JP6227975B2 - Curable resin composition, curable resin composition tablet, molded product, semiconductor package - Google Patents

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Description

本発明は、硬化性樹脂組成物に関する。   The present invention relates to a curable resin composition.

従来、半導体のパッケージに代表されるような樹脂と金属部品を一体化させて得られる製品は、トランスファー成形に代表される各種成形方法により製造される。この場合、一般的に樹脂が金属部品よりも線膨張が大きいため、成形後に製品に反りが発生する問題が知られている。
このような問題に対して、金属の両面に均等になるように硬化性樹脂を成形することにより反りの低減をはかる方法がある。
しかし、近年半導体から発生する熱量の増大により放熱性の高い設計が求められるようになっており、熱をパッケージの外へ有効に導くために、半導体素子を接着する金属がパッケージの底面を形成するようなパッケージ設計がなされるようになってきている(特許文献1、2)。
その場合、上記のような反りの低減化をとることができず、反りの問題が重要となってくる。
これまで樹脂による反りの低減に関しては、無機フィラーを充填することにより樹脂の線膨張を低減させて一体成形する金属の線膨張に近づけることにより対策がとられてきた。しかしながら、線膨張係数の小さい無機フィラーを高充填すると、得られる成形体の柔軟性が損なわれる問題があった。
Conventionally, a product obtained by integrating a resin and a metal part as typified by a semiconductor package is manufactured by various molding methods typified by transfer molding. In this case, since the resin generally has a larger linear expansion than the metal part, there is a known problem that the product is warped after molding.
In order to solve such a problem, there is a method of reducing warpage by forming a curable resin so as to be even on both sides of a metal.
However, in recent years, a design with high heat dissipation has been required due to an increase in the amount of heat generated from a semiconductor. In order to effectively conduct heat to the outside of the package, the metal bonding the semiconductor element forms the bottom surface of the package. Such package design has been made (Patent Documents 1 and 2).
In that case, it is not possible to reduce the warp as described above, and the problem of warp becomes important.
Until now, measures have been taken to reduce the warpage caused by the resin by reducing the linear expansion of the resin by filling it with an inorganic filler and bringing it closer to the linear expansion of the integrally formed metal. However, when an inorganic filler having a small linear expansion coefficient is highly filled, there is a problem that the flexibility of the obtained molded article is impaired.

また、そのような無機フィラー高充填系の硬化性樹脂組成物を光半導体用パッケージとして使用する場合においては酸化チタンや酸化亜鉛に代表されるような白色含量を添加することが知られているいが、無機フィラー高充填系の硬化性樹脂組成物は一般的粘性が高く、例えば酸化亜鉛のようにせん断や圧縮応力によって着色を呈するような白色含量を用いた場合に、硬化性樹脂組成物の作成時にロール混練等で混練したり、あるいは該組成物を成形するために金型中で流動させた時に成形体が着色し、光半導体の光学特性が損なわれる問題があった。   In addition, when such a curable resin composition with a high filler content is used as an optical semiconductor package, it is known that a white content such as titanium oxide or zinc oxide is added. In addition, curable resin compositions with a high inorganic filler content generally have a high viscosity. For example, when a white content such as zinc oxide that exhibits coloration due to shear or compression stress is used, a curable resin composition is prepared. At times, there is a problem that the molded body is colored when kneaded by roll kneading or the like, or when it is flowed in a mold for molding the composition, and the optical characteristics of the optical semiconductor are impaired.

特開2010−62272号公報JP 2010-62272 A 特開2009−302241号公報JP 2009-302241 A

本発明の課題は、無機フィラーを高充填させた場合においても成形体の柔軟性を損なわず、線膨張係数を低下させることのできる硬化性樹脂組成物を提供すること、及び該組成物を光半導体用パッケージとして使用する場合に、着色しやすい白色顔料を用いても良好な光学特性を与える硬化性樹脂組成物を提供することである。   An object of the present invention is to provide a curable resin composition capable of reducing the linear expansion coefficient without impairing the flexibility of a molded article even when highly filled with an inorganic filler, and to light the composition. It is to provide a curable resin composition that gives good optical properties even when using a white pigment that is easily colored when used as a package for a semiconductor.

かかる課題を解決するために本発明者らは鋭意研究の結果、架橋ゴム粒子を添加することで、無機フィラーを高充填しつつも柔軟性と低線膨張係数を両立させることができること、さらに白色顔料として応力により着色し易いフィラーを使用しても該硬化性樹脂組成物の硬化物の着色を抑制できることを見出し、本発明に至った。 In order to solve such problems, the present inventors have intensively studied, and as a result of adding crosslinked rubber particles, it is possible to achieve both flexibility and a low linear expansion coefficient while being highly filled with an inorganic filler. It has been found that even when a filler that is easily colored by stress is used as a pigment, coloring of the cured product of the curable resin composition can be suppressed, and the present invention has been achieved.

すなわち、本発明は以下の構成を有するものである。
1)(A)シリコーン系熱硬化性樹脂
(B)硬化触媒
(C)無機充填材
(D)架橋ゴム粒子からなる低線膨張化剤
を必須成分として含有することを特徴とする硬化性樹脂組成物。
That is, the present invention has the following configuration.
1) A curable resin composition comprising, as an essential component, (A) a silicone-based thermosetting resin, (B) a curing catalyst, (C) an inorganic filler, and (D) a low linear expansion agent composed of crosslinked rubber particles. object.

2)(D)成分がデュロメーターA硬度10〜100の範囲内にある架橋ゴム粒子であることを特徴とする1)に記載の硬化性樹脂組成物。   2) The curable resin composition according to 1), wherein the component (D) is a crosslinked rubber particle having a durometer A hardness of 10 to 100.

3)前記(C)成分が、全組成物中の50重量%〜95重量%の範囲内にあることを特徴とする1)または2)に記載の硬化性組成物。   3) The curable composition according to 1) or 2), wherein the component (C) is in the range of 50% by weight to 95% by weight in the total composition.

4)(C)成分が球状シリカである1)〜3)のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。   4) The curable resin composition according to any one of 1) to 3), wherein the component (C) is spherical silica.

5)前記(A)成分が、
(A−1)SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する化合物、
(A−2)1分子中に少なくとも2個のSiH基を含有する化合物、
からなり、かつ(B)成分がヒドロシリル化触媒であることを特徴とする1)〜4)のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。
5) The component (A) is
(A-1) a compound containing at least two carbon-carbon double bonds having reactivity with SiH groups in one molecule;
(A-2) a compound containing at least two SiH groups in one molecule,
The curable resin composition according to any one of 1) to 4), wherein the component (B) is a hydrosilylation catalyst.

6)更に(E)白色顔料を含有する1)〜5)のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。   6) The curable resin composition according to any one of 1) to 5), further comprising (E) a white pigment.

7)(E)成分が酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニア、酸化ストロンチウム、酸化ニオブ、窒化ホウ素、チタン酸バリウム及び硫酸バリウム、有機白色顔料から選ばれる少なくとも一種である6)に記載の硬化性樹脂組成物。   7) The curable resin according to 6), wherein the component (E) is at least one selected from titanium oxide, zinc oxide, zirconia, strontium oxide, niobium oxide, boron nitride, barium titanate and barium sulfate, and organic white pigment. Composition.

8)(E)成分が酸化亜鉛、有機白色顔料であることを特徴とする1)〜7)いずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。   8) The curable resin composition according to any one of 1) to 7), wherein the component (E) is zinc oxide or an organic white pigment.

9)硬化物の線膨張係数が、7〜27ppmであることを特徴とする1)〜8)に記載の硬化性樹脂組成物。   9) The linear expansion coefficient of hardened | cured material is 7-27 ppm, The curable resin composition as described in 1) -8) characterized by the above-mentioned.

10)硬化物の曲げ破壊伸びが0.5mm〜5.0mmであることを特徴とする1)〜9)のうちいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。   10) Bending fracture elongation of hardened | cured material is 0.5 mm-5.0 mm, The curable resin composition of any one of 1) -9) characterized by the above-mentioned.

11)硬化物の表面の波長470nmの光反射率が90%以上であることを特徴とする1)〜10)のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。   11) The curable resin composition according to any one of 1) to 10), wherein the light reflectance at a wavelength of 470 nm on the surface of the cured product is 90% or more.

12)1)〜11)のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物を含有することを特徴とするタブレット。   12) A tablet comprising the curable resin composition according to any one of 1) to 11).

13)1)〜11)に記載の硬化性樹脂組成物、または12)のタブレットを用いて成形、硬化したことを特徴とする成形体。   13) A molded article formed and cured using the curable resin composition according to 1) to 11) or the tablet of 12).

14)1)〜11)に記載の硬化性樹脂組成物、または12)のタブレットを用いて成形、硬化したことを特徴とする半導体のパッケージ。   14) A semiconductor package, which is molded and cured using the curable resin composition according to 1) to 11) or the tablet of 12).

15)1)〜11)に記載の硬化性樹脂組成物、または12)のタブレットを用いて成形、硬化したことを特徴とする光半導体用パッケージ。   15) A package for an optical semiconductor, which is molded and cured using the curable resin composition according to 1) to 11) or the tablet of 12).

本発明の硬化性樹脂組成物を用いれば、線膨張係数の低い無機フィラーを高充填しながらも、柔軟性の高い硬化物が得られるため、種々の金属基盤と一体成形した場合において反りを抑制しつつ、成形体の欠けや割れを防止することができる。また、本発明における架橋ゴム粒子を使用することで、該組成物を光半導体用パッケージとして使用する場合に、着色しやすい白色顔料を用いても良好な光学特性を有する光半導体を得ることができる。   When the curable resin composition of the present invention is used, a highly flexible cured product can be obtained while highly filling with an inorganic filler having a low coefficient of linear expansion, so that warpage is suppressed when integrally molded with various metal substrates. However, chipping and cracking of the molded body can be prevented. Further, by using the crosslinked rubber particles in the present invention, when the composition is used as a package for an optical semiconductor, an optical semiconductor having good optical characteristics can be obtained even when a white pigment that is easily colored is used. .

本発明に係る成形品の概念図である。It is a conceptual diagram of the molded article which concerns on this invention.

以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の硬化性樹脂組成物は
(A)シリコーン系熱硬化性樹脂
(B)硬化触媒
(C)無機充填材
(D)架橋ゴム粒子からなる低線膨張化剤
を必須成分として含有することを特徴とする硬化性樹脂組成物である。
以下、各成分について説明する。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The curable resin composition of the present invention contains (A) a silicone-based thermosetting resin (B) a curing catalyst (C) an inorganic filler (D) and a low linear expansion agent composed of crosslinked rubber particles as an essential component. The curable resin composition is characterized.
Hereinafter, each component will be described.

((A)成分)
(A)成分はシリコーン系熱硬化性樹脂であれば特に限定することなく用いることができるが、あえて例示するとすれば、アルコキシ基やシラノール基の縮合反応によって硬化する縮合型シリコーン系樹脂や、二重結合に対するSiH基との付加反応によって硬化する付加型シリコーン系樹脂等が挙げられる。これらのうち、硬化時に水やアルコールの揮発成分の発生量が少ないという観点からは付加型シリコーン系樹脂を用いることが好ましい。
また(A)成分は、靭性の観点からは珪素骨格のみではなく、一部が有機骨格から形成されることが好ましい。有機骨格を導入する具体的な方法としては、モノマーとして有機化合物を使用する方法や、珪素骨格の一部を有機化合物で変性した有機変性シリコーンを使用する方法が例示される。有機変性シリコーンを具体的に例示するとすれば、炭化水素系化合物で変性されたノルボルネン変性シリコーンや、複素環化合物で変性されたイミド変性シリコーン、トリアジン変性シリコーン、またはエポキシ変性シリコーン等が挙げられる。これらのうち、耐熱性の観点からはイミド変性シリコーン、トリアジン変性シリコーンを使用することが好ましく、コストの観点からはトリアジン変性シリコーンを使用することがより好ましい。上記有機変性シリコーンは単独で使用しても、複数を組み合わせて使用してもよい。
また(A)成分は耐熱性と靭性のバランスの観点から
(A−1)SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する化合物、
(A−2)1分子中に少なくとも2個のSiH基を含有する化合物、
から構成されることがより好ましい。以下、それぞれの成分について詳細に説明する。
((A) component)
The component (A) can be used without particular limitation as long as it is a silicone-based thermosetting resin, but if it is intentionally exemplified, a condensation-type silicone resin that cures by a condensation reaction of an alkoxy group or a silanol group, Examples include addition-type silicone resins that are cured by an addition reaction with SiH groups for a heavy bond. Among these, it is preferable to use an addition-type silicone resin from the viewpoint that the generation amount of volatile components of water and alcohol is small during curing.
The component (A) is preferably formed not only from a silicon skeleton but also from an organic skeleton from the viewpoint of toughness. Specific methods for introducing the organic skeleton include a method using an organic compound as a monomer and a method using an organically modified silicone obtained by modifying a part of the silicon skeleton with an organic compound. Specific examples of the organically modified silicone include norbornene modified silicone modified with a hydrocarbon compound, imide modified silicone modified with a heterocyclic compound, triazine modified silicone, or epoxy modified silicone. Of these, imide-modified silicone and triazine-modified silicone are preferably used from the viewpoint of heat resistance, and triazine-modified silicone is more preferably used from the viewpoint of cost. The above organically modified silicones may be used alone or in combination.
Moreover, (A) component is a compound containing at least two carbon-carbon double bonds having reactivity with SiH groups from the viewpoint of a balance between heat resistance and toughness,
(A-2) a compound containing at least two SiH groups in one molecule,
More preferably, it is comprised. Hereinafter, each component will be described in detail.

(A−1)成分はSiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する化合物であれば得に限定されず、種々の有機化合物や無機化合物を用いることができる。
(A−1)成分の具体例を敢えて例示するとすれば、有機化合物としては、ジアリルフタレート、トリアリルトリメリテート、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート、トリメチロールプロパンジアリルエーテル、ペンタエリスリトールトリアリルエーテル、1,1,2,2−テトラアリロキシエタン、ジアリリデンペンタエリスリット、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、ジアリルモノグリシジルイソシアヌレート、ジアリルモノメチルイソシアヌレート、1,2,4−トリビニルシクロヘキサン、ジビニルベンゼン類(純度50〜100%のもの、好ましくは純度80〜100%のもの)、ジビニルビフェニル、1,3−ジイソプロペニルベンゼン、1,4−ジイソプロペニルベンゼン、ブタジエン、イソプレン、オクタジエン、デカジエン等の脂肪族鎖状ポリエン化合物系、シクロペンタジエン、シクロヘキサジエン、シクロオクタジエン、ジシクロペンタジエン、トリシクロペンタジエン、ノルボルナジエン等の脂肪族環状ポリエン化合物系、ビニルシクロペンテン、ビニルシクロヘキセン等の置換脂肪族環状オレフィン化合物系等が挙げられる。上記の内、耐熱性の観点からはトリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、ジアリルモノグリシジルイソシアヌレート、ジアリルモノメチルイソシアヌレート、1,2,4−トリビニルシクロヘキサン、ジビニルベンゼン類(純度50〜100%のもの、好ましくは純度80〜100%のもの)、ジビニルビフェニルを使用することが好ましく、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、ジアリルモノグリシジルイソシアヌレート、ジアリルモノメチルイソシアヌレート、1,2,4−トリビニルシクロヘキサンを使用することがより好ましく、トリアリルイソシアヌレート、ジアリルモノグリシジルイソシアヌレート、ジアリルモノメチルイソシアヌレートを用いることがさらに好ましい。
The component (A-1) is not limited as long as it is a compound containing at least two carbon-carbon double bonds having reactivity with the SiH group in one molecule, and various organic compounds and inorganic compounds are used. Can do.
If the specific example of (A-1) component is dared to be illustrated, as an organic compound, diallyl phthalate, triallyl trimellitate, diethylene glycol bisallyl carbonate, trimethylol propane diallyl ether, pentaerythritol triallyl ether, 1,1 , 2,2-tetraallyloxyethane, diarylidenepentaerythritol, triallyl cyanurate, triallyl isocyanurate, diallyl monoglycidyl isocyanurate, diallyl monomethyl isocyanurate, 1,2,4-trivinylcyclohexane, divinylbenzene (Purity of 50 to 100%, preferably 80 to 100%), divinylbiphenyl, 1,3-diisopropenylbenzene, 1,4-diisopropenylbenzene, butadiene, Aliphatic chain polyene compound systems such as cyclopentadiene, cyclohexadiene, cyclooctadiene, dicyclopentadiene, tricyclopentadiene, norbornadiene, vinyl cyclopentene, vinyl cyclohexene, etc. Examples thereof include substituted aliphatic cyclic olefin compound systems. Among the above, from the viewpoint of heat resistance, triallyl cyanurate, triallyl isocyanurate, diallyl monoglycidyl isocyanurate, diallyl monomethyl isocyanurate, 1,2,4-trivinylcyclohexane, divinylbenzenes (purity 50-100% Divinyl biphenyl), preferably triallyl cyanurate, triallyl isocyanurate, diallyl monoglycidyl isocyanurate, diallyl monomethyl isocyanurate, 1,2,4- Trivinylcyclohexane is more preferably used, and triallyl isocyanurate, diallyl monoglycidyl isocyanurate, and diallyl monomethyl isocyanurate are more preferably used.

また無機化合物の例としては
CH2=CHSiMe2O(SiMe2O)nSiMe2CH=CH2(n=0-10), CH2=CHSiMe2O(SiMe2O)m(SiPh2O)nSiMe2CH=CH2(m=0-5,n=1-4), CH2=CHSiPh2O(SiMe2O)m(SiPh2O)nSiPh2CH=CH2(m=0-3,n=1-2), CH2=CHSiMe2O(SiMe2O)m(SiPhMeO)nSiMe2CH=CH2(m=0-5,n=1-6), Me3SiO(SiMe2O)m(SiMe(CH=CH2)O)nSiMe3(m=0-5,n=1-9), MeSi[O(SiMe2O)mSiMe2CH=CH2]3(m=0-2) などの直鎖状、分岐状シロキサン化合物、
1,3,5,7−テトラビニル−1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン、1,3,5-トリビニル−ペンタメチルシクロテトラシロキサン、1,3−ジビニル−ヘキサメチルシクロテトラシロキサン、1,5−ジビニル−ヘキサメチルシクロテトラシロキサン、1,3,5,7−テトラビニル−1−フェニル−3,5,7−トリメチルシクロテトラシロキサン、1,3,5,7−テトラビニル−1,3−ジフェニル−5,7−ジメチルシクロテトラシロキサン、1,3,5,7−テトラビニル−1,5−ジフェニル−3,7−ジメチルシクロテトラシロキサン、1,3,5,7−テトラビニル−1,3,5−トリフェニル−7−メチルシクロテトラシロキサン、1−フェニル−3,5,7−トリビニル−1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン、1,3−ジフェニル−5,7−ジビニル−1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン、1,5−ジフェニル−3,7−ジビニル−1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン、1,3,5−トリビニル−1,3,5−トリメチルシクロトリシロキサン、1,3,5,7,9−ペンタビニル−1,3,5,7,9−ペンタメチルシクロペンタシロキサン、1,3,5,7,9,11−ヘキサビニル−1,3,5,7,9,11−ヘキサメチルシクロヘキサシロキサンなどの環状シロキサン化合物が例示される。
Examples of inorganic compounds include
CH 2 = CHSiMe 2 O (SiMe 2 O) n SiMe 2 CH = CH 2 (n = 0-10), CH 2 = CHSiMe 2 O (SiMe 2 O) m (SiPh 2 O) n SiMe 2 CH = CH 2 (m = 0-5, n = 1-4), CH 2 = CHSiPh 2 O (SiMe 2 O) m (SiPh 2 O) n SiPh 2 CH = CH 2 (m = 0-3, n = 1-2 ), CH 2 = CHSiMe 2 O (SiMe 2 O) m (SiPhMeO) n SiMe 2 CH = CH 2 (m = 0-5, n = 1-6), Me 3 SiO (SiMe 2 O) m (SiMe ( CH = CH 2 ) O) n SiMe 3 (m = 0-5, n = 1-9), MeSi [O (SiMe 2 O) m SiMe 2 CH = CH 2 ] 3 (m = 0-2), etc. Linear, branched siloxane compounds,
1,3,5,7-tetravinyl-1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, 1,3,5-trivinyl-pentamethylcyclotetrasiloxane, 1,3-divinyl-hexamethylcyclotetrasiloxane 1,5-divinyl-hexamethylcyclotetrasiloxane, 1,3,5,7-tetravinyl-1-phenyl-3,5,7-trimethylcyclotetrasiloxane, 1,3,5,7-tetravinyl- 1,3-diphenyl-5,7-dimethylcyclotetrasiloxane, 1,3,5,7-tetravinyl-1,5-diphenyl-3,7-dimethylcyclotetrasiloxane, 1,3,5,7-tetra Vinyl-1,3,5-triphenyl-7-methylcyclotetrasiloxane, 1-phenyl-3,5,7-trivinyl-1,3,5,7-tetra Tylcyclotetrasiloxane, 1,3-diphenyl-5,7-divinyl-1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, 1,5-diphenyl-3,7-divinyl-1,3,5,7 -Tetramethylcyclotetrasiloxane, 1,3,5-trivinyl-1,3,5-trimethylcyclotrisiloxane, 1,3,5,7,9-pentavinyl-1,3,5,7,9-pentamethyl Examples thereof include cyclic siloxane compounds such as cyclopentasiloxane and 1,3,5,7,9,11-hexavinyl-1,3,5,7,9,11-hexamethylcyclohexasiloxane.

シロキサン以外の化合物としては、ClCH2CH2CH2SiMe(CH=CH2)2, (CH2=CH)2SiMe2, (CH2=CH)2SiPhMe, (CH2=CH)2SiPh2,(CH2=CH)2Si(OEt)2, PhSi(CH=CH2)3, (CH2=CH)4Si, CH2=CHMe2Si-C6H4p-SiMe2CH=CH2, CH2=CHMe2SiO-C6H4p-OSiMe2CH=CH2などをあげることができる。
上記に示した具体例のうちフェニル(Ph)基を含む化合物においては、フェニル基の一部又は全部を次にあげるアリール基と置き換えてもよい。そのようなアリール基としては、例えば、ナフチル基、2−メチルフェニル基、3−メチルフェニル基、4−メチルフェニル基、2−エチルフェニル基、3−エチルフェニル基、4−エチルフェニル基、2−プロピルフェニル基、3−プロピルフェニル基、4−プロピルフェニル基、3−イソプロピルフェニル基、4−イソプロピルフェニル基、2−ブチルフェニル基、3−ブチルフェニル基、4−ブチルフェニル基、3−イソブチルフェニル基、4−イソブチルフェニル基、3−tブチルフェニル基、4−tブチルフェニル基、3−ペンチルフェニル基、4−ペンチルフェニル基、3−ヘキシルフェニル基、4−ヘキシルフェニル基、3−シクロヘキシルフェニル基、4−シクロヘキシルフェニル基、2,3−ジメチルフェニル基、2,4−ジメチルフェニル基、2,5−ジメチルフェニル基、2,6−ジメチルフェニル基、3,4−ジメチルフェニル基、3,5−ジメチルフェニル基、2,3−ジエチルフェニル基、2,4−ジエチルフェニル基、2,5−ジエチルフェニル基、2,6−ジエチルフェニル基、3,4−ジエチルフェニル基、3,5−ジエチルフェニル基、ビフェニル基、2,3,4−トリメチルフェニル基、2,3,5−トリメチルフェニル基、2,4,5−トリメチルフェニル基、3−エポキシフェニル基、4−エポキシフェニル基、3−グリシジルフェニル基、4−グリシジルフェニル基等が挙げられる。これらは、単独で用いても良く、2種以上併用して用いてもよい。
The compounds other than siloxane include ClCH 2 CH 2 CH 2 SiMe (CH = CH 2 ) 2 , (CH 2 = CH) 2 SiMe 2 , (CH 2 = CH) 2 SiPhMe, (CH 2 = CH) 2 SiPh 2 , (CH 2 = CH) 2 Si (OEt) 2 , PhSi (CH = CH 2 ) 3 , (CH 2 = CH) 4 Si, CH 2 = CHMe 2 Si-C 6 H 4 p-SiMe 2 CH = CH 2 , CH 2 ═CHMe 2 SiO—C 6 H 4 p-OSiMe 2 CH═CH 2 and the like.
Among the specific examples shown above, in a compound containing a phenyl (Ph) group, part or all of the phenyl group may be replaced with the following aryl group. Examples of such aryl groups include naphthyl group, 2-methylphenyl group, 3-methylphenyl group, 4-methylphenyl group, 2-ethylphenyl group, 3-ethylphenyl group, 4-ethylphenyl group, 2 -Propylphenyl group, 3-propylphenyl group, 4-propylphenyl group, 3-isopropylphenyl group, 4-isopropylphenyl group, 2-butylphenyl group, 3-butylphenyl group, 4-butylphenyl group, 3-isobutyl Phenyl group, 4-isobutylphenyl group, 3-tbutylphenyl group, 4-tbutylphenyl group, 3-pentylphenyl group, 4-pentylphenyl group, 3-hexylphenyl group, 4-hexylphenyl group, 3-cyclohexyl Phenyl group, 4-cyclohexylphenyl group, 2,3-dimethylphenyl group, 2,4- Methylphenyl group, 2,5-dimethylphenyl group, 2,6-dimethylphenyl group, 3,4-dimethylphenyl group, 3,5-dimethylphenyl group, 2,3-diethylphenyl group, 2,4-diethylphenyl group Group, 2,5-diethylphenyl group, 2,6-diethylphenyl group, 3,4-diethylphenyl group, 3,5-diethylphenyl group, biphenyl group, 2,3,4-trimethylphenyl group, 2,3 2,5-trimethylphenyl group, 2,4,5-trimethylphenyl group, 3-epoxyphenyl group, 4-epoxyphenyl group, 3-glycidylphenyl group, 4-glycidylphenyl group and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

上記の内で、入手性がよいこと、揮発性が低いこと、本発明における他成分との相溶性がよいこと、ヒドロシリル化硬化に伴う反応性が高いこと、本発明の硬化性樹脂組成物を硬化して得られる硬化物が低線膨張係数を持つこと、強靭であることなどの観点から、CH2=CHSiMe2O(SiMe2O)nSiMe2CH=CH2(n=1-3), CH2=CHSiMe2OSiPh2OSiMe2CH=CH2, CH2=CHSiMe2O(SiPh2O)2SiMe2CH=CH2, CH2=CHSiMe2OSiPhMeOSiMe2CH=CH2, CH2=CHSiMe2O(SiPhMeO)2SiMe2CH=CH2, CH2=CHSiPh2OSiPh2CH=CH2, 1,3,5-トリビニル−ペンタメチルシクロテトラシロキサン、1,3−ジビニル−ヘキサメチルシクロテトラシロキサン、1,5−ジビニル−ヘキサメチルシクロテトラシロキサン、1,3−ジフェニル−5,7−ジビニル−1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン、1,3,5−トリビニル−1,3,5−トリメチルシクロトリシロキサン、1,5−ジフェニル−3,7−ジビニル−1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン、CH2=CHMe2Si-C6H4p-SiMe2CH=CH2, CH2=CHMe2SiO-C6H4p-OSiMe2CH=CH2を好ましく用いることができる。 Among the above, it has good availability, low volatility, good compatibility with other components in the present invention, high reactivity associated with hydrosilylation curing, and the curable resin composition of the present invention. From the viewpoint of having a low linear expansion coefficient and toughness, the cured product obtained by curing, CH 2 = CHSiMe 2 O (SiMe 2 O) n SiMe 2 CH = CH 2 (n = 1-3) , CH 2 = CHSiMe 2 OSiPh 2 OSiMe 2 CH = CH 2 , CH 2 = CHSiMe 2 O (SiPh 2 O) 2 SiMe 2 CH = CH 2 , CH 2 = CHSiMe 2 OSiPhMeOSiMe 2 CH = CH 2 , CH 2 = CHSiMe 2 O (SiPhMeO) 2 SiMe 2 CH = CH 2 , CH 2 = CHSiPh 2 OSiPh 2 CH = CH 2 , 1,3,5-trivinyl-pentamethylcyclotetrasiloxane, 1,3-divinyl-hexamethylcyclotetrasiloxane 1,5-divinyl-hexamethylcyclotetrasiloxane, 1,3-diphenyl-5,7-divinyl-1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, , 5-trivinyl-1,3,5-trimethylcyclotrisiloxane, 1,5-diphenyl-3,7-divinyl-1,3,5,7-tetramethyl cyclotetrasiloxane, CH 2 = CHMe 2 Si- C 6 H 4 p-SiMe 2 CH = CH 2, CH 2 = CHMe 2 SiO-C 6 H 4 p-OSiMe 2 CH = CH 2 can be preferably used.

(A−2)成分は1分子中に少なくとも2個のSiH基を含有する化合物であれば特に制限は無く、例えば国際公開WO96/15194に記載される化合物で、1分子中に少なくとも2個のSiH基を有するもの等が使用できる。
これらのうち、入手性の面からは、1分子中に少なくとも2個のSiH基を有する鎖状及び/又は環状オルガノポリシロキサンが好ましく、(A−1)成分との相溶性が良いという観点からは、さらに、下記一般式(I)
The component (A-2) is not particularly limited as long as it is a compound containing at least two SiH groups in one molecule. For example, the compound described in International Publication WO96 / 15194 is at least two compounds in one molecule. Those having SiH groups can be used.
Among these, from the viewpoint of availability, a chain and / or cyclic organopolysiloxane having at least two SiH groups in one molecule is preferable, and from the viewpoint of good compatibility with the component (A-1). Is further represented by the following general formula (I)

(式中、R1は炭素数1〜6の有機基を表し、nは3〜10の数を表す。)で表される、1分子中に少なくとも2個のSiH基を有する環状オルガノポリシロキサンが好ましい。 (Wherein R 1 represents an organic group having 1 to 6 carbon atoms, and n represents a number of 3 to 10). Cyclic organopolysiloxane having at least two SiH groups in one molecule. Is preferred.


一般式(I)で表される化合物中の置換基R1は、C、H、Oから構成されるものであることが好ましく、炭化水素基であることがより好ましく、メチル基であることがさらに好ましい。
一般式(I)で表される化合物としては、入手容易性の観点からは、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンであることが好ましい。
(A−2)成分は単独もしくは2種以上のものを混合して用いることが可能である。

The substituent R 1 in the compound represented by the general formula (I) is preferably composed of C, H, and O, more preferably a hydrocarbon group, and a methyl group. Further preferred.
From the viewpoint of availability, the compound represented by the general formula (I) is preferably 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane.
(A-2) A component can be used individually or in mixture of 2 or more types.

((A−2)成分の好ましい構造)
(A−2)成分の揮発性が低くなり得られる硬化性樹脂組成物からのアウトガスの問題が生じ難いという観点及び該組成物から得られる硬化物に実用的な強度・靭性を与えるという観点から、揮発性が実質上なく、シロキサン骨格に加えて有機化合物由来の骨格が導入された成分を有することが、シロキサン骨格だけから構成される化合物よりも好ましい。該化合物の製造法は限定されないが(A−2)成分は、SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に1個以上含有する有機化合物(α)と、1分子中に少なくとも2個のSiH基を有する化合物(β)を、ヒドロシリル化反応して得ることができる化合物であることが好ましい。
(Preferred structure of component (A-2))
(A-2) From the viewpoint that the problem of outgas from the curable resin composition that can be reduced in volatility of the component is less likely to occur, and from the viewpoint of giving practical strength and toughness to the cured product obtained from the composition. It is more preferable to have a component that is substantially non-volatile and has a component in which a skeleton derived from an organic compound is introduced in addition to the siloxane skeleton. Although the production method of the compound is not limited, the component (A-2) is composed of an organic compound (α) containing at least one carbon-carbon double bond having reactivity with the SiH group in one molecule and one molecule. It is preferable that the compound (β) having at least two SiH groups is obtained by hydrosilylation reaction.

((α)成分)
ここで(α)成分は上記した(A−1)成分の説明の中で示したSiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する化合物と同じもの(α1)も用いることができる。(α1)成分を用いると得られる硬化物の架橋密度が高くなり力学強度が高い硬化物となりやすい。
その他、SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に1個含有する化合物(α2)も用いることができる。(α2)成分を用いると得られる硬化物が低弾性となりやすい。
((Α) component)
Here, the component (α) is the same as the compound containing at least two carbon-carbon double bonds having reactivity with the SiH group shown in the description of the component (A-1). α1) can also be used. When the component (α1) is used, the resulting cured product has a high crosslink density and tends to be a cured product having high mechanical strength.
In addition, a compound (α2) containing one carbon-carbon double bond having reactivity with the SiH group in one molecule can also be used. When the (α2) component is used, the obtained cured product tends to have low elasticity.

((α2)成分)
(α2)成分としては、SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に1個含有する化合物であれば特に限定されない。
(α2)成分のSiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合の結合位置は特に限定されず、分子内のどこに存在してもよい。
((Α2) component)
The (α2) component is not particularly limited as long as it is a compound containing one carbon-carbon double bond having reactivity with the SiH group in one molecule.
The bonding position of the carbon-carbon double bond having reactivity with the SiH group of the (α2) component is not particularly limited and may be present anywhere in the molecule.

(α2)成分の具体的な例としては、プロペン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−ヘプテン、1−オクテン、1−ノネン、1−デセン、1−ドデセン、1−ウンデセン、出光石油化学社製リニアレン、4,4−ジメチル−1−ペンテン、2−メチル−1−ヘキセン、2,3,3−トリメチル−1−ブテン、2,4,4−トリメチル−1−ペンテン等のような鎖状脂肪族炭化水素系化合物類、シクロヘキセン、メチルシクロヘキセン、メチレンシクロヘキサン、ノルボルニレン、エチリデンシクロヘキサン、ビニルシクロヘキサン、カンフェン、カレン、αピネン、βピネン等のような環状脂肪族炭化水素系化合物類、スチレン、αメチルスチレン、インデン、フェニルアセチレン、4−エチニルトルエン、アリルベンゼン、4−フェニル−1−ブテン等のような芳香族炭化水素系化合物、アルキルアリルエーテル、アリルフェニルエーテル等のアリルエーテル類、グリセリンモノアリルエーテル、エチレングリコールモノアリルエーテル、4−ビニル−1,3−ジオキソラン−2−オン等の脂肪族系化合物類、1,2−ジメトキシ−4−アリルベンゼン、o−アリルフェノール等の芳香族系化合物類、モノアリルジベンジルイソシアヌレート、モノアリルジグリシジルイソシアヌレート等の置換イソシアヌレート類、ビニルトリメチルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリフェニルシラン等のシリコン化合物等が挙げられる。さらに、片末端アリル化ポリエチレンオキサイド、片末端アリル化ポリプロピレンオキサイド等のポリエーテル系樹脂、片末端アリル化ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、片末端アリル化ポリブチルアクリレート、片末端アリル化ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂、等の片末端にビニル基を有するポリマーあるいはオリゴマー類等も挙げることができる。   Specific examples of the component (α2) include propene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 1-heptene, 1-octene, 1-nonene, 1-decene, 1-dodecene, 1-undecene, Idemitsu Petrochemical's linearene, 4,4-dimethyl-1-pentene, 2-methyl-1-hexene, 2,3,3-trimethyl-1-butene, 2,4,4-trimethyl-1-pentene, etc. Chain aliphatic hydrocarbon compounds such as cyclohexene, methylcyclohexene, methylenecyclohexane, norbornylene, ethylidenecyclohexane, vinylcyclohexane, camphene, carene, α-pinene, β-pinene and the like, Styrene, α-methylstyrene, indene, phenylacetylene, 4-ethynyltoluene, allylbenzene, 4- Aromatic hydrocarbon compounds such as phenyl-1-butene, allyl ethers such as alkyl allyl ether and allyl phenyl ether, glycerin monoallyl ether, ethylene glycol monoallyl ether, 4-vinyl-1,3-dioxolane- Substitution of aliphatic compounds such as 2-one, aromatic compounds such as 1,2-dimethoxy-4-allylbenzene, o-allylphenol, monoallyl dibenzyl isocyanurate, monoallyl diglycidyl isocyanurate, etc. Examples include isocyanurates, silicon compounds such as vinyltrimethylsilane, vinyltrimethoxysilane, and vinyltriphenylsilane. Furthermore, polyether resins such as one-end allylated polyethylene oxide and one-end allylated polypropylene oxide, hydrocarbon resins such as one-end allylated polyisobutylene, one-end allylated polybutyl acrylate, one-end allylated polymethyl methacrylate Examples thereof also include polymers or oligomers having a vinyl group at one end, such as acrylic resins.

(α2)成分の構造は線状でも枝分かれ状でもよく、分子量は特に制約はなく種々のものを用いることができる。分子量分布も特に制限ないが、混合物の粘度が低くなり成形性が良好となりやすいという点においては、分子量分布が3以下であることが好ましく、2以下であることがより好ましく、1.5以下であることがさらに好ましい。
(α2)成分のガラス転位温度が存在する場合はこれについても特に限定はなく種々のものが用いられるが、得られる硬化物が強靭となりやすいという点においては、ガラス点移転温度は100℃以下であることが好ましく、50℃以下であることがより好ましく、0℃以下であることがさらに好ましい。好ましい樹脂の例としてはポリブチルアクリレート樹脂等が挙げられる。逆に得られる硬化物の耐熱性が高くなるという点においては、ガラス転位温度は100℃以上であることが好ましく、120℃以上であることがより好ましく、150℃以上であることがさらに好ましく、170℃以上であることが最も好ましい。ガラス転位温度は動的粘弾性測定においてtanδが極大を示す温度として求めることができる。
The structure of the (α2) component may be linear or branched, and the molecular weight is not particularly limited, and various types can be used. The molecular weight distribution is not particularly limited, but the molecular weight distribution is preferably 3 or less, more preferably 2 or less, and more preferably 1.5 or less in that the viscosity of the mixture is low and the moldability is likely to be good. More preferably it is.
In the case where the glass transition temperature of the component (α2) is present, there is no particular limitation on this, and various materials are used. However, the glass point transfer temperature is 100 ° C. or lower in that the obtained cured product tends to be tough. Preferably, it is 50 ° C. or lower, and more preferably 0 ° C. or lower. Examples of preferred resins include polybutyl acrylate resins. Conversely, the glass transition temperature is preferably 100 ° C. or higher, more preferably 120 ° C. or higher, further preferably 150 ° C. or higher, in that the heat resistance of the cured product obtained is increased. Most preferably, it is 170 ° C. or higher. The glass transition temperature can be determined as a temperature at which tan δ exhibits a maximum in the dynamic viscoelasticity measurement.

(α2)成分としては、得られる硬化物の耐熱性が高くなるという点においては、炭化水素化合物であることが好ましい。この場合好ましい炭素数の下限は7であり、好ましい炭素数の上限は10である。   The component (α2) is preferably a hydrocarbon compound in that the heat resistance of the resulting cured product is increased. In this case, the preferable lower limit of the carbon number is 7, and the preferable upper limit of the carbon number is 10.

(α2)成分としてはその他の反応性基を有していてもよい。この場合の反応性基としては、エポキシ基、アミノ基、ラジカル重合性不飽和基、カルボキシル基、イソシアネート基、ヒドロキシル基、アルコキシシリル基等が挙げられる。これらの官能基を有している場合には得られる硬化性樹脂組成物の接着性が高くなりやすく、得られる硬化物の強度が高くなりやすい。接着性がより高くなりうるという点からは、これらの官能基のうちエポキシ基が好ましい。また、得られる硬化物の耐熱性が高くなりやすいという点においては、反応性基を平均して1分子中に1個以上有していることが好ましい。具体的にはモノアリルジグリシジルイソシアヌレート、アリルグリシジルエーテル、アリロキシエチルメタクリレート、アリロキシエチルアクリレート、ビニルトリメトキシシラン等が挙げられる。
上記のような(α1)成分あるいは/および(α2)成分としては単一のものを用いてもよいし、複数のものを組み合わせて用いてもよい。
The component (α2) may have other reactive groups. Examples of the reactive group in this case include an epoxy group, an amino group, a radical polymerizable unsaturated group, a carboxyl group, an isocyanate group, a hydroxyl group, and an alkoxysilyl group. When it has these functional groups, the adhesiveness of the obtained curable resin composition tends to be high, and the strength of the obtained cured product tends to be high. Of these functional groups, an epoxy group is preferable from the viewpoint that the adhesiveness can be further increased. Moreover, it is preferable to have 1 or more reactive groups in one molecule on average from the point that the heat resistance of the obtained cured product tends to be high. Specific examples include monoallyl diglycidyl isocyanurate, allyl glycidyl ether, allyloxyethyl methacrylate, allyloxyethyl acrylate, vinyltrimethoxysilane, and the like.
As the above (α1) component and / or (α2) component, a single component may be used, or a plurality of components may be used in combination.

((β)成分)
(β)成分は、1分子中に少なくとも2個のSiH基を有する化合物であり、鎖状及び/又は環状のポリオルガノシロキサンもその例である。
具体的には、例えば
((Β) component)
The component (β) is a compound having at least two SiH groups in one molecule, and chain and / or cyclic polyorganosiloxanes are also examples.
Specifically, for example

が挙げられる。
ここで、(α)成分との相溶性が良くなりやすいという観点から、下記一般式(II)
Is mentioned.
Here, from the viewpoint of easy compatibility with the component (α), the following general formula (II)

(式中、R1は炭素数1〜6の有機基を表し、nは3〜10の数を表す。)で表される、1分子中に少なくとも3個のSiH基を有する環状ポリオルガノシロキサンが好ましい。
上記一般式(II)で表される化合物中の置換基R1は、C、H、Oから構成されるものであることが好ましく、炭化水素基であることがより好ましく、メチル基であることがさらに好ましい。
入手容易性等から、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンであることが好ましい。
(Wherein R 1 represents an organic group having 1 to 6 carbon atoms, and n represents a number of 3 to 10). Cyclic polyorganosiloxane having at least three SiH groups in one molecule. Is preferred.
The substituent R 1 in the compound represented by the general formula (II) is preferably composed of C, H, and O, more preferably a hydrocarbon group, and a methyl group. Is more preferable.
In view of availability, 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane is preferable.

(β)成分のその他の例として、ビスジメチルシリルベンゼンなどのSiH基を有する化合物をあげることができる。
上記したような各種(β)成分は単独もしくは2種以上のものを混合して用いることが可能である。
Other examples of the (β) component include compounds having a SiH group such as bisdimethylsilylbenzene.
Various (β) components as described above can be used alone or in admixture of two or more.

((α)成分と(β)成分の反応)
次に、本発明の(A−2)成分として、(α)成分と(β)成分をヒドロシリル化反応して得ることができる化合物を用いる場合の、(α)成分と(β)成分とのヒドロシリル化反応に関して説明する。
尚、(α)成分と(β)成分をヒドロシリル化反応すると、本発明の(A−2)成分を含む複数の化合物の混合物が得られることがあるが、そこから(A−2)成分を分離することなく混合物のままで用いて本発明の硬化性樹脂組成物を作製することもできる。
(α)成分と(β)成分をヒドロシリル化反応させる場合の(α)成分と(β)成分の混合比率は、特に限定されないが、得られる(A−2)成分と(A−1)成分とのヒドロシリル化による硬化物の強度を考えた場合、(A−2)成分のSiH基が多い方が好ましいため、一般に混合する(α)成分中のSiH基との反応性を有する炭素−炭素二重結合の総数(X)と、混合する(β)成分中のSiH基の総数(Y)との比が、Y/X≧2であることが好ましく、Y/X≧3であることがより好ましい。また(A−2)成分の(A−1)成分との相溶性がよくなりやすいという点からは、10≧Y/Xであることが好ましく、5≧Y/Xであることがより好ましい。
(Reaction of (α) component and (β) component)
Next, as the component (A-2) of the present invention, when a compound that can be obtained by hydrosilylation reaction of the component (α) and the component (β) is used, the component (α) and the component (β) The hydrosilylation reaction will be described.
In addition, when the (α) component and the (β) component are subjected to a hydrosilylation reaction, a mixture of a plurality of compounds including the component (A-2) of the present invention may be obtained. The curable resin composition of the present invention can also be produced using the mixture as it is without separation.
The mixing ratio of the (α) component and the (β) component when the (α) component and the (β) component are subjected to a hydrosilylation reaction is not particularly limited, but the obtained (A-2) component and (A-1) component When considering the strength of the cured product by hydrosilylation with (A-2), it is preferable that the component (A-2) has a larger amount of SiH groups, so that carbon-carbon having reactivity with the SiH groups in the component (α) to be generally mixed is preferable. The ratio of the total number of double bonds (X) to the total number of SiH groups (Y) in the (β) component to be mixed is preferably Y / X ≧ 2, and Y / X ≧ 3 More preferred. Moreover, it is preferable that it is 10> = Y / X from the point that compatibility with the (A-1) component of (A-2) component becomes easy, and it is more preferable that it is 5> = Y / X.

(α)成分と(β)成分をヒドロシリル化反応させる場合には適当な触媒を用いてもよい。触媒としては、例えば次のようなものを用いることができる。白金の単体、アルミナ、シリカ、カーボンブラック等の担体に固体白金を担持させたもの、塩化白金酸、塩化白金酸とアルコール、アルデヒド、ケトン等との錯体、白金−オレフィン錯体(例えば、Pt(CH2=CH22(PPh32、Pt(CH2=CH22Cl2)、白金−ビニルシロキサン錯体(例えば、Pt(ViMe2SiOSiMe2Vi)n、Pt[(MeViSiO)4m)、白金−ホスフィン錯体(例えば、Pt(PPh34、Pt(PBu34)、白金−ホスファイト錯体(例えば、Pt[P(OPh)34、Pt[P(OBu)34)(式中、Meはメチル基、Buはブチル基、Viはビニル基、Phはフェニル基を表し、n、mは、整数を示す。)、ジカルボニルジクロロ白金、カールシュテト(Karstedt)触媒、また、アシュビー(Ashby)の米国特許第3159601号及び3159662号明細書中に記載された白金−炭化水素複合体、ならびにラモロー(Lamoreaux)の米国特許第3220972号明細書中に記載された白金アルコラート触媒が挙げられる。更に、モディック(Modic)の米国特許第3516946号明細書中に記載された塩化白金−オレフィン複合体も本発明において有用である。
また、白金化合物以外の触媒の例としては、RhCl(PPh)3、RhCl3、RhAl23、RuCl3、IrCl3、FeCl3、AlCl3、PdCl2・2H2O、NiCl2、TiCl4、等が挙げられる。
これらの中では、触媒活性の点から塩化白金酸、白金−オレフィン錯体、白金−ビニルシロキサン錯体等が好ましい。また、これらの触媒は単独で使用してもよく、2種以上併用してもよい。
When the (α) component and the (β) component are subjected to a hydrosilylation reaction, an appropriate catalyst may be used. As the catalyst, for example, the following can be used. Platinum simple substance, alumina, silica, carbon black or the like supported on solid platinum, chloroplatinic acid, a complex of chloroplatinic acid and alcohol, aldehyde, ketone or the like, platinum-olefin complex (for example, Pt (CH 2 = CH 2 ) 2 (PPh 3 ) 2 , Pt (CH 2 = CH 2 ) 2 Cl 2 ), platinum-vinylsiloxane complex (for example, Pt (ViMe 2 SiOSiMe 2 Vi) n , Pt [(MeViSiO) 4 ]) m ), platinum-phosphine complexes (eg, Pt (PPh 3 ) 4 , Pt (PBu 3 ) 4 ), platinum-phosphite complexes (eg, Pt [P (OPh) 3 ] 4 , Pt [P (OBu) 3 ] 4) (in the formula, Me represents a methyl group, Bu a butyl group, Vi is vinyl group, Ph represents a phenyl group, n, m is an integer.), dicarbonyl dichloroplatinum, Karushuteto Karstedt catalyst, as well as the platinum-hydrocarbon complexes described in Ashby US Pat. Nos. 3,159,601 and 3,159,622, and Lamoreaux US Pat. No. 3,220,972. And platinum alcoholate catalysts. In addition, platinum chloride-olefin complexes described in Modic US Pat. No. 3,516,946 are also useful in the present invention.
Examples of catalysts other than platinum compounds include RhCl (PPh) 3 , RhCl 3 , RhAl 2 O 3 , RuCl 3 , IrCl 3 , FeCl 3 , AlCl 3 , PdCl 2 .2H 2 O, NiCl 2 , TiCl 4. , Etc.
Of these, chloroplatinic acid, platinum-olefin complexes, platinum-vinylsiloxane complexes and the like are preferable from the viewpoint of catalytic activity. Moreover, these catalysts may be used independently and may be used together 2 or more types.

触媒の添加量は特に限定されないが、十分な硬化性を有し、かつ硬化性樹脂組成物のコストを比較的低く抑えるため好ましい添加量の下限は、(β)成分のSiH基1モルに対して10-8モル、より好ましくは10-6モルであり、好ましい添加量の上限は(β)成分のSiH基1モルに対して10-1モル、より好ましくは10-2モルである。
また、上記触媒には助触媒を併用することが可能であり、例としてトリフェニルホスフィン等のリン系化合物、ジメチルマレート等の1,2−ジエステル系化合物、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−ブチン等のアセチレンアルコール系化合物、単体の硫黄等の硫黄系化合物、トリエチルアミン等のアミン系化合物等が挙げられる。助触媒の添加量は特に限定されないが、ヒドロシリル化触媒1モルに対しての好ましい添加量の下限は、10-2モル、より好ましくは10-1モルであり、好ましい添加量の上限は102モル、より好ましくは10モルである。
Although the addition amount of the catalyst is not particularly limited, the lower limit of the preferable addition amount is sufficient with respect to 1 mol of SiH groups of the (β) component in order to have sufficient curability and keep the cost of the curable resin composition relatively low. 10 -8 mol Te, more preferably 10 -6 mole, preferable amount of the upper limit is 10 -1 moles per mole of the SiH group (beta) component, more preferably 10 -2 moles.
In addition, a cocatalyst can be used in combination with the above catalyst. Examples thereof include phosphorus compounds such as triphenylphosphine, 1,2-diester compounds such as dimethyl malate, 2-hydroxy-2-methyl-1 -Acetylene alcohol compounds such as butyne, sulfur compounds such as simple sulfur, amine compounds such as triethylamine, and the like. The addition amount of the cocatalyst is not particularly limited, but the lower limit of the preferable addition amount with respect to 1 mol of the hydrosilylation catalyst is 10 −2 mol, more preferably 10 −1 mol, and the upper limit of the preferable addition amount is 10 2. Mol, more preferably 10 mol.

反応させる場合の(α)成分、(β)成分、触媒の混合の方法としては、各種方法をとることができるが、(α)成分に触媒を混合したものを、(β)成分に混合する方法が好ましい。(α)成分、(β)成分の混合物に触媒を混合する方法だと反応の制御が困難である。(β)成分と触媒を混合したものに(α)成分を混合する方法をとる場合は、触媒の存在下(β)成分が混入している水分と反応性を有するため、変質することがある。
反応温度としては種々設定できるが、この場合好ましい温度範囲の下限は30℃、より好ましくは50℃であり、好ましい温度範囲の上限は200℃、より好ましくは150℃である。反応温度が低いと十分に反応させるための反応時間が長くなり、反応温度が高いと実用的でない。反応は一定の温度で行ってもよいが、必要に応じて多段階あるいは連続的に温度を変化させてもよい。
反応時間、反応時の圧力も必要に応じ種々設定できる。
Various methods can be used for mixing the (α) component, the (β) component, and the catalyst in the reaction, and the (α) component mixed with the catalyst is mixed with the (β) component. The method is preferred. If the catalyst is mixed with the mixture of the (α) component and the (β) component, it is difficult to control the reaction. When the method of mixing the (β) component with the mixture of the (β) component and the catalyst, the (β) component is reactive in the presence of the catalyst and may be altered due to its reactivity with water. .
The reaction temperature can be variously set. In this case, the lower limit of the preferable temperature range is 30 ° C., more preferably 50 ° C., and the upper limit of the preferable temperature range is 200 ° C., more preferably 150 ° C. If the reaction temperature is low, the reaction time for sufficiently reacting becomes long, and if the reaction temperature is high, it is not practical. The reaction may be carried out at a constant temperature, but the temperature may be changed in multiple steps or continuously as required.
Various reaction times and pressures during the reaction can be set as required.

ヒドロシリル化反応の際に溶媒を使用してもよい。使用できる溶剤はヒドロシリル化反応を阻害しない限り特に限定されるものではなく、具体的に例示すれば、ベンゼン、トルエン、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、1, 4−ジオキサン、1,3−ジオキソラン、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、クロロホルム、塩化メチレン、1, 2−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒を好適に用いることができる。溶媒は2種類以上の混合溶媒として用いることもできる。溶媒としては、トルエン、テトラヒドロフラン、1,3−ジオキソラン、クロロホルムが好ましい。使用する溶媒量も適宜設定できる。
その他、反応性を制御する目的等のために種々の添加剤を用いてもよい。
A solvent may be used during the hydrosilylation reaction. Solvents that can be used are not particularly limited as long as they do not inhibit the hydrosilylation reaction. Specific examples include hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, hexane, heptane, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, 1, Ether solvents such as 3-dioxolane and diethyl ether, ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone, and halogen solvents such as chloroform, methylene chloride and 1,2-dichloroethane can be preferably used. The solvent can also be used as a mixed solvent of two or more types. As the solvent, toluene, tetrahydrofuran, 1,3-dioxolane and chloroform are preferable. The amount of solvent to be used can also be set as appropriate.
In addition, various additives may be used for the purpose of controlling reactivity.

(α)成分と(β)成分を反応させた後に、溶媒あるいは/および未反応の(α)成分あるいは/および(β)成分を除去することもできる。これらの揮発分を除去することにより、得られる(A−2)成分が揮発分を有さないため(A−1)成分との硬化の場合に揮発分の揮発によるボイド、クラックの問題が生じにくい。除去する方法としては例えば、減圧脱揮の他、活性炭、ケイ酸アルミニウム、シリカゲル等による処理等が挙げられる。減圧脱揮する場合には低温で処理することが好ましい。この場合の好ましい温度の上限は100℃であり、より好ましくは60℃である。高温で処理すると増粘等の変質を伴いやすい。   After reacting the (α) component and the (β) component, the solvent or / and the unreacted (α) component or / and the (β) component can be removed. By removing these volatile components, the resulting component (A-2) does not have volatile components, and in the case of curing with the component (A-1), the problem of voids and cracks due to volatilization of the volatile components occurs. Hateful. Examples of the removal method include treatment with activated carbon, aluminum silicate, silica gel and the like in addition to vacuum devolatilization. When devolatilizing under reduced pressure, it is preferable to treat at a low temperature. The upper limit of the preferable temperature in this case is 100 ° C, more preferably 60 ° C. When treated at high temperatures, it tends to be accompanied by alterations such as thickening.

以上のような、(α)成分と(β)成分の反応物である(A−2)成分の例としては、ビスフェノールAジアリルエーテルと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物、ビニルシクロヘキセンと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物、ジビニルベンゼンと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物、ジシクロペンタジエンと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物、トリアリルイソシアヌレートと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物、ジアリルモノグリシジルイソシアヌレートと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物、アリルグリシジルエーテルと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物、αメチルスチレンと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物、モノアリルジグリシジルイソシアヌレートと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物、ビニルノルボルネンとビスジメチルシリルベンゼンとの反応物等を挙げることができる。   As an example of the (A-2) component which is a reaction product of the (α) component and the (β) component as described above, the reaction of bisphenol A diallyl ether and 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane Product, reaction product of vinylcyclohexene and 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, reaction product of divinylbenzene and 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, dicyclopentadiene and 1,3,3 Reaction product of 5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, reaction product of triallyl isocyanurate and 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, diallyl monoglycidyl isocyanurate and 1,3,5,7-tetra Reaction product of methylcyclotetrasiloxane, allyl glycidyl ether and 1,3,5,7-tetramethylcyclotetra A reaction product of siloxane, a reaction product of α-methylstyrene and 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, a reaction product of monoallyldiglycidyl isocyanurate and 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, Examples include a reaction product of vinyl norbornene and bisdimethylsilylbenzene.

((B)成分)硬化触媒
本発明における(B)成分は(A)成分であるシリコーン系熱硬化性樹脂を硬化するために使用される触媒であれば特に限定されないが、たとえば上記(A)成分の説明にて示した縮合型シリコーン系熱硬化性樹脂の硬化触媒としては縮合触媒を使用することができ、また付加型シリコーン系熱硬化性樹脂の硬化触媒としてはヒドロシリル化触媒を用いることができる。
(Component (B)) Curing Catalyst The component (B) in the present invention is not particularly limited as long as it is a catalyst used for curing the silicone-based thermosetting resin as the component (A). A condensation catalyst can be used as the curing catalyst for the condensation-type silicone-based thermosetting resin shown in the description of the components, and a hydrosilylation catalyst can be used as the curing catalyst for the addition-type silicone-based thermosetting resin. it can.

縮合触媒としては特に限定されないが、ほう素系化合物あるいは/およびアルミニウム系化合物あるいは/およびチタン系化合物が好ましい。シラノール縮合触媒となるアルミニウム系化合物としては、アルミニウムトリイソプロポキシド、sec−ブトキシアルミニウムジイソフロポキシド、アルミニウムトリsec−ブトキシド等のアルミニウムアルコキシド類:、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロポキシド、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、アルミキレートM(川研ファインケミカル製、アルキルアセトアセテートアルミニウムジイソプロポキシド)、アルミニウムトリス(アセチルアセトネート)、アルミニウムモノアセチルアセトネートビス(エチルアセトアセテート)等のアルミニウムキレート類等が例示でき、取扱い性の点からアルミニウムキレート類がより好ましい。シラノール縮合触媒となるチタン系化合物としては、テトライソプロポキシチタン、テトラブトキシチタン等のテトラアルコキシチタン類:チタンテトラアセチルアセトナート等のチタンキレート類:オキシ酢酸やエチレングリコール等の残基を有する一般的なチタネートカップリング剤が例示できる。
シラノール縮合触媒となるほう素系化合物としては、ほう酸エステルが挙げられる。ほう酸エステルとしては下記一般式(III)、(IV)で示されるものを好適に用いることが出来る。
Although it does not specifically limit as a condensation catalyst, A boron type compound or / and an aluminum type compound or / and a titanium type compound are preferable. Examples of the aluminum compound used as the silanol condensation catalyst include aluminum alkoxides such as aluminum triisopropoxide, sec-butoxyaluminum diisoflopoxide, aluminum trisec-butoxide, ethyl acetoacetate aluminum diisopropoxide, aluminum tris ( Ethyl acetoacetate), aluminum chelate M (manufactured by Kawaken Fine Chemicals, alkyl acetoacetate aluminum diisopropoxide), aluminum tris (acetylacetonate), aluminum monoacetylacetonate bis (ethylacetoacetate), etc. Aluminum chelates are more preferable from the viewpoint of handleability. Titanium compounds used as silanol condensation catalysts include tetraalkoxy titaniums such as tetraisopropoxy titanium and tetrabutoxy titanium: titanium chelates such as titanium tetraacetylacetonate: general residues having residues such as oxyacetic acid and ethylene glycol And titanate coupling agents.
Examples of the boron compound that serves as a silanol condensation catalyst include boric acid esters. As the borate ester, those represented by the following general formulas (III) and (IV) can be preferably used.

(式中R1は炭素数1〜48の有機基を表す。)
ほう酸エステルの具体例として、ほう酸トリ−2−エチルヘキシル、ほう酸ノルマルトリオクタデシル、ほう酸トリノルマルオクチル、ほう酸トリフェニル、トリメチレンボレート、トリス(トリメチルシリル)ボレート、ほう酸トリノルマルブチル、ほう酸トリ−sec−ブチル、ほう酸トリ−tert−ブチル、ほう酸トリイソプロピル、ほう酸トリノルマルプロピル、ほう酸トリアリル、ほう酸トリエチル、ほう酸トリメチル、ほう素メトキシエトキサイドを好適に用いることができる。
(In the formula, R 1 represents an organic group having 1 to 48 carbon atoms.)
Specific examples of boric acid esters include tri-2-ethylhexyl borate, normal trioctadecyl borate, trinormal octyl borate, triphenyl borate, trimethylene borate, tris (trimethylsilyl) borate, trinormal butyl borate, tri-sec-butyl borate, Tri-tert-butyl borate, triisopropyl borate, trinormalpropyl borate, triallyl borate, triethyl borate, trimethyl borate, and boron methoxyethoxide can be preferably used.

これらほう酸エステルは1種類のみを用いてもよく、2種類以上を混合して用いても良い。混合は事前に行っても良く、また硬化物作成時に混合しても良い。
これらほう酸エステルのうち、容易に入手でき工業的実用性が高いという点からは、ほう酸トリメチル、ほう酸トリエチル、ほう酸トリノルマルブチルが好ましく、なかでもほう酸トリメチルがより好ましい。
These borate esters may be used alone or in combination of two or more. Mixing may be performed in advance or may be performed at the time of producing a cured product.
Of these borate esters, trimethyl borate, triethyl borate, and trinormal butyl borate are preferable, and trimethyl borate is more preferable among them because it is easily available and has high industrial practicality.

硬化時の揮発性を抑制できるという点からは、ほう酸ノルマルトリオクタデシル、ほう酸トリノルマルオクチル、ほう酸トリフェニル、トリメチレンボレート、トリス(トリメチルシリル)ボレート、ほう酸トリノルマルブチル、ほう酸トリ−sec−ブチル、ほう酸トリ−tert−ブチル、ほう酸トリイソプロピル、ほう酸トリノルマルプロピル、ほう酸トリアリル、ほう素メトキシエトキサイドが好ましく、なかでもほう酸ノル
マルトリオクタデシル、ほう酸トリ−tert−ブチル、ほう酸トリフェニル、ほう酸トリノルマルブチルがより好ましい。
揮発性の抑制、および作業性がよいという点からは、ほう酸トリノルマルブチル、ほう酸トリイソプロピル、ほう酸トリノルマルプロピルが好ましく、なかでもほう酸トリノルマルブチルがより好ましい。
高温下での着色性が低いという点からは、ほう酸トリメチル、ほう酸トリエチルが好ましく、なかでもほう酸トリメチルがより好ましい。
From the point that the volatility at the time of curing can be suppressed, normal trioctadecyl borate, trinormal octyl borate, triphenyl borate, trimethylene borate, tris (trimethylsilyl) borate, trinormal butyl borate, tri-sec-butyl borate, boric acid Tri-tert-butyl, triisopropyl borate, tripropylpropyl borate, triallyl borate, and boron methoxyethoxide are preferred. Among these, normal trioctadecyl borate, tri-tert-butyl borate, triphenyl borate, and tributyl normal borate are more preferred. preferable.
From the viewpoint of suppression of volatility and good workability, trinormal butyl borate, triisopropyl borate and trinormal propyl borate are preferable, and trinormal butyl borate is more preferable.
From the viewpoint of low colorability at high temperatures, trimethyl borate and triethyl borate are preferred, and trimethyl borate is more preferred.

ヒドロシリル化触媒としては、ヒドロシリル化反応の触媒活性があれば特に限定されないが、例えば、白金の単体、アルミナ、シリカ、カーボンブラック等の担体に固体白金を担持させたもの、塩化白金酸、塩化白金酸とアルコール、アルデヒド、ケトン等との錯体、白金−オレフィン錯体(例えば、Pt(CH2=CH22(PPh32、Pt(CH2=CH22Cl2)、白金−ビニルシロキサン錯体(例えば、Pt(ViMe2SiOSiMe2Vi)n、Pt[(MeViSiO)4m)、白金−ホスフィン錯体(例えば、Pt(PPh34、Pt(PBu34)、白金−ホスファイト錯体(例えば、Pt[P(OPh)34、Pt[P(OBu)34)(式中、Meはメチル基、Buはブチル基、Viはビニル基、Phはフェニル基を表し、n、mは、整数を示す。)、ジカルボニルジクロロ白金、カールシュテト(Karstedt)触媒、また、アシュビー(Ashby)の米国特許第3159601号および3159662号明細書中に記載された白金−炭化水素複合体、ならびにラモロー(Lamoreaux)の米国特許第3220972号明細書中に記載された白金アルコラート触媒が挙げられる。さらに、モディック(Modic)の米国特許第3516946号明細書中に記載された塩化白金−オレフィン複合体も本発明において有用である。
また、白金化合物以外の触媒の例としては、RhCl(PPh)3、RhCl3、RhAl23、RuCl3、IrCl3、FeCl3、AlCl3、PdCl2・2H2O、NiCl2、TiCl4、等が挙げられる。
これらの中では、触媒活性の点から塩化白金酸、白金−オレフィン錯体、白金−ビニルシロキサン錯体等が好ましい。また、これらの触媒は単独で使用してもよく、2種以上併用してもよい。
The hydrosilylation catalyst is not particularly limited as long as it has a catalytic activity for the hydrosilylation reaction. For example, a platinum simple substance, a support made of alumina, silica, carbon black or the like on which solid platinum is supported, chloroplatinic acid, platinum chloride Complexes of acids with alcohols, aldehydes, ketones, etc., platinum-olefin complexes (eg Pt (CH 2 ═CH 2 ) 2 (PPh 3 ) 2 , Pt (CH 2 ═CH 2 ) 2 Cl 2 ), platinum-vinyl Siloxane complexes (for example, Pt (ViMe 2 SiOSiMe 2 Vi) n , Pt [(MeViSiO) 4 ] m ), platinum-phosphine complexes (for example, Pt (PPh 3 ) 4 , Pt (PBu 3 ) 4 ), platinum-phos Fight complexes (e.g., Pt [P (OPh) 3 ] 4, Pt [P (OBu) 3] 4) ( in the formula, Me represents a methyl group, Bu a butyl group, Vi represents a vinyl group Ph represents a phenyl group, and n and m represent integers.), Dicarbonyldichloroplatinum, Karstedt catalyst, and also described in Ashby US Pat. Nos. 3,159,601 and 3,159,662. Platinum-hydrocarbon complexes, as well as platinum alcoholate catalysts described in Lamoreaux US Pat. No. 3,220,972. In addition, platinum chloride-olefin complexes described in Modic US Pat. No. 3,516,946 are also useful in the present invention.
Examples of catalysts other than platinum compounds include RhCl (PPh) 3 , RhCl 3 , RhAl 2 O 3 , RuCl 3 , IrCl 3 , FeCl 3 , AlCl 3 , PdCl 2 .2H 2 O, NiCl 2 , TiCl 4. , Etc.
Of these, chloroplatinic acid, platinum-olefin complexes, platinum-vinylsiloxane complexes and the like are preferable from the viewpoint of catalytic activity. Moreover, these catalysts may be used independently and may be used together 2 or more types.

触媒の添加量は特に限定されないが、十分な硬化性を有し、かつ硬化性樹脂組成物のコストを比較的低く抑えるため好ましい添加量の下限は、(A−2)成分のSiH基1モルに対して10−8モル、より好ましくは10−6モルであり、好ましい添加量の上限は(A−2)成分のSiH基1モルに対して10−1モル、より好ましくは10−2モルである。
また、上記触媒には助触媒を併用することが可能であり、例としてトリフェニルホスフィン等のリン系化合物、ジメチルマレート等の1,2−ジエステル系化合物、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−ブチン等のアセチレンアルコール系化合物、単体の硫黄等の硫黄系化合物、トリエチルアミン等のアミン系化合物等が挙げられる。助触媒の添加量は特に限定されないが、ヒドロシリル化触媒1モルに対しての好ましい添加量の下限は、10-2モル、より好ましくは10−1モルであり、好ましい添加量の上限は10モル、より好ましくは10モルである。
The addition amount of the catalyst is not particularly limited, but the lower limit of the preferred addition amount is 1 mol of SiH group of the component (A-2) in order to have sufficient curability and keep the cost of the curable resin composition relatively low. against 10 -8 mole, more preferably 10 -6 mole, preferable amount of the upper limit (a-2) 10 -1 moles per mole of the SiH group in component, more preferably 10 -2 mol It is.
In addition, a cocatalyst can be used in combination with the above catalyst. Examples thereof include phosphorus compounds such as triphenylphosphine, 1,2-diester compounds such as dimethyl malate, 2-hydroxy-2-methyl-1 -Acetylene alcohol compounds such as butyne, sulfur compounds such as simple sulfur, amine compounds such as triethylamine, and the like. The addition amount of the cocatalyst is not particularly limited, but the lower limit of the preferable addition amount with respect to 1 mol of the hydrosilylation catalyst is 10 −2 mol, more preferably 10 −1 mol, and the upper limit of the preferable addition amount is 10 2. Mol, more preferably 10 mol.

((C)成分)無機充填材
(C)成分は無機充填材である。
(C)成分は、得られる硬化物の強度や硬度を高くしたり、線膨張率を低減化したりする効果を有する。
(C)成分の無機充填材としては各種のものが用いられるが、例えば、石英、ヒュームドシリカ、沈降性シリカ、無水ケイ酸、溶融シリカ、結晶性シリカ、超微粉無定型シリカ等のシリカ系無機充填材、アルミナ、ジルコン、窒化ケイ素、窒化アルミ、炭化ケイ素、ガラス繊維、アルミナ繊維、炭素繊維、マイカ、黒鉛、カーボンブラック、グラファイト、ケイソウ土、白土、クレー、タルク、水酸化アルミニウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、チタン酸カリウム、ケイ酸カルシウム、銀粉等の無機充填材をはじめとして、エポキシ系等の従来の封止材の充填材として一般に使用あるいは/および提案されている無機充填材等を挙げることができる。無機充填材としては、半導体素子へダメージを与え難いという観点からは、低放射線性であることが好ましい。
(Component (C)) The inorganic filler (C) is an inorganic filler.
Component (C) has the effect of increasing the strength and hardness of the resulting cured product and reducing the linear expansion coefficient.
As the inorganic filler of the component (C), various types are used. For example, silica-based materials such as quartz, fumed silica, precipitated silica, silicic anhydride, fused silica, crystalline silica, and ultrafine powder amorphous silica. Inorganic filler, alumina, zircon, silicon nitride, aluminum nitride, silicon carbide, glass fiber, alumina fiber, carbon fiber, mica, graphite, carbon black, graphite, diatomaceous earth, white clay, clay, talc, aluminum hydroxide, calcium carbonate Inorganic fillers such as magnesium carbonate, potassium titanate, calcium silicate, silver powder, and other inorganic fillers that are generally used and / or proposed as fillers for conventional sealing materials such as epoxy type be able to. The inorganic filler is preferably low radiation from the viewpoint of hardly damaging the semiconductor element.

無機充填材は適宜表面処理してもよい。表面処理としては、アルキル化処理、トリメチルシリル化処理、シリコーン処理、カップリング剤による処理等が挙げられる。
この場合のカップリング剤の例としては、シランカップリング剤が挙げられる。シランカップリング剤としては、分子中に有機基と反応性のある官能基と加水分解性のケイ素基を各々少なくとも1個有する化合物であれば特に限定されない。有機基と反応性のある基としては、取扱い性の点からエポキシ基、メタクリル基、アクリル基、イソシアネート基、イソシアヌレート基、ビニル基、カルバメート基から選ばれる少なくとも1個の官能基が好ましく、硬化性及び接着性の点から、エポキシ基、メタクリル基、アクリル基が特に好ましい。加水分解性のケイ素基としては取扱い性の点からアルコキシシリル基が好ましく、反応性の点からメトキシシリル基、エトキシシリル基が特に好ましい。
The inorganic filler may be appropriately surface treated. Examples of the surface treatment include alkylation treatment, trimethylsilylation treatment, silicone treatment, treatment with a coupling agent, and the like.
Examples of the coupling agent in this case include a silane coupling agent. The silane coupling agent is not particularly limited as long as it is a compound having at least one functional group reactive with an organic group and one hydrolyzable silicon group in the molecule. The group reactive with the organic group is preferably at least one functional group selected from an epoxy group, a methacryl group, an acrylic group, an isocyanate group, an isocyanurate group, a vinyl group, and a carbamate group from the viewpoint of handling. From the viewpoints of adhesiveness and adhesiveness, an epoxy group, a methacryl group, and an acrylic group are particularly preferable. As the hydrolyzable silicon group, an alkoxysilyl group is preferable from the viewpoint of handleability, and a methoxysilyl group and an ethoxysilyl group are particularly preferable from the viewpoint of reactivity.

好ましいシランカップリング剤としては、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、2−(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、2−(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン等のエポキシ官能基を有するアルコキシシラン類:3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、メタクリロキシメチルトリメトキシシラン、メタクリロキシメチルトリエトキシシラン、アクリロキシメチルトリメトキシシラン、アクリロキシメチルトリエトキシシラン等のメタクリル基あるいはアクリル基を有するアルコキシシラン類が例示できる。   Preferred silane coupling agents include 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 2- (3,4- Epoxycyclohexyl) alkoxysilanes having an epoxy functional group such as ethyltriethoxysilane: 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyl Methacrylic or acrylic groups such as triethoxysilane, methacryloxymethyltrimethoxysilane, methacryloxymethyltriethoxysilane, acryloxymethyltrimethoxysilane, acryloxymethyltriethoxysilane Alkoxysilanes which can be exemplified.

その他にも無機充填材を添加する方法が挙げられる。例えばアルコキシシラン、アシロキシシラン、ハロゲン化シラン等の加水分解性シランモノマーあるいはオリゴマーや、チタン、アルミニウム等の金属のアルコキシド、アシロキシド、ハロゲン化物等を、本発明の硬化性樹脂組成物に添加して、硬化性樹脂組成物中あるいは硬化性樹脂組成物の部分反応物中で反応させ、硬化性樹脂組成物中で無機充填材を生成させる方法も挙げることができる。   In addition, the method of adding an inorganic filler is mentioned. For example, a hydrolyzable silane monomer or oligomer such as alkoxysilane, acyloxysilane or halogenated silane, or an alkoxide, acyloxide or halide of a metal such as titanium or aluminum is added to the curable resin composition of the present invention. A method of reacting in a curable resin composition or a partial reaction product of the curable resin composition to produce an inorganic filler in the curable resin composition can also be mentioned.

以上のような無機充填材のうち硬化反応を阻害し難く、線膨張係数の低減化効果が大きく、リードフレームとの接着性が高くなりやすいという観点からは、シリカ系無機充填材が好ましい。さらに、成形性、電気特性等の物性バランスがよいという点において溶融シリカが好ましく、パッケージの熱伝導性が高くなり易く放熱性の高いパッケージ設計が可能になるという点においては結晶性シリカが好ましい。より放熱性が高くなり易いという点ではアルミナが好ましい。その他、補強効果が高くパッケージの強度が高くなり易いという点においてはガラス繊維、チタン酸カリウム、ケイ酸カルシウムが好ましい。   Of the inorganic fillers as described above, a silica-based inorganic filler is preferable from the viewpoint that it is difficult to inhibit the curing reaction, has a large effect of reducing the linear expansion coefficient, and tends to have high adhesion to the lead frame. Furthermore, fused silica is preferable in terms of a good balance of physical properties such as moldability and electrical characteristics, and crystalline silica is preferable in terms of easy package thermal conductivity and high heat dissipation. Alumina is preferable in that heat dissipation tends to be higher. In addition, glass fiber, potassium titanate, and calcium silicate are preferable in that the reinforcing effect is high and the strength of the package tends to be high.

無機充填材の平均粒径や粒径分布としては、エポキシ系等の従来の封止材の充填材として使用あるいは/および提案されているものをはじめ、特に限定なく各種のものが用いられるが、通常用いられる平均粒径の下限は0.1μm、流動性が良好になりやすいという点から好ましくは0.5μmであり、通常用いられる平均粒径の上限は120μm、流動性が良好になりやすいという点から好ましくは60μm、より好ましくは15μmである。
無機充填材の比表面積についても、エポキシ系等の従来の封止材の充填材として使用あるいは/および提案されているものをはじめ、各種設定できる。
As the average particle size and particle size distribution of the inorganic filler, various types are used without particular limitation, including those used or / and proposed as fillers for conventional sealing materials such as epoxy type, The lower limit of the average particle size usually used is 0.1 μm, preferably 0.5 μm from the viewpoint that the fluidity tends to be good, and the upper limit of the average particle size usually used is 120 μm, the fluidity tends to be good. From the viewpoint, it is preferably 60 μm, more preferably 15 μm.
The specific surface area of the inorganic filler can also be set in various ways including those used and / or proposed as fillers for conventional sealing materials such as epoxy.

無機充填材の形状としては、破砕状、片状、球状、棒状等、各種のものが用いられる。アスペクト比も種々のものが用いられる。得られる硬化物の強度が高くなりやすいという点においてはアスペクト比が10以上のものが好ましい。また、樹脂の等方性収縮の点からは繊維状よりは粉末状が好ましい。あるいは、高充填時にも成形時の流れ性がよくなり易いという点においては球状のものが好ましい。   As the shape of the inorganic filler, various types such as a crushed shape, a piece shape, a spherical shape, and a rod shape are used. Various aspect ratios are used. The aspect ratio of 10 or more is preferable in that the strength of the obtained cured product tends to increase. From the viewpoint of isotropic shrinkage of the resin, a powder form is preferable to a fiber form. Or the spherical thing is preferable at the point that the fluidity | liquidity at the time of shaping | molding becomes easy also at the time of high filling.

これら無機充填材は単独で使用してもよく、2種以上併用してもよい。
(C)成分の量は特に限定されないが、硬化性樹脂組成物全体に占める(C)成分の合計の量が50重量%〜95重量%であることが好ましく、60重量%〜95重量%以上であることがより好ましく、70重量%〜95重量%であることがさらに好ましい。(C)成分が50重量%未満である場合は、本発明における(D)成分の効果を好適に発現できない場合があり、また95重量%を超える場合は、たとえば硬化性樹脂組成物を成形して得られる成形体が柔軟性に欠け、脆くなる恐れがある。
These inorganic fillers may be used alone or in combination of two or more.
The amount of the component (C) is not particularly limited, but the total amount of the component (C) in the entire curable resin composition is preferably 50% by weight to 95% by weight, and 60% by weight to 95% by weight or more. It is more preferable that it is 70 wt% to 95 wt%. When the component (C) is less than 50% by weight, the effect of the component (D) in the present invention may not be suitably exhibited. When the component exceeds 95% by weight, for example, a curable resin composition is molded. The molded product obtained in this way lacks flexibility and may become brittle.

(C)成分の無機充填材を混合する手段としては、従来エポキシ樹脂等に用いられおよび/または提案されている種々の手段を用いることができる。例えば、2本ロールまたは3本ロール、遊星式撹拌脱泡装置、ホモジナイザー、ディゾルバー、プラネタリーミキサー等の撹拌機、プラストミル等の溶融混練機等が挙げられる。これらのうち、高充填であっても無機充填材の十分な分散性が得られやすいという点においては、3本ロール、溶融混練機が好ましい。無機充填材の混合は、常温で行ってもよいし加熱して行ってもよい。また、常圧下に行ってもよいし減圧状態で行ってもよい。高充填であっても無機充填材の十分な分散性が得られやすいという点においては、加熱状態で混合することが好ましく、無機充填材表面の塗れ性を向上し十分な分散性が得られやすいという点においては減圧状態で混合することが好ましい。   As means for mixing the inorganic filler of component (C), various means conventionally used and / or proposed for epoxy resins and the like can be used. For example, a two-roll or three-roll, a planetary stirring and defoaming device, a stirrer such as a homogenizer, a dissolver and a planetary mixer, a melt kneader such as a plast mill, and the like can be mentioned. Of these, a triple roll and a melt kneader are preferred in that sufficient dispersibility of the inorganic filler is easily obtained even with high filling. The mixing of the inorganic filler may be performed at normal temperature or may be performed by heating. Moreover, you may carry out under a normal pressure and may carry out in a pressure-reduced state. In view of the fact that sufficient dispersibility of the inorganic filler can be easily obtained even at high filling, it is preferable to mix in a heated state, and it is easy to obtain sufficient dispersibility by improving the wettability of the inorganic filler surface. Therefore, it is preferable to mix in a reduced pressure state.

((D)成分)架橋ゴム粒子からなる低線膨張化剤
(D)成分は架橋ゴム粒子からなる低線膨張化剤である。以下、(D)成分について詳細に説明する。
(Component (D)) The low linear expansion agent (D) composed of crosslinked rubber particles is a low linear expansion agent composed of crosslinked rubber particles. Hereinafter, the component (D) will be described in detail.

(架橋ゴム粒子)
本発明における架橋ゴム粒子は、架橋構造を有するゴム粒子であれば特に限定されず、有機系架橋ゴム粒子から無機系架橋ゴム粒子まで種々のゴム粒子を使用することができる。
(Crosslinked rubber particles)
The crosslinked rubber particles in the present invention are not particularly limited as long as they are rubber particles having a crosslinked structure, and various rubber particles from organic crosslinked rubber particles to inorganic crosslinked rubber particles can be used.

架橋ゴム粒子は球形であっても非球形であってもよく、その物理的構造は特に限定されないが、均一な組成から成る構造に限らず、核を形成するコア粒子を複数の被覆層で覆ったようなコアシェル型構造、あるいは中心から表面に向かって組成が変化するような傾斜構造型のものを使用することができる。   The crosslinked rubber particles may be spherical or non-spherical, and the physical structure is not particularly limited. However, the crosslinked rubber particles are not limited to a structure having a uniform composition, and a core particle forming a nucleus is covered with a plurality of coating layers. Such a core-shell type structure or an inclined structure type whose composition changes from the center toward the surface can be used.

一方で架橋ゴム粒子を化学的構造から分類すれば、ウレタン結合を有するウレタン系ゴム粒子、アクリル系モノマーの重合によって得られるアクリル系ゴム粒子、ブタジエン系ゴム粒子、スチレン−ブタジエン系ゴム粒子、シリコーン系ゴム粒子等が挙げられる。   On the other hand, if the crosslinked rubber particles are classified from the chemical structure, urethane rubber particles having urethane bonds, acrylic rubber particles obtained by polymerization of acrylic monomers, butadiene rubber particles, styrene-butadiene rubber particles, silicone type Examples thereof include rubber particles.

これらの具体例を挙げるとすれば、有機系架橋ゴム粒子として早川ゴム株式会社製アクリル架橋粒子ハヤビーズM−11、松本油脂製薬株式会社製アクリル粒子であるマツモトマイクロスフェアーシリーズに代表されるようなアクリル系ゴム粒子、特開2003−137907に代表されるようなブタジエン系ゴム粒子などが挙げられ、また無機系架橋ゴム粒子としては、信越シリコーン社製シリコーン複合パウダーKMPシリーズや、東レダウコーニング社製シリコーンゴムパウダーEP−5500、WO2010/055632に記載されたコアシェルシリコーン微粒子に代表されるようなシリコーン系ゴム粒子等が例示されるが、これらのうち耐熱性及び耐光性の観点からは信越シリコーン社製シリコーン複合パウダーKMPシリーズあるいは東レダウコーニング社製シリコーンゴムパウダーEP−5500等のシリコーン系架橋ゴム粒子を使用することが好ましい。
無機系架橋ゴム粒子を使用することが好ましい。これら(D)成分は1種のものを単独で使用してもよいし、複数のものを組み合わせて使用してもよい。
If these specific examples are given, organic crosslinked rubber particles such as acrylic crosslinked particle Haya beads M-11 manufactured by Hayakawa Rubber Co., Ltd. and Matsumoto Microsphere Series, which is acrylic particles manufactured by Matsumoto Yushi Seiyaku Co., Ltd., are used. Acrylic rubber particles, butadiene rubber particles represented by JP-A-2003-137907, and the like, and as inorganic crosslinked rubber particles, silicone composite powder KMP series manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd., manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd. Silicone rubber powder EP-5500, silicone-based rubber particles represented by core-shell silicone fine particles described in WO2010 / 055632 are exemplified, and among these, from the viewpoint of heat resistance and light resistance, manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd. Silicone composite powder KMP series Rui, it is preferred to use a silicone-based crosslinked rubber particles such as silicone rubber produced by Dow Corning Toray Co., Ltd. powder EP-5500.
It is preferable to use inorganic crosslinked rubber particles. These (D) components may be used individually by 1 type, and may be used combining several things.

本発明における架橋ゴム粒子の粒径は0.1μm〜50μmの範囲内にあることが好ましく、1μm〜20μmの範囲内にあることがより好ましい。粒子径が0.1μm未満である場合、粒子が凝集しやすく均一な組成物を得られなくなる恐れがあり、また50μmを超える場合は本発明における(D)成分の効果である低線膨張化の効果が得られない恐れがある。     The particle diameter of the crosslinked rubber particles in the present invention is preferably in the range of 0.1 μm to 50 μm, and more preferably in the range of 1 μm to 20 μm. If the particle size is less than 0.1 μm, the particles are likely to aggregate and a uniform composition may not be obtained. If the particle size exceeds 50 μm, the effect of component (D) in the present invention is low linear expansion. There is a risk that the effect will not be obtained.

また本発明における(D)成分の効果を好適に発現させるために、(D)成分はそのデュロメーターA硬度が10〜100の範囲内にあることが好ましく、15〜80の範囲内にあることがより好ましく、20〜70の範囲内にあることがさらに好ましい。   Moreover, in order to express the effect of (D) component suitably in this invention, it is preferable that (D) component has the durometer A hardness in the range of 10-100, and exists in the range of 15-80. More preferably, it is further in the range of 20-70.

本発明における(D)成分を添加することによって、硬化性樹脂組成物を成形してなる成形体の線膨張係数を低下させることができる。(D)成分の添加量としては、全組成物100重量%中、1〜20重量%であることが好ましく1〜15重量%であることがより好ましく、1〜10重量%であることがさらに好ましい。添加量が20重量%が超える場合は、逆に(D)成分の添加により、本発明における硬化性樹脂組成物を成形してなる成形体の線膨張係数が増大する場合があり、1重量%未満である場合は、線膨張低下の効果が得られない場合がある。   By adding (D) component in this invention, the linear expansion coefficient of the molded object formed by shape | molding curable resin composition can be reduced. (D) As addition amount of a component, it is preferable that it is 1-20 weight% in 100 weight% of all compositions, It is more preferable that it is 1-15 weight%, It is further more preferable that it is 1-10 weight% preferable. When the addition amount exceeds 20% by weight, the linear expansion coefficient of the molded product obtained by molding the curable resin composition in the present invention may increase by addition of the component (D). If it is less than 1, the effect of lowering the linear expansion may not be obtained.

((E)成分)白色顔料
本発明の硬化性樹脂組成物は、白色顔料((E)成分)を含有することが望ましい。
(E)成分は白色顔料であり、得られる硬化物の光反射率を高める効果を有する。
(E)成分としては種々のものを用いることができ、無機白色顔料や有機白色顔料に分類することができる。
無機白色顔料としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化アンチモン、酸化ジルコニア、酸化ストロンチウム、酸化ニオブ、窒化ホウ素、チタン酸バリウム、硫化亜鉛、硫酸バリウム、炭酸マグネシウム、中空ガラス粒子、などが挙げられる。中でも、取り扱いの容易性や入手性の観点から酸化チタンまたは酸化亜鉛が好ましく、さらにコストの観点から酸化亜鉛がより好ましい。
(Component (E)) White Pigment The curable resin composition of the present invention preferably contains a white pigment (component (E)).
The component (E) is a white pigment and has an effect of increasing the light reflectance of the obtained cured product.
Various components can be used as the component (E), and can be classified into inorganic white pigments and organic white pigments.
Examples of inorganic white pigments include titanium oxide, zinc oxide, magnesium oxide, antimony oxide, zirconia oxide, strontium oxide, niobium oxide, boron nitride, barium titanate, zinc sulfide, barium sulfate, magnesium carbonate, and hollow glass particles. It is done. Among these, titanium oxide or zinc oxide is preferable from the viewpoint of easy handling and availability, and zinc oxide is more preferable from the viewpoint of cost.

有機白色顔料としては、有機化合物塩(下記群A〜群D)やアルキレンビスメラミン誘導体(下記一般式V(ただし,Rは水素原子,炭素数1〜4の低級アルキル基又は脂環式基を示す。また,R1 ,R2 ,R3 ,R4はそれぞれ独立に水素原子,炭素数1〜4の低級アルキル基を示し,窒素原子と共に複素環式基を形成してもよい。また,Xは炭素数2〜3の低級アルキレン基を示す。)、具体的にはN−N’−ビス(4,6ジアミノ−1,3,5−トリアジン−2−イル)エチレンジアミン等)が挙げられる。上記白色顔料の具体的な商品としては、ShigenoxOWP、ShigenoxOWPL、ShigenoxFWP、ShigenoxFWG、ShigenoxUL、ShigenoxU(以上、ハッコールケミカル社製、何れも商品名)などが挙げられる。 Organic white pigments include organic compound salts (groups A to D below) and alkylene bismelamine derivatives (general formula V below (where R is a hydrogen atom, a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an alicyclic group). R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and may form a heterocyclic group together with the nitrogen atom. X represents a lower alkylene group having 2 to 3 carbon atoms.), Specifically, NN′-bis (4,6diamino-1,3,5-triazin-2-yl) ethylenediamine and the like). . Specific examples of the white pigment include Shigenox OWP, Shigenox OWPL, Shigenox FWP, Shigenox FWG, Shigenox UL, and Shigenox U (all trade names manufactured by Hackol Chemical Co., Ltd.).

また、硬化性樹脂組成物の混練時に着色しやすい酸化亜鉛、有機白色顔料を本発明に用いれば、着色をおさえられるため望ましい。   In addition, it is desirable to use zinc oxide and organic white pigment that are easily colored during kneading of the curable resin composition in the present invention because coloring can be suppressed.

(E)成分の酸化チタンとしては種々のものを用いることができ、アナターゼ型であってもルチル型であってもよいが、光触媒作用がなく硬化性樹脂組成物が安定になりやすいという点ではルチル型であることが好ましい。   Various types of titanium oxide can be used as the component (E), and it may be anatase type or rutile type, but it has no photocatalytic action and the curable resin composition is likely to be stable. A rutile type is preferred.

(E)成分の平均粒径としても種々のものが用いられるが、得られる硬化物の光反射率が高くなりやすく、また硬化性樹脂組成物タブレットがより硬くなるという観点から、1.0μm以下のものが好ましく、0.30μm以下のものがより好ましく、0.25μm以下のものが最も好ましい。
一方、硬化性樹脂組成物の流動性が高いという点では、0.05μm以上であることが好ましく、0.1μm以上であることがより好ましい。
平均粒径は、レーザー回折散乱式粒度分布計を用いて測定することができる。
(E) Although various things are used also as an average particle diameter of a component, from a viewpoint that the light reflectivity of the hardened | cured material obtained becomes high easily, and a curable resin composition tablet becomes harder, it is 1.0 micrometer or less. Are preferred, those with 0.30 μm or less are more preferred, and those with 0.25 μm or less are most preferred.
On the other hand, in terms of high fluidity of the curable resin composition, it is preferably 0.05 μm or more, and more preferably 0.1 μm or more.
The average particle diameter can be measured using a laser diffraction / scattering particle size distribution analyzer.

(E)成分の酸化チタンの製造方法としても硫酸法、塩素法などいずれの方法により製造されたものも使用できる。
(E)成分は表面処理が施されていても良い。
(E)成分の表面処理では、(E)成分の表面に無機化合物、有機化合物から選ばれる少なくとも1種を被覆する。無機化合物としては、例えば、アルミニウム化合物、ケイ素化合物、ジルコニウム化合物、スズ化合物、チタニウム化合物、アンチモン化合物等が挙げられ、また、有機化合物としては、多価アルコール、アルカノールアミン又はその誘導体、有機シロキサン等の有機ケイ素化合物、高級脂肪酸又はその金属塩、有機金属化合物等が挙げられる。
As the method for producing the component (E) titanium oxide, those produced by any method such as sulfuric acid method and chlorine method can be used.
(E) component may be surface-treated.
In the surface treatment of the component (E), the surface of the component (E) is coated with at least one selected from an inorganic compound and an organic compound. Examples of inorganic compounds include aluminum compounds, silicon compounds, zirconium compounds, tin compounds, titanium compounds, antimony compounds, and the like, and examples of organic compounds include polyhydric alcohols, alkanolamines or derivatives thereof, and organic siloxanes. Examples thereof include organosilicon compounds, higher fatty acids or metal salts thereof, and organometallic compounds.

(E)成分の表面に無機化合物や有機化合物を被覆する場合は、湿式法や乾式法の公知の方法を用いて、例えば酸化チタンの乾式粉砕の際、スラリー化した際あるいは湿式粉砕した際に行うことができる。他にも、液相法、気相法等、種々の方法が挙げられる。
これらのなかでは、得られる硬化物の光反射率が高く、耐熱耐光性が良好になることから有機シロキサン処理で処理されていることが好ましい。また、有機シロキサン処理された酸化チタンを含有させることは、光取り出し効率が高く、長期間使用しても光取り出し効率が低下しない優良な発光ダイオードを作製するうえでも好適である。
その場合の有機シロキサン処理剤としては種々のものが適用される。例えば、ポリジメチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサン、ポリメチルハイドロジェンシロキサン、あるいはそれらの共重合体などのポリシロキサン類、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、ヘプタメチルシクロテトラシロキサン、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン、などのシクロシロキサン類、トリメチルクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、メチルトリクロロシランなどのクロロシラン類、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、2−(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、2−(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン等のエポキシ官能基を有するシラン類、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、メタクリロキシメチルトリメトキシシラン、メタクリロキシメチルトリエトキシシラン、アクリロキシメチルトリメトキシシラン、アクリロキシメチルトリエトキシシラン等のメタクリル基あるいはアクリル基を有するシラン類、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、ビニルトリアセトキシシラン等のビニル基を有するシラン類、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン等のメルカプトシラン類、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−[ビス(β−ヒドロキシエチル)]アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(β−アミノエチル)アミノプロピルジメトキシメチルシラン、N−(トリメトキシシリルプロピル)エチレンジアミン、N−(ジメトキシメチルシリルイソプロピル)エチレンジアミン、N−β−(N−ビニルベンジルアミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン等のアミノ基を有するシラン類、イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等のイソシアネート基を有するシラン類、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン等のアルキル基を有するシラン類、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−アニリノプロピルトリメトキシシラン等のその他のシラン類等の各種シラン類で例示されるシランカップリング剤や、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシラザンなどを挙げることができる。これらの表面処理剤としては炭素−炭素二重結合を含まないものであることが好ましく、炭素−炭素二重結合を含むと耐熱性が低下しやすくなる。また、有機シロキサン以外の表面処理を併用することも可能であり、Al、Zr、Zn等で処理することもできる。
また、無機化合物により表面処理されていてもよい。
When the surface of the component (E) is coated with an inorganic compound or an organic compound, a known method such as a wet method or a dry method is used. For example, when titanium oxide is dry pulverized, slurried, or wet pulverized. It can be carried out. In addition, there are various methods such as a liquid phase method and a gas phase method.
In these, since the light reflectivity of the hardened | cured material obtained is high and heat-resistant light resistance becomes favorable, it is preferable to process by the organosiloxane process. In addition, the inclusion of an organosiloxane-treated titanium oxide is suitable for producing an excellent light-emitting diode that has high light extraction efficiency and does not decrease light extraction efficiency even when used for a long period of time.
In this case, various organic siloxane treating agents are used. For example, polysiloxanes such as polydimethylsiloxane, polymethylphenylsiloxane, polymethylhydrogensiloxane, or copolymers thereof, hexamethylcyclotrisiloxane, heptamethylcyclotetrasiloxane, 1,3,5,7-tetra Cyclosiloxanes such as methylcyclotetrasiloxane, chlorosilanes such as trimethylchlorosilane, dimethyldichlorosilane, methyltrichlorosilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 2- (3 , 4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane and other silanes having an epoxy functional group, 3-methacryloxypropyltrimethyl Xysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltriethoxysilane, methacryloxymethyltrimethoxysilane, methacryloxymethyltriethoxysilane, acryloxymethyltrimethoxysilane, Silanes having a methacrylic group or an acrylic group such as acryloxymethyltriethoxysilane, vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, vinyltriacetoxysilane, etc. Silanes, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane and other mercaptosilanes, γ-aminopropyltriethoxy Γ- [bis (β-hydroxyethyl)] aminopropyltriethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ- (β-aminoethyl) aminopropyldimethoxymethylsilane, Silanes having amino groups, such as N- (trimethoxysilylpropyl) ethylenediamine, N- (dimethoxymethylsilylisopropyl) ethylenediamine, N-β- (N-vinylbenzylaminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, isocyanate Silanes having an isocyanate group such as propyltrimethoxysilane and isocyanatepropyltriethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, hexyltriethoxysilane, octyltrimethoxy Silane coupling agents exemplified by various silanes such as silanes having alkyl groups such as silane and octyltriethoxysilane, and other silanes such as γ-chloropropyltrimethoxysilane and γ-anilinopropyltrimethoxysilane And hexamethyldisiloxane and hexamethyldisilazane. These surface treatment agents preferably contain no carbon-carbon double bonds, and if they contain carbon-carbon double bonds, the heat resistance tends to decrease. Further, a surface treatment other than the organic siloxane can be used in combination, and treatment with Al, Zr, Zn, or the like can also be performed.
Moreover, it may be surface-treated with an inorganic compound.

無機化合物による表面処理についても特に限定されず、アルミニウム化合物、ケイ素化合物、ジルコニウム化合物、等種々の表面処理が用いられる。酸化チタンは、耐久性向上、媒体との親和性向上のため、あるいは、粒子形状の崩れを防止するなどの目的で無機化合物、有機化合物で表面処理する場合があるが、(E)成分を無機化合物で表面処理することで、硬化性樹脂組成物に含まれる成分との親和性が向上し、(E)成分の硬化性樹脂組成物に対する分散性が良くなり硬化物の強度が向上すると考えられる。
表面処理の方法としても各種方法を適用することができ、湿式法、乾式法、液相法、気相法等、種々の方法が例示できる。
The surface treatment with an inorganic compound is not particularly limited, and various surface treatments such as an aluminum compound, a silicon compound, and a zirconium compound are used. Titanium oxide may be surface-treated with an inorganic compound or an organic compound for the purpose of improving durability, improving affinity with the medium, or preventing the collapse of the particle shape. It is considered that the surface treatment with the compound improves the affinity with the component contained in the curable resin composition, improves the dispersibility of the component (E) with respect to the curable resin composition, and improves the strength of the cured product. .
Various methods can be applied as the surface treatment method, and various methods such as a wet method, a dry method, a liquid phase method, and a gas phase method can be exemplified.

(E)成分の量としては、特に限定されないが、硬化性樹脂組成物全体に占める(E)成分の量が10重量%以上であることが好ましく、15重量%以上であることがより好ましく、20重量%以上であることがさらに好ましい。10重量%未満であると、得られる硬化物の光反射率が低下することがある。   The amount of the component (E) is not particularly limited, but the amount of the component (E) in the entire curable resin composition is preferably 10% by weight or more, more preferably 15% by weight or more, More preferably, it is 20% by weight or more. If it is less than 10% by weight, the light reflectance of the resulting cured product may be lowered.

(E)成分を使用するのは白色の硬化性樹脂組成物を作製する場合であるが、表示デバイスのブラックマトリックスなどに適用する場合には、黒色の硬化性樹脂組成物を使用することができる。
この場合に用いることのできる、黒色顔料しては、無機顔料及び有機顔料のいずれでもよく、1種を単独で又は2種以上の顔料を混合したものを用いてもよい。無機顔料としては、例えば、カーボンブラック、黒鉛、鉄黒、チタンカーボン、チタンブラック、二酸価マンガン、銅クロムマンガン酸化物を挙げることができる。着色力を向上する観点から、カーボンブラック又はチタンブラックが好ましい。さらに、光学濃度及び電気抵抗値を大きくできる観点から、チタンブラックがより好ましい。また、表面を樹脂等で被覆したカーボンブラック又はチタンブラックを使用することもできる。アニリンブラック、アントラキノン系黒色顔料、ペリレン系黒色顔料などを用いることもできる。
The component (E) is used when a white curable resin composition is prepared, but when applied to a black matrix of a display device, the black curable resin composition can be used. .
As the black pigment that can be used in this case, either an inorganic pigment or an organic pigment may be used, or a single pigment or a mixture of two or more pigments may be used. Examples of the inorganic pigment include carbon black, graphite, iron black, titanium carbon, titanium black, manganese diacid value, and copper chromium manganese oxide. From the viewpoint of improving coloring power, carbon black or titanium black is preferable. Furthermore, titanium black is more preferable from the viewpoint of increasing the optical density and the electrical resistance value. Carbon black or titanium black whose surface is coated with a resin or the like can also be used. Aniline black, anthraquinone black pigment, perylene black pigment and the like can also be used.

また金属複合酸化物系の黒色顔料としては、銅−クロム−マンガン系複合酸化物黒色顔料、銅の酸化物、マンガンの酸化物、コバルトの酸化物およびアルミニウムの酸化物を含有することを特徴とする複合酸化物黒色顔料であり、顔料を構成する銅、マンガン、コバルトおよびアルミニウムの割合が、これらの金属の合計を100モル%とした場合、銅が5〜30モル%、マンガンが5〜30モル%、コバルトが15〜40モル%、そしてアルミニウムが25〜50モル%である複合酸化物黒色顔料も使用することができる。   The metal composite oxide black pigment contains a copper-chromium-manganese composite oxide black pigment, copper oxide, manganese oxide, cobalt oxide and aluminum oxide. When the ratio of copper, manganese, cobalt and aluminum constituting the pigment is 100 mol%, the copper is 5 to 30 mol% and the manganese is 5 to 30 Complex oxide black pigments with mol%, cobalt 15-40 mol% and aluminum 25-50 mol% can also be used.

((C)成分および(E)成分)
(C)成分と(E)成分の合計量は特に限定されないが、硬化性樹脂組成物全体に占める(C)成分と(E)成分の合計量が50重量%〜95重量%であることが好ましく、60重量%〜95重量%以上であることがより好ましく、70重量%〜95重量%であることがさらに好ましい。(C)成分と(E)成分の合計量が50重量%未満である場合は、本発明における(D)成分の効果を好適に発現できない場合があり、また95重量%を超える場合は、たとえば硬化性樹脂組成物を成形して得られる成形体が柔軟性に欠け、脆くなる恐れがある。
(E)成分の混合の順序としては、各種方法をとることができるが、好ましい態様は、既に説明した(C)成分と同様である。また、(C)成分と(E)成分とは同時に添加してもよい。
(E)成分を混合する手段としては、(C)成分を混合する手段と同様の手段を用いることかできる。
((C) component and (E) component)
The total amount of the component (C) and the component (E) is not particularly limited, but the total amount of the component (C) and the component (E) in the entire curable resin composition is 50% by weight to 95% by weight. Preferably, it is more preferably 60% by weight to 95% by weight or more, and further preferably 70% by weight to 95% by weight. When the total amount of the component (C) and the component (E) is less than 50% by weight, the effect of the component (D) in the present invention may not be suitably expressed. A molded product obtained by molding the curable resin composition lacks flexibility and may become brittle.
As the mixing order of the component (E), various methods can be used, but the preferred embodiment is the same as the component (C) already described. Moreover, you may add (C) component and (E) component simultaneously.
As the means for mixing the component (E), the same means as the means for mixing the component (C) can be used.

(その他添加剤)
本発明においては、必要に応じて以下に示す各種添加剤を使用することができる。
(Other additives)
In this invention, the various additives shown below can be used as needed.

(ヒドロシリル化硬化遅延剤)
本発明における(A)成分に付加型シリコーン系熱硬化性樹脂を用いる場合、その保存安定性を改良する目的、あるいは製造過程でのヒドロシリル化反応の反応性を調整する目的で、ヒドロシリル化硬化遅延剤を使用することができる。ヒドロシリル化硬化遅延剤としては、脂肪族不飽和結合を含有する化合物、有機リン化合物、有機イオウ化合物、窒素含有化合物、スズ系化合物、有機過酸化物等が挙げられ、これらを併用してもかまわない。
(Hydrosilylation retarder)
When an addition-type silicone-based thermosetting resin is used as the component (A) in the present invention, the hydrosilylation curing delay is used for the purpose of improving the storage stability or adjusting the reactivity of the hydrosilylation reaction during the production process. Agents can be used. Examples of the hydrosilylation curing retardant include compounds containing aliphatic unsaturated bonds, organic phosphorus compounds, organic sulfur compounds, nitrogen-containing compounds, tin compounds, organic peroxides, etc., and these may be used in combination. Absent.

脂肪族不飽和結合を含有する化合物としては、3−ヒドロキシ−3−メチル−1−ブチン、3−ヒドロキシ−3−フェニル−1−ブチン、1−エチニル−1−シクロヘキサノール等のプロパギルアルコール類、エン−イン化合物類、ジメチルマレート等のマレイン酸エステル類等が例示される。有機リン化合物としては、トリオルガノフォスフィン類、ジオルガノフォスフィン類、オルガノフォスフォン類、トリオルガノフォスファイト類等が例示される。有機イオウ化合物としては、オルガノメルカプタン類、ジオルガノスルフィド類、硫化水素、ベンゾチアゾール、チアゾール、ベンゾチアゾールジサルファイド等が例示される。窒素含有化合物としては、アンモニア、1〜3級アルキルアミン類、アリールアミン類、尿素、ヒドラジン等が例示される。スズ系化合物としては、ハロゲン化第一スズ2水和物、カルボン酸第一スズ等が例示される。有機過酸化物としては、ジ−tert−ブチルペルオキシド、ジクミルペルオキシド、ベンゾイルペルオキシド、過安息香酸t−ブチル等が例示される。
これらのヒドロシリル化硬化遅延剤のうち、遅延活性が良好で原料入手性がよいという観点からは、ベンゾチアゾール、チアゾール、ジメチルマレート、3−ヒドロキシ−3−メチル−1−ブチン、1−エチニル−1−シクロヘキサノールが好ましい。
Examples of the compound containing an aliphatic unsaturated bond include propargyl alcohols such as 3-hydroxy-3-methyl-1-butyne, 3-hydroxy-3-phenyl-1-butyne and 1-ethynyl-1-cyclohexanol. And maleate esters such as ene-yne compounds and dimethyl malate. Examples of the organophosphorus compound include triorganophosphine, diorganophosphine, organophosphon, and triorganophosphite. Examples of organic sulfur compounds include organomercaptans, diorganosulfides, hydrogen sulfide, benzothiazole, thiazole, benzothiazole disulfide and the like. Examples of the nitrogen-containing compound include ammonia, primary to tertiary alkylamines, arylamines, urea, hydrazine and the like. Examples of tin compounds include stannous halide dihydrate and stannous carboxylate. Examples of the organic peroxide include di-tert-butyl peroxide, dicumyl peroxide, benzoyl peroxide, and t-butyl perbenzoate.
Among these hydrosilylation curing retarders, benzothiazole, thiazole, dimethyl malate, 3-hydroxy-3-methyl-1-butyne, 1-ethynyl- from the viewpoint of good retarding activity and good raw material availability 1-cyclohexanol is preferred.

ヒドロシリル化硬化遅延剤の添加量は種々設定できるが、使用するヒドロシリル化触媒1molに対する好ましい添加量の下限は10−1モル、より好ましくは1モルであり、好ましい添加量の上限は10モル、より好ましくは50モルである。
また、これらのヒドロシリル化硬化遅延剤は単独で使用してもよく、2種以上併用してもよい。
Although the addition amount of the hydrosilylation curing retarder can be variously set, the lower limit of the preferable addition amount relative to 1 mol of the hydrosilylation catalyst to be used is 10 −1 mol, more preferably 1 mol, and the upper limit of the preferable addition amount is 10 3 mol, More preferably, it is 50 mol.
Moreover, these hydrosilylation hardening retarders may be used independently and may be used together 2 or more types.

(老化防止剤)
本発明の硬化性樹脂組成物には老化防止剤を添加してもよい。老化防止剤としては、ヒンダートフェノール系等一般に用いられている老化防止剤の他、クエン酸やリン酸、硫黄系老化防止剤等が挙げられる。
ヒンダートフェノール系老化防止剤としては、チバスペシャリティーケミカルズ社から入手できるイルガノックス1010をはじめとして、各種のものが用いられる。
硫黄系老化防止剤としては、メルカプタン類、メルカプタンの塩類、スルフィドカルボン酸エステル類や、ヒンダードフェノール系スルフィド類を含むスルフィド類、ポリスルフィド類、ジチオカルボン酸塩類、チオウレア類、チオホスフェイト類、スルホニウム化合物、チオアルデヒド類、チオケトン類、メルカプタール類、メルカプトール類、モノチオ酸類、ポリチオ酸類、チオアミド類、スルホキシド類等が挙げられる。
また、これらの老化防止剤は単独で使用してもよく、2種以上併用してもよい。
(Anti-aging agent)
An aging inhibitor may be added to the curable resin composition of the present invention. Examples of the anti-aging agent include citric acid, phosphoric acid, sulfur-based anti-aging agent and the like in addition to the anti-aging agents generally used such as hindered phenol type.
As the hindered phenol-based anti-aging agent, various types such as Irganox 1010 available from Ciba Specialty Chemicals are used.
Sulfur-based antioxidants include mercaptans, mercaptan salts, sulfide carboxylic acid esters, sulfides including hindered phenol sulfides, polysulfides, dithiocarboxylates, thioureas, thiophosphates, sulfonium Examples thereof include compounds, thioaldehydes, thioketones, mercaptals, mercaptols, monothioacids, polythioacids, thioamides, and sulfoxides.
Moreover, these anti-aging agents may be used independently and may be used together 2 or more types.

(硬化性樹脂組成物を含有することを特徴とするタブレット)
本発明における硬化性樹脂組成物は、各種成形のためにタブレットとして使用することもできる。成形方法としては、特に限定されず、硬化性樹脂組成物の成形に一般的であるトランスファー成形や圧縮成形などの成形方法を用いることができる。これらの成形方法を用いる場合、原料である硬化性樹脂組成物がペースト状や粘土状であると、一定した形状を保持できず、互着や一体化、変形したりするため、計量や搬送、成形機への供給が非常に困難となる。一方、タブレット形状であると、計量や搬送、成形機への供給が容易となり、自動化も可能となって生産性が大幅に向上する。ここで言うタブレットとは、室温において一定した形状を保持し、経時的な形状の変化が実質的になく、また互いに接触させたときに互着や一体化することのない固体のことを意味する。
本発明のタブレットの形状は、特に限定されず、円柱状、角柱状、円盤状、球状などの形状を含むが、トランスファー成形に一般的な円柱状が好ましい。
(Tablet characterized by containing curable resin composition)
The curable resin composition in the present invention can also be used as a tablet for various moldings. The molding method is not particularly limited, and a molding method such as transfer molding or compression molding, which is generally used for molding a curable resin composition, can be used. When using these molding methods, if the curable resin composition as a raw material is in the form of a paste or clay, it cannot maintain a constant shape and is attached, integrated, or deformed. Supply to the molding machine becomes very difficult. On the other hand, the tablet shape makes it easy to measure, transport, and supply to a molding machine, and can be automated, greatly improving productivity. As used herein, a tablet means a solid that retains a constant shape at room temperature, has substantially no change in shape over time, and does not stick together or become integrated when brought into contact with each other. .
The shape of the tablet of the present invention is not particularly limited, and includes a columnar shape, a prismatic shape, a disk shape, a spherical shape, and the like, and a general columnar shape for transfer molding is preferable.

(硬化性樹脂組成物を硬化してなる硬化物)
本発明における硬化性樹脂組成物を熱硬化することで得られる硬化物の線膨張係数は、例えばLED等の半導体パッケージのリードフレームとして一般的に使用される銅の線膨張係数に近いことが望ましいことから、7ppm〜27ppmの範囲内であることが好ましく、12ppm〜22ppmの範囲内にあることがより好ましい。
(Hardened product obtained by curing curable resin composition)
The linear expansion coefficient of the cured product obtained by thermosetting the curable resin composition in the present invention is desirably close to the linear expansion coefficient of copper generally used as a lead frame of a semiconductor package such as an LED. Therefore, it is preferably in the range of 7 ppm to 27 ppm, and more preferably in the range of 12 ppm to 22 ppm.

本発明における硬化性樹脂組成物を用いることで、柔軟性に優れる硬化物を得ることができる。柔軟性の指標としてはISO 178による曲げ試験における破壊伸びを例示することができ、当該試験における硬化物の破壊伸びは0.5mm〜5.0mmの範囲内にあることが好ましく、0.5mm〜4.0mmの範囲内にあることがより好ましく、0.5mm〜3.0mmの範囲内にあることがさらに好ましい。曲げ破壊伸びが0.5mm未満である場合は、得られる成形体をダイシング等の切断、加工を行う際に割れや欠けが生じる可能性があり、5.0mmを超える場合は得られる成形体が外力等により変形しやすくなる場合がある。     By using the curable resin composition in the present invention, a cured product having excellent flexibility can be obtained. As an index of flexibility, the breaking elongation in a bending test according to ISO 178 can be exemplified, and the breaking elongation of the cured product in the test is preferably in the range of 0.5 mm to 5.0 mm, 0.5 mm to More preferably within the range of 4.0 mm, and even more preferably within the range of 0.5 mm to 3.0 mm. When the bending fracture elongation is less than 0.5 mm, there is a possibility that cracking or chipping may occur when the resulting molded product is cut or processed such as dicing. It may be easily deformed by an external force or the like.

(硬化性樹脂組成物を硬化してなる成形体)
本発明における硬化性樹脂組成物を硬化してなる成形体の一例として、光半導体用パッケージが例示される。該用途に本発明における硬化性組成物を使用する場合、光半導体の輝度が良好を与えるために、硬化してなる成形体には高い光反射率と低い着色度が要求される。
(Molded product obtained by curing curable resin composition)
As an example of a molded product obtained by curing the curable resin composition in the present invention, an optical semiconductor package is exemplified. When using the curable composition in this invention for this use, in order to give the brightness | luminance of an optical semiconductor favorable, the high light reflectivity and low coloring degree are requested | required of the molded object formed by hardening.

本発明における硬化性樹脂組成物を硬化してなる成形体は、その470nmにおける光反射率が80%以上であり、180℃24時間の耐熱試験後の光反射率の保持率(耐熱試験後の光反射率/初期の光反射率×100)が90%以上であることが望ましい。
硬化物の光反射率の測定方法については、たとえば微小面分光色差計(日本電色工業社製VSS400)を用いて測定することができる。
The molded product obtained by curing the curable resin composition in the present invention has a light reflectance at 470 nm of 80% or more, and a light reflectance retention after a heat test at 180 ° C. for 24 hours (after the heat test). The light reflectance / initial light reflectance × 100) is desirably 90% or more.
About the measuring method of the light reflectivity of hardened | cured material, it can measure using a micro surface spectral color difference meter (Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. VSS400), for example.

また、本発明における(D)成分を使用することで、(E)成分の白色含量として酸化亜鉛に代表されるような圧縮やせん断応力の印加により着色を呈するようなフィラーを使用した場合、(D)成分の応力緩和効果により着色を低減させることができ、高い光反射率と低い着色度合いを両立させることができる。硬化物の着色度合いの指標としては種々のものがあるが、典型的な例としてイエローインデックス(YI)がある。本発明における硬化物のYIは、7.5以下であることが好ましく、5.0以下であることがより好ましく、4.5以下であることがさらに好ましい。硬化物のYIが7.5を超える場合、例えば光半導体用パッケージとして本発明における硬化性樹脂組成物を使用した場合に、光半導体の輝度が低下する等不具合が発生する恐れがある。硬化物のYIの測定方法については、たとえば微小面分光色差計(日本電色工業社製VSS400)を用いて測定することができる。   In addition, by using the component (D) in the present invention, when using a filler that exhibits coloration by applying compression or shear stress as represented by zinc oxide as the white content of the component (E), Coloring can be reduced by the stress relaxation effect of component D), and both high light reflectance and a low degree of coloring can be achieved. There are various indicators of the degree of coloring of the cured product, and a typical example is the yellow index (YI). The YI of the cured product in the present invention is preferably 7.5 or less, more preferably 5.0 or less, and even more preferably 4.5 or less. When the YI of the cured product exceeds 7.5, for example, when the curable resin composition according to the present invention is used as a package for an optical semiconductor, there is a possibility that problems such as a decrease in luminance of the optical semiconductor may occur. About the measuring method of YI of hardened | cured material, it can measure, for example using a micro surface spectral color difference meter (Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. VSS400).

(半導体のパッケージ)
本発明における硬化性樹脂組成物を成形して、半導体のパッケージをつくることができる。本発明で言う半導体のパッケージとは、半導体素子あるいは/および外部取出し電極等を支持固定あるいは/および保護するために設けられた部材である。半導体素子を直接被覆せず、外部取り出し電極等を支持固定するものや発光ダイオードのリフレクターのような半導体素子の周囲や底面を形成するものであってもよい。
この場合の半導体素子としては各種のものが挙げられる。例えばIC、LSI等の集積回路、トランジスター、ダイオード、発光ダイオード等の素子の他、CCD等の受光素子等を挙げることができる。
形状についても特定されないが、半導体のパッケージが実質的に金属の片面に樹脂が成形されている形状を有する場合(MAPタイプ)において特に本発明の効果が得られやすい。
(Semiconductor package)
The curable resin composition in the present invention can be molded to make a semiconductor package. The semiconductor package referred to in the present invention is a member provided for supporting and / or protecting a semiconductor element or / and an external extraction electrode. The semiconductor element may not be directly covered but may be one that supports and fixes an external extraction electrode or the like, or that forms the periphery or bottom surface of a semiconductor element such as a light emitting diode reflector.
In this case, various types of semiconductor elements can be mentioned. For example, an integrated circuit such as an IC or LSI, an element such as a transistor, a diode, or a light emitting diode, or a light receiving element such as a CCD can be used.
Although the shape is not specified, the effect of the present invention is particularly easily obtained when the semiconductor package has a shape in which a resin is substantially molded on one side of a metal (MAP type).

尚、上記のように本発明の半導体のパッケージが半導体素子を直接被覆しないような場合などにおいては、さらに封止剤を用いて封止することもでき、例えば従来用いられるエポキシ樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ユリア樹脂、イミド樹脂等の封止樹脂を用いることができる。また、特開2002−80733、特開2002−88244で提案されているような、SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個有する脂肪族系有機化合物、1分子中に少なくとも2個のSiH基を有する化合物、およびヒドロシリル化触媒を含有する硬化性樹脂組成物からなる封止剤を用いてもよく、この封止剤を用いる方が、パッケージ樹脂との接着性が高いという点、および透明性が高く本発明のパッケージの耐光性が高いという効果が顕著であるという点において、好ましい。一方、樹脂封止を用いず、ガラス等でカバーしてハーメチック封止により封止することも可能である。
また発光ダイオードや受光素子の場合などにおいてはさらにレンズを適用することも可能であり、封止剤をレンズ形状に成形してレンズ機能を持たせることも可能である。
In addition, in the case where the semiconductor package of the present invention does not directly cover the semiconductor element as described above, it can be further sealed with a sealing agent, for example, a conventionally used epoxy resin, silicone resin, A sealing resin such as an acrylic resin, a urea resin, or an imide resin can be used. Further, aliphatic organic compounds having at least two carbon-carbon double bonds having reactivity with SiH groups as proposed in JP-A Nos. 2002-80733 and 2002-88244, A sealant made of a curable resin composition containing a compound having at least two SiH groups in the molecule and a hydrosilylation catalyst may be used. Adhesion with the package resin is better when this sealant is used. It is preferable in that it is highly effective and the effect of high transparency and high light resistance of the package of the present invention is remarkable. On the other hand, it is possible to cover with glass or the like and seal with hermetic sealing without using resin sealing.
Further, in the case of a light emitting diode or a light receiving element, a lens can be further applied, and a sealing agent can be molded into a lens shape to have a lens function.

(成形方法)
本発明で言う半導体パッケージの成形方法としては各種の方法が用いられる。例えば、射出成形、トランスファー成形、RIM成形、キャスティング成形、プレス成形、コンプレッション成形等、熱可塑性樹脂やエポキシ樹脂、シリコーン樹脂等の熱硬化性樹脂に一般に用いられる各種成形方法が用いられる。これらの内、成形サイクルが短く成形性が良好であるという点においてはトランスファー成形が好ましい。成形条件も任意に設定可能であり、例えば成形温度についても任意であるが、硬化が速く成形サイクルが短く成形性が良好になりやすいという点においては100℃以上、より好ましくは120℃以上、さらに好ましくは150℃以上の温度が好ましい。上記のような各種方法によって成形した後、必要に応じて後硬化(アフターキュア)することも任意である。後硬化した方が耐熱性が高くなり易い。
(Molding method)
Various methods are used as a method for forming a semiconductor package in the present invention. For example, various molding methods generally used for thermosetting resins such as thermoplastic resins, epoxy resins, and silicone resins, such as injection molding, transfer molding, RIM molding, casting molding, press molding, compression molding, and the like are used. Of these, transfer molding is preferred in that the molding cycle is short and the moldability is good. The molding conditions can be arbitrarily set, for example, the molding temperature is also arbitrary. However, in terms of fast curing and a short molding cycle, the moldability tends to be good, more preferably 100 ° C. or higher, more preferably 120 ° C. or higher. A temperature of 150 ° C. or higher is preferable. After molding by the various methods as described above, post-curing (after-curing) is optional as required. Post-curing tends to increase the heat resistance.

成形は一定の温度で行ってもよいが、必要に応じて多段階あるいは連続的に温度を変化させてもよい。一定の温度で行うより多段階的あるいは連続的に温度を上昇させながら反応させた方が歪のない均一な硬化物が得られやすいという点において好ましい。また、一定温度で行う方が成形サイクルを短くできるという点において好ましい。
硬化時間も種々設定できるが、高温短時間で反応させるより、比較的低温長時間で反応させた方が歪のない均一な硬化物が得られやすいという点において好ましい。逆に、高温短時間で反応させる方が成形サイクルを短くできるという点において好ましい。
成形時の圧力も必要に応じ種々設定でき、常圧、高圧、あるいは減圧状態で成形することもできる。ボイドの発生を抑制したり、充填性をよくしたり、場合によって発生する揮発分を除きやすいという点においては、減圧状態で硬化させることが好ましい。成形体へのクラックを防止できるという点においては、加圧状態で硬化させることが好ましい。
Molding may be performed at a constant temperature, but the temperature may be changed in multiple steps or continuously as required. It is preferable to carry out the reaction while raising the temperature in a multistage manner or continuously, as compared with the case where the temperature is constant, in that a uniform cured product without distortion can be easily obtained. Moreover, it is preferable to perform at a constant temperature in that the molding cycle can be shortened.
Although various curing times can be set, it is preferable to react at a relatively low temperature for a long time rather than reacting at a high temperature for a short time because a uniform cured product without distortion can be easily obtained. Conversely, the reaction at a high temperature in a short time is preferable in that the molding cycle can be shortened.
The pressure at the time of molding can be variously set as required, and the molding can be performed at normal pressure, high pressure, or reduced pressure. It is preferable to cure under reduced pressure in terms of suppressing the generation of voids, improving the filling property, and easily removing volatile components generated in some cases. In terms of preventing cracks in the molded body, it is preferable to cure under pressure.

以下に、本発明の実施例および比較例を示すが、本発明は以下によって限定されるものではない。
(合成例1)
5Lの四つ口フラスコに、攪拌装置、滴下漏斗、冷却管をセットした。このフラスコにトルエン1800g、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン1440gを入れ、120℃のオイルバス中で加熱、攪拌した。トリアリルイソシアヌレート200g、トルエン200g及び白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液(白金として3wt%含有)1.44mlの混合液を50分かけて滴下した。得られた溶液をそのまま6時間加温、攪拌した後、未反応の1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン及びトルエンを減圧留去した。1H−NMRの測定によりこのものは1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンのSiH基の一部がトリアリルイソシアヌレートと反応した以下の構造を有するものであることがわかった。
Examples and Comparative Examples of the present invention are shown below, but the present invention is not limited to the following.
(Synthesis Example 1)
A stirrer, a dropping funnel, and a condenser tube were set in a 5 L four-necked flask. Into this flask, 1800 g of toluene and 1440 g of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane were placed, heated and stirred in an oil bath at 120 ° C. A mixed solution of 200 g of triallyl isocyanurate, 200 g of toluene and 1.44 ml of a xylene solution of platinum vinylsiloxane complex (containing 3 wt% as platinum) was added dropwise over 50 minutes. The resulting solution was heated and stirred as it was for 6 hours, and unreacted 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane and toluene were distilled off under reduced pressure. 1 H-NMR measurement revealed that this had the following structure in which a part of the SiH group of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane reacted with triallyl isocyanurate.

(合成例2)
2Lオートクレーブにトルエン720g、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン240gを入れ、気相部を窒素で置換した後、ジャケット温50℃で加熱、攪拌した。アリルグリシジルエーテル171g、トルエン171g及び白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液(白金として3wt%含有)0.049gの混合液を90分かけて滴下した。滴下終了後にジャケット温を60℃に上げて40分反応、1H−NMRでアリル基の反応率が95%以上であることを確認した。トリアリルイソシアヌレート17g、トルエン17gの混合液を滴下した後、ジャケット温を105℃に上げて、トリアリルイソシアヌレート66g、トルエン66g及び白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液(白金として3wt%含有)0.033gの混合液を30分かけて滴下した。滴下終了から4時間後に1H−NMRでアリル基の反応率が95%以上であることを確認し、冷却により反応を終了した。1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの未反応率は0.8%だった。未反応の1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンとトルエンとアリルグリシジルエーテルの副生物(アリルグリシジルエーテルのビニル基の内転移物(シス体およびトランス体))が合計5,000ppm以下となるまで減圧留去し、無色透明の液体を得た。1H−NMRの測定によりこのものは1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンのSiH基の一部がアリルグリシジルエーテル及びトリアリルイソシアヌレートと反応したものであり平均的に以下の構造を有するものであることがわかった。
(Synthesis Example 2)
720 g of toluene and 240 g of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane were placed in a 2 L autoclave, the gas phase was replaced with nitrogen, and then heated and stirred at a jacket temperature of 50 ° C. A mixed solution of 171 g of allyl glycidyl ether, 171 g of toluene and 0.049 g of a xylene solution of platinum vinylsiloxane complex (containing 3 wt% as platinum) was added dropwise over 90 minutes. After completion of dropping, the jacket temperature was raised to 60 ° C. for 40 minutes, and 1 H-NMR confirmed that the reaction rate of allyl group was 95% or more. After dropwise addition of 17 g of triallyl isocyanurate and 17 g of toluene, the jacket temperature was raised to 105 ° C., and xylene solution of triallyl isocyanurate 66 g, toluene 66 g and a platinum vinylsiloxane complex (containing 3 wt% as platinum) 033 g of the mixed solution was added dropwise over 30 minutes. Four hours after the completion of the dropwise addition, it was confirmed by 1 H-NMR that the reaction rate of the allyl group was 95% or more, and the reaction was terminated by cooling. The unreacted rate of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane was 0.8%. The total amount of unreacted 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, toluene and allyl glycidyl ether by-products (inner transition products of allylic glycidyl ether vinyl group (cis- and trans-isomers)) is 5,000 ppm or less in total The solution was distilled off under reduced pressure until a colorless and transparent liquid was obtained. As a result of 1 H-NMR measurement, this is one in which a part of SiH group of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane is reacted with allyl glycidyl ether and triallyl isocyanurate, and on average, the following structure It was found that

(a+b=3、c+d=3、e+f=3、a+c+e=3.5、b+d+f=5.5) (A + b = 3, c + d = 3, e + f = 3, a + c + e = 3.5, b + d + f = 5.5)

(硬化性樹脂組成物の作製)
表1に示す通り、実施例1〜3及び比較例1の硬化性樹脂組成物を作製し、以降に示す各種評価を行った。
(Preparation of curable resin composition)
As shown in Table 1, the curable resin compositions of Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 were produced, and various evaluations shown below were performed.

なお、配合物の作成に当たっては、まず(A)成分と(B)成分、および硬化遅延剤と酸化防止剤をカップ状の容器に秤取り、混合した後、プラスチック製のスパチュラで混練しながら残りの成分を少量ずつ添加し、その後丸棒状の治具にて押し延ばした後、折り重ねて再度押し延ばす作業を繰り返す方法により作製した。   In preparation of the blend, first, the components (A) and (B), the curing retarder and the antioxidant are weighed in a cup-shaped container, mixed, and then kneaded with a plastic spatula. These components were added little by little, and after that, they were stretched with a round bar-shaped jig, then folded and re-stretched again.

(トランスファー成形による硬化物の作成方法)
トランスファー成形は、アピックヤマダ株式会社製G−Lineマニュアルプレスを用いて実施した。型締力は30ton、注入圧力8MPa、注入速度3mm/sとした。白色コンパウンド11.0gを計量、シリンダー内へ装填し成形した。成形温度および成形時間は、170℃、180秒とした。成形後、熱風オーブンにて180℃、1時間後硬化(アフターキュア)した。硬化物は厚み1.0mmと厚み4.0mmの2種類を作成し、厚み1.0mmの硬化物は線膨張係数の測定に、また厚み4.0mmの硬化物は曲げ破壊伸びの測定に使用した。
(Method of creating a cured product by transfer molding)
Transfer molding was performed using a G-Line manual press manufactured by Apic Yamada Corporation. The mold clamping force was 30 ton, the injection pressure was 8 MPa, and the injection speed was 3 mm / s. 11.0 g of a white compound was weighed and loaded into a cylinder for molding. The molding temperature and molding time were 170 ° C. and 180 seconds. After molding, it was post-cured (aftercured) at 180 ° C. for 1 hour in a hot air oven. Two types of cured products, 1.0 mm thickness and 4.0 mm thickness, are prepared. The 1.0 mm thick cured product is used for measuring the linear expansion coefficient, and the 4.0 mm thick cured product is used for measuring the bending fracture elongation. did.

(線膨張係数)
上記成形により得られた成形体の線膨張係数を、JIS K 6911により測定した。
(Linear expansion coefficient)
The linear expansion coefficient of the molded product obtained by the above molding was measured according to JIS K 6911.

(曲げ破壊伸び)
上記成形により得られた成形体の曲げ破壊伸びをISO 178により測定した。
(Bending fracture elongation)
The bending fracture elongation of the molded body obtained by the above molding was measured by ISO 178.

(タブレット化)
作製した硬化性樹脂組成物を、金属製の杵と臼からなるタブレット製造冶具で圧縮してタブレットとした。具体的にはφ13mmの臼の中に配合物を所定量入れ、100kg/cm2の圧力で杵で上から5秒間圧縮することにより、所定体積のタブレットを得た。
(Tablet)
The produced curable resin composition was compressed into a tablet by a tablet production jig composed of a metal punch and mortar. Specifically, a predetermined amount of the composition was put into a 13 mm diameter mortar and compressed from the top with a spatula at a pressure of 100 kg / cm 2 for 5 seconds to obtain a tablet having a predetermined volume.

(トランスファー成形によるMAP品の成形方法)
Agメッキした縦50mm、横55mm、厚み0.25mmのCu製の発光ダイオード用リードフレームを準備する。成形後のMAP(Mold Array Package:半導体のパッケージが実質的に金属の片面に樹脂が成形されている形状を有するタイプ)は縦15列、横12列で合計180個のリフレクターが含まれる。各リフレクターは上面φ2.1mm、底面φ1.8mm(テーパー角度:15度)、高さ0.55mmで、横方向直径に沿って右端から0.45mmのところに幅0.20mmの本発明の硬化性樹脂組成物を硬化させた白色コンパウンドからなる電極スリットが縦に設けられている。各リフレクター間の間隔は縦横直径方向ともに1.1mmである。リードフレームおよび金型は、上記の要件を満足するリードフレーム付きリフレクターが作製できれば、特に制約はない。この成形品形状を3030MAP型と呼ぶ。成形品の概念図を図1に示した。
トランスファー成形は、アピックヤマダ株式会社製G−Lineマニュアルプレスを用いて実施した。型締力30ton、注入圧力8MPa、注入速度3mm/s。白色コンパウンド5.0gを計量、円柱状に賦形(上記に記載したタブレット化)しシリンダー内へ装填し成形した。成形条件は、170℃、150秒とした。成形後、熱風オーブンにて180℃、1時間後硬化(アフターキュア)した。
(MAP molding method by transfer molding)
An Ag-plated lead frame for a light emitting diode made of Cu having a length of 50 mm, a width of 55 mm, and a thickness of 0.25 mm is prepared. A molded MAP (Mold Array Package: a type in which a semiconductor package has a shape in which a resin is substantially formed on one side of a metal) includes a total of 180 reflectors in 15 rows and 12 rows. Each reflector has a top surface of 2.1 mm, a bottom surface of 1.8 mm (taper angle: 15 degrees), a height of 0.55 mm, a width of 0.20 mm from the right end along the transverse diameter, and a width of 0.20 mm. The electrode slit which consists of a white compound which hardened the conductive resin composition is provided vertically. The interval between the reflectors is 1.1 mm in both the vertical and horizontal diameter directions. The lead frame and the mold are not particularly limited as long as a reflector with a lead frame that satisfies the above requirements can be manufactured. This shape of the molded product is called a 3030 MAP type. A conceptual diagram of the molded product is shown in FIG.
Transfer molding was performed using a G-Line manual press manufactured by Apic Yamada Corporation. Clamping force 30 ton, injection pressure 8 MPa, injection speed 3 mm / s. A white compound (5.0 g) was weighed, shaped into a cylindrical shape (tablet as described above), loaded into a cylinder, and molded. The molding conditions were 170 ° C. and 150 seconds. After molding, it was post-cured (aftercured) at 180 ° C. for 1 hour in a hot air oven.

(反り)
MAP品の反りは成形部を上にして平滑な面に置いたとき、成形部が真横から見た状態凹になっている場合を順反り、凸になっている場合を逆反りと定義した。反りの程度はMAP品を平滑な面に置き、面から離れている4辺のうちで最も距離がある値(mm)を数値化した。
(warp)
When the molded part is placed on a smooth surface with the molded part facing up, the warp is defined as a forward warp when the molded part is concave when viewed from the side, and the reverse warp is defined as a convex part. As for the degree of warpage, a MAP product was placed on a smooth surface, and the value (mm) having the longest distance among the four sides away from the surface was quantified.

(光反射率、及びイエローインデックス(YI)の測定)
上記成形により得られた硬化性樹脂組成物のパッケージおよび比較例2〜6のパッケージについて、微小面分光色差計(日本電色工業社製VSS400)を用いて波長400nm〜700nm(20nm間隔)における光反射率、及びイエローインデックス(YI)を測定した。なお、イエローインデックスはASTM1925に準じて測定した。ここで各波長における測定値は、パッケージ上面の任意の4箇所(測定面積0.2mmφ)の測定値の平均値を採用した。
(Measurement of light reflectance and yellow index (YI))
About the package of the curable resin composition obtained by the said shaping | molding, and the package of Comparative Examples 2-6, the light in wavelength 400nm -700nm (20nm space | interval) using a micro surface spectral color difference meter (Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. VSS400). The reflectance and the yellow index (YI) were measured. The yellow index was measured according to ASTM 1925. Here, as the measurement values at each wavelength, the average value of the measurement values at arbitrary four locations (measurement area 0.2 mmφ) on the upper surface of the package was adopted.

表2より、各実施例と比較例1との比較から、本発明における(D)成分の添加により、硬化物の線膨張係数が低下し、MAPの反りが低下することが分かる。一方で本発明における(D)成分を有しない比較例2においては、低線膨張係数である無機フィラーの球状シリカを高充填することで線膨張係数が低下し、MAPの反りは低下するものの得られる硬化物は破壊伸びが小さく。柔軟性に欠けることが分かる。以上より、本発明における硬化性樹脂組成物を使用することで、得られる成形体や硬化物の低線膨張係数と柔軟性を両立可能であることがわかる。   From Table 2, it can be seen from the comparison between each Example and Comparative Example 1 that the linear expansion coefficient of the cured product is decreased and the warpage of MAP is decreased by the addition of the component (D) in the present invention. On the other hand, in Comparative Example 2 which does not have the component (D) in the present invention, high expansion of the inorganic filler spherical silica having a low linear expansion coefficient reduces the linear expansion coefficient and decreases the warpage of MAP. The cured product has a small breaking elongation. It turns out that it lacks flexibility. From the above, it can be seen that by using the curable resin composition of the present invention, it is possible to achieve both a low linear expansion coefficient and flexibility of the obtained molded product and cured product.

更に、実施例1から実施例3と比較例1との比較から、本発明における(D)成分の添加により、着色性のフィラーである酸化亜鉛を使用しても、(D)成分の応力緩和効果により酸化亜鉛に掛かる応力が緩和され、低いYIと光反射率を両立した硬化物が得られることがわかる。   Furthermore, from the comparison between Example 1 to Example 3 and Comparative Example 1, even if zinc oxide, which is a coloring filler, is used due to the addition of component (D) in the present invention, stress relaxation of component (D) It can be seen that the stress applied to zinc oxide is relaxed by the effect, and a cured product having both low YI and light reflectance can be obtained.

Claims (14)

(A)シリコーン系熱硬化性樹脂
(B)硬化触媒
(C)無機充填材
(D)架橋ゴム粒子からなる低線膨張化剤
(E)白色顔料
を必須成分として含有することを特徴とする半導体パッケージ用硬化性樹脂組成物。
(A) Silicone-based thermosetting resin (B) Curing catalyst (C) Inorganic filler (D) Low linear expansion agent comprising crosslinked rubber particles (E) White pigment as an essential component A curable resin composition for a package.
(D)成分がデュロメーターA硬度10〜100の範囲内にある架橋ゴム粒子であることを特徴とする請求項1に記載の半導体パッケージ用硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition for a semiconductor package according to claim 1, wherein the component (D) is a crosslinked rubber particle having a durometer A hardness in the range of 10 to 100. 前記(C)成分が、全組成物中の50重量%〜95重量%の範囲内にあることを特徴とする請求項1または2に記載の半導体パッケージ用硬化性樹脂組成物。 3. The curable resin composition for a semiconductor package according to claim 1, wherein the component (C) is in the range of 50 wt% to 95 wt% in the total composition. (C)成分が球状シリカである請求項1〜3のいずれか1項に記載の半導体パッケージ用硬化性樹脂組成物。 (C) A component is spherical silica, The curable resin composition for semiconductor packages of any one of Claims 1-3. 前記(A)成分が、
(A−1)SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する化合物、
(A−2)1分子中に少なくとも2個のSiH基を含有する化合物、
からなり、かつ(B)成分がヒドロシリル化触媒であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の半導体パッケージ用硬化性樹脂組成物。
The component (A) is
(A-1) a compound containing at least two carbon-carbon double bonds having reactivity with SiH groups in one molecule;
(A-2) a compound containing at least two SiH groups in one molecule,
The curable resin composition for a semiconductor package according to any one of claims 1 to 4, wherein the component (B) is a hydrosilylation catalyst.
(E)成分が酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニア、酸化ストロンチウム、酸化ニオブ、窒化ホウ素、チタン酸バリウム及び硫酸バリウム、有機白色顔料から選ばれる少なくとも一種である請求項1〜5のいずれか1項に記載の半導体パッケージ用硬化性樹脂組成物。 The component (E) is at least one selected from titanium oxide, zinc oxide, zirconia oxide, strontium oxide, niobium oxide, boron nitride, barium titanate and barium sulfate, and an organic white pigment. The curable resin composition for semiconductor packages described in 1. (E)成分が酸化亜鉛、有機白色顔料であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の半導体パッケージ用硬化性樹脂組成物。 (E) A component is a zinc oxide and an organic white pigment, The curable resin composition for semiconductor packages of any one of Claims 1-6 characterized by the above-mentioned. 硬化物の線膨張係数が、7〜27ppmであることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の半導体パッケージ用硬化性樹脂組成物。 The linear expansion coefficient of hardened | cured material is 7-27 ppm, The curable resin composition for semiconductor packages of any one of Claims 1-7 characterized by the above-mentioned. 硬化物の曲げ破壊伸びが0.5mm〜5.0mmであることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の半導体パッケージ用硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition for a semiconductor package according to any one of claims 1 to 8, wherein the bending fracture elongation of the cured product is 0.5 mm to 5.0 mm. 硬化物の表面の波長470nmの光反射率が90%以上であることを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項に記載の半導体パッケージ用硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition for a semiconductor package according to any one of claims 1 to 9, wherein the light reflectance at a wavelength of 470 nm on the surface of the cured product is 90% or more. 請求項1〜10のいずれか1項に記載の半導体パッケージ用硬化性樹脂組成物を含有することを特徴とする半導体パッケージ用タブレット。 The tablet for semiconductor packages characterized by including the curable resin composition for semiconductor packages of any one of Claims 1-10. 請求項1〜10のいずれか1項に記載の半導体パッケージ用硬化性樹脂組成物、または請求項11に記載の半導体パッケージ用タブレットを用いて成形、硬化したことを特徴とする成形体。 A molded body, which is molded and cured using the curable resin composition for a semiconductor package according to any one of claims 1 to 10 or the tablet for a semiconductor package according to claim 11. 請求項1〜10のいずれか1項に記載の半導体パッケージ用硬化性樹脂組成物、または請求項11に記載の半導体パッケージ用タブレットを用いて成形、硬化したことを特徴とする半導体のパッケージ。 The semiconductor package is characterized in that the molded cured using semiconductor package tablets according to the semiconductor package curable resin composition or claim 11, according to any one of claims 1 to 10. 請求項1〜10のいずれか1項に記載の半導体パッケージ用硬化性樹脂組成物、または請求項11に記載の半導体パッケージ用タブレットを用いて成形、硬化したことを特徴とする光半導体用パッケージ。 Semiconductor package curable resin composition according to any one of claims 1 to 10 or molded with the semiconductor package tablet according to claim 11, cured for an optical semiconductor package, characterized in that the,.
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JP7065382B2 (en) * 2016-07-19 2022-05-12 パナソニックIpマネジメント株式会社 Molding material for light reflector and its manufacturing method, light reflector, base body and its manufacturing method, and light emitting device
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JP2006213899A (en) * 2005-02-07 2006-08-17 Kaneka Corp Curable composition and semiconductor device encapsulated with the composition
JP4623322B2 (en) * 2007-12-26 2011-02-02 信越化学工業株式会社 White thermosetting silicone resin composition for forming optical semiconductor case, optical semiconductor case and molding method thereof
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