JP6576065B2 - Mount and wastewater treatment equipment - Google Patents

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JP6576065B2 JP2015057278A JP2015057278A JP6576065B2 JP 6576065 B2 JP6576065 B2 JP 6576065B2 JP 2015057278 A JP2015057278 A JP 2015057278A JP 2015057278 A JP2015057278 A JP 2015057278A JP 6576065 B2 JP6576065 B2 JP 6576065B2
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哲徳 小澤
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Description

本開示は、排水処理装置の水処理槽内で散気装置や濾材などの部材を支持する架台に関する。   The present disclosure relates to a gantry that supports members such as an air diffuser and a filter medium in a water treatment tank of a wastewater treatment apparatus.

従来から、排水処理装置の水処理槽内には、種々の部材が配置されている。例えば、生物濾過槽の中に中空濾材と散気装置とを配置し、散気装置からの散気により、中空濾材に付着した好気性微生物の活動を促進する技術が開示されている。開示された技術では、中空濾材の浮上と沈降とを防止するために、生物濾過槽の上方部と下方部とに多孔部材を配設し、これらの多孔部材の間に散気装置と中空濾材とが配置されている。   Conventionally, various members are arranged in a water treatment tank of a wastewater treatment apparatus. For example, a technique is disclosed in which a hollow filter medium and an air diffuser are arranged in a biological filtration tank, and the activity of aerobic microorganisms attached to the hollow filter medium is promoted by the air diffused from the air diffuser. In the disclosed technique, in order to prevent the hollow filter medium from floating and settling, porous members are disposed in the upper part and the lower part of the biological filtration tank, and the air diffuser and the hollow filter medium are provided between these porous members. And are arranged.

特開2000−354882号公報JP 2000-354882 A

ところが、中空濾材などの部材を支持する多孔部材などの架台を水処理槽内に配置する点に関しては、十分な工夫がなされていないのが実情であった。   However, the actual situation is that no sufficient contrivance has been made with respect to the point that a frame such as a porous member that supports a member such as a hollow filter medium is disposed in the water treatment tank.

本開示は、架台を用いる新たな水処理技術を提供する。   The present disclosure provides a new water treatment technique using a gantry.

本開示は、例えば、以下の適用例を開示する。   For example, the present disclosure discloses the following application examples.

[適用例1]
排水処理装置の水処理槽内に配置される架台であって、
散気装置と濾材との少なくとも一方を含む対象部材を、水平方向の位置が互いに異なる複数の位置で支持するための部材支持部と、
前記部材支持部から下方側に向かって突出して水処理槽内の底面上で前記部材支持部を支持するための1個以上の脚部と、
を備え、
前記1個以上の脚部のそれぞれは、互いに連通する複数の開口を有する、
架台。
[Application Example 1]
A stand placed in the water treatment tank of the waste water treatment device,
A member support for supporting a target member including at least one of the air diffuser and the filter medium at a plurality of positions whose horizontal positions are different from each other;
One or more legs for projecting downward from the member support portion to support the member support portion on the bottom surface in the water treatment tank;
With
Each of the one or more legs has a plurality of openings communicating with each other.
Mount.

この構成によれば、部材支持部が水処理槽内の底面上で1個以上の脚部によって支持されるので、部材支持部の位置ズレを抑制できる。また、1個以上の脚部のそれぞれが複数の開口を有するので、脚部が水処理槽内の水の流れを止めることを抑制できる。   According to this structure, since a member support part is supported by the 1 or more leg part on the bottom face in a water treatment tank, the position shift of a member support part can be suppressed. Moreover, since each of the one or more legs has a plurality of openings, it is possible to suppress the legs from stopping the flow of water in the water treatment tank.

[適用例2]
適用例1に記載の架台であって、
前記部材支持部と前記1個以上の脚部とは、一体に成形されている、架台。
[Application Example 2]
The gantry described in Application Example 1,
The member support part and the one or more leg parts are integrally formed.

この構成によれば、架台を容易に製造できる。   According to this configuration, the gantry can be easily manufactured.

[適用例3]
適用例1または2に記載の架台であって、
前記1個以上の脚部のそれぞれは、水平断面の輪郭の最大径が下方側に向かって小さくなるテーパ形状である、架台。
[Application Example 3]
The mount according to application example 1 or 2,
Each of the one or more legs has a tapered shape in which the maximum diameter of the contour of the horizontal cross section decreases toward the lower side.

この構成によれば、脚部を含む架台の製造を容易に行うことができる。   According to this configuration, it is possible to easily manufacture the gantry including the leg portions.

[適用例4]
適用例1から3のいずれか1項に記載の架台であって、
前記水処理槽の前記底面は、水平面に対して傾斜する傾斜部分を含み、
前記水処理槽内に前記架台が配置された状態において、前記1個以上の脚部のうちの特定の脚部は、前記底面の前記傾斜部分上に配置され、
前記特定の脚部の下面は、前記底面の前記傾斜部分に合わせて傾斜している、
架台。
[Application Example 4]
The frame according to any one of Application Examples 1 to 3,
The bottom surface of the water treatment tank includes an inclined portion inclined with respect to a horizontal plane;
In a state where the gantry is disposed in the water treatment tank, a specific leg portion of the one or more leg portions is disposed on the inclined portion of the bottom surface,
The lower surface of the specific leg portion is inclined according to the inclined portion of the bottom surface,
Mount.

この構成によれば、特定の脚部は、水処理槽の底面の傾斜部分上で、適切に、部材支持部を支持できる。   According to this configuration, the specific leg portion can appropriately support the member support portion on the inclined portion of the bottom surface of the water treatment tank.

[適用例5]
適用例1から4のいずれか1項に記載の架台であって、
前記脚部は、
前記部材支持部から下方側に向かって延びる複数の柱部と、
前記複数の柱部の下方側の端に接続されるとともに前記脚部の下面を形成する下部と、
を含む、架台。
[Application Example 5]
The gantry according to any one of Application Examples 1 to 4,
The legs are
A plurality of pillars extending downward from the member support;
A lower part connected to the lower end of the plurality of pillars and forming a lower surface of the leg;
Including gantry.

この構成によれば、脚部は、複数の柱部の間を水が流れることを許容しつつ、適切に部材支持部を支持できる。   According to this configuration, the leg portion can appropriately support the member support portion while allowing water to flow between the plurality of column portions.

[適用例6]
適用例1から5のいずれか1項に記載の架台であって、
前記部材支持部は、複数の貫通孔を形成する孔形成部を含む、架台。
[Application Example 6]
The gantry according to any one of Application Examples 1 to 5,
The said member support part is a mount frame containing the hole formation part which forms a some through-hole.

この構成によれば、部材支持部は、孔形成部の複数の貫通孔を水が流れることを許容しつつ、適切に対象部材を支持できる。   According to this configuration, the member support portion can appropriately support the target member while allowing water to flow through the plurality of through holes of the hole forming portion.

[適用例7]
適用例6に記載の架台であって、
前記脚部は、前記部材支持部の前記孔形成部の1つの貫通孔を形成する環状の部分に、接続されている、架台。
[Application Example 7]
The gantry described in Application Example 6,
The said leg part is a mount frame connected to the cyclic | annular part which forms one through-hole of the said hole formation part of the said member support part.

この構成によれば、複数の貫通孔を形成する孔形成部に、適切に、脚部を接続できる。   According to this structure, a leg part can be appropriately connected to the hole formation part which forms a some through-hole.

[適用例8]
排水処理装置であって、
第1水処理槽を含む1個以上の水処理槽と、
前記第1水処理槽内に配置された、散気装置と濾材との少なくとも一方を含む対象部材と、
前記第1水処理槽内に配置され、前記対象部材を支持する、適用例1から7のいずれか1項に記載の架台と、
流路と第2水処理槽とのいずれかの側壁の少なくとも一部を形成する壁部と、
を備え、
前記架台の前記部材支持部は、上方から下方を向いて見た場合に前記部材支持部の縁が前記部材支持部の内周側に向かって凹んだ部分を形成する凹部を有し、
前記壁部は、
前記部材支持部の前記凹部の前記縁に沿って配置され、前記流路と前記第2水処理槽とのいずれかの前記側壁の少なくとも一部を形成する壁形成部と、
前記部材支持部の前記凹部の少なくとも一部の上側に配置され、前記凹部が上側に移動しようとする場合に前記凹部の少なくとも一部に接触することによって、前記壁部に対する前記凹部の上側への移動を抑制する上抑え部と、
前記部材支持部の前記凹部の少なくとも一部の下側に配置され、前記凹部が下側に移動しようとする場合に前記凹部の少なくとも一部に接触することによって、前記壁部に対する前記凹部の下側への移動を抑制する下抑え部と、
を有する、
排水処理装置。
[Application Example 8]
Wastewater treatment equipment,
One or more water treatment tanks including a first water treatment tank;
A target member including at least one of an air diffuser and a filter medium disposed in the first water treatment tank;
The gantry according to any one of Application Examples 1 to 7, which is disposed in the first water treatment tank and supports the target member,
A wall portion forming at least a part of the side wall of either the flow path or the second water treatment tank;
With
The member support portion of the pedestal has a recess that forms a portion in which the edge of the member support portion is recessed toward the inner peripheral side of the member support portion when viewed from the top downward.
The wall is
A wall forming part that is disposed along the edge of the recess of the member support part and forms at least a part of the side wall of either the flow path or the second water treatment tank;
It is arranged above at least a part of the concave part of the member support part, and contacts the at least part of the concave part when the concave part is going to move upward. An upper restraining part for restraining movement;
The member supporting portion is disposed below at least a part of the concave portion, and contacts the at least part of the concave portion when the concave portion is about to move downward. A lower holding part that suppresses movement to the side,
Having
Wastewater treatment equipment.

この構成によれば、壁部と架台との間の位置ズレを抑制できる。   According to this structure, the position shift between a wall part and a mount frame can be suppressed.

[適用例9]
排水処理装置であって、
第1水処理槽を含む1個以上の水処理槽と、
前記第1水処理槽内に配置された、散気装置と濾材との少なくとも一方を含む対象部材と、
前記第1水処理槽内に配置され、前記対象部材を支持する架台と、
流路と第2水処理槽とのいずれかの側壁の少なくとも一部を形成する壁部と、
を備え、
前記架台は、前記対象部材を水平方向の位置が互いに異なる複数の位置で支持する部材支持部を有し、
前記架台の前記部材支持部は、上方から下方を向いて見た場合に前記部材支持部の縁が前記部材支持部の内周側に向かって凹んだ部分を形成する凹部を有し、
前記壁部は、
前記部材支持部の前記凹部の前記縁に沿って配置され、前記流路と前記第2水処理槽とのいずれかの前記側壁の少なくとも一部を形成する壁形成部と、
前記部材支持部の前記凹部の少なくとも一部の上側に配置され、前記凹部が上側に移動しようとする場合に前記凹部の少なくとも一部に接触することによって、前記壁部に対する前記凹部の上側への移動を抑制する上抑え部と、
前記部材支持部の前記凹部の少なくとも一部の下側に配置され、前記凹部が下側に移動しようとする場合に前記凹部の少なくとも一部に接触することによって、前記壁部に対する前記凹部の下側への移動を抑制する下抑え部と、
を有する、
排水処理装置。
[Application Example 9]
Wastewater treatment equipment,
One or more water treatment tanks including a first water treatment tank;
A target member including at least one of an air diffuser and a filter medium disposed in the first water treatment tank;
A pedestal arranged in the first water treatment tank and supporting the target member;
A wall portion forming at least a part of the side wall of either the flow path or the second water treatment tank;
With
The gantry includes a member support portion that supports the target member at a plurality of positions whose horizontal positions are different from each other.
The member support portion of the pedestal has a recess that forms a portion in which the edge of the member support portion is recessed toward the inner peripheral side of the member support portion when viewed from the top downward.
The wall is
A wall forming part that is disposed along the edge of the recess of the member support part and forms at least a part of the side wall of either the flow path or the second water treatment tank;
It is arranged above at least a part of the concave part of the member support part, and contacts the at least part of the concave part when the concave part is going to move upward. An upper restraining part for restraining movement;
The member supporting portion is disposed below at least a part of the concave portion, and contacts the at least part of the concave portion when the concave portion is about to move downward. A lower holding part that suppresses movement to the side,
Having
Wastewater treatment equipment.

この構成によれば、壁部と架台との間の位置ズレを抑制できる。   According to this structure, the position shift between a wall part and a mount frame can be suppressed.

[適用例10]
適用例8または9に記載の排水処理装置であって、
前記架台と前記壁部との一方は、弾性変形可能な係合爪を有し、
前記架台と前記壁部との他方は、前記係合爪に係合する係合部を有し、
前記架台と前記壁部とは、前記係合爪が前記係合部に係合することによって、互いに接続されている、
排水処理装置。
[Application Example 10]
The wastewater treatment apparatus according to Application Example 8 or 9,
One of the gantry and the wall has an engaging claw that is elastically deformable,
The other of the gantry and the wall has an engaging part that engages with the engaging claw,
The gantry and the wall portion are connected to each other by the engagement claw engaging the engagement portion.
Wastewater treatment equipment.

この構成によれば、架台と壁部との接続を容易に行うことができる。   According to this configuration, the mount and the wall portion can be easily connected.

[適用例11]
適用例8から10のいずれか1項に記載の排水処理装置であって、
前記下抑え部は、前記架台の前記凹部の第1部分に接触する第1接触部を含み、
前記上抑え部は、前記架台の前記凹部のうち前記第1部分よりも奥側に位置する第2部分に接触する第2接触部を含み、
前記架台は、前記凹部の前記第1部分が前記下抑え部の第1接触部に接触し、前記凹部の前記第2部分が前記上抑え部の第2接触部に接触した状態で、前記第1水処理槽内に配置されている、
排水処理装置。
[Application Example 11]
The wastewater treatment apparatus according to any one of Application Examples 8 to 10,
The lower holding portion includes a first contact portion that contacts a first portion of the recess of the gantry,
The upper holding portion includes a second contact portion that comes into contact with a second portion located on the back side of the first portion of the recess of the gantry,
The gantry includes the first portion of the recess in contact with the first contact portion of the lower holding portion, and the second portion of the recess in contact with the second contact portion of the upper holding portion. It is arranged in one water treatment tank,
Wastewater treatment equipment.

この構成によれば、水平方向に対する架台の向きのズレを、第1接触部と第2接触部とによって抑制できる。   According to this structure, the shift | offset | difference of the direction of a mount frame with respect to a horizontal direction can be suppressed by the 1st contact part and the 2nd contact part.

[適用例12]
適用例8から11のいずれか1項に記載の排水処理装置であって、
前記壁部は、前記上抑え部と前記下抑え部とのいずれかを形成する部分であって、上方から下方を向いて見る場合に、前記架台の前記凹部の前記縁に前記凹部の前記縁の全長に亘って重なる鍔を有する、
排水処理装置。
[Application Example 12]
The wastewater treatment apparatus according to any one of Application Examples 8 to 11,
The wall portion is a portion that forms one of the upper holding portion and the lower holding portion, and when viewed from the upper side to the lower side, the edge of the recessed portion is placed on the edge of the recessed portion of the gantry. Having a ridge that overlaps the entire length of the
Wastewater treatment equipment.

この構成によれば、壁部の鍔は、凹部の縁の全長に亘って位置ズレを抑制できるので、架台の位置ズレを適切に抑制できる。   According to this structure, since the wrinkles of the wall portion can suppress the positional deviation over the entire length of the edge of the concave portion, the positional deviation of the gantry can be appropriately suppressed.

なお、本明細書に開示の技術は、種々の態様で実現することが可能であり、例えば、架台、架台を備える排水処理装置、架台と壁部とを備える排水処理装置、等の態様で実現することができる。   The technology disclosed in this specification can be realized in various modes, for example, in a mode such as a gantry, a wastewater treatment device including a gantry, a wastewater treatment device including a gantry and a wall, and the like. can do.

一実施例としての排水処理装置800の処理フローを示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the processing flow of the waste water treatment apparatus 800 as one Example. 排水処理装置800を横から見た概略構成図である。It is the schematic block diagram which looked at the waste water treatment apparatus 800 from the side. 排水処理装置800の概略図である。1 is a schematic view of a wastewater treatment apparatus 800. FIG. 排水処理装置800の概略図である。1 is a schematic view of a wastewater treatment apparatus 800. FIG. 接触濾床槽830と処理水槽840と消毒槽850とを示す概略斜視図である。It is a schematic perspective view which shows the contact filter bed tank 830, the treated water tank 840, and the disinfection tank 850. 仕切板803と側壁部842、843、844と架台900と散気装置834と送気パイプ622との構成を示す概略斜視図である。It is a schematic perspective view which shows the structure of the partition plate 803, side wall part 842, 843, 844, the mount 900, the diffuser 834, and the air supply pipe 622. 架台900の構成を示す概略図である。2 is a schematic diagram showing a configuration of a gantry 900. FIG. 接触濾床槽830の底面830sと、接触濾床槽830内に配置された架台900と、の概略図である。It is the schematic of the bottom face 830s of the contact filter bed tank 830, and the mount 900 arrange | positioned in the contact filter bed tank 830. 壁部700の下方側の一部と架台900との斜視図である。FIG. 5 is a perspective view of a part on the lower side of a wall portion 700 and a gantry 900. 壁部700と架台900とが互いに接続される様子を示す概略図である。It is the schematic which shows a mode that the wall part 700 and the mount frame 900 are mutually connected. 壁部700と架台900とが互いに接続される様子を横から見た概略図である。It is the schematic which looked at a mode that the wall part 700 and the mount frame 900 were connected mutually from the side.

A.実施例:
図1は、一実施例としての排水処理装置800の処理フローを示す説明図である。本実施例の排水処理装置800は、一般家庭等からの排水の浄化処理を行う(このような装置は「浄化槽」とも呼ばれる)。排水処理装置800は、複数のステップを経て浄化処理を行うために、複数の水処理槽を有している。図1の実施例では、排水処理装置800は、上流(図1の左側)から順番に、夾雑物除去槽810、嫌気濾床槽820、接触濾床槽830、処理水槽840、消毒槽850の各水処理槽を、収容している。排水処理装置800に流入した排水は、夾雑物除去槽810、嫌気濾床槽820、接触濾床槽830、処理水槽840、消毒槽850で順次処理された後に、排水処理装置800の外部に放流される。以下、各水処理槽を流れる水を「被処理水」あるいは、単に「水」と呼ぶ。
A. Example:
FIG. 1 is an explanatory diagram showing a processing flow of a wastewater treatment apparatus 800 as one embodiment. The waste water treatment apparatus 800 of this embodiment performs a purification process of waste water from a general household (such an apparatus is also called a “septic tank”). The wastewater treatment apparatus 800 has a plurality of water treatment tanks in order to perform purification treatment through a plurality of steps. In the embodiment of FIG. 1, the waste water treatment apparatus 800 includes a contaminant removal tank 810, an anaerobic filter bed tank 820, a contact filter bed tank 830, a treated water tank 840, and a disinfection tank 850 in order from the upstream (left side in FIG. 1). Each water treatment tank is accommodated. The wastewater that has flowed into the wastewater treatment apparatus 800 is sequentially treated in the contaminant removal tank 810, the anaerobic filter bed tank 820, the contact filter bed tank 830, the treated water tank 840, and the disinfection tank 850, and then discharged to the outside of the wastewater treatment apparatus 800. Is done. Hereinafter, water flowing through each water treatment tank is referred to as “water to be treated” or simply “water”.

図2は、排水処理装置800を横から見た概略構成図である。図3は、図2中のA−A断面から下方を向いて見た排水処理装置800の概略構成を示している。図3の下部には、接触濾床槽830と処理水槽840とのそれぞれの壁を表す説明図が示されている。図4は、図2中のB−B断面から夾雑物除去槽810側を向いて見た排水処理装置800の概略構成を示している。図5は、接触濾床槽830と処理水槽840と消毒槽850とを示す概略斜視図である。これらの図中において、Z方向は、鉛直方向の下方から上方へ向かう方向を示し、X方向は、排水処理装置800の長手方向(水平な方向)を示し、Y方向は、X方向とZ方向とのそれぞれに直交する方向(水平な方向)を示している。以下、X方向を「+X方向」とも呼び、X方向側を「+X側」とも呼び、X方向の反対方向を「−X方向」とも呼び、−X方向側を「−X側」とも呼ぶ。Y方向、Z方向についても、同様である。   FIG. 2 is a schematic configuration diagram of the waste water treatment apparatus 800 viewed from the side. FIG. 3 shows a schematic configuration of the waste water treatment apparatus 800 viewed downward from the AA cross section in FIG. In the lower part of FIG. 3, explanatory views showing respective walls of the contact filter bed tank 830 and the treated water tank 840 are shown. FIG. 4 shows a schematic configuration of the waste water treatment apparatus 800 viewed from the BB cross section in FIG. 2 toward the contaminant removal tank 810 side. FIG. 5 is a schematic perspective view showing a contact filter bed tank 830, a treated water tank 840, and a disinfection tank 850. In these drawings, the Z direction indicates the direction from the lower side to the upper side in the vertical direction, the X direction indicates the longitudinal direction (horizontal direction) of the waste water treatment apparatus 800, and the Y direction indicates the X direction and the Z direction. The direction (horizontal direction) orthogonal to each of these is shown. Hereinafter, the X direction is also referred to as “+ X direction”, the X direction side is also referred to as “+ X side”, the opposite direction of the X direction is also referred to as “−X direction”, and the −X direction side is also referred to as “−X side”. The same applies to the Y direction and the Z direction.

夾雑物除去槽810は、排水中の夾雑物を分離する水処理槽である。図2、図3に示すように、夾雑物除去槽810は、排水処理装置800の最上流部に配置されている。流入口802からの排水(汚水とも呼ばれる)は、まず、夾雑物除去槽810に流入する。夾雑物除去槽810は、固液分離手段(本実施例では、流入バッフル812)を有しており、排水中の夾雑物を被処理水から分離する。本実施例の流入バッフル812は、夾雑物除去槽810に流入する水を、上方側から下方側へ導く流路を形成している。これにより、流入バッフル812は、夾雑物除去槽810に流入する水に含まれる固形物の流れる方向を、下流側の水処理槽である嫌気濾床槽820へ向かう方向(ここでは、+X方向)ではなく、夾雑物除去槽810の底部に向けることができる。この結果、夾雑物除去槽810は、底部に固形物を堆積させることができる。夾雑物が分離(除去)されたあとの水は、移流開口814を通じて、嫌気濾床槽820に移流する。   The contaminant removal tank 810 is a water treatment tank that separates contaminants in the waste water. As shown in FIGS. 2 and 3, the contaminant removal tank 810 is disposed at the most upstream portion of the waste water treatment apparatus 800. Waste water (also called sewage) from the inflow port 802 first flows into the contaminant removal tank 810. The contaminant removal tank 810 has solid-liquid separation means (in this embodiment, an inflow baffle 812), and separates contaminants in the waste water from the water to be treated. The inflow baffle 812 of the present embodiment forms a flow path that guides water flowing into the contaminant removal tank 810 from the upper side to the lower side. Thereby, inflow baffle 812 is the direction (here + X direction) which goes to the anaerobic filter bed tank 820 which is a downstream water treatment tank in the flow direction of the solid substance contained in the water which flows into contaminant removal tank 810. Instead, it can be directed to the bottom of the contaminant removal tank 810. As a result, the contaminant removal tank 810 can deposit solid matter at the bottom. The water after the impurities are separated (removed) is transferred to the anaerobic filter bed tank 820 through the transfer opening 814.

嫌気濾床槽820は、嫌気性微生物による嫌気処理を行う水処理槽である。嫌気濾床槽820は、嫌気性微生物が付着するための濾材822を有している。嫌気処理によって、被処理水中の有機物が分解される。また、濾材822は、被処理水中の浮遊物を捕捉し得る。   The anaerobic filter bed tank 820 is a water treatment tank that performs anaerobic treatment with anaerobic microorganisms. The anaerobic filter bed tank 820 has a filter medium 822 for attaching anaerobic microorganisms. The organic matter in the for-treatment water is decomposed by the anaerobic treatment. Moreover, the filter medium 822 can capture floating substances in the water to be treated.

図2、図3に示すように、嫌気濾床槽820の下流側(+X側)の側壁803は、槽本体801を、X方向に対して垂直に、2つに仕切る壁である(以下、この壁を「仕切板803」とも呼ぶ)。仕切板803の反対側(+X側)には、上から見て、仕切板803から+X側(図3中の右側)に突出する略U字状に配置された側壁部843、842、844が、固定されている。仕切板803と側壁部843、842、844で囲まれる空間が、処理水槽840に相当する。仕切板803と槽本体801とで囲まれる+X側の空間のうちの、側壁部843、842、844の外側の空間は、接触濾床槽830に相当する。側壁部843、842、844の構成については、後述する。   As shown in FIGS. 2 and 3, the side wall 803 on the downstream side (+ X side) of the anaerobic filter bed tank 820 is a wall that partitions the tank body 801 into two perpendicular to the X direction (hereinafter, This wall is also called “partition plate 803”). On the opposite side (+ X side) of the partition plate 803, when viewed from above, side wall portions 843, 842, and 844 arranged in a substantially U shape projecting from the partition plate 803 to the + X side (right side in FIG. 3). It has been fixed. A space surrounded by the partition plate 803 and the side wall portions 843, 842, 844 corresponds to the treated water tank 840. Out of the space on the + X side surrounded by the partition plate 803 and the tank body 801, the space outside the side wall portions 843, 842, and 844 corresponds to the contact filter bed tank 830. The configuration of the side wall portions 843, 842, and 844 will be described later.

仕切板803における嫌気濾床槽820と接触濾床槽830との境界を成す部分には、移流開口824が形成されている(図2、図3)。移流開口824は、仕切板803の上部に配置されており、通常時には、水面WLは、この移流開口824の途中に位置する。後述するように、水面WLは、低水位LWLと高水位HWLとの間で、変動し得る。嫌気濾床槽820で処理された水は、移流開口824を通じて、接触濾床槽830に移流する。   An advection opening 824 is formed in a part of the partition plate 803 that forms a boundary between the anaerobic filter bed tank 820 and the contact filter bed tank 830 (FIGS. 2 and 3). The advection opening 824 is disposed on the upper part of the partition plate 803, and the water surface WL is normally located in the middle of the advection opening 824. As will be described later, the water surface WL can vary between the low water level LWL and the high water level HWL. The water treated in the anaerobic filter bed tank 820 is transferred to the contact filter bed tank 830 through the transfer opening 824.

接触濾床槽830は、好気性微生物による好気処理を行う水処理槽である。図3に示すように、接触濾床槽830は、処理水槽840の三方(+Y方向、+X方向、−Y方向)を囲むように形成されている。図5に示すように、接触濾床槽830の下部には、架台900が配置されている。架台900の上側には、散気装置834が固定されている。また、架台900(散気装置834)の上には、微生物を保持するための好気濾材833が配置され、好気濾材833の上には、微生物を保持するための接触材832が配置されている。以下、接触材832と好気濾材833との全体を、保持部材835と呼ぶ。散気装置834と好気濾材833と接触材832とは、処理水槽840の両側(+Y側と−Y側)に配置されている(図3〜図5)。好気濾材833は、さらに、処理水槽840の+X側にも、配置されている(図5)。以下、+Y側と−Y側とに配置された2つの同じ部材を区別する場合に、+Y側の部材の符号の末尾に文字「p」を付加し、−Y側の部材の符号の末尾に文字「m」を付加する。例えば、+Y側の接触材832を接触材832pとも呼ぶ。なお、図5中では、図示された複数の要素(例えば、架台900、散気装置834等)のそれぞれの形状が、簡略化して示されている。   The contact filter bed tank 830 is a water treatment tank that performs aerobic treatment with aerobic microorganisms. As shown in FIG. 3, the contact filter bed tank 830 is formed so as to surround three sides (+ Y direction, + X direction, and −Y direction) of the treated water tank 840. As shown in FIG. 5, a gantry 900 is disposed below the contact filter bed tank 830. On the upper side of the gantry 900, an air diffuser 834 is fixed. Further, an aerobic filter medium 833 for holding microorganisms is arranged on the gantry 900 (aeration device 834), and a contact material 832 for holding microorganisms is arranged on the aerobic filter medium 833. ing. Hereinafter, the entirety of the contact material 832 and the aerobic filter material 833 is referred to as a holding member 835. The air diffuser 834, the aerobic filter medium 833, and the contact material 832 are disposed on both sides (+ Y side and −Y side) of the treated water tank 840 (FIGS. 3 to 5). The aerobic filter medium 833 is also arranged on the + X side of the treated water tank 840 (FIG. 5). Hereinafter, when distinguishing two identical members arranged on the + Y side and the −Y side, a letter “p” is added to the end of the sign of the + Y side member, and at the end of the sign of the −Y side member. The letter “m” is added. For example, the + Y side contact material 832 is also referred to as a contact material 832p. In addition, in FIG. 5, each shape of several shown elements (for example, the mount 900, the diffuser 834, etc.) is simplified and shown.

本実施例では、散気装置834(図5)は、底面に設けられた複数の孔(図示省略)を有するパイプを用いて構成されている。+Y側と−Y側との散気装置834p、834mには、送気パイプ622p、622mが、それぞれ接続されている。送気パイプ622p、622mは、散気装置834p、834mから、上方に向かって、水面WLよりも高い位置まで延びている。図示を省略するが、送気パイプ622p、622mの上方側の端は、散気バルブに接続されている。散気バルブは、図示しないブロワーに接続され、ブロワーから供給されたガス(ここでは、空気)を、+Y側の散気装置834pと、−Y側の散気装置834mとに、分配する。ユーザ(例えば、排水処理装置800の管理人)は、散気バルブを調整することによって、分配量(バランス)を調整することができる。   In this embodiment, the air diffuser 834 (FIG. 5) is configured using a pipe having a plurality of holes (not shown) provided on the bottom surface. Air supply pipes 622p and 622m are connected to the diffusers 834p and 834m on the + Y side and the −Y side, respectively. The air supply pipes 622p and 622m extend upward from the air diffusers 834p and 834m to a position higher than the water surface WL. Although not shown, the upper ends of the air supply pipes 622p and 622m are connected to an air diffusion valve. The air diffusion valve is connected to a blower (not shown), and distributes the gas (here, air) supplied from the blower to the + Y side air diffuser 834p and the −Y side air diffuser 834m. A user (for example, an administrator of the wastewater treatment apparatus 800) can adjust the distribution amount (balance) by adjusting the air diffusion valve.

散気装置834は、酸素を含む気泡BBを、保持部材835に供給する。散気装置834から吐出された多数の気泡BBは、保持部材835(部材832、833)の内部を通過して、水面WLに到達する。気泡BBの移動によって水流が生じ、接触濾床槽830内の水が撹拌される。保持部材835(部材832、833)に保持された好気性微生物は、気泡BBに含まれる酸素を利用して、被処理水中の有機物を分解する。また、好気性微生物に含まれる硝化菌の働きにより、被処理水に含まれるアンモニウムイオンが酸化されて、亜硝酸イオン、そして、硝酸イオンが生成される(硝化)。硝酸イオンを含む水(硝化液)は、後述する循環エアリフトポンプ860によって、夾雑物除去槽810に移送される。接触濾床槽830で処理された水は、接触濾床槽830の底部と処理水槽840の底部とを連通する移流開口836を通じて、処理水槽840に移流する。   The air diffuser 834 supplies the bubbles BB containing oxygen to the holding member 835. A large number of bubbles BB discharged from the air diffuser 834 pass through the inside of the holding member 835 (members 832 and 833) and reach the water surface WL. A water flow is generated by the movement of the bubbles BB, and the water in the contact filter bed tank 830 is stirred. The aerobic microorganisms held by the holding member 835 (members 832 and 833) decomposes organic substances in the water to be treated using oxygen contained in the bubbles BB. In addition, by the action of nitrifying bacteria contained in the aerobic microorganism, ammonium ions contained in the water to be treated are oxidized to produce nitrite ions and nitrate ions (nitrification). Water (nitrification liquid) containing nitrate ions is transferred to the contaminant removal tank 810 by a circulating air lift pump 860 described later. The water treated in the contact filter bed tank 830 is transferred to the treated water tank 840 through a transfer opening 836 that connects the bottom of the contact filter bed tank 830 and the bottom of the treated water tank 840.

処理水槽840は、接触濾床槽830から移流した水を一時的に滞留して、水中の固形物(例えば、汚泥や浮遊物質等)を沈降・分離する水処理槽である。後述するように、処理水槽840は、底部から水が流入する上向流の水処理槽である。   The treated water tank 840 is a water treatment tank that temporarily retains the water transferred from the contact filter bed tank 830 and settles and separates solids in water (for example, sludge and suspended solids). As will be described later, the treated water tank 840 is an upward flow water treatment tank into which water flows from the bottom.

図3に示すように、鉛直方向の上から下を向いて見たときに、第2側壁部842は仕切板803と対向し、第3側壁部843は第4側壁部844と対向する。第3側壁部843は、第2側壁部842の+Y側の端部842e1と仕切板803とを接続する。第4側壁部844は、第2側壁部842の−Y側の端部842e2と仕切板803とを接続する。第3側壁部843と仕切板803との接続部分843eと、第4側壁部844と仕切板803との接続部分844eとのそれぞれは、仕切板803の両端803e1、803e2よりも内側に配置されている。なお、仕切板803は、処理水槽840の−X側の側壁部(第1側壁部とも呼ぶ)を形成している。   As shown in FIG. 3, when viewed from above in the vertical direction, the second side wall portion 842 faces the partition plate 803, and the third side wall portion 843 faces the fourth side wall portion 844. The third side wall portion 843 connects the + Y side end portion 842 e 1 of the second side wall portion 842 and the partition plate 803. The fourth side wall portion 844 connects the end portion 842 e 2 on the −Y side of the second side wall portion 842 and the partition plate 803. The connection portion 843e between the third side wall portion 843 and the partition plate 803 and the connection portion 844e between the fourth side wall portion 844 and the partition plate 803 are disposed inside the both ends 803e1 and 803e2 of the partition plate 803. Yes. In addition, the partition plate 803 forms a −X side side wall portion (also referred to as a first side wall portion) of the treated water tank 840.

図2に示すように、処理水槽840の下部分849は、いわゆるホッパー構造を有している(以下、この下部分849を「ホッパー部分849」とも呼ぶ)。ホッパー部分849では、第2側壁部842が鉛直方向に対して傾斜しており、処理水槽840の水平な断面積は、底に近いほど小さい(第2側壁部842のうちの傾斜した部分842dを「傾斜部842d」とも呼ぶ)。また、図4に示すように、ホッパー部分849の下部分849Lにおいては、さらに、第3側壁部843と第4側壁部844とのそれぞれも、鉛直方向に対して傾斜している(側壁部843、844のそれぞれの傾斜した部分843d、844dを「傾斜部843d、844d」と呼ぶ)。この下部分849Lは、いわゆる3面ホッパー構造を有している。処理水槽840において分離された固形物は、側壁部842、843、844によって、処理水槽840の底部(処理水槽840の上部よりも狭い空間)に集められる。   As shown in FIG. 2, the lower portion 849 of the treated water tank 840 has a so-called hopper structure (hereinafter, the lower portion 849 is also referred to as “hopper portion 849”). In the hopper portion 849, the second side wall portion 842 is inclined with respect to the vertical direction, and the horizontal cross-sectional area of the treated water tank 840 is smaller toward the bottom (the inclined portion 842d of the second side wall portion 842 is reduced). Also called “inclined portion 842d”). Further, as shown in FIG. 4, in the lower portion 849L of the hopper portion 849, each of the third side wall portion 843 and the fourth side wall portion 844 is also inclined with respect to the vertical direction (side wall portion 843). , 844 are referred to as “inclined portions 843d and 844d”). The lower portion 849L has a so-called three-surface hopper structure. The solid matter separated in the treated water tank 840 is collected at the bottom of the treated water tank 840 (a narrower space than the upper part of the treated water tank 840) by the side wall portions 842, 843, and 844.

図2に示すように、仕切板803の下端は、槽本体801の底面に接続されている。一方、図2、図4に示すように、側壁部842、843、844の下端は、槽本体801の底面から離れている。側壁部842、843、844の下端と、槽本体801の底面との間の隙間は、移流開口836に相当する。   As shown in FIG. 2, the lower end of the partition plate 803 is connected to the bottom surface of the tank body 801. On the other hand, as shown in FIGS. 2 and 4, the lower ends of the side wall portions 842, 843, and 844 are separated from the bottom surface of the tank body 801. The gaps between the lower ends of the side wall portions 842, 843, and 844 and the bottom surface of the tank body 801 correspond to the advection opening 836.

図2に示すように、処理水槽840には、循環エアリフトポンプ860が設けられている。循環エアリフトポンプ860は、処理水槽840の底部から高水位HWLよりも上まで上方に向かって延びる第1移流管861と、第1移流管861の上部に接続されて、夾雑物除去槽810の上方まで、緩い下り勾配で延びる第2移流管863と、を有している。第1移流管861の底部側の端は吸入口862を形成している。第2移流管863の夾雑物除去槽810側の端は流出口864を形成している。流出口864は、流入バッフル812内に配置されている。循環エアリフトポンプ860は、処理水槽840の底部から夾雑物除去槽810へ、固形物や水を移送(返送)する。上述したように、処理水槽840の下部分849はホッパー構造を有しているので、処理水槽840で分離された固形物は、底部(吸入口862の近傍)の狭い空間に集められる。その結果、分離された固形物の処理水槽840からの除去を容易に行うことができる。なお、循環エアリフトポンプ860は、上述した図示しないブロワーからの空気によって、駆動される。ブロワーからの空気の分配量は、図示しないバルブによって調整される。循環エアリフトポンプ860は連続的に駆動されてよい。また、循環エアリフトポンプ860は、間欠的に駆動されてもよい。   As shown in FIG. 2, a circulating air lift pump 860 is provided in the treated water tank 840. The circulation air lift pump 860 is connected to a first advection pipe 861 extending upward from the bottom of the treated water tank 840 to above the high water level HWL, and an upper part of the first advection pipe 861, and above the contaminant removal tank 810. And a second advection pipe 863 extending with a gentle downward slope. An end on the bottom side of the first advection pipe 861 forms a suction port 862. An end of the second advection pipe 863 on the contaminant removal tank 810 side forms an outlet 864. Outflow port 864 is disposed within inflow baffle 812. The circulating air lift pump 860 transfers (returns) solids and water from the bottom of the treated water tank 840 to the contaminant removal tank 810. As described above, since the lower portion 849 of the treated water tank 840 has a hopper structure, the solid matter separated in the treated water tank 840 is collected in a narrow space at the bottom (near the inlet 862). As a result, the separated solid matter can be easily removed from the treated water tank 840. The circulating air lift pump 860 is driven by the air from the blower (not shown) described above. The distribution amount of air from the blower is adjusted by a valve (not shown). The circulating air lift pump 860 may be driven continuously. The circulating air lift pump 860 may be driven intermittently.

消毒槽850は、被処理水を消毒する水処理槽である。消毒槽850は、処理水槽840の上部に配置されている(図2)。本実施例では、消毒槽850は、放流エアリフトポンプ870を有している。放流エアリフトポンプ870の吸入口872は、処理水槽840内の低水位LWLの高さに配置されており、放流エアリフトポンプ870の流出口874は、消毒槽850の上流側に配置されている。処理水槽840の水面WL近傍の水(固形物が分離された水)は、吸入口872から放流エアリフトポンプ870に流入する。放流エアリフトポンプ870に流入した水は、放流エアリフトポンプ870の駆動によって、消毒槽850に少しずつ移送される。放流エアリフトポンプ870は、水位WLが低水位LWL以上である状態で、水を移送可能である。このように、通常の使用状態では、最も低い水位WLは、低水位LWLである。このような低水位LWLは、設計上の最低水位ということができる。また、放流エアリフトポンプ870は、上述した図示しないブロワーからの空気によって、駆動される。ブロワーからの空気の分配量は、図示しないバルブによって調整される。   The disinfection tank 850 is a water treatment tank that disinfects the water to be treated. The disinfection tank 850 is disposed on the upper part of the treated water tank 840 (FIG. 2). In this embodiment, the disinfection tank 850 has a discharge air lift pump 870. The suction port 872 of the discharge air lift pump 870 is disposed at a low water level LWL in the treated water tank 840, and the outlet 874 of the discharge air lift pump 870 is disposed upstream of the disinfection tank 850. Water in the vicinity of the water surface WL of the treated water tank 840 (water from which solid matter has been separated) flows into the discharge air lift pump 870 from the suction port 872. The water flowing into the discharge air lift pump 870 is transferred to the disinfection tank 850 little by little by driving the discharge air lift pump 870. The discharge air lift pump 870 can transfer water in a state where the water level WL is equal to or higher than the low water level LWL. Thus, in the normal use state, the lowest water level WL is the low water level LWL. Such a low water level LWL can be said to be a design minimum water level. The discharge air lift pump 870 is driven by the air from the blower (not shown) described above. The distribution amount of air from the blower is adjusted by a valve (not shown).

消毒槽850は、消毒剤(例えば、固形塩素剤)が充填された薬剤筒854を有している。消毒槽850において、被処理水は消毒剤と接触し、消毒剤によって被処理水が消毒される。消毒された水は、放流口804を通じて、排水処理装置800の外部へ放流される。   The disinfection tank 850 has a medicine cylinder 854 filled with a disinfectant (for example, a solid chlorine agent). In the disinfection tank 850, the water to be treated comes into contact with the disinfectant, and the water to be treated is disinfected by the disinfectant. The sterilized water is discharged to the outside of the waste water treatment apparatus 800 through the discharge port 804.

一時的に大量の排水が排水処理装置800に流入した場合には(例えば、ピーク流入時)、放流エアリフトポンプ870よりも上流側の水処理槽810、820、830、840の水位WLは、一時的に、通常時の水位(図中の低水位LWL)よりも上昇し得る。図2の実施例では、水位WLは、高水位HWLまで、上昇し得る。水位WLが高水位HWLを超えると、消毒槽850に設けられた図示しないオーバーフロー開口を通じて、処理水槽840から消毒槽850へ水がオーバーフローする。このように、通常の使用状態では、最も高い水位WLは、高水位HWLである。このような高水位HWLは、設計上の最高水位ということができる。なお、単位時間当たりの流入水量が想定された範囲を超える場合には、一時的に水位が高水位HWLよりも高い位置まで上昇し得る。   When a large amount of wastewater temporarily flows into the wastewater treatment device 800 (for example, at the peak inflow), the water levels WL of the water treatment tanks 810, 820, 830, and 840 upstream of the discharge air lift pump 870 are temporarily Therefore, it can rise above the normal water level (low water level LWL in the figure). In the example of FIG. 2, the water level WL can rise to the high water level HWL. When the water level WL exceeds the high water level HWL, the water overflows from the treated water tank 840 to the disinfecting tank 850 through an overflow opening (not shown) provided in the disinfecting tank 850. Thus, in a normal use state, the highest water level WL is the high water level HWL. Such a high water level HWL can be said to be the highest designed water level. When the amount of inflow water per unit time exceeds the assumed range, the water level can temporarily rise to a position higher than the high water level HWL.

このように、ピーク流入時には、複数の水処理槽810、820、830、840の水位が一時的に上昇することによって、接触濾床槽830からの単位時間当たりの流出量の増大が抑制される。この結果、接触濾床槽830から未処理の水が流出する可能性を低減できる。このように、放流エアリフトポンプ870は、ピーク流入に起因する接触濾床槽830からの単位時間当たりの流出量の増大を抑制する機構(「ピークカット機構」と呼ぶ)として、動作する。   Thus, at the peak inflow, the increase in the amount of outflow per unit time from the contact filter bed tank 830 is suppressed by temporarily increasing the water levels of the plurality of water treatment tanks 810, 820, 830, and 840. . As a result, the possibility of untreated water flowing out from the contact filter bed tank 830 can be reduced. In this way, the discharge air lift pump 870 operates as a mechanism that suppresses an increase in the amount of outflow per unit time from the contact filter bed tank 830 caused by peak inflow (referred to as a “peak cut mechanism”).

図6は、仕切板803と、側壁部842、843、844と、架台900と、散気装置834と、送気パイプ622と、の構成を示す概略斜視図である。図7は、架台900の構成を示す概略図である。図7(A)、図7(C)は、側面図であり、図7(B)は、上面図であり、図7(D)は、斜視図である。図7(E)は、後述する脚部950の斜視図である。本実施例では、1つの部材700(図6)が、側壁部842、843、844の全体を含んでいる(「壁部700」とも呼ぶ)。壁部700の側壁部842、843、844は、処理水槽840の側壁の一部を形成する(「壁形成部842、843、844」とも呼ぶ)。   FIG. 6 is a schematic perspective view showing configurations of the partition plate 803, the side wall portions 842, 843, 844, the gantry 900, the air diffuser 834, and the air supply pipe 622. FIG. 7 is a schematic diagram showing the configuration of the gantry 900. 7 (A) and 7 (C) are side views, FIG. 7 (B) is a top view, and FIG. 7 (D) is a perspective view. FIG. 7E is a perspective view of a leg 950 described later. In this embodiment, one member 700 (FIG. 6) includes the entire side wall portions 842, 843, and 844 (also referred to as “wall portion 700”). The side wall portions 842, 843, and 844 of the wall portion 700 form part of the side wall of the treated water tank 840 (also referred to as “wall forming portions 842, 843, and 844”).

図7(A)〜図7(E)に示すように、架台900は、散気装置834(図6)と好気濾材833(図5)とを支持する部材支持部910と、部材支持部910から下方に向かって突出する6個の脚部950と、を有している。   As shown in FIGS. 7A to 7E, the gantry 900 includes a member support 910 that supports the air diffuser 834 (FIG. 6) and the aerobic filter medium 833 (FIG. 5), and a member support. 6 legs 950 projecting downward from 910.

部材支持部910は、水平方向に拡がる部材であり、上方から下方(−Z方向)を向いて見た場合に(図7(B))、部材支持部910の縁を全周に渡って形成する部分である枠912と、枠912の内周側に形成された格子914と、を有している。格子914は、格子914を上方側から下方側に向かって貫通する複数の貫通孔を形成している。本実施例では、格子914の形状は、ハニカム形状である。図7(D)に示すように、部材支持部910(ここでは、格子914)の上側(+Z側)には、散気装置834を係止するための6個のフック状の係止部920が設けられている。図6に示すように、散気装置834p、834mは、それぞれ、3個の係止部920によって、部材支持部910に装着されている。このように、部材支持部910は、水平方向の位置が互いに異なる複数の位置で、散気装置834を支持している。また、図5に示すように、格子914上には、複数の好気濾材833が配置されている。このように、部材支持部910は、水平方向の位置が互いに異なる複数の位置で、複数の好気濾材833を支持している。   The member support part 910 is a member that expands in the horizontal direction, and when viewed from above (downward in the −Z direction) (FIG. 7B), the edge of the member support part 910 is formed over the entire circumference. A frame 912 which is a portion to be operated, and a lattice 914 formed on the inner peripheral side of the frame 912. The lattice 914 forms a plurality of through holes that penetrate the lattice 914 from the upper side toward the lower side. In the present embodiment, the shape of the lattice 914 is a honeycomb shape. As shown in FIG. 7D, on the upper side (+ Z side) of the member support portion 910 (here, the lattice 914), there are six hook-like locking portions 920 for locking the air diffuser 834. Is provided. As shown in FIG. 6, each of the air diffusers 834p and 834m is attached to the member support portion 910 by three locking portions 920. Thus, the member support part 910 supports the air diffuser 834 at a plurality of positions whose positions in the horizontal direction are different from each other. In addition, as shown in FIG. 5, a plurality of aerobic filter media 833 are arranged on the lattice 914. As described above, the member support portion 910 supports the plurality of aerobic filter media 833 at a plurality of positions whose horizontal positions are different from each other.

また、図7(B)、図7(D)に示すように、枠912は、上方から下方(−Z方向)を向いて見た場合に、枠912の縁(すなわち、部材支持部910の縁)が部材支持部910の内周側(ここでは、+X側)に向かって凹んだ部分を形成する凹部990を有している。図6に示すように、凹部990には、壁部700の下端が接続される。図7(B)には、壁部700の一部である鍔710が破線で示されている。鍔710の詳細については、後述する。   Further, as shown in FIGS. 7B and 7D, the frame 912 is viewed from the upper side to the lower side (−Z direction), and the edge of the frame 912 (that is, the member support portion 910). The edge) has a concave portion 990 that forms a concave portion toward the inner peripheral side (here, + X side) of the member support portion 910. As shown in FIG. 6, the lower end of the wall 700 is connected to the recess 990. In FIG. 7B, a ridge 710 which is a part of the wall 700 is indicated by a broken line. Details of the bag 710 will be described later.

図7(E)は、1つの脚部950を切り出して示す概略斜視図である。図中の脚部950は、図7(B)中の6個の脚部950のうちの右下の脚部950xを示している。図示するように、脚部950xは、格子914の1つの貫通孔を形成する環状の部分である環状部916に接続されて下方側に延びる複数の柱部952と、複数の柱部952の下方側の端に接続されるとともに脚部950xの下面950sを形成する下部954と、を含んでいる。脚部950xは、複数の柱部952と下部954とによって形成される複数の開口を有している。複数の開口は、互いに連通している。他の脚部950の構成も、図7(E)の脚部950xの構成と、同様である。   FIG. 7E is a schematic perspective view showing one leg 950 cut out. The leg portion 950 in the figure indicates the lower right leg portion 950x of the six leg portions 950 in FIG. 7B. As shown in the figure, the leg portions 950x are connected to an annular portion 916, which is an annular portion forming one through hole of the lattice 914, and extend below the plurality of column portions 952, and below the plurality of column portions 952. And a lower portion 954 that is connected to the side end and forms the lower surface 950s of the leg portion 950x. The leg portion 950x has a plurality of openings formed by a plurality of column portions 952 and a lower portion 954. The plurality of openings communicate with each other. The structure of the other leg portion 950 is the same as the structure of the leg portion 950x in FIG.

本実施例では、1つの環状部916の形状は、略六角形である。1つの脚部950は、6本の柱部952を含んでいる。6本の柱部952は、環状部916の六角形の形状の6個の頂点部分に接続されている。下部954は、6本の柱部952の6個の端を接続する環状の部分である。本実施例では、脚部950の形状は、環状部916から下方側に向かって延びる六角錐台の形状と、おおよそ同じである。6本の柱部952と下部954とは、六角錐台の辺に対応する。ここで、1つの脚部950の水平な断面の輪郭(すなわち、水平な断面における1つの脚部950の全ての要素を含む凸包)の最大径は、6本の柱部952を頂点とする六角形の最大径である。本実施例では、この最大径は、下方側に向かって小さくなる。このように、脚部950の形状は、下方側に向かって小さくなるテーパ形状である。   In the present embodiment, the shape of one annular portion 916 is a substantially hexagonal shape. One leg portion 950 includes six column portions 952. The six column portions 952 are connected to the six vertex portions of the hexagonal shape of the annular portion 916. The lower portion 954 is an annular portion that connects the six ends of the six pillar portions 952. In the present embodiment, the shape of the leg portion 950 is approximately the same as the shape of the hexagonal frustum extending downward from the annular portion 916. The six column parts 952 and the lower part 954 correspond to the sides of the hexagonal frustum. Here, the maximum diameter of the horizontal cross-sectional contour of one leg 950 (that is, the convex hull including all elements of one leg 950 in the horizontal cross-section) has six pillars 952 as apexes. The maximum diameter of the hexagon. In this embodiment, the maximum diameter decreases toward the lower side. Thus, the shape of the leg portion 950 is a tapered shape that decreases toward the lower side.

図8は、接触濾床槽830の底面830sと、接触濾床槽830内に配置された架台900と、の概略図である。図中には、架台900(図7(B))のうちの−Y側の2個の脚部950(950a、950b)を含む一部分の側面図と、槽本体801の底部の断面図と、が示されている。図示された槽本体801の断面は、架台900の図示された2個の脚部950(950a、950b)と接触する部分の断面であり、図7(B)のC−C断面を示している。   FIG. 8 is a schematic view of the bottom surface 830 s of the contact filter bed tank 830 and the gantry 900 disposed in the contact filter bed tank 830. In the figure, a side view of a portion including two legs 950 (950a, 950b) on the −Y side of the gantry 900 (FIG. 7B), a cross-sectional view of the bottom of the tank body 801, It is shown. The cross section of the illustrated tank body 801 is a cross section of a portion of the gantry 900 that is in contact with the two illustrated leg portions 950 (950a, 950b), and shows a CC cross section in FIG. .

図示された2個の脚部950(950a、950b)は、部材支持部910から下方側(−Z側)に向かって突出して接触濾床槽830の底面830s上で部材支持部910を支持している。図示しない他の脚部950も、同様に、底面830s上で部材支持部910を支持している。従って、部材支持部910が傾くなど、部材支持部910の位置ズレを抑制できる。また、上述したように、各脚部950は、互いに連通する複数の開口を有する。接触濾床槽830内の水は、脚部950の複数の開口を通じて、脚部950を容易に通り抜けることができる。従って、部材支持部910よりも下方側で、脚部950が水の流れを止めることを抑制できる。この結果、部材支持部910よりも下方側に移動した汚泥が移動せずに堆積し続けることを、抑制できる。   The two illustrated leg portions 950 (950a, 950b) protrude downward from the member support portion 910 (-Z side) and support the member support portion 910 on the bottom surface 830s of the contact filter bed tank 830. ing. Other leg portions 950 (not shown) similarly support the member support portion 910 on the bottom surface 830s. Therefore, the position shift of the member support part 910 can be suppressed, for example, the member support part 910 is inclined. Further, as described above, each leg portion 950 has a plurality of openings communicating with each other. The water in the contact filter bed tank 830 can easily pass through the legs 950 through the openings of the legs 950. Therefore, it can suppress that the leg part 950 stops the flow of water below the member support part 910. FIG. As a result, it can suppress that the sludge which moved below the member support part 910 continues depositing, without moving.

また、本実施例では、架台900の全体が、成形型を用いて一体的に成形される(例えば、射出成形、ハンドレイアップ成形、スプレーアップ成形など)。架台900の材料としては、ポリプロピレン、ポリエチレン、繊維強化プラスチック(FRP)、ジシクロペンタジエン等の種々の樹脂を採用可能である。また、樹脂とは異なる他の材料を採用してもよい(例えば、金属、セラミックなど)。   In the present embodiment, the entire gantry 900 is integrally molded using a molding die (for example, injection molding, hand lay-up molding, spray-up molding, etc.). As a material of the gantry 900, various resins such as polypropylene, polyethylene, fiber reinforced plastic (FRP), and dicyclopentadiene can be used. Moreover, you may employ | adopt the other material different from resin (for example, a metal, a ceramic, etc.).

このように、本実施例では、部材支持部910と複数の脚部950とは、一体に成形されている。従って、部材支持部910に脚部950を固定する作業が不要であるので、架台900を容易に製造できる。   Thus, in this embodiment, the member support portion 910 and the plurality of leg portions 950 are integrally formed. Accordingly, since the work of fixing the leg portion 950 to the member support portion 910 is unnecessary, the gantry 900 can be easily manufactured.

また、各脚部950のそれぞれの形状は、水平断面の輪郭(具体的には、凸包)の最大径が下方側(すなわち、脚部950の先端側)に向かって小さくなるテーパ形状である。従って、格子914と脚部950とを、1回の成形で、成形することができる。このように、脚部950を含む架台900の製造を容易に行うことができる。また、複数の架台900を積み重ねる場合に、脚部950の端部を、隣の架台900の脚部950の内側に挿入することができる。この結果、複数の架台900を運搬する場合に、複数の架台900を積み重ねるために必要なスペースを小さくできる。   Each leg 950 has a tapered shape in which the maximum diameter of the contour (specifically, convex hull) of the horizontal cross section decreases toward the lower side (that is, the tip side of the leg 950). . Therefore, the lattice 914 and the legs 950 can be formed by a single molding. In this manner, the gantry 900 including the leg portion 950 can be easily manufactured. Further, when stacking a plurality of mounts 900, the end portion of the leg portion 950 can be inserted inside the leg portion 950 of the adjacent mount 900. As a result, when transporting the plurality of mounts 900, the space required for stacking the multiple mounts 900 can be reduced.

また、図7(E)で説明したように、脚部950は、部材支持部910(ここでは、環状部916)から下方側に向かって延びる複数の柱部952と、複数の柱部952の下方側の端に接続されるとともに脚部950の下面950sを形成する下部954と、を含んでいる。複数の柱部952は、互いに離れた位置に配置されている。柱部952と隣の柱部952との間の空間が、開口に相当する。複数の柱部952は、複数の開口を形成し、複数の開口は、互いに連通している。脚部950は、複数の柱部952の間を水が流れることを許容しつつ、適切に部材支持部910を支持できる。   Further, as described in FIG. 7E, the leg portion 950 includes a plurality of column portions 952 extending downward from the member support portion 910 (here, the annular portion 916), and a plurality of column portions 952. A lower portion 954 connected to the lower end and forming the lower surface 950s of the leg portion 950. The plurality of column portions 952 are arranged at positions separated from each other. A space between the column portion 952 and the adjacent column portion 952 corresponds to an opening. The plurality of column portions 952 form a plurality of openings, and the plurality of openings communicate with each other. The leg portion 950 can appropriately support the member support portion 910 while allowing water to flow between the plurality of column portions 952.

また、図7(B)、図7(D)に示すように、部材支持部910は、複数の貫通孔を形成する格子914を含んでいる。従って、部材支持部910は、格子914の複数の貫通孔を水が流れることを許容しつつ、適切に、散気装置834と好気濾材833とを支持できる。   Further, as shown in FIGS. 7B and 7D, the member support portion 910 includes a lattice 914 that forms a plurality of through holes. Therefore, the member support portion 910 can appropriately support the air diffuser 834 and the aerobic filter medium 833 while allowing water to flow through the plurality of through holes of the lattice 914.

また、図7(E)で説明したように、脚部950は、格子914の複数の貫通孔のうちの1つの貫通孔を形成する環状部916に接続されている。従って、複数の貫通孔を形成する格子914に、適切に、脚部950を接続できる。また、格子914の貫通孔と、脚部950の開口とが、互いに連通している。従って、格子914と脚部950との接続部分が水の流れを止めることを抑制できる。そして、部材支持部910の上側と下側との間の水の流れが滞ることが抑制されるので、部材支持部910よりも下方側に移動した汚泥が移動せずに堆積し続けることを、抑制できる。   Further, as described in FIG. 7E, the leg portion 950 is connected to the annular portion 916 that forms one through hole among the plurality of through holes of the lattice 914. Therefore, the leg 950 can be appropriately connected to the lattice 914 that forms a plurality of through holes. Further, the through holes of the lattice 914 and the openings of the leg portions 950 communicate with each other. Therefore, it can suppress that the connection part of the grating | lattice 914 and the leg part 950 stops the flow of water. And since it is suppressed that the flow of water between the upper side and the lower side of the member support part 910 is suppressed, the sludge that has moved downward from the member support part 910 continues to accumulate without moving. Can be suppressed.

次に、図8を参照して、脚部950の下面950sの形状について、説明する。接触濾床槽830の底面830sのうち+X側の第1部分底面830asは、底面の高さ(+Z方向の位置)が+X方向に向かって徐々に高くなるように、傾斜している。具体的には、第1部分底面830asは、槽本体801の内面の隅を形成しており、第1部分底面830asの形状は、曲面である。架台900の脚部950aは、この第1部分底面830as上に配置される。脚部950aの下部954aは、脚部950aの下面954asが第1部分底面830asの形状に合わせて傾斜するように、形成されている。すなわち、脚部950aの下面954asの形状は、第1部分底面830asのうち、上方から下方(−Z方向)を向いて見た場合に脚部950aの下面954asと重なる部分の形状と、おおよそ同じである。これにより、脚部950aの下面954asと第1部分底面830asとの間の隙間が大きくなることが抑制される。そして、第1部分底面830asは、脚部950aの下面954asを、適切に支持できる。   Next, the shape of the lower surface 950s of the leg portion 950 will be described with reference to FIG. The first partial bottom surface 830as on the + X side of the bottom surface 830s of the contact filter bed tank 830 is inclined so that the height of the bottom surface (position in the + Z direction) gradually increases in the + X direction. Specifically, the first partial bottom surface 830as forms a corner of the inner surface of the tank body 801, and the shape of the first partial bottom surface 830as is a curved surface. The leg portion 950a of the gantry 900 is disposed on the first partial bottom surface 830as. The lower portion 954a of the leg portion 950a is formed such that the lower surface 954as of the leg portion 950a is inclined according to the shape of the first partial bottom surface 830as. That is, the shape of the lower surface 954as of the leg portion 950a is approximately the same as the shape of the portion of the first partial bottom surface 830as that overlaps the lower surface 954as of the leg portion 950a when viewed from above (downward in the -Z direction). It is. This suppresses an increase in the gap between the lower surface 954as of the leg portion 950a and the first partial bottom surface 830as. The first partial bottom surface 830as can appropriately support the lower surface 954as of the leg portion 950a.

図中の底面830sのうち−X側の第2部分底面830bsは、底面の高さ(+Z方向の位置)が−X方向に向かって徐々に高くなるように、傾斜している。架台900の脚部950bは、この第2部分底面830bs上に配置される。脚部950bの下部954bは、脚部950bの下面954bsが第2部分底面830bsの形状に合わせて傾斜するように、形成されている。すなわち、脚部950bの下面954bsの形状は、第2部分底面830bsのうち、上方から下方(−Z方向)を向いて見た場合に脚部950bの下面954bsと重なる部分の形状と、おおよそ同じである。これにより、脚部950bの下面954bsと第2部分底面830bsとの間の隙間が大きくなることが抑制される。そして、第2部分底面830bsは、脚部950bの下面954bsを、適切に支持できる。   Of the bottom surface 830s in the figure, the second partial bottom surface 830bs on the −X side is inclined such that the height of the bottom surface (position in the + Z direction) gradually increases in the −X direction. The leg portion 950b of the gantry 900 is disposed on the second partial bottom surface 830bs. The lower portion 954b of the leg portion 950b is formed such that the lower surface 954bs of the leg portion 950b is inclined according to the shape of the second partial bottom surface 830bs. That is, the shape of the lower surface 954bs of the leg portion 950b is approximately the same as the shape of the second partial bottom surface 830bs that overlaps the lower surface 954bs of the leg portion 950b when viewed from above (downward in the −Z direction). It is. Thereby, it is suppressed that the clearance gap between lower surface 954bs of leg part 950b and 2nd partial bottom face 830bs becomes large. The second partial bottom surface 830bs can appropriately support the lower surface 954bs of the leg portion 950b.

他の脚部950の下面950sの形状も、同様に、底面830sのうちの脚部950の下面950sを支持する部分の形状に合わせて、形成されている。従って、底面830sは、複数の脚部950のそれぞれを、適切に支持できる。   Similarly, the shape of the lower surface 950s of the other leg portion 950 is also formed in accordance with the shape of the portion of the bottom surface 830s that supports the lower surface 950s of the leg portion 950. Accordingly, the bottom surface 830s can appropriately support each of the plurality of legs 950.

なお、図8では図示を省略したが、底面830sの高さは、X方向に限らず、Y方向に沿って変化し得る。このように、底面830sの高さは、水平な任意の方向に沿って、変化し得る。脚部950の下面950sの形状は、このように変化する底面830sに合わせて、形成されている。一般的には、底面830sが水平面に対して傾斜する傾斜部分を含み、脚部950が傾斜部分上に配置される場合に、脚部950の下面950sが、傾斜部分に合わせて傾斜していることが好ましい。この構成によれば、脚部950の下面950sが水平な平面である場合と比べて、脚部950の下面950sと底面830sとの間の隙間が大きくなることを抑制できる。従って、脚部950は、底面830sの傾斜部分上で、適切に、部材支持部910を支持できる。   Although not shown in FIG. 8, the height of the bottom surface 830 s is not limited to the X direction and can vary along the Y direction. In this manner, the height of the bottom surface 830s can change along any horizontal direction. The shape of the lower surface 950 s of the leg portion 950 is formed in accordance with the bottom surface 830 s that changes in this way. Generally, when the bottom surface 830s includes an inclined portion that is inclined with respect to the horizontal plane, and the leg portion 950 is disposed on the inclined portion, the lower surface 950s of the leg portion 950 is inclined in accordance with the inclined portion. It is preferable. According to this structure, it can suppress that the clearance gap between the lower surface 950s of the leg part 950 and the bottom face 830s becomes large compared with the case where the lower surface 950s of the leg part 950 is a horizontal plane. Therefore, the leg portion 950 can appropriately support the member support portion 910 on the inclined portion of the bottom surface 830s.

なお、以下のような場合に、脚部950の下面950sが底面830sの傾斜部分に合わせて傾斜している、ということができる。脚部950の下面950s(底面830sに接触し得る面)を、下面950sのうちの最も高い部分を通る水平面上に、鉛直方向に平行に投影して得られる面を、仮想下面と呼ぶ。脚部950の下面950sと底面830sとの間の鉛直方向の最大距離(すなわち、隙間の最大距離)が、仮想下面と底面830sとの間の鉛直方向の最大距離よりも小さい場合には、下面950sが傾斜部分に合わせて傾斜している、ということができる。   In the following cases, it can be said that the lower surface 950s of the leg portion 950 is inclined in accordance with the inclined portion of the bottom surface 830s. A surface obtained by projecting the lower surface 950s of the leg portion 950 (a surface that can come into contact with the bottom surface 830s) onto a horizontal plane passing through the highest portion of the lower surface 950s in parallel to the vertical direction is referred to as a virtual lower surface. When the maximum vertical distance between the lower surface 950s of the leg 950 and the bottom surface 830s (that is, the maximum distance of the gap) is smaller than the maximum vertical distance between the virtual lower surface and the bottom surface 830s, the lower surface It can be said that 950s is inclined according to the inclined portion.

また、本実施例では、脚部950の下面950sは、底面830sの傾斜部分上の複数の位置に接触している。この場合、脚部950から底面830sに印加される荷重が複数の位置に分散されるので、槽本体801と脚部950との破損を抑制できる。なお、底面830sの傾斜部分は、平面であってもよく、曲面であってもよく、平面と曲面との両方を含んでもよい。一般的には、底面830sの傾斜部分としては、水平面に対して傾斜する任意の部分を採用可能である。なお、脚部950の下面950sと底面830sの傾斜部分との複数の接触位置は、1つの連続な接触領域に含まれていてもよく、互いに離れた複数の接触点で構成されていてもよい。   In the present embodiment, the lower surface 950s of the leg portion 950 is in contact with a plurality of positions on the inclined portion of the bottom surface 830s. In this case, since the load applied from the leg part 950 to the bottom surface 830s is dispersed at a plurality of positions, the tank body 801 and the leg part 950 can be prevented from being damaged. Note that the inclined portion of the bottom surface 830s may be a flat surface, a curved surface, or both a flat surface and a curved surface. In general, as the inclined portion of the bottom surface 830s, any portion inclined with respect to the horizontal plane can be employed. A plurality of contact positions between the lower surface 950 s of the leg portion 950 and the inclined portion of the bottom surface 830 s may be included in one continuous contact region, or may be configured by a plurality of contact points separated from each other. .

次に、架台900と壁部700との接続について説明する。図9は、壁部700の下方側の一部と、架台900と、の斜視図である。壁部700の3つの側壁部842、843、844の下端(すなわち、3つの傾斜部842d、843d、844dの下端)には、鍔710が設けられている。鍔710は、側壁部842、843、844の下端から外周側(接触濾床槽830側)におおよそ水平に突出する板状の部分である。本実施例では、鍔710は、側壁部842、843、844の下端の全体に亘って、設けられている。   Next, the connection between the gantry 900 and the wall 700 will be described. FIG. 9 is a perspective view of a part of the lower side of the wall portion 700 and the gantry 900. On the lower ends of the three side wall portions 842, 843, and 844 of the wall portion 700 (that is, the lower ends of the three inclined portions 842d, 843d, and 844d), a flange 710 is provided. The gutter 710 is a plate-like portion that protrudes approximately horizontally from the lower end of the side wall portions 842, 843, 844 to the outer peripheral side (contact filter bed 830 side). In this embodiment, the flange 710 is provided over the entire lower end of the side wall portions 842, 843, 844.

鍔710は、3つの鍔部712、713、714に区分される。第1鍔部712は、第2側壁部842の下端に設けられ、第2側壁部842の−Y側の端から+Y側の端まで、おおよそY方向に延びる部分である(「先鍔部712」とも呼ぶ)。第2鍔部713は、第3側壁部843の下端に設けられ、第1鍔部712の+Y側の端部に接続され、第3側壁部843の+X側の端から−X側の端まで、おおよそ−X方向に延びる部分である。第3鍔部714は、第4側壁部844の下端に設けられ、第1鍔部712の−Y側の端部に接続され、第4側壁部844の+X側の端から−X側の端まで、おおよそ−X方向に延びる部分である。以下、X方向におおよそ平行に延びる鍔部713、714を、「横鍔部713、714」とも呼ぶ。   The collar 710 is divided into three collar parts 712, 713, and 714. The first flange portion 712 is a portion that is provided at the lower end of the second side wall portion 842 and extends in the Y direction from the −Y side end to the + Y side end of the second side wall portion 842 (“the leading edge portion 712”). "). The second flange part 713 is provided at the lower end of the third side wall part 843, is connected to the + Y side end part of the first flange part 712, and extends from the + X side end of the third side wall part 843 to the −X side end. , Approximately a portion extending in the −X direction. The third flange portion 714 is provided at the lower end of the fourth sidewall portion 844, is connected to the −Y side end portion of the first flange portion 712, and extends from the + X side end of the fourth sidewall portion 844 to the −X side end. Until approximately the -X direction. Hereinafter, the flange portions 713 and 714 extending approximately parallel to the X direction are also referred to as “lateral flange portions 713 and 714”.

第2側壁部842上における第1鍔部712よりも高い位置には、上抑え部720が設けられている。この上抑え部720は、第1鍔部712におおよそ平行に、+X方向に突出する板状の部分である。第1鍔部712と上抑え部720との間には、係合爪730が設けられている。係合爪730は、架台900に係合して、架台900が壁部700から外れることを抑制する。   An upper holding portion 720 is provided at a position higher than the first flange portion 712 on the second side wall portion 842. The upper holding portion 720 is a plate-like portion that protrudes in the + X direction substantially parallel to the first flange portion 712. An engaging claw 730 is provided between the first flange portion 712 and the upper holding portion 720. The engaging claw 730 engages with the gantry 900 and prevents the gantry 900 from coming off the wall portion 700.

このような3個の側壁部842、843、844と、鍔710と、上抑え部720と、係合爪730と、を含む壁部700は、本実施例では、成形型を用いて一体的に成形される(例えば、射出成形、ハンドレイアップ成形、スプレーアップ成形など)。壁部700の材料としては、ポリプロピレン、ポリエチレン、繊維強化プラスチック(FRP)、ジシクロペンタジエン等の種々の樹脂を採用可能である。また、樹脂とは異なる他の材料を採用してもよい(例えば、金属など)。なお、本実施例では、少なくとも係合爪730が弾性変形可能であるように、壁部700が形成される。   In this embodiment, the wall portion 700 including the three side wall portions 842, 843, 844, the flange 710, the upper holding portion 720, and the engaging claw 730 is integrally formed using a molding die. (For example, injection molding, hand lay-up molding, spray-up molding, etc.). As a material of the wall portion 700, various resins such as polypropylene, polyethylene, fiber reinforced plastic (FRP), dicyclopentadiene and the like can be used. Moreover, you may employ | adopt the other material different from resin (for example, metal etc.). In the present embodiment, the wall portion 700 is formed so that at least the engaging claw 730 can be elastically deformed.

架台900の凹部990は、3つの枠部992、993、994に区分される。第1枠部992は、凹部990の奥側(+X側)の部分であり、おおよそY方向に延びている(「奥枠部992」とも呼ぶ)。図示が省略されているが、第1枠部992には、係合爪730に係合する係合部が形成されている。第2枠部993は、第1枠部992の+Y側の端部に接続され、おおよそ−X方向に延びている。第3枠部994は、第1枠部992の−Y側の端部に接続され、おおよそ−X方向に延びている。以下、X方向におおよそ平行に延びる枠部993、994を、「横枠部993、994」とも呼ぶ。   The concave portion 990 of the gantry 900 is divided into three frame portions 992, 993, and 994. The first frame portion 992 is a portion on the back side (+ X side) of the concave portion 990, and extends approximately in the Y direction (also referred to as “back frame portion 992”). Although not shown, the first frame portion 992 is formed with an engaging portion that engages with the engaging claw 730. The second frame portion 993 is connected to the end portion on the + Y side of the first frame portion 992 and extends approximately in the −X direction. The third frame portion 994 is connected to the end portion on the −Y side of the first frame portion 992 and extends approximately in the −X direction. Hereinafter, the frame portions 993 and 994 extending approximately parallel to the X direction are also referred to as “lateral frame portions 993 and 994”.

架台900の凹部990の形状と大きさは、壁部700の鍔710の形状と大きさと、おおよそ同じである。壁部700に架台900を接続する場合、架台900の凹部990が、壁部700の下端部(鍔710の上側)に、嵌め込まれる。   The shape and size of the recess 990 of the gantry 900 are approximately the same as the shape and size of the flange 710 of the wall 700. When connecting the base 900 to the wall 700, the recess 990 of the base 900 is fitted into the lower end of the wall 700 (upper side of the flange 710).

図10は、壁部700と架台900とが互いに接続される様子を示す概略図である。図10(A)は、接続の途中の状態を示し、図10(B)は、接続が完了した状態を示している。   FIG. 10 is a schematic diagram showing how the wall 700 and the gantry 900 are connected to each other. 10A shows a state in the middle of connection, and FIG. 10B shows a state in which the connection is completed.

図10(A)に示すように、架台900の凹部990の横枠部993、994が、壁部700の鍔710の横鍔部713、714上を、相対的に−X方向に向かって移動するように、架台900の凹部990に、壁部700の下端部が、挿入される。   As shown in FIG. 10A, the horizontal frame portions 993 and 994 of the recess 990 of the gantry 900 move relatively on the horizontal flange portions 713 and 714 of the flange 710 of the wall 700 toward the −X direction. As described above, the lower end portion of the wall portion 700 is inserted into the concave portion 990 of the gantry 900.

図4には、横鍔部713、714と、横枠部993、994とが、示されている。第2枠部993は、第2鍔部713上に配置されている。また、第2鍔部713の内側(処理水槽840側)の端からは、傾斜部843dが、上方側に向かって延びている。傾斜部843dは、上方に向かって処理水槽840が広くなるように、+Y方向に傾斜している。傾斜部843dは、第2枠部993よりも−Y側から、第2枠部993の上を通って、第2枠部993よりも+Y側まで延びている。このように、第2枠部993は、第2鍔部713と傾斜部843dとに挟まれている。従って、第2枠部993が下方(−Z方向)に移動することは、第2鍔部713によって防止されている。また、第2枠部993が上方(+Z方向)に移動することは、傾斜部843dによって防止されている。第3枠部994についても、同様である。第3枠部994は、第3鍔部714と傾斜部844dとに挟まれている。第3枠部994の上下方向の移動は、第3鍔部714と傾斜部844dとによって防止されている。従って、架台900を壁部700に接続する場合、架台900の凹部990の位置が、壁部700の鍔710上の位置から大きく離れた意図しない位置にずれることが、抑制される。   In FIG. 4, the horizontal flange portions 713 and 714 and the horizontal frame portions 993 and 994 are shown. The second frame portion 993 is disposed on the second flange portion 713. In addition, an inclined portion 843d extends upward from an end on the inner side (treated water tank 840 side) of the second flange portion 713. The inclined portion 843d is inclined in the + Y direction so that the treated water tank 840 becomes wider upward. The inclined portion 843d extends from the −Y side of the second frame portion 993 to the + Y side of the second frame portion 993 through the second frame portion 993. As described above, the second frame portion 993 is sandwiched between the second flange portion 713 and the inclined portion 843d. Therefore, the second frame portion 993 prevents the second frame portion 993 from moving downward (−Z direction) by the second flange portion 713. Further, the second frame portion 993 is prevented from moving upward (+ Z direction) by the inclined portion 843d. The same applies to the third frame portion 994. The third frame portion 994 is sandwiched between the third flange portion 714 and the inclined portion 844d. The vertical movement of the third frame portion 994 is prevented by the third flange portion 714 and the inclined portion 844d. Therefore, when connecting the gantry 900 to the wall portion 700, the position of the recess 990 of the gantry 900 is prevented from being shifted to an unintended position far away from the position on the flange 710 of the wall portion 700.

図10(A)の状態から、さらに、架台900を壁部700に対して相対的に−X方向へ移動させることによって、接続が完了する(図10(B))。接続が完了した状態では、架台900の奥枠部992は、壁部700の先鍔部712と上抑え部720との間に挟まれている。また、壁部700の側壁部842、843、844は、凹部990に沿って配置されている。そして、側壁部842、843、844は、凹部990と同じ高さの位置から上方側(+Z側)に向かって延びる部分を含んでいる。   The connection is completed by moving the gantry 900 in the −X direction relative to the wall 700 from the state of FIG. 10A (FIG. 10B). In the state where the connection is completed, the back frame portion 992 of the gantry 900 is sandwiched between the leading edge portion 712 and the upper holding portion 720 of the wall portion 700. Further, the side wall portions 842, 843, and 844 of the wall portion 700 are disposed along the recess 990. The side wall portions 842, 843, and 844 include portions extending upward (+ Z side) from the same height as the concave portion 990.

図11は、壁部700と架台900とが互いに接続される様子を横から見た概略図である。図中には、図10(B)のD−D断面から−Y方向を向いて見た壁部700と架台900との概略が示されている。図中には、壁部700の下方側の一部と、架台900の−X側の一部とが、示されている。D−D断面は、Y方向に垂直な断面である。図中では、D−D断面に含まれる複数の要素の一部の断面に、ハッチングが付されている。具体的は、架台900の奥枠部992と、壁部700の先鍔部712と傾斜部842dと上抑え部720と係合爪730との、それぞれの断面に、ハッチングが付されている。また、図中には、架台900の第3枠部994と、壁部700の第3鍔部714と、が示されている。壁部700と架台900との接続は、図11(A)〜図11(D)の順番に進行する。   FIG. 11 is a schematic view of a state in which the wall portion 700 and the gantry 900 are connected to each other as viewed from the side. In the drawing, an outline of the wall 700 and the gantry 900 viewed from the DD cross section in FIG. 10B facing the −Y direction is shown. In the drawing, a part on the lower side of the wall 700 and a part on the −X side of the gantry 900 are shown. The DD cross section is a cross section perpendicular to the Y direction. In the drawing, hatching is given to a cross section of a part of a plurality of elements included in the DD cross section. Specifically, the cross sections of the rear frame portion 992 of the gantry 900, the leading edge portion 712, the inclined portion 842d, the upper holding portion 720, and the engaging claw 730 of the wall portion 700 are hatched. In the drawing, a third frame portion 994 of the gantry 900 and a third flange portion 714 of the wall portion 700 are shown. The connection between the wall 700 and the gantry 900 proceeds in the order of FIGS. 11 (A) to 11 (D).

架台900の奥枠部992には、係合部980が設けられている。係合部980は、下方(−Z方向)に向かって延びる壁である。壁部700の係合爪730は、+X方向に向かって突出している。係合爪730は、上方(+Z方向)に向かって突出する突部730aを有している。突部730aの+X側の表面730asは、+X方向に向かって徐々に低くなる傾斜面である(「傾斜面730as」とも呼ぶ)。   An engagement portion 980 is provided on the back frame portion 992 of the gantry 900. The engaging portion 980 is a wall extending downward (−Z direction). The engaging claw 730 of the wall 700 protrudes in the + X direction. The engaging claw 730 has a protrusion 730a protruding upward (+ Z direction). A surface 730as on the + X side of the protrusion 730a is an inclined surface that gradually decreases in the + X direction (also referred to as “an inclined surface 730as”).

図10(A)で説明したように、架台900の第3枠部994は、壁部700の第3鍔部714上を、相対的に−X方向に移動する。(図11(A)、図11(B))。そして、架台900の奥枠部992は、壁部700の上抑え部720と先鍔部712との間に挿入される(図11(C)、図11(D))。ここで、図11(C)に示すように、奥枠部992の上面(+Z側の面)が上抑え部720の下面(−Z側の面)に接触した状態で、係合爪730の突部730aは、係合部980の下端に接触する。架台900は、壁部700に対して相対的に、さらに−X方向に移動される。係合爪730は、弾性変形可能である。これにより、図11(C)に示すように、突部730aの傾斜面730asに接触する係合部980は、突部730a(ひいては、係合爪730)を、下方(−Z方向)に向けて押し下げる。係合爪730は、係合部980に押されて、下方(−Z方向)に向けて弾性的に変形する。そして、図11(D)に示すように、係合部980が係合爪730の突部730aよりも−X側に移動する。弾性的に変形していた係合爪730の形状は、元の形状に戻る。これにより、係合爪730の突部730aが、係合部980の+X側の面に係合する。以上により、架台900と壁部700との接続が完了する。   As described with reference to FIG. 10A, the third frame portion 994 of the gantry 900 moves relatively on the third flange portion 714 of the wall portion 700 in the −X direction. (FIGS. 11A and 11B). Then, the back frame portion 992 of the gantry 900 is inserted between the upper holding portion 720 and the tip portion 712 of the wall portion 700 (FIGS. 11C and 11D). Here, as shown in FIG. 11C, the engagement claw 730 has the upper surface (+ Z side surface) of the back frame portion 992 in contact with the lower surface (−Z side surface) of the upper holding portion 720. The protrusion 730 a contacts the lower end of the engagement portion 980. The gantry 900 is further moved in the −X direction relative to the wall portion 700. The engaging claw 730 can be elastically deformed. As a result, as shown in FIG. 11C, the engaging portion 980 that contacts the inclined surface 730as of the protruding portion 730a causes the protruding portion 730a (and thus the engaging claw 730) to face downward (−Z direction). Press down. The engaging claw 730 is pushed by the engaging portion 980 and is elastically deformed downward (−Z direction). Then, as illustrated in FIG. 11D, the engaging portion 980 moves to the −X side with respect to the protruding portion 730 a of the engaging claw 730. The shape of the engaging claw 730 that has been elastically deformed returns to its original shape. Thereby, the protrusion 730a of the engaging claw 730 is engaged with the surface on the + X side of the engaging portion 980. Thus, the connection between the gantry 900 and the wall 700 is completed.

このように、壁部700(図9)は、処理水槽840の側壁の一部を形成する壁形成部842、843、844と、上抑え部720と、鍔710と、を有している。図10(B)で説明したように、壁形成部842、843、844は、架台900の凹部990の縁に沿って配置されている。上抑え部720は、凹部990のうちの奥枠部992の上側に配置されている。上抑え部720は、奥枠部992が上側(+Z側)に移動しようとする場合に奥枠部992の少なくとも一部に接触することによって、壁部700に対する奥枠部992(ひいては、凹部990)の上側への移動を抑制する。鍔710は、凹部990の下側に配置されている。鍔710は、凹部990が下側に移動しようとする場合に凹部990の少なくとも一部に接触することによって、壁部700に対する凹部990の下側への移動を抑制する。従って、壁部700と架台900との間の位置ズレを抑制できる。以下、鍔710のうち、凹部990に接触し得る部分を、「下抑え部」とも呼ぶ。   As described above, the wall portion 700 (FIG. 9) includes the wall forming portions 842, 843, 844 that form a part of the side wall of the treated water tank 840, the upper holding portion 720, and the flange 710. As described with reference to FIG. 10B, the wall forming portions 842, 843, and 844 are arranged along the edge of the concave portion 990 of the gantry 900. The upper holding portion 720 is disposed on the upper side of the back frame portion 992 in the recess 990. The upper holding portion 720 contacts the at least part of the back frame portion 992 when the back frame portion 992 is about to move upward (+ Z side), so that the back frame portion 992 (and thus the recess 990) with respect to the wall portion 700. ) To the upper side. The collar 710 is disposed below the recess 990. When the concave portion 990 is to move downward, the flange 710 contacts at least a part of the concave portion 990, thereby suppressing the downward movement of the concave portion 990 relative to the wall portion 700. Therefore, the position shift between the wall part 700 and the mount 900 can be suppressed. Hereinafter, the portion of the collar 710 that can come into contact with the concave portion 990 is also referred to as a “lower holding portion”.

また、図11で説明したように、壁部700は、弾性変形可能な係合爪730を有し、架台900は、係合爪730に係合する係合部980を有している。そして、図11(D)で説明したように、架台900と壁部700とは、係合爪730が係合部980に係合することによって、互いに接続されている。これにより、架台900と壁部700との接続を、容易に行うことができる。   In addition, as described with reference to FIG. 11, the wall portion 700 has an engaging claw 730 that can be elastically deformed, and the mount 900 has an engaging portion 980 that engages with the engaging claw 730. 11D, the gantry 900 and the wall portion 700 are connected to each other when the engaging claw 730 engages with the engaging portion 980. Thereby, connection with the mount frame 900 and the wall part 700 can be performed easily.

また、本実施例では、壁部700と架台900とは、以下のように構成されている。接触濾床槽830内に配置された状態で、架台900(図11(D))の奥枠部992が、壁部700の上抑え部720のうちの奥枠部992に対向する部分720eに接触する。架台900は、奥枠部992と上抑え部720(具体的には、部分720e)との接触位置P2を支点として、外力を支える。上抑え部720よりも、凹部990の奥に向かう方向側(ここでは、+X側)に配置された脚部950は、接触濾床槽830の底面830sから上向き(+Z方向)の力F1を受ける。この力F1に起因して、支点(接触位置P2)よりも、凹部990の奥に向かう方向とは反対方向側(ここでは、−X側)に配置された第3枠部994には、−Z方向の力F2が印加される。第3枠部994の−X側の端部994eは、壁部700の第3鍔部714の対応する部分714eに押しつけられる。図示を省略するが、第2枠部993(図9)の−X側の端部も、壁部700の第2鍔部713の対応する部分に押しつけられる。奥枠部992と上抑え部720との接触位置P2と、第3枠部994と第3鍔部714との接触位置P1と、第2枠部993と第2鍔部713との接触位置(図示せず)とによって、水平面に対する架台900の方向(傾き)が決まる。従って、水平方向に対する架台900の向きのズレを抑制できる。また、本実施例では、このように方向が決められた架台900が、散気装置834を水平に支持するように、架台900が構成されている。従って、散気装置834が傾くことを抑制できる。この結果、散気装置834の複数の孔の一部からガスが吐出されなくなることを、抑制できる。そして、保持部材835(ここでは、好気濾材833と接触材832との少なくとも一方)に好気処理を行うには酸素が不足する部分が生じることを、抑制できる。これにより、保持部材835(好気濾材833と接触材832)の全体を、好気処理に適切に利用できる。また、架台900を仕切板803に固定せずに、架台900の位置ズレを抑制できる。従って、架台900を仕切板803に固定する作業を省略できる。また、架台900の固定のための貫通孔を仕切板803から省略できるので、そのような貫通孔を通る漏水を防止できる。

In the present embodiment, the wall 700 and the gantry 900 are configured as follows. The rear frame portion 992 of the gantry 900 (FIG. 11D) is placed in the portion 720 e of the upper restraining portion 720 of the wall portion 700 facing the rear frame portion 992 in a state of being arranged in the contact filter bed tank 830. Contact. The gantry 900 supports an external force with a contact position P2 between the back frame portion 992 and the upper holding portion 720 (specifically, the portion 720e) as a fulcrum. Than the upper pressing section 720 (here, + X side) towards direction side toward the back of recess 990 disposed a leg 950, a force F1 upward (+ Z direction) from the bottom surface 830s of the contact filter bed tank 830 receive. Due to the force F1, the third frame portion 994 disposed on the opposite side (in this case, the −X side) from the fulcrum (contact position P2) toward the back of the recess 990 has − A force F2 in the Z direction is applied. The −X side end portion 994e of the third frame portion 994 is pressed against the corresponding portion 714e of the third flange portion 714 of the wall portion 700. Although illustration is omitted, the −X side end portion of the second frame portion 993 (FIG. 9) is also pressed against the corresponding portion of the second flange portion 713 of the wall portion 700. Contact position P2 between the back frame portion 992 and the upper holding portion 720, contact position P1 between the third frame portion 994 and the third collar portion 714, and contact position between the second frame portion 993 and the second collar portion 713 ( (Not shown) determines the direction (tilt) of the gantry 900 with respect to the horizontal plane. Accordingly, it is possible to suppress the deviation of the orientation of the gantry 900 with respect to the horizontal direction. Further, in this embodiment, the gantry 900 is configured such that the gantry 900 whose direction is determined in this way supports the air diffuser 834 horizontally. Therefore, the air diffuser 834 can be prevented from tilting. As a result, it is possible to prevent the gas from being discharged from some of the plurality of holes of the air diffuser 834. And it can suppress that the part which oxygen runs short in performing the aerobic process in the holding member 835 (here at least one of the aerobic filter medium 833 and the contact material 832) can be suppressed. Thereby, the whole holding member 835 (aerobic filter medium 833 and contact material 832) can be appropriately used for the aerobic treatment. Further, the positional shift of the gantry 900 can be suppressed without fixing the gantry 900 to the partition plate 803. Therefore, the work of fixing the gantry 900 to the partition plate 803 can be omitted. Moreover, since the through-hole for fixing the mount 900 can be omitted from the partition plate 803, water leakage through such a through-hole can be prevented.

また、図7(B)には、上方から下方(−Z方向)を向いている場合に凹部990と鍔710とが重なる部分である重畳部分97が、ハッチングで示されている。図示するように、この重畳部分97は、凹部990の縁(特に、凹んだ部分を形成する縁)を全長に亘って含んでいる。すなわち、上方から下方を向いて見る場合に、鍔710は、凹部990の縁に、縁の全長に亘って重なっている。従って、鍔710は、凹部990の縁の全長に亘って位置ズレを抑制できる。この結果、架台900の位置ズレを適切に抑制できる。   Further, in FIG. 7B, an overlapping portion 97, which is a portion where the concave portion 990 and the flange 710 overlap with each other when facing from the upper side to the lower side (−Z direction), is indicated by hatching. As shown in the drawing, the overlapping portion 97 includes the edge of the recess 990 (particularly, the edge forming the recessed portion) over the entire length. That is, when viewed from the top to the bottom, the flange 710 overlaps the edge of the recess 990 over the entire length of the edge. Therefore, the flange 710 can suppress positional deviation over the entire length of the edge of the recess 990. As a result, the positional shift of the gantry 900 can be appropriately suppressed.

B.変形例:
(1)水処理槽内に配置される架台の構成としては、上記の架台900の構成に代えて、他の種々の構成を採用可能である。例えば、脚部950の総数としては、1以上の任意の数を採用可能である。また、部材支持部910と脚部950とが別部材であってもよい。この場合、部材支持部910と脚部950との接続方法としては、任意の方法を採用可能である。例えば、接着剤を用いて脚部950を部材支持部910に固定してもよい。また、凹部990が省略されてもよい。
B. Variations:
(1) As a configuration of the gantry arranged in the water treatment tank, various other configurations can be adopted instead of the configuration of the gantry 900 described above. For example, the total number of leg portions 950 can be any number greater than or equal to one. Further, the member support part 910 and the leg part 950 may be separate members. In this case, as a method for connecting the member support portion 910 and the leg portion 950, any method can be employed. For example, you may fix the leg part 950 to the member support part 910 using an adhesive agent. Further, the recess 990 may be omitted.

また、架台のうちの濾材などの対象部材を支持する部材支持部のうちの複数の貫通孔を形成する部分(「孔形成部」と呼ぶ)の構成としては、上記の格子914の構成に代えて、他の種々の構成を採用可能である。例えば、平板に複数の貫通孔を形成することによって得られる部材を、採用してもよい。一般的には、孔形成部は、上方側から下方側に向かって貫通する複数の貫通孔を形成することが好ましい。このような孔形成部を採用すれば、水処理槽内の水は、容易に、部材支持部の上側と下側との間を行き来できる。この結果、部材支持部よりも下方側に移動した汚泥が移動せずに堆積し続けることを、抑制できる。なお、貫通孔の形状としては、六角形に代えて、他の任意の形状を採用可能である(例えば、円、多角形など)。また、このような孔形成部を省略してもよい。   In addition, as a configuration of a portion (referred to as a “hole forming portion”) of a member support portion that supports a target member such as a filter medium in the gantry (referred to as “hole forming portion”), the configuration of the lattice 914 is used instead Various other configurations can be employed. For example, a member obtained by forming a plurality of through holes in a flat plate may be employed. In general, the hole forming portion preferably forms a plurality of through holes penetrating from the upper side toward the lower side. If such a hole formation part is employ | adopted, the water in a water treatment tank can go back and forth easily between the upper side and lower side of a member support part. As a result, it can suppress that the sludge which moved below the member support part continues depositing, without moving. In addition, as a shape of a through-hole, it replaces with a hexagon and other arbitrary shapes are employable (for example, a circle, a polygon, etc.). Moreover, you may abbreviate | omit such a hole formation part.

また、架台の脚部の構成としては、図7(E)の脚部950xのように柱部952と下部954とを含む構成に代えて、他の任意の構成を採用可能である。例えば、1つの脚部の水平断面の輪郭の形状(すなわち、水平な断面上の1つの脚部の全ての要素を含む凸包の形状)としては、六角形に代えて、他の任意の形状を採用可能である。例えば、三角形や四角形などの多角形、円、楕円などを採用してもよい。また、脚部は、脚部の水平断面の輪郭(具体的には、凸包)の最大径が下方側に向かって一定な部分と、最大径が下方側に向かって大きくなる部分と、の少なくとも一方を含んでもよい。例えば、脚部が、上下方向に延びる円筒状のパイプであってもよい。このようなパイプに複数の貫通孔を形成することによって、脚部が水の流れを止めることを抑制できる。また、脚部が水処理槽の底面の傾斜部分上に配置される場合であっても、脚部の下面の形状は、傾斜部分の形状とは異なる形状であってもよい。また、1つの脚部が、部材支持部の孔形成部(例えば、図7(D)の格子914)の複数の貫通孔に跨がった状態で、部材支持部に接続されていてもよい。また、脚部の互いに連通する複数の開口が、省略されてもよい。例えば、水処理槽の底面に向かって突出するカップ状の部材を、脚部として用いてもよい。また、脚部が省略されてもよい。この場合、架台の縁が、水処理槽の側壁の所定位置に固定されてもよい。   Moreover, as a structure of the leg part of a mount frame, it replaces with the structure containing the pillar part 952 and the lower part 954 like the leg part 950x of FIG.7 (E), and can employ | adopt other arbitrary structures. For example, the shape of the contour of the horizontal cross section of one leg (that is, the shape of a convex hull including all the elements of one leg on the horizontal cross section) may be any other shape instead of a hexagon. Can be adopted. For example, a polygon such as a triangle or a quadrangle, a circle, or an ellipse may be employed. Further, the leg portion includes a portion where the maximum diameter of the contour of the horizontal cross section of the leg portion (specifically, the convex hull) is constant toward the lower side, and a portion where the maximum diameter increases toward the lower side. At least one of them may be included. For example, the leg portion may be a cylindrical pipe extending in the vertical direction. By forming a plurality of through holes in such a pipe, it is possible to suppress the legs from stopping the flow of water. Further, even when the leg portion is disposed on the inclined portion of the bottom surface of the water treatment tank, the shape of the lower surface of the leg portion may be different from the shape of the inclined portion. In addition, one leg portion may be connected to the member support portion in a state of straddling a plurality of through holes of the hole forming portion of the member support portion (for example, the lattice 914 in FIG. 7D). . In addition, a plurality of openings in the legs that communicate with each other may be omitted. For example, a cup-shaped member protruding toward the bottom of the water treatment tank may be used as the leg portion. Moreover, a leg part may be abbreviate | omitted. In this case, the edge of the gantry may be fixed at a predetermined position on the side wall of the water treatment tank.

また、架台900のうちの水平面に対する架台900に向きを制限する部分、すなわち、架台900の意図しない傾きを抑制する部分としては、図11(D)の接触位置P1に対応する端部994eと、接触位置P2に対応する奥枠部992と、に代えて、他の任意の部分を採用可能である。例えば、架台900の縁が、水処理槽の側壁の所定位置に固定されてもよい。この場合、架台900の縁のうち側壁に固定された部分は、架台900の意図しない傾きを抑制できる。   Further, as a portion of the gantry 900 that restricts the orientation to the gantry 900 with respect to the horizontal plane, that is, a portion that suppresses an unintended inclination of the gantry 900, an end 994e corresponding to the contact position P1 in FIG. Instead of the back frame portion 992 corresponding to the contact position P2, other arbitrary portions can be adopted. For example, the edge of the gantry 900 may be fixed at a predetermined position on the side wall of the water treatment tank. In this case, a portion of the edge of the gantry 900 that is fixed to the side wall can suppress an unintended inclination of the gantry 900.

(2)架台に接続される壁部の構成としては、上記の壁部700の構成に代えて、他の種々の構成を採用可能である。例えば、架台900に係合爪が設けられ、壁部700に、架台900の係合爪に係合する係合部が設けられていてもよい。また、係合爪と係合爪に係合する係合部とが、省略されてもよい。また、鍔710の一部が省略されてもよい。すなわち、図7(B)のように上方から下方を向いて見る場合に、凹部990の縁(特に、凹んだ部分を形成する縁)のうちの鍔710に重なる部分が、凹部990の縁の一部のみであってもよい。また、凹部990の縁に縁の全長に亘って重なる鍔が、上抑え部720を形成する部分であってもよい。また、そのような鍔が省略されてもよい。また、上抑え部720と下抑え部(図9の例では、鍔710)との少なくとも一方が省略されてもよい。 (2) As the configuration of the wall portion connected to the gantry, other various configurations can be adopted instead of the configuration of the wall portion 700 described above. For example, the claw 900 may be provided with an engaging claw, and the wall 700 may be provided with an engaging portion that engages with the engaging claw of the gantry 900. Moreover, the engaging claw and the engaging part engaged with the engaging claw may be omitted. Moreover, a part of the collar 710 may be omitted. That is, when viewed from the top downward as shown in FIG. 7B, the portion of the edge of the recess 990 (particularly the edge forming the recessed portion) that overlaps the flange 710 is the edge of the recess 990. It may be only a part. In addition, a ridge that overlaps the edge of the recess 990 over the entire length of the edge may be a portion that forms the upper holding portion 720. Further, such wrinkles may be omitted. In addition, at least one of the upper holding portion 720 and the lower holding portion (in the example of FIG. 9, the flange 710) may be omitted.

また、壁部700の壁形成部は、水処理槽(例えば、処理水槽840)の側壁の一部ではなく側壁の全部を形成してもよい。また、壁形成部は、架台の凹部と同じ高さの位置から下方側に向かって延びる部分を含んでもよい。また、壁部700は、一体に成形された部材ではなく、複数の部材が接続されることによって、形成されてもよい。また、壁部700は、水処理槽ではなく、水が単に移動するだけの流路(例えば、バッフル)の側壁の少なくとも一部を形成してもよい。   Moreover, the wall formation part of the wall part 700 may form the whole side wall instead of a part of side wall of a water treatment tank (for example, treated water tank 840). Further, the wall forming portion may include a portion extending downward from a position at the same height as the recess of the gantry. Moreover, the wall part 700 may be formed by connecting a plurality of members instead of the integrally molded member. Moreover, the wall part 700 may form at least one part of the side wall of the flow path (for example, baffle) in which water only moves instead of a water treatment tank.

(3)架台を収容する水処理槽としては、接触濾床槽830に代えて、他の任意の水処理槽を採用可能である。例えば、嫌気濾材を有する嫌気濾床槽を採用してもよい。そして、嫌気濾床槽内の嫌気濾材の下に配置される架台が、嫌気濾材を支持してもよい。また、架台に接続される壁部は、嫌気濾床槽へ流入する水が流れる流路(バッフルとも呼ばれる)の側壁の少なくとも一部を形成してもよい。また、壁部は、嫌気濾床槽から流出する水が流れるバッフルの側壁の少なくとも一部を形成してもよい。一般的に、架台に接続される壁部は、単に水を移動させるだけの流路と、水を処理する水処理槽と、のいずれかの側壁の少なくとも一部を形成することが好ましい。なお、側壁は、流路または水処理槽の水平方向の範囲(すなわち、水平方向の縁)を定める壁である。 (3) Instead of the contact filter bed tank 830, any other water treatment tank can be adopted as the water treatment tank for accommodating the gantry. For example, you may employ | adopt the anaerobic filter bed tank which has an anaerobic filter medium. And the stand arrange | positioned under the anaerobic filter medium in an anaerobic filter bed tank may support an anaerobic filter medium. The wall connected to the gantry may form at least a part of a side wall of a flow path (also called a baffle) through which water flowing into the anaerobic filter bed tank flows. Further, the wall portion may form at least a part of the side wall of the baffle through which water flowing out from the anaerobic filter bed tank flows. In general, it is preferable that the wall portion connected to the pedestal forms at least a part of one of the side walls of a flow path that simply moves water and a water treatment tank that treats water. In addition, a side wall is a wall which defines the horizontal range (namely, edge of a horizontal direction) of a flow path or a water treatment tank.

(4)架台によって支持される対象部材は、散気装置と濾材とのいずれか一方のみであってもよい。濾材は、嫌気性微生物を保持するための部材(嫌気濾材とも呼ばれる)であってもよく、好気性微生物を保持するための部材(好気濾材とも呼ばれる)であってもよい。濾材の構成としては、網状の部分を含む構成や、板状の部分を含む構成(「接触材」とも呼ばれる)など、種々の構成を採用可能である。また、架台に支持される散気装置の構成としては、複数の孔を有するパイプに代えて、多数の気泡を吐出可能な任意の構成を採用可能である。例えば、多孔質の材料を用いて散気装置が構成されていてもよい(「ディフューザ」とも呼ばれる)。いずれの場合も、架台は、水平方向の位置が互いに異なる複数の位置で対象部材を支持することが好ましい。この構成によれば、架台は、対象部材を、適切に支持できる。 (4) The target member supported by the gantry may be only one of the air diffuser and the filter medium. The filter medium may be a member for holding anaerobic microorganisms (also called anaerobic filter medium) or a member for holding aerobic microorganisms (also called an aerobic filter medium). Various configurations such as a configuration including a net-like portion and a configuration including a plate-like portion (also referred to as “contact material”) can be adopted as the configuration of the filter medium. Moreover, as a structure of the diffuser supported by the gantry, any structure capable of discharging a large number of bubbles can be employed instead of the pipe having a plurality of holes. For example, the air diffuser may be configured using a porous material (also referred to as a “diffuser”). In any case, it is preferable that the gantry supports the target member at a plurality of positions whose horizontal positions are different from each other. According to this configuration, the gantry can appropriately support the target member.

(5)図9、図10の実施例では、仕切板803に壁部700が固定され、その後に、壁部700に架台900が接続されている。これに代えて、壁部700に架台900が接続された後に、壁部700が仕切板803に固定されてもよい。一般的には、排水処理装置800を組み立てる手順としては、任意の手順を採用可能である。 (5) In the embodiment of FIGS. 9 and 10, the wall 700 is fixed to the partition plate 803, and then the gantry 900 is connected to the wall 700. Instead, the wall 700 may be fixed to the partition plate 803 after the gantry 900 is connected to the wall 700. Generally, as a procedure for assembling the waste water treatment apparatus 800, any procedure can be adopted.

(6)排水処理装置の構成としては、上記の排水処理装置800の構成に代えて、他の種々の構成を採用可能である。例えば、夾雑物除去槽810に嫌気濾材が充填されてもよい。また、接触濾床槽830に代えて、微生物を保持する担体が流動する担体流動槽を採用してもよい。 (6) As the configuration of the wastewater treatment apparatus, various other configurations can be adopted instead of the configuration of the wastewater treatment apparatus 800 described above. For example, the anaerobic filter medium may be filled in the contaminant removal tank 810. Moreover, it may replace with the contact filter bed tank 830, and may employ | adopt the support | carrier flow tank with which the support | carrier holding microorganisms flows.

また、処理フローとしては、図1に示すフローに限らず、他の任意のフローを採用可能である。例えば、水位センサと、水位センサによって特定される水位に応じて制御される移送ポンプと、を有する流量調整槽が設けられても良い。また、流量を調整する機能(例えば、ピークカット機能や流量調整槽)が省略されてもよい。また、排水処理装置に設けられる水処理槽の総数としては、1以上の任意の数を採用可能である。また、家庭からの排水に限らず、産業排水を処理する排水処理装置を採用してもよい。   Further, the processing flow is not limited to the flow shown in FIG. 1, and any other flow can be adopted. For example, a flow rate adjusting tank having a water level sensor and a transfer pump controlled according to the water level specified by the water level sensor may be provided. Further, a function for adjusting the flow rate (for example, a peak cut function or a flow rate adjusting tank) may be omitted. Moreover, as the total number of water treatment tanks provided in the waste water treatment apparatus, any number of 1 or more can be adopted. Moreover, you may employ | adopt the waste water treatment apparatus which processes not only the waste water from a household but industrial waste water.

以上、実施例、変形例に基づき本発明について説明してきたが、上記した発明の実施の形態は、本発明の理解を容易にするためのものであり、本発明を限定するものではない。本発明は、その趣旨並びに特許請求の範囲を逸脱することなく、変更、改良され得ると共に、本発明にはその等価物が含まれる。   As mentioned above, although this invention was demonstrated based on the Example and the modification, Embodiment mentioned above is for making an understanding of this invention easy, and does not limit this invention. The present invention can be changed and improved without departing from the spirit and scope of the claims, and equivalents thereof are included in the present invention.

97...重畳部分、622、622p、622m...送気パイプ、700...壁部、710...鍔、712...第1鍔部(先鍔部)、713...第2鍔部(横鍔部)、714...第3鍔部(横鍔部)、730...係合爪、730a...突部、730as...表面(傾斜面)、800...排水処理装置、801...槽本体、802...流入口、803...側壁(仕切板)、804...放流口、810...夾雑物除去槽、812...流入バッフル、814...移流開口、820...嫌気濾床槽、822...濾材、824...移流開口、830...接触濾床槽、830s...底面、830as...第1部分底面、830bs...第2部分底面、832、832p、832m...接触材、833、833p、833m...好気濾材、834、834p、834m...散気装置、835...保持部材、836...移流開口、840...処理水槽、842...第2側壁部(壁形成部)、842d...傾斜部、843...第3側壁部(壁形成部)、843d...傾斜部、843e...接続部分、844...第4側壁部(壁形成部)、844d...傾斜部、844e...接続部分、849...ホッパー部分、849L...下部分、850...消毒槽、854...薬剤筒、860...循環エアリフトポンプ、861...第1移流管、862...吸入口、863...第2移流管、864...流出口、870...放流エアリフトポンプ、872...吸入口、874...流出口、900...架台、910...部材支持部、912...枠、914...格子、916...環状部、920...係止部、950、950a、950b、950x...脚部、950s、954as、954bs...下面、952...柱部、954、954a、954b...下部、980...係合部、990...凹部、992...第1枠部(奥枠部)、993...第2枠部(横枠部)、994...第3枠部(横枠部)、P1...接触位置、P2...接触位置、BB...気泡、WL...水面(水位)、LWL...低水位、HWL...高水位 97 ... Overlapping part, 622, 622p, 622m ... Air supply pipe, 700 ... Wall part, 710 ... Spear, 712 ... First scissor part (tip part), 713 ... Second collar part (horizontal collar part), 714 ... third collar part (lateral collar part), 730 ... engaging claw, 730a ... projection, 730as ... surface (inclined surface), 800 ... Wastewater treatment equipment, 801 ... Tank body, 802 ... Inlet, 803 ... Side wall (partition plate), 804 ... Outlet, 810 ... Contaminant removing tank, 812 ... Inflow baffle, 814 ... advection opening, 820 ... anaerobic filter bed, 822 ... filter media, 824 ... advection opening, 830 ... contact filter bed, 830s ... bottom, 830as. ..First part bottom surface, 830bs ... second part bottom surface, 832, 832p, 832m ... contact material, 833,833p, 833m ... aerobic filter medium, 834,834p, 834m ... diffuser 835 ... Holding member 836 ... Advection open , 840 ... treated water tank, 842 ... second side wall (wall forming part), 842d ... inclined part, 843 ... third side wall part (wall forming part), 843d ... inclined part, 843e ... connecting portion, 844 ... fourth side wall (wall forming portion), 844d ... inclined portion, 844e ... connecting portion, 849 ... hopper portion, 849L ... lower portion, 850 ... disinfection tank, 854 ... drug cylinder, 860 ... circulating air lift pump, 861 ... first advection pipe, 862 ... suction port, 863 ... second advection pipe, 864 ... Outlet, 870 ... Discharge air lift pump, 872 ... Inlet, 874 ... Outlet, 900 ... Base, 910 ... Member support, 912 ... Frame, 914 ... Grid 916 ... annular part, 920 ... locking part, 950, 950a, 950b, 950x ... leg part, 950s, 954as, 954bs ... bottom surface, 952 ... column part, 954, 954a, 954b ... Part, 980 ... engaging part, 990 ... concave part, 992 ... first frame part (back frame part), 993 ... second frame part (horizontal frame part), 994 ... third Frame (horizontal frame), P1 ... contact position, P2 ... contact position, BB ... bubble, WL ... water surface (water level), LWL ... low water level, HWL ... high water level

Claims (4)

排水処理装置であって、
第1水処理槽を含む1個以上の水処理槽と、
前記第1水処理槽内に配置された、散気装置と濾材との少なくとも一方を含む対象部材と、
前記第1水処理槽内に配置され、前記対象部材を支持する架台と、
流路と第2水処理槽とのいずれかの側壁の少なくとも一部を形成する壁部と、
を備え、
前記架台は、前記対象部材を水平方向の位置が互いに異なる複数の位置で支持する部材支持部を有し、
前記架台の前記部材支持部は、上方から下方を向いて見た場合に前記部材支持部の縁が前記部材支持部の内周側に向かって凹んだ部分を形成する凹部を有し、
前記壁部は、
前記部材支持部の前記凹部の前記縁に沿って配置され、前記流路と前記第2水処理槽とのいずれかの前記側壁の少なくとも一部を形成する壁形成部と、
前記部材支持部の前記凹部の少なくとも一部の上側に配置され、前記凹部が上側に移動しようとする場合に前記凹部の少なくとも一部に接触することによって、前記壁部に対する前記凹部の上側への移動を抑制する上抑え部と、
前記部材支持部の前記凹部の少なくとも一部の下側に配置され、前記凹部が下側に移動しようとする場合に前記凹部の少なくとも一部に接触することによって、前記壁部に対する前記凹部の下側への移動を抑制する下抑え部と、
を有する、
排水処理装置。
Wastewater treatment equipment,
One or more water treatment tanks including a first water treatment tank;
A target member including at least one of an air diffuser and a filter medium disposed in the first water treatment tank;
A pedestal arranged in the first water treatment tank and supporting the target member;
A wall portion forming at least a part of the side wall of either the flow path or the second water treatment tank;
With
The gantry includes a member support portion that supports the target member at a plurality of positions whose horizontal positions are different from each other.
The member support portion of the pedestal has a recess that forms a portion in which the edge of the member support portion is recessed toward the inner peripheral side of the member support portion when viewed from the top downward.
The wall is
A wall forming part that is disposed along the edge of the recess of the member support part and forms at least a part of the side wall of either the flow path or the second water treatment tank;
It is arranged above at least a part of the concave part of the member support part, and contacts the at least part of the concave part when the concave part is going to move upward. An upper restraining part for restraining movement;
The member supporting portion is disposed below at least a part of the concave portion, and contacts the at least part of the concave portion when the concave portion is about to move downward. A lower holding part that suppresses movement to the side,
Having
Wastewater treatment equipment.
請求項1に記載の排水処理装置であって、
前記架台と前記壁部との一方は、弾性変形可能な係合爪を有し、
前記架台と前記壁部との他方は、前記係合爪に係合する係合部を有し、
前記架台と前記壁部とは、前記係合爪が前記係合部に係合することによって、互いに接続されている、
排水処理装置。
A wastewater treatment apparatus according to claim 1,
One of the gantry and the wall has an engaging claw that is elastically deformable,
The other of the gantry and the wall has an engaging part that engages with the engaging claw,
The gantry and the wall portion are connected to each other by the engagement claw engaging the engagement portion.
Wastewater treatment equipment.
請求項1または2に記載の排水処理装置であって、
前記架台の前記凹部は、第1部分と、前記第1部分よりも前記凹部の奥側に位置する第2部分と、を含み、
前記下抑え部は、前記架台の前記凹部の前記第1部分に接触する第1接触部を含み、
前記上抑え部は、前記架台の前記凹部の前記第2部分に接触する第2接触部を含み、
前記架台は、前記凹部の前記第1部分が前記下抑え部の第1接触部に接触し、前記凹部の前記第2部分が前記上抑え部の第2接触部に接触した状態で、前記第1水処理槽内に配置されている、
排水処理装置。
The wastewater treatment apparatus according to claim 1 or 2,
The concave portion of the pedestal includes a first portion and a second portion located on the deeper side of the concave portion than the first portion,
The lower restraining part includes a first contact portion in contact with said first portion of said recess of said frame,
Wherein the restraining portion includes a second contact portion in contact with said second portion of said recess of said frame,
The gantry includes the first portion of the recess in contact with the first contact portion of the lower holding portion, and the second portion of the recess in contact with the second contact portion of the upper holding portion. It is arranged in one water treatment tank,
Wastewater treatment equipment.
請求項1から3のいずれか1項に記載の排水処理装置であって、
前記壁部は、前記上抑え部と前記下抑え部とのいずれかを形成する部分であって、上方から下方を向いて見る場合に、前記架台の前記凹部の前記縁に前記凹部の前記縁の全長に亘って重なる鍔を有する、
排水処理装置。
The waste water treatment apparatus according to any one of claims 1 to 3,
The wall portion is a portion that forms one of the upper holding portion and the lower holding portion, and when viewed from the upper side to the lower side, the edge of the recessed portion is placed on the edge of the recessed portion of the gantry. Having a ridge that overlaps the entire length of the
Wastewater treatment equipment.
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