JP6650295B2 - Wiring board - Google Patents

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Description

本発明は配線板に関する。   The present invention relates to a wiring board.

基板上に導電性細線が形成された配線板は、各種電子機器における透明電極、電磁波シールド、タッチパネル等の部材として汎用されている。特に、タッチパネルは、携帯電話等の情報通信機器をはじめとする各種表示素子において需要が急増しており、透明基板を用いた配線板は、重要な部材となっている。   A wiring board having a conductive thin wire formed on a substrate is widely used as a member for a transparent electrode, an electromagnetic wave shield, a touch panel and the like in various electronic devices. In particular, the demand for touch panels is rapidly increasing in various display elements including information communication devices such as mobile phones, and wiring boards using transparent substrates are important members.

一方で、配線を備えた回路基板としては、例えば、スクリーン印刷法等により、銀等の導電性粒子を含む導電性インクでパターンを形成し、これを150℃程度の比較的低温で加熱処理することにより、配線パターンを形成して製造されたものが開示されており、配線として線幅が50〜70μm程度のものを形成でき、タッチパネルの製造へ応用できることも開示されている(特許文献1参照)。   On the other hand, as a circuit board provided with wiring, for example, a pattern is formed with a conductive ink containing conductive particles such as silver by a screen printing method or the like, and this is heat-treated at a relatively low temperature of about 150 ° C. Accordingly, a device manufactured by forming a wiring pattern is disclosed, and a wiring having a line width of about 50 to 70 μm can be formed, and it is also disclosed that the wiring can be applied to the manufacture of a touch panel (see Patent Document 1). ).

特開2012−253172号公報JP 2012-253172 A

しかし、上述のようなタッチパネル等で用いられる最近の配線板では、配線の線幅が50μm程度では不十分であり、例えば、線幅が20μm以下等のより微細な細線の形成が求められている。特許文献1で開示されている方法では、このような導電性細線の形成は難しく、エッチング法に頼らざるを得ないが、エッチング法を適用した場合には、工程が複雑になるだけでなく、廃液処理等の余分の工程も必要となり、配線板の製造方法が煩雑になるという問題点があった。
また、タッチパネル等の配線では、光の反射による視認が抑制され、かつ他の層を積層し易くするために、適度な表面粗さを有することが求められる。
However, in recent wiring boards used in touch panels and the like as described above, the line width of the wiring is not sufficient at about 50 μm, and for example, the formation of finer fine lines having a line width of 20 μm or less is required. . In the method disclosed in Patent Document 1, it is difficult to form such a conductive thin wire, and it is necessary to rely on an etching method. However, when the etching method is applied, the process becomes complicated, An extra step such as waste liquid treatment is also required, and there is a problem that the method of manufacturing a wiring board becomes complicated.
In addition, wiring such as a touch panel is required to have appropriate surface roughness so that visibility due to light reflection is suppressed and other layers are easily stacked.

本発明は、簡便な方法で製造可能な、適度な表面粗さを有する導電性細線が形成された配線板を提供することを課題とする。   SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a wiring board on which conductive fine wires having an appropriate surface roughness can be manufactured by a simple method.

本発明は、基板上に印刷法によって形成された銀細線を備え、前記銀細線は、その線長方向に対して垂直な方向の断面において、幅が20μm以下であり、アスペクト比が0.013以上0.025以下であり、頂上が前記基板との接触部よりも幅が小さくなっており、前記銀細線の表面粗さが0.25μm以上0.35μm以下である配線板である。
本発明の配線板は、前記銀細線の体積抵抗率が15μΩ・cm以下であることが好ましい。
The present invention includes a silver fine line formed on a substrate by a printing method, wherein the silver fine line has a width of 20 μm or less and an aspect ratio of 0.013 in a cross section perpendicular to the line length direction. The width is 0.025 or less, the top is smaller in width than the contact portion with the substrate, and the surface roughness of the fine silver wire is 0.25 μm or more and 0.35 μm or less.
In the wiring board of the present invention, the silver fine wire preferably has a volume resistivity of 15 μΩ · cm or less.

本発明の配線板は、簡便な方法で製造可能であり、適度な表面粗さを有する導電性細線が形成されている。   The wiring board of the present invention can be manufactured by a simple method, and has a conductive fine wire having an appropriate surface roughness.

本発明に係る配線板の一例を模式的に示す正面図及び、配線板のI−I線における断面図である。1 is a front view schematically illustrating an example of a wiring board according to the present invention, and a cross-sectional view taken along line II of the wiring board. 本発明における他の形状の金属細線の一例を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically an example of the metal wire of another shape in this invention. エッチング法で形成された金属細線の一例を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the thin metal wire formed by the etching method typically.

<<配線板>>
本発明に係る配線板は、基板上に印刷法によって形成された銀細線を備え、前記銀細線は、その線長方向に対して垂直な方向の断面において、幅が20μm以下であり、アスペクト比が0.013〜0.025であり、頂上が前記基板との接触部よりも幅が小さくなっており、前記銀細線の表面粗さが0.25μm以上0.35μm以下である。
本発明に係る配線板は、銀細線の線幅が小さく、上述の特定の形状を有し、各種電子機器における電磁波シールド、タッチパネル等の部材として好適である。
<< Wiring board >>
The wiring board according to the present invention includes a fine silver wire formed on a substrate by a printing method, wherein the fine silver wire has a width of 20 μm or less in a cross section in a direction perpendicular to the line length direction, and an aspect ratio of Is 0.013 to 0.025, the top is smaller in width than the contact portion with the substrate, and the surface roughness of the fine silver wire is 0.25 μm or more and 0.35 μm or less.
INDUSTRIAL APPLICABILITY The wiring board according to the present invention has a small line width of the fine silver wire, has the specific shape described above, and is suitable as a member for an electromagnetic wave shield, a touch panel, and the like in various electronic devices.

図1(a)は、本発明に係る配線板の一例を模式的に示す正面図であり、図1(b)は、図1(a)に示す配線板のI−I線における断面図(銀細線の線長(長手)方向に対して垂直な方向の断面図)である。
ここに示す配線板1は、基板11の表面(一方の主面)11a上に、直線状の銀細線12を複数本備えてなるものであり、これら複数本の銀細線12は、直交する2方向に平行して配置され、網目を形成している。
FIG. 1A is a front view schematically showing an example of a wiring board according to the present invention, and FIG. 1B is a cross-sectional view taken along line II of the wiring board shown in FIG. FIG. 4 is a cross-sectional view in a direction perpendicular to a line length (longitudinal) direction of the silver wire.
The wiring board 1 shown here comprises a plurality of linear silver fine wires 12 on a surface (one main surface) 11a of a substrate 11, and the plurality of silver fine wires 12 are orthogonal to each other. It is arranged in parallel to the direction and forms a mesh.

<基板>
基板11は、フィルム状又はシート状であることが好ましく、厚さが0.5〜5000μmであることが好ましく、0.5〜2500μmであることがより好ましい。
<Substrate>
The substrate 11 is preferably in the form of a film or a sheet, and preferably has a thickness of 0.5 to 5000 μm, more preferably 0.5 to 2500 μm.

基板11の材質は特に限定されず、目的に応じて選択すればよいが、後述する銀インク組成物の加熱処理による銀細線12形成時に変質しない耐熱性を有するものが好ましく、光透過性を有するものが好ましい。
基板11の材質として具体的には、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリ塩化ビニル(PVC)、ポリ塩化ビニリデン(PVDC)、ポリメチルペンテン(PMP)、ポリシクロオレフィン、ポリスチレン(PS)、ポリ酢酸ビニル(PVAc)、ポリメタクリル酸メチル(PMMA)等のアクリル樹脂、AS樹脂、ABS樹脂、ポリアミド(PA)、ポリイミド、ポリアミドイミド(PAI)、ポリアセタール、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリトリメチレンテレフタレート(PTT)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリブチレンナフタレート(PBN)、ポリフェニレンスルファイド(PPS)、ポリスルホン(PSF)、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリエーテルケトン(PEK)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリカーボネート(PC)、ポリウレタン、ポリフェニレンエーテル(PPE)、変性ポリフェニレンエーテル(m−PPE)、ポリアリレート、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂等の合成樹脂が例示できる。
また、基板11の材質としては、上記以外にも、ガラス、シリコン等のセラミックスが例示できる。
また、基板11は、ガラスエポキシ樹脂、ポリマーアロイ等の、二種以上の材質を併用したものでもよい。
The material of the substrate 11 is not particularly limited and may be selected according to the purpose. However, a material having heat resistance that does not deteriorate during the formation of the fine silver wires 12 by heat treatment of the silver ink composition described below is preferable, and has light transmittance. Are preferred.
Specific examples of the material of the substrate 11 include polyethylene (PE), polypropylene (PP), polyvinyl chloride (PVC), polyvinylidene chloride (PVDC), polymethylpentene (PMP), polycycloolefin, polystyrene (PS), Acrylic resin such as polyvinyl acetate (PVAc), polymethyl methacrylate (PMMA), AS resin, ABS resin, polyamide (PA), polyimide, polyamide imide (PAI), polyacetal, polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate ( PBT), polytrimethylene terephthalate (PTT), polyethylene naphthalate (PEN), polybutylene naphthalate (PBN), polyphenylene sulfide (PPS), polysulfone (PSF), polyether sulfone (PE ), Polyether ketone (PEK), polyether ether ketone (PEEK), polycarbonate (PC), polyurethane, polyphenylene ether (PPE), modified polyphenylene ether (m-PPE), polyarylate, epoxy resin, melamine resin, phenol resin And synthetic resins such as urea resins.
In addition, as the material of the substrate 11, other than the above, ceramics such as glass and silicon can be exemplified.
Further, the substrate 11 may be a combination of two or more materials such as a glass epoxy resin and a polymer alloy.

基板11は、単層からなるものでもよいし、二層以上の複数層からなるものでもよい。基板11が複数層からなる場合、これら複数層は、互いに同一でも異なっていてもよい。すなわち、すべての層が同一であってもよいし、すべての層が異なっていてもよく、一部の層のみが異なっていてもよい。そして、複数層が互いに異なる場合、これら複数層の組み合わせは特に限定されない。ここで、複数層が互いに異なるとは、各層の材質及び厚さの少なくとも一方が互いに異なることを意味する。
なお、基板11が複数層からなる場合には、各層の合計の厚さが、上記の好ましい基板11の厚さとなるようにするとよい。
The substrate 11 may be composed of a single layer, or may be composed of two or more layers. When the substrate 11 includes a plurality of layers, the plurality of layers may be the same or different from each other. That is, all the layers may be the same, all the layers may be different, or only some of the layers may be different. When the plurality of layers are different from each other, the combination of the plurality of layers is not particularly limited. Here, that a plurality of layers are different from each other means that at least one of the material and the thickness of each layer is different from each other.
When the substrate 11 includes a plurality of layers, the total thickness of each layer may be set to the preferable thickness of the substrate 11 described above.

<銀細線>
本発明において、銀細線12は、その線長方向に対して垂直な方向の断面において、幅、即ち、図1(b)に示す幅Wが20μm以下である。本発明においては、図1(b)に示す幅Wが15μm以下であることが好ましく、10μm以下であることがより好ましく、7μm以下であることが特に好ましい。
本発明において、上記範囲の線幅の銀細線を形成するためには、所望の銀細線の幅と同等又は数μm程度狭い幅の溝を有する版を用いて形成すればよい。
例えば、幅Wが18〜20μm程度の銀細線を形成するためには、幅が17μmの溝を有する版が好ましく、幅Wが8〜10μm程度の銀細線を形成するためには、幅が7μmの溝を有する版が好ましく、幅Wが5〜6μm程度の銀細線を形成するためには、幅が4μmの溝を有する版が好ましい。
また、銀細線12の前記断面形状は、図1(b)に示すように、楕円の短軸方向のほぼ半分の領域が切り取られた半楕円形状である。本発明においては、このように銀細線12は、前記断面において、頂上が基板11との接触部よりも幅が小さくなっている。
<Silver wire>
In the present invention, the width of the fine silver wire 12 in the cross section perpendicular to the line length direction, that is, the width W shown in FIG. 1B is 20 μm or less. In the present invention, the width W shown in FIG. 1B is preferably 15 μm or less, more preferably 10 μm or less, and particularly preferably 7 μm or less.
In the present invention, in order to form a silver fine line having a line width in the above range, a silver plate having a groove having a width equal to or smaller than the desired silver fine line by about several μm may be used.
For example, in order to form a silver fine line having a width W of about 18 to 20 μm, a plate having a groove having a width of 17 μm is preferable, and to form a silver fine line having a width W of about 8 to 10 μm, a plate having a width of 7 μm is preferable. A plate having a groove having a width of 4 μm is preferable for forming a fine silver wire having a width W of about 5 to 6 μm.
Further, as shown in FIG. 1B, the cross-sectional shape of the fine silver wire 12 is a semi-elliptical shape obtained by cutting out a substantially half area in the minor axis direction of the ellipse. In the present invention, as described above, in the cross section, the width of the fine silver wire 12 is smaller at the top than at the contact portion with the substrate 11.

本発明において、銀細線12の前記断面形状はこれに限定されず、例えば、図2(a)に示すような台形状、図2(b)に示すような三角形状、図2(c)に示すような二種以上の形状が組み合わされた複合形状等、他の形状でもよく、また、図2(a)〜図2(c)において、角部が丸められた形状であってもよい。
図2(b)に示すように、前記断面において、銀細線12の頂上が非平面である場合には、当然に、銀細線12の頂上は基板11との接触部よりも幅が小さい(幅がゼロである)。そして、図2(a)及び図2(c)に示すように、前記断面において、銀細線12の頂上が平面である場合には、その平面部の幅は、銀細線12の基板11との接触部の幅よりも小さい。
In the present invention, the cross-sectional shape of the fine silver wire 12 is not limited to this, and for example, a trapezoidal shape as shown in FIG. 2A, a triangular shape as shown in FIG. 2B, and a triangular shape as shown in FIG. Other shapes, such as a composite shape in which two or more types of shapes are combined as shown, may be used, and in FIGS. 2A to 2C, the shape may be a rounded corner.
As shown in FIG. 2B, when the top of the silver wire 12 is non-planar in the cross section, the width of the top of the silver wire 12 is naturally smaller than the contact portion with the substrate 11 (width). Is zero). Then, as shown in FIG. 2A and FIG. 2C, when the top of the silver fine wire 12 is a plane in the cross section, the width of the plane portion is different from the width of the silver fine wire 12 with the substrate 11. It is smaller than the width of the contact part.

また、ここでは、銀細線12の前記断面形状は、紙面に向かって左右対称であるが、本発明においては、これに限定されず、左右非対称であってもよい。
また、ここでは、銀細線12の前記断面を模式的に示しており、銀細線12の表面は滑らかであるが、本発明においては、これに限定されず、銀細線12の表面が規則的又は非規則的な凹凸面であってもよい。
すなわち、図1(a)、図1(b)、図2(a)、図2(b)及び図2(c)に示す銀細線12の前記断面形状は、ごく一部の例に過ぎず、本発明の特徴を有している限り、銀細線12の前記断面形状は特に限定されない。
Further, here, the cross-sectional shape of the fine silver wire 12 is symmetrical toward the paper surface. However, the present invention is not limited to this, and may be asymmetrical.
Further, here, the cross section of the silver fine wire 12 is schematically shown, and the surface of the silver fine wire 12 is smooth. However, the present invention is not limited to this, and the surface of the silver fine wire 12 is regular or irregular. Irregular irregular surfaces may be used.
That is, the cross-sectional shape of the fine silver wire 12 shown in FIGS. 1A, 1B, 2A, 2B, and 2C is only a part of the example. The cross-sectional shape of the fine silver wire 12 is not particularly limited as long as it has the features of the present invention.

銀細線12は、前記断面において、基板11の表面11aからの高さが高くなるにしたがって、幅が狭くなっている領域が、銀細線12の高さ方向において80%以上を占めることが好ましく、85%以上を占めることがより好ましく、90%以上を占めることがさらに好ましく、95%以上を占めることが特に好ましく、100%を占めていてもよい。銀細線12は、その線長方向の全領域において、このような断面を有することが好ましい。   In the cross section, it is preferable that, in the cross section, a region whose width becomes narrower as the height from the surface 11a of the substrate 11 becomes higher occupies 80% or more in the height direction of the silver fine wire 12, It preferably occupies 85% or more, more preferably 90% or more, particularly preferably 95% or more, and may occupy 100%. The silver fine wire 12 preferably has such a cross section in the entire region in the line length direction.

銀細線12は、印刷法によって形成されることで、典型的には、上述のような特有の形状を有する。   The silver fine wire 12 is typically formed by a printing method, and thus has a specific shape as described above.

一方、エッチング法で形成された銀細線は、典型的には、前記断面形状が図3に示すような逆台形状か、または四角形状に近い逆台形状となる。
例えば、銀細線12を覆うように基板11の表面11a上に被覆層(図示略)を形成する場合には、銀細線の前記断面形状が図3に示すような形状であると、符号Sで示す銀細線の根元部位(基板との接触部)の近傍領域は、被覆層を形成できずに空隙部を生じ易い。これに対して、銀細線12が図1(a)、図1(b)、図2(a)、図2(b)及び図2(c)に示すような形状であると、上述のような空隙部の発生が高度に抑制される。また、特に銀細線12の表面が図1(b)に示すように尖った形状を有していない場合には、被覆層の構造を安定して保持できるため、被覆層を設けたことによる効果を長期間維持できる。
On the other hand, the thin silver wire formed by the etching method typically has an inverted trapezoidal shape as shown in FIG. 3 or an inverted trapezoidal shape close to a square shape.
For example, when a coating layer (not shown) is formed on the surface 11a of the substrate 11 so as to cover the silver wire 12, the symbol S indicates that the cross-sectional shape of the silver wire is as shown in FIG. In the region near the root portion (contact portion with the substrate) of the shown silver fine wire, a void portion is likely to be formed because a covering layer cannot be formed. On the other hand, when the fine silver wire 12 has a shape as shown in FIGS. 1 (a), 1 (b), 2 (a), 2 (b), and 2 (c), as described above. The generation of a large void is highly suppressed. Further, especially when the surface of the fine silver wire 12 does not have a sharp shape as shown in FIG. 1 (b), the structure of the coating layer can be stably maintained. Can be maintained for a long time.

銀細線12は、前記断面において、幅Wに対する高さHの比(H/W)、すなわちアスペクト比が0.013以上0.025以下である。本発明においては、0.015以上であることがより好まく、0.016以上であることが特に好ましい。
本発明の配線板が備える銀細線は、上記のように高いアスペクト比を有している。このため、線幅が小さく、より微細な銀細線であっても、良好な導電性を有する銀細線とすることができる。
銀細線12は、このような形状であることにより、各種電子機器における電磁波シールド、タッチパネル等の部材としてより好適なものとなる。
The silver fine wire 12 has a ratio of the height H to the width W (H / W) in the cross section, that is, the aspect ratio is 0.013 or more and 0.025 or less. In the present invention, it is more preferably 0.015 or more, and particularly preferably 0.016 or more.
The fine silver wire included in the wiring board of the present invention has a high aspect ratio as described above. For this reason, even if it is a finer silver fine line with a small line width, a silver fine line having good conductivity can be obtained.
The silver wire 12 having such a shape becomes more suitable as a member such as an electromagnetic wave shield and a touch panel in various electronic devices.

銀細線12のピッチ(隣り合う銀細線12間の距離)Pは、目的に応じて任意に設定できるが、例えば、配線板1を電磁波シールド、タッチパネル等の部材として利用する場合には、50〜320μmであることが好ましく、70〜260μmであることがより好ましい。
銀細線12のピッチPは、すべて同じでもよいし、すべて異なっていてもよく、一部のみ異なっていてもよい。例えば、銀細線12のピッチPは、直交する2方向において、互いに同じでもよいし、異なっていてもよい。
The pitch (distance between adjacent silver wires 12) P of the silver wires 12 can be set arbitrarily according to the purpose. For example, when the wiring board 1 is used as a member for an electromagnetic wave shield, a touch panel, or the like, 50 to 50 mm is used. It is preferably 320 μm, more preferably 70 to 260 μm.
The pitches P of the silver wires 12 may be all the same, may be all different, or may be partially different. For example, the pitches P of the silver wires 12 may be the same or different in two orthogonal directions.

銀細線12は、その線長(長手)方向において、幅Wの変動率({[Wの最大値]−[Wの最小値]}/[Wの平均値]×100)が20%以下であることが好ましく、10%以下であることがより好ましい。   Silver wire 12 has a variation rate of width W ({[maximum value of W] − [minimum value of W]}} / [average value of W] × 100) of 20% or less in the line length (longitudinal) direction. Preferably, it is not less than 10%.

本発明において、銀細線の表面粗さは0.25μm以上0.35μm以下である。
表面粗さは、JIS B0601:2001(ISO4287:1997)に基づくものであり、算術平均粗さ(Ra)を意味し、粗さ曲線からその平均線の方向に基準長さlだけを抜き取り、この抜取り部分の平均線の方向にX軸を、縦倍率の方向にY軸を取り、粗さ曲線をy=Z(x)で表したときに、以下の式(II)によって求められた値をマイクロメートル(μm)単位で表示したものである。
In the present invention, the surface roughness of the fine silver wire is 0.25 μm or more and 0.35 μm or less.
The surface roughness is based on JIS B0601: 2001 (ISO4287: 1997), which means arithmetic average roughness (Ra), and only a reference length 1 is extracted from a roughness curve in the direction of the average line. When the X axis is taken in the direction of the average line of the sampled portion and the Y axis is taken in the direction of the vertical magnification, and the roughness curve is represented by y = Z (x), the value obtained by the following equation (II) is obtained. It is displayed in units of micrometers (μm).

Figure 0006650295
Figure 0006650295

本発明において、銀細線の表面粗さ(Ra)は、0.34μm以下であることが好ましく、0.33μm以下であることがより好ましい。
本発明の配線板が備える銀細線は、表面粗さが上記下限値以上であると、適度な粗さが実現できるため平滑過ぎず、例えばタッチパネル等に使用した場合に、特定方向から目視した際の光の反射を適度に抑えることができる。このため、光の反射による配線の視認性を抑制できる。
また、表面粗さが上記上限値以下であると、配線に適度な濡れ性を付与でき、例えば、配線上に他の物質を積層する場合に、良好な濡れ性とすることができる。
In the present invention, the surface roughness (Ra) of the fine silver wire is preferably 0.34 μm or less, more preferably 0.33 μm or less.
The silver fine wire included in the wiring board of the present invention is not too smooth because the surface roughness is equal to or more than the lower limit, and a moderate roughness can be realized, for example, when used for a touch panel or the like, when viewed from a specific direction. Light reflection can be suppressed appropriately. Therefore, visibility of the wiring due to light reflection can be suppressed.
Further, when the surface roughness is equal to or less than the above upper limit, an appropriate wettability can be imparted to the wiring. For example, when another substance is laminated on the wiring, good wettability can be obtained.

銀細線12は、金属銀を主成分とするものであり、金属銀の比率が、見かけ上金属銀だけからなるとみなし得る程度に十分に高く、銀細線12中の金属銀の比率は、好ましくは99質量%以上である。銀細線12の金属銀の比率の上限値は、例えば、99.9質量%、99.8質量%、99.7質量%、99.6質量%、99.5質量%、99.4質量%、99.3質量%、99.2質量%及び99.1質量%のいずれかから選択できる。
銀細線12は導電性が高く、銀細線12は、体積抵抗率が15μΩ・cm以下であることが好ましく、12μΩ・cm以下であることがより好ましく、10μΩ・cm以下であることが特に好ましい。
The silver fine wire 12 is mainly composed of metallic silver, and the ratio of metallic silver is sufficiently high that it can be considered that the metallic silver is composed of only metallic silver, and the ratio of metallic silver in the fine silver wire 12 is preferably It is 99% by mass or more. The upper limit of the ratio of metallic silver in the fine silver wire 12 is, for example, 99.9% by mass, 99.8% by mass, 99.7% by mass, 99.6% by mass, 99.5% by mass, 99.4% by mass. , 99.3% by mass, 99.2% by mass and 99.1% by mass.
The silver fine wire 12 has high conductivity, and the volume resistivity of the silver fine wire 12 is preferably 15 μΩ · cm or less, more preferably 12 μΩ · cm or less, and particularly preferably 10 μΩ · cm or less.

配線板1は、光の透過率と、銀細線12が形成されていない基板11の光の透過率との差が、同一波長の光で15%以下であることが好ましく、12%以下であることがより好ましく、10%以下であることが特に好ましい。配線板1は、このような条件を満たすことにより、各種電子機器における電磁波シールド、タッチパネル等の部材としてより好適なものとなる。   The difference between the light transmittance of the wiring board 1 and the light transmittance of the substrate 11 on which the silver fine wires 12 are not formed is preferably 15% or less, and more preferably 12% or less, for the light having the same wavelength. More preferably, it is particularly preferably 10% or less. By satisfying such conditions, the wiring board 1 becomes more suitable as a member for an electromagnetic wave shield, a touch panel, and the like in various electronic devices.

本発明において、「配線板の光の透過率」とは、配線板の銀細線の形成箇所及び非形成箇所(すなわち基板)を共に含む任意の領域における、配線板の厚さ方向での光の透過率を意味し、配線板の銀細線の影響を受ける領域における光の透過率と、配線板の銀細線の影響を受けない領域における光の透過率とから求められる、光の透過率の平均値か、又はこの平均値に近似可能なものといえる。   In the present invention, the “light transmittance of the wiring board” refers to the light transmission in the thickness direction of the wiring board in an arbitrary region including both a portion where the fine silver wire is formed and a portion where the fine silver wire is not formed (that is, the substrate). Mean transmittance, the average of light transmittance obtained from the light transmittance in the area of the wiring board affected by the silver fine lines and the light transmittance in the area of the wiring board not affected by the silver fine lines. Value or an approximation to this average value.

本発明において、透過率を測定する光は、可視光であり、その波長は好ましくは360〜830nmである。上述の光の透過率の差は、同じ波長の光で求める。   In the present invention, the light for measuring the transmittance is visible light, and its wavelength is preferably from 360 to 830 nm. The difference in light transmittance described above is obtained with light having the same wavelength.

本発明において、上述の配線板の光の透過率と、銀細線が形成されていない基板(銀細線の影響を受けない基板)の光の透過率との差は、銀細線を備えたことによる光の透過性の低下の程度を反映するが、銀細線が微細であることで、小さい値に抑制される。   In the present invention, the difference between the light transmittance of the above-described wiring board and the light transmittance of a substrate on which silver fine lines are not formed (a substrate not affected by the silver fine lines) is due to the provision of the silver fine lines. This reflects the degree of decrease in light transmittance, but is suppressed to a small value due to the fine silver fine lines.

配線板1は、基板11及び銀細線12以外に、本発明の効果を損なわない範囲内において、一又は二以上のその他の構成を備えていてもよい。前記その他の構成は、目的に応じて任意に選択できる。   The wiring board 1 may have one or more other configurations other than the substrate 11 and the fine silver wires 12 as long as the effects of the present invention are not impaired. The other configurations can be arbitrarily selected according to the purpose.

ここでは、配線板として、複数本の銀細線が直交する2方向に平行して配置され、網目を形成している例を示しているが、本実施形態に係る配線板はこれに限定されず、銀細線が他のパターンを形成していてもよい。
銀細線が形成する他のパターンとしては、複数本の銀細線が交差する(交わる)角度が、上述のような90°ではなく、90°以外の角度であるもの、銀細線の一部又はすべてが直線ではなく曲線であるもの、複数本の銀細線が交差することなく配置されているもの(複数本の銀細線が交差することなく1方向に平行して配置されている場合等、縞模様を形成しているもの)等が例示できる。
配線板が有する銀細線のパターンは、一種のみでもよいし、二種以上でもよく、二種以上である場合、その組み合わせは任意に選択できる。
Here, as the wiring board, an example is shown in which a plurality of silver fine wires are arranged in parallel in two orthogonal directions to form a mesh, but the wiring board according to the present embodiment is not limited to this. Alternatively, the fine silver wire may form another pattern.
As other patterns formed by the silver fine lines, the angle at which a plurality of silver fine lines intersect (intersect) is not 90 ° as described above but an angle other than 90 °, and a part or all of the silver fine lines. Is not a straight line but a curve, and a plurality of silver fine lines are arranged without intersecting (for example, a case where a plurality of silver fine lines are arranged in parallel in one direction without intersecting, Are formed).
The pattern of the fine silver wire included in the wiring board may be only one kind or two or more kinds. When there are two or more kinds, the combination can be arbitrarily selected.

<<配線板の製造方法>>
本発明に係る配線板は、基板上に印刷法によって銀細線を形成する工程を有する製造方法で製造できる。
<< Production method of wiring board >>
The wiring board according to the present invention can be manufactured by a manufacturing method including a step of forming fine silver wires on a substrate by a printing method.

銀細線は、これを形成するための組成物(以下、「銀細線用組成物」と略記することがある)を調製し、これを用いて基板上に印刷法によってパターンを形成し、乾燥処理や加熱(焼成)処理等の固化処理を適宜選択して行うことで形成できる。加熱処理は、乾燥処理を兼ねて行ってもよい。   For the silver fine wire, a composition for forming the silver fine wire (hereinafter, may be abbreviated as “composition for silver fine wire”) is prepared, and a pattern is formed on the substrate by a printing method using the composition. It can be formed by appropriately selecting and performing a solidification treatment such as heating or baking. The heat treatment may be performed also as a drying treatment.

本発明においては、印刷法として公知の方法を適用でき、なかでもグラビア印刷法に代表される凹版印刷が好ましく、グラビアオフセット印刷法が最も好ましく適用できる。
本発明で用いる印刷装置も、公知のものでよく、例えば、グラビア印刷法に代表される凹版印刷であれば、金属製で表面に銀細線の型となる溝を有する凹版を備えたものを用いることができる。オフセットロールとしては、金属製の筒体の表面がブランケット材で被覆されたものを用いることができ、ブランケット材の材質としては、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、ウレタン樹脂、合成ゴム、天然ゴム等の弾性材が例示でき、これらの中でも、耐久性、耐油性が高く、さらに十分な弾性とともに適度にコシを有している点で、特にシリコーン樹脂が好ましく、硬質の基板に対してグラビアオフセット印刷を行うのに特に好適である。
In the present invention, a known method can be applied as a printing method, among which intaglio printing represented by a gravure printing method is preferable, and a gravure offset printing method is most preferable.
The printing device used in the present invention may also be a known device. For example, in the case of intaglio printing represented by a gravure printing method, an intaglio plate having a metal and having a groove having a shape of a silver fine wire on the surface is used. be able to. As the offset roll, a metal cylinder body whose surface is covered with a blanket material can be used. As the material of the blanket material, silicone resin, fluorine resin, urethane resin, synthetic rubber, natural rubber, etc. In particular, silicone resin is preferable in that it has high durability and oil resistance, and has sufficient elasticity and moderate stiffness, and gravure offset printing is performed on a hard substrate. It is particularly suitable for

本発明においては、前記銀細線用組成物として、金属銀の形成材料が配合されてなる銀インク組成物を用いることが好ましい。
前記金属銀の形成材料は、銀原子(元素)を有し、分解等の構造変化によって金属銀を生じるものであればよく、銀塩、銀錯体、有機銀化合物(銀−炭素結合を有する化合物)等が例示できる。前記銀塩及び銀錯体は、有機基を有する銀化合物及び有機基を有しない銀化合物のいずれでもよい。なかでも金属銀の形成材料は、加熱によって分解し、金属銀を形成するものが好ましく、銀塩であることが好ましい。
金属銀の形成材料を用いることで、前記材料から金属銀が生じ、この金属銀を含む銀細線が形成される。この場合の銀細線は、先に説明したように、金属銀を主成分とするものであり、金属銀の比率が十分に高い。
In the present invention, it is preferable to use a silver ink composition containing a material for forming metallic silver as the silver fine wire composition.
The forming material of the metallic silver may be any material having a silver atom (element) and generating metallic silver by a structural change such as decomposition, and may be a silver salt, a silver complex, an organic silver compound (a compound having a silver-carbon bond). ) Can be exemplified. The silver salt and the silver complex may be either a silver compound having an organic group or a silver compound having no organic group. Above all, the material for forming metallic silver is preferably one that decomposes by heating to form metallic silver, and is preferably a silver salt.
By using the forming material of metallic silver, metallic silver is generated from the material, and a fine silver wire containing the metallic silver is formed. As described above, the silver fine wire in this case is mainly composed of metallic silver, and the ratio of metallic silver is sufficiently high.

前記銀インク組成物としては、金属銀の形成材料が均一に分散されたものが好ましい。   The silver ink composition is preferably one in which a material for forming metallic silver is uniformly dispersed.

[カルボン酸銀]
金属銀の形成材料としては、式「−COOAg」で表される基を有するカルボン酸銀が例示できる。
本発明において、カルボン酸銀は、一種を単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。二種以上を併用する場合、その組み合わせ及び比率は、任意に調節できる。
前記カルボン酸銀は、式「−COOAg」で表される基を有していれば特に限定されない。例えば、式「−COOAg」で表される基の数は1個のみでもよいし、2個以上でもよい。また、カルボン酸銀中の式「−COOAg」で表される基の位置も特に限定されない。
[Silver carboxylate]
Examples of the material for forming metallic silver include silver carboxylate having a group represented by the formula “—COOAg”.
In the present invention, one kind of silver carboxylate may be used alone, or two or more kinds may be used in combination. When two or more kinds are used in combination, the combination and ratio can be arbitrarily adjusted.
The silver carboxylate is not particularly limited as long as it has a group represented by the formula “—COOAg”. For example, the number of groups represented by the formula “—COOAg” may be only one, or may be two or more. Further, the position of the group represented by the formula “—COOAg” in the silver carboxylate is not particularly limited.

前記カルボン酸銀は、下記一般式(1)で表わされるβ−ケトカルボン酸銀(以下、「β−ケトカルボン酸銀(1)」と略記することがある)及び下記一般式(4)で表されるカルボン酸銀(以下、「カルボン酸銀(4)」と略記することがある)からなる群から選択される一種以上であることが好ましい。
なお、本明細書においては、単なる「カルボン酸銀」との記載は、特に断りの無い限り、「β−ケトカルボン酸銀(1)」及び「カルボン酸銀(4)」だけではなく、これらを包括する、「式「−COOAg」で表される基を有するカルボン酸銀」を意味するものとする。
The silver carboxylate is represented by silver β-ketocarboxylate represented by the following general formula (1) (hereinafter sometimes abbreviated as “silver β-ketocarboxylate (1)”) and the following general formula (4). It is preferably at least one selected from the group consisting of silver carboxylate (hereinafter sometimes abbreviated as “silver carboxylate (4)”).
In the present specification, the term “silver carboxylate” is not limited to “silver β-ketocarboxylate (1)” and “silver carboxylate (4)” unless otherwise specified. It is intended to mean “silver carboxylate having a group represented by the formula“ —COOAg ”” inclusive.

Figure 0006650295
(式中、Rは1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよい炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基若しくはフェニル基、水酸基、アミノ基、又は一般式「R−CY −」、「CY −」、「R−CHY−」、「RO−」、「RN−」、「(RO)CY−」若しくは「R−C(=O)−CY −」で表される基であり;
はそれぞれ独立にフッ素原子、塩素原子、臭素原子又は水素原子であり;Rは炭素数1〜19の脂肪族炭化水素基又はフェニル基であり;Rは炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基であり;Rは炭素数1〜16の脂肪族炭化水素基であり;R及びRはそれぞれ独立に炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基であり;Rは炭素数1〜19の脂肪族炭化水素基、水酸基又は式「AgO−」で表される基であり;
はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基、ハロゲン原子、1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいフェニル基若しくはベンジル基、シアノ基、N−フタロイル−3−アミノプロピル基、2−エトキシビニル基、又は一般式「RO−」、「RS−」、「R−C(=O)−」若しくは「R−C(=O)−O−」で表される基であり;
は、炭素数1〜10の脂肪族炭化水素基、チエニル基、又は1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいフェニル基若しくはジフェニル基である。)
Figure 0006650295
(In the formula, R represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted with one or more hydrogen atoms or a phenyl group, a hydroxyl group, an amino group, or a compound represented by the general formula “R 1 -CY 1 2 - "," CY 1 3 - "," R 1 -CHY 1 - "," R 2 O - "," R 5 R 4 N -, "" (R 3 O) 2 CY 1 - "or" R 6 -C (= O) -CY 1 2 - be a group represented by ";
Y 1 is each independently a fluorine atom, chlorine atom, bromine atom or hydrogen atom; R 1 is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms or a phenyl group; R 2 is an aliphatic having 1 to 20 carbon atoms R 3 is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms; R 4 and R 5 are each independently an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms; R 6 is An aliphatic hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms, a hydroxyl group or a group represented by the formula "AgO-";
X 1 is each independently a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen atom, a phenyl group or a benzyl group in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent, a cyano group, - phthaloyl-3-aminopropyl group, 2-ethoxyethyl vinyl group, or the general formula "R 7 O -", "R 7 S -", "R 7 -C (= O) -" or "R 7 -C ( OO) -O- ";
R 7 is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a thienyl group, or a phenyl group or a diphenyl group in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent. )

Figure 0006650295
(式中、Rは炭素数1〜19の脂肪族炭化水素基、カルボキシ基又は式「−C(=O)−OAg」で表される基であり、前記脂肪族炭化水素基がメチレン基を有する場合、1個以上の前記メチレン基はカルボニル基で置換されていてもよい。)
Figure 0006650295
(Wherein, R 8 is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms, a carboxy group or a group represented by the formula “—C (= O) —OAg”, wherein the aliphatic hydrocarbon group is a methylene group. Wherein one or more of the methylene groups may be substituted with a carbonyl group.)

(β−ケトカルボン酸銀(1))
β−ケトカルボン酸銀(1)は、前記一般式(1)で表される。
式中、Rは1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよい炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基若しくはフェニル基、水酸基、アミノ基、又は一般式「R−CY −」、「CY −」、「R−CHY−」、「RO−」、「RN−」、「(RO)CY−」若しくは「R−C(=O)−CY −」で表される基である。
(Silver β-ketocarboxylate (1))
Silver β-ketocarboxylate (1) is represented by the general formula (1).
In the formula, R represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted with one or more hydrogen atoms or a phenyl group, a hydroxyl group, an amino group, or a compound represented by the general formula “R 1 -CY 1 2 - "," CY 1 3 - "," R 1 -CHY 1 - "," R 2 O - "," R 5 R 4 N -, "" (R 3 O) 2 CY 1 - "or" R 6 -C (= O) -CY 1 2 - "a group represented by.

Rにおける炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状及び環状(脂肪族環式基)のいずれでもよく、環状である場合、単環状及び多環状のいずれでもよい。また、前記脂肪族炭化水素基は、飽和脂肪族炭化水素基及び不飽和脂肪族炭化水素基のいずれでもよい。そして、前記脂肪族炭化水素基は、炭素数が1〜10であることが好ましく、1〜6であることがより好ましい。Rにおける好ましい前記脂肪族炭化水素基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基が例示できる。   The aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms in R may be any of linear, branched and cyclic (aliphatic cyclic group), and when it is cyclic, it may be monocyclic or polycyclic. . Further, the aliphatic hydrocarbon group may be any of a saturated aliphatic hydrocarbon group and an unsaturated aliphatic hydrocarbon group. The aliphatic hydrocarbon group preferably has 1 to 10 carbon atoms, and more preferably 1 to 6 carbon atoms. Preferred examples of the aliphatic hydrocarbon group for R include an alkyl group, an alkenyl group, and an alkynyl group.

Rにおける直鎖状又は分枝鎖状の前記アルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、1−メチルブチル基、2−メチルブチル基、n−ヘキシル基、1−メチルペンチル基、2−メチルペンチル基、3−メチルペンチル基、4−メチルペンチル基、1,1−ジメチルブチル基、2,2−ジメチルブチル基、3,3−ジメチルブチル基、2,3−ジメチルブチル基、1−エチルブチル基、2−エチルブチル基、3−エチルブチル基、1−エチル−1−メチルプロピル基、n−ヘプチル基、1−メチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、3−メチルヘキシル基、4−メチルヘキシル基、5−メチルヘキシル基、1,1−ジメチルペンチル基、2,2−ジメチルペンチル基、2,3−ジメチルペンチル基、2,4−ジメチルペンチル基、3,3−ジメチルペンチル基、4,4−ジメチルペンチル基、1−エチルペンチル基、2−エチルペンチル基、3−エチルペンチル基、4−エチルペンチル基、2,2,3−トリメチルブチル基、1−プロピルブチル基、n−オクチル基、イソオクチル基、1−メチルヘプチル基、2−メチルヘプチル基、3−メチルヘプチル基、4−メチルヘプチル基、5−メチルヘプチル基、1−エチルヘキシル基、2−エチルヘキシル基、3−エチルヘキシル基、4−エチルヘキシル基、5−エチルヘキシル基、1,1−ジメチルヘキシル基、2,2−ジメチルヘキシル基、3,3−ジメチルヘキシル基、4,4−ジメチルヘキシル基、5,5−ジメチルヘキシル基、1−プロピルペンチル基、2−プロピルペンチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基が例示できる。
Rにおける環状の前記アルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、1−アダマンチル基、2−アダマンチル基、トリシクロデシル基が例示できる。
Examples of the linear or branched alkyl group for R include a methyl group, an ethyl group, a n-propyl group, an isopropyl group, a n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, and a -Pentyl, isopentyl, neopentyl, tert-pentyl, 1-methylbutyl, 2-methylbutyl, n-hexyl, 1-methylpentyl, 2-methylpentyl, 3-methylpentyl, 4- Methylpentyl, 1,1-dimethylbutyl, 2,2-dimethylbutyl, 3,3-dimethylbutyl, 2,3-dimethylbutyl, 1-ethylbutyl, 2-ethylbutyl, 3-ethylbutyl A 1-ethyl-1-methylpropyl group, an n-heptyl group, a 1-methylhexyl group, a 2-methylhexyl group, a 3-methylhexyl group, -Methylhexyl group, 5-methylhexyl group, 1,1-dimethylpentyl group, 2,2-dimethylpentyl group, 2,3-dimethylpentyl group, 2,4-dimethylpentyl group, 3,3-dimethylpentyl group 4,4-dimethylpentyl, 1-ethylpentyl, 2-ethylpentyl, 3-ethylpentyl, 4-ethylpentyl, 2,2,3-trimethylbutyl, 1-propylbutyl, n -Octyl group, isooctyl group, 1-methylheptyl group, 2-methylheptyl group, 3-methylheptyl group, 4-methylheptyl group, 5-methylheptyl group, 1-ethylhexyl group, 2-ethylhexyl group, 3-ethylhexyl Group, 4-ethylhexyl group, 5-ethylhexyl group, 1,1-dimethylhexyl group, 2,2-dimethylhexyl group, 3, -Dimethylhexyl, 4,4-dimethylhexyl, 5,5-dimethylhexyl, 1-propylpentyl, 2-propylpentyl, nonyl, decyl, undecyl, dodecyl, tridecyl, tetradecyl Pentadecyl group, hexadecyl group, heptadecyl group, octadecyl group, nonadecyl group and icosyl group.
Examples of the cyclic alkyl group represented by R include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, a cyclononyl group, a cyclodecyl group, a norbornyl group, an isobornyl group, a 1-adamantyl group, An adamantyl group and a tricyclodecyl group can be exemplified.

Rにおける前記アルケニル基としては、ビニル基(エテニル基、−CH=CH)、アリル基(2−プロペニル基、−CH−CH=CH)、1−プロペニル基(−CH=CH−CH)、イソプロペニル基(−C(CH)=CH)、1−ブテニル基(−CH=CH−CH−CH)、2−ブテニル基(−CH−CH=CH−CH)、3−ブテニル基(−CH−CH−CH=CH)、シクロヘキセニル基、シクロペンテニル基等の、Rにおける前記アルキル基の炭素原子間の1個の単結合(C−C)が二重結合(C=C)に置換された基が例示できる。
Rにおける前記アルキニル基としては、エチニル基(−C≡CH)、プロパルギル基(−CH−C≡CH)等の、Rにおける前記アルキル基の炭素原子間の1個の単結合(C−C)が三重結合(C≡C)に置換された基が例示できる。
Examples of the alkenyl group for R, a vinyl group (ethenyl group, -CH = CH 2), allyl (2-propenyl group, -CH 2 -CH = CH 2) , 1- propenyl group (-CH = CH-CH 3), isopropenyl (-C (CH 3) = CH 2), 1- butenyl group (-CH = CH-CH 2 -CH 3), 2- butenyl group (-CH 2 -CH = CH-CH 3 ), 3-butenyl group (-CH 2 -CH 2 -CH = CH 2), cyclohexenyl group, such as cyclopentenyl group, one single bond between carbon atoms of the alkyl group in R (C-C) Can be exemplified by a group substituted by a double bond (C = C).
Examples of the alkynyl group for R include one single bond (C—C) between carbon atoms of the alkyl group for R such as an ethynyl group (—C≡CH) and a propargyl group (—CH 2 —C≡CH). ) Is substituted by a triple bond (C≡C).

Rにおける炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基は、1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよく、好ましい前記置換基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が例示できる。また、置換基の数及び位置は特に限定されない。そして、置換基の数が複数である場合、これら複数個の置換基は互いに同一でも異なっていてもよい。すなわち、すべての置換基が同一であってもよいし、すべての置換基が異なっていてもよく、一部の置換基のみが異なっていてもよい。   The aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms in R may have one or more hydrogen atoms substituted with a substituent, and preferred examples of the substituent include a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom. . The number and position of the substituent are not particularly limited. When the number of the substituents is plural, these plural substituents may be the same or different. That is, all the substituents may be the same, all the substituents may be different, or only some of the substituents may be different.

Rにおけるフェニル基は、1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよく、好ましい前記置換基としては、炭素数が1〜16の飽和又は不飽和の一価の脂肪族炭化水素基、前記脂肪族炭化水素基が酸素原子に結合してなる一価の基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、水酸基(−OH)、シアノ基(−C≡N)、フェノキシ基(−O−C)等が例示でき、置換基の数及び位置は特に限定されない。そして、置換基の数が複数である場合、これら複数個の置換基は互いに同一でも異なっていてもよい。
置換基である前記脂肪族炭化水素基としては、炭素数が1〜16である点以外は、Rにおける前記脂肪族炭化水素基と同様のものが例示できる。
The phenyl group for R may have one or more hydrogen atoms substituted with a substituent, and the preferable substituent is a saturated or unsaturated monovalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms. A monovalent group formed by bonding the aliphatic hydrocarbon group to an oxygen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, a hydroxyl group (—OH), a cyano group (—C≡N), and a phenoxy group (—O— C 6 H 5 ) and the like, and the number and positions of the substituents are not particularly limited. When the number of the substituents is plural, these plural substituents may be the same or different.
Exemplified as the aliphatic hydrocarbon group as the substituent is the same as the above-mentioned aliphatic hydrocarbon group for R except that the aliphatic hydrocarbon group has 1 to 16 carbon atoms.

RにおけるYは、それぞれ独立にフッ素原子、塩素原子、臭素原子又は水素原子である。そして、一般式「R−CY −」、「CY −」及び「R−C(=O)−CY −」においては、それぞれ複数個のYは、互いに同一でも異なっていてもよい。 Y 1 in R is each independently a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or a hydrogen atom. Then, the general formula "R 1 -CY 1 2 -", "CY 1 3 -" and "R 6 -C (= O) -CY 1 2 - " In a plurality of Y 1 are each, also identical to one another It may be different.

RにおけるRは、炭素数1〜19の脂肪族炭化水素基又はフェニル基(C−)であり、Rにおける前記脂肪族炭化水素基としては、炭素数が1〜19である点以外は、Rにおける前記脂肪族炭化水素基と同様のものが例示できる。
RにおけるRは、炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基であり、Rにおける前記脂肪族炭化水素基と同様のものが例示できる。
RにおけるRは、炭素数1〜16の脂肪族炭化水素基であり、炭素数が1〜16である点以外は、Rにおける前記脂肪族炭化水素基と同様のものが例示できる。
RにおけるR及びRは、それぞれ独立に炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基である。すなわち、R及びRは、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素数が1〜18である点以外は、Rにおける前記脂肪族炭化水素基と同様のものが例示できる。
RにおけるRは、炭素数1〜19の脂肪族炭化水素基、水酸基又は式「AgO−」で表される基であり、Rにおける前記脂肪族炭化水素基としては、炭素数が1〜19である点以外は、Rにおける前記脂肪族炭化水素基と同様のものが例示できる。
R 1 in R is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms or a phenyl group (C 6 H 5 −), and the aliphatic hydrocarbon group in R 1 has 1 to 19 carbon atoms. Except for the point, the same as the above-mentioned aliphatic hydrocarbon group for R can be exemplified.
R 2 in R is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and examples thereof include the same as the above-mentioned aliphatic hydrocarbon group in R.
R 3 in R is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms, and the same as the above-mentioned aliphatic hydrocarbon group in R can be exemplified except that the carbon number is 1 to 16.
R 4 and R 5 in R are each independently an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms. That is, R 4 and R 5 may be the same or different from each other, and may be the same as the above-mentioned aliphatic hydrocarbon group for R, except that they have 1 to 18 carbon atoms.
R 6 in R is an aliphatic hydrocarbon group of 1 to 19 carbon atoms, a group represented by a hydroxyl group or a formula "AgO-" The aliphatic hydrocarbon group for R 6,. 1 to carbon atoms Except for the point of 19, the same as the above-mentioned aliphatic hydrocarbon group for R can be exemplified.

Rは、上記の中でも、直鎖状若しくは分枝鎖状のアルキル基、一般式「R−C(=O)−CY −」で表される基、水酸基又はフェニル基であることが好ましい。そして、Rは、直鎖状若しくは分枝鎖状のアルキル基、水酸基又は式「AgO−」で表される基であることが好ましい。 R is, among these, a linear or branched alkyl group, the general formula "R 6 -C (= O) -CY 1 2 - " group represented by be a hydroxyl group or a phenyl group preferable. R 6 is preferably a linear or branched alkyl group, a hydroxyl group, or a group represented by the formula “AgO—”.

一般式(1)において、Xはそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基、ハロゲン原子、1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいフェニル基若しくはベンジル基(C−CH−)、シアノ基、N−フタロイル−3−アミノプロピル基、2−エトキシビニル基(C−O−CH=CH−)、又は一般式「RO−」、「RS−」、「R−C(=O)−」若しくは「R−C(=O)−O−」で表される基である。
における炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基としては、Rにおける前記脂肪族炭化水素基と同様のものが例示できる。
In the general formula (1), X 1 is each independently a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen atom, a phenyl group in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent or A benzyl group (C 6 H 5 —CH 2 —), a cyano group, an N-phthaloyl-3-aminopropyl group, a 2-ethoxyvinyl group (C 2 H 5 —O—CH = CH—), or a compound represented by the general formula “R 7 O - "," R 7 S - "," R 7 -C (= O) - "or" a group represented by R 7 -C (= O) -O-. "
As the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms for X 1, the same as the aforementioned aliphatic hydrocarbon group for R can be exemplified.

におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が例示できる。
におけるフェニル基及びベンジル基は、1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよく、好ましい前記置換基としては、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、ニトロ基(−NO)等が例示でき、置換基の数及び位置は特に限定されない。そして、置換基の数が複数である場合、これら複数個の置換基は互いに同一でも異なっていてもよい。
The halogen atom in X 1, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom can be exemplified.
The phenyl group and the benzyl group in X 1 may have one or more hydrogen atoms substituted with a substituent. Preferred examples of the substituent include a halogen atom (a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom). A nitro group (—NO 2 ) can be exemplified, and the number and position of the substituent are not particularly limited. When the number of the substituents is plural, these plural substituents may be the same or different.

におけるRは、炭素数1〜10の脂肪族炭化水素基、チエニル基(CS−)、又は1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいフェニル基若しくはジフェニル基(ビフェニル基、C−C−)である。Rにおける前記脂肪族炭化水素基としては、炭素数が1〜10である点以外は、Rにおける前記脂肪族炭化水素基と同様のものが例示できる。また、Rにおけるフェニル基及びジフェニル基の前記置換基としては、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)等が例示でき、置換基の数及び位置は特に限定されない。そして、置換基の数が複数である場合、これら複数個の置換基は互いに同一でも異なっていてもよい。
がチエニル基又はジフェニル基である場合、これらの、Xにおいて隣接する基又は原子(酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基)との結合位置は、特に限定されない。例えば、チエニル基は、2−チエニル基及び3−チエニル基のいずれでもよい。
R 7 in X 1 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a thienyl group (C 4 H 3 S—), a phenyl group in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent, diphenyl group (biphenyl group, C 6 H 5 -C 6 H 4 -) is. Examples of the aliphatic hydrocarbon group for R 7 are the same as those for the aliphatic hydrocarbon group for R, except that the aliphatic hydrocarbon group has 1 to 10 carbon atoms. Examples of the substituent of the phenyl group and the diphenyl group in R 7 include a halogen atom (a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom), and the number and position of the substituent are not particularly limited. When the number of the substituents is plural, these plural substituents may be the same or different.
When R 7 is a thienyl group or a diphenyl group, the bonding position of the group or the atom (oxygen atom, sulfur atom, carbonyl group, carbonyloxy group) adjacent to X 1 is not particularly limited. For example, the thienyl group may be any of a 2-thienyl group and a 3-thienyl group.

一般式(1)において、2個のXは、2個のカルボニル基で挟まれた炭素原子と二重結合を介して1個の基として結合していてもよく、このようなものとしては式「=CH−C−NO」で表される基が例示できる。 In the general formula (1), two X 1 may be bonded as a single group via a double bond to a carbon atom sandwiched between two carbonyl groups. A group represented by the formula “= CH—C 6 H 4 —NO 2 ” can be exemplified.

は、上記の中でも、水素原子、直鎖状若しくは分枝鎖状のアルキル基、ベンジル基、又は一般式「R−C(=O)−」で表される基であることが好ましく、少なくとも一方のXが水素原子であることが好ましい。 X 1 is preferably a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group, a benzyl group, or a group represented by the general formula “R 7 —C (= O) —” among the above. , It is preferable that at least one X 1 is a hydrogen atom.

β−ケトカルボン酸銀(1)は、2−メチルアセト酢酸銀(CH−C(=O)−CH(CH)−C(=O)−OAg)、アセト酢酸銀(CH−C(=O)−CH−C(=O)−OAg)、2−エチルアセト酢酸銀(CH−C(=O)−CH(CHCH)−C(=O)−OAg)、プロピオニル酢酸銀(CHCH−C(=O)−CH−C(=O)−OAg)、イソブチリル酢酸銀((CHCH−C(=O)−CH−C(=O)−OAg)、ピバロイル酢酸銀((CHC−C(=O)−CH−C(=O)−OAg)、カプロイル酢酸銀(CH(CHCH−C(=O)−CH−C(=O)−OAg)、2−n−ブチルアセト酢酸銀(CH−C(=O)−CH(CHCHCHCH)−C(=O)−OAg)、2−ベンジルアセト酢酸銀(CH−C(=O)−CH(CH)−C(=O)−OAg)、ベンゾイル酢酸銀(C−C(=O)−CH−C(=O)−OAg)、ピバロイルアセト酢酸銀((CHC−C(=O)−CH−C(=O)−CH−C(=O)−OAg)、イソブチリルアセト酢酸銀((CHCH−C(=O)−CH−C(=O)−CH−C(=O)−OAg)、2−アセチルピバロイル酢酸銀((CHC−C(=O)−CH(−C(=O)−CH)−C(=O)−OAg)、2−アセチルイソブチリル酢酸銀((CHCH−C(=O)−CH(−C(=O)−CH)−C(=O)−OAg)、又はアセトンジカルボン酸銀(AgO−C(=O)−CH−C(=O)−CH−C(=O)−OAg)であることが好ましい。 Silver β-ketocarboxylate (1) is composed of silver 2-methylacetoacetate (CH 3 —C (= O) —CH (CH 3 ) —C (= O) —OAg) and silver acetoacetate (CH 3 —C (= O) -CH 2 -C (= O ) -OAg), 2- ethylacetoacetate silver (CH 3 -C (= O) -CH (CH 2 CH 3) -C (= O) -OAg), propionyl silver acetate (CH 3 CH 2 -C (= O) -CH 2 -C (= O) -OAg), isobutyryl silver acetate ((CH 3) 2 CH- C (= O) -CH 2 -C (= O) - OAg), silver pivaloyl acetate ((CH 3 ) 3 C—C (= O) —CH 2 —C (= O) —OAg), silver caproyl acetate (CH 3 (CH 2 ) 3 CH 2 —C (= O ) -CH 2 -C (= O) -OAg), 2-n- Buchiruaseto silver acetate (CH 3 -C (= O) -CH (C H 2 CH 2 CH 2 CH 3 ) -C (= O) -OAg), 2- benzyl acetoacetate silver (CH 3 -C (= O) -CH (CH 2 C 6 H 5) -C (= O) -OAg), silver benzoylacetate (C 6 H 5 -C (= O) -CH 2 -C (= O) -OAg), Pibaroiruaseto silver acetate ((CH 3) 3 C- C (= O) -CH 2 —C (= O) —CH 2 —C (= O) —OAg), silver isobutyryl acetoacetate ((CH 3 ) 2 CH—C (= O) —CH 2 —C (= O) —CH 2 -C (= O) -OAg), 2- acetyl pivaloyl silver acetate ((CH 3) 3 C- C (= O) -CH (-C (= O) -CH 3) -C (= O) -OAg), 2- acetyl isobutyryl silver acetate ((CH 3) 2 CH- C (= O) -CH (-C (= O) -CH 3) -C (= O) - Ag), or is preferably acetone dicarboxylic silver (AgO-C (= O) -CH 2 -C (= O) -CH 2 -C (= O) -OAg).

β−ケトカルボン酸銀(1)は、乾燥処理や加熱(焼成)処理等の固化処理により形成された導電体(金属銀)において、残存する原料や不純物の濃度をより低減できる。原料や不純物が少ない程、例えば、形成された金属銀同士の接触が良好となり、導通が容易となり、抵抗率が低下する。   Silver β-ketocarboxylate (1) can further reduce the concentration of remaining raw materials and impurities in a conductor (metal silver) formed by a solidification treatment such as a drying treatment or a heating (firing) treatment. As the amount of raw materials and impurities is smaller, for example, the formed metal silver contacts better, conduction is facilitated, and the resistivity decreases.

β−ケトカルボン酸銀(1)は、後述するように、当該分野で公知の還元剤等を使用しなくても、好ましくは60〜210℃、より好ましくは60〜200℃という低温で分解し、金属銀を形成することが可能である。そして、還元剤と併用することで、より低温で分解して金属銀を形成する。還元剤については後ほど説明する。   As described later, the β-ketocarboxylate (1) decomposes at a low temperature of preferably 60 to 210 ° C, more preferably 60 to 200 ° C, without using a reducing agent known in the art, It is possible to form metallic silver. Then, when used in combination with a reducing agent, it decomposes at lower temperature to form metallic silver. The reducing agent will be described later.

本発明において、β−ケトカルボン酸銀(1)は、一種を単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。二種以上を併用する場合、その組み合わせ及び比率は、任意に調節できる。   In the present invention, one kind of silver β-ketocarboxylate (1) may be used alone, or two or more kinds may be used in combination. When two or more kinds are used in combination, the combination and ratio can be arbitrarily adjusted.

(カルボン酸銀(4))
カルボン酸銀(4)は、前記一般式(4)で表される。
式中、Rは炭素数1〜19の脂肪族炭化水素基、カルボキシ基(−COOH)又は式「−C(=O)−OAg」で表される基である。
における前記脂肪族炭化水素基としては、炭素数が1〜19である点以外は、Rにおける前記脂肪族炭化水素基と同様のものが例示できる。ただし、Rにおける前記脂肪族炭化水素基は、炭素数が1〜15であることが好ましく、1〜10であることがより好ましい。
(Silver carboxylate (4))
The silver carboxylate (4) is represented by the general formula (4).
In the formula, R 8 is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms, a carboxy group (—COOH), or a group represented by the formula “—C (= O) —OAg”.
Examples of the aliphatic hydrocarbon group for R 8 include the same as the above-mentioned aliphatic hydrocarbon group for R except that the aliphatic hydrocarbon group has 1 to 19 carbon atoms. However, the aliphatic hydrocarbon group for R 8 preferably has 1 to 15 carbon atoms, and more preferably 1 to 10 carbon atoms.

における前記脂肪族炭化水素基がメチレン基(−CH−)を有する場合、1個以上の前記メチレン基はカルボニル基で置換されていてもよい。カルボニル基で置換されていてもよいメチレン基の数及び位置は特に限定されず、すべてのメチレン基がカルボニル基で置換されていてもよい。ここで「メチレン基」とは、単独の式「−CH−」で表される基だけでなく、式「−CH−」で表される基が複数個連なったアルキレン基中の1個の式「−CH−」で表される基も含むものとする。 When the aliphatic hydrocarbon group for R 8 has a methylene group (—CH 2 —), one or more methylene groups may be substituted with a carbonyl group. The number and position of the methylene groups that may be substituted with a carbonyl group are not particularly limited, and all methylene groups may be substituted with a carbonyl group. Here, the “methylene group” means not only a group represented by a single formula “—CH 2 —” but also one of an alkylene group in which a plurality of groups represented by the formula “—CH 2 —” are linked. And a group represented by the formula “—CH 2 —”.

カルボン酸銀(4)は、ピルビン酸銀(CH−C(=O)−C(=O)−OAg)、酢酸銀(CH−C(=O)−OAg)、酪酸銀(CH−(CH−C(=O)−OAg)、イソ酪酸銀((CHCH−C(=O)−OAg)、2−エチルへキサン酸銀(CH−(CH−CH(CHCH)−C(=O)−OAg)、ネオデカン酸銀(CH−(CH−C(CH−C(=O)−OAg)、シュウ酸銀(AgO−C(=O)−C(=O)−OAg)、又はマロン酸銀(AgO−C(=O)−CH−C(=O)−OAg)であることが好ましい。また、上記のシュウ酸銀(AgO−C(=O)−C(=O)−OAg)及びマロン酸銀(AgO−C(=O)−CH−C(=O)−OAg)の2個の式「−COOAg」で表される基のうち、1個が式「−COOH」で表される基となったもの(HO−C(=O)−C(=O)−OAg、HO−C(=O)−CH−C(=O)−OAg)も好ましい。 Silver carboxylate (4) includes silver pyruvate (CH 3 —C (= O) —C (= O) —OAg), silver acetate (CH 3 —C (= O) —OAg), and silver butyrate (CH 3 - (CH 2) 2 -C ( = O) -OAg), isobutyric acid silver ((CH 3) 2 CH- C (= O) -OAg), hexane silver 2-ethylhexyl (CH 3 - (CH 2 ) 3 -CH (CH 2 CH 3 ) -C (= O) -OAg), silver neodecanoate (CH 3 - (CH 2) 5 -C (CH 3) 2 -C (= O) -OAg), oxalic Silver oxide (AgO—C (= O) —C (= O) —OAg) or silver malonate (AgO—C (= O) —CH 2 —C (= O) —OAg) is preferred. The silver oxalate (AgO—C (= O) —C () O) —OAg) and silver malonate (AgO—C (= O) —CH 2 —C (= O) —OAg) Of the groups represented by the formula “—COOAg”, one of which is a group represented by the formula “—COOH” (HO—C (= O) —C (= O) —OAg, HO -C (= O) -CH 2 -C (= O) -OAg) it is also preferred.

カルボン酸銀(4)も、β−ケトカルボン酸銀(1)と同様に、乾燥処理や加熱(焼成)処理等の固化処理により形成された導電体(金属銀)において、残存する原料や不純物の濃度をより低減できる。そして、還元剤と併用することで、より低温で分解して金属銀を形成する。   Like the silver β-ketocarboxylate (1), the silver carboxylate (4) also contains residual raw materials and impurities in the conductor (metal silver) formed by solidification such as drying or heating (firing). The concentration can be further reduced. Then, when used in combination with a reducing agent, it decomposes at lower temperature to form metallic silver.

本発明において、カルボン酸銀(4)は、一種を単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。二種以上を併用する場合、その組み合わせ及び比率は、任意に調節できる。   In the present invention, as the silver carboxylate (4), one type may be used alone, or two or more types may be used in combination. When two or more kinds are used in combination, the combination and ratio can be arbitrarily adjusted.

前記カルボン酸銀は、2−メチルアセト酢酸銀、アセト酢酸銀、2−エチルアセト酢酸銀、プロピオニル酢酸銀、イソブチリル酢酸銀、ピバロイル酢酸銀、カプロイル酢酸銀、2−n−ブチルアセト酢酸銀、2−ベンジルアセト酢酸銀、ベンゾイル酢酸銀、ピバロイルアセト酢酸銀、イソブチリルアセト酢酸銀、アセトンジカルボン酸銀、ピルビン酸銀、酢酸銀、酪酸銀、イソ酪酸銀、2−エチルへキサン酸銀、ネオデカン酸銀、シュウ酸銀及びマロン酸銀からなる群から選択される一種以上であることが好ましい。
そして、これらカルボン酸銀の中でも、2−メチルアセト酢酸銀及びアセト酢酸銀は、後述する含窒素化合物(なかでもアミン化合物)との相溶性に優れ、銀インク組成物の高濃度化に、特に適したものとして挙げられる。
The silver carboxylate includes silver 2-methylacetoacetate, silver acetoacetate, silver 2-ethylacetoacetate, silver propionyl acetate, silver isobutyryl acetate, silver pivaloyl acetate, silver caproyl acetate, silver 2-n-butylacetoacetate, and 2-benzylacetate. Silver acetate, silver benzoyl acetate, silver pivaloylacetoacetate, silver isobutyryl acetoacetate, silver acetonedicarboxylate, silver pyruvate, silver acetate, silver butyrate, silver isobutyrate, silver 2-ethylhexanoate, silver neodecanoate, silver It is preferably at least one selected from the group consisting of silver acid and silver malonate.
Among these silver carboxylate, silver 2-methylacetoacetate and silver acetoacetate are excellent in compatibility with nitrogen-containing compounds (among others, amine compounds) described later, and are particularly suitable for increasing the concentration of the silver ink composition. Are listed.

銀インク組成物において、前記金属銀の形成材料に由来する銀の含有量は、5質量%以上であることが好ましく、10質量%以上であることがより好ましい。このような範囲であることで、形成された導電体(金属銀)は品質により優れたものとなる。前記銀の含有量の上限値は、本発明の効果を損なわない限り特に限定されないが、取り扱い性等を考慮すると25質量%であることが好ましい。
なお、本明細書において、「金属銀の形成材料に由来する銀」とは、特に断りの無い限り、銀インク組成物の製造時に配合された前記金属銀の形成材料中の銀を意味し、配合後に引き続き金属銀の形成材料を構成している銀と、配合後に金属銀の形成材料が分解して生じた分解物中の銀及び銀自体と、の両方を含む概念とする。
In the silver ink composition, the content of silver derived from the metal silver forming material is preferably 5% by mass or more, and more preferably 10% by mass or more. By being in such a range, the formed conductor (metallic silver) becomes more excellent in quality. The upper limit of the silver content is not particularly limited as long as the effects of the present invention are not impaired, but is preferably 25% by mass in consideration of handleability and the like.
In the present specification, `` silver derived from the metal silver forming material '' means silver in the metal silver forming material blended at the time of manufacturing the silver ink composition, unless otherwise specified. The concept includes both silver constituting the metal silver forming material after the compounding, and silver and silver itself in a decomposition product generated by decomposition of the metal silver forming material after the compounding.

[含窒素化合物]
前記銀インク組成物は、特に前記金属銀の形成材料が前記カルボン酸銀である場合には、前記金属銀の形成材料以外に、さらに含窒素化合物が配合されていることが好ましい。
前記含窒素化合物は、炭素数25以下のアミン化合物(以下、「アミン化合物」と略記することがある)、炭素数25以下の第4級アンモニウム塩(以下、「第4級アンモニウム塩」と略記することがある)、アンモニア、炭素数25以下のアミン化合物が酸と反応してなるアンモニウム塩(以下、「アミン化合物由来のアンモニウム塩」と略記することがある)、及びアンモニアが酸と反応してなるアンモニウム塩(以下、「アンモニア由来のアンモニウム塩」と略記することがある)からなる群から選択される一種以上である。すなわち、配合される含窒素化合物は、一種のみでよいし、二種以上でもよく、二種以上を併用する場合、その組み合わせ及び比率は、任意に調節できる。
[Nitrogen-containing compound]
The silver ink composition preferably further contains a nitrogen-containing compound in addition to the metal silver forming material, particularly when the metal silver forming material is the silver carboxylate.
The nitrogen-containing compound is an amine compound having 25 or less carbon atoms (hereinafter may be abbreviated as “amine compound”), a quaternary ammonium salt having 25 or less carbon atoms (hereinafter abbreviated as “quaternary ammonium salt”). ), Ammonia, an ammonium salt obtained by reacting an amine compound having 25 or less carbon atoms with an acid (hereinafter may be abbreviated as “ammonium salt derived from an amine compound”), and ammonia reacting with an acid. At least one selected from the group consisting of ammonium salts (hereinafter sometimes abbreviated as "ammonium salts derived from ammonia"). That is, the nitrogen-containing compound to be blended may be only one kind, or two or more kinds. When two or more kinds are used in combination, the combination and ratio thereof can be arbitrarily adjusted.

(アミン化合物、第4級アンモニウム塩)
前記アミン化合物は、炭素数が1〜25であり、第1級アミン、第2級アミン及び第3級アミンのいずれでもよい。また、前記第4級アンモニウム塩は、炭素数が4〜25である。前記アミン化合物及び第4級アンモニウム塩は、鎖状及び環状のいずれでもよい。また、アミン部位又はアンモニウム塩部位を構成する窒素原子(例えば、第1級アミンのアミノ基(−NH)を構成する窒素原子)の数は1個でもよいし、2個以上でもよい。
(Amine compound, quaternary ammonium salt)
The amine compound has 1 to 25 carbon atoms and may be any of a primary amine, a secondary amine and a tertiary amine. In addition, the quaternary ammonium salt has 4 to 25 carbon atoms. The amine compound and the quaternary ammonium salt may be linear or cyclic. Further, the number of nitrogen atoms constituting the amine moiety or ammonium salt moiety (for example, the nitrogen atom constituting the amino group (—NH 2 ) of the primary amine) may be one, or may be two or more.

前記第1級アミンとしては、1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいモノアルキルアミン、モノアリールアミン、モノ(ヘテロアリール)アミン、ジアミン等が例示できる。   Examples of the primary amine include a monoalkylamine, a monoarylamine, a mono (heteroaryl) amine, and a diamine in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent.

前記モノアルキルアミンを構成するアルキル基は、直鎖状、分岐鎖状及び環状のいずれでもよく、Rにおける前記アルキル基と同様のものが例示でき、炭素数が1〜19の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は炭素数が3〜7の環状のアルキル基であることが好ましい。
好ましい前記モノアルキルアミンとして、具体的には、n−ブチルアミン、n−へキシルアミン、n−オクチルアミン、n−ドデシルアミン、n−オクタデシルアミン、sec−ブチルアミン、tert−ブチルアミン、イソブチルアミン、3−アミノペンタン、3−メチルブチルアミン、2−ヘプチルアミン(2−アミノヘプタン)、2−アミノオクタン、2−エチルヘキシルアミン、1,2−ジメチル−n−プロピルアミンが例示できる。
The alkyl group constituting the monoalkylamine may be linear, branched, or cyclic, and examples thereof include the same alkyl groups as those described above for R, and include linear or branched alkyl groups having 1 to 19 carbon atoms. It is preferably a chain alkyl group or a cyclic alkyl group having 3 to 7 carbon atoms.
Preferred examples of the monoalkylamine include n-butylamine, n-hexylamine, n-octylamine, n-dodecylamine, n-octadecylamine, sec-butylamine, tert-butylamine, isobutylamine and 3-aminoamine. Examples include pentane, 3-methylbutylamine, 2-heptylamine (2-aminoheptane), 2-aminooctane, 2-ethylhexylamine, and 1,2-dimethyl-n-propylamine.

前記モノアリールアミンを構成するアリール基としては、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基等が例示でき、炭素数が6〜10であることが好ましい。   Examples of the aryl group constituting the monoarylamine include a phenyl group, a 1-naphthyl group, and a 2-naphthyl group, and preferably have 6 to 10 carbon atoms.

前記モノ(ヘテロアリール)アミンを構成するヘテロアリール基は、芳香族環骨格を構成する原子として、ヘテロ原子を有するものであり、前記ヘテロ原子としては、窒素原子、硫黄原子、酸素原子、ホウ素原子が例示できる。また、芳香族環骨格を構成する前記へテロ原子の数は特に限定されず、1個でもよいし、2個以上でもよい。2個以上である場合、これらへテロ原子は互いに同一でも異なっていてもよい。すなわち、これらへテロ原子は、すべて同じでもよいし、すべて異なっていてもよく、一部だけ異なっていてもよい。
前記ヘテロアリール基は、単環状及び多環状のいずれでもよく、その環員数(環骨格を構成する原子の数)も特に限定されないが、3〜12員環であることが好ましい。
The heteroaryl group constituting the mono (heteroaryl) amine has a hetero atom as an atom constituting an aromatic ring skeleton, and the hetero atom includes a nitrogen atom, a sulfur atom, an oxygen atom, and a boron atom. Can be exemplified. The number of the hetero atoms constituting the aromatic ring skeleton is not particularly limited, and may be one or two or more. When there are two or more, these hetero atoms may be the same or different from each other. That is, these hetero atoms may be all the same, may be all different, or may be partially different.
The heteroaryl group may be monocyclic or polycyclic, and the number of ring members (the number of atoms constituting the ring skeleton) is not particularly limited, but is preferably a 3- to 12-membered ring.

前記ヘテロアリール基で、窒素原子を1〜4個有する単環状のものとしては、ピロリル基、ピロリニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジニル基、ピリダジニル基、トリアゾリル基、テトラゾリル基、ピロリジニル基、イミダゾリジニル基、ピペリジニル基、ピラゾリジニル基、ピペラジニル基が例示でき、3〜8員環であることが好ましく、5〜6員環であることがより好ましい。
前記ヘテロアリール基で、酸素原子を1個有する単環状のものとしては、フラニル基が例示でき、3〜8員環であることが好ましく、5〜6員環であることがより好ましい。
前記ヘテロアリール基で、硫黄原子を1個有する単環状のものとしては、チエニル基が例示でき、3〜8員環であることが好ましく、5〜6員環であることがより好ましい。
前記ヘテロアリール基で、酸素原子を1〜2個及び窒素原子を1〜3個有する単環状のものとしては、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、オキサジアゾリル基、モルホリニル基が例示でき、3〜8員環であることが好ましく、5〜6員環であることがより好ましい。
前記ヘテロアリール基で、硫黄原子を1〜2個及び窒素原子を1〜3個有する単環状のものとしては、チアゾリル基、チアジアゾリル基、チアゾリジニル基が例示でき、3〜8員環であることが好ましく、5〜6員環であることがより好ましい。
前記ヘテロアリール基で、窒素原子を1〜5個有する多環状のものとしては、インドリル基、イソインドリル基、インドリジニル基、ベンズイミダゾリル基、キノリル基、イソキノリル基、インダゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、テトラゾロピリジル基、テトラゾロピリダジニル基、ジヒドロトリアゾロピリダジニル基が例示でき、7〜12員環であることが好ましく、9〜10員環であることがより好ましい。
前記ヘテロアリール基で、硫黄原子を1〜3個有する多環状のものとしては、ジチアナフタレニル基、ベンゾチオフェニル基が例示でき、7〜12員環であることが好ましく、9〜10員環であることがより好ましい。
前記ヘテロアリール基で、酸素原子を1〜2個及び窒素原子を1〜3個有する多環状のものとしては、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾオキサジアゾリル基が例示でき、7〜12員環であることが好ましく、9〜10員環であることがより好ましい。
前記ヘテロアリール基で、硫黄原子を1〜2個及び窒素原子を1〜3個有する多環状のものとしては、ベンゾチアゾリル基、ベンゾチアジアゾリル基が例示でき、7〜12員環であることが好ましく、9〜10員環であることがより好ましい。
Examples of the heteroaryl group having a monocyclic structure having 1 to 4 nitrogen atoms include a pyrrolyl group, a pyrrolinyl group, an imidazolyl group, a pyrazolyl group, a pyridyl group, a pyrimidyl group, a pyrazinyl group, a pyridazinyl group, a triazolyl group, and a tetrazolyl group. , A pyrrolidinyl group, an imidazolidinyl group, a piperidinyl group, a pyrazolidinyl group, and a piperazinyl group, and a 3- to 8-membered ring is preferable, and a 5- to 6-membered ring is more preferable.
Examples of the heteroaryl group having a single ring having one oxygen atom include a furanyl group, preferably a 3- to 8-membered ring, and more preferably a 5- to 6-membered ring.
Examples of the heteroaryl group having one sulfur atom and having a single ring include a thienyl group, preferably a 3- to 8-membered ring, and more preferably a 5- to 6-membered ring.
In the heteroaryl group, examples of the monocyclic group having 1 to 2 oxygen atoms and 1 to 3 nitrogen atoms include an oxazolyl group, an isoxazolyl group, an oxadiazolyl group, and a morpholinyl group. Preferably, the ring is a 5- to 6-membered ring.
Examples of the monocyclic heteroaryl group having 1 to 2 sulfur atoms and 1 to 3 nitrogen atoms include a thiazolyl group, a thiadiazolyl group, and a thiazolidinyl group, and may be a 3- to 8-membered ring. Preferably, it is a 5- to 6-membered ring.
Examples of the heteroaryl group having 1 to 5 nitrogen atoms which are polycyclic include indolyl, isoindolyl, indolizinyl, benzimidazolyl, quinolyl, isoquinolyl, indazolyl, benzotriazolyl, tetra Examples include a zolopyridyl group, a tetrazolopyridazinyl group, and a dihydrotriazolopyridazinyl group, preferably a 7-12 membered ring, and more preferably a 9-10 membered ring.
In the heteroaryl group, examples of the polycyclic group having 1 to 3 sulfur atoms include a dithianaphthalenyl group and a benzothiophenyl group, and a 7 to 12 membered ring is preferable, and a 9 to 10 membered ring is preferable. More preferably, it is a ring.
In the heteroaryl group, examples of the polycyclic group having 1 to 2 oxygen atoms and 1 to 3 nitrogen atoms include a benzooxazolyl group and a benzooxadiazolyl group. Preferably, the ring is a 9- to 10-membered ring.
In the heteroaryl group, examples of the polycyclic group having 1 to 2 sulfur atoms and 1 to 3 nitrogen atoms include a benzothiazolyl group and a benzothiadiazolyl group, and may be a 7 to 12-membered ring. It is more preferably a 9- to 10-membered ring.

前記ジアミンは、アミノ基を2個有していればよく、2個のアミノ基の位置関係は特に限定されない。好ましい前記ジアミンとしては、前記モノアルキルアミン、モノアリールアミン又はモノ(ヘテロアリール)アミンにおいて、アミノ基(−NH)を構成する水素原子以外の1個の水素原子が、アミノ基で置換されたものが例示できる。
前記ジアミンは炭素数が1〜10であることが好ましく、より好ましいものとしてはエチレンジアミン、1,3−ジアミノプロパン、1,4−ジアミノブタンが例示できる。
The diamine only has to have two amino groups, and the positional relationship between the two amino groups is not particularly limited. As the preferable diamine, in the monoalkylamine, monoarylamine or mono (heteroaryl) amine, one hydrogen atom other than the hydrogen atom constituting the amino group (—NH 2 ) is substituted with an amino group. Can be exemplified.
The diamine preferably has 1 to 10 carbon atoms, and more preferable examples include ethylenediamine, 1,3-diaminopropane and 1,4-diaminobutane.

前記第2級アミンとしては、1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいジアルキルアミン、ジアリールアミン、ジ(ヘテロアリール)アミン等が例示できる。   Examples of the secondary amine include dialkylamines, diarylamines, and di (heteroaryl) amines in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent.

前記ジアルキルアミンを構成するアルキル基は、前記モノアルキルアミンを構成するアルキル基と同様であり、炭素数が1〜9の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は炭素数が3〜7の環状のアルキル基であることが好ましい。また、ジアルキルアミン一分子中の2個のアルキル基は、互いに同一でも異なっていてもよい。
好ましい前記ジアルキルアミンとして、具体的には、N−メチル−n−ヘキシルアミン、ジイソブチルアミン、ジ(2−エチルへキシル)アミンが例示できる。
The alkyl group constituting the dialkylamine is the same as the alkyl group constituting the monoalkylamine, and is a linear or branched alkyl group having 1 to 9 carbon atoms, or 3 to 7 carbon atoms. It is preferably a cyclic alkyl group. The two alkyl groups in one molecule of the dialkylamine may be the same or different from each other.
Specific examples of the preferred dialkylamine include N-methyl-n-hexylamine, diisobutylamine and di (2-ethylhexyl) amine.

前記ジアリールアミンを構成するアリール基は、前記モノアリールアミンを構成するアリール基と同様であり、炭素数が6〜10であることが好ましい。また、ジアリールアミン一分子中の2個のアリール基は、互いに同一でも異なっていてもよい。   The aryl group constituting the diarylamine is the same as the aryl group constituting the monoarylamine, and preferably has 6 to 10 carbon atoms. The two aryl groups in one molecule of the diarylamine may be the same or different from each other.

前記ジ(ヘテロアリール)アミンを構成するヘテロアリール基は、前記モノ(ヘテロアリール)アミンを構成するヘテロアリール基と同様であり、6〜12員環であることが好ましい。また、ジ(ヘテロアリール)アミン一分子中の2個のヘテロアリール基は、互いに同一でも異なっていてもよい。   The heteroaryl group constituting the di (heteroaryl) amine is the same as the heteroaryl group constituting the mono (heteroaryl) amine, and is preferably a 6- to 12-membered ring. Two heteroaryl groups in one molecule of di (heteroaryl) amine may be the same or different from each other.

前記第3級アミンとしては、1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいトリアルキルアミン、ジアルキルモノアリールアミン等が例示できる。   Examples of the tertiary amine include trialkylamines and dialkylmonoarylamines in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent.

前記トリアルキルアミンを構成するアルキル基は、前記モノアルキルアミンを構成するアルキル基と同様であり、炭素数が1〜19の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は炭素数が3〜7の環状のアルキル基であることが好ましい。また、トリアルキルアミン一分子中の3個のアルキル基は、互いに同一でも異なっていてもよい。すなわち、3個のアルキル基は、すべてが同じでもよいし、すべてが異なっていてもよく、一部だけが異なっていてもよい。
好ましい前記トリアルキルアミンとして、具体的には、N,N−ジメチル−n−オクタデシルアミン、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミンが例示できる。
The alkyl group constituting the trialkylamine is the same as the alkyl group constituting the monoalkylamine, and is a linear or branched alkyl group having 1 to 19 carbon atoms, or 3 to 7 carbon atoms. Is preferably a cyclic alkyl group. Further, the three alkyl groups in one molecule of the trialkylamine may be the same or different from each other. That is, all three alkyl groups may be the same, all may be different, or only some may be different.
Specific examples of the preferred trialkylamine include N, N-dimethyl-n-octadecylamine and N, N-dimethylcyclohexylamine.

前記ジアルキルモノアリールアミンを構成するアルキル基は、前記モノアルキルアミンを構成するアルキル基と同様であり、炭素数が1〜6の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は炭素数が3〜7の環状のアルキル基であることが好ましい。また、ジアルキルモノアリールアミン一分子中の2個のアルキル基は、互いに同一でも異なっていてもよい。
前記ジアルキルモノアリールアミンを構成するアリール基は、前記モノアリールアミンを構成するアリール基と同様であり、炭素数が6〜10であることが好ましい。
The alkyl group constituting the dialkylmonoarylamine is the same as the alkyl group constituting the monoalkylamine, and is a straight-chain or branched-chain alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or 3 to 6 carbon atoms. 7 is preferably a cyclic alkyl group. The two alkyl groups in one molecule of the dialkylmonoarylamine may be the same or different from each other.
The aryl group constituting the dialkylmonoarylamine is the same as the aryl group constituting the monoarylamine, and preferably has 6 to 10 carbon atoms.

本発明において、前記第4級アンモニウム塩としては、1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいハロゲン化テトラアルキルアンモニウム等が例示できる。
前記ハロゲン化テトラアルキルアンモニウムを構成するアルキル基は、前記モノアルキルアミンを構成するアルキル基と同様であり、炭素数が1〜19であることが好ましい。また、ハロゲン化テトラアルキルアンモニウム一分子中の4個のアルキル基は、互いに同一でも異なっていてもよい。すなわち、4個のアルキル基は、すべてが同じでもよいし、すべてが異なっていてもよく、一部だけが異なっていてもよい。
前記ハロゲン化テトラアルキルアンモニウムを構成するハロゲンとしては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が例示できる。
好ましい前記ハロゲン化テトラアルキルアンモニウムとして、具体的には、ドデシルトリメチルアンモニウムブロミドが例示できる。
In the present invention, examples of the quaternary ammonium salt include tetraalkylammonium halides in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent.
The alkyl group constituting the tetraalkylammonium halide is the same as the alkyl group constituting the monoalkylamine, and preferably has 1 to 19 carbon atoms. Further, the four alkyl groups in one molecule of the tetraalkylammonium halide may be the same or different from each other. That is, all of the four alkyl groups may be the same, all may be different, or only some may be different.
Examples of the halogen constituting the halogenated tetraalkylammonium include fluorine, chlorine, bromine and iodine.
Specific examples of the preferable tetraalkylammonium halide include dodecyltrimethylammonium bromide.

ここまでは、主に鎖状のアミン化合物及び第4級アンモニウム塩について説明したが、前記アミン化合物及び第4級アンモニウム塩は、アミン部位又はアンモニウム塩部位を構成する窒素原子が環骨格構造(複素環骨格構造)の一部であるようなヘテロ環化合物であってもよい。すなわち、前記アミン化合物は環状アミンでもよく、前記第4級アンモニウム塩は環状アンモニウム塩でもよい。この時の環(アミン部位又はアンモニウム塩部位を構成する窒素原子を含む環)構造は、単環状及び多環状のいずれでもよく、その環員数(環骨格を構成する原子の数)も特に限定されず、脂肪族環及び芳香族環のいずれでもよい。
環状アミンであれば、好ましいものとして、ピリジンが例示できる。
So far, the chain amine compound and the quaternary ammonium salt have been mainly described. However, in the amine compound and the quaternary ammonium salt, the nitrogen atom constituting the amine moiety or the ammonium salt moiety has a ring skeleton structure (heterocyclic structure). (A ring skeleton structure). That is, the amine compound may be a cyclic amine, and the quaternary ammonium salt may be a cyclic ammonium salt. At this time, the ring (ring containing a nitrogen atom constituting an amine moiety or an ammonium salt moiety) structure may be monocyclic or polycyclic, and the number of ring members (number of atoms constituting a ring skeleton) is also particularly limited. And may be any of an aliphatic ring and an aromatic ring.
Preferable examples of the cyclic amine include pyridine.

前記第1級アミン、第2級アミン、第3級アミン及び第4級アンモニウム塩において、「置換基で置換されていてもよい水素原子」とは、アミン部位又はアンモニウム塩部位を構成する窒素原子に結合している水素原子以外の水素原子である。この時の置換基の数は特に限定されず、1個でもよいし、2個以上でもよく、前記水素原子のすべてが置換基で置換されていてもよい。置換基の数が複数の場合には、これら複数個の置換基は互いに同一でも異なっていてもよい。すなわち、複数個の置換基はすべて同じでもよいし、すべて異なっていてもよく、一部だけが異なっていてもよい。また、置換基の位置も特に限定されない。   In the above primary amine, secondary amine, tertiary amine and quaternary ammonium salt, “hydrogen atom optionally substituted with a substituent” means a nitrogen atom constituting an amine moiety or an ammonium salt moiety. Is a hydrogen atom other than the hydrogen atom bonded to. The number of substituents at this time is not particularly limited, and may be one, two or more, and all of the hydrogen atoms may be substituted with a substituent. When the number of substituents is plural, these plural substituents may be the same or different. That is, a plurality of substituents may be the same, all may be different, or only a part may be different. Also, the position of the substituent is not particularly limited.

前記アミン化合物及び第4級アンモニウム塩における前記置換基としては、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、トリフルオロメチル基(−CF)等が例示できる。ここで、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が例示できる。 Examples of the substituent in the amine compound and the quaternary ammonium salt include an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a hydroxyl group, and a trifluoromethyl group (—CF 3 ). Here, examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.

前記モノアルキルアミンを構成するアルキル基が置換基を有する場合、かかるアルキル基は、置換基としてアリール基を有する、炭素数が1〜9の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は置換基として好ましくは炭素数が1〜5のアルキル基を有する、炭素数が3〜7の環状のアルキル基が好ましく、このような置換基を有するモノアルキルアミンとして、具体的には、2−フェニルエチルアミン、ベンジルアミン、2,3−ジメチルシクロヘキシルアミンが例示できる。
また、置換基である前記アリール基及びアルキル基は、さらに1個以上の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよく、このようなハロゲン原子で置換された置換基を有するモノアルキルアミンとしては、2−ブロモベンジルアミンが例示できる。ここで、前記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が例示できる。
When the alkyl group constituting the monoalkylamine has a substituent, the alkyl group has an aryl group as a substituent, and is a linear or branched alkyl group having 1 to 9 carbon atoms, or a substituent. Is preferably a cyclic alkyl group having 3 to 7 carbon atoms having an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. As the monoalkylamine having such a substituent, specifically, 2-phenylethylamine Benzylamine and 2,3-dimethylcyclohexylamine.
Further, the aryl group and the alkyl group which are substituents may further have one or more hydrogen atoms substituted with a halogen atom. Examples of the monoalkylamine having a substituent substituted with such a halogen atom include: And 2-bromobenzylamine. Here, examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.

前記モノアリールアミンを構成するアリール基が置換基を有する場合、かかるアリール基は、置換基としてハロゲン原子を有する、炭素数が6〜10のアリール基が好ましく、このような置換基を有するモノアリールアミンとして、具体的には、ブロモフェニルアミンが例示できる。ここで、前記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が例示できる。   When the aryl group constituting the monoarylamine has a substituent, the aryl group is preferably an aryl group having a halogen atom as a substituent and having 6 to 10 carbon atoms, and a monoaryl having such a substituent. As the amine, specifically, bromophenylamine can be exemplified. Here, examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.

前記ジアルキルアミンを構成するアルキル基が置換基を有する場合、かかるアルキル基は、置換基として水酸基又はアリール基を有する、炭素数が1〜9の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基が好ましく、このような置換基を有するジアルキルアミンとして、具体的には、ジエタノールアミン、N−メチルベンジルアミンが例示できる。   When the alkyl group constituting the dialkylamine has a substituent, the alkyl group has a hydroxyl group or an aryl group as a substituent, and is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 9 carbon atoms, Specific examples of the dialkylamine having such a substituent include diethanolamine and N-methylbenzylamine.

前記アミン化合物は、n−プロピルアミン、n−ブチルアミン、n−へキシルアミン、n−オクチルアミン、n−ドデシルアミン、n−オクタデシルアミン、sec−ブチルアミン、tert−ブチルアミン、イソブチルアミン、3−アミノペンタン、3−メチルブチルアミン、2−ヘプチルアミン、2−アミノオクタン、2−エチルヘキシルアミン、2−フェニルエチルアミン、エチレンジアミン、1,3−ジアミノプロパン、1,4−ジアミノブタン、N−メチル−n−ヘキシルアミン、ジイソブチルアミン、N−メチルベンジルアミン、ジ(2−エチルへキシル)アミン、1,2−ジメチル−n−プロピルアミン、N,N−ジメチル−n−オクタデシルアミン又はN,N−ジメチルシクロヘキシルアミンであることが好ましい。
そして、これらアミン化合物の中でも、2−エチルヘキシルアミンは、前記カルボン酸銀との相溶性に優れ、銀インク組成物の高濃度化に特に適しており、さらに銀細線の表面粗さの低減に特に適したものとして挙げられる。
The amine compound is n-propylamine, n-butylamine, n-hexylamine, n-octylamine, n-dodecylamine, n-octadecylamine, sec-butylamine, tert-butylamine, isobutylamine, 3-aminopentane, 3-methylbutylamine, 2-heptylamine, 2-aminooctane, 2-ethylhexylamine, 2-phenylethylamine, ethylenediamine, 1,3-diaminopropane, 1,4-diaminobutane, N-methyl-n-hexylamine, Diisobutylamine, N-methylbenzylamine, di (2-ethylhexyl) amine, 1,2-dimethyl-n-propylamine, N, N-dimethyl-n-octadecylamine or N, N-dimethylcyclohexylamine Is preferred.
Among these amine compounds, 2-ethylhexylamine has excellent compatibility with the silver carboxylate, is particularly suitable for increasing the concentration of the silver ink composition, and is particularly suitable for reducing the surface roughness of fine silver wires. Listed as suitable.

(アミン化合物由来のアンモニウム塩)
本発明において、前記アミン化合物由来のアンモニウム塩は、前記アミン化合物が酸と反応してなるアンモニウム塩であり、前記酸は、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸でもよいし、酢酸等の有機酸でもよく、酸の種類は特に限定されない。
前記アミン化合物由来のアンモニウム塩としては、n−プロピルアミン塩酸塩、N−メチル−n−ヘキシルアミン塩酸塩、N,N−ジメチル−n−オクタデシルアミン塩酸塩等が例示できるが、これらに限定されない。
(Ammonium salt derived from amine compound)
In the present invention, the ammonium salt derived from the amine compound is an ammonium salt obtained by reacting the amine compound with an acid, and the acid may be an inorganic acid such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, or an organic acid such as acetic acid. However, the type of the acid is not particularly limited.
Examples of the ammonium salt derived from the amine compound include, but are not limited to, n-propylamine hydrochloride, N-methyl-n-hexylamine hydrochloride, N, N-dimethyl-n-octadecylamine hydrochloride, and the like. .

(アンモニア由来のアンモニウム塩)
本発明において、前記アンモニア由来のアンモニウム塩は、アンモニアが酸と反応してなるアンモニウム塩であり、ここで酸としては、前記アミン化合物由来のアンモニウム塩の場合と同じものが例示できる。
前記アンモニア由来のアンモニウム塩としては、塩化アンモニウム等が例示できるが、これに限定されない。
(Ammonia salt derived from ammonia)
In the present invention, the ammonium salt derived from ammonia is an ammonium salt obtained by reacting ammonia with an acid. Here, the acid may be the same as the ammonium salt derived from the amine compound.
Examples of the ammonium salt derived from ammonia include ammonium chloride and the like, but are not limited thereto.

本発明においては、前記アミン化合物、第4級アンモニウム塩、アミン化合物由来のアンモニウム塩及びアンモニア由来のアンモニウム塩は、それぞれ一種を単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。二種以上を併用する場合、その組み合わせ及び比率は、任意に調節できる。
そして、前記含窒素化合物としては、前記アミン化合物、第4級アンモニウム塩、アミン化合物由来のアンモニウム塩及びアンモニア由来のアンモニウム塩からなる群から選択される一種を単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。二種以上を併用する場合、その組み合わせ及び比率は、任意に調節できる。
In the present invention, each of the amine compound, the quaternary ammonium salt, the ammonium salt derived from the amine compound and the ammonium salt derived from ammonia may be used alone or in combination of two or more. . When two or more kinds are used in combination, the combination and ratio can be arbitrarily adjusted.
As the nitrogen-containing compound, one selected from the group consisting of the amine compound, a quaternary ammonium salt, an ammonium salt derived from an amine compound, and an ammonium salt derived from ammonia may be used alone. More than one species may be used in combination. When two or more kinds are used in combination, the combination and ratio can be arbitrarily adjusted.

銀インク組成物において、前記含窒素化合物の配合量は、前記金属銀の形成材料の配合量1モルあたり0.3〜15モルであることが好ましく、0.3〜5モルであることがより好ましい。前記含窒素化合物の前記配合量がこのような範囲であることで、銀インク組成物は安定性がより向上し、導電体(金属銀)の品質がより向上する。さらに、高温による加熱処理を行わなくても、より安定して導電体を形成できる。   In the silver ink composition, the compounding amount of the nitrogen-containing compound is preferably 0.3 to 15 mol, more preferably 0.3 to 5 mol, per 1 mol of the compounding material of the metallic silver. preferable. When the amount of the nitrogen-containing compound is within such a range, the silver ink composition has improved stability and the quality of the conductor (metal silver) is further improved. Further, the conductor can be formed more stably without performing heat treatment at a high temperature.

[還元剤]
銀インク組成物は、前記金属銀の形成材料以外に、さらに還元剤が配合されてなるものが好ましい。還元剤を配合することで、前記銀インク組成物は、金属銀をより形成し易くなり、例えば、低温での加熱処理でも十分な導電性を有する導電体(金属銀)を形成できる。
[Reducing agent]
The silver ink composition preferably contains a reducing agent in addition to the metal silver forming material. By adding a reducing agent, the silver ink composition can more easily form metallic silver, and for example, a conductor (metallic silver) having sufficient conductivity can be formed even by heat treatment at a low temperature.

前記還元剤は、シュウ酸、ヒドラジン及び下記一般式(5)で表される化合物(以下、「化合物(5)」と略記することがある)からなる群から選択される一種以上の還元性化合物(以下、単に「還元性化合物」と略記することがある)であることが好ましい。
H−C(=O)−R21 ・・・・(5)
(式中、R21は、炭素数20以下のアルキル基、アルコキシ基若しくはN,N−ジアルキルアミノ基、水酸基又はアミノ基である。)
The reducing agent is at least one reducing compound selected from the group consisting of oxalic acid, hydrazine, and a compound represented by the following general formula (5) (hereinafter sometimes abbreviated as “compound (5)”). (Hereinafter sometimes simply referred to as “reducing compound”).
HC (= O) -R 21 (5)
(In the formula, R 21 is an alkyl group having 20 or less carbon atoms, an alkoxy group, an N, N-dialkylamino group, a hydroxyl group, or an amino group.)

(還元性化合物)
前記還元性化合物は、シュウ酸(HOOC−COOH)、ヒドラジン(HN−NH)及び前記一般式(5)で表される化合物(化合物(5))からなる群から選択される一種以上である。すなわち、配合される還元性化合物は、一種のみでよいし、二種以上でもよく、二種以上を併用する場合、その組み合わせ及び比率は、任意に調節できる。
(Reducing compound)
The reducing compound, oxalic acid (HOOC-COOH), hydrazine (H 2 N-NH 2) and the compound represented by formula (5) (Compound (5)) one or more selected from the group consisting of It is. That is, the reducing compound to be blended may be only one kind or two or more kinds. When two or more kinds are used in combination, the combination and the ratio can be arbitrarily adjusted.

21における炭素数20以下のアルキル基は、炭素数が1〜20であり、直鎖状、分岐鎖状及び環状のいずれでもよく、前記一般式(1)のRにおける前記アルキル基と同様のものが例示できる。 The alkyl group having 20 or less carbon atoms in R 21 has 1 to 20 carbon atoms and may be linear, branched, or cyclic, and is the same as the alkyl group for R in the general formula (1). Can be exemplified.

21における炭素数20以下のアルコキシ基は、炭素数が1〜20であり、R21における前記アルキル基が酸素原子に結合してなる一価の基が例示できる。 The alkoxy group having 20 or less carbon atoms in R 21 has 1 to 20 carbon atoms, and examples thereof include a monovalent group in which the alkyl group in R 21 is bonded to an oxygen atom.

21における炭素数20以下のN,N−ジアルキルアミノ基は、炭素数が2〜20であり、窒素原子に結合している2個のアルキル基は、互いに同一でも異なっていてもよく、前記アルキル基はそれぞれ炭素数が1〜19である。ただし、これら2個のアルキル基の炭素数の合計値が2〜20である。
窒素原子に結合している前記アルキル基は、それぞれ直鎖状、分岐鎖状及び環状のいずれでもよく、炭素数が1〜19である点以外は、前記一般式(1)のRにおける前記アルキル基と同様のものが例示できる。
The N, N-dialkylamino group having 20 or less carbon atoms in R 21 has 2 to 20 carbon atoms, and the two alkyl groups bonded to the nitrogen atom may be the same or different from each other; Each of the alkyl groups has 1 to 19 carbon atoms. However, the total number of carbon atoms of these two alkyl groups is 2 to 20.
The alkyl group bonded to the nitrogen atom may be any of linear, branched and cyclic, and has the same structure as that of R in the general formula (1) except that it has 1 to 19 carbon atoms. The same as the group can be exemplified.

前記還元性化合物として、ヒドラジンは、一水和物(HN−NH・HO)を用いてもよい。 As the reducing compound, hydrazine may be a monohydrate (H 2 N—NH 2 .H 2 O).

前記還元性化合物で好ましいものとしては、ギ酸(H−C(=O)−OH);ギ酸メチル(H−C(=O)−OCH)、ギ酸エチル(H−C(=O)−OCHCH)、ギ酸ブチル(H−C(=O)−O(CHCH)等のギ酸エステル;プロパナール(H−C(=O)−CHCH)、ブタナール(H−C(=O)−(CHCH)、ヘキサナール(H−C(=O)−(CHCH)等のアルデヒド;ホルムアミド(H−C(=O)−NH)、N,N−ジメチルホルムアミド(H−C(=O)−N(CH)等のホルムアミド類(式「H−C(=O)−N(−)−」で表される基を有する化合物);シュウ酸が例示できる。 Preferred reducing compounds include formic acid (H—C (−O) —OH); methyl formate (H—C (= O) —OCH 3 ), and ethyl formate (H—C (= O) —OCH). 2 CH 3), butyl formate (H-C (= O) -O (CH 2) 3 formic ester of CH 3) or the like; propanal (H-C (= O) -CH 2 CH 3), butanal (H Aldehydes such as —C (= O) — (CH 2 ) 2 CH 3 ) and hexanal (H—C (= O) — (CH 2 ) 4 CH 3 ); formamide (H—C (= O) —NH 2 ) ), Formamides such as N, N-dimethylformamide (H—C () O) —N (CH 3 ) 2 ) (groups represented by the formula “H—C (= O) —N (−) —”) And oxalic acid.

銀インク組成物において、還元剤の配合量は、前記金属銀の形成材料の配合量1モルあたり0.04〜3.5モルであることが好ましく、0.06〜2.5モルであることがより好ましい。還元剤の前記配合量がこのような範囲であることで、銀インク組成物は、より容易に、より安定して導電体(金属銀)を形成できる。   In the silver ink composition, the compounding amount of the reducing agent is preferably 0.04 to 3.5 mol, and more preferably 0.06 to 2.5 mol, per 1 mol of the metal silver forming material. Is more preferred. When the amount of the reducing agent is within the above range, the silver ink composition can more easily and more stably form a conductor (metallic silver).

[アルコール]
銀インク組成物は、前記金属銀の形成材料以外に、さらにアルコールが配合されてなることが好ましい。
[alcohol]
It is preferable that the silver ink composition further contains an alcohol in addition to the metal silver forming material.

前記アルコールは、下記一般式(2)で表されるアセチレンアルコール類(以下、「アセチレンアルコール(2)」と略記することがある)であることが好ましい。   The alcohol is preferably an acetylene alcohol represented by the following general formula (2) (hereinafter, may be abbreviated as “acetylene alcohol (2)”).

Figure 0006650295
(式中、R’及びR’’は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、又は1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいフェニル基である。)
Figure 0006650295
(In the formula, R ′ and R ″ are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or a phenyl group in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent.)

(アセチレンアルコール(2))
アセチレンアルコール(2)は、前記一般式(2)で表される。
式中、R’及びR’’は、それぞれ独立に炭素数1〜20のアルキル基、又は1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいフェニル基である。
R’及びR’’における炭素数1〜20のアルキル基は、直鎖状、分岐鎖状及び環状のいずれでもよく、環状である場合、単環状及び多環状のいずれでもよい。R’及びR’’における前記アルキル基としては、Rにおける前記アルキル基と同様のものが例示できる。
(Acetylene alcohol (2))
The acetylene alcohol (2) is represented by the general formula (2).
In the formula, R ′ and R ″ are each independently an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or a phenyl group in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent.
The alkyl group having 1 to 20 carbon atoms in R ′ and R ″ may be linear, branched or cyclic, and when cyclic, may be monocyclic or polycyclic. Examples of the alkyl group for R ′ and R ″ are the same as those for the alkyl group for R.

R’及びR’’におけるフェニル基の水素原子が置換されていてもよい前記置換基としては、炭素数が1〜16の飽和又は不飽和の一価の脂肪族炭化水素基、前記脂肪族炭化水素基が酸素原子に結合してなる一価の基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、水酸基、シアノ基、フェノキシ基等が例示でき、Rにおけるフェニル基の水素原子が置換されていてもよい前記置換基と同様である。そして、置換基の数及び位置は特に限定されず、置換基の数が複数である場合、これら複数個の置換基は互いに同一でも異なっていてもよい。   Examples of the substituent which may be substituted with a hydrogen atom of the phenyl group in R ′ and R ″ include a saturated or unsaturated monovalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms, and the aliphatic hydrocarbon group. Examples include a monovalent group in which a hydrogen group is bonded to an oxygen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, a hydroxyl group, a cyano group, a phenoxy group, and the like.The hydrogen atom of the phenyl group in R may be substituted. The same as the above substituents. The number and the position of the substituents are not particularly limited. When the number of the substituents is plural, these plural substituents may be the same or different.

R’及びR’’は、炭素数1〜20のアルキル基であることが好ましく、炭素数1〜10の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基であることがより好ましい。   R ′ and R ″ are preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and more preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.

好ましいアセチレンアルコール(2)としては、3,5−ジメチル−1−ヘキシン−3−オール、3−メチル−1−ブチン−3−オール、3−メチル−1−ペンチン−3−オール、2−プロピン−1−オール、4−エチル−1−オクチン−3−オール、3−エチル−1−ヘプチン−3−オールが例示できる。   Preferred acetylenic alcohols (2) include 3,5-dimethyl-1-hexyn-3-ol, 3-methyl-1-butyn-3-ol, 3-methyl-1-pentyn-3-ol, and 2-propyne Examples thereof include -1-ol, 4-ethyl-1-octin-3-ol, and 3-ethyl-1-heptin-3-ol.

アセチレンアルコール(2)を用いる場合、銀インク組成物において、アセチレンアルコール(2)の配合量は、前記金属銀の形成材料の配合量1モルあたり0.03〜0.7モルであることが好ましく、0.03〜0.5モルであることがより好ましく、0.03〜0.3モルであってもよい。アセチレンアルコール(2)の前記配合量がこのような範囲であることで、銀インク組成物の安定性がより向上する。   When the acetylene alcohol (2) is used, the amount of the acetylene alcohol (2) in the silver ink composition is preferably 0.03 to 0.7 mol per 1 mol of the metal silver forming material. , 0.03 to 0.5 mol, more preferably 0.03 to 0.3 mol. When the amount of the acetylene alcohol (2) is in such a range, the stability of the silver ink composition is further improved.

前記アルコールは、一種を単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。二種以上を併用する場合で、その組み合わせ及び比率は、任意に調節できる。   The alcohol may be used alone or in combination of two or more. When two or more kinds are used in combination, the combination and ratio can be arbitrarily adjusted.

[その他の成分]
銀インク組成物は、前記金属銀の形成材料、含窒素化合物、還元剤及びアルコール以外の、その他の成分が配合されてなるものでもよい。
銀インク組成物における前記その他の成分は、目的に応じて任意に選択でき、特に限定されず、好ましいものとしては、アルコール以外の溶媒が例示でき、配合成分の種類や量に応じて任意に選択できる。
銀インク組成物における前記その他の成分は、一種を単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。二種以上を併用する場合で、その組み合わせ及び比率は、任意に調節できる。
[Other ingredients]
The silver ink composition may be one in which other components other than the metal silver forming material, the nitrogen-containing compound, the reducing agent and the alcohol are blended.
The other components in the silver ink composition can be arbitrarily selected according to the purpose, and are not particularly limited. Preferred examples include solvents other than alcohols, and arbitrarily selectable according to the types and amounts of the components. it can.
As the other components in the silver ink composition, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination. When two or more kinds are used in combination, the combination and ratio can be arbitrarily adjusted.

前記アルコール以外の溶媒は、配合成分の種類や量に応じて任意に選択できる。好ましい溶媒としては、例えば、トルエン、o−キシレン、m−キシレン、p−キシレン等の芳香族炭化水素;ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン、ペンタデカン等の脂肪族炭化水素;エタノール、2−プロパノール等の飽和脂肪族アルコール;ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素;酢酸エチル、グルタル酸モノメチル、グルタル酸ジメチル等のエステル;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン(THF)、1,2−ジメトキシエタン(ジメチルセロソルブ)等のエーテル;アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、シクロヘキサノン等のケトン;アセトニトリル等のニトリル;N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド等が挙げられるが、これらに限定されない。   The solvent other than the alcohol can be arbitrarily selected depending on the type and amount of the components. Preferred solvents include, for example, aromatic hydrocarbons such as toluene, o-xylene, m-xylene and p-xylene; pentane, hexane, cyclohexane, heptane, octane, nonane, decane, undecane, dodecane, tridecane, tetradecane, pentadecane Aliphatic hydrocarbons such as ethanol and 2-propanol; halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and chloroform; esters such as ethyl acetate, monomethyl glutarate, and dimethyl glutarate; diethyl ether, tetrahydrofuran (THF) Ethers such as 1,2-dimethoxyethane (dimethylcellosolve); ketones such as acetone, methyl ethyl ketone (MEK) and cyclohexanone; nitriles such as acetonitrile; N, N-dimethylformamide (DMF) N, N-amides of dimethylacetamide, and the like, but not limited thereto.

銀インク組成物における前記その他の成分の配合量は、前記その他の成分の種類に応じて、適宜選択すればよい。
例えば、前記その他の成分がアルコール以外の溶媒である場合、前記溶媒の配合量は、銀インク組成物の粘度等、目的に応じて選択すればよいが、金属銀の形成材料1モルに対して、0.5モル〜5.0モルであることが好ましく、0.5モル〜3.5モルであることがより好ましく、0.5〜2.0モルであることが特に好ましい。
また、前記その他の成分が前記溶媒以外の成分である場合、銀インク組成物において、配合成分の総量に対する前記その他の成分の配合量の割合は、10質量%以下であることが好ましく、5質量%以下であることがより好ましい。
配合成分の総量に対する前記その他の成分の配合量の割合が0質量、すなわちその他の成分を配合しなくても、銀インク組成物は十分にその効果を発現する。
The amount of the other components in the silver ink composition may be appropriately selected according to the type of the other components.
For example, when the other component is a solvent other than alcohol, the amount of the solvent may be selected depending on the purpose, such as the viscosity of the silver ink composition. , 0.5 mol to 5.0 mol, more preferably 0.5 mol to 3.5 mol, and particularly preferably 0.5 mol to 2.0 mol.
When the other component is a component other than the solvent, the ratio of the blending amount of the other component to the total amount of the blending component in the silver ink composition is preferably 10% by mass or less, and more preferably 5% by mass. % Is more preferable.
Even if the ratio of the compounding amount of the other component to the total amount of the compounding component is 0 mass, that is, the other component is not mixed, the silver ink composition sufficiently exerts its effect.

銀インク組成物は、前記金属銀の形成材料、含窒素化合物、並びに還元剤及びアルコールのいずれか一方又は両方が配合されてなるものが好ましく、前記カルボン酸銀、含窒素化合物、並びに還元剤及びアルコールのいずれか一方又は両方が配合されてなるものがより好ましい。   The silver ink composition is preferably formed by blending one or both of the metal silver forming material, the nitrogen-containing compound, and the reducing agent and the alcohol, and the silver carboxylate, the nitrogen-containing compound, and the reducing agent. More preferably, one or both of alcohols are blended.

銀インク組成物は、配合成分がすべて溶解していてもよいし、一部又は全ての成分が溶解せずに分散した状態であってもよいが、配合成分がすべて溶解していることが好ましく、溶解していない成分は均一に分散していることが好ましい。   In the silver ink composition, all of the components may be dissolved, or some or all of the components may be dispersed without being dissolved, but it is preferable that all of the components are dissolved. Preferably, the undissolved components are uniformly dispersed.

[銀インク組成物の製造方法]
銀インク組成物は、前記金属銀の形成材料、及び前記金属銀の形成材料以外の成分を配合することで得られる。各成分の配合後は、得られたものをそのまま銀インク組成物としてもよいし、必要に応じて引き続き公知の精製操作を行って得られたものを銀インク組成物としてもよい。本発明においては、特に前記金属銀の形成材料としてβ−ケトカルボン酸銀(1)を用いた場合、上記の各成分の配合時において、導電性を阻害する不純物が生成しないか、又はこのような不純物の生成量を極めて少量に抑制できるため、精製操作を行っていない銀インク組成物を用いても、十分な導電性を有する導電体(金属銀)が得られる。
[Method for producing silver ink composition]
The silver ink composition is obtained by blending the metal silver forming material and components other than the metal silver forming material. After the components are blended, the resulting composition may be used as it is as a silver ink composition, or the composition obtained by performing known purification operations may be used as a silver ink composition. In the present invention, in particular, when silver β-ketocarboxylate (1) is used as a material for forming the metallic silver, impurities which impair conductivity are not generated at the time of blending each of the above components, or such impurities are not generated. Since the generation amount of impurities can be suppressed to an extremely small amount, a conductor (metallic silver) having sufficient conductivity can be obtained even when a silver ink composition that has not been subjected to a refining operation is used.

(銀インク組成物の製造方法1)
銀インク組成物の製造方法の一態様としては、金属銀の形成材料、並びに含窒素化合物、還元剤、アルコール及びその他の成分からなる群から選択される一種以上を配合することによって得られる。
なかでも、本発明においては、含窒素化合物に、金属銀の形成材料を添加し、次に還元剤を添加し、次にアルコールを添加するという順序で各成分を順次添加し、混合することが好ましい。
(Production method 1 of silver ink composition)
One embodiment of the method for producing a silver ink composition is obtained by blending a material for forming metallic silver and one or more selected from the group consisting of a nitrogen-containing compound, a reducing agent, alcohol and other components.
Among them, in the present invention, it is possible to add a metal silver forming material to a nitrogen-containing compound, then add a reducing agent, and then add an alcohol, and sequentially add and mix each component. preferable.

上記の順で各成分を添加し、混合することにより製造した銀インク組成物を用いて形成した銀細線は、線幅が20μm以下であり、アスペクト比が0.013以上0.025以下であり、表面粗さを0.25μm以上0.35μm以下とすることができる。   The fine silver wire formed using the silver ink composition manufactured by adding and mixing the components in the above order has a line width of 20 μm or less and an aspect ratio of 0.013 or more and 0.025 or less. And the surface roughness can be set to 0.25 μm or more and 0.35 μm or less.

つまり、本発明において、銀インク組成物を銀インク組成物の製造方法1により得る場合には、含窒素化合物に金属銀の形成材料を添加する第1工程と、さらに還元剤を添加する第2工程と、さらにアルコール及び必要に応じてその他の成分を添加する第3工程と、を有する製造方法によって製造されることが好ましい。
第1工程で添加する金属銀の形成材料は、この製造方法で用いる金属銀の形成材料の全量であることが好ましい。
第2工程で添加する還元剤は、この製造方法で用いる還元剤の全量であることが好ましい。
第3工程で添加するアルコール及びその他の成分は、この製造方法で用いるアルコール及びその他の成分の全量であることが好ましい。
That is, in the present invention, when the silver ink composition is obtained by the method 1 for producing a silver ink composition, the first step of adding a forming material of metallic silver to the nitrogen-containing compound and the second step of further adding a reducing agent. It is preferable to be manufactured by a manufacturing method having a step and a third step of adding an alcohol and other components as necessary.
The metal silver forming material added in the first step is preferably the total amount of the metal silver forming material used in this manufacturing method.
The reducing agent added in the second step is preferably the total amount of the reducing agent used in this production method.
The alcohol and other components added in the third step are preferably the total amount of the alcohol and other components used in this production method.

(銀インク組成物の製造方法2)
上記銀インク組成物の製造方法1以外の、銀インク組成物の製造方法の一態様としては、金属の形成材料を溶媒に溶解又は分散させ、次に含窒素化合物を添加し、次に還元剤を添加し、次にアルコールを添加するという順序で各成分を順次添加し、混合する方法も好適に採用できる。
(Production method 2 of silver ink composition)
As one embodiment of a method for producing a silver ink composition other than the method 1 for producing a silver ink composition, a metal forming material is dissolved or dispersed in a solvent, a nitrogen-containing compound is added, and then a reducing agent is added. , Followed by the addition of alcohol, the components are sequentially added and mixed.

上記の順で各成分を添加し、混合することにより製造した銀インク組成物を用いて形成した銀細線は、線幅が20μm以下であり、アスペクト比が0.013以上0.025以下であり、表面粗さを0.25μm以上0.35μm以下とすることができる。   The fine silver wire formed using the silver ink composition manufactured by adding and mixing the components in the above order has a line width of 20 μm or less and an aspect ratio of 0.013 or more and 0.025 or less. And the surface roughness can be set to 0.25 μm or more and 0.35 μm or less.

つまり、本発明において、銀インク組成物を銀インク組成物の製造方法2により得る場合には、金属銀の形成材料を溶媒に溶解又は分散させる第1工程と、さらに含窒素化合物を添加する第2工程と、さらに還元剤を添加する第3工程と、さらにアルコール及び必要に応じてその他の成分を添加する第4工程と、を有する製造方法によって製造されることが好ましい。
第1工程で溶媒に溶解又は分散させる金属銀の形成材料は、この製造方法で用いる金属銀の形成材料の全量であることが好ましい。
第2工程で添加する含窒素化合物は、この製造方法で用いる含窒素化合物の全量であることが好ましい。
第3工程で添加する還元剤は、この製造方法で用いる還元剤の全量であることが好ましい。
第4工程で添加するアルコール及びその他の成分は、この製造方法で用いるアルコール及びその他の成分の全量であることが好ましい。
That is, in the present invention, when the silver ink composition is obtained by the silver ink composition manufacturing method 2, a first step of dissolving or dispersing the metal silver forming material in a solvent and a step of further adding a nitrogen-containing compound are performed. It is preferably produced by a production method having two steps, a third step of further adding a reducing agent, and a fourth step of further adding an alcohol and other components as necessary.
The metal silver forming material to be dissolved or dispersed in the solvent in the first step is preferably the total amount of the metal silver forming material used in this production method.
The nitrogen-containing compound added in the second step is preferably the total amount of the nitrogen-containing compound used in this production method.
The reducing agent added in the third step is preferably the total amount of the reducing agent used in this production method.
The alcohol and other components added in the fourth step are preferably the total amount of the alcohol and other components used in this production method.

本発明においては、前記還元剤は滴下により配合することが好ましく、さらに滴下速度の変動を抑制することで、金属銀の表面粗さをより低減できる傾向にある。
混合方法は特に限定されず、撹拌子又は撹拌翼等を回転させて混合する方法;ミキサー、三本ロール、ニーダー又はビーズミル等を使用して混合する方法;超音波を加えて混合する方法等、公知の方法から適宜選択すればよい。
銀インク組成物において、溶解していない成分を均一に分散させる場合には、例えば、上記の三本ロール、ニーダー又はビーズミル等を用いて分散させる方法を適用するのが好ましい。
In the present invention, the reducing agent is preferably added dropwise, and by suppressing the fluctuation of the dropping speed, the surface roughness of metallic silver tends to be further reduced.
The mixing method is not particularly limited, a method of mixing by rotating a stirrer or a stirring blade; a method of mixing using a mixer, a three-roll, kneader or a bead mill; a method of mixing by adding ultrasonic waves; What is necessary is just to select suitably from well-known methods.
In the case of uniformly dispersing the undissolved components in the silver ink composition, it is preferable to apply the method of dispersing using, for example, the above-described three-roll, kneader, or bead mill.

配合時の温度は、各配合成分が劣化しない限り特に限定されないが、−5〜60℃であることが好ましい。そして、配合時の温度は、配合成分の種類及び量に応じて、配合して得られた混合物が撹拌し易い粘度となるように、適宜調節するとよい。
また、配合時間も、各配合成分が劣化しない限り特に限定されないが、10分〜36時間であることが好ましい。
The temperature at the time of blending is not particularly limited as long as each blended component does not deteriorate, but is preferably -5 to 60 ° C. The temperature during compounding may be appropriately adjusted according to the type and amount of the compounding components so that the mixture obtained by compounding has a viscosity that allows easy stirring.
The blending time is not particularly limited as long as each blended component does not deteriorate, but is preferably 10 minutes to 36 hours.

[二酸化炭素]
銀インク組成物は、さらに二酸化炭素が供給されてなるものでもよい。このような銀インク組成物は高粘度となり、例えば、インクを厚盛りするのに好適である。
[carbon dioxide]
The silver ink composition may be one further supplied with carbon dioxide. Such a silver ink composition has a high viscosity and is suitable, for example, for thickening the ink.

二酸化炭素は、銀インク組成物製造時のいずれの時期に供給してもよい。
そして、本発明においては、例えば、還元剤を添加する前に二酸化炭素を供給してもよく、目的に応じて任意に選択できる。
Carbon dioxide may be supplied at any time during the production of the silver ink composition.
In the present invention, for example, carbon dioxide may be supplied before adding the reducing agent, and it can be arbitrarily selected according to the purpose.

各成分の混合の際に供給される二酸化炭素(CO)は、ガス状及び固形状(ドライアイス)のいずれでもよく、ガス状及び固形状の両方でもよい。二酸化炭素が供給されることにより、この二酸化炭素が第一の混合物に溶け込み、各成分と作用することで、得られる各成分の混合物の粘度が上昇すると推測される。 Carbon dioxide (CO 2 ) supplied at the time of mixing each component may be either gaseous or solid (dry ice), or may be both gaseous and solid. It is presumed that the supply of carbon dioxide causes the carbon dioxide to dissolve into the first mixture and act on each component, thereby increasing the viscosity of the resulting mixture of each component.

二酸化炭素ガスの供給は、液体中にガスを吹き込む公知の各種方法で行えばよく、適した供給方法を適宜選択すればよい。例えば、配管の一端を第一の混合物中に浸漬し、他端を二酸化炭素ガスの供給源に接続して、この配管を通じて二酸化炭素ガスを第一の混合物に供給する方法が例示できる。この時、配管の端部から直接二酸化炭素ガスを供給してもよいが、例えば、多孔質性のものなど、ガスの流路となり得る空隙部が多数設けられ、導入されたガスを拡散させて微小な気泡として放出することが可能なガス拡散部材を配管の端部に接続し、このガス拡散部材を介して二酸化炭素ガスを供給してもよい。また、第一の混合物の製造時と同様の方法で、第一の混合物を撹拌しながら二酸化炭素ガスを供給してもよい。このようにすることで、効率的に二酸化炭素を供給できる。   The supply of the carbon dioxide gas may be performed by various known methods for blowing the gas into the liquid, and an appropriate supply method may be appropriately selected. For example, a method in which one end of a pipe is immersed in a first mixture, the other end is connected to a supply source of carbon dioxide gas, and the carbon dioxide gas is supplied to the first mixture through the pipe can be exemplified. At this time, the carbon dioxide gas may be supplied directly from the end of the pipe.However, for example, a porous material such as a porous material is provided with a number of voids that can be a gas flow path, and the introduced gas is diffused. A gas diffusion member that can be released as minute bubbles may be connected to the end of the pipe, and the carbon dioxide gas may be supplied through the gas diffusion member. Further, carbon dioxide gas may be supplied while stirring the first mixture in the same manner as in the production of the first mixture. By doing so, carbon dioxide can be efficiently supplied.

二酸化炭素ガスの供給量は、目的とする銀インク組成物の粘度に応じて適宜調節すればよく、特に限定されない。例えば、20〜25℃における粘度が5Pa・s以上である銀インク組成物を100〜1000g程度得るためには、二酸化炭素ガスを100L以上供給することが好ましく、200L以上供給することがより好ましい。なお、ここでは銀インク組成物の20〜25℃における粘度について説明したが、銀インク組成物の使用時の温度は、20〜25℃に限定されるものではなく、任意に選択できる。   The supply amount of the carbon dioxide gas may be appropriately adjusted according to the viscosity of the target silver ink composition, and is not particularly limited. For example, in order to obtain about 100 to 1000 g of a silver ink composition having a viscosity at 20 to 25 ° C. of 5 Pa · s or more, it is preferable to supply 100 L or more of carbon dioxide gas, and it is more preferable to supply 200 L or more. Here, the viscosity of the silver ink composition at 20 to 25 ° C. has been described, but the temperature at the time of using the silver ink composition is not limited to 20 to 25 ° C. and can be arbitrarily selected.

二酸化炭素ガスの流量は、必要とされる二酸化炭素ガスの供給量を考慮して適宜調節すればよいが、各成分の混合物1gあたり0.5mL/分以上であることが好ましく、1mL/分以上であることがより好ましい。流量の上限値は特に限定されないが、取り扱い性等を考慮すると、各成分の混合物1gあたり40mL/分であることが好ましい。
そして、二酸化炭素ガスの供給時間は、必要とされる二酸化炭素ガスの供給量や、流量を考慮して適宜調節すればよい。
The flow rate of the carbon dioxide gas may be appropriately adjusted in consideration of the required supply amount of the carbon dioxide gas, but is preferably 0.5 mL / min or more, preferably 1 mL / min or more per 1 g of the mixture of each component. Is more preferable. Although the upper limit of the flow rate is not particularly limited, it is preferably 40 mL / min per 1 g of the mixture of each component in consideration of handling properties and the like.
The supply time of the carbon dioxide gas may be appropriately adjusted in consideration of the required supply amount and flow rate of the carbon dioxide gas.

二酸化炭素ガス供給時の各成分の混合物の温度は、5〜70℃であることが好ましく、7〜60℃であることがより好ましく、10〜50℃であることが特に好ましい。前記温度が前記下限値以上であることで、より効率的に二酸化炭素を供給でき、前記温度が前記上限値以下であることで、不純物が少ないより良好な品質の銀インク組成物が得られる。   The temperature of the mixture of the components at the time of supplying the carbon dioxide gas is preferably from 5 to 70 ° C, more preferably from 7 to 60 ° C, and particularly preferably from 10 to 50 ° C. When the temperature is equal to or higher than the lower limit, carbon dioxide can be supplied more efficiently. When the temperature is equal to or lower than the upper limit, a better quality silver ink composition with less impurities can be obtained.

二酸化炭素ガスの流量及び供給時間、並びに二酸化炭素ガス供給時の前記温度は、それぞれの値を相互に考慮しながら適した範囲に調節すればよい。例えば、前記温度を低めに設定しても、二酸化炭素ガスの流量を多めに設定するか、二酸化炭素ガスの供給時間を長めに設定することで、あるいはこの両方を行うことで、効率的に二酸化炭素を供給できる。また、二酸化炭素ガスの流量を少なめに設定しても、前記温度を高めにするか、二酸化炭素ガスの供給時間を長めに設定することで、あるいはこの両方を行うことで、効率的に二酸化炭素を供給できる。すなわち、二酸化炭素ガスの流量、二酸化炭素ガス供給時の前記温度として例示した上記数値範囲の中の数値を、二酸化炭素ガスの供給時間も考慮しつつ柔軟に組み合わせることで、良好な品質の銀インク組成物が効率的に得られる。   The flow rate and supply time of the carbon dioxide gas, and the temperature during the supply of the carbon dioxide gas may be adjusted to appropriate ranges while mutually considering each value. For example, even if the temperature is set low, the flow rate of the carbon dioxide gas is set to be large, or the supply time of the carbon dioxide gas is set to be long, or both are performed, so that the carbon dioxide gas can be efficiently formed. Can supply carbon. In addition, even if the flow rate of the carbon dioxide gas is set to a small value, the temperature can be increased, or the supply time of the carbon dioxide gas can be set to be longer, or both can be performed so that the carbon dioxide can be efficiently produced. Can be supplied. That is, the flow rate of the carbon dioxide gas, the numerical value in the above numerical range exemplified as the temperature at the time of carbon dioxide gas supply, by flexibly combining while considering the supply time of the carbon dioxide gas, silver ink of good quality The composition is obtained efficiently.

二酸化炭素ガスの供給は、各成分の混合物を撹拌しながら行うことが好ましい。このようにすることで、供給した二酸化炭素ガスがより均一に各成分の混合物中に拡散し、より効率的に二酸化炭素を供給できる。
この時の撹拌方法は、二酸化炭素を用いない上記の銀インク組成物の製造時における前記混合方法の場合と同様でよい。
It is preferable to supply the carbon dioxide gas while stirring the mixture of each component. By doing so, the supplied carbon dioxide gas diffuses more evenly into the mixture of each component, and carbon dioxide can be supplied more efficiently.
The stirring method at this time may be the same as the mixing method at the time of producing the above silver ink composition without using carbon dioxide.

ドライアイス(固形状二酸化炭素)の供給は、各成分の混合物中にドライアイスを添加することで行えばよい。ドライアイスは、全量を一括して添加してもよいし、分割して段階的に(添加を行わない時間帯を挟んで連続的に)添加してもよい。
ドライアイスの使用量は、上記の二酸化炭素ガスの供給量を考慮して調節すればよい。
ドライアイスの添加中及び添加後は、各成分の混合物を撹拌することが好ましく、例えば、二酸化炭素を用いない上記の銀インク組成物の製造時と同様の方法で撹拌することが好ましい。このようにすることで、効率的に二酸化炭素を供給できる。
撹拌時の温度は、二酸化炭素ガス供給時と同様でよい。また、撹拌時間は、撹拌温度に応じて適宜調節すればよい。
Dry ice (solid carbon dioxide) may be supplied by adding dry ice to a mixture of each component. Dry ice may be added all at once, or may be added stepwise (continuously in a time period during which no addition is performed).
The amount of dry ice used may be adjusted in consideration of the supply amount of the carbon dioxide gas.
During and after the addition of dry ice, it is preferable to stir the mixture of the components, for example, it is preferable to stir by the same method as in the production of the silver ink composition without using carbon dioxide. By doing so, carbon dioxide can be efficiently supplied.
The temperature at the time of stirring may be the same as at the time of supplying carbon dioxide gas. Further, the stirring time may be appropriately adjusted according to the stirring temperature.

二酸化炭素が供給されてなる銀インク組成物は、20〜25℃における粘度が、1Pa・s以上であることが好ましい。   The silver ink composition supplied with carbon dioxide preferably has a viscosity at 20 to 25 ° C. of 1 Pa · s or more.

例えば、還元剤の配合時には、得られる配合物(銀インク組成物)は比較的発熱し易い。そして、還元剤の配合時の温度が高い場合、この配合物は、後述する銀インク組成物の加熱処理時と同様の状態になるため、還元剤による前記金属銀の形成材料の分解促進作用によって、金属銀の形成材料の少なくとも一部において金属銀の形成が開始されることがあると推測される。このような金属銀を含有する銀インク組成物は、導電体形成時において、金属銀を含有しない銀インク組成物よりも温和な条件で後処理を行うことにより、導電体を形成できることがある。また、還元剤の配合量が十分に多い場合にも、同様に温和な条件で後処理を行うことにより、導電体を形成できることがある。このように、金属銀の形成材料の分解を促進する条件を採用することで、後処理として、より低温での加熱処理で、あるいは加熱処理を行わずに常温での乾燥処理のみで、導電体を形成できることがある。また、このような金属銀を含有する銀インク組成物は、金属銀を含有しない銀インク組成物と同様に取り扱うことができ、特に取り扱い性が劣ることもない。   For example, when the reducing agent is compounded, the obtained compound (silver ink composition) relatively easily generates heat. Then, when the temperature at the time of compounding the reducing agent is high, this compound is in the same state as during the heat treatment of the silver ink composition to be described later. It is presumed that the formation of metallic silver may be started in at least a part of the material for forming metallic silver. Such a silver ink composition containing metallic silver may be able to form a conductor by performing post-treatment under milder conditions than a silver ink composition containing no metallic silver at the time of forming the conductor. In addition, even when the amount of the reducing agent is sufficiently large, the post-treatment may be similarly performed under mild conditions to form a conductor. As described above, by adopting the conditions that promote the decomposition of the forming material of metallic silver, the post-treatment can be performed by heating at a lower temperature, or by performing only drying at room temperature without performing the heating, to obtain a conductive material. May be formed. Further, such a silver ink composition containing metallic silver can be handled in the same manner as a silver ink composition containing no metallic silver, and the handling properties are not particularly poor.

基板上に付着させた(印刷した)銀インク組成物を乾燥処理する場合には、公知の方法で行えばよく、例えば、常圧下、減圧下及び送風条件下のいずれで行ってもよく、大気下及び不活性ガス雰囲気下のいずれでおこなってもよい。そして、乾燥温度も特に限定されず、加熱乾燥及び常温乾燥のいずれでもよい。加熱処理が不要な場合の好ましい乾燥方法としては、18〜30℃で大気下において乾燥させる方法が例示できる。   The drying treatment of the silver ink composition deposited (printed) on the substrate may be performed by a known method. For example, the drying may be performed under any of normal pressure, reduced pressure, and blowing conditions. It may be carried out either under an inert gas atmosphere. The drying temperature is not particularly limited, and may be either heating drying or room temperature drying. As a preferable drying method when the heat treatment is unnecessary, a method of drying at 18 to 30 ° C. in the atmosphere can be exemplified.

基板上に付着させた銀インク組成物を加熱(焼成)処理する場合、その条件は、銀インク組成物の配合成分の種類に応じて適宜調節すればよい。通常は、加熱温度が60〜200℃であることが好ましく、70〜180℃であることがより好ましい。加熱時間は、加熱温度に応じて調節すればよいが、通常は、0.2〜12時間であることが好ましく、0.4〜10時間であることがより好ましい。前記金属銀の形成材料の中でも前記カルボン酸銀、特にβ−ケトカルボン酸銀(1)は、例えば、酸化銀等の金属銀の形成材料とは異なり、当該分野で公知の還元剤等を使用しなくても、低温で分解する。そして、このような分解温度を反映して、前記銀インク組成物は、上記のように、従来のものより極めて低温で金属銀を形成できる。
銀インク組成物を、耐熱性が低い基板上に付着させて加熱(焼成)処理する場合には、加熱温度は130℃未満であることが好ましく、125℃以下であることがより好ましく、120℃以下であることが特に好ましい。
When the silver ink composition deposited on the substrate is subjected to a heating (firing) treatment, the conditions may be appropriately adjusted according to the types of the components of the silver ink composition. Usually, the heating temperature is preferably from 60 to 200 ° C, more preferably from 70 to 180 ° C. The heating time may be adjusted according to the heating temperature, but is usually preferably from 0.2 to 12 hours, more preferably from 0.4 to 10 hours. Among the materials for forming metallic silver, the silver carboxylate, particularly silver β-ketocarboxylate (1) is different from a material for forming metallic silver such as silver oxide, for example, using a reducing agent known in the art. Decomposes at low temperatures, if not present. Reflecting such a decomposition temperature, the silver ink composition can form metallic silver at a much lower temperature than the conventional one, as described above.
When the silver ink composition is attached to a substrate having low heat resistance and is subjected to a heating (firing) treatment, the heating temperature is preferably lower than 130 ° C, more preferably 125 ° C or lower, and more preferably 120 ° C. It is particularly preferred that:

銀インク組成物の加熱処理の方法は特に限定されず、例えば、電気炉による加熱、感熱方式の熱ヘッドによる加熱、遠赤外線照射による加熱、高熱ガスの吹き付け等で行うことができる。また、銀インク組成物の加熱処理は、大気下で行ってもよいし、不活性ガス雰囲気下で行ってもよく、加湿条件下で行ってもよい。そして、常圧下、減圧下及び加圧下のいずれで行ってもよい。   The method of heat treatment of the silver ink composition is not particularly limited, and for example, can be performed by heating with an electric furnace, heating with a thermal head, heating by irradiating far-infrared rays, or blowing a high-temperature gas. The heat treatment of the silver ink composition may be performed in the air, under an inert gas atmosphere, or under humidified conditions. Then, the reaction may be performed under normal pressure, reduced pressure, or increased pressure.

本明細書において「加湿」とは、特に断りのない限り、湿度を人為的に増大させることを意味し、好ましくは相対湿度を5%以上とすることである。加熱処理時には、処理温度が高いことによって、処理環境での湿度が極めて低くなるため、5%という相対湿度は、明らかに人為的に増大されたものであるといえる。   In this specification, "humidification" means that the humidity is artificially increased unless otherwise specified, and preferably, the relative humidity is 5% or more. At the time of the heat treatment, the relative humidity of 5% is apparently artificially increased since the humidity in the processing environment becomes extremely low due to the high processing temperature.

銀インク組成物の加熱処理を加湿条件下で行う場合の相対湿度は、10%以上であることが好ましく、30%以上であることがより好ましく、50%以上であることがさらに好ましく、70%以上であることが特に好ましく、90%以上であってもよいし、100%であってもよい。そして、加湿条件下での加熱処理は、100℃以上に加熱した高圧水蒸気の吹き付けにより行ってもよい。このように加湿条件下で加熱処理することにより、短時間でより高純度の金属銀を形成できる。   When the heat treatment of the silver ink composition is performed under humidified conditions, the relative humidity is preferably 10% or more, more preferably 30% or more, still more preferably 50% or more, and 70% or more. It is particularly preferred that the ratio be at least 90% or 100%. The heat treatment under humidification conditions may be performed by spraying high-pressure steam heated to 100 ° C. or higher. By performing the heat treatment under the humidifying condition in this way, higher purity metallic silver can be formed in a short time.

銀インク組成物の加熱処理は、二段階で行ってもよい。例えば、一段階目の加熱処理では、金属銀の形成ではなく銀インク組成物の乾燥を主に行い、二段階目の加熱処理で、金属銀の形成を最後まで行う方法が例示できる。
一段階目の加熱処理において、加熱温度は、銀インク組成物の配合成分の種類に応じて適宜調節すればよいが、60〜120℃であることが好ましく、70〜100℃であることがより好ましい。また、加熱時間は、加熱温度に応じて調節すればよいが、通常は、5秒〜12時間であることが好ましく、30秒〜2時間であることがより好ましい。
二段階目の加熱処理において、加熱温度は、金属銀が良好に形成されるように、銀インク組成物の配合成分の種類に応じて適宜調節すればよいが、60〜200℃であることが好ましく、70〜180℃であることがより好ましい。また、加熱時間は、加熱温度に応じて調節すればよいが、通常は、1分〜12時間であることが好ましく、1分〜10時間であることがより好ましい。
銀インク組成物を、耐熱性が低い基板上に付着させて加熱(焼成)処理する場合には、一段階目及び二段階目の加熱処理における加熱温度は、130℃未満であることが好ましく、125℃以下であることがより好ましく、120℃以下であることが特に好ましい。
The heat treatment of the silver ink composition may be performed in two stages. For example, a method in which, in the first stage heat treatment, the silver ink composition is mainly dried instead of forming the metallic silver, and in the second stage heat treatment, the metallic silver is completely formed is exemplified.
In the first stage heat treatment, the heating temperature may be appropriately adjusted depending on the type of the components of the silver ink composition, but is preferably 60 to 120 ° C, more preferably 70 to 100 ° C. preferable. The heating time may be adjusted according to the heating temperature, but is usually preferably 5 seconds to 12 hours, and more preferably 30 seconds to 2 hours.
In the second stage of the heat treatment, the heating temperature may be appropriately adjusted according to the type of the components of the silver ink composition so that the metallic silver is favorably formed, but may be 60 to 200 ° C. The temperature is more preferably 70 to 180 ° C. The heating time may be adjusted according to the heating temperature, but is usually preferably 1 minute to 12 hours, more preferably 1 minute to 10 hours.
When the silver ink composition is attached to a substrate having low heat resistance and subjected to heating (firing) treatment, the heating temperature in the first and second heating treatments is preferably lower than 130 ° C. The temperature is more preferably 125 ° C or lower, and particularly preferably 120 ° C or lower.

ここまでで説明した銀インク組成物の加熱処理は、いずれも気相中で行うものであるが、銀インク組成物の加熱処理を二段階で行う場合、二段階目の加熱処理は、気相中ではなく液相中で行ってもよい。一段階目の加熱処理を経て、完全に又はある程度乾燥した銀インク組成物は、加熱した液体と接触させることで、その形状を損なうことなく、二段階目の加熱処理を行うことができる。そして、銀インク組成物の、一段階目の加熱処理を行った後の二段階目の液相中での加熱処理は、加熱した液体に銀インク組成物を浸漬することで行うことが好ましい。この液相中での加熱処理における加熱温度及び加熱時間は、先に説明した二段階目の加熱処理における加熱温度及び加熱時間と同じである。
上記の加熱した液体は湯(加熱した水)であることが好ましく、二段階目の加熱処理は、一段階目の加熱処理を行った銀インク組成物を湯中に浸漬すること、すなわち湯煎によって行うことが好ましい。
二段階目の加熱処理を液相中で行った場合には、この加熱処理によって形成された金属銀を、さらに乾燥させればよい。
Although the heat treatment of the silver ink composition described so far is performed in a gas phase, when the heat treatment of the silver ink composition is performed in two steps, the heat treatment in the second step is performed in a gas phase. The reaction may be performed in the liquid phase instead of in the liquid phase. The silver ink composition that has been completely or partially dried after the first-stage heat treatment can be subjected to the second-stage heat treatment by contacting the silver ink composition with the heated liquid without losing its shape. The heat treatment of the silver ink composition in the second liquid phase after the first heat treatment is preferably performed by immersing the silver ink composition in a heated liquid. The heating temperature and the heating time in the heat treatment in the liquid phase are the same as the heating temperature and the heating time in the second-stage heat treatment described above.
The above-mentioned heated liquid is preferably hot water (heated water), and the second heat treatment is performed by immersing the silver ink composition subjected to the first heat treatment in hot water, that is, It is preferred to do so.
When the second stage heat treatment is performed in a liquid phase, the metallic silver formed by this heat treatment may be further dried.

銀インク組成物の二段階目の加熱処理を液相中で行う場合、銀インク組成物の一段階目の加熱処理は、非加湿条件下で行うことが好ましい。
なお、本明細書において「非加湿」とは、上述の「加湿」を行わないこと、すなわち、湿度を人為的に増大させないことを意味し、好ましくは相対湿度を5%未満とすることである。
When the second-stage heat treatment of the silver ink composition is performed in a liquid phase, the first-stage heat treatment of the silver ink composition is preferably performed under non-humidified conditions.
In addition, in this specification, "non-humidification" does not perform the above-mentioned "humidification", that is, means that the humidity is not artificially increased, and preferably, the relative humidity is less than 5%. .

加湿条件下での加熱処理を採用する場合、銀インク組成物の加熱処理は、一段階目の加熱処理において、非加湿条件下で、上述のように金属銀の形成ではなく銀インク組成物の乾燥を主に行い、二段階目の加熱処理において、加湿条件下で、上述のように金属銀の形成を最後まで行う、二段階の方法で行うことが特に好ましい。   When the heat treatment under the humidifying condition is adopted, the heat treatment of the silver ink composition is performed in the first stage heat treatment under the non-humidifying condition, not the formation of the metallic silver as described above but the formation of the silver ink composition. It is particularly preferable to carry out drying in a two-stage method, in which the second stage of the heat treatment is carried out in the second stage under humid conditions, in which the formation of metallic silver is completed as described above.

二段階目の加熱処理を加湿条件下で行う場合、一段階目の非加湿条件下での加熱処理時の加熱温度は、60〜120℃であることが好ましく、70〜100℃であることがより好ましい。また、加熱時間は、5秒〜1時間であることが好ましく、30秒〜30分であることがより好ましく、30秒〜10分であることが特に好ましい。
一段階目の非加湿条件下での加熱処理に次いで行う、二段階目の加湿条件下での加熱処理時の加熱温度は、60〜140℃であることが好ましく、70〜130℃であることがより好ましい。また、加熱時間は、1分〜2時間であることが好ましく、1分〜1時間であることがより好ましく、1分〜30分であることが特に好ましい。
銀インク組成物を耐熱性が低い基材に付着させて加熱(焼成)処理する場合には、一段階目の非加湿条件下での加熱処理及び二段階目の加湿条件下での加熱処理における加熱温度は、いずれも130℃未満であることが好ましく、125℃以下であることがより好ましく、120℃以下であることが特に好ましい。
When performing the second stage heat treatment under humidification conditions, the heating temperature during the first stage non-humidification heat treatment is preferably 60 to 120 ° C, and is preferably 70 to 100 ° C. More preferred. The heating time is preferably from 5 seconds to 1 hour, more preferably from 30 seconds to 30 minutes, and particularly preferably from 30 seconds to 10 minutes.
The heating temperature during the heat treatment under the second-stage humidifying condition, which is performed after the heat treatment under the first-stage non-humidifying condition, is preferably 60 to 140 ° C, and is 70 to 130 ° C. Is more preferred. Further, the heating time is preferably 1 minute to 2 hours, more preferably 1 minute to 1 hour, and particularly preferably 1 minute to 30 minutes.
When the silver ink composition is adhered to a substrate having low heat resistance and subjected to heating (firing) treatment, the heat treatment under non-humidifying conditions in the first stage and the heat treatment under humidifying conditions in the second stage are performed. The heating temperature is preferably lower than 130 ° C., more preferably 125 ° C. or lower, and particularly preferably 120 ° C. or lower.

本発明に係る配線板として、基板上に銀細線以外のその他の構成を備えたものを製造する場合には、上記の製造方法において、所定のタイミングでその他の構成を形成する工程を適宜追加して行えばよい。   When manufacturing a wiring board according to the present invention having a structure other than silver fine wires on a substrate, in the above manufacturing method, a step of forming other structures at a predetermined timing is appropriately added. Just do it.

<<電子機器、データ受送信体、透明導電膜>>
本発明の金属インク組成物を用いて形成した配線板は、データ受送信体等の各種電子機器、透明導電膜等を構成するのに好適である。
例えば、前記電子機器は、前記配線板を用い、前記基材を筐体(外装材)として備えるように構成でき、前記配線板中の基材で筐体(外装材)の少なくとも一部を構成した点以外は、公知の電子機器と同様の構成とすることができる。例えば、携帯電話機等の電子機器における外装材の平面又は曲面部分を前記基材とし、この外装材(基材)上に直接前記金属細線が形成され、この金属細線を回路とすることで、前記配線板を回路基板として用いることができる。そして、例えば、前記配線板に、音声入力部、音声出力部、操作スイッチ、表示部等を組み合わせることにより、携帯電話機を構成できる。また、パターニングされた前記金属細線をアンテナとすることで、前記配線板をアンテナ構造体とすることができる。
前記データ受送信体は、前記配線板を用い、前記金属細線をアンテナとして備えるように構成でき、前記配線板をアンテナ構造体として用いた点以外は、公知のデータ受送信体と同様の構成とすることができる。例えば、前記配線板において、基材上に前記金属細線と電気的に接続されたICチップを設けてアンテナ部とすることにより、非接触型データ受送信体を構成できる。
<< Electronic Equipment, Data Receiver / Transmitter, Transparent Conductive Film >>
The wiring board formed using the metal ink composition of the present invention is suitable for forming various electronic devices such as a data transmitter / receiver, a transparent conductive film, and the like.
For example, the electronic device can be configured to include the base material as a housing (exterior material) using the wiring board, and to configure at least a part of the housing (exterior material) with the base material in the wiring board. Except for the point described above, the configuration can be the same as that of a known electronic device. For example, a flat or curved surface portion of an exterior material in an electronic device such as a mobile phone is used as the base material, and the thin metal wire is formed directly on the exterior material (base material). A wiring board can be used as a circuit board. Then, for example, a mobile phone can be configured by combining a voice input unit, a voice output unit, operation switches, a display unit, and the like with the wiring board. Further, by using the patterned thin metal wire as an antenna, the wiring board can be used as an antenna structure.
The data receiver / transmitter can be configured to include the thin metal wire as an antenna using the wiring board, and have the same configuration as a known data receiver / transmitter except that the wiring board is used as an antenna structure. can do. For example, in the wiring board, a non-contact data transmitter / receiver can be configured by providing an IC chip electrically connected to the thin metal wires on a base material to form an antenna unit.

前記透明導電膜は、前記配線板を用い、前記金属細線を極微細配線又は極薄配線として備えるように構成でき、前記金属細線を極微細配線又は極薄配線として備えた点以外は、公知の透明導電膜と同様の構成とすることができる。例えば、前記配線板に加え、透明基材等と組合せることにより、タッチパネルや光学ディスプレイを構成できる。
極薄配線の厚さは、5nm〜10μmであることが好ましく、7nm〜5μmであることがより好ましく、10nm〜1μmであることが特に好ましい。
The transparent conductive film, using the wiring board, can be configured to be provided with the fine metal wires as ultra fine wiring or ultra thin wiring, except that the metal fine wires are provided as ultra fine wiring or ultra thin wiring, A structure similar to that of the transparent conductive film can be used. For example, a touch panel or an optical display can be configured by combining with a transparent substrate or the like in addition to the wiring board.
The thickness of the ultra-thin wiring is preferably 5 nm to 10 μm, more preferably 7 nm to 5 μm, and particularly preferably 10 nm to 1 μm.

また、前記配線板においては、前記金属細線を低温で形成することも可能であり、基材等の材質を幅広く選択できるので、設計の自由度が飛躍的に向上し、電子機器、透明導電膜等をより合理的な構造とすることも可能である。
上記のような電子機器、透明導電膜等は、長期に渡って高い性能を維持することが可能である。
Further, in the wiring board, the fine metal wires can be formed at a low temperature, and a wide range of materials such as a base material can be selected. Etc. can be a more rational structure.
The above electronic devices, transparent conductive films, and the like can maintain high performance over a long period of time.

以下、具体的実施例により、本発明についてより詳細に説明する。ただし、本発明は、以下に示す実施例に、何ら限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples. However, the present invention is not limited to the examples described below.

<実施例1〜2:銀インク組成物1の製造>
ビーカー中で2−エチルヘキシルアミン(後述する2−メチルアセト酢酸銀に対して、1.3倍モル量)と、イソブチルアミン(後述する2−メチルアセト酢酸銀に対して、0.2倍モル量)を混合し、メカニカルスターラーを用いて1分間撹拌した。ここに、液温が25℃以下となるように、52.9gの2−メチルアセト酢酸銀、ギ酸(2−メチルアセト酢酸銀に対して、0.4倍モル量)、3,5−ジメチル−1−ヘキシン−3−オール(エアープロダクツジャパン社製「サーフィノール61」、以下、「DMHO」と略記することがある)(2−メチルアセト酢酸銀に対して、0.04倍モル量)をこの順で添加して混合し、メカニカルスターラーを用いて2時間撹拌した。これにより、金属インク組成物1を得た。
<Examples 1-2: Production of silver ink composition 1>
In a beaker, 2-ethylhexylamine (1.3 times molar amount with respect to silver 2-methylacetoacetate described later) and isobutylamine (0.2 times molar amount with respect to silver 2-methylacetoacetate described later) are mixed. It mixed and stirred for 1 minute using the mechanical stirrer. Here, 52.9 g of silver 2-methylacetoacetate, formic acid (0.4-fold molar amount based on silver 2-methylacetoacetate), 3,5-dimethyl-1 so that the liquid temperature is 25 ° C. or lower. -Hexin-3-ol ("Surfinol 61" manufactured by Air Products Japan, hereinafter may be abbreviated as "DMHO") (0.04 molar amount to silver 2-methylacetoacetate) in this order And stirred for 2 hours using a mechanical stirrer. Thus, a metal ink composition 1 was obtained.

<参考例1:銀インク組成物2の製造>
ビーカー中で2−エチルヘキシルアミン(後述する2−メチルアセト酢酸銀に対して、0.7倍モル量)と、イソブチルアミン(後述する2−メチルアセト酢酸銀に対して、0.3倍モル量)を混合し、メカニカルスターラーを用いて1分間撹拌した。ここに、液温が25℃以下となるように、52.9gの2−メチルアセト酢酸銀、ギ酸(2−メチルアセト酢酸銀に対して、0.6倍モル量)を添加して混合し、メカニカルスターラーを用いて2時間撹拌した。これにより、第1のインクを得た。
ビーカー中で2−エチルヘキシルアミン(後述する2−メチルアセト酢酸銀に対して、2.24倍モル量)と、DMHO(後述する2−メチルアセト酢酸銀に対して、0.1倍モル量)を混合し、メカニカルスターラーを用いて1分間撹拌した。ここに、液温が5℃以下となるように、1モルの2−メチルアセト酢酸銀を添加して混合し、メカニカルスターラーを用いて30分間撹拌した。これにより、第2のインクを得た。
上記第1のインクを55質量部と、上記第2のインクを45質量部混合し、銀インク組成物2を得た。
<Reference Example 1: Production of silver ink composition 2>
In a beaker, 2-ethylhexylamine (0.7-fold molar amount with respect to silver 2-methylacetoacetate described later) and isobutylamine (0.3-fold molar amount with respect to silver 2-methylacetoacetate described later) are mixed. It mixed and stirred for 1 minute using the mechanical stirrer. Here, 52.9 g of silver 2-methylacetoacetate and formic acid (0.6-fold molar amount with respect to silver 2-methylacetoacetate) were added and mixed so that the liquid temperature would be 25 ° C. or lower, and then mechanically added. The mixture was stirred for 2 hours using a stirrer. Thereby, a first ink was obtained.
In a beaker, 2-ethylhexylamine (2.24 molar amount based on silver 2-methylacetoacetate described later) and DMHO (0.1 molar amount based on silver 2-methylacetoacetate described later) are mixed. Then, the mixture was stirred for 1 minute using a mechanical stirrer. Here, 1 mol of silver 2-methylacetoacetate was added and mixed so that the liquid temperature would be 5 ° C. or lower, and the mixture was stirred for 30 minutes using a mechanical stirrer. Thus, a second ink was obtained.
55 parts by mass of the first ink and 45 parts by mass of the second ink were mixed to obtain a silver ink composition 2.

<実施例3;銀インク組成物3の製造>
ビーカー中に52.9gの2−メチルアセト酢酸銀とヘキサン(2−メチルアセト酢酸銀に対して1.63倍モル量)とを入れ、メカニカルスターラーを用いて1分間撹拌した。ここに、2−エチルヘキシルアミン(2−メチルアセト酢酸銀に対して1.45倍モル量)を添加し、次いで、ギ酸(2−メチルアセト酢酸銀に対して、0.5倍モル量)を10分かけて滴下したのちに1.5時間撹拌を続け、次いで、DMHO(2−メチルアセト酢酸銀に対して、0.032倍モル量)と、4−エチル‐1−オクチン‐3−オール(2−メチルアセト酢酸銀に対して0.004倍モル量)との混合物を添加して混合し、さらに5分間撹拌した。これにより、銀インク組成物3を得た。
Example 3 Production of Silver Ink Composition 3
52.9 g of silver 2-methylacetoacetate and hexane (1.63 times the molar amount of silver 2-methylacetoacetate) were placed in a beaker, and the mixture was stirred for 1 minute using a mechanical stirrer. To this, 2-ethylhexylamine (1.45 times the molar amount based on silver 2-methylacetoacetate) was added, and then formic acid (0.5 times the molar amount based on silver 2-methylacetoacetate) was added for 10 minutes. After stirring, stirring was continued for 1.5 hours, and then DMHO (0.032-fold molar amount based on silver 2-methylacetoacetate) and 4-ethyl-1-octin-3-ol (2- (A molar amount of 0.004 times the amount of silver methyl acetoacetate) was added and mixed, and the mixture was further stirred for 5 minutes. Thus, a silver ink composition 3 was obtained.

<実施例4;銀インク組成物4の製造>
ビーカー中に52.9gの2−メチルアセト酢酸銀とヘキサン(2−メチルアセト酢酸銀に対して1.63倍モル量)とを入れ、メカニカルスターラーを用いて1分間撹拌した。ここに、2−エチルヘキシルアミン(2−メチルアセト酢酸銀に対して1.45倍モル量)を添加し、次いで、ギ酸(2−メチルアセト酢酸銀に対して、0.5倍モル量)を10分かけて滴下したのちに1.5時間撹拌を続け、次いで、DMHO(2−メチルアセト酢酸銀に対して、0.024倍モル量)と、4−エチル‐1−オクチン‐3−オール(2−メチルアセト酢酸銀に対して0.012倍モル量)との混合物を添加して混合し、さらに5分間撹拌した。これにより、銀インク組成物4を得た。
Example 4 Production of Silver Ink Composition 4
52.9 g of silver 2-methylacetoacetate and hexane (1.63 times the molar amount of silver 2-methylacetoacetate) were placed in a beaker, and the mixture was stirred for 1 minute using a mechanical stirrer. To this, 2-ethylhexylamine (1.45 times the molar amount based on silver 2-methylacetoacetate) was added, and then formic acid (0.5 times the molar amount based on silver 2-methylacetoacetate) was added for 10 minutes. After stirring, the mixture was stirred for 1.5 hours, then DMHO (0.024-fold molar amount based on silver 2-methylacetoacetate) and 4-ethyl-1-octin-3-ol (2- (A molar amount of 0.012 times the amount of silver methyl acetoacetate) was added and mixed, and the mixture was further stirred for 5 minutes. Thus, a silver ink composition 4 was obtained.

<実施例5;銀インク組成物5の製造>
ビーカー中に52.9gの2−メチルアセト酢酸銀とヘキサン(2−メチルアセト酢酸銀に対して1.63倍モル量)とを入れ、メカニカルスターラーを用いて1分間撹拌した。ここに、2−エチルヘキシルアミン(2−メチルアセト酢酸銀に対して1.45倍モル量)と、ギ酸(2−メチルアセト酢酸銀に対して、0.5倍モル量)を10分かけて滴下したのちに1.5時間撹拌を続け、次いで、DMHO(2−メチルアセト酢酸銀に対して、0.036倍モル量)を添加して混合し、さらに5分間撹拌した。これにより、銀インク組成物5を得た。
<Example 5: Production of silver ink composition 5>
52.9 g of silver 2-methylacetoacetate and hexane (1.63 times the molar amount of silver 2-methylacetoacetate) were placed in a beaker, and the mixture was stirred for 1 minute using a mechanical stirrer. Here, 2-ethylhexylamine (1.45-fold molar amount with respect to silver 2-methylacetoacetate) and formic acid (0.5-fold molar amount with respect to silver 2-methylacetoacetate) were added dropwise over 10 minutes. Thereafter, stirring was continued for 1.5 hours, and then DMHO (0.036-fold molar amount based on silver 2-methylacetoacetate) was added and mixed, followed by stirring for further 5 minutes. Thus, a silver ink composition 5 was obtained.

<配線板の製造>
グラビアオフセット印刷法により、上記で得られた銀インク組成物を用いて、ポリカーボネート製基板(厚さ1mm)の一方の主面(表面)上に印刷を行い、図1Aに示すような網目状の印刷パターンを形成した。
実施例1〜2は、上記銀インク組成物1を用い、参考例1として、上記銀インク組成物2を用いた。また、比較例1として、市販の銀ペースト(銀インク「TEC−PA−010」(インクテック社製、銀の含有量55質量%))を用いた。
実施例3〜5は、上記銀インク組成物3〜5を用いた。
より具体的には、以下のとおりである。
印刷装置としては、以下のものを用いた。すなわち、凹版としては、金属製でその表面に銀細線の型となる、溝の線幅4μmかつ溝の深さ10μmであるもの用いた。オフセットロールとしては、金属製の筒体の表面がシリコーン樹脂製のブランケット材で被覆されたものを用いた。
このような印刷装置を用いて、凹版に上記の銀インク組成物を供給して、余分の銀インク組成物をドクターブレードによって除去し、溝に充填された銀インク組成物をオフセットロールのブランケット材の表面に転写した後、ベルトコンベヤユニットで運搬されてきた基板の表面に対して、この銀インク組成物で印刷を行った。
ドクターブレードによる除去速度を「ドクター速度(mm/s)」として表1に記載する。また、ブランケット材の表面転写量を「ブラン押し込み量(μm)」として表1に記載する。
次いで、得られた印刷パターンを、100℃で10分間乾燥させ、さらに、100℃、相対湿度100%の水蒸気雰囲気下にこの基板を10分間置いて加熱(焼成)処理し、配線板とした。
<Manufacture of wiring boards>
Using the silver ink composition obtained above by gravure offset printing, printing was performed on one main surface (front surface) of a polycarbonate substrate (thickness: 1 mm). A print pattern was formed.
In Examples 1 and 2, the silver ink composition 1 was used, and as Reference Example 1, the silver ink composition 2 was used. As Comparative Example 1, a commercially available silver paste (silver ink “TEC-PA-010” (manufactured by Inktec, silver content 55% by mass)) was used.
In Examples 3 to 5, the above silver ink compositions 3 to 5 were used.
More specifically, it is as follows.
The following was used as the printing device. That is, as the intaglio, a metal plate having a groove width of 4 μm and a groove depth of 10 μm, which is a silver fine wire pattern on its surface, was used. As the offset roll, a roll in which the surface of a metal cylinder was covered with a blanket material made of silicone resin was used.
Using such a printing apparatus, the silver ink composition is supplied to the intaglio plate, excess silver ink composition is removed by a doctor blade, and the silver ink composition filled in the groove is used as a blanket material for an offset roll. After the transfer to the surface of the substrate, printing was performed with the silver ink composition on the surface of the substrate transported by the belt conveyor unit.
The removal speed by the doctor blade is described in Table 1 as "doctor speed (mm / s)". Further, the amount of surface transfer of the blanket material is described in Table 1 as “blank indentation amount (μm)”.
Next, the obtained printed pattern was dried at 100 ° C. for 10 minutes, and further, the substrate was placed in a steam atmosphere at 100 ° C. and 100% relative humidity for 10 minutes to perform a heating (firing) treatment to obtain a wiring board.

<配線板の評価>
[銀細線の幅及びアスペクト比]
得られた配線板について、形状測定レーザマイクロスコープ(キーエンス社製「VKX−100」)を用いて、銀細線の幅と高さを測定した。測定は、銀配線の9ヶ所で行い、その平均値を算出した。結果を「線幅(μm)」として表1に示す。
また、得られた配線板について、断面において、幅Wに対する高さHの比(H/W)、すなわちアスペクト比を算出した。その結果を「アスペクト比」として表1に記載する。
<Evaluation of wiring board>
[Width and aspect ratio of fine silver wire]
About the obtained wiring board, the width and height of the fine silver wire were measured using the shape measurement laser microscope ("VKX-100" made by Keyence Corporation). The measurement was performed at nine places of the silver wiring, and the average value was calculated. The results are shown in Table 1 as “line width (μm)”.
Further, in the cross section of the obtained wiring board, the ratio of the height H to the width W (H / W), that is, the aspect ratio, was calculated. The results are shown in Table 1 as “aspect ratio”.

[表面粗さ]
表面粗さは、JIS B0601:2001(ISO4287:1997)に基づくものであり、算術平均粗さ(Ra)を意味し、粗さ曲線からその平均線の方向に基準長さlだけを抜き取り、この抜取り部分の平均線の方向にX軸を、縦倍率の方向にY軸を取り、粗さ曲線をy=Z(x)で表したときに、以下の式(II)によって求められた値をマイクロメートル(μm)単位で表示したものである。その結果を「表面粗さ(Ra)(μm)」として、表1に記載する。
[Surface roughness]
The surface roughness is based on JIS B0601: 2001 (ISO4287: 1997), which means arithmetic average roughness (Ra), and only a reference length 1 is extracted from a roughness curve in the direction of the average line. When the X axis is taken in the direction of the average line of the sampled portion and the Y axis is taken in the direction of the vertical magnification, and the roughness curve is represented by y = Z (x), the value obtained by the following equation (II) is obtained. It is displayed in units of micrometers (μm). The results are shown in Table 1 as “surface roughness (Ra) (μm)”.

Figure 0006650295
Figure 0006650295

[体積抵抗率]
また、得られた配線板について、銀細線の線抵抗値R(Ω)、断面積A(cm)、及び線長L(cm)を測定し、式「ρ=R×A/L」により、体積抵抗率ρ(Ω・cm)を算出した。なお、線抵抗値Rはデジタルマルチメータ(三和電気計器社製「PC5000a」)を用いて測定し、断面積Aは形状測定レーザマイクロスコープ(キーエンス社製「VK−X100」)を用いて測定した。結果を「体積抵抗率(μΩ・cm)」として表1に示す。
比較例1は、銀細線が断線してしまい、体積抵抗率を測定することができなかった。
[Volume resistivity]
Further, with respect to the obtained wiring board, the wire resistance R (Ω), the cross-sectional area A (cm 2 ), and the wire length L (cm) of the fine silver wire were measured, and according to the equation “ρ = R × A / L”. And volume resistivity ρ (Ω · cm) were calculated. The wire resistance R is measured using a digital multimeter (“PC5000a” manufactured by Sanwa Electric Instruments Co., Ltd.), and the cross-sectional area A is measured using a shape measuring laser microscope (“VK-X100” manufactured by Keyence Corporation). did. The results are shown in Table 1 as “volume resistivity (μΩ · cm)”.
In Comparative Example 1, the thin silver wire was broken, and the volume resistivity could not be measured.

Figure 0006650295
Figure 0006650295

本発明は、電磁波シールド、タッチパネル等、各種電子機器における部材に利用可能である。   INDUSTRIAL APPLICATION This invention can be utilized for members in various electronic devices, such as an electromagnetic wave shield and a touch panel.

1 配線板
11 基板
11a 基板の表面(一方の主面)
12 銀細線
W 銀細線の幅
H 銀細線の高さ
P 銀細線のピッチ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Wiring board 11 Substrate 11a Surface of substrate (one main surface)
12 Silver wire W Silver wire width H Silver wire height P Silver wire pitch

Claims (2)

基板上に印刷法によって形成された銀細線を備え、
前記銀細線は、
その線長方向に対して垂直な方向の断面において、幅が20μm以下であり、アスペクト比が0.013以上0.025以下であり、
頂上が前記基板との接触部よりも幅が小さくなっており、前記銀細線の表面粗さが0.25μm以上0.35μm以下であり、
前記銀細線が、銀インク組成物を用いて形成され、
前記銀インク組成物が、下記一般式(1)で表わされるβ−ケトカルボン酸銀、含窒素化合物、並びに還元剤及びアルコールのいずれか一方又は両方が配合されたものである配線板。
Figure 0006650295
(式中、Rは1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよい炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基若しくはフェニル基、水酸基、アミノ基、又は一般式「R −CY −」、「CY −」、「R −CHY −」、「R O−」、「R N−」、「(R O) CY −」若しくは「R −C(=O)−CY −」で表される基であり;
はそれぞれ独立にフッ素原子、塩素原子、臭素原子又は水素原子であり;R は炭素数1〜19の脂肪族炭化水素基又はフェニル基であり;R は炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基であり;R は炭素数1〜16の脂肪族炭化水素基であり;R 及びR はそれぞれ独立に炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基であり;R は炭素数1〜19の脂肪族炭化水素基、水酸基又は式「AgO−」で表される基であり;
はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基、ハロゲン原子、1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいフェニル基若しくはベンジル基、シアノ基、N−フタロイル−3−アミノプロピル基、2−エトキシビニル基、又は一般式「R O−」、「R S−」、「R −C(=O)−」若しくは「R −C(=O)−O−」で表される基であり;
は、炭素数1〜10の脂肪族炭化水素基、チエニル基、又は1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいフェニル基若しくはジフェニル基である。)
With silver fine lines formed by printing method on the substrate,
The silver wire is
In a cross section perpendicular to the line length direction, the width is 20 μm or less, the aspect ratio is 0.013 or more and 0.025 or less,
Summit has become smaller in width than the contact portion with the substrate, the surface roughness of the silver thin line Ri der least 0.35μm below 0.25 [mu] m,
The silver fine line is formed using a silver ink composition,
The silver ink composition, beta-ketocarboxylic silver represented by the following general formula (1), a nitrogen-containing compound, and a reducing agent and Der Ru wiring board which either or both are blended alcohol.
Figure 0006650295
(In the formula, R represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted with one or more hydrogen atoms or a phenyl group, a hydroxyl group, an amino group, or a compound represented by the general formula “R 1 -CY 1 2 - "," CY 1 3 - "," R 1 -CHY 1 - "," R 2 O - "," R 5 R 4 N -, "" (R 3 O) 2 CY 1 - "or" R 6 -C (= O) -CY 1 2 - be a group represented by ";
Y 1 is each independently a fluorine atom, chlorine atom, bromine atom or hydrogen atom; R 1 is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms or a phenyl group; R 2 is an aliphatic having 1 to 20 carbon atoms R 3 is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms; R 4 and R 5 are each independently an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms; R 6 is An aliphatic hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms, a hydroxyl group or a group represented by the formula "AgO-";
X 1 is each independently a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen atom, a phenyl group or a benzyl group in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent, a cyano group, - phthaloyl-3-aminopropyl group, 2-ethoxyethyl vinyl group, or the general formula "R 7 O -", "R 7 S -", "R 7 -C (= O) -" or "R 7 -C ( OO) -O- ";
R 7 is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a thienyl group, or a phenyl group or a diphenyl group in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent. )
前記銀細線の体積抵抗率が15μΩ・cm以下である、請求項1に記載の配線板。     The wiring board according to claim 1, wherein the silver fine wire has a volume resistivity of 15 μΩ · cm or less.
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JP2009238625A (en) * 2008-03-27 2009-10-15 Mitsuboshi Belting Ltd Metal nanoparticle paste and pattern forming method
WO2014051066A1 (en) * 2012-09-28 2014-04-03 トッパン・フォームズ株式会社 Silver ink composition, conductor and communication device
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