JP6638797B2 - 磁性体コアおよびコイル装置 - Google Patents
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Description
金属粒子が絶縁相で絶縁されている磁性体コアであって、
前記磁性体コアの表面の一部のみで、前記絶縁相が除去されて、前記金属粒子の表面が所定面積領域内で露出している電極予定部分が形成してあり、前記電極予定部分に端子電極が形成してあることを特徴とする。
ワイヤが巻回される巻芯部と、
前記巻芯部の軸芯方向の端部に位置する鍔部と、が一体に形成してあり、
前記電極予定部分が、前記鍔部に形成してある。
上記に記載の磁性体コアと、前記巻芯部に巻回されるワイヤとを有する。
図1Aおよび図2に示すように、本発明の一実施形態に係るコイル装置1は、磁性体コア2を有する。磁性体コア2は、ワイヤ12が巻回される巻芯部4と、巻芯部4の軸芯方向(Z軸方向)の両端部に各々位置する鍔部6,8とを有し、これらが一体に成形してある。
本実施形態では、以下に示す以外は、第1実施形態と同様であり、同様な作用効果を奏する。
本発明の第2実施形態に係るコイル装置は、以下に示す以外は、第1実施形態のコイル装置1と同様であり、同様な作用効果を奏する。すなわち、本実施形態では、図4および図5(A)および図5(B)に示すように、鍔部8の裏面8aに、Y軸方向に離れてX軸方向に沿って延在する一対の溝8a1が形成してある。
金型内に、金属粒子30が含まれる造粒粉を充填し、加圧成形することで、焼成前のコア成形体を得た。その焼成前のコア成形体を、600〜850℃で焼成することで、焼成後の磁性体コア2を得た。磁性体コア2の表面の一部のみを、薬品浸漬法により、5%希釈硫酸液5分の条件で化学処理した。その表面に、バレルメッキ Ni−Snの2層メッキの条件で、メッキ膜を形成し、端子電極を得た。メッキ膜は、コア2の薬品浸漬表面のみに形成されることが確認できた。メッキ膜の膜厚は合計8μmであった。なお、金属粒子30の無機絶縁被膜32は、シリコン系酸化被膜であり、その除去のための薬品は、硫酸であった。
実施例1において、メッキを行うことなく、ハンダ溶液にディッピングを行うことで、ハンダ被膜を形成した以外は、実施例1および2と同様にして、端子電極を形成した。ハンダ被膜は、コア2の化学処理した表面のみに形成されることが確認できた。ハンダ被膜の膜厚は20μmであった。
2… 磁性体コア
4… 巻芯部
6,8… 鍔部
8a1… 溝
8a2… 枠部
10… コイル部
12… ワイヤ
20… 電極予定部分
24,26… 端子電極
24A,26A… ハンダ
30… 金属粒子
30a… 金属粒子の平面方向の延び部分
32… 絶縁被膜
Claims (7)
- 金属粒子が絶縁相で相互に絶縁されている磁性体コアであって、
前記磁性体コアは焼結体からなり、
前記絶縁相は、前記金属粒子の表面に形成してある無機絶縁被膜であり、
前記磁性体コアの表面の所定面積領域内において、前記無機絶縁被膜で相互に絶縁されて隣り合う前記金属粒子の外側表面のみで、前記無機絶縁被膜が除去されて、前記金属粒子の表面が露出している電極予定部分が形成してあり、
前記電極予定部分に端子電極が形成してある磁性体コア。 - 前記端子電極は、メッキ膜またはハンダ被膜である請求項1に記載の磁性体コア。
- 前記電極予定部分は、前記磁性体コアの表面の一部に、化学処理または物理処理を行うことで形成される請求項1または2に記載の磁性体コア。
- 前記無機絶縁被膜は、酸化珪素膜または金属酸化膜である請求項1〜3のいずれかに記載の磁性体コア。
- 前記磁性体コアには、
ワイヤが巻回される巻芯部と、
前記巻芯部の軸芯方向の端部に位置する鍔部と、が一体に形成してあり、
前記電極予定部分が、前記鍔部に形成してある請求項1〜4のいずれかに記載の磁性体コア。 - 前記ワイヤの少なくとも一端が前記端子電極に接続される請求項5に記載の磁性体コア。
- 請求項5または6に記載の磁性体コアと、
前記巻芯部に巻回されるワイヤとを有するコイル装置。
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