JP6638422B2 - エナメル線の製造方法及び製造装置 - Google Patents
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Description
前記溶剤が吸収する波長のうち4μm未満のピーク波長に合致するピーク波長を持つ光を蒸発炉内で反射させて前記塗膜が形成された前記導体に当てることにより前記塗膜を構成する前記エナメル線塗料中の溶剤を蒸発させる工程と、
前記溶剤を蒸発させた後に前記塗膜が形成された前記導体を加熱することにより前記塗膜を構成する前記エナメル線塗料中の樹脂を硬化させる工程と、
を有するエナメル線の製造方法。
[2]前記ピーク波長は、0.8〜3.5μmの範囲内である前記[1]に記載のエナメル線の製造方法。
[3]前記光は、近赤外線である前記[1]又は[2]に記載のエナメル線の製造方法。
[4]前記光は、レーザ光である前記[1]又は[2]に記載のエナメル線の製造方法。
[5]前記蒸発炉は、横型炉からなる焼付炉に設けられている前記[1]〜[4]のいずれか1つに記載のエナメル線の製造方法。
[6]前記導体は、横断面積が1.5mm2以上である前記[1]〜[5]のいずれか1つに記載のエナメル線の製造方法。
[7]溶剤と樹脂とで構成されるエナメル線塗料を導体に塗布することにより前記エナメル線塗料からなる塗膜を前記導体の外周に形成する塗料塗布部と、
前記エナメル線塗料中の溶剤が吸収する波長のうち4μm未満のピーク波長に合致するピーク波長を持つ光を反射させて前記塗膜が形成された前記導体に当てることにより前記塗膜を構成する前記エナメル線塗料中の溶剤を蒸発させる蒸発炉、及び前記溶剤を蒸発させた後に前記塗膜が形成された前記導体を加熱することにより前記塗膜を構成する前記エナメル線塗料中の樹脂を硬化させる硬化炉が設けられた焼付炉と、を備え、
前記焼付炉は、前記蒸発炉の内壁面に前記光を反射する部材を有するエナメル線の製造装置。
[8]前記焼付炉は、前記蒸発炉に前記光を照射する照射装置が設置されており、前記蒸発炉と前記硬化炉とが別々に設けられている前記[7]に記載のエナメル線の製造装置。
[9]前記焼付炉は、横型炉である前記[7]又は前記[8]に記載のエナメル線の製造装置。
[10]前記光を反射する部材は、前記蒸発炉の内壁面に設けられた反射膜である前記[7]〜[9]のいずれか1つに記載のエナメル線の製造装置。
本発明の実施の形態に係るエナメル線の製造方法は、導体に塗布したエナメル線塗料中の溶剤を、当該溶剤が吸収する波長のうち4μm未満のピーク波長に合致する波長を持つ光を焼付炉内で反射させて当てることにより蒸発させる工程を有することを特徴とする。
本発明の実施の形態に係るエナメル線の製造装置は、エナメル線塗料中の溶剤が吸収する波長のうち4μm未満のピーク波長に合致する波長を持つ光を前記エナメル線塗料が塗布された走行導体に照射する照射装置が設置された焼付炉を備え、前記焼付炉は、前記光を反射する部材を有することを特徴とする。
本発明の実施の形態によれば、エナメル線塗料中の溶剤を短時間で蒸発させてエナメル線塗料を乾燥させても外観が良好な皮膜を形成することができ、線径の太いエナメル線であっても製造設備のタイプによらずに高速度で製造可能なエナメル線の製造方法及び製造装置を提供することができる。すなわち、熱風等を利用してエナメル線塗料を乾燥させる場合に比べ、短時間で溶剤を蒸発させてエナメル線塗料を乾燥できるため、エナメル線の製造速度がアップし、製造コストダウンが可能となる。また、焼付炉を短くできるため、製造装置の設置場所の省スペース化が可能となる。さらに、溶剤分子を振動させて溶剤を揮散させることにより溶剤を均一的に蒸発させてエナメル線塗料を乾燥させることを可能としたため、熱を利用する場合に比べて、発泡や皮張り等を抑制できる。そして、導体(エナメル線)の周方向の全方位から反射光を当てることにより、ムラなく均一に溶剤を蒸発させることができ、高速度で塗膜を乾燥させることができるため、線径の太いエナメル線(例えば、導体の横断面積1.5mm2以上)や平角エナメル線であっても、皮膜厚が均一且つ寸法精度の高い、外観及び品質の良好なものが製造設備タイプによらずに竪型でも横型でも製造可能である。
11:プーリ、12:焼鈍炉、13:ターンプーリ
14:塗料塗布部、15:蒸発炉、16:硬化炉、17:巻取機
150:蒸発炉、151:近赤外線ヒータ
152:反射膜、153:炉開口部
250:蒸発炉、251:レーザ照射ユニット、251A:照射光
252:反射膜、253:炉開口部
Claims (10)
- 溶剤と樹脂とで構成されるエナメル線塗料を導体に塗布することにより前記エナメル線塗料からなる塗膜を前記導体の外周に形成する工程と、
前記溶剤が吸収する波長のうち4μm未満のピーク波長に合致するピーク波長を持つ光を蒸発炉内で反射させて前記塗膜が形成された前記導体に当てることにより前記塗膜を構成する前記エナメル線塗料中の溶剤を蒸発させる工程と、
前記溶剤を蒸発させた後に前記塗膜が形成された前記導体を加熱することにより前記塗膜を構成する前記エナメル線塗料中の樹脂を硬化させる工程と、
を有するエナメル線の製造方法。 - 前記ピーク波長は、0.8〜3.5μmの範囲内である請求項1に記載のエナメル線の製造方法。
- 前記光は、近赤外線である請求項1又は2に記載のエナメル線の製造方法。
- 前記光は、レーザ光である請求項1又は2に記載のエナメル線の製造方法。
- 前記蒸発炉は、横型炉からなる焼付炉に設けられている請求項1〜4のいずれか1項に記載のエナメル線の製造方法。
- 前記導体は、横断面積が1.5mm2以上である請求項1〜5のいずれか1項に記載のエナメル線の製造方法。
- 溶剤と樹脂とで構成されるエナメル線塗料を導体に塗布することにより前記エナメル線塗料からなる塗膜を前記導体の外周に形成する塗料塗布部と、
前記エナメル線塗料中の溶剤が吸収する波長のうち4μm未満のピーク波長に合致するピーク波長を持つ光を反射させて前記塗膜が形成された前記導体に当てることにより前記塗膜を構成する前記エナメル線塗料中の溶剤を蒸発させる蒸発炉、及び前記溶剤を蒸発させた後に前記塗膜が形成された前記導体を加熱することにより前記塗膜を構成する前記エナメル線塗料中の樹脂を硬化させる硬化炉が設けられた焼付炉と、を備え、
前記焼付炉は、前記蒸発炉の内壁面に前記光を反射する部材を有するエナメル線の製造装置。 - 前記焼付炉は、前記蒸発炉に前記光を照射する照射装置が設置されており、前記蒸発炉と前記硬化炉とが別々に設けられている請求項7に記載のエナメル線の製造装置。
- 前記焼付炉は、横型炉である請求項7又は8に記載のエナメル線の製造装置。
- 前記光を反射する部材は、前記蒸発炉の内壁面に設けられた反射膜である請求項7〜9のいずれか1項に記載のエナメル線の製造装置。
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