JP6619639B2 - キャリアリング - Google Patents
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- H01L21/28512—Deposition of conductive or insulating materials for electrodes conducting electric current from a gas or vapour, e.g. condensation of conductive layers on semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table
- H01L21/28556—Deposition of conductive or insulating materials for electrodes conducting electric current from a gas or vapour, e.g. condensation of conductive layers on semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table by chemical means, e.g. CVD, LPCVD, PECVD, laser CVD
-
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Description
PECVDに使用されるチャンバは、処理時にウエハを支えるためのセラミック台座を使用し、これは、高温下での処理を可能にする。用途の1つは、アッシング可能ハードマスク(AHM)の成長である。AHMは、半導体処理で使用される膜であり、「アッシング」と呼ばれる技術によって除去可能である。具体的には、AHMは、多くはエッチング停止層として使用される。193nm又はそれ未満のリソグラフィ方式は、下にある誘電体層又は金属障壁層に対して高いエッチング選択性を有するために、これらのAHMを必要とする。
[適用例1]成膜用に実装されたチャンバに使用するためのキャリアリングであって、
外縁側とウエハ縁側とを伴う環状の円板形状を有するキャリアリングであって、前記外縁側から前記ウエハ縁側へ広がるキャリアリング上面を有し、前記ウエハ縁側は、
前記キャリアリング上面よりも低いキャリアリング下面と、
複数の接触サポート構造であって、それぞれ、前記キャリアリング下面の縁に位置付けられ、前記キャリアリング下面と前記キャリアリング上面との間の高さを有し、先細の縁と隅とを有する、複数の接触サポート構造と、
前記キャリアリング上面と前記キャリアリング下面との間の段差であって、前記段差の頂部には上向き縁が配され、前記段差の底部には下方内縁が配される、段差と、
を含む、キャリアリングを備え、
前記接触サポート構造のそれぞれの頂部は、ウエハを持ち上げる及び下降させる及び移動させるために前記ウエハの底縁面に接触するように構成される、キャリアリング。
[適用例2]適用例1に記載のキャリアリングであって、
前記ウエハ縁側は、更に、前記キャリアリング下面と前記接触サポート構造との間の移行部に内方接触縁を含み、
前記上向き縁及び前記下方内縁は、それぞれ、丸みを帯びた鋭くない縁を有する、キャリアリング。
[適用例3]適用例1に記載のキャリアリングであって、
前記接触サポート構造の前記先細の縁及び隅は、鋭い隅を有さない実質的に湾曲した表面を有する、キャリアリング。
[適用例4]適用例1に記載のキャリアリングであって、
成膜に使用される前記チャンバは、
ウエハサポート領域と、前記ウエハサポート領域を取り囲むキャリアサポート表面とを有する台座であって、前記キャリアサポート表面は、前記ウエハサポート領域から一段下がっている、台座と、
前記台座の第1の側部周りに配置される第1のアームと、前記台座の第2の側部周りに配置される第2のアームとを有するフォークと、
を含み、
前記第1のアーム及び前記第2のアームは、それぞれ、前記キャリアリングの上面に接触しない非係合状態にあるときは、前記キャリアサポート表面の下方に位置付けられ、係合状態にあるときは、前記ウエハを持ち上げるために前記キャリアリングの前記上面に接触する、キャリアリング。
[適用例5]適用例4に記載のキャリアアームであって、
前記ウエハは、前記ウエハサポート領域の上に配されたときに前記キャリアサポート表面の一部の上に張り出すように構成され、各接触サポート構造は、前記ウエハの前記張り出しの下に配置されるように構成される、キャリアリング。
[適用例6]適用例5に記載のキャリアリングであって、
前記非係合状態では、前記ウエハの前記底縁面と各接触サポート構造の頂部との間に非接触分離距離が定められる、キャリアリング。
[適用例7]適用例6に記載のキャリアリングであって、
前記係合状態では、前記ウエハの前記底縁面と前記接触サポート構造のそれぞれの頂部との間に接触がなされ、前記各接触サポート構造の頂部を覆う成膜材料は、前記係合状態で接触がなされるときに前記各接触サポート構造の頂部を覆う状態に実質的に維持される、キャリアリング。
[適用例8]適用例1に記載のキャリアリングであって、
前記チャンバは、更に、
動作時に前記台座の上に配置されるように構成されたシャワーヘッドであって、前記ウエハ上への成膜を可能にするためにプロセスガスを提供するように構成されたシャワーヘッドと、
整合回路網を通して前記台座に接続された高周波(RF)電力供給部であって、更に、動作時に前記ウエハ上への前記成膜を可能にするRF電力供給部と、
を含む、キャリアリング。
[適用例9]適用例8に記載のキャリアリングであって、
前記成長される膜は、後続のエッチング動作においてエッチングストップとして使用されるアッシング可能ハードマスク(AHM)である、キャリアリング。
[適用例10]適用例8に記載のチャンバであって、更に、
前記チャンバ内に形成されたステーション群であって、各ステーションは、台座、フォーク、及びキャリアリングを含む、ステーション群と、
前記ステーション群の各ステーションの各フォークの動きを同時に制御するように構成された機構であって、前記動きは、
前記キャリアリングをそれぞれ持ち上げる又は下降させることと、
前記キャリアリングをそれぞれ前記ステーション群の別のステーションへ回転させることと、
を含む、機構と、
備えるチャンバ。
[適用例11]ウエハ上への成膜を処理するためのチャンバであって、
ウエハサポート領域と、前記ウエハサポート領域を取り囲むキャリアサポート表面とを有する台座であって、前記キャリアサポート表面は、前記ウエハサポート領域から一段下がっている、台座と、
前記台座の第1の側部周りに配置される第1のアームと、前記台座の第2の側部周りに配置される第2のアームとを有するフォークであって、前記第1のアーム及び前記第2のアームは、それぞれ、非係合状態にあるときは、前記キャリアサポート表面の下方に配置され、係合状態にあるときは、前記キャリアサポート表面の上方へ上昇するように構成される、フォークと、
外縁側とウエハ縁側とを伴う環状の円板形状を有するキャリアリングであって、前記外縁側から前記ウエハ縁側へ広がるキャリアリング上面を有し、前記ウエハ縁側は、
前記キャリアリング上面よりも低いキャリアリング下面と、
複数の接触サポート構造であって、それぞれ、前記キャリアリング下面の縁に位置付けられ、前記キャリアリング下面と前記キャリアリング上面との間の高さを有し、先細の縁と隅とを有する、複数の接触サポート構造と、
を含む、キャリアリングと、
を備え、
前記接触サポート構造のそれぞれの頂部は、前記ウエハを上昇させる及び移動させるために前記フォークが前記キャリアリングを持ち上げるときに前記ウエハの底縁面に接触するように構成される、チャンバ。
[適用例12]適用例11に記載のチャンバであって、
前記ウエハ縁側は、更に、前記キャリアリング上面が上向き縁において下向きに移行するところが先細であり、前記上向き縁は、前記台座の前記ウエハサポート領域の上にあるときの前記ウエハの縁と向かい合うように位置付けられるように構成される、チャンバ。
[適用例13]適用例11に記載のチャンバであって、
前記ウエハ縁側は、
前記キャリアリング上面と前記キャリアリング下面との間の段差であって、前記段差の頂部には上向き縁が配され、前記段差の底部には下方内縁が配される、段差を含み、
前記上向き縁及び前記下方内縁は、それぞれ、丸みを帯びた鋭くない縁を有する、チャンバ。
[適用例14]適用例13に記載のチャンバであって、
前記ウエハ縁側は、更に、前記キャリアリング下面と前記接触サポート構造との間の移行部に内方接触縁を含む、チャンバ。
[適用例15]適用例11に記載のチャンバであって、
前記接触サポート構造の前記先細の縁及び隅は、鋭い隅を有さない実質的に湾曲した表面を有する、チャンバ。
[適用例16]適用例11に記載のチャンバであって、
前記ウエハは、前記ウエハサポート領域の上に配されたときに前記キャリアサポート表面の一部の上に張り出すように構成され、各接触サポート構造は、前記ウエハの前記張り出しの下に配置されるように構成される、チャンバ。
[適用例17]適用例16記載のチャンバであって、
前記非係合状態では、前記ウエハの前記底縁面と各接触サポート構造の頂部との間に非接触分離距離が定められる、チャンバ。
[適用例18]適用例17に記載のチャンバであって、
前記係合状態では、前記ウエハの前記底縁面と前記接触サポート構造のそれぞれの頂部との間に接触がなされ、前記各接触サポート構造の頂部を覆う成膜材料は、前記係合状態で接触がなされるときに前記各接触サポート構造の頂部を覆う状態に実質的に維持される、チャンバ。
[適用例19]適用例11に記載のチャンバであって、更に、
動作時に前記台座の上に配置されるように構成されたシャワーヘッドであって、前記ウエハ上への成膜を可能にするためにプロセスガスを提供するように構成されたシャワーヘッドと、
整合回路網を通して前記台座に接続された高周波(RF)電力供給部であって、更に、動作時に前記ウエハ上への前記成膜を可能にするRF電力供給部と、
を備えるチャンバ。
[適用例20]適用例19に記載のチャンバであって、
前記成長される膜は、後続のエッチング動作においてエッチングストップとして使用されるアッシング可能ハードマスク(AHM)である、チャンバ。
[適用例21]適用例19に記載のチャンバであって、更に、
前記チャンバ内に形成されたステーション群であって、各ステーションは、台座、フォーク、及びキャリアリングを含む、ステーション群と、
前記ステーション群の各ステーションの各フォークの動きを同時に制御するように構成された機構であって、前記動きは、
前記キャリアリングをそれぞれ持ち上げる又は下降させることと、
前記キャリアリングをそれぞれ前記ステーション群の別のステーションへ回転させることと、
を含む、機構と、
備えるチャンバ。
[適用例22]適用例21に記載のチャンバであって、
前記ステーションは、それぞれ、前記台座の少なくとも1つにリフトピンを含み、前記リフトピンは、エンドエフェクタが前記チャンバのステーションにおいてウエハを取り上げる又は降ろすことを可能にするために前記ウエハを上昇させるために使用される、チャンバ。
[適用例23]適用例21に記載のチャンバであって、
動作時に前記機構、前記プロセスガス、及び前記RF電力供給部を管理するためのコントローラにインターフェース接続されたチャンバ。
Claims (18)
- 成膜用に実装されたチャンバに使用するためのキャリアリングであって、
外縁側とウエハ縁側とを伴う環状の円板形状を有する前記キャリアリングであって、前記外縁側から前記ウエハ縁側へ広がる上部側を有し、前記ウエハ縁側は、
キャリアリング上面と同じ側の面であり、前記キャリアリング上面よりも低いキャリアリング下面と、前記キャリアリングの前記キャリアリング上面から前記キャリアリング下面に連なる移行部と、
前記キャリアリング下面の縁に前記キャリアリングの周方向に間隔を空けて配置された複数の接触サポート構造であって、前記キャリアリング下面から上方に向かって延出し、前記接触サポート構造の各頂部は前記キャリアリング上面よりも下方に位置する高さを有する複数の接触サポート構造と、
前記キャリアリング上面と前記キャリアリング下面との間の段差と、
を含む、キャリアリングを備え、
前記接触サポート構造の前記各頂部は、前記周方向の長さが前記外縁側への方向の長さより長く、前記各頂部は先細とされて、前記周方向に亘る縁及び前記縁の前記周方向の両端部である隅は、湾曲した表面を有し、
前記接触サポート構造のそれぞれの頂部は、ウエハを持ち上げる及び下降させる及び移動させるために前記ウエハの底縁面に接触するように構成される、キャリアリング。 - 請求項1に記載のキャリアリングであって、
前記ウエハ縁側は、更に、前記キャリアリング下面から前記各接触サポート構造が立ちあがる各移行部の下端に、丸味を帯びた内方接触縁を含む、キャリアリング。 - 請求項1に記載のキャリアリングであって、
成膜に使用される前記チャンバは、
ウエハサポート領域と、前記ウエハサポート領域を取り囲むキャリアサポート表面とを有する台座であって、前記キャリアサポート表面は、前記ウエハサポート領域から一段下がっている、台座と、
前記台座の第1の側部周りに配置される第1のアームと、前記台座の第2の側部周りに配置される第2のアームとを有するフォークと、
を含み、
前記第1のアーム及び前記第2のアームは、それぞれ、前記キャリアリングの下側に接触しない非係合状態にあるときは、前記キャリアサポート表面の下方に位置付けられ、係合状態にあるときは、前記ウエハを持ち上げるために前記キャリアリングの前記下側に接触する、キャリアリング。 - 請求項3に記載のキャリアリングであって、
前記ウエハは、前記ウエハサポート領域の上に配されたときに前記キャリアサポート表面の一部の上に張り出すように構成され、各接触サポート構造は、前記ウエハの前記張り出しの下に配置されるように構成される、キャリアリング。 - 請求項4に記載のキャリアリングであって、
前記非係合状態では、前記ウエハの前記底縁面と各接触サポート構造の頂部との間に非接触分離距離が定められる、キャリアリング。 - 請求項5に記載のキャリアリングであって、
前記係合状態では、前記ウエハの前記底縁面と前記接触サポート構造のそれぞれの頂部との間に接触がなされ、前記各接触サポート構造の頂部を覆う成膜材料は、前記係合状態で接触がなされるときに前記各接触サポート構造の頂部を覆う状態に実質的に維持される、キャリアリング。 - 請求項1に記載のキャリアリングであって、
前記チャンバは、更に、
動作時に台座の上に配置されるように構成されたシャワーヘッドであって、前記ウエハ上への成膜を可能にするためにプロセスガスを提供するように構成されたシャワーヘッドと、
整合回路網を通して前記台座に接続された高周波(RF)電力供給部であって、更に、動作時に前記ウエハ上への前記成膜を可能にするRF電力供給部と、
を含む、キャリアリング。 - 請求項7に記載のキャリアリングであって、
前記成膜される膜は、後続のエッチング動作においてエッチングストップとして使用されるアッシング可能ハードマスク(AHM)である、キャリアリング。 - 請求項7に記載のキャリアリングであって、更に、
前記チャンバ内に形成されたステーション群であって、各ステーションは、台座、フォーク、及びキャリアリングを含む、ステーション群と、
前記ステーション群の各ステーションの各フォークの動きを同時に制御するように構成された機構であって、前記動きは、
前記キャリアリングをそれぞれ持ち上げる又は下降させることと、
前記キャリアリングをそれぞれ前記ステーション群の別のステーションへ回転させることと、
を含む、機構と、
備えるキャリアリング。 - 成膜用に実装されたチャンバに使用するためのキャリアリングであって、外縁側とウエハ縁側とを伴う環状の円板形状を有し、前記外縁側から前記ウエハ縁側へ広がる上部側を有し、前記キャリアリングは、
前記キャリアリングの前記ウエハ縁側に近いところに配され、前記キャリアリングの前記外縁側に近いところに配されたキャリアリング上面と同じ側の面であり、前記キャリアリング上面よりも低い、キャリアリング下面と、前記キャリアリングの前記キャリアリング上面から前記キャリアリング下面に連なる移行部と、
前記キャリアリングから形成された、前記キャリアリングの前記ウエハ縁側の縁に沿って前記キャリアリングの周方向に間隔を空けて配された複数の接触サポート構造であって、前記複数の接触サポート構造は、それぞれ、前記キャリアリング下面から上方に向かって延出し、前記接触サポート構造の各頂部は前記キャリアリング上面の下方に位置する高さを有し、前記接触サポート構造の前記各頂部は、前記周方向の長さが前記外縁側への方向の長さより長く、前記各頂部は先細とされて、前記周方向に亘る縁及び前記縁の前記周方向両の端部である隅は、湾曲した表面を有する、複数の接触サポート構造と、
を備える、キャリアリング。 - 請求項10に記載のキャリアリングであって、更に、
前記キャリアリング上面と前記キャリアリング下面との間に段差を備える、キャリアリング。 - 請求項11に記載のキャリアリングであって、
前記接触サポート構造のそれぞれの頂部は、ウエハの底縁面に接触するように構成され、前記複数の接触サポート構造は、前記ウエハを持ち上げる、下降させる、又は移動させるために使用される、キャリアリング。 - 請求項10に記載のキャリアリングであって、
前記ウエハ縁側は、更に、前記キャリアリング下面から前記各接触サポート構造が立ちあがる各移行部の下端に、丸味を帯びた内方接触縁を含む、キャリアリング。 - 請求項10に記載のキャリアリングであって、
前記キャリアリングは、前記チャンバのウエハサポートを取り囲むキャリアサポート表面と嵌め合うように構成される複数の延長部を伴う底面を有する、キャリアリング。 - 請求項10に記載のキャリアリングであって、
前記キャリアリングの前記上部側は、前記キャリアリング上面及び少なくとも前記キャリアリングの下面を含み、
前記キャリアリングの前記上部側は、前記複数の接触サポート構造の頂部を含む、キャリアリング。 - 請求項10に記載のキャリアリングであって、
成膜に使用される前記チャンバは、
ウエハサポート領域と、前記ウエハサポート領域を取り囲むキャリアサポート表面とを有する台座であって、前記キャリアサポート表面は、前記ウエハサポート領域から一段下がっている、台座と、
前記キャリアサポート表面に沿って配された係合場所と嵌め合うように構成される複数の延長部を伴う底面を有する前記キャリアリングと、
を備える、キャリアリング。 - 請求項16に記載のキャリアリングであって、
ウエハは、前記ウエハサポート領域の上に配されたときに前記キャリアサポート表面の一部の上に張り出すように構成され、各接触サポート構造は、前記ウエハの前記張り出しの下に配置されるように構成される、キャリアリング。 - 請求項17記載のキャリアリングであって、
非係合状態では、前記ウエハの底縁面と各接触サポート構造の頂部との間に非接触分離距離が定められ、
係合状態では、前記ウエハの前記底縁面と前記接触サポート構造のそれぞれの頂部との間に接触がなされる、キャリアリング。
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