JP6605720B2 - 光パターニング可能なフッ素フリーフェノール官能基含有ポリマー組成物 - Google Patents
光パターニング可能なフッ素フリーフェノール官能基含有ポリマー組成物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6605720B2 JP6605720B2 JP2018515559A JP2018515559A JP6605720B2 JP 6605720 B2 JP6605720 B2 JP 6605720B2 JP 2018515559 A JP2018515559 A JP 2018515559A JP 2018515559 A JP2018515559 A JP 2018515559A JP 6605720 B2 JP6605720 B2 JP 6605720B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hept
- bicyclo
- alkyl
- hydroxyphenyl
- hydroxy
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/039—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
- G03F7/0392—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists the macromolecular compound being present in a chemically amplified positive photoresist composition
- G03F7/0395—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists the macromolecular compound being present in a chemically amplified positive photoresist composition the macromolecular compound having a backbone with alicyclic moieties
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F232/00—Copolymers of cyclic compounds containing no unsaturated aliphatic radicals in a side chain, and having one or more carbon-to-carbon double bonds in a carbocyclic ring system
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F32/00—Homopolymers and copolymers of cyclic compounds having no unsaturated aliphatic radicals in a side chain, and having one or more carbon-to-carbon double bonds in a carbocyclic ring system
- C08F32/08—Homopolymers and copolymers of cyclic compounds having no unsaturated aliphatic radicals in a side chain, and having one or more carbon-to-carbon double bonds in a carbocyclic ring system having two condensed rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L45/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having no unsaturated aliphatic radicals in side chain, and having one or more carbon-to-carbon double bonds in a carbocyclic or in a heterocyclic ring system; Compositions of derivatives of such polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D145/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having no unsaturated aliphatic radicals in a side chain, and having one or more carbon-to-carbon double bonds in a carbocyclic or in a heterocyclic system; Coating compositions based on derivatives of such polymers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/022—Quinonediazides
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
- G03F7/162—Coating on a rotating support, e.g. using a whirler or a spinner
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
- G03F7/325—Non-aqueous compositions
- G03F7/327—Non-aqueous alkaline compositions, e.g. anhydrous quaternary ammonium salts
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/40—Treatment after imagewise removal, e.g. baking
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2500/00—Characteristics or properties of obtained polyolefins; Use thereof
- C08F2500/26—Use as polymer for film forming
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2800/00—Copolymer characterised by the proportions of the comonomers expressed
- C08F2800/20—Copolymer characterised by the proportions of the comonomers expressed as weight or mass percentages
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Description
mは、0、1又は2の整数であり、
R1、R2、R3、R4の少なくとも1つは式(A)の基であり、
−R−CO−Ar−(Y)n (A)
(上記式において、
Rは、置換又は未置換の(C1−C6)アルキレン、置換又は未置換の(C3−C8)シクロアルキレン、置換又は未置換の(C1−C6)アルキレンAr、及びArからなる群より選択された2価ラジカルであり、
Arは、置換又は未置換のフェニレン、置換又は未置換のビフェニレン及び置換又は未置換のナフタレンからなる群より選択された2価ラジカルであり、
Yは、ヒドロキシ又は(C1−C6)アシルオキシであり、
nは、1〜9の整数である。)
ここで、
dは、1〜6整数であり、
eは、1〜5整数であり、
fは、1〜9の整数であり、
gは、1〜7整数であり、
Xは、水素、直鎖又は分岐鎖(C1−C6)アルキル、ヒドロキシ(C1−C6)アルキル及びパーフルオロ(C1−C6)アルキルから選択され、
Yは、ヒドロキシ又はアセトキシである、式(I)のモノマーを含む。
従って、本発明のこの側面において、式(A1)、(A2)、(A3)又は(A4)のペンダント基を含有する式(I)の適切なモノマーを用いて本発明のポリマーを形成することができる。
pは0、1又は2の整数であり、
R5、R6、R7、R8は、独立して、水素、直鎖又は分岐鎖(C1−C16)アルキル、ヒドロキシ(C1−C12)アルキル、パーフルオロ(C1−C12)アルキル、ヒドロキシパーフルオロ(C1−C6)アルキル(C1−C6)アルキル、(C3−C12)シクロアルキル、(C6−C12)ビシクロアルキル、(C7−C14)トリシクロアルキル、(C6−C10)アリール、(C6−C10)アリール(C1−C3)アルキル、パーフルオロ(C6−C10)アリール、パーフルオロ(C6−C10)アリール(C1−C3)アルキル、(C5−C10)ヘテロアリール、(C5−C10)ヘテロアリール(C1−C3)アルキル、ヒドロキシ、(C1−C12)アルコキシ、(C3−C12)シクロアルコキシ、(C6−C12)ビシクロアルコキシ、(C7−C14)トリシクロアルコキシ、−(CH2)a−(O−(CH2)b)c−O−(C1−C4)アルキル(ここで、a、b、cは、1〜4の整数である。)、(C6−C10)アリールオキシ(C1−C3)アルキル、(C5−C10)ヘテロアリールオキシ(C1−C3)アルキル、(C6−C10)アリールオキシ、(C5−C10)ヘテロアリールオキシ、(C1−C6)アシルオキシ、ハロゲン、(C1−C6)アルキルCOOR9(ここで、R9は、水素又は(C1−C12)アルキルである。)を表す。
式(II)のモノマーの範疇に属し、本発明のポリマーの形成に用いることができる他の各種のモノマーとしては、
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)エタン−1−オン(NBCH2C(O)PhOH)と2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン−2−オール(HFANB)のコポリマー;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)エタン−1−オン(NBCH2C(O)PhOH)と4−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1,1,1−トリフルオロ−2−(トリフルオロメチル)ブタン−2−オール(HFACH2NB)のコポリマー;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)エタン−1−オン(NBCH2C(O)PhOH)と5−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1,1,1−トリフルオロ−2−(トリフルオロメチル)ペンタン−2−オール(HFACH2CH2NB)のコポリマー;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)エタン−1−オン(NBCH2C(O)PhOH)と2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)酢酸(NBCH2CO2H)のコポリマー;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)エタン−1−オン(NBCH2C(O)PhOH)と3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)プロパン酸(NBCH2CH2CO2H)のコポリマー;
3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)プロパン−1−オンと2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン−2−オール(HFANB)のコポリマー;
3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)プロパン−1−オンと4−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1,1,1−トリフルオロ−2−(トリフルオロメチル)ブタン−2−オール(HFACH2NB)のコポリマー;
3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)プロパン−1−オンと5−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1,1,1−トリフルオロ−2−(トリフルオロメチル)ペンタン−2−オール(HFACH2CH2NB)のコポリマー;
3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)プロパン−1−オンと2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)酢酸(NBCH2CO2H)のコポリマー;
3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)プロパン−1−オンと3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)プロパン酸(NBCH2CH2CO2H)のコポリマー
からなる群より選択される。
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)エタン−1−オン(NBCH2C(O)PhOH)、2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン−2−オール(HFANB)、2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)酢酸(NBCH2CO2H)のターポリマー;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)エタン−1−オン(NBCH2C(O)PhOH)、4−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1,1,1−トリフルオロ−2−(トリフルオロメチル)ブタン−2−オール(HFACH2NB)、2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)酢酸(NBCH2CO2H)のターポリマー;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)エタン−1−オン(NBCH2C(O)PhOH)、5−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1,1,1−トリフルオロ−2−(トリフルオロメチル)ペンタン−2−オール(HFACH2CH2NB)、2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)酢酸(NBCH2CO2H)のターポリマー;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)エタン−1−オン(NBCH2C(O)PhOH)、2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン−2−オール(HFANB)、3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)プロパン酸(NBCH2CH2CO2H)のターポリマー;
3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)プロパン−1−オン、3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)プロパン酸(NBCH2CH2CO2H)、2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン−2−オール(HFANB)のターポリマー;
3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)プロパン−1−オン、3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)プロパン酸(NBCH2CH2CO2H)、4−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1,1,1−トリフルオロ−2−(トリフルオロメチル)ブタン−2−オール(HFACH2NB)のターポリマー;
3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)プロパン−1−オン、3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)プロパン酸(NBCH2CH2CO2H)、5−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1,1,1−トリフルオロ−2−(トリフルオロメチル)ペンタン−2−オール(HFACH2CH2NB)のターポリマー;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)エタン−1−オン(NBCH2C(O)PhOH)、3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)プロパン酸(NBCH2CH2CO2H)、5−((2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ)メチル)−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン(NBTON)のターポリマー
からなる群より選択される。
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)エタン−1−オン(NBCH2C(O)PhOH)と2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン−2−オール(HFANB)のコポリマー;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)エタン−1−オン、2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン−2−オール(HFANB)、3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)プロパン酸(NBCH2CH2CO2H)のターポリマー;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)エタン−1−オン(NBCH2C(O)PhOH)、3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)プロパン酸(NBCH2CH2CO2H)、5−((2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ)メチル)−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン(NBTON)のターポリマー
からなる群より選択される。
Endo/exo−NBCH2C(O)C6H4OAc:Endo/exo−4−(2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)アセチル)フェニルアセテート;
NBCH2C(O)PhOH:2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)エタン−1−オン;
NBPhOAc:4−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)フェニルアセテート;
NBPhOH:4−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)フェノール;
NBCH2CH2CO2H:3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)プロパン酸;
HFANB:2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン−2−オール;
NBTON:5−((2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ)メチル)−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン;
RBF:丸底フラスコ;
THF:テトラヒドロフラン;
EtOAc:酢酸エチル;
MeOH:メタノール;
MTBE:メチルtert−ブチルエーテル;
TFA:トリフルオロ酢酸;
HCl:塩酸;
TMAH:水酸化テトラメチルアンモニウム;
NMP:N−メチル−2−ピロリドン;
PGMEA:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート;
TMPTGE:トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル;
TrisP−3M6C−2(5)−201及びTrisP−3M6C−2(4)−201:本明細書に記載の式(VIIIa)で表されるPAC;
Naugard445:ビス(4−(2−フェニルプロパン−2−イル)フェニル)アミン;
Irganox 1010:ペンタエリスリトールテトラキス(3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート);
Si−75:((トリエトキシシリル)プロピル)ジスルフィド;
KBM−403E:3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン;
Heloxy84又はGE−36:グリセロールのポリ(オキシプロピレン)エポキシドエーテルのトリグリシジルエーテル;
EPON862:ビス(4−(オキシラン−2−イルメトキシ)フェニル)メタン;
PEODGE:ポリエチレンオキシドジグリシジルエーテル(Mn〜500);
TS:全固形分;
HPLC:高速液体クロマトグラフィー;
GC:ガスクロマトグラフィー;
MS:質量分析;
LCMS:液体クロマトグラフィー/質量分析計;
GPC:ゲルパーミエーションクロマトグラフィー;
VWD:可変波長検出器;
FID:水素塩イオン化検出器;
Mw:重量平均分子量;
Mn:数平均分子量;
PDI:多分散指数;
NMR:核磁気共鳴。
4−アセトキシ安息香酸:機械式撹拌器、サーモウェル、添加用漏斗、凝縮器、窒素導入口を備えた2Lの四口丸底フラスコ(RBF)を用意した。上記RBFに、878mLの乾燥ピリジン内の4−ヒドロキシ安息香酸(250g、1.8mol)を供給した。反応混合物を60℃に加熱して4−ヒドロキシ安息香酸を溶解させ、透き通った淡黄色の溶液を得た。次いで上記反応混合物を0℃に冷却することにより、白色の混濁液が形成された。141.4mL(1.99mol)の塩化アセチルを添加用漏斗に入れ、0℃で45分かけて上記反応混合物に徐々に添加した。その反応混合物を0℃でさらに30分間撹拌した後、室温に昇温させた。室温で2時間撹拌した後、反応器からアリコートを取り出し、氷水で急冷した後、6N HClを用いてpH1−2の酸性とし、生成した沈殿物を濾過して除去した。
カラム:Restek Pinnacle C18、150×4.6mm;
移動相:H2O内のMeOH+0.1%TFA;
勾配:H2O中の5%MeOH(0.1%TFA)で2分間、次いで、20分かけて5%から100%に上昇、100%で8分間維持;
流速:1.5mL/min;
検出:254nmで検出(VWD);
滞留時間:7.758分。
4−アセトキシベンゾイルクロリド:磁気撹拌子、凝縮器、窒素導入口を備えた5L RBFを用意した。このRBFに、4−アセトキシ安息香酸(217.8g、1.2mol)と、新たに蒸留したSOCl2(1438.3g、879.7mL、12mol)とを供給した。この混合物を撹拌して〜80℃で3時間加熱還流した。大気圧下で塩化チオニルを留去した後、乾燥トルエン600mLを添加した。トルエンと残存SOCl2とを減圧下で留去した。この手順を三回繰り返した後、最後に高真空下において浴温65℃で乾燥させて、4−アセトキシベンゾイルクロリド236.4g(収率98.5%)を得た。GC及びNMRで測定した純度は>99%であり、MS、1H及び13C NMRによる構造は一致した。このようにして得られた生成物を後続のステップで用いた。
カラム:DB−5MS、25m、内径0.32mm、0.52μm膜;
勾配:30℃/分で75℃〜300℃、次いで300℃で5分間維持;
注入器:275℃;
検出器:350℃(FID);
滞留時間:4.349分
Endo/exo−NBCH2C(O)C6H4OAc:サーモウェル、添加用漏斗、窒素導入口、機械式撹拌器を備えた12L RBFを用意した。このRBFに、THF(乾燥溶媒)700mL内の臭化リチウム(LiBr)(237.7g、2.74mol)を供給して透明な溶液を得た。次いで、CuCN(1.37mol)122.6gとTHF(乾燥溶媒)1.5Lとを添加して、反応混合物を撹拌しながら−20℃まで冷却した。上記添加用漏斗にexo/endo−NBCH2ZnBr(BASF社、1574.1mL、1.3mol、THF内で21wt.%)を入れ、−20℃〜−40℃で45分かけて徐々に上記CuCN/LiBr溶液に添加した。その結果、濃い緑褐色の溶液を得た。この反応混合物を2時間かけて0℃まで昇温させた。上記反応混合物を再び−25℃に冷却し、4−アセトキシベンゾイルクロリド(236.4g、1.19mol)をカニューレを通じてニート(neat)で添加し、THF200mLで20分かけて−25℃〜−5℃でリンスした。その結果、緑褐色のスラリーを得た。次いで、反応混合物を室温まで徐々に加温し、室温で2時間撹拌した。アリコートを飽和NH4Cl:NH4OH(濃縮)(9:1)で急冷(quench)し、MTBEで抽出した。LCMS分析によると、生成物は87.6%、ノルボルネン(norbornane)副生成物は4.6%で、反応は完了した。上記反応混合物を飽和NH4Cl:NH4OH(濃縮)(9:1)4Lで急冷し、MTBE 6Lで希釈した。灰色の沈殿物が観測された。その沈殿物を濾過して相を分離した。水相をMTBE(2×2L)で抽出した。有機層を併せて、飽和NH4Cl:NH4OH(濃縮)(9:1)(2×2L)、次いで塩水(3×2L)で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過し、回転蒸発させ、高真空下において浴温65℃でさらに乾燥した。その結果、淡黄色のペースト状の粗生成物264.3gを得た。
カラム:DB−5MS、25m、内径0.32mm、0.52μm膜;
勾配:30℃/分で75℃〜300℃、次いで300℃で5分間維持;
注入器:275℃;
検出器:350℃(FID);
滞留時間:7.243分
実施例2のポリマーの40重量%乳酸エチル溶液を、所望によりTrisP−3M6C−2−201と共に、適切な大きさの褐色HDPEボトルで混合した。この混合物を18時間圧延(roll)して均一な溶液を調製した。孔径1.0μmのナイロンディスクフィルタにより圧力35psiの条件下で粒子状のコンタミを濾別した。濾過したポリマー調製物を低粒子褐色HDPEボトルに収集して5℃で保管した。表3は、実施例10〜14の感光性組成物の形成に用いたポリマーの実施例のリストである。
実施例8〜10のターポリマーの40重量%乳酸エチル溶液を、所望によりTrisP−3M6C−2(5)−201、TrisP−3M6C−2(4)−201、Denacol EX321L、PEODGE、Heloxy 84、Si−75、Naugard 445、KBM−403Eと共に、適切な大きさの褐色HDPEボトルで混合した。混合物を18時間圧延して均一な溶液を生成した。孔径1.0μmのナイロンディスクフィルタにより圧力35psiの条件下で粒子状のコンタミを濾別した。濾過したポリマー調製物を低粒子褐色HDPEボトルに収集して5℃で保管した。表4は、実施例15〜21の感光性組成物の形成に用いた各種成分のリストである。
実施例10〜21及び比較例3〜4の組成物を、使用前に環境温度に慣らした。直径125mmのシリコンウェーハ(ウェーハの厚さ:725μm)に、実施例10〜14及び比較例3〜4の感光性組成物を、CEE−200 CBスピンコーター(Brewer Scientific社)を用いて500rpmで10秒間、次いで1200rpmで30秒間のスピンコーティングを行うことにより塗布した。次いで、上記基板を100℃のホットプレートに2分間載置して残存溶媒を除去(塗布後ベーキング、PAB)することにより、厚さ11.1μmの膜を得た。露光前の膜厚を、DekTak 150触針式粗面計を用いて、接触式粗度測定法で測定した。
〔1〕
式(IA)で表され、式(I)のモノマーに由来する繰り返し単位を含み、
mは0、1又は2の整数であり、
R 1 、R 2 、R 3 、R 4 の少なくとも1つは式(A)の基であり、
−R−CO−Ar−(Y) n (A)
(上記式において、
Rは、置換又は未置換の(C 1 −C 6 )アルキレン、置換又は未置換の(C 3 −C 8 )シクロアルキレン、置換又は未置換の(C 1 −C 6 )アルキレンAr、及びArからなる群より選択された2価ラジカルであり、
Arは、置換又は未置換のフェニレン、置換又は未置換のビフェニレン及び置換又は未置換のナフタレンからなる群より選択された2価ラジカルであり、
Yは、ヒドロキシ又は(C 1 −C 6 )アシルオキシであり、
nは、1〜9の整数である。)
残りのR 1 、R 2 、R 3 、R 4 は、独立して、水素、直鎖又は分岐鎖(C 1 −C 16 )アルキル、ヒドロキシ(C 1 −C 12 )アルキル、パーフルオロ(C 1 −C 12 )アルキル、(C 3 −C 12 )シクロアルキル、(C 6 −C 12 )ビシクロアルキル、(C 7 −C 14 )トリシクロアルキル、(C 6 −C 10 )アリール、(C 6 −C 10 )アリール(C 1 −C 3 )アルキル、パーフルオロ(C 6 −C 10 )アリール、パーフルオロ(C 6 −C 10 )アリール(C 1 −C 3 )アルキル、(C 5 −C 10 )ヘテロアリール、(C 5 −C 10 )ヘテロアリール(C 1 −C 3 )アルキル、ヒドロキシ、(C 1 −C 12 )アルコキシ、(C 3 −C 12 )シクロアルコキシ、(C 6 −C 12 )ビシクロアルコキシ、(C 7 −C 14 )トリシクロアルコキシ、−(CH 2 ) a −(O−(CH 2 ) b ) c −O−(C 1 −C 4 )アルキル(ここで、a、b、cは、1〜4の整数である。)、(C 6 −C 10 )アリールオキシ(C 1 −C 3 )アルキル、(C 5 −C 10 )ヘテロアリールオキシ(C 1 −C 3 )アルキル、(C 6 −C 10 )アリールオキシ、(C 5 −C 10 )ヘテロアリールオキシ、(C 1 −C 6 )アシルオキシ及びハロゲンを表す、ポリマー。
〔2〕
上記式(A)の基は、
ここで、
dは、1〜6整数であり、
eは、1〜5整数であり、
fは、1〜9の整数であり、
gは、1〜7整数であり、
Xは、水素、直鎖又は分岐鎖(C 1 −C 6 )アルキル、ヒドロキシ(C 1 −C 6 )アルキル及びパーフルオロ(C 1 −C 6 )アルキルから選択され、
Yは、ヒドロキシ又はアセトキシである、上記〔1〕に記載のポリマー。
〔3〕
互いに異なりそれぞれ式(IIA)で表される1つ以上の繰り返し単位をさらに含み、前記繰り返し単位は対応する式(II)のモノマーに由来し、
pは0、1又は2の整数であり、
R 5 、R 6 、R 7 、R 8 は、独立して、水素、直鎖又は分岐鎖(C 1 −C 16 )アルキル、ヒドロキシ(C 1 −C 12 )アルキル、パーフルオロ(C 1 −C 12 )アルキル、ヒドロキシパーフルオロ(C 1 −C 6 )アルキル(C 1 −C 6 )アルキル、(C 3 −C 12 )シクロアルキル、(C 6 −C 12 )ビシクロアルキル、(C 7 −C 14 )トリシクロアルキル、(C 6 −C 10 )アリール、(C 6 −C 10 )アリール(C 1 −C 3 )アルキル、パーフルオロ(C 6 −C 10 )アリール、パーフルオロ(C 6 −C 10 )アリール(C 1 −C 3 )アルキル、(C 5 −C 10 )ヘテロアリール、(C 5 −C 10 )ヘテロアリール(C 1 −C 3 )アルキル、ヒドロキシ、(C 1 −C 12 )アルコキシ、(C 3 −C 12 )シクロアルコキシ、(C 6 −C 12 )ビシクロアルコキシ、(C 7 −C 14 )トリシクロアルコキシ、−(CH 2 ) a −(O−(CH 2 ) b ) c −O−(C 1 −C 4 )アルキル(ここで、a、b、cは、1〜4の整数である。)、(C 6 −C 10 )アリールオキシ(C 1 −C 3 )アルキル、(C 5 −C 10 )ヘテロアリールオキシ(C 1 −C 3 )アルキル、(C 6 −C 10 )アリールオキシ、(C 5 −C 10 )ヘテロアリールオキシ、(C 1 −C 6 )アシルオキシ、ハロゲン、(C 1 −C 6 )アルキルCOOR 9 (ここで、R 9 は、水素又は(C 1 −C 12 )アルキルである。)を表す、上記〔1〕に記載のポリマー。
〔4〕
pは0であり、
R 5 、R 6 、R 7 、R 8 は、独立して、水素、直鎖又は分岐鎖(C 1 −C 12 )アルキル、ヒドロキシヘキサフルオロプロピルメチル、フェニル(C 1 −C 3 )アルキル、−(CH 2 ) 2 CO 2 H、−(CH 2 ) a −(O−(CH 2 ) b ) c −O−(C 1 −C 4 )アルキル(ここで、aは1又は2であり、bは2〜4であり、cは2又は3である。)を表す、上記〔3〕に記載のポリマー。
〔5〕
上記式(IA)の繰り返し単位は、
4−(2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)アセチル)フェニルアセテート(NBCH 2 C(O)PhOAc);
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)エタン−1−オン(NBCH 2 C(O)PhOH);
4−(2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)アセチル)−2−メトキシフェニルアセテート;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシ−3−メトキシフェニル)エタン−1−オン;
(4−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)フェニル)(4−ヒドロキシフェニル)メタノン
3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)プロパン−1−オン;
3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシ−3−メトキシフェニル)プロパン−1−オン;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4’−ヒドロキシ−[1,1’−ビフェニル]−4−イル)エタン−1−オン;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4’−ヒドロキシ−3’−メトキシ−[1,1’−ビフェニル]−4−イル)エタン−1−オン;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(6−ヒドロキシナフタレン−2−イル)エタン−1−オン;及び、
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(6−ヒドロキシ−7−メトキシナフタレン−2−イル)エタン−1−オン
からなる群より選択されたモノマーに由来する、上記〔1〕に記載のポリマー。
〔6〕
上記式(IIA)の1つ以上の繰り返し単位は、
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン−2−オール(HFANB);
4−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1,1,1−トリフルオロ−2−(トリフルオロメチル)ブタン−2−オール(HFACH 2 NB);
5−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1,1,1−トリフルオロ−2−(トリフルオロメチル)ペンタン−2−オール(HFACH 2 CH 2 NB);
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)酢酸(NBCH 2 CO 2 H);
3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)プロパン酸(NBCH 2 CH 2 CO 2 H);
4−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)ブタン酸(NBCH 2 CH 2 CH 2 CO 2 H);
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルメトキシ)エチルアセテート(NBCH 2 GlyOAc);
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルメトキシ)エタノール(NBCH 2 GlyOH);
5−((2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ)メチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン(NBTON);
1−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−2,5,8,11−テトラオキサドデカン(NBTODD)
からなる群より選択されたモノマーに由来する、上記〔1〕に記載のポリマー。
〔7〕
前記ポリマーは、
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)エタン−1−オン(NBCH 2 C(O)PhOH)と2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン−2−オール(HFANB)のコポリマー;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)エタン−1−オン(NBCH 2 C(O)PhOH)と4−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1,1,1−トリフルオロ−2−(トリフルオロメチル)ブタン−2−オール(HFACH 2 NB)のコポリマー;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)エタン−1−オン(NBCH 2 C(O)PhOH)と5−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1,1,1−トリフルオロ−2−(トリフルオロメチル)ペンタン−2−オール(HFACH 2 CH 2 NB)のコポリマー;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)エタン−1−オン(NBCH 2 C(O)PhOH)と2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)酢酸(NBCH 2 CO 2 H)のコポリマー;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)エタン−1−オン(NBCH 2 C(O)PhOH)と3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)プロパン酸(NBCH 2 CH 2 CO 2 H)のコポリマー;
3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)プロパン−1−オンと2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン−2−オール(HFANB)のコポリマー;
3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)プロパン−1−オンと4−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1,1,1−トリフルオロ−2−(トリフルオロメチル)ブタン−2−オール(HFACH 2 NB)のコポリマー;
3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)プロパン−1−オンと5−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1,1,1−トリフルオロ−2−(トリフルオロメチル)ペンタン−2−オール(HFACH 2 CH 2 NB)のコポリマー;
3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)プロパン−1−オンと2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)酢酸(NBCH 2 CO 2 H)のコポリマー;及び、
3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)プロパン−1−オンと3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)プロパン酸(NBCH 2 CH 2 CO 2 H)のコポリマー
からなる群より選択されたコポリマーである、上記〔1〕に記載のポリマー。
〔8〕
前記ポリマーは、
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)エタン−1−オン(NBCH 2 C(O)PhOH)、2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン−2−オール(HFANB)、2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)酢酸(NBCH 2 CO 2 H)のターポリマー;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)エタン−1−オン(NBCH 2 C(O)PhOH)、4−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1,1,1−トリフルオロ−2−(トリフルオロメチル)ブタン−2−オール(HFACH 2 NB)、2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)酢酸(NBCH 2 CO 2 H)のターポリマー;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)エタン−1−オン(NBCH 2 C(O)PhOH)、5−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1,1,1−トリフルオロ−2−(トリフルオロメチル)ペンタン−2−オール(HFACH 2 CH 2 NB)、2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)酢酸(NBCH 2 CO 2 H)のターポリマー;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)エタン−1−オン(NBCH 2 C(O)PhOH)、2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン−2−オール(HFANB)、3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)プロパン酸(NBCH 2 CH 2 CO 2 H)のターポリマー;
3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)プロパン−1−オン、3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)プロパン酸(NBCH 2 CH 2 CO 2 H)、2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン−2−オール(HFANB)のターポリマー;
3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)プロパン−1−オン、3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)プロパン酸(NBCH 2 CH 2 CO 2 H)、4−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1,1,1−トリフルオロ−2−(トリフルオロメチル)ブタン−2−オール(HFACH 2 NB)のターポリマー;
3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)プロパン−1−オン、3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)プロパン酸(NBCH 2 CH 2 CO 2 H)、5−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1,1,1−トリフルオロ−2−(トリフルオロメチル)ペンタン−2−オール(HFACH 2 CH 2 NB)のターポリマー;及び、
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)エタン−1−オン(NBCH 2 C(O)PhOH)、3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)プロパン酸(NBCH 2 CH 2 CO 2 H)、5−((2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ)メチル)−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン(NBTON)のターポリマー
からなる群より選択されたターポリマーである、上記〔1〕に記載のポリマー。
〔9〕
前記ポリマーは、
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)エタン−1−オン(NBCH 2 C(O)PhOH)と2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン−2−オール(HFANB)のコポリマー;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)エタン−1−オン、2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン−2−オール(HFANB)、3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)プロパン酸(NBCH 2 CH 2 CO 2 H)のターポリマー;及び、
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)エタン−1−オン(NBCH 2 C(O)PhOH)、3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)プロパン酸(NBCH 2 CH 2 CO 2 H)、5−((2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ)メチル)−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン(NBTON)のターポリマー
からからなる群より選択される、上記〔1〕に記載のポリマー。
〔10〕
ポリマーと、光活性化合物と、エポキシ樹脂と、溶媒と、を含む層形成ポリマー組成物であって、
前記ポリマーは、
式(IA)で表され、式(I)のモノマーに由来する繰り返し単位を含み、
mは、0、1又は2の整数であり、
R 1 、R 2 、R 3 、R 4 の少なくとも1つは式(A)の基であり、
−R−CO−Ar−(Y) n (A)
(上記式において、
Rは、置換又は未置換の(C 1 −C 6 )アルキレン、置換又は未置換の(C 3 −C 8 )シクロアルキレン、置換又は未置換の(C 1 −C 6 )アルキレンAr、及びArからなる群より選択された2価ラジカルであり、
Arは、置換又は未置換のフェニレン、置換又は未置換のビフェニレン及び置換又は未置換のナフタレンからなる群より選択された2価ラジカルであり、
Yは、ヒドロキシ又は(C 1 −C 6 )アシルオキシであり、
nは、1〜9の整数である。)
残りのR 1 、R 2 、R 3 、R 4 は、独立して、水素、直鎖又は分岐鎖(C 1 −C 16 )アルキル、ヒドロキシ(C 1 −C 12 )アルキル、パーフルオロ(C 1 −C 12 )アルキル、(C 3 −C 12 )シクロアルキル、(C 6 −C 12 )ビシクロアルキル、(C 7 −C 14 )トリシクロアルキル、(C 6 −C 10 )アリール、(C 6 −C 10 )アリール(C 1 −C 3 )アルキル、パーフルオロ(C 6 −C 10 )アリール、パーフルオロ(C 6 −C 10 )アリール(C 1 −C 3 )アルキル、(C 5 −C 10 )ヘテロアリール、(C 5 −C 10 )ヘテロアリール(C 1 −C 3 )アルキル、ヒドロキシ、(C 1 −C 12 )アルコキシ、(C 3 −C 12 )シクロアルコキシ、(C 6 −C 12 )ビシクロアルコキシ、(C 7 −C 14 )トリシクロアルコキシ、−(CH 2 ) a −(O−(CH 2 ) b ) c −O−(C 1 −C 4 )アルキル(ここで、a、b、cは、1〜4の整数である。)、(C 6 −C 10 )アリールオキシ(C 1 −C 3 )アルキル、(C 5 −C 10 )ヘテロアリールオキシ(C 1 −C 3 )アルキル、(C 6 −C 10 )アリールオキシ、(C 5 −C 10 )ヘテロアリールオキシ、(C 1 −C 6 )アシルオキシ及びハロゲンを表す、層形成ポリマー組成物。
〔11〕
前記ポリマーは、互いに異なりそれぞれ式(IIA)で表される1つ以上の繰り返し単位をさらに含み、前記繰り返し単位は対応する式(II)のモノマーに由来し、
oは、0、1又は2の整数であり、
R 5 、R 6 、R 7 、R 8 は、独立して、水素、直鎖又は分岐鎖(C 1 −C 16 )アルキル、ヒドロキシ(C 1 −C 12 )アルキル、パーフルオロ(C 1 −C 12 )アルキル、ヒドロキシパーフルオロ(C 1 −C 6 )アルキル(C 1 −C 6 )アルキル、(C 3 −C 12 )シクロアルキル、(C 6 −C 12 )ビシクロアルキル、(C 7 −C 14 )トリシクロアルキル、(C 6 −C 10 )アリール、(C 6 −C 10 )アリール(C 1 −C 3 )アルキル、パーフルオロ(C 6 −C 10 )アリール、パーフルオロ(C 6 −C 10 )アリール(C 1 −C 3 )アルキル、(C 5 −C 10 )ヘテロアリール、(C 5 −C 10 )ヘテロアリール(C 1 −C 3 )アルキル、ヒドロキシ、(C 1 −C 12 )アルコキシ、(C 3 −C 12 )シクロアルコキシ、(C 6 −C 12 )ビシクロアルコキシ、(C 7 −C 14 )トリシクロアルコキシ、−(CH 2 ) a −(O−(CH 2 ) b ) c −O−(C 1 −C 4 )アルキル(ここで、a、b、cは、1〜4の整数である。)、(C 6 −C 10 )アリールオキシ(C 1 −C 3 )アルキル、(C 5 −C 10 )ヘテロアリールオキシ(C 1 −C 3 )アルキル、(C 6 −C 10 )アリールオキシ、(C 5 −C 10 )ヘテロアリールオキシ、(C 1 −C 6 )アシルオキシ、ハロゲン、(C 1 −C 6 )アルキルCOOR 9 (ここで、R 9 は、水素又は(C 1 −C 12 )アルキルである。)を表す、上記〔10〕に記載の組成物。
〔12〕
上記式(IA)又は式(IIA)の繰り返し単位は、
4−(2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)アセチル)フェニルアセテート(NBCH 2 C(O)PhOAc);
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)エタン−1−オン(NBCH 2 C(O)PhOH);
4−(2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)アセチル)−2−メトキシフェニルアセテート;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシ−3−メトキシフェニル)エタン−1−オン;
3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)プロパン−1−オン;
3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシ−3−メトキシフェニル)プロパン−1−オン;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4’−ヒドロキシ−[1,1’−ビフェニル]−4−イル)エタン−1−オン;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4’−ヒドロキシ−3’−メトキシ−[1,1’−ビフェニル]−4−イル)エタン−1−オン;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(6−ヒドロキシナフタレン−2−イル)エタン−1−オン;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(6−ヒドロキシ−7−メトキシナフタレン−2−イル)エタン−1−オン;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン−2−オール(HFANB);
4−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1,1,1−トリフルオロ−2−(トリフルオロメチル)ブタン−2−オール(HFACH 2 NB);
5−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1,1,1−トリフルオロ−2−(トリフルオロメチル)ペンタン−2−オール(HFACH 2 CH 2 NB);
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)酢酸(NBCH 2 CO 2 H);
3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)プロパン酸(NBCH 2 CH 2 CO 2 H);
4−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)ブタン酸(NBCH 2 CH 2 CH 2 CO 2 H);
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルメトキシ)エチルアセテート(NBCH 2 GlyOAc);
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルメトキシ)エタノール(NBCH 2 GlyOH);
5−((2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ)メチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン(NBTON);及び、
1−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−2,5,8,11−テトラオキサドデカン(NBTODD)
からなる群より選択されたモノマーに由来する、上記〔11〕に記載の組成物。
〔13〕
前記光活性化合物は、それぞれ構造式(IIIa)及び(IIIb)で表される1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニル部分及び/又は1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホニル部分:
〔14〕
前記光活性化合物は、
ここで、少なくとも1つのQは、式(VIIa)又は(VIIb)
残りのQは水素である、上記〔13〕に記載の組成物。
〔15〕
前記エポキシ樹脂は、
ビスフェノールAエピクロロヒドリン系エポキシ樹脂;
ポリプロピレングリコールエピクロロヒドリン系エポキシ樹脂;
ビス(4−(オキシラン−2−イルメトキシ)フェニル)メタン;
p−tert−ブチルフェノールのグリシジルエーテル;
ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル(PEGDGE);
ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル(PPGDGE);及び、
これらを組み合わせた混合物
からなる群より選択される、上記〔10〕に記載の組成物。
〔16〕
前記溶媒は、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)、γ−ブチロラクトン(GBL)又はN−メチルピロリドン(NMP)である、上記〔10〕に記載の組成物。
〔17〕
前記組成物は、
接着促進剤;
酸化防止剤;
界面活性剤;
熱酸発生剤又は熱塩基発生剤;及び、
これらを組み合わせた混合物
からなる群より選択された1種以上の添加剤をさらに含む、上記〔10〕に記載の組成物。
〔18〕
(i)上記〔10〕に記載の層形成ポリマー組成物を基板に塗布してコーティング膜を形成すること、
(ii)所望のパターンのマスクを通じて前記コーティング膜を露光すること;
(iii)アルカリ性現像剤で現像することにより前記露光部を溶解及び除去して前記所望のパターンを取得すること、
(iv)取得した前記所望のパターンを加熱すること、
を包含する、硬化物形成プロセス。
〔19〕
上記〔10〕に記載の層形成ポリマー組成物を硬化させて得られる、硬化物。
〔20〕
上記〔19〕に記載の硬化物を含み、前記硬化物は1MHzで3.2以下の比誘電率を有する、光電子デバイス又はマイクロ電子デバイス。
Claims (22)
- 式(IA)で表され、式(I)のモノマーに由来する少なくとも一種の繰り返し単位;
mは0、1又は2の整数であり、
R1、R2、R3、R4の少なくとも1つは式(A):
−R−CO−Ar−(Y)n (A)
(上記式において、
Rは、置換又は未置換の(C1−C6)アルキレン、置換又は未置換の(C3−C8)シクロアルキレン、置換又は未置換の(C1−C6)アルキレンAr、及びArからなる群より選択された2価ラジカルであり、
ここでArは、置換又は未置換のフェニレン、置換又は未置換のビフェニレン及び置換又は未置換のナフタレンからなる群より選択された2価ラジカルであり、
Yは、ヒドロキシ又は(C1−C6)アシルオキシであり、
nは、1〜9の整数である。);
の基であり、
残りのR1、R2、R3、R4は、独立して、水素、直鎖又は分岐鎖(C1−C16)アルキル、ヒドロキシ(C1−C12)アルキル、パーフルオロ(C1−C12)アルキル、(C3−C12)シクロアルキル、(C6−C12)ビシクロアルキル、(C7−C14)トリシクロアルキル、(C6−C10)アリール、(C6−C10)アリール(C1−C3)アルキル、パーフルオロ(C6−C10)アリール、パーフルオロ(C6−C10)アリール(C1−C3)アルキル、(C5−C10)ヘテロアリール、(C5−C10)ヘテロアリール(C1−C3)アルキル、ヒドロキシ、(C1−C12)アルコキシ、(C3−C12)シクロアルコキシ、(C6−C12)ビシクロアルコキシ、(C7−C14)トリシクロアルコキシ、−(CH2)a−(O−(CH2)b)c−O−(C1−C4)アルキル(ここで、a、b、cは、1〜4の整数である。)、(C6−C10)アリールオキシ(C1−C3)アルキル、(C5−C10)ヘテロアリールオキシ(C1−C3)アルキル、(C6−C10)アリールオキシ、(C5−C10)ヘテロアリールオキシ、(C1−C6)アシルオキシ及びハロゲンからなる群から選択される;及び、
式(IIA)で表され、それぞれ対応する式(II)のモノマーに由来する一種またはそれ以上の互いに異なる繰り返し単位;
pは0、1又は2の整数であり、
R 5 、R 6 、R 7 、R 8 は、独立して、水素、直鎖又は分岐鎖(C 1 −C 16 )アルキル、ヒドロキシ(C 1 −C 12 )アルキル、パーフルオロ(C 1 −C 12 )アルキル、ヒドロキシパーフルオロ(C 1 −C 6 )アルキル(C 1 −C 6 )アルキル、(C 3 −C 12 )シクロアルキル、(C 6 −C 12 )ビシクロアルキル、(C 7 −C 14 )トリシクロアルキル、(C 6 −C 10 )アリール、(C 6 −C 10 )アリール(C 1 −C 3 )アルキル、パーフルオロ(C 6 −C 10 )アリール、パーフルオロ(C 6 −C 10 )アリール(C 1 −C 3 )アルキル、(C 5 −C 10 )ヘテロアリール、(C 5 −C 10 )ヘテロアリール(C 1 −C 3 )アルキル、ヒドロキシ、(C 1 −C 12 )アルコキシ、(C 3 −C 12 )シクロアルコキシ、(C 6 −C 12 )ビシクロアルコキシ、(C 7 −C 14 )トリシクロアルコキシ、−(CH 2 ) a −(O−(CH 2 ) b ) c −O−(C 1 −C 4 )アルキル(ここで、a、b、cは、1〜4の整数である。)、(C 6 −C 10 )アリールオキシ(C 1 −C 3 )アルキル、(C 5 −C 10 )ヘテロアリールオキシ(C 1 −C 3 )アルキル、(C 6 −C 10 )アリールオキシ、(C 5 −C 10 )ヘテロアリールオキシ、(C 1 −C 6 )アシルオキシ、ハロゲン、(C 1 −C 6 )アルキルCOOR 9 (ここで、R 9 は、水素又は(C 1 −C 12 )アルキルである。)からなる群から選択される;
からなる、ターポリマー。 - 上記式(A)の基は、
ここで、
dは、1〜6の整数であり、
eは、1〜5の整数であり、
fは、1〜9の整数であり、
gは、1〜7の整数であり、
Xは、水素、直鎖又は分岐鎖(C1−C6)アルキル、ヒドロキシ(C1−C6)アルキル及びパーフルオロ(C1−C6)アルキルから選択され、
Yは、ヒドロキシ又はアセトキシである、請求項1に記載のターポリマー。 - pは0又は1であり、
R5、R6、R7、R8は、独立して、水素、直鎖又は分岐鎖(C1−C16)アルキル、ヒドロキシパーフルオロ(C1−C6)アルキル(C1−C6)アルキル、(C6−C10)アリール(C1−C3)アルキル、パーフルオロ(C6−C10)アリール、−(CH2)a−(O−(CH2)b)c−O−(C1−C4)アルキル(ここで、a、b、cは、1〜4の整数である。)、(C6−C10)アリールオキシ(C1−C3)アルキル、(C6−C10)アリールオキシ、(C1−C6)アシルオキシ、又は(C 1 −C 6 )アルキルCOOHを表す、請求項1または2に記載のターポリマー。 - pは0であり、
R5、R6、R7、R8は、独立して、水素、直鎖又は分岐鎖(C1−C12)アルキル、ヒドロキシヘキサフルオロプロピルメチル、フェニル(C1−C3)アルキル、−(CH2)2CO2H、又は−(CH2)a−(O−(CH2)b)c−O−(C1−C4)アルキル(ここで、aは1又は2であり、bは2〜4であり、cは2又は3である。)を表す、請求項3に記載のターポリマー。 - 上記式(IA)の繰り返し単位は、
4−(2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)アセチル)フェニルアセテート;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)エタン−1−オン;
4−(2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)アセチル)−2−メトキシフェニルアセテート;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシ−3−メトキシフェニル)エタン−1−オン;
(4−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)フェニル)(4−ヒドロキシフェニル)メタノン;
3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)プロパン−1−オン;
3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシ−3−メトキシフェニル)プロパン−1−オン;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4’−ヒドロキシ−[1,1’−ビフェニル]−4−イル)エタン−1−オン;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4’−ヒドロキシ−3’−メトキシ−[1,1’−ビフェニル]−4−イル)エタン−1−オン;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(6−ヒドロキシナフタレン−2−イル)エタン−1−オン;及び、
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(6−ヒドロキシ−7−メトキシナフタレン−2−イル)エタン−1−オン
からなる群より選択されたモノマーに由来する、請求項1に記載のターポリマー。 - 上記式(IIA)の1つ以上の繰り返し単位は、
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン−2−オール;
4−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1,1,1−トリフルオロ−2−(トリフルオロメチル)ブタン−2−オール;
5−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1,1,1−トリフルオロ−2−(トリフルオロメチル)ペンタン−2−オール;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)酢酸;
3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)プロパン酸;
4−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)ブタン酸;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルメトキシ)エチルアセテート;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルメトキシ)エタノール;
5−((2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ)メチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン;及び
1−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−2,5,8,11−テトラオキサドデカン
からなる群より選択されたモノマーに由来する、請求項1に記載のターポリマー。 - 2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)エタン−1−オン、2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン−2−オール、2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)酢酸のターポリマー;
及び、
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)エタン−1−オン、3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)プロパン酸、5−((2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ)メチル)−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エンのターポリマー
からなる群より選択される、請求項1に記載のターポリマー。 - 2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)エタン−1−オン、3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)プロパン酸、5−((2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ)メチル)−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エンのターポリマーである、請求項1に記載のターポリマー。
- 2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)エタン−1−オン、2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン−2−オール、2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)酢酸のターポリマー;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)エタン−1−オン、4−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1,1,1−トリフルオロ−2−(トリフルオロメチル)ブタン−2−オール、2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)酢酸のターポリマー;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)エタン−1−オン、5−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1,1,1−トリフルオロ−2−(トリフルオロメチル)ペンタン−2−オール、2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)酢酸のターポリマー;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)エタン−1−オン、2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン−2−オール、3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)プロパン酸のターポリマー;
3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)プロパン−1−オン、3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)プロパン酸、2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン−2−オールのターポリマー;
3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)プロパン−1−オン、3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)プロパン酸、4−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1,1,1−トリフルオロ−2−(トリフルオロメチル)ブタン−2−オールのターポリマー;
3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)プロパン−1−オン、3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)プロパン酸、5−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1,1,1−トリフルオロ−2−(トリフルオロメチル)ペンタン−2−オールのターポリマー;及び、
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)エタン−1−オン、3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)プロパン酸、5−((2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ)メチル)−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エンのターポリマー
からなる群より選択される、ポリマー。 - 前記ポリマーは、
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)エタン−1−オン、2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン−2−オール、3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)プロパン酸のターポリマー;及び、
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)エタン−1−オン、3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)プロパン酸、5−((2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ)メチル)−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エンのターポリマー
からからなる群より選択される、請求項9に記載のポリマー。 - ターポリマーと、光活性化合物と、エポキシ樹脂と、溶媒と、を含む層形成ポリマー組成物であって、
前記ターポリマーは、
式(IA)で表され、式(I)のモノマーに由来する少なくとも一種の繰り返し単位;
mは、0、1又は2の整数であり、
R1、R2、R3、R4の少なくとも1つは式(A):
−R−CO−Ar−(Y)n (A)
(上記式において、
Rは、置換又は未置換の(C1−C6)アルキレン、置換又は未置換の(C3−C8)シクロアルキレン、置換又は未置換の(C1−C6)アルキレンAr、及びArからなる群より選択された2価ラジカルであり、
Arは、置換又は未置換のフェニレン、置換又は未置換のビフェニレン及び置換又は未置換のナフタレンからなる群より選択された2価ラジカルであり、
Yは、ヒドロキシ又は(C1−C6)アシルオキシであり、
nは、1〜9の整数である。);
の基であり、
残りのR1、R2、R3、R4は、独立して、水素、直鎖又は分岐鎖(C1−C16)アルキル、ヒドロキシ(C1−C12)アルキル、パーフルオロ(C1−C12)アルキル、(C3−C12)シクロアルキル、(C6−C12)ビシクロアルキル、(C7−C14)トリシクロアルキル、(C6−C10)アリール、(C6−C10)アリール(C1−C3)アルキル、パーフルオロ(C6−C10)アリール、パーフルオロ(C6−C10)アリール(C1−C3)アルキル、(C5−C10)ヘテロアリール、(C5−C10)ヘテロアリール(C1−C3)アルキル、ヒドロキシ、(C1−C12)アルコキシ、(C3−C12)シクロアルコキシ、(C6−C12)ビシクロアルコキシ、(C7−C14)トリシクロアルコキシ、−(CH2)a−(O−(CH2)b)c−O−(C1−C4)アルキル(ここで、a、b、cは、1〜4の整数である。)、(C6−C10)アリールオキシ(C1−C3)アルキル、(C5−C10)ヘテロアリールオキシ(C1−C3)アルキル、(C6−C10)アリールオキシ、(C5−C10)ヘテロアリールオキシ、(C1−C6)アシルオキシ及びハロゲンからなる群から選択される;及び、
式(IIA)で表され、それぞれ対応する式(II)のモノマーに由来する一種またはそれ以上の互いに異なる繰り返し単位;
pは、0、1又は2の整数であり、
R 5 、R 6 、R 7 、R 8 は、独立して、水素、直鎖又は分岐鎖(C 1 −C 16 )アルキル、ヒドロキシ(C 1 −C 12 )アルキル、パーフルオロ(C 1 −C 12 )アルキル、ヒドロキシパーフルオロ(C 1 −C 6 )アルキル(C 1 −C 6 )アルキル、(C 3 −C 12 )シクロアルキル、(C 6 −C 12 )ビシクロアルキル、(C 7 −C 14 )トリシクロアルキル、(C 6 −C 10 )アリール、(C 6 −C 10 )アリール(C 1 −C 3 )アルキル、パーフルオロ(C 6 −C 10 )アリール、パーフルオロ(C 6 −C 10 )アリール(C 1 −C 3 )アルキル、(C 5 −C 10 )ヘテロアリール、(C 5 −C 10 )ヘテロアリール(C 1 −C 3 )アルキル、ヒドロキシ、(C 1 −C 12 )アルコキシ、(C 3 −C 12 )シクロアルコキシ、(C 6 −C 12 )ビシクロアルコキシ、(C 7 −C 14 )トリシクロアルコキシ、−(CH 2 ) a −(O−(CH 2 ) b ) c −O−(C 1 −C 4 )アルキル(ここで、a、b、cは、1〜4の整数である。)、(C 6 −C 10 )アリールオキシ(C 1 −C 3 )アルキル、(C 5 −C 10 )ヘテロアリールオキシ(C 1 −C 3 )アルキル、(C 6 −C 10 )アリールオキシ、(C 5 −C 10 )ヘテロアリールオキシ、(C 1 −C 6 )アシルオキシ、ハロゲン、(C 1 −C 6 )アルキルCOOR 9 (ここで、R 9 は、水素又は(C 1 −C 12 )アルキルである。)からなる群から選択される;
からなる、層形成ポリマー組成物。 - 前記式(A)の基は、
ここで、
dは、1〜6の整数であり、
eは、1〜5の整数であり、
fは、1〜9の整数であり、
gは、1〜7の整数であり、
Xは、水素、直鎖又は分岐鎖(C 1 −C 6 )アルキル、ヒドロキシ(C 1 −C 6 )アルキル及びパーフルオロ(C 1 −C 6 )アルキルからなる群から選択され、
Yは、ヒドロキシ又はアセトキシである、請求項11に記載の層形成ポリマー組成物。 - 上記式(IA)又は式(IIA)の繰り返し単位は、
4−(2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)アセチル)フェニルアセテート;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)エタン−1−オン;
4−(2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)アセチル)−2−メトキシフェニルアセテート;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシ−3−メトキシフェニル)エタン−1−オン;
3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)プロパン−1−オン;
3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシ−3−メトキシフェニル)プロパン−1−オン;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4’−ヒドロキシ−[1,1’−ビフェニル]−4−イル)エタン−1−オン;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4’−ヒドロキシ−3’−メトキシ−[1,1’−ビフェニル]−4−イル)エタン−1−オン;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(6−ヒドロキシナフタレン−2−イル)エタン−1−オン;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(6−ヒドロキシ−7−メトキシナフタレン−2−イル)エタン−1−オン;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン−2−オール;
4−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1,1,1−トリフルオロ−2−(トリフルオロメチル)ブタン−2−オール;
5−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1,1,1−トリフルオロ−2−(トリフルオロメチル)ペンタン−2−オール;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)酢酸;
3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)プロパン酸;
4−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)ブタン酸;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルメトキシ)エチルアセテート;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルメトキシ)エタノール;
5−((2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ)メチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン;及び、
1−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−2,5,8,11−テトラオキサドデカン;
からなる群より選択されたモノマーに由来する、請求項12に記載の組成物。 - ポリマーと、光活性化合物と、エポキシ樹脂と、溶媒と、を含む層形成ポリマー組成物であって、
前記ポリマーは、
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)エタン−1−オン、2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン−2−オール、2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)酢酸のターポリマー;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)エタン−1−オン、4−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1,1,1−トリフルオロ−2−(トリフルオロメチル)ブタン−2−オール、2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)酢酸のターポリマー;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)エタン−1−オン、5−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1,1,1−トリフルオロ−2−(トリフルオロメチル)ペンタン−2−オール、2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)酢酸のターポリマー;
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)エタン−1−オン、2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン−2−オール、3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)プロパン酸のターポリマー;
3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)プロパン−1−オン、3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)プロパン酸、2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン−2−オールのターポリマー;
3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)プロパン−1−オン、3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)プロパン酸、4−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1,1,1−トリフルオロ−2−(トリフルオロメチル)ブタン−2−オールのターポリマー;
3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)プロパン−1−オン、3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)プロパン酸、5−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1,1,1−トリフルオロ−2−(トリフルオロメチル)ペンタン−2−オールのターポリマー;及び、
2−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)−1−(4−ヒドロキシフェニル)エタン−1−オン、3−(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イル)プロパン酸、5−((2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ)メチル)−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エンのターポリマー
からなる群から選択される、層形成ポリマー組成物。 - 前記光活性化合物は、それぞれ構造式(IIIa)及び(IIIb)で表される1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニル部分及び/又は1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホニル部分:
- 前記光活性化合物は、
ここで、少なくとも1つのQは、式(VIIa)又は(VIIb)
残りのQは水素である、請求項15に記載の組成物。 - 前記エポキシ樹脂は、
ビスフェノールAエポキシ樹脂;
ポリプロピレングリコールエポキシ樹脂;
ビス(4−(オキシラン−2−イルメトキシ)フェニル)メタン;
p−tert−ブチルフェノールのグリシジルエーテル;
ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル;
ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル;及び、
これらを組み合わせた混合物
からなる群より選択される、請求項11から16のいずれか一項に記載の組成物。 - 前記溶媒は、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン又はN−メチルピロリドンである、請求項11から17のいずれか一項に記載の組成物。
- 前記組成物は、
接着促進剤;
酸化防止剤;
界面活性剤;
熱酸発生剤;
熱塩基発生剤;及び、
これらを組み合わせた混合物
からなる群より選択された1種以上の添加剤をさらに含む、請求項11から18のいずれか一項に記載の組成物。 - (i)請求項11から19のいずれか一項に記載の層形成ポリマー組成物を基板に塗布してコーティング膜を形成すること、
(ii)所望のパターンのマスクを通じて前記コーティング膜を露光すること;
(iii)アルカリ性現像剤で現像することにより前記露光部を溶解及び除去して前記所望のパターンを取得すること、
(iv)取得した前記所望のパターンを加熱すること、
を包含する、硬化物形成プロセス。 - 請求項11から19のいずれか一項に記載の層形成ポリマー組成物を硬化させて得られる、硬化物。
- 光電子デバイス又はマイクロ電子デバイスであって、請求項21に記載の硬化物を含み、前記硬化物は1MHzで3.2以下の比誘電率を有する、デバイス。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201562235919P | 2015-10-01 | 2015-10-01 | |
US62/235,919 | 2015-10-01 | ||
PCT/US2016/053880 WO2017058746A1 (en) | 2015-10-01 | 2016-09-27 | Fluorine free photopatternable phenol functional group containing polymer compositions |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018537544A JP2018537544A (ja) | 2018-12-20 |
JP2018537544A5 JP2018537544A5 (ja) | 2019-06-20 |
JP6605720B2 true JP6605720B2 (ja) | 2019-11-13 |
Family
ID=57113777
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018515559A Active JP6605720B2 (ja) | 2015-10-01 | 2016-09-27 | 光パターニング可能なフッ素フリーフェノール官能基含有ポリマー組成物 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US10054854B2 (ja) |
JP (1) | JP6605720B2 (ja) |
KR (1) | KR20180059805A (ja) |
TW (1) | TWI672323B (ja) |
WO (1) | WO2017058746A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10054854B2 (en) * | 2015-10-01 | 2018-08-21 | Promerus, Llc | Fluorine free photopatternable phenol functional group containing polymer compositions |
TWI794520B (zh) * | 2018-06-29 | 2023-03-01 | 日商住友電木股份有限公司 | 作為 3d 列印材料之聚環烯烴單體及由能夠產生光酸之化合物活化之催化劑 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006017035A1 (en) | 2004-07-07 | 2006-02-16 | Promerus Llc | Photosensitive dielectric resin compositions and their uses |
US8053515B2 (en) * | 2006-12-06 | 2011-11-08 | Promerus Llc | Directly photodefinable polymer compositions and methods thereof |
US7727705B2 (en) * | 2007-02-23 | 2010-06-01 | Fujifilm Electronic Materials, U.S.A., Inc. | High etch resistant underlayer compositions for multilayer lithographic processes |
JP4948647B2 (ja) * | 2008-04-07 | 2012-06-06 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 尿中粒子画像の領域分割方法及び装置 |
US8753790B2 (en) * | 2009-07-01 | 2014-06-17 | Promerus, Llc | Self-imageable film forming polymer, compositions thereof and devices and structures made therefrom |
WO2012071496A1 (en) * | 2010-11-24 | 2012-05-31 | Promerus Llc | A self-imageable film forming polymer, compositions thereof and devices and structures made therefrom |
US10054854B2 (en) * | 2015-10-01 | 2018-08-21 | Promerus, Llc | Fluorine free photopatternable phenol functional group containing polymer compositions |
-
2016
- 2016-09-27 US US15/276,997 patent/US10054854B2/en active Active
- 2016-09-27 WO PCT/US2016/053880 patent/WO2017058746A1/en active Application Filing
- 2016-09-27 JP JP2018515559A patent/JP6605720B2/ja active Active
- 2016-09-27 KR KR1020187009204A patent/KR20180059805A/ko unknown
- 2016-09-30 TW TW105131643A patent/TWI672323B/zh not_active IP Right Cessation
-
2018
- 2018-07-19 US US16/040,459 patent/US10303057B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20170097566A1 (en) | 2017-04-06 |
WO2017058746A1 (en) | 2017-04-06 |
US20180329299A1 (en) | 2018-11-15 |
TW201731883A (zh) | 2017-09-16 |
KR20180059805A (ko) | 2018-06-05 |
US10054854B2 (en) | 2018-08-21 |
TWI672323B (zh) | 2019-09-21 |
JP2018537544A (ja) | 2018-12-20 |
US10303057B2 (en) | 2019-05-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5860193B2 (ja) | マレイミド含有シクロオレフィンポリマーおよびその利用 | |
JP5728762B2 (ja) | 自己画像形成性フィルム形成ポリマー、その組成物、並びにそれから製造されるデバイス及び構造物 | |
TWI716619B (zh) | 納迪克酸酐聚合物及由其衍生的光敏組成物 | |
JP7363789B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、パターン硬化膜の製造方法、硬化膜、層間絶縁膜、カバーコート層、表面保護膜及び電子部品 | |
JP6564065B2 (ja) | 永久的な誘電体としてのマレイミド及びシクロオレフィンモノマーのポリマー | |
TW200836002A (en) | Photosensitive resin composition and organic insulating film produced using the same | |
JP2019503415A (ja) | ノルボルナジエン及び無水マレイン酸由来の重合体並びにその利用 | |
JP6605720B2 (ja) | 光パターニング可能なフッ素フリーフェノール官能基含有ポリマー組成物 | |
JP7083455B2 (ja) | 化合物、樹脂、組成物及びパターン形成方法 | |
TW201100968A (en) | Resist underlayer film forming composition containing polymer having acetal structure on side group and method for forming resist pattern | |
US11048168B2 (en) | Permanent dielectric compositions containing photoacid generator and base | |
KR20180029549A (ko) | 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조된 광경화 패턴 | |
JP6770071B2 (ja) | 光酸発生剤及び塩基を含有する永久誘電体組成物 | |
KR102324616B1 (ko) | 감광성 수지 조성물, 감광성 수지막 및 반도체 절연 필름 | |
KR20240021723A (ko) | 감방사선성 조성물, 경화막 및 그의 제조 방법, 액정표시 장치, 유기 el 표시 장치, 그리고 경화성 수지 조성물 | |
CN111465900A (zh) | 感光性树脂组合物、感光材料、显示装置、以及用于感光性树脂组合物的低温固化的方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190516 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190516 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20190516 |
|
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20190522 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190906 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190919 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20191016 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6605720 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |