JP6557965B2

JP6557965B2 - 透明絶縁膜用樹脂溶液、および透明絶縁膜の製造方法

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Inventors: 崇藤島; 牧田　健一; 健一牧田
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Description

本発明は、透明絶縁膜用樹脂溶液に関するものであり、より詳しくは、表示素子用絶縁膜として好適な透明絶縁膜用樹脂溶液、該溶液から形成された透明絶縁膜、及びその透明絶縁膜の製造方法に関するものである。

スマートフォンやタブレットＰＣ、パソコン、カーナビゲーション等、様々な電子機器のディスプレイにはタッチパネルが搭載され、幅広く使用されている。

タッチパネルは通常、透明基板上に第一（Ｘ軸）の透明導電膜層（酸化インジウムスズ：ＩＴＯ）、絶縁膜層、第二（Ｙ軸）の透明導電膜層（ＩＴＯ）、保護膜層の順に組み合わされた構成となっている。

第一および第二のＩＴＯ膜層の間に挟まれた絶縁膜には、タッチパネルの視認性の点から透明性が高いことが求められており、さらに、絶縁特性、透明導電膜（ＩＴＯ膜）やガラス、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等、基材との密着性も求められている。

また、絶縁膜を製造する際、成膜するだけでよい簡便な製造方法で取扱いが可能な絶縁膜材料も求められている。

ここで、フマル酸ジエステル系樹脂よりなるフィルムは優れた透明性を有することが知られているが（例えば、特許文献１〜３及び非特許文献１参照。）、絶縁膜として使用する際の詳細な特性については知られておらず、ＩＴＯ膜等の基材との密着性についても知られていない。

特公平５−４０２８１号公報特開２００６−１９３６１６号公報特開２００８−１２０８５１号公報

大津隆行著、未来材料、２００２年、Ｖｏｌ．２、Ｎｏ．１２発行、（第７０〜７４頁）

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、透明性を損なうことなく、ＩＴＯ密着特性に優れ、かつ成膜のみで透明絶縁膜として取扱い可能な透明絶縁膜用樹脂溶液を提供することにある。

本発明者らは、上記課題に対し鋭意検討した結果、特定のフマル酸エステル系樹脂、反応性シラン化合物、反応開始剤、及び透明絶縁膜製造用溶剤を含有する透明絶縁膜用樹脂溶液が上記課題を解決することを見出し、本発明を完成するに至った。

即ち本発明は、下記一般式（１）で表されるフマル酸ジエステル残基単位５０〜９９モル％と、下記一般式（２）で表されるオキセタニル基を有する（メタ）アクリル酸エステル残基単位及び／又は下記一般式（３）で表されるテトラヒドロフルフリル基を有する（メタ）アクリル酸エステル残基単位１〜５０モル％を含むフマル酸エステル系樹脂、反応性シラン化合物、反応開始剤、及び透明絶縁膜製造用溶剤を含有することを特徴とする透明絶縁膜用樹脂溶液である。

（ここで、Ｒ_１およびＲ_２はそれぞれ独立して炭素数３〜１２の直鎖状アルキル基または分岐状アルキル基、炭素数３〜６の環状アルキル基を示す。）

（ここで、Ｒ_３は水素またはメチル基を示し、Ｒ_４は水素、炭素数１〜４の直鎖状アルキル基または分岐状アルキル基、ｎ＝１または２を示す。）

（ここで、Ｒ_５は水素またはメチル基を示し、Ｒ_６は水素、炭素数１〜４の直鎖状アルキル基または分岐状アルキル基を示す。）
以下、本発明を詳細に説明する。

本発明の透明樹脂膜用樹脂溶液は、特定のフマル酸エステル系樹脂、反応性シラン化合物、反応開始剤、及び透明絶縁膜製造用溶剤を含有するものである。

本発明のフマル酸エステル系樹脂は、下記一般式（１）で表されるフマル酸ジエステル残基単位５０〜９９モル％と、下記一般式（２）で表されるオキセタニル基を有する（メタ）アクリル酸エステル残基単位及び／又は下記一般式（３）で表されるテトラヒドロフルフリル基を有する（メタ）アクリル酸エステル残基単位１〜５０モル％を含むフマル酸エステル系樹脂である。その中でも透明性に優れたフマル酸エステル系樹脂となることから、フマル酸ジエステル残基単位８０〜９９モル％、オキセタニル基を有する（メタ）アクリル酸エステル残基単位及び／又はテトラヒドロフルフリル基を有する（メタ）アクリル酸エステル残基単位１〜２０モル％であることが好ましい。

（ここで、Ｒ_５は水素またはメチル基を示し、Ｒ_６は水素、炭素数１〜４の直鎖状アルキル基または分岐状アルキル基を示す。）
フマル酸エステル系樹脂を構成する一般式（１）で表されるフマル酸ジエステル残基単位として、例えば、フマル酸ジｎ−プロピル残基、フマル酸ジｎ−ブチル残基、フマル酸ジｎ−ペンチル残基、フマル酸ジイソプロピル残基、フマル酸ジ−ｓ−ブチル残基、フマル酸ジ−ｔ−ブチル残基、フマル酸ジ−ｓ−ペンチル残基、フマル酸ジシクロプロピル残基、フマル酸ジシクロペンチル残基、フマル酸ジシクロヘキシル残基等が挙げられ、その中でも、フマル酸ジイソプロピル残基、フマル酸ジ−ｓ−ブチル残基、フマル酸ジ−ｔ−ブチル残基、フマル酸ジシクロペンチル残基、フマル酸ジシクロヘキシル残基が好ましく、フマル酸ジイソプロピル残基がさらに好ましい。

さらに、フマル酸エステル系樹脂を構成する一般式（２）で表されるオキセタニル基を有する（メタ）アクリル酸エステル残基単位としては、例えば、アクリル酸−３−オキセタニルメチル残基、アクリル酸−３−メチル−３−オキセタニルメチル残基、アクリル酸−３−エチル−３−オキセタニルメチル残基、アクリル酸−３−プロピル−３−オキセタニルメチル残基、アクリル酸−３−ｎ−ブチル−３−オキセタニルメチル残基、アクリル酸−３−イソプロピル−３−オキセタニルメチル残基、アクリル酸−３−イソブチル−３−オキセタニルメチル残基、アクリル酸−３−ｓｅｃ−ブチル−３−オキセタニルメチル残基、アクリル酸−３−ｔｅｒｔ−ブチル−３−オキセタニルメチル残基、アクリル酸−３−オキセタニルエチル残基、アクリル酸−３−メチル−３−オキセタニルエチル残基、アクリル酸−３−エチル−３−オキセタニルエチル残基、アクリル酸−３−プロピル−３−オキセタニルエチル残基、アクリル酸−３−ｎ−ブチル−３−オキセタニルエチル残基、アクリル酸−３−イソプロピル−３−オキセタニルエチル残基、アクリル酸−３−イソブチル−３−オキセタニルエチル残基、アクリル酸−３−ｓｅｃ−ブチル−３−オキセタニルエチル残基、アクリル酸−３−ｔｅｒｔ−ブチル−３−オキセタニルエチル残基、メタクリル酸−３−オキセタニルメチル残基、メタクリル酸−３−メチル−３−オキセタニルメチル残基、メタクリル酸−３−エチル−３−オキセタニルメチル残基、メタクリル酸−３−プロピル−３−オキセタニルメチル残基、メタクリル酸−３−ｎ−ブチル−３−オキセタニルメチル残基、メタクリル酸−３−イソプロピル−３−オキセタニルメチル残基、メタクリル酸−３−イソブチル−３−オキセタニルメチル残基、メタクリル酸−３−ｓｅｃ−ブチル−３−オキセタニルメチル残基、メタクリル酸−３−ｔｅｒｔ−ブチル−３−オキセタニルメチル残基、メタクリル酸−３−オキセタニルエチル残基、メタクリル酸−３−メチル−３−オキセタニルエチル残基、メタクリル酸−３−エチル−３−オキセタニルエチル残基、メタクリル酸−３−プロピル−３−オキセタニルエチル残基、メタクリル酸−３−ｎ−ブチル−３−オキセタニルエチル残基、メタクリル酸−３−イソプロピル−３−オキセタニルエチル残基、メタクリル酸−３−イソブチル−３−オキセタニルエチル残基、メタクリル酸−３−ｓｅｃ−ブチル−３−オキセタニルエチル残基、メタクリル酸−３−ｔｅｒｔ−ブチル−３−オキセタニルエチル残基等が挙げられる。

また、一般式（３）で表されるテトラヒドロフルフリル基を有する（メタ）アクリル酸エステル残基単位としては、例えば、アクリル酸テトラヒドロフルフリル残基、アクリル酸−２−メチルテトラヒドロフルフリル残基、アクリル酸−２−エチルテトラヒドロフルフリル残基、アクリル酸−２−プロピルテトラヒドロフルフリル残基、アクリル酸−２−ｎ−ブチルテトラヒドロフルフリル残基、アクリル酸−２−イソプロピルテトラヒドロフルフリル残基、アクリル酸−２−イソブチルテトラヒドロフルフリル残基、アクリル酸−２−ｓｅｃ−ブチルテトラヒドロフルフリル残基、アクリル酸−２−ｔｅｒｔ−ブチルテトラヒドロフルフリル残基、メタクリル酸テトラヒドロフルフリル残基、メタクリル酸−２−メチルテトラヒドロフルフリル残基、メタクリル酸−２−エチルテトラヒドロフルフリル残基、メタクリル酸−２−プロピルテトラヒドロフルフリル残基、メタクリル酸−２−ｎ−ブチルテトラヒドロフルフリル残基、メタクリル酸−２−イソプロピルテトラヒドロフルフリル残基、メタクリル酸−２−イソブチルテトラヒドロフルフリル残基、メタクリル酸−２−ｓｅｃ−ブチルテトラヒドロフルフリル残基、メタクリル酸−２−ｔｅｒｔ−ブチルテトラヒドロフルフリル残基等が挙げられる。

そして、これら（メタ）アクリル酸エステル残基単位の中でも、透明性に優れたフマル酸エステル系樹脂が得られることからアクリル酸−３−エチル−３−オキセタニルメチル残基、メタクリル酸−３−エチル−３−オキセタニルメチル残基、アクリル酸テトラヒドロフルフリル残基、メタクリル酸テトラヒドロフルフリル残基が好ましく用いられる。

本発明のフマル酸エステル系樹脂は、本発明の目的を逸脱しない範囲において、他の単量体残基単位が含まれていても良く、他の単量体残基単位としては、例えば、スチレン残基、α−メチルスチレン残基等のスチレン類残基；アクリル酸残基；アクリル酸メチル残基、アクリル酸エチル残基、アクリル酸ブチル残基等のアクリル酸エステル類残基；メタクリル酸残基；メタクリル酸メチル残基、メタクリル酸エチル残基、メタクリル酸ブチル残基等のメタクリル酸エステル類残基；酢酸ビニル残基、プロピオン酸ビニル残基等のビニルエステル類残基；アクリロニトリル残基；メタクリロニトリル残基；エチレン残基、プロピレン残基等のオレフィン類残基等が挙げられる。

本発明で用いるフマル酸エステル系樹脂は、ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）が、機械特性により優れ、製膜時の加工特性に優れた透明樹脂膜となることから１０，０００〜３００，０００が好ましく、３０，０００〜２００，０００がさらに好ましい。

本発明において、「反応性シラン化合物」とは、フマル酸エステル系樹脂におけるオキセタニル基やテトラヒドロフルフリル基と反応する特定の官能基を有し、合わせて基材との密着性を向上する特定の官能基を有するシラン化合物をいうものである。すなわち、本発明における「反応性シラン化合物」は、二つの特定の官能基を有することを特徴とするものである。そして、本発明における反応性シラン化合物としては、これら二つの官能基を有するシランカップリング剤が挙げられる。

具体的なシランカップリング剤としては、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン等が挙げられる。

その中でも、基材密着性や反応性の点から３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランが好ましい。

シランカップリング剤の添加量は、ポリマー１００重量部に対して、０．１〜２０重量部が好ましく、１〜１０重量部がさらに好ましい。添加量が０．１重量部より少ないと密着性向上効果が十分でない場合があり、２０重量部より多いとフマル酸エステル系組成物の保存安定性が悪くなる場合がある。

本発明における反応開始剤は、フマル酸エステル系樹脂と反応性シラン化合物との架橋反応を可能にするものであり、熱または紫外光によって反応を促進するものである。例えば、フェニルジアゾニウムヘキサフルオロアンチモン酸、フェニルジアゾニウムヘキサフルオロリン酸等の芳香族ジアゾニウム塩；ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモン酸、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロリン酸、４−メチルフェニル−４−（２−メチルプロピル）フェニルヨードニウムヘキサフルオロリン酸等の芳香族ヨードニウム塩；トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモン酸、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロリン酸、ベンジルテトラメチレンスルホニウムヘキサフルオロアンチモン酸、２−ブテニルテトラメチレンスルホニウムヘキサフルオロアンチモン酸等のスルホニウム塩等が挙げられる。反応開始剤の添加量は、フマル酸エステル系樹脂１００重量部に対して、０．０１〜５重量部が好ましく、０．０５〜１重量部がさらに好ましい。添加量が０．０１重量部より少ないと架橋反応が十分に進行しない場合があり、５重量部より多いと膜の強度が悪くなる場合がある。

本発明に用いられる透明絶縁膜製造用溶剤は、フマル酸エステル系樹脂、反応性シラン化合物、及び反応開始剤をすべて溶解するものである。そして、本発明の透明絶縁膜用樹脂溶液は、該透明絶縁膜製造用溶剤がフマル酸エステル系樹脂、反応性シラン化合物、及び反応開始剤を全て溶解して得られるものであることを特徴とする。本発明における透明絶縁膜製造用溶剤として特に制限はなく、テトラヒドロフランやジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類；トルエン、キシレン、キュメン等の芳香族炭化水素類；クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ブロモベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド等のアミド類；ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート等のグリコール類が挙げられ、単独または２種類以上の溶剤を併用してもよい。その中でもインクジェット法に好適な透明絶縁膜製造用溶剤としては沸点が１００℃以上の溶剤が好ましく、トルエン、キシレン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸ブチル、Ｎ−メチルピロリドン、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテートがさらに好ましい。透明絶縁膜製造用溶剤の含有量は、インクジェット法による成膜がより好適なものとなることから、透明絶縁膜用樹脂溶液１００重量部に対して、７０〜９９重量部が好ましく、８０〜９７重量部がさらに好ましい。

次に、本発明の透明絶縁膜用樹脂溶液から透明樹脂膜を形成する製造方法を説明する。

本発明の透明絶縁膜用樹脂溶液から透明樹脂膜を形成する製造方法としては、透明絶縁膜用樹脂溶液を基板上に成膜した後、溶剤を乾燥して樹脂膜を形成し、熱及び／又は紫外光によって架橋反応させる工程を含むことが好ましい。

透明絶縁膜用樹脂溶液を成膜する方法としては、煩雑な工程を必要とせず、簡便な成膜方法であることから、インクジェット法が好ましい。その他、スピンコート法、スリットダイ法、バーコート法等、適宜の方法で成膜が可能である。

本発明において、成膜方法としてインクジェット法を採用する場合には、透明絶縁膜用樹脂溶液の粘度は、粘度が高いと樹脂溶液の吐出が困難となるため、２０００ｍＰａ・以下が好ましく、膜の成膜加工性の点から１〜２００ｍＰａ・ｓがさらに好ましい。

本発明の透明絶縁膜用樹脂溶液を用いて得られる透明絶縁膜は各種基材に密着性を有する。例えば、ガラス、シリコン、ＩＴＯ膜付きガラス等の無機基材、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリイミド等の樹脂基材が挙げられる。その中でも難密着性基材であるＩＴＯ膜が積層された基材に対しても良好な密着性を有する。

本発明の透明絶縁膜用樹脂溶液を基材に成膜後、溶剤を乾燥する方法は特に制限なく、乾燥炉に投入し、６０〜１５０℃の乾燥温度で１〜１５分程度保持するだけで乾燥された膜を得ることができる。

本発明において、得られた塗膜に紫外光を照射する方法としては、例えば、水銀ランプやメタルハライドランプ等を光源として用いることができ、紫外光の露光量は１００〜５０，０００Ｊ／ｍ^２が好ましく、１，０００〜１０，０００Ｊ／ｍ^２がさらに好ましい。

本発明の透明絶縁膜の膜厚は特に制限なく、０．５〜５０μｍが好ましく、１〜１０μｍがさらに好ましい。

本発明の透明絶縁膜は透明性に優れるものであり、全光線透過率は９０％以上が好ましく、９２％以上がさらに好ましい。また、透明絶縁膜のヘーズは１．０％以下が好ましく、０．５％以下がさらに好ましい。

本発明の透明絶縁膜用樹脂溶液には、発明の趣旨を超えない範囲で、その他のポリマー、無機フィラー、酸化防止剤、紫外線防止剤、帯電防止剤、アンチブロッキング剤等が加えられていても良い。

本発明の透明絶縁膜用樹脂溶液を用いて得られる透明絶縁膜は、タッチパネル用透明絶縁膜として適したものである。

本発明によると、透明性、耐熱性、ＩＴＯ密着性に優れるものであり、タッチパネルを構成する絶縁膜として提供が可能となる。

以下に本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。

なお、実施例に示す諸物性は、以下の方法により測定した。

＜透明性の評価方法＞
全光線透過率およびヘーズは、ヘーズメーター（日本電色工業製、商品名ＮＤＨ２０００）を使用し、ＪＩＳＫ７３６１−１に準拠して測定した。

＜ＩＴＯ密着性の評価方法＞
作製した樹脂膜をＪＩＳＫ５６００−５−６による方法で、有効面に１ｍｍの碁盤目１００個（１０×１０）を作り、セロハン粘着テープを用い、有効面に密着させた後剥離した。判定は碁盤目１００個の内、剥離しないマス目の数で表し、マス目１００個が剥離しない場合を密着良好、マス目１０個以上剥離した場合を密着不良と判定した。

＜フマル酸エステル系樹脂の組成＞
核磁気共鳴測定装置（日本電子製、商品名ＪＮＭ−ＧＸ２７０）を用い、プロトン核磁気共鳴分光（^１Ｈ−ＮＭＲ）スペクトル分析より求めた。

＜数平均分子量の測定＞
ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）（東ソー株式会社製、商品名ＨＬＣ−８０２Ａ）を用い、ＴＨＦを溶剤とし標準ポリスチレン換算値として求めた。

合成例１（フマル酸エステル系樹脂の製造例１）
攪拌機、冷却管、窒素導入管および温度計を備えた３Ｌの４口フラスコに、ヒドロキシプロピルメチルセルロース（信越化学製、商品名メトローズ６０ＳＨ−５０）５ｇ、蒸留水１，５００ｇ、フマル酸ジイソプロピル９７０ｇ、アクリル酸−３−エチル−３−オキセタニルメチル３０ｇおよび重合開始剤であるｔ−ブチルパーオキシピバレート７ｇを入れ、窒素バブリングを１時間行なった後、４００ｒｐｍで攪拌しながら５０℃で２４時間保持することによりラジカル共重合を行なった。フラスコ中の重合物をろ別し、蒸留水およびメタノールで洗浄することによりフマル酸エステル系樹脂を得た（収率：８５％）。^１Ｈ−ＮＭＲ測定により、得られたフマル酸ジエステル系樹脂の共重合組成は、フマル酸ジイソプロピル残基単位／アクリル酸−３−エチル−３−オキセタニルメチル残基単位＝９６／４（モル％）であった。なお、フマル酸ジエステル系樹脂の数平均分子量は１４５，０００であった。

合成例２（フマル酸エステル系樹脂の製造例２）
攪拌機、冷却管、窒素導入管および温度計を備えた３Ｌの４口フラスコに、ヒドロキシプロピルメチルセルロース（信越化学製、商品名メトローズ６０ＳＨ−５０）５ｇ、蒸留水１，５００ｇ、フマル酸ジイソプロピル１，０００ｇおよび重合開始剤であるｔ−ブチルパーオキシピバレート７ｇを入れ、窒素バブリングを１時間行なった後、４００ｒｐｍで攪拌しながら５２℃で２４時間保持することによりラジカル共重合を行なった。フラスコ中の重合物をろ別し、蒸留水およびメタノールで洗浄することによりフマル酸エステル系樹脂を得た（収率：８３％）。得られたフマル酸ジエステル系樹脂の数平均分子量は１２０，０００であった。

合成例３（溶液の調製１）
合成例１で得られたフマル酸エステル系樹脂１０重量部、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン０．５重量部、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート０．０５重量部、メチルイソブチルケトン８９．４５重量部を混合して、フマル酸エステル系樹脂溶液を調製した。

合成例４（溶液の調製２）
合成例１で得られたフマル酸エステル系樹脂５重量部、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン０．３重量部、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロリン酸０．０２重量部、キシレン９４．６８重量部を混合して、フマル酸エステル系樹脂溶液を調製した。

合成例５（溶液の調製３）
合成例１で得られたフマル酸エステル系樹脂１０重量部、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン１重量部、２−ブテニルテトラメチレンスルホニウムヘキサフルオロアンチモン酸０．１重量部、キシレン８８．９重量部を混合して、フマル酸エステル系樹脂溶液を調製した。

合成例６（溶液の調製４）
合成例１で得られたフマル酸エステル系樹脂１０重量部、メチルイソブチルケトン９０重量部を混合して、フマル酸エステル系樹脂溶液を調製した。

合成例７（溶液の調製５）
合成例２で得られたフマル酸エステル系樹脂１０重量部、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン１重量部、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロリン酸０．１重量部、キシレン８８．９重量部を混合して、フマル酸エステル系樹脂溶液を調製した。

合成例８（溶液の調製６）
合成例１で得られたフマル酸エステル系樹脂１０重量部、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン１重量部、キシレン８９重量部を混合して、フマル酸エステル系樹脂溶液を調製した。

合成例９（溶液の調製７）
合成例１で得られたフマル酸エステル系樹脂１０重量部、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロリン酸０．１重量部、キシレン８９．９重量部を混合して、フマル酸エステル系樹脂溶液を調製した。

実施例１（透明樹脂膜の作製）
合成例３で調製したフマル酸エステル系樹脂溶液を５ｃｍ角のＩＴＯ膜付きガラス基材にスピンコートにて塗布し、熱風循環式乾燥機で１１０℃、１０分間保持し、乾燥した塗膜（膜厚２μｍ）を得た。次いで、高圧水銀ランプを用いて露光量５，０００Ｊ／ｍ^２で紫外光を照射し、透明樹脂膜を得た。

得られた膜の透明性は、全光線透過率９３％、ヘーズ０．４％であり、ＩＴＯ膜との密着性も剥離は見られず良好であった（１００マス中、密着１００マス）。

実施例２（透明樹脂膜の作製）
合成例４で調製したフマル酸エステル系樹脂溶液を５ｃｍ角のＩＴＯ膜付きガラス基材にスピンコートにて塗布し、熱風循環式乾燥機で１２０℃、１０分間保持し、乾燥した塗膜（膜厚２μｍ）を得た。次いで、高圧水銀ランプを用いて露光量５，０００Ｊ／ｍ^２で紫外光を照射し、透明樹脂膜を得た。

実施例３（透明樹脂膜の作製）
合成例５で調製したフマル酸エステル系樹脂溶液を５ｃｍ角のＩＴＯ膜付きガラス基材にスピンコートにて塗布し、熱風循環式乾燥機で１３０℃、１５分間保持し、透明樹脂膜（膜厚２μｍ）を得た。

実施例４（透明樹脂膜の作製）
合成例３で調製したフマル酸エステル系樹脂溶液を５ｃｍ角のＩＴＯ膜付きガラス基材にインクジェットにて塗布し、熱風循環式乾燥機で１１０℃、１０分間保持し、乾燥した塗膜（膜厚２μｍ）を得た。次いで、高圧水銀ランプを用いて露光量５，０００Ｊ／ｍ^２で紫外光を照射し、透明樹脂膜を得た。

実施例５（透明樹脂膜の作製）
合成例４で調製したフマル酸エステル系樹脂溶液を５ｃｍ角のＩＴＯ膜付きガラス基材にインクジェットにて塗布し、熱風循環式乾燥機で１２０℃、１０分間保持し、乾燥した塗膜（膜厚２μｍ）を得た。次いで、高圧水銀ランプを用いて露光量５，０００Ｊ／ｍ^２で紫外光を照射し、透明樹脂膜を得た。

実施例６（透明樹脂膜の作製）
合成例５で調製したフマル酸エステル系樹脂溶液を５ｃｍ角のＩＴＯ膜付きガラス基材にインクジェットにて塗布し、熱風循環式乾燥機で１３０℃、１５分間保持し、透明樹脂膜（膜厚２μｍ）を得た。

比較例１（透明樹脂膜の作製）
合成例６で得たフマル酸エステル系樹脂溶液を５ｃｍ角のＩＴＯ膜付きガラス基材にスピンコートにて塗布し、熱風循環式乾燥機で１１０℃、１０分間保持し、乾燥した塗膜（膜厚２μｍ）を得た。

得られた膜の透明性は、全光線透過率９３％、ヘーズ０．４％であったが、ＩＴＯ膜との密着性は悪かった（１００マス中、密着１０マス）。

比較例２（透明樹脂膜の作製）
合成例６で得たフマル酸エステル系樹脂溶液を５ｃｍ角のＩＴＯ膜付きガラス基材にスピンコートにて塗布し、熱風循環式乾燥機で１１０℃、１０分間保持し、乾燥した塗膜（膜厚２μｍ）を得た。次いで、高圧水銀ランプを用いて露光量５，０００Ｊ／ｍ^２で紫外光を照射した。

比較例３（透明樹脂膜の作製）
合成例７で得たフマル酸エステル系樹脂溶液を５ｃｍ角のＩＴＯ膜付きガラス基材にスピンコートにて塗布し、熱風循環式乾燥機で１１０℃、１０分間保持し、乾燥した塗膜（膜厚２μｍ）を得た。次いで、高圧水銀ランプを用いて露光量５，０００Ｊ／ｍ^２で紫外光を照射した。

比較例４（透明樹脂膜の作製）
合成例８で得たフマル酸エステル系樹脂溶液を５ｃｍ角のＩＴＯ膜付きガラス基材にスピンコートにて塗布し、熱風循環式乾燥機で１１０℃、１０分間保持し、乾燥した塗膜（膜厚２μｍ）を得た。次いで、高圧水銀ランプを用いて露光量５，０００Ｊ／ｍ^２で紫外光を照射した。

比較例５（透明樹脂膜の作製）
合成例９で得たフマル酸エステル系樹脂溶液を５ｃｍ角のＩＴＯ膜付きガラス基材にスピンコートにて塗布し、熱風循環式乾燥機で１１０℃、１０分間保持し、乾燥した塗膜（膜厚２μｍ）を得た。次いで、高圧水銀ランプを用いて露光量５，０００Ｊ／ｍ^２で紫外光を照射した。

Claims

下記一般式（１）で表されるフマル酸ジエステル残基単位５０〜９９モル％と、下記一般式（２）で表されるオキセタニル基を有する（メタ）アクリル酸エステル残基単位及び／又は下記一般式（３）で表されるテトラヒドロフルフリル基を有する（メタ）アクリル酸エステル残基単位１〜５０モル％を含むフマル酸エステル系樹脂、反応性シラン化合物、反応開始剤、及び透明絶縁膜製造用溶剤を含有することを特徴とする透明絶縁膜用樹脂溶液。
（ここで、Ｒ_１およびＲ_２はそれぞれ独立して炭素数３〜１２の直鎖状アルキル基もしくは分岐状アルキル基または炭素数３〜６の環状アルキル基を示す。）
（ここで、Ｒ_３は水素またはメチル基を示し、Ｒ_４は水素または炭素数１〜４の直鎖状アルキル基もしくは分岐状アルキル基、ｎ＝１または２を示す。）
（ここで、Ｒ_５は水素またはメチル基を示し、Ｒ_６は水素または炭素数１〜４の直鎖状アルキル基もしくは分岐状アルキル基を示す。）
透明絶縁膜製造用溶剤がエーテル類、芳香族炭化水素類、ハロゲン化芳香族炭化水素類、ケトン類、エステル類、アミド類、グリコール類からなる群より選択される少なくとも１種であることを特徴とする請求項１に記載の透明絶縁膜用樹脂溶液。
透明絶縁膜製造用溶剤の沸点が１００℃以上であることを特徴とする請求項２に記載の透明絶縁膜用樹脂溶液。
透明絶縁膜製造用溶剤の含有量が透明絶縁膜用樹脂溶液１００重量部に対して、７０〜９９重量部であることを特徴とする請求項３に記載の透明絶縁膜用樹脂溶液。
粘度が２，０００ｍＰａ・ｓ以下であることを特徴とする請求項３又は請求項４に記載の透明絶縁膜用樹脂溶液。
透明絶縁膜として成膜した場合に、該透明絶縁膜の全光線透過率が９０％以上、ヘーズが１％以下であることを特徴とする請求項１乃至〜請求項５のいずれか一項に記載の透明絶縁膜用樹脂溶液。
透明絶縁膜として成膜した場合に、該透明絶縁膜が表示素子用絶縁膜であることを特徴とする請求項１〜請求項６のいずれか一項に記載の透明絶縁膜用樹脂溶液。
請求項１〜請求項７のいずれか一項に記載の透明絶縁膜用樹脂溶液から形成されることを特徴とする透明樹脂膜。
請求項１〜請求項７のいずれか一項に記載の透明絶縁膜用溶液を基板上に成膜し、熱及び／又は紫外光で架橋反応させる工程を含むことを特徴とする透明樹脂膜の製造方法。
請求項１〜請求項７のいずれか一項に記載の透明絶縁膜用樹脂溶液をインクジェット法で成膜することを特徴とする請求項８に記載の透明樹脂膜の製造方法。