JP6622154B2 - 波面制御器を用いた3次元屈折率映像撮影および蛍光構造化照明顕微鏡システムと、これを利用した方法 - Google Patents

波面制御器を用いた3次元屈折率映像撮影および蛍光構造化照明顕微鏡システムと、これを利用した方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6622154B2
JP6622154B2 JP2016160840A JP2016160840A JP6622154B2 JP 6622154 B2 JP6622154 B2 JP 6622154B2 JP 2016160840 A JP2016160840 A JP 2016160840A JP 2016160840 A JP2016160840 A JP 2016160840A JP 6622154 B2 JP6622154 B2 JP 6622154B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
dimensional
refractive index
image
sample
plane wave
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2016160840A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2017219826A (ja
Inventor
ヨングン パク
ヨングン パク
スンウ シン
スンウ シン
グヮンシク パク
グヮンシク パク
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST
Original Assignee
Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST filed Critical Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST
Publication of JP2017219826A publication Critical patent/JP2017219826A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6622154B2 publication Critical patent/JP6622154B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/41Refractivity; Phase-affecting properties, e.g. optical path length
    • G01N21/45Refractivity; Phase-affecting properties, e.g. optical path length using interferometric methods; using Schlieren methods
    • G01N21/453Holographic interferometry
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/41Refractivity; Phase-affecting properties, e.g. optical path length
    • G01N21/45Refractivity; Phase-affecting properties, e.g. optical path length using interferometric methods; using Schlieren methods
    • G01N21/455Schlieren methods, e.g. for gradient index determination; Shadowgraph
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B21/00Microscopes
    • G02B21/36Microscopes arranged for photographic purposes or projection purposes or digital imaging or video purposes including associated control and data processing arrangements
    • G02B21/365Control or image processing arrangements for digital or video microscopes
    • G02B21/367Control or image processing arrangements for digital or video microscopes providing an output produced by processing a plurality of individual source images, e.g. image tiling, montage, composite images, depth sectioning, image comparison
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/41Refractivity; Phase-affecting properties, e.g. optical path length
    • G01N21/4133Refractometers, e.g. differential
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/41Refractivity; Phase-affecting properties, e.g. optical path length
    • G01N21/45Refractivity; Phase-affecting properties, e.g. optical path length using interferometric methods; using Schlieren methods
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/62Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
    • G01N21/63Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light optically excited
    • G01N21/64Fluorescence; Phosphorescence
    • G01N21/645Specially adapted constructive features of fluorimeters
    • G01N21/6456Spatial resolved fluorescence measurements; Imaging
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/62Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
    • G01N21/63Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light optically excited
    • G01N21/64Fluorescence; Phosphorescence
    • G01N21/645Specially adapted constructive features of fluorimeters
    • G01N21/6456Spatial resolved fluorescence measurements; Imaging
    • G01N21/6458Fluorescence microscopy
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/62Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
    • G01N21/63Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light optically excited
    • G01N21/64Fluorescence; Phosphorescence
    • G01N21/6486Measuring fluorescence of biological material, e.g. DNA, RNA, cells
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B21/00Microscopes
    • G02B21/16Microscopes adapted for ultraviolet illumination ; Fluorescence microscopes
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/0816Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements
    • G02B26/0833Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements the reflecting element being a micromechanical device, e.g. a MEMS mirror, DMD
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/42Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect
    • G02B27/46Systems using spatial filters
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/24Coupling light guides
    • G02B6/26Optical coupling means
    • G02B6/32Optical coupling means having lens focusing means positioned between opposed fibre ends
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/24Coupling light guides
    • G02B6/26Optical coupling means
    • G02B6/35Optical coupling means having switching means
    • G02B6/351Optical coupling means having switching means involving stationary waveguides with moving interposed optical elements
    • G02B6/3512Optical coupling means having switching means involving stationary waveguides with moving interposed optical elements the optical element being reflective, e.g. mirror
    • G02B6/3516Optical coupling means having switching means involving stationary waveguides with moving interposed optical elements the optical element being reflective, e.g. mirror the reflective optical element moving along the beam path, e.g. controllable diffractive effects using multiple micromirrors within the beam
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H1/00Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G03H1/0005Adaptation of holography to specific applications
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N2021/178Methods for obtaining spatial resolution of the property being measured
    • G01N2021/1785Three dimensional
    • G01N2021/1787Tomographic, i.e. computerised reconstruction from projective measurements
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/62Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
    • G01N21/63Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light optically excited
    • G01N21/64Fluorescence; Phosphorescence
    • G01N2021/6495Miscellaneous methods
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2201/00Features of devices classified in G01N21/00
    • G01N2201/06Illumination; Optics
    • G01N2201/063Illuminating optical parts
    • G01N2201/0635Structured illumination, e.g. with grating
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H1/00Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G03H1/0005Adaptation of holography to specific applications
    • G03H2001/005Adaptation of holography to specific applications in microscopy, e.g. digital holographic microscope [DHM]

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Multimedia (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Biomedical Technology (AREA)
  • Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
  • Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
  • Microscoopes, Condenser (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
  • Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)

Description

下記の実施形態は、波面制御器を利用した超高速3次元屈折率映像撮影および蛍光構造化照明顕微鏡システムと、これを利用した方法に関し、より詳細には、単一波面制御器を利用して細胞の3次元高解像度蛍光イメージと3次元屈折率立体映像を同時に測定することのできる技術に関する。
現在、細胞内部の構造を光学的に測定するために用いられている方法には、蛍光タンパク質を細胞内部の特定の構造に発現させて蛍光信号を測定する蛍光イメージ方法と、細胞内部の3次元屈折率分布を測定する3次元屈折率断層撮影法とがある。
蛍光タンパク質の標識なく、入射した波面に対する細胞の反応を測定して細胞内部の3次元屈折率分布を測定する3次元屈折率断層撮影法が用いられている。測定された屈折率値は、細胞内の主要な構成成分であるタンパク質の濃度と線形的に比例するため、測定された細胞内部の3次元屈折率分布からは、細胞内の構造的な特性だけではなく、タンパク質濃度の分布のような生化学的な特性も得ることができる。さらに、蛍光タンパク質の標識を使用しないため、非浸湿的に生きている細胞への適用が可能であり、光退色(photobleaching)が起こらないため、長時間に渡って細胞の反応を測定できるようになった。
このような細胞の3次元屈折率イメージを測定するために、様々な種類の波面制御器を利用した3次元屈折率断層が提示された(非特許文献1)。コヒーレント光源(coherent light source)から出た光を細胞に入射させ、このように細胞で回折した透過光を、干渉計を利用してホログラムを測定する。
このとき、波面制御器を使用して細胞に入射させる角度を回転させながら複数枚の2次元ホログラムを測定し、測定されたホログラム情報をアルゴリズムに基づいて分析すれば、細胞の3次元屈折率分布を測定することができる。
最近では、波面制御器の1つであるデジタルマイクロミラーデバイス(Digital Micromirror Device)を利用して超高速3次元光断層撮影が可能となった(非特許文献2)。
しかし、光回折断層撮影法では、細胞内部のタンパク質分布は得ることができるが、分子特異的な測定ではないため、特定のタンパク質を区別することが困難という限界がある。
さらに、細胞の蛍光イメージのためには、細胞の特定の器官(分子)に蛍光タンパク質や染料を発現させたり付けたりする。このように発現した蛍光物質に励起光源(excitation light source)を入射させると、蛍光タンパク質はこれを吸収した後、他の波長で蛍光信号を放出する。この蛍光信号を利用して細胞内部の特定の構造のイメージを区別して測定する。
最近では、このような蛍光イメージの解像度(resolution)を増加させる方法として構造化照明顕微鏡技術の使用が始まった。構造化照明顕微鏡技術は、励起光源を特定のパターンに入射させ、光学的に測定可能な範囲外の信号を測定することで回折限界値を凌駕する超高解像度のイメージが得られる方法である。
初期には、構造化照明顕微鏡技術は、回折格子を通過させることによってパターンを生成してイメージを得ていた(非特許文献3)。構造化照明顕微鏡技術は、格子模様を回転および平行移動させて多様なパターンでイメージを測定し、このような低解像度イメージからアルゴリズムを利用して高解像度のイメージを求める。以後、波面制御器を利用することにより、パターン模様の制御によってより容易に高解像度のイメージが得られるようになった。
さらに、最近では、非線形構造化照明顕微鏡技術(nonlinear structured illumination microscopy)を利用することにより、さらに優れた解像度を生成することができるようになった(非特許文献4)。しかし、蛍光イメージの場合は、蛍光タンパク質を発現させるために細胞を染色する過程が浸湿的であり、長時間に渡って蛍光イメージを測定すると光退色が起こることから、それ以上の測定が不可能になるという短所がある。
Wolf,E.(1969)."Three−dimensional structure determination of semi−transparent objects from holographic data." Optics Communications 1(4):153−156. Shin,S.,et al.(2015)."Active illumination using a digital micromirror device for quantitativephase imaging." Optics letters 40(22):5407−5410. Gustafsson,M.G.(2000)."Surpassing the lateral resolution limit by a factor of two using structured illumination microscopy."Journal of microscopy 198(2):82−87. Gustafsson,M.G.(2005)."Nonlinear structured−illumination microscopy:wide−field fluorescence imaging with theoretically unlimited resolution."Proceedings of the National Academy of Sciences of the United States of America 102(37):13081−13086. Lee,W.−H.(1979)."Binary computer−generated holograms."Applied Optics 18(21):3661−3669.
実施形態は、波面制御器を利用した超高速3次元屈折率映像撮影および蛍光構造化照明顕微鏡システムと、これを利用した方法に関し、より詳細には、単一波面制御器を利用して細胞の3次元高解像度蛍光イメージと3次元屈折率立体映像を同時に測定することのできる技術を提供する。
実施形態は、生きている細胞と組職内部の3次元屈折率分布を光学的に測定し、蛍光タンパク質によって標識された特定の内部構造を同時に区別することのできる波面制御器を利用した超高速3次元屈折率映像撮影および蛍光構造化照明顕微鏡システムと、これを利用した方法を提供する。
一実施形態に係る波面制御器を利用した超高速3次元屈折率映像撮影および蛍光構造化照明顕微鏡システムを利用した方法は、波面制御器(Wavefront Shaper)を利用してサンプルに入射させる平面波の照射角度を調節する段階、前記平面波の照射角度による前記サンプルを通過した2次元光電場を測定する段階、および測定された前記2次元光電場の情報を光回折断層撮影法(optical diffraction tomography)またはフィルタ逆投影アルゴリズム(filtered back projection algorithm)を利用して3次元屈折率映像を取得する段階を含む。
前記平面波面の位相およびパターンを制御して3次元高解像度蛍光イメージを取得する段階をさらに含み、前記波面制御器を利用して前記サンプルの前記3次元高解像度蛍光イメージと前記3次元屈折率立体映像を同時に測定してもよい。
前記波面制御器を利用してサンプルに入射させる平面波の照射角度を調節する段階は、前記サンプルに入射させる前記平面波の進行角度を制御するために、デジタルマイクロミラーデバイスに表示(display)するパターンを変更して多様な進行角度の平面波を形成してもよい。
前記波面制御器を利用してサンプルに入射させる平面波の照射角度を調節する段階は、前記平面波の照射角度を調節して回折光を前記サンプルに入射させ、残りを遮断して1つの平面波の進行方向を制御する段階、およびデジタルマイクロミラーデバイスのパターンを調節して所望する位相情報を取得する段階を含んでもよい。
前記平面波の照射角度を調節して回折光を前記サンプルに入射させ、残りを遮断して1つの平面波の進行方向を制御する段階は、空間フィルタ(spatial filter)を利用して前記デジタルマイクロミラーデバイスによる回折光のうち特定の回折光を1つだけ使用してもよい。
前記平面波の照射角度による前記サンプルを通過した2次元光電場を測定する段階は、前記サンプルを通過した前記2次元光電場と参照波(reference beam)の干渉計を生成し、前記平面波の照射角度を多様に変更して前記2次元光電場を測定してもよい。
前記平面波面の位相およびパターンを制御して3次元高解像度蛍光イメージを取得する段階は、前記平面波を特定のパターンで入射させ、パターンを構成する前記平面波間の位相を調節する段階、前記位相を調節し、制御されたパターンに基づいて蛍光イメージを取得する段階、および複数の前記蛍光イメージをアルゴリズムに基づいて高解像度の2次元蛍光イメージを再建して3次元高解像度蛍光イメージを取得する段階を含んでもよい。
前記平面波面の位相およびパターンを制御して3次元高解像度蛍光イメージを取得する段階は、デジタルマイクロミラーデバイスのパターンに基づき、角度と位相が調節可能光電場区別のためのN個のパターンと方位角スキャン(azimuthal angle scanning)のためのM個のパターンとしてN×M個のパターンを形成してもよい。
前記平面波を発生させる光源として低干渉性光を使用し、z軸で特定の部分だけを区別して測定してもよい。
前記平面波面の位相およびパターンを制御して3次元高解像度蛍光イメージを取得する段階は、ステージや集光レンズ(condenser lens)をz軸に移動させ、前記サンプルのz軸の各部分を測定して前記3次元高解像度蛍光イメージを取得してもよい。
他の実施形態に係る波面制御器を利用した超高速3次元屈折率映像撮影および蛍光構造化照明顕微鏡システムは、波面制御器(Wavefront Shaper)を利用してサンプルに入射させる平面波の照射角度を調節する変調部、前記平面波の照射角度による前記サンプルを通過した2次元光電場を測定する干渉計、および測定された前記2次元光電場の情報を光回折断層撮影法(optical diffraction tomography)またはフィルタ逆投影アルゴリズム(filtered back projection algorithm)を利用して3次元屈折率映像を取得する屈折率映像部を備える。
前記平面波面の位相およびパターンを制御して3次元高解像度蛍光イメージを取得する蛍光イメージ部をさらに備え、前記波面制御器を利用して前記サンプルの前記3次元高解像度蛍光イメージと前記3次元屈折率立体映像を同時に測定してもよい。
前記変調部は、前記平面波の照射角度を調節して回折光を前記サンプルに入射させ、残りを遮断して1つの平面波の進行方向を制御し、デジタルマイクロミラーデバイスのパターンを調節して所望する位相情報を取得してもよい。
前記変調部は、空間フィルタ(spatial filter)を利用して前記デジタルマイクロミラーデバイスによる回折光のうち特定の回折光を1つだけ使用してもよい。
前記干渉計は、前記サンプルを通過した前記2次元光電場と参照波(reference beam)の干渉計を生成し、前記平面波の照射角度を多様に変更して前記2次元光電場を測定してもよい。
前記蛍光イメージ部は、前記平面波を特定のパターンで入射させてパターンを構成する前記平面波間の位相を調節し、制御されたパターンに基づいて蛍光イメージを取得し、複数の前記蛍光イメージをアルゴリズムに基づいて高解像度の2次元蛍光イメージを再建して3次元高解像度蛍光イメージを取得してもよい。
実施形態によると、単一波面制御器を利用して細胞の3次元高解像度蛍光イメージと3次元屈折率立体映像を同時に測定することのできる波面制御器を利用した超高速3次元屈折率映像撮影および蛍光構造化照明顕微鏡システムと、これを利用した方法を提供することができる。
実施形態によると、生きている細胞と組職内部の3次元屈折率分布を光学的に測定し、蛍光タンパク質によって標識された特定の内部構造を同時に区別することのできる波面制御器を利用した超高速3次元屈折率映像撮影および蛍光構造化照明顕微鏡システムと、これを利用した方法を提供することができる。
一実施形態における、波面制御器を利用した超高速3次元屈折率映像撮影および蛍光構造化照明顕微鏡システムを説明するための図である。 一実施形態における、平面波の相対的な位相差を説明するための図である。 一実施形態における、空間周波数の調節を説明するための図である。 一実施形態における、3次元超高解像度蛍光イメージの取得方法を説明するための図である。 一実施形態における、波面制御器を利用した超高速3次元屈折率映像撮影および蛍光構造化照明顕微鏡システムを示したブロック図である。 一実施形態における、波面制御器を利用した超高速3次元屈折率映像撮影および蛍光構造化照明顕微鏡システムを利用した方法を示したフローチャートである。
以下、添付の図面を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。しかし、記述される実施形態は多様な他の形態に変形されてもよく、本発明の範囲が以下で説明される実施形態によって限定されることはない。また、多様な実施形態は、当業者に本発明をより完全に説明するために提供されるものである。なお、図面において、要素の形状および大きさなどは、より明確な説明のために誇張されることがある。
生きている細胞内部の構造を3次元的に把握し、リアルタイムで構造の変化を測定することは、生物学的ならびに病理学的研究に大きく寄与することのできる技術である。
後述する実施形態は、波面制御器(Wavefront Shaper)を活用して3次元屈折率断層撮影技術(3D refractive index tomogram)と3次元構造化照明顕微鏡技術(structured illumination microscopy)とをすべて実現するシステムおよび方法を提示する。
実施形態は、単一波面制御器を利用して細胞の3次元高解像度蛍光イメージと3次元屈折率立体映像を同時に測定することのできる技術を提供するものであって、より詳細には、生きている細胞と組職内部の3次元屈折率分布を光学的に測定し、蛍光タンパク質によって標識された特定の内部構造を同時に区別することのできる波面制御器を利用した超高速3次元屈折率映像撮影および蛍光構造化照明顕微鏡システムと、これを利用した方法を提供するものである。
図1は、一実施形態における、波面制御器を利用した超高速3次元屈折率映像撮影および蛍光構造化照明顕微鏡システムを説明するための図である。
図1を参照すると、波面制御器(Wavefront Shaper)を活用して3次元高解像度蛍光イメージと3次元屈折率分布を照射波面制御方法によって測定する1つのシステムを示している。
3次元屈折率断層撮影法によって屈折率分布を得るためには、任意の多様な角度の平面波に基づいたサンプルイメージが必要となる。また、構造化照明顕微鏡技術のためには、入射波面の位相およびパターンを制御する必要がある。
波面制御器を活用する場合は、平面波の入射角度を調節できるだけでなく、平面波面の位相およびパターンも制御することができる。したがって、波面制御器を活用することにより、3次元高解像度蛍光イメージと3次元屈折率分布イメージとをすべて得ることができる。
一実施形態における、波面制御器を利用した超高速3次元屈折率映像撮影および蛍光構造化照明顕微鏡システムは、変調部、干渉計、屈折率映像部、および蛍光イメージ部を備えて構成されてもよい。
例えば、変調部は、波面制御器110、チューブレンズ120、および集光レンズ130を含んで構成されてもよい。また、実施形態に応じて、変調部は、空間フィルタ(spatial filter)をさらに含んで構成されてもよい。
波面制御器110は、例えば、デジタルマイクロミラーデバイスであってもよい。すなわち、デジタルマイクロミラーデバイス(Digital Micromirror Device)は、波面制御器として多数のマイクロミラーを含む配列を備えてもよい。
チューブレンズ120および集光レンズ130は、平面波の進行角度を拡大してサンプルに入射させてもよい。
ここで、サンプル(sample)とは、測定しようとする対象を意味するものであって、細胞、細菌、または微生物などであってもよいし、細胞などを含んでいる対象物であってもよい。
また、干渉計は、サンプルを通過した2次元光電場を少なくとも1つ以上の入射光によって測定してもよい。
屈折率映像部は、測定された2次元光電場の情報に基づいて3次元屈折率映像を取得してもよい。
蛍光イメージ部は、平面波面の位相およびパターンを制御して3次元高解像度蛍光イメージを取得してもよい。
これにより、波面制御器を利用することにより、サンプルの3次元高解像度蛍光イメージと3次元屈折率立体映像とを同時に測定することができる。
以下では、一実施形態における、波面制御器を利用した超高速3次元屈折率映像撮影および蛍光構造化照明顕微鏡システムについてさらに詳しく説明する。
先ず、3次元屈折率断層撮影イメージを得るためにLee Hologram(非特許文献5)方法を使用し、波面制御器によって入射平面波の照射角度を調節してもよい。入射させる平面波の進行角度を制御するために、デジタルマイクロミラーデバイス(digital micromirror device)に表示(display)するLee hologramパターンを適切に変更してもよい。
より具体的に、多様な進行角度の平面波をデジタルマイクロミラーデバイスで形成するために、デジタルマイクロミラーデバイスに下記の数式のようなLee hologramパターンを入力してもよい。
ここで、u、vは空間周波数であって、デジタルマイクロミラーデバイスのピクセルに基づいて調節される値であり、は平面波の相対的な位相差を示している。
このうち、2番目の式において、3つの項のうち2番目の項に該当する回折光だけをサンプルに入射させ、残りを遮断すれば、1つの平面波の進行方向を制御することが可能となる。
光軸をz軸に定め、表現しようとする波長λを有するレーザ平面波のx軸、y軸方向の角度をそれぞれθx、θyとするとき、これに該当する波面の位相情報は、下記の数式のように示されてもよい。
したがって、数式1でデジタルマイクロミラーデバイスのパターンを調節すれば、数式2を利用して所望する位相情報が得られるようになる。このとき、1つの反射光を使用するために、空間フィルタ(spatial filter)を利用してデジタルマイクロミラーデバイスによる回折光のうち特定の回折光を1つだけ使用できるようになる。
サンプルを通過した2次元光電場と参照波(reference beam)の干渉計を生成し、平面波の照射角度を多様に変えて光電場を測定してもよい。このように測定された2次元光電場の情報を光回折断層撮影法(optical diffraction tomography)またはフィルタ逆投影アルゴリズム(filtered back projection algorithm)技術を活用して3次元屈折率映像を得ることができる。
次に、超高解像度の蛍光イメージを得るために構造化照明顕微鏡技術を利用する。
構造化照明顕微鏡技術において、超高解像度イメージを得るためには、特定のパターンを入射し、パターンを構成する平面波間の位相を調節しなければならない。
一例として、正弦波パターン(sinusoidal pattern)を次の数式のように示してもよい。
ここで、u、vは空間周波数であって、上述したように、デジタルマイクロミラーデバイスのピクセルに基づいて調節される値であり、φは平面波の相対的な位相差であって、デジタルマイクロミラーデバイスのパターンの形態に基づいて調節が可能である。
図2は、一実施形態における、平面波の相対的な位相差を説明するための図である。図2を参照すると、平面波の相対的な位相差φは、デジタルマイクロミラーデバイスのパターンの形態に基づいて調節が可能である。
3次元屈折率断層撮影法では、数式1または数式3に示す3つの項のうち2番目の項のみを使用したが、構造化照明顕微鏡技術では、数式の3つの項をすべて使用してもよい。
このとき、入射された正弦波パターンを構成する3つの項それぞれに対する試験片の光電場を区別するために位相変換方法(phase shifting method)を使用し、相対的位相差φを3ステップ以上の異なる値で制御しなければならない。
また、図3を参照すると、解像度の方位対称(azimuthal symmetry)を維持するために空間周波数を調節し、正弦波パターンの方向を回しながら多様な方位角θを測定してもよい。
すなわち、光電場の区別のためのN個のパターン、方位角スキャン(azimuthal angle scanning)のためのM個のパターンとして合計N×M個のパターンが必要となる。必要なパターンは、デジタルマイクロミラーデバイスのパターンに基づいて角度と位相の調節が可能となる。
このとき、位相φは、デジタルマイクロミラーのピクセル数をΛとするとき、2π/Λのステップで調節される。図4を参照すると、制御されたパターンに基づいて蛍光イメージを得ており、このようなイメージをアルゴリズムに基づいて超高解像度の2次元蛍光イメージを再建してもよい。
また、光源として低干渉性光を使用すれば、z軸で特定の部分だけを区別して測定するようになり、ステージや集光レンズ(condenser lens)430をz軸に動かしてサンプル440のz軸の各部分を測定すれば、3次元超高解像度蛍光イメージを得ることができる。一方、図1を参照しながら説明したように、変調部は、波面制御器410、チューブレンズ420、および集光レンズ430を備えて構成されてもよい。さらに、実施形態に応じて、変調部は、空間フィルタ(spatial filter)をさらに備えて構成されてもよい。
このような3次元屈折率映像撮影映像および3次元高解像度蛍光イメージを取得するシステムとその方法について、以下でさらに詳しく説明する。
図5は、一実施形態における、波面制御器を利用した超高速3次元屈折率映像撮影および蛍光構造化照明顕微鏡システムを示したブロック図である。
図5を参照すると、一実施形態における、波面制御器を利用した超高速3次元屈折率映像撮影および蛍光構造化照明顕微鏡システム500は、変調部510、干渉計520、および屈折率映像部530を備えて構成されてもよい。実施形態に応じて、波面制御器を利用した超高速3次元屈折率映像撮影および蛍光構造化照明顕微鏡システム500は、蛍光イメージ部540をさらに備えて構成されてもよい。
変調部510は、波面制御器(Wavefront Shaper)を利用してサンプルに入射させる平面波の照射角度を調節してもよい。
より具体的に、変調部510は、波面制御器を使用し、入射光の照射角度および波面パターンのうち少なくともいずれか1つ以上を変更してサンプルに入射させてもよい。ここで、波面制御器としては、光の位相を制御することのできる機器または位相の制御が可能な固定形態のフィルムが使用されてもよい。例えば、波面制御器は、超高速で波面を制御することのできるデジタルマイクロミラーデバイスを含んでもよい。デジタルマイクロミラーデバイス(Digital Micromirror Device)は、波面制御器として多数のマイクロミラーを含む配列を備えてもよい。
すなわち、変調部510は、サンプルに入射させる平面波の進行角度を制御するために、デジタルマイクロミラーデバイスに表示(display)するパターンを変更して多様な進行角度の平面波を形成してもよい。
また、変調部510は、平面波の照射角度を調節して回折光をサンプルに入射させ、残りを遮断して1つの平面波の進行方向を制御し、デジタルマイクロミラーデバイスのパターンを調節して所望する位相情報を取得してもよい。
このとき、変調部510は、空間フィルタ(spatial filter)を利用してデジタルマイクロミラーデバイスによる回折光のうち特定の回折光を1つだけ使用してもよい。
一方、平面波を発生させる光源として低干渉性光を使用し、z軸で特定の部分だけを区別して測定してもよい。
例えば、変調部510は、デジタルマイクロミラーデバイス、チューブレンズ、および集光レンズを含んで構成されてもよい。また、実施形態に応じて、変調部510は、空間フィルタ(spatial filter)をさらに含んで構成されてもよい。
干渉計520は、少なくとも1つ以上の入射光から干渉信号を抽出するものであって、サンプルを通過した2次元光電場を少なくとも1つ以上の入射光によって測定してもよい。
すなわち、干渉計520は、平面波の照射角度によるサンプルを通過した2次元光電場を測定してもよい。
干渉計520は、サンプルを通過した2次元光電場と参照波(reference beam)の干渉計を生成し、平面波の照射角度を多様に変更して2次元光電場を測定してもよい。
屈折率映像部530は、測定された2次元光電場の情報に基づいて3次元屈折率映像を取得することにより、高速かつ精密に3次元屈折率を測定することができる。
より具体的に、屈折率映像部530は、測定された2次元光電場の情報を光回折断層撮影法(optical diffraction tomography)またはフィルタ逆投影アルゴリズム(filtered back projection algorithm)を利用して3次元屈折率映像を取得してもよい。
蛍光イメージ部540は、平面波面の位相およびパターンを制御して3次元高解像度蛍光イメージを取得してもよい。これにより、波面制御器を利用してサンプルの3次元高解像度蛍光イメージと3次元屈折率立体映像を同時に測定することができる。
より具体的に、蛍光イメージ部540は、平面波を特定のパターンで入射させ、パターンを構成する平面波間の位相を調節し、制御されたパターンに基づいて蛍光イメージを取得し、複数の蛍光イメージをアルゴリズムに基づいて高解像度の2次元蛍光イメージを再建して3次元高解像度蛍光イメージを取得してもよい。
このような蛍光イメージ部540は、デジタルマイクロミラーデバイスのパターンに基づき、角度と位相が調節可能光電場区別のためのN個のパターンと方位角スキャン(azimuthal angle scanning)のためのM個のパターンとしてN×M個のパターンを形成してもよい。
蛍光イメージ部540は、ステージや集光レンズ(condenser lens)をz軸に移動させ、サンプルのz軸の各部分を測定して3次元高解像度蛍光イメージを取得してもよい。
実施形態によると、生きている細胞と組職内部の3次元屈折率分布を光学的に測定し、蛍光タンパク質によって標識された特定の内部構造を同時に区別することのできる波面制御器を利用した超高速3次元屈折率映像撮影および蛍光構造化照明顕微鏡システムと、これを利用した方法を提供することができる。
図6は、一実施形態における、波面制御器を利用した超高速3次元屈折率映像撮影および蛍光構造化照明顕微鏡システムを利用した方法を示したフローチャートである。
一実施形態における、波面制御器を利用した超高速3次元屈折率映像撮影および蛍光構造化照明顕微鏡システムを利用した方法は、波面制御器(Wavefront Shaper)を利用してサンプルに入射させる平面波の照射角度を調節する段階610、平面波の照射角度によるサンプルを通過した2次元光電場を測定する段階620、および測定された2次元光電場の情報を光回折断層撮影法(optical diffraction tomography)またはフィルタ逆投影アルゴリズム(filtered back projection algorithm)を利用して3次元屈折率映像を取得する段階630を含む。
また、平面波面の位相およびパターンを制御して3次元高解像度蛍光イメージを取得する段階640をさらに含んでもよい。
これにより、波面制御器を利用することで、サンプルの3次元高解像度蛍光イメージと3次元屈折率立体映像を同時に測定することができる。
以下では、一実施形態における、波面制御器を利用した超高速3次元屈折率映像撮影および蛍光構造化照明顕微鏡システムを利用した方法の一例についてさらに詳しく説明する。
一実施形態における、波面制御器を利用した超高速3次元屈折率映像撮影および蛍光構造化照明顕微鏡システムを利用した方法は、図5を参照しながら説明した、一実施形態における、波面制御器を利用した超高速3次元屈折率映像撮影および蛍光構造化照明顕微鏡システムを利用してさらに具体的に説明することができる。
一実施形態における、波面制御器を利用した超高速3次元屈折率映像撮影および蛍光構造化照明顕微鏡システム500は、変調部510、干渉計520、および屈折率映像部530を備えて構成されてもよい。実施形態に応じて、波面制御器を利用した超高速3次元屈折率映像撮影および蛍光構造化照明顕微鏡システム500は、蛍光イメージ部540をさらに備えてもよい。
段階610で、変調部510は、波面制御器(Wavefront Shaper)を利用してサンプルに入射させる平面波の照射角度を調節してもよい。
例えば、波面制御器(Wavefront Shaper)は、デジタルマイクロミラーデバイスなどを利用してもよい。すなわち、変調部510は、サンプルに入射させる平面波の進行角度を制御するために、デジタルマイクロミラーデバイスに表示(display)するパターンを変更して多様な進行角度の平面波を形成してもよい。
また、変調部510は、平面波の照射角度を調節して回折光をサンプルに入射させ、残りを遮断して1つの平面波の進行方向を制御し、デジタルマイクロミラーデバイスのパターンを調節して所望する位相情報を取得してもよい。
このとき、変調部510は、空間フィルタ(spatial filter)を利用してデジタルマイクロミラーデバイスによる回折光のうち特定の回折光を1つだけ使用してもよい。
段階620で、干渉計520は、平面波の照射角度によるサンプルを通過した2次元光電場を測定してもよい。
より具体的に、干渉計520は、サンプルを通過した2次元光電場と参照波(reference beam)の干渉計を生成し、平面波の照射角度を多様に変更して2次元光電場を測定してもよい。
段階630で、屈折率映像部530は、測定された2次元光電場の情報を光回折断層撮影法(optical diffraction tomography)またはフィルタ逆投影アルゴリズム(filtered back projection algorithm)を利用して3次元屈折率映像を取得してもよい。
段階640で、蛍光イメージ部540は、平面波面の位相およびパターンを制御して3次元高解像度蛍光イメージを取得してもよい。これにより、波面制御器を利用してサンプルの3次元高解像度蛍光イメージと3次元屈折率立体映像を同時に測定することができる。
より具体的に、蛍光イメージ部540は、平面波を特定のパターンで入射させ、パターンを構成する平面波間の位相を調節し、制御されたパターンに基づいて蛍光イメージを取得し、複数の蛍光イメージをアルゴリズムに基づいて高解像度の2次元蛍光イメージを再建して3次元高解像度蛍光イメージを取得してもよい。
このような蛍光イメージ部540は、デジタルマイクロミラーデバイスのパターンに基づき、角度と位相が調節可能光電場区別のためのN個のパターンと方位角スキャン(azimuthal angle scanning)のためのM個のパターンとしてN×M個のパターンを形成してもよい。
一方、平面波を発生させる光源として低干渉性光を使用し、z軸で特定の部分だけを区別して測定してもよい。
言い換えれば、蛍光イメージ部540は、回折格子や波面制御器の種類の1つであるデジタルマイクロミラーデバイスを使用し、パターン化した低干渉性光(low coherent light)とz軸移動ステージを利用した光学的な区間測定(optical sectioning)によって3次元の蛍光イメージを得ることができる。
蛍光イメージ部540は、ステージや集光レンズ(condenser lens)をz軸に移動させ、サンプルのz軸の各部分を測定して3次元高解像度蛍光イメージを取得してもよい。
実施形態によると、1つのシステムで、生きている細胞の3次元超高解像度蛍光イメージと3次元屈折率分布イメージとをすべて測定できるようになる。この技術を利用することにより、細胞内部の3次元タンパク質分布と3次元超高解像度蛍光イメージによって標識された特定の構造とを区別して測定することができる。
さらに、細胞内部の構造を長時間に渡って測定することができるため、時間による構造および生化学的な変化を測定することもできる。本発明で提示した技術は、細胞水準の生物学および病理学的研究に大きく寄与することができる。
以上のように、実施形態を、限定された実施形態と図面に基づいて説明したが、当業者であれば、上述した記載から多様な修正および変形が可能である。例えば、説明された技術が、説明された方法とは異なる順序で実行されたり、かつ/あるいは、説明されたシステム、構造、装置、回路などの構成要素が、説明された方法とは異なる形態で結合されたりまたは組み合わされたり、他の構成要素または均等物によって対置されたり置換されたとしても、適切な結果を達成することができる。
したがって、異なる実施形態であっても、特許請求の範囲と均等なものであれば、添付される特許請求の範囲に属する。
500:波面制御器を利用した超高速3次元屈折率映像撮影および蛍光構造化照明顕微鏡システム
510:変調部
520:干渉計
530:屈折率映像部
540:蛍光イメージ部

Claims (2)

  1. 波面制御器としてデジタルマイクロミラーデバイスに低干渉性光を照射し、前記デジタルマイクロミラーデバイスによる回折光のうち一つの回折光を、空間フィルタを通して選択された平面波をサンプルに入射させ、
    記サンプルを通過した2次元光電場と参照波との干渉を生成し、前記平面波の照射角度を変化させながら前記2次元光電場を測定し、
    測定された前記2次元光電場の情報を光回折断層撮影法またはフィルタ逆投影アルゴリズムを用いて3次元屈折率映像を取得し、
    前記デジタルマイクロミラーデバイスのパターンとして、光電場の区別のためのN個のパターンと、多様な方位角を測定する方位角スキャンのためのM個のパターンとしてN×M個のパターンを形成して、前記平面波の位相および前記N×M個のパターンを制御して3次元高解像度蛍光イメージを取得し、
    前記デジタルマイクロミラーデバイスを用いて前記サンプルの前記3次元高解像度蛍光イメージと、前記3次元屈折率映像と、を測し、
    前記平面波を発生させる光源として前記低干渉性光を使用し、前記サンプルのz軸方向において特定の部分だけを区別して測定すること
    を特徴とする、波面制御器を用いた3次元屈折率映像撮影および蛍光構造化照明顕微鏡システムを利用した方法。
  2. 前記波面制御器により前記平面波の位相および前記N×M個のパターンを制御して3次元高解像度蛍光イメージを取得する際に、
    ステージや集光レンズを、前記サンプルのz軸方向に移動させ、前記サンプルのz軸の各部分を測定して前記3次元高解像度蛍光イメージを取得すること
    を特徴とする、請求項1に記載の波面制御器を用いた3次元屈折率映像撮影および蛍光構造化照明顕微鏡システムを利用した方法。
JP2016160840A 2016-06-10 2016-08-18 波面制御器を用いた3次元屈折率映像撮影および蛍光構造化照明顕微鏡システムと、これを利用した方法 Active JP6622154B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2016-0072304 2016-06-10
KR1020160072304A KR101865624B1 (ko) 2016-06-10 2016-06-10 파면 제어기를 이용한 초고속 3차원 굴절률 영상 촬영 및 형광 구조화 조도 현미경 시스템 및 이를 이용한 방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2017219826A JP2017219826A (ja) 2017-12-14
JP6622154B2 true JP6622154B2 (ja) 2019-12-18

Family

ID=56682035

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016160840A Active JP6622154B2 (ja) 2016-06-10 2016-08-18 波面制御器を用いた3次元屈折率映像撮影および蛍光構造化照明顕微鏡システムと、これを利用した方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US10082662B2 (ja)
EP (1) EP3255414A1 (ja)
JP (1) JP6622154B2 (ja)
KR (1) KR101865624B1 (ja)
CN (1) CN107490562B (ja)
CA (1) CA2938995A1 (ja)

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106252885B (zh) * 2016-09-19 2018-07-20 深圳市华讯方舟太赫兹科技有限公司 应用于毫米波成像系统的电扫阵列天线装置
US10401605B2 (en) * 2017-05-02 2019-09-03 SCREEN Holdings, Co., Ltd. Structured illumination in inverted light sheet microscopy
CN107219619A (zh) * 2017-06-29 2017-09-29 清华大学 三维折射率层析显微成像系统及其方法
CN110824722B (zh) * 2018-08-07 2021-10-15 宁波舜宇光电信息有限公司 结构光投射模组组装装置及投射模组的组装、检测方法
CN109580457B (zh) * 2018-11-01 2021-05-04 南京理工大学 基于led阵列编码照明的三维衍射层析显微成像方法
KR102129382B1 (ko) * 2018-12-17 2020-07-02 주식회사 토모큐브 간섭 패턴에서 파동의 위상 정보 추출 방법 및 장치
EP3906526A4 (en) 2019-03-13 2022-03-02 Tomocube, Inc. IDENTIFICATION OF MICROORGANISMS USING THREE-DIMENSIONAL QUANTITATIVE PHASE IMAGING
KR102302333B1 (ko) * 2019-11-05 2021-09-16 주식회사 토모큐브 3차원 굴절률 영상과 딥러닝을 활용한 비표지 방식의 3차원 분자 영상 생성 방법 및 장치
CN111610621B (zh) * 2020-01-19 2022-04-08 北京大学 一种双模态显微成像系统和方法
KR102272366B1 (ko) * 2020-01-22 2021-07-02 주식회사 토모큐브 위상 정보 추출과 입체 영상 구성 방법 및 장치
KR102272149B1 (ko) * 2020-02-26 2021-07-02 주식회사 토모큐브 3차원 굴절률 텐서의 측정 방법 및 장치
KR102355140B1 (ko) * 2020-07-28 2022-02-07 주식회사 토모큐브 저간섭성 광원과 다중 패턴 조명을 이용한 3차원 광회절 단층촬영 방법 및 장치
US20230324296A1 (en) 2020-09-11 2023-10-12 Hamamatsu Photonics K.K. Observation device and observation method
CN112666135B (zh) * 2020-11-26 2023-04-21 中国科学技术大学 一种三维显微成像装置及方法
CN113702288B (zh) * 2021-08-18 2022-07-01 北京大学 一种双模态显微成像系统及其成像方法
JP2023079437A (ja) 2021-11-29 2023-06-08 浜松ホトニクス株式会社 観察装置および観察方法
JP2023079440A (ja) 2021-11-29 2023-06-08 浜松ホトニクス株式会社 観察装置および観察方法
CN116399831B (zh) * 2023-06-06 2023-08-15 广东麦特维逊医学研究发展有限公司 一种折射率检测装置及检测方法

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3327948B2 (ja) * 1992-06-09 2002-09-24 オリンパス光学工業株式会社 光学像再構成装置
CN100457041C (zh) * 2005-11-17 2009-02-04 中国科学院高能物理研究所 X射线折射衬度ct数据采集方法和重建方法
JP4725967B2 (ja) 2006-02-09 2011-07-13 株式会社ブイ・テクノロジー 微小高さ測定装置及び変位計ユニット
US8848199B2 (en) * 2007-07-10 2014-09-30 Massachusetts Institute Of Technology Tomographic phase microscopy
CN101655601B (zh) * 2008-08-22 2012-09-26 麦克奥迪实业集团有限公司 一种基于dmd的结构光显微镜成像方法及系统
CN101482503B (zh) * 2009-02-20 2011-06-29 山东师范大学 一种相干衍射成像方法及其处理装置
US8532398B2 (en) * 2010-03-26 2013-09-10 General Electric Company Methods and apparatus for optical segmentation of biological samples
WO2013018024A1 (en) * 2011-07-29 2013-02-07 Ecole Polytechnique Federale De Lausanne (Epfl) Apparatus and method for quantitative phase tomography through linear scanning with coherent and non-coherent detection
DE102012009836A1 (de) * 2012-05-16 2013-11-21 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Lichtmikroskop und Verfahren zur Bildaufnahme mit einem Lichtmikroskop
US9360660B2 (en) * 2012-05-24 2016-06-07 Northwestern University Methods and apparatus for laser scanning structured illumination microscopy and tomography
KR101352803B1 (ko) 2012-12-03 2014-01-23 광주과학기술원 편광 민감 광 간섭 단층 촬영장치를 위한 파장 가변 레이저
US10670510B2 (en) * 2013-02-05 2020-06-02 Massachusetts Institute Of Technology 3-D holographic imaging continuous flow cytometry
JP6163685B2 (ja) 2013-05-23 2017-07-19 国立研究開発法人物質・材料研究機構 3次元干渉計
JP6196825B2 (ja) * 2013-07-09 2017-09-13 オリンパス株式会社 顕微鏡システム、及び、試料の屈折率測定方法
WO2015109323A2 (en) * 2014-01-17 2015-07-23 The Trustees Of Columbia University In The City Of New York Systems and methods for three-dimensional imaging
JP6518041B2 (ja) * 2014-05-21 2019-05-22 浜松ホトニクス株式会社 光刺激装置及び光刺激方法
TW201546486A (zh) * 2014-06-11 2015-12-16 Univ Nat Cheng Kung 利用數位微型反射鏡元件之多光子螢光激發顯微裝置
US10591392B2 (en) * 2014-07-03 2020-03-17 Applikate Technologies Llc Simultaneous dehydration and staining of tissue for deep imaging
CN104515759B (zh) * 2014-12-16 2017-05-31 中国科学院苏州生物医学工程技术研究所 非线性结构光照明显微成像方法及系统

Also Published As

Publication number Publication date
CN107490562B (zh) 2021-03-05
CA2938995A1 (en) 2017-12-10
US10082662B2 (en) 2018-09-25
JP2017219826A (ja) 2017-12-14
KR20170140459A (ko) 2017-12-21
CN107490562A (zh) 2017-12-19
EP3255414A1 (en) 2017-12-13
US20170357084A1 (en) 2017-12-14
KR101865624B1 (ko) 2018-06-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6622154B2 (ja) 波面制御器を用いた3次元屈折率映像撮影および蛍光構造化照明顕微鏡システムと、これを利用した方法
US10976532B2 (en) Structured illumination microscopy system using digital micromirror device and time-complex structured illumination, and operation method therefor
US10310246B2 (en) Converter, illuminator, and light sheet fluorescence microscope
JP6033798B2 (ja) 蛍光顕微鏡検査法における照明位相制御のためのシステムおよび方法
CN112930492B (zh) 用于使用时间复用光片的快速体积荧光显微术的装置和方法
CN106885796B (zh) 一种超分辨率荧光数字全息断层显微成像系统与方法
Schürmann et al. Refractive index measurements of single, spherical cells using digital holographic microscopy
KR101716125B1 (ko) 파면 제어기를 활용한 초고속 고정밀 3차원 굴절률 측정 방법 및 장치
KR20130115891A (ko) 광량 변조와 스캐닝 시스템 기반의 구조 조명 현미경
US11947098B2 (en) Multi-focal light-sheet structured illumination fluorescence microscopy system
KR101875515B1 (ko) 디지털 마이크로미러 소자를 활용한 구조 입사 3차원 굴절률 토모그래피 장치 및 방법
KR101888924B1 (ko) 디지털 마이크로미러 소자와 시간 복합 구조화 조명을 이용한 구조화 조명 현미경 시스템 및 그 동작 방법
CN108918465A (zh) 光学三维成像系统及光学三维成像方法
CN208580026U (zh) 光学三维成像系统
CN110520779B (zh) 像差校正方法和光学装置
KR101784336B1 (ko) 파면 제어기를 활용한 초고속 고정밀 3차원 굴절률 측정 방법 및 장치
US10545458B2 (en) Optical sectioning using a phase pinhole
JP6537153B2 (ja) 光学情報検知装置及び顕微鏡システム
KR102272366B1 (ko) 위상 정보 추출과 입체 영상 구성 방법 및 장치
Picazo-Bueno et al. Multiplexed superresolution phase microscopy with transport of intensity equation
JP6565100B2 (ja) 光断層計測装置および光断層計測方法
JP6259491B2 (ja) 光照射装置、顕微鏡装置、レーザ加工装置、及び光照射方法
Ďuriš et al. Single-shot super-resolution quantitative phase imaging allowed by coherence gate shaping
Gang et al. Super-Resolution Fluorescence Microscopy System by Structured Illumination Based on Laser Interference [J]
Jiang et al. Depth resolved imaging by digital holography via sample-shifting

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20160818

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20170627

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170927

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20180306

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180706

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20180828

A912 Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912

Effective date: 20181102

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190925

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20191121

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6622154

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250