JP6663353B2 - 極端紫外光源のための適応レーザシステム - Google Patents
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Description
本出願は、2014年2月28日出願の米国出願第14/194,027号の利益を主張し、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。
よそ13nmの波長の光を含む電磁放射(軟X線と呼ぶこともある)は、フォトリソグラフィプロセスにおいて、基板、例えばシリコンウェーハに極めて小さなフィーチャを生成するために使用することができる。
Claims (12)
- 増幅光ビームを生成する放射源と、真空チャンバと、前記真空チャンバの内側にあるターゲット位置に向けてターゲット材料を誘導するとともに、前記増幅光ビームを受け取るターゲット材料デリバリシステムであって、前記ターゲット材料が、プラズマに変換されると極端紫外光を放出する材料を含む、ターゲット材料デリバリシステムと、前記真空チャンバの内側にあり、前記放出された極端紫外光を受け取って誘導するように位置決めされているコレクタと、を備える極端紫外光源であって、
前記放射源が、
ビームパス上に位置決めされた利得媒体をそれぞれが備える2つ以上の光増幅器であって、前記光増幅器のそれぞれが、前記ビームパスに沿って進む入力光ビームを入力で受け取りかつ出力光ビームを出力で前記ビームパス上へと放出する、2つ以上の光増幅器と、
前記ビームパス上に位置決めされる1つまたは複数の適応光学要素であって、前記適応光学要素は、フィードバック信号に応答して構成が変更される少なくとも1つの要素を含む、1つまたは複数の適応光学要素と、
前記1つまたは複数の適応光学要素に結合されたフィードバックシステムであって、前記フィードバックシステムは、一つの前記光増幅器の出力で位置決めされたセンサを備え、前記フィードバックシステムは、前記センサによって測定された特性に基づき前記フィードバック信号を発生させるとともに対応する適応光学要素に前記フィードバック信号を提供し、前記対応する適応光学要素は、前記適応光学要素の少なくとも一つであって、前記一つの前記光増幅器の前記出力と他の前記光増幅器の前記入力との間に位置決めされ、前記センサは、前記対応する適応光学要素と前記一つの前記光増幅器の前記出力との間にある、フィードバックシステムと、を有し、
前記1つまたは複数の適応光学要素が、少なくとも1つの適応光学要素を備え、
前記少なくとも1つの適応光学要素が、
第1の側に変形可能反射面を有し、かつ、前記第1の側と熱連通する第2の側を有する光学要素と、
前記光学要素の前記第2の側と熱連通する第1の導管を備える流体経路であって、前記第1の導管が熱伝導性流体を受け取る、流体経路と、
前記第1の導管と流体連通し、かつ、前記第1の導管に対して圧力を提供および除去する圧力アクチュエータと流体連通する、第2の導管を備える圧力経路と、
を備える、極端紫外光源。 - 増幅光ビームを生成する放射源と、真空チャンバと、前記真空チャンバの内側にあるターゲット位置に向けてターゲット材料を誘導するとともに、前記増幅光ビームを受け取るターゲット材料デリバリシステムであって、前記ターゲット材料が、プラズマに変換されると極端紫外光を放出する材料を含む、ターゲット材料デリバリシステムと、前記真空チャンバの内側にあり、前記放出された極端紫外光を受け取って誘導するように位置決めされているコレクタと、を備える極端紫外光源であって、
前記放射源が、
ビームパス上に位置決めされた利得媒体をそれぞれが備える2つ以上の光増幅器であって、前記光増幅器のそれぞれが、前記ビームパスに沿って進む入力光ビームを入力で受け取りかつ出力光ビームを出力で前記ビームパス上へと放出する、2つ以上の光増幅器と、
前記ビームパス上に位置決めされる1つまたは複数の適応光学要素であって、前記適応光学要素は、フィードバック信号に応答して構成が変更される少なくとも1つの要素を含む、1つまたは複数の適応光学要素と、
前記1つまたは複数の適応光学要素に結合されたフィードバックシステムであって、前記フィードバックシステムは、一つの前記光増幅器の出力で位置決めされたセンサを備え、前記フィードバックシステムは、前記センサによって測定された特性に基づき前記フィードバック信号を発生させるとともに対応する適応光学要素に前記フィードバック信号を提供し、前記対応する適応光学要素は、前記適応光学要素の少なくとも一つであって、前記一つの前記光増幅器の前記出力と他の前記光増幅器の前記入力との間に位置決めされ、前記センサは、前記対応する適応光学要素と前記一つの前記光増幅器の前記出力との間にある、フィードバックシステムと、を有し、
前記適応光学要素のうちの少なくとも1つが、前記フィードバック信号に応答して前記ビームパスの長さを変化させる、極端紫外光源。 - 前記光増幅器のうちの少なくとも1つの前記出力に位置決めされた空間フィルタをさらに備える、請求項1又は2に記載の極端紫外光源。
- 極端紫外光を発生させるために使用される増幅光ビームの特性を維持するための方法であって、
ビームパス上に光増幅器を位置決めすることであって、前記光増幅器が前記ビームパス上に利得媒体を備えることと、
前記ビームパス上に適応光学部品を位置決めすることと、
前記光増幅器から、前記ビームパス上に増幅光ビームを放出することであって、前記増幅光ビームは、デューティサイクルを有するとともに前記光増幅器から前記適応光学部品へと伝搬することと、
前記光増幅器の出力で前記増幅光ビームの特性を測定することであって、前記特性は、前記光増幅器と前記適応光学部品との間で測定されることと、
前記測定に基づいて前記増幅光ビームの特性を決定することと、
前記決定された特性に基づいて前記適応光学部品の構成を変更し、それにより前記増幅光ビームの前記デューティサイクルの変動にかかわらず前記増幅光ビームの前記特性を維持することと、
ターゲット材料を受け取るターゲット位置に前記増幅光ビームを提供し、極端紫外光を発生させることと、を含み、
前記適応光学部品を調整することが、前記適応光学部品の曲率半径を調整し、それにより前記増幅光ビームのビームダイバージェンスを調整することを含む、方法。 - 極端紫外光を発生させるために使用される増幅光ビームの特性を維持するための方法であって、
ビームパス上に光増幅器を位置決めすることであって、前記光増幅器が前記ビームパス上に利得媒体を備えることと、
前記ビームパス上に適応光学部品を位置決めすることと、
前記光増幅器から、前記ビームパス上に増幅光ビームを放出することであって、前記増幅光ビームは、デューティサイクルを有するとともに前記光増幅器から前記適応光学部品へと伝搬することと、
前記光増幅器の出力で前記増幅光ビームの特性を測定することであって、前記特性は、前記光増幅器と前記適応光学部品との間で測定されることと、
前記測定に基づいて前記増幅光ビームの特性を決定することと、
前記決定された特性に基づいて前記適応光学部品の構成を変更し、それにより前記増幅光ビームの前記デューティサイクルの変動にかかわらず前記増幅光ビームの前記特性を維持することと、
ターゲット材料を受け取るターゲット位置に前記増幅光ビームを提供し、極端紫外光を発生させることと、を含み、
前記増幅光ビームの特性を決定することが、前記増幅光ビームのパワーを測定すること、ビームサイズを決定すること、および、前記増幅光ビームのウェスト位置を決定すること、のうちの1つまたは複数を含む、方法。 - 極端紫外光を発生させるために使用される増幅光ビームの特性を維持するための方法であって、
ビームパス上に光増幅器を位置決めすることであって、前記光増幅器が前記ビームパス上に利得媒体を備えることと、
前記ビームパス上に適応光学部品を位置決めすることと、
前記光増幅器から、前記ビームパス上に増幅光ビームを放出することであって、前記増幅光ビームは、デューティサイクルを有するとともに前記光増幅器から前記適応光学部品へと伝搬することと、
前記光増幅器の出力で前記増幅光ビームの特性を測定することであって、前記特性は、前記光増幅器と前記適応光学部品との間で測定されることと、
前記測定に基づいて前記増幅光ビームの特性を決定することと、
前記決定された特性に基づいて前記適応光学部品の構成を変更し、それにより前記増幅光ビームの前記デューティサイクルの変動にかかわらず前記増幅光ビームの前記特性を維持することと、
ターゲット材料を受け取るターゲット位置に前記増幅光ビームを提供し、極端紫外光を発生させることと、を含み、
前記増幅光ビームの前記特性がビームウェスト位置を含み、
前記適応光学部品を調整して前記ビームウェスト位置を維持することが、前記適応光学部品を調整して前記ビームパスの長さを変化させることを含む、方法。 - 前記増幅光ビームが、前記ターゲット位置に提供される前に前記ビームパス上の第2の光増幅器に提供される、請求項4から6の何れか一項に記載の方法。
- 極端紫外(EUV)光源のためのシステムであって、
ビームパス上に位置決めされた利得媒体を備え、入力で光ビームを受け取り、かつ、出力でEUV光源のための出力光ビームを放出する光増幅器と、
センサを有するフィードバックシステムであって、前記センサは、前記光増幅器の前記出力で位置決めされるとともに、前光増幅器によって放出された前記出力光ビームを受け取るように位置決めされ、前記センサは、前記出力光ビームの特性を測定するとともに、前記測定された特性に基づいてフィードバック信号を生成する、フィードバックシステムと、
前記ビームパス内に位置決めされる適応光学部品であって、前記センサは、前記増幅器の前記出力と前記適応光学部品との間にあり、前記適応光学部品は、前記フィードバック信号を受け取るとともに、前記フィードバック信号に応答して前記出力光ビームの特性を調整する、適応光学部品と、を備え、
前記適応光学部品が、可変半径ミラー(VRM)を備える、システム。 - 極端紫外(EUV)光源のためのシステムであって、
ビームパス上に位置決めされた利得媒体を備え、入力で光ビームを受け取り、かつ、出力でEUV光源のための出力光ビームを放出する光増幅器と、
センサを有するフィードバックシステムであって、前記センサは、前記光増幅器の前記出力で位置決めされるとともに、前光増幅器によって放出された前記出力光ビームを受け取るように位置決めされ、前記センサは、前記出力光ビームの特性を測定するとともに、前記測定された特性に基づいてフィードバック信号を生成する、フィードバックシステムと、
前記ビームパス内に位置決めされる適応光学部品であって、前記センサは、前記増幅器の前記出力と前記適応光学部品との間にあり、前記適応光学部品は、前記フィードバック信号を受け取るとともに、前記フィードバック信号に応答して前記出力光ビームの特性を調整する、適応光学部品と、
第2の適応光学部品と、を備え、
前記適応光学部品および前記第2の適応光学部品が、それぞれ可変半径ミラー(VRM)を備える、システム。 - 前記フィードバックシステムが、前記出力光ビームのパワー、前記出力光ビームの形状、および、前記出力光ビームのサイズ、のうちの1つまたは複数を測定する、請求項8又は9に記載のシステム。
- 利得媒体を備える第2の光増幅器をさらに備え、
前記適応光学部品が、前記第2の光増幅器と前記光増幅器との間に位置決めされる、請求項8から10の何れか一項に記載のシステム。 - 前記ビームパス上かつ前記第2の光増幅器と前記光増幅器との間に、空間フィルタをさらに備える、請求項8から11の何れか一項に記載のシステム。
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