JP6648248B2 - 基板処理方法 - Google Patents

Description

本発明は、半導体基板、液晶表示用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等（以下、単に「基板」と称する）に処理液を供給する基板処理方法に関し、特に、処理液を回収するカップの技術に関する。

特許文献１は、基板保持部と、回転駆動機構と、第１、第２のノズルと、カップ体と、第１、第２の排液管路と、排気管路と、可動カップとを備えた基板処理装置を開示する。基板保持部は、基板を水平に保持する。回転駆動機構は、基板保持部を回転させる。第１のノズルは、ポジティブトーン現像用の現像液を供給する。第２のノズルは、ネガティブトーン現像用の現像液を供給する。カップ体は、現像液を回収する。第１、第２の排液管路および排気管路はそれぞれ、カップ体に接続される。可動カップは、上下動することによって、第１、第２の排液管路のいずれかに現像液を案内する。

例えば、第１のノズルが現像液を供給するとき、可動カップは現像液を第１の排液管路に案内し、第２のノズルが現像液を供給するとき、可動カップは現像液を第２の排液管路に案内する。第１の排液管路はポジティブトーン現像用の現像液を排出し、第２の排液管路はネガティブトーン現像用の現像液を排出する。この際、排気管路は、カップ体内の気体（現像液のミストを含む）を排出する。これにより、第１、第２の排液管路で、ポジティブトーン現像用の現像液とネガティブトーン現像用の現像液とが混合することを防止できる。排気管路は、第１、第２のノズルが現像液を供給するとき、カップ体内の気体（現像液のミストを含む）を排出する。

特開２０１４−７５５７５号公報

しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
排気管路は、ポジティブトーン現像用の現像液のミスト、および、ネガティブトーン現像用の現像液のミストの両方を排出する。よって、排気管路内で、異なる種類の現像液のミストが混合するおそれがある。その場合、カップ内の雰囲気を清浄に保つことが困難になり、基板に対して処理を品質良く行うことが困難になる

本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、基板に対して処理を品質良く行うことができる基板処理方法を提供することを目的とする。

本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、本発明に係る基板処理方法は、基板処理装置で基板を処理する基板処理方法において、前記基板処理装置でポジティブトーン現像用の現像液を用いて、ポジティブトーン現像処理を行う工程と、前記基板処理装置でネガティブトーン現像用の現像液を用いて、ネガティブトーン現像処理を行う工程と、を備え、前記ポジティブトーン現像処理を行う工程では、前記基板処理装置に設けられる第１カップでポジティブトーン現像用の現像液を回収し、前記ネガティブトーン現像処理を行う工程では、前記基板処理装置に設けられる第２カップでネガティブトーン現像用の現像液を回収し、前記基板処理方法は、前記ポジティブトーン現像処理を行う工程から前記ネガティブトーン現像処理を行う工程に切り替えるときに、ネガティブトーン現像用の洗浄液を前記第２カップに予め散布する工程と、前記ネガティブトーン現像処理を行う工程から前記ポジティブトーン現像処理を行う工程に切り替えるときに、ポジティブトーン現像用の洗浄液を前記第１カップに予め散布する工程と、を備える基板処理方法である。

［作用・効果］本発明に係る基板処理方法は、ネガティブトーン現像用の洗浄液を前記第２カップに予め散布する工程を備えているので、ネガティブトーン現像処理を行う工程を始める前に、ネガティブトーン現像処理に適した環境を効果的に形成できる。よって、切り替え後の最初のネガティブトーン現像処理であっても品質良く行うことができる。

また、本発明に係る基板処理方法は、ポジティブトーン現像用の洗浄液を前記第１カップに予め散布する工程を備えているので、ポジティブトーン現像処理を行う工程を始める前に、ポジティブトーン現像処理に適した環境を効果的に形成できる。よって、切り替え後の最初のポジティブトーン現像処理であっても品質良く行うことができる。

なお、「ネガティブトーン現像用の洗浄液を前記第２カップに予め散布する工程」は、切り替え前の最後の「前記ポジティブトーン現像処理を行う工程」の後で、切り替え後の最初の「前記ネガティブトーン現像処理を行う工程」の前に、実行される。「ポジティブトーン現像用の洗浄液を前記第１カップに予め散布する工程」は、切り替え前の最後の「前記ポジティブトーン現像処理を行う工程」の後で、切り替え後の最初の「前記ネガティブトーン現像処理を行う工程」の前に、実行される。

本発明において、前記ネガティブトーン現像処理を行う工程から前記ポジティブトーン現像処理を行う工程に切り替えるときに、ポジティブトーン現像用の洗浄液を前記第２カップに散布する工程を備えることが好ましい。ポジティブトーン現像処理を行う工程を始める前に、ポジティブトーン現像処理に適した環境を確実に形成できる。

また、本発明に係る基板処理方法は、基板処理装置で基板を処理する基板処理方法において、前記基板処理装置でポジティブトーン現像処理を行う工程と、前記基板処理装置でネガティブトーン現像処理を行う工程と、前記ポジティブトーン現像処理を行う工程から前記ネガティブトーン現像処理を行う工程に切り替えるときに、溶媒雰囲気を予め形成する工程と、前記ネガティブトーン現像処理を行う工程から前記ポジティブトーン現像処理を行う工程に切り替えるときに、溶媒不在雰囲気を予め形成する工程と、を備える基板処理方法である。

［作用・効果］本発明に係る基板処理方法は、溶媒雰囲気を予め形成する工程を備えているので、ネガティブトーン現像処理を行う工程を始める前に、ネガティブトーン現像処理に適した環境を形成できる。よって、切り替え後の最初のネガティブトーン現像処理であっても品質良く行うことができる。

また、本発明に係る基板処理方法は、溶媒不在雰囲気を予め形成する工程を備えているので、ポジティブトーン現像処理を行う工程を始める前に、ポジティブトーン現像処理に適した環境を形成できる。よって、切り替え後の最初のポジティブトーン現像処理であっても品質良く行うことができる。

本発明において、前記ポジティブトーン現像処理を行う工程では、前記基板処理装置に設けられる第１カップでポジティブトーン現像処理に使用した処理液を回収し、前記ネガティブトーン現像処理を行う工程では、前記基板処理装置に設けられる第２カップでネガティブトーン現像処理に使用した処理液を回収し、前記溶媒雰囲気を予め形成する工程では、前記第２カップに溶媒雰囲気を形成し、前記溶媒不在雰囲気を予め形成する工程では、前記第１カップ、または、前記第１カップおよび前記第２カップに溶媒不在雰囲気を形成することが好ましい。溶媒雰囲気を予め形成する工程では、ネガティブトーン現像処理に適した環境を基板の周囲に形成できる。また、記溶媒不在雰囲気を予め形成する工程では、ポジティブトーン現像処理に適した環境を基板の周囲に好適に形成できる。

また、本発明に係る基板処理方法は、同一空間に設けられる複数の基板処理ユニットのそれぞれで基板を処理する基板処理方法において、前記基板処理ユニットの少なくともいずれかで、ポジティブトーン現像用の現像液を用いて、ポジティブトーン現像処理を行う工程と、前記基板処理ユニットの少なくともいずれかで、ネガティブトーン現像用の現像液を用いて、ネガティブトーン現像処理を行う工程と、を備え、前記ポジティブトーン現像処理を行う工程では、前記基板処理ユニットのそれぞれに設けられる第１カップでポジティブトーン現像用の現像液を回収し、前記ネガティブトーン現像処理を行う工程では、前記基板処理ユニットのそれぞれに設けられる第２カップでネガティブトーン現像用の現像液を回収し、前記基板処理方法は、前記ポジティブトーン現像処理を行う工程から前記ネガティブトーン現像処理を行う工程に切り替えるときに、ネガティブトーン現像用の洗浄液を全ての前記第２カップに予め散布する工程と、前記ネガティブトーン現像処理を行う工程から前記ポジティブトーン現像処理を行う工程に切り替えるときに、ポジティブトーン現像用の洗浄液を全ての前記第１カップに予め散布する工程と、を備える基板処理方法である。

［作用・効果］本発明に係る基板処理方法は、ネガティブトーン現像用の洗浄液を全ての前記第２カップに予め散布する工程を備えているので、ネガティブトーン現像処理を行う工程を始める前に、ネガティブトーン現像処理に適した環境を各基板処理ユニットに効果的に形成できる。よって、いずれの基板処理ユニットであっても、最初からネガティブトーン現像処理を品質良く行うことができる。

また、本発明に係る基板処理方法は、ポジティブトーン現像用の洗浄液を全ての前記第１カップに予め散布する工程を備えているので、ポジティブトーン現像処理を行う工程を始める前に、ポジティブトーン現像処理に適した環境を各基板処理ユニットに効果的に形成できる。よって、いずれの基板処理ユニットであっても、最初からポジティブトーン現像処理を品質良く行うことができる。

本発明において、前記ネガティブトーン現像処理を行う工程から前記ポジティブトーン現像処理を行う工程に切り替えるときに、ポジティブトーン現像用の洗浄液を全ての前記第２カップに散布する工程を備えることが好ましい。ポジティブトーン現像処理を行う工程を始める前に、ポジティブトーン現像処理に適した環境を各基板処理ユニットに確実に形成できる。

また、本発明に係る基板処理方法は、同一空間に設けられる複数の基板処理ユニットのそれぞれで基板に処理を行う基板処理方法において、前記基板処理ユニットの少なくともいずれかで、前記ポジティブトーン現像処理を行う工程と、前記基板処理ユニットの少なくともいずれかで、前記ネガティブトーン現像処理を行う工程と、前記ポジティブトーン現像処理を行う工程から前記ネガティブトーン現像処理を行う工程に切り替えるときに、溶媒雰囲気を予め形成する工程と、前記ネガティブトーン現像処理を行う工程から前記ポジティブトーン現像処理を行う工程に切り替えるときに、溶媒不在雰囲気を予め形成する工程と、を備える基板処理方法である。

［作用・効果］本発明に係る基板処理方法は、溶媒雰囲気を予め形成する工程を備えているので、ネガティブトーン現像処理を行う工程を始める前に、ネガティブトーン現像処理に適した環境を各基板処理ユニットに形成できる。よって、いずれの基板処理ユニットであっても、最初からネガティブトーン現像処理を品質良く行うことができる。

また、本発明に係る基板処理方法は、溶媒不在雰囲気を予め形成する工程を備えているので、ポジティブトーン現像処理を行う工程を始める前に、ポジティブトーン現像処理に適した環境を各基板処理ユニットに形成できる。よって、いずれの基板処理ユニットであっても、最初からポジティブトーン現像処理を品質良く行うことができる。

本発明において、前記ポジティブトーン現像処理を行う工程では、前記基板処理ユニットのそれぞれに設けられる第１カップでポジティブトーン現像処理に使用した処理液を回収し、前記ネガティブトーン現像処理を行う工程では、前記基板処理ユニットのそれぞれに設けられる第２カップでネガティブトーン現像処理に使用した処理液を回収し、前記溶媒雰囲気を予め形成する工程では、全ての前記第２カップに溶媒雰囲気を形成し、前記溶媒不在雰囲気を予め形成する工程では、全ての前記第１カップ、または、全ての前記第１カップおよび全ての前記第２カップに溶媒不在雰囲気を形成することが好ましい。溶媒雰囲気を予め形成する工程では、ネガティブトーン現像処理に適した環境を基板の周囲に形成できる。また、記溶媒不在雰囲気を予め形成する工程では、ポジティブトーン現像処理に適した環境を基板の周囲に形成できる。

なお、本明細書は、次のような基板処理装置に係る発明も開示している。

本発明に係る基板処理装置は、基板を略水平姿勢で保持する基板保持部と、前記基板保持部を略鉛直軸回りに回転する回転駆動部と、前記基板保持部に保持された基板に処理液を供給する処理液供給部と、前記基板保持部の側方を囲むように設けられている外カップと、前記外カップ内に収容される内カップと、を備え、前記内カップは、前記内カップが処理液を回収する回収位置と、前記外カップが処理液を回収する退避位置とにわたって移動可能であり、前記内カップは、環状の外形を呈する内カップ本体と、前記内カップ本体に形成され、前記内カップ本体内の処理液を排出する排液口と、前記内カップ本体に形成され、前記内カップ本体内の気体を排出する排気口と、を備え、前記外カップは、環状の外形を呈する外カップ本体と、前記外カップ本体に形成され、前記外カップ本体内の処理液を排出する排液口と、前記外カップ本体に形成され、前記外カップ本体内の気体を排出する排気口と、を備える基板処理装置である。

［作用・効果］本発明に係る基板処理装置によれば、内カップ本体内の処理液、内カップ本体内の気体、外カップ本体内の処理液、および、外カップ本体内の気体をそれぞれ個別に排出できる。よって、例えば、内カップ本体内の気体と外カップ本体内の気体が混合しない。よって、内カップを使用するときも、外カップを使用するときも、基板に対して品質良く処理を行うことができる。

本発明において、前記内カップは、前記内カップの前記排気口の上方を覆うカバー部を備えていることが好ましい。内カップの排気口に処理液が流入することを好適に防止できる。

本発明において、前記内カップの前記排気口は、前記内カップの前記排液口より高い位置に配置されていることが好ましい。内カップの排気口に処理液が流入することを好適に防止できる。

本発明において、前記内カップ本体は、前記外カップの前記排気口の上方を覆うことが好ましい。外カップの排気口に処理液が流入することを好適に防止できる。

本発明において、前記外カップは、前記外カップの前記排液口と前記外カップの前記排気口とを仕切る仕切壁を備えていることが好ましい。外カップの排気口に処理液が流入することを好適に防止できる。

本発明において、前記内カップは、前記内カップ本体に接続される鍔部を備え、前記外カップの前記排気口は、前記仕切壁の内方に配置され、前記外カップの前記排液口は、前記仕切壁の外方に配置され、前記内カップが前記退避位置に配置されているとき、前記鍔部は、前記仕切壁の外方に処理液を案内することが好ましい。外カップの排気口に処理液が流入することを好適に防止できる。

本発明において、前記内カップは、前記内カップ本体に接続され、前記内カップの前記排液口から排出された処理液を通じる排液管と、前記内カップ本体に接続され、前記内カップの前記排気口から排出された気体を通じる排気管と、を備え、前記外カップは、前記外カップ本体に接続され、前記内カップの前記排液管を上下動可能に収容し、前記内カップの前記排液管から排出された処理液を通じる排液延長管と、前記外カップ本体に接続され、前記内カップの前記排気管を上下動可能に収容し、前記内カップの前記排気管から排出された気体を通じる排気延長管と、を備えていることが好ましい。内カップの排液管は排液延長管に連通するので、内カップの排液管を短くできる。外カップの排気管は排気延長管に連通するので、内カップの排気管を短くできる。これらの結果、内カップを小型化できる。

本発明において、前記内カップが回収位置にあるとき、前記内カップの前記排液管が前記排液延長管内に挿入されている距離は、８０ｍｍ以下であることが好ましい。内カップを一層小型化できる。

本発明において、前記内カップが回収位置にあるとき、前記内カップの前記排気管が前記排気延長管内に挿入されている距離は、８０ｍｍ以下であることが好ましい。内カップを一層小型化できる。

本発明において、前記内カップおよび前記外カップを洗浄するための洗浄液を供給する洗浄液供給部と、回転可能に設けられ、前記洗浄液供給部によって供給された洗浄液を前記内カップおよび前記外カップに散布する散布ディスクと、を備え、前記洗浄液供給部は、洗浄液を前記散布ディスクに向けて吐出する第１ノズルと、前記第１ノズルとは異なる洗浄液を前記散布ディスクに向けて吐出する第２ノズルと、を含むことが好ましい。洗浄液供給部は、互いに異なる処理液を吐出する第１ノズルおよび第２ノズルを備えているので、内カップおよび外カップにそれぞれ適切な洗浄液を散布できる。

この発明に係る基板処理方法によれば、基板に対して品質良く処理を行うことができる。

実施例１に係る基板処理装置の平面図である。 実施例１に係る基板処理装置の断面図である。 内カップおよび外カップの配置例を示す図である。 カップの詳細図である。 カップの詳細図である。 カップの底面図である。 カップを下から見た斜視図である。 カップの詳細図である。 実施例１に係る基板処理装置の動作例を示すフローチャートである。 実施例２に係る基板処理装置の概略構成を示す平面図である。 現像処理ユニットの側面図である。 同一空間に設けられる複数の現像処理ユニットの動作例を示すフローチャートである。 変形実施例におけるカップの詳細断面図である。

以下、図面を参照して本発明の実施例１を説明する。図１、２はそれぞれ、実施例１に係る基板処理装置の平面図、断面図である。

実施例１に係る基板処理装置１は、処理液を用いて基板を１枚ずつ処理する装置である。より具体的には、基板処理装置１は、ネガティブトーン現像処理およびポジティブトーン現像処理の両方を行うことができる。基板処理装置１は、基板保持部５と回転駆動部７と処理液供給部１１とカップ洗浄部１３とカップ２０とカップ昇降機構４１とを備えている。

＜基板保持部＞
基板保持部５は、１枚の基板（例えば、半導体ウエハ）Ｗを略水平姿勢で保持する。基板保持部５は、例えば、基板Ｗの下面の中央部を吸着保持する。

＜回転駆動部＞
回転駆動部７は、基板保持部５と接続し、基板保持部５を略鉛直軸回りに回転する。回転駆動部７は、回転軸７Ａとモータ７Ｂとを備えている。回転軸７Ａの上端は基板保持部５に接続され、回転軸７Ａの下端はモータ７Ｂに接続されている。モータ７Ｂは駆動力を回転軸７Ａに出力する。

＜処理液供給部＞
処理液供給部１１は、基板保持部５に保持された基板Ｗに処理液を供給する。処理液供給部１１は、処理液を下方に吐出するノズル１１Ａ、１１Ｂ、１１Ｃ、１１Ｄを含む。各ノズル１１Ａ−１１Ｄはそれぞれ、基板保持部５に保持される基板Ｗの上方の位置（図において点線で示す）と、基板Ｗの上方から外れた位置（図において実線で示す）との間にわたって移動可能に設けられている。

本実施例では、ノズル１１Ａ、１１Ｂは、ポジティブトーン現像処理に用いる。ノズル１１Ａが吐出する処理液は、ポジティブトーン現像用の現像液である。ポジティブトーン現像用の現像液は、アルカリ現像液であり、例えば、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ：Ｔｅｔｒａ Ｍｅｔｈｙｌ Ａｍｍｏｎｉｕｍ Ｈｙｄｒｏｘｉｄｅ）である。ノズル１１Ｂが吐出する処理液は、ポジティブトーン現像用の洗浄液である。ポジティブトーン現像用の洗浄液は、例えば、純水である。

ノズル１１Ｃ、１１Ｄは、ネガティブトーン現像処理に用いる。ノズル１１Ｃが吐出する処理液は、ネガティブトーン現像用の現像液である。ネガティブトーン現像用の現像液は、例えば、酢酸ブチルなどの有機溶剤を含む現像液である。ノズル１１Ｄが吐出する処理液は、ネガティブトーン現像用の洗浄液である。ネガティブトーン現像用の洗浄液は、例えば、４−メチル−２−ペンタノール（ＭＩＢＣ：Ｍｅｔｈｙｌ Ｉｓｏ Ｂｕｔｙｌ Ｃａｒｂｉｎｏｌ）などの有機溶剤を含む洗浄液である。

＜カップ洗浄部＞
カップ洗浄部１３は、カップ２０を洗浄する。カップ洗浄部１３は、洗浄液供給部１４と散布ディスク１６とを備えている。

洗浄液供給部１４は、カップ２０を洗浄するための処理液（以下、「洗浄液」と呼ぶ）を供給する。洗浄液供給部１４は、洗浄液を吐出する複数のノズル１４Ａと、ノズル１４Ａとは異なる洗浄液を吐出する複数のノズル１４Ｂとを含む。各ノズル１４Ａ、１４Ｂはそれぞれ、散布ディスク１６に向けて洗浄液を吐出する。各ノズル１４Ａ、１４Ｂは、基板保持部５の下方に固定的に設置されているベース板１５に支持されている。

ノズル１４Ａが吐出する洗浄液は、ポジティブトーン現像用の洗浄液であり、例えば、純水である。ノズル１４Ｂが吐出する洗浄液は、ネガティブトーン現像用の洗浄液であり、例えば、有機溶剤を含む洗浄液である。ノズル１４Ａ、１４Ｂは、本発明における第１ノズル、第２ノズルの例である。

散布ディスク１６は、洗浄液供給部１４によって供給された洗浄液をカップ２０に散布する。散布ディスク１６は、基板保持部５よりも下方で、洗浄液供給部１４よりも上方に配置されている。散布ディスク１６は略円盤形状を呈する。散布ディスク１６の中心部は回転駆動部７（回転軸１２Ａ）と接続している。散布ディスク１６は、基板保持部５と一体に回転する。

散布ディスク１６は、ノズル１４Ａが供給した洗浄液とノズル１４Ｂが供給した洗浄液とを、散布ディスク１６内において混合することなく、散布ディスク１６の側方へ散布する。散布ディスク１６は、開口１７Ａ、１７Ｂと、貯留部１８Ａ、１８Ｂと、複数の吐出口１９Ａ、１９Ｂを備える。開口１７Ａ、１７Ｂは、散布ディスク１６の下面に形成される。開口１７Ａはノズル１４Ａから吐出された洗浄液を受け、開口１７Ｂはノズル１４Ｂから吐出された洗浄液を受ける。貯留部１８Ａ、１８Ｂは、散布ディスク１６の内部に形成される。貯留部１８Ａは、開口１７Ａと連通し、洗浄液を貯留する。貯留部１８Ｂは、開口１７Ｂと連通し、洗浄液を貯留する。各吐出口１９Ａ、１９Ｂは、散布ディスク１６の外周面に形成されている。各吐出口１９Ａは貯留部１８Ａと連通し、各吐出口１９Ｂは貯留部１８Ｂと連通する。散布ディスク１６が回転すると、貯留部１８Ａ内の処理液が吐出口１９Ａから飛散し、貯留部１８Ｂ内の処理液が吐出口Ｂから飛散する。

＜カップと昇降機構＞
カップ２０は、基板Ｗに供給された処理液を回収する。カップ２０は、内カップ２１と外カップ３１を備える。外カップ３１は、基板保持部５の側方を囲むように設けられている。内カップ２１は、外カップ３１内に収容されている。内カップ２１は処理液を捕集する導入口Ａを有し、外カップ３１は処理液を捕集する導入口Ｂを有する。

昇降機構４１は、内カップ２１および外カップ３１を上下動させる。昇降機構４１は、内カップ昇降機構４１Ａと外カップ昇降機構４１Ｂとを備えている。内カップ昇降機構４１Ａは、内カップ２１と接続し、内カップ２１を昇降する。外カップ昇降機構４１Ｂは、外カップ３１と接続し、外カップ３１を昇降する。

図３（Ａ）乃至３（Ｄ）は、内カップ２１および外カップ３１の４つの配置例を示す。なお、図３（Ａ）乃至３（Ｄ）では、内カップ２１および外カップ３１を簡略に図示する。

外カップ３１は、処理位置（図３（Ａ）、３（Ｂ）参照）と洗浄位置（図３（Ｃ）、３（Ｄ）参照）に移動可能である。処理位置では、外カップ３１の導入口Ｂが基板保持部５の側方に位置する。洗浄位置では、外カップ３１の導入口Ｂが散布ディスク１６の側方に位置する。洗浄位置は処理位置よりも低い。

内カップ２１は、外カップ３１に対して回収位置（図３（Ａ）、３（Ｃ）参照）と待避位置（図３（Ｂ）、３（Ｄ）参照）に移動可能である。回収位置では、内カップ２１の導入口Ａが外カップ３１の導入口Ｂと略同じ高さに位置する。導入口Ａは導入口Ｂを通じて開放し、内カップ２１は処理液（基板Ｗから飛散された処理液および散布ディスク１６が散布した処理液を含む）を回収する。内カップ２１が待避位置にあるとき、内カップ２１の導入口Ａは外カップ３１の導入口Ｂより低い。導入口Ｂは開放し、外カップ３１は処理液を回収する。待避位置は回収位置よりも低い。

本実施例では、内カップ２１を用いてポジティブトーン現像処理を行い、外カップ３１を使用してネガティブトーン現像処理を行う。内カップ２１は、本発明における第１カップの例である。外カップ３１は、本発明における第２カップの例である。

＜内カップ本体／外カップ本体の詳細な構造＞
図４（Ａ）、４（Ｂ）は、カップ２０の詳細図である。図４（Ａ）では、内カップ２１が回収位置にあり、図４（Ｂ）では内カップ２１が退避位置にある。

内カップ２１は、略環状の外形を有し、内部が中空である内カップ本体２２を備える。内カップ本体２２は、底部２２ａと内周壁２２ｂと外周壁２２ｃとを有する。内周壁２２ｂの下端は底部２２ａと接続している。外周壁２２ｃの下端は、内周壁２２ｂの外方において底部２２ａと接続している。外周壁２２ｃの上端は、内方に屈曲している。上述した導入口Ａは、内周壁２２ｂの上端と外周壁２２ｃの上端との間に形成される。内カップ本体２２は、さらに、底部２２ａの内周縁から下方に突出する環状の凸部２２ｄを有する。なお、「内方」とは、内カップ本体２２／外カップ本体３２の中心に向かう方向を意味し、「外方」とは「内方」の反対方向を意味する。内カップ本体２２／外カップ本体３２の中心は、例えば、回転軸７Ａの軸心と略一致する。

外カップ３１は、略環状の外形を呈する外カップ本体３２を備える。外カップ本体３２は、底部３２ａと内周壁３２ｂと外周壁３２ｃとを備えている。各部３２ａ−３２ｃは、内カップ本体２２の各部２２ａ−２２ｃと略同じ構造を有する。

外カップ本体３２は、さらに、フランジ部３２ｄと環状の段部３２ｅを備えている。フランジ部３２ｄは、内周壁３２ｂから外方に略水平に延びている。フランジ部３２ｄの一部は、内カップ２１の導入口Ａを通じて、内カップ本体２２の内部に進入している。段部３２ｅは、底部３２ａと内周壁３２ｂとが接続する角部において、底部３２ａから上方に隆起している。

図４（Ａ）に示すように、内カップ２１が回収位置にあるとき、内カップ本体２１の外周壁２２ｃは外カップ本体３２の外周壁３２ｃと接触し、内カップ本体２２の内周壁２２ｂは外カップ本体３２のフランジ部３２ｄと接触する。これにより、内カップ本体２２が外カップ本体３２の導入口Ｂを閉塞し、外カップ３１が処理液を回収することを禁止する。

図４（Ｂ）に示すように、内カップ２１が退避位置にあるとき、内カップ本体２２の外周壁２２ｃはフランジ部３２ｄと接触し、内カップ本体２２の凸部２２ｄは外カップ本体３２の段部３２ｅと接触する。これにより、外カップ本体３２が内カップ２１の導入口Ａを閉塞し、内カップ２１が処理液を回収することを禁止する。

＜内カップの排液／排気の詳細な構造＞
図５（Ａ）は内カップ２１の排液構造を示す図であり、図５（Ｂ）は内カップ２１の排気構造を示す図である。なお、図５（Ａ）、５（Ｂ）では、内カップ２１は回収位置にある。図６はカップ２０の底面図であり、図７はカップ２０を下から見た斜視図である。

内カップ２１は、１つの排液口２３と１つの排液管２４を備える。排液口２３は、内カップ本体２２（底部２２ａ）に形成され、内カップ本体２２の内部の処理液を内カップ本体２２の外へ排出する。排液管２４は、内カップ本体２２（底部２２ａ）に接続され、排液口２３から排出された処理液を通じる。図５（Ａ）では、内カップ本体２２内の処理液の流れＦ１を模式的に示す。

外カップ３１は、排液管２４を延長する１つの排液延長管３３を備える。排液延長管３３は、外カップ本体３２（底部３２ａ）に接続されている。排液延長管３３は、排液管２４よりも大きい径を有する。排液延長管３３は、排液管２４を上下動可能に収容し、排液管２４から排出された処理液を通じる。このように、排液延長管３３が排液管２４を継ぐので、排液管２４の長さを短くできる。

内カップ２１が回収位置に配置されているときであっても、排液管２４の下端は排液延長管３３に挿入されている。このため、排液管２４から排出された処理液が、外カップ本体３２内に流出しない。内カップ２１が回収位置に配置されているとき、排液管２４の下端は排液延長管３３の下端より上方であることが好ましい。内カップ２１を考慮したカップ２０の最大高さを低くすることができる。さらに、内カップ２１が回収位置に配置されているとき、排液管２４の下端が排液延長管３３に挿入されている距離は８０ｍｍ以下であることが好ましい。排液管２４の長さを一層短くできる。

内カップ２１は、２つの排気口２５と２つの排気管２６を備える。各排気口２５は、内カップ本体２２（底部２２ａ）に形成され、内カップ本体２２の内部の気体（処理液のミスとを含む）を内カップ本体２２の外へ排出する。各排気管２６は、内カップ本体２２（底部２２ａ）に接続され、各排気口２５から排出された気体を通じる。図５（Ｂ）では、内カップ本体２２内の気体の流れＦ２を模式的に示す。

外カップ３１は、各排気管２６を延長する２つの排気延長管３４を備える。排気延長管３４は、外カップ本体３２（底部３２ａ）に接続されている。排気延長管３４は、排気管２６よりも大きい径を有する。排気延長管３４は、排気管２６を上下動可能に収容し、排気管２６から排出された気体を通じる。このように、排気延長管３４が排気管２６を継ぐので、排気管２６の長さを短くできる。

内カップ２１が回収位置に配置されているときであっても、排気管２６の下端は排気延長管３４に挿入されている。このため、排気管２６から排出された気体が、外カップ本体３２内に流出しない。内カップ２１が回収位置に配置されているとき、排気管２６の下端は排気延長管３４の下端より上方であることが好ましい。内カップ２１を考慮したカップ２０の最大高さを低くすることができる。さらに、内カップ２１が回収位置に配置されているとき、排気管２６の下端が排気延長管３４に挿入されている距離は８０ｍｍ以下であることが好ましい。排気管２６の長さを一層短くできる。

内カップ２１は、排気口２５の上方を覆う庇部２７を備えている。庇部２７は、排気口２５に処理液が流入することを防止する。庇部２７は、内カップ本体２２の内部に設けられている。本実施例では、庇部２７の基端部は、排気口２５の近傍の底部２２ａに接続されている。庇部２７の先端は、内カップ２１の導入口Ａよりも低い位置で排気口２５の上方に延びる。なお、庇部２７は、内カップ本体２２内の気体が排気口２５に流入することを許容する。庇部２７は、本発明におけるカバー部の例である。

上述したフランジ部３２ｄも、各排気口２５を覆い、処理液が排気口２５に流入することを防止する。すなわち、フランジ部３２ｄは、本発明におけるカバー部として機能する。

＜外カップの排液／排気の詳細な構造＞
図８（Ａ）は外カップ３１の排液構造を示す図であり、図８（Ｂ）は外カップ３１の排気構造を示す図である。なお、図８（Ａ）、８（Ｂ）では、内カップ２１は待避位置にある。

外カップ３１は、１つの排液口３５と１つの排液管３６と２つの排気口３７と２つの排気管３８とを備えている。排液口３５と排気口３７は、外カップ本体３２（底部３２ａ）に形成されている。排液管３６と排気管３８は、外カップ本体３２（底部３２ａ）に接続されている。排液口３５は、外カップ本体３２の内部の処理液を排出する。排液管３６は、排液口３５から排出された処理液を通じる。排気口３７は、外カップ本体３２の内部の気体（処理液のミスとを含む）を排出する。排気管３８は、排気口３７から排出された気体を通じる。図８（Ａ）では、外カップ本体３２内の処理液の流れＦ３を模式的に示す。図８（Ｂ）では、外カップ本体３２内の気体の流れＦ４を模式的に示す。

さらに、外カップ３１は、排液口３５と排気口３７とを仕切る環状の仕切壁３９を備えている。仕切壁３９は、内周壁３２ｂの外方で、かつ、外周壁３２ｃの内方において底部３２ａから上方に突出している。排液口３５は仕切壁３９の外方に配置され、排気口３７は仕切壁３９の内方に配置される。

内カップ本体２２は、仕切壁３９の内方を上下動する。これにより、内カップ本体２２は排気口３７の上方を覆い、排気口３７に外カップ本体３２内の処理液が流入することを防止する。特に、内カップ２１が退避位置にあるとき、内カップ本体２２は外カップ３１の導入口Ｂより低いので、排気口３７に処理液が落下することを的確に防止できる。

内カップ本体２２の外周面２２ｃには、処理液を仕切壁３９の外方に案内する鍔部２８が取り付けられている。鍔部２８の先端は、外周面２２ｃから外方かつ下方に延びている。内カップ２１が退避位置にあるとき、鍔部２８の先端は、仕切壁３９の上端よりも下方で、かつ、仕切壁３９の外方に位置する。すなわち、鍔部２８と外周壁２２ｃとの間の隙間に、仕切壁３７の上端が収容される。このように鍔部２８を仕切壁３７の上端に被せると、鍔部２８は、外カップ本体３２内の処理液を仕切壁３７の外方に案内する。これにより、鍔部２８は、処理液が排気口３７に流入することを防止できる。なお、内カップ２１が待避位置にあるときであっても、外カップ本体３２内の気体は、鍔部２８と仕切壁３９との間を通過して、排気口３７に流入できる。

＜排液ダクトと排気ダクト＞
図７を参照する。基板処理装置１は、排液ダクト４３、４４を備えている。排液ダクト４３は、排液延長管３３の下端と接続し、排液延長管３３から排出された処理液を通じる。排液ダクト４４は、排液管３６の下端と接続し、排液管３６から排出された処理液を通じる。

基板処理装置１は、排気ダクト４５、４６を備えている。排気ダクト４５は、排気延長管３４の下端と接続しており、排気延長管３４から排出された気体を通じる。排気ダクト４６は、排気管３８の下端と接続しており、排気管３８から排出された気体を通じる。

＜制御部＞
図２を参照する。基板処理装置１は、制御部４７を備えている。制御部４７は、上述した回転駆動部７、処理液供給部１１、洗浄液供給部１４および昇降機構４１を統括的に制御する。

次に、実施例１に係る基板処理装置１の動作について説明する。図９は、基板処理装置１の動作例を示すフローチャートである。

＜ステップＳ１＞ 溶媒雰囲気の形成
本ステップＳ１の開始前に、外カップ３１は洗浄位置にあり、内カップ２１は退避位置にあるものとする。本ステップＳ１では、有機溶剤を含む雰囲気（以下、「溶媒雰囲気」という）を形成する。具体的には、ノズル１６Ｂがネガティブトーン現像用の洗浄液を吐出し、回転駆動部７が散布ディスク１６を回転する。これにより、カップ洗浄部１３はネガティブトーン現像用の洗浄液を外カップ３１に散布する。散布された洗浄液の一部は揮発し、外カップ３１（例えば、外カップ本体３２の内部）や散布ディスク１６の側方に溶媒雰囲気が形成される。

外カップ本体３２に散布された洗浄液は、排液口３５および排液管３６を通じてカップ２０の外部（すなわち、排液ダクト４４）に排出される。外カップ本体３２の内部の気体は、排気口３７および排気管３８を通じてカップ２０の外部（すなわち、排気ダクト４６）に排出される。

＜ステップＳ２＞ ネガティブトーン現像処理
不図示の基板搬送機構が基板Ｗを基板保持部５に載置する。基板Ｗの上面には、露光処理されたレジスト膜が形成されている。外カップ昇降機構４１Ｂは、外カップ３１を処理位置に移動させる。内カップ昇降機構４１Ａは、外カップ３１が処理位置にあるときの退避位置に内カップ２１を移動させる。基板Ｗの周囲が溶媒雰囲気になる。

基板処理装置１は、予め設定されている処理レシピに従い、基板Ｗにネガティブトーン現像処理を行う。例えば、ノズル１３Ｃが基板Ｗの上方に移動し、基板Ｗにネガティブトーン現像用の現像液を供給する。続いて、ノズル１３Ｄが基板Ｗの上方に移動し、基板Ｗにネガティブトーン現像用の洗浄液を供給する。この間、回転駆動部７は、基板Ｗを適宜に回転させる。このネガティブトーン現像処理により、レジスト膜の非露光部は溶解され、除去される。

外カップ３１は、ネガティブトーン現像処理に使用された処理液を回収する。具体的には、外カップ本体３２は、基板Ｗから振り切られた処理液を受け止める。排液口３５および排液管３６は、外カップ本体３２内の処理液をカップ２０の外部に排出する。排気口３７および排気管３８は、外カップ本体３２内の気体をカップ２０の外部に排出する。

ネガティブトーン現像処理が終わると、カップ昇降機構４１は、外カップ３１を洗浄位置に移動させ、外カップ３１が洗浄位置であるときの待避位置に内カップ２１を移動させる。不図示の基板搬送機構は、基板保持部５から基板Ｗを搬出する。

＜ステップＳ３＞ カップ洗浄
カップ洗浄部１３が外カップ３１を洗浄する。具体的には、カップ洗浄部１３は、ネガティブトーン現像用の洗浄液を外カップ３１に散布し、ネガティブトーン現像処理に用いられた処理液を洗い流す。この際も、外カップ本体３２内の処理液は排液口３５を通じて排出され、外カップ本体３２内の気体は排気口３７を通じて排出される。

＜ステップＳ４＞ ポジティブトーン現像処理に切り替えるか？
ネガティブトーン現像処理からポジティブトーン現像処理に切り替える場合は、ステップＳ５に進む。そうでない場合、ステップＳ２に戻り、他の基板Ｗに対してネガティブトーン現像処理を繰り返す。

＜ステップＳ５＞ 溶媒不在雰囲気の形成
有機溶剤を実質的に含まない雰囲気（以下、「溶媒不在雰囲気」という）を外カップ３１等に形成する。具体的には、ノズル１６Ａがポジティブトーン現像用の現像液を吐出し、回転駆動部７が散布ディスク１６を回転する。これにより、カップ洗浄部１３はポジティブトーン現像用の洗浄液を外カップ３１に散布する。これにより、外カップ３１に付着する有機溶剤や外カップ３１内を浮遊する有機溶剤が洗い流され、外カップ３１に溶媒不在雰囲気が形成される。なお、「溶媒不在雰囲気」は、有機溶剤を全く含まない雰囲気に限られず、ポジティブトーン現像処理の品質に実質的に影響しないほど僅かな有機溶剤を含む雰囲気でもよい。

＜ステップＳ６＞ カップ切替
カップ昇降機構４１は、外カップ３１を洗浄位置に保ち、内カップ２１を回収位置に移動させる。

＜ステップＳ７＞ 溶媒不在雰囲気の形成
溶媒不在雰囲気を内カップ２１に形成する。具体的には、カップ洗浄部１３はポジティブトーン現像用の洗浄液を内カップ２１に散布する。

内カップ本体２２に散布された洗浄液は、排液口２３、排液管２４および排液延長管３３を通じてカップ２０の外部（すなわち、排液ダクト４３）に排出される。内カップ本体２２の内部の気体は、排気口２５、排気管２６および排気延長管３４を通じてカップ２０の外部（すなわち、排気ダクト４６）に排出される。

＜ステップＳ８＞ ポジティブトーン現像処理
基板搬送機構が基板保持部５に１枚の基板Ｗを載置する。カップ昇降機構４１は、外カップ３１を処理位置に移動させ、内カップ２１を外カップ３１が処理位置にあるときの回収位置に移動させる。基板Ｗの周囲が溶媒不在雰囲気になる。

基板処理装置１は、予め設定されている処理レシピに従い、基板Ｗにポジティブトーン現像処理を行う。例えば、ノズル１３Ａが基板Ｗにポジティブトーン現像用の現像液を供給する。続いて、ノズル１３Ｂが基板Ｗにポジティブトーン現像用の洗浄液を供給する。この間、回転駆動部７は、基板Ｗを適宜に回転させる。このポジティブトーン現像処理により、レジスト膜の露光部は、溶解され、除去される。

内カップ２１は、ポジティブトーン現像処理に使用された処理液を回収する。具体的には、内カップ本体２２は、基板Ｗから飛散した処理液を受け止める。排液口２３、排液管２４および排液延長管３３は、内カップ本体２２内の処理液をカップ２０外に排出する。排気口２５、排気管２６および排気延長管３４は、内カップ本体２２の気体をカップ２０外に排出する。

ポジティブトーン現像処理が終わると、カップ昇降機構４１は、外カップ３１を洗浄位置に移動させ、内カップ２１を外カップ３１が洗浄位置にあるときの回収位置に移動させる。基板搬送機構は、基板保持部５から基板Ｗを搬出する。

＜ステップＳ９＞ カップ洗浄
カップ洗浄部１３は、ポジティブトーン現像用の洗浄液で内カップ２１を洗浄する。この際も、内カップ本体２２内の処理液は排液口２３から排出され、内カップ本体２２内の気体は排気口２５から排出される。

＜ステップＳ１０＞ ネガティブトーン現像処理に切り替えるか？
ポジティブトーン現像処理からネガティブトーン現像処理に切り替える場合は、ステップＳ１１に進む。そうでない場合、ステップＳ８に戻り、他の基板Ｗに対してポジティブトーン現像処理を繰り返す。

＜ステップＳ１１＞ カップ切替
カップ昇降機構４１は、外カップ３１を洗浄位置に保ち、内カップ２１を退避位置に移動させる。そして、ステップＳ１に戻る。

上述した動作例において、ステップＳ１は、本発明における「ネガティブトーン現像用の洗浄液を前記第２カップに予め散布する工程」であり、本発明における「溶媒雰囲気を予め形成する工程」の例である。ステップＳ２は、本発明における「ネガティブトーン現像処理を行う工程」の例である。ステップＳ５、Ｓ７は、本発明における「溶媒不在雰囲気を予め形成する工程」の例である。また、ステップＳ５は、本発明における「ポジティブトーン現像用の洗浄液を前記第２カップに散布する工程」の例であり、ステップＳ７は、本発明における「ポジティブトーン現像用の洗浄液を前記第１カップに予め散布する工程」の例である。

＜効果＞
本実施例１によれば、基板処理装置１は内カップ２１と外カップ３１を備え、内カップ２１は回収位置と退避位置とに移動可能である。この内カップ２１の移動によって、内カップ２１と外カップ３１とを容易に切り替えることができる。よって、本実施例のように、各基板Ｗにポジティブトーン現像処理およびネガティブトーン現像処理のいずれかを選択的に行うことができる。

内カップ２１が回収位置にあるときには、内カップ２１が外カップ３１の導入口Ｂを閉塞し、内カップ２１が待避位置にあるときには、外カップ３１が内カップ２１の導入口Ａを閉塞する。よって、ネガティブトーン現像処理に使用される処理液が内カップ２１に付着することを防止でき、内カップ２１を使用したポジティブトーン現像処理を品質良く行うことができる。同様に、ポジティブトーン現像処理に使用される処理液が外カップ３１に付着することがないので、外カップ３１を使用したネガティブトーン現像処理を品質良く行うことができる。さらに、カップ洗浄部１３は、カップ２１、３１に個別に各種の雰囲気を形成できる。

外カップ３１は内カップ２１を収容するので、カップ２０の全体を小型化できる。

内カップ２１は内カップ本体２２と排液口２３と排気口２５とを備え、外カップ３１は外カップ本体３２と排液口３５と排気口３７を備える。よって、内カップ本体２２内の処理液、内カップ本体２２内の気体、外カップ本体３２内の処理液および外カップ本体３２内の気体を、別々に排出できる。よって、内カップ本体２２内の処理液と外カップ本体３２内の処理液とが混合することを防止でき、かつ、内カップ本体２２内の気体と外カップ本体３２内の気体とが混合することを防止できる。よって、内カップ２１を使用するときも外カップ３１を使用するときも、基板Ｗに対して処理を品質良く行うことができる。

外カップ３１は、排液管２４と連通接続する排液延長管３３を備える。これにより、排液管２４の長さを短くでき、内カップ２１を小型化できる。また、内カップ本体２２内の処理液を、外カップ本体３２内を通過させずに、カップ２０の外部に排出できる。

同様に、外カップ３１は、排気管２６と連通接続する排気延長管３４を備える。これにより、排気管２６の長さを短くでき、内カップ２１を小型化できる。また、内カップ本体２２内の気体を、外カップ本体３２内を通過させずに、カップ２０の外部に排出できる。

内カップ２１は庇部２７を備えるので、排気口２５に処理液が流入することを防止できる。さらに、外カップ本体３２のフランジ部３２ｄは排気口２５に対するカバー部として機能するので、排気口２５に処理液が流入することを一層確実に防止できる。

外カップ３１は仕切壁３９を備えるので、排気口３７に処理液が流入することを防止できる。さらに、内カップ本体２２は排気口３７の上方を覆っているので、排気口３７に処理液が流入することを一層確実に防止できる。さらに、内カップ２１は鍔部２８を備えるので、排気口３７に処理液が流入することを一層確実に防止できる。

基板処理装置１は昇降機構４１を備えているので、内カップ２１は回収位置と待避位置とに容易に移動できる。さらに、昇降機構４１は、外カップ３１を洗浄位置に移動できる。これにより、基板保持部５自体が昇降しなくても、基板搬送機構は基板保持部５にアクセスできる。また、散布ディスク１６が昇降しなくても、カップ洗浄部１３はカップ２０に洗浄液を散布できる。よって、散布ディスク１６を回転軸７Ａに固定することができる。

ポジティブトーン現像処理からネガティブトーン現像処理に切り替えるときに、溶媒雰囲気を形成する（ステップＳ１）。よって、切り替え後の最初のネガティブトーン現像処理から溶媒雰囲気下において基板Ｗを処理を行うことができる。その結果、切り替え後の最初のネガティブトーン現像処理であっても、現像欠陥などを防止できる。このように、ネガティブトーン現像処理を始める前にネガティブトーン現像処理に適した環境を形成するので、基板Ｗに品質良く処理を行うことができる。

本ステップＳ１では、外カップ３１に溶媒雰囲気を形成するので、ネガティブトーン現像処理が施される基板Ｗの周囲に、ネガティブトーン現像処理に適した環境を形成できる。さらに、本ステップＳ１では、ネガティブトーン現像用の洗浄液を外カップ３１に散布するので、溶媒雰囲気を効果的に形成できる。

ネガティブトーン現像処理からポジティブトーン現像処理に切り替えるときに、溶媒不在雰囲気を形成する（ステップＳ５、Ｓ７）。よって、切り替え後の最初のポジティブトーン現像処理から溶媒不在雰囲気下において基板Ｗを処理を行うことができる。その結果、切り替え後の最初のポジティブトーン現像処理であっても、現像欠陥などを防止できる。このように、ポジティブトーン現像処理を始める前にポジティブトーン現像処理に適した環境を形成するので、基板Ｗに品質良く処理を行うことができる。

ステップＳ５では、内カップ２１に溶媒不在雰囲気を形成するので、ポジティブトーン現像処理が施される基板Ｗの周囲にポジティブトーン現像処理に適した環境を形成できる。さらに、本ステップＳ５では、ポジティブトーン現像用の洗浄液を内カップ２１に散布するので、溶媒雰囲気を効果的に形成できる。

ステップＳ７では、外カップ３１にも溶媒不在雰囲気を形成するので、ポジティブトーン現像処理に適した環境を確実に形成できる。換言すれば、外カップ３１に残留する処理液が溶媒不在雰囲気の形成を阻害することを未然に防ぐことができる。

以下、図面を参照してこの発明の実施例２を説明する。
図１０は、実施例２に係る基板処理装置の概略構成を示す平面図である。実施例２に係る基板処理装置６１は、レジスト膜を形成する処理と現像処理とを基板Ｗに行う。

基板処理装置６１は、インデクサ部（以下、「ＩＤ部」と呼ぶ）６３と処理部６５とインターフェイス部（以下、「ＩＦ部」と呼ぶ）６７とを備えている。処理部６５は２つの処理ブロック６５Ａ、６５Ｂを含む。ＩＤ部８３、処理ブロック６５Ａ、６５Ｂ、ＩＦ部６７は、この順に１列に連結されている。ＩＦ部６７は、さらに、本装置６１とは別体の外部装置である露光機ＥＸＰに隣接している。

ＩＤ部６３は、複数の基板Ｗを収容するカセットＣを載置する載置台７１と、基板Ｗを搬送する搬送機構ＴＩＤを備える。ＩＤ部６３と処理ブロック６５Ａの間には、基板Ｗを載置する載置部Ｐ１が設けられている。ＩＤ用搬送機構ＴＩＤは、カセットＣと載置部Ｐ１とにアクセスする。

処理ブロック６５Ａは、基板Ｗを搬送する主搬送機構Ｔ１と、主搬送機構Ｔ１の一方側に設けられる複数の液処理ユニット７３Ａ、７３Ｂと、主搬送機構Ｔ１の他方側に設けられる複数の熱処理ユニット７５Ａ、７５Ｂ、７５Ｃとを備えている。液処理ユニット７３Ａ、７３Ｂは、例えば、基板Ｗにレジスト膜材料を塗布する塗布処理ユニットである。熱処理ユニット７５Ａ、７５Ｂ、７５Ｃは、基板Ｗに加熱処理や冷却処理を行う。処理ブロック６５Ａと処理ブロック６５Ｂとの間には基板Ｗを載置する載置部Ｐ２が設けられている。主搬送機構Ｔ１は、載置部Ｐ１、Ｐ２、塗布処理ユニット７３Ａ、７３Ｂおよび熱処理ユニット７５Ａ−７５Ｃにアクセスする。

処理ブロック６５Ｂは、基板Ｗを搬送する主搬送機構Ｔ２と、主搬送機構Ｔ２の一方側に設けられる複数の液処理ユニット７７Ａ、７７Ｂと、主搬送機構Ｔ２の他方側に設けられる複数の熱処理ユニット７９Ａ、７９Ｂと、を備えている。さらに、処理ブロック６５Ｂは、ＩＦ部６７に隣接する位置に設けられ、基板Ｗを載置する載置部Ｐ３を備えている。主搬送機構Ｔ２は、載置部Ｐ２、Ｐ３、現像処理ユニット７７Ａ、７７Ｂおよび熱処理ユニット７９Ａ、７９Ｂにアクセス可能である。

液処理ユニット７７Ａ、７７Ｂは、基板Ｗを現像する現像処理ユニットである。各現像処理ユニット７７Ａ、７７Ｂは、実施例１で説明した要素５−４６を備えており、基板Ｗにポジティブトーン現像処理およびネガティブトーン現像処理を行うことができる。図１０に示すように、液処理ユニット７７Ａ、７７Ｂは、さらに、処理液供給部１１を移動させる移動機構１２を備えている。なお、各現像処理ユニット７７Ａ、７７Ｂは、実施例１で説明した制御部４７を備えていなくてもよい。例えば、現像処理ユニット７７Ａ、７７Ｂの外部に設けられる不図示の制御部が、現像処理ユニット７７Ａ、７７Ｂを制御してもよい。

図１１は、現像処理ユニット７７Ａ、７７Ｂの側面図である。現像処理ユニット７７Ａ、７７Ｂは、同じチャンバー７８内に収容されている。すなわち、現像処理ユニット７７Ａ、７７Ｂは同一空間に設けられている。また、現像処理ユニット７７Ａ、７７Ｂの間で、排液ダクト４３、４４および排気ダクト４５、４６は共通化されている。

再び、図１０を参照する。ＩＦ部６７は、基板Ｗを搬送するＩＦ用搬送機構ＴＩＦ１、ＴＩＦ２と、基板Ｗを載置する載置部Ｐ４を備えている。載置部Ｐ４は、載置された基板Ｗを所定温度に冷却する機能を有していてもよい。ＩＦ用搬送機構ＴＩＦ１は、載置部Ｐ３、Ｐ４にアクセス可能である。ＩＦ用搬送機構ＴＩＦ２は、載置部Ｐ４にアクセス可能であり、露光機ＥＸＰとの間で基板Ｗを受渡し可能である。

基板処理装置６１の動作例を簡単に説明する。
＜ＩＤ部６３からＩＦ部６７に基板Ｗを搬送する動作例＞
ＩＤ用搬送機構ＴＩＤは、カセットＣから基板Ｗを搬出し、この基板Ｗを載置部Ｐ１に載置する。主搬送機構Ｔ１は、載置部Ｐ１から基板Ｗを受け取り、この基板Ｗを塗布処理ユニット７７Ａ、７７Ｂおよび熱処理ユニット７９Ａ乃至７９Ｃに所定の順番で搬送する。各処理ユニット７７、７９は、基板Ｗに処理を行う。その結果、基板Ｗにレジスト膜が形成される。主搬送機構Ｔ１は、レジスト膜が形成された基板Ｗを載置部Ｐ２に載置する。主搬送機構Ｔ２は、載置部Ｐ２から基板Ｗを受け取り、載置部Ｐ３に載置する。ＩＦ用搬送機構ＴＩＦ１は、載置部Ｐ３から基板Ｗを受け取り、載置部Ｐ４に載置する。ＩＦ用搬送機構ＴＩＦ２は、載置部Ｐ４から基板Ｗを受け取り、露光機ＥＸＰに渡す。

＜ＩＦ部６７からＩＤ部６３に基板Ｗを搬送する動作例＞
ＩＦ用搬送機構ＴＩＦ２は、露光機ＥＸＰから露光済みの基板Ｗを受け取り、ＩＦ用搬送機構ＴＩＦ１に基板Ｗを渡す。ＩＦ用搬送機構ＴＩＦ１は、基板Ｗを主搬送機構Ｔ２に渡す。主搬送機構Ｔ２は、基板Ｗを現像処理ユニット７７Ａ、７７Ｂおよび熱処理ユニット７９Ａ、７９Ｂに搬送する。各処理ユニット７７、７９は、基板Ｗに処理を行う。その結果、基板Ｗは現像される。主搬送機構Ｔ２は、現像された基板Ｗを主搬送機構Ｔ１に渡す。主搬送機構Ｔ１は、基板ＷをＩＤ用搬送機構ＴＩＤに渡す。ＩＤ用搬送機構ＴＩＤは基板ＷをカセットＣに搬入する。

次に、現像処理ユニット７７Ａ、７７Ｂの動作例を説明する。図１２は、現像処理ユニット７７Ａ、７７Ｂの動作例を示すフローチャートである。この動作例の特徴は、ポジティブトーン現像処理とネガティブトーン現像処理との切り替え、および、各種雰囲気の形成を、現像処理ユニット７７Ａ、７７Ｂが協調して行う点にある。以下、実施例１と共通する動作については適宜に簡略に説明する。

＜ステップＳ２１＞ 全ての現像処理ユニットで溶媒雰囲気の形成
現像処理ユニット７７Ａ、７７Ｂの両方で、溶媒雰囲気を形成する。溶媒雰囲気の形成は、実施例１のステップＳ１と同様に、ネガティブトーン現像用の洗浄液を外カップ３１に散布することによって行われる。これにより、現像処理ユニット７７Ａ、７７Ｂに設けられる全ての外カップ３１に溶媒雰囲気が形成される。

＜ステップＳ２２＞ 少なくともいずれかの現像処理ユニットでネガティブトーン現像処理
主搬送機構Ｔ２が、現像処理ユニット７７Ａ、７７Ｂに基板Ｗを搬入する。現像処理ユニット７７Ａ、７７Ｂは、搬入された基板Ｗにネガティブトーン現像処理を行う。ネガティブトーン現像処理が終了すると、主搬送機構Ｔ２は、現像処理ユニット７７Ａ、７７Ｂから基板Ｗを搬出する。

このようにして、本ステップＳ２２では、現像処理ユニット７７Ａ、７７Ｂの少なくともいずれかが、基板Ｗにネガティブトーン現像処理を行う。例えば、現像処理ユニット７７Ａ、７７Ｂが並行してネガティブトーン現像処理を行ってもよい。あるいは、現像処理ユニット７７Ａのみがネガティブトーン現像処理を行ってもよい。ただし、本ステップＳ２２で行うことができる処理はネガティブトーン現像処理に限られており、現像処理ユニット７７Ａ、７７Ｂのいずれも、ポジティブトーン現像処理を行うことは禁止されている。

＜ステップＳ２３＞ 使用したカップの洗浄
現像処理ユニット７７Ａがネガティブトーン現像処理を行う度に、現像処理ユニット７７Ａの外カップ３１を洗浄する。同様に、現像処理ユニット７７Ｂがネガティブトーン現像処理を行う度に、現像処理ユニット７７Ｂの外カップ３１を洗浄する。

＜ステップＳ２４＞ 全ての現像処理ユニットでポジティブトーン現像処理に切り替えるか？
現像処理ユニット７７Ａ、７７Ｂの両方がポジティブトーン現像処理に切り替える場合は、ステップＳ２５に進む。そうでない場合、ステップＳ２２に戻る。

＜ステップＳ２５＞ 全ての現像処理ユニットで溶媒不在雰囲気の形成
現像処理ユニット７７Ａ、７７Ｂの両方で溶媒不在雰囲気を形成する。溶媒雰囲気の形成は、実施例１のステップＳ５と同様に、ポジティブトーン現像用の洗浄液を外カップ３１に散布することによって行われる。これにより、現像処理ユニット７７Ａ、７７Ｂに設けられる全ての外カップ３１に溶媒不在雰囲気が形成される。

＜ステップＳ２６＞ 全ての現像処理ユニットでカップ切替
全ての外カップ３１は洗浄位置に移動し、全ての内カップ２１は、外カップ３１が洗浄位置にあるときの回収に移動する。

＜ステップＳ２７＞ 全ての現像処理ユニットで溶媒不在雰囲気の形成
現像処理ユニット７７Ａ、７７Ｂの両方で溶媒不在雰囲気を形成する。溶媒雰囲気の形成は、実施例１のステップＳ２７と同様に、ポジティブトーン現像用の洗浄液を内カップ２１に散布することによって行われる。これにより、全ての内カップ２１に溶媒不在雰囲気が形成される。

＜ステップＳ２８＞ 少なくともいずれかの現像処理ユニットでポジティブトーン現像処理
現像処理ユニット７７Ａ、７７Ｂの少なくともいずれかが、基板Ｗにポジティブトーン現像処理を行う。本ステップＳ２８で行うことができる処理はポジティブトーン現像処理に限られており、現像処理ユニット７７Ａ、７７Ｂのいずれも、ネガティブトーン現像処理を行うことは禁止されている。

＜ステップＳ２９＞ 使用したカップの洗浄
現像処理ユニット７７Ａ、７７Ｂはそれぞれ、ポジティブトーン現像処理を行う度に、使用した内カップ２１を洗浄する。

＜ステップＳ３０＞ 全ての現像処理ユニットでネガティブトーン現像処理に切り替えるか？
現像処理ユニット７７Ａ、７７Ｂの両方がネガティブトーン現像処理に切り替える場合は、ステップＳ３１に進む。そうでない場合、ステップＳ２８に戻る。

＜ステップＳ３１＞ カップ切替
全ての外カップ３１は洗浄位置に移動し、全ての内カップ２１は、外カップ３１が洗浄位置にあるときの退避位置に移動する。

上述した動作例において、ステップＳ２１は、本発明における「ネガティブトーン現像用の洗浄液を全ての前記第２カップに予め散布する工程」であり、本発明における「溶媒雰囲気を予め形成する工程」の例である。ステップＳ２２は、本発明における「ネガティブトーン現像処理を行う工程」の例である。ステップＳ２５、Ｓ２７は、本発明における「溶媒不在雰囲気を予め形成する工程」の例である。また、ステップＳ２５は、本発明における「ポジティブトーン現像用の洗浄液を全ての前記第２カップに散布する工程」の例であり、ステップＳ７は、本発明における「ポジティブトーン現像用の洗浄液を全ての前記第１カップに予め散布する工程」の例である。

＜効果＞
本実施例２によれば、実施例１と同様な効果に加えて、以下の効果を奏する。

チャンバー７８内の全ての現像処理ユニット７７Ａ、７７Ｂの処理を一括して、ネガティブトーン現像処理とポジティブトーン現像処理との間で切り替える（ステップＳ２４、Ｓ３０）。これにより、各現像処理ユニット７７Ａ、７７Ｂの一方が、他方の雰囲気を害することを防止できる。

ネガティブトーン現像処理に切り替えるときには、全ての現像処理ユニット７７Ａ、７７Ｂで溶媒雰囲気を形成する（ステップＳ２１）。これにより、溶媒雰囲気を速やかに形成できる。そして、いずれの現像処理ユニット７７Ａ、７７Ｂであっても、最初からネガティブトーン現像処理を品質良く行うことができる。

ポジティブトーン現像処理に切り替えるときには、全ての現像処理ユニット７７Ａ、７７Ｂで溶媒不在雰囲気を形成する（ステップＳ２５、Ｓ２７）。これにより、溶媒不在雰囲気を速やかに形成できる。そして、いずれの現像処理ユニット７７Ａ、７７Ｂであっても、最初からポジティブトーン現像処理を品質良く行うことができる。

本発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。

（１）上述した各実施例では、基板Ｗにポジティブトーン現像処理とネガティブトーン現像処理を行う装置を例示したが、これに限られない。例えば、基板Ｗに洗浄処理や塗布処理など、処理液を用いて基板Ｗに処理を行う種々の装置に変更してもよい。また、本実施例では、１枚の基板Ｗに対して、内カップ２１を使用する処理（ポジティブトーン現像処理）と外カップ３１を使用する処理（ネガティブトーン現像処理）のいずれか一方を行う装置であったが、これに限られない。すなわち、１枚の基板Ｗに対して、内カップ２１を使用する処理と外カップ３１を使用する処理の両方を行う装置に変更してもよい。

（２）上述した各実施例では、排気口２５に処理液が流入することを防止するために、庇部２７等を例示したが、これに限られない。図１３は、変形実施例に係る内カップ２１の排気構造を示す図である。排気口２５は、排液口２３より高い位置に配置されている。この変形実施例によっても、排気口２５に処理液が流入することを防止できる。

（３）上述した各実施例では、昇降機構４１の構成例として、内カップ昇降機構４１Ａと外カップ昇降機構４１Ｂを例示したが、これに限られない。

例えば、昇降機構４１は、内カップ２１および内カップ昇降機構４１Ａと外カップ３１とを一体に昇降させる全体昇降機構とを備えてもよい。これによれば、全体昇降機構の動作のみによって、内カップ２１を回収位置または退避位置に保ったまま、外カップ３１を処理位置および洗浄位置に移動することができる。

例えば、基板処理装置１が基板保持部５および散布ディスク１６を昇降する機構を備えている場合には、外カップ昇降機構４１Ｂ等を省略して、外カップ３１を固定的に設置してもよい。

（４）上述した各実施例では、ポジティブトーン現像処理を始める前に、外カップ３１に溶媒不在雰囲気を形成したが（ステップＳ５、Ｓ２５）、これに限られない。すなわち、これらのステップＳ５、Ｓ２５を省略してもよい。この変形実施例によっても、ポジティブトーン現像処理を始める前に、溶媒不在雰囲気を形成できる。

（５）上述した各実施例では、ノズル１４Ａ、１４Ｂはそれぞれ、開口１７Ａ、１７Ｂに向けて吐出したが、これに限られない。例えば、ノズル１４Ａ、１４Ｂは、同じ開口に向けて吐出してもよい。この変形実施例では、散布ディスク１６の内部に、溶媒雰囲気および溶媒不在雰囲気を形成できる。また、この変形実施例においては、開口１７Ａと連通する流路と、開口１７Ｂと連通する流路のいずれか一方を省略してもよい。

（６）上述した各実施例では、溶媒雰囲気を形成するために、ネガティブトーン現像用の洗浄液を使用したが、これに限られない。例えば、有機溶剤を含む液体または気体を使用して、溶媒雰囲気を形成してもよい。同様に、上述した各実施例では、溶媒不在雰囲気を形成するために、ポジティブトーン現像用の洗浄液を使用したが、これに限られない。雰囲気中に含まれる有機溶剤を除去できる液体または気体を使用して、溶媒不在雰囲気を形成してもよい。

（７）上述した各実施例では、カップ洗浄部１３が各種の雰囲気を形成したが、これに限られない。例えば、基板処理装置１／現像処理ユニット７７Ａ、７７Ｂは、カップ洗浄部１３とは別個に設けられ、液体および気体の少なくともいずれかを散布する散布部を備えてもよい。本変形実施例によれば、散布部が各種の雰囲気を適切に形成できる。

（８）上述した各実施例および上記（１）から（７）で説明した各変形実施例については、さらに各構成を他の変形実施例の構成に置換または組み合わせるなどして適宜に変更してもよい。

１ … 基板処理装置
５ … 基板保持部
７ … 回転駆動部
１１ … 処理液供給部
１３ … カップ洗浄部
１４ … 洗浄液供給部
１４Ａ、１４Ｂ … ノズル（第１ノズル、第２ノズル）
１６ … 散布ディスク
２１ … 内カップ
２２ … 内カップ本体
２２ａ … 底部
２３ … 排液口
２４ … 排液管
２５ … 排気口
２６ … 排気管
２７ … 庇部（カバー部）
２８ … 鍔部
３１ … 外カップ
３２ … 外カップ本体
３２ａ … 底部
３２ｄ … フランジ部（カバー部）
３３ … 排液延長管
３４ … 排気延長管
３５ … 排液口
３６ … 排液管
３７ … 排気口
３８ … 排気管
３９ … 仕切壁
４１ … 昇降機構
７７Ａ、７７Ｂ … 現像処理ユニット
Ａ … 内カップの導入口
Ｂ … 外カップの導入口

Claims (10)

1. 基板処理装置で基板を処理する基板処理方法において、
   前記基板処理装置でポジティブトーン現像用の現像液を用いて、ポジティブトーン現像処理を行う工程と、
   前記基板処理装置でネガティブトーン現像用の現像液を用いて、ネガティブトーン現像処理を行う工程と、
   を備え、
   前記ポジティブトーン現像処理を行う工程では、前記基板処理装置に設けられる第１カップでポジティブトーン現像用の現像液を回収し、
   前記ネガティブトーン現像処理を行う工程では、前記基板処理装置に設けられる第２カップでネガティブトーン現像用の現像液を回収し、
   前記基板処理方法は、
   前記ポジティブトーン現像処理を行う工程から前記ネガティブトーン現像処理を行う工程に切り替えるときに、ネガティブトーン現像用の洗浄液を前記第２カップに予め散布する工程と、
   前記ネガティブトーン現像処理を行う工程から前記ポジティブトーン現像処理を行う工程に切り替えるときに、ポジティブトーン現像用の洗浄液を前記第１カップに予め散布する工程と、
   を備える基板処理方法。
2. 請求項１に記載の基板処理方法において、
   前記ネガティブトーン現像処理を行う工程から前記ポジティブトーン現像処理を行う工程に切り替えるときに、ポジティブトーン現像用の洗浄液を前記第２カップに散布する工程を備える基板処理方法。
3. 基板処理装置で基板を処理する基板処理方法において、
   前記基板処理装置に設けられる第１カップでポジティブトーン現像処理を行う工程と、
   前記基板処理装置に設けられる第２カップでネガティブトーン現像処理を行う工程と、
   前記ポジティブトーン現像処理を行う工程から前記ネガティブトーン現像処理を行う工程に切り替えるときに、前記第２カップに溶媒雰囲気を予め形成する工程と、
   前記ネガティブトーン現像処理を行う工程から前記ポジティブトーン現像処理を行う工程に切り替えるときに、前記第１カップ、または、前記第１カップおよび前記第２カップに溶媒不在雰囲気を予め形成する工程と、
   を備える基板処理方法。
4. 請求項３に記載の基板処理方法において、
   前記ポジティブトーン現像処理を行う工程では、前記第１カップでポジティブトーン現像処理に使用した処理液を回収し、
   前記ネガティブトーン現像処理を行う工程では、前記第２カップでネガティブトーン現像処理に使用した処理液を回収する基板処理方法。
5. 請求項３または４に記載の基板処理方法において、
   前記ポジティブトーン現像処理を行う工程では、前記第１カップでポジティブトーン現像処理に使用した処理液を受け止め、
   前記ネガティブトーン現像処理を行う工程では、前記第２カップでネガティブトーン現像処理に使用した処理液を受け止める基板処理方法。
6. 同一空間に設けられる複数の基板処理ユニットのそれぞれで基板を処理する基板処理方法において、
   前記基板処理ユニットの少なくともいずれかで、ポジティブトーン現像用の現像液を用いて、ポジティブトーン現像処理を行う工程と、
   前記基板処理ユニットの少なくともいずれかで、ネガティブトーン現像用の現像液を用いて、ネガティブトーン現像処理を行う工程と、
   を備え、
   前記ポジティブトーン現像処理を行う工程では、前記基板処理ユニットのそれぞれに設けられる第１カップでポジティブトーン現像用の現像液を回収し、
   前記ネガティブトーン現像処理を行う工程では、前記基板処理ユニットのそれぞれに設けられる第２カップでネガティブトーン現像用の現像液を回収し、
   前記基板処理方法は、
   前記ポジティブトーン現像処理を行う工程から前記ネガティブトーン現像処理を行う工程に切り替えるときに、ネガティブトーン現像用の洗浄液を全ての前記第２カップに予め散布する工程と、
   前記ネガティブトーン現像処理を行う工程から前記ポジティブトーン現像処理を行う工程に切り替えるときに、ポジティブトーン現像用の洗浄液を全ての前記第１カップに予め散布する工程と、
   を備える基板処理方法。
7. 請求項６に記載の基板処理方法において、
   前記ネガティブトーン現像処理を行う工程から前記ポジティブトーン現像処理を行う工程に切り替えるときに、ポジティブトーン現像用の洗浄液を全ての前記第２カップに散布する工程を備える基板処理方法。
8. 同一空間に設けられる複数の基板処理ユニットのそれぞれで基板に処理を行う基板処理方法において、
   前記基板処理ユニットはそれぞれ、第１カップと第２カップを備え、
   前記基板処理ユニットの少なくともいずれかの前記第１カップで、前記ポジティブトーン現像処理を行う工程と、
   前記基板処理ユニットの少なくともいずれかの前記第２カップで、前記ネガティブトーン現像処理を行う工程と、
   前記ポジティブトーン現像処理を行う工程から前記ネガティブトーン現像処理を行う工程に切り替えるときに、全ての前記第２カップに溶媒雰囲気を予め形成する工程と、
   前記ネガティブトーン現像処理を行う工程から前記ポジティブトーン現像処理を行う工程に切り替えるときに、全ての前記第１カップ、または、全ての前記第１カップおよび全ての前記第２カップに溶媒不在雰囲気を予め形成する工程と、
   を備える基板処理方法。
9. 請求項８に記載の基板処理方法において、
   前記ポジティブトーン現像処理を行う工程では、前記第１カップでポジティブトーン現像処理に使用した処理液を回収し、
   前記ネガティブトーン現像処理を行う工程では、前記第２カップでネガティブトーン現像処理に使用した処理液を回収する基板処理方法。
10. 請求項８または９に記載の基板処理方法において、
    前記ポジティブトーン現像処理を行う工程では、前記第１カップでポジティブトーン現像処理に使用した処理液を受け止め、
    前記ネガティブトーン現像処理を行う工程では、前記第２カップでネガティブトーン現像処理に使用した処理液を受け止める基板処理方法。

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