JP6672631B2 - Silicone resin tablet, substrate for mounting optical semiconductor element, method for manufacturing the same, and optical semiconductor device - Google Patents

Silicone resin tablet, substrate for mounting optical semiconductor element, method for manufacturing the same, and optical semiconductor device Download PDF

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Description

本発明は、シリコーン樹脂タブレット、光半導体素子搭載用基板及びその製造方法、並びに、光半導体装置に関する。   The present invention relates to a silicone resin tablet, a substrate for mounting an optical semiconductor element, a method for manufacturing the same, and an optical semiconductor device.

熱硬化性樹脂はその特有な架橋構造に由来する優れた各種特性を示すため、広い用途に使用されている。用途の一つとして、LED(Light Emitting Diode:発光ダイオード)等の光半導体素子と蛍光体とを組み合わせた光半導体装置が挙げられる。光半導体装置は、高エネルギー効率、長寿命等の利点から、屋外用ディスプレイ、携帯液晶バックライト、車載用途等の様々な用途に適用され、その需要が拡大している。   Thermosetting resins are used for a wide range of applications because they exhibit various excellent properties derived from their unique crosslinked structure. One application is an optical semiconductor device in which an optical semiconductor element such as an LED (Light Emitting Diode) is combined with a phosphor. BACKGROUND ART Optical semiconductor devices have been applied to various applications such as outdoor displays, portable liquid crystal backlights, and in-vehicle applications because of their advantages such as high energy efficiency and long life, and their demands are expanding.

特許文献1には、エポキシ樹脂を含む熱硬化性樹脂組成物をリフレクターの材料として用いた光半導体素子搭載用基板が開示されている。また、特許文献1には、上記熱硬化性樹脂組成物からなる樹脂タブレットをトランスファー成形することにより、リフレクターを作製することが開示されている。   Patent Document 1 discloses a substrate for mounting an optical semiconductor element using a thermosetting resin composition containing an epoxy resin as a material of a reflector. Patent Document 1 discloses that a reflector is produced by transfer-molding a resin tablet made of the thermosetting resin composition.

ここで、樹脂タブレットのトランスファー成形により成形体を作製する際、連続的に作業を行うことが検討されている。例えば、特許文献2には、リードフレームに装着した電子部品を樹脂材料にて封止成形するための樹脂封止成形装置、特に、樹脂成形金型に複数個のポットとプランジャを備えた、マルチプランジャ型の樹脂封止成形装置に併設して用いられる樹脂タブレットの搬送供給装置と、該搬送供給装置を用いる樹脂タブレットの搬送供給方法が開示されている。   Here, when manufacturing a molded body by transfer molding of a resin tablet, continuous operation is being studied. For example, Patent Literature 2 discloses a resin encapsulation molding apparatus for encapsulating and molding an electronic component mounted on a lead frame with a resin material, and more particularly, a resin molding die having a plurality of pots and a plunger. There is disclosed a resin tablet transfer / supply device used in conjunction with a plunger-type resin sealing / molding device, and a resin tablet transfer / supply method using the transfer / supply device.

一方、リフレクターの材料としてシリコーン樹脂を用いることも検討されている。例えば、特許文献3には、ビニル基及びアリル基のいずれか一方と、水素原子が、直接ケイ素原子に結合してなる構造を有するシリコーン樹脂を用いた光半導体素子収納用実装パッケージ用樹脂組成物が開示されている。   On the other hand, the use of a silicone resin as a material for the reflector is also being studied. For example, Patent Document 3 discloses a resin composition for an optical semiconductor element housing packaging package using a silicone resin having a structure in which one of a vinyl group and an allyl group and a hydrogen atom are directly bonded to a silicon atom. Is disclosed.

特開2006−140207号公報JP 2006-140207 A 特開平8−108432号公報JP-A-8-108432 特開2009−21394号公報JP 2009-21394 A

特許文献3に記載の樹脂組成物はペースト状であるため、該樹脂組成物から樹脂タブレットを形成することが難しい。また、特許文献3のようにシリコーン樹脂を含有する樹脂組成物を用いて樹脂タブレットを形成した場合、特許文献2に記載されるような搬送供給装置を適用しようとすると、タブレットの運搬時に形状が変形してしまい、タブレットを自動搬送によりトランスファー成形装置へ供給することが難しい。   Since the resin composition described in Patent Document 3 is in a paste form, it is difficult to form a resin tablet from the resin composition. In addition, when a resin tablet is formed using a resin composition containing a silicone resin as in Patent Document 3, if a transport and supply device as described in Patent Document 2 is applied, the shape of the tablet during transport of the tablet is reduced. The tablet is deformed, and it is difficult to supply the tablet to the transfer molding device by automatic conveyance.

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、形状が変形し難く、運搬性及び自動搬送性に優れるシリコーン樹脂タブレット、それを用いた光半導体素子搭載用基板及びその製造方法、並びに、光半導体装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, the shape is difficult to deform, silicone resin tablet excellent in transportability and automatic transportability, an optical semiconductor element mounting substrate using the same and a method of manufacturing the same, and It is an object to provide an optical semiconductor device.

上記課題を解決するために、本発明者らが鋭意検討した結果、特定のシリコーン樹脂を含むシリコーン樹脂タブレットは、形状が変形し難く、運搬性及び自動搬送性に優れることを見出し、本発明を完成するに至った。   In order to solve the above-mentioned problems, the present inventors have conducted intensive studies, and found that a silicone resin tablet containing a specific silicone resin is hardly deformed and has excellent transportability and automatic transportability. It was completed.

本発明は、シリコーン樹脂及び顔料を含み、シリコーン樹脂が25℃で固体状のシリコーン樹脂及び25℃で液状の熱硬化性シリコーン樹脂を含有するシリコーン樹脂タブレットに関する。   The present invention relates to a silicone resin tablet containing a silicone resin and a pigment, wherein the silicone resin contains a solid silicone resin at 25 ° C. and a thermosetting silicone resin liquid at 25 ° C.

本発明のシリコーン樹脂タブレットは、シリコーン樹脂及び顔料を含み、シリコーン樹脂が、ケイ素原子に結合しているアリール基又はシクロアルキル基の割合が、ケイ素原子に結合している炭化水素基の全量を基準として20モル%以上であるシリコーン樹脂と、25℃で液状の熱硬化性シリコーン樹脂とを含有する態様をとることができる。   The silicone resin tablet of the present invention contains a silicone resin and a pigment, and the proportion of the aryl group or the cycloalkyl group bonded to the silicon atom is based on the total amount of the hydrocarbon group bonded to the silicon atom. Of a silicone resin of 20 mol% or more and a thermosetting silicone resin liquid at 25 ° C.

また、本発明のシリコーン樹脂タブレットは、シリコーン樹脂及び顔料を含み、シリコーン樹脂が、DD/MAS法を用いて測定された固体29Si−NMRスペクトルにおいて、含ケイ素結合単位Q、T及びDを以下の通り規定したとき、Q及びTに由来するシグナル面積とDに由来するシグナル面積との比Q+T:Dが1:0〜1:0.5であるシリコーン樹脂と、25℃で液状の熱硬化性シリコーン樹脂とを含有する態様をとることができる。ここで、Qは、1個のケイ素原子に結合した酸素原子が4個である含ケイ素結合単位を表し、Tは、1個のケイ素原子に結合した酸素原子が3個及び水素原子又は1価の有機基が1個である含ケイ素結合単位を表し、Dは、1個のケイ素原子に結合した酸素原子が2個及び水素原子又は1価の有機基が2個である含ケイ素結合単位を表す。 Further, the silicone resin tablet of the present invention contains a silicone resin and a pigment, and the silicone resin has the following silicon-containing bonding units Q, T, and D in a solid-state 29 Si-NMR spectrum measured by a DD / MAS method. A silicone resin having a ratio of Q + T: D of 1: 0 to 1: 0.5 between a signal area derived from Q and T and a signal area derived from D, and thermosetting liquid at 25 ° C. An embodiment containing a hydrophilic silicone resin can be taken. Here, Q represents a silicon-containing bonding unit having four oxygen atoms bonded to one silicon atom, and T represents three oxygen atoms bonded to one silicon atom and a hydrogen atom or monovalent. Represents a silicon-containing bonding unit having one organic group, and D represents a silicon-containing bonding unit having two oxygen atoms bonded to one silicon atom and two hydrogen atoms or monovalent organic groups. Represent.

さらに、本発明のシリコーン樹脂タブレットは、シリコーン樹脂及び顔料を含み、タイプAデュロメータ硬さが50以上である態様をとることができる。   Further, the silicone resin tablet of the present invention may include a silicone resin and a pigment, and may have a type A durometer hardness of 50 or more.

また、上記シリコーン樹脂タブレットにおいて、成形体の光反射率を向上する観点から、顔料は、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化アンチモン、酸化ジルコニウム及び無機中空粒子からなる群より選ばれる少なくとも1種の白色顔料を含有することができる。   In the silicone resin tablet, the pigment is selected from the group consisting of titanium oxide, zinc oxide, aluminum oxide, magnesium oxide, antimony oxide, zirconium oxide, and inorganic hollow particles from the viewpoint of improving the light reflectance of the molded article. At least one white pigment can be included.

本発明は、上記シリコーン樹脂タブレットを用いて形成される硬化物に関する。別の側面において、本発明は、上記シリコーン樹脂タブレットから形成された成形体を備える、光半導体素子搭載用基板に関する。当該光半導体素子搭載用基板は、底面及び壁面から構成される凹部を有し、当該凹部の底面が光半導体素子の搭載部であってもよい。この場合、凹部の壁面の少なくとも一部が、上記シリコーン樹脂タブレットから形成された成形体である。当該光半導体素子搭載用基板は、基板と、当該基板上に設けられた第1の接続端子及び第2の接続端子と、第1の接続端子と第2の接続端子との間に設けられた、上記シリコーン樹脂タブレットから形成された成形体と、を備えていてもよい。   The present invention relates to a cured product formed using the above-mentioned silicone resin tablet. In another aspect, the present invention relates to a substrate for mounting an optical semiconductor element, comprising a molded body formed from the silicone resin tablet. The optical semiconductor element mounting substrate may have a concave portion having a bottom surface and a wall surface, and the bottom surface of the concave portion may be an optical semiconductor element mounting portion. In this case, at least a part of the wall surface of the concave portion is a molded body formed from the silicone resin tablet. The optical semiconductor element mounting substrate is provided between the substrate, the first connection terminal and the second connection terminal provided on the substrate, and between the first connection terminal and the second connection terminal. And a molded article formed from the silicone resin tablet.

さらに別の側面において、本発明は、上記光半導体素子搭載用基板と、当該光半導体素子搭載用基板に搭載された光半導体素子と、を備える、光半導体装置に関する。   In still another aspect, the present invention relates to an optical semiconductor device including the optical semiconductor element mounting substrate and an optical semiconductor element mounted on the optical semiconductor element mounting substrate.

さらに別の側面において、本発明は、底面及び壁面から構成される凹部を有する光半導体素子搭載用基板の製造方法に関する。本発明に係る製造方法は、凹部の壁面の少なくとも一部を、上記シリコーン樹脂タブレットを用いてトランスファー成形して形成する工程を備える。   In still another aspect, the present invention relates to a method for manufacturing an optical semiconductor element mounting substrate having a concave portion having a bottom surface and a wall surface. The manufacturing method according to the present invention includes a step of forming at least a part of the wall surface of the concave portion by transfer molding using the silicone resin tablet.

本発明によれば、形状が変形し難く、運搬性及び自動搬送性に優れるシリコーン樹脂タブレット、それを用いた光半導体素子搭載用基板及びその製造方法、並びに、光半導体装置を提供することができる。また、上記シリコーン樹脂タブレットを用いたトランスファー成形により、光学特性、耐熱性及び耐光性に優れる成形体を作製することができる。   Advantageous Effects of Invention According to the present invention, it is possible to provide a silicone resin tablet which is hardly deformed and has excellent transportability and automatic transportability, a substrate for mounting an optical semiconductor element using the same, a method for manufacturing the same, and an optical semiconductor device. . In addition, a molded article having excellent optical properties, heat resistance and light resistance can be produced by transfer molding using the silicone resin tablet.

光半導体素子搭載用基板の一実施形態を示す斜視図である。It is a perspective view showing one embodiment of a substrate for mounting an optical semiconductor element. 光半導体素子搭載用基板を製造する工程の一実施形態を示す概略図である。It is the schematic which shows one Embodiment of the process of manufacturing the board | substrate for mounting an optical semiconductor element. 光半導体素子搭載用基板に光半導体素子を搭載した状態の一実施形態を示す斜視図である。It is a perspective view showing one embodiment of the state where an optical semiconductor element is mounted on a substrate for mounting an optical semiconductor element. 光半導体装置の一実施形態を示す模式断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing one embodiment of the optical semiconductor device. 光半導体装置の他の実施形態を示す模式断面図である。It is a schematic cross section showing other embodiments of an optical semiconductor device. 光半導体装置の他の実施形態を示す模式断面図である。It is a schematic cross section showing other embodiments of an optical semiconductor device. 銅張積層板の一実施形態を示す模式断面図である。It is a schematic cross section showing one embodiment of a copper clad laminate. 銅張積層板を用いて作製された光半導体装置の一例を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows an example of the optical semiconductor device manufactured using the copper clad laminated board. 光半導体装置の他の実施形態を示す模式断面図である。It is a schematic cross section showing other embodiments of an optical semiconductor device.

以下、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail. However, the present invention is not limited to the following embodiments.

[シリコーン樹脂タブレット]
本実施形態のシリコーン樹脂タブレットは、硬さを高めることにより、形状が変形し難く、運搬性及び自動搬送性に優れるものとなる。
[Silicone resin tablet]
By increasing the hardness, the silicone resin tablet of the present embodiment is less likely to be deformed, and is excellent in transportability and automatic transportability.

シリコーン樹脂タブレットのタイプAデュロメータ硬さは50以上であるとよい。シリコーン樹脂タブレットの硬さを向上させることで、自動搬送を行う際にタブレットの取り扱いが容易になる傾向がある。   The type A durometer hardness of the silicone resin tablet is preferably 50 or more. Improving the hardness of the silicone resin tablet tends to facilitate the handling of the tablet during automatic conveyance.

本実施形態のシリコーン樹脂タブレットは、特定のシリコーン樹脂(以下、シリコーン樹脂(X)ということがある)を含有するシリコーン樹脂及び顔料を含むことができる。上記シリコーン樹脂(X)は、25℃で固体状のシリコーン樹脂であるとよい。シリコーン樹脂タブレット中に25℃で固体状のシリコーン樹脂を含むことにより、硬さが向上する傾向にある。25℃で固体状のシリコーン樹脂と共に、25℃で液体のシリコーン樹脂を併用することで、顔料を容易に均一混合することができ、成形されるタブレットは搬送性に優れるものとなる。   The silicone resin tablet of the present embodiment can include a silicone resin containing a specific silicone resin (hereinafter, sometimes referred to as silicone resin (X)) and a pigment. The silicone resin (X) is preferably a silicone resin that is solid at 25 ° C. When the silicone resin tablet contains a solid silicone resin at 25 ° C., the hardness tends to be improved. By using a silicone resin that is liquid at 25 ° C. together with a silicone resin that is solid at 25 ° C., the pigment can be easily and uniformly mixed, and the tablet to be formed has excellent transportability.

また、上記シリコーン樹脂(X)は、ケイ素原子に結合しているアリール基又はシクロアルキル基の割合が、ケイ素原子に結合している炭化水素基の全量を基準として20モル%以上であるシリコーン樹脂であってもよい。アリール基又はシクロアルキル基のようなかさ高い基の割合が高いシリコーン樹脂を含むことにより、シリコーン樹脂タブレットの硬さが向上する傾向にある。   Further, the silicone resin (X) is a silicone resin in which the ratio of an aryl group or a cycloalkyl group bonded to a silicon atom is 20 mol% or more based on the total amount of the hydrocarbon group bonded to the silicon atom. It may be. By including a silicone resin having a high proportion of a bulky group such as an aryl group or a cycloalkyl group, the hardness of the silicone resin tablet tends to be improved.

さらに、上記シリコーン樹脂(X)は、DD/MAS法を用いて測定された固体29Si−NMRスペクトルにおいて、含ケイ素結合単位Q、T及びDを以下の通り規定したとき、Q及びTに由来するシグナル面積とDに由来するシグナル面積との比Q+T:Dが1:0〜1:0.5であるシリコーン樹脂であってもよい。ここで、Qは、1個のケイ素原子に結合した酸素原子が4個である含ケイ素結合単位を表し、Tは、1個のケイ素原子に結合した酸素原子が3個及び水素原子又は1価の有機基が1個である含ケイ素結合単位を表し、Dは、1個のケイ素原子に結合した酸素原子が2個及び水素原子又は1価の有機基が2個である含ケイ素結合単位を表す。Q、Tの割合が高いシリコーン樹脂を含むことにより、シリコーン樹脂タブレットの硬さが向上する傾向にある。 Further, the silicone resin (X) is derived from Q and T when the silicon-containing bonding units Q, T and D are defined as follows in a solid-state 29 Si-NMR spectrum measured by the DD / MAS method. It may be a silicone resin in which the ratio Q + T: D of the signal area derived from D to the signal area derived from D is from 1: 0 to 1: 0.5. Here, Q represents a silicon-containing bonding unit having four oxygen atoms bonded to one silicon atom, and T represents three oxygen atoms bonded to one silicon atom and a hydrogen atom or monovalent. Represents a silicon-containing bonding unit having one organic group, and D represents a silicon-containing bonding unit having two oxygen atoms bonded to one silicon atom and two hydrogen atoms or monovalent organic groups. Represent. By including a silicone resin having a high ratio of Q and T, the hardness of the silicone resin tablet tends to be improved.

シリコーン樹脂タブレットは、シリコーン樹脂及び顔料を含むシリコーン樹脂組成物をタブレットに成形することで作製することができる。以下、本実施形態のシリコーン樹脂タブレットを構成するシリコーン樹脂組成物に含まれる各成分について説明する。   The silicone resin tablet can be produced by molding a silicone resin composition containing a silicone resin and a pigment into a tablet. Hereinafter, each component contained in the silicone resin composition constituting the silicone resin tablet of the present embodiment will be described.

(シリコーン樹脂)
本実施形態に係るシリコーン樹脂はシリコーン樹脂(X)を含有する態様をとることができ、シリコーン樹脂(X)は、25℃で固体状のシリコーン樹脂であるとよい。本明細書において、25℃で固体状とは、軟化点が25℃を超えるものをいう。シリコーン樹脂の軟化点は、例えば、測定装置として、TMA−120型(セイコーインスツル株式会社製、製品名)を用い、測定モードをPenetration(針入モード)とし、昇温速度が10℃/分、荷重が98.1mN(10gf)の条件で測定することができる。
(Silicone resin)
The silicone resin according to the present embodiment can take a form containing the silicone resin (X), and the silicone resin (X) is preferably a silicone resin that is solid at 25 ° C. In the present specification, a solid at 25 ° C refers to a substance having a softening point exceeding 25 ° C. The softening point of the silicone resin is determined, for example, by using a TMA-120 (manufactured by Seiko Instruments Inc., product name) as a measuring device, setting the measurement mode to Penetration (needle insertion mode), and increasing the temperature at a rate of 10 ° C./min. And a load of 98.1 mN (10 gf).

シリコーン樹脂(X)の軟化点は、25℃超であれば特に限定されないが、25℃超180℃以下であることが好ましく、26℃以上150℃以下であることがより好ましい。この範囲であれば、トランスファー成形に用いる際の取扱いがより容易となる傾向にある。   The softening point of the silicone resin (X) is not particularly limited as long as it is higher than 25 ° C, but is preferably higher than 25 ° C and 180 ° C or lower, more preferably 26 ° C or higher and 150 ° C or lower. Within this range, handling when used for transfer molding tends to be easier.

シリコーン樹脂(X)としては、炭素数1〜12の有機基がケイ素原子に結合しているシリコーン樹脂が好ましく、炭素数1〜8の有機基がケイ素原子に結合しているシリコーン樹脂がより好ましい。該有機基は、炭化水素基であることが好ましく、炭化水素基としては、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基及びアリール基が挙げられる。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基及びプロピル基が挙げられる。シクロアルキル基としては、例えば、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基が挙げられる。アラルキル基としては、例えば、ベンジル基が挙げられる。アリール基としては、例えば、フェニル基、トリル基及びキシリル基が挙げられる。これらの基は、水素原子が部分的に塩素原子、フッ素原子等で置換されたハロゲン化炭化水素基であってもよい。シリコーン樹脂の合成の容易さ及び25℃で固体状となり易い観点から、有機基としては、アリール基が好ましく、フェニル基がより好ましい。   As the silicone resin (X), a silicone resin having an organic group having 1 to 12 carbon atoms bonded to a silicon atom is preferable, and a silicone resin having an organic group having 1 to 8 carbon atoms bonded to a silicon atom is more preferable. . The organic group is preferably a hydrocarbon group, and examples of the hydrocarbon group include an alkyl group, a cycloalkyl group, an aralkyl group and an aryl group. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, and a propyl group. Examples of the cycloalkyl group include a cyclopentyl group and a cyclohexyl group. Examples of the aralkyl group include a benzyl group. Examples of the aryl group include a phenyl group, a tolyl group and a xylyl group. These groups may be halogenated hydrocarbon groups in which a hydrogen atom is partially substituted with a chlorine atom, a fluorine atom, or the like. As the organic group, an aryl group is preferred, and a phenyl group is more preferred, from the viewpoints of ease of synthesis of the silicone resin and easy formation of a solid at 25 ° C.

トランスファー成形性を向上させる観点から、シリコーン樹脂(X)は熱硬化性のシリコーン樹脂であってもよい。熱硬化性のシリコーン樹脂としては、例えば、付加反応が可能な基を有するケイ素化合物が挙げられる。   From the viewpoint of improving transfer moldability, the silicone resin (X) may be a thermosetting silicone resin. Examples of the thermosetting silicone resin include a silicon compound having a group capable of performing an addition reaction.

付加反応が可能な基としては、例えば、アルケニル基、アルキニル基、カルボニル基、チオール基、エポキシ基、アミノ基、スルフィド基及びケイ素原子に結合した水素原子(Si−H)が挙げられる。これらの基の中でも、アルケニル基及び/又はケイ素原子に結合した水素原子を有するケイ素化合物であること、すなわち、ヒドロシリル化が可能な基を有するケイ素化合物が好ましい。   Examples of the group capable of performing the addition reaction include an alkenyl group, an alkynyl group, a carbonyl group, a thiol group, an epoxy group, an amino group, a sulfide group, and a hydrogen atom (Si-H) bonded to a silicon atom. Among these groups, a silicon compound having a hydrogen atom bonded to an alkenyl group and / or a silicon atom, that is, a silicon compound having a group capable of hydrosilylation is preferable.

シリコーン樹脂(X)は、RSiO3/2で表される単位を有しているとよく、RSiO3/2で表される単位と、RSiO2/2で表される単位、RSiO1/2で表される単位及びSiO4/2で表される単位から選ばれる少なくとも1種の単位とを有していてもよい。 Silicone resin (X) may as having a unit represented by R 1 SiO 3/2, and unit represented by R 1 SiO 3/2, units represented by R 2 SiO 2/2 , R 3 SiO 1/2 and at least one unit selected from units represented by SiO 4/2 .

、R及びRは、それぞれ独立に1価の有機基を表し、炭素数1〜12の炭化水素基であることが好ましい。炭化水素基としては、上述した基と同じものが例示される。 R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a monovalent organic group, and is preferably a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. Examples of the hydrocarbon group are the same as those described above.

シリコーン樹脂の合成の容易さの点から、R、R及びRは、それぞれ独立にアルキル基又はアリール基であることが好ましく、メチル基又はフェニル基であることがより好ましい。 From the viewpoint of ease of synthesis of the silicone resin, R 1 , R 2 and R 3 are preferably each independently an alkyl group or an aryl group, more preferably a methyl group or a phenyl group.

シリコーン樹脂の軟化点をより高くする観点から、アリール基又はシクロアルキル基を有するシリコーン樹脂が好ましく、工業的な原料の入手性の観点から、フェニル基を有するシリコーン樹脂が好ましい。   From the viewpoint of increasing the softening point of the silicone resin, a silicone resin having an aryl group or a cycloalkyl group is preferable, and from the viewpoint of industrial availability of raw materials, a silicone resin having a phenyl group is preferable.

本実施形態に係るシリコーン樹脂(X)は、ケイ素原子に結合しているアリール基又はシクロアルキル基の割合が、ケイ素原子に結合している炭化水素基の全量を基準として20モル%以上であるシリコーン樹脂であってもよい。   In the silicone resin (X) according to the present embodiment, the ratio of the aryl group or the cycloalkyl group bonded to the silicon atom is 20 mol% or more based on the total amount of the hydrocarbon group bonded to the silicon atom. It may be a silicone resin.

シリコーン樹脂中に存在するアリール基又はシクロアルキル基の含有割合は、シリコーン樹脂のH−NMRスペクトルを測定することで算出することができる。具体的には、ケイ素原子に結合しているアリール基又はシクロアルキル基に由来するシグナル面積と、ケイ素原子に結合している直鎖状のアルキル基に由来するシグナル面積との比から算出することができる。 The content ratio of the aryl group or cycloalkyl group present in the silicone resin can be calculated by measuring the 1 H-NMR spectrum of the silicone resin. Specifically, it is calculated from the ratio of the signal area derived from the aryl group or cycloalkyl group bonded to the silicon atom and the signal area derived from the linear alkyl group bonded to the silicon atom. Can be.

シリコーン樹脂(X)におけるアリール基又はシクロアルキル基の含有割合は、20モル%以上であることが好ましく、30モル%以上であることがより好ましく、50モル%以上であることが更に好ましい。アリール基又はシクロアルキル基の含有割合を20モル%以上とすることで、形状が変形し難いシリコーン樹脂タブレットを得易くなる。   The content ratio of the aryl group or the cycloalkyl group in the silicone resin (X) is preferably at least 20 mol%, more preferably at least 30 mol%, even more preferably at least 50 mol%. By setting the content ratio of the aryl group or the cycloalkyl group to 20 mol% or more, it becomes easy to obtain a silicone resin tablet whose shape is hardly deformed.

本実施形態に係るシリコーン樹脂(X)は、下記のDD/MAS法を用いて測定された固体29Si−NMRスペクトルにおいて、含ケイ素結合単位Q、T及びDを以下の通り規定したとき、Q及びTに由来するシグナル面積と、Dに由来するシグナル面積との比Q+T:Dが1:0〜1:0.5であるシリコーン樹脂であってもよい。 In the silicone resin (X) according to the present embodiment, when the silicon-containing bonding units Q, T, and D are defined as follows in a solid-state 29 Si-NMR spectrum measured using the following DD / MAS method, And a silicone resin in which the ratio Q + T: D of the signal area derived from T to the signal area derived from D is 1: 0 to 1: 0.5.

すなわち、Qは、1個のケイ素原子に結合した酸素原子が4個である含ケイ素結合単位を表し、Tは、1個のケイ素原子に結合した酸素原子が3個及び水素原子又は1価の有機基が1個である含ケイ素結合単位を表し、Dは、1個のケイ素原子に結合した酸素原子が2個及び水素原子又は1価の有機基が2個である含ケイ素結合単位を表す。なお、式中のRはそれぞれ独立に1価の有機基を表す。   That is, Q represents a silicon-containing bonding unit having four oxygen atoms bonded to one silicon atom, and T represents three oxygen atoms bonded to one silicon atom and a hydrogen atom or monovalent. D represents a silicon-containing bonding unit having one organic group, and D represents a silicon-containing bonding unit having two oxygen atoms bonded to one silicon atom and two hydrogen atoms or two monovalent organic groups. . In addition, R in a formula respectively independently represents a monovalent organic group.

Q、T及びDにおける「酸素原子」とは、主として2個のケイ素原子間を結合する酸素原子であるが、例えばケイ素原子に結合した水酸基が有する酸素原子である場合も考えられる。また、「有機基」とは、ケイ素原子に結合する原子が炭素原子である1価の有機基であり、例えば炭素数が1〜10の有機基が挙げられる。該有機基としては、例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基及びN−アリール置換アミノアルキル基が挙げられる。   The “oxygen atom” in Q, T, and D is an oxygen atom that mainly bonds between two silicon atoms. For example, an oxygen atom of a hydroxyl group that is bonded to a silicon atom may be considered. Further, the “organic group” is a monovalent organic group in which an atom bonded to a silicon atom is a carbon atom, and examples thereof include an organic group having 1 to 10 carbon atoms. Examples of the organic group include an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an aralkyl group, and an N-aryl-substituted aminoalkyl group.

上記シグナル面積比は、Q+T:Dが1:0〜1:0.5であればよいが、さらに硬度の高いシリコーン樹脂タブレットを得る観点から、Q+T:Dを1:0〜1:0.3としてもよく、1:0〜1:0.2としてもよく、1:0〜1:0.1としてもよい。シグナル面積比を1:0.5以下とすることにより、自動搬送性に優れるタブレットを得易くなる。   The signal area ratio may be such that Q + T: D is 1: 0 to 1: 0.5, but from the viewpoint of obtaining a silicone resin tablet having higher hardness, Q + T: D is 1: 0 to 1: 0.3. And 1: 0 to 1: 0.2, or 1: 0 to 1: 0.1. When the signal area ratio is 1: 0.5 or less, it becomes easy to obtain a tablet having excellent automatic transportability.

シグナル面積比を確認するための固体29Si−NMRの測定手法は特に限定されず、例えば、CP/MAS法とDD/MAS法が挙げられるが、本実施形態においては定量性の点からDD/MAS法を採用している。 The method of measuring solid-state 29 Si-NMR for confirming the signal area ratio is not particularly limited, and includes, for example, the CP / MAS method and the DD / MAS method. The MAS method is adopted.

ところで、Roychen Josephらは、Macromolecules、1996、29、p.1305−1312において、固体29Si−NMRを用いて、コロイダルシリカとポリメタクリル酸メチルとのコンポジットの構造解析を報告している。また、荒又らは、BUNSEKI KAGAKU、1998、47、pp.971−978において、固体29Si−NMRを用いて、シリコーンゴム中のシリカ−シロキサン界面分析を報告している。固体29Si−NMRスペクトルの測定に当たっては、これらの報告を適宜参照することができる。 Incidentally, Roychen Joseph et al., Macromolecules, 1996, 29, p. 1305-1312, report the structural analysis of a composite of colloidal silica and polymethyl methacrylate using solid-state 29 Si-NMR. Also, Aramata et al., BUNSEKI KAGAKU, 1998, 47, pp. 147-64. 971-978, report a silica-siloxane interface analysis in silicone rubber using solid-state 29 Si-NMR. For the measurement of the solid-state 29 Si-NMR spectrum, these reports can be appropriately referred to.

固体29Si−NMRスペクトルにおける含ケイ素結合単位Q、T及びDの化学シフトは、Q単位:−90〜−120ppm、T単位:−45〜−80ppm、D単位:0〜−40ppmの範囲にそれぞれ観察されるため、含ケイ素結合単位Q、T及びDのシグナルを分離し、各単位に由来するシグナル面積を計算することが可能である。なお、スペクトル解析に際しては、解析精度向上の点から、Window関数として指数関数を採用し、なおかつLine Broadening係数を0〜50Hzの範囲に設定することができる。 The chemical shifts of the silicon-containing bonding units Q, T, and D in the solid-state 29 Si-NMR spectrum are respectively in the range of Q unit: -90 to -120 ppm, T unit: -45 to -80 ppm, and D unit: 0 to -40 ppm. As observed, it is possible to separate the signals of the silicon-containing bonding units Q, T and D and calculate the signal area derived from each unit. At the time of spectral analysis, an exponential function can be used as a Window function and the Line Broadening coefficient can be set in a range of 0 to 50 Hz from the viewpoint of improving analysis accuracy.

シグナル面積は、一般的なスペクトル解析ソフト(例えば、ブルカー社製のNMRソフトウェア「TopSpin」(登録商標)等)を用いて算出することができる。   The signal area can be calculated using general spectrum analysis software (for example, NMR software “TopSpin” (registered trademark) manufactured by Bruker).

シリコーン樹脂(X)の数平均分子量(Mn)は、トランスファー成形時の流動性の観点から3000未満が好ましく、2000未満がより好ましく、1500未満が更に好ましい。シリコーン樹脂(X)のMnは、700以上であってもよい。   The number average molecular weight (Mn) of the silicone resin (X) is preferably less than 3000, more preferably less than 2000, and even more preferably less than 1500 from the viewpoint of fluidity during transfer molding. Mn of the silicone resin (X) may be 700 or more.

数平均分子量(Mn)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法に従って標準ポリスチレンによる検量線を用いて測定した値を指す。具体的には、GPC測定装置としてポンプ(株式会社日立製作所製L−6200型)、カラム(TSKgel−G5000HXL及びTSKgel−G2000HXL、いずれも東ソー株式会社製、製品名)、検出器(株式会社日立製作所製L−3300RI型)を使用し、溶離液としてテトラヒドロフランを使用し、温度30℃、流量1.0mL/分の条件で、Mnを測定することができる。   The number average molecular weight (Mn) refers to a value measured using a calibration curve with standard polystyrene according to a gel permeation chromatography (GPC) method. Specifically, as a GPC measuring device, a pump (model L-6200 manufactured by Hitachi, Ltd.), a column (TSKgel-G5000HXL and TSKgel-G2000HXL, both manufactured by Tosoh Corporation, product name), a detector (Hitachi, Ltd.) M-3 can be measured at a temperature of 30 ° C. and a flow rate of 1.0 mL / min using tetrahydrofuran as an eluent.

本実施形態に係るシリコーン樹脂は、上述したシリコーン樹脂(X)と共に、25℃で液状の熱硬化シリコーン樹脂を更に含有することができる。25℃で液状の熱硬化性シリコーン樹脂としては、例えば、アルケニル基及びSiH基(ケイ素原子に結合した水素原子を有する基)のような熱硬化性の官能基を有する樹脂を用いることができる。SiH基のSiはシロキサン骨格中のケイ素原子であってもよい。   The silicone resin according to the present embodiment can further contain a thermosetting silicone resin that is liquid at 25 ° C. together with the above-described silicone resin (X). As the thermosetting silicone resin liquid at 25 ° C., for example, a resin having a thermosetting functional group such as an alkenyl group and a SiH group (a group having a hydrogen atom bonded to a silicon atom) can be used. Si of the SiH group may be a silicon atom in the siloxane skeleton.

硬化物の硬化性を向上させる観点から、熱硬化性シリコーン樹脂として、ケイ素原子に結合したアルケニル基を1分子中に2個以上有するシリコーン化合物と、ケイ素原子に結合した水素原子を1分子中に2個以上有するシリコーン化合物と、を反応させて得られるシリコーン樹脂を用いてもよい。また、熱硬化性シリコーン樹脂は、ケイ素原子に結合したアルケニル基を2個以上と、ケイ素原子に結合した、アルケニル基と反応可能な水素原子を2個以上とを1分子中に有するシリコーン化合物であってもよい。   From the viewpoint of improving the curability of the cured product, as a thermosetting silicone resin, a silicone compound having two or more alkenyl groups bonded to a silicon atom in one molecule, and a hydrogen atom bonded to a silicon atom in one molecule A silicone resin obtained by reacting two or more silicone compounds with each other may be used. A thermosetting silicone resin is a silicone compound having two or more alkenyl groups bonded to a silicon atom and two or more hydrogen atoms capable of reacting with an alkenyl group bonded to a silicon atom in one molecule. There may be.

アルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペテニル基及びヘキセニル基が挙げられ、中でもビニル基が好ましい。アルケニル基は、分子鎖末端のケイ素原子に結合していても、分子鎖途中のケイ素原子に結合していてもよいが、シリコーン樹脂組成物の硬化速度、硬化物の物性、特に強度の点から、分子鎖末端のケイ素原子に結合していてもよく、分子鎖両末端のケイ素原子に結合していてもよい。   Examples of the alkenyl group include a vinyl group, an allyl group, a butenyl group, a petenyl group, and a hexenyl group. Among them, a vinyl group is preferable. The alkenyl group may be bonded to a silicon atom at the terminal of the molecular chain, or may be bonded to a silicon atom in the middle of the molecular chain, but from the viewpoint of the curing rate of the silicone resin composition, physical properties of the cured product, particularly strength. And may be bonded to silicon atoms at both ends of the molecular chain.

25℃で液状の熱硬化性シリコーン樹脂には、アルケニル基以外の有機基がケイ素原子に結合していてもよい。有機基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基;フェニル基、トリル基、キシリル基等のアリール基などが挙げられる。有機基は、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基の水素原子が部分的に塩素原子、フッ素原子等で置換されたハロゲン化炭化水素基であってもよい。熱硬化性シリコーン樹脂の合成の容易さの点から、アルケニル基以外の有機基としては、アルキル基又はアリール基が好ましく、メチル基又はフェニル基がより好ましい。接着性向上の観点から、熱硬化性シリコーン樹脂は、エポキシ基、チオール基等の官能基を更に有していてもよい。   Organic groups other than alkenyl groups may be bonded to silicon atoms in the thermosetting silicone resin liquid at 25 ° C. Examples of the organic group include an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, and a propyl group; a cycloalkyl group such as a cyclopentyl group and a cyclohexyl group; and an aryl group such as a phenyl group, a tolyl group, and a xylyl group. The organic group may be a halogenated hydrocarbon group in which a hydrogen atom of an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group is partially substituted with a chlorine atom, a fluorine atom, or the like. The organic group other than the alkenyl group is preferably an alkyl group or an aryl group, and more preferably a methyl group or a phenyl group, from the viewpoint of ease of synthesis of the thermosetting silicone resin. From the viewpoint of improving adhesiveness, the thermosetting silicone resin may further have a functional group such as an epoxy group and a thiol group.

トランスファー成形時の硬化性を向上させる観点から、25℃で液状の熱硬化性シリコーン樹脂は、一分子中に存在するアルケニル基1個に対するSiH基の個数が0.5〜4.0個であることが好ましく、1.0〜3.0個であることがより好ましい。SiH基の個数が上記範囲にあると、シリコーン樹脂組成物の硬化性をより向上し易くなる。   From the viewpoint of improving the curability during transfer molding, the thermosetting silicone resin liquid at 25 ° C. has 0.5 to 4.0 SiH groups per one alkenyl group present in one molecule. It is more preferable that the number is 1.0 to 3.0. When the number of SiH groups is in the above range, the curability of the silicone resin composition is more easily improved.

25℃で液状の熱硬化性シリコーン樹脂のアルケニル基及びSiH基を含む反応基当量は、200〜2000g/molであることが好ましく、200〜1500g/molであることがより好ましく、200〜1000g/molであることが更に好ましい。熱硬化性シリコーン樹脂の反応基当量が2000g/mol以下であると、硬化物の硬さがより低下し難くなる傾向にある。反応基当量は、熱硬化性シリコーン樹脂を合成する際の仕込み組成から計算して得られる理論値を採用することができ、その計算方法は、理論平均分子構造の分子量/理論反応基数を算出することによって求めることができる。   The reactive group equivalent containing the alkenyl group and the SiH group of the thermosetting silicone resin liquid at 25 ° C. is preferably 200 to 2000 g / mol, more preferably 200 to 1500 g / mol, and more preferably 200 to 1000 g / mol. More preferably, it is mol. When the reactive group equivalent of the thermosetting silicone resin is 2000 g / mol or less, the hardness of the cured product tends to be more difficult to decrease. As the reactive group equivalent, a theoretical value obtained by calculating from the charged composition at the time of synthesizing the thermosetting silicone resin can be adopted, and the calculation method is to calculate the molecular weight of the theoretical average molecular structure / the number of theoretical reactive groups. Can be obtained by:

25℃で液状の熱硬化性シリコーン樹脂の粘度は、顔料と均一に混合でき、良好な作業性を得る観点から、25℃において1Pa・s以上が好ましく、3Pa・s以上がより好ましい。シリコーン樹脂の粘度は10Pa・s以下であると好ましい。上記粘度は、Research Equipment(London)LTD.製のICIコーンプレート型粘度計を用いて測定することができる。   The viscosity of the thermosetting silicone resin liquid at 25 ° C. is preferably 1 Pa · s or more, more preferably 3 Pa · s or more at 25 ° C., from the viewpoint of being able to mix uniformly with the pigment and obtaining good workability. It is preferable that the viscosity of the silicone resin is 10 Pa · s or less. The above viscosity is measured by Research Equipment (London) LTD. It can be measured using an ICI cone plate type viscometer manufactured by Toshiba Corporation.

25℃で液状の熱硬化性シリコーン樹脂としては、顔料等との混合作業時の取扱い性及びトランスファー成形性がより良好であり、シリコーン樹脂組成物の硬化後の硬さがより高くなることから、Mnが3000未満のものが好ましく、2000未満のものがより好ましく、1500未満のものが更に好ましい。25℃で液状の熱硬化性シリコーン樹脂のMnは、1200以上であってもよい。   As the thermosetting silicone resin liquid at 25 ° C., the handleability and transfer moldability at the time of mixing with a pigment or the like are better, and the hardness of the silicone resin composition after curing is higher, Preferably, the Mn is less than 3000, more preferably less than 2000, even more preferably less than 1500. Mn of the thermosetting silicone resin liquid at 25 ° C. may be 1200 or more.

25℃で液状の熱硬化性シリコーン樹脂としては、ポリオルガノシロキサン、ポリオルガノシルセスキオキサン、ポリオルガノハイドロジェンシロキサン、ポリオルガノハイドロジェンシルセスキオキサン等のシリコーン化合物を用いることができる。これらのシリコーン化合物は、公知の方法を用いて合成することができる。   As the thermosetting silicone resin liquid at 25 ° C., silicone compounds such as polyorganosiloxane, polyorganosilsesquioxane, polyorganohydrogensiloxane, and polyorganoshydrogensilsesquioxane can be used. These silicone compounds can be synthesized using a known method.

例えば、ケトン又はエーテル溶媒中、アミンの存在下にメチルトリクロロシランを加え、低温で水を滴下して加水分解により縮合して、ポリメチルシルセスキオキサンを合成することができる。また、水と有機溶剤との二層を形成する混合液に、アルカリ金属カルボン酸塩とアルコールとを溶存させ、この系内にメチルトリクロロシランを滴下して、加水分解により縮合して、ポリメチルシルセスキオキサンを合成することができる。ポリフェニルシルセスキオキサンは、フェニルトリクロロシランを加水分解してプレポリマー又はフェニルシラントリオールを得て、更にトルエン溶媒中、塩基性触媒の存在下で生成する水を共沸で系外に除去しながら縮合して合成できる。また、水と有機溶剤との二層を形成する混合液にアルカリ金属カルボン酸塩と低級脂肪族アルコールを溶存させ、この系内にフェニルトリクロロシランを滴下して、加水分解し、ポリフェニルシルセスキオキサンが合成できる。さらに、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン及びビニルトリメトキシシランを酸性触媒の存在下で加水分解して得られるプレポリマーを、更にイソプロピルアルコール溶媒中、塩基性触媒の存在下で反応し、ポリメチルフェニルビニルシルセスキオキサンを合成することが可能である。   For example, polymethylsilsesquioxane can be synthesized by adding methyltrichlorosilane to a ketone or ether solvent in the presence of an amine, adding water dropwise at a low temperature, and condensing by hydrolysis. Further, an alkali metal carboxylate and an alcohol are dissolved in a mixed solution forming a two-layer of water and an organic solvent, and methyltrichlorosilane is dropped into the system, which is condensed by hydrolysis to obtain polymethyl Silsesquioxane can be synthesized. Polyphenylsilsesquioxane hydrolyzes phenyltrichlorosilane to obtain a prepolymer or phenylsilanetriol, and further removes water generated in the presence of a basic catalyst in a toluene solvent by azeotropic distillation. It can be synthesized by condensation. In addition, an alkali metal carboxylate and a lower aliphatic alcohol are dissolved in a mixed solution forming a two-layer of water and an organic solvent, and phenyltrichlorosilane is dropped into this system, and the mixture is hydrolyzed to obtain polyphenylsilsesquicene. Oxane can be synthesized. Further, a prepolymer obtained by hydrolyzing methyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane and vinyltrimethoxysilane in the presence of an acidic catalyst is further reacted in an isopropyl alcohol solvent in the presence of a basic catalyst to obtain a polymer. It is possible to synthesize methylphenylvinylsilsesquioxane.

シリコーン樹脂が、シリコーン樹脂(X)と共に、25℃で液状の熱硬化性シリコーン樹脂を含有する場合、自動搬送性により優れるシリコーン樹脂タブレットが得られ易くなることから、シリコーン樹脂(X)の含有量は、25℃で液状の熱硬化性シリコーン樹脂100質量部に対して、5質量部以上であると好ましく、10質量部以上であるとより好ましく、20質量部以上であると更に好ましい。一方、トランスファー成形時のシリコーン樹脂組成物の硬化性を向上する観点から、シリコーン樹脂(X)の含有量は、25℃で液状の熱硬化性シリコーン樹脂100質量部に対して、40質量部以下であると好ましく、30質量部以下であるとより好ましい。すなわち、シリコーン樹脂に含まれるシリコーン樹脂(X)の含有量は、25℃で液状の熱硬化性シリコーン樹脂100質量部に対して、5〜40質量部とすることができ、10〜30質量部であってもよく、20〜30質量部であってもよい。   When the silicone resin contains a thermosetting silicone resin which is liquid at 25 ° C. together with the silicone resin (X), it is easy to obtain a silicone resin tablet which is excellent in automatic transportability. Is preferably at least 5 parts by mass, more preferably at least 10 parts by mass, even more preferably at least 20 parts by mass, based on 100 parts by mass of the thermosetting silicone resin liquid at 25 ° C. On the other hand, from the viewpoint of improving the curability of the silicone resin composition during transfer molding, the content of the silicone resin (X) is 40 parts by mass or less based on 100 parts by mass of the liquid thermosetting silicone resin at 25 ° C. And more preferably 30 parts by mass or less. That is, the content of the silicone resin (X) contained in the silicone resin can be 5 to 40 parts by mass, and 10 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the thermosetting silicone resin liquid at 25 ° C. And 20 to 30 parts by mass.

自動搬送性をより高める観点から、シリコーン樹脂組成物に含まれるシリコーン樹脂成分の総量は、シリコーン樹脂組成物の硬化後に固形分となる成分全量基準で、0.1質量%以上であることが好ましく、3質量%以上であることがより好ましく、5質量%以上であることが更に好ましい。硬化物の機械強度の観点から、シリコーン樹脂組成物に含まれるシリコーン樹脂成分の総量は、シリコーン樹脂組成物の硬化後に固形分となる成分全量基準で、40質量%以下であることが好ましく、30質量%以下であることがより好ましく、20質量%以下であることが更に好ましい。すなわち、シリコーン樹脂組成物に含まれるシリコーン樹脂成分の総量は、シリコーン性樹脂組成物の硬化後に固形分となる成分全量基準で、0.1〜40質量%とすることができ、3〜30質量%であってもよく、5〜20質量%であってもよい。   From the viewpoint of further improving the automatic transportability, the total amount of the silicone resin component contained in the silicone resin composition is preferably 0.1% by mass or more, based on the total amount of components that become solids after curing of the silicone resin composition. And more preferably 3% by mass or more, and further preferably 5% by mass or more. From the viewpoint of the mechanical strength of the cured product, the total amount of the silicone resin components contained in the silicone resin composition is preferably 40% by mass or less, based on the total amount of components that become solids after curing of the silicone resin composition. It is more preferably at most 20% by mass, more preferably at most 20% by mass. That is, the total amount of the silicone resin component contained in the silicone resin composition can be 0.1 to 40% by mass, based on the total amount of the component which becomes a solid after curing of the silicone resin composition, and can be 3 to 30% by mass. %, Or 5 to 20% by mass.

(硬化触媒)
本実施形態に係るシリコーン樹脂組成物は、硬化触媒を含有することができる。すなわち、本実施形態のシリコーン樹脂タブレットは、硬化触媒を含むことができる。本実施形態に係る硬化触媒としては特に限定されないが、シリコーン樹脂の硬化反応の種類(ヒドロシリル化反応、縮合反応等)に応じて適宜選択でき、反応を促進する触媒活性を有するものが使用できる。ヒドロシリル化反応の硬化触媒としては、例えば、カルステッド触媒、白金の単体、アルミナ、シリカ、カーボンブラック等の担体に固体白金を担持させたもの、塩化白金酸、塩化白金酸とアルコール、アルデヒド、ケトン等との錯体、白金−オレフィン錯体、白金−ビニルシロキサン錯体、白金−ホスフィン錯体、白金−ホスファイト錯体及びジカルボニルジクロロ白金が挙げられる。これらの硬化触媒は単独で使用してもよく、2種以上併用してもよい。
(Curing catalyst)
The silicone resin composition according to the present embodiment can contain a curing catalyst. That is, the silicone resin tablet of the present embodiment can include a curing catalyst. Although the curing catalyst according to the present embodiment is not particularly limited, it can be appropriately selected according to the type of curing reaction (hydrosilylation reaction, condensation reaction, and the like) of the silicone resin, and a catalyst having a catalytic activity for accelerating the reaction can be used. Examples of the curing catalyst for the hydrosilylation reaction include, for example, Karstedt's catalyst, platinum alone, alumina, silica, carbon black or the like with solid platinum supported thereon, chloroplatinic acid, chloroplatinic acid and alcohol, aldehyde, ketone, etc. And platinum-olefin complexes, platinum-vinylsiloxane complexes, platinum-phosphine complexes, platinum-phosphite complexes, and dicarbonyldichloroplatinum. These curing catalysts may be used alone or in combination of two or more.

白金−オレフィン錯体としては、例えば、Pt(CH=CH(PPh及びPt(CH=CHClが挙げられる。白金−ビニルシロキサン錯体としては、例えば、白金−2,4,6,8−テトラメチル−2,4,6,8−テトラビニルシクロテトラシロキサン錯体、白金−(ViMeSiOSiMeVi)及び白金−[(MeViSiO)が挙げられる。白金−ホスフィン錯体としては、例えば、白金−(PPh及び白金−(PBu)が挙げられる。白金−ホスファイト錯体としては、例えば、白金−[P(OPh)及び白金[P(OBu)が挙げられる。上記式中、Meはメチル基を、Buはブチル基を、Viはビニル基を、Phはフェニル基をそれぞれ表し、n及びmは、整数を表す。 Examples of the platinum-olefin complex include Pt (CH 2 CHCH 2 ) 2 (PPh 3 ) 2 and Pt (CH 2 CHCH 2 ) 2 Cl 2 . Examples of the platinum-vinylsiloxane complex include platinum-2,4,6,8-tetramethyl-2,4,6,8-tetravinylcyclotetrasiloxane complex, platinum- (ViMe 2 SiOSiMe 2 Vi) n and platinum -[(MeViSiO) 4 ] m . Platinum - The phosphine complexes, such as platinum - (PPh 3) 4 and platinum - (PBu 3) 4) and the like. Examples of the platinum-phosphite complex include platinum- [P (OPh) 3 ] 4 and platinum [P (OBu) 3 ] 4 . In the above formula, Me represents a methyl group, Bu represents a butyl group, Vi represents a vinyl group, Ph represents a phenyl group, and n and m each represent an integer.

これらの硬化触媒の中でも、触媒活性の点から、塩化白金酸、白金−オレフィン錯体又は白金−ビニルシロキサン錯体が好ましい。   Among these curing catalysts, chloroplatinic acid, a platinum-olefin complex or a platinum-vinylsiloxane complex is preferable from the viewpoint of catalytic activity.

一方、縮合反応の硬化触媒として、例えば、有機酸亜鉛、ルイス酸触媒、有機アルミニウム化合物及び有機チタニウム化合物のような有機金属触媒を用いることができる。有機金属触媒としては、例えば、オクチル酸亜鉛、安息香酸亜鉛、p−tert−ブチル安息香酸亜鉛、ラウリン酸亜鉛、ステアリン酸亜鉛塩化アルミニウム、過塩素酸アルミニウム、リン酸アルミニウム、アルミニウムトリイソプロポキシド、アルミニウムアセチルアセトナート、エチルアセトアセテートアルミニウムジ(ノルマルブチレート)、アルミニウム−n−ブトキシジエチルアセト酢酸エステル、テトラブチルチタネート、テトライソプロピルチタネート、オクチル酸錫、ナフテン酸コバルト及びナフテン酸錫が挙げられる。   On the other hand, as a curing catalyst for the condensation reaction, for example, an organic metal catalyst such as an organic acid zinc, a Lewis acid catalyst, an organic aluminum compound and an organic titanium compound can be used. As the organic metal catalyst, for example, zinc octylate, zinc benzoate, zinc p-tert-butyl benzoate, zinc laurate, zinc aluminum stearate, aluminum perchlorate, aluminum phosphate, aluminum triisopropoxide, Examples include aluminum acetylacetonate, ethyl acetoacetate aluminum di (normal butyrate), aluminum-n-butoxydiethylacetoacetate, tetrabutyl titanate, tetraisopropyl titanate, tin octylate, cobalt naphthenate, and tin naphthenate.

シリコーン樹脂組成物(シリコーン樹脂タブレット)中に含まれる硬化触媒の量は特に限定されないが、シリコーン樹脂タブレットのトランスファー成形時の硬化性を向上させる観点から、シリコーン樹脂100質量部に対して、0.01〜0.5質量部が好ましく、0.01〜0.3質量部がより好ましく、0.01〜0.2質量部が更に好ましい。   The amount of the curing catalyst contained in the silicone resin composition (silicone resin tablet) is not particularly limited. However, from the viewpoint of improving the curability of the silicone resin tablet during transfer molding, the amount is preferably 0.1 to 100 parts by mass of the silicone resin. The amount is preferably from 0.01 to 0.5 part by mass, more preferably from 0.01 to 0.3 part by mass, and still more preferably from 0.01 to 0.2 part by mass.

(顔料)
本実施形態に係る顔料は、シリコーン樹脂タブレットを用いて形成される硬化物の使用目的に応じて選択することができる。例えば、硬化物に高い光反射性が求められる場合、顔料として白色顔料を用いることができ、発光素子が発光していない場合に光半導体装置が黒色であることが求められる場合、顔料として黒色顔料を用いることができる。顔料としては、例えば、白色顔料、黒色顔料、赤色顔料、黄色顔料、橙色顔料、紫(菫)色顔料、青色顔料及び緑色顔料が挙げられる。顔料は、アゾ顔料、レーキ顔料又は蛍光顔料であってもよい。
(Pigment)
The pigment according to the present embodiment can be selected according to the purpose of use of the cured product formed using the silicone resin tablet. For example, when high light reflectivity is required for the cured product, a white pigment can be used as the pigment, and when the optical semiconductor device is required to be black when the light emitting element does not emit light, a black pigment is used as the pigment. Can be used. Examples of the pigment include a white pigment, a black pigment, a red pigment, a yellow pigment, an orange pigment, a violet (violet) pigment, a blue pigment, and a green pigment. The pigment may be an azo pigment, a lake pigment or a fluorescent pigment.

黒色顔料としては、例えば、カーボンブラックが挙げられる。赤色顔料としては、例えば、鉛丹、酸化鉄赤、キナクリドン、ジケトピロロピロール、アントラキノン、ペリレン、ペリノン及びインジゴイドが挙げられる。黄色顔料としては、例えば、黄鉛及び亜鉛黄が挙げられる。青色顔料としては、例えば、ウルトラマリン青、プロシア青(フェロシアン化鉄カリ)、フタロシアニンブルー、アントラキノン及びインジゴイドが挙げられる。橙色顔料としては、例えば、ジケトピロロピロール、ペリレン、アントラキノン、ペリノン、キナクリドン及びインジゴイドが挙げられる。紫(菫)色顔料としては、例えば、ジオキサジン、キナクリドン、ペリレン、インジゴイド、アントラキノン及びキサンテンが挙げられる。緑色顔料としては、例えば、フタロシアニン、アゾメチン及びペリレンが挙げられる。これらの顔料は、単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。   Examples of the black pigment include carbon black. Red pigments include, for example, lead red, iron oxide red, quinacridone, diketopyrrolopyrrole, anthraquinone, perylene, perinone, and indigoid. Examples of the yellow pigment include, for example, graphite and zinc yellow. Examples of the blue pigment include ultramarine blue, prussian blue (potassium ferrocyanide), phthalocyanine blue, anthraquinone, and indigoid. Orange pigments include, for example, diketopyrrolopyrrole, perylene, anthraquinone, perinone, quinacridone, and indigoid. Examples of purple (violet) pigments include dioxazine, quinacridone, perylene, indigoid, anthraquinone, and xanthene. Examples of the green pigment include phthalocyanine, azomethine, and perylene. These pigments may be used alone or in combination of two or more.

白色顔料としては、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム(アルミナ)、酸化マグネシウム、酸化アンチモン、酸化ジルコニウム及び無機中空粒子が挙げられる。これらは、単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。   Examples of the white pigment include titanium oxide, zinc oxide, aluminum oxide (alumina), magnesium oxide, antimony oxide, zirconium oxide, and inorganic hollow particles. These may be used alone or in combination of two or more.

無機中空粒子は、酸化チタン、酸化亜鉛、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化アンチモン、酸化ジルコニウム以外の材料から形成された粒子である。無機中空粒子としては、例えば、珪酸ソーダガラス、アルミ珪酸ガラス、硼珪酸ソーダガラス及びシラスの粒子が挙げられる。   The inorganic hollow particles are particles formed from a material other than titanium oxide, zinc oxide, alumina, magnesium oxide, antimony oxide, and zirconium oxide. Examples of the inorganic hollow particles include sodium silicate glass, aluminum silicate glass, sodium borosilicate glass, and particles of shirasu.

硬化物に光反射特性が求められる場合、顔料として白色顔料を用いることが好ましい。シリコーン樹脂組成物が白色顔料を含むことにより、成形されるシリコーン樹脂タブレットは白色となり、硬化物は優れた光反射率を有する。そのため、成形体を光半導体素子搭載用基板に備えられる光反射用部材として用いた場合に、高輝度の光半導体装置を得ることができる。硬化物の光反射特性をより一層向上させる観点からは、白色顔料として、酸化チタンを用いることがより好ましい。   When a cured product requires light reflection properties, it is preferable to use a white pigment as the pigment. When the silicone resin composition contains a white pigment, the molded silicone resin tablet becomes white, and the cured product has excellent light reflectance. Therefore, when the molded body is used as a light reflecting member provided on the optical semiconductor element mounting substrate, a high-brightness optical semiconductor device can be obtained. From the viewpoint of further improving the light reflection characteristics of the cured product, it is more preferable to use titanium oxide as the white pigment.

白色顔料を用いる場合、白色顔料の中心粒径は特に限定されないが、0.1〜50μmの範囲にあることが好ましく、0.1〜30μmの範囲にあることがより好ましく、0.1〜10μmの範囲にあることが更に好ましい。白色顔料の中心粒径が0.1μm以上であると、粒子が凝集し難く分散性が更によくなる傾向があり、50μm以下であると、硬化物の光反射特性が更に得られ易くなる傾向がある。なお、中心粒径は、レーザー光回折法による粒度分布測定における質量平均値D50(又はメジアン径)として求めることができる。 When using a white pigment, the center particle size of the white pigment is not particularly limited, but is preferably in the range of 0.1 to 50 μm, more preferably in the range of 0.1 to 30 μm, and more preferably in the range of 0.1 to 10 μm. More preferably, it is within the range. When the central particle size of the white pigment is 0.1 μm or more, the particles are less likely to aggregate and the dispersibility tends to be further improved, and when it is 50 μm or less, the light reflection characteristics of the cured product tend to be more easily obtained. . The center particle diameter can be determined as a mass average value D 50 (or median diameter) in a particle size distribution measurement by a laser light diffraction method.

白色顔料を用いる場合、シリコーン樹脂組成物における顔料の含有量は、シリコーン樹脂組成物全量を基準として10〜90体積%の範囲であることが好ましく、10〜85体積%の範囲であることがより好ましい。顔料の含有量が10体積%以上であると、硬化物の光学特性が得られ易くなり、90体積%以下であると、シリコーン樹脂組成物の成形性を向上し易く、光半導体素子搭載用基板を作製し易くなる。   When a white pigment is used, the content of the pigment in the silicone resin composition is preferably in the range of 10 to 90% by volume, more preferably 10 to 85% by volume, based on the total amount of the silicone resin composition. preferable. When the content of the pigment is 10% by volume or more, the optical properties of the cured product are easily obtained, and when the content is 90% by volume or less, the moldability of the silicone resin composition is easily improved, and the substrate for mounting an optical semiconductor element is provided. Is easy to manufacture.

白色顔料を用いる場合、シリコーン樹脂組成物(シリコーン樹脂タブレット)における顔料の含有量は、硬化物の光学特性が得られ易くなることから、シリコーン樹脂組成物全量を基準として1質量%以上であることが好ましく、10質量%以上であることがより好ましい。一方、顔料の含有量は、シリコーン樹脂組成物の成形性を向上し易く、光半導体素子搭載用基板を作製し易くなることから、97質量%以下であることが好ましく、50質量%以下であることがより好ましい。すなわち、シリコーン樹脂組成物(シリコーン樹脂タブレット)における顔料の含有量は、シリコーン樹脂組成物全量を基準として1〜97質量%の範囲とすることができ、10〜50質量%の範囲であってもよい。   When a white pigment is used, the content of the pigment in the silicone resin composition (silicone resin tablet) should be 1% by mass or more based on the total amount of the silicone resin composition since the optical characteristics of the cured product are easily obtained. , And more preferably 10% by mass or more. On the other hand, the content of the pigment is preferably 97% by mass or less, and more preferably 50% by mass or less, since the moldability of the silicone resin composition is easily improved and the substrate for mounting an optical semiconductor element is easily produced. Is more preferable. That is, the content of the pigment in the silicone resin composition (silicone resin tablet) can be in the range of 1 to 97% by mass based on the total amount of the silicone resin composition, and even in the range of 10 to 50% by mass. Good.

(その他の成分)
シリコーン樹脂組成物は、上述した成分以外に、無機充填剤、酸化防止剤、離型剤、分散剤、イオン捕捉剤等の各種添加剤を更に含有することができる。すなわち、シリコーン樹脂タブレットは、無機充填剤、酸化防止剤、離型剤、分散剤、イオン捕捉剤等の各種添加剤を更に含んでもよい。
(Other components)
The silicone resin composition may further contain various additives such as an inorganic filler, an antioxidant, a release agent, a dispersant, and an ion scavenger, in addition to the components described above. That is, the silicone resin tablet may further include various additives such as an inorganic filler, an antioxidant, a release agent, a dispersant, and an ion scavenger.

無機充填剤は、例えば、シリコーン樹脂組成物から得られる硬化物の強度及び硬度を高くしたり、線膨張率を低減したりする効果を有する。無機充填剤としては、例えば、溶融球状シリカ、破砕状シリカ、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、硫酸バリウム、炭酸マグネシウム及び炭酸バリウムが挙げられる。無機充填剤の中心粒径は、顔料とのパッキング効率を向上させる観点から、1〜100μmの範囲内にあることが好ましい。シリコーン樹脂組成物における無機充填剤の含有量は、シリコーン樹脂組成物の硬化後に固形分となる成分全量を基準として、5〜75体積%の範囲であることが好ましい。なお、本明細書では、顔料及び無機充填剤の両方の効果を有する物質については、原則として顔料に帰属するものとする。ただし、シリコーン樹脂組成物が顔料及び無機充填剤の両方の効果を有する物質を2種類以上含有する場合、当該物質のうち1種類を無機充填剤に帰属するものとする。無機充填剤に帰属する物質は、上記顔料として例示した物質以外の物質が優先される。   The inorganic filler has, for example, an effect of increasing the strength and hardness of a cured product obtained from the silicone resin composition and reducing the coefficient of linear expansion. Examples of the inorganic filler include fused spherical silica, crushed silica, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, barium sulfate, magnesium carbonate, and barium carbonate. The center particle diameter of the inorganic filler is preferably in the range of 1 to 100 μm from the viewpoint of improving the packing efficiency with the pigment. The content of the inorganic filler in the silicone resin composition is preferably in the range of 5 to 75% by volume, based on the total amount of components that become solid after curing of the silicone resin composition. In the present specification, a substance having both effects of a pigment and an inorganic filler belongs to a pigment in principle. However, when the silicone resin composition contains two or more kinds of substances having both effects of the pigment and the inorganic filler, one of the substances belongs to the inorganic filler. As the substance belonging to the inorganic filler, a substance other than the substances exemplified as the above-mentioned pigments is prioritized.

硬化物の強度及び硬度を向上する観点から、シリコーン樹脂組成物(シリコーン樹脂タブレット)に含まれる顔料及び無機充填剤の合計量は、シリコーン樹脂組成物全量を基準として10〜90質量%の範囲であると好ましく、20〜87質量%の範囲であるとより好ましく、40〜80質量%の範囲であると更に好ましい。顔料及び無機充填剤の合計量に対する顔料の割合は、硬化物の使用目的、顔料の種類等に応じて適宜決定できる。   From the viewpoint of improving the strength and hardness of the cured product, the total amount of the pigment and the inorganic filler contained in the silicone resin composition (silicone resin tablet) is in the range of 10 to 90% by mass based on the total amount of the silicone resin composition. It is preferably present, more preferably in the range of 20 to 87% by mass, and even more preferably in the range of 40 to 80% by mass. The ratio of the pigment to the total amount of the pigment and the inorganic filler can be appropriately determined according to the purpose of use of the cured product, the type of the pigment, and the like.

シリコーン樹脂組成物には、必要に応じてカップリング剤等が添加されていてもよい。すなわち、シリコーン樹脂タブレットは、カップリング剤等を含むことができる。この場合、シリコーン樹脂と、顔料、無機充填剤等の無機成分との界面接着性を向上させることができる。カップリング剤としては、例えば、シランカップリング剤及びチタネート系カップリング剤が挙げられる。シランカップリング剤としては、一般にエポキシシラン系、アミノシラン系、カチオニックシラン系、ビニルシラン系、アクリルシラン系、メルカプトシラン系等の公知の化合物を用いることができる。カップリング剤は上記シランカップリング剤の複合系であってもよい。カップリング剤の使用量は、顔料に対する表面被覆量を考慮して適宜調整することが好ましいが、界面接着性を向上させる観点及び硬化性を向上させる観点から、シリコーン樹脂組成物全量を基準として0.01質量%以上とすることが好ましく、5質量%以下とすることが好ましい。顔料、無機充填剤等の無機成分が予め上記カップリング剤で処理されていてもよい。   A coupling agent or the like may be added to the silicone resin composition as needed. That is, the silicone resin tablet can include a coupling agent and the like. In this case, the interfacial adhesion between the silicone resin and inorganic components such as pigments and inorganic fillers can be improved. Examples of the coupling agent include a silane coupling agent and a titanate coupling agent. As the silane coupling agent, generally known compounds such as epoxy silane, amino silane, cationic silane, vinyl silane, acryl silane, and mercapto silane can be used. The coupling agent may be a composite system of the above silane coupling agent. The amount of the coupling agent used is preferably adjusted as appropriate in consideration of the amount of the surface coating on the pigment.However, from the viewpoint of improving the interfacial adhesion and the curability, the amount is preferably 0% based on the total amount of the silicone resin composition. 0.01% by mass or more, preferably 5% by mass or less. Inorganic components such as pigments and inorganic fillers may be previously treated with the coupling agent.

シリコーン樹脂組成物には、保存安定性を改良する目的、又は、製造過程でのヒドロシリル化反応の反応性を調整する目的で、硬化遅延剤を添加してもよい。すなわち、シリコーン樹脂タブレットは、硬化遅延剤を含むことができる。硬化遅延剤としては、例えば、脂肪族不飽和結合を含有する化合物、有機リン化合物、有機イオウ化合物、窒素含有化合物、スズ系化合物及び有機過酸化物が挙げられる。   A curing retarder may be added to the silicone resin composition for the purpose of improving storage stability or adjusting the reactivity of the hydrosilylation reaction in the production process. That is, the silicone resin tablet can include a cure retarder. Examples of the curing retarder include compounds containing an aliphatic unsaturated bond, organic phosphorus compounds, organic sulfur compounds, nitrogen-containing compounds, tin compounds, and organic peroxides.

脂肪族不飽和結合を含有する化合物として、プロパルギルアルコール類、エン−イン化合物類、マレイン酸エステル類等が例示される。有機リン化合物としては、トリオルガノフォスフィン類、ジオルガノフォスフィン類、オルガノフォスフォン類、トリオルガノフォスファイト類等が例示される。有機イオウ化合物としては、オルガノメルカプタン類、ジオルガノスルフィド類、硫化水素、ベンゾチアゾール、ベンゾチアゾールジサルファイド等が例示される。窒素含有化合物としては、アンモニア、1〜3級アルキルアミン類、アリールアミン類、尿素、ヒドラジン等が例示される。スズ系化合物としては、ハロゲン化第一スズ2水和物、カルボン酸第一スズ等が例示される。有機過酸化物としては、ジ−t−ブチルペルオキシド、ジクミルペルオキシド、ベンゾイルペルオキシド、過安息香酸t−ブチル等が例示される。   Examples of the compound containing an aliphatic unsaturated bond include propargyl alcohols, ene-yne compounds, and maleic esters. Examples of the organic phosphorus compound include triorganophosphines, diorganophosphines, organophosphones, and triorganophosphites. Examples of the organic sulfur compound include organomercaptans, diorganosulfides, hydrogen sulfide, benzothiazole, benzothiazole disulfide, and the like. Examples of the nitrogen-containing compound include ammonia, primary to tertiary alkylamines, arylamines, urea, hydrazine and the like. Examples of the tin compound include stannous halide dihydrate, stannous carboxylate, and the like. Examples of the organic peroxide include di-t-butyl peroxide, dicumyl peroxide, benzoyl peroxide, t-butyl perbenzoate and the like.

これらの硬化遅延剤のうち、遅延活性が良好で、無色、又は、淡黄色のような比較的着色していないものが好ましい。硬化遅延剤は、単独で用いても、2種以上を併用してもよい。   Among these curing retarders, those having good retarding activity and being colorless or relatively non-colored such as pale yellow are preferred. The curing retarders may be used alone or in combination of two or more.

硬化遅延剤の添加量は、使用する硬化触媒1molに対し、0.1〜10000molの範囲が好ましく、1〜50molの範囲がより好ましい。   The addition amount of the curing retarder is preferably in the range of 0.1 to 10000 mol, and more preferably in the range of 1 to 50 mol, per 1 mol of the curing catalyst used.

シリコーン樹脂組成物には、特性を改質する目的で、シリコーン樹脂以外の熱硬化性樹脂を特性に悪影響を及ぼさない範囲で添加することが可能である。すなわち、シリコーン樹脂タブレットは、シリコーン樹脂以外の熱硬化性樹脂を含んでもよい。熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、シアナート樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ウレタン樹脂等が例示されるが、これに限定されるものではない。これらのうち、電子部品としての利便性が高く金属部品との接着性等に優れるという観点から、エポキシ樹脂が好ましい。上記熱硬化性樹脂としては、無色、又は、淡黄色のような比較的着色していないものが好ましい。   For the purpose of modifying the properties, it is possible to add a thermosetting resin other than the silicone resin to the silicone resin composition within a range that does not adversely affect the properties. That is, the silicone resin tablet may include a thermosetting resin other than the silicone resin. Examples of the thermosetting resin include, but are not limited to, an epoxy resin, an acrylic resin, a cyanate resin, a phenol resin, a polyimide resin, a polyamideimide resin, and a urethane resin. Among these, epoxy resins are preferred from the viewpoint of high convenience as electronic components and excellent adhesiveness with metal components. The thermosetting resin is preferably a colorless or relatively uncolored resin such as pale yellow.

エポキシ樹脂としては、特に限定されないが、例えば、ヘキサフルオロビスフェノールA型ジグリシジルエーテル、水素化ビスフェノールA型ジグリシジルエーテル、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、2,2’−ビス(4−グリシジルオキシシクロヘキシル)プロパン、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカーボキシレート、ビニルシクロヘキセンジオキサイド、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)−5,5−スピロ−(3,4−エポキシシクロヘキサン)−1,3−ジオキサン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)アジペート、1,2−シクロプロパンジカルボン酸ビスグリシジルエステル、トリグリシジルイソシアヌレート、モノアリルジグリシジルイソシアヌレート及びジアリルモノグリシジルイソシアヌレートが挙げられる。エポキシ樹脂を用いる場合、エポキシ樹脂硬化剤として、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、水素化メチルナジック酸無水物、トリメリット酸無水物、ピロメリット酸無水物等の酸無水物系硬化剤;1,4−シクロヘキサンジカルボン酸等の脂肪族酸又はこれらの無水物などを更に添加するとよい。これらのエポキシ樹脂又はエポキシ樹脂硬化剤は、それぞれ単独で用いても、複数のものを組み合わせて用いてもよい。   Although it does not specifically limit as an epoxy resin, For example, hexafluorobisphenol A type diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol A type diglycidyl ether, bisphenol A diglycidyl ether, 2,2'-bis (4-glycidyloxycyclohexyl) propane , 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, vinylcyclohexenedioxide, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) -5,5-spiro- (3,4-epoxycyclohexane)- 1,3-dioxane, bis (3,4-epoxycyclohexyl) adipate, 1,2-cyclopropanedicarboxylic acid bisglycidyl ester, triglycidyl isocyanurate, monoallyl diglycidyl isocyanurate and di Include the Lil monoglycidyl isocyanurate. When using an epoxy resin, as an epoxy resin curing agent, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hydrogenated methylnadic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, etc. An acid anhydride-based curing agent; aliphatic acids such as 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid or anhydrides thereof may be further added. These epoxy resins or epoxy resin curing agents may be used alone or in combination of two or more.

シリコーン樹脂組成物から形成されるシリコーン樹脂タブレットを光反射材料として用いる場合、硬化物の光反射率が、波長440〜700nmの全域において、80%以上となることが好ましい。光反射率が80%以上であれば、光半導体装置の輝度向上により一層寄与できる傾向がある。また、光半導体装置の輝度を更に向上させる点で、硬化後の波長460nmにおける光反射率が、80%以上となることが好ましく、90%以上となることがより好ましい。なお、光反射率は、厚み3.0mmの硬化物を作製し、積分球型分光光度計を用いて測定した値である。   When a silicone resin tablet formed from the silicone resin composition is used as a light reflecting material, the cured product preferably has a light reflectance of 80% or more in the entire wavelength range of 440 to 700 nm. When the light reflectivity is 80% or more, there is a tendency that the luminance can be further contributed to the improvement of the optical semiconductor device. In order to further improve the brightness of the optical semiconductor device, the light reflectance at a wavelength of 460 nm after curing is preferably 80% or more, and more preferably 90% or more. The light reflectance is a value obtained by preparing a cured product having a thickness of 3.0 mm and using an integrating sphere spectrophotometer.

シリコーン樹脂タブレットを光反射材料として用いる場合、耐熱着色性を良好にする観点から、硬化物の光反射率が、150℃の環境下に1000時間晒す耐熱性試験後、波長440〜800nmの全域において80%以上となることが好ましい。また、上述の耐熱性試験後の測定時に、波長460nmにおける光反射率が85%以上となることが好ましく、90%以上となることがより好ましい。このようなシリコーン樹脂タブレットの光反射特性は、シリコーン樹脂組成物を構成する各種成分の配合量を適切に調整することによって実現することができ、より具体的には、例えば、無色の熱硬化樹脂成分と高屈折率の白色顔料とを高充填することで達成できる。なお、光反射率は、厚み3.0mmの硬化物を作製し、積分球型分光光度計を用いて測定した値である。   When a silicone resin tablet is used as the light reflecting material, from the viewpoint of improving the heat resistance coloring property, the light reflectance of the cured product is in a range of 440 to 800 nm after a heat resistance test in which the cured product is exposed to an environment of 150 ° C. for 1000 hours. It is preferably at least 80%. Further, at the time of measurement after the above-mentioned heat resistance test, the light reflectance at a wavelength of 460 nm is preferably 85% or more, more preferably 90% or more. The light reflection properties of such a silicone resin tablet can be realized by appropriately adjusting the amounts of the various components constituting the silicone resin composition, and more specifically, for example, a colorless thermosetting resin This can be achieved by highly filling the component and a white pigment having a high refractive index. The light reflectance is a value obtained by preparing a cured product having a thickness of 3.0 mm and using an integrating sphere spectrophotometer.

シリコーン樹脂組成物は、先に例示した各種成分を均一に分散混合することによって調製することができる。混合手段、混合条件等は特に制限されないが、粉末状のシリコーン樹脂組成物が得られるような手段及び条件であることが好ましい。調製方法としては、例えば、ミキシングロール、押出機、ニーダー、ロール、エクストルーダー、らいかい機、自転と公転を組み合わせた攪拌混合機等の装置を用いて各種成分を混練し、次いで得られた混練物を粉砕する方法が挙げられる。粉砕の前に得られた混錬物の冷却を行ってもよい。混練形式についても特に限定されないが、溶融混練とすることが好ましい。溶融混練時の条件は、使用する各種成分の種類又は配合量によって適宜決定すればよく、特に制限はない。例えば、加熱時の過剰な化学反応を更に抑制する観点から15〜30℃の室温で実施してもよいし、30〜100℃の温度範囲で5〜40分間にわたって実施してもよく、30〜100℃の温度範囲で10〜30分間にわたって実施してもよい。溶融混練の温度が30℃以上であると、各種成分をより十分に溶融混練することが可能であり、分散性がより向上する傾向がある。一方、溶融混練を100℃以下で実施すると、樹脂組成物の高分子量化をより抑制でき、基板等の成形品を成形する前に樹脂組成物が硬化してしまうことをより抑制できる。また、溶融混練の時間が5分間以上であると、基板等の成形時に金型から樹脂が染み出すことをより抑制でき、40分間以内であると、樹脂組成物の高分子化をより抑制でき、成形前に樹脂組成物が硬化することをより抑制できる。   The silicone resin composition can be prepared by uniformly dispersing and mixing the various components exemplified above. The mixing means, mixing conditions and the like are not particularly limited, but are preferably such means and conditions as to obtain a powdery silicone resin composition. As a preparation method, for example, various components are kneaded using a device such as a mixing roll, an extruder, a kneader, a roll, an extruder, a raiger, a stirring and mixing device that combines rotation and revolution, and then the obtained kneading is performed. There is a method of pulverizing an object. Before kneading, the obtained kneaded material may be cooled. The type of kneading is not particularly limited, but is preferably kneading. The conditions at the time of melt-kneading may be appropriately determined depending on the types or amounts of various components used, and are not particularly limited. For example, from the viewpoint of further suppressing excessive chemical reaction during heating, the reaction may be performed at a room temperature of 15 to 30 ° C, or may be performed at a temperature range of 30 to 100 ° C for 5 to 40 minutes. It may be carried out in a temperature range of 100 ° C. for 10 to 30 minutes. When the temperature of the melt-kneading is 30 ° C. or higher, various components can be more sufficiently melt-kneaded, and the dispersibility tends to be further improved. On the other hand, when the melt-kneading is performed at 100 ° C. or lower, the increase in the molecular weight of the resin composition can be further suppressed, and the curing of the resin composition before forming a molded article such as a substrate can be further suppressed. Further, when the melt-kneading time is 5 minutes or more, it is possible to further suppress the resin from oozing out of the mold at the time of molding the substrate or the like, and when it is within 40 minutes, it is possible to further suppress the polymerization of the resin composition. In addition, curing of the resin composition before molding can be further suppressed.

上述のシリコーン樹脂組成物を用い、本実施形態のシリコーン樹脂タブレットを製造することができる。タブレット成形条件は特に限定されないが、例えば、室温で、0.5〜60MPa、1〜15秒間程度の条件において加圧成形することでシリコーン樹脂タブレットを得ることができる。   The silicone resin tablet of the present embodiment can be manufactured using the above-described silicone resin composition. The tablet molding conditions are not particularly limited. For example, a silicone resin tablet can be obtained by pressure molding at room temperature under the conditions of about 0.5 to 60 MPa and about 1 to 15 seconds.

なお、本明細書におけるタブレットとは、室温において一定した形状を保持し、経時的な形状の変化が実質的にない固体状の組成物を意味する。本実施形態に係るタブレットの形状は、特に限定されず、円柱状、角柱状、円盤状、球状等の形状を含むが、トランスファー成形に一般的な円柱状が好ましい。   In addition, the tablet in this specification means a solid composition that maintains a constant shape at room temperature and does not substantially change in shape over time. The shape of the tablet according to the present embodiment is not particularly limited, and includes a columnar shape, a prismatic shape, a disk shape, a spherical shape, and the like, but is preferably a general cylindrical shape for transfer molding.

本実施形態のシリコーン樹脂タブレットは、タイプAデュロメータ硬さが50以上であることが好ましく、55以上であることがより好ましく、60以上であることが更に好ましい。硬さが50以上であればタブレットが変形しづらく、ハンドリング性がより良好となる。そのため機械での自動搬送が問題なく可能となり、より硬さが高い場合にその信頼度が向上する傾向にある。シリコーン樹脂タブレットの硬さは硬いほどよいため、タイプAデュロメータ硬さの上限値は特に限定されないが、100程度とすることができる。なお、タイプAデュロメータ硬さは、タブレットを25℃で3分静置した後に測定した値であることが好ましい。   The silicone resin tablet of the present embodiment preferably has a type A durometer hardness of 50 or more, more preferably 55 or more, and even more preferably 60 or more. When the hardness is 50 or more, the tablet is hardly deformed, and the handling property is further improved. Therefore, automatic conveyance by a machine becomes possible without any problem, and when the hardness is higher, the reliability tends to be improved. Since the hardness of the silicone resin tablet is preferably as high as possible, the upper limit of the type A durometer hardness is not particularly limited, but may be about 100. The type A durometer hardness is preferably a value measured after the tablet was allowed to stand at 25 ° C. for 3 minutes.

タイプAデュロメータ硬さは、JIS:K6253に記載された方法に準じて測定することができる。本明細書においては、タイプAデュロメータの針を熱硬化性樹脂タブレットに押しあて、1分後の値を読み取って得られる値を硬さと定義する。   The type A durometer hardness can be measured according to the method described in JIS: K6253. In the present specification, a value obtained by pressing a needle of a type A durometer against a thermosetting resin tablet and reading a value after one minute is defined as hardness.

表面タック性を低減させる観点から、シリコーン樹脂タブレットの表面を充填剤で被覆してもよい。被覆に用いる無機充填剤は特に限定されないが、例えば、シリコーン樹脂組成物に含有することのできる無機充填剤と同様のものが挙げられる。   From the viewpoint of reducing the surface tackiness, the surface of the silicone resin tablet may be coated with a filler. The inorganic filler used for coating is not particularly limited, and examples thereof include the same inorganic fillers that can be contained in the silicone resin composition.

充填剤を被着体に被覆する方法については、シリコーン樹脂タブレットと接触しうる方法であれば、特に制限は無い。例えば、容器又は袋に充填剤を入れ、機械を用いて振動によりシリコーン樹脂タブレットに充填剤を被覆する方法及び手動でふり掛ける方法が挙げられる。   There is no particular limitation on the method of coating the adherend with the filler as long as it can contact the silicone resin tablet. For example, there is a method in which a filler is placed in a container or a bag and the silicone resin tablet is coated with the filler by vibration using a machine, and a method in which the filler is manually sprinkled.

(硬化物)
本実施形態の硬化物は、上述のシリコーン樹脂組成物又はシリコーン樹脂タブレットを熱硬化させることで得られる。熱硬化の条件は特に限定はないが、例えば、温度170〜200℃で、60〜300秒間加熱することにより硬化できる。熱硬化は後述の成形法に含まれる工程の一つとして行ってもよい。
(Cured product)
The cured product of the present embodiment is obtained by thermally curing the above-described silicone resin composition or silicone resin tablet. The conditions of the thermal curing are not particularly limited, but for example, curing can be performed by heating at a temperature of 170 to 200 ° C. for 60 to 300 seconds. The thermosetting may be performed as one of the steps included in the molding method described below.

(成形体)
本実施形態の成形体は、上述のシリコーン樹脂組成物又はシリコーン樹脂タブレットを用いて、圧縮成形、トランスファー成形、射出成形、射出圧縮成形等の成形法で熱硬化、成形することで得られる。すなわち、本実施形態において「成形体」とは、所望の形状で整えた状態で硬化された硬化物のことをいう。
(Molded body)
The molded article of the present embodiment is obtained by thermosetting and molding using the above-mentioned silicone resin composition or silicone resin tablet by a molding method such as compression molding, transfer molding, injection molding, or injection compression molding. That is, in the present embodiment, the “molded body” refers to a cured product that is cured in a state where the molded article has a desired shape.

(光半導体素子搭載用基板)
本実施形態に係る光半導体素子搭載用基板は、底面及び壁面から構成される凹部を有する。凹部の底面が光半導体素子搭載部(光半導体素子搭載領域)であり、凹部の壁面、すなわち凹部の内周側面の少なくとも一部が本実施形態のシリコーン樹脂タブレットから形成された成形体からなるものである。
(Substrate for mounting optical semiconductor elements)
The optical semiconductor element mounting substrate according to the present embodiment has a concave portion composed of a bottom surface and a wall surface. The bottom surface of the concave portion is an optical semiconductor element mounting portion (optical semiconductor element mounting region), and the wall surface of the concave portion, that is, at least a part of the inner peripheral side surface of the concave portion is formed of a molded article formed from the silicone resin tablet of the present embodiment. It is.

図1は、光半導体素子搭載用基板の一実施形態を示す斜視図である。光半導体素子搭載用基板110は、Ni/Agめっき104が形成された金属配線105(第1の接続端子及び第2の接続端子)と、金属配線105(第1の接続端子及び第2の接続端子)間に設けられた絶縁性樹脂成形体103’と、リフレクター103とを備え、Ni/Agめっき104が形成された金属配線105及び絶縁性樹脂成形体103’とリフレクター103とから形成された光半導体素子搭載領域(凹部)200を有している。この凹部200の底面は、Ni/Agめっき104が形成された金属配線105及び絶縁性樹脂成形体103’から構成され、凹部200の壁面はリフレクター103から構成される。リフレクター103及び絶縁性樹脂成形体103’が、本実施形態のシリコーン樹脂タブレットを用いて形成された成形体である。   FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of an optical semiconductor element mounting substrate. The optical semiconductor element mounting substrate 110 includes a metal wiring 105 (first connection terminal and second connection terminal) on which Ni / Ag plating 104 is formed, and a metal wiring 105 (first connection terminal and second connection). A metal wiring 105 on which Ni / Ag plating 104 is formed, and an insulating resin molded body 103 ′ and a reflector 103. An optical semiconductor element mounting area (recess) 200 is provided. The bottom surface of the concave portion 200 is composed of the metal wiring 105 on which the Ni / Ag plating 104 is formed and the insulating resin molded body 103 ′, and the wall surface of the concave portion 200 is composed of the reflector 103. The reflector 103 and the insulating resin molded body 103 'are molded bodies formed using the silicone resin tablet of the present embodiment.

光半導体素子搭載用基板の製造方法は特に限定されないが、例えば、シリコーン樹脂タブレットを用いたトランスファー成形により製造することができる。図2は、光半導体素子搭載用基板を製造する工程の一実施形態を示す概略図である。光半導体素子搭載用基板は、例えば、金属箔から打ち抜き、エッチング等の公知の方法により金属配線105を形成し、電気めっきによりNi/Agめっき104を施す工程(図2の(a))、次いで、金属配線105を所定形状の金型151に配置し、加温して流動性を高めていてもよいシリコーン樹脂タブレットを金型151の樹脂注入口150から注入し、所定の条件でトランスファー成形する工程(図2の(b))、そして、金型151を外す工程(図2の(c))を経て製造することができる。効率的にトランスファー成形を行うためには、シリコーン樹脂タブレットが自動搬送装置を用いて金型に供えられたポッドに供給され、トランスファー成形が開始される機構を備えた装置を用いることができる。   The method for manufacturing the optical semiconductor element mounting substrate is not particularly limited. For example, it can be manufactured by transfer molding using a silicone resin tablet. FIG. 2 is a schematic view illustrating one embodiment of a process of manufacturing an optical semiconductor element mounting substrate. The substrate for mounting an optical semiconductor element is formed by, for example, punching a metal foil, forming a metal wiring 105 by a known method such as etching, and applying Ni / Ag plating 104 by electroplating (FIG. 2A), The metal wiring 105 is placed in a mold 151 having a predetermined shape, and a silicone resin tablet, which may be heated to increase the fluidity, is injected from the resin injection port 150 of the mold 151, and is subjected to transfer molding under predetermined conditions. It can be manufactured through a process (FIG. 2 (b)) and a process of removing the mold 151 (FIG. 2 (c)). In order to perform transfer molding efficiently, an apparatus provided with a mechanism in which a silicone resin tablet is supplied to a pod provided in a mold using an automatic transfer device and transfer molding is started can be used.

このようにして、光半導体素子搭載用基板には、シリコーン樹脂タブレットの硬化物からなるリフレクター103に周囲を囲まれてなる光半導体素子搭載領域(凹部)200が形成される。また、凹部200の底面は、第1の接続端子及び第2の接続端子となる金属配線105と、これらの間に設けられシリコーン樹脂タブレットの硬化物からなる絶縁性樹脂成形体103’とから構成される。なお、上記トランスファー成形の条件としては、金型温度170〜200℃、成形圧力0.5〜20MPaで、60〜300秒間、アフターキュア温度120℃〜180℃で1〜3時間とすることが好ましい。金型温度は150〜190℃がより好ましく、成形圧力は2〜8MPaがより好ましい。   In this manner, the optical semiconductor element mounting area (recess) 200 surrounded by the reflector 103 made of a cured product of the silicone resin tablet is formed on the optical semiconductor element mounting substrate. In addition, the bottom surface of the concave portion 200 is composed of a metal wiring 105 serving as a first connection terminal and a second connection terminal, and an insulating resin molded body 103 ′ provided between the metal wiring 105 and the cured product of the silicone resin tablet. Is done. The transfer molding conditions are preferably a mold temperature of 170 to 200 ° C., a molding pressure of 0.5 to 20 MPa, 60 to 300 seconds, and an after cure temperature of 120 to 180 ° C. for 1 to 3 hours. . The mold temperature is more preferably from 150 to 190 ° C, and the molding pressure is more preferably from 2 to 8 MPa.

リフレクター103の色は限定されず、用いる顔料の種類によって適宜決定できるが、光反射率を更に高める観点からは白色であることが好ましい。   The color of the reflector 103 is not limited and can be appropriately determined depending on the type of the pigment to be used, but is preferably white from the viewpoint of further increasing the light reflectance.

(光半導体装置)
本実施形態に係る光半導体装置は、上記光半導体素子搭載用基板と、当該光半導体素子搭載用基板に搭載された光半導体素子とを有する。より具体的な例として、上記光半導体素子搭載用基板と、光半導体素子搭載用基板の凹部内に設けられた光半導体素子と、凹部を充填して光半導体素子を封止する蛍光体含有封止樹脂部とを備える光半導体装置が挙げられる。
(Optical semiconductor device)
The optical semiconductor device according to the present embodiment has the optical semiconductor element mounting substrate and the optical semiconductor element mounted on the optical semiconductor element mounting substrate. As a more specific example, the optical semiconductor element mounting substrate, an optical semiconductor element provided in a concave portion of the optical semiconductor element mounting substrate, and a phosphor-containing seal for filling the concave portion and sealing the optical semiconductor element. An optical semiconductor device including a resin stopper.

図3は、光半導体素子搭載用基板110に光半導体素子100を搭載した状態の一実施形態を示す斜視図である。図3に示すように、光半導体素子100は、光半導体素子搭載用基板110の光半導体素子搭載領域(凹部)200の所定位置に搭載され、金属配線105とボンディングワイヤ102により電気的に接続される。図4及び図5は、光半導体装置の一実施形態を示す模式断面図である。図4及び図5に示すように、光半導体装置は、光半導体素子搭載用基板110と、光半導体素子搭載用基板110の凹部200内の所定位置に設けられた光半導体素子100と、凹部200を充填して光半導体素子を封止する蛍光体106を含む透明封止樹脂101からなる封止樹脂部とを備えており、光半導体素子100とNi/Agめっき104が形成された金属配線105とがボンディングワイヤ102又ははんだバンプ107により電気的に接続されている。   FIG. 3 is a perspective view illustrating an embodiment in which the optical semiconductor element 100 is mounted on the optical semiconductor element mounting substrate 110. As shown in FIG. 3, the optical semiconductor element 100 is mounted at a predetermined position in an optical semiconductor element mounting area (recess) 200 of the optical semiconductor element mounting substrate 110, and is electrically connected to a metal wiring 105 by a bonding wire 102. You. 4 and 5 are schematic sectional views showing one embodiment of the optical semiconductor device. As shown in FIGS. 4 and 5, the optical semiconductor device includes an optical semiconductor element mounting substrate 110, an optical semiconductor element 100 provided at a predetermined position in the concave portion 200 of the optical semiconductor element mounting substrate 110, and a concave portion 200. And a sealing resin portion made of a transparent sealing resin 101 including a phosphor 106 for sealing the optical semiconductor element by filling the optical semiconductor element with the optical semiconductor element 100 and the metal wiring 105 on which the Ni / Ag plating 104 is formed. Are electrically connected by the bonding wire 102 or the solder bump 107.

図6もまた、光半導体装置の一実施形態を示す模式断面図である。図6に示す光半導体装置では、リフレクター303が形成されたリード304上の所定位置にダイボンド材306を介してLED素子300が配置され、LED素子300とリード304とがボンディングワイヤ301により電気的に接続され、蛍光体305を含む透明封止樹脂302によりLED素子300が封止されている。   FIG. 6 is also a schematic sectional view showing an embodiment of the optical semiconductor device. In the optical semiconductor device shown in FIG. 6, an LED element 300 is arranged at a predetermined position on a lead 304 on which a reflector 303 is formed via a die bonding material 306, and the LED element 300 and the lead 304 are electrically connected by a bonding wire 301. The LED element 300 is connected and is sealed with the transparent sealing resin 302 including the phosphor 305.

以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明はこれに制限されるものではない。例えば、顔料として白色顔料を含有する場合、本実施形態に係るシリコーン樹脂タブレットから形成された成形体は光反射樹脂層として用いることができる。この実施形態として、銅張積層板、光半導体素子搭載用基板及び光半導体素子について説明する。   The preferred embodiment of the present invention has been described above, but the present invention is not limited to this. For example, when a white pigment is contained as a pigment, a molded article formed from the silicone resin tablet according to the present embodiment can be used as a light reflecting resin layer. As this embodiment, a copper-clad laminate, an optical semiconductor element mounting substrate, and an optical semiconductor element will be described.

本実施形態に係る銅張積層板は、上述したシリコーン樹脂タブレットを用いて形成された樹脂層と、該樹脂層上に積層された銅箔と、を備える。   The copper clad laminate according to the present embodiment includes a resin layer formed using the above-described silicone resin tablet, and a copper foil laminated on the resin layer.

図7は、銅張積層板の好適な一実施形態を示す模式断面図である。図7に示すように、銅張積層板400は、基材401と、基材401上に積層された樹脂層402と、樹脂層402上に積層された銅箔403と、を備えている。ここで、樹脂層402は、上述した本実施形態のシリコーン樹脂タブレットを用いて形成されている。   FIG. 7 is a schematic sectional view showing a preferred embodiment of the copper-clad laminate. As shown in FIG. 7, the copper clad laminate 400 includes a base 401, a resin layer 402 stacked on the base 401, and a copper foil 403 stacked on the resin layer 402. Here, the resin layer 402 is formed using the above-described silicone resin tablet of the present embodiment.

基材401としては、銅張積層板に用いられる基材を特に制限なく用いることができるが、例えば、エポキシ樹脂積層板等の樹脂積層板及び光半導体搭載用基板が挙げられる。   As the substrate 401, a substrate used for a copper-clad laminate can be used without any particular limitation, and examples thereof include a resin laminate such as an epoxy resin laminate and a substrate for mounting an optical semiconductor.

銅張積層板400は、例えば、本実施形態に係るシリコーン樹脂タブレットを用いて基材401表面に樹脂層402を成形し、次いで銅箔403を重ね、加熱加圧することにより作製することができる。   The copper-clad laminate 400 can be produced, for example, by forming the resin layer 402 on the surface of the base material 401 using the silicone resin tablet according to the present embodiment, then superposing the copper foil 403, and applying heat and pressure.

加熱加圧の条件は、特に限定されないが、例えば、130〜180℃、0.5〜4MPa、30〜600分間の条件で行うことが好ましい。   The conditions for the heating and pressurizing are not particularly limited, but, for example, it is preferable to perform the heating under the conditions of 130 to 180 ° C, 0.5 to 4 MPa, and 30 to 600 minutes.

上記銅張積層板を使用し、LED実装用等の光学部材用のプリント配線板を作製することができる。なお、図7に示した銅張積層板400は、基材401の片面に樹脂層402及び銅箔403を積層したものであるが、銅張積層板は、基材401の両面に樹脂層402及び銅箔403をそれぞれ積層したものであってもよい。   Using the copper-clad laminate, a printed wiring board for an optical member for mounting an LED or the like can be manufactured. The copper-clad laminate 400 shown in FIG. 7 has a resin layer 402 and a copper foil 403 laminated on one surface of a base material 401. And copper foil 403 may be laminated.

図8は、銅張積層板を用いて作製された光半導体装置の一例を示す模式断面図である。図8に示すように、光半導体装置500は、光半導体素子410と、該光半導体素子410が封止されるように設けられた透明な封止樹脂404とを備える表面実装型の発光ダイオードである。光半導体装置500において、光半導体素子410は、接着層408を介して銅箔403に接着されており、ボンディングワイヤ409により銅箔403と電気的に接続されている。   FIG. 8 is a schematic cross-sectional view showing one example of an optical semiconductor device manufactured using a copper-clad laminate. As shown in FIG. 8, the optical semiconductor device 500 is a surface-mounted light emitting diode including an optical semiconductor element 410 and a transparent sealing resin 404 provided so as to seal the optical semiconductor element 410. is there. In the optical semiconductor device 500, the optical semiconductor element 410 is adhered to the copper foil 403 via the adhesive layer 408, and is electrically connected to the copper foil 403 by the bonding wire 409.

さらに、光半導体素子搭載用基板の他の実施形態として、上述したシリコーン樹脂タブレットを用いて、基材上の複数の導体部材(接続端子)間に形成された樹脂層を備える光半導体素子搭載用基板が挙げられる。また、光半導体装置の他の実施形態は、上記の光半導体素子搭載用基板に光半導体素子を搭載してなるものである。   Further, as another embodiment of the optical semiconductor element mounting substrate, an optical semiconductor element mounting substrate including a resin layer formed between a plurality of conductor members (connection terminals) on a substrate using the above-described silicone resin tablet. A substrate. In another embodiment of the optical semiconductor device, the optical semiconductor element is mounted on the optical semiconductor element mounting substrate.

図9は、光半導体装置の好適な一実施形態を示す模式断面図である。図9に示すように、光半導体装置600は、基材601と、該基材601の表面に形成された複数の導体部材602と、複数の導体部材(接続端子)602間に形成された樹脂層603と、を備える光半導体素子搭載用基板に、光半導体素子610が搭載され、該光半導体素子610が封止されるように透明な封止樹脂604が設けられた、表面実装型の発光ダイオードである。光半導体装置600において、光半導体素子610は、接着層608を介して導体部材602に接着されており、ボンディングワイヤ609により導体部材602と電気的に接続されている。樹脂層603は、上述したシリコーン樹脂タブレットを用いて形成されている。   FIG. 9 is a schematic sectional view showing a preferred embodiment of the optical semiconductor device. As shown in FIG. 9, the optical semiconductor device 600 includes a base 601, a plurality of conductor members 602 formed on the surface of the base 601, and a resin formed between the plurality of conductor members (connection terminals) 602. A surface mounting type light emitting device in which an optical semiconductor element 610 is mounted on an optical semiconductor element mounting substrate having a layer 603 and a transparent sealing resin 604 is provided so as to seal the optical semiconductor element 610. It is a diode. In the optical semiconductor device 600, the optical semiconductor element 610 is adhered to the conductor member 602 via an adhesive layer 608, and is electrically connected to the conductor member 602 by a bonding wire 609. The resin layer 603 is formed using the above-described silicone resin tablet.

基材601としては、光半導体素子搭載用基板に用いられる基材を特に制限なく用いることができるが、例えば、エポキシ樹脂積層板等の樹脂積層板が挙げられる。   As the substrate 601, a substrate used for a substrate for mounting an optical semiconductor element can be used without any particular limitation, and examples thereof include a resin laminate such as an epoxy resin laminate.

導体部材602は、接続端子として機能するものであり、例えば、銅箔をフォトエッチングする方法等、公知の方法により形成することができる。   The conductor member 602 functions as a connection terminal, and can be formed by a known method such as a method of photo-etching a copper foil.

光半導体素子搭載用基板は、シリコーン樹脂タブレットを用いて基材601上の複数の導体部材602間に樹脂層603を成形することにより作製することができる。   The substrate for mounting an optical semiconductor element can be manufactured by molding a resin layer 603 between a plurality of conductor members 602 on a substrate 601 using a silicone resin tablet.

その後、導体部材602表面に余分に付着した樹脂成分は、バフ研磨等により除去し、導体部材602からなる回路を露出させ、光半導体素子搭載用基板とする。   Thereafter, excess resin components adhering to the surface of the conductor member 602 are removed by buffing or the like to expose a circuit composed of the conductor member 602, thereby obtaining a substrate for mounting an optical semiconductor element.

また、樹脂層603と導体部材602との密着性を確保するために、導体部材602に対して酸化還元処理、CZ処理等の粗化処理を行ってもよい。   Further, in order to secure the adhesion between the resin layer 603 and the conductor member 602, the conductor member 602 may be subjected to a roughening treatment such as an oxidation-reduction treatment and a CZ treatment.

以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記形態に制限されるものではない。本発明は、その要旨を逸脱しない範囲で、上記実施形態とは異なる種々の態様で実施することができる。   The preferred embodiment of the present invention has been described above, but the present invention is not limited to the above embodiment. The present invention can be implemented in various modes different from the above-described embodiment without departing from the gist thereof.

以下、実施例及び比較例を挙げて本発明をより具体的に説明する。但し、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Examples and Comparative Examples. However, the present invention is not limited to these examples.

<シリコーン樹脂の各種特性の測定方法>
まず、下記合成例における各種特性の測定方法について以下に示す。
<Method of measuring various properties of silicone resin>
First, methods for measuring various characteristics in the following synthesis examples are described below.

(1)軟化点の測定
シリコーン樹脂の軟化点を、TMA−120型(セイコーインスツル株式会社製、製品名)を用いて測定した。測定条件は、測定モード:Penetration(針入モード)、昇温速度:10℃/分、荷重:98.1mN(10gf)とした。
(1) Measurement of Softening Point The softening point of the silicone resin was measured using TMA-120 type (product name, manufactured by Seiko Instruments Inc.). The measurement conditions were as follows: measurement mode: Penetration (needle insertion mode), heating rate: 10 ° C./min, load: 98.1 mN (10 gf).

(2)数平均分子量(Mn)の測定
シリコーン樹脂のMnを、GPC測定装置としてポンプ(株式会社日立製作所製、製品名:L−6200型)、カラム(東ソー株式会社製、製品名:TSKgel−G5000HXL及びTSKgel−G2000HXL)及び検出器(株式会社日立製作所製、製品名:L−3300RI型)を用いて測定した。測定条件は、溶離液としてテトラヒドロフランを使用し、温度30℃、流量1.0mL/分とした。
(2) Measurement of number average molecular weight (Mn) Mn of the silicone resin was used as a GPC measuring device by a pump (manufactured by Hitachi, Ltd., product name: L-6200) and a column (manufactured by Tosoh Corporation, product name: TSKgel-). G5000HXL and TSKgel-G2000HXL) and a detector (manufactured by Hitachi, Ltd., product name: L-3300RI). The measurement conditions used tetrahydrofuran as an eluent, the temperature was 30 ° C., and the flow rate was 1.0 mL / min.

(3)含ケイ素結合単位Q、T及びDに係るシグナル面積比の測定
シリコーン樹脂の含ケイ素結合単位Q、T及びDに係るシグナル面積比を、固体29Si−NMR装置として「FT−NMR AV400WB」(ブルカー・バイオスピン株式会社製、製品名)を用いて測定した。測定条件は、測定モード:DD/MAS法、プローブ:4mmφのCPMASプローブ、磁場:9.4T、共鳴周波数:79Hz、MAS回転数:6kHz、遅延時間:150秒とした。標準試料としては、3−トリメチルシリルプロピオン酸ナトリウムを用いた。
(3) Measurement of Signal Area Ratio of Silicon-Containing Bonding Units Q, T, and D The signal area ratio of the silicon-containing bonding units Q, T, and D of the silicone resin was measured using a solid 29 Si-NMR apparatus as “FT-NMR AV400WB”. (Manufactured by Bruker BioSpin Co., Ltd., product name). The measurement conditions were as follows: measurement mode: DD / MAS method, probe: 4 mmφ CPMAS probe, magnetic field: 9.4 T, resonance frequency: 79 Hz, MAS rotation speed: 6 kHz, delay time: 150 seconds. As a standard sample, sodium 3-trimethylsilylpropionate was used.

測定サンプルとして、シリコーン樹脂を細かく粉砕したものをZrO製ローターに詰めて、プローブに装着して測定を行った。また、スペクトル解析においては、Line Broadening係数を2Hzとし、得られた含ケイ素結合単位Q、T及びDに係るシグナル面積比(Q+T:D)を求めた。 As a measurement sample, a finely pulverized silicone resin was packed in a ZrO 2 rotor and attached to a probe for measurement. In the spectral analysis, the Line Broadening coefficient was set to 2 Hz, and the signal area ratio (Q + T: D) of the obtained silicon-containing bonding units Q, T, and D was determined.

(4)ケイ素原子に結合したアリール基又はシクロアルキル基の測定
H−NMR装置として、「FT−NMR AV400M」(ブルカー・バイオスピン株式会社製、製品名)を用いて、シリコーン樹脂中のアリール基又はシクロアルキル基の含有割合を測定した。測定条件は、測定モード:デカップリング(定性モード)、パルス幅:8.3μm、遅延時間:2秒とした。標準試料としては、テトラメチルシランを用いた。
(4) Measurement of aryl group or cycloalkyl group bonded to silicon atom
The content ratio of the aryl group or the cycloalkyl group in the silicone resin was measured using "FT-NMR AV400M" (product name, manufactured by Bruker BioSpin, Inc.) as a 1 H-NMR apparatus. The measurement conditions were as follows: measurement mode: decoupling (qualitative mode), pulse width: 8.3 μm, delay time: 2 seconds. Tetramethylsilane was used as a standard sample.

<シリコーン樹脂の合成>
(合成例1)
フェニルトリクロロシラン100g、両末端ジメチルクロロシラン−ポリジメチルシロキサン53g及びメチルビニルジクロロシラン8.5gをトルエン200gに溶解した溶液を、過剰に発熱しないようにゆっくり水1000g中に滴下し加水分解した。次いで、還流条件で60分攪拌した後、有機層を水酸化カリウム水溶液で中和し、共沸脱水後、トルエン等の溶剤を留去し、シリコーン樹脂A1を合成した。
次に、フェニルトリクロロシラン100g、両末端ジメチルクロロシラン−ポリジメチルシロキサン53g及びメチルジクロロシラン6.9gをトルエンに溶解した溶液を、過剰に発熱しないようにゆっくり水1000g中に滴下し加水分解した。次いで、還流条件で60分攪拌した後、有機層を水酸化カリウム水溶液で中和し、共沸脱水後、トルエン等の溶剤を留去し、シリコーン樹脂B1を得た。
シリコーン樹脂A1及びB1を1:1の質量比で混合したものを熱硬化性シリコーン樹脂として使用した。
<Synthesis of silicone resin>
(Synthesis example 1)
A solution prepared by dissolving 100 g of phenyltrichlorosilane, 53 g of dimethylchlorosilane-polydimethylsiloxane at both ends and 8.5 g of methylvinyldichlorosilane in 200 g of toluene was slowly dropped into 1000 g of water so as not to generate excessive heat, and hydrolyzed. Next, after stirring under reflux conditions for 60 minutes, the organic layer was neutralized with an aqueous potassium hydroxide solution, and after azeotropic dehydration, a solvent such as toluene was distilled off to synthesize a silicone resin A1.
Next, a solution prepared by dissolving 100 g of phenyltrichlorosilane, 53 g of dimethylchlorosilane-polydimethylsiloxane at both ends and 6.9 g of methyldichlorosilane in toluene was slowly dropped into 1000 g of water so as not to generate excessive heat, and hydrolyzed. Next, after stirring under reflux conditions for 60 minutes, the organic layer was neutralized with an aqueous potassium hydroxide solution, and after azeotropic dehydration, a solvent such as toluene was distilled off to obtain a silicone resin B1.
A mixture of silicone resins A1 and B1 at a mass ratio of 1: 1 was used as a thermosetting silicone resin.

(合成例2)
トルエン100g、白金(0)−2,4,6,8−テトラメチル−2,4,6,8−テトラビニルシクロテトラシロキサン錯体(白金1.7質量%)40μL、トリアリルイソシアヌレート10g及び1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン80gを500mLフラスコに加えて、120℃で2時間還流しながら攪拌した。次に、トルエンを減圧留去することにより無色透明のプレポリマーを得た後、トリアリルイソシアヌレート80gを加え、40℃で1時間混合して、液状のイソシアヌル骨格含有シリコーン樹脂を得た。得られたイソシアヌル骨格含有シリコーン樹脂のMnは1800であり、粘度は5Pa・sであった。
(Synthesis example 2)
100 g of toluene, 40 μL of platinum (0) -2,4,6,8-tetramethyl-2,4,6,8-tetravinylcyclotetrasiloxane complex (1.7% by mass of platinum), 10 g of triallyl isocyanurate and 1 g of 1 80 g of 3,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane was added to a 500 mL flask and stirred at 120 ° C. for 2 hours while refluxing. Next, toluene was distilled off under reduced pressure to obtain a colorless and transparent prepolymer. Then, 80 g of triallyl isocyanurate was added and mixed at 40 ° C. for 1 hour to obtain a liquid isocyanuric skeleton-containing silicone resin. Mn of the obtained isocyanuric skeleton-containing silicone resin was 1,800, and viscosity was 5 Pa · s.

(合成例3)
フェニルトリエトキシシラン198.3g、イソプロピルアルコール24.8g、トルエン24.8g、濃塩酸0.28g及び蒸留水36gを500mLフラスコに加えて、110℃で4時間にわたって還流しながら攪拌した。次に、トルエンを減圧留去することにより無色固形のシリコーン樹脂Aを得た。得られたシリコーン樹脂Aの軟化点は75℃であり、Mnは790であり、Q+T:Dの面積比は1:0であり、ケイ素原子に結合しているアリール基の割合は100%であった。
(Synthesis example 3)
198.3 g of phenyltriethoxysilane, 24.8 g of isopropyl alcohol, 24.8 g of toluene, 0.28 g of concentrated hydrochloric acid and 36 g of distilled water were added to a 500 mL flask, and the mixture was stirred at 110 ° C. for 4 hours while refluxing. Next, the colorless solid silicone resin A was obtained by distilling off toluene under reduced pressure. The obtained silicone resin A had a softening point of 75 ° C., Mn of 790, an area ratio of Q + T: D of 1: 0, and a ratio of aryl groups bonded to silicon atoms of 100%. Was.

(合成例4)
メチルトリエトキシシラン89.2g、フェニルトリエトキシシラン99g、イソプロピルアルコール23.6g、トルエン23.6g、濃塩酸0.28g及び蒸留水36gを500mLフラスコに加えて、110℃で3時間にわたって還流しながら攪拌した。次に、トルエンを減圧留去することにより無色固形のシリコーン樹脂Bを得た。得られたシリコーン樹脂Bの軟化点は53℃であり、Mnは901であり、Q+T:Dの面積比は1:0であり、ケイ素原子に結合しているアリール基の割合は51%であった。
(Synthesis example 4)
89.2 g of methyltriethoxysilane, 99 g of phenyltriethoxysilane, 23.6 g of isopropyl alcohol, 23.6 g of toluene, 0.28 g of concentrated hydrochloric acid and 36 g of distilled water are added to a 500 mL flask, and the mixture is refluxed at 110 ° C. for 3 hours. Stirred. Next, the colorless solid silicone resin B was obtained by distilling off toluene under reduced pressure. The obtained silicone resin B has a softening point of 53 ° C., an Mn of 901, an area ratio of Q + T: D of 1: 0, and a ratio of aryl groups bonded to silicon atoms of 51%. Was.

(合成例5)
メチルトリエトキシシラン142.6g、フェニルトリエトキシシラン39.7g、イソプロピルアルコール22.8g、トルエン22.8g、濃塩酸0.28g及び蒸留水36gを500mLフラスコに加えて、110℃で2.5時間にわたって還流しながら攪拌した。次に、トルエンを減圧留去することにより無色固形のシリコーン樹脂Cを得た。得られたシリコーン樹脂Cの軟化点は29℃であり、Mnは1300であり、Q+T:Dの面積比は1:0であり、ケイ素原子に結合しているアリール基の割合は23%であった。
(Synthesis example 5)
142.6 g of methyltriethoxysilane, 39.7 g of phenyltriethoxysilane, 22.8 g of isopropyl alcohol, 22.8 g of toluene, 0.28 g of concentrated hydrochloric acid and 36 g of distilled water are added to a 500 mL flask, and the mixture is heated at 110 ° C. for 2.5 hours. While stirring over reflux. Next, toluene was distilled off under reduced pressure to obtain a colorless solid silicone resin C. The obtained silicone resin C had a softening point of 29 ° C., an Mn of 1300, an area ratio of Q + T: D of 1: 0, and a ratio of aryl groups bonded to silicon atoms of 23%. Was.

<シリコーン樹脂組成物の調製及びシリコーン樹脂タブレットの作製>
(実施例1〜8)
表1に示す配合割合(質量部)に従って、各成分を配合し、らいかい機によって十分に混練分散することによって粉末状のシリコーン樹脂組成物を得た。次いで、直径13mmの円形貫通穴を有する金属金型を臼型とする成形型に、得られたシリコーン樹脂組成物を充填し、杵型のパンチとハンドプレスとを用いて、シリコーン樹脂タブレットを成形した。タブレット1個当たりの質量は5gとした。
<Preparation of silicone resin composition and preparation of silicone resin tablet>
(Examples 1 to 8)
Each component was blended according to the blending ratio (parts by mass) shown in Table 1, and the mixture was sufficiently kneaded and dispersed by a grinder to obtain a powdery silicone resin composition. Next, the obtained silicone resin composition is filled in a mold having a metal mold having a circular through-hole having a diameter of 13 mm as a die, and a silicone resin tablet is formed using a punch and a hand press. did. The weight per tablet was 5 g.

(比較例1〜3)
表2に示す配合割合(質量部)に従って、各成分を配合し、らいかい機によって十分に混練分散することによってペースト状又は粘土状の混練物を得た。比較例1及び2のシリコーン樹脂組成物はペースト状であったため、タブレットの作製はできなった。比較例3のシリコーン樹脂組成物は粘土状であったが、実施例と同様にしてタブレットを作製した。
(Comparative Examples 1 to 3)
Each component was blended according to the blending ratio (parts by mass) shown in Table 2, and sufficiently kneaded and dispersed by a grinder to obtain a paste-like or clay-like kneaded material. Since the silicone resin compositions of Comparative Examples 1 and 2 were in paste form, tablets could not be produced. Although the silicone resin composition of Comparative Example 3 was clay-like, a tablet was produced in the same manner as in Example.

<シリコーン樹脂タブレットの特性測定>
(タイプAデュロメータ硬さ)
25℃で3分静置した実施例1〜8及び比較例3のタブレットについて、JIS:K6253に準じて、タイプAデュロメータの針をタブレットに押しあて、1分後の値を測定した。
<Measurement of characteristics of silicone resin tablet>
(Type A durometer hardness)
With respect to the tablets of Examples 1 to 8 and Comparative Example 3 which were allowed to stand at 25 ° C. for 3 minutes, the needle of a type A durometer was pressed against the tablet according to JIS: K6253, and the value after 1 minute was measured.

(自動搬送性)
タブレットを、TOWA製マルチプランジャトランスファー成形機に備えられたタブレットマガジンに充填し、自動搬送テストを行った。問題なく搬送できたものを自動搬送「可能」と判定し、タブレットが作製できなかったもの、又は、タブレットが搬送時に変形してしまい、搬送できなかったものを自動搬送「不可」と判定した。
(Automatic transportability)
The tablets were filled in a tablet magazine provided in a TOWA multi-plunger transfer molding machine, and an automatic conveyance test was performed. Those which could be conveyed without any problem were judged as "possible" for automatic conveyance, and those for which a tablet could not be produced or those which could not be conveyed because the tablet was deformed during conveyance were judged as "impossible" for automatic conveyance.

(光反射率の測定)
実施例1〜8で得られたシリコーン樹脂タブレットを、金型温度180℃、圧力14MPa、硬化時間300秒の条件でトランスファー成形した後、150℃で2時間の後硬化を行って、厚み3.0mmの試験片を作製した。得られた試験片を用い、積分球型分光光度計CM600d(コニカミノルタ株式会社製)を用いて、波長460nmにおける光反射率を測定した。
(Measurement of light reflectance)
After transfer molding the silicone resin tablets obtained in Examples 1 to 8 under the conditions of a mold temperature of 180 ° C., a pressure of 14 MPa and a curing time of 300 seconds, post-curing was performed at 150 ° C. for 2 hours to obtain a thickness of 3. A test piece of 0 mm was prepared. Using the obtained test piece, the light reflectance at a wavelength of 460 nm was measured using an integrating sphere spectrophotometer CM600d (manufactured by Konica Minolta, Inc.).

なお、各表に示した各原料の配合量の単位は全て質量部であり、「−」の記載部分は該当する原料の配合がないことを意味している。   In addition, the unit of the compounding amount of each raw material shown in each table is all parts by mass, and the portion described with "-" means that there is no compounding of the corresponding raw material.

表1及び2中、*1〜11の詳細は以下のとおりである。
*1:熱硬化性シリコーン樹脂(合成例1、25℃で液状)
*2:熱硬化性シリコーン樹脂(旭化成ワッカーシリコーン株式会社製、製品名:SILRES H 62C、25℃で液状)
*3:熱硬化性シリコーン樹脂(合成例2、25℃で液状)
*4:シリコーン樹脂A(合成例3)
*5:シリコーン樹脂B(合成例4)
*6:シリコーン樹脂C(合成例5)
*7:白金(0)−2,4,6,8−テトラメチル−2,4,6,8−テトラビニルシクロテトラシロキサン錯体(和光純薬工業株式会社製、白金1.7質量%)
*8:溶融シリカ(電気化学工業株式会製、製品名:FB−950、中心粒径26μm)
*9:溶融シリカ(株式会社アドマテックス製、製品名:SO−25R、中心粒径1μm)
*10:酸化チタン(石原産業株式会社製、製品名:CR63、中心粒径0.2μm)
*11:カーボンブラック(三菱化学株式会社、製品名:MA−100、中心粒径23nm)
Details of * 1 to 11 in Tables 1 and 2 are as follows.
* 1: Thermosetting silicone resin (Synthesis example 1, liquid at 25 ° C)
* 2: Thermosetting silicone resin (manufactured by Asahi Kasei Wacker Silicone Co., Ltd., product name: SILRES H 62C, liquid at 25 ° C.)
* 3: Thermosetting silicone resin (Synthesis example 2, liquid at 25 ° C)
* 4: Silicone resin A (Synthesis example 3)
* 5: Silicone resin B (Synthesis example 4)
* 6: Silicone resin C (Synthesis example 5)
* 7: Platinum (0) -2,4,6,8-tetramethyl-2,4,6,8-tetravinylcyclotetrasiloxane complex (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., platinum 1.7% by mass)
* 8: Fused silica (manufactured by Denki Kagaku Kogyo Kyokai, product name: FB-950, central particle size 26 μm)
* 9: Fused silica (manufactured by Admatechs Co., Ltd., product name: SO-25R, central particle size 1 μm)
* 10: Titanium oxide (manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd., product name: CR63, center particle size 0.2 μm)
* 11: Carbon black (Mitsubishi Chemical Corporation, product name: MA-100, central particle size 23 nm)

Figure 0006672631
Figure 0006672631

Figure 0006672631
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表1に示すように、実施例1〜8のシリコーン樹脂タブレットによれば、トランスファー成形する際の自動搬送性が良好であり、トランスファー成形によって優れた光学特性を示す硬化物(成形体)が得られることが確認された。   As shown in Table 1, according to the silicone resin tablets of Examples 1 to 8, the automatic transportability during transfer molding was good, and a cured product (molded product) having excellent optical properties was obtained by transfer molding. Was confirmed.

100…光半導体素子、101…透明封止樹脂、102…ボンディングワイヤ、103…リフレクター、103’…絶縁性樹脂成形体、104…Ni/Agめっき、105…金属配線、106…蛍光体、107…はんだバンプ、110…光半導体素子搭載用基板、150…樹脂注入口、151…金型、200…光半導体素子搭載領域、300…LED素子、301…ボンディングワイヤ、302…透明封止樹脂、303…リフレクター、304…リード、305…蛍光体、306…ダイボンド材、400…銅張積層板、401…基材、402…樹脂層、403…銅箔、404…封止樹脂、408…接着層、409…ボンディングワイヤ、410…光半導体素子、500,600…光半導体装置、601…基材、602…導体部材、603…樹脂層、604…封止樹脂、608…接着層、609…ボンディングワイヤ、610…光半導体素子。   REFERENCE SIGNS LIST 100 optical semiconductor element 101 transparent sealing resin 102 bonding wire 103 reflector insulating resin molded body 104 Ni / Ag plating 105 metal wiring 106 phosphor 107 Solder bump, 110: Optical semiconductor element mounting substrate, 150: Resin injection port, 151: Mold, 200: Optical semiconductor element mounting area, 300: LED element, 301: Bonding wire, 302: Transparent sealing resin, 303 ... Reflector, 304 lead, 305 phosphor, 306 die bonding material, 400 copper-clad laminate, 401 base material, 402 resin layer, 403 copper foil, 404 sealing resin, 408 adhesive layer, 409 ... bonding wire, 410 ... optical semiconductor element, 500, 600 ... optical semiconductor device, 601 ... base material, 602 ... conductor member, 603 ... tree Layers, 604 ... sealing resin, 608 ... adhesive layer, 609 ... bonding wire, 610 ... optical semiconductor element.

Claims (8)

シリコーン樹脂及び顔料を含み、
前記シリコーン樹脂が、25℃で固体状のシリコーン樹脂及び25℃で液状の熱硬化性シリコーン樹脂を含有する、光半導体装置のリフレクター用のシリコーン樹脂タブレットであり、
前記25℃で固体状のシリコーン樹脂が、ケイ素原子に結合しているアリール基又はシクロアルキル基の割合が、ケイ素原子に結合している炭化水素基の全量を基準として20モル%以上であるシリコーン樹脂であり、
前記25℃で液状の熱硬化性シリコーン樹脂が、アルケニル基及びSiH基を有する、シリコーン樹脂タブレット。
Including silicone resin and pigment,
A silicone resin tablet for a reflector of an optical semiconductor device, wherein the silicone resin contains a silicone resin in a solid state at 25 ° C. and a thermosetting silicone resin in a liquid state at 25 ° C.,
The silicone resin in a solid state at 25 ° C., wherein the proportion of an aryl group or a cycloalkyl group bonded to a silicon atom is 20 mol% or more based on the total amount of the hydrocarbon groups bonded to the silicon atom. Resin
A silicone resin tablet, wherein the thermosetting silicone resin liquid at 25 ° C. has an alkenyl group and a SiH group.
前記顔料が、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化アンチモン、酸化ジルコニウム及び無機中空粒子からなる群より選ばれる少なくとも1種の白色顔料を含有する、請求項1に記載のシリコーン樹脂タブレット。   The silicone resin tablet according to claim 1, wherein the pigment contains at least one white pigment selected from the group consisting of titanium oxide, zinc oxide, aluminum oxide, magnesium oxide, antimony oxide, zirconium oxide, and inorganic hollow particles. . 請求項1又は2に記載のシリコーン樹脂タブレットを用いて形成される、硬化物。   A cured product formed using the silicone resin tablet according to claim 1. 請求項1又は2に記載のシリコーン樹脂タブレットから形成された成形体を備える、光半導体素子搭載用基板。   A substrate for mounting an optical semiconductor element, comprising a molded body formed from the silicone resin tablet according to claim 1. 底面及び壁面から構成される凹部を有し、当該凹部の前記底面が光半導体素子の搭載部であり、
前記凹部の前記壁面の少なくとも一部が、請求項1又は2に記載のシリコーン樹脂タブレットから形成された成形体からなる、光半導体素子搭載用基板。
It has a concave portion composed of a bottom surface and a wall surface, and the bottom surface of the concave portion is a mounting portion of the optical semiconductor element,
An optical semiconductor element mounting substrate, wherein at least a part of the wall surface of the concave portion is formed of a molded body formed from the silicone resin tablet according to claim 1.
基板と、当該基板上に設けられた第1の接続端子及び第2の接続端子とを備え、
前記第1の接続端子と前記第2の接続端子との間に、請求項1又は2に記載のシリコーン樹脂タブレットから形成された成形体を有する、光半導体素子搭載用基板。
A substrate, comprising a first connection terminal and a second connection terminal provided on the substrate,
3. An optical semiconductor element mounting substrate, comprising a molded body formed from the silicone resin tablet according to claim 1 between the first connection terminal and the second connection terminal.
請求項4〜6のいずれか一項に記載の光半導体素子搭載用基板と、当該光半導体素子搭載用基板に搭載された光半導体素子と、を備える、光半導体装置。   An optical semiconductor device, comprising: the optical semiconductor element mounting substrate according to claim 4; and an optical semiconductor element mounted on the optical semiconductor element mounting substrate. 底面及び壁面から構成される凹部を有する光半導体素子搭載用基板の製造方法であって、前記凹部の前記壁面の少なくとも一部を、請求項1又は2に記載のシリコーン樹脂タブレットを用いてトランスファー成形して形成する工程を備える、光半導体素子搭載用基板の製造方法。   A method for manufacturing an optical semiconductor element mounting substrate having a concave portion composed of a bottom surface and a wall surface, wherein at least a part of the wall surface of the concave portion is transfer-molded using the silicone resin tablet according to claim 1 or 2. A method for manufacturing a substrate for mounting an optical semiconductor element, the method comprising:
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