JP6639556B2 - Sliding member and manufacturing method thereof - Google Patents

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Description

本発明は、摺動部材およびその製造方法に関する。   The present invention relates to a sliding member and a method for manufacturing the same.

排水ポンプの一種として、先行待機運転ポンプが知られている。先行待機運転ポンプは、例えばゲリラ豪雨のような急激な水量の増加に対応すべく、予め無水状態で全速運転(先行待機運転)することや、気水混合状態での排水を行うことが可能となっている。このような先行待機運転ポンプに適用できる摺動部材が、例えば特許文献1に開示されている。   As one type of drainage pump, a preceding standby operation pump is known. In order to cope with a sudden increase in the amount of water such as a guerrilla downpour, the preparatory standby operation pump can be operated at full speed in advance in an anhydrous state (preliminary standby operation) or can perform drainage in a mixed gas-water state. Has become. A sliding member applicable to such a preceding standby operation pump is disclosed in, for example, Patent Document 1.

特許文献1には、摺動部材基部および摺接粒子を備えたポンプ用軸・軸受構造が開示されている。当該摺接粒子は、摺動部材基部の表面に散在して固定されるとともに、摺動部材基部の表面から突出しており、被摺動部材に摺接することが記載されている。   Patent Document 1 discloses a pump shaft / bearing structure including a sliding member base and sliding particles. It is described that the sliding contact particles are scattered and fixed on the surface of the sliding member base, protrude from the surface of the sliding member base, and slide on the sliding member.

特許文献1に記載されるような、摺接粒子を摺動面とする摺動部材は、摺接粒子間に形成した空間により、摺動部材の熱膨張への対応や放熱性の面で優れた特徴を有する。また、当該摺動部材を、例えばポンプの軸・軸受構造に用いた場合、摺動部材の回転時に、粒子間領域から摺接粒子と被摺動部材との間に適度に水等の液体が供給され、潤滑剤として機能し、潤滑性が向上するという効果も有している。   A sliding member having sliding contact particles as a sliding surface as described in Patent Document 1 is excellent in response to thermal expansion of the sliding member and in heat dissipation due to a space formed between the sliding contact particles. It has features. Further, when the sliding member is used, for example, in a shaft / bearing structure of a pump, when the sliding member rotates, a liquid such as water is appropriately applied between the sliding particles and the sliding member from the interparticle region. Supplied, functions as a lubricant, and also has the effect of improving lubricity.

特開2016−211727号公報(2016年12月15日公開)JP-A-2006-217727 (published on December 15, 2016)

しかし、上述のような従来技術では、製造条件によっては、得られる摺動部材の性能がばらつく傾向があった。例えば、摺接面を構成する摺接粒子の耐剥離性は、摺動部材において重要な性能であるが、耐剥離性に優れる摺接粒子を備える摺動部材を確実に製造するための製造条件には、さらなる改善の余地があった。   However, in the above-described conventional techniques, the performance of the obtained sliding member tends to vary depending on the manufacturing conditions. For example, the peeling resistance of the sliding contact particles constituting the sliding contact surface is an important performance in the sliding member, but manufacturing conditions for reliably manufacturing a sliding member including the sliding contact particles having excellent peeling resistance. Had room for further improvement.

また、上述のような摺動部材は、摺接面が複数の摺接粒子で構成されているため、特有の課題を有する。すなわち、摺接粒子ごとの固定状態や被摺動部材との接触面積にばらつきがあると、摺接粒子の固定強度や摺接粒子にかかる圧力が摺接粒子によって異なるため、条件によっては摺接粒子の剥離や偏摩耗につながる要因の一つとなる、という課題がある。   In addition, the sliding member as described above has a specific problem because the sliding surface is composed of a plurality of sliding particles. That is, if the fixed state of each sliding contact particle or the contact area with the sliding member varies, the fixing strength of the sliding contact particle and the pressure applied to the sliding contact particle vary depending on the sliding contact particle. There is a problem that this is one of the factors that lead to particle separation and uneven wear.

以上のことから、耐剥離性に優れる摺接粒子を備えるとともに、偏摩耗を抑制できる摺動部材をより簡便に製造できる製造条件が求められており、かつ、当該摺動部材の安定的な提供が求められていた。   In view of the above, there is a need for manufacturing conditions that provide sliding members capable of suppressing uneven wear while providing sliding contact particles having excellent peel resistance, and that the sliding members are stably provided. Was required.

本発明は、上記課題に鑑みなされたものであって、その目的は、耐剥離性に優れた摺接粒子を備えるとともに、偏摩耗を抑制できる摺動部材を簡便に提供することにある。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a sliding member that includes sliding contact particles having excellent peel resistance and that can suppress uneven wear.

本願発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、原料粒子の粒径範囲および、摺接粒子の粒子摺接面の面積と投影面積との比率を所定の範囲内とすることによって、耐剥離性に優れた摺接粒子を備えるとともに、偏摩耗を抑制できる摺動部材を簡便に提供できることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本願発明は、以下の発明を包含する。
〔1〕被摺動部材に対して相対的に摺動する摺動部材であって、
摺動部材基部と、
上記摺動部材基部の表面に散在して固定される摺接粒子と、を備え、
上記摺接粒子は、上記摺動部材基部の表面から突出しており、かつ、上記被摺動部材に摺接する粒子摺接面を有しており、
上記摺接粒子の原料粒子は、粒径範囲が当該原料粒子の平均粒子径の±20%以内であり、
上記摺接粒子は、上記粒子摺接面の面積と上記摺接粒子の投影部分の面積との比率が0.6以上0.95以下である、摺動部材。
〔2〕上記原料粒子の平均粒子径が、10μm以上250μm以下である、〔1〕に記載の摺動部材。
〔3〕上記摺接粒子は、埋め込み率が50%以上である、〔1〕または〔2〕に記載の摺動部材。
〔4〕上記摺接粒子が、ダイヤモンド、ダイヤモンドライクカーボン、立方晶窒化ホウ素、ガラス状カーボン、アルミナ、ジルコニア、炭化ケイ素、炭化ホウ素、炭化タングステン、窒化ケイ素、ケイ素化物、リン化物、および硫化物からなる群より選ばれる1種以上を含む、〔1〕から〔3〕のいずれかに記載の摺動部材。
〔5〕摺動部材基部の外表面上へ摺接粒子の原料粒子を固定する工程と、
上記原料粒子の平均粒子径に対して20%以上30%以下の高さ分、当該原料粒子を加工して粒子摺接面を形成する工程とを含み、
上記原料粒子は、粒径範囲が当該原料粒子の平均粒子径の±20%以内である、摺動部材の製造方法。
〔6〕上記原料粒子の平均粒子径が、10μm以上250μm以下である、〔5〕に記載の摺動部材の製造方法。
〔7〕上記摺接粒子が、ダイヤモンド、ダイヤモンドライクカーボン、立方晶窒化ホウ素、ガラス状カーボン、アルミナ、ジルコニア、炭化ケイ素、炭化ホウ素、炭化タングステン、窒化ケイ素、ケイ素化物、リン化物、および硫化物からなる群より選ばれる1種以上を含む、〔5〕または〔6〕に記載の摺動部材の製造方法。
The inventors of the present application have conducted intensive studies in order to achieve the above object, and as a result, the particle size range of the raw material particles and the ratio of the area of the particle sliding contact surface of the sliding particles to the projected area are within a predetermined range. As a result, the present inventors have found that a sliding member capable of suppressing uneven wear can be easily provided while providing sliding contact particles having excellent peeling resistance, and the present invention has been completed. That is, the present invention includes the following inventions.
[1] A sliding member that slides relatively to a sliding member,
A sliding member base,
Sliding contact particles scattered and fixed on the surface of the sliding member base,
The sliding contact particles protrude from the surface of the sliding member base, and have a particle sliding contact surface that slides on the sliding member,
The raw material particles of the sliding contact particles have a particle size range within ± 20% of the average particle size of the raw material particles,
The sliding member, wherein a ratio of an area of the particle sliding contact surface to an area of a projected portion of the sliding particle is 0.6 or more and 0.95 or less.
[2] The sliding member according to [1], wherein the average particle diameter of the raw material particles is 10 μm or more and 250 μm or less.
[3] The sliding member according to [1] or [2], wherein the sliding particles have an embedding rate of 50% or more.
[4] The sliding particles are made of diamond, diamond-like carbon, cubic boron nitride, glassy carbon, alumina, zirconia, silicon carbide, boron carbide, tungsten carbide, silicon nitride, silicide, phosphide, and sulfide. The sliding member according to any one of [1] to [3], including at least one selected from the group consisting of:
[5] fixing the raw material particles of the sliding contact particles on the outer surface of the sliding member base;
Processing the raw material particles by a height of 20% or more and 30% or less with respect to the average particle diameter of the raw material particles to form a particle sliding contact surface,
The method for producing a sliding member, wherein the raw material particles have a particle size range of ± 20% of the average particle size of the raw material particles.
[6] The method for manufacturing a sliding member according to [5], wherein the average particle diameter of the raw material particles is 10 μm or more and 250 μm or less.
[7] The above-mentioned sliding contact particles are composed of diamond, diamond-like carbon, cubic boron nitride, glassy carbon, alumina, zirconia, silicon carbide, boron carbide, tungsten carbide, silicon nitride, silicide, phosphide, and sulfide. The method for producing a sliding member according to [5] or [6], comprising at least one member selected from the group consisting of:

本発明の一態様の摺動部材によれば、耐剥離性に優れた摺接粒子を備えるとともに、偏摩耗を抑制できる摺動部材を提供することができる。   According to the sliding member of one embodiment of the present invention, it is possible to provide a sliding member including sliding contact particles having excellent peel resistance and capable of suppressing uneven wear.

本発明の一態様の製造方法によれば、摺接粒子を固定する条件を揃えると共に、摺接粒子にかかる圧力(面圧)を均一化することができる。そのため、耐剥離性に優れた摺接粒子を備え、かつ、一部の摺接粒子に過剰な負荷がかかることを低減できる摺動部材を提供することができる。それゆえ、偏摩耗を抑制できる摺動部材を提供することができる。   According to the manufacturing method of one embodiment of the present invention, the conditions for fixing the sliding particles can be made uniform, and the pressure (surface pressure) applied to the sliding particles can be made uniform. Therefore, it is possible to provide a sliding member including sliding contact particles having excellent peeling resistance and capable of reducing an excessive load applied to some of the sliding contact particles. Therefore, a sliding member capable of suppressing uneven wear can be provided.

本発明の一実施形態における軸・軸受構造及び摺動部材としての軸部材の、軸方向に垂直な断面を示す断面概略図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is the cross-sectional schematic which shows the cross section perpendicular | vertical to an axial direction of the shaft / bearing structure in one Embodiment of this invention, and the shaft member as a sliding member. 図2の(a)は、粒径範囲が広い原料粒子を用いて製造された摺動部材の断面概略図である。図2の(b)は、粒径範囲が狭い原料粒子を用いて製造された摺動部材の断面概略図である。図2は、説明を容易にするため原料粒子を球状粒子と近似して記載している。FIG. 2A is a schematic cross-sectional view of a sliding member manufactured using raw material particles having a wide particle size range. FIG. 2B is a schematic cross-sectional view of a sliding member manufactured using raw material particles having a narrow particle size range. FIG. 2 shows the raw material particles as approximate spherical particles for ease of explanation. 本発明の一実施形態に係る摺動部材の、外面側からみた構成を示す上面図である。FIG. 2 is a top view illustrating a configuration of the sliding member according to the embodiment of the present invention as viewed from an outer surface side. 本発明の一実施形態に係るポンプの縦断面図である。It is a longitudinal section of a pump concerning one embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態に係るポンプの滑り軸受装置の縦断面図である。It is a longitudinal section of a slide bearing device of a pump concerning one embodiment of the present invention.

本発明の一実施形態について以下に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。本発明は、以下に説明する各構成に限定されるものではなく、特許請求の範囲に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態や実施例にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態や実施例についても本発明の技術的範囲に含まれる。また、本明細書中に記載された学術文献及び特許文献の全てが、本明細書中において参考文献として援用される。また、本明細書において特記しない限り、数値範囲を表す「A〜B」は、「A以上B以下」を意図する。   An embodiment of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to this. The present invention is not limited to each configuration described below, and various modifications can be made within the scope shown in the claims, and technical means disclosed in different embodiments and examples, respectively. Embodiments and examples obtained by appropriately combining are also included in the technical scope of the present invention. In addition, all of the academic documents and patent documents described in this specification are incorporated herein by reference. Unless otherwise specified in this specification, “A to B” representing a numerical range means “A or more and B or less”.

〔1.摺動部材〕
被摺動部材に対して相対的に摺動する摺動部材として、スラリー液を排出可能なポンプに用いられる回転機構における軸・軸受構造の軸部材について説明する。なお、本実施形態では、摺動部材としての軸部材について説明するが、本発明の摺動部材は必ずしもこれに限らない。例えば、軸部材に対して相対的に摺動する軸・軸受構造における軸受部材にも適用することができる。また、例えば、スラスト軸受のような、被摺動部材に対して相対的に平面で摺動する摺動部材にも適用することができる。
[1. Sliding member)
A description will be given of a shaft member having a shaft / bearing structure in a rotating mechanism used in a pump capable of discharging a slurry liquid, as a sliding member that slides relatively to a member to be slid. In the present embodiment, a shaft member as a sliding member will be described, but the sliding member of the present invention is not necessarily limited to this. For example, the present invention can be applied to a bearing member in a shaft / bearing structure that slides relatively to a shaft member. Further, for example, the present invention can also be applied to a sliding member such as a thrust bearing that slides in a plane relative to a member to be slid.

軸・軸受構造1Aにおける、本実施形態の摺動部材としての軸部材10の構成について、図1に基づいて説明する。図1は、本発明の一実施形態における軸・軸受構造1Aの、軸方向に垂直な断面を示す断面概略図である。   The configuration of the shaft member 10 as the sliding member of the present embodiment in the shaft / bearing structure 1A will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a cross section perpendicular to the axial direction of a shaft / bearing structure 1A according to an embodiment of the present invention.

図1に示すように、軸・軸受構造1Aは、摺動部材としての軸部材10と、被摺動部材としての軸受部材11とからなっている。軸部材10は、円筒形状の軸スリーブである。尚、軸部材10は、軸スリーブに限定されるものではなく、軸であってもよい。一方、軸受部材11は、内部に軸部材10が収容される円筒形状を有しており、軸部材10を軸支する。   As shown in FIG. 1, the shaft / bearing structure 1A includes a shaft member 10 as a sliding member and a bearing member 11 as a slidable member. The shaft member 10 is a cylindrical shaft sleeve. The shaft member 10 is not limited to the shaft sleeve, but may be a shaft. On the other hand, the bearing member 11 has a cylindrical shape in which the shaft member 10 is housed, and supports the shaft member 10.

軸受部材11は、例えば、硬質のセラミックスまたは超硬合金等からなり、珪砂の硬度と同等以上であるため、スラリー液に含まれる珪砂等に対する耐摩耗性に優れる。さらに、硬質のセラミックスである、共有結合性またはイオン結合性のセラミックスは、スラリー液中にまれに含まれる金属くず等の金属成分との親和性が小さいため、軸受部材11へのスラリー液に含まれる金属くず等の金属成分の付着を防ぎやすい。なお、軸受部材11の表面に、摩擦係数を低く、もしくは耐摩耗性を向上するための膜を形成するような加工がされていても良い。   The bearing member 11 is made of, for example, a hard ceramic or a cemented carbide and has a hardness equal to or higher than that of silica sand, and thus has excellent wear resistance to silica sand and the like contained in the slurry liquid. Further, the covalent or ionic bonding ceramics, which are hard ceramics, have a low affinity for metal components such as metal scraps rarely contained in the slurry liquid, and therefore are contained in the slurry liquid to the bearing member 11. It is easy to prevent adhesion of metal components such as scrap metal. The surface of the bearing member 11 may be processed to form a film for lowering the friction coefficient or improving the wear resistance.

軸部材10は、図1に示すように、少なくとも、摺動部材基部10aと、上記摺動部材基部10aの表面に散在して固定される摺接粒子10bとを備える。上記摺接粒子10bは、上記摺動部材基部10aの表面から突出している。なお、図1においては、摺接粒子10bのうち、一部のみを図示している。摺接粒子10bは、摺接粒子の原料粒子(以下、「原料粒子」とも称する)が摺動部材基部に固定され、加工されることにより形成され、粒子摺接面12を有している。すなわち、「原料粒子」とは、摺動部材基部に固定する前の摺接粒子を意味する。また、粒子摺接面12によって、軸部材10の軸を中心とした円周面である部材間摺接面13が形成される。   As shown in FIG. 1, the shaft member 10 includes at least a sliding member base 10a and sliding contact particles 10b scattered and fixed on the surface of the sliding member base 10a. The sliding contact particles 10b protrude from the surface of the sliding member base 10a. In FIG. 1, only a part of the sliding contact particles 10b is shown. The sliding contact particles 10 b are formed by fixing and processing raw material particles of sliding contact particles (hereinafter, also referred to as “raw material particles”) at the base of the sliding member, and have a particle sliding contact surface 12. That is, “raw material particles” mean sliding particles before being fixed to the base of the sliding member. The particle sliding contact surface 12 forms a member sliding contact surface 13 which is a circumferential surface around the axis of the shaft member 10.

摺接粒子10bは、ダイヤモンド、ダイヤモンドライクカーボン(Diamond-like Carbon、以下「DLC」と称する)、立方晶窒化ホウ素、ガラス状カーボン、アルミナ、ジルコニア、炭化ケイ素、炭化ホウ素、炭化タングステン、窒化ケイ素、ケイ素化物、リン化物、硫化物からなる群より選ばれる1種以上を含むことが好ましい。これらは単結晶粒子であってもよく、多結晶粒子であってもよく、焼結体であってもよい。すなわち、上記ダイヤモンドには、ダイヤモンドの単結晶粒子、ダイヤモンドの合成多結晶粒子、ダイヤモンド焼結体を粉砕した粒子も含まれる。また、上記DLCには、バインダーを使用してDLC粉末を造粒したものや、DLC粉末の焼結体を粉砕した粒子も含まれる。また、セラミックスグリーンシートを裁断後焼成または焼成後裁断して作製した粒子や、アルミナ等のセラミックス粉末を固めた成形粒子も含まれる。なお、炭化タングステンとしては、WC、W2C、およびWCとW2Cとの複合材が挙げられる。   The sliding contact particles 10b include diamond, diamond-like carbon (hereinafter referred to as “DLC”), cubic boron nitride, glassy carbon, alumina, zirconia, silicon carbide, boron carbide, tungsten carbide, silicon nitride, It is preferable to include at least one selected from the group consisting of silicides, phosphides, and sulfides. These may be single crystal particles, polycrystalline particles, or sintered bodies. That is, the diamond includes single crystal particles of diamond, synthetic polycrystalline particles of diamond, and particles obtained by grinding a diamond sintered body. In addition, the DLC includes a granulated DLC powder using a binder and particles obtained by pulverizing a sintered body of the DLC powder. Also included are particles produced by cutting and firing or cutting after firing the ceramic green sheet, and molded particles obtained by solidifying ceramic powder such as alumina. The tungsten carbide includes WC, W2C, and a composite material of WC and W2C.

摺接粒子10bの原料粒子の平均粒子径は、10μm以上250μm以下であることが好ましい。より好ましくは20μm以上200μm以下であり、さらに好ましくは30μm以上160μm以下であり、特に好ましくは50μm以上125μm未満である。平均粒子径は、レーザー回折式粒子径分布測定装置:株式会社島津製作所、SALD−2100により計測されるD50値である。   The average particle diameter of the raw particles of the sliding contact particles 10b is preferably 10 μm or more and 250 μm or less. It is more preferably from 20 μm to 200 μm, further preferably from 30 μm to 160 μm, and particularly preferably from 50 μm to less than 125 μm. The average particle size is a D50 value measured by a laser diffraction type particle size distribution analyzer: SALD-2100, Shimadzu Corporation.

本明細書中、原料粒子の「粒径範囲」とは、摺動部材基部の表面に散在して固定されるすべての原料粒子において最小径粒子と最大径粒子とで示される粒子径の範囲である。原料粒子の最小粒子径と最大粒子径とは、レーザー回折式粒子径分布測定装置:株式会社島津製作所、SALD−2100により計測される。摺接粒子10bの原料粒子の粒径範囲は、当該原料粒子の平均粒子径の±20%以内である。例えば、「原料粒子の粒径範囲が、当該原料粒子の平均粒子径の±20%以内である」とは、原料粒子の粒子径が、当該原料粒子の平均粒子径の0.8倍以上、当該原料粒子の平均粒子径の1.2倍以下であることを意味する。原料粒子の粒径範囲が上記範囲内であることが好ましい理由を、図2を用いて説明する。   In the present specification, the `` particle size range '' of the raw material particles is a range of the particle diameters represented by the minimum diameter particles and the maximum diameter particles in all the raw material particles scattered and fixed on the surface of the sliding member base. is there. The minimum particle size and the maximum particle size of the raw material particles are measured by a laser diffraction type particle size distribution measuring device: SALD-2100, Shimadzu Corporation. The particle size range of the raw material particles of the sliding contact particles 10b is within ± 20% of the average particle size of the raw material particles. For example, "the particle size range of the raw material particles is within ± 20% of the average particle size of the raw material particles" means that the particle size of the raw material particles is at least 0.8 times the average particle size of the raw material particles, It means that the average particle diameter of the raw material particles is 1.2 times or less. The reason why the particle size range of the raw material particles is preferably within the above range will be described with reference to FIG.

図2の(a)は、粒径範囲が広い原料粒子を用いて製造された摺動部材の断面概略図を示す。図2の(b)は、粒径範囲が狭い原料粒子を用いて、従来の方法で製造された摺動部材の断面概略図を示す。なお、図2では、原料粒子を球状粒子と近似して記載している。   FIG. 2A is a schematic cross-sectional view of a sliding member manufactured using raw material particles having a wide particle size range. FIG. 2B is a schematic cross-sectional view of a sliding member manufactured by a conventional method using raw material particles having a narrow particle size range. In FIG. 2, the raw material particles are described as being approximately spherical particles.

図2の(a)において、例えば、原料粒子が、平均粒子径が100μm、粒径範囲が上記平均粒子径の±50%である場合を考える。最大粒子径を有する原料粒子(以下、「最大径粒子」とも称する)10bは、粒子径が150μmであり、平均粒子径を有する原料粒子(以下、「平均径粒子」)10bは、粒子径が100μmであり、最小粒子径を有する原料粒子(以下、「最小径粒子」とも称する)10bは、粒子径が50μmである。平均粒子径の60%の高さが埋まるようにメッキを施す(すなわち、メッキ厚さを60μmとする)場合、最大径粒子10bは、その粒子径の40%の高さしかメッキによって埋め込まれていないため、耐剥離性に劣る。一方で、最小径粒子10bは、メッキに完全に埋まり、粒子摺接面を形成できない。このように、粒径範囲が広い原料粒子を用いると、摺接粒子ごとの摺接面積を所定の範囲に揃えることが困難である。 In FIG. 2A, for example, consider a case where the raw material particles have an average particle size of 100 μm and a particle size range of ± 50% of the average particle size. Raw material particles having a maximum particle diameter (hereinafter, also referred to as "maximum diameter particles") 10b 1 is 150μm particle size, the raw material particles having an average particle size (hereinafter, "average diameter particle") 10b 2, the particles diameter of 100 [mu] m, the raw material particles having a minimum particle size (hereinafter, also referred to as "minimum diameter particles") 10b 3 is a particle size is 50 [mu] m. The average plating as to fill 60% of the height of the particle size is subjected (i.e., plating thickness and a 60 [mu] m), the maximum size particles 10b 1 is 40% of the height of the particle size is only embedded by plating Not so, the peel resistance is poor. On the other hand, the minimum diameter particles 10b 3 is completely filled in the plating, it can not form particles sliding surface. As described above, when the raw material particles having a large particle size range are used, it is difficult to make the sliding contact area of each sliding contact particle within a predetermined range.

一方、図2(b)において、例えば、原料粒子が、平均粒子径が100μm、粒径範囲が上記平均粒子径の±20%の場合を考える。最大径粒子10bは、粒子径が120μmであり、平均径粒子10bは、粒子径が100μmであり、最小径粒子10bは、粒子径が80μmである。平均粒子径の60%の高さが埋まるようにメッキを施す(すなわち、メッキ厚さを60μmとする)場合、最大径粒子10bは、その粒子径の50%の高さがメッキによって固定され、最小径粒子10bも、その粒子径の75%の高さがメッキによって固定される。このように、粒径範囲が狭い原料粒子を用いると、摺接粒子ごとの摺接面積を所定の範囲に揃えやすくなり、原料粒子を固定する際に当該粒子の固定状態(メッキであれば所定の埋め込み率)を確保することが容易となる。さらに、摺接粒子にかかる面圧を揃えることができるため、耐剥離性に優れた摺接粒子により粒子摺接面を形成することができる。 On the other hand, in FIG. 2B, for example, consider a case where the raw material particles have an average particle diameter of 100 μm and a particle size range of ± 20% of the average particle diameter. Maximum diameter particles 10b 4 is 120μm particle size, the average diameter particle 10b 5 is 100μm particle size, minimum diameter particles 10b 6, the particle size is 80 [mu] m. If plating as 60% of the height of the average particle diameter is filled to (i.e., plating thickness and a 60 [mu] m), the maximum diameter particles 10b 4 50% of the height of the particle size is fixed by plating minimum diameter particles 10b 6 also 75% of the height of the particle size is fixed by plating. As described above, when the raw material particles having a narrow particle size range are used, the sliding contact area of each sliding contact particle can be easily adjusted to a predetermined range. Embedded ratio) can be easily ensured. Further, since the surface pressure applied to the sliding contact particles can be made uniform, the particle sliding contact surface can be formed by the sliding contact particles having excellent peel resistance.

摺接粒子ごとの摺接面積の大きさを揃え、粒子摺接面の面積(以下、摺接面積とも称する)と摺接粒子の投影部分の面積(以下、投影面積とも称する)との比率(摺接面積/投影面積)を、0.6以上0.95以下とすれば、摺動部材が被摺動部材と摺接するときの、被摺動部材に対する面圧を所定の範囲内とすることができる。これにより、摺動部材と被摺動部材とが摺接するときの摺接粒子の偏摩耗を抑えることができ、かつ、被摺動部材の摩耗を抑えることができる。また、被摺動部材の摩耗が著しい場合には、被摺動部材は偏摩耗となるが、上記構成であれば、当該偏摩耗も抑えることができる。   The size of the sliding contact area for each sliding contact particle is made uniform, and the ratio of the area of the particle sliding contact surface (hereinafter also referred to as the sliding contact area) to the area of the projected portion of the sliding contact particle (hereinafter also referred to as the projected area) ( If (sliding contact area / projected area) is 0.6 or more and 0.95 or less, the surface pressure on the sliding member when the sliding member slides on the sliding member is within a predetermined range. Can be. Thereby, it is possible to suppress uneven wear of the sliding contact particles when the sliding member and the sliding member are in sliding contact with each other, and it is possible to suppress the wear of the sliding member. In addition, when the sliding member is significantly worn, the sliding member is unevenly worn. With the above configuration, the uneven wearing can be suppressed.

摺接面積と投影面積との比率は、摺動部材基部10aの単位表面における、摺接面積と投影面積との比率の平均値を意図する。具体的には、2以上の摺動部材基部10aの単位表面において、摺接面積の和と投影面積の和との比率を計算し、それらに基づき算出された平均値である。以下、摺接面積および投影面積について、図3を用いて説明する。   The ratio between the sliding contact area and the projected area is intended to mean the average value of the ratio between the sliding contact area and the projected area on the unit surface of the sliding member base 10a. Specifically, on the unit surface of two or more sliding member bases 10a, the ratio of the sum of the sliding contact areas to the sum of the projected areas is calculated, and the average value is calculated based on the ratio. Hereinafter, the sliding contact area and the projected area will be described with reference to FIG.

「粒子摺接面の面積(摺接面積)」とは、摺動部材基部10aの単位表面における、粒子摺接面12の外周によって囲まれる部分の面積の和を意図する。また、「摺接粒子の投影部分の面積(投影面積)」とは、摺動部材基部10aの単位表面における、投影部分31の面積の和を意図する。投影部分とは、摺動部材基部の表面の垂直方向から見たときの摺接粒子の外周で囲まれる部分である。例えば、摺接粒子が直方体である場合は、摺接面積と投影面積は同じ(すなわち、摺接面積/投影面積=1)である。摺接面積および投影面積は、摺動部材基部10aの単位表面をレーザー顕微鏡で観察することによって得た顕微鏡写真に基づいて測定する。なお、顕微鏡観察範囲において単位面積からはみ出ている摺接粒子は除外して測定すればよい。また、粒子摺接面12の外周と投影部分31の外周とは、一部が重なった状態であってもよい。   The “area of the particle sliding contact surface (sliding contact area)” is intended to mean the sum of the areas of the unit surfaces of the sliding member base 10a surrounded by the outer periphery of the particle sliding contact surface 12. The “area of the projected portion of the sliding contact particle (projected area)” means the sum of the areas of the projected portion 31 on the unit surface of the sliding member base 10a. The projection portion is a portion surrounded by the outer periphery of the sliding contact particle when viewed from the vertical direction on the surface of the sliding member base. For example, when the sliding contact particle is a rectangular parallelepiped, the sliding contact area and the projected area are the same (that is, the sliding contact area / projected area = 1). The sliding contact area and the projected area are measured based on a photomicrograph obtained by observing the unit surface of the sliding member base 10a with a laser microscope. Note that the measurement may be performed by excluding the sliding particles protruding from the unit area in the microscope observation range. Further, the outer periphery of the particle sliding contact surface 12 and the outer periphery of the projection portion 31 may be partially overlapped.

摺動部材基部10aの単位表面における、摺接面積と投影面積との比率の平均値を得るときに選択される摺動部材基部10aの単位表面は、少なくとも2つ以上であり、10以上であることが好ましく、20以上であることがより好ましく、40以上であることがさらに好ましく、80以上であることが特に好ましい。また、粒子摺接面12の面積の和の平均値を得るときに選択される摺動部材基部10aの単位表面は、ランダムに、かつ、摺動部材基部10aの全体から偏りなく選択されることが好ましい。また、上記単位表面の大きさは、特に限定されず、摺動部材基部10aの大きさ等によって適宜設定される。   The unit surface of the sliding member base 10a selected when obtaining the average value of the ratio between the sliding contact area and the projected area on the unit surface of the sliding member base 10a is at least two or more, and is 10 or more. Is preferably 20 or more, more preferably 40 or more, and particularly preferably 80 or more. Also, the unit surface of the sliding member base 10a selected when obtaining the average value of the sum of the areas of the particle sliding contact surfaces 12 is selected at random and without bias from the entire sliding member base 10a. Is preferred. The size of the unit surface is not particularly limited, and is appropriately set according to the size of the sliding member base 10a.

例えば、摺動部材基部10aがφ85mm×100mmLの軸スリーブの場合には、粒子摺接面12の面積の和の平均値を得るときに選択される摺動部材基部10aの単位表面は、円周方向から10箇所、かつ軸方向から8箇所、合計80箇所(10×8)が選択され得る。また、このとき、摺動部材基部10aの単位表面は、1mm×1mmの大きさであり得る。   For example, when the sliding member base 10a is a shaft sleeve of φ85 mm × 100 mmL, the unit surface of the sliding member base 10a selected when obtaining the average value of the sum of the areas of the particle sliding contact surfaces 12 is a circle. A total of 80 locations (10 × 8), 10 locations from the direction and 8 locations from the axial direction, can be selected. At this time, the unit surface of the sliding member base 10a may be 1 mm × 1 mm.

摺動部材基部10aは、基体からなる構成としてもよい。基体は、SUS304等の一般的に用いられる材質によって形成されていてもよく、樹脂で形成されていてもよい。また、摺動部材基部10aの表面形状は、平坦であってもよく、凹凸構造を有していてもよく、曲面を有していてもよい。   The sliding member base 10a may be configured of a base. The base may be formed of a generally used material such as SUS304 or a resin. Further, the surface shape of the sliding member base 10a may be flat, may have an uneven structure, or may have a curved surface.

また、上記摺動部材基部10aは、基体と、上記基体の表面に形成された金属膜やロウ材とを備えていてもよい。後述するように、摺動部材基部10aの外表面上への摺接粒子10bの原料粒子の固定は、電着、ロウ付け、スパークプラズマ焼結(Spark Plasma Sintering)(以下、SPSという)を用いて行うことができ、金属膜やロウ材は、摺接粒子を形成するための固定部材として機能する。さらに、金属膜やロウ材は、基体が他の粒子と接触することにより摩耗する事態を防止することができる。   Further, the sliding member base 10a may include a base and a metal film or a brazing material formed on the surface of the base. As will be described later, the fixing of the raw material particles of the sliding contact particles 10b on the outer surface of the sliding member base 10a uses electrodeposition, brazing, and Spark Plasma Sintering (hereinafter, referred to as SPS). The metal film or the brazing material functions as a fixing member for forming the sliding contact particles. Further, the metal film and the brazing material can prevent a situation in which the base material is worn due to contact with other particles.

摺動部材基部10aの表面から摺接粒子10bの先端までの平均高さ(以下、「突出高さ」と称する)は、0.8μm以上であることが好ましく、1.0μm以上であることがより好ましい。なお、突出高さにおける摺接粒子10bの先端とは、上述の加工を行った後の摺接粒子10bの先端、すなわち粒子摺接面12を意図する。   The average height (hereinafter, referred to as “projection height”) from the surface of the sliding member base 10a to the tip of the sliding contact particle 10b is preferably 0.8 μm or more, and more preferably 1.0 μm or more. More preferred. Note that the leading end of the sliding contact particle 10b at the protruding height is intended to be the leading end of the sliding contact particle 10b after the above-described processing, that is, the particle sliding contact surface 12.

また、突出高さは、摺接粒子10bの原料粒子の平均粒子径の40%以下であることが好ましく、30%以下であることがより好ましい。すなわち、例えば、原料粒子の平均粒子径が150μmであれば、突出高さは、60μm以下であることが好ましく、45μm以下であることがより好ましい。突出高さが上記構成であれば、摺接粒子10bの固定強度が大きくなりやすい。   Further, the protrusion height is preferably 40% or less, more preferably 30% or less, of the average particle diameter of the raw material particles of the sliding contact particles 10b. That is, for example, when the average particle diameter of the raw material particles is 150 μm, the protrusion height is preferably 60 μm or less, and more preferably 45 μm or less. If the protruding height is the above configuration, the fixing strength of the sliding contact particles 10b tends to increase.

摺接粒子10bの埋め込み率は、摺接粒子10bの原料粒子の粒子径の50%以上であることが好ましい。埋め込み率が上記構成であれば、摺接粒子10bの固定強度が大きくなりやすい。なお、埋め込み率とは、摺接粒子10bの高さのうち、摺動部材基部10aに埋め込まれている部分の高さが、摺接粒子10bの原料粒子の粒子径に対して占める割合を意図する。摺接粒子の原料粒子の粒子径とは、摺動部材基部に固定する前の個々の摺接粒子の長径を意図する。上記粒子径は、レーザー回折式粒子径分布測定装置:株式会社島津製作所、SALD−2100により計測される。摺動部材基部10aに埋め込まれている部分の高さは、例えば、図1において、摺接粒子10bの、摺動部材基部10aに埋め込まれている部分の最深部に、摺動部材基部10aの表面から垂線を下した場合に、当該垂線の長さを測定することによって求めることができる。なお、上記「摺動部材基部10aの表面」とは、図1において、摺動部材基部10aが有する面のうち、部材間摺接面13に平行であって、かつ対向している面をいう。   The embedding rate of the sliding particles 10b is preferably at least 50% of the particle diameter of the raw material particles of the sliding particles 10b. If the embedding ratio is the above-described configuration, the fixing strength of the sliding contact particles 10b tends to increase. The embedding ratio is intended to mean the ratio of the height of the portion embedded in the sliding member base 10a to the particle diameter of the raw material particles of the sliding contact particles 10b in the height of the sliding contact particles 10b. I do. The particle diameter of the raw material particles of the sliding contact particles means the major diameter of each sliding contact particle before being fixed to the base of the sliding member. The particle size is measured by a laser diffraction type particle size distribution measuring device: SALD-2100, Shimadzu Corporation. The height of the portion embedded in the sliding member base 10a is, for example, the deepest portion of the portion of the sliding contact particle 10b embedded in the sliding member base 10a in FIG. When a perpendicular is dropped from the surface, it can be obtained by measuring the length of the perpendicular. Note that the “surface of the sliding member base 10a” in FIG. 1 refers to a surface of the sliding member base 10a that is parallel to and opposed to the inter-member sliding contact surface 13. .

摺接粒子を軸部材の外周面に固定する場合、粒子摺接面12、つまり、軸受部材11側の端部は、軸部材10の軸方向から見たときに、軸部材10の軸を中心とした同一円周上にある。すなわち、粒子摺接面12によって、図1に示すように、軸部材10の軸を中心とした円周面である部材間摺接面13が形成される。該部材間摺接面13は、軸部材10が回転するときに、被摺動部材である軸受部材11と摺接する面である。   When the sliding particles are fixed to the outer peripheral surface of the shaft member, the particle sliding contact surface 12, that is, the end on the bearing member 11 side is centered on the axis of the shaft member 10 when viewed from the axial direction of the shaft member 10. And on the same circumference. That is, as shown in FIG. 1, the inter-member sliding contact surface 13 which is a circumferential surface around the axis of the shaft member 10 is formed by the particle sliding contact surface 12. The inter-member sliding contact surface 13 is a surface that comes into sliding contact with the bearing member 11 that is a slidable member when the shaft member 10 rotates.

スラスト軸受において摺接粒子10bを固定する場合、各摺接粒子10bの先端、つまり、軸受部材11側の端部は、摺動部材基部10aの表面の垂直方向から見たときに、同一平面状にある。   When the sliding particles 10b are fixed in the thrust bearing, the tips of the sliding particles 10b, that is, the ends on the bearing member 11 side are in the same plane when viewed from the vertical direction of the surface of the sliding member base 10a. It is in.

上記構成によれば、軸部材10が回転する際に、軸受部材11と摺接するのは摺接粒子10bのみとなる。したがって、軸部材10は、摩擦係数が低く、摩擦による熱の発生が抑えられたものとなるため、耐久性がより向上したものとなる。   According to the above configuration, when the shaft member 10 rotates, only the sliding contact particles 10b are in sliding contact with the bearing member 11. Therefore, the shaft member 10 has a low coefficient of friction and suppresses the generation of heat due to friction, so that the durability is further improved.

<被膜を有する摺接粒子>
本発明の一実施形態において、上記摺接粒子は、少なくとも一部が被膜にて覆われていてもよい。上記の構成によれば、摺接粒子の粒子摺接面及び/又は粒子摺接面周辺部の角部を被膜によって表面が円滑な面となるように覆うことができ、摺動部材の摺接面を円滑な面にすることができる。
<Sliding particles with coating>
In one embodiment of the present invention, the sliding particles may be at least partially covered with a coating. According to the above configuration, the sliding surface of the sliding particles and / or the corners around the sliding surface of the particles can be covered with the coating so that the surface becomes a smooth surface. The surface can be made smooth.

上記被膜は、少なくとも上記摺接粒子の摺接面周辺部の角部を覆い、ダイヤモンドライクカーボン膜又はガラス状カーボン膜からなる構成としてもよい。上記の構成によれば、軸部材の摺接面をさらに円滑な面にすることができる。   The coating may cover at least a corner portion of a peripheral portion of the sliding contact surface of the sliding contact particles, and may be formed of a diamond-like carbon film or a glassy carbon film. According to the above configuration, the sliding surface of the shaft member can be made more smooth.

上記被膜は、摺接面周辺部の周りを覆うダイヤモンドライクカーボン膜又はガラス状カーボン膜からなり、上記摺接面周辺部から側面に至る角部に対応する部分の上記被膜の外面が曲面になっている構成としてもよい。   The coating is formed of a diamond-like carbon film or a glassy carbon film covering the periphery of the sliding contact surface, and the outer surface of the coating at a portion corresponding to a corner from the peripheral portion of the sliding contact surface to the side surface has a curved surface. May be adopted.

上記構成によれば、ダイヤモンドライクカーボン膜又はガラス状カーボン膜からなる被膜は、摺接粒子の摺接面周辺部の周りを覆い、かつ摺接粒子の摺接面周辺部から側面に至る角部に対応する部分の外面が曲面になっている。したがって、摺動部材の摺接面の円滑性をさらに向上し、角部による被摺動部材への攻撃性を緩和することができる。   According to the above configuration, the diamond-like carbon film or the glass-like carbon film covers the periphery of the sliding surface of the sliding particles, and the corners from the peripheral portion of the sliding surface to the side surfaces of the sliding particles. The outer surface of the portion corresponding to is curved. Therefore, the smoothness of the sliding contact surface of the sliding member can be further improved, and the aggressiveness of the corner to the slidable member can be reduced.

上記被膜の膜厚は、被膜の効果を十分に発揮させるために、5μm〜10μmとすることが好ましい。   The thickness of the coating is preferably 5 μm to 10 μm in order to sufficiently exert the effect of the coating.

摺接粒子の少なくとも一部が被膜にて被覆されている場合であり、かつ、摺接粒子の先端、すなわち粒子摺接面の少なくとも一部が被膜にて被覆されている場合には、摺接粒子の突出高さは、固定層の表面から当該被膜の先端までの高さとなる。   In the case where at least a part of the sliding particles is covered with the coating, and when the tip of the sliding particles, that is, at least a part of the particle sliding surface is covered with the coating, the sliding contact is performed. The protrusion height of the particles is the height from the surface of the fixed layer to the tip of the coating.

<被膜の形成方法>
摺接粒子の少なくとも一部がダイヤモンドライクカーボン膜(以下、DLC膜とも称する)にて被覆されている摺接粒子は、摺接粒子にDLC膜をコーティングすることにより調整することができる。DLC膜のコーティング方法としては、真空あるいは大気圧におけるプラズマを用いた蒸着技術による手法、および有機溶媒などの液中から炭素膜を電気的に析出させる手法などが知られている。現在は、真空装置を用いた蒸着法によるコーティング法が主流である。
<Method of forming coating>
The sliding particles in which at least a part of the sliding particles are coated with a diamond-like carbon film (hereinafter, also referred to as a DLC film) can be adjusted by coating the sliding particles with a DLC film. Known methods for coating the DLC film include a method using a deposition technique using plasma at a vacuum or atmospheric pressure, and a method for electrically depositing a carbon film from a liquid such as an organic solvent. At present, a coating method by a vapor deposition method using a vacuum device is mainly used.

真空装置を用いた蒸着法によるDLC膜のコーティング方法は、炭素供給源として固体炭素を用いる手法と炭化水素系の原料を用いる手法とに大別される。固体炭素(グラファイト)を炭素供給源とする手法としては、アークイオンプレーティング、非平衡マグネトロンスパッタリングおよびフィルタードアークイオンプレーティングが知られている。また、炭化水素系ガス(CH、C、C等)を炭素供給源とする手法としては、高周波プラズマCVD、パルス方式直流プラズマCVD、イオン化蒸着およびプラズマイオン注入・成膜が知られている。 A method of coating a DLC film by a vapor deposition method using a vacuum device is roughly classified into a method using solid carbon as a carbon supply source and a method using a hydrocarbon-based material. As a method of using solid carbon (graphite) as a carbon source, arc ion plating, non-equilibrium magnetron sputtering, and filtered arc ion plating are known. As a method of using a hydrocarbon-based gas (CH 4 , C 6 H 6 , C 2 H 2, etc.) as a carbon supply source, high-frequency plasma CVD, pulse DC plasma CVD, ionization deposition, plasma ion implantation / film formation. It has been known.

摺接粒子の少なくとも一部がガラス状カーボン膜にて被覆されている摺接粒子は、摺接粒子に熱硬化性樹脂を主成分とするガラス状カーボン用樹脂組成物を塗布し、硬化した後、不活性雰囲気中または真空下で焼成炭化することにより調整することができる。   The sliding contact particles, in which at least a part of the sliding contact particles are coated with the glassy carbon film, are obtained by applying a glass-like carbon resin composition having a thermosetting resin as a main component to the sliding contact particles, and then curing. It can be adjusted by firing and carbonizing in an inert atmosphere or under vacuum.

〔2.摺動部材の製造方法〕
本発明の一実施形態に係る摺動部材の製造方法(以下、単に「製造方法」とも称する)は、摺動部材基部の外表面上へ摺接粒子の原料粒子を固定する工程と、上記原料粒子の平均粒子径に対して20%以上30%以下の高さ分、当該原料粒子を加工して粒子摺接面を形成する工程とを含み、上記原料粒子は、粒径範囲が当該原料粒子の平均粒子径の±20%以内である。上記構成によれば、原料粒子の粒子径が揃っているため、耐剥離性に優れた摺接粒子を備える摺動部材を提供することができる。また、摺接粒子ごとの摺接面積および埋め込み率を揃えることができるため、摺動部材が被摺動部材と摺接するときの、被摺動部材に対する面圧が所定の範囲内となる。これにより、摺動部材と被摺動部材とが摺接するときの摺接粒子の偏摩耗を抑えることができ、かつ、被摺動部材の摩耗を抑えることができる。
[2. Manufacturing method of sliding member]
A method for manufacturing a sliding member according to an embodiment of the present invention (hereinafter, also simply referred to as “manufacturing method”) includes a step of fixing raw material particles of sliding contact particles on an outer surface of a base of the sliding member; Processing the raw material particles by a height of 20% or more and 30% or less with respect to the average particle diameter of the particles to form a particle sliding contact surface. Is within ± 20% of the average particle size. According to the above configuration, since the particle diameters of the raw material particles are uniform, it is possible to provide a sliding member including sliding contact particles having excellent peel resistance. Further, since the sliding contact area and the embedding ratio of each sliding contact particle can be made uniform, the surface pressure on the sliding member when the sliding member comes into sliding contact with the sliding member is within a predetermined range. Thereby, it is possible to suppress uneven wear of the sliding contact particles when the sliding member and the sliding member are in sliding contact with each other, and it is possible to suppress the wear of the sliding member.

<摺接粒子の原料粒子の固定方法>
本発明の一実施形態における、摺動部材基部10aの外表面上への摺接粒子10bの原料粒子の固定は、電着、ロウ付け、スパークプラズマ焼結(Spark Plasma Sintering)(以下、SPSという)を用いて行うことができる。各固定方法について、以下に説明する。
<Method for fixing raw particles of sliding contact particles>
In one embodiment of the present invention, the fixing of the raw material particles of the sliding contact particles 10b on the outer surface of the sliding member base 10a includes electrodeposition, brazing, and spark plasma sintering (SPS). ) Can be performed. Each fixing method will be described below.

(電着を用いた固定方法)
摺動部材基部10aの表面上への摺接粒子10bの原料粒子の固定は、周知の電着の方法で行うことができる。例えば、摺動部材基部10aの表面上に、摺接粒子10bの原料粒子を配置する。その後、所望の埋め込み率となるようにニッケルメッキ液を流し込み、ニッケルメッキ液中で通電する。摺動部材基部10aの表面にニッケルメッキが施され、それに伴って、摺接粒子10bの原料粒子がニッケルメッキ膜にある程度埋め込まれ、摺動部材基部10a上に固定される。
(Fixing method using electrodeposition)
The fixing of the raw material particles of the sliding contact particles 10b on the surface of the sliding member base 10a can be performed by a well-known electrodeposition method. For example, raw material particles of the sliding contact particles 10b are arranged on the surface of the sliding member base 10a. Thereafter, a nickel plating solution is poured so as to obtain a desired filling ratio, and current is supplied in the nickel plating solution. Nickel plating is applied to the surface of the sliding member base 10a, and accordingly, raw material particles of the sliding contact particles 10b are embedded to some extent in the nickel plating film and fixed on the sliding member base 10a.

または、例えば、外表面以外の面をマスキングした摺動部材基部10aを、摺接粒子10bの原料粒子を含むニッケルメッキ液の中に配置する。その後、電解法によりニッケルメッキ液中で通電することにより、摺動部材基部10aの外表面にニッケルメッキ膜が施されるとともに、ニッケルメッキ液中の摺接粒子10bの原料粒子がニッケルメッキ膜にある程度埋め込まれ、摺動部材基部10a上に固定される。尚、電着に用いるメッキ液としては、他の金属や合金によるメッキ液を用いてもよい。   Alternatively, for example, the sliding member base 10a whose surface other than the outer surface is masked is arranged in a nickel plating solution containing raw material particles of the sliding contact particles 10b. Thereafter, by energizing in a nickel plating solution by an electrolytic method, a nickel plating film is formed on the outer surface of the sliding member base 10a, and the raw material particles of the sliding contact particles 10b in the nickel plating solution are formed on the nickel plating film. It is embedded to some extent and fixed on the sliding member base 10a. As a plating solution used for electrodeposition, a plating solution made of another metal or alloy may be used.

(ロウ付けによる固定方法)
摺動部材基部10aの表面上への摺接粒子10bの原料粒子の固定は、周知のロウ付けにより行うことができる。
(Fixing method by brazing)
The fixing of the raw material particles of the sliding contact particles 10b on the surface of the sliding member base 10a can be performed by well-known brazing.

例えば、まず、摺動部材基部10aの表面上に、摺接粒子10bの原料粒子を配置する。次に、摺接粒子10bの原料粒子をニッケルメッキ等によって点付固定する。その後、Ni-Cr-B-SiまたはCu-Ag-In-Ti等からなるロウ材粉末のペーストを塗布し、ロウ材の融点以上に加熱する。これにより、摺接粒子10bの原料粒子がロウ材に埋め込まれ、摺動部材基部10a上に固定される。   For example, first, the raw material particles of the sliding contact particles 10b are arranged on the surface of the sliding member base 10a. Next, the raw material particles of the sliding contact particles 10b are spotted and fixed by nickel plating or the like. Thereafter, a paste of a brazing material powder made of Ni-Cr-B-Si or Cu-Ag-In-Ti or the like is applied and heated to a temperature equal to or higher than the melting point of the brazing material. Thereby, the raw material particles of the sliding contact particles 10b are embedded in the brazing material and fixed on the sliding member base 10a.

(SPSを用いた固定方法)
まず、摺動部材基部10a上に摺接粒子10bの原料粒子を配置し、その後SPS装置にて、例えば950℃、30MPaの条件下で加圧成形を行う。摺動部材基部10a上に保持されなかった他の摺接粒子10bの原料粒子は、除圧後に除去することによって摺接粒子10bを摺動部材基部10a上に固定することができる。
(Fixing method using SPS)
First, the raw material particles of the sliding contact particles 10b are arranged on the sliding member base 10a, and thereafter, pressure molding is performed by an SPS device at, for example, 950 ° C. and 30 MPa. The raw material particles of the other sliding contact particles 10b that are not held on the sliding member base 10a can be fixed on the sliding member base 10a by removing after removing the pressure.

<摺接粒子の原料粒子の加工方法>
本発明の一実施形態において、摺動部材基部10a上に固定された摺接粒子10bの原料粒子は、原料粒子の平均粒子径に対して20%以上30%以下の高さ分、加工され、粒子摺接面12が形成される。
<Processing method of raw particles of sliding contact particles>
In one embodiment of the present invention, the raw material particles of the sliding contact particles 10b fixed on the sliding member base 10a are processed by a height of 20% or more and 30% or less with respect to the average particle diameter of the raw material particles, A particle sliding contact surface 12 is formed.

摺接粒子10bを軸部材の外周面に形成した場合、摺接粒子10bにおける粒子摺接面12が同一円周上となるように原料粒子が加工されることにより、部材間摺接面13が形成される。すなわち、摺動部材基部10aの回転中心軸から、最外にある粒子摺接面12までの距離を等しくして、摺接粒子10bの粒子摺接面12が同一円周上にあるようにする。   When the sliding contact particles 10b are formed on the outer peripheral surface of the shaft member, the raw material particles are processed so that the particle sliding contact surfaces 12 of the sliding contact particles 10b are on the same circumference. It is formed. That is, the distance from the rotation center axis of the sliding member base 10a to the outermost particle sliding contact surface 12 is made equal so that the particle sliding contact surfaces 12 of the sliding contact particles 10b are on the same circumference. .

スラスト軸受において摺接粒子10bを形成した場合、粒子摺接面12が、摺動部材基部10aの表面の垂直方向から見たときに、同一平面状となるように原料粒子が加工されることにより、部材間摺接面13が形成される。   When the sliding particles 10b are formed in the thrust bearing, the raw material particles are processed so that the particle sliding surfaces 12 are coplanar when viewed from the vertical direction of the surface of the sliding member base 10a. , A member sliding contact surface 13 is formed.

原料粒子をこのように加工する方法としては、ダイヤモンドや、炭化珪素等の砥石で研削する、放電加工により研削する、研磨材を用いて研磨するといった方法を用いることができる。本発明の一実施形態における摺接粒子10bの原料粒子のような高硬度な材料を加工する方法として、適当なものを選択すればよい。   As a method of processing the raw material particles in this manner, a method of grinding with a grindstone such as diamond or silicon carbide, grinding by electric discharge machining, or grinding with an abrasive can be used. An appropriate method may be selected as a method for processing a high-hardness material such as the raw material particles of the sliding contact particles 10b in one embodiment of the present invention.

本発明の一実施形態に係る製造方法は、摺動部材基部の外表面上へ摺接粒子の原料粒子を固定する工程および上記原料粒子を加工して粒子摺接面を形成する工程以外の工程を含んでいてもよく、例えば、埋め込み率を調整するための追加のメッキを行う工程、埋め込み部を加工する工程及び表面処理する工程等が挙げられる。   The manufacturing method according to one embodiment of the present invention includes a step other than the step of fixing the raw material particles of the sliding particles on the outer surface of the sliding member base and the step of processing the raw material particles to form the particle sliding surface. For example, a step of performing additional plating for adjusting the burying ratio, a step of processing the buried portion, a step of performing a surface treatment, and the like may be included.

〔3.ポンプ〕
本発明の一実施形態に係るポンプは、本発明の一実施形態に係る摺動部材を備える。本発明の一実施形態に係る摺動部材は、耐剥離性に優れる摺接粒子を備えるため、本発明の一実施形態に係るポンプを長時間安定的に稼働させることができる。
[3. pump〕
A pump according to one embodiment of the present invention includes the sliding member according to one embodiment of the present invention. Since the sliding member according to one embodiment of the present invention includes sliding contact particles having excellent peel resistance, the pump according to one embodiment of the present invention can be stably operated for a long time.

上記ポンプとしては、例えば、図4に示すようなスラリー液を排出可能な立軸斜流ポンプ装置が挙げられる。立軸斜流ポンプ装置81は、ケーシング82の下端に吸込口83を有する。ケーシング82内には回転自在な主軸84が挿通されており、主軸84の下端に羽根車85が設けられている。ケーシング82の上部には、主軸84を回転駆動させる駆動装置86(電動機)が設けられている。主軸84は滑り軸受装置87によって回転自在に支持されている。   As the pump, for example, a vertical mixed-flow pump device capable of discharging a slurry liquid as shown in FIG. 4 is exemplified. The vertical mixed flow pump device 81 has a suction port 83 at a lower end of a casing 82. A rotatable main shaft 84 is inserted into the casing 82, and an impeller 85 is provided at a lower end of the main shaft 84. At an upper portion of the casing 82, a driving device 86 (electric motor) for driving the main shaft 84 to rotate is provided. The main shaft 84 is rotatably supported by a slide bearing device 87.

図4および図5に示すように、主軸84は軸本体84aと軸受箇所において軸本体84aに外嵌された円筒状のスリーブ84b(摺動部材の一例)とで構成され、滑り軸受装置87は、スリーブ84bの外周面に摺接する軸受88と、軸受88の周囲に設けられたハウジング89と、軸受88とハウジング89との間に設けられた円筒形状の緩衝用ゴム90とを有している。ハウジング89は、金属製の円筒形状の部材であり、ケーシング82内に設けられた固定部材91に固定されている。   As shown in FIGS. 4 and 5, the main shaft 84 includes a shaft main body 84a and a cylindrical sleeve 84b (an example of a sliding member) that is fitted around the shaft main body 84a at a bearing location. , A bearing 88 slidably in contact with the outer peripheral surface of the sleeve 84b, a housing 89 provided around the bearing 88, and a cylindrical cushioning rubber 90 provided between the bearing 88 and the housing 89. . The housing 89 is a metal cylindrical member, and is fixed to a fixing member 91 provided in the casing 82.

軸受88は、円筒状の軸受シェル93と軸受体94(被摺動部材の一例)とで構成されている。摺接粒子94の内周面とスリーブ84bの外周面とが摺接する。なお、スリーブ84bに、本発明の一実施形態における固定層および基材が備えられる。   The bearing 88 includes a cylindrical bearing shell 93 and a bearing body 94 (an example of a slidable member). The inner peripheral surface of the sliding contact particle 94 and the outer peripheral surface of the sleeve 84b are in sliding contact. The sleeve 84b is provided with the fixing layer and the base material according to the embodiment of the present invention.

これによると、主軸84が所定の回転方向に回転すると、スリーブ84bの外周面が軸受体94の内周面に摺接する。この際、滑り軸受装置87は、回り止めされ、主軸84と共回りすることはない。   According to this, when the main shaft 84 rotates in a predetermined rotation direction, the outer peripheral surface of the sleeve 84b comes into sliding contact with the inner peripheral surface of the bearing body 94. At this time, the slide bearing device 87 is prevented from rotating, and does not rotate together with the main shaft 84.

上記立軸斜流ポンプ装置81は先行待機運転を行うものであり、揚水を行う揚水運転と、揚水を行わない待機運転とに切り替え可能である。本発明の一実施形態に係る摺動部材は、自揚水による潤滑作用が発揮されず、滑り軸受装置87に対する主軸84の摺動抵抗が増大するドライ状態での待機運転時に効果を発揮するものである。   The vertical mixed-flow pump device 81 performs a preliminary standby operation, and is switchable between a pumping operation for pumping water and a standby operation for not pumping water. The sliding member according to one embodiment of the present invention does not exhibit a lubricating effect by self-pumping water, and exhibits an effect during standby operation in a dry state in which the sliding resistance of the main shaft 84 with respect to the slide bearing device 87 increases. is there.

本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。   The present invention is not limited to the embodiments described above, and various modifications are possible within the scope shown in the claims, and embodiments obtained by appropriately combining technical means disclosed in different embodiments. Is also included in the technical scope of the present invention.

(耐剥離性試験)
後述の方法で製造された摺動部材から、50mm×50mm×5mmの電着ダイヤテストピースを切り出した。当該電着ダイヤテストピースとφ5mm×5mmL(摺動する先端はφ3mm)のハイス鋼製ピンとを用いて加圧力20kg/mm、周速0.1m/secの条件で回転試験を30分間実施し、摩擦試験後のテストピースの表面を確認した。電着して形成された複数の摺接粒子がテストピースの表面から脱落しない場合を「○」、電着して形成された複数の摺接粒子がテストピースの表面から脱落する場合を「×」と評価した。なお、摩擦摩耗試験機は、株式会社エー・アンド・デイ製の型式EFM−3−Hを用いた。
(Peeling resistance test)
An electrodeposited diamond test piece of 50 mm × 50 mm × 5 mm was cut out from the sliding member manufactured by the method described below. Using the electrodeposited diamond test piece and a high-speed steel pin of φ5 mm × 5 mmL (the sliding tip is φ3 mm), a rotation test was performed for 30 minutes under the conditions of a pressure of 20 kg / mm 2 and a peripheral speed of 0.1 m / sec. The surface of the test piece after the friction test was confirmed. "O" indicates that the plurality of sliding contact particles formed by electrodeposition did not fall off the surface of the test piece, and "x" indicates that the plurality of sliding contact particles formed by electrodeposition dropped off the surface of the test piece. It was evaluated. The friction and abrasion tester used was EFM-3-H manufactured by A & D Corporation.

(実施例1)
100mm×50mm×5mmtのSUS304基材の表面に、表1に記載のダイヤモンド粒子(1)をNi、Ni−P等で電着固定後、粒子の先端部分を平均粒子径の20%の高さ分研削した。加工後、埋め込み率および摺接面積と投影面積との比率(以下、「A値」とも称する)を、レーザー顕微鏡を使い測定した。
(Example 1)
After the diamond particles (1) described in Table 1 are electrodeposited and fixed on a surface of a SUS304 substrate of 100 mm × 50 mm × 5 mmt with Ni, Ni—P or the like, the tip of the particles is set to a height of 20% of the average particle diameter. Min. After the processing, the embedding rate and the ratio between the sliding contact area and the projected area (hereinafter, also referred to as “A value”) were measured using a laser microscope.

「埋め込み率の評価」
後述するA値の算出と同様に8カ所単位表面を設定し、1mm×1mm角の視野で突出高さを測定し、8カ所で得られた測定値の平均値を算出した。そして、最大粒子径および最小粒子径と研削量の数値とを使い、埋め込み率の最小値と最大値とを算出した。
"Evaluation of embedding rate"
A unit surface was set at eight locations in the same manner as in the calculation of the A value described later, the protruding height was measured in a 1 mm × 1 mm square visual field, and the average value of the measured values obtained at eight locations was calculated. Then, the minimum value and the maximum value of the embedding rate were calculated using the maximum particle diameter and the minimum particle diameter and the numerical value of the grinding amount.

「摺接面積と投影面積との比率の評価」
製造した摺動部材の100×50mmの面から均等に8カ所単位表面(1mm×1mm)を設定し、レーザー顕微鏡(製品名:VK-9700、キーエンス社製)を使い、各単位表面を観察し、顕微鏡写真を撮影した。当該写真に基づいて、それぞれA値を算出し、8カ所において算出されたA値の平均値を得た。
"Evaluation of the ratio between sliding contact area and projected area"
Eight unit surfaces (1 mm x 1 mm) were set evenly from the 100 x 50 mm surface of the manufactured sliding member, and each unit surface was observed using a laser microscope (product name: VK-9700, manufactured by Keyence Corporation). , Micrographs were taken. The A value was calculated based on the photograph, and the average of the A values calculated at eight locations was obtained.

(実施例2)
研削量を平均粒子径の30%にした以外は実施例1と同様にして摺動部材を製造した。
(Example 2)
A sliding member was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the grinding amount was set to 30% of the average particle diameter.

(比較例1)
研削量を平均粒子径の40%にした以外は実施例1と同様にして摺動部材を製造した。
(Comparative Example 1)
A sliding member was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the grinding amount was set to 40% of the average particle diameter.

(実施例3)
表1に記載のダイヤモンド粒子(4)を用いた以外は実施例1と同様にして摺動部材を製造した。
(Example 3)
A sliding member was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the diamond particles (4) shown in Table 1 were used.

(実施例4)
研削量を平均粒子径の30%にした以外は実施例3と同様にして摺動部材を製造した。
(Example 4)
A sliding member was manufactured in the same manner as in Example 3 except that the grinding amount was set to 30% of the average particle diameter.

(比較例2)
表1に記載のダイヤモンド粒子(2)を用いた以外は実施例1と同様にして摺動部材を製造した。
(Comparative Example 2)
A sliding member was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the diamond particles (2) described in Table 1 were used.

(比較例3)
研削量を平均粒子径の30%にした以外は比較例2と同様にして摺動部材を製造した。
(Comparative Example 3)
A sliding member was manufactured in the same manner as in Comparative Example 2 except that the grinding amount was set to 30% of the average particle diameter.

(比較例4)
表1に記載のダイヤモンド粒子(3)を用いた以外は実施例1と同様にして摺動部材を製造した。
(Comparative Example 4)
A sliding member was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the diamond particles (3) shown in Table 1 were used.

(比較例5)
研削量を平均粒子径の30%にした以外は比較例4と同様にして摺動部材を製造した。
(Comparative Example 5)
A sliding member was manufactured in the same manner as in Comparative Example 4, except that the grinding amount was set to 30% of the average particle diameter.

摺動部材の製造条件、算出されたA値、および耐剥離性評価の結果を表2に示す。   Table 2 shows the manufacturing conditions of the sliding member, the calculated A value, and the results of the peeling resistance evaluation.

Figure 0006639556
Figure 0006639556

Figure 0006639556
Figure 0006639556

表1に記載されている通り、粒子(1)および粒子(2)は、粒径範囲が原料粒子の平均粒子径の±20%以内であるが、粒子(3)および粒子(4)は、粒径範囲が原料粒子の平均粒子径の±20%を超える。表2に示すように、実施例1〜4からは、原料粒子の粒径範囲が原料粒子の平均粒子径の±20%以内であり、かつ、A値が0.6以上0.95以下である摺動部材は、耐剥離性に優れた摺接粒子を有していることがわかる。一方、比較例1からは、原料粒子の粒径範囲が原料粒子の平均粒子径の±20%以内であっても、A値が0.95を超える摺動部材は、耐剥離性が劣る摺接粒子を有していることがわかる。さらに、比較例2〜5からは、A値が0.6以上0.95以下であっても、原料粒子の粒径範囲が上記原料粒子の平均粒子径の±20%を超える摺動部材は、耐剥離性が劣る摺接粒子を有していることがわかる。   As described in Table 1, the particles (1) and (2) have a particle size range within ± 20% of the average particle diameter of the raw material particles, but the particles (3) and (4) have The particle size range exceeds ± 20% of the average particle size of the raw material particles. As shown in Table 2, from Examples 1 to 4, the particle size range of the raw material particles is within ± 20% of the average particle size of the raw material particles, and the A value is 0.6 to 0.95. It can be seen that a certain sliding member has sliding contact particles having excellent peel resistance. On the other hand, from Comparative Example 1, even if the particle size range of the raw material particles is within ± 20% of the average particle size of the raw material particles, a sliding member having an A value exceeding 0.95 has poor sliding resistance. It can be seen that the particles have tangent particles. Furthermore, from Comparative Examples 2 to 5, even if the A value is 0.6 or more and 0.95 or less, the sliding member in which the particle diameter range of the raw material particles exceeds ± 20% of the average particle diameter of the raw material particles is not obtained. It can be seen that the particles had sliding contact particles having inferior peel resistance.

本発明は、ポンプ、例えば先行待機運転ポンプに好適に利用することができる。   INDUSTRIAL APPLICATION This invention can be utilized suitably for a pump, for example, a preceding standby operation pump.

1A 軸・軸受構造
10 軸部材
10a 摺動部材基部
10b 摺接粒子
11 軸受部材
12 粒子摺接面
13 部材間摺接面
31 投影部分
1A Shaft / bearing structure 10 Shaft member 10a Sliding member base 10b Sliding particles 11 Bearing member 12 Particle sliding surface 13 Sliding surface between members 31 Projection portion

Claims (7)

被摺動部材に対して相対的に摺動する摺動部材であって、
摺動部材基部と、
上記摺動部材基部の表面に散在して固定される摺接粒子と、を備え、
上記摺接粒子は、上記摺動部材基部の表面から突出しており、かつ、上記被摺動部材に摺接する粒子摺接面を有しており、
上記摺接粒子の原料粒子は、粒径範囲が当該原料粒子の平均粒子径の±20%以内であり、
上記摺接粒子は、上記粒子摺接面の面積と上記摺接粒子の投影部分の面積との比率が0.6以上0.95以下である、摺動部材。
A sliding member that slides relative to the member to be slid,
A sliding member base,
Sliding contact particles scattered and fixed on the surface of the sliding member base,
The sliding contact particles protrude from the surface of the sliding member base, and have a particle sliding contact surface that slides on the sliding member,
The raw material particles of the sliding contact particles have a particle size range within ± 20% of the average particle size of the raw material particles,
The sliding member, wherein the ratio of the area of the particle sliding contact surface to the area of the projected portion of the sliding particle is 0.6 or more and 0.95 or less.
上記原料粒子の平均粒子径が、10μm以上250μm以下である、請求項1に記載の摺動部材。   The sliding member according to claim 1, wherein the average particle diameter of the raw material particles is 10 μm or more and 250 μm or less. 上記摺接粒子は、埋め込み率が50%以上である、請求項1または2に記載の摺動部材。   The sliding member according to claim 1, wherein the sliding contact particles have an embedding rate of 50% or more. 上記摺接粒子が、ダイヤモンド、ダイヤモンドライクカーボン、立方晶窒化ホウ素、ガラス状カーボン、アルミナ、ジルコニア、炭化ケイ素、炭化ホウ素、炭化タングステン、窒化ケイ素、ケイ素化物、リン化物、および硫化物からなる群より選ばれる1種以上を含む、請求項1から3のいずれか1項に記載の摺動部材。   The above-mentioned sliding contact particles, from the group consisting of diamond, diamond-like carbon, cubic boron nitride, glassy carbon, alumina, zirconia, silicon carbide, boron carbide, tungsten carbide, silicon nitride, silicide, phosphide, and sulfide The sliding member according to any one of claims 1 to 3, comprising one or more selected members. 摺動部材基部の外表面上へ摺接粒子の原料粒子を固定する工程と、
上記原料粒子の平均粒子径に対して20%以上30%以下の高さ分、当該原料粒子を加工して粒子摺接面を形成する工程とを含み、
上記原料粒子は、粒径範囲が当該原料粒子の平均粒子径の±20%以内である、摺動部材の製造方法。
Fixing raw material particles of sliding contact particles on the outer surface of the sliding member base,
Processing the raw material particles by a height of 20% or more and 30% or less with respect to the average particle diameter of the raw material particles to form a particle sliding contact surface,
The method for producing a sliding member, wherein the raw material particles have a particle size range of ± 20% of the average particle size of the raw material particles.
上記原料粒子の平均粒子径が、10μm以上250μm以下である、請求項5に記載の摺動部材の製造方法。   The method for manufacturing a sliding member according to claim 5, wherein the average particle diameter of the raw material particles is 10 µm or more and 250 µm or less. 上記摺接粒子が、ダイヤモンド、ダイヤモンドライクカーボン、立方晶窒化ホウ素、ガラス状カーボン、アルミナ、ジルコニア、炭化ケイ素、炭化ホウ素、炭化タングステン、窒化ケイ素、ケイ素化物、リン化物、および硫化物からなる群より選ばれる1種以上を含む、請求項5または6に記載の摺動部材の製造方法。   The above-mentioned sliding contact particles, from the group consisting of diamond, diamond-like carbon, cubic boron nitride, glassy carbon, alumina, zirconia, silicon carbide, boron carbide, tungsten carbide, silicon nitride, silicide, phosphide, and sulfide The method for producing a sliding member according to claim 5, comprising one or more selected members.
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