JP6657043B2 - （ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート化合物及びその製造方法並びにこれを用いた（ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノール及び（ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエニル＝カルボキシレートの製造方法 - Google Patents

（ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート化合物及びその製造方法並びにこれを用いた（ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノール及び（ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエニル＝カルボキシレートの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6657043B2
JP6657043B2 JP2016160053A JP2016160053A JP6657043B2 JP 6657043 B2 JP6657043 B2 JP 6657043B2 JP 2016160053 A JP2016160053 A JP 2016160053A JP 2016160053 A JP2016160053 A JP 2016160053A JP 6657043 B2 JP6657043 B2 JP 6657043B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
methyl
isopropyl
compound
reaction
acid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2016160053A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2017039717A (ja
Inventor
金生　剛
剛 金生
尚樹 石橋
尚樹 石橋
晋之介 若森
晋之介 若森
美与志 山下
美与志 山下
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Publication of JP2017039717A publication Critical patent/JP2017039717A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6657043B2 publication Critical patent/JP6657043B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C69/52—Esters of acyclic unsaturated carboxylic acids having the esterified carboxyl group bound to an acyclic carbon atom
    • C07C69/587—Monocarboxylic acid esters having at least two carbon-to-carbon double bonds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C29/00—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring
    • C07C29/132—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring by reduction of an oxygen containing functional group
    • C07C29/136—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring by reduction of an oxygen containing functional group of >C=O containing groups, e.g. —COOH
    • C07C29/14—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring by reduction of an oxygen containing functional group of >C=O containing groups, e.g. —COOH of a —CHO group
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C29/00—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring
    • C07C29/132—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring by reduction of an oxygen containing functional group
    • C07C29/136—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring by reduction of an oxygen containing functional group of >C=O containing groups, e.g. —COOH
    • C07C29/147—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring by reduction of an oxygen containing functional group of >C=O containing groups, e.g. —COOH of carboxylic acids or derivatives thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C67/00—Preparation of carboxylic acid esters
    • C07C67/08—Preparation of carboxylic acid esters by reacting carboxylic acids or symmetrical anhydrides with the hydroxy or O-metal group of organic compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C67/00—Preparation of carboxylic acid esters
    • C07C67/30—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group
    • C07C67/317—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group by splitting-off hydrogen or functional groups; by hydrogenolysis of functional groups
    • C07C67/327—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group by splitting-off hydrogen or functional groups; by hydrogenolysis of functional groups by elimination of functional groups containing oxygen only in singly bound form
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C67/00—Preparation of carboxylic acid esters
    • C07C67/39—Preparation of carboxylic acid esters by oxidation of groups which are precursors for the acid moiety of the ester
    • C07C67/40—Preparation of carboxylic acid esters by oxidation of groups which are precursors for the acid moiety of the ester by oxidation of primary alcohols

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

本発明は、合成香料としてまたは有機合成化学における合成中間体として有用な（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート化合物及びその製造方法並びに（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノールの製造方法に関する。また、昆虫の性フェロモン及びその関連の物質等の生物活性物質として有用な（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエニル＝カルボキシレートの製造方法に関する。例えば、Ｄｙｓｍｉｃｏｃｃｕｓ ｎｅｏｂｒｅｖｉｐｅｓ（一般名：Ｇｒｅｙ Ｐｉｎｅａｐｐｌｅ Ｍｅａｌｙｂｕｇ）の性フェロモンである（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエニル＝アセテートの製造方法に関する。
昆虫の性フェロモンは、通常、雌個体が雄個体を誘引する機能をもつ生物活性物質であり、少量で高い誘引活性を示す。性フェロモンは、発生予察や地理的な拡散（特定地域への侵入）の確認の手段として、また、害虫防除の手段として広く利用されている。害虫防除の手段としては、大量誘殺法（Ｍａｓｓ ｔｒａｐｐｉｎｇ）、誘引殺虫法（Ｌｕｒｅ ＆ ｋｉｌｌまたはＡｔｔｒａｃｔ ＆ ｋｉｌｌ）、誘引感染法（Ｌｕｒｅ ＆ ｉｎｆｅｃｔまたはＡｔｔｒａｃｔ ＆ ｉｎｆｅｃｔ）や交信撹乱法（Ｍａｔｉｎｇ ｄｉｓｒｕｐｔｉｏｎ）と呼ばれる防除法が広く実用に供されている。性フェロモンの利用にあたっては必要量のフェロモン原体を経済的に製造することが、基礎研究のために、更には、応用のために必要とされる。
Ｄｙｓｍｉｃｏｃｃｕｓ ｎｅｏｂｒｅｖｉｐｅｓ（一般名：Ｇｒｅｙ Ｐｉｎｅａｐｐｌｅ Ｍｅａｌｙｂｕｇ、以下、「ＧＰＭＢ」と略する。）は、熱帯や亜熱帯地域に広く分布し、種々の作物に被害を与えるため、経済的に非常に重要な害虫である。ＧＰＭＢは、近年その分布が広がっており地理的な拡散の確認も重要となっている。Ｔａｂａｔａらは、ＧＰＭＢの性フェロモンが（＋）−（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエニル＝アセテートであると同定した。更に、Ｔａｂａｔａらは合成品を用いた誘引試験において、（±）−（Ｅ）−体である（±）−（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエニル＝アセテートに対し、対応する幾何異性体（Ｇｅｏｍｅｔｒｉｃ ｉｓｏｍｅｒ）の（±）−（Ｚ）−体である（±）−（Ｚ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエニル＝アセテートの誘引性が低いことを明らかにした。次いで、幾何異性体を分離して得た（±）−（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエニル＝アセテートを光学分割した試料を用いて、（＋）−（Ｅ）−体が天然フェロモンと同様の誘引活性を示し、対応する光学異性体（対掌体、Ａｎｔｉｐｏｄｅ）である（−）−（Ｅ）−体、すなわち、（−）−（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエニル＝アセテートは、（＋）−（Ｅ）−体の半分程度の誘引性を有することを報告した（非特許文献１）。
ＧＰＭＢの性フェロモンの基礎的な生物学的研究や農学的研究のためにこの化合物の選択的な製造方法が望まれている。また、応用や実用に供する目的には十分量のフェロモン原体の供給が可能な効率的な製造方法が強く望まれている。
ＧＰＭＢの性フェロモン合成例としては、非特許文献１において、ジエチル＝イソプロピルマロネートを出発原料とし、２−ホルミル−３−メチルブチル＝アセテートと２−メチルプロペニルトリフェニルホスホニウム＝ブロミドから得られるイリド試薬とのＷｉｔｔｉｇ反応を最終工程とした４工程での合成が挙げられる。
また、Ａ．Ｋａｕｆｍａｎｎらには、Ｈ．Ｌ．Ｓｉｍｏｎらによる香料であるラバンジュロール（Ｌａｖａｎｄｕｌｏｌ）の異性体の合成として、２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート及び２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノールの合成が記載されている（非特許文献２）。
Ｊ．Ｔａｂａｔａら、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｅｃｏｌ．，４１，１９４（２０１５） Ａ．Ｋａｕｆｍａｎｎら、Ｈｅｌｖ．Ｃｈｉｍ．Ａｃｔａ，２９，１１３３（１９４６）
しかし、非特許文献１に記載された合成は、短工程であるものの、最終工程のＷｉｔｔｉｇ反応による生成物は、目的物である（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエニル＝アセテートと対応する（Ｚ）−異性体の９：１の比の混合物となる。これらの分離には、工業的には実施しにくい硝酸銀をコートしたシリカゲルカラムを用いた高速液体クロマトグラフィーを用いており、大量の目的物の（Ｅ）−体の合成には大きな困難を伴う。また、非特許文献２に記載された合成は、当時の分析技術や構造決定手法のため、合成した化合物の二重結合の位置や幾何については不明な点が多い。
本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、幾何異性体と光学異性体の誘引活性を踏まえ、生物学的研究、農学的研究や実際の応用や利用等に必要な十分量のＧＰＭＢの性フェロモン（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエニル＝アセテートの（±）−体の幾何選択的な製造方法を提供する。また、ＧＰＭＢフェロモンの合成中間体として有用な（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート化合物及びその製造方法を提供する。更に、ラバンジュロール（Ｌａｖａｎｄｕｌｏｌ）の異性体の一つで香料等として有用な（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノールの製造方法を提供することを目的とする。
本発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート化合物が高い選択性で合成できることを見出した。また、この化合物を中間体として、（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノール、更には（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエニル＝カルボキシレート化合物を選択的、かつ効率的に合成できることを見出し、本発明を完成させたものである。
本発明の一つの態様では、下記一般式（２）で表される（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート化合物が提供される。
本発明の別の態様では、下記一般式（１）で表される３−ヒドロキシ―２−イソプロピル−５−メチル−４−ヘキセノエート化合物を脱水反応することにより、下記一般式（２）で表される（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート化合物を得る工程を少なくとも含む（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート化合物の製造方法が提供される。
本発明の他の態様では、下記一般式（１）で表される３−ヒドロキシ―２−イソプロピル−５−メチル−４−ヘキセノエート化合物を脱水反応することにより、下記一般式（２）で表される（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート化合物を得る工程と、得られた（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート化合物のアルコキシカルボニル基を還元することにより、下記式（３）で表される（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノールを得る工程を少なくとも含む（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノールの製造方法を提供する。
本発明の他の態様では、記一般式（１）で表される３−ヒドロキシ―２−イソプロピル−５−メチル−４−ヘキセノエート化合物を脱水反応することにより、下記一般式（２）で表される（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート化合物を得る工程と、得られた（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート化合物のアルコキシカルボニル基を還元することにより、下記式（３）で表される（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノールを得る工程と、得られた（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノールをエステル化して、下記一般式（４）で表される（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエニル＝カルボキシレート化合物を得る工程を少なくとも含む（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエニル＝カルボキシレート化合物の製造方法を提供する。
Figure 0006657043
上式中、Ｒａは炭素数１〜１５の一価の炭化水素基を表し、Ｒｂは炭素数１〜１５の一価の炭化水素基を表す。
本発明によれば、３−ヒドロキシ―２−イソプロピル−５−メチル−４−ヘキセノエート化合物（１）を原料として、中間体として有用な（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート化合物（２）を高い選択性を持って得ることができる。また、この（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート化合物（２）を用いて（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノール（３）及び（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエニル＝カルボキシレート化合物（４）を選択的、かつ効率的に合成することができる。
本明細書中の中間体、試薬や目的物の化学式において、構造上、置換位置の異なる異性体や、エナンチオ異性体（Ｅｎａｎｔｉｏｍｅｒ）あるいはジアステレオ異性体（Ｄｉａｓｔｅｒｅｏｍｅｒ）等の立体異性体が存在し得るものがあるが、特に記載がない限り、いずれの場合も各化学式はこれらの異性体のすべてを表すものとする。また、これらの異性体は、単独で用いてもよいし、混合物として用いてもよい。
本発明者らは、（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエニル＝カルボキシレート化合物（４）、例えば、ＧＰＭＢのフェロモン（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエニル＝アセテートの合成にあたり、中間体として（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート化合物（２）を想定した。この化合物は、還元により香料として興味が持たれる（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノール（３）に変換でき、更にこれをエステル化することにより、（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエニル＝カルボキシレート化合物（４）が合成可能となる。中間体（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート化合物（２）は、公知の方法で得られる３−ヒドロキシ―２−イソプロピル−５−メチル−４−ヘキセノエート化合物（１）を脱水した構造を有するものの一つである。３−ヒドロキシ―２−イソプロピル−５−メチル−４−ヘキセノエート化合物（１）を脱水する場合、水酸基とともに脱離する水素原子は、２−位の水素原子Ｈａ（１，２−脱離反応）と、６−位の水素原子及び５−位のメチル基上の水素原子の計６個のＨｂ（１，４−脱離反応）の１つの２通りが考えられる。そして、生成物中の二重結合の幾何異性が存在するため、骨格転位や二重結合の位置の転位を伴わないとすれば、脱水反応により以下の４種類の生成物が得られると考えられる。下記反応式において、点線で囲った生成物がＨａを脱離する場合の生成物であり、実線で囲った生成物がＨｂを脱離する場合の生成物である。下記反応式において、Ｒａは炭素数１〜１５の一価の炭化水素基を表す。
Figure 0006657043
本発明者らは、３−ヒドロキシ―２−イソプロピル−５−メチル−４−ヘキセノエート化合物の種々の条件下での脱水反応におけるこれらの異性体の生成比に興味を持ち、検討した結果、驚くべきことに、様々な脱水条件下において、１，４−脱離反応、すなわち、Ｈｂの脱離が優先して起こり、しかも生成物としてＥの二重結合をもつ（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート化合物（２）が高い選択性で生成することを見出した。
以下、本発明の実施の形態を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
本発明の出発原料である３−ヒドロキシ―２−イソプロピル−５−メチル−４−ヘキセノエート化合物は、下記一般式（１）で表される。
Figure 0006657043
Ｒａは、炭素数１〜１５の一価の炭化水素基、好ましくは１〜１０の一価の炭化水素基である。一価の炭化水素基として、後の工程において支障のない任意の基を選択でき、不飽和結合を含んでもよい鎖状、分岐状または環状の炭化水素基が挙げられる。一価の炭化水素基の好ましい例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ビニル基、１−プロぺニル基、アリル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、１−ペンテニル基、２−ペンテニル基、５−ヘキセニル基、１−ヘプテニル基、９−デセニル基、１，３−ブタンジエニル基、１，３−ペンタジエニル基、１，５−ヘキサジエニル基、エチニル基等の直鎖状炭化水素基、イソプロピル基、２−エチルプロピル基、ｔ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−アミル基、ネオペンチル基、１−メチルブチル基、１−プロピルブチル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル基、１−メチルペンチル基、１−エチルペンチル基、イソプロペニル基、１−メチル−１−プロぺニル基、２−メチル−１−プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基、１−メチル−１−ブテニル基、１，１−ジメチル−３−ブテニル基、１−エチル−１−ペンテニル基、２，６−ジメチル−５−ヘプテニル基、２，６−ジメチル−１，５−ヘプタジエニル基、２，６−ジメチル−１，６−ヘプタジエニル基、６−メチル−２−メチレン−５−ヘプテニル基、６−メチル−２−メチレン−６−ヘプテニル基、４−メチル−１−ペンテニル−３−ペンテニル基、１−イソプロピリデン−４−メチル−３−ペンテニル基等の分岐状炭化水素基、シクロプロピル基、２−メチルシクロプロピル基、２，２，３，３−テトラメチルシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロペンチルメチル基、２−シクロペンチルエチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、ジシクロヘキシルメチル基、２−シクロヘキシルエチル基、３−シクロヘキシルプロピル基、４−シクロヘキシルブチル基、１−メチルシクロヘキシル基、２−メチルシクロヘキシル基、３−メチルシクロヘキシル基、４−メチルシクロヘキシル基、シクロヘプチル基、ノルボルニル基、ノルボルニルメチル基、イソボルニル基、メンチル基、フェンキル基、アダマンチル基、１−シクロペンテニル基、２−シクロペンテニル基、１−シクロヘキセニル基、１−メチル−２−シクロヘキセニル基、２−メチル−２，５−ジシクロヘキサジエニル基、フェニル基、ベンジル基、１−フェニルシクロプロピル基、２−フェニルシクロプロピル基、１−フェニルシクロペンチル基、１−フェニルエチル基、２−フェニルエチル基、１−メチル−２−フェニルエチル基、１−フェニルプロピル基、２−フェニルプロピル基、３−フェニルプロピル基、４−フェニルブチル基、１，２，３，４−テトラヒドロ―２−ナフチル基、２−フェニルエテニル基、３−フェニル―２−プロペニル基、１−メチル−３−フェニルエテニル基、ｐ−トリル基、ｍ−トリル基、ｏ−トリル基、４−エチルフェニル基、４−プロピルフェニル基、４−イソプロピルフェニル基、４−ブチルフェニル基、４−ｔ−ブチルフェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基等の環状炭化水素基等が挙げられる。これらの置換基は、精製が必要な場合に化合物の沸点、極性等を調整する等の目的で適切なもの選択できる。これらの置換基のうち、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基、２−エチルプロピル基、ｔ−ブチル基、ベンジル基は、原料の入手しやすさや、（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノール（３）を得る際の還元反応で失われ、最終的な目的物である（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエニル＝カルボキシレート（４）には含まれないのでアトム＝エコノミーの点から特に好ましい。
３−ヒドロキシ―２−イソプロピル−５−メチル−４−ヘキセノエート化合物（１）の合成方法としては、例えば、２−イソプロピル−３−ケト―５−メチル−４−ヘキセノエート化合物の３−位のカルボニル基を水酸基へと還元する方法、イソバレレート化合物から調製したエノレート化合物またはその等価体（シリルケテンアセタール化合物等）と３−メチル−２−ブテナールとのアルドール（Ａｌｄｏｌ）反応を利用する方法等を挙げることができる。
Figure 0006657043
３−ヒドロキシ―２−イソプロピル−５−メチル−４−ヘキセノエート化合物（１）には不斉炭素原子が２個存在するため、ジアステレオ異性体（Ｄｉａｓｔｅｒｅｏｍｅｒ）が存在する。下記一般式で表されるｓｙｎ−（１）、ａｎｔｉ−（１）のいずれを用いても、後述するように同一の目的物（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート化合物が得られるので、その立体選択性は考慮しなくてよい、すなわち、選択的に一方を与える条件でもよいし、任意の割合の混合物を与える条件でもよい。
Figure 0006657043
３−ヒドロキシ―２−イソプロピル−５−メチル−４−ヘキセノエート化合物（１）の脱水反応による（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート化合物（２）の合成について述べる。
脱水反応は、種々の条件を適用し得るが、基本的には水酸基を有する化合物（１）を脱離基Ｘを有する中間体（１ｘ）に変換し、次いで、中間体（１ｘ）からのＨＸを脱離させる工程である。
Figure 0006657043
式中、Ｒａは上記と同様である。
中間体（１ｘ）は不安定な反応遷移状態の中間体である場合もあるし、単離できる安定な化合物である場合もある。後者の場合、中間体（１ｘ）は単離せずそのまま脱離に用いてもよいし、段階的に中間体（１ｘ）を単離した後に脱離に供してもよい［段階的脱水反応（Ｓｔｅｐｗｉｓｅ ｄｅｈｙｄｒａｔｉｏｎ）］。また、（１ｘ）はアリル転位により、二重結合と置換基Ｘの位置が動いた中間体（１ｘｒ）であってもよい。
Figure 0006657043
化合物（１）の脱水反応としては、（ｉ）酸を用いる脱水反応、（ii）脱水剤を用いる脱水反応を挙げることができる。
酸を用いる脱水反応（ｉ）において、中間体（１ｘ）中の置換基Ｘは、プロトン酸やルイス酸で活性化された水酸基である。例えば、用いる酸がプロトン酸の場合は、Ｘはプロトン化された水酸基、すなわち、Ｘ＝Ｈ２Ｏ＋である。通常、酸を用いる脱水反応の場合、中間体（１ｘ）は単離せず、直接（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート化合物（２）が得られる。
酸を用いる脱水反応（ｉ）に用いる酸としては、例えば、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硫酸、硝酸、ホウ酸、リン酸等の無機酸類またはこれらの塩類（例えば、硫酸水素カリウム等）、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、シュウ酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸等の有機酸類またはこれらの塩類、三塩化アルミニウム、アルミニウム＝エトキシド、アルミニウム＝イソプロポキシド、酸化アルミニウム、三フッ化ホウ素、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素、塩化マグネシウム、臭化マグネシウム、ヨウ化マグネシウム、塩化亜鉛、臭化亜鉛、ヨウ化亜鉛、四塩化錫、四臭化錫、二塩化ジブチル錫、ジブチル錫＝ジメトキシド、ジブチル錫＝オキシド、四塩化チタン、四臭化チタン、チタン（ＩＶ）メトキシド、チタン（ＩＶ）＝エトキシド、チタン（ＩＶ）＝イソプロポキシド、酸化チタン（ＩＶ）等のルイス酸（Ｌｅｗｉｓ ａｃｉｄ）類、アルミナ、シリカゲル、チタニア等の酸化物類を挙げることができる、これらは単独または混合して用いられる。
酸を用いる脱水反応（ｉ）における酸の使用量は、経済性の点からは少量の酸が好ましく、実用上十分な反応速度が得られれば任意に設定できるが、基質の化合物（１）１モルに対して好ましくは０．０００１モルから１０，０００モル、より好ましくは０．００１モルから１，０００モル、更に好ましくは０．００１モルから１００モルである。
脱水剤を用いる脱水反応（ii）においては、一般に脱水剤として用いられる種々の公知の試薬から選択して用いることができる。前述のように、中間体（１ｘ）は単離せずそのまま脱離に用いてもよいし、段階的に中間体（１ｘ）を単離した後に脱離に供してもよい。中間体（１ｘ）中の置換基Ｘとしては、ＨＸが酸性化合物を構成するＸを挙げることができる。置換基Ｘとして、具体的には、ハロゲン原子［構成されるＨＸとして、ハロゲン化水素酸（フッ化水素酸、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸）]、アシロキシ基（ＨＸとしてカルボン酸）、置換または無置換フェノキシ基（ＨＸとしてフェノール）、スルホニルオキシ基［ＨＸとしてスルホン酸（アルカンスルホン酸、アレーンスルホン酸、ハロスルホン酸、アルコキシスルホン酸等の置換スルホン酸を含む）］、スルフィニルオキシ基［ＨＸとしてスルフィン酸（アルカンスルフィン酸、アレーンスルフィン酸、ハロスルフィン酸、アルコキシスルフィン酸等の置換スルフィン酸を含む）］、ホスホリルオキシ基（ＨＸとしてリン酸（置換及び無置換リン酸を含む）］、ホスフィリルオキシ基［（ＨＸとして亜リン酸（置換及び無置換亜リン酸を含む）］等が好ましく例示できる。
脱水剤の好ましい例としては、Ｘがハロゲン原子である中間体（１ｘ）を与えるものとして、チオニル＝ハライド（ここでのハライドとは、フルオリド、クロリド、ブロミドまたはヨージドを表す。以下、同様である。）、メトキシスルホニル＝ハライド、ホスホラス＝ハライド（三臭化リン等）、ホスホラス＝オキシハライド（オキシ塩化リン等）、アルカンスルホニル＝ハライド（メタンスルホニル＝ハライド、トリフルオロメタンスルホニル＝ハライド等）、アレーンスルホニル＝ハライド（ベンゼンスルホニル＝ハライド、トルエンスルホニル＝ハライド、ナフタレンスルホニル＝ハライド等）、ハロゲン（ヨウ素等）等が挙げられ、Ｘがアシロキシ基である中間体（１ｘ）を与えるものとして、アシル＝ハライド（アセチル＝ハライド、ベンゾイル＝ハライド等）、無水カルボン酸（無水酢酸、無水フタル酸等）等が挙げられ、Ｘが置換または未置換のスルホニルオキシ基またはスルフィニルオキシ基を与えるものとして、チオニル＝ハライド、メトキシスルホニル＝ハライド、アルカンスルホニル＝ハライド（メタンスルホニル＝ハライド、トリフルオロメタンスルホニル＝ハライド等）、アレーンスルホニル＝ハライド（ベンゼンスルホニル＝ハライド、トルエンスルホニル＝ハライド、ナフタレンスルホニル＝ハライド等）、無水アルカンスルホン酸（無水メタンスルホン酸、無水トリフルオロメタンスルホン酸等）、無水アレーンスルホン酸（無水ベンゼンスルホン酸、無水ｐ−トルエンスルホン酸等）等が挙げられ、Ｘが置換または未置換のホスホリルオキシ基またはホスフィリルオキシ基を与えるものとして、ホスホラス＝ハライド（三臭化リン等）、ホスホラス＝オキシハライド（オキシ塩化リン等）、ホスホラス＝オキシド（ホスホラス＝ペントキシド等）、メチルトリフェノキシホスホニウム＝ハライド、無機リン酸または亜リン酸の無水物（五酸化二リン、ポリリン酸等）、等が挙げられる。また、その他の脱水剤として、アリール＝イソシアナート（フェニルイソシアナート等）、Ｎ−ハロアミド（Ｎ−ブロモアセトアミド等）、Ｎ−ハロイミド（Ｎ−ブロモスクシンイミド等）、イオン交換樹脂（Ａｍｂｅｒｌｉｔｅ ＩＲＣ−５０等）、置換カルボジイミド（ジシクロヘキシルカルボジイミド等）、無機塩（硫酸水素カリウム、水酸化カリウム、硫酸銅、酢酸ナトリウム、フロリジル等）、ジメチル＝スルホキシド、ヘキサメチルホスホリック＝トリアミド等が挙げられる。
脱水剤を用いる脱水反応（ii）における脱水剤の使用量は、基質や脱水剤の種類によって種々ことなるが、基質の化合物（１）１モルに対して好ましくは０．０００１モルから１０，０００モル、より好ましくは０．００１モルから１，０００モル、更に好ましくは０．００１モルから１００モルである。
なお、上記脱水剤の例示の中で複数回挙げたものは、中間体（１ｘ）中の脱離基Ｘが必ずしも一種類とは限らず、それぞれの境界は必ずしも明確でなく、その区別は重要ではないからである。例えば、脱水剤が無水酢酸の場合には、中間体（１ｘ）に対応する化合物は水酸基がアセチル化された中間体（１ｘａ）であり、脱離基Ｘはアセチルオキシ基であり、酢酸（ＨＸに当たる）が脱離すると言うことができる。また、例えば、脱水剤が塩化チオニルの場合には、中間体（１ｘ）に対応する化合物はクロロスルフィン酸エステル（１ｘｂ）、亜硫酸エステル（１ｘｃ）、塩化物（１ｘｄ）のいずれでもよく、これら中間体（１ｘｂ）〜（１ｘｄ）が、熱的にあるいは塩基性条件下での対応するＨＸの脱離反応によって、反応全体として脱水反応が進行して最終的に目的の化合物（２）が得られればよい。したがって、実際の反応中間体が（１ｘｂ）〜（１ｘｄ）のいずれであってもよく、あるいは、（１ｘａ）〜（１ｘｄ）は、上述の様に対応するアリル転位により二重結合と置換基Ｘの位置が動いた中間体であってもよい。実際の中間体がいずれの構造を有するかが重要でなく、結果的に目的の化合物（２）を与えるものであればいずれであってもよい。また、これらの脱水剤を段階的脱水反応の一段階目、すなわち、化合物（１）から中間体（１ｘ）への変換のための反応試薬として用いてもよい。
Figure 0006657043
脱水剤を用いる脱水反応（ii）においては、上記脱水剤を塩基と組み合わせて行っても良い。塩基としては、例えば、ナトリウム＝メトキシド、ナトリウム＝エトキシド、ナトリウム＝ｔ−ブトキシド、ナトリウム＝ｔ−アミロキシド、リチウム＝メトキシド、リチウム＝エトキシド、リチウム＝ｔ−ブトキシド、リチウム＝ｔ−アミロキシド、カリウム＝メトキシド、カリウム＝エトキシド、カリウム＝ｔ−ブトキシド、カリウム＝ｔ−アミロキシド等のアルコキシド類、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム等の水酸化物塩類、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の炭酸塩類（これらとハロゲン化物塩や過塩素酸塩等を組み合わせてもよい）、メチルリチウム、エチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、塩化メチルマグネシウム、ジムシルナトリウム等の有機金属試薬、ナトリウム＝アミド、リチウム＝アミド、リチウム＝ジイソプロピルアミド、リチウム＝ヘキサメチルジシラジド、ナトリウム＝ヘキサメチルジシラジド、リチウム＝ジシクロヘキシルアミド等の金属アミド類、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化カルシウム等の水素化金属類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、キノリン、ピロリジン、ピペリジン、コリジン、ルチジン、モルホリン、ピペラジン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン（ＤＢＮ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、トリメチル＝ホスファイト等の有機塩基類、テトラエチルアンモニウム＝クロリド、テトラブチルアンモニウム＝ブロミド、テトラブチルホスホニウム＝ブロミド等の四級オニウム塩を挙げることができる。これらの塩基は単独で用いても複数の塩基を混合して用いてもよく、基質の種類や反応性や選択性を考慮して選択できる。
脱水剤を用いる脱水反応（ii）における塩基の使用量は、基質や塩基の種類によって種々ことなるが、基質の化合物（１）１モルに対して好ましくは０．０００１モルから１０，０００モル、より好ましくは０．００１モルから１，０００モル、更に好ましくは０．００１モルから１００モルである。
塩基の種類や反応条件によっては、副反応のレトロ−アルドール（ｒｅｔｒｏ−Ａｌｄｏｌ）反応がわずかながら競争的に起こる場合があり得るため、この副反応が少なく、かつ目的の反応の割合が大きくなるように塩基や反応条件を選択することが好ましい。また、塩基としてアルコキシド類を選択する場合、基質の化合物中の置換基ＣＯ２Ｒａに対応するＲａＯ−を含むアルコキシドを使用すると、エステル交換による反応系の複雑化を避けることができて好ましい。また、これらの塩基は段階的脱水反応の第二工程、すなわち、中間体（１ｘ）の化合物（２）への変換のための反応試薬としても好ましい。
化合物（１）の脱水反応は、無溶媒または溶媒中、室温または必要に応じて冷却または加熱する等して実施することができる。
脱水反応に用いる溶媒としては、例えば、水、液体アンモニア、メタノール、エタノール等のアルコール類、ジエチル＝エーテル、ジ−ｎ−ブチル＝エーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン等の炭化水素類、アセトン、２−ブタノン等のケトン類、ギ酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸ｎ−アミル等のエステル類、Ｎ，Ｎ-ジメチルホルムアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ジメチル＝スルホキシド、ヘキサメチルホスホリック＝トリアミド等の非プロトン性極性溶媒類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、ピリジン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、アニリン、ジメチルアニリン等のアミン類を挙げることができ、これらを単独または混合して用いることができる。
脱水反応に用いる溶媒の使用量は、基質１００部に対して、好ましくは０．０１部から１００，０００部、より好ましくは０．１部から１０，０００部、更に好ましくは１部から１，０００部である。また、溶媒としてアルコール類を選択する場合、基質の化合物中の置換基ＣＯ２Ｒａに対応するアルコールＲａＯＨを使用するか、求核性の低い三級アルコールを使用するとエステル交換による反応系の複雑化を避けることができて好ましい。
化合物（１）の脱水反応の反応温度と反応時間は任意に設定できるが、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）や薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）で反応の進行を追跡して反応を十分進行させることが好ましい。反応温度は、好ましくは０℃から溶媒の沸点温度、より好ましくは１０℃から１００℃であり、反応時間は、通常５分間から２４０時間である。段階的脱水反応の第二工程は、中間体（１ｘ）の種類によっては溶媒中または無溶媒で（１ｘ）を加熱するだけで進行させることもできる。また、生成する水を溶媒との共沸（Ａｚｅｏｔｒｏｐｅ）により系外に除去して反応を加速するのもよい方法である。
３−ヒドロキシ―２−イソプロピル−５−メチル−４−ヘキセノエート化合物（１）の脱水反応による（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート化合物（２）の合成では、上記種々の脱水反応条件から適切な条件を選択することで、工業的に実施するのに十分な選択性や収率で化合物（２）が得られることが知見された。この際、生成物として比較的安定と考えられるα，β-不飽和エステル、すなわち、２−イソプロピル−５−メチル−２，４−ヘキサジエノレート及び化合物（２）の幾何異性体である（Ｚ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート化合物が、ほとんど生成しない点は特筆すべきである。更に、化合物（１）の立体異性体であるｓｙｎ−体とａｎｔｉ−体はいずれも同一の目的物を与える点、すなわち、立体に関し収束的（Ｓｔｅｒｅｏｃｈｅｍｉｃａｌｌｙ ｃｏｎｖｅｒｇｅｎｔ）であって、立体特異的（Ｓｔｅｒｅｏｓｐｅｃｉｆｉｃ）でない点も、化合物（１）の立体異性体の作り分けが不要であり、工業的な価値が高い。これらの点における高い選択性は、２−位の置換基であるイソプロピル基が嵩高いこと、反応遷移状態と考えられるカルボカチオンのうち３−位の二重結合の幾何がＥで、かつ、５−位にカチオンが位置するカルボカチオン中間体が安定であること等が理由と考えることができる。この３−位の二重結合の幾何がＥである５−位のカルボカチオンの存在は、実施例に示すように５-位が水和された（Ｅ）−５−ヒドロキシ―２−イソプロピル−３−ヘキセノエート化合物が生じ単離できる場合があることによっても支持されると考えられる。なお、生じた（Ｅ）−５−ヒドロキシ―２−イソプロピル−３−ヘキセノエート化合物も、３−ヒドロキシ―２−イソプロピル−５−メチル−４−ヘキセノエート化合物（１）と同様に脱水反応の基質として用いることができる。
Figure 0006657043
また、実施例７において詳述するが、井上らにおける３−ヒドロキシ−２，５−ジメチル−４−ヘキセノエート化合物[３−ヒドロキシ―２−イソプロピル−５−メチル−４−ヘキセノエート化合物（１）の２−位の嵩高い置換基であるイソプロピル基が、メチル基に置き換わった化合物]から、２−メチル−５−メチル−２，４−ヘキサジエノレート化合物が得られる条件と同様の脱水反応条件で、３−ヒドロキシ―２−イソプロピル−５−メチル−４−ヘキセノエート化合物（１）を脱水反応すると、（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート化合物（２）が得られることから、基質の２−位の構造がその脱水反応の選択性に大きな影響を与えていることが示唆される。
上記の脱水反応で得られた目的の（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート化合物（２）は、十分な純度を有している場合には、粗生成物のまま次の工程に用いてもよいが、蒸留、各種クロマトグラフィー、再結晶等の通常の有機合成化学における精製方法から適宜選択して精製してもよい。
次に、得られた（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート化合物（２）の還元反応による（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノール（３）の合成について述べる。
Figure 0006657043
（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート化合物（２）は、そのまま後述の還元反応により（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノール（３）に導くことができる。別法として（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエン酸にした後、還元反応に供することもできる。先に、（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート化合物（２）の（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエン酸への変換について述べる。
（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート化合物（２）の（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエン酸への変換には、公知のエステルからカルボン酸への変換反応を適用できる。例えば、塩基性または中性条件での加水分解反応、酸性条件での脱離反応を挙げることができる。加水分解反応は基質のエステル中のＲａが一級または二級炭化水素基である場合に好ましく、酸性条件下での脱離反応はＲａが三級炭化水素基である場合に好ましい。加水分解反応の場合には、通常、溶媒中塩基または塩類を用いて、溶媒中の水または水を後で添加して反応させる。脱離反応の場合には、通常、溶媒中酸を用いる。いずれも必要に応じて冷却または加熱して反応させてもよい。
加水分解反応に用いる塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム等の水酸化物塩類（好ましくは金属水酸化物、より好ましくはアルカリ金属水酸化物またはアルカリ土類金属水酸化物）、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の炭酸塩類（好ましくはアルカリ金属炭酸塩またはアルカリ金属重炭酸塩）、ナトリウム＝メトキシド、ナトリウム＝エトキシド、ナトリウム＝ｔ−ブトキシド、ナトリウム＝ｔ−アミロキシド、リチウム＝メトキシド、リチウム＝エトキシド、リチウム＝ｔ−ブトキシド、リチウム＝ｔ−アミロキシド、カリウム＝メトキシド、カリウム＝エトキシド、カリウム＝ｔ−ブトキシド、カリウム＝ｔ−アミロキシド等のアルコキシド類（好ましくは金属アルコキシド、より好ましくはアルカリ金属アルコキシド）を挙げることができる。
加水分解に用いる塩類としては、例えば、ヨウ化リチウム、臭化リチウム、ヨウ化トリメチルシリル、臭化トリメチルシリル等のハロゲン化物類（好ましくはアルカリ金属ハロゲン化物）を挙げることができる。
脱離反応に用いる酸としては、例えば、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硫酸、硝酸、ホウ酸、リン酸等の無機酸類またはこれらの塩類（例えば硫酸水素カリウム等）、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、シュウ酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸等の有機酸類またはこれらの塩類、三塩化アルミニウム、アルミニウム＝エトキシド、アルミニウム＝イソプロポキシド、酸化アルミニウム、三フッ化ホウ素、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素、四塩化錫、四臭化錫、二塩化ジブチル錫、ジブチル錫＝ジメトキシド、ジブチル錫＝オキシド、四塩化チタン、四臭化チタン、チタン（ＩＶ）＝メトキシド、チタン（ＩＶ）＝エトキシド、チタン（ＩＶ）＝イソプロポキシド、酸化チタン（ＩＶ）等のルイス酸（Ｌｅｗｉｓ ａｃｉｄ）類、アルミナ、シリカゲル、チタニア等の酸化物類を挙げることができ、これらは単独または混合して用いられる。
加水分解反応または脱離反応に用いる溶媒としては、例えば、水、メタノール、エタノール、イソプロピル＝アルコール、ｔ−ブチル＝アルコール、ベンジル＝アルコール、メトキシエタノール、エトキシエタノール、ジエチレングリコール＝モノメチル＝エーテル、トリエチレングリコール＝モノメチル＝エーテル等のアルコール類、エーテル（ジエチル＝エーテル）、ジ−ｎ−ブチル＝エーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン等の炭化水素類、Ｎ，Ｎ-ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン（ＤＭＩ）、ジメチル＝スルホキシド（ＤＭＳＯ）、ヘキサメチルホスホリック＝トリアミド（ＨＭＰＡ）等の非プロトン性極性溶媒類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類を挙げることができ、これらを単独または混合して用いることができる。
加水分解反応または脱離反応における反応温度と反応時間は任意に設定できるが、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）や薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）で反応の進行を追跡して反応を十分進行させるのがよく、反応温度は好ましくは−７８℃から溶媒の沸点温度、より好ましくは−１０℃から１００℃であり、反応時間は、通常５分間から２４０時間である。
反応の後処理、目的物の単離や精製は、減圧蒸留や各種クロマトグラフィー等の通常の有機合成における精製方法から便宜選択して用いることができる。また、目的物が十分な純度を有している場合には、粗生成物のまま次の工程に用いてもよい。
次に、上記（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート化合物（２）または（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエン酸を還元して、（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノール（３）に導く工程について述べる。
この還元反応には、公知のカルボン酸エステルまたはカルボン酸からアルコールへの還元反応を適用できる。還元反応は、通常溶媒中、必要に応じて冷却または加熱しながら反応基質を還元剤と反応させる。反応基質としては、用いる還元剤の種類や反応条件にも依存するが、例えば、エステル中のＲａが一級または二級のアルキル基である場合は、（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート化合物（２）をそのまま還元の基質として用いることが好ましく、Ｒａが三級であって、特にその立体障害が大きい場合には、二重結合の還元等の副反応が起こる場合がある。このような場合には、前述の方法により予め（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエン酸に変換して還元の基質として用いることが好ましい。
還元反応における還元剤（ｒｅｄｕｃｉｎｇ ａｇｅｎｔ）としては、例えば、水素、ボラン、アルキルボラン、ジアルキルボラン、ビス（３−メチル−２−ブチル）ボラン等のホウ素化合物、ジアルキルシラン、トリアルキルシラン、アルキルアルミニウム、ジアルキルアルミニウム、水素化ナトリウム、水素化リチウム、水素化カリウム、水素化カルシウム等の金属水素化物類、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素カリウム、水素化ホウ素カルシウム、水素化アルミニウムナトリウム、水素化アルミニウムリチウム、水素化トリメトキシホウ素ナトリウム、水素化トリメトキシアルミニウムリチウム、水素化ジエトキシアルミニウムリチウム、水素化トリｔｅｒｔ−ブトキシアルミニウムリチウム、水素化ビス（２−メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム、水素化トリエチルホウ素リチウム、水素化ジイソブチルアルミニウム等の錯水素化塩類（Ｃｏｍｐｌｅｘ ｈｙｄｒｉｄｅ）やそれらのアルコキシあるいはアルキル誘導体を例示できるが、反応条件や後処理の容易さや生成物の単離の容易さ等の点で錯水素化塩類を使用することが好ましい。
還元反応における還元剤の使用量は、使用する還元剤、反応条件等によって異なるが、一般的には基質１モルに対して好ましくは０．５モル〜大過剰量（例えば２モルから５００モル）、より好ましくは０．９〜８．０モルである。
還元反応における溶媒としては、例えば、水、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン等の炭化水素類、ジエチル＝エーテル、ジブチル＝エーテル、ジエチレングリコール＝ジエチル＝エーテル、ジエチレングリコール＝ジメチル＝エーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、エチレングリコール＝モノメチル＝エーテル、ジエチレングリコール＝モノメチル＝エーテル等のアルコール類、アセトニトリルなどのニトリル類、アセトン、２−ブタノンなどのケトン類、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル等のエステル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチル＝スルホキシド、ヘキサメチルホスホリックトリアミド等の非プロトン性極性溶媒類が好ましく、これらの溶媒は単独もしくは混合して使用することができる。
還元反応における溶媒は、用いられる還元剤の種類によって適切なものを選択して用いる。例えば、還元剤と溶媒の好ましい組み合わせとしては、還元剤として水素化ホウ素リチウムを用いる場合には、エーテル類、エーテル類とアルコール類との混合溶媒またはエーテル類と炭化水素類との混合溶媒等、還元剤として水素化アルミニウムリチウムを用いる場合には、エーテル類またはエーテル類と炭化水素類との混合溶媒等が挙げられる。
還元反応における反応温度または反応時間は、用いる試薬や溶媒により種々異なるが、例えば、還元剤としてテトラヒドロフラン中水素化アルミニウムリチウムを用いる場合は、反応温度を好ましくは−７８℃から５０℃、より好ましくは−７０〜２０℃で行う。反応時間は、任意に設定できるが、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）やシリカゲル薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）で反応を追跡して反応を完結させることが収率の点で望ましく、通常０．５〜９６時間程度である。
上記の様にして合成した（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノール（３）の単離や精製は、蒸留や各種クロマトグラフィー等の通常の有機合成における精製方法から適宜選択して用いることができるが、工業的経済性の観点から減圧蒸留が好ましい。また、化合物（３）が十分な純度を有している場合には、粗生成物のまま次の工程に用いてもよい。
次に、（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノール（３）のエステル化反応による（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエニル＝カルボキシレート化合物（４）の合成について述べる。
Figure 0006657043
Ｒｂは炭素数１〜１５の一価の炭化水素基を表す。
Ｒｂは、前記Ｒａと同様の置換基が挙げられ、特に、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、４−メチルペンチル基、２−メチル−１−プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基が好ましい。
（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノール（３）のエステル化反応による（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエニル＝カルボキシレート化合物（４）の合成としては、公知のエステルの製造方法、例えば、アシル化剤との反応、カルボン酸との反応、エステル交換反応、化合物（３）をアルキル化剤に変換した後カルボン酸と反応させる方法を適用できる。
アシル化剤との反応では、単独あるいは２種類以上の混合溶媒中、反応基質の（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノール（３）を、アシル化剤及び塩基類と順次または同時に反応させる。
アシル化剤との反応に用いる溶媒としては、好ましくは塩化メチレン、クロロホルム、トリクロロエチレン等の塩素系溶剤類、へキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン等の炭化水素類、ジエチル＝エーテル、ジブチル＝エーテル、ジエチレングリコール＝ジエチル＝エーテル、ジエチレングリコール＝ジメチル＝エーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル等のニトリル類、アセトン、２−ブタノン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル等のエステル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホリックトリアミド等の非プロトン性極性溶媒類から選択した単独あるいは２種類以上の混合溶媒が挙げられる。
アシル化剤としては、好ましくはカルボン酸クロリド、カルボン酸ブロミド、カルボン酸無水物、カルボン酸トリフルオロ酢酸混合酸無水物、カルボン酸メタンスルホン酸混合酸無水物、カルボン酸トリフルオロメタンスルホン酸混合酸無水物、カルボン酸ベンゼンスルホン酸混合酸無水物、カルボン酸ｐ−トルエンスルホン酸混合酸無水物、カルボン酸ｐ−ニトロフェニル等が挙げられる。
塩基類としては、好ましくはトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等が挙げられる。
酸無水物等のアシル化剤を用いる反応では、塩基の代わりに酸触媒下に反応を行うこともできる。酸触媒としては、好ましくは塩酸、臭化水素酸、硫酸、硝酸等の無機酸類、シュウ酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の有機酸類、三塩化アルミニウム、アルミニウム＝エトキシド、アルミニウム＝イソプロポキシド、酸化アルミニウム、三フッ化ホウ素、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素、塩化マグネシウム、臭化マグネシウム、ヨウ化マグネシウム、塩化亜鉛、臭化亜鉛、ヨウ化亜鉛、四塩化錫、四臭化錫、二塩化ジブチル錫、ジブチル錫＝ジメトキシド、ジブチル錫＝オキシド、四塩化チタン、四臭化チタン、チタン（ＩＶ）メトキシド、チタン（ＩＶ）＝エトキシド、チタン（ＩＶ）＝イソプロポキシド、酸化チタン（ＩＶ）等のルイス酸（Ｌｅｗｉｓ ａｃｉｄ）類から選ばれる。
反応温度は、用いるアシル化剤の種類や反応条件により適切な反応温度を選択できるが、一般的には−５０℃から溶媒の沸点温度が好ましく、−２０℃から室温（５℃から３５℃、以下同様）が更に好ましい。アシル化剤の使用量は、原料の化合物（３）１モルに対して好ましくは１から５００モル、より好ましくは１〜５０モル、更に好ましくは１〜５モルの範囲である。
カルボン酸との反応は、（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノール（３）とカルボン酸との脱水反応であり、酸触媒下に行うのが一般的である。カルボン酸の使用量は、原料の化合物（３）１モルに対して好ましくは１〜５００モル、より好ましくは１〜５０モル、更に好ましくは１〜５モルの範囲である。
化合物（３）とカルボン酸との反応に用いる酸触媒の例として、例えば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、硝酸等の無機酸類、シュウ酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の有機酸類、三塩化アルミニウム、アルミニウム＝エトキシド、アルミニウム＝イソプロポキシド、酸化アルミニウム、三フッ化ホウ素、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素、塩化マグネシウム、臭化マグネシウム、ヨウ化マグネシウム、塩化亜鉛、臭化亜鉛、ヨウ化亜鉛、四塩化錫、四臭化錫、二塩化ジブチル錫、ジブチル錫＝ジメトキシド、ジブチル錫＝オキシド、四塩化チタン、四臭化チタン、チタン（ＩＶ）メトキシド、チタン（ＩＶ）＝エトキシド、チタン（ＩＶ）＝イソプロポキシド、酸化チタン（ＩＶ）等のルイス酸（Ｌｅｗｉｓ ａｃｉｄ）類を例示でき、これらは単独または混合して用いられる。酸触媒の使用量は、原料の化合物（３）１モルに対して好ましくは０．０００１から１００モル、より好ましくは０．００１〜１モル、更に好ましくは０．０１〜０．０５モルの触媒量である。
化合物（３）とカルボン酸との反応に用いる溶媒としては、上記アシル化剤との反応に挙げたものと同様のものを例示できる。
化合物（３）とカルボン酸との反応温度は、カルボン酸の種類や反応条件により適切な反応温度を選択できるが、一般的には−５０℃から溶媒の沸点温度が好ましく、室温から溶媒の沸点温度が更に好ましい。へキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン等の炭化水素類を含む溶媒を用いて、生じる水を共沸により系外に除去しながら反応を進行させるのもよい。この場合、常圧で溶媒の沸点で還流しながら水を留去してもよいが、減圧下に沸点より低い温度で水の留去を行ってもよい。
エステル交換反応は、（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノール（３）とカルボン酸アルキルとを触媒存在下に反応させ、生じるアルコールを除去することにより実施する。カルボン酸アルキルとしては、カルボン酸の一級アルキルエステルが好ましく、特にカルボン酸メチル、カルボン酸エチル、カルボン酸ｎ−プロピルが価格、反応の進行のし易さ等の点から好ましい。このカルボン酸アルキルの使用量は、原料の化合物（３）１モルに対して好ましくは１から５００モル、より好ましくは１〜５０モル、更に好ましくは１〜５モルの範囲である。
エステル交換反応に用いる触媒としては、例えば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、硝酸等の無機酸類、シュウ酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の有機酸類、ナトリウム＝メトキシド、ナトリウム＝エトキシド、カリウム＝ｔ−ブトキシド、４−ジメチルアミノピリジン等の塩基類、青酸ナトリウム、青酸カリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸カルシウム、酢酸錫、酢酸アルミニウム、アセト酢酸アルミニウム、アルミナ等の塩類、三塩化アルミニウム、アルミニウム＝エトキシド、アルミニウム＝イソプロポキシド、酸化アルミニウム、三フッ化ホウ素、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素、塩化マグネシウム、臭化マグネシウム、ヨウ化マグネシウム、塩化亜鉛、臭化亜鉛、ヨウ化亜鉛、四塩化錫、四臭化錫、二塩化ジブチル錫、ジブチル錫＝ジメトキシド、ジブチル錫＝オキシド、四塩化チタン、四臭化チタン、チタン（ＩＶ）メトキシド、チタン（ＩＶ）＝エトキシド、チタン（ＩＶ）＝イソプロポキシド、酸化チタン（ＩＶ）等のルイス酸（Ｌｅｗｉｓ ａｃｉｄ）類を挙げることができ、これらは単独または混合して用いられる。触媒の使用量は、原料の化合物（３）１モルに対して好ましくは０．０００１から１００モル、より好ましくは０．００１〜１モル、更に好ましくは０．０１〜０．０５モルの触媒量である。
エステル交換反応は、無溶媒（反応試薬であるカルボン酸アルキル自身を溶媒として用いてもよい）で行うことができ、余計な濃縮や溶媒回収等の操作を必要としないので好ましいが、溶媒を補助的に用いることも可能である。この場合、溶媒として、例えば、へキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン等の炭化水素類、ジエチル＝エーテル、ジブチルエーテル、ジエチレングリコール＝ジエチル＝エーテル、ジエチレングリコール＝ジメチル＝エーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類の単独または混合使用が好ましい。反応温度は用いるカルボン酸アルキルの種類や反応条件により適切な反応温度を選択できるが、通常、加熱下に行われ、エステル交換反応で生じる低沸点の低級アルコール、即ち、メタノール、エタノール、１−プロパノール等の沸点付近で反応を行い、生じる低級アルコールを留去しながら行うのがよい結果を与える。減圧下に沸点より低い温度でアルコールの留去を行ってもよい。
化合物（３）をアルキル化剤に変換した後カルボン酸と反応させる方法では、例えば、Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノール（３）を対応するハライド（クロリド、ブロミド、ヨージド）やスルホネート（例えば、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート等）に変換し、これらとカルボン酸を、通常溶媒中、塩基性条件下に反応させる。用いられる溶媒、塩基、反応時間、反応温度としては、化合物（３）とアシル化剤との反応で述べたものと同様のもの、条件を挙げることができる。カルボン酸と塩基の組み合わせの代わりに、カルボン酸ナトリウム、カルボン酸リチウム、カルボン酸カリウム、カルボン酸アンモニウム等のカルボン酸塩を用いてもよい。
上記のようにして合成した（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエニル＝カルボキシレート化合物（４）の単離や精製は、減圧蒸留や各種クロマトグラフィー等の通常の有機合成における精製方法から適宜選択して用いることができるが、工業的経済性の観点から減圧蒸留が好ましい。
以上のようにして、応用や利用等に必要な十分量の原体を供給するために、短工程かつ効率的な（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート化合物（２）、（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノール（３）及び（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエニル＝カルボキシレート化合物（４）の製造方法が提供される。
以下、実施例を示して、本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらにより限定されるものではない。
なお、原料、生成物、中間体の純度としてガスクロマトグラフィー（ＧＣ）分析によって得られた値を用い％ＧＣと表記する。ＧＣ条件: ＧＣ： Ｓｈｉｍａｚｄｕ ＧＣ−１４Ａ、Ｃｏｌｕｍｎ： ５％Ｐｈ−Ｍｅ ｓｉｌｉｃｏｎｅ ０．２５ｍｍφｘ２５ｍ、Ｃａｒｒｉｅｒ ｇａｓ： Ｈｅ、Ｄｅｔｅｃｔｏｒ: ＦＩＤ。
反応に用いられる原料及び反応で得られる生成物は１００％純度であるとは限らないので、収率は％ＧＣに基づく下記換算収率の値で表す。
化合物によっては、ガスクロマトグラフィーの感度が異なるため、特に原料や生成物が粗生成物の場合には、換算収率が１００％を超えることもあり得る。
Figure 0006657043
 化合物のスペクトル測定のためのサンプルは、必要に応じて粗生成物を精製した。
［Ｉ］一般式（１）で表される３−ヒドロキシ―２−イソプロピル−５−メチル−４−ヘキセノエート化合物の合成例
参考例１
エチル＝３−ヒドロキシ―２−イソプロピル−５−メチル−４−ヘキセノエート［一般式（１）において、Ｒａ＝ＣＨ３ＣＨ２＝Ｅｔの場合］の合成例
Figure 0006657043
窒素雰囲気下、エチル＝２−イソプロピル−３−ケト−５−メチル−４−ヘキセノエート７５ｇのジエチルエーテル８００ｍｌの混合物に、室温でかき混ぜながら、テトラヒドロホウ酸亜鉛のテトラヒドロフラン溶液４．４Ｍ、２９２ｍｌを加えた。室温で２４時間かき混ぜた後、酢酸２０ｇと水３８０ｇの混合物を加え、酢酸エチルで抽出した。分離した有機層から通常の洗浄、乾燥、濃縮による後処理操作により、目的のエチル＝３−ヒドロキシ―２−イソプロピル−５−メチル−４−ヘキセノエート５７．５ｇ（主生成物はｓｙｎ−異性体、収率７８％）を得た。
エチル＝ａｎｔｉ−３−ヒドロキシ―２−イソプロピル−５−メチル−４−ヘキセノエート
淡黄色油状物（ｙｅｌｌｏｗｉｓｈ ｏｉｌ）
ＩＲ（Ｄ−ＡＴＲ）：ν＝３４３２（ｂｒ．），２９６３，２９３５，２８７５，１７３１，１３７３，１２３９，１１７８，１１５４，１０２９ｃｍ-1。
1Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝０．９６（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．１Ｈｚ），０．９７（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），１．２３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．７０（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），１．７１（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．１Ｈｚ），２．０３（１Ｈ，ｓ，ＯＨ），２．０５−２．１４（２Ｈ，ｍ），２．４１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．５，７．７Ｈｚ），４．１１（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），４．５９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．６，９．２Ｈｚ），５．３４（１Ｈ，ｄｑ−様，Ｊ＝９．６，１．５Ｈｚ）ｐｐｍ。
1３Ｃ−ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１４．３０，１８．２０，１９．２８，２１．３２，２５．８８，２７．１６，５７．９２，５９．９４，６７．５０，１２４．８４，１３７．０２，１７３．２２ｐｐｍ。
ＧＣ−ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：２９，４１，５５，６９，８５（ベースピーク），１０１，１１５，１３０，１５３，１７１，１９９，２１４（Ｍ＋）。
＜一般式（２）で表される（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート化合物の合成＞
実施例１
エチル＝（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート［一般式（２）において、Ｒａ＝ＣＨ３ＣＨ２＝Ｅｔの場合］の合成例１
Figure 0006657043
窒素雰囲気下、エチル＝３−ヒドロキシ−２−イソプロピル−５−メチル−４−ヘキセノエート９．６９ｇと無水酢酸７．２０ｇの混合物を１５０℃で３時間かき混ぜた。反応混合物をそのまま減圧蒸留して、過剰の無水酢酸と反応で生じた酢酸の除去後、目的物を留出させ、目的のエチル＝（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート６．９２ｇ（７０．４−９３．９％ＧＣ、収率７８％）を得た。目的物の二重結合の幾何は下記、１Ｈ−ＮＭＲにおける３−位と４−位の１Ｈ−１Ｈ結合定数Ｊが１５．７Ｈｚであること及び２Ｄ−ＮＯＥＳＹスペクトルにおける相関から決定した。反応混合物及び生成物のＧＣ分析において目的物の幾何異性体であるエチル＝（Ｚ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエートは検出されなかった。
エチル＝（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート
無色から淡黄色油状物（ｃｏｌｏｒｌｅｓｓ−ｙｅｌｌｏｗｉｓｈ ｏｉｌ）
沸点：７４−８０℃／４００Ｐａ
ＩＲ（Ｄ−ＡＴＲ）：ν＝２９６３，２８７３，１７３２，１４６７，１３７０，１２３６，１１７６，１１５２，１０３２，９６９，８８８ｃｍ-1。
1Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝０．８７（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），０．９２（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），１．２５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．８４（３Ｈ，ｓ），１．９５−２．０６（１Ｈ，ｍ），２．７０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），４．０８−４．１８（２Ｈ，ｍ），４．９２（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．９３（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），５．６２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．６，１５．７Ｈｚ），６．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．７Ｈｚ）ｐｐｍ。
２Ｄ−ＮＯＥＳＹ： ＮＯＥ（核オーバーハウザー効果：Ｎｕｃｌｅａｒ Ｏｖｅｒｈａｕｓｅｒ Ｅｆｆｅｃｔ）の相関（Ｃｏｒｒｅｌａｔｉｏｎ）を下図の両側向き矢印で示す。
Figure 0006657043
1３Ｃ−ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１４．２１，１８．５７，１９．８４，２０．７０，３１．１９，５７．２１，６０．３１，１１６．１０，１２６．８３，１３５．８１，１４１．５６，１７４．０２ｐｐｍ。
ＧＣ−ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：４１，５３，６７，８１（ベースピーク），９１，１１１，１２３，１３９，１５４，１８１，１９６（Ｍ＋）。
ＧＣ−ＭＳ（ＣＩ，イソブタン）：１２３，１９７［（Ｍ＋Ｈ）＋］。
実施例２
エチル＝（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート［一般式（２）において、Ｒａ＝ＣＨ３ＣＨ２＝Ｅｔの場合］の合成例２
Figure 0006657043
窒素雰囲気下、エチル＝３−ヒドロキシ−２−イソプロピル−５−メチル−４−ヘキセノエート７０．２ｍｇ、メタンスルホン酸無水物（ｍｅｔｈａｎｅｓｕｌｆｏｎｉｃ ａｎｈｙｄｒｉｄｅ）９５．０ｍｇ、ジエチル＝エーテル３．０ｇと塩化メチレン３．０ｇの混合物に、室温でかき混ぜながら、ピリジン２６ｍｇを加えた。反応混合物を室温で１４時間かき混ぜた後、希塩酸にあけジエチル＝エーテルで抽出した。分離した有機層から通常の洗浄、乾燥、濃縮による後処理操作により、目的のエチル＝（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート５７．８ｍｇ（９５．０％ＧＣ、収率８５％）を得た。反応混合物及び生成物のＧＣ分析において目的物の幾何異性体であるエチル＝（Ｚ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエートは検出されなかった。この生成物は実施例１の生成物と同じものであった。
実施例３
エチル＝（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート［一般式（２）において、Ｒａ＝ＣＨ３ＣＨ２＝Ｅｔの場合］の合成例３
Figure 0006657043
窒素雰囲気下、エチル＝３−ヒドロキシ−２−イソプロピル−５−メチル−４−ヘキセノエート６７２ｍｇ、テトラヒドロフラン２０ｍｌの混合物に、氷冷下かき混ぜながら、トリエチルアミン６００ｍｇ、メタンスルホニル＝クロリド５３５ｍｇを順次加えた。反応混合物を氷冷下１時間かき混ぜた後、水にあけ酢酸エチルで抽出した。分離した有機層から通常の洗浄、乾燥、濃縮による後処理操作により、目的のエチル＝（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート８８０ｍｇ（８９．１％ＧＣ、収率８５％）を得た。反応混合物及び生成物のＧＣ分析において目的物の幾何異性体であるエチル＝（Ｚ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエートは検出されなかった。この生成物は実施例１の生成物と同じものであった。
実施例４
エチル＝（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート［一般式（２）において、Ｒａ＝ＣＨ３ＣＨ２＝Ｅｔの場合］の合成例４
Figure 0006657043
窒素雰囲気下、エチル＝３−ヒドロキシ−２−イソプロピル−５−メチル−４−ヘキセノエート０．１６２ｇ、ピリジン０．３００ｇと塩化メチレン１０ｍｌの混合物に、室温でかき混ぜながら、塩化チオニル１００μｌを加えた。反応混合物を室温で１４時間かき混ぜた後、希塩酸にあけジエチル＝エーテルで抽出した。分離した有機層から通常の洗浄、乾燥、濃縮による後処理操作により、目的のエチル＝（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート０．１２０ｇ（９６．３％ＧＣ、収率７８％）を得た。なお、反応混合物及び生成物のＧＣ分析において目的物の幾何異性体であるエチル＝（Ｚ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエートは検出されなかった。この生成物は実施例１の生成物と同じものであった。
実施例５
エチル＝（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート［一般式（２）において、Ｒａ＝ＣＨ３ＣＨ２＝Ｅｔの場合］の合成例５
Figure 0006657043
窒素雰囲気下、エチル＝３−ヒドロキシ−２−イソプロピル−５−メチル−４−ヘキセノエート６２５ｍｇ、酢酸エチル１０ｍｌとジエチル＝エーテル２０ｍｌの混合物に、室温でかき混ぜながら、２０％塩酸１０ｍｌを加えた。室温でかき混ぜながらＧＣで反応の進行を追跡（構造はＧＣ−ＭＳで推定）したところ、反応初期には、エチル＝３−クロロ−２−イソプロピル−５−メチル−４−ヘキセノエートやエチル＝５−ヒドロキシ−２−イソプロピル−５−メチル−３−ヘキセノエートが存在したが、次第に目的物のエチル＝（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエートに収束した。反応混合物を室温で４８時間かき混ぜた後、有機層を分離し、水層に水酸化ナトリウム水溶液を加えてｐＨを７としジエチル＝エーテルで抽出した。合わせた有機層から通常の洗浄、乾燥、濃縮による後処理操作により、目的のエチル＝（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート８７０ｍｇ（５９．８％ＧＣ、収率９１％）を得た。なお、反応混合物及び生成物のＧＣ分析において目的物の幾何異性体であるエチル＝（Ｚ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエートは検出されなかった。この生成物は実施例１の生成物と同じものであった。
実施例６
エチル＝（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート［一般式（２）において、Ｒａ＝ＣＨ３ＣＨ２＝Ｅｔの場合］の合成例６
Figure 0006657043
窒素雰囲気下、エチル＝３−ヒドロキシ−２−イソプロピル−５−メチル−４−ヘキセノエート１５ｍｇと硫酸水素カリウム２ｍｇの混合物を７０℃で4時間、室温で３日間かき混ぜた。反応をＧＣで追跡しＧＣ−ＭＳで構造を分析したところ、原料のエチル＝３−ヒドロキシ−２−イソプロピル−５−メチル−４−ヘキセノエート２．５％が残存時の主な生成物として目的のエチル＝（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート２９．３％とエチル＝（Ｅ）−５−ヒドロキシ−２−イソプロピル−５−メチル−３−ヘキセノエート２３．６％が生成していた。このことから、５−位にカチオンが位置するカルボカチオン中間体を経由していることが示唆された。
エチル＝（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート
ＧＣ−ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：４１，５３，６７，８１（ベースピーク），１１１，１２３，１３９，１５４，１８１，１９６（Ｍ＋）。
エチル＝（Ｅ）−５−ヒドロキシ−２−イソプロピル−５−メチル−３−ヘキセノエート
ＧＣ−ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：４３，５５，６９，８１，９７，１１１，１２５，１３９，１５３，１７１，１９９，２１４（Ｍ＋）。
実施例７
エチル＝（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート［一般式（２）において、Ｒａ＝ＣＨ３ＣＨ２＝Ｅｔの場合］の合成例７
Figure 0006657043
窒素雰囲気下、五酸化二リン２５０ｍｇとベンゼン５０ｍｌの混合物に、４０−５０℃で加熱しかき混ぜながら、エチル＝３−ヒドロキシ−２−イソプロピル−５−メチル−４−ヘキセノエート６７０ｍｇとベンゼン１５ｍｌの混合物を加えた。反応混合物を還流しながら３時間かき混ぜた。室温まで冷却後、反応混合物に水を加え、分離した有機層から通常の洗浄、乾燥、濃縮による後処理操作により、目的のエチル＝（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート７９０ｍｇ（７２．１％ＧＣ、収率９３％）を得た。なお、反応混合物及び生成物のＧＣ分析において目的物の幾何異性体であるエチル＝（Ｚ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエートは検出されなかった。この生成物は実施例１の生成物と同じものであった。
なお、下記反応式に示すように、エチル＝３−ヒドロキシ−２，５−ジメチル−４−ヘキセノエートを原料として、本実施例と同様な条件の下で脱水反応を実施すると、エチル＝２，５−ジメチル−２，４−ヘキサジエノエートが得られることが報告されており［井上、化学の領域、９、５３１（１９５５）及び井上ら、防虫科学、２０、１０２（１９５５）、但し、原料及び生成物の立体化学については明記されていない。］、２−位の置換基の違いによる選択性の差が明らかとなった。
Figure 0006657043
実施例８
メチル＝（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート［一般式（２）において、Ｒａ＝ＣＨ３＝Ｍｅの場合］の合成例１
Figure 0006657043
実施例７のエチル＝３−ヒドロキシ−２−イソプロピル−５−メチル−４−ヘキセノエートのかわりにメチル＝３−ヒドロキシ−２−イソプロピル−５−メチル−４−ヘキセノエートを用いて、実施例７と同様な反応により、目的のメチル＝（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート（収率９２％）を得た。
メチル＝（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート
無色油状物（ｃｏｌｏｒｌｅｓｓ ｏｉｌ）
ＩＲ（Ｄ−ＡＴＲ）：ν＝２９６１，２８７３，１７３７，１４３５，１２４０，１１５４，９６９，８８８ｃｍ-1。
1Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝０．８７（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），０．９２（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），１．８４（３Ｈ，ｓ），１．９５−２．０６（１Ｈ，ｍ），２．７４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９．１Ｈｚ），３．６７（３Ｈ，ｓ），４．９３（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．９４（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），５．６１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．６，１５．７Ｈｚ），６．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．７Ｈｚ）ｐｐｍ。
1３Ｃ−ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１８．５６，１９．８３，２０．７５，３１．１８，５１．５５，５７．０９，１１６．２３，１２６．６３，１３５．９７，１４１．５０，１７４．４６ｐｐｍ。
ＧＣ−ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：４１，５３，６７，８１（ベースピーク），９１，１０７，１２５，１４０，１８２（Ｍ＋）。
ＧＣ−ＭＳ（ＣＩ，イソブタン）：１１５，１２３，１８３［（Ｍ＋Ｈ）＋］。
実施例９
メチル＝（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート［一般式（２）において、Ｒａ＝ＣＨ３＝Ｍｅの場合］の合成例２
実施例９−１
Figure 0006657043
窒素雰囲気下、メチル＝イソバレレート（Ｍｅｔｈｙｌ ｉｓｏｖａｌｅｒａｔｅ）から常法にしたがって合成したシリル＝ケテン＝アセタール（Ｓｉｌｙｌ ｋｅｔｅｎｅ ａｃｅｔａｌ）である３−メチル−１−メトキシ−1−トリメチルシリルオキシ−１−ブテン１４．０ｇ、塩化メチレン１００ｍｌとヘキサメチルホスホリック＝トリアミド（ＨＭＰＡ）１．０４ｍｌの混合物に、−７０℃でかき混ぜながら、四塩化ケイ素（Ｓｉｌｉｃｏｎ ｔｅｔｒａｃｈｌｏｒｉｄｅ、ＳｉＣｌ４）１１．６２ｇを加え、−７０℃で１５分間かき混ぜた。次いで、３−メチル−２−ブテナール５．１０ｇと塩化メチレン１０ｍｌの混合物を加え、更に−７０℃で２時間、氷冷下２時間かき混ぜた。反応混合物をＧＣ−ＭＳで分析するとメチル＝３−ヒドロキシ−２−イソプロピル−５−メチル−４−ヘキセノエートのｓｙｎ−体/ａｎｔｉ−体の二つの異性体が４８：５２の比で生じていた。
メチル＝３−ヒドロキシ−２−イソプロピル−５−メチル−４−ヘキセノエートの一つの異性体
ＧＣ： 保持時間＝５．００分、ＧＣ条件: ＧＣ： Ｓｈｉｍａｚｄｕ ＧＣ−１４Ａ、Ｃｏｌｕｍｎ： ５％Ｐｈ−Ｍｅ ｓｉｌｉｃｏｎｅ ０．２５ｍｍφｘ２５ｍ、Ｃａｒｒｉｅｒ ｇａｓ： Ｈｅ、Ｄｅｔｅｃｔｏｒ: ＦＩＤ。
ＧＣ−ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：４１，５５，６９，８５（ベースピーク），１０１，１１６，１５７，１８５，２００（Ｍ＋）。
メチル＝３−ヒドロキシ−２−イソプロピル−５−メチル−４−ヘキセノエートの別の異性体
ＧＣ： 保持時間＝５．８１分、ＧＣ条件: ＧＣ： Ｓｈｉｍａｚｄｕ ＧＣ−１４Ａ、Ｃｏｌｕｍｎ： ５％Ｐｈ−Ｍｅ ｓｉｌｉｃｏｎｅ ０．２５ｍｍφｘ２５ｍ、Ｃａｒｒｉｅｒ ｇａｓ： Ｈｅ、Ｄｅｔｅｃｔｏｒ: ＦＩＤ。
ＧＣ−ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：４１，５５，６９，８５（ベースピーク），１０１，１１６，１５７，１８５，２００（Ｍ＋）。
次いで、反応混合物に氷冷下、水１５０ｍｌを滴下し（反応系は水と四塩化ケイ素の反応により塩酸酸性となる）、室温で１８時間かき混ぜた。生じた沈殿物をろ過で除去し、ろ液に水とジエチル＝エーテルを加えた。分離した有機層から通常の洗浄、乾燥、濃縮による後処理操作により、粗生成物１３．１８ｇを得た。この粗生成物のうち１２．０ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、目的物のメチル＝（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート２．３１ｇ（９１．９％ＧＣ、収率２１％、このものは実施例８の目的物と同じものであった。）とメチル＝（Ｅ）−５−ヒドロキシ−２−イソプロピル−５−メチル−３−ヘキセノエート８．１１ｇ（９７．８％ＧＣ、収率７１％）を得た。これらの生成物の二重結合の幾何は下記、１Ｈ−ＮＭＲにおける３−位と４−位の１Ｈ−１Ｈ結合定数Ｊが１５．７Ｈｚであることから決定した。反応混合物及び生成物のＧＣ分析において目的物の幾何異性体であるメチル＝（Ｚ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート及びメチル＝（Ｚ）−５−ヒドロキシ−２−イソプロピル−５−メチル−３−ヘキセノエートは検出されなかった。
メチル＝（Ｅ）−５−ヒドロキシ−２−イソプロピル−５−メチル−３−ヘキセノエート
無色油状物（ｃｏｌｏｒｌｅｓｓ ｏｉｌ）
ＩＲ（Ｄ−ＡＴＲ）：ν＝３４６４，２９６８，２９３４，２８７４，１７３７，１７２２，１４３５，１３７０，１２４４，１１９５，１１５３，９７５ｃｍ-1。
1Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝０．８５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），０．８８（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１．２９（３Ｈ，ｓ），１．７９（１Ｈ，ｂｒ．），１．９１−２．０１（１Ｈ，ｍ），２．６５（１Ｈ，ｔ−ｌｉｋｅ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），３．６５（３Ｈ，ｓ），５．６１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．１，１５．７Ｈｚ），５．６７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．７Ｈｚ）ｐｐｍ。
１Ｈ−ＮＭＲデカップリング（ｄｅｃｏｕｐｌｉｎｇ）：２−位のＨ、δ＝２．６５を照射（ｉｒｒａｄｉａｔｉｏｎ）によりデカップリングすると３−位のＨδ＝５．６１がｔ，Ｊ＝１５．７Ｈｚに変化し、３−位と４−位の１Ｈ−１Ｈ結合定数Ｊが１５．７Ｈｚであることが確認された。
1３Ｃ−ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１９．６５，２０．６７，２９．５７，２９．７６，３０．８８，５１．５１，５６．４１，７０．６０，１２３．４３，１４１．６７，１７４．５９ｐｍ。
ＧＣ−ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：４３，５５，６９，８１，９７，１１１（ベースピーク），１２５，１４０，１５３，１６８，１８５，２００（Ｍ＋）。
ＧＣ−ＭＳ（ＣＩ，イソブタン）：１８３［（Ｍ＋Ｈ−Ｈ２Ｏ）＋］。
実施例９−２
Figure 0006657043
窒素雰囲気下、メチル＝（Ｅ）−５−ヒドロキシ−２−イソプロピル−５−メチル−３−ヘキセノエート１．６５ｇ（９７．８％ＧＣ）、テトラヒドロフラン２０ｍｌ、トリエチルアミン５ｍｌの混合物に氷冷下メタンスルホニル＝クロリド１．２０ｇを加え、室温で１７時間かき混ぜた。反応混合物を水にあけｎ−ヘキサンで抽出した。分離した有機層から通常の洗浄、乾燥、濃縮による後処理操作により、目的物のメチル＝（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート０．９６ｇ（８４．５％ＧＣ、収率９１％）を得た。この生成物は実施例８の生成物と同じものであった。
実施例１０
イソブチル＝（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート［一般式（２）において、Ｒａ＝（ＣＨ３）２ＣＨＣＨ２の場合］の合成例
Figure 0006657043
実施例１のエチル＝３−ヒドロキシ−２−イソプロピル−５−メチル−４−ヘキセノエートのかわりにイソブチル＝３−ヒドロキシ−２−イソプロピル−５−メチル−４−ヘキセノエートを用いて、実施例１と同様な反応により、目的のイソブチル＝（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート（収率８８％）を得た。
イソブチル＝（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート
黄色油状物（ｙｅｌｌｏｗ ｏｉｌ）
ＩＲ（Ｄ−ＡＴＲ）：ν＝２９６２，２８７４，１７３３，１４６９，１３７０，１２８４，１２３４，１１５１，１００６，９６８ｃｍ-1。
1Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝０．８８（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），０．９２（３Ｈ，ｓ），０．９３（３Ｈ，ｓ），０．９３（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），１．８４（３Ｈ，ｓ），１．８８−１．９８（１Ｈ，ｍ），１．９８−２．０７（１Ｈ，ｍ），２．７４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９．１Ｈｚ），３．８１−３．９１（２Ｈ，ｍ），４．９２（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．９３（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），５．６３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．５，１５．７Ｈｚ），６．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．７Ｈｚ）ｐｐｍ。
1３Ｃ−ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１８．５７，１９．０５，１９．０４，１９．８７，２０．７８，２７．７０，３１．１５，５７．３８，７０．４９，１１６．０７，１２６．９０，１３５．８２，１４１．５６，１７４．０２ｐｐｍ。
ＧＣ−ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：２９，４１，５７，８１（ベースピーク），９３，１１１，１２３，１５３，１６８，２２４（Ｍ＋）。
ＧＣ−ＭＳ（ＣＩ，イソブタン）：１２３，１６９，２２５［（Ｍ＋Ｈ）＋］。
実施例１１
ベンジル＝（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート［一般式（２）において、Ｒａ＝Ｃ６Ｈ５ＣＨ２の場合］の合成例
Figure 0006657043
実施例３のエチル＝３−ヒドロキシ−２−イソプロピル−５−メチル−４−ヘキセノエートのかわりにベンジル＝３−ヒドロキシ−２−イソプロピル−５−メチル−４−ヘキセノエートを用いて、実施例３と同様な反応により、目的のベンジル＝（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート（収率８８％）を得た。
ベンジル＝（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート
無色油状物（ｃｏｌｏｒｌｅｓｓ ｏｉｌ）
ＩＲ（Ｄ−ＡＴＲ）：ν＝３０３２，２９６２，２８７２，１７３２，１４５５，１２３１，１２１４，１１４８，９７０ｃｍ-1。
1Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝０．８９（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），０．９３（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），１．８６（３Ｈ，ｓ），２．００−２．１１（１Ｈ，ｍ），２．８１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），４．９４（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．９６（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），５．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．２Ｈｚ），５．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．２Ｈｚ），５．６６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．６，１５．７Ｈｚ），６．２１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ），７．３０−７．４０（５Ｈ，ｍ）ｐｐｍ。
1３Ｃ−ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１８．５５，１９．８１，２０．７２，３１．２０，５７．１１，６６．１４，１１６．２４，１２６．５１，１２８．０６，１２８．１０，１２８．４６，１３６．００，１３６．０８，１４１．５０，１７３．８０ｐｐｍ。
ＧＣ−ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：４３，６５，８１，９１（ベースピーク），１０７，１２３，２５８（Ｍ＋）。
［ＩＩ］一般式（３）で表される（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノールの合成
実施例１２
（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノールの合成例
窒素雰囲気下、水素化アルミニウムリチウム２．２３ｇとテトラヒドロフラン５０ｍｌの混合物に、氷冷しながら実施例１で得たエチル＝（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート７．９８ｇ（８４．２％ＧＣ）とテトラヒドロフラン４０ｍｌの混合物を滴下した。反応混合物を氷冷下１００分間かき混ぜ、次いで氷冷したまま、水２．２３ｇ、１５％水酸化ナトリウム水溶液２．２３ｇ、水６．６９ｇを順次加えた。発熱が止んだ後、反応混合物をかき混ぜながら室温まで上げた。生じた沈殿をろ別し、ろ液を減圧濃縮して目的物６．２３ｇ（８５．３％ＧＣ、定量的収率）を得た。
（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノール
無色油状物（ｃｏｌｏｒｌｅｓｓ ｏｉｌ）
ＩＲ（Ｄ−ＡＴＲ）：ν＝３３５０，２９５８，２９２９，２８７３，１６０９，１４６４，１３８６，１３６８，１０６１，１０３７，９６８ｃｍ-1。
1Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝０．８６（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），０．９１（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１．４８−１．５５（１Ｈ，ｂｒ．），１．６５−１．７５（１Ｈ，ｍ），１．８５（３Ｈ，ｓ），２．０２−２．０９（１Ｈ，ｍ），３．４６（１Ｈ，ｂｒ．ｔ−ｌｉｋｅ，Ｊ＝１０〜１１Ｈｚ），３．６５‐３．７２（１Ｈ，ｍ），４．９２（２Ｈ，ｂｒ．ｓ），５．４４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．６，１５．７Ｈｚ），６．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．７Ｈｚ）ｐｐｍ。
1３Ｃ−ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１８．６４，１９．５７，２０．８２，２９．００，５２．５８，６４．２２，１１５．５５，１２９．４６，１３６．３５，１４１．５６ｐｍ。
ＧＣ−ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：４１，５５，６７，８１（ベースピーク），９３，１０９，１２３，１３９，１５４（Ｍ＋）。
これらのスペクトルデータは、Ｊ．Ｔａｂａｔａら、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｅｃｏｌ．，４１，１９４（２０１５）のものと良く一致していた。
［ＩＩＩ］一般式（４）で表される（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエニル＝カルボキシレートの合成
実施例１３
（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエニル＝アセテート［一般式（４）において、Ｒｂ＝ＣＨ３の場合］の合成例
Figure 0006657043
窒素雰囲気下、（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノール５．９２ｇ（８５．３％ＧＣ）、ピリジン２４ｍｌと酢酸エチル５０ｍｌの混合物に氷冷しかき混ぜながら、無水酢酸９．９０ｇを加えた。反応混合物を室温で１６時間かき混ぜた後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液にあけた。分離した有機層から通常の洗浄、乾燥、濃縮による後処理操作により目的物の（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエニル＝アセテートの粗生成物７．４１ｇ（８３．６％ＧＣ、収率９７％）を得た。この粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、目的物の（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエニル＝アセテートの画分１：４．５９ｇ（９４．５％ＧＣ）と画分２：２．０６ｇ（７８．７％ＧＣ）を得た（合わせて収率９３％）。このうち画分１を減圧蒸留で更に精製して、目的物の（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエニル＝アセテート１．３０ｇ（９３．５％ＧＣ）と３．１５ｇ（９５．７％ＧＣ）を得た。
（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエニル＝アセテート
無色油状物（ｃｏｌｏｒｌｅｓｓ ｏｉｌ）
沸点：５６−５９℃／４００Ｐａ
ＩＲ（Ｄ−ＡＴＲ）：ν＝２９６０，２８７４，１７４２，１４６４，１３８２，１３６８，１２３４，１０３４，９６９ｃｍ-1。
1Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝０．８６（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），０．９１（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），１．７２−１．８０（１Ｈ，ｍ），１．８２（３Ｈ，ｓ），２．０１（３Ｈ，ｓ），２．２０−２．２７（１Ｈ，ｍ），４．０８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），４．８９（２Ｈ，ｂｒ．ｓ），５．４４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．２，１５．７Ｈｚ），６．１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．７Ｈｚ）ｐｐｍ。
1３Ｃ−ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１８．６１，１８．８９，２０．６８，２０．９４，２８．０６，４８．２６，６５．９５，１１５．１９，１２８．４８，１３５．３２，１４１．８１，１７１．１１ｐｐｍ。
ＧＣ−ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：４３，５５，６７，７９，９３，１０７，１２１（ベースピーク），１３６，１９６（Ｍ＋）。
ＧＣ−ＭＳ（ＣＩ，イソブタン）：８１，１３７［（Ｍ＋Ｈ）＋］。
これらのスペクトルデータは、Ｊ．Ｔａｂａｔａら、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｅｃｏｌ．，４１，１９４（２０１５）のものと良く一致していた。

Claims (4)

  1. 下記一般式（２）：
    Figure 0006657043
     （式中、Ｒａは炭素数１〜１５の一価の炭化水素基を表す。）
    で表される（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート化合物。
  2. 下記一般式（１）：
    Figure 0006657043
     （式中、Ｒａは炭素数１〜１５の一価の炭化水素基を表す。）
    で表される３−ヒドロキシ―２−イソプロピル−５−メチル−４−ヘキセノエート化合物を脱水反応することにより、下記一般式（２）：
    Figure 0006657043
     で表される（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート化合物を得る工程を少なくとも含む（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート化合物の製造方法。
  3. 下記一般式（１）：
    Figure 0006657043
     （式中、Ｒａは炭素数１〜１５の一価の炭化水素基を表す。）
    で表される３−ヒドロキシ―２−イソプロピル−５−メチル−４−ヘキセノエート化合物を脱水反応することにより、下記一般式（２）：
    Figure 0006657043
     で表される（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート化合物を得る工程と、
    得られた（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート化合物のアルコキシカルボニル基を還元することにより、下記式（３）：
    Figure 0006657043
     で表される（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノールを得る工程を少なくとも含む（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノールの製造方法。
  4. 下記一般式（１）：
    Figure 0006657043
     （式中、Ｒａは炭素数１〜１５の一価の炭化水素基を表す。）
    で表される３−ヒドロキシ―２−イソプロピル−５−メチル−４−ヘキセノエート化合物を脱水反応することにより、下記一般式（２）：
    Figure 0006657043
     で表される（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート化合物を得る工程と、
    得られた（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート化合物のアルコキシカルボニル基を還元することにより、下記式（３）：
    Figure 0006657043
     で表される（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノールを得る工程と、得られた（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノールをエステル化して、下記一般式（４）：
    Figure 0006657043
     （式中、Ｒｂは炭素数１〜１５の一価の炭化水素基を表す。）
    で表される（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエニル＝カルボキシレート化合物を得る工程を少なくとも含む（Ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエニル＝カルボキシレート化合物の製造方法。
JP2016160053A 2015-08-18 2016-08-17 （ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート化合物及びその製造方法並びにこれを用いた（ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノール及び（ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエニル＝カルボキシレートの製造方法 Active JP6657043B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015161019 2015-08-18
JP2015161019 2015-08-18

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2017039717A JP2017039717A (ja) 2017-02-23
JP6657043B2 true JP6657043B2 (ja) 2020-03-04

Family

ID=56557606

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016160053A Active JP6657043B2 (ja) 2015-08-18 2016-08-17 （ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート化合物及びその製造方法並びにこれを用いた（ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノール及び（ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエニル＝カルボキシレートの製造方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US9725400B2 (ja)
EP (1) EP3133053B1 (ja)
JP (1) JP6657043B2 (ja)
CN (1) CN106467464B (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6999909B2 (ja) * 2017-03-31 2022-02-04 三菱ケミカル株式会社 不飽和カルボン酸製造用触媒、不飽和カルボン酸の製造方法、および不飽和カルボン酸エステルの製造方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6051590A (en) * 1999-05-13 2000-04-18 Merck & Co., Inc. Immunosuppressant tricyclic compounds
CN103254069B (zh) * 2013-05-15 2015-01-21 山东省农药科学研究院 一种反,反-2,4-己二烯醛醋酸酯的制备方法
CN103360248A (zh) * 2013-07-17 2013-10-23 中美华世通生物医药科技（武汉）有限公司 苹果蠹蛾性信息素中间体(2e,4e)-2,4-己二烯醇醋酸酯的合成方法
EP2868647B1 (en) * 2013-10-30 2017-07-12 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Method for producing (E)-2-isopropyl-5-methyl-2,4-hexadienyl acetate

Also Published As

Publication number Publication date
EP3133053B1 (en) 2018-01-17
US20170050913A1 (en) 2017-02-23
JP2017039717A (ja) 2017-02-23
EP3133053A1 (en) 2017-02-22
CN106467464A (zh) 2017-03-01
CN106467464B (zh) 2020-12-29
US9725400B2 (en) 2017-08-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6208110B2 (ja) 酢酸（ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−２，４−ヘキサジエニルの製造方法
TWI612026B (zh) 環己烯酮組成物及其製造方法
JP6698049B2 (ja) α−ハロテトラメチルシクロヘキサノン及びその製造方法並びに（２，３，４，４−テトラメチルシクロペンチル）メチル＝カルボキシレート化合物の製造方法
JP6657043B2 (ja) （ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノエート化合物及びその製造方法並びにこれを用いた（ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエノール及び（ｅ）−２−イソプロピル−５−メチル−３，５−ヘキサジエニル＝カルボキシレートの製造方法
EP3037405B1 (en) 3-acyloxymethyl-3-butenyl carboxylate compound and method for producing 4-alkyl-3-methylenebutyl carboxylate
EP3943474B1 (en) Processes for preparing alpha-necrodyl compounds and processes for preparing gamma-necrodyl compounds
JP6254925B2 (ja) 酪酸２−イソプロピリデン−５−メチル−４−ヘキセニルの製造方法
EP3214063B1 (en) Terminal conjugated trienal acetal compound and method for producing terminal conjugated trienal compound using the same
EP2949642B1 (en) Method for producing 3,5-dimethyldodecanoic acid; and 4-carboxy-3,5-dimethyl-3,5-dodecadienoic acid
JP2002348260A (ja) ２，７−ジメチル−２，４，６−オクタトリエナールモノアセタールの製造方法
EP3333149B1 (en) 7-methyl-3-methylene-7-octenal acetal compound and methods for producing aldehyde compound and ester compound using the same
US9688622B1 (en) 1-(2-acyloxyethyl)cyclopropyl sulfonate compound, 3-halomethyl-3-butenyl carboxylate compound, and method for producing 4-alkyl-3-methylenebutyl carboxylate
EP3045442A1 (en) Method for producing cyclolavandulol and derivative thereof
US4009202A (en) 2(or 3)-methyl-1-acetoxy-4-alkoxy (or phenoxy)-1,3-butadienes
JP6208103B2 (ja) β−シクロラバンジュラール及びその誘導体の製造方法
US5095136A (en) Method for preparing isoprenoid cyclopropane 1,1-dicarboxylates and derivatives thereof and novel intermediates
JP7475264B2 (ja) ３－イソプロペニル－６－ヘプテナール化合物及び６－イソプロペニル－３－メチル－３，９－デカジエニル＝カルボキシレート化合物の製造方法並びにその中間体
EP4119535B1 (en) Acetal compounds, processes for their preparation, and processes for preparing aldehyde compounds from the acetal compounds

Legal Events

Date Code Title Description
RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20170414

RD07 Notification of extinguishment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7427

Effective date: 20170630

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180725

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20190508

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20190521

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190722

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20200109

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20200205

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6657043

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150