JP6561627B2 - 触媒コーティング膜及びそれを用いたインジェクタ - Google Patents
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Description
請求項1に記載の発明では、塩基性酸化物及び金属は、界面部(14)に繋がる隙間部(15、18)を構成している。また、塩基性酸化物及び金属は、母材(20)に設けられており、隙間部(15、18)は、母材(20)側に向かって狭くなっていることを特徴とする。
請求項2に記載の発明では、塩基性酸化物及び金属は、母材(20)に設けられている。また、金属は、母材(20)から離れるに従って密度が低くなっていることを特徴とする。
以下、本発明の第1実施形態について図を参照して説明する。本実施形態に係る触媒コーティング膜は、例えば内燃機関の燃焼室を構成する壁面にコーティングされることで、燃焼時に発生するデポジットの付着力を抑制しつつ、デポジットの分解を促進するものである。
本実施形態では、第1実施形態と異なる部分について説明する。図4に示されるように、本実施形態では、塩基性酸化物及び金属はコアシェル構造を構成している。具体的には、Agのナノ粒子で構成されたコア部16がCeO2のナノ粒子で構成されたシェル部17によって覆われている。なお、コアシェル構造の曲率を無限大に大きくしていくと、平面上の積層構造に対応しているため、本実施形態で効果のあるものは、第1実施形態でも効果がある。
本実施形態に係る触媒である。銀セリアコアシェル触媒は逆ミセル法により作製した。はじめに、シクロヘキサン20mlを溶媒として界面活性剤ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル8mlを加え、銀アンミン錯体水溶液2ml(0.15M)を滴下し、15分間撹拌した。
硝酸セリウム6水和物を用いて共沈法により酸化セリウムナノ粒子を作製した。比表面積は82.6m2/gである。
酸化セリウム粒子に含浸法で銀40wt%を担持した。銀セリアコアシェル触媒と同等の銀とセリア重量比とした。比表面積は42.7m2/gである。
本実施形態に係る触媒である。銀セリアプラセオジアコアシェル触媒は逆ミセル法により作製した。はじめに、シクロヘキサン20mlを溶媒として界面活性剤ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル8mlを加え、銀アンミン錯体水溶液2ml(0.15M)を滴下し、15分間撹拌した。
金属としてPdを採用した。共沈法により作製したセリアナノ粒子に、含浸法でPd5wt%を担持した。比表面積は60.8m2/gである。
共沈法によりモル比Ce:Zr=9:1になるように作製した。比表面積は69.8m2/gである。
市販品である。日本アエロジル社製P-25を用いた。結晶構造として、アナターゼ、ルチルを含む。比表面積は50.2m2/gである。
市販品である。住友化学社製γアルミナ AKP−G15を用いた。比表面積は164.0m2/gである。
本実施形態では、第1、第2実施形態と異なる部分について説明する。本実施形態では、上記各実施形態で示された触媒コーティング膜10がインジェクタに適用されている。
上記各実施形態で示された触媒コーティング膜10の構成は一例であり、上記で示した構成に限定されることなく、本発明を実現できる他の構成とすることもできる。例えば、金属は原子クラスタとして構成されていても良い。また、塩基性酸化物は、原子クラスタもしくはアモルファスで構成されていても良い。
11 金属層
12 酸化物層
14 界面部
15、18 隙間部
16 コア部
17 シェル部
Claims (13)
- 燃料が劣化することで発生するデポジットの付着を抑制、分解を促進する触媒コーティング膜であって、
ポーリングの電気陰性度が1.7以下である元素を少なくとも1つ含んだ塩基性酸化物と、第8族から第10族に含まれる金属と、によって構成された界面部(14)を備え、
前記塩基性酸化物及び前記金属は、前記界面部(14)に繋がる隙間部(15、18)を構成しており、
前記塩基性酸化物及び前記金属は、母材(20)に設けられており、
前記隙間部(15、18)は、前記母材(20)側に向かって狭くなっていることを特徴とする触媒コーティング膜。 - 燃料が劣化することで発生するデポジットの付着を抑制、分解を促進する触媒コーティング膜であって、
ポーリングの電気陰性度が1.7以下である元素を少なくとも1つ含んだ塩基性酸化物と、第8族から第10族に含まれる金属と、によって構成された界面部(14)を備え、
前記塩基性酸化物及び前記金属は、母材(20)に設けられており、
前記金属は、前記母材(20)から離れるに従って密度が低くなっていることを特徴とする触媒コーティング膜。 - 前記塩基性酸化物及び前記金属は、前記金属で構成された金属層(11)と前記塩基性酸化物で構成された酸化物層(12)とが積層された積層構造を構成していることを特徴とする請求項1または2に記載の触媒コーティング膜。
- 前記塩基性酸化物及び前記金属は、前記金属で構成されたコア部(16)が前記塩基性酸化物で構成されたシェル部(17)によって覆われたコアシェル構造を構成していることを特徴とする請求項1または2に記載の触媒コーティング膜。
- 前記金属は、ナノ粒子もしくは原子クラスタとして構成されていることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1つに記載の触媒コーティング膜。
- 前記塩基性酸化物は、ナノ粒子、原子クラスタ、及びアモルファスのいずれかで構成されていることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか1つに記載の触媒コーティング膜。
- 前記金属は、Agであることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1つに記載の触媒コーティング膜。
- 前記金属は、Ni、Cu、Pd、Pt、Auのいずれかであることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1つに記載の触媒コーティング膜。
- 前記塩基性酸化物は、Ceを含む酸化物であることを特徴とする請求項1ないし8のいずれか1つに記載の触媒コーティング膜。
- 前記塩基性酸化物は、Al、Sc、Ti、Y、Mn、V、Sr、Ba、Mg、Li、Na、Nb、Zr、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Hfのいずれかを含んで構成されていることを特徴とする請求項1ないし8のいずれか1つに記載の触媒コーティング膜。
- 前記塩基性酸化物はCeを含む酸化物であると共に、前記金属はAgであり、
最表面(13)が前記Ceを含む酸化物で構成されていることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1つに記載の触媒コーティング膜。 - 前記塩基性酸化物はTiを含む酸化物であると共に、前記金属はAgであり、
最表面(13)が前記Tiを含む酸化物で構成されていることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1つに記載の触媒コーティング膜。 - ノズル(31)に設けられていると共に燃料が噴射される噴孔(32)と、
前記燃料が劣化することで発生するデポジットの付着を抑制、分解を促進するものであって、ポーリングの電気陰性度が1.7以下である元素を少なくとも1つ含んだ塩基性酸化物と、第8族から第10族に含まれる金属と、によって構成された界面部(14)を有し、前記噴孔(32)にコーティングされた触媒コーティング膜(10)と、
を備えていることを特徴とするインジェクタ。
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