JP6554414B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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こうした基板処理装置は、ウエハ周囲の雰囲気制御や外からの汚染導入を回避する等の目的で、隔壁等で区画された処理室ごとにFFU、処理液ノズル、基板保持回転装置等を備える構成をとることがある。基板処理装置が複数の処理室を有するいわゆるマルチチャンバ―方式においては、通常、処理室ごとにFFU、処理液ノズル、基板保持回転装置等が設けられる。
FFU下方には基板保持機構が設けられるが、FFUと基板保持装置等を直接対向させた場合、基板保持装置、ひいては処理時のウエハに当たる気体の流れの方向や強さにばらつきが出る場合があり、処理の品質上問題がある。そのため、FFUからのダウンフローの方向や強さのばらつきを調整する等の目的で、FFU直下に、略板状の形状を有し、複数の鉛直に通貫した開口を有するいわゆる整流板を配置することが行われる。
また、基板保持機構に回転機構が接続されたいわゆるスピンチャックに保持したウエハに、処理液ノズルから処理液を適用した処理を行う場合に、ウエハから上方の整流板にまで処理液が飛散するときがある。整流板の下面へと飛散した処理液は整流板の開口を通じて整流板の上面に達し、汚染や液だれの原因となる。このような汚染や液だれの危険性を減少させる必要がある。
この発明によれば、液だれ防止の必要性が高い交叉位置近傍について整流板の傾斜角度を最大とし、その外方に向けて傾斜角度を小さくしているため、整流板全体としての整流作用はそれほど損なわれずに済む。
基板処理装置1は、隔壁15で区画された処理室10の内部に配置されている。
基板処理装置1は、処理室10の上部に配置されたFFU20、FFU20の下方に配置
された整流板40、整流板40の下方に設置された基板保持回転機構60を備えている。基板処理装置1は、さらに、図示しない処理液タンクからの処理液を処理液配管81を通じてウエハWなどへ供給するための処理液ノズル80を備えていても良い。
処理室10の隔壁15には、整流板40から伝った流体を受け、排液ライン17へと導くための排液ガイド16を設ける。
整流板40の下面44は、略平面状に形成されている。
整流板40には、上面41から下面44へと略鉛直方向に通貫する複数の流路45が形成されている。FFU20からのダウンフロー気流は、これら流路45を通じて整流板40の下方へと供給される。
整流板40は、その下面44が略水平となるように、図示しない固定器具により、隔壁15に固定される。隔壁15には、整流板40の当該固定位置よりやや下方に、排液ガイド16が設置されている。排液ガイド16は、整流板40から伝わった液を受けとめた後、処理室10の下方にある図示しない廃液ラインへと液を導く機能を有する。
処理液ノズル80は、基本的にはその下方にあり基板保持回転機構60に保持されているウエハWに向けて、鉛直下方または鉛直やや斜め下方に向けて処理液を供給するが、ウエハWの処理時以外において、整流板40を洗浄するために、鉛直上方」または鉛直やや斜め上方に向けて処理液を供給することもできるように、処理液供給方向を反転させる機構を有する形態としても良い。
また、処理液ノズル80は、通常、鉛直方向または鉛直やや斜め方向に向けて処理液を供給するように供給するように構成されているが、処理液ノズル80から略水平方向に向けて処理液を噴射できるような機能を付加する、または略水平方向に向けて処理液を噴射するための専用ノズルを設けても良い。このように水平方向に向けて処理液を噴射しうる処理液ノズル80がある場合、当該処理液ノズル80をFFU20と整流板40の上面41との間に配置し、処理液を整流板40の上面傾斜部42に当たるように供給することにより、FFU20に処理液が直接にかからないように整流板40の上面41を洗浄することが可能となる。
以下、図2を参照して、整流板40の構成および上面傾斜部42の作用について説明する。
FFU20からのダウンフロー気流は、整流板40の上面41に衝突し、その一部は凝結し液滴となる。整流板40の上面41にはこうしてできた液滴のほか、ウエハWから飛散した液が整流板40の下面44の開口を通じて上面41に着地した液滴も付着する。これら液滴は、上面傾斜部42の傾斜により、鉛直回転軸65より外方に向けて転がり落ちるように移動する。上面傾斜部42の表面が疎水性となるように、上面傾斜部42の素材を疎水性の材質とするか、または上面傾斜部42の表面を疎水性の物質でコーティングすることにより、上面傾斜部42による液滴排除の効果をより高めても良い。
図3は、整流板40の上面傾斜部42の形態例を示す図式的な断面図である。
以下、図3を参照して、上面傾斜部42の形態のバリエーションの一例について説明する。
以下、図3を参照して、上面傾斜部42の形態のバリエーションの一例について説明する。
図3に示す上面傾斜部42は、水平方向に延びる略長方形状の頂部48と、頂部48に連結する略平面状の2つの傾斜面を有する。上面傾斜部42には、複数の流路45が略均等間隔にて形成されている。図4に示す上面傾斜部42は、表面の全てが平面で構成されているため、加工が容易である。また、傾斜がダウンフロー変動に及ぼす影響の予測も比較的容易である。なお、上面傾斜部42の形状については、頂部48を稜線状とし、実質的に2つの傾斜面が当該稜線で結合する形状としても良い。
以下、図5を参照して、上面傾斜部42の形態のバリエーションの一例について説明する。
以下、図5を参照して、上面傾斜部42の形態のバリエーションの一例について説明する。
以下、図6を参照して、上面傾斜部42の形態のバリエーションの一例について説明する。
図6に示す上面傾斜部42では、上面傾斜部42の上面全体が、鉛直回転軸65との交叉位置66を頂点とし、上方に凸となる曲面となるように形成されている。
以下、図7を参照して、第二の流路46を有する整流板40について説明する。
図7では、簡単のために流路45の図示は省略する。
流路45と第二の流路46の主な違いは、整流板40の上面41における開口近傍の流路の向きにある。
流路45は、整流板40の上面41と下面44とを鉛直方向に通貫するように形成される。その一方で、第二の流路46では、下面44における開口から略鉛直上方へと流路が形成され、上面41に至るまでに流路の形成方向が変化し、鉛直回転軸65から外方に向かい上面41の開口に至る。
転軸から外方に向かうように吹き出るため、FFU20に処理液が殆どかからないように、整流板40の上面41を洗浄することが可能となる。
こうした第二の流路46は、整流板40の上面傾斜部42において、鉛直回転軸65近傍にのみ形成しても良いし、上面傾斜部42全体にわたり複数個形成しても良い。
図1と違う点は、図8においては補助整流板50が配置されている点である。
以下、図8を参照して、補助整流板50と整流板40との関係等について説明する。
補助整流板50は、略平板状の形状であり、鉛直方向に通貫する複数の流路51を有する。
1 基板処理装置
10 処理室
15 隔壁
16 排液ガイド
17 排液ライン
20 FFU
40 整流板
41 上面
42 上面傾斜部
43 上面平坦部
44 下面
45 流路
46 第二の流路
48 頂部
50 補助整流板
51 流路
60 基板保持回転機構
61 基板保持部
62 回転駆動機構
63 回転駆動機構台座
64 回転駆動シャフト
65 鉛直回転軸
66 交叉位置
68 支持ピン
80 処理液ノズル
81 処理液配管
Claims (7)
- FFUと、
前記FFUの下方に設置されており、鉛直方向に通貫する複数の流路を有する整流板と、
前記整流板の下方に設置され、その上面に基板を保持し鉛直回転軸を中心に水平面内で回転する基板保持回転機構と、を備える基板処理装置であって、
前記整流板の上面が少なくともその一部に上面傾斜部を有しており、
前記上面傾斜部は、前記鉛直回転軸と交叉する交叉位置が最も上方となり、前記交叉位置から外方に向かい斜め下方向に傾斜することを特徴とする、基板処理装置。 - 前記請求項1に記載の基板処理装置であって、
前記上面傾斜部の傾斜角度が、前記交叉位置から外方に向かうにつれて小さくなることを特徴とする基板処理装置。 - 前記請求項1乃至2に記載の基板処理装置であって、
前記複数の流路各々について、前記整流板の上面側の開口の直径が、前記FFUから供給される流体が前記上面部上に凝結した際の平均的な液滴の直径よりも小さいことを特徴とする基板処理装置。 - 前記請求項1乃至3に記載の基板処理装置であって、
前記上面傾斜部の表面が撥水性であることを特徴とする基板処理装置。 - 前記請求項1乃至4に記載の基板処理装置であって、
前記整流板の上方または下方に、補助整流板を設けることを特徴とする基板処理装置。 - 前記請求項1乃至5に記載の基板処理装置であって、
前記整流板の上面を洗浄するための処理液ノズルを更に備えていることを特徴とする基板処理装置。 - 前記請求項1乃至6に記載の基板処理装置であって、
前記整流板が前記下面から上面へと通貫する第二の流路を更に備えており、
前記第二の流路が、前記下面の開口から鉛直上方に向かう部分と、前記鉛直回転軸から外方に向かい前記上面の開口へと向かう部分とを有することを特徴とする基板処理装置。
Priority Applications (1)
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