JP6658817B2 - ナノインプリント方法 - Google Patents
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Description
上記ナノインプリント方法において、前記硬化性樹脂の硬化前の表面自由エネルギーが、前記モールドの転写前後の表面自由エネルギーよりも小さい値であればよく、前記凹パターンの前記開口サイズが20nm以下であればよい。
2、22、32・・・樹脂
3・・・気体
42・・・液体
Claims (3)
- モールドに形成された凹凸の転写パターンを、被転写基板上に形成された硬化性樹脂に転写するナノインプリント方法であって、
前記転写パターンには、開口サイズが100nm以下の凹パターンが含まれており、
前記モールドに対する前記硬化性樹脂の接触角が40度以下であり、
前記硬化性樹脂の硬化前の表面自由エネルギーと前記モールドの表面自由エネルギーとが、25mJ/m2以上であり、
前記モールドの表面自由エネルギーの分散成分γd moldおよび極性成分γp moldの和により表わされる前記モールドの表面自由エネルギーをγmoldとし、硬化性樹脂の硬化後の表面自由エネルギーの分散成分γd resistおよび極性成分γp resistの和により表わされる硬化性樹脂の硬化後の表面自由エネルギーをγresistとした場合に、下記式により算出される前記モールドおよび硬化後の硬化性樹脂の付着エネルギーWmold/resistが、下記式により算出される付着エネルギーの最大値Wmold/resistmax未満となる硬化性樹脂を、前記凹パターンが転写される前記硬化性樹脂として用いることを特徴とするナノインプリント方法。
- 前記硬化性樹脂の硬化前の表面自由エネルギーが、前記モールドの転写前後の表面自由エネルギーよりも小さい値であることを特徴とする請求項1に記載のナノインプリント方法。
- 前記凹パターンの前記開口サイズが20nm以下であることを特徴とする請求項1または2に記載のナノインプリント方法。
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