JP6633586B2 - カバー部材、基板上の生体サンプルの処理方法および処理モジュール - Google Patents
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Description
a)第1および第2対向端部。
b)第1および第2対向表面。
c)第2表面に存在し、基板と並置(juxtaposition)した場合にチャンバを形成する凹部(void)。
d)第1端部に向かって、凹部と流体連通した流体入口。
ここで、凹部は、チャンバ内での流体移動を増強するための1つ以上の曲線輪郭領域を有する凹部壁によって境界が定められる。
a.先の請求項の何れかに記載されたカバー部材。
b.生体サンプルを戴置した基板のための支持面。
c.培養期間中、基板と並置した状態でカバー部材を取り外し可能に保持するように動作可能なクランプ手段。
a.第1および第2対向端部。
b.第1および第2対向表面。
c.第2表面に存在し、基板と並置(juxtaposition)した場合にチャンバを形成する凹部(void)。
d.第1端部に向かって、凹部と流体連通した流体入口。
e.第2端部に向かって、凹部と流体連通した流体出口。
f.入口において、流体を入口に方向付けるように構成された案内手段。
a.サンプルを基板上に用意するステップ。
b.基板およびカバー部材を位置決めして、チャンバを形成するステップ。
c.注入プローブ先端を、流体入口との嵌め合い(mating)コンタクト状態に位置決めするステップ。
d.第1試薬が基板上のサンプルを実質的に覆うのに充分な力を用いて、第1体積の第1試薬を入口に送り込むステップ。
a.サンプルを基板上に用意するステップ。
b.基板およびカバー部材を位置決めして、チャンバを形成するステップ。
c.注入プローブ先端を位置決めして、試薬を流体入口に注入するステップ。
d.少なくとも第2体積の第2試薬を入口に注入するステップ。
a.第1および第2対向端部。
b.第1および第2対向表面。
c.第2表面に存在し、基板と並置(juxtaposition)した場合にチャンバを形成する凹部(void)。
d.第1端部に向かって、凹部と流体連通した流体入口。
e.第2端部に向かって、凹部と流体連通した流体出口。
f.入口と流体連通している分散端部。
ここで、カバー部材は、分散端部の周りに旋回するように構成され、使用の際、前記旋回運動は、入口において、分散端部から出口に向かう流体の移動を生じさせる。
a.分散端部を有するカバー部材。
b.生体サンプルを戴置した基板のための支持面。
c.カバー部材を分散端部の周りに旋回させ、流体を入口から基板に沿って、分散端部から出口に向けて移動させるように構成された旋回手段。
ここで、旋回手段は、カバー部材を、開放状態および、カバー部材および基板が並置されてチャンバを形成する閉止状態に旋回させるように動作可能である。
a.サンプルを基板上に用意するステップ。
b.分散端部が基板と接触するようにカバー部材に角度がついた開放状態に、基板およびカバー部材を位置決めするステップ。
c.第1試薬を入口に注入するステップ。
d.カバー部材を閉止状態に向けて旋回させて、旋回運動により、注入された試薬が基板上のサンプルを実質的に覆うようにするステップ。
a.第1および第2対向端部。
b.第1および第2対向表面。
c.第2表面に存在し、基板とともにチャンバを形成する凹部(void)。
d.第1端部に向かって、凹部と流体連通した流体入口。
e.流体を注入する流体分散機構。流体分散機構は、流体を、入口から基板の少なくとも幅に分散するように構成される。
a.サンプルを基板上に用意するステップ。
b.基板およびカバー部材を、流体分散機構の領域において基板の少なくとも端部がカバー部材の第2表面と並置された状態に設定された開放構成に位置決めするステップ。
c.試薬を入口に注入し、毛細管現象を利用して、基板を横断するように試薬を引き出すステップ。
a.流体分散機構を有するカバー部材。
b.生体サンプルを戴置した基板のための支持面。
c.サンプルがカバー部材によって覆われていない開放状態と、サンプルの少なくとも一部が、カバー部材および基板によって形成されるチャンバ内で覆われる閉止状態との間で、カバー部材および基板をスライド移動させるための直線移動装置。
Claims (26)
- 生体サンプルを支持する基板のためのカバー部材であって、
a)第1および第2対向端部と、
b)第1および第2対向表面と、
c)第1端部に向かって、凹部と流体連通した流体入口と、を備え、
カバー部材の第2表面は、
(i)第2表面に凹部を形成する天井および壁であって、カバー部材が基板と並置された場合にチャンバを形成する天井および壁と、
(ii)凹部の周りに配置された表面であって、カバー部材が基板と並置された場合に基板と嵌まり合い、カバー部材と基板との間に直接に封止表面を形成する表面と、
を規定するように形成され、
凹部の壁は、チャンバ中で流体の移動を増強するための1つ以上の輪郭領域を有し、
該1つ以上の輪郭領域は、カバー部材の第2表面において、凹部の壁と凹部の天井とを連結する、丸みを帯びた蛇腹を含む、カバー部材。 - 凹部の天井は、入口から出口への試薬の伝搬を増強するように構成された仕上げを有し、仕上げは、エッチング加工、波形加工、ディンプル加工、傾斜加工、弓形加工、および波紋加工を含むグループから選択されたテキスチャ、または、仕上げは、凹部の天井及び/又は壁の少なくとも一部における材料仕上げまたはコーティングである、請求項1記載のカバー部材。
- カバー部材は、カバー部材本体およびカバー部材挿入部を含む、少なくとも2つの部品で形成され、
カバー部材挿入部は、基板とともにチャンバを形成するように構成される、請求項1または2記載のカバー部材。 - 入口において、流体を入口に方向付けるように構成された案内手段を備え、
案内手段は、対応する形状の注入プローブ先端を受け入れるような形状を有する首部を含み、
案内手段は、注入プローブ先端とのぴったり嵌合を形成するように構成される、請求項1〜3のいずれかに記載のカバー部材。 - 案内手段は、注入プローブ先端との直接的な密封を受容し形成するのに充分なコンプライアンスを有する、請求項4記載のカバー部材。
- 入口と流体連通している分散端部を備え、
使用の際、カバー部材は、分散端部の周りに旋回するように構成され、
前記旋回運動は、分散端部から出口に向かって、入口での流体の移動を生じさせる、請求項1〜5のいずれかに記載のカバー部材。 - カバー部材はさらに、第1端部と第2端部との間に直交して延びる面を通過して延びており、これに対して垂直な軸の周りに旋回するように構成され、前記軸の周りの旋回は、カバー部材を傾斜させる、請求項6記載のカバー部材。
- 流体を、入口から、少なくともチャンバの幅に分散するように構成された流体分散機構を備え、
流体分散機構は、サンプルがチャンバの外部にある開放状態から、カバー部材が基板上のサンプルの少なくとも一部を覆う閉止状態へ、カバー部材および基板の相対的なスライド運動の際に流体を分散するように構成され、これにより分散機構から基板表面に沿って流体を引き出す、請求項1〜7のいずれかに記載のカバー部材。 - 流体を、入口から、カバー部材の少なくとも幅に分散するように構成された流体分散機構を備え、
流体分散機構は、カバー部材が基板上のサンプルの少なくとも一部と重なり合う閉止状態で、流体を分散するように構成され、
前記分散機構は、毛細管現象を利用して、分散機構から基板表面に沿って流体を引き出す、請求項1〜7のいずれかに記載のカバー部材。 - 流体分散機構は、チャンバの幅に広がるチャネルを含み、
チャネルは、カバー部材の第1端部に向かって増加する高さを持つ段差状の外形を有する、請求項8または9記載のカバー部材。 - チャネルは、入口から、ある体積の流体を保管するように構成され、前記体積は、流体が基板上に徐々に広がる流体フロントを供給する、請求項10記載のカバー部材。
- カバー部材はさらに、開放状態と閉止状態との間でカバー部材および基板の相対的なスライド運動の際に、基板を案内するように構成されたスライド案内手段をさらに備える、請求項8または請求項8に従属する請求項9〜11のいずれかに記載のカバー部材。
- カバー部材とともに使用される基板の上にあるサンプルの乾燥を低減するように構成された防湿バリアを備える、請求項1〜12のいずれかに記載のカバー部材。
- 防湿バリアは、スライド上のサンプルと接触しないように覆うように構成された材料覆いである、請求項13記載のカバー部材。
- 生体サンプルのための処理モジュールであって、
a.請求項1〜14のいずれかに記載のカバー部材と、
b.生体サンプルを戴置した基板のための支持面と、
c.培養期間中、基板と並置した状態でカバー部材を取り外し可能に保持するように動作可能なクランプ手段と、を備える処理モジュール。 - a)処理モジュール内の基板およびカバー部材の一方または両方を位置決めすること、およびb)処理手順の際、カバー部材の入口に試薬を注入すること、の一方または両方を行うように構成されたロボットを備える、請求項15記載の処理モジュール。
- カバー部材の1つ以上の出口を、大気への通気孔および個々の1つ以上の負圧供給源と交換可能に接続するように動作可能なカップリングを含む、請求項15または16記載の処理モジュール。
- チャンバの開放時に、基板を支持面に保持するように構成された基板保持手段をさらに備える、請求項15〜17のいずれかに記載の処理モジュール。
- カバー部材上の分散端部の周りにカバー部材を旋回させて、入口での流体を分散端部から出口に向かって移動させるように構成された旋回手段をさらに備え、
旋回手段は、カバー部材を、開放状態に、そして、カバー部材および基板が並置してチャンバを形成する閉止状態に旋回させるように動作可能である、請求項15〜17のいずれかに記載の処理モジュール。 - 旋回手段は、カバー部材を開放状態に位置決めするように動作可能な旋回アームを含み、
カバー部材の第1端部の分散端部が基板と接触しており、第2表面が基板に対して1〜20度の角度で配置される、請求項19記載の処理モジュール。 - 旋回アームは、a)カバー部材を開放状態に位置決めして、基板および第2表面が、カバー部材の入口でアリコートの流体を受け入れるように、約10度の角度に配置されること、b)モジュールを、カバー部材および基板が切り離された取り外し状態に配置すること、およびc)カバー部材を通る傾斜軸であって、第1端部と第2端部の間に直交して延びる面に対して垂直な傾斜軸の周りにカバー部材を傾斜させること、の1つ以上を行うように動作可能である、請求項20記載の処理モジュール。
- 傾斜アクセス周りにカバー部材の傾斜方向にバイアスをかけるための傾斜バイアス手段をさらに備える、請求項21記載の処理モジュール。
- 支持面は、サンプルを戴置した基板を受け入れ、基板の不在時は、カバー部材の第2表面を洗浄試薬に曝すための洗浄ベイを形成するような形状である、請求項15〜22のいずれかに記載の処理モジュール。
- 旋回手段は、チャンバ内の試薬を撹拌するように動作可能である、請求項19〜23のいずれかに記載の処理モジュール。
- サンプルがカバー部材によって覆われていない開放状態と、サンプルの少なくとも一部が、カバー部材および基板によって形成されるチャンバ内で覆われている閉止状態との間で、カバー部材および基板をスライド移動させるためのアクチュエータをさらに備える、請求項15〜24のいずれかに記載の処理モジュール。
- カバー部材によって覆われていない場合、基板上のサンプルの乾燥を低減するように構成された防湿バリアをさらに備え、
防湿バリアは、スライド上のサンプルと接触しないように覆うようにした材料覆いを含む、請求項15〜25のいずれかに記載の処理モジュール。
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