JP6645368B2 - 接合体、パワーモジュール用基板、接合体の製造方法、及び、パワーモジュール用基板の製造方法 - Google Patents
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Description
風力発電、電気自動車、ハイブリッド自動車等を制御するために用いられる大電力制御用のパワー半導体素子においては、発熱量が多いことから、これを搭載する基板としては、例えばAlN(窒化アルミ)、Al2O3(アルミナ)などからなるセラミックス基板と、このセラミックス基板の一方の面に導電性の優れた金属板を接合して形成した回路層と、を備えたパワーモジュール用基板が、従来から広く用いられている。なお、パワージュール用基板としては、セラミックス基板の他方の面に金属層を形成したものも提供されている。
そして、パワーモジュール用基板の他方の面側には、ヒートシンクが接合されており、半導体素子からパワーモジュール用基板側に伝達された熱を、ヒートシンクを介して外部へ放散する構成とされている。
一方、特許文献2に記載されたパワーモジュールにおいては、回路層が比較的変形抵抗が大きな銅又は銅合金で構成されていることから、ヒートサイクル負荷時における熱応力を緩和することができず、セラミックス基板に割れが生じるおそれがあった。
この構成のパワーモジュール用基板の場合、銅層によって導電性及び放熱特性が確保されるとともに、セラミックス基板側に形成されたアルミニウム層によって熱応力を緩和させることが可能となる。
接合界面に酸化被膜が残存している場合には、例えばSiC等の高温動作を必要とする素子を搭載して高温条件使用すると、チタンの酸化被膜を起点にしてチタン層と銅層の接合界面に存在する金属間化合物が脆性破壊するおそれがあった。
さらに、チタン層の厚さが3μm以上とされているので、このチタン層が応力緩和層として作用し、銅層とチタン層との接合界面における剥離の発生を抑制することができる。また、チタン層の厚さが15μm以下とされているので、接合体において積層方向の熱抵抗を低く抑制することができる。
さらに、アルミニウム層とチタン層との間にAl−Ti−Si層が形成されているので、アルミニウム層とチタン層とが十分に接合されている。
また、チタン層の厚さが3μm以上とされているので、このチタン層が応力緩和層として作用し、銅層とチタン層との接合界面における剥離の発生を抑制することができる。一方、チタン層の厚さが15μm以下とされているので、回路層において積層方向の熱抵抗を低く抑制することができ、放熱特性を向上させることができる。
さらに、セラミックス基板の一方の面に、アルミニウム層と銅層とが積層されてなる回路層が形成されているので、銅層によって導電性及び放熱特性を向上させることができ、アルミニウム層によってヒートサイクル時の熱応力を緩和してセラミックス基板の割れの発生を抑制することができる。
また、チタン層となるチタン材とアルミニウム部材とを接合してAl3TiにSiが固溶したAl−Ti−Si層を形成するチタン/アルミニウム接合工程を備えているので、アルミニウム部材とチタン材とを良好に接合することができる。
さらに、接合前の前記チタン材の厚さが8μm以上20μm以下の範囲内とされているので、接合後のチタン層の厚さを3μm以上15μm以下の範囲内とすることができる。
以上のように、チタン材を介してアルミニウム部材と銅部材とを良好に接合することができる。
この構成の接合体の製造方法によれば、前記チタン/アルミニウム接合工程と、前記チタン/銅接合工程と、を同時に実施することにより、接合体を効率良く製造することができる。また、前記チタン/銅接合工程においては、Cu−P−Sn系ろう材を用いて液相接合しているので、前記チタン/アルミニウム接合工程を同時に実施するために低温条件としても、チタン材と銅部材とを良好に接合することができる。
さらに、接合前の前記チタン材の厚さが8μm以上20μm以下の範囲内とされているので、接合後のチタン層の厚さを3μm以上15μm以下の範囲内とすることができる。
この場合、前記セラミックス/アルミニウム接合工程と、前記チタン/アルミニウム接合工程と、を同時に実施しているので、上述のパワーモジュール用基板を効率良く製造することができる。また、前記チタン/銅接合工程を別途独立して実施しているので、接合条件を比較的自由に設定することができる。
この場合、前記セラミックス/アルミニウム接合工程と、前記チタン/アルミニウム接合工程と、前記チタン/銅接合工程と、を同時に実施しているので、上述のパワーモジュール用基板をさらに効率良く製造することができる。
図1に、本発明の第一の実施形態であるパワーモジュール用基板10を用いたパワーモジュール1を示す。
このパワーモジュール1は、パワーモジュール用基板10と、このパワーモジュール用基板10の一方の面(図1において上面)に第1はんだ層2を介して接合された半導体素子3と、パワーモジュール用基板10の下側に第2はんだ層42を介して接合されたヒートシンク41と、を備えている。
ここで、回路層20におけるアルミニウム層21の厚さは、0.1mm以上1.0mm以下の範囲内に設定されており、本実施形態では0.4mmに設定されている。
また、回路層20における銅層22の厚さは、0.1mm以上6.0mm以下の範囲内に設定されており、本実施形態では、1.0mmに設定されている。
ここで、金属層30におけるアルミニウム層31の厚さは、0.1mm以上3.0mm以下の範囲内に設定されており、本実施形態では0.4mmに設定されている。
また、金属層30における銅層32の厚さは、0.1mm以上6.0mm以下の範囲内に設定されており、本実施形態では、1.0mmに設定されている。
アルミニウム層21,31となるアルミニウム板51、61は、純度が99mass%以上のアルミニウム(2Nアルミニウム)で構成されている。すなわち、Siの含有量が0.03mass%以上1.0mass%以下の範囲内とされている。
このAl−Ti−Si層26、36は、アルミニウム層21、31のAl原子と、チタン層25、35のTi原子とが相互拡散することによって形成されたAl3Tiに、アルミニウム層21、31のSiが固溶することにより形成されたものである。
Al−Ti−Si層26、36の厚さは、0.5μm以上10μm以下に設定されており、本実施形態においては3μmとされている。
第1Al−Ti−Si層26A、36AのSi濃度は、10at%以上30at%以下とされており、本実施形態では20at%とされている。第2Al−Ti−Si層26B、36BのSi濃度は、1at%以上10at%以下とされており、本実施形態では3at%とされている。
ここで、本実施形態においては、図4に示すように、チタン層25、35(チタン材55、65)と銅層22、32(銅板52、62)との接合にCu−P−Sn−Niろう材からなる第2ろう材57、67を用いているので、Ti含有層27、37は、P−Ni−Ti相、P−Ti相、Cu−Ni−Ti相のいずれか1種以上を有する。
まず、図3及び図4に示すように、セラミックス基板11の一方の面側(図4において上側)に、第1ろう材56を介してアルミニウム板51とチタン材55を積層する。さらに、チタン材55の一方の面側に、第2ろう材57を介して銅板52を積層する。
また、セラミックス基板11の他方の面側(図4において下側)に、第1ろう材66を介してアルミニウム板61とチタン材65を積層する。さらに、チタン材65の他方の面側に、第2ろう材67を介して銅板62を積層する。
そして、チタン材55,65は、その厚さが8μm以上20μm以下の範囲内とされている。ここで、チタン材55,65の純度は99.4mass%以上とされており、本実施形態では純度99.8mass%以上のチタン材を用いている。
第2ろう材57、67は、Cu−P−Sn系のろう材とされている。Cu−P−Sn系のろう材として、具体的には、Cu−P−Snろう材、Cu−P−Sn−Ni系ろう材、Cu−P−Sn−Fe系ろう材、Cu−P−Sn−Mn系ろう材、Cu−P−Sn−Cr系ろう材などが挙げられ、本実施形態では、Cu−P−Sn−Niろう材の箔材を用いている。なお、第2ろう材57、67の厚さは、5μm以上25μm以下の範囲内とされている。
次に、上述のように積層した銅板52、第2ろう材57、チタン材55、アルミニウム板51、第1ろう材56、セラミックス基板11、第1ろう材66、アルミニウム板61、チタン材65、第2ろう材67、銅板62を、積層方向に荷重3kgf/cm2以上20kgf/cm2以下(0.29MPa以上1.96MPa以下)で加圧した状態で、真空加熱炉内に装入して加熱する。このとき、真空加熱炉内の圧力は10-6Pa以上10-3Pa以下の範囲内、加熱温度は600℃以上650℃以下、より好ましくは620℃以上643℃以下、保持時間は15分以上120分以下、より好ましくは30分以上90分以下の範囲内に設定されることが好ましい。
これにより、セラミックス基板11とアルミニウム板51,61を接合する(セラミックス/アルミニウム接合工程S21)。また、アルミニウム板51,61とチタン材55,65とを接合する(チタン/アルミニウム接合工程S22)。さらに、チタン材55,65と銅板52,62を接合する(チタン/銅接合工程S23)。
また、上述のパワーモジュール用基板10の金属層30の銅層32とヒートシンク41とをはんだ材を用いて接合するとともに、回路層20の銅層22と半導体素子3とをはんだ材を用いて接合する。これにより、図1に示すパワーモジュール1が製造される。
一方、チタン層25,35の厚さが15μm以下とされているので、積層方向の熱抵抗を低く抑制することができる。
また、セラミックス基板11の一方の面に、アルミニウム層21と銅層22とが積層されてなる回路層20が形成されているので、銅層22によって導電性及び放熱特性を向上させることができ、アルミニウム層21によってヒートサイクル時の熱応力を緩和してセラミックス基板11の割れの発生を抑制することができる。
さらに、接合前のチタン材55、65の厚さが8μm以上20μm以下の範囲内とされているので、接合後のチタン層25、35の厚さを5μm以上15μm以下の範囲内とすることができる。
また、本実施形態では、セラミックス/アルミニウム接合工程S21と、チタン/アルミニウム接合工程S22と、チタン/銅接合工程S23と、を同時に実施する接合工程S02を備えているので、上述のパワーモジュール用基板10を効率良く製造することができる。
次に、本発明の第二の実施形態について説明する。なお、第一の実施形態と同一の構成のものについては、同一の符号を付して記載し、詳細な説明を省略する。
図5に、本発明の第二の実施形態に係るパワーモジュール用基板110を備えたパワーモジュール101を示す。
このパワーモジュール101は、パワーモジュール用基板110と、このパワーモジュール用基板110の一方の面(図5において上面)にはんだ層2を介して接合された半導体素子3と、パワーモジュール用基板110の下側に接合されたヒートシンク141と、を備えている。
ここで、回路層120におけるアルミニウム層121の厚さは、0.1mm以上1.0 mm以下の範囲内に設定されており、本実施形態では0.6mmに設定されている。
また、回路層120における銅層122の厚さは、0.1mm以上6.0mm以下の範囲内に設定されており、本実施形態では、2.0mmに設定されている。
ここで、アルミニウム層121となるアルミニウム板151は、純度が99mass%以上のアルミニウム(2Nアルミニウム)で構成されている。なお、Siの含有量は0.03mass%以上1.0mass%以下の範囲内とされている。
なお、図6には開示されていないが、Al−Ti−Si層126は、チタン層125側に形成された第1Al−Ti−Si層と、アルミニウム層121側に形成された第2Al−Ti−Si層と、を備えており、第2Al−Ti−Si層のSi濃度が、第1Al−Ti−Si層のSi濃度よりも低くなっている。
ここで、本実施形態においては、図8に示すように、チタン層125と銅層122(銅板152)との接合にCu−P−Sn−Niろう材からなる第2ろう材157を用いているので、Ti含有層127は、Cu−Ni−Ti相127aとP−Ni−Ti相127bを有している。なお、Ti含有層127には、P−Ti相が含まれる場合もある。
まず、図8に示すように、セラミックス基板11の一方の面側(図8において上側)に、第1ろう材156を介してアルミニウム板151を積層し、さらにチタン材155を積層する。また、セラミックス基板11の他方の面側(図8において下側)に第1ろう材166を介してアルミニウム板161を積層する。
ここで、本実施形態では、第1ろう材箔156,166は、例えばAl−Si系のろう材とされており、本実施形態においては、Al−10mass%Siろう材を用いている。なお、第1ろう材156、166の厚さは、5μm以上20μm以下の範囲内とされている。
また、チタン材155は、その厚さが8μm以上20μm以下の範囲内とされている。ここで、チタン材155の純度は99.4mass%以上とされており、本実施形態では純度99.8mass%以上のチタン材を用いている。
次いで、上述のように積層したチタン材155、アルミニウム板151、第1ろう材156、セラミックス基板11、第1ろう材166、アルミニウム板161を、積層方向に荷重3kgf/cm2以上20kgf/cm2以下(0.29MPa以上1.96MPa以下)で加圧した状態で、真空加熱炉内に装入して加熱する。このとき、真空加熱炉内の圧力は10-6Pa以上10-3Pa以下の範囲内、加熱温度は600℃以上650℃以下、より好ましくは620℃以上643℃以下、保持時間は15分以上120分以下、より好ましくは30分以上90分以下の範囲内に設定されることが好ましい。
これにより、セラミックス基板11とアルミニウム板151,161を接合する(セラミックス/アルミニウム接合工程S121)。また、アルミニウム板151とチタン材155とを接合する(チタン/アルミニウム接合工程S122)。
次に、チタン層125の一方の面側(図8において上側)に、第2ろう材157を介して銅板152を積層する。
第2ろう材157は、Cu−P−Sn系のろう材とされている。Cu−P−Sn系のろう材として、具体的には、Cu−P−Snろう材、Cu−P−Sn−Ni系ろう材、Cu−P−Sn−Fe系ろう材、Cu−P−Sn−Mn系ろう材、Cu−P−Sn−Cr系ろう材などが挙げられ、本実施形態では、Cu−P−Sn−Niろう材の箔材を用いている。なお、第2ろう材157の厚さは、5μm以上25μm以下の範囲内とされている。
次に、銅板152及び第2ろう材157の積層方向に荷重3kgf/cm2以上20kgf/cm2以下(0.29MPa以上1.96MPa以下)で加圧した状態で、真空加熱炉内に装入して加熱する。このとき、真空加熱炉内の圧力は10-6Pa以上10-3Pa以下の範囲内、加熱温度は600℃以上650℃以下、より好ましくは620℃以上643℃以下、保持時間は15分以上120分以下、より好ましくは30分以上90分以下の範囲内に設定されることが好ましい。
これにより、チタン層125と銅板152が接合され、銅層122が形成される。
また、上述のパワーモジュール用基板110の金属層130とヒートシンク141とをろう材を用いて接合するとともに、回路層120の銅層122と半導体素子3とをはんだ材を用いて接合する。これにより、図5に示すパワーモジュール101が製造される。
また、セラミックス基板11の一方の面に、アルミニウム層121と銅層122とが積層されてなる回路層120が形成されているので、銅層122によって導電性及び放熱特性を向上させることができ、アルミニウム層121によってヒートサイクル時の熱応力を緩和してセラミックス基板11の割れの発生を抑制することができる。
さらに、チタン/銅接合工程S104を上述の接合工程S102と独立して実施しているので、接合条件を比較的自由に設定することができる。
次に、本発明の第三の実施形態について説明する。なお、第一の実施形態及び第二の実施形態と同一の構成のものについては、同一の符号を付して記載し、詳細な説明を省略する。
図9に、本発明の第三の実施形態に係るパワーモジュール用基板210を備えたパワーモジュール201を示す。
このパワーモジュール201は、パワーモジュール用基板210と、このパワーモジュール用基板210の一方の面(図9において上面)にはんだ層2を介して接合された半導体素子3と、パワーモジュール用基板210の下側に接合されたヒートシンク241と、を備えている。
ここで、回路層220におけるアルミニウム層221の厚さは、0.1mm以上1.0mm以下の範囲内に設定されており、本実施形態では0.5mmに設定されている。
また、回路層220における銅層222の厚さは、0.1mm以上6.0mm以下の範囲内に設定されており、本実施形態では、0.8mmに設定されている。
ここで、金属層230におけるアルミニウム層231の厚さは、0.1mm以上3.0mm以下の範囲内に設定されており、本実施形態では0.5mmに設定されている。
また、金属層230における銅層232の厚さは、0.1mm以上6.0mm以下の範囲内に設定されており、本実施形態では、1.2mmに設定されている。
アルミニウム層221,231となるアルミニウム板251、261は、純度が99.99mass%以上のアルミニウム(4Nアルミニウム)で構成されている。
このAl−Ti−Si層226、236は、アルミニウム層221、231のAl原子と、チタン層225、235のTi原子とが相互拡散することによって形成されたAl3Tiに、アルミニウム層221、231のSiが固溶することにより形成されたものである。
なお、図10には開示されていないが、Al−Ti−Si層226は、チタン層225側に形成された第1Al−Ti−Si層と、アルミニウム層221側に形成された第2Al−Ti−Si層と、を備えており、第2Al−Ti−Si層のSi濃度が、第1Al−Ti−Si層のSi濃度よりも低くなっている。
ここで、本実施形態においては、図12に示すように、チタン層225、235と銅層222(銅板252、262)との接合にCu−P−Sn−Niろう材からなる第2ろう材257、267を用いているので、Ti含有層227、237は、Cu−Ni−Ti相227a、237aとP−Ni−Ti相227b、237bを有している。
まず、図12に示すように、セラミックス基板11の一方の面側(図12において上側)に、第1ろう材256を介してアルミニウム板251を積層する。また、セラミックス基板11の他方の面側(図12において下側)に第1ろう材266を介してアルミニウム板261を積層する。
ここで、本実施形態では、第1ろう材256,266は、例えばAl−Si系のろう材とされており、本実施形態においては、Al−8mass%Siろう材を用いている。なお、第1ろう材256、266の厚さは、5μm以上20μm以下の範囲内とされている。
次いで、上述のように積層したアルミニウム板251、第1ろう材256、セラミックス基板11、第1ろう材266、アルミニウム板261を、積層方向に荷重3kgf/cm2以上20kgf/cm2以下(0.29MPa以上1.96MPa以下)で加圧した状態で、真空加熱炉内に装入して加熱する。このとき、真空加熱炉内の圧力は10-6Pa以上10-3Pa以下の範囲内、加熱温度は600℃以上650℃以下、より好ましくは620℃以上643℃以下、保持時間は15分以上120分以下、より好ましくは30分以上90分以下の範囲内に設定されることが好ましい。
これにより、セラミックス基板11とアルミニウム板251,261を接合し、アルミニウム層221、231を形成する。
次に、アルミニウム層221の一方の面側(図12において上側)に、Si含有ろう材258を介してチタン材255を積層する。また、アルミニウム層231の他方の面側(図12において下側)に、Si含有ろう材268を介してチタン材265を積層する。なお、Si含有ろう材258、268のSi含有量は1.0mass%以上12.0mass%以下の範囲内とされており、その厚さは、5μm以上15μm以下の範囲内とされている。
また、チタン材255,256は、その厚さが8μm以上20μm以下の範囲内とされている。ここで、チタン材255,265の純度は99.4mass%以上とされており、本実施形態では純度99.8mass%以上のチタン材を用いている。
次いで、上述のように積層したチタン材255、Si含有ろう材258、アルミニウム層221、セラミックス基板11、アルミニウム層231、Si含有ろう材268、チタン材265を、積層方向に荷重3kgf/cm2以上20kgf/cm2以下(0.29MPa以上1.96MPa以下)で加圧した状態で、真空加熱炉内に装入して加熱する。このとき、真空加熱炉内の圧力は10-6Pa以上10-3Pa以下の範囲内、加熱温度は600℃以上650℃以下、より好ましくは620℃以上643℃以下、保持時間は15分以上120分以下、より好ましくは30分以上90分以下の範囲内に設定されることが好ましい。
これにより、アルミニウム層221,231とチタン材255、265を接合し、チタン層225、235を形成する。
次に、チタン層225の一方の面側(図12において上側)に、第2ろう材257を介して銅板252を積層する。また、チタン層235の他方の面側(図12において下側)に、第2ろう材267を介して銅板262を積層する。
第2ろう材257、267は、Cu−P−Sn系のろう材とされている。Cu−P−Sn系のろう材として、具体的には、Cu−P−Snろう材、Cu−P−Sn−Ni系ろう材、Cu−P−Sn−Fe系ろう材、Cu−P−Sn−Mn系ろう材、Cu−P−Sn−Cr系ろう材などが挙げられ、本実施形態では、Cu−P−Sn−Niろう材の箔材を用いている。なお、第2ろう材257、267の厚さは、5μm以上25μm以下の範囲内とされている。
次に、銅板252、第2ろう材257、チタン層225、アルミニウム層221、セラミックス基板11、アルミニウム層231、チタン層235、第2ろう材267、銅板262を積層方向に荷重3kgf/cm2以上20kgf/cm2以下(0.29MPa以上1.96MPa以下)で加圧した状態で、真空加熱炉内に装入して加熱する。このとき、真空加熱炉内の圧力は10-6Pa以上10-3Pa以下の範囲内、加熱温度は600℃以上650℃以下、より好ましくは620℃以上643℃以下、保持時間は15分以上120分以下、より好ましくは30分以上90分以下の範囲内に設定されることが好ましい。
これにより、チタン層225、235と銅板252、262が接合され、銅層222、232が形成される。
また、上述のパワーモジュール用基板210の金属層230とヒートシンク241とを固相拡散接合するとともに、回路層220の銅層222と半導体素子3とをはんだ材を用いて接合する。これにより、図9に示すパワーモジュール201が製造される。
また、セラミックス基板11の一方の面に、アルミニウム層221と銅層222とが積層されてなる回路層220が形成されているので、銅層222によって導電性及び放熱特性を向上させることができ、アルミニウム層221によってヒートサイクル時の熱応力を緩和してセラミックス基板11の割れの発生を抑制することができる。
例えば、第一の実施形態及び第二の実施形態では、アルミニウム層となるアルミニウム板として、純度が99mass%以上の2NアルミニウムであってSi含有量が0.03mass%以上1.0mass%以下の範囲内のものを例に挙げて説明したが、これに限定されることはなく、他のアルミニウム材を用いてもよい。
また、事前に、アルミニウム材のうちチタン層が形成される表面のSi濃度を0.03mass%〜1.0mass%に調整してもよい。ここで、Si濃度は、チタン層が形成される表面をEPMAの定量分析で5点測定し、その平均値とした。なお、Si濃度はAlとSiの合計量を100とした時の濃度とした。
上記実施形態ではCu−P−Sn系のろう材として箔材を用いたが、これに限らずCu−P−Sn系のろう材粉末、及び、Cu−P−Sn系のろう材粉末のペーストを用いることもできる。
以下に、本発明の効果を確認すべく行った確認実験(実施例1)の結果について説明する。
Al−Ti−Si層は、マッピング像からAlとTiとSiの各元素が共存する領域が観察された場合、「有」と評価した。
Ti含有層は、マッピング像からTiとPの各元素が共存する領域が観察された場合、「有」と評価した。
Cu−Sn層は、マッピング像からCuとSnの各元素が共存する領域が観察された場合、「有」と評価した。
また、以下に示す方法により、チタン層の厚さを測定するとともに、ヒートサイクル試験、積層方向の熱抵抗を評価した。
上述のパワーモジュール用基板の回路層のアルミニウム板/銅板の接合界面のEPMAから、倍率10000倍の視野(縦30μm、横40μm)において、接合界面に形成されたチタン層の面積を測定し、測定視野の幅の寸法で除して求め、5視野の平均をチタン層の厚さとした。評価結果を表2に示す。
上述のパワーモジュール用基板において、ヒートサイクル試験を実施した。冷熱衝撃試験機エスペック社製TSB−51を使用し、試験片(ヒートシンク付パワーモジュール)に対して、液相(フロリナート)で、−40℃×5分←→175℃×5分のヒートサイクルを800回実施した。そして、ヒートサイクル試験後において、銅層とチタン層の剥離の有無を確認した。
なお、銅層とチタン層の剥離は、超音波探傷装置を用い、以下の式から算出した。
ここで、超音波探傷像において剥離は白色部で示されることから、この白色部の面積を剥離面積とした。
(剥離率(%))=(剥離面積/チタン層の面積×100)
剥離率が15%以上の場合を剥離有と評価した。
評価結果を表2に示す。
ヒータチップ(13mm×10mm×0.25mm)を回路層の表面に半田付けし、金属層を冷却器に積層した。次に、ヒータチップを100Wの電力で加熱し、熱電対を用いてヒータチップの温度を実測した。また、冷却器を流通する冷却媒体(エチレングリコール:水=9:1)の温度を実測した。そして、ヒータチップの温度と冷却媒体の温度差を電力で割った値を熱抵抗とした。
なお、本発明例1−5のヒートサイクル前の熱抵抗を基準として1とし、この基準との比率で熱抵抗を評価した。評価結果を表2に示す。
一方、本発明例1−1〜1−8では、冷熱サイクル後に銅層とチタン層の接合界面に剥離が生じることが無く、また、熱抵抗の上昇も小さいパワーモジュール用基板が得られることが分かった。
以下に、本発明の効果を確認すべく行った確認実験(実施例2)の結果について説明する。
そして、積層方向に荷重7kgf/cm2(0.69MPa)で加圧した状態で真空加熱炉内に装入し、加熱することによってセラミックス基板の一方の面及び他方の面にアルニウム層と銅層とが積層された回路層及び金属層を形成した。ここで、真空加熱炉内の圧力を10−6Pa以上、10−3Pa以下の範囲内に設定し、加熱温度は640℃、加熱時間は80minとした。このようにして本発明例2−1〜2−8及び比較例2−1〜2−4のパワーモジュール用基板を得た。
一方、本発明例2−1〜2−8では、冷熱サイクル後に銅層とチタン層の接合界面に剥離が生じることが無く、また、熱抵抗の上昇も小さいパワーモジュール用基板が得られることが分かった。
以下に、本発明の効果を確認すべく行った確認実験(実施例3)の結果について説明する。
次に、積層方向に荷重15kgf/cm2(1.47MPa)で加圧した状態で真空加熱炉内に装入し、加熱することによってセラミックス基板の一方の面及び他方の面にアルニウム層を形成した。ここで、真空加熱炉内の圧力を10−6Pa以上、10−3Pa以下の範囲内に設定し、加熱温度は640℃、加熱時間は60minとした。
積層方向に荷重20kgf/cm2(1.96MPa)で加圧した状態で真空加熱炉内に装入し、加熱することによってアルミニウム層に積層されたチタン層を形成した。ここで、真空加熱炉内の圧力を10−6Pa以上、10−3Pa以下の範囲内に設定し、加熱温度は630℃、加熱時間は90minとした。
そして、積層方向に荷重8kgf/cm2(0.78MPa)で加圧した状態で真空加熱炉内に装入し、加熱することによってセラミックス基板の一方の面及び他方の面にアルニウム層と銅層とが積層された回路層及び金属層を形成した。ここで、真空加熱炉内の圧力を10−6Pa以上、10−3Pa以下の範囲内に設定し、加熱温度は640℃、加熱時間は30minとした。このようにして本発明例3−1〜3−8及び比較例3−1〜3−4のパワーモジュール用基板を得た。
一方、本発明例3−1〜3−8では、冷熱サイクル後に銅層とチタン層の接合界面に剥離が生じることが無く、また、熱抵抗の上昇も小さいパワーモジュール用基板が得られることが分かった。
11 セラミックス基板
20、120、220 回路層
30,130、230 金属層
21、121、221 アルミニウム層
22、122、222 銅層
25、125、225 チタン層
26、126、226 Al−Ti−Si層
27、127、227 Ti含有層
28、128,228 Cu−Sn層
51、151、251 アルミニウム板
52、152、252 銅板
55、155、255 チタン材
Claims (7)
- アルミニウム又はアルミニウム合金からなるアルミニウム部材と、銅又は銅合金からなる銅部材との接合体であって、
前記アルミニウム部材と前記銅部材との接合部においては、前記アルミニウム部材側から順に、Al3TiにSiが固溶したAl−Ti−Si層と、チタン層と、Tiを含む金属間化合物からなるTi含有層と、CuにSnが固溶したCu−Sn層と、が形成されており、
前記チタン層の厚さが3μm以上15μm以下の範囲内とされていることを特徴とする接合体。 - セラミックス基板と、前記セラミックス基板の一方の面に形成された回路層と、を備えたパワーモジュール用基板であって、
前記回路層は、前記セラミックス基板の一方の面に形成されたアルミニウム又はアルミニウム合金からなるアルミニウム層と、このアルミニウム層の一方の面に形成された銅又は銅合金からなる銅層と、を有し、
前記アルミニウム層と前記銅層との接合部においては、前記アルミニウム層側から順に、Al3TiにSiが固溶したAl−Ti−Si層と、チタン層と、Tiを含む金属間化合物からなるTi含有層と、CuにSnが固溶したCu−Sn層と、が形成されており、
前記チタン層の厚さが3μm以上15μm以下の範囲内とされていることを特徴とするパワーモジュール用基板。 - 請求項1に記載の接合体の製造方法であって、
チタン層となるチタン材とアルミニウム部材とを接合してAl3TiにSiが固溶したAl−Ti−Si層を形成するチタン/アルミニウム接合工程と、
前記チタン材と銅部材とをCu−P−Sn系ろう材を用いて液相接合し、Tiを含む金属間化合物からなるTi含有層と、CuにSnが固溶したCu−Sn層とを形成するチタン/銅接合工程と、
を備えており、
接合前の前記チタン材の厚さが8μm以上20μm以下の範囲内とされていることを特徴とする接合体の製造方法。 - 前記チタン/アルミニウム接合工程と、前記チタン/銅接合工程と、を同時に実施することを特徴とする請求項3に記載の接合体の製造方法。
- 請求項2に記載のパワーモジュール用基板の製造方法であって、
前記セラミックス基板と前記アルミニウム層となるアルミニウム板とを接合するセラミックス/アルミニウム接合工程と、
チタン層となるチタン材と前記アルミニウム板とを接合してAl3TiにSiが固溶したAl−Ti−Si層を形成するチタン/アルミニウム接合工程と、
前記チタン材と前記銅層となる銅板とをCu−P−Sn系ろう材を用いて液相接合し、Tiを含む金属間化合物からなるTi含有層と、CuにSnが固溶したCu−Sn層とを形成するチタン/銅接合工程と、
を備えており、
接合前の前記チタン材の厚さが8μm以上20μm以下の範囲内とされていることを特徴とするパワーモジュール用基板の製造方法。 - 前記セラミックス/アルミニウム接合工程と、前記チタン/アルミニウム接合工程と、を同時に実施し、その後、前記チタン/銅接合工程を実施することを特徴とする請求項5に記載のパワーモジュール用基板の製造方法。
- 前記セラミックス/アルミニウム接合工程と、前記チタン/アルミニウム接合工程と、前記チタン/銅接合工程と、を同時に実施することを特徴とする請求項5に記載のパワーモジュール用基板の製造方法。
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