好ましくは8〜18、特に好ましくは10〜15である。該アルキル基は、単独のアルキル基であっても、混合アルキル基であっても良い。Aはアルキレン基を表し、Xはフェニレン基を表す。nは1〜70、好ましくは10〜30の整数を示す。なお、A−Oで表されるオキシアルキレン基は、エチレンオキサイド基、プロピレンオキサイド基等の一種のオキシアルキレン基からなるものであってもよいし、エチレンオキサイド基とプロピレンオキサイド基との2種類等のような複数種類のオキシアルキレン基から構成されるものであってもよい。 In the formulas (1) and (2), R 1 represents an alkyl group or an alkenyl group, and the carbon number thereof is preferably 6 to 22, more preferably 8 to 18, and particularly preferably 10 to 15. The alkyl group may be a single alkyl group or a mixed alkyl group. A represents an alkylene group and X represents a phenylene group. n represents an integer of 1 to 70, preferably 10 to 30. The oxyalkylene group represented by A-O may be composed of one kind of oxyalkylene group such as an ethylene oxide group and a propylene oxide group, or two kinds such as an ethylene oxide group and a propylene oxide group. May be composed of a plurality of types of oxyalkylene groups such as

ポリオキシアルキレンアルキルエーテルの具体例としては、例えば、ポリオキシエチレンヘキシルエーテル、ポリオキシエチレンヘプチルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルエーテル、ポリオキシエチレンノニルエーテル、ポリオキシエチレンデシルエーテル、ポリオキシエチレンドデシルエーテル(別称:ポリオキシエチレンラウリルエーテル)、ポリオキシエチレンテトラデシルエーテル、ポリオキシエチレンヘキサデシルエーテル(別称:ポリオキシエチレンセチルエーテル)、ポリオキシエチレンオクタデシルエーテル(別称:ポリオキシエチレンオレイルエーテル)、ポリオキシエチレンエイコシルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、やし油還元アルコールエチレンオキサイド付加物、牛脂還元アルコールエチレンオキサイド付加物、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン−ドデシルエーテル(別称:ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン−ラウリルエーテル)、ポリオキシプロピレンドデシルエーテル(別称:ポリオキシプロピレンラウリルエーテル)等が挙げられる。中でも、ポリオキシエチレンドデシルエーテル、ポリオキシプロピレンドデシルエーテル、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン−ドデシルエーテル、等が好ましい。   Specific examples of the polyoxyalkylene alkyl ether include, for example, polyoxyethylene hexyl ether, polyoxyethylene heptyl ether, polyoxyethylene octyl ether, polyoxyethylene nonyl ether, polyoxyethylene decyl ether, polyoxyethylene dodecyl ether (other names). : Polyoxyethylene lauryl ether), polyoxyethylene tetradecyl ether, polyoxyethylene hexadecyl ether (also known as polyoxyethylene cetyl ether), polyoxyethylene octadecyl ether (also known as polyoxyethylene oleyl ether), polyoxyethylene eico Syl ether, polyoxyethylene oleyl ether, coconut oil reduced alcohol ethylene oxide adduct, tallow reduced alcohol ethi Emissions oxide adducts, polyoxyethylene - polyoxypropylene - dodecyl ether (aka: polyoxyethylene - polyoxypropylene - lauryl ether), polyoxypropylene dodecyl ether (aka: polyoxypropylene lauryl ether) and the like. Among them, polyoxyethylene dodecyl ether, polyoxypropylene dodecyl ether, polyoxyethylene-polyoxypropylene-dodecyl ether and the like are preferable.

ポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテルの具体例としては、例えば、ポリオキシエチレンヘキシルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンヘプチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンデシルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンドデシルフェニルエーテル(別称:ポリオキシエチレンラウリルフェニルエーテル)、ポリオキシエチレンテトラデシルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンヘキサデシルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクタデシルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンエイコシルフェニルエーテル等が挙げられる。   Specific examples of polyoxyalkylene alkyl phenyl ethers include, for example, polyoxyethylene hexyl phenyl ether, polyoxyethylene heptyl phenyl ether, polyoxyethylene octyl phenyl ether, polyoxyethylene nonyl phenyl ether, polyoxyethylene decyl phenyl ether, and polyoxyethylene decyl phenyl ether. Oxyethylene dodecyl phenyl ether (also known as polyoxyethylene lauryl phenyl ether), polyoxyethylene tetradecyl phenyl ether, polyoxyethylene hexadecyl phenyl ether, polyoxyethylene octadecyl phenyl ether, polyoxyethylene eicosyl phenyl ether, etc. .

本発明におけるノニオン性界面活性剤には市販品を使用することができる。
エーテル型としては、例えば、日油株式会社製の、「ノニオン K−204」(ポリオキシエチレンラウリルエーテル)、「ノニオン K−220」(ポリオキシエチレンラウリルエーテル)、「ノニオン K−230」、「パーソフト NK−60」、「パーソフト NH−90C」、「パーソフト NK−100」、「パーソフト NK−100」、「ノニオン EAD−13」(以上、ポリオキシエチレンアルキルエーテル)、「ノニオン P−208」、「ノニオン P−210」、「ノニオン P−213」(以上、ポリオキシエチレンセチルエーテル)、「ノニオン E−202」、「ノニオン E−202」、「ノニオン E−202S」、「ノニオン E−205」、「ノニオン E−205S」、「ノニオン E−212」、「ノニオン E−215」、「ノニオン E−230」(以上、ポリオキシエチレンオレイルエーテル)、「ノニオン S−202」、「ノニオン S−207」、「ノニオン S−215」、「ノニオン S−220」(以上、ポリオキシエチレンステアリルエーテル)、「ノニオン ID−203」、「ノニオン ID−206」、「ノニオン ID−209」(以上、ポリオキシエチレンイソデシルエーテル)、「ノニオン EH−204」(ポリオキシエチレン2―エチルヘキシルエーテル)、「ノニオン EH−208」(ポリオキシエチレン2―エチルヘキシルエーテル)、「ポリオキディスパノール TOC」、「ノニオン ET−505」、「ノニオン ET−507」、「ノニオン ET−510」、「ノニオン ET−512」、「ノニオン ET−515」、「ノニオン ET−518」(以上、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン―アルキルエーテル)、「ユニルーブ MS−70K」(ポリオキシプロピレンステアリルエーテル)、「ディスパノール 16」、「ディスパノール 16A」、「ディスパノール LS−100」、「ノニオン MN−811」、「ディスパノール WI−106」、「ディスパノール WI−115」、「ディスパノール W1−133」等が挙げられる。
A commercially available product can be used as the nonionic surfactant in the present invention.
As the ether type, for example, “NONION K-204” (polyoxyethylene lauryl ether), “NONION K-220” (polyoxyethylene lauryl ether), “NONION K-230”, and “NONION K-230” manufactured by NOF CORPORATION are available. "Persoft NK-60", "Persoft NH-90C", "Persoft NK-100", "Persoft NK-100", "Nonion EAD-13" (above, polyoxyethylene alkyl ether), "Nonion P" -208 "," Nonion P-210 "," Nonion P-213 "(above, polyoxyethylene cetyl ether)," Nonion E-202 "," Nonion E-202 "," Nonion E-202S "," Nonion ". E-205 "," Nonion E-205S "," Nonion E-212 "," Nonion E-21 " , "Nonion E-230" (above, polyoxyethylene oleyl ether), "Nonion S-202", "Nonion S-207", "Nonion S-215", "Nonion S-220" (above, polyoxy Ethylene stearyl ether), "Nonion ID-203", "Nonion ID-206", "Nonion ID-209" (above, polyoxyethylene isodecyl ether), "Nonion EH-204" (polyoxyethylene 2-ethylhexyl ether) ), "Nonion EH-208" (polyoxyethylene 2-ethylhexyl ether), "Polyoxydispanol TOC", "Nonion ET-505", "Nonion ET-507", "Nonion ET-510", "Nonion ET". -512 "," Nonion ET-515 "," No ON ET-518 "(above, polyoxyethylene-polyoxypropylene-alkyl ether)," Unilube MS-70K "(polyoxypropylene stearyl ether)," Dispanol 16 "," Dispanol 16A "," Dispanol LS " -100 "," Nonion MN-811 "," Dispanor WI-106 "," Dispanor WI-115 "," Dispanor W1-133 ", etc. are mentioned.

また、株式会社アデカ製の「LB−220」、「LB−53B」、「LB−720」、「LB−820」、「LB−54C」、「LB−83」、「LB−93」、「LB−103」、「LB−1220」、「LB−1520」(以上、ポリオキシアルキレンラウリルエーテル)、「LA−675B、「LA−775」、「LA−875」、「LA−975」、「LA−1275」(以上、ポリオキシエチレンラウリルエーテル)、「OA−7」(ポリオキシエチレンオレイルエーテル)、「TN−40」、「TN−80」、「TN−100」、「TO−120」、「UA−70N」、「UA−90N」、「LO−3」、「LO−7」(以上、第1級アルコールエトキシレート)、「SO−80」、「SO−105」、「SO−120」、「SO−135」、「SO−145」、「SO−160」(以上、第2級アルコールエトキシレート)等が挙げられる。   In addition, "LB-220", "LB-53B", "LB-720", "LB-820", "LB-54C", "LB-83", "LB-93", and "LB-220" manufactured by ADEKA CORPORATION. "LB-103", "LB-1220", "LB-1520" (above, polyoxyalkylene lauryl ether), "LA-675B," LA-775 "," LA-875 "," LA-975 "," LA-1275 "(above, polyoxyethylene lauryl ether)," OA-7 "(polyoxyethylene oleyl ether)," TN-40 "," TN-80 "," TN-100 "," TO-120 ". , "UA-70N", "UA-90N", "LO-3", "LO-7" (above, primary alcohol ethoxylate), "SO-80", "SO-105", "SO-". 120 "," S -135 "," SO-145 "," SO-160 "(or, secondary alcohol ethoxylate), and the like.

エステル型としては、例えば、日油株式会社製の「ノニオン L−2」、「ノニオン L−4」(以上、ポリオキシエチレンモノラウレート)、「ノニオン S−2」、「ノニオン S−4」、「ノニオン S−6」、「ノニオン S−15」、「ノニオン S−15K」、「ノニオン S−15.4」、「ノニオン S−15.4V」、「ノニオン S−40」(以上、ポリオキシエチレンモノステアレート)、「ノニオン O−2」、「ノニオン O−3」、「ノニオン O−4」、「ノニオン O−6」(以上、ポリオキシエチレンモノオレート)等や、株式会社アデカ製の「OEG−102」(ポリオキシエチレンモノオレート)等が挙げられる。   Examples of the ester type include “NONION L-2”, “NONION L-4” (above, polyoxyethylene monolaurate), “NONION S-2”, and “NONION S-4” manufactured by NOF CORPORATION. , "NONION S-6", "NONION S-15", "NONION S-15K", "NONION S-15.4", "NONION S-15.4V", "NONION S-40" (above, poly Oxyethylene monostearate), "nonion O-2", "nonion O-3", "nonion O-4", "nonion O-6" (above, polyoxyethylene monooleate) and the like, manufactured by ADEKA CORPORATION "OEG-102" (polyoxyethylene monooleate) and the like.

ソルビタンエステル型としては、例えば、日油株式会社製の「ノニオン CP−08R」(ソルビタンモノカプリレート)、「食添ノニオンCP−08R」(ソルビタンモノカプリレート)、「ノニオン LP−20R」(ソルビタンモノラウレート)、「ノニオン LP−20R食添」(ソルビタンモノラウレート)、「ノニオン MP−30R」(ソルビタンモノミリステート)、「ノニオン PP−40Rペレット」(ソルビタンモノパルミテート)、「ノニオン SP−60Rペレット」(ソルビタンモノステアレート)、「ノニオン OP−80R」(ソルビタンモノオレート)、「ノニオン OP−83RAT」(ソルビタンセスキオレート)、「ノニオン OP−85R」(ソルビタントリオレート)等や、株式会社アデカ製の「S−20」(ソルビタンラウリルエステル)、「S−60」(ソルビタンステアリルエステル)、「S−80」(ソルビタンオレイルエステル)等が挙げられる。   Examples of the sorbitan ester type include “NONION CP-08R” (sorbitan monocaprylate), “Food additive nonion CP-08R” (sorbitan monocaprylate) and “NONION LP-20R” (sorbitan) manufactured by NOF CORPORATION. Monolaurate), "Nonion LP-20R food additive" (Sorbitan monolaurate), "Nonion MP-30R" (Sorbitan monomyristate), "Nonion PP-40R pellet" (Sorbitan monopalmitate), "Nonion SP" "-60R pellet" (sorbitan monostearate), "nonion OP-80R" (sorbitan monooleate), "nonion OP-83RAT" (sorbitan sesquioleate), "nonion OP-85R" (sorbitan trioleate), etc. Company "Adeka" S 20 "(sorbitan lauryl ester)," S-60 "(sorbitan stearyl ester)," S-80 "(sorbitan oleyl ester), and the like.

ソルビタンエスエル・エチレンオキシド付加型としては、例えば、日油株式会社製の「ノニオン LT−221」(ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート)、「ノニオン ST−221」(ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート)、「ノニオン OT−221」(ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート)、「ウィルサーフ TF−20」(ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート)、「ウィルサーフ TF−60」(ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート)、「ウィルサーフ TF−80」(ポリオキシエチレンソルビタン−モノオレート)等や、株式会社アデカ製の「T−81」(ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート)等が挙げられる。   Examples of the sorbitan S-ethylene oxide addition type include "NONION LT-221" (polyoxyethylene sorbitan monolaurate), "NONION ST-221" (polyoxyethylene sorbitan monostearate) manufactured by NOF CORPORATION. Nonion OT-221 "(polyoxyethylene sorbitan monooleate)," Willsurf TF-20 "(polyoxyethylene sorbitan monolaurate)," Willsurf TF-60 "(polyoxyethylene sorbitan monostearate)," Will " Surf TF-80 "(polyoxyethylene sorbitan monooleate) and the like," T-81 "(polyoxyethylene sorbitan monooleate) manufactured by ADEKA CORPORATION and the like can be mentioned.

ジエステル型としては、例えば、日油株式会社製の「ユニスター E−275」(エチレングリコールジステアレート)、「ノニオン DS−60HN」(ポリエチレングリコールジステアレート)、「ノニオン DO−4」(ポリエチレングリコールジオレート)、「ノニオン DO−6」(ポリエチレングリコールジオレート)、「ユニセーフ NKL−9520」(ポリプロピレングリコールジステアレート)「ユニセーフ NUL−6589」(ポリプロピレングリコールジサクシネート)等が挙げられる。   Examples of the diester type include "UNISTAR E-275" (ethylene glycol distearate), "NONION DS-60HN" (polyethylene glycol distearate), and "NONION DO-4" (polyethylene glycol) manufactured by NOF CORPORATION. Diole), "Nonion DO-6" (polyethylene glycol dioleate), "Unisafe NKL-9520" (polypropylene glycol distearate), "Unisafe NUL-6589" (polypropylene glycol disuccinate) and the like.

モノグリセライド型としては、例えば、日油株式会社製の「モノグリ D」(グリセリロールモノステアレート)、「モノグリ MB」(グリセリロールモノステアレート)、「モノグリ M−14」(グリセリロールモノミリステート)等が挙げられる。   Examples of the monoglyceride type include “Monoguri D” (glyceryl monostearate), “Monoguri MB” (glyceryl monostearate), and “Monoguri M-14” (glyceryl monomyristate) manufactured by NOF CORPORATION. Etc.

モノグリセライド・エチレンオキシド付加型としては、例えば、日油株式会社製の「ユニグリMK−207」(ポリオキシエチレンヤシ脂肪酸グリセリル)、「ユニグリMK−230」(ポリオキシエチレンヤシ脂肪酸グリセリル)、「ユニグリMK−278」(ポリオキシエチレンヤシ脂肪酸グリセリル)、株式会社アデカ製の「NK−3」、「NK−4」、「NK−7」(以上、グリセリドエチレンオキシド付加物)等が挙げられる。   Examples of the monoglyceride / ethylene oxide addition type include “UNIGURI MK-207” (polyoxyethylene coconut fatty acid glyceryl), “UNIGURI MK-230” (polyoxyethylene coconut fatty acid glyceryl), and “UNIGURI MK-” manufactured by NOF CORPORATION. 278 "(polyoxyethylene coconut fatty acid glyceryl)," NK-3 "," NK-4 "," NK-7 "(above, glyceride ethylene oxide adduct) manufactured by ADEKA CORPORATION.

トリグリセライド・エチレンオキシド付加型としては、例えば、日油株式会社製の「ユニオックス HC−8」、「ユニオックス HC−40」、「ユニオックス HC−60」(以上、ポリオキシエチレン硬化ひまし油)等が挙げられる。   Examples of the triglyceride / ethylene oxide addition type include “UNIOX HC-8”, “UNIOX HC-40”, “UNIOX HC-60” (above, polyoxyethylene hydrogenated castor oil) manufactured by NOF CORPORATION. Can be mentioned.

ソルビットエステル・エチレンオキシド付加型としては、例えば、日油株式会社製の「ユニオックス ST−30E」、「ユニオックス ST−40E」、「ユニオックス ST−60E」(以上、ポリオキシエチレンテトラオレイン酸)等が挙げられる。   Examples of the sorbit ester / ethylene oxide addition type include “UNIOX ST-30E”, “UNIOX ST-40E”, and “UNIOX ST-60E” (above, polyoxyethylene tetraoleic acid) manufactured by NOF CORPORATION. Etc.

ポリグリセリンアルキルエステル型としては、例えば、日油株式会社製の「ユニグリGO−102R」(ポリグリセリンオレイン酸エステル)、「ユニグリGO−106」(ポリグリセリンオレイン酸エステル)、「ユニグリGL−106」(ポリグリセリンラウリン酸エステル)、「ユニグリGS−106」(ポリグリセリンステアリン酸エステル)等が挙げられる。   Examples of the polyglycerin alkyl ester type include “UNIGURI GO-102R” (polyglycerin oleic acid ester), “UNIGURI GO-106” (polyglycerin oleic acid ester), and “UNIGLI GL-106” manufactured by NOF CORPORATION. (Polyglycerin lauric acid ester), "Unigli GS-106" (polyglycerin stearic acid ester), etc. are mentioned.

ポリエーテルアミン型としては、例えば、日油株式会社製の「ナイミーン L−201」(N−ヒドロキシエチルラウリルアミン)、「ナイミーン L−202」、「ナイミーン L−207」(以上、ポリオキシエチレンラウリルアミン)、「ナイミーン L−703」(ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン−ラウリルアミン)、「ナイミーン F−202」、「ナイミーン F−215」(以上、ポリオキシエチレンアルキル(ヤシ)アミン)、「ナイミーン S−202」、「ナイミーン S−204」、「ナイミーン S−210」、「ナイミーン S−215」、「ナイミーン S−220」(以上、ポリオキシエチレンステアリルアミン)、「ナイミーン O−205」(ポリオキシエチレンオレイルアミン)、「ナイミーン T2−202」、「ナイミーン T2−210」、「ナイミーン T2−230」(以上、ポリオキシエチレン牛脂アルキルアミン)、「ナイミーン T2−230」、「ナイミーン DT−203」、「ナイミーン DT−208」(ポリオキシエチレン−アルキルプロピレン−ジアミン)等が挙げられる。   As the polyether amine type, for example, “Nymeen L-201” (N-hydroxyethyllaurylamine), “Nymeen L-202”, “Nymeen L-207” (above, polyoxyethylene lauryl) manufactured by NOF CORPORATION. Amine), "Nymeen L-703" (polyoxyethylene-polyoxypropylene-laurylamine), "Nymeen F-202", "Nymeen F-215" (above, polyoxyethylene alkyl (coconut) amine), "Nymeen" "S-202", "Nymeen S-204", "Nymeen S-210", "Nymeen S-215", "Nymeen S-220" (above polyoxyethylene stearylamine), "Nymeen O-205" (polyene Oxyethylene oleylamine), "Nymeen 2-202 ”,“ Nymeen T2-210 ”,“ Nymeen T2-230 ”(above, polyoxyethylene tallow alkylamine),“ Nymeen T2-230 ”,“ Nymeen DT-203 ”,“ Nymeen DT-208 ”( And polyoxyethylene-alkylpropylene-diamine).

アルカノールアミド型としては、例えば、日油株式会社製の「スタホーム F」(ヤシ油脂肪酸ジエタノールアミド、1:2型)、「スタホーム T」(牛脂脂肪酸ジエタノールアミド、1:2型)、「スタホーム DL」(ラウリン酸ジエタノールアミド)、「スタホーム DF−1」、「スタホーム DF−2」、「スタホーム DF−4」、「スタホーム DFC」(以上、ヤシ油脂肪酸ジエタノールアミド)、「スタホーム DO」、「スタホーム DOS」(以上オレイン酸ジエタノールアミド)、「スタホーム MFペレット」(ヤシ油脂肪酸モノエタノールアミド)、「タホームLIPA」(ラウリン酸イソプロパノールアミド)等や、株式会社アデカ製の「CO」(ヤシ油脂肪酸ジエタノールアミド、1:2型)、「COA」(ヤシ油脂肪酸ジエタノールアミド、1:1型)が挙げられる。   Examples of the alkanolamide type include "STAFOAM F" (coconut oil fatty acid diethanolamide, 1: 2 type), "STAFOAM T" (beef tallow fatty acid diethanolamide, 1: 2 type) manufactured by NOF CORPORATION. Stahome DL "(lauric acid diethanolamide)," stahome DF-1 "," stahome DF-2 "," stahome DF-4 "," stahome DFC "(above, coconut oil fatty acid diethanolamide), "STAH HOME DO", "STAH HOME DOS" (above oleic acid diethanolamide), "STAH HOME MF pellets" (coconut oil fatty acid monoethanolamide), "Tahome LIPA" (lauric acid isopropanolamide), etc., and ADEKA CORPORATION Made "CO" (coconut oil fatty acid diethanolamide 1: 2 type), "COA" (coconut oil Fatty acid diethanolamide, 1: 1 type) and the like.

アルカノールアミド・エチレンオキシド付加型としては、例えば、日油株式会社製の「ナイミッド MF−203」、「ナイミッド MF−210」、「ナイミッド MT−215」(以上、ポリオキシエチレン脂肪酸−モノエタノールアミド)等が挙げられる。   Examples of the alkanolamide / ethylene oxide addition type include “Nymid MF-203”, “Nymid MF-210”, and “Nymid MT-215” (above, polyoxyethylene fatty acid-monoethanolamide) manufactured by NOF CORPORATION. Is mentioned.

アミンオキシド型としては、例えば、日油株式会社製の「ユニセーフ A−LM」(ジメチルラウリル−アミンオキシド水溶液)、「ユニセーフ A−SM」(ジメチルステアリル−アミンオキシド水溶液)、「ユニセーフ A−LE」(ジヒドロキシエチルラウリル−アミンオキシド水溶液)、「ユニセーフ WHS−10」(ジヒドロキシエチルラウリル−アミンオキシド水溶液)等が挙げられる。   Examples of the amine oxide type include “Unisafe A-LM” (dimethyllauryl-amine oxide aqueous solution), “Unisafe A-SM” (dimethylstearyl-amine oxide aqueous solution), and “Unisafe A-LE” manufactured by NOF CORPORATION. (Dihydroxyethyllauryl-amine oxide aqueous solution), "Unisafe WHS-10" (dihydroxyethyllauryl-amine oxide aqueous solution), etc. are mentioned.

ポリエチレングリコール・ポリプロピレングリコール・ブロックエーテル型(ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレン・ブロックポリマー型)としては、例えば、日油株式会社製の「プロノン#102」、「プロノン#104」、「プロノン#201」、「プロノン#202B」、「プロノン#204」、「プロノン#208」、「ユニルーブ70DP−600B」、「ユニルーブ70DP−950B」(以上、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン−ポリオキシエチレンブロックコポリマー)等や、株式会社アデカ製の「L−23」、「L−31」、「L−44」、「L−61」、「L−62」、「L−64」、「L−71」、「L−72」、「L−101」、「L−121」、「P−84」、「P−85」、「P−103」、「F−68」、「F−88」、「F−108」等(以上、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン−ポリオキシエチレンブロックコポリマー)、「25R−1」、「25R−2」、「17R−2」、「17R−3」、「17R−4」(以上、ポリオキシプロピレン−ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレンブロックコポリマー)等が挙げられる。   Examples of the polyethylene glycol / polypropylene glycol / block ether type (polyoxyethylene / polyoxypropylene / block polymer type) include, for example, "Pronon # 102", "Pronone # 104", and "Pronone # 201" manufactured by NOF CORPORATION. , "Pronone # 202B", "Pronone # 204", "Pronone # 208", "Unilube 70DP-600B", "Unilube 70DP-950B" (above, polyoxyethylene-polyoxypropylene-polyoxyethylene block copolymer), etc. And "L-23", "L-31", "L-44", "L-61", "L-62", "L-64", "L-71", and "L-23" manufactured by ADEKA CORPORATION. L-72 "," L-101 "," L-121 "," P-84 "," P-85 "," P-103 ", F-68 "," F-88 "," F-108 "and the like (above, polyoxyethylene-polyoxypropylene-polyoxyethylene block copolymer)," 25R-1 "," 25R-2 "," 17R- " 2 ”,“ 17R-3 ”,“ 17R-4 ”(above, polyoxypropylene-polyoxyethylene-polyoxypropylene block copolymer) and the like.

エチレンジアミンベース型としては、例えば、株式会社アデカ製の「TR−701」、「TR−702」、「TR−704」(以上、エチレンジアミンのポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポリマーの付加物)等が挙げられる。   Examples of the ethylenediamine base type include "TR-701", "TR-702", and "TR-704" (above, an adduct of ethylenediamine polyoxyethylene polyoxypropylene block copolymer). To be

なお、ポリエチレングリコールも本発明に好適なノニオン性界面活性剤である。ポリエチレングリコールは数平均分子量が150〜30,000が好ましく、200〜20,000がより好ましい。ポリエチレングリコールは市販品を使用することができ、例えば、株式会社アデカ製の「PEG−200」、「PEG−300」、「PEG−400」、「PEG−600」、「PEG−1000」、「PEG−1500」、「PEG−1540」、「PEG−4000」、「PEG−6000」、「PEG−20000」等が挙げられる。   In addition, polyethylene glycol is also a nonionic surfactant suitable for the present invention. The number average molecular weight of polyethylene glycol is preferably 150 to 30,000, more preferably 200 to 20,000. A commercially available product can be used as polyethylene glycol, and for example, "PEG-200", "PEG-300", "PEG-400", "PEG-600", "PEG-1000", "" manufactured by ADEKA CORPORATION. Examples thereof include PEG-1500, PEG-1540, PEG-4000, PEG-6000, and PEG-20000.

また、下記一般式(3)で表されるセグメントを有する化合物等のオキシアルキレン基又はポリオキシアルキレン基を有する側鎖を有する高分子化合物も本発明に好適なノニオン性界面活性剤である。   Further, a polymer compound having a side chain having an oxyalkylene group or a polyoxyalkylene group, such as a compound having a segment represented by the following general formula (3), is also a nonionic surfactant suitable for the present invention.

(式中、Aはアルキレン基を表し、Rは水素、アルキル基、又はアリール基を表し、nは1〜100の整数を表す。なお、A−Oで表されるオキシアルキレン基は、エチレンオキサイド基、プロピレンオキサイド基等の一種のオキシアルキレン基からなるものであってもよいし、エチレンオキサイド基とプロピレンオキサイド基との2種類等のような複数種類のオキシアルキレン基から構成されるものであってもよい。) (In the formula, A 1 represents an alkylene group, R 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and n represents an integer of 1 to 100. Note that the oxyalkylene group represented by A 1 -O is , An ethylene oxide group, a propylene oxide group or the like, or may be composed of a plurality of types of oxyalkylene groups such as two kinds of ethylene oxide group and propylene oxide group. It may be one.)

一般式(3)で表されるセグメントを有する化合物としては、市販されているものを使用することができ、具体的には、日油株式会社製のマリアリム(登録商標)シリーズ(一般式(3)で表されるセグメントと無水マレイン酸に由来するセグメントとスチレンに由来するセグメントとで構成される繰返し構造単位を有する高分子化合物)が挙げられる。かかるマリアリムシリーズとしては、「マリアリム AKM1511−60」、「マリアリム AKM0531」(一般式(3)で表されるセグメントと無水マレイン酸に由来するセグメントとスチレンに由来するセグメントとで構成される繰返し構造単位を有する高分子化合物であって、Aで表されるアルキレン基がエチレン基であり、Rで表される置換基がメチル基であり、nが11であるもの)、「マリアリム AFB−1521」(一般式(3)で表されるセグメントと無水マレイン酸に由来するセグメントとスチレンに由来するセグメントとで構成される繰返し構造単位を有する高分子化合物であって、Aで表されるアルキレン基がエチレン基であり、Rで表される置換基がエチル基であり、nが28であるもの)、「マリアリム A−60」、「マリアリム A−20」等が挙げられる。   As the compound having a segment represented by the general formula (3), a commercially available compound can be used, and specifically, a Marialim (registered trademark) series manufactured by NOF CORPORATION (the general formula (3 ), A polymer compound having a repeating structural unit composed of a segment derived from maleic anhydride and a segment derived from styrene). Such a Marialim series has a repeating structure composed of "Marialim AKM1511-60" and "Marialim AKM0531" (a segment represented by the general formula (3), a segment derived from maleic anhydride and a segment derived from styrene). A polymer compound having units, in which the alkylene group represented by A is an ethylene group, the substituent represented by R is a methyl group, and n is 11), "Marialim AFB-1521" (A polymer compound having a repeating structural unit composed of a segment represented by the general formula (3), a segment derived from maleic anhydride, and a segment derived from styrene, wherein the alkylene group represented by A is An ethylene group, the substituent represented by R is an ethyl group, and n is 28), "Marialim -60 "," MALIALIM A-20 ", and the like.

本発明において、ノニオン性界面活性剤は、ポリオキシアルキレン骨格を有するノニオン性界面活性剤が好ましく、ポリオキシアルキレン骨格を有するノニオン性界面活性剤におけるポリオキシアルキレン骨格は、ポリオキシエチレン骨格及び/又はポリオキシプロピレン骨格が好ましい。   In the present invention, the nonionic surfactant is preferably a nonionic surfactant having a polyoxyalkylene skeleton, and the polyoxyalkylene skeleton in the nonionic surfactant having a polyoxyalkylene skeleton is a polyoxyethylene skeleton and / or A polyoxypropylene skeleton is preferred.

本発明において、ノニオン性界面活性剤(ポリエチレングリコールを除く)の分子量に特に制限はないが、数平均分子量(Mn)が400以上であることが好ましい。また、数平均分子量(Mn)が50000以下が好ましく、20000以下がより好ましい。   In the present invention, the molecular weight of the nonionic surfactant (excluding polyethylene glycol) is not particularly limited, but the number average molecular weight (Mn) is preferably 400 or more. The number average molecular weight (Mn) is preferably 50,000 or less, more preferably 20,000 or less.

本発明における、ノニオン性界面活性剤の数平均分子量(Mn)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により測定された値を指す。GPCは、LC−9A/RID−6A(島津製作所製)を用い、カラムとして、Shodex K−800P/K−804L/K−804L(昭和電工(株)製)を、溶離液としてクロロホルム、THF(テトラヒドロフラン)等を用い、カラムオーブンの設定温度を40℃として測定する。数平均分子量(Mn)の算出には、標準ポリスチレンの検量線を用いる。   The number average molecular weight (Mn) of the nonionic surfactant in the present invention refers to a value measured by gel permeation chromatography (GPC). LC-9A / RID-6A (manufactured by Shimadzu Corp.) was used as the GPC, and Shodex K-800P / K-804L / K-804L (manufactured by Showa Denko KK) was used as a column, and chloroform and THF (eluents were used as eluents. (Tetrahydrofuran) and the like, and the setting temperature of the column oven is set to 40 ° C. for measurement. A calibration curve of standard polystyrene is used to calculate the number average molecular weight (Mn).

本発明において、ノニオン性界面活性剤は1種又は2種以上を使用できる。樹脂組成物におけるノニオン性界面活性剤の含有量は、(B)誘電体粉末の総質量に対し、好ましくは0.1〜10質量%、さらに好ましくは0.1〜3質量%である。   In the present invention, one kind or two or more kinds of nonionic surfactants can be used. The content of the nonionic surfactant in the resin composition is preferably 0.1 to 10% by mass, more preferably 0.1 to 3% by mass, based on the total mass of the (B) dielectric powder.

本発明の樹脂組成物において、(B)誘電体粉末は、(C)ノニオン性界面活性剤により処理されていることが好ましい。ここでいう「処理されている」とは、樹脂組成物ワニスの調製において、誘電体粉末(B)の表面がノニオン性界面活性剤(C)で一部または全体が被覆されることを意味する。樹脂組成物中で誘電体粉末(B)の表面がノニオン性界面活性剤(C)で一部または全体が被覆されていれば、どのような処理であっても、本願において「処理されている」に含まれるが、例えば、
1)誘電体粉末(B)を、エポキシ樹脂(A)等の樹脂成分と混合する前に、誘電体粉末(B)が予めノニオン性界面活性剤(C)と混合されること、
2)エポキシ樹脂(A)等の樹脂成分の少なくとも一部と、誘電体粉末(B)との共存下に、これらにノニオン性界面活性剤(C)が混合されること、
等を含む。
In the resin composition of the present invention, the (B) dielectric powder is preferably treated with (C) a nonionic surfactant. The term "treated" as used herein means that the surface of the dielectric powder (B) is partially or wholly coated with the nonionic surfactant (C) in the preparation of the resin composition varnish. . If the surface of the dielectric powder (B) is partially or entirely coated with the nonionic surfactant (C) in the resin composition, whatever the treatment, it is "treated" in the present application. ”, For example,
1) Before mixing the dielectric powder (B) with a resin component such as the epoxy resin (A), the dielectric powder (B) is previously mixed with the nonionic surfactant (C),
2) The nonionic surfactant (C) is mixed with at least a part of the resin component such as the epoxy resin (A) and the dielectric powder (B) in the coexistence thereof,
Including etc.

<(D)硬化剤>
本発明に使用する(D)硬化剤は、特に限定されないが、樹脂組成物の硬化物からなる絶縁層の絶縁信頼性、耐熱性、接着フィルムの保存安定性等観点から、フェノール系硬化剤、シアネートエステル系硬化剤および活性エステル系硬化剤から選択される1種又は2種以上を含むことが好ましい。
<(D) Curing agent>
The (D) curing agent used in the present invention is not particularly limited, but from the viewpoints of insulation reliability of an insulating layer made of a cured product of a resin composition, heat resistance, storage stability of an adhesive film, etc., a phenolic curing agent, It is preferable to include one or more selected from cyanate ester-based curing agents and active ester-based curing agents.

フェノール系硬化剤としては、特に制限はないが、ビフェニル型硬化剤、ナフタレン型硬化剤、フェノールノボラック型硬化剤、ナフチレンエーテル型硬化剤及びトリアジン骨格含有フェノール系硬化剤から選択される1種又は2種以上を用いることが好ましい。具体的には、ビフェニル型硬化剤である、MEH−7700、MEH−7810、MEH−7851(以上、いずれも明和化成(株)製)、ナフタレン型硬化剤である、NHN、CBN、GPH(以上、いずれも日本化薬(株)製)、SN170、SN180、SN190、SN475、SN485、SN495、SN375、SN395(以上、いずれも新日鐵化学(株)製)、EXB9500(DIC(株)製)、フェノールノボラック型硬化剤であるTD2090(DIC(株)製)、ナフチレンエーテル型硬化剤であるEXB−6000(DIC(株)製)、トリアジン骨格含有フェノール系硬化剤であるLA3018、LA7052、LA7054、LA1356(以上、いずれもDIC(株)製)等が挙げられる。これらは1種又は2種以上を使用することができる。   The phenol-based curing agent is not particularly limited, but is selected from biphenyl-type curing agents, naphthalene-type curing agents, phenol novolac-type curing agents, naphthylene ether-type curing agents, and triazine skeleton-containing phenol-type curing agents, or It is preferable to use two or more kinds. Specifically, biphenyl type curing agents, MEH-7700, MEH-7810, MEH-7851 (all are manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd.), naphthalene type curing agents, NHN, CBN, GPH (or more. , All manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., SN170, SN180, SN190, SN475, SN485, SN495, SN375, SN395 (all are manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.), EXB9500 (manufactured by DIC Co., Ltd.). , TD2090 (manufactured by DIC Corporation) which is a phenol novolac type curing agent, EXB-6000 (manufactured by DIC Corporation) which is a naphthylene ether type curing agent, and LA3018, LA7052, LA7054 which are triazine skeleton-containing phenol type curing agents. , LA1356 (all of which are manufactured by DIC Corporation) and the like. These can use 1 type (s) or 2 or more types.

シアネートエステル系硬化剤としては、特に制限はないが、ノボラック型(フェノールノボラック型、アルキルフェノールノボラック型など)シアネートエステル系硬化剤、ジシクロペンタジエン型シアネートエステル系硬化剤、ビスフェノール型(ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、ビスフェノールS型など)シアネートエステル系硬化剤、及びこれらが一部トリアジン化したプレポリマーなどが挙げられる。シアネートエステル系硬化剤の重量平均分子量は、特に限定されるものではないが、500〜4500が好ましく、600〜3000がより好ましい。シアネートエステル系硬化剤の具体例としては、例えば、ビスフェノールAジシアネート、ポリフェノールシアネート(オリゴ(3−メチレン−1,5−フェニレンシアネート)、4,4’−メチレンビス(2,6−ジメチルフェニルシアネート)、4,4’−エチリデンジフェニルジシアネート、ヘキサフルオロビスフェノールAジシアネート、2,2−ビス(4−シアネート)フェニルプロパン、1,1−ビス(4−シアネートフェニルメタン)、ビス(4−シアネート−3,5−ジメチルフェニル)メタン、1,3−ビス(4−シアネートフェニル−1−(メチルエチリデン))ベンゼン、ビス(4−シアネートフェニル)チオエーテル、ビス(4−シアネートフェニル)エーテル等の2官能シアネート樹脂、フェノールノボラック、クレゾールノボラック、ジシクロペンタジエン構造含有フェノール樹脂等から誘導される多官能シアネート樹脂、これらシアネート樹脂が一部トリアジン化したプレポリマーなどが挙げられる。これらは1種又は2種以上を使用できる。市販されているシアネートエステル樹脂としては、フェノールノボラック型多官能シアネートエステル樹脂(ロンザジャパン(株)製、PT30S、シアネート当量124)、ビスフェノールAジシアネートの一部又は全部がトリアジン化されて三量体となったプレポリマー(ロンザジャパン(株)製、BA230S、シアネート当量232)、ジシクロペンタジエン構造含有シアネートエステル樹脂(ロンザジャパン(株)製、DT−4000、DT−7000)等が挙げられる。   The cyanate ester curing agent is not particularly limited, but is a novolac type (phenol novolac type, alkylphenol novolac type, etc.) cyanate ester curing agent, dicyclopentadiene type cyanate ester curing agent, bisphenol type (bisphenol A type, bisphenol C type ester hardeners such as F type and bisphenol S type, and prepolymers obtained by partially converting these to triazine. The weight average molecular weight of the cyanate ester-based curing agent is not particularly limited, but is preferably 500 to 4500, more preferably 600 to 3000. Specific examples of the cyanate ester-based curing agent include bisphenol A dicyanate, polyphenol cyanate (oligo (3-methylene-1,5-phenylene cyanate), 4,4′-methylenebis (2,6-dimethylphenyl cyanate), 4,4′-ethylidene diphenyl dicyanate, hexafluorobisphenol A dicyanate, 2,2-bis (4-cyanate) phenyl propane, 1,1-bis (4-cyanate phenylmethane), bis (4-cyanate-3, Bifunctional cyanate resins such as 5-dimethylphenyl) methane, 1,3-bis (4-cyanatephenyl-1- (methylethylidene)) benzene, bis (4-cyanatephenyl) thioether, and bis (4-cyanatephenyl) ether. , Phenol novolac, Examples thereof include polyfunctional cyanate resins derived from resole novolacs, phenolic resins containing a dicyclopentadiene structure, prepolymers obtained by partially converting these cyanate resins into triazines, etc. These can be used alone or in combination of two or more. As the cyanate ester resin, a phenol novolac type polyfunctional cyanate ester resin (manufactured by Lonza Japan Co., Ltd., PT30S, cyanate equivalent 124), and a part or all of bisphenol A dicyanate are triazined to form a trimer. Examples include prepolymers (BA230S, cyanate equivalent 232, manufactured by Lonza Japan Co., Ltd.), cyanate ester resins containing a dicyclopentadiene structure (DT-4000, DT-7000, manufactured by Lonza Japan Co., Ltd.) and the like.

活性エステル系硬化剤としては、特に制限はないが、一般にフェノールエステル類、チオフェノールエステル類、N−ヒドロキシアミンエステル類、複素環ヒドロキシ化合物のエステル類等の反応活性の高いエステル基を1分子中に2個以上有する化合物が好ましく用いられる。当該活性エステル系硬化剤は、カルボン酸化合物及び/又はチオカルボン酸化合物とヒドロキシ化合物及び/又はチオール化合物との縮合反応によって得られるものが好ましい。特に耐熱性向上の観点から、カルボン酸化合物とヒドロキシ化合物とから得られる活性エステル系硬化剤が好ましく、カルボン酸化合物とフェノール化合物及び/又はナフトール化合物とから得られる活性エステル系硬化剤がより好ましい。カルボン酸化合物としては、例えば安息香酸、酢酸、コハク酸、マレイン酸、イタコン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ピロメリット酸等が挙げられる。フェノール化合物又はナフトール化合物としては、ハイドロキノン、レゾルシン、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フェノールフタリン、メチル化ビスフェノールA、メチル化ビスフェノールF、メチル化ビスフェノールS、フェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、カテコール、α−ナフトール、β−ナフトール、1,5−ジヒドロキシナフタレン、1,6−ジヒドロキシナフタレン、2,6−ジヒドロキシナフタレン、ジヒドロキシベンゾフェノン、トリヒドロキシベンゾフェノン、テトラヒドロキシベンゾフェノン、フロログルシン、ベンゼントリオール、ジシクロペンタジエニルジフェノール、フェノールノボラック等が挙げられる。活性エステル系硬化剤は1種又は2種以上を使用することができる。活性エステル系硬化剤として、具体的には、ジシクロペンタジエニルジフェノール構造を含む活性エステル系硬化剤、ナフタレン構造を含む活性エステル系硬化剤、フェノールノボラックのアセチル化物である活性エステル系硬化剤、フェノールノボラックのベンゾイル化物である活性エステル系硬化剤等が好ましく、なかでもピール強度の向上に優れるという点で、ジシクロペンタジエニルジフェノール構造を含む活性エステル系硬化剤がより好ましい。活性エステル系硬化剤としては、特開2004−277460号公報に開示されている活性エステル系硬化剤を用いてもよく、また市販のものを用いることもできる。市販品としてはジシクロペンタジエニルジフェノール構造を含むものとして、EXB9451、EXB9460、EXB9460S−65T、HPC8000−65T(以上、いずれもDIC(株)製、活性基当量約223)、フェノールノボラックのアセチル化物である活性エステル系硬化剤として、DC808(三菱化学(株)製、活性基当量約149)、フェノールノボラックのベンゾイル化物である活性エステル系硬化剤として、YLH1026(三菱化学(株)製、活性基当量約200)、YLH1030(三菱化学(株)製、活性基当量約201)、YLH1048(三菱化学(株)製、活性基当量約245)等が挙げられる。   The active ester-based curing agent is not particularly limited, but in general, an ester group having a high reaction activity such as phenol ester, thiophenol ester, N-hydroxyamine ester, and ester of heterocyclic hydroxy compound is contained in one molecule. Compounds having two or more of them are preferably used. The active ester type curing agent is preferably obtained by a condensation reaction of a carboxylic acid compound and / or a thiocarboxylic acid compound with a hydroxy compound and / or a thiol compound. In particular, from the viewpoint of improving heat resistance, an active ester type curing agent obtained from a carboxylic acid compound and a hydroxy compound is preferable, and an active ester type curing agent obtained from a carboxylic acid compound and a phenol compound and / or a naphthol compound is more preferable. Examples of the carboxylic acid compound include benzoic acid, acetic acid, succinic acid, maleic acid, itaconic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid and pyromellitic acid. Examples of the phenol compound or naphthol compound include hydroquinone, resorcin, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, phenolphthaline, methylated bisphenol A, methylated bisphenol F, methylated bisphenol S, phenol, o-cresol, m-cresol, p-cresol, catechol, α-naphthol, β-naphthol, 1,5-dihydroxynaphthalene, 1,6-dihydroxynaphthalene, 2,6-dihydroxynaphthalene, dihydroxybenzophenone, trihydroxybenzophenone, tetrahydroxybenzophenone, phloroglucin, benzenetriol , Dicyclopentadienyl diphenol, phenol novolac and the like. The active ester curing agent may be used alone or in combination of two or more. As the active ester-based curing agent, specifically, an active ester-based curing agent containing a dicyclopentadienyl diphenol structure, an active ester-based curing agent containing a naphthalene structure, an active ester-based curing agent that is an acetylated product of phenol novolac. An active ester-based curing agent that is a benzoylated product of phenol novolac is preferable, and an active ester-based curing agent containing a dicyclopentadienyldiphenol structure is more preferable because of its excellent improvement in peel strength. As the active ester curing agent, the active ester curing agent disclosed in JP-A-2004-277460 may be used, or a commercially available one may be used. As commercial products, those containing a dicyclopentadienyl diphenol structure, such as EXB9451, EXB9460, EXB9460S-65T, HPC8000-65T (all of which are manufactured by DIC Corporation, active group equivalent: 223), acetyl of phenol novolac. As an active ester-based curing agent that is a compound, DC808 (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd., active group equivalent: about 149), as an active ester-based curing agent that is a benzoyl compound of phenol novolac, YLH1026 (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., active Group equivalent of about 200), YLH1030 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, active group equivalent of about 201), YLH1048 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, active group equivalent of about 245) and the like.

ジシクロペンタジエニルジフェノール構造を含む活性エステル系硬化剤として、より具体的には下式(I)の化合物が挙げられる。   More specifically, examples of the active ester type curing agent containing a dicyclopentadienyl diphenol structure include compounds of the following formula (I).

(式中、Rはアリール基であり、kは0又は1を表し、nは繰り返し単位の平均で0.05〜2.5である。) (In the formula, R represents an aryl group, k represents 0 or 1, and n is an average of repeating units of 0.05 to 2.5.)

Rのアリール基としては、フェニル基、ナフチル基が挙げられ、硬化物の耐熱性を向上させるという観点から、Rはナフチル基が好ましく、一方、kは0が好ましく、また、nは0.25〜1.5が好ましい。   Examples of the aryl group of R include a phenyl group and a naphthyl group, and from the viewpoint of improving the heat resistance of the cured product, R is preferably a naphthyl group, while k is preferably 0 and n is 0.25. ~ 1.5 is preferred.

(D)硬化剤は1種又は2種以上を組み合わせて使用でき、(D)硬化剤の含有量は、樹脂組成物の硬化物からなる絶縁層の基材および導体回路との密着性、機械的強度等の観点から、樹脂組成物中の不揮発成分を100質量%とした場合、20質量%以下が好ましく、15質量%以下がより好ましい。   The (D) curing agent can be used alone or in combination of two or more, and the content of the (D) curing agent is determined by the adhesion of the insulating layer made of the cured product of the resin composition to the base material and the conductor circuit, and the mechanical property. From the viewpoint of dynamic strength and the like, when the nonvolatile component in the resin composition is 100% by mass, 20% by mass or less is preferable, and 15% by mass or less is more preferable.

樹脂組成物における、エポキシ樹脂のエポキシ基の合計数と、硬化剤の反応基の合計数との比は、1:0.2〜1:2が好ましく、1:0.25〜1:1.5がより好ましく、1:0.3〜1:1が更に好ましい。エポキシ樹脂のエポキシ基の合計数とは、樹脂組成物中に存在する各エポキシ樹脂の固形分質量をエポキシ当量で除した値をすべてのエポキシ樹脂について合計した値であり、硬化剤の反応基の合計数とは、樹脂組成物中に存在する各硬化剤の固形分質量を反応基当量で除した値をすべての硬化剤について合計した値である。   The ratio of the total number of epoxy groups of the epoxy resin and the total number of reactive groups of the curing agent in the resin composition is preferably 1: 0.2 to 1: 2, and 1: 0.25 to 1: 1. 5 is more preferable, and 1: 0.3-1: 1 is still more preferable. The total number of epoxy groups of the epoxy resin, the value obtained by dividing the solid content mass of each epoxy resin present in the resin composition by the epoxy equivalent is a total value for all epoxy resins, the reactive group of the curing agent. The total number is a value obtained by summing the values obtained by dividing the solid content mass of each curing agent present in the resin composition by the reactive group equivalent for all curing agents.

(E)高分子樹脂
本発明の樹脂組成物には、さらに高分子樹脂を含有させることができる。高分子樹脂を含有させることにより、硬化物の機械強度を向上させることができる。また、樹脂組成物を接着フィルムの形態で使用する場合のフィルム成型能を向上させることができる。かかる高分子樹脂としては、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリエステル樹脂を挙げることができ、なかでも、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール樹脂が好ましく、フェノキシ樹脂がより好ましい。高分子樹脂は1種又は2種以上を使用できる。
(E) Polymer Resin The polymer composition of the present invention may further contain a polymer resin. By including the polymer resin, the mechanical strength of the cured product can be improved. Further, when the resin composition is used in the form of an adhesive film, the film forming ability can be improved. Examples of the polymer resin include phenoxy resin, polyvinyl acetal resin, polyimide resin, polyamideimide resin, polyetherimide resin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyphenylene ether resin, polycarbonate resin, polyetheretherketone resin, and polyester resin. Among them, phenoxy resin and polyvinyl acetal resin are preferable, and phenoxy resin is more preferable. The polymer resin may be used alone or in combination of two or more.

高分子樹脂の重量平均分子量は8000〜200000の範囲であるのが好ましく、12000〜100000の範囲がより好ましく、20000〜60000の範囲が更に好ましい。なお、本発明における重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法(ポリスチレン換算)で測定される。GPC法による重量平均分子量は、具体的には、測定装置として(株)島津製作所製LC−9A/RID−6Aを、カラムとして昭和電工(株)社製Shodex K−800P/K−804L/K−804Lを、移動相としてクロロホルム等を用いて、カラム温度40℃にて測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて算出することができる。   The weight average molecular weight of the polymer resin is preferably in the range of 8,000 to 200,000, more preferably in the range of 12,000 to 100,000, and even more preferably in the range of 20,000 to 60,000. The weight average molecular weight in the present invention is measured by a gel permeation chromatography (GPC) method (polystyrene conversion). The weight average molecular weight by the GPC method is specifically LC-9A / RID-6A manufactured by Shimadzu Corporation as a measuring device and Shodex K-800P / K-804L / K manufactured by Showa Denko KK as a column. -804L can be measured by using chloroform as a mobile phase at a column temperature of 40 ° C and using a calibration curve of standard polystyrene.

樹脂組成物に高分子樹脂を配合する場合には、高分子樹脂の量は樹脂組成物中の不揮発成分全体に対して0.1〜10質量%が好ましく、0.5〜5質量%がより好ましい。この範囲内であると、樹脂組成物のフィルム成型能や硬化物の機械強度向上の効果が発揮される。   When the polymer resin is added to the resin composition, the amount of the polymer resin is preferably 0.1 to 10% by mass, more preferably 0.5 to 5% by mass, based on the whole nonvolatile components in the resin composition. preferable. Within this range, the effect of improving the film molding ability of the resin composition and the mechanical strength of the cured product is exhibited.

(F)硬化促進剤
本発明の樹脂組成物には、さらに硬化促進剤を含有させることにより、エポキシ樹脂と硬化剤を効率的に硬化させることができる。硬化促進剤としては、特に限定されないが、アミン系硬化促進剤、グアニジン系硬化促進剤、イミダゾール系硬化促進剤、ホスホニウム系硬化促進剤、金属系硬化促進剤等が挙げられる。これらは1種又は2種以上を組み合わせて使用してもよい。
(F) Curing accelerator The epoxy resin and the curing agent can be efficiently cured by further containing a curing accelerator in the resin composition of the present invention. The curing accelerator is not particularly limited, and examples thereof include an amine curing accelerator, a guanidine curing accelerator, an imidazole curing accelerator, a phosphonium curing accelerator, and a metal curing accelerator. These may be used alone or in combination of two or more.

アミン系硬化促進剤としては、特に限定されるものではないが、トリエチルアミン、トリブチルアミンなどのトリアルキルアミン、4−ジメチルアミノピリジン、ベンジルジメチルアミン、2,4,6,−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)−ウンデセン(以下、DBUと略記する。)などのアミン化合物などが挙げられる。これらは1種または2種以上を組み合わせて使用してもよい。   The amine curing accelerator is not particularly limited, but trialkylamine such as triethylamine and tributylamine, 4-dimethylaminopyridine, benzyldimethylamine, 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl). Examples thereof include amine compounds such as phenol and 1,8-diazabicyclo (5,4,0) -undecene (hereinafter abbreviated as DBU). These may be used alone or in combination of two or more.

グアニジン系硬化促進剤としては、特に限定されるものではないが、ジシアンジアミド、1−メチルグアニジン、1−エチルグアニジン、1−シクロヘキシルグアニジン、1−フェニルグアニジン、1−(o−トリル)グアニジン、ジメチルグアニジン、ジフェニルグアニジン、トリメチルグアニジン、テトラメチルグアニジン、ペンタメチルグアニジン、1,5,7−トリアザビシクロ[4.4.0]デカ−5−エン、7−メチル−1,5,7−トリアザビシクロ[4.4.0]デカ−5−エン、1−メチルビグアニド、1−エチルビグアニド、1−n−ブチルビグアニド、1−n−オクタデシルビグアニド、1,1−ジメチルビグアニド、1,1−ジエチルビグアニド、1−シクロヘキシルビグアニド、1−アリルビグアニド、1−フェニルビグアニド、1−(o−トリル)ビグアニド等が挙げられる。これらは1種または2種以上を組み合わせて使用してもよい。   The guanidine curing accelerator is not particularly limited, but includes dicyandiamide, 1-methylguanidine, 1-ethylguanidine, 1-cyclohexylguanidine, 1-phenylguanidine, 1- (o-tolyl) guanidine, dimethylguanidine. , Diphenylguanidine, trimethylguanidine, tetramethylguanidine, pentamethylguanidine, 1,5,7-triazabicyclo [4.4.0] dec-5-ene, 7-methyl-1,5,7-triazabicyclo [4.4.0] Deca-5-ene, 1-methyl biguanide, 1-ethyl biguanide, 1-n-butyl biguanide, 1-n-octadecyl biguanide, 1,1-dimethyl biguanide, 1,1-diethyl biguanide , 1-cyclohexyl biguanide, 1-allyl biguanide, 1-fe Rubiguanido, 1-(o-tolyl) biguanide, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

イミダゾール系硬化促進剤としては、特に限定されるものではないが、2−メチルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテイト、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾリウムトリメリテイト、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−ウンデシルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−エチル−4’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジンイソシアヌル酸付加物、2−フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5ヒドロキシメチルイミダゾール、2,3−ジヒドロ−1H−ピロロ[1,2−a]ベンズイミダゾール、1−ドデシル−2−メチル−3−ベンジルイミダゾリウムクロライド、2−メチルイミダゾリン、2−フェニルイミダゾリン等のイミダゾール化合物及びイミダゾール化合物とエポキシ樹脂とのアダクト体が挙げられる。これらは1種または2種以上を組み合わせて使用してもよい。   The imidazole-based curing accelerator is not particularly limited, 2-methylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 1,2-Dimethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 1- Cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazolium tri Meritate 1-Cyanoethyl-2-phenylimidazolium trimellitate, 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1 ')]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2 '-Undecylimidazolyl- (1')]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2'-ethyl-4'-methylimidazolyl- (1 ')]-ethyl-s-triazine, 2,4-Diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1 ')]-ethyl-s-triazine isocyanuric acid adduct, 2-phenylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethyl Imidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2,3-dihydro-1H-pyrrolo [1,2-a] benzimidazole, 1 Dodecyl-2-methyl-3-benzyl-imidazolium chloride, 2-methyl-imidazoline, adduct of 2-phenyl-imidazo imidazole compounds such as phosphorus and imidazole compound and an epoxy resin. These may be used alone or in combination of two or more.

ホスホニウム系硬化促進剤としては、特に限定されるものではないが、トリフェニルホスフィン、ホスホニウムボレート化合物、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、n−ブチルホスホニウムテトラフェニルボレート、テトラブチルホスホニウムデカン酸塩、(4−メチルフェニル)トリフェニルホスホニウムチオシアネート、テトラフェニルホスホニウムチオシアネート、ブチルトリフェニルホスホニウムチオシアネート等が挙げられる。これらは1種または2種以上を組み合わせて使用してもよい。   The phosphonium-based curing accelerator is not particularly limited, but includes triphenylphosphine, phosphonium borate compound, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, n-butylphosphonium tetraphenylborate, tetrabutylphosphonium decanoate, (4- Methylphenyl) triphenylphosphonium thiocyanate, tetraphenylphosphonium thiocyanate, butyltriphenylphosphonium thiocyanate and the like can be mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.

樹脂組成物に硬化促進剤(金属系硬化促進剤を除く)を配合する場合には、エポキシ樹脂と硬化剤の合計量100質量部に対して、0.005〜1質量部の範囲が好ましく、0.01〜0.5質量部の範囲がより好ましい。この範囲内であると、熱硬化をより効率的にでき、ワニスの保存安定性も向上する。   When a curing accelerator (excluding a metal-based curing accelerator) is added to the resin composition, the range of 0.005 to 1 part by mass is preferable with respect to 100 parts by mass of the total amount of the epoxy resin and the curing agent, The range of 0.01 to 0.5 parts by mass is more preferable. Within this range, the thermosetting can be made more efficient and the storage stability of the varnish is improved.

金属系硬化促進剤としては、特に限定されるものではないが、コバルト、銅、亜鉛、鉄、ニッケル、マンガン、スズ等の金属の、有機金属錯体又は有機金属塩が挙げられる。有機金属錯体の具体例としては、コバルト(II)アセチルアセトナート、コバルト(III)アセチルアセトナート等の有機コバルト錯体、銅(II)アセチルアセトナート等の有機銅錯体、亜鉛(II)アセチルアセトナート等の有機亜鉛錯体、鉄(III)アセチルアセトナート等の有機鉄錯体、ニッケル(II)アセチルアセトナート等の有機ニッケル錯体、マンガン(II)アセチルアセトナート等の有機マンガン錯体などが挙げられる。有機金属塩としては、オクチル酸亜鉛、オクチル酸錫、ナフテン酸亜鉛、ナフテン酸コバルト、ステアリン酸スズ、ステアリン酸亜鉛などが挙げられる。これらは1種又は2種以上を組み合わせて使用してもよい。   The metal-based curing accelerator is not particularly limited, and examples thereof include organic metal complexes or organic metal salts of metals such as cobalt, copper, zinc, iron, nickel, manganese, and tin. Specific examples of the organometallic complex include organic cobalt complexes such as cobalt (II) acetylacetonate and cobalt (III) acetylacetonate, organic copper complexes such as copper (II) acetylacetonate, and zinc (II) acetylacetonate. And the like, organic iron complexes such as iron (III) acetylacetonate, organic nickel complexes such as nickel (II) acetylacetonate, and organic manganese complexes such as manganese (II) acetylacetonate. Examples of the organic metal salt include zinc octylate, tin octylate, zinc naphthenate, cobalt naphthenate, tin stearate, and zinc stearate. These may be used alone or in combination of two or more.

樹脂組成物に金属系硬化促進剤を配合する場合には、樹脂組成物中の不揮発成分全体当たり、金属系硬化触媒に基づく金属の含有量が25〜500ppmの範囲が好ましく、40〜200ppmの範囲がより好ましい。この範囲内であると、絶縁層表面への密着性により優れる導体層が形成され、ワニスの保存安定性も向上する。   When a metal-based curing accelerator is added to the resin composition, the content of the metal based on the metal-based curing catalyst is preferably in the range of 25 to 500 ppm, and preferably in the range of 40 to 200 ppm, based on the entire nonvolatile components in the resin composition. Is more preferable. Within this range, a conductor layer having excellent adhesion to the surface of the insulating layer is formed and the storage stability of the varnish is also improved.

本発明の樹脂組成物には、本発明の効果を損なわない範囲で、必要に応じて、上記(A)〜(F)成分以外の他の成分を配合することができる。他の成分としては、ビニルベンジル化合物、アクリル化合物、マレイミド化合物、ブロックイソシアネート化合物のような熱硬化性樹脂;シリコーンパウダー、ナイロンパウダー、フッ素樹脂パウダー、ゴム粒子等の有機充填剤;シリカ、アルミナ、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、ホウ酸亜鉛、ホウ酸アルミニウム、酸化アンチモン、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、酸化マグネシウム、窒化ホウ素等の無機充填剤;オルベン、ベントン等の増粘剤、シリコーン系、フッ素系、高分子系の消泡剤又はレベリング剤;フタロシアニン・ブルー、フタロシアニン・グリーン、アイオジン・グリーン、ジスアゾイエロー、カーボンブラック等の着色剤;リン系化合物、金属水酸化物等の難燃剤等を挙げることができる。   If necessary, the resin composition of the present invention may contain components other than the above-mentioned components (A) to (F) within a range that does not impair the effects of the present invention. Other components include thermosetting resins such as vinylbenzyl compounds, acrylic compounds, maleimide compounds, blocked isocyanate compounds; organic fillers such as silicone powder, nylon powder, fluororesin powder, rubber particles; silica, alumina, water. Inorganic fillers such as aluminum oxide, magnesium hydroxide, aluminum hydroxide, zinc borate, aluminum borate, antimony oxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, magnesium oxide, and boron nitride; thickeners such as Orben and Benton, silicone-based agents , Fluorine-based, polymer-based defoaming agents or leveling agents; phthalocyanine blue, phthalocyanine green, iodin green, disazo yellow, carbon black, and other coloring agents; phosphorus compounds, flame retardants such as metal hydroxides, etc. To list It can be.

樹脂組成物が無機充填材を含有する場合、無機充填材の平均粒径は、特に限定されないが、充填性、絶縁信頼性等の観点から、10μm以下が好ましく、5μm以下がより好ましく、2μm以下が更に好ましい。一方、樹脂組成物をワニスとした場合に、ワニスの粘度が上昇し、取り扱い性が低下するのを防止するという観点から、0.01μm以上が好ましく、0.03μm以上がより好ましく、0.05μm以上が更に好ましい。無機充填材の平均粒径はミー(Mie)散乱理論に基づくレーザー回折・散乱法により測定することができる。具体的にはレーザー回折散乱式粒度分布測定装置により、無機充填材の粒度分布を体積基準で作成し、そのメディアン径を平均粒径とすることで測定することができる。レーザー回折散乱式粒度分布測定装置としては、(株)堀場製作所製 LA−950等を使用することができる。   When the resin composition contains an inorganic filler, the average particle diameter of the inorganic filler is not particularly limited, but from the viewpoint of filling property, insulation reliability, etc., 10 μm or less is preferable, 5 μm or less is more preferable, and 2 μm or less Is more preferable. On the other hand, when the resin composition is a varnish, 0.01 μm or more is preferable, 0.03 μm or more is more preferable, and 0.05 μm or more from the viewpoint of preventing the viscosity of the varnish from increasing and the handleability from decreasing. The above is more preferable. The average particle diameter of the inorganic filler can be measured by a laser diffraction / scattering method based on Mie scattering theory. Specifically, the particle size distribution of the inorganic filler can be created on a volume basis using a laser diffraction / scattering particle size distribution measuring device, and the median diameter can be used as the average particle diameter for measurement. As the laser diffraction / scattering type particle size distribution measuring device, LA-950 manufactured by Horiba Ltd. can be used.

本発明の樹脂組成物は、上記成分を適宜混合し、また、必要に応じて三本ロール、ボールミル、ビーズミル、サンドミル等の混練手段、あるいはスーパーミキサー、プラネタリーミキサー等の撹拌手段により混練または混合することにより調製される。また、樹脂組成物は、上記成分を有機溶剤に溶解乃至分散させることで、ワニスとして調製することができ、また、有機溶剤を加えることなく調製された樹脂組成物にさらに有機溶剤を加えることでワニスとして調製することもできる。ワニスは有機溶剤の含有量がワニス全体当たり15〜60質量%であるの好ましく、20〜50質量%であるのがより好ましい。   The resin composition of the present invention is prepared by appropriately mixing the above components, and if necessary, kneading or mixing by a kneading means such as a three-roll, a ball mill, a bead mill, a sand mill, or a stirring means such as a super mixer or a planetary mixer. It is prepared by Further, the resin composition can be prepared as a varnish by dissolving or dispersing the above components in an organic solvent, and by further adding an organic solvent to the resin composition prepared without adding an organic solvent. It can also be prepared as a varnish. The content of the organic solvent in the varnish is preferably 15 to 60% by mass, and more preferably 20 to 50% by mass, based on the entire varnish.

本発明の樹脂組成物は、熱硬化してなる硬化物として使用することができる。熱硬化の条件は、樹脂組成物中の樹脂成分の種類、含有量などに応じて適宜選択すればよいが、好ましくは90℃〜220℃で20分〜180分、より好ましくは150℃〜210℃で30〜120分の範囲で選択される。また、2段階以上に分けて熱硬化を行ってもよい。本発明の樹脂組成物の硬化物は比誘電率(23℃)が5以上の高誘電率の絶縁体となる。従って、本発明の樹脂組成物の硬化物を2つの導体層の間に介在させることで、高容量のコンデンサを形成することができる。   The resin composition of the present invention can be used as a cured product obtained by thermosetting. The conditions for thermosetting may be appropriately selected depending on the type and content of the resin component in the resin composition, but preferably 90 ° C to 220 ° C for 20 minutes to 180 minutes, more preferably 150 ° C to 210 ° C. It is selected in the range of 30 to 120 minutes at ° C. Further, the heat curing may be performed in two or more stages. The cured product of the resin composition of the present invention becomes an insulator having a high dielectric constant with a relative dielectric constant (23 ° C.) of 5 or more. Therefore, a high-capacity capacitor can be formed by interposing the cured product of the resin composition of the present invention between the two conductor layers.

ここで、比誘電率は、空洞共振法による測定周波数5.8GHz、測定温度23℃での測定値である。測定装置としては、例えば、関東応用電子開発(株)製空洞共振器摂動法誘電率測定装置CP521、アジレントテクノロジー(株)製ネットワークアナライザーE8362B等を用いることができる。   Here, the relative permittivity is a value measured at a measurement frequency of 5.8 GHz and a measurement temperature of 23 ° C. by the cavity resonance method. As the measuring device, for example, a cavity resonator perturbation method dielectric constant measuring device CP521 manufactured by Kanto Applied Electronics Development Co., Ltd., a network analyzer E8362B manufactured by Agilent Technology Co., Ltd., or the like can be used.

また、硬化物は、25℃から150℃までの平均線熱膨張率が3〜60ppm(好ましくは3〜40ppm)である。   The cured product has an average coefficient of linear thermal expansion of 3 to 60 ppm (preferably 3 to 40 ppm) from 25 ° C to 150 ° C.

<シート状積層材料>
本発明の樹脂組成物はワニス状態で回路基板に塗布することで絶縁層形成に供することもできるが、工業的には、接着フィルム、プリプレグ等のシート状材料の形態にして絶縁層形成に供するのが好ましい。すなわち、本発明の樹脂組成物を用いた接着フィルム、プリプレグ等を作製し、かかる接着フィルム、プリプレグ等を回路基板にラミネート(積層)して、絶縁層形成を行うのが好ましい。なお、本発明の樹脂組成物を用いた接着フィルム、プリプレグ等のシート状材料は回路基板にラミネート(積層)して使用することから、「シート状積層材料」と呼ぶこととする。
<Sheet-like laminated material>
The resin composition of the present invention can be used for forming an insulating layer by applying it to a circuit board in a varnish state, but industrially, it is used for forming an insulating layer in the form of a sheet material such as an adhesive film or prepreg. Is preferred. That is, it is preferable that an adhesive film, a prepreg or the like is produced using the resin composition of the present invention, and the adhesive film, the prepreg or the like is laminated on a circuit board to form an insulating layer. Since sheet-like materials such as adhesive films and prepregs using the resin composition of the present invention are used after being laminated (laminated) on a circuit board, they will be referred to as “sheet-like laminated materials”.

(接着フィルム)
本発明の接着フィルムは、支持体層上に本発明の樹脂組成物による樹脂組成物層が形成されたものであり、当業者に公知の方法、例えば、有機溶剤に樹脂組成物が溶解乃至分散したワニスを、ダイコーターなどを用いて、支持体層に塗布し、更に加熱、あるいは熱風吹きつけ等により有機溶剤を乾燥させて支持体層上に樹脂組成物層を形成させることにより製造することができる。
(Adhesive film)
The adhesive film of the present invention is a resin composition layer formed by the resin composition of the present invention on a support layer, a method known to those skilled in the art, for example, the resin composition is dissolved or dispersed in an organic solvent. The varnish prepared above is applied to the support layer using a die coater or the like, and further, the organic solvent is dried by heating or blowing hot air to form a resin composition layer on the support layer. You can

有機溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、カルビトールアセテート等の酢酸エステル類、セロソルブ、ブチルカルビトール等のカルビトール類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等のアミド系溶媒等を挙げることができる。有機溶剤は1種または2種以上を組みわせて用いてもよい。   Examples of the organic solvent include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and cyclohexanone, ethyl acetate, butyl acetate, acetic acid esters such as cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate and carbitol acetate, carbitol such as cellosolve and butyl carbitol. And aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, amide solvents such as dimethylformamide, dimethylacetamide and N-methylpyrrolidone. The organic solvent may be used alone or in combination of two or more.

乾燥条件は特に限定されないが、樹脂組成物層への有機溶剤の含有量が10質量%以下、好ましくは5質量%以下となるように乾燥させる。ワニス中の有機溶剤量、有機溶剤の沸点によっても異なるが、例えば30〜60質量%の有機溶剤を含むワニスを50〜150℃で3〜10分程度乾燥させることにより、樹脂組成物層を形成することができる。   The drying conditions are not particularly limited, but the resin composition layer is dried so that the content of the organic solvent in the resin composition layer is 10% by mass or less, preferably 5% by mass or less. Although it varies depending on the amount of organic solvent in the varnish and the boiling point of the organic solvent, for example, a resin composition layer is formed by drying a varnish containing 30 to 60% by mass of an organic solvent at 50 to 150 ° C. for about 3 to 10 minutes. can do.

接着フィルムにおいて形成される樹脂組成物層の厚さは、特に限定されないが、静電容量を高めるという観点および基板の薄膜化の観点から樹脂組成物層は100μm以下の厚さを有するのが好ましい。薄膜化の観点から、50μm以下がより好ましく、30μm以下が更に好ましい。   The thickness of the resin composition layer formed in the adhesive film is not particularly limited, but it is preferable that the resin composition layer has a thickness of 100 μm or less from the viewpoint of increasing the capacitance and reducing the thickness of the substrate. . From the viewpoint of thinning, the thickness is more preferably 50 μm or less, further preferably 30 μm or less.

支持体層としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル等のポリオレフィンのフィルム、ポリエチレンテレフタレート(以下、「PET」と略称することがある。)、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルのフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリイミドフィルムなどの各種プラスチックフィルム、離型紙、銅箔およびアルミニウム箔等の金属箔、または、離型処理が施された剥離性プラスチックフィルムに金属蒸着層(例えば銅蒸着層等)が形成された金属蒸着フィルムが挙げられる。支持体層には、マット処理、コロナ処理等の表面処理が施してあってもよい。また、シリコーン樹脂系離型剤、アルキッド樹脂系離型剤、フッ素樹脂系離型剤等の離型剤で離型処理が施してあってもよい。支持体層が、金属箔、金属蒸着フィルムである場合、金属箔、金属蒸着層はコンデンサの一方の電極を形成し得る。   As the support layer, a film of polyolefin such as polyethylene, polypropylene or polyvinyl chloride, a film of polyethylene terephthalate (hereinafter sometimes abbreviated as “PET”), a film of polyester such as polyethylene naphthalate, a polycarbonate film, a polyimide film Various plastic films such as, release paper, metal foil such as copper foil and aluminum foil, or metal vapor deposition film in which a metal vapor deposition layer (for example, copper vapor deposition layer) is formed on a releasable plastic film subjected to release treatment. Is mentioned. The support layer may be subjected to surface treatment such as matte treatment and corona treatment. Further, the release treatment may be performed with a release agent such as a silicone resin release agent, an alkyd resin release agent, or a fluororesin release agent. When the support layer is a metal foil or a metal vapor deposition film, the metal foil or the metal vapor deposition layer can form one electrode of the capacitor.

プラスチックフィルムの厚さは特に限定されないが、10〜150μmが好ましく、25〜50μmがより好ましい。   The thickness of the plastic film is not particularly limited, but is preferably 10 to 150 μm, more preferably 25 to 50 μm.

金属箔は、特に銅箔が好適であり、銅箔としては、電解銅箔、圧延銅箔等の他、キャリア付きの極薄銅箔などを用いることができる。銅箔の厚さは9〜35μmが好ましく、より好ましくは12〜18μmである。キャリア付きの極薄銅箔における極薄銅箔の厚さは1〜5μmが好ましい。また、金属蒸着フィルムの場合、蒸着層の厚さは通常100Å〜5000Åである。   As the metal foil, a copper foil is particularly preferable, and as the copper foil, an electrolytic copper foil, a rolled copper foil, an ultrathin copper foil with a carrier, or the like can be used. The thickness of the copper foil is preferably 9 to 35 μm, more preferably 12 to 18 μm. The thickness of the ultrathin copper foil in the ultrathin copper foil with a carrier is preferably 1 to 5 μm. In the case of a metal vapor deposition film, the thickness of the vapor deposition layer is usually 100Å to 5000Å.

支持体層が金属箔である場合、金属箔は投錨効果による接着強度向上をはかるために、樹脂組成物層が形成される面が粗化処理されていることが好ましい。粗化処理の方法は特に限定されないが、金属箔が銅箔である場合、例えば、エッチングにより粗化する方法や、硫酸銅水溶液に銅箔を浸漬し、電気分解により銅を析出させて、微細な銅粒子を銅箔表面に形成する方法等の公知の方法が挙げられる。また、表面粗化処理の後、防錆処理を施したり、クロメート処理や黒化処理などの樹脂との接着性を向上させる処理を施したりしてもよい。伝送損失を抑制する観点から、銅箔の表面粗度(Rz)は6.0μm以下が好ましく、より好ましくは4.0μm以下、さらに好ましくは3.0μm以下である。なお、表面粗度(Rz)は、JIS B 0601−1994「表面粗さの定義と表示」の十点平均粗さ(Rz)で定義される。   When the support layer is a metal foil, it is preferable that the surface of the metal foil on which the resin composition layer is formed is roughened in order to improve the adhesive strength due to the anchoring effect. The method of roughening treatment is not particularly limited, but when the metal foil is a copper foil, for example, a method of roughening by etching or immersing the copper foil in an aqueous solution of copper sulfate, depositing copper by electrolysis, and fine Known methods such as a method of forming fine copper particles on the surface of the copper foil can be used. In addition, after the surface roughening treatment, a rust preventive treatment may be performed, or a treatment such as a chromate treatment or a blackening treatment for improving adhesiveness with a resin may be performed. From the viewpoint of suppressing transmission loss, the surface roughness (Rz) of the copper foil is preferably 6.0 μm or less, more preferably 4.0 μm or less, and further preferably 3.0 μm or less. The surface roughness (Rz) is defined by the ten-point average roughness (Rz) of JIS B 0601-1994 “Definition and display of surface roughness”.

銅箔は市販されているものをそのまま使用でき、例えば、JTC−LP箔、JTC−AM箔(いずれもJX日鉱日石金属(株)製)、GTS−MP箔、F2−WS箔(いずれも古河電気工業(株)製)等が挙げられる。   Commercially available copper foil can be used as it is, for example, JTC-LP foil, JTC-AM foil (all manufactured by JX Nippon Mining & Metals Corporation), GTS-MP foil, F2-WS foil (all are available. Furukawa Electric Co., Ltd. etc. are mentioned.

樹脂組成物層の支持体層が密着していない面には、支持体層に準じた保護フィルムをさらに積層することができる。保護フィルムの厚さは、特に限定されるものではないが、例えば、1〜40μmである。保護フィルムを積層することにより、樹脂組成物層の表面へのゴミ等の付着やキズを防止することができる。接着フィルムは、ロール状に巻きとって貯蔵することもできる。   A protective film conforming to the support layer can be further laminated on the surface of the resin composition layer to which the support layer is not adhered. The thickness of the protective film is not particularly limited, but is, for example, 1 to 40 μm. By laminating the protective film, it is possible to prevent dust and the like from adhering to the surface of the resin composition layer and prevent scratches. The adhesive film may be wound into a roll and stored.

(プリプレグ)
本発明のプリプレグは、本発明の樹脂組成物をシート状補強基材にホットメルト法又はソルベント法により含浸させ、加熱して半硬化させることにより製造することができる。すなわち、本発明のプリプレグは、シート状補強基材に本発明の樹脂組成物が含浸してなるプリプレグである。シート状補強基材としては、例えば、ガラスクロスやアラミド繊維等のプリプレグ用繊維として常用されている繊維からなるものを用いることができる。
(Prepreg)
The prepreg of the present invention can be produced by impregnating the sheet-shaped reinforcing base material with the resin composition of the present invention by a hot melt method or a solvent method, and heating and semi-curing the resin composition. That is, the prepreg of the present invention is a prepreg obtained by impregnating a sheet-shaped reinforcing base material with the resin composition of the present invention. As the sheet-like reinforcing base material, for example, a material composed of fibers commonly used as prepreg fibers such as glass cloth and aramid fiber can be used.

ホットメルト法は、樹脂組成物を有機溶剤に溶解することなく、支持体上に一旦コーティングし、それをシート状補強基材にラミネートする、あるいはダイコーターによりシート状補強基材に直接塗工するなどして、プリプレグを製造する方法である。またソルベント法は、接着フィルムと同様にして樹脂を有機溶剤に溶解してワニスを調製し、このワニスにシート状補強基材を浸漬し、ワニスをシート状補強基材に含浸させ、その後乾燥させる方法である。また、接着フィルムをシート状補強基材の両面から加熱、加圧条件下、連続的に熱ラミネートすることでプリプレグを調製することもできる。支持体や保護フィルム等も接着フィルムと同様に用いることができる。すなわち、本発明のプリプレグは、支持体付きプリプレグ(支持体/プリプレグの積層体)、支持体および保護フィルム付きプリプレグ(支持体/プリプレグ/保護フィルムの積層体)を含み、実用上、かかる支持体付きプリプレグ、支持体および保護フィルム付きプリプレグが好適である。プリプレグの厚さは、特に限定されないが、機械的強度、薄膜化の観点から、通常、5〜100μmであり、好ましくは10〜50μmである。   In the hot melt method, the resin composition is not dissolved in an organic solvent and is once coated on a support and then laminated on a sheet-like reinforcing base material, or directly applied to the sheet-like reinforcing base material by a die coater. It is a method of manufacturing a prepreg by performing the above. In the solvent method, a resin is dissolved in an organic solvent in the same manner as the adhesive film to prepare a varnish, a sheet-shaped reinforcing base material is immersed in this varnish, the sheet-shaped reinforcing base material is impregnated, and then dried. Is the way. Further, the prepreg can be prepared by continuously heat-bonding the adhesive film from both sides of the sheet-shaped reinforcing base material under heating and pressurizing conditions. A support, a protective film, etc. can be used similarly to the adhesive film. That is, the prepreg of the present invention includes a prepreg with a support (support / pre-preg laminate), a support and a prepreg with a protective film (support / prepreg / protective film laminate), and such a support is practically used. A prepreg with a prepreg, a support and a prepreg with a protective film are preferable. The thickness of the prepreg is not particularly limited, but is usually 5 to 100 μm, and preferably 10 to 50 μm from the viewpoint of mechanical strength and thinning.

<多層プリント配線板>
本発明の樹脂組成物は多層プリント配線板における絶縁層形成に供される。前述の通り、本発明の樹脂組成物の硬化物は高誘電率の絶縁体となる。従って、本発明の樹脂組成物は、特に、コンデンサを内蔵する多層プリント配線板を得るために、2つの導電層間に挟まれる絶縁層の形成に供される。また、前述の通り、本発明の樹脂組成物は回路基板にワニス状態で塗布することで絶縁層形成に供することもできるが、工業的には、接着フィルム、プリプレグ等のシート状積層材料の形態にして絶縁層形成に供するのが好ましい。
<Multilayer printed wiring board>
The resin composition of the present invention is used for forming an insulating layer in a multilayer printed wiring board. As described above, the cured product of the resin composition of the present invention becomes an insulator having a high dielectric constant. Therefore, the resin composition of the present invention is particularly used for forming an insulating layer sandwiched between two conductive layers in order to obtain a multilayer printed wiring board containing a capacitor. Further, as described above, the resin composition of the present invention can be used for forming an insulating layer by applying it in a varnish state on a circuit board, but industrially, it is a form of a sheet-like laminated material such as an adhesive film and a prepreg. It is preferable to use it for forming an insulating layer.

以下、シート状積層材料を用いて多層プリント配線板を製造する方法の一例を説明する。   Hereinafter, an example of a method for manufacturing a multilayer printed wiring board using a sheet-shaped laminated material will be described.

まず、シート状積層材料を、真空ラミネーターを用いて回路基板の片面又は両面にラミネート(積層)する。回路基板に用いられる基板としては、例えば、ガラスエポキシ基板、金属基板、ポリエステル基板、ポリイミド基板、BTレジン基板、熱硬化型ポリフェニレンエーテル基板等が挙げられる。なお、ここで「回路基板」とは、上記のような基板の片面又は両面にパターン加工された導体層(回路)が形成されたものをいう。また導体層と絶縁層とを交互に積層してなる多層プリント配線板において、該多層プリント配線板の最外層の片面又は両面がパターン加工された導体層(回路)となっているものも、ここでいう回路基板に含まれる。なお導体層表面には、黒化処理、銅エッチング等により予め粗化処理が施されていてもよい。   First, the sheet-shaped laminated material is laminated (laminated) on one side or both sides of the circuit board using a vacuum laminator. Examples of the substrate used as the circuit substrate include a glass epoxy substrate, a metal substrate, a polyester substrate, a polyimide substrate, a BT resin substrate, and a thermosetting polyphenylene ether substrate. The term "circuit board" as used herein refers to a board on which a patterned conductor layer (circuit) is formed on one side or both sides. Further, in a multilayer printed wiring board in which conductor layers and insulating layers are alternately laminated, one or both outermost layers of the multilayer printed wiring board are patterned conductor layers (circuits). It is included in the circuit board. The surface of the conductor layer may be previously roughened by blackening, copper etching, or the like.

上記ラミネートにおいて、シート状積層材料が保護フィルムを有している場合には該保護フィルムを除去した後、必要に応じてシート状積層材料及び回路基板をプレヒートし、シート状積層材料を加圧及び加熱しながら回路基板にラミネートする。本発明のシート状積層材料においては、真空ラミネート法により減圧下で回路基板にラミネートする方法が好適に用いられる。ラミネートの条件は、特に限定されるものではないが、例えば、圧着温度(ラミネート温度)を好ましくは70〜140℃、圧着圧力(ラミネート圧力)を好ましくは1〜11kgf/cm(9.8×10〜107.9×10N/m)とし、圧着時間(ラミネート時間)を好ましくは5〜180秒とし、空気圧20mmHg(26.7hPa)以下の減圧下でラミネートするのが好ましい。また、ラミネートの方法は、バッチ式であってもロールでの連続式であってもよい。真空ラミネートは、市販の真空ラミネーターを使用して行うことができる。市販の真空ラミネーターとしては、例えば、ニチゴー・モートン(株)製バキュームアップリケーター、(株)名機製作所製真空加圧式ラミネーター、(株)日立インダストリイズ製ロール式ドライコータ、日立エーアイーシー(株)製真空ラミネーター等を挙げることができる。 In the above laminate, when the sheet-shaped laminated material has a protective film, after removing the protective film, the sheet-shaped laminated material and the circuit board are preheated if necessary, and the sheet-shaped laminated material is pressurized and Laminate on circuit board while heating. In the sheet-shaped laminated material of the present invention, a method of laminating on a circuit board under reduced pressure by a vacuum laminating method is preferably used. The laminating conditions are not particularly limited, but for example, the pressure bonding temperature (lamination temperature) is preferably 70 to 140 ° C., and the pressure bonding pressure (lamination pressure) is preferably 1 to 11 kgf / cm 2 (9.8 ×). 10 4 to 107.9 × 10 4 N / m 2 ), the pressure bonding time (laminating time) is preferably 5 to 180 seconds, and the lamination is preferably performed under a reduced pressure of 20 mmHg (26.7 hPa) or less. The laminating method may be a batch method or a continuous method using rolls. The vacuum lamination can be performed using a commercially available vacuum laminator. Examples of commercially available vacuum laminators include vacuum applicators manufactured by Nichigo Morton Co., Ltd., vacuum pressure laminators manufactured by Meiki Co., Ltd., roll type dry coaters manufactured by Hitachi Industries Co., Ltd., Hitachi AIC Co., Ltd. ) Vacuum laminator etc. made by the above).

シート状積層材料を回路基板にラミネートした後、室温付近に冷却してから、支持体を剥離する場合は剥離し、シート状積層材料における樹脂組成物を熱硬化して硬化物を形成することで、回路基板上に絶縁層を形成することができる。熱硬化の条件は、前述したとおりである。絶縁層を形成した後、硬化前に支持体を剥離しなかった場合は、必要によりここで剥離することもできる。なお、支持体層の剥離は、支持体層がプラスチックフィルムまたは離型紙の場合であり、支持体層が金属箔または金属蒸着フィルムである場合は、支持体層は剥離しない。   After laminating the sheet-shaped laminated material on the circuit board and then cooled to around room temperature, if the support is peeled off, the resin composition in the sheet-shaped laminated material is thermally cured to form a cured product. An insulating layer can be formed on the circuit board. The conditions for heat curing are as described above. After the insulating layer is formed, if the support is not peeled off before curing, it may be peeled off here if necessary. The support layer is peeled off when the support layer is a plastic film or a release paper, and when the support layer is a metal foil or a metal vapor deposition film, the support layer is not peeled off.

なお、シート状積層材料を積層工程後、シート状積層材料を金属板又は金属ロールにより加熱及び加圧して平滑化する平滑化工程を行うことができる。具体的には、常圧下(大気圧下)で、加熱されたSUS鏡板等の金属板により、シート状積層材料を加熱および加圧することにより行われる。加熱および加圧条件は、上記ラミネート工程と同様の条件を用いることができる。平滑化工程は、市販されている真空ラミネーターによって連続的に行うことができる。市販されている真空ラミネーターとしては、例えば、(株)名機製作所製の真空加圧式ラミネーター、ニチゴー・モートン(株)製バキュームアップリケーター等が挙げられる。   After the step of laminating the sheet-shaped laminated material, a smoothing step of heating and pressing the sheet-shaped laminated material with a metal plate or a metal roll to smooth it can be performed. Specifically, it is performed by heating and pressurizing the sheet-shaped laminated material with a metal plate such as a heated SUS mirror plate under normal pressure (under atmospheric pressure). The heating and pressurizing conditions can be the same as those in the laminating step. The smoothing step can be continuously performed by a commercially available vacuum laminator. Examples of the commercially available vacuum laminator include a vacuum pressure laminator manufactured by Meiki Seisakusho Co., Ltd. and a vacuum applicator manufactured by Nichigo Morton Co., Ltd.

また、シート状積層材料は、真空熱プレス機を用いて回路基板の片面又は両面に積層することもできる。プレス条件は、減圧度を通常1×10−2MPa以下、好ましくは1×10−3MPa以下の減圧下とする。加熱及び加圧は、1段階で行うことも出来るが、樹脂のしみだしを制御する観点から2段階以上に条件を分けて行うのが好ましい。例えば、1段階で行う場合、温度が好ましくは150〜200℃、圧力が好ましくは9.8×10〜2.0×105Pa、時間が好ましくは30〜120分である。2段階で行う場合、1段階目のプレスを、温度が70〜130℃、圧力が9.8×10〜2.9×10Paの範囲、2段階目のプレスを、温度が150〜200℃、圧力が9.8×10〜4.9×10Paの範囲で行うのが好ましい。各段階の時間は30〜120分で行うのが好ましい。このようにして真空熱プレス機にてシート状積層材料を回路基板に積層することで、同時にシート状積層材料が熱硬化される。市販されている真空ホットプレス機としては、例えば、MNPC−V−750−5−200(株)名機製作所製)、VH1−1603(北川精機(株)製)等が挙げられる。 Further, the sheet-shaped laminated material can be laminated on one side or both sides of the circuit board by using a vacuum heat press. The pressing conditions are such that the degree of pressure reduction is usually 1 × 10 −2 MPa or less, preferably 1 × 10 −3 MPa or less. The heating and pressurizing can be performed in one step, but it is preferable to perform the heating in two steps or more from the viewpoint of controlling the exudation of the resin. For example, when it is performed in one step, the temperature is preferably 150 to 200 ° C., the pressure is preferably 9.8 × 10 4 to 2.0 × 10 5 Pa, and the time is preferably 30 to 120 minutes. When performing in two steps, the temperature of the first step is 70 to 130 ° C., the pressure is in the range of 9.8 × 10 4 to 2.9 × 10 5 Pa, and the second step is 150 to 130 ° C. It is preferable to carry out at 200 ° C. and a pressure in the range of 9.8 × 10 4 to 4.9 × 10 5 Pa. The time of each step is preferably 30 to 120 minutes. By thus laminating the sheet-shaped laminated material on the circuit board with the vacuum heat press, the sheet-shaped laminated material is thermoset at the same time. Examples of commercially available vacuum hot press machines include MNPC-V-750-5-200 (manufactured by Meiki Seisakusho), VH1-1603 (manufactured by Kitagawa Seiki Co., Ltd.) and the like.

なお、前記の工程でシート状積層材料の支持体層を剥離した場合は、絶縁層上に、電極用材料(例えば、銅箔等の金属箔、プラスチックフィルムに金属蒸着層(例えば銅蒸着層等)が形成された金属蒸着フィルム)をラミネートする。ラミネートは上述した条件と同様である。   In addition, when the support layer of the sheet-shaped laminated material is peeled off in the above step, the electrode material (for example, a metal foil such as copper foil, a metal vapor deposition layer (for example, a copper vapor deposition layer or the like) on the insulating layer is formed on the insulating layer. 2) is laminated with a metal vapor deposition film). The lamination is the same as the conditions described above.

その後、電極用材料を、コンデンサの一方の電極となる部分を含むパターンに加工する(たとえば、電極用シート材料が銅箔や銅蒸着フィルムである場合、塩化鉄(III)水溶液、あるいは過酸化水素水溶液等によるエッチングを施す)ことで、シート状積層材料を用いて形成された絶縁層の一部が2つの電極(導電層)間に挟まれてコンデンサが形成された多層プリント配線板(回路基板表面の導体層(回路)の一部がコンデンサの他方の電極を構成する)を得ることができる。なお、電極形成は、メッキ(サブトラクティブ法、セミアディティブ法)で行ってもよい。   After that, the electrode material is processed into a pattern including a portion to be one electrode of the capacitor (for example, when the electrode sheet material is a copper foil or a copper vapor deposition film, an aqueous solution of iron (III) chloride or hydrogen peroxide). A multilayer printed wiring board (circuit board) in which a capacitor is formed by sandwiching a part of an insulating layer formed by using a sheet-like laminated material between two electrodes (conductive layers) by etching with an aqueous solution or the like). A part of the conductor layer (circuit) on the surface constitutes the other electrode of the capacitor). The electrodes may be formed by plating (subtractive method, semi-additive method).

本発明方法であれば、静電容量が0.1〜3000pF程度のコンデンサを内蔵した多層プリント配線板を製造することができる。コンデンサにおける2つの導電層(電極)間に挟まれる絶縁層の厚さは通常1〜100μm、好ましくは2〜30μmである。特に、本発明の樹脂組成物の硬化物による絶縁層は絶縁信頼性が高いため、高信頼性のコンデンサを内蔵した多層プリント配線板を得ることがきる。   According to the method of the present invention, a multilayer printed wiring board having a built-in capacitor having an electrostatic capacity of about 0.1 to 3000 pF can be manufactured. The thickness of the insulating layer sandwiched between the two conductive layers (electrodes) in the capacitor is usually 1 to 100 μm, preferably 2 to 30 μm. In particular, since the insulating layer made of the cured product of the resin composition of the present invention has high insulation reliability, it is possible to obtain a multilayer printed wiring board incorporating a highly reliable capacitor.

<指紋センサー>
本発明の指紋センサーにおいては、アレイ状に並べられた複数の金属電極とそれを覆うように形成された高誘電率絶縁層からなる部材を形成し、指が高誘電絶縁層に接触する際の指紋の凹部、凸部の静電容量の違いを検出する。本発明の樹脂組成物は金属電極上にワニス状態で塗布することで絶縁層形成に供することもできるが、工業的には、接着フィルム、プリプレグ等のシート状積層材料の形態にして絶縁層形成に供するのが好ましい。
<Fingerprint sensor>
In the fingerprint sensor of the present invention, a member composed of a plurality of metal electrodes arranged in an array and a high dielectric constant insulating layer formed so as to cover the metal electrodes is formed, and when a finger contacts the high dielectric insulating layer. The difference in capacitance between the concave and convex portions of the fingerprint is detected. The resin composition of the present invention can be used for forming an insulating layer by applying it in a varnish state on a metal electrode, but industrially, an insulating film is formed in the form of a sheet-like laminated material such as an adhesive film and a prepreg. It is preferable to use

以下、実施例を用いて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、以下の記載において、別途明示のない限り、「部」及び「%」は「質量部」及び「質量%」をそれぞれ意味する。また、「当量」とは、当量の対象である官能基を有する化合物の分子量を該化合物が有する官能基の数で除した値、即ち、官能基1個当たりの分子量を意味する。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In the following description, "parts" and "%" mean "parts by mass" and "% by mass", respectively, unless otherwise specified. Further, the “equivalent weight” means a value obtained by dividing the molecular weight of a compound having a functional group, which is a target of the equivalent weight, by the number of functional groups of the compound, that is, the molecular weight per one functional group.

[測定方法・評価方法]
まず、各種測定方法・評価方法について説明する。
[Measurement method / Evaluation method]
First, various measuring methods and evaluation methods will be described.

<比誘電率の測定>
実施例及び比較例において得られたワニスを、離型処理されたPETフィルム(リンテック(株)製、「PET501010」)上に、乾燥後の樹脂組成物層の厚さが40μmとなるようにダイコーターにて均一に塗布し、80〜110℃(平均95℃)で6分間乾燥した。その後、200℃で90分間熱処理し、支持体から剥離することで硬化物フィルムを得た。該硬化物フィルムを長さ80mm、幅2mmに切り出し評価サンプルとした。この評価サンプルについてアジレントテクノロジーズ(Agilent Technologies)社製HP8362B装置を用い空洞共振摂動法により測定周波数5.8GHz、測定温度23℃にて比誘電率を測定した。2つ試験片について測定を行い、平均値を算出した。
<Measurement of relative permittivity>
The varnishes obtained in the examples and comparative examples were coated with a die-coated PET film (“PET501010” manufactured by Lintec Co., Ltd.) so that the thickness of the resin composition layer after drying was 40 μm. It was evenly coated with a coater and dried at 80 to 110 ° C. (average 95 ° C.) for 6 minutes. Then, it heat-processed at 200 degreeC for 90 minute (s), and peeled from the support body, and the hardened material film was obtained. The cured film was cut into a length of 80 mm and a width of 2 mm to give an evaluation sample. The relative permittivity of this evaluation sample was measured at a measurement frequency of 5.8 GHz and a measurement temperature of 23 ° C. by a cavity resonance perturbation method using an HP 8362B device manufactured by Agilent Technologies. The measurement was performed on two test pieces, and the average value was calculated.

<線熱膨張係数の評価>
実施例及び比較例において得られたワニスを、離型処理されたPETフィルム(リンテック(株)製、「PET501010」)上に、乾燥後の樹脂組成物層の厚さが40μmとなるようにダイコーターにて均一に塗布し、80〜110℃(平均95℃)で6分間乾燥した。その後、200℃で90分間熱処理し、支持体から剥離することで硬化物フィルムを得た。該硬化物フィルムを、幅約5mm、長さ約15mmの試験片に切断し、(株)リガク製熱機械分析装置(Thermo Plus TMA8310)を使用して、引張加重法で熱機械分析を行った。試験片を前記装置に装着後、荷重1g、昇温速度5℃/分の測定条件にて連続して2回測定した。2回目の測定において25℃から150℃までの平均線熱膨張率を算出した。
<Evaluation of linear thermal expansion coefficient>
The varnishes obtained in the examples and comparative examples were coated with a die-coated PET film (“PET501010” manufactured by Lintec Co., Ltd.) so that the thickness of the resin composition layer after drying was 40 μm. It was evenly coated with a coater and dried at 80 to 110 ° C. (average 95 ° C.) for 6 minutes. Then, it heat-processed at 200 degreeC for 90 minute (s), and peeled from the support body, and the hardened material film was obtained. The cured film was cut into a test piece having a width of about 5 mm and a length of about 15 mm, and thermomechanical analysis was performed by a tensile load method using a thermomechanical analyzer (Thermo Plus TMA8310) manufactured by Rigaku Corporation. . After mounting the test piece on the apparatus, measurement was performed twice continuously under the conditions of a load of 1 g and a heating rate of 5 ° C./min. In the second measurement, the average coefficient of linear thermal expansion from 25 ° C to 150 ° C was calculated.

<ワニスの均一性評価>
実施例及び比較例で得られたワニス中の凝集物をマイクロスコープ(VH−2250、(株)KEYENCE社製)にて観察倍率1000倍にて観察を行い、10μm以上の凝集物が3視野中6個未満を○(良好)、6個以上を×(不可)と評価した。
<Evaluation of uniformity of varnish>
The aggregates in the varnishes obtained in Examples and Comparative Examples were observed with a microscope (VH-2250, manufactured by KEYENCE CORPORATION) at an observation magnification of 1000 times, and aggregates of 10 μm or more in 3 fields of view. Less than 6 pieces were evaluated as ◯ (good), and 6 or more pieces were evaluated as x (not good).

<フィルムの均一性評価>
実施例及び比較例で得られた樹脂組成物層の厚さが40μmの接着フィルム中の凝集物をマイクロスコープ(VH−2250、(株)KEYENCE社製)にて観察倍率1000倍にて観察を行い、10μm以上の凝集物が10視野中3個未満を○(良好)、3個以上を×(不可)とした。
<Evaluation of film uniformity>
The resin composition layer obtained in Examples and Comparative Examples had an aggregate in the adhesive film having a thickness of 40 μm observed with a microscope (VH-2250, manufactured by KEYENCE CORPORATION) at an observation magnification of 1000 times. When less than 3 aggregates of 10 μm or more in 10 fields of view were evaluated as ◯ (good) and 3 aggregates or more were evaluated as x (impossible).

<ワニスの分散安定性評価>
実施例及び比較例で得られたワニスを5℃で3日間保管した後、フィラーの沈降、すなわち、樹脂成分とフィラー分の分離が認められない場合を○(良好)、認められる場合を×(不可)とした。
<Evaluation of dispersion stability of varnish>
After the varnishes obtained in Examples and Comparative Examples were stored at 5 ° C. for 3 days, the sedimentation of the filler, that is, the case where the separation of the resin component and the filler content was not observed, was ◯ (good), and the case where it was observed was x ( No)

<静電容量の誤差評価>
実施例及び比較例において得られた厚さ10μmの接着フィルムを200℃で90分間熱処理を行い、支持体付き硬化物を得た。得られた支持体付き硬化物の断面をFIB−SEM(エスアイアイ・ナノテクノロギー(株)製、「SMI3050SE」)を用いて幅30μm、深さ20μmの範囲を1サンプルにつき10箇所観察し、画像解析から凝集物部分を含めた硬化物(硬化後の樹脂組成物層)の平均の厚さ(dave)を求めた。硬化物の凝集物がない部分の厚さを基準(dflat)としたとき、硬化物の凝集物部分を含めた平均の厚さdaveとすると、凝集物があることによる硬化物の静電容量の誤差は次の式(1)で表される。
<Evaluation of capacitance error>
The 10 μm thick adhesive films obtained in Examples and Comparative Examples were heat-treated at 200 ° C. for 90 minutes to obtain a cured product with a support. The cross-section of the obtained cured product with a support was observed at 10 positions in a range of 30 μm in width and 20 μm in depth using FIB-SEM (“SMI3050SE” manufactured by SII NanoTechnology Co., Ltd.), and an image was obtained. From the analysis, the average thickness (d ave ) of the cured product (resin composition layer after curing) including the aggregate portion was determined. When the average thickness d ave including the aggregated portion of the cured product is taken as the standard thickness (d flat ) of the cured product-free portion, the electrostatic charge of the cured product due to the presence of the aggregated substance The capacitance error is expressed by the following equation (1).

凝集物があることによる静電容量の誤差(%)
=100×(1−Cave/Cflat
=100×(1−dflat/dave) ・・・(1)
Capacitance error due to the presence of aggregates (%)
= 100 × (1-C ave / C flat )
= 100 * (1-d flat / d ave ) (1)

式(1)中の符号の意味は以下の通りである。
flat=εεS/dflat
ave=εεS/dave
flat:凝集物由来の突起がなく、膜厚が均一な場合の静電容量
ave:凝集物由来の突起により、平均の膜厚が増加した場合の静電容量
ε:絶縁層(硬化後の樹脂組成物層)の比誘電率
ε:真空の誘電率
S:極板面積
The meanings of the symbols in formula (1) are as follows.
C flat = ε r ε 0 S / d flat
C ave = ε r ε 0 S / d ave
C flat : Capacitance when there is no protrusion derived from aggregates and the film thickness is uniform C ave : Capacitance when average film thickness is increased due to protrusions derived from aggregates ε r : Insulating layer (curing) Specific permittivity of later resin composition layer ε 0 : Dielectric constant of vacuum S: Area of electrode plate

計算式(1)により算出した静電容量の誤差が1%以下であれば良好(○)、1%を超える場合が不可(×)とした。   When the error of the electrostatic capacity calculated by the calculation formula (1) is 1% or less, it is judged as good (◯), and when it exceeds 1%, it is judged as unacceptable (x).

<絶縁層の絶縁信頼性の評価方法>
(1)内層基板の準備
回路を形成したガラス布基材エポキシ樹脂両面銅張積層板(銅箔の厚さ18μm、基板の厚さ0.3mm、パナソニック(株)製「R1515A」)の両面をマイクロエッチング剤(メック(株)製「CZ8100」)にて1μmエッチングして銅表面の粗化処理を行った。
<Method of evaluating insulation reliability of insulation layer>
(1) Preparation of inner layer substrate Both sides of the glass cloth substrate epoxy resin double-sided copper clad laminate with a circuit formed (copper foil thickness 18 μm, substrate thickness 0.3 mm, “R1515A” manufactured by Panasonic Corporation) The copper surface was roughened by etching with a microetching agent (“CZ8100” manufactured by MEC Co., Ltd.) to 1 μm.

(2)樹脂付き銅箔のラミネート
実施例及び比較例で得られたワニスを三井金属工業(株)製MT18Ex箔上に、乾燥後の樹脂組成物層の厚さが40μmとなるようにダイコーターにて均一に塗布し、80〜110℃(平均95℃)で6分間乾燥した。この樹脂付き銅箔をバッチ式真空加圧ラミネーター((株)ニチゴー・モートン製 2ステージビルドアップラミネーター CVP700)を用いて、樹脂組成物層が内層基板と接するように、内層基板の両面にラミネートした。ラミネートは、30秒間減圧して気圧を13hPa以下とした後、100℃、圧力0.74MPaにて30秒間圧着させることにより実施した。次いで、100℃、圧力0.5MPaにて60秒間熱プレスを行った。
(2) Lamination of Copper Foil with Resin The varnishes obtained in Examples and Comparative Examples were coated on MT18Ex foil manufactured by Mitsui Metal Industry Co., Ltd. so that the thickness of the resin composition layer after drying was 40 μm. Was uniformly applied and dried at 80 to 110 ° C. (average 95 ° C.) for 6 minutes. This resin-coated copper foil was laminated on both sides of the inner layer substrate using a batch type vacuum pressure laminator (2-stage build-up laminator CVP700 manufactured by Nichigo Morton Co., Ltd.) so that the resin composition layer was in contact with the inner layer substrate. . The lamination was carried out by depressurizing for 30 seconds so that the atmospheric pressure was 13 hPa or less, and then pressure-bonding at 100 ° C. and a pressure of 0.74 MPa for 30 seconds. Then, hot pressing was performed at 100 ° C. and a pressure of 0.5 MPa for 60 seconds.

(3)樹脂付き銅箔の硬化
ラミネートされた樹脂付き銅箔を200℃、90分の硬化条件で樹脂組成物を硬化し、銅箔付き硬化体を形成した。
(3) Curing of copper foil with resin A resin composition was cured on the laminated copper foil with resin at 90 ° C. for 90 minutes to form a cured body with copper foil.

上記(3)において得られた銅箔付き硬化体の銅箔側に、直径10mmの円形導体パターンを形成した。そして、円形導体側を+電極とし、内層回路基板の回路導体(銅)側を−電極として、高度加速寿命試験装置(ETAC製「PM422」)を使用し、130℃、85%相対湿度、3.3V直流電圧印加の条件で300時間経過させた際の絶縁抵抗値を、エレクトロケミカルマイグレーションテスター(J−RAS(株)製「ECM−100」)にて測定した(n=5)。5回の試験全てにおいてその抵抗値が10Ω以上の場合を○(良好)、1回でも10Ω未満の場合は×(不可)とした。 A circular conductor pattern having a diameter of 10 mm was formed on the copper foil side of the cured product with copper foil obtained in (3) above. Then, the circular conductor side was used as a + electrode, and the circuit conductor (copper) side of the inner layer circuit board was used as a-electrode, using an advanced accelerated life test device (“PM422” manufactured by ETAC), at 130 ° C, 85% relative humidity, 3 The insulation resistance value when 300 hours passed under the condition of applying a DC voltage of 3 V was measured with an electrochemical migration tester (“ECM-100” manufactured by J-RAS Co., Ltd.) (n = 5). When the resistance value was 10 9 Ω or more in all of the 5 tests, it was evaluated as ◯ (good), and when it was less than 10 9 Ω even once, it was evaluated as × (impossible).

[実施例1]
液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量187、三菱化学(株)製「jER828US」)20部と、ビキシレノール型エポキシ樹脂(エポキシ当量190、三菱化学(株)製「YX4000HK」)5部、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂(エポキシ当量276、日本化薬(株)製「NC3000」)35部、ナフトール型エポキシ樹脂(エポキシ当量332、新日鉄住金化学(株)製「ESN475V」)10部、ナフタレン型4官能エポキシ樹脂(エポキシ当量162、DIC(株)製「HP4700」)5部、フェノキシ樹脂(固形分30%のMEK/シクロヘキサノン=1/1溶液、三菱化学(株)製「YL7553BH30」15部とを、MEK75部、シクロヘキサノン25部に撹拌しながら加熱溶解させた。そこへ、活性エステル硬化剤(活性基当量223、固形分65%のトルエン溶液、DIC(株)製「HPC8000−65T」)20部、トリアジン骨格含有クレゾールノボラック型硬化剤(フェノール当量151、固形分50%の2−メトキシプロパノール溶液、DIC(株)製「LA3018−50P」)20部、硬化促進剤(4−ジメチルアミノピリジン(DMAP)、固形分5%のMEK溶液)4部、チタン酸バリウム(Sinocera社製「HBT−030F」、平均粒子径0.55μm、BET比表面積3.68m/g、比重6.02g/cm)400部、エーテル型ノニオン性界面活性剤((株)ADEKA製「LB−1520」、ポリオキシアルキレンラウリルエーテル)4部を混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、ワニスを作製した。次に、ポリエチレンテレフタレート(厚さ38μm)上に、ワニスを乾燥後の樹脂組成物の厚さが10μm、40μmとなるようにダイコーターにて塗布し、80〜120℃(平均100℃)で6分間乾燥した(残留溶媒量約2%)。次いで樹脂組成物層の表面に厚さ15μmのポリプロピレンフィルムを貼り合わせながらロール状に巻き取った。ロール状の接着フィルムを幅507mmにスリットし、これより507mm×336mmサイズのシート状の接着フィルムを得た。
[Example 1]
Liquid bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent 187, "jER828US" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) 20 parts, bixylenol type epoxy resin (epoxy equivalent 190, "YX4000HK" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) 5 parts, biphenylaralkyl 35 parts of epoxy resin (epoxy equivalent 276, "NC3000" manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 10 parts of naphthol type epoxy resin (epoxy equivalent 332, "ESN475V" manufactured by Nippon Steel & Sumitomo Metal Corporation), naphthalene type 4 functional epoxy 5 parts of resin (epoxy equivalent 162, “HP4700” manufactured by DIC Corporation), phenoxy resin (MEK / cyclohexanone = 1/1 solution having a solid content of 30%, 15 parts of “YL7553BH30” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, MEK75) And 25 parts of cyclohexanone were dissolved by heating while stirring There, 20 parts of active ester curing agent (active group equivalent 223, toluene solution of solid content 65%, "HPC8000-65T" manufactured by DIC Corporation), triazine skeleton-containing cresol novolac type curing agent (phenol equivalent 151, solid content 50% 2-methoxypropanol solution, DIC Corporation "LA3018-50P" 20 parts, hardening accelerator (4-dimethylaminopyridine (DMAP), solid content 5% MEK solution) 4 parts, barium titanate ("HBT-030F" manufactured by Sinocera, average particle diameter 0.55 µm, BET specific surface area 3.68 m 2 / g, specific gravity 6.02 g / cm 3 ) 400 parts, ether type nonionic surfactant (ADEKA, Inc.). "LB-1520", 4 parts of polyoxyalkylene lauryl ether) are mixed and uniformly mixed with a high-speed rotary mixer. Then, a varnish was prepared by dispersing the varnish on polyethylene terephthalate (thickness: 38 μm) by a die coater so that the resin composition after drying had a thickness of 10 μm and 40 μm. It was dried for 6 minutes at 120 ° C. (100 ° C. on average) (residual solvent amount: about 2%), and then wound on a roll while winding a 15 μm-thick polypropylene film on the surface of the resin composition layer. The film was slit into a width of 507 mm, and a sheet-like adhesive film having a size of 507 mm × 336 mm was obtained from this.

[実施例2]
液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量187、三菱化学(株)製「jER828US」)20部と、ビキシレノール型エポキシ樹脂(エポキシ当量190、三菱化学(株)製「YX4000HK」)5部、ナフチレンエーテル型エポキシ樹脂(エポキシ当量260、DIC(株)製「HP6000」)33部、ナフトール型エポキシ樹脂(エポキシ当量332、新日鉄住金化学(株)製「ESN475V」)10部、ナフタレン型4官能エポキシ樹脂(エポキシ当量162、DIC(株)製「HP4700」)5部、フェノキシ樹脂(固形分30%のMEK/シクロヘキサノン=1/1溶液、三菱化学(株)製「YL7553BH30」15部とを、MEK75部、シクロヘキサノン25部に撹拌しながら加熱溶解させた。そこへ、活性エステル硬化剤(活性基当量223、固形分65%のトルエン溶液、DIC(株)製「HPC8000−65T」)20部、トリアジン骨格含有クレゾールノボラック型硬化剤(フェノール当量151、固形分50%の2−メトキシプロパノール溶液、DIC(株)製「LA3018−50P」)20部、硬化促進剤(4−ジメチルアミノピリジン(DMAP)、固形分5%のMEK溶液)4部、チタン酸バリウム(Sinocera社製「HBT−030F」)400部、エーテル型ノニオン性界面活性剤((株)ADEKA製「LB−1520」、ポリオキシアルキレンラウリルエーテル)4部を混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、ワニスを作製した。次に、ポリエチレンテレフタレート(厚さ38μm)上に、ワニスを乾燥後の樹脂組成物の厚さが10μm、40μmとなるようにダイコーターにて塗布し、80〜120℃(平均100℃)で6分間乾燥した(残留溶媒量約2%)。次いで樹脂組成物層の表面に厚さ15μmのポリプロピレンフィルムを貼り合わせながらロール状に巻き取った。ロール状の接着フィルムを幅507mmにスリットし、これより507mm×336mmサイズのシート状の接着フィルムを得た。
[Example 2]
Liquid bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent 187, Mitsubishi Chemical Co., Ltd. “jER828US”) 20 parts, bixylenol type epoxy resin (epoxy equivalent 190, Mitsubishi Chemical KK “YX4000HK”) 5 parts, naphthylene 33 parts of ether type epoxy resin (epoxy equivalent 260, "HP6000" manufactured by DIC Corporation), 10 parts of naphthol type epoxy resin (epoxy equivalent 332, "ESN475V" manufactured by Nippon Steel & Sumitomo Metal Corporation), naphthalene type tetrafunctional epoxy resin (Epoxy equivalent 162, "HP4700" manufactured by DIC Co., Ltd.) 5 parts, phenoxy resin (MEK / cyclohexanone = 1/1 solution having a solid content of 30%, 15 parts "YL7553BH30" manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd., and 75 parts MEK. , 25 parts of cyclohexanone were dissolved by heating while stirring. To, active ester curing agent (active group equivalent 223, toluene solution having a solid content of 65%, "HPC8000-65T" manufactured by DIC Corporation) 20 parts, triazine skeleton-containing cresol novolac type curing agent (phenol equivalent 151, solid content 50) % 2-methoxypropanol solution, DIC Corporation "LA3018-50P" 20 parts, curing accelerator (4-dimethylaminopyridine (DMAP), solid content 5% MEK solution) 4 parts, barium titanate ( Sinocera's "HBT-030F") 400 parts, ether type nonionic surfactant ("ADE-15A" manufactured "LB-1520", polyoxyalkylene lauryl ether) 4 parts are mixed and uniformly dispersed by a high speed rotating mixer. Then, a varnish was prepared, and then the crocodile was placed on polyethylene terephthalate (thickness: 38 μm). The resin composition was applied by a die coater so that the thickness of the resin composition after drying was 10 μm and 40 μm, and dried at 80 to 120 ° C. (average 100 ° C.) for 6 minutes (residual solvent amount about 2%). A 15 μm-thick polypropylene film was attached to the surface of the resin composition layer and wound into a roll, and the roll-shaped adhesive film was slit into a width of 507 mm to obtain a sheet-shaped adhesive film having a size of 507 mm × 336 mm. It was

[実施例3]
液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量187、三菱化学(株)製「jER828US」)20部と、ビキシレノール型エポキシ樹脂(エポキシ当量190、三菱化学(株)製「YX4000HK」)5部、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂(エポキシ当量276、日本化薬(株)製「NC3000」)35部、ナフトール型エポキシ樹脂(エポキシ当量332、新日鉄住金化学(株)製「ESN475V」)10部、ナフタレン型4官能エポキシ樹脂(エポキシ当量162、DIC(株)製「HP4700」)5部、フェノキシ樹脂(固形分30%のMEK/シクロヘキサノン=1/1溶液、三菱化学(株)製「YL7553BH30」15部とを、MEK75部、シクロヘキサノン25部に撹拌しながら加熱溶解させた。そこへ、ナフタレン型硬化剤(フェノール当量215、新日鉄住金化学(株)製「SN485」)13部、トリアジン骨格含有クレゾールノボラック型硬化剤(フェノール当量151、固形分50%の2−メトキシプロパノール溶液、DIC(株)製「LA3018−50P」)20部、硬化促進剤(4−ジメチルアミノピリジン(DMAP)、固形分5%のMEK溶液)4部、チタン酸バリウム(Sinocera社製「HBT−030F」)400部、エーテル型ノニオン性界面活性剤((株)ADEKA製「LB−1520」、ポリオキシアルキレンラウリルエーテル)4部を混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、ワニスを作製した。次に、ポリエチレンテレフタレート(厚さ38μm)上に、ワニスを乾燥後の樹脂組成物の厚さが10μm、40μmとなるようにダイコーターにて塗布し、80〜120℃(平均100℃)で6分間乾燥した(残留溶媒量約2%)。次いで樹脂組成物層の表面に厚さ15μmのポリプロピレンフィルムを貼り合わせながらロール状に巻き取った。ロール状の接着フィルムを幅507mmにスリットし、これより507mm×336mmサイズのシート状の接着フィルムを得た。
[Example 3]
Liquid bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent 187, "jER828US" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) 20 parts, bixylenol type epoxy resin (epoxy equivalent 190, "YX4000HK" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) 5 parts, biphenylaralkyl 35 parts of epoxy resin (epoxy equivalent 276, "NC3000" manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 10 parts of naphthol type epoxy resin (epoxy equivalent 332, "ESN475V" manufactured by Nippon Steel & Sumitomo Metal Corporation), naphthalene type 4 functional epoxy 5 parts of resin (epoxy equivalent 162, “HP4700” manufactured by DIC Corporation), phenoxy resin (MEK / cyclohexanone = 1/1 solution having a solid content of 30%, 15 parts of “YL7553BH30” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, MEK75) And 25 parts of cyclohexanone were dissolved by heating while stirring There, 13 parts of a naphthalene type curing agent (phenol equivalent 215, “SN485” manufactured by Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd.), a triazine skeleton-containing cresol novolac type curing agent (phenol equivalent 151, solid content 50% 2-methoxypropanol solution, DIC Corporation "LA3018-50P") 20 parts, hardening accelerator (4-dimethylaminopyridine (DMAP), solid content 5% MEK solution) 4 parts, barium titanate (Sinocera "HBT-030F"). ) 400 parts and 4 parts of an ether type nonionic surfactant ("LB-1520" manufactured by ADEKA Corporation, polyoxyalkylene lauryl ether) were mixed and uniformly dispersed by a high speed rotation mixer to prepare a varnish. Next, on the polyethylene terephthalate (thickness 38 μm), the resin composition after drying the varnish was prepared. It was applied with a die coater to a thickness of 10 μm and 40 μm, and dried for 6 minutes at 80 to 120 ° C. (average 100 ° C.) (residual solvent amount: about 2%). A 15 μm polypropylene film was attached and wound into a roll, and the roll-shaped adhesive film was slit into a width of 507 mm to obtain a sheet-shaped adhesive film having a size of 507 mm × 336 mm.

[実施例4]
液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量187、三菱化学(株)製「jER828US」)20部と、ビキシレノール型エポキシ樹脂(エポキシ当量190、三菱化学(株)製「YX4000HK」)5部、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂(エポキシ当量276、日本化薬(株)製「NC3000」)35部、ナフトール型エポキシ樹脂(エポキシ当量332、新日鉄住金化学(株)製「ESN475V」)10部、ナフタレン型4官能エポキシ樹脂(エポキシ当量162、DIC(株)製「HP4700」)5部、フェノキシ樹脂(固形分30%のMEK/シクロヘキサノン=1/1溶液、三菱化学(株)製「YL7553BH30」15部とを、MEK75部、シクロヘキサノン25部に撹拌しながら加熱溶解させた。そこへ、活性エステル硬化剤(活性基当量223、固形分65%のトルエン溶液、DIC(株)製「HPC8000−65T」)20部、トリアジン骨格含有クレゾールノボラック型硬化剤(フェノール当量151、固形分50%の2−メトキシプロパノール溶液、DIC(株)製「LA3018−50P」)20部、硬化促進剤(4−ジメチルアミノピリジン(DMAP)、固形分5%のMEK溶液)4部、チタン酸バリウム(Sinocera社製「HBT−030F」)400部、エーテル型ノニオン性界面活性剤((株)ADEKA製「LB−1520」、ポリオキシアルキレンラウリルエーテル)4部、シランカップリング剤(N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、信越化学工業(株)製「KBM573」)4部を混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、ワニスを作製した。次に、ポリエチレンテレフタレート(厚さ38μm)上に、ワニスを乾燥後の樹脂組成物の厚さが10μm、40μmとなるようにダイコーターにて塗布し、80〜120℃(平均100℃)で6分間乾燥した(残留溶媒量約2%)。次いで樹脂組成物層の表面に厚さ15μmのポリプロピレンフィルムを貼り合わせながらロール状に巻き取った。ロール状の接着フィルムを幅507mmにスリットし、これより507mm×336mmサイズのシート状の接着フィルムを得た。
[Example 4]
Liquid bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent 187, "jER828US" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) 20 parts, bixylenol type epoxy resin (epoxy equivalent 190, "YX4000HK" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) 5 parts, biphenylaralkyl 35 parts of epoxy resin (epoxy equivalent 276, "NC3000" manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 10 parts of naphthol type epoxy resin (epoxy equivalent 332, "ESN475V" manufactured by Nippon Steel & Sumitomo Metal Corporation), naphthalene type 4 functional epoxy 5 parts of resin (epoxy equivalent 162, “HP4700” manufactured by DIC Corporation), phenoxy resin (MEK / cyclohexanone = 1/1 solution having a solid content of 30%, 15 parts of “YL7553BH30” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, MEK75) And 25 parts of cyclohexanone were dissolved by heating while stirring There, 20 parts of active ester curing agent (active group equivalent 223, toluene solution of solid content 65%, "HPC8000-65T" manufactured by DIC Corporation), triazine skeleton-containing cresol novolac type curing agent (phenol equivalent 151, solid content 50% 2-methoxypropanol solution, DIC Corporation "LA3018-50P" 20 parts, hardening accelerator (4-dimethylaminopyridine (DMAP), solid content 5% MEK solution) 4 parts, barium titanate (Sinocera "HBT-030F") 400 parts, ether type nonionic surfactant (ADEKA Corporation "LB-1520", polyoxyalkylene lauryl ether) 4 parts, silane coupling agent (N-phenyl-). 3-aminopropyltrimethoxysilane, "KBM573" manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) The parts were mixed and uniformly dispersed with a high-speed rotary mixer to prepare a varnish.Next, the thickness of the resin composition after drying the varnish was 10 μm and 40 μm on polyethylene terephthalate (thickness 38 μm). Was coated with a die coater as described above and dried for 6 minutes at 80 to 120 ° C. (average of 100 ° C.) (residual solvent amount: about 2%), while a polypropylene film having a thickness of 15 μm was attached to the surface of the resin composition layer. The roll-shaped adhesive film was slit into a width of 507 mm to obtain a sheet-shaped adhesive film having a size of 507 mm × 336 mm.

[実施例5]
液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量187、三菱化学(株)製「jER828US」)20部と、ビキシレノール型エポキシ樹脂(エポキシ当量190、三菱化学(株)製「YX4000HK」)5部、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂(エポキシ当量276、日本化薬(株)製「NC3000」)35部、ナフトール型エポキシ樹脂(エポキシ当量332、新日鉄住金化学(株)製「ESN475V」)10部、ナフタレン型4官能エポキシ樹脂(エポキシ当量162、DIC(株)製「HP4700」)5部、フェノキシ樹脂(固形分30%のMEK/シクロヘキサノン=1/1溶液、三菱化学(株)製「YL7553BH30」15部とを、MEK75部、シクロヘキサノン25部に撹拌しながら加熱溶解させた。そこへ、活性エステル硬化剤(活性基当量223、固形分65%のトルエン溶液、DIC(株)製「HPC8000−65T」)20部、トリアジン骨格含有クレゾールノボラック型硬化剤(フェノール当量151、固形分50%の2−メトキシプロパノール溶液、DIC(株)製「LA3018−50P」)20部、硬化促進剤(4−ジメチルアミノピリジン(DMAP)、固形分5%のMEK溶液)4部、チタン酸バリウム(Sinocera社製「HBT−030F」)540部、エーテル型ノニオン性界面活性剤((株)ADEKA製「LB−1520」、ポリオキシアルキレンラウリルエーテル)5.4部を混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、ワニスを作製した。次に、ポリエチレンテレフタレート(厚さ38μm)上に、ワニスを乾燥後の樹脂組成物の厚さが10μm、40μmとなるようにダイコーターにて塗布し、80〜120℃(平均100℃)で6分間乾燥した(残留溶媒量約2%)。次いで樹脂組成物層の表面に厚さ15μmのポリプロピレンフィルムを貼り合わせながらロール状に巻き取った。ロール状の接着フィルムを幅507mmにスリットし、これより507mm×336mmサイズのシート状の接着フィルムを得た。
[Example 5]
Liquid bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent 187, "jER828US" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) 20 parts, bixylenol type epoxy resin (epoxy equivalent 190, "YX4000HK" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) 5 parts, biphenylaralkyl 35 parts of epoxy resin (epoxy equivalent 276, "NC3000" manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 10 parts of naphthol type epoxy resin (epoxy equivalent 332, "ESN475V" manufactured by Nippon Steel & Sumitomo Metal Corporation), naphthalene type 4 functional epoxy 5 parts of resin (epoxy equivalent 162, “HP4700” manufactured by DIC Corporation), phenoxy resin (MEK / cyclohexanone = 1/1 solution having a solid content of 30%, 15 parts of “YL7553BH30” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, MEK75) And 25 parts of cyclohexanone were dissolved by heating while stirring There, 20 parts of active ester curing agent (active group equivalent 223, toluene solution of solid content 65%, "HPC8000-65T" manufactured by DIC Corporation), triazine skeleton-containing cresol novolac type curing agent (phenol equivalent 151, solid content 50% 2-methoxypropanol solution, DIC Corporation "LA3018-50P" 20 parts, hardening accelerator (4-dimethylaminopyridine (DMAP), solid content 5% MEK solution) 4 parts, barium titanate (Sinocera "HBT-030F") 540 parts, ether type nonionic surfactant ("ADEKA Co., Ltd." LB-1520 ", polyoxyalkylene lauryl ether) 5.4 parts are mixed and mixed with a high speed rotating mixer. A varnish was prepared by uniformly dispersing the varnish on polyethylene terephthalate (thickness: 38 μm). Was coated with a die coater so that the thickness of the resin composition after drying was 10 μm and 40 μm, and dried at 80 to 120 ° C. (average 100 ° C.) for 6 minutes (residual solvent amount about 2%). Next, a polypropylene film having a thickness of 15 μm was attached to the surface of the resin composition layer and wound into a roll, and the roll-shaped adhesive film was slit into a width of 507 mm, from which a sheet-shaped adhesive film of 507 mm × 336 mm size was formed. Got

[実施例6]
液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量187、三菱化学(株)製「jER828US」)20部と、ビキシレノール型エポキシ樹脂(エポキシ当量190、三菱化学(株)製「YX4000HK」)5部、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂(エポキシ当量276、日本化薬(株)製「NC3000」)35部、ナフトール型エポキシ樹脂(エポキシ当量332、新日鉄住金化学(株)製「ESN475V」)10部、ナフタレン型4官能エポキシ樹脂(エポキシ当量162、DIC(株)製「HP4700」)5部、フェノキシ樹脂(固形分30%のMEK/シクロヘキサノン=1/1溶液、三菱化学(株)製「YL7553BH30」15部とを、MEK75部、シクロヘキサノン25部に撹拌しながら加熱溶解させた。そこへ、活性エステル硬化剤(活性基当量223、固形分65%のトルエン溶液、DIC(株)製「HPC8000−65T」)20部、トリアジン骨格含有クレゾールノボラック型硬化剤(フェノール当量151、固形分50%の2−メトキシプロパノール溶液、DIC(株)製「LA3018−50P」)20部、硬化促進剤(4−ジメチルアミノピリジン(DMAP)、固形分5%のMEK溶液)4部、チタン酸バリウム(Sinocera社製「HBT−030F」)240部、球形シリカ(平均粒径0.5μm、比表面積6.8m/g、(株)アドマテックス製「SO−C2」(アミノシラン系カップリング剤処理済み))120部、エーテル型ノニオン性界面活性剤((株)ADEKA製「LB−1520」、ポリオキシアルキレンラウリルエーテル)2.4部を混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、ワニスを作製した。次に、ポリエチレンテレフタレート(厚さ38μm)上に、ワニスを乾燥後の樹脂組成物の厚さが10μm、40μmとなるようにダイコーターにて塗布し、80〜120℃(平均100℃)で6分間乾燥した(残留溶媒量約2%)。次いで樹脂組成物層の表面に厚さ15μmのポリプロピレンフィルムを貼り合わせながらロール状に巻き取った。ロール状の接着フィルムを幅507mmにスリットし、これより507mm×336mmサイズのシート状の接着フィルムを得た。
[Example 6]
Liquid bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent 187, "jER828US" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) 20 parts, bixylenol type epoxy resin (epoxy equivalent 190, "YX4000HK" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) 5 parts, biphenylaralkyl 35 parts of epoxy resin (epoxy equivalent 276, "NC3000" manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 10 parts of naphthol type epoxy resin (epoxy equivalent 332, "ESN475V" manufactured by Nippon Steel & Sumitomo Metal Corporation), naphthalene type 4 functional epoxy 5 parts of resin (epoxy equivalent 162, “HP4700” manufactured by DIC Corporation), phenoxy resin (MEK / cyclohexanone = 1/1 solution having a solid content of 30%, 15 parts of “YL7553BH30” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, MEK75) And 25 parts of cyclohexanone were dissolved by heating while stirring There, 20 parts of active ester curing agent (active group equivalent 223, toluene solution of solid content 65%, "HPC8000-65T" manufactured by DIC Corporation), triazine skeleton-containing cresol novolac type curing agent (phenol equivalent 151, solid content 50% 2-methoxypropanol solution, DIC Corporation "LA3018-50P" 20 parts, hardening accelerator (4-dimethylaminopyridine (DMAP), solid content 5% MEK solution) 4 parts, barium titanate (Sinocera “HBT-030F”) 240 parts, spherical silica (average particle size 0.5 μm, specific surface area 6.8 m 2 / g, Admatex Co., Ltd. “SO-C2” (aminosilane coupling agent treatment) 120 parts, ether type nonionic surfactant ("LB-1520" manufactured by ADEKA Corporation, polyoxya) (Kylene lauryl ether) 2.4 parts were mixed and evenly dispersed with a high-speed rotary mixer to prepare a varnish.Next, the thickness of the resin composition after drying the varnish on polyethylene terephthalate (thickness 38 μm) Of 10 μm or 40 μm by a die coater, and dried for 6 minutes at 80 to 120 ° C. (average of 100 ° C.) (residual solvent amount: about 2%). The film was wound into a roll while adhering the polypropylene film of 1. to the sheet.

[実施例7]
液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量187、三菱化学(株)製「jER828US」)20部と、ビキシレノール型エポキシ樹脂(エポキシ当量190、三菱化学(株)製「YX4000HK」)5部、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂(エポキシ当量276、日本化薬(株)製「NC3000」)35部、ナフトール型エポキシ樹脂(エポキシ当量332、新日鉄住金化学(株)製「ESN475V」)10部、ナフタレン型4官能エポキシ樹脂(エポキシ当量162、DIC(株)製「HP4700」)5部、フェノキシ樹脂(固形分30%のMEK/シクロヘキサノン=1/1溶液、三菱化学(株)製「YL7553BH30」15部とを、MEK75部、シクロヘキサノン25部に撹拌しながら加熱溶解させた。そこへ、活性エステル硬化剤(活性基当量223、固形分65%のトルエン溶液、DIC(株)製「HPC8000−65T」)20部、トリアジン骨格含有クレゾールノボラック型硬化剤(フェノール当量151、固形分50%の2−メトキシプロパノール溶液、DIC(株)製「LA3018−50P」)20部、硬化促進剤(4−ジメチルアミノピリジン(DMAP)、固形分5%のMEK溶液)4部、チタン酸バリウム(Sinocera社製「HBT−030F」)400部、スチレン−マレイン酸系界面活性剤(日本油脂(株)製、商品名マリアリムAKM−0531、アリルアルコール−無水マレイン酸−スチレン共重合物とポリオキシアルキルエーテルとのグラフト化物:重量平均分子量:15,000)4部を混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、ワニスを作製した。次に、ポリエチレンテレフタレート(厚さ38μm)上に、ワニスを乾燥後の樹脂組成物の厚さが10μm、40μmとなるようにダイコーターにて塗布し、80〜120℃(平均100℃)で6分間乾燥した(残留溶媒量約2%)。次いで樹脂組成物層の表面に厚さ15μmのポリプロピレンフィルムを貼り合わせながらロール状に巻き取った。ロール状の接着フィルムを幅507mmにスリットし、これより507mm×336mmサイズのシート状の接着フィルムを得た。
[Example 7]
Liquid bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent 187, "jER828US" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) 20 parts, bixylenol type epoxy resin (epoxy equivalent 190, "YX4000HK" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) 5 parts, biphenylaralkyl 35 parts of epoxy resin (epoxy equivalent 276, "NC3000" manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 10 parts of naphthol type epoxy resin (epoxy equivalent 332, "ESN475V" manufactured by Nippon Steel & Sumitomo Metal Corporation), naphthalene type 4 functional epoxy 5 parts of resin (epoxy equivalent 162, “HP4700” manufactured by DIC Corporation), phenoxy resin (MEK / cyclohexanone = 1/1 solution having a solid content of 30%, 15 parts of “YL7553BH30” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, MEK75) And 25 parts of cyclohexanone were dissolved by heating while stirring There, 20 parts of active ester curing agent (active group equivalent 223, toluene solution of solid content 65%, "HPC8000-65T" manufactured by DIC Corporation), triazine skeleton-containing cresol novolac type curing agent (phenol equivalent 151, solid content 50% 2-methoxypropanol solution, DIC Corporation "LA3018-50P" 20 parts, hardening accelerator (4-dimethylaminopyridine (DMAP), solid content 5% MEK solution) 4 parts, barium titanate (Sinocera's "HBT-030F") 400 parts, styrene-maleic acid-based surfactant (NOF CORPORATION), trade name Marialim AKM-0531, allyl alcohol-maleic anhydride-styrene copolymer and polyoxy. Grafted product with alkyl ether: weight average molecular weight: 15,000) 4 parts, A varnish was prepared by uniformly dispersing the varnish on a polyethylene terephthalate (thickness: 38 μm) with a die coater so that the resin composition after drying had a thickness of 10 μm and 40 μm. And dried for 6 minutes at 80 to 120 ° C. (100 ° C. on average) (residual solvent amount about 2%), and then wound in a roll shape while adhering a polypropylene film having a thickness of 15 μm to the surface of the resin composition layer. The roll-shaped adhesive film was slit into a width of 507 mm, and a sheet-shaped adhesive film having a size of 507 mm × 336 mm was obtained from this slit.

[実施例8]
液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量187、三菱化学(株)製「jER828US」)20部と、ビキシレノール型エポキシ樹脂(エポキシ当量190、三菱化学(株)製「YX4000HK」)5部、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂(エポキシ当量276、日本化薬(株)製「NC3000」)35部、ナフトール型エポキシ樹脂(エポキシ当量332、新日鉄住金化学(株)製「ESN475V」)10部、ナフタレン型4官能エポキシ樹脂(エポキシ当量162、DIC(株)製「HP4700」)5部、フェノキシ樹脂(固形分30%のMEK/シクロヘキサノン=1/1溶液、三菱化学(株)製「YL7553BH30」15部とを、MEK75部、シクロヘキサノン25部に撹拌しながら加熱溶解させた。そこへ、活性エステル硬化剤(活性基当量223、固形分65%のトルエン溶液、DIC(株)製「HPC8000−65T」)20部、トリアジン骨格含有クレゾールノボラック型硬化剤(フェノール当量151、固形分50%の2−メトキシプロパノール溶液、DIC(株)製「LA3018−50P」)20部、硬化促進剤(4−ジメチルアミノピリジン(DMAP)、固形分5%のMEK溶液)4部、チタン酸バリウム(Sinocera社製「HBT−030F」)400部、ポリエチレングリコール(東京化成工業(株)製「Polyethylene Glycol 600」、数平均分子量:600)4部を混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、ワニスを作製した。次に、ポリエチレンテレフタレート(厚さ38μm)上に、ワニスを乾燥後の樹脂組成物の厚さが10μm、40μmとなるようにダイコーターにて塗布し、80〜120℃(平均100℃)で6分間乾燥した(残留溶媒量約2%)。次いで樹脂組成物層の表面に厚さ15μmのポリプロピレンフィルムを貼り合わせながらロール状に巻き取った。ロール状の接着フィルムを幅507mmにスリットし、これより507mm×336mmサイズのシート状の接着フィルムを得た。
[Example 8]
Liquid bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent 187, "jER828US" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) 20 parts, bixylenol type epoxy resin (epoxy equivalent 190, "YX4000HK" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) 5 parts, biphenylaralkyl 35 parts of epoxy resin (epoxy equivalent 276, "NC3000" manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 10 parts of naphthol type epoxy resin (epoxy equivalent 332, "ESN475V" manufactured by Nippon Steel & Sumitomo Metal Corporation), naphthalene type 4 functional epoxy 5 parts of resin (epoxy equivalent 162, “HP4700” manufactured by DIC Corporation), phenoxy resin (MEK / cyclohexanone = 1/1 solution having a solid content of 30%, 15 parts of “YL7553BH30” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, MEK75) And 25 parts of cyclohexanone were dissolved by heating while stirring There, 20 parts of active ester curing agent (active group equivalent 223, toluene solution of solid content 65%, "HPC8000-65T" manufactured by DIC Corporation), triazine skeleton-containing cresol novolac type curing agent (phenol equivalent 151, solid content 50% 2-methoxypropanol solution, DIC Corporation "LA3018-50P" 20 parts, hardening accelerator (4-dimethylaminopyridine (DMAP), solid content 5% MEK solution) 4 parts, barium titanate (Sinocera "HBT-030F") 400 parts, polyethylene glycol (Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd. "Polyethylene Glycol 600", number average molecular weight: 600) 4 parts are mixed and uniformly dispersed by a high speed rotating mixer. Then, a varnish was prepared.Next, polyethylene terephthalate (thickness: 38 μm The varnish was applied onto the above with a die coater so that the thickness of the dried resin composition would be 10 μm and 40 μm, and dried at 80 to 120 ° C. (average 100 ° C.) for 6 minutes (residual solvent amount about 2%. Then, a polypropylene film having a thickness of 15 μm was attached to the surface of the resin composition layer and wound into a roll, the roll-shaped adhesive film was slit into a width of 507 mm, and a sheet-shaped adhesive having a size of 507 mm × 336 mm was bonded from the slit. I got a film.

[比較例1]
液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量187、三菱化学(株)製「jER828US」)20部と、ビキシレノール型エポキシ樹脂(エポキシ当量190、三菱化学(株)製「YX4000HK」)5部、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂(エポキシ当量276、日本化薬(株)製「NC3000」)35部、ナフトール型エポキシ樹脂(エポキシ当量332、新日鉄住金化学(株)製「ESN475V」)10部、ナフタレン型4官能エポキシ樹脂(エポキシ当量162、DIC(株)製「HP4700」)5部、フェノキシ樹脂(固形分30%のMEK/シクロヘキサノン=1/1溶液、三菱化学(株)製「YL7553BH30」15部とを、MEK75部、シクロヘキサノン25部に撹拌しながら加熱溶解させた。そこへ、活性エステル硬化剤(活性基当量223、固形分65%のトルエン溶液、DIC(株)製「HPC8000−65T」)20部、トリアジン骨格含有クレゾールノボラック型硬化剤(フェノール当量151、固形分50%の2−メトキシプロパノール溶液、DIC(株)製「LA3018−50P」)20部、硬化促進剤(4−ジメチルアミノピリジン(DMAP)、固形分5%のMEK溶液)4部、チタン酸バリウム(Sinocera社製「HBT−030F」)400部、フェニルシラン型シランカップリング剤(フェニルトリメトキシシラン、信越化学工業(株)製「KBM103」)4部を混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、ワニスを作製した。次に、ポリエチレンテレフタレート(厚さ38μm)上に、ワニスを乾燥後の樹脂組成物の厚さが10μm、40μmとなるようにダイコーターにて塗布し、80〜120℃(平均100℃)で6分間乾燥した(残留溶媒量約2%)。次いで樹脂組成物層の表面に厚さ15μmのポリプロピレンフィルムを貼り合わせながらロール状に巻き取った。ロール状の接着フィルムを幅507mmにスリットし、これより507mm×336mmサイズのシート状の接着フィルムを得た。
[Comparative Example 1]
Liquid bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent 187, "jER828US" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) 20 parts, bixylenol type epoxy resin (epoxy equivalent 190, "YX4000HK" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) 5 parts, biphenylaralkyl 35 parts of epoxy resin (epoxy equivalent 276, "NC3000" manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 10 parts of naphthol type epoxy resin (epoxy equivalent 332, "ESN475V" manufactured by Nippon Steel & Sumitomo Metal Corporation), naphthalene type 4 functional epoxy 5 parts of resin (epoxy equivalent 162, “HP4700” manufactured by DIC Corporation), phenoxy resin (MEK / cyclohexanone = 1/1 solution having a solid content of 30%, 15 parts of “YL7553BH30” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, MEK75) And 25 parts of cyclohexanone were dissolved by heating while stirring There, 20 parts of active ester curing agent (active group equivalent 223, toluene solution of solid content 65%, "HPC8000-65T" manufactured by DIC Corporation), triazine skeleton-containing cresol novolac type curing agent (phenol equivalent 151, solid content 50% 2-methoxypropanol solution, DIC Corporation "LA3018-50P" 20 parts, hardening accelerator (4-dimethylaminopyridine (DMAP), solid content 5% MEK solution) 4 parts, barium titanate (Sinocera "HBT-030F") 400 parts, phenylsilane type silane coupling agent (phenyltrimethoxysilane, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. "KBM103""4 parts) are mixed and uniformly dispersed by a high-speed rotating mixer. Then, a varnish was prepared. The resin composition was applied by a die coater so that the thickness of the resin composition after drying was 10 μm and 40 μm, and dried at 80 to 120 ° C. (average 100 ° C.) for 6 minutes (residual solvent amount about 2%). A polypropylene film having a thickness of 15 μm was attached to the surface of the resin composition layer and wound into a roll, and the roll-shaped adhesive film was slit into a width of 507 mm to obtain a sheet-shaped adhesive film having a size of 507 mm × 336 mm. It was

[比較例2]
液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量187、三菱化学(株)製「jER828US」)20部と、ビキシレノール型エポキシ樹脂(エポキシ当量190、三菱化学(株)製「YX4000HK」)5部、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂(エポキシ当量276、日本化薬(株)製「NC3000」)35部、ナフトール型エポキシ樹脂(エポキシ当量332、新日鉄住金化学(株)製「ESN475V」)10部、ナフタレン型4官能エポキシ樹脂(エポキシ当量162、DIC(株)製「HP4700」)5部、フェノキシ樹脂(固形分30%のMEK/シクロヘキサノン=1/1溶液、三菱化学(株)製「YL7553BH30」15部とを、MEK75部、シクロヘキサノン25部に撹拌しながら加熱溶解させた。そこへ、活性エステル硬化剤(活性基当量223、固形分65%のトルエン溶液、DIC(株)製「HPC8000−65T」)20部、トリアジン骨格含有クレゾールノボラック型硬化剤(フェノール当量151、固形分50%の2−メトキシプロパノール溶液、DIC(株)製「LA3018−50P」)20部、硬化促進剤(4−ジメチルアミノピリジン(DMAP)、固形分5%のMEK溶液)4部、チタン酸バリウム(Sinocera社製「HBT−030F」)400部、エポキシシラン型シランカップリング剤(3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、信越化学工業(株)製「KBM403」)4部を混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、ワニスを作製した。次に、ポリエチレンテレフタレート(厚さ38μm)上に、ワニスを乾燥後の樹脂組成物の厚さが10μm、40μmとなるようにダイコーターにて塗布し、80〜120℃(平均100℃)で6分間乾燥した(残留溶媒量約2%)。次いで樹脂組成物層の表面に厚さ15μmのポリプロピレンフィルムを貼り合わせながらロール状に巻き取った。ロール状の接着フィルムを幅507mmにスリットし、これより507mm×336mmサイズのシート状の接着フィルムを得た。
[Comparative Example 2]
Liquid bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent 187, "jER828US" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) 20 parts, bixylenol type epoxy resin (epoxy equivalent 190, "YX4000HK" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) 5 parts, biphenylaralkyl 35 parts of epoxy resin (epoxy equivalent 276, "NC3000" manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 10 parts of naphthol type epoxy resin (epoxy equivalent 332, "ESN475V" manufactured by Nippon Steel & Sumitomo Metal Corporation), naphthalene type 4 functional epoxy 5 parts of resin (epoxy equivalent 162, “HP4700” manufactured by DIC Corporation), phenoxy resin (MEK / cyclohexanone = 1/1 solution having a solid content of 30%, 15 parts of “YL7553BH30” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, MEK75) And 25 parts of cyclohexanone were dissolved by heating while stirring There, 20 parts of active ester curing agent (active group equivalent 223, toluene solution of solid content 65%, "HPC8000-65T" manufactured by DIC Corporation), triazine skeleton-containing cresol novolac type curing agent (phenol equivalent 151, solid content 50% 2-methoxypropanol solution, DIC Corporation "LA3018-50P" 20 parts, hardening accelerator (4-dimethylaminopyridine (DMAP), solid content 5% MEK solution) 4 parts, barium titanate (Sinocera "HBT-030F") 400 parts, epoxysilane type silane coupling agent (3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. "KBM403") 4 parts are mixed and rotated at high speed. A varnish was prepared by uniformly dispersing with a mixer, and then polyethylene terephthalate (thickness 3 varnish was coated on the above with a die coater so that the thickness of the resin composition after drying was 10 μm and 40 μm, and dried at 80 to 120 ° C. (average 100 ° C.) for 6 minutes (the amount of residual solvent was about 10 μm). Then, a polypropylene film having a thickness of 15 μm was attached to the surface of the resin composition layer and wound into a roll, and the roll-shaped adhesive film was slit into a width of 507 mm, and a sheet having a size of 507 mm × 336 mm was formed from the slit. The adhesive film of was obtained.

[比較例3]
液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量187、三菱化学(株)製「jER828US」)20部と、ビキシレノール型エポキシ樹脂(エポキシ当量190、三菱化学(株)製「YX4000HK」)5部、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂(エポキシ当量276、日本化薬(株)製「NC3000」)35部、ナフトール型エポキシ樹脂(エポキシ当量332、新日鉄住金化学(株)製「ESN475V」)10部、ナフタレン型4官能エポキシ樹脂(エポキシ当量162、DIC(株)製「HP4700」)5部、フェノキシ樹脂(固形分30%のMEK/シクロヘキサノン=1/1溶液、三菱化学(株)製「YL7553BH30」15部とを、MEK75部、シクロヘキサノン25部に撹拌しながら加熱溶解させた。そこへ、活性エステル硬化剤(活性基当量223、固形分65%のトルエン溶液、DIC(株)製「HPC8000−65T」)20部、トリアジン骨格含有クレゾールノボラック型硬化剤(フェノール当量151、固形分50%の2−メトキシプロパノール溶液、DIC(株)製「LA3018−50P」)20部、硬化促進剤(4−ジメチルアミノピリジン(DMAP)、固形分5%のMEK溶液)4部、チタン酸バリウム(Sinocera社製「HBT−030F」)400部、フェニルアミノシラン型シランカップリング剤(N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、信越化学工業(株)製「KBM573」)4部を混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、ワニスを作製した。次に、ポリエチレンテレフタレート(厚さ38μm)上に、ワニスを乾燥後の樹脂組成物の厚さが10μm、40μmとなるようにダイコーターにて塗布し、80〜120℃(平均100℃)で6分間乾燥した(残留溶媒量約2%)。次いで樹脂組成物層の表面に厚さ15μmのポリプロピレンフィルムを貼り合わせながらロール状に巻き取った。ロール状の接着フィルムを幅507mmにスリットし、これより507mm×336mmサイズのシート状の接着フィルムを得た。
[Comparative Example 3]
Liquid bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent 187, "jER828US" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) 20 parts, bixylenol type epoxy resin (epoxy equivalent 190, "YX4000HK" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) 5 parts, biphenylaralkyl 35 parts of epoxy resin (epoxy equivalent 276, "NC3000" manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 10 parts of naphthol type epoxy resin (epoxy equivalent 332, "ESN475V" manufactured by Nippon Steel & Sumitomo Metal Corporation), naphthalene type 4 functional epoxy 5 parts of resin (epoxy equivalent 162, “HP4700” manufactured by DIC Corporation), phenoxy resin (MEK / cyclohexanone = 1/1 solution having a solid content of 30%, 15 parts of “YL7553BH30” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, MEK75) And 25 parts of cyclohexanone were dissolved by heating while stirring There, 20 parts of active ester curing agent (active group equivalent 223, toluene solution of solid content 65%, "HPC8000-65T" manufactured by DIC Corporation), triazine skeleton-containing cresol novolac type curing agent (phenol equivalent 151, solid content 50% 2-methoxypropanol solution, DIC Corporation "LA3018-50P" 20 parts, hardening accelerator (4-dimethylaminopyridine (DMAP), solid content 5% MEK solution) 4 parts, barium titanate (Sinocera "HBT-030F") 400 parts, phenylaminosilane type silane coupling agent (N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. "KBM573") 4 parts are mixed, A varnish was prepared by uniformly dispersing with a high-speed rotating mixer. The varnish was applied onto a sheet (thickness 38 μm) by a die coater so that the thickness of the dried resin composition would be 10 μm and 40 μm, and dried at 80 to 120 ° C. (average 100 ° C.) for 6 minutes. (Amount of residual solvent is about 2%.) Then, a polypropylene film having a thickness of 15 μm was attached to the surface of the resin composition layer and wound up in a roll shape.The roll-shaped adhesive film was slit into a width of 507 mm, and 507 mm × A 336 mm-sized sheet-shaped adhesive film was obtained.

[比較例4]
液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量187、三菱化学(株)製「jER828US」)20部と、ビキシレノール型エポキシ樹脂(エポキシ当量190、三菱化学(株)製「YX4000HK」)5部、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂(エポキシ当量276、日本化薬(株)製「NC3000」)35部、ナフトール型エポキシ樹脂(エポキシ当量332、新日鉄住金化学(株)製「ESN475V」)10部、ナフタレン型4官能エポキシ樹脂(エポキシ当量162、DIC(株)製「HP4700」)5部、フェノキシ樹脂(固形分30%のMEK/シクロヘキサノン=1/1溶液、三菱化学(株)製「YL7553BH30」15部とを、MEK75部、シクロヘキサノン25部に撹拌しながら加熱溶解させた。そこへ、活性エステル硬化剤(活性基当量223、固形分65%のトルエン溶液、DIC(株)製「HPC8000−65T」)20部、トリアジン骨格含有クレゾールノボラック型硬化剤(フェノール当量151、固形分50%の2−メトキシプロパノール溶液、DIC(株)製「LA3018−50P」)20部、硬化促進剤(4−ジメチルアミノピリジン(DMAP)、固形分5%のMEK溶液)4部、チタン酸バリウム(Sinocera社製「HBT−030F」)400部、アミノシラン型シランカップリング剤(3−アミノプロピルトリメトキシシラン、信越化学工業(株)製「KBM903」)4部を混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、ワニスを作製した。次に、ポリエチレンテレフタレート(厚さ38μm)上に、ワニスを乾燥後の樹脂組成物の厚さが10μm、40μmとなるようにダイコーターにて塗布し、80〜120℃(平均100℃)で6分間乾燥した(残留溶媒量約2%)。次いで樹脂組成物層の表面に厚さ15μmのポリプロピレンフィルムを貼り合わせながらロール状に巻き取った。ロール状の接着フィルムを幅507mmにスリットし、これより507mm×336mmサイズのシート状の接着フィルムを得た。
[Comparative Example 4]
Liquid bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent 187, "jER828US" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) 20 parts, bixylenol type epoxy resin (epoxy equivalent 190, "YX4000HK" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) 5 parts, biphenylaralkyl 35 parts of epoxy resin (epoxy equivalent 276, "NC3000" manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 10 parts of naphthol type epoxy resin (epoxy equivalent 332, "ESN475V" manufactured by Nippon Steel & Sumitomo Metal Corporation), naphthalene type 4 functional epoxy 5 parts of resin (epoxy equivalent 162, “HP4700” manufactured by DIC Corporation), phenoxy resin (MEK / cyclohexanone = 1/1 solution having a solid content of 30%, 15 parts of “YL7553BH30” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, MEK75) And 25 parts of cyclohexanone were dissolved by heating while stirring There, 20 parts of active ester curing agent (active group equivalent 223, toluene solution of solid content 65%, "HPC8000-65T" manufactured by DIC Corporation), triazine skeleton-containing cresol novolac type curing agent (phenol equivalent 151, solid content 50% 2-methoxypropanol solution, DIC Corporation "LA3018-50P" 20 parts, hardening accelerator (4-dimethylaminopyridine (DMAP), solid content 5% MEK solution) 4 parts, barium titanate (Sinocera "HBT-030F") 400 parts, aminosilane type silane coupling agent (3-aminopropyltrimethoxysilane, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. "KBM903""4parts" are mixed, and the mixture is homogenized with a high-speed rotary mixer. To prepare a varnish, which was then placed on polyethylene terephthalate (thickness: 38 μm). Was coated with a die coater so that the thickness of the resin composition after drying was 10 μm and 40 μm, and dried at 80 to 120 ° C. (average 100 ° C.) for 6 minutes (residual solvent amount about 2%). Next, a polypropylene film having a thickness of 15 μm was attached to the surface of the resin composition layer and wound into a roll, and the roll-shaped adhesive film was slit into a width of 507 mm, from which a sheet-shaped adhesive film of 507 mm × 336 mm size was formed. Got

[比較例5]
液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量187、三菱化学(株)製「jER828US」)20部と、ビキシレノール型エポキシ樹脂(エポキシ当量190、三菱化学(株)製「YX4000HK」)5部、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂(エポキシ当量276、日本化薬(株)製「NC3000」)35部、ナフトール型エポキシ樹脂(エポキシ当量332、新日鉄住金化学(株)製「ESN475V」)10部、ナフタレン型4官能エポキシ樹脂(エポキシ当量162、DIC(株)製「HP4700」)5部、フェノキシ樹脂(固形分30%のMEK/シクロヘキサノン=1/1溶液、三菱化学(株)製「YL7553BH30」15部とを、MEK75部、シクロヘキサノン25部に撹拌しながら加熱溶解させた。そこへ、活性エステル硬化剤(活性基当量223、固形分65%のトルエン溶液、DIC(株)製「HPC8000−65T」)20部、トリアジン骨格含有クレゾールノボラック型硬化剤(フェノール当量151、固形分50%の2−メトキシプロパノール溶液、DIC(株)製「LA3018−50P」)20部、硬化促進剤(4−ジメチルアミノピリジン(DMAP)、固形分5%のMEK溶液)4部、チタン酸バリウム(Sinocera社製「HBT−030F」)400部、チタネート系カップリング剤(味の素ファインテクノ(株)製「プレンアクトKR‐46B」)4部を混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、ワニスを作製した。次に、ポリエチレンテレフタレート(厚さ38μm)上に、ワニスを乾燥後の樹脂組成物の厚さが10μm、40μmとなるようにダイコーターにて塗布し、80〜120℃(平均100℃)で6分間乾燥した(残留溶媒量約2%)。次いで樹脂組成物層の表面に厚さ15μmのポリプロピレンフィルムを貼り合わせながらロール状に巻き取った。ロール状の接着フィルムを幅507mmにスリットし、これより507mm×336mmサイズのシート状の接着フィルムを得た。
[Comparative Example 5]
Liquid bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent 187, "jER828US" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) 20 parts, bixylenol type epoxy resin (epoxy equivalent 190, "YX4000HK" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) 5 parts, biphenylaralkyl 35 parts of epoxy resin (epoxy equivalent 276, "NC3000" manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 10 parts of naphthol type epoxy resin (epoxy equivalent 332, "ESN475V" manufactured by Nippon Steel & Sumitomo Metal Corporation), naphthalene type 4 functional epoxy 5 parts of resin (epoxy equivalent 162, “HP4700” manufactured by DIC Corporation), phenoxy resin (MEK / cyclohexanone = 1/1 solution having a solid content of 30%, 15 parts of “YL7553BH30” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, MEK75) And 25 parts of cyclohexanone were dissolved by heating while stirring There, 20 parts of active ester curing agent (active group equivalent 223, toluene solution of solid content 65%, "HPC8000-65T" manufactured by DIC Corporation), triazine skeleton-containing cresol novolac type curing agent (phenol equivalent 151, solid content 50% 2-methoxypropanol solution, DIC Corporation "LA3018-50P" 20 parts, hardening accelerator (4-dimethylaminopyridine (DMAP), solid content 5% MEK solution) 4 parts, barium titanate (Sinocera “HBT-030F”) 400 parts, 4 parts titanate coupling agent (Ajinomoto Fine-Techno Co., Ltd. “Planeact KR-46B”) 4 parts were mixed and uniformly dispersed with a high-speed rotary mixer, and varnish. Next, a resin set after drying the varnish on polyethylene terephthalate (thickness 38 μm) was prepared. The composition was applied with a die coater to a thickness of 10 μm or 40 μm, and dried at 80 to 120 ° C. (average 100 ° C.) for 6 minutes (residual solvent amount: about 2%). Then, a polypropylene film having a thickness of 15 μm was stuck to the roll and wound up in a roll shape, and the roll-shaped adhesive film was slit into a width of 507 mm to obtain a sheet-shaped adhesive film having a size of 507 mm × 336 mm.

[比較例6]
液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量187、三菱化学(株)製「jER828US」)20部と、ビキシレノール型エポキシ樹脂(エポキシ当量190、三菱化学(株)製「YX4000HK」)5部、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂(エポキシ当量276、日本化薬(株)製「NC3000」)35部、ナフトール型エポキシ樹脂(エポキシ当量332、新日鉄住金化学(株)製「ESN475V」)10部、ナフタレン型4官能エポキシ樹脂(エポキシ当量162、DIC(株)製「HP4700」)5部、フェノキシ樹脂(固形分30%のMEK/シクロヘキサノン=1/1溶液、三菱化学(株)製「YL7553BH30」15部とを、MEK75部、シクロヘキサノン25部に撹拌しながら加熱溶解させた。そこへ、活性エステル硬化剤(活性基当量223、固形分65%のトルエン溶液、DIC(株)製「HPC8000−65T」)20部、トリアジン骨格含有クレゾールノボラック型硬化剤(フェノール当量151、固形分50%の2−メトキシプロパノール溶液、DIC(株)製「LA3018−50P」)20部、硬化促進剤(4−ジメチルアミノピリジン(DMAP)、固形分5%のMEK溶液)4部、チタン酸バリウム(Sinocera社製「HBT−030F」)400部、ホスホン酸基を有するアニオン性高分子分散剤(ビッグケミー(株)製「BYK W−9010」)4部を混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、ワニスを作製した。次に、ポリエチレンテレフタレート(厚さ38μm)上に、ワニスを乾燥後の樹脂組成物の厚さが10μm、40μmとなるようにダイコーターにて塗布し、80〜120℃(平均100℃)で6分間乾燥した(残留溶媒量約2%)。次いで樹脂組成物層の表面に厚さ15μmのポリプロピレンフィルムを貼り合わせながらロール状に巻き取った。ロール状の接着フィルムを幅507mmにスリットし、これより507mm×336mmサイズのシート状の接着フィルムを得た。
[Comparative Example 6]
Liquid bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent 187, "jER828US" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) 20 parts, bixylenol type epoxy resin (epoxy equivalent 190, "YX4000HK" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) 5 parts, biphenylaralkyl 35 parts of epoxy resin (epoxy equivalent 276, "NC3000" manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 10 parts of naphthol type epoxy resin (epoxy equivalent 332, "ESN475V" manufactured by Nippon Steel & Sumitomo Metal Corporation), naphthalene type 4 functional epoxy 5 parts of resin (epoxy equivalent 162, “HP4700” manufactured by DIC Corporation), phenoxy resin (MEK / cyclohexanone = 1/1 solution having a solid content of 30%, 15 parts of “YL7553BH30” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, MEK75) And 25 parts of cyclohexanone were dissolved by heating while stirring There, 20 parts of active ester curing agent (active group equivalent 223, toluene solution of solid content 65%, "HPC8000-65T" manufactured by DIC Corporation), triazine skeleton-containing cresol novolac type curing agent (phenol equivalent 151, solid content 50% 2-methoxypropanol solution, DIC Corporation "LA3018-50P" 20 parts, hardening accelerator (4-dimethylaminopyridine (DMAP), solid content 5% MEK solution) 4 parts, barium titanate (Sinocera "HBT-030F") 400 parts, 4 parts of anionic polymer dispersant having a phosphonic acid group (Big Chemie Co., Ltd. "BYK W-9010") are mixed and uniformly dispersed by a high-speed rotating mixer. Then, a varnish was produced on a polyethylene terephthalate (thickness: 38 μm). The composition was applied with a die coater to a thickness of 10 μm or 40 μm and dried for 6 minutes at 80 to 120 ° C. (average 100 ° C.) (residual solvent amount: about 2%). Then, a polypropylene film having a thickness of 15 μm was stuck to the roll and wound up in a roll shape, and the roll-shaped adhesive film was slit into a width of 507 mm to obtain a sheet-shaped adhesive film having a size of 507 mm × 336 mm.

[比較例7]
液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量187、三菱化学(株)製「jER828US」)20部と、ビキシレノール型エポキシ樹脂(エポキシ当量190、三菱化学(株)製「YX4000HK」)5部、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂(エポキシ当量276、日本化薬(株)製「NC3000」)35部、ナフトール型エポキシ樹脂(エポキシ当量332、新日鉄住金化学(株)製「ESN475V」)10部、ナフタレン型4官能エポキシ樹脂(エポキシ当量162、DIC(株)製「HP4700」)5部、フェノキシ樹脂(固形分30%のMEK/シクロヘキサノン=1/1溶液、三菱化学(株)製「YL7553BH30」15部とを、MEK75部、シクロヘキサノン25部に撹拌しながら加熱溶解させた。そこへ、活性エステル硬化剤(活性基当量223、固形分65%のトルエン溶液、DIC(株)製「HPC8000−65T」)20部、トリアジン骨格含有クレゾールノボラック型硬化剤(フェノール当量151、固形分50%の2−メトキシプロパノール溶液、DIC(株)製「LA3018−50P」)20部、硬化促進剤(4−ジメチルアミノピリジン(DMAP)、固形分5%のMEK溶液)4部、チタン酸バリウム(Sinocera社製「HBT−030F」)400部、カルボン酸基を有するアニオン性高分子分散剤(花王(株)製「ホモゲノール L−18」)4部を混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、ワニスを作製した。次に、ポリエチレンテレフタレート(厚さ38μm)上に、ワニスを乾燥後の樹脂組成物の厚さが10μm、40μmとなるようにダイコーターにて塗布し、80〜120℃(平均100℃)で6分間乾燥した(残留溶媒量約2%)。次いで樹脂組成物層の表面に厚さ15μmのポリプロピレンフィルムを貼り合わせながらロール状に巻き取った。ロール状の接着フィルムを幅507mmにスリットし、これより507mm×336mmサイズのシート状の接着フィルムを得た。
[Comparative Example 7]
Liquid bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent 187, "jER828US" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) 20 parts, bixylenol type epoxy resin (epoxy equivalent 190, "YX4000HK" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) 5 parts, biphenylaralkyl 35 parts of epoxy resin (epoxy equivalent 276, "NC3000" manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 10 parts of naphthol type epoxy resin (epoxy equivalent 332, "ESN475V" manufactured by Nippon Steel & Sumitomo Metal Corporation), naphthalene type 4 functional epoxy 5 parts of resin (epoxy equivalent 162, “HP4700” manufactured by DIC Corporation), phenoxy resin (MEK / cyclohexanone = 1/1 solution having a solid content of 30%, 15 parts of “YL7553BH30” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, MEK75) And 25 parts of cyclohexanone were dissolved by heating while stirring There, 20 parts of active ester curing agent (active group equivalent 223, toluene solution of solid content 65%, "HPC8000-65T" manufactured by DIC Corporation), triazine skeleton-containing cresol novolac type curing agent (phenol equivalent 151, solid content 50% 2-methoxypropanol solution, DIC Corporation "LA3018-50P" 20 parts, hardening accelerator (4-dimethylaminopyridine (DMAP), solid content 5% MEK solution) 4 parts, barium titanate (Sinocera's "HBT-030F") 400 parts and 4 parts of a carboxylic acid group-containing anionic polymer dispersant (Kao Corporation's "Homogenol L-18") are mixed and uniformly dispersed by a high-speed rotating mixer. Then, a varnish was prepared, and the resin composition after the varnish was dried on polyethylene terephthalate (thickness 38 μm). Was coated with a die coater to a thickness of 10 μm or 40 μm and dried at 80 to 120 ° C. (average 100 ° C.) for 6 minutes (residual solvent amount about 2%). A 15 μm-thick polypropylene film was laminated and wound into a roll, and the roll-shaped adhesive film was slit into a width of 507 mm to obtain a sheet-shaped adhesive film having a size of 507 mm × 336 mm.

[比較例8]
液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量187、三菱化学(株)製「jER828US」)20部と、ビキシレノール型エポキシ樹脂(エポキシ当量190、三菱化学(株)製「YX4000HK」)5部、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂(エポキシ当量276、日本化薬(株)製「NC3000」)35部、ナフトール型エポキシ樹脂(エポキシ当量332、新日鉄住金化学(株)製「ESN475V」)10部、ナフタレン型4官能エポキシ樹脂(エポキシ当量162、DIC(株)製「HP4700」)5部、フェノキシ樹脂(固形分30%のMEK/シクロヘキサノン=1/1溶液、三菱化学(株)製「YL7553BH30」15部とを、MEK75部、シクロヘキサノン25部に撹拌しながら加熱溶解させた。そこへ、活性エステル硬化剤(活性基当量223、固形分65%のトルエン溶液、DIC(株)製「HPC8000−65T」)20部、トリアジン骨格含有クレゾールノボラック型硬化剤(フェノール当量151、固形分50%の2−メトキシプロパノール溶液、DIC(株)製「LA3018−50P」)20部、硬化促進剤(4−ジメチルアミノピリジン(DMAP)、固形分5%のMEK溶液)4部、チタン酸バリウム(Sinocera社製「HBT−030F」)400部、カチオン性界面活性剤(日油(株)製「ニッサンカチオン VB−F」、塩化アルキルトリメチルアンモニウム液)5部を混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、ワニスを作製した。次に、ポリエチレンテレフタレート(厚さ38μm)上に、ワニスを乾燥後の樹脂組成物の厚さが10μm、40μmとなるようにダイコーターにて塗布し、80〜120℃(平均100℃)で6分間乾燥した(残留溶媒量約2%)。次いで樹脂組成物層の表面に厚さ15μmのポリプロピレンフィルムを貼り合わせながらロール状に巻き取った。ロール状の接着フィルムを幅507mmにスリットし、これより507mm×336mmサイズのシート状の接着フィルムを得た。
[Comparative Example 8]
Liquid bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent 187, "jER828US" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) 20 parts, bixylenol type epoxy resin (epoxy equivalent 190, "YX4000HK" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) 5 parts, biphenylaralkyl 35 parts of epoxy resin (epoxy equivalent 276, "NC3000" manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 10 parts of naphthol type epoxy resin (epoxy equivalent 332, "ESN475V" manufactured by Nippon Steel & Sumitomo Metal Corporation), naphthalene type 4 functional epoxy 5 parts of resin (epoxy equivalent 162, “HP4700” manufactured by DIC Corporation), phenoxy resin (MEK / cyclohexanone = 1/1 solution having a solid content of 30%, 15 parts of “YL7553BH30” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, MEK75) And 25 parts of cyclohexanone were dissolved by heating while stirring There, 20 parts of active ester curing agent (active group equivalent 223, toluene solution of solid content 65%, "HPC8000-65T" manufactured by DIC Corporation), triazine skeleton-containing cresol novolac type curing agent (phenol equivalent 151, solid content 50% 2-methoxypropanol solution, DIC Corporation "LA3018-50P" 20 parts, hardening accelerator (4-dimethylaminopyridine (DMAP), solid content 5% MEK solution) 4 parts, barium titanate (Sinocera's "HBT-030F") 400 parts, cationic surfactant (NOF Corporation's "Nissan cation VB-F", alkyl trimethyl ammonium chloride solution) 5 parts are mixed and uniformly mixed with a high-speed rotating mixer. A varnish was prepared by dispersing the crocodile into polyethylene terephthalate (thickness: 38 μm). Was applied by a die coater so that the thickness of the dried resin composition would be 10 μm and 40 μm, and dried at 80 to 120 ° C. (average 100 ° C.) for 6 minutes (residual solvent amount about 2%). A 15 μm-thick polypropylene film was attached to the surface of the composition layer and wound into a roll, and the roll-shaped adhesive film was slit into a width of 507 mm to obtain a sheet-shaped adhesive film having a size of 507 mm × 336 mm. .

下記表1は実施例1〜8および比較例1〜8の樹脂組成物の組成を示す。表1中のエポキシ樹脂、硬化剤及び分散剤における製品名(その略記)の材料種との対応は以下の通り。   Table 1 below shows the compositions of the resin compositions of Examples 1-8 and Comparative Examples 1-8. Correspondence between the epoxy resin, the curing agent and the dispersant in Table 1 and the material type of the product name (abbreviation thereof) is as follows.

エポキシ樹脂
828US:液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂
YX4000HK:ビキシレノール型エポキシ樹脂
NC3000:ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂
HP6000:ナフチレンエーテル型エポキシ樹脂
ESN-475V:ナフトール型エポキシ樹脂
HP4700:ナフタレン型4官能エポキシ樹脂
Epoxy resin
828US: Liquid bisphenol A type epoxy resin
YX4000HK: Bixylenol type epoxy resin
NC3000: Biphenyl aralkyl type epoxy resin
HP6000: Naphthylene ether type epoxy resin
ESN-475V: Naphthol type epoxy resin
HP4700: Naphthalene type tetrafunctional epoxy resin

硬化剤
HPC8000-65T:活性エステル硬化剤
SN485:ナフタレン型硬化剤
LA3018-50P:トリアジン骨格含有クレゾールノボラック型硬化剤
分散剤
LB-1520:ノニオン性界面活性剤(エーテル型)
AKM-0531:ノニオン性界面活性剤(スチレン-マレイン酸コポリマー型)
KBM-103:フェニルシラン型シランカップリング剤
KBM-403:エポキシシラン型シランカップリング剤
KBN-573:フェニルアミノシラン型シランカップリング剤
KBM-903:アミノシラン型シランカップリング剤
KR-46B :チタネート型カップリング剤
W-9010 :ホスホン酸基を有する高分子分散剤(アニオン性分散剤)
L-18 :カルボン酸基を有する高分子分散剤(アニオン性分散剤)
VB-F :カチオン性界面活性剤
Curing agent
HPC8000-65T: Active ester curing agent
SN485: Naphthalene type curing agent
LA3018-50P: Triazine skeleton-containing cresol novolac type curing agent dispersant
LB-1520: Nonionic surfactant (ether type)
AKM-0531: Nonionic surfactant (styrene-maleic acid copolymer type)
KBM-103: Phenylsilane type silane coupling agent
KBM-403: Epoxy silane type silane coupling agent
KBN-573: Phenylaminosilane type silane coupling agent
KBM-903: Aminosilane type silane coupling agent
KR-46B: Titanate type coupling agent
W-9010: Polymer dispersant having phosphonic acid group (anionic dispersant)
L-18: Polymer dispersant having a carboxylic acid group (anionic dispersant)
VB-F: Cationic surfactant

下記表2は実施例1〜8および比較例1〜8の試験(評価)結果を示す。表2中の「10^11」、「10^9」等は「1011」、「10」等を表す(*1)。 Table 2 below shows the test (evaluation) results of Examples 1-8 and Comparative Examples 1-8. Table 2 in "10 ^ 11", such as "10 ^ 9" represents "10 11", "10 9", etc. (* 1).

一般にシリカに代表される無機充填材のエポキシ樹脂中での分散性を向上させるために、無機充填材をシラン系やチタン系等のカップリング剤で処理することが行われる場合がある。しかし、誘電体粉末(チタン酸バリウム)をカップリング剤で処理した場合、誘電体粉末が良好な分散状態で分散したワニスを調製することができなかった(比較例1〜4)。また、誘電体粉末(チタン酸バリウム)が良好な分散状態で分散したワニスを調製できても、ワニスの保管中に誘電体粉末が沈降して、誘電体粉末と樹脂成分とが分離してしまい、分散安定性に優れたワニスを得ることができなかった(比較例4)。   In general, in order to improve the dispersibility of an inorganic filler typified by silica in an epoxy resin, the inorganic filler may be treated with a silane-based or titanium-based coupling agent. However, when the dielectric powder (barium titanate) was treated with the coupling agent, a varnish in which the dielectric powder was dispersed in a good dispersion state could not be prepared (Comparative Examples 1 to 4). Further, even if a varnish in which the dielectric powder (barium titanate) is dispersed in a good dispersion state can be prepared, the dielectric powder settles during the storage of the varnish, and the dielectric powder and the resin component are separated. However, a varnish excellent in dispersion stability could not be obtained (Comparative Example 4).

これに対し、誘電体粉末をノニオン性界面活性剤で処理すると、誘電体粉末が良好な分散状態で分散したワニスを調製でき、しかも、保管中に誘電体粉末と樹脂成分の分離が生じることがない、誘電体粉末の分散安定性に優れたワニスを得ることができた。また、誘電体粉末をノニオン性界面活性剤で処理して得られるワニスの塗工、乾燥によって樹脂組成物層を形成し、該樹脂組成物層を熱硬化して得られる絶縁層は、高温高湿環境下においてもその高い電気抵抗値が維持される高い絶縁信頼性を有する、絶縁層となった。なお、アニオン性やカチオン性の分散剤(界面活性剤)で誘電体粉末を処理した場合、誘電体粉末の分散安定性に優れたワニスを得ることができなかったり、高い絶縁信頼性の絶縁層を形成し得る、ワニスを得ることができなかった(比較例5〜8)。   On the other hand, when the dielectric powder is treated with a nonionic surfactant, a varnish in which the dielectric powder is dispersed in a good dispersion state can be prepared, and further, the dielectric powder and the resin component may be separated during storage. It was possible to obtain a varnish having excellent dispersion stability of the dielectric powder. In addition, a resin composition layer is formed by coating and drying a varnish obtained by treating a dielectric powder with a nonionic surfactant, and the insulating layer obtained by thermosetting the resin composition layer has a high temperature and a high temperature. The insulating layer has high insulation reliability and maintains its high electric resistance even in a humid environment. When the dielectric powder is treated with an anionic or cationic dispersant (surfactant), it is not possible to obtain a varnish having excellent dispersion stability of the dielectric powder, or an insulating layer with high insulation reliability. It was not possible to obtain a varnish capable of forming (Comparative Examples 5 to 8).

Claims (13)

(A)エポキシ樹脂、
(B)誘電体粉末、
(C)一般式(3):

(式中、Aはアルキレン基を表し、Rは水素、アルキル基、又はアリール基を表し、nは1〜100の整数を表す。)
で表されるセグメントを有する化合物であるオキシアルキレン基又はポリオキシアルキレン基を有する側鎖を有する高分子化合物、及びポリエチレングリコールからなる群から選択される1種または2種以上、並びに
(D)硬化剤
を含有る樹脂組成物。
(A) Epoxy resin,
(B) Dielectric powder,
(C) one general formula (3):

(In the formula, A 1 represents an alkylene group, R 2 represents hydrogen, an alkyl group, or an aryl group, and n represents an integer of 1 to 100.)
A polymer compound having a side chain having an oxyalkylene group or a polyoxyalkylene group , which is a compound having a segment represented by, and one or more selected from the group consisting of polyethylene glycol, and (D) curing the resin composition you containing agent.
が、それぞれ独立に、エチレン基またはプロピレン基である、請求項1に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to claim 1, wherein A 1 is each independently an ethylene group or a propylene group. がメチル基またはエチル基である、請求項1又は2に記載の樹脂組成物。 R 2 is a methyl group or an ethyl group, resin composition according to claim 1 or 2. ポリエチレングリコールの数平均分子量が150〜30,000である、請求項1〜のいずれか1項に記載の樹脂組成物。 The number average molecular weight of the polyethylene glycol is 150~30,000 resin composition according to any one of claims 1-3. (B)誘電体粉末が、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウム、チタン酸マグネシウム、チタン酸ビスマス、チタン酸ジルコニウム、チタン酸亜鉛及び二酸化チタンからなる群から選択される1種または2種以上を含む、請求項1〜のいずれか1項に記載の樹脂組成物。 (B) The dielectric powder is one or two selected from the group consisting of barium titanate, strontium titanate, calcium titanate, magnesium titanate, bismuth titanate, zirconium titanate, zinc titanate and titanium dioxide. including more, the resin composition according to any one of claims 1-4. (B)誘電体粉末が、チタン酸バリウムである、請求項1〜のいずれか1項に記載の樹脂組成物。 (B) a dielectric powder, barium titanate, resin composition according to any one of claims 1-5. (B)誘電体粉末が、(C)一般式(3)で表されるセグメントを有する化合物であるオキシアルキレン基又はポリオキシアルキレン基を有する側鎖を有する高分子化合物、及びポリエチレングリコールからなる群から選択される1種または2種以上により処理されている、請求項1〜6のいずれか1項に記載の樹脂組成物。(B) Dielectric powder, (C) a polymer compound having a side chain having an oxyalkylene group or a polyoxyalkylene group, which is a compound having a segment represented by the general formula (3), and a group consisting of polyethylene glycol The resin composition according to any one of claims 1 to 6, which is treated with one kind or two or more kinds selected from the following. (D)硬化剤が、フェノール系硬化剤、シアネートエステル系硬化剤及び活性エステル系硬化剤からなる群から選択される1種又は2種以上を含む、請求項1〜のいずれか1項に記載の樹脂組成物。 The curing agent (D) comprises one or more selected from the group consisting of a phenolic curing agent, a cyanate ester curing agent and an active ester curing agent, according to any one of claims 1 to 8. The resin composition described. 多層プリント配線板内のコンデンサ形成用樹脂組成物である、請求項1〜のいずれか1項に記載の樹脂組成物。 A capacitor forming resin composition of the multilayer printed wiring board, the resin composition according to any one of claims 1-8. 指紋センサー用樹脂組成物である、請求項1〜のいずれか1項に記載の樹脂組成物。 A fingerprint sensor for the resin composition, the resin composition according to any one of claims 1-8. 請求項1〜のいずれか1項に記載の樹脂組成物による樹脂組成物ワニス。 Claim 1-8 or 1 resin composition according to the resin composition according to paragraph varnish. 請求項1〜のいずれか1項に記載の樹脂組成物を用いてなるシート状積層材料。 Sheet laminate material formed by using the resin composition according to any one of claims 1-8. 請求項1〜のいずれか1項に記載の樹脂組成物の硬化物からなる絶縁層が2つの導電層間に挟まれてコンデンサを形成している、コンデンサを内蔵する多層プリント配線板。 Sandwiched claim 1-8 or insulating layer comprising a cured product of the resin composition according to item 1 has two conductive layers of forming a capacitor, a multilayer printed wiring board with a built-in capacitor.
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