JP6576736B2 - 導電性接着剤および半導体装置 - Google Patents
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Description
〔1〕(A)エポキシ樹脂、
(B)フェノール系硬化剤および/またはアミン系硬化剤、
(C)モルホリン類還元剤および/または8−キノリノール、
(D)導電性充填剤、ならびに
(E)酸基とアミノ基を含む添加剤
を含有することを特徴とする、導電性接着剤。
〔2〕(C)成分が、モルホリン、2,6−ジメチルモルホリン、4−(3−ヒドロキシプロピル)モルホリン、4−メチルモルホリン、4−(4−アミノフェニル)モルホリン、チオモルホリンおよび1,1−ジオキソチオモルホリンからなる群より選択される少なくとも1種である、上記〔1〕記載の導電性接着剤。
〔3〕(C)成分が、(A)〜(E)成分の合計100質量部に対して、0.05〜1.00質量部である、上記〔1〕または〔2〕記載の導電性接着剤。
〔4〕(E)成分の酸価およびアミン価が、それぞれ20〜200mgKOH/gである、上記〔1〕〜〔3〕のいずれか記載の導電性接着剤。
〔5〕(D)成分が、銀、ニッケル、銅、錫、アルミニウム、銀合金、ニッケル合金、銅合金、錫合金およびアルミニウム合金からなる群から選択される少なくとも1種の金属または合金を含む粉末である、上記〔1〕〜〔4〕のいずれか記載の導電性接着剤。
〔6〕導電部を有する樹脂基板と、電極部を有する半導体素子とを含み、
上記〔1〕〜〔5〕のいずれか記載の導電性接着剤の硬化物で、樹脂基板の導電部と半導体素子の電極部とが接着された、半導体装置。
〔7〕樹脂基板の導電部がニッケル、アルミニウム、銅または錫である、上記〔6〕記載の半導体装置。
〔8〕ICチップの電磁波シールド材であるリッドと、アース用の金属電極が形成された樹脂基板とを含み、
上記〔1〕〜〔5〕のいずれか記載の導電性接着剤の硬化物で、リッドと、金属電極および/または樹脂基板とが、接着された、半導体装置。
〔9〕リッドが、少なくともその表面に、ニッケル、アルミニウム、銅または錫を有する、上記〔8〕記載の半導体装置。
(A)エポキシ樹脂、
(B)フェノール系硬化剤および/またはアミン系硬化剤、
(C)モルホリン類還元剤および/または8−キノリノール、
(D)導電性充填剤、ならびに
(E)酸基およびアミノ基を含む添加剤
を含有する。
化学式(1)で表されるモルホリン:
本発明の半導体装置は、導電部を有する樹脂基板と、電極部を有する半導体素子とを含み、上記導電性接着剤の硬化物で、樹脂基板の導電部と半導体素子の電極部とが接続される。
表1〜表3に示す割合で、(C)成分以外をハイブリッドミキサーで分散させた。なお、実施例19では、BYK−116とオレイン酸を、それぞれ0.21質量部加えた。
〈接続抵抗値の測定〉
NiめっきをしたCuリードフレーム(厚み:200μm)上に、導電性接着剤を印刷し、3216サイズのAgPd端面電極をマウントさせた。150℃のオーブン中に30分間保持して硬化させた後、リードフレームと電極との間の抵抗値を4端子法で測定し、接続抵抗値を得た。接続抵抗値は、3000mΩ未満であると、好ましく、1000mΩ未満であると、さらに好ましい。表1〜表3に、接続抵抗値の結果を示す。
NiめっきをしたCuリードフレーム(厚み:200μm)上に、導電性接着剤を印刷し、2mm角のシリコンチップ(電極なし)をマウントした。150℃のオーブン中に30分間保持して硬化させた後、強度試験機(アイコーエンジニアリング株式会社製 型番:Model 1605HTP)を用いてせん断強度を測定することにより、常温での接着強度を求めた。Niとの接着強度は、10N/mm2以上であれば好ましく、樹脂との接着強度は、6N/mm2以上であれば好ましい。表1〜表3に、Niとの接着強度、樹脂との接着強度の結果を示す。
Claims (8)
- (A)エポキシ樹脂、
(B)フェノール系硬化剤および/またはアミン系硬化剤、
(C)モルホリン類還元剤、
(D)導電性充填剤、ならびに
(E)酸基およびアミノ基を含む添加剤
を含有し、(C)成分が、(A)〜(E)成分の合計100質量部に対して、0.05〜1.00質量部であることを特徴とする、導電性接着剤。 - (C)成分が、モルホリン、2,6−ジメチルモルホリン、4−(3−ヒドロキシプロピル)モルホリン、4−メチルモルホリン、4−(4−アミノフェニル)モルホリン、チオモルホリンおよび1,1−ジオキソチオモルホリンからなる群より選択される少なくとも1種である、請求項1記載の導電性接着剤。
- (E)成分の酸価およびアミン価が、それぞれ20〜200mgKOH/gである、請求項1または2記載の導電性接着剤。
- (D)成分が、銀、ニッケル、銅、錫、アルミニウム、銀合金、ニッケル合金、銅合金、錫合金およびアルミニウム合金からなる群から選択される少なくとも1種の金属または合金を含む粉末である、請求項1〜3のいずれか1項記載の導電性接着剤。
- 導電部を有する樹脂基板と、電極部を有する半導体素子とを含み、
請求項1〜4のいずれか1項記載の導電性接着剤の硬化物で、樹脂基板の導電部と半導体素子の電極部とが接着された、半導体装置。 - 樹脂基板の導電部がニッケル、アルミニウム、銅または錫である、請求項5記載の半導体装置。
- ICチップの電磁波シールド材であるリッドと、アース用の金属電極が形成された樹脂基板とを含み、
請求項1〜4のいずれか1項記載の導電性接着剤の硬化物で、リッドと、金属電極および/または樹脂基板とが、接着された、半導体装置。 - リッドが、少なくともその表面に、ニッケル、アルミニウム、銅または錫を有する、請求項7記載の半導体装置。
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