JP6652229B1 - クロムフリー絶縁被膜形成用処理剤、絶縁被膜付き方向性電磁鋼板およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
(A)成分:Mg、Ca、Ba、Sr、Zn、Al、Mnのリン酸塩のうちから選ばれる1種または2種以上と、
(B)成分:コロイド状シリカと、
(C)成分:Mg、Ca、Ba、Sr、Zn、Al、Mn、Fe、Ni、Cu、Coの有機酸塩のうちから選ばれる1種または2種以上と、
(D)成分:リン酸と、を、
固形分換算で(A)成分100質量部に対して、(B)成分をSiO2固形分換算で50〜150質量部、(C)成分を金属元素として5.0質量部以上含有し、かつ、
(D)成分を、当該クロムフリー絶縁被膜形成用処理剤中の金属元素であるM2+(ただし前記M2+は、Mg、Ca、Ba、Sr、Zn、Mn、Ni、Cu、Coのうちから選ばれる1種または2種以上)、M3+(ただし、前記M3+は、Al、Feのうちから選ばれる1種または2種)とリン元素Pとのモル比が0.50<(M2++1.5×M3+)/P≦1.20を満たし、かつ、当該クロムフリー絶縁被膜形成用処理剤のpHが4.5未満となるように含有する、クロムフリー絶縁被膜形成用処理剤。
[2](C)成分が、Mg、Ca、Ba、Sr、Zn、Al、Mn、Fe、Ni、Cu、Coのカルボン酸塩のうちから選ばれる1種または2種以上を含む、[1]に記載のクロムフリー絶縁被膜形成用処理剤。
[3](C)成分が、Mg、Ca、Ba、Sr、Zn、Al、Mn、Fe、Ni、Cu、Coの、ぎ酸塩、蓚酸塩、クエン酸塩、酒石酸塩、乳酸塩、マロン酸塩、コハク酸塩、サリチル酸塩、酢酸塩、グルコン酸塩のうちから選ばれる1種または2種以上を含む、[1]または[2]に記載のクロムフリー絶縁被膜形成用処理剤。
[4]比重が1.07〜1.35である、[1]〜[3]のいずれかに記載のクロムフリー絶縁被膜形成用処理剤。
[5]前記[1]〜[4]のいずれかに記載のクロムフリー絶縁被膜形成用処理剤を焼付けしてなる絶縁被膜を、方向性電磁鋼板の表面に備える、絶縁被膜付き方向性電磁鋼板。
[6]前記絶縁被膜を含む被膜中の炭素含有量が0.050〜0.350質量%である、[5]に記載の絶縁被膜付き方向性電磁鋼板。
[7]前記[1]〜[4]のいずれかに記載のクロムフリー絶縁被膜形成用処理剤を、方向性電磁鋼板の表面に塗布した後、焼付けする、絶縁被膜付き方向性電磁鋼板の製造方法。
なお、以下、クロムフリー絶縁被膜形成用処理剤を、単に「処理剤」ともいう。
鋼板への付与張力[MPa]=鋼板ヤング率[GPa]×板厚[mm]×そり量[mm]÷(測定長さ[mm])2×103 ・・・式(I)
ただし、鋼板ヤング率は、132GPaとした。被膜張力が8.0MPa以上を良好(被膜張力に優れる)と評価した。
以上の実験結果から、リン酸を添加し、処理剤中の金属元素であるM2+、M3+と、リン元素Pとのモル比(M2++1.5×M3+)/PおよびpHを一定値以下とすることで、有機酸塩を多量に含有させても析出を起こさず、優れた耐食性、耐吸湿性と、十分な被膜張力を兼ね備えたクロムフリーの絶縁被膜を形成できることが分かった。
本発明で対象とする鋼板は、方向性電磁鋼板である。通常、方向性電磁鋼板は、含珪素鋼スラブを、公知の方法で熱間圧延し、1回もしくは中間焼鈍を挟む複数回の冷間圧延により最終板厚に仕上げたのち、一次再結晶焼鈍を施し、ついで焼鈍分離剤を塗布してから最終仕上焼鈍を行うことによって製造される。
本発明のクロムフリー絶縁被膜形成用処理剤は、以下の(A)〜(D)成分を含有する。
リン酸塩としては、Mg、Ca、Ba、Sr、Zn、Al、Mnのリン酸塩のうちから選ばれる1種または2種以上を用いる。一般的には上記リン酸塩のいずれか1種を用いるが、2種以上を混合して用いてもよい。リン酸塩の種類としては第一リン酸塩(重リン酸塩)が入手容易であり好適である。
本発明の処理剤においては、上記(A)成分と、コロイド状シリカのベース液の割合が重要である。固形分換算で上記(A)成分100質量部に対しコロイド状シリカはSiO2固形分換算で50〜150質量部とする。50質量部未満では形成された絶縁被膜の熱膨張係数低減効果が小さくなり、鋼板への付与張力が低下するため絶縁被膜形成による鉄損改善効果が得られない。また150質量部よりも多いと焼付け時に絶縁被膜が結晶化しやすくなるとともに、割れが生じやすく、耐食性や密着性も劣化する場合がある。
本発明の処理剤は、Mg、Ca、Ba、Sr、Zn、Al、Mn、Fe、Ni、Cu、Coの有機酸塩のうちから選ばれる1種または2種以上の有機酸塩を含有する。有機酸塩は、固形分換算で上記(A)成分100質量部に対し、有機酸塩中の金属元素として5.0質量部以上が配合される。より優れる被膜張力が得られる点から、有機酸塩は、固形分換算で上記(A)成分100質量部に対し有機酸塩中の金属元素として5.0質量部超配合されることが好ましく、7.0質量部以上配合されることがより好ましく、10質量部以上配合されることがさらに好ましい。有機酸塩の含有量が金属元素として5.0質量部未満では、絶縁被膜中のフリーのリン酸と金属元素との反応によるPの安定化が得られないことに加え、絶縁被膜にふくれや割れが発生することがあり、耐吸湿性や耐食性向上効果が十分に得られなくなる。なお、有機酸塩の含有量の上限は特に限定されないが、例えば、固形物換算で上記(A)成分100質量部に対し、有機酸塩中の金属元素として60質量部以下とすることができ、50質量部以下とすることができる。有機酸塩は、有機酸塩そのものだけでなく、反応により作製したもの、例えば有機酸塩または有機酸と金属水酸化物を反応させて作製したものでもよい。処理剤の安定性に問題がなければ、フリーの有機酸、すなわち、金属と反応していないカルボン酸等の酸成分が存在していてもよいが、フリーの有機酸の含有量は、有機酸塩のモル数以下とすることが好ましい。
本発明では、(A)成分のリン酸塩のリン酸と金属の理論モル比よりも、リン酸(H3PO4)をリッチとすることにより、有機酸塩添加による処理剤のpHへの影響と処理剤中の金属元素とPとのモル比(M2++1.5×M3+)/Pの過度な増加を抑制する。リン酸は、処理剤中の金属元素であるM2+(ただし前記M2+は、Mg、Ca、Ba、Sr、Zn、Mn、Ni、Cu、Coのうちから選ばれる1種または2種以上)、M3+(ただし、前記M3+は、Al、Feのうちから選ばれる1種または2種)と、リン元素Pとのモル比が0.50<(M2++1.5×M3+)/P≦1.20、かつ、pH<4.5を満たすように含有させる。より好ましくは、0.67≦(M2++1.5×M3+)/Pの範囲である。また、より好ましくは、(M2++1.5×M3+)/P≦0.83の範囲である。前記範囲であると、被膜張力をより高められる。本発明では、処理剤中の金属元素であるMを2価金属にあわせるために3価金属の場合は1.5倍相当に換算する。処理剤中の(M2++1.5×M3+)/Pが0.50以下であると絶縁被膜中のPが過剰となりリンの溶出量が多くなり耐吸湿性、耐食性が劣化する。一方、(M2++1.5×M3+)/Pが1.20超では絶縁被膜が結晶化し易くなることで割れが発生して被膜張力や耐食性が劣化する場合や、さらには有機酸塩添加による溶液のpH変化が大きくなり、有機酸塩の析出が生じる場合があるため不適である。処理剤のpHは、4.5未満となる範囲でリン酸(H3PO4)を添加する。より好ましくは、pHは3.0未満である。前記範囲であると、処理剤の安定性が高く、被膜張力をより高められる。処理剤のpHが、pH≧4.5である、あるいは、pH<4.5を満たしていても、リン酸(H3PO4)の添加が不足し、(M2++1.5×M3+)/P≦1.20の範囲を満たさないと、有機酸塩や不溶性リン酸塩の析出が生じる場合があるため不適である。
本発明のクロムフリー絶縁被膜形成用処理剤は、公知の条件および方法により製造することができる。例えば、前記処理剤は、上述した各成分を、水を溶媒として混合することで製造できる。
その際、(A)成分:Mg、Ca、Ba、Sr、Zn、Al、Mnのリン酸塩のうちから選ばれる1種または2種以上と、(B)成分:コロイド状シリカと、(C)成分:Mg、Ca、Ba、Sr、Zn、Al、Mn、Fe、Ni、Cu、Coの有機酸塩のうちから選ばれる1種または2種以上と、(D)成分:リン酸と、を、固形分換算で(A)成分100質量部に対して、(B)成分をSiO2固形分換算で50〜150質量部、(C)成分を金属元素として5.0質量部以上となる混合比で、かつ、(D)成分を、当該クロムフリー絶縁被膜形成用処理剤中の金属元素であるM2+(ただし前記M2+は、Mg、Ca、Ba、Sr、Zn、Mn、Ni、Cu、Coのうちから選ばれる1種または2種以上)、M3+(ただし、前記M3+は、Al、Feのうちから選ばれる1種または2種)とリン元素Pとのモル比が0.50<(M2++1.5×M3+)/P≦1.20を満たし、かつ、当該クロムフリー絶縁被膜形成用処理剤のpHが4.5未満となる混合比で混合してクロムフリー絶縁被膜形成用処理剤を製造すればよい。
[クロムフリー絶縁被膜形成用処理剤の塗布方法]
本発明のクロムフリー絶縁被膜形成用処理剤を方向性電磁鋼板の表面上に塗布する方法としては、特に限定されず、従来公知の方法を用いることができる。前記処理剤は、鋼板の少なくとも片面に塗布するが、鋼板の両面に塗布するのが好ましく、焼付後(後述する乾燥を行う場合には、乾燥および焼付後)の目付量が両面合計で4〜15g/m2となるように塗布することがより好ましい。両面合計目付量が、4g/m2以上であると層間抵抗が低下することを抑制しやすくなり、15g/m2以下であると占積率が低下することを抑制しやすくなる。
次に、本発明のクロムフリー絶縁被膜形成用処理剤を塗布し任意で乾燥した方向性電磁鋼板について、焼付けを施し、これにより、絶縁被膜を形成する。このとき、平坦化焼鈍を兼ねるという観点から、800〜1000℃で10〜300秒間の焼付けを施すことが好ましい。焼付温度が800℃以上、焼付時間が10秒以上であると、平坦化が十分となり、形状が良好となり歩留りを高めやすくなり、有機酸塩中の有機分を除去しやすくなる。また、焼付温度が1000℃以下、焼付時間が300秒以下であると、平坦化焼鈍の効果が強すぎることで生じるクリープ変形による磁気特性の劣化を抑制しやすくなる。
本発明の絶縁被膜付き方向性電磁鋼板は、上記クロムフリー絶縁被膜形成用処理剤を焼付けしてなる絶縁被膜を、方向性電磁鋼板の表面に備える。前記方向性電磁鋼板はフォルステライト被膜(下地被膜)を有してもよい。
前記絶縁被膜は、有機酸塩由来の炭素を適正範囲で含有することが好ましい。前記炭素の適正範囲は、絶縁被膜を含む被膜中の炭素含有量(C含有量)として設定することができる。ここで、前記被膜中の炭素含有量は、絶縁被膜付き方向性電磁鋼板が備える被膜中の炭素含有量であり、前記被膜が絶縁被膜のみからなる場合には絶縁被膜中の炭素含有量となり、前記被膜がフォルステライト被膜と絶縁被膜からなる場合にはフォルステライト被膜と絶縁被膜からなる被膜中の炭素含有量となる。前記被膜中の炭素含有量は0.050〜0.350質量%が好ましい。前記被膜中の炭素含有量が0.050質量%以上であると絶縁被膜の割れを抑制しやすくなり耐食性をより高めやすくなる。また、前記被膜中の炭素含有量が0.350質量%以下であると被膜張力をより高めやすくなる。なお、前記被膜中の炭素含有量は、上述のとおり、処理剤の比重を調整することで調整できる。参考までに、図1に、後述の実施例4で得られたクエン酸Mgを含有する処理剤の比重に対する被膜中の炭素含有量の関係を示す。
また、被膜中の炭素含有量は、絶縁被膜付き方向性電磁鋼板の被膜断面を、TEM−EDS分析、FE−EPMA分析することで求めてもよい。
表2に記載のリン酸塩、コロイド状シリカ、クエン酸Mgと、濃度85質量%のオルトリン酸水溶液(比重1.69)を配合し、pH<4.5かつ同表に記載の配合割合となるように調整したクロムフリー絶縁被膜形成用処理剤を製造した。前記各処理剤を、公知の方法で製造したフォルステライト被膜を有する板厚:0.23mmの仕上焼鈍済みの方向性電磁鋼板に両面合計で乾燥後目付量が8g/m2となるように塗布した後、300℃、1分間乾燥し、その後、平坦化焼鈍と絶縁被膜の焼付けを兼ねた熱処理(850℃、2分間、N2:100vol%雰囲気)を施した。
表3に記載のリン酸Mg、コロイド状シリカ、有機酸塩または無機酸塩、濃度85質量%のオルトリン酸水溶液(比重1.69)を配合し、pH<4.5かつ同表に記載の配合割合となるように調整したクロムフリー絶縁被膜形成用処理剤を製造した。前記各処理剤を、公知の方法で製造されたフォルステライト被膜を有する板厚:0.23mmの仕上焼鈍済みの方向性電磁鋼板に両面合計で乾燥後目付量が8g/m2となるように塗布した後、300℃、1分間乾燥し、その後、平坦化焼鈍と絶縁被膜の焼付けを兼ねた熱処理(850℃、2分間、N2:100vol%雰囲気)を施した。
表4に記載のリン酸Mg、コロイド状シリカ、有機酸塩、濃度85質量%のオルトリン酸水溶液(比重1.69)を配合し、同表に記載の配合割合となるように調整したクロムフリー絶縁被膜形成用処理剤を製造した(ただし、試料No.4−4については、オルトリン酸水溶液を配合していない)。前記各処理剤を、公知の方法で製造されたフォルステライト被膜を有する板厚:0.23mmの仕上焼鈍済みの方向性電磁鋼板に両面合計で乾燥後目付量が8g/m2となるように塗布した後、300℃、1分間乾燥し、その後、平坦化焼鈍と絶縁被膜の焼付けを兼ねた熱処理(850℃、2分間、N2:100vol%雰囲気)を施した。
表5に記載のリン酸Mg、コロイド状シリカ、有機酸塩(クエン酸Mg)と、濃度85質量%のオルトリン酸水溶液(比重1.69)を配合し、pH<4.5かつ同表に記載の配合割合となるように調整したクロムフリー絶縁被膜形成用処理剤を製造した。前記各処理剤を、公知の方法で製造したフォルステライト被膜を有する板厚:0.23mmの仕上焼鈍済みの方向性電磁鋼板に両面合計で乾燥後目付量が8g/m2となるように塗布した後、300℃、1分間乾燥し、その後、平坦化焼鈍と絶縁被膜の焼付けを兼ねた熱処理(850℃、2分間、N2:100vol%雰囲気)を施した。
Claims (7)
- 方向性電磁鋼板の表面に、絶縁被膜を形成するためのクロムフリー絶縁被膜形成用処理剤であって、
(A)成分:Mg、Ca、Ba、Sr、Zn、Al、Mnのリン酸塩のうちから選ばれる1種または2種以上と、
(B)成分:コロイド状シリカと、
(C)成分:Mg、Ca、Ba、Sr、Zn、Al、Mn、Fe、Ni、Cu、Coの有機酸塩のうちから選ばれる1種または2種以上と、
(D)成分:リン酸と、を、
固形分換算で(A)成分100質量部に対して、(B)成分をSiO2固形分換算で50〜150質量部、(C)成分を金属元素として5.0質量部以上含有し、かつ、
(D)成分を、当該クロムフリー絶縁被膜形成用処理剤中の金属元素であるM2+(ただし前記M2+は、Mg、Ca、Ba、Sr、Zn、Mn、Ni、Cu、Coのうちから選ばれる1種または2種以上)、M3+(ただし、前記M3+は、Al、Feのうちから選ばれる1種または2種)とリン元素Pとのモル比が0.50<(M2++1.5×M3+)/P≦1.20を満たし、かつ、当該クロムフリー絶縁被膜形成用処理剤のpHが4.5未満となるように含有する、クロムフリー絶縁被膜形成用処理剤。 - (C)成分が、Mg、Ca、Ba、Sr、Zn、Al、Mn、Fe、Ni、Cu、Coのカルボン酸塩のうちから選ばれる1種または2種以上を含む、請求項1に記載のクロムフリー絶縁被膜形成用処理剤。
- (C)成分が、Mg、Ca、Ba、Sr、Zn、Al、Mn、Fe、Ni、Cu、Coの、ぎ酸塩、蓚酸塩、クエン酸塩、酒石酸塩、乳酸塩、マロン酸塩、コハク酸塩、サリチル酸塩、酢酸塩、グルコン酸塩のうちから選ばれる1種または2種以上を含む、請求項1または2に記載のクロムフリー絶縁被膜形成用処理剤。
- 比重が1.07〜1.35である、請求項1〜3のいずれかに記載のクロムフリー絶縁被膜形成用処理剤。
- 請求項1〜4のいずれかに記載のクロムフリー絶縁被膜形成用処理剤を焼付けしてなる絶縁被膜を、方向性電磁鋼板の表面に備える、絶縁被膜付き方向性電磁鋼板。
- 前記絶縁被膜を含む被膜中の炭素含有量が0.050〜0.350質量%である、請求項5に記載の絶縁被膜付き方向性電磁鋼板。
- 請求項1〜4のいずれかに記載のクロムフリー絶縁被膜形成用処理剤を、方向性電磁鋼板の表面に塗布した後、焼付けする、絶縁被膜付き方向性電磁鋼板の製造方法。
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