JP6548395B2 - Waste water treatment equipment - Google Patents

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JP6548395B2 JP2015005572A JP2015005572A JP6548395B2 JP 6548395 B2 JP6548395 B2 JP 6548395B2 JP 2015005572 A JP2015005572 A JP 2015005572A JP 2015005572 A JP2015005572 A JP 2015005572A JP 6548395 B2 JP6548395 B2 JP 6548395B2
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Description

本開示は、排水を処理する排水処理装置に関する。   The present disclosure relates to a wastewater treatment device for treating wastewater.

従来から、微生物を利用して排水処理が行われている。そのような排水処理を行う排水処理装置としては、複数の水処理槽(例えば、嫌気濾床槽と接触曝気槽とを含む複数の水処理槽)を収容する装置が利用されている。複数の水処理槽を収容する排水処理装置内には、複数の水処理槽の間を仕切る仕切板(仕切壁とも呼ぶ)が設けられている。   Wastewater treatment has conventionally been performed using microorganisms. As a waste water treatment apparatus that performs such waste water treatment, an apparatus that accommodates a plurality of water treatment tanks (for example, a plurality of water treatment tanks including an anaerobic filter bed tank and a contact aeration tank) is used. In the waste water treatment apparatus which accommodates a plurality of water treatment tanks, a partition plate (also referred to as partition wall) that divides the plurality of water treatment tanks is provided.

特開2006−272053号公報Unexamined-Japanese-Patent No. 2006-272053

ところで、仕切壁が、仕切壁の一方側から他方側へ水を移流させるための移流開口を形成する場合がある。ところが、仕切壁が移流開口を形成する場合に、不具合が生じる場合があった。例えば、仕切壁の強度が低下する場合があった。   By the way, a partition wall may form an advection opening for advection of water from one side of the partition wall to the other side. However, when the partition wall forms an advection opening, a problem may occur. For example, the strength of the partition wall may be reduced.

本開示は、仕切壁が移流開口を形成する場合の不具合を抑制できる技術を開示する。   The present disclosure discloses a technique capable of suppressing a defect when the partition wall forms an advection opening.

本開示は、例えば、以下の態様または適用例を開示する。
[態様]
排水処理装置であって、
第1水処理槽と第2水処理槽とを含む複数の水処理槽を収容する空間を形成する外壁と、
前記外壁によって形成される前記空間内で前記第1水処理槽と前記第2水処理槽との間を仕切る仕切壁と、
を備え、
前記仕切壁は、
前記第1水処理槽の内面の一部と前記第2水処理槽の内面の一部とを形成し、さらに、前記第1水処理槽と前記第2水処理槽とを連通する移流開口の縁の少なくとも一部である開口縁部を形成する主壁部と、
前記開口縁部の少なくとも一部から前記第2水処理槽側へ向かって突出する突出部と、
を含み、
前記仕切壁は、前記仕切壁の外周縁が前記仕切壁の内周側に向かって凹んだ部分である凹部を有し、
前記凹部と前記外壁との間の隙間が、前記移流開口に対応し、
前記移流開口の鉛直方向の長さは、前記移流開口の水平方向の長さよりも長く、
前記凹部の全体は、前記仕切壁の下端よりも高い位置に設けられている、
排水処理装置。


The present disclosure, for example, discloses the following aspects or application examples.
[Aspect]
Waste water treatment equipment,
An outer wall forming a space for accommodating a plurality of water treatment tanks including a first water treatment tank and a second water treatment tank,
A partition wall which partitions between the first water treatment tank and the second water treatment tank in the space formed by the outer wall;
Equipped with
The partition wall is
A part of the inner surface of the first water treatment tank and a part of the inner surface of the second water treatment tank, and further, in the advection opening communicating the first water treatment tank and the second water treatment tank A main wall forming an opening edge which is at least part of the edge;
A protrusion which protrudes toward the second water treatment tank side from at least a part of the opening edge;
Including
The partition wall has a recess in which the outer peripheral edge of the partition wall is recessed toward the inner peripheral side of the partition wall,
A gap between the recess and the outer wall corresponds to the advection opening,
The vertical length of the advection opening is longer than the horizontal length of the advection opening,
The whole of the recess is provided at a position higher than the lower end of the partition wall.
Waste water treatment equipment.


[適用例1]
排水処理装置であって、
第1水処理槽と第2水処理槽とを含む複数の水処理槽を収容する空間を形成する外壁と、
前記外壁によって形成される前記空間内で前記第1水処理槽と前記第2水処理槽との間を仕切る仕切壁と、
を備え、
前記仕切壁は、
前記第1水処理槽の内面の一部と前記第2水処理槽の内面の一部とを形成し、さらに、前記第1水処理槽と前記第2水処理槽とを連通する移流開口の縁の少なくとも一部である開口縁部を形成する主壁部と、
前記開口縁部の少なくとも一部から前記第2水処理槽側へ向かって突出する突出部と、
を含む、排水処理装置。
Application Example 1
Waste water treatment equipment,
An outer wall forming a space for accommodating a plurality of water treatment tanks including a first water treatment tank and a second water treatment tank,
A partition wall which partitions between the first water treatment tank and the second water treatment tank in the space formed by the outer wall;
Equipped with
The partition wall is
A part of the inner surface of the first water treatment tank and a part of the inner surface of the second water treatment tank, and further, in the advection opening communicating the first water treatment tank and the second water treatment tank A main wall forming an opening edge which is at least part of the edge;
A protrusion which protrudes toward the second water treatment tank side from at least a part of the opening edge;
Waste water treatment equipment, including:

この構成によれば、仕切壁が、開口縁部の少なくとも一部から第2水処理槽側へ向かって突出する突出部を含むので、仕切壁の強度が低下することを抑制できる。   According to this configuration, since the partition wall includes the projecting portion that protrudes toward the second water treatment tank side from at least a part of the opening edge, it is possible to suppress a decrease in the strength of the partition wall.

[適用例2]
適用例1に記載の排水処理装置であって、
前記移流開口は、前記第1水処理槽から前記第2水処理槽へ水が移流する開口である、
排水処理装置。
Application Example 2
The waste water treatment apparatus according to Application Example 1 is,
The advection opening is an opening through which water is transferred from the first water treatment tank to the second water treatment tank.
Waste water treatment equipment.

この構成によれば、移流開口を通じて水が逆流することを突出部によって抑制しつつ、仕切壁の強度が低下することを抑制できる。   According to this configuration, it is possible to suppress the decrease in the strength of the partition wall while suppressing the backflow of water through the advection opening by the projection.

[適用例3]
適用例1または2に記載の排水処理装置であって、
前記仕切壁は、前記仕切壁の外周縁が前記仕切壁の内周側に向かって凹んだ部分である凹部を有し、
前記凹部と前記外壁との間の隙間が、前記移流開口に対応する、
排水処理装置。
Application Example 3
The waste water treatment apparatus according to application example 1 or 2, wherein
The partition wall has a recess in which the outer peripheral edge of the partition wall is recessed toward the inner peripheral side of the partition wall,
A gap between the recess and the outer wall corresponds to the advection opening,
Waste water treatment equipment.

この構成によれば、移流開口が主壁部に設けられた貫通孔である場合と比べて、仕切壁の強度が低下することを抑制できる。   According to this configuration, reduction in strength of the partition wall can be suppressed as compared with the case where the advection opening is a through hole provided in the main wall portion.

[適用例4]
適用例3に記載の排水処理装置であって、
前記移流開口の鉛直方向の長さは、前記移流開口の水平方向の長さよりも長い、
排水処理装置。
Application Example 4
The waste water treatment apparatus according to Application Example 3 is,
The vertical length of the advection opening is longer than the horizontal length of the advection opening,
Waste water treatment equipment.

この構成によれば、移流開口の鉛直方向の長さよりも移流開口の水平方向の長さが長い場合と比べて、移流開口が仕切壁の内側部分に向かって拡がることが抑制される。この結果、仕切壁の内側部分の設計の自由度を向上しつつ、仕切壁の強度が低下することを抑制できる。   According to this configuration, the spread of the advection opening toward the inner portion of the partition wall is suppressed as compared with the case where the horizontal length of the advection opening is longer than the vertical length of the advection opening. As a result, it is possible to suppress a decrease in the strength of the partition wall while improving the degree of freedom in designing the inner portion of the partition wall.

[適用例5]
適用例1から4のいずれか1項に記載の排水処理装置であって
前記第1水処理槽と前記第2水処理槽のうち上流側の水処理槽を上流水処理槽と呼ぶときに、
前記上流水処理槽は、前記上流水処理槽へ流入する水を上方側から下方側へ導くバッフルを有し、
前記移流開口の上端は、前記バッフルの下端よりも高い位置に配置され、
前記移流開口の下端は、前記バッフルの下端よりも低い位置に配置されている、
排水処理装置。
Application Example 5
In the wastewater treatment apparatus according to any one of the application examples 1 to 4, when an upstream water treatment tank among the first water treatment tank and the second water treatment tank is referred to as an upstream water treatment tank,
The upstream water treatment tank has a baffle for guiding water flowing into the upstream water treatment tank from the upper side to the lower side,
The upper end of the advection opening is located higher than the lower end of the baffle,
The lower end of the advection opening is located lower than the lower end of the baffle,
Waste water treatment equipment.

この構成によれば、バッフルを通じて上流水処理槽に流入した水が、上流水処理槽内の更に深い位置を移動せずに、移流開口に到達可能である。この結果、上流水処理槽の底部に堆積した堆積物が撹拌されることを抑制しつつ、仕切壁の強度が低下することを抑制できる。   According to this configuration, the water flowing into the upstream water treatment tank through the baffle can reach the advection opening without moving further deeper in the upstream water treatment tank. As a result, it is possible to suppress the decrease in the strength of the partition wall while suppressing that the sediment deposited on the bottom of the upstream water treatment tank is stirred.

[適用例6]
適用例3に従属する場合の適用例4または5に記載の排水処理装置であって、
前記仕切壁は、前記仕切壁の外周縁の全周に亘って設けられ前記第2水処理槽側へ突出する外周突出部を含み、
前記開口縁部から突出する前記突出部は、前記外周突出部の一部である、
排水処理装置。
Application Example 6
The waste water treatment apparatus according to Application Example 4 or 5 in a case subordinate to Application Example 3;
The partition wall includes an outer peripheral protruding portion provided along the entire periphery of the outer peripheral edge of the partition wall and protruding toward the second water treatment tank side.
The protruding portion protruding from the opening edge is a part of the outer peripheral protruding portion,
Waste water treatment equipment.

この構成によれば、外周突出部によって仕切壁の強度を向上できる。   According to this configuration, the peripheral projection can improve the strength of the partition wall.

なお、本明細書に開示の技術は、種々の形態で実現することが可能であり、例えば、仕切壁、仕切壁を備える排水処理装置、等の形態で実現することができる。   Note that the technology disclosed in the present specification can be realized in various forms, and can be realized, for example, in the form of a partition wall, a drainage treatment apparatus including the partition wall, or the like.

一実施例としての排水処理装置800の処理フローを示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the processing flow of the waste-water-treatment apparatus 800 as one Example. 排水処理装置800を横から見た概略構成図である。It is the schematic block diagram which looked at the waste water treatment apparatus 800 from the side. 排水処理装置800の概略構成を示している。A schematic configuration of the wastewater treatment device 800 is shown. 排水処理装置800の概略構成を示している。A schematic configuration of the wastewater treatment device 800 is shown. 外壁801と仕切壁900との分解斜視図である。FIG. 7 is an exploded perspective view of an outer wall 801 and a partition wall 900. 仕切壁900の斜視図である。FIG. 10 is a perspective view of a partition wall 900. 仕切壁900を−X側から+X方向を向いて見た概略図である。It is the schematic which looked at the partition wall 900 facing + X direction from the -X side. 移流開口814の近傍における水の流れを示す概略図である。FIG. 16 is a schematic view showing the flow of water in the vicinity of the advection opening 814. 仕切壁の別の実施例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows another Example of a partition wall. 移流開口990Bの近傍における水の流れを示す概略図である。It is the schematic which shows the flow of water in the vicinity of the advection opening 990B. 排水処理装置の変形例を示す概略図である。It is the schematic which shows the modification of a waste-water-treatment apparatus.

A.第1実施例:
図1は、一実施例としての排水処理装置800の処理フローを示す説明図である。本実施例の排水処理装置800は、一般家庭等からの排水の浄化処理を行う(このような装置は「浄化槽」とも呼ばれる)。排水処理装置800は、複数のステップを経て浄化処理を行うために、複数の水処理槽を有している。図1の実施例では、排水処理装置800は、上流(図1の左側)から順番に、夾雑物除去槽810、嫌気濾床槽820、接触濾床槽830、処理水槽840、消毒槽850の各水処理槽を、収容している。排水処理装置800に流入した排水は、夾雑物除去槽810、嫌気濾床槽820、接触濾床槽830、処理水槽840、消毒槽850で順次処理された後に、排水処理装置800の外部に放流される。以下、各水処理槽を流れる水を「被処理水」あるいは、単に「水」と呼ぶ。
A. First embodiment:
FIG. 1: is explanatory drawing which shows the processing flow of the waste-water-treatment apparatus 800 as one Example. The waste water treatment apparatus 800 of this embodiment performs purification treatment of waste water from general households etc. (Such apparatus is also called "septic tank"). The waste water treatment apparatus 800 has a plurality of water treatment tanks in order to perform purification treatment through a plurality of steps. In the embodiment of FIG. 1, the waste water treatment apparatus 800 includes, in order from the upstream side (the left side of FIG. 1), the debris removal tank 810, the anaerobic filter bed 820, the contact filter bed 830, the treated water tank 840, and the disinfection tank 850. Each water treatment tank is accommodated. The waste water flowing into the waste water treatment apparatus 800 is discharged to the outside of the waste water treatment apparatus 800 after being sequentially treated in the contaminant removal tank 810, the anaerobic filter bed 820, the contact filter bed 830, the treatment water tank 840, and the disinfection tank 850. Be done. Hereinafter, the water flowing in each water treatment tank is referred to as "water to be treated" or simply "water".

図2は、排水処理装置800を横から見た概略構成図である。図3は、図2中のA−A断面から下方を向いて見た排水処理装置800の概略構成を示している。図3の下部には、2つの部分説明図PE1、PE2が示されている。第1部分説明図PE1は、接触濾床槽830と処理水槽840とのそれぞれの壁を表す説明図である。第2部分説明図PE2は、水処理槽810〜850を収容する空間を形成する外壁801(「槽本体801」とも呼ぶ)と、夾雑物除去槽810と嫌気濾床槽820との間を仕切る仕切壁900と、の接続部分の拡大図である。これらの部分の詳細については、後述する。図4は、図2中のB−B断面から夾雑物除去槽810側を向いて見た排水処理装置800の概略構成を示している。これらの図中において、Z方向は、鉛直方向の下方から上方へ向かう方向を示し、X方向は、排水処理装置800の長手方向(水平な方向)を示し、Y方向は、X方向とZ方向とのそれぞれに直交する方向(水平な方向)を示している。以下、X方向を「+X方向」とも呼び、X方向側を「+X側」とも呼び、X方向の反対方向を「−X方向」とも呼び、−X方向側を「−X側」とも呼ぶ。Y方向、Z方向についても、同様である。   FIG. 2 is a schematic configuration view of the waste water treatment apparatus 800 viewed from the side. FIG. 3 shows a schematic configuration of the waste water treatment apparatus 800 viewed downward from the A-A cross section in FIG. At the bottom of FIG. 3, two partial illustrations PE1 and PE2 are shown. A first partial explanatory view PE1 is an explanatory view showing respective walls of the contact filter bed 830 and the treatment water tank 840. Second part explanatory view PE2 partitions between an outer wall 801 (also referred to as “tank main body 801”) forming a space for housing the water treatment tanks 810 to 850, a contaminant removing tank 810 and an anaerobic filter bed tank 820 It is an enlarged view of the connection part with the partition wall 900. FIG. The details of these parts will be described later. FIG. 4 shows a schematic configuration of the waste water treatment apparatus 800 viewed from the cross section B-B in FIG. In these figures, the Z direction indicates the direction from the bottom to the top in the vertical direction, the X direction indicates the longitudinal direction (horizontal direction) of the wastewater treatment device 800, and the Y direction indicates the X direction and the Z direction. And a direction (horizontal direction) orthogonal to each other. Hereinafter, the X direction is also referred to as “+ X direction”, the X direction side is also referred to as “+ X side”, the opposite direction of the X direction is also referred to as “−X direction”, and the −X direction side is also referred to as “−X side”. The same applies to the Y direction and the Z direction.

夾雑物除去槽810は、排水中の夾雑物を分離する水処理槽である。図2、図3に示すように、夾雑物除去槽810は、排水処理装置800の最上流部に配置されている。流入口802からの排水(汚水とも呼ばれる)は、まず、夾雑物除去槽810に流入する。夾雑物除去槽810は、固液分離手段(本実施例では、流入バッフル812)を有しており、排水中の夾雑物を被処理水から分離する。本実施例の流入バッフル812は、夾雑物除去槽810に流入する水を、上方側から下方側へ導く流路を形成している。これにより、流入バッフル812は、夾雑物除去槽810に流入する水に含まれる固形物の流れる方向を、下流側の水処理槽である嫌気濾床槽820へ向かう方向(ここでは、+X方向)ではなく、夾雑物除去槽810の底部に向けることができる。この結果、夾雑物除去槽810は、底部に固形物を堆積させることができる。   The contaminant removal tank 810 is a water treatment tank that separates contaminants in the waste water. As shown in FIGS. 2 and 3, the contaminant removal tank 810 is disposed at the most upstream portion of the waste water treatment apparatus 800. Waste water from the inflow port 802 (also referred to as dirty water) first flows into the dirt removal tank 810. The contaminant removal tank 810 has a solid-liquid separation means (in this embodiment, the inflow baffle 812) to separate the contaminants in the waste water from the water to be treated. The inflow baffle 812 of the present embodiment forms a flow path for guiding the water flowing into the contaminant removal tank 810 from the upper side to the lower side. Thereby, the inflow baffle 812 directs the flow direction of the solids contained in the water flowing into the contaminant removal tank 810 to the anaerobic filter bed 820 which is the water treatment tank on the downstream side (here, the + X direction). Rather, it can be directed to the bottom of the debris removal reservoir 810. As a result, the dirt removal tank 810 can deposit solids at the bottom.

図2、図3に示すように、夾雑物除去槽810の+X側の仕切壁900は、槽本体801を、排水処理装置800の長手方向(ここでは、X方向)に対しておおよそ垂直に、+X側の部分と−X側の部分とに仕切る壁である。夾雑物が分離(除去)されたあとの水は、移流開口814を通じて、嫌気濾床槽820に移流する。   As shown in FIGS. 2 and 3, the partition wall 900 on the + X side of the contaminant removal tank 810 has the tank main body 801 approximately perpendicular to the longitudinal direction (here, the X direction) of the waste water treatment apparatus 800, It is a wall divided into a part on the + X side and a part on the -X side. Water from which contaminants have been separated (removed) is transferred to the anaerobic filter tank 820 through the advection opening 814.

嫌気濾床槽820は、嫌気性微生物による嫌気処理を行う水処理槽である。嫌気濾床槽820は、嫌気性微生物が付着するための濾材822を有している。嫌気処理によって、被処理水中の有機物が分解される。また、濾材822は、被処理水中の浮遊物を捕捉し得る。   The anaerobic filter tank 820 is a water treatment tank that performs anaerobic treatment with anaerobic microorganisms. The anaerobic filter tank 820 has a filter medium 822 for the attachment of anaerobic microorganisms. By the anaerobic treatment, the organic matter in the water to be treated is decomposed. Also, the filter medium 822 can capture suspended matter in the water to be treated.

図2、図3に示すように、嫌気濾床槽820の下流側(+X側)の仕切壁803は、槽本体801を、排水処理装置800の長手方向(ここでは、X方向)に対しておおよそ垂直に、+X側の部分と−X側の部分とに仕切る壁である。仕切壁803の反対側(+X側)には、上から見て、仕切壁803から+X側(図3中の右側)に突出する略U字状に配置された側壁部843、842、844が、固定されている。仕切壁803と側壁部843、842、844で囲まれる空間が、処理水槽840に相当する。仕切壁803と槽本体801とで囲まれる+X側の空間のうちの、側壁部843、842、844の外側の空間は、接触濾床槽830に相当する。側壁部843、842、844の構成については、後述する。   As shown in FIGS. 2 and 3, the partition wall 803 on the downstream side (+ X side) of the anaerobic filter bed tank 820 is the tank main body 801 in the longitudinal direction (here, the X direction) of the waste water treatment apparatus 800. It is a wall that divides roughly into a part on the + X side and a part on the −X side. On the opposite side (+ X side) of the partition wall 803, substantially U-shaped side wall portions 843, 842 and 844 projecting from the partition wall 803 to the + X side (right side in FIG. 3) are viewed from above Is fixed. A space surrounded by the partition wall 803 and the side wall portions 843, 842, 844 corresponds to the processing water tank 840. Of the space on the + X side surrounded by the partition wall 803 and the tank main body 801, the space outside the side wall portions 843, 842, 844 corresponds to the contact filter floor tank 830. The configuration of the side wall portions 843, 842 and 844 will be described later.

仕切壁803における嫌気濾床槽820と接触濾床槽830との境界を成す部分には、移流開口824が形成されている(図2、図3)。移流開口824は、仕切壁803の上部に配置されており、通常時には、水面WLは、この移流開口824の途中に位置する。後述するように、水面WLは、低水位LWLと高水位HWLとの間で、変動し得る。嫌気濾床槽820で処理された水は、移流開口824を通じて、接触濾床槽830に移流する。   An advection opening 824 is formed in the part of the partition wall 803 which forms the boundary between the anaerobic filter bed tank 820 and the contact filter bed tank 830 (FIG. 2, FIG. 3). The advection opening 824 is disposed at the upper part of the partition wall 803, and the water surface WL is usually located in the middle of the advection opening 824. As described later, the water surface WL can fluctuate between the low water level LWL and the high water level HWL. The water treated in the anaerobic filter bed 820 is averted to the contact filter bed 830 through the advection opening 824.

接触濾床槽830は、好気性微生物による好気処理を行う水処理槽である。図3に示すように、接触濾床槽830は、処理水槽840の三方(+Y方向、+X方向、−Y方向)を囲むように形成されている。図4に示すように、接触濾床槽830は、好気性微生物が付着するための接触材832、833を有している。第2接触材833は、第1接触材832の下に配置されている。これらの接触材832、833のそれぞれは、処理水槽840の両側(+Y側と−Y側)に配置されている(図3、図4)。また、接触濾床槽830は、接触材832、833よりも下に配置された散気装置834を有している。散気装置834には、図示しないブロワー(送風機)が接続される。散気装置834は、ブロワーによって供給された空気を、接触濾床槽830内に供給する。好気性微生物は、空気に含まれる酸素を利用して、被処理水中の有機物を分解する。接触濾床槽830で処理された水は、接触濾床槽830の底部と処理水槽840の底部とを連通する移流開口836を通じて、処理水槽840に移流する。   The contact filter bed 830 is a water treatment tank that performs aerobic treatment with aerobic microorganisms. As shown in FIG. 3, the contact filter bed 830 is formed so as to surround three sides (+ Y direction, + X direction, −Y direction) of the treatment water tank 840. As shown in FIG. 4, the contact filter bed 830 has contact members 832, 833 for the attachment of aerobic microorganisms. The second contact member 833 is disposed below the first contact member 832. Each of the contact members 832 and 833 is disposed on both sides (+ Y side and -Y side) of the treatment water tank 840 (FIG. 3, FIG. 4). Also, the contact filter bed 830 has a diffuser 834 located below the contact members 832, 833. A blower (not shown) is connected to the air diffuser 834. The diffuser 834 supplies the air supplied by the blower into the contact filter bed 830. Aerobic microorganisms utilize the oxygen contained in the air to degrade the organic matter in the water to be treated. The water treated in the contact filter bed 830 is transferred to the treatment water tank 840 through an advection opening 836 communicating the bottom of the contact filter bed 830 with the bottom of the treatment water tank 840.

処理水槽840は、接触濾床槽830から移流した水を一時的に滞留して、水中の固形物(例えば、汚泥や浮遊物質等)を沈降・分離する水処理槽である。処理水槽840は、底部から水が流入する上向流の水処理槽である。   The treatment water tank 840 is a water treatment tank that temporarily retains the water transferred from the contact filter bed tank 830 and settles / separates solids (for example, sludge, suspended matter, etc.) in water. The treatment water tank 840 is an upward-flowing water treatment tank in which water flows in from the bottom.

図3の第1部分説明図PE1に示すように、鉛直方向の上から下を向いて見たときに、第2側壁部842は仕切壁803と対向し、第3側壁部843は第4側壁部844と対向する。第3側壁部843は、第2側壁部842の+Y側の端部842e1と仕切壁803とを接続する。第4側壁部844は、第2側壁部842の−Y側の端部842e2と仕切壁803とを接続する。第3側壁部843と仕切壁803との接続部分843eと、第4側壁部844と仕切壁803との接続部分844eとのそれぞれは、仕切壁803の両端803e1、803e2よりも内側に配置されている。なお、仕切板803は、処理水槽840の−X側の側壁部(第1側壁部とも呼ぶ)を形成している。   As shown in the first partial explanatory view PE1 of FIG. 3, the second side wall portion 842 faces the partition wall 803 and the third side wall portion 843 is the fourth side wall when viewed from the upper side of the vertical direction as viewed downward. It faces the part 844. The third side wall portion 843 connects the end portion 842 e 1 on the + Y side of the second side wall portion 842 and the partition wall 803. The fourth side wall portion 844 connects the end portion 842 e 2 on the −Y side of the second side wall portion 842 and the partition wall 803. The connection portion 843e between the third side wall portion 843 and the partition wall 803 and the connection portion 844e between the fourth side wall portion 844 and the partition wall 803 are disposed inside the both ends 803e1 and 803e2 of the partition wall 803 There is. The partition plate 803 forms a side wall (also referred to as a first side wall) on the −X side of the processing water tank 840.

図2に示すように、処理水槽840の下部分849は、いわゆるホッパー構造を有している(以下、この下部分849を「ホッパー部分849」とも呼ぶ)。ホッパー部分849では、第2側壁部842が鉛直方向に対して傾斜しており、処理水槽840の断面積(水平な断面積)は、底に近いほど小さい(第2側壁部842のうちの傾斜した部分842dを「傾斜部842d」とも呼ぶ)。また、図4に示すように、ホッパー部分849の下部分849Lにおいては、さらに、第3側壁部843と第4側壁部844とのそれぞれも、鉛直方向に対して傾斜している(側壁部843、844のそれぞれの傾斜した部分も「傾斜部」と呼ぶことができる)。この下部分849Lは、いわゆる3面ホッパー構造を有している。処理水槽840において分離された固形物は、側壁部842、843、844によって、処理水槽840の底部(処理水槽840の上部よりも狭い空間)に集められる。   As shown in FIG. 2, the lower portion 849 of the processing water tank 840 has a so-called hopper structure (hereinafter, this lower portion 849 is also referred to as a “hopper portion 849”). In the hopper portion 849, the second side wall portion 842 is inclined with respect to the vertical direction, and the sectional area (horizontal sectional area) of the processing water tank 840 is smaller toward the bottom (the inclination of the second side wall portion 842 Portion 842 d is also referred to as “inclined portion 842 d”). Further, as shown in FIG. 4, in the lower portion 849L of the hopper portion 849, each of the third side wall portion 843 and the fourth side wall portion 844 is further inclined with respect to the vertical direction (side wall portion 843 , 844 can also be referred to as "slopes"). The lower portion 849L has a so-called three-sided hopper structure. Solids separated in the treatment water tank 840 are collected at the bottom of the treatment water tank 840 (a space narrower than the top of the treatment water tank 840) by the side wall parts 842, 843, 844.

図2に示すように、仕切壁803の下端は、槽本体801の底面に接続されている。一方、図2、図4に示すように、側壁部842、843、844の下端は、槽本体801の底面から離れている。側壁部842、843、844の下端と、槽本体801の底面との間の隙間は、移流開口836に相当する。   As shown in FIG. 2, the lower end of the partition wall 803 is connected to the bottom surface of the tank main body 801. On the other hand, as shown in FIG. 2 and FIG. 4, the lower ends of the side wall portions 842, 843 and 844 are separated from the bottom surface of the tank main body 801. The gap between the lower ends of the side wall portions 842, 843 and 844 and the bottom surface of the tank body 801 corresponds to the advection opening 836.

図2に示すように、処理水槽840には、循環エアリフトポンプ860が設けられている。循環エアリフトポンプ860は、処理水槽840の底部から高水位HWLよりも上まで上方に向かって延びる第1移流管861と、第1移流管861の上部に接続されて、夾雑物除去槽810の上方まで、緩い下り勾配で延びる第2移流管863と、を有している。第1移流管861の底部側の端は吸入口862を形成している。第2移流管863の夾雑物除去槽810側の端は流出口864を形成している。第2移流管863は、流入バッフル812の孔を貫通しており、流出口864は、流入バッフル812内に配置されている。循環エアリフトポンプ860は、処理水槽840の底部から夾雑物除去槽810へ、固形物や水を移送(返送)する。上述したように、処理水槽840の下部分849はホッパー構造を有しているので、処理水槽840で分離された固形物は、底部(吸入口862の近傍)の狭い空間に集められる。その結果、分離された固形物の処理水槽840からの除去を容易に行うことができる。なお、循環エアリフトポンプ860は、上述した図示しないブロワーからの空気によって、駆動される。ブロワーからの空気の分配量は、図示しないバルブによって調整される。循環エアリフトポンプ860は定常的に駆動されてよい。また、循環エアリフトポンプ860を間欠駆動してもよい。   As shown in FIG. 2, the processing water tank 840 is provided with a circulating air lift pump 860. The circulation air lift pump 860 is connected to a first advection pipe 861 extending upward from the bottom of the processing water tank 840 to above the high water level HWL, and to the top of the first advection pipe 861. And a second advection tube 863 extending in a gentle downward slope. The bottom end of the first advection tube 861 forms a suction port 862. The end of the second advection tube 863 on the side of the contaminant removal tank 810 forms an outlet 864. The second advection tube 863 penetrates the hole of the inflow baffle 812, and the outlet 864 is disposed in the inflow baffle 812. The circulating air lift pump 860 transfers (returns) solids and water from the bottom of the processing water tank 840 to the contaminant removal tank 810. As described above, since the lower portion 849 of the processing water tank 840 has a hopper structure, the solids separated in the processing water tank 840 are collected in a narrow space at the bottom (near the suction port 862). As a result, removal of separated solids from the treatment water tank 840 can be easily performed. The circulation air lift pump 860 is driven by the air from the blower (not shown) described above. The distribution amount of air from the blower is adjusted by a valve not shown. The circulating air lift pump 860 may be driven steadily. Also, the circulation air lift pump 860 may be intermittently driven.

消毒槽850は、被処理水を消毒する水処理槽である。消毒槽850は、処理水槽840の上部に配置されている(図2)。本実施例では、消毒槽850は、放流エアリフトポンプ870を有している。放流エアリフトポンプ870の吸入口872は、処理水槽840内の低水位LWLの高さに配置されており、放流エアリフトポンプ870の流出口874は、消毒槽850の上流側に配置されている。処理水槽840の水面WL近傍の水(固形物が分離された水)は、吸入口872から放流エアリフトポンプ870に流入する。放流エアリフトポンプ870に流入した水は、放流エアリフトポンプ870の駆動によって、消毒槽850に少しずつ移送される。放流エアリフトポンプ870は、水位WLが低水位LWL以上である状態で、水を移送可能である。このように、通常の使用状態では、最も低い水位WLは、低水位LWLである。このような低水位LWLは、設計上の最低水位ということができる。また、放流エアリフトポンプ870は、上述した図示しないブロワーからの空気によって、駆動される。ブロワーからの空気の分配量は、図示しないバルブによって調整される。   The disinfection tank 850 is a water treatment tank that disinfects the water to be treated. The disinfection tank 850 is disposed at the top of the treatment water tank 840 (FIG. 2). In the present embodiment, the disinfection tank 850 has a discharge air lift pump 870. The suction port 872 of the discharge air lift pump 870 is disposed at the low water level LWL in the treatment water tank 840, and the outlet 874 of the discharge air lift pump 870 is disposed upstream of the disinfection tank 850. Water in the vicinity of the water surface WL of the processing water tank 840 (water from which the solid matter has been separated) flows into the discharge air lift pump 870 from the suction port 872. Water flowing into the discharge air lift pump 870 is transferred little by little to the disinfecting tank 850 by the drive of the discharge air lift pump 870. The outlet air lift pump 870 can transfer water with the water level WL being equal to or higher than the low water level LWL. Thus, in the normal use state, the lowest water level WL is the low water level LWL. Such low water level LWL can be said to be the design lowest water level. Further, the discharge air lift pump 870 is driven by the air from the above-mentioned not-shown blower. The distribution amount of air from the blower is adjusted by a valve not shown.

消毒槽850は、消毒剤(例えば、固形塩素剤)が充填された薬剤筒854を有している。消毒槽850において、被処理水は消毒剤と接触し、消毒剤によって被処理水が消毒される。消毒された水は、放流口804を通じて、排水処理装置800の外部へ放流される。   The disinfecting tank 850 has a drug cartridge 854 filled with a disinfectant (eg, solid chlorine agent). In the disinfecting tank 850, the water to be treated comes into contact with the disinfectant, and the disinfectant disinfects the water to be treated. The disinfected water is discharged to the outside of the waste water treatment apparatus 800 through the outlet port 804.

一時的に大量の排水が排水処理装置800に流入した場合には(例えば、ピーク流入時)、放流エアリフトポンプ870よりも上流側の水処理槽810、820、830、840の水位WLは、一時的に、通常時の水位(図中の低水位LWL)よりも上昇し得る。図2の実施例では、水位WLは、高水位HWLまで、上昇し得る。水位WLが高水位HWLを超えると、消毒槽850に設けられた図示しないオーバーフロー開口を通じて、処理水槽840から消毒槽850へ水がオーバーフローする。このように、通常の使用状態では、最も高い水位WLは、高水位HWLである。このような高水位HWLは、設計上の最高水位ということができる。なお、単位時間当たりの流入水量が想定された範囲を超える場合には、一時的に水位が高水位HWLよりも高い位置まで上昇し得る。   When a large amount of drainage temporarily flows into the drainage processing apparatus 800 (for example, at the time of peak inflow), the water levels WL of the water treatment tanks 810, 820, 830, and 840 upstream of the discharge air lift pump 870 are temporary. In addition, it can rise above the normal water level (low water level LWL in the figure). In the example of FIG. 2, the water level WL may rise to the high water level HWL. When the water level WL exceeds the high water level HWL, water overflows from the treatment water tank 840 to the disinfecting tank 850 through an overflow opening (not shown) provided in the disinfecting tank 850. Thus, in normal use, the highest water level WL is the high water level HWL. Such high water level HWL can be said to be a design high water level. If the inflow water volume per unit time exceeds the assumed range, the water level may temporarily rise to a position higher than the high water level HWL.

このように、ピーク流入時には、複数の水処理槽810、820、830、840の水位が一時的に上昇することによって、接触濾床槽830からの単位時間当たりの流出量の増大が抑制される。この結果、接触濾床槽830から未処理の水が流出する可能性を低減できる。このように、放流エアリフトポンプ870は、ピーク流入に起因する接触濾床槽830からの単位時間当たりの流出量の増大を抑制する機構(「ピークカット機構」と呼ぶ)として、動作する。   Thus, at the time of peak inflow, the water level in the plurality of water treatment tanks 810, 820, 830, 840 temporarily rises, thereby suppressing an increase in the amount of outflow from the contact filter bed 830 per unit time. . As a result, the possibility of untreated water flowing out of the contact filter bed 830 can be reduced. Thus, the discharge air lift pump 870 operates as a mechanism (referred to as a “peak cut mechanism”) that suppresses an increase in the amount of outflow from the contact filter bed 830 due to peak inflow per unit time.

図5は、外壁801と仕切壁900との分解斜視図である。外壁801は、上部槽801uと下部槽801dとを有している。下部槽801dは、外壁801の下側の部分を形成するカップ状の部材である。下部槽801dの上側の縁には、全周に亘るフランジ100dが設けられている。上部槽801uは、外壁801の上側の部分を形成するカップ状の部材であり、上に凸の状態で、下部槽801dの上に配置される。上部槽801uは、流入口802と、複数のマンホール開口805と、放流口804(図5中では、放流口804は、後ろに隠れている)と、を有している。また、上部槽801uの下側の縁には、全周に亘るフランジ100uが設けられている。排水処理装置800の製造時には、下部槽801dに各水処理槽810〜850の部材が取り付けられる。そして、下部槽801dの上から、上部槽801uが被せられる。下部槽801dのフランジ100d上に、上部槽801uのフランジ100uが重なった状態で、上部槽801uが下部槽801dに固定される(例えば、接着剤でフランジ100u、100dが接着される)。このように、上部槽801uと下部槽801dとによって囲まれる空間内に、水処理槽810〜850が収容される。   FIG. 5 is an exploded perspective view of the outer wall 801 and the partition wall 900. The outer wall 801 has an upper tank 801 u and a lower tank 801 d. The lower tank 801 d is a cup-shaped member that forms a lower portion of the outer wall 801. The upper edge of the lower tank 801d is provided with a flange 100d extending around the entire circumference. The upper tank 801 u is a cup-shaped member that forms the upper portion of the outer wall 801 and is disposed above the lower tank 801 d in a state of being convex upward. The upper tank 801 u has an inlet 802, a plurality of manhole openings 805, and an outlet 804 (in FIG. 5, the outlet 804 is hidden behind). Further, a flange 100u extending around the entire circumference is provided at the lower edge of the upper tank 801u. At the time of manufacture of the wastewater treatment device 800, members of the water treatment tanks 810 to 850 are attached to the lower tank 801d. Then, the upper tank 801 u is put on the lower tank 801 d. The upper tank 801u is fixed to the lower tank 801d (for example, the flanges 100u and 100d are adhered with an adhesive) in a state where the flange 100u of the upper tank 801u overlaps the flange 100d of the lower tank 801d. Thus, the water treatment tanks 810 to 850 are accommodated in the space surrounded by the upper tank 801 u and the lower tank 801 d.

また、下部槽801dは、内側に向かって突出する2つの凸部210d、220dを有している。第2凸部220dは、第1凸部210dよりも+X側に配置されている。凸部210d、220dは、それぞれ、X方向に垂直に、フランジ100dの+Y側の部分から、下部槽801dの底部を経由して、フランジ100dの−Y側の部分へ至る、連続な突出部分である。下部槽801dに凸部210d、220dを設けることによって、下部槽801dの強度を向上できる。以下、下部槽801dのうち凸部210d、220d以外の部分200dを、「主壁部200d」とも呼ぶ。   Further, the lower tank 801 d has two convex portions 210 d and 220 d that protrude inward. The second convex portion 220 d is disposed on the + X side of the first convex portion 210 d. The convex portions 210d and 220d are respectively continuous projecting portions extending perpendicularly to the X direction from the portion on the + Y side of the flange 100d to the portion on the −Y side of the flange 100d via the bottom portion of the lower tank 801d. is there. By providing the convex portions 210 d and 220 d in the lower tank 801 d, the strength of the lower tank 801 d can be improved. Hereinafter, the portion 200 d of the lower tank 801 d other than the convex portions 210 d and 220 d is also referred to as “main wall portion 200 d”.

上部槽801uも、凸部210u、220uを有している。第1凸部210uは、下部槽801dの第1凸部210dの上方側に接続される突出部分であり、X方向に垂直に、フランジ100uから上部槽801uの最上部の手前まで延びている。第1凸部210uは、上部槽801uの−Y側の側壁部に形成される部分と、+Y側の側壁部に形成される部分(上部槽801uの後ろに隠れて図示されていない)と、を含んでいる。第2凸部220uは、下部槽801dの第2凸部220dの上方側に接続される突出部分である。第2凸部220uの構成は、第1凸部210uの構成と、同じである。上部槽801uに凸部210u、220uを設けることによって、上部槽801uの強度を向上できる。以下、上部槽801uのうち凸部210u、220u以外の部分200uを、「主壁部200u」とも呼ぶ。   The upper tank 801 u also has convex portions 210 u and 220 u. The first convex portion 210u is a projecting portion connected to the upper side of the first convex portion 210d of the lower tank 801d, and extends perpendicularly to the X direction from the flange 100u to the front of the top of the upper tank 801u. The first convex portion 210u has a portion formed on the side wall portion on the −Y side of the upper tank 801u and a portion formed on the side wall portion on the + Y side (not shown behind the upper tank 801u), Contains. The second convex portion 220 u is a projecting portion connected to the upper side of the second convex portion 220 d of the lower tank 801 d. The configuration of the second convex portion 220u is the same as the configuration of the first convex portion 210u. By providing the convex portions 210u and 220u in the upper tank 801u, the strength of the upper tank 801u can be improved. Hereinafter, the portion 200 u of the upper tank 801 u other than the convex portions 210 u and 220 u is also referred to as “main wall portion 200 u”.

第1凸部210d、210uの+X側の内面には、仕切壁900が固定される。図2にも示すように、仕切壁900は、上部槽801uと下部槽801dと(すなわち、槽本体801)によって形成される空間を、+X側の部分と−X側の部分とに仕切っている。   A partition wall 900 is fixed to the inner surface on the + X side of the first convex portions 210d and 210u. As also shown in FIG. 2, the partition wall 900 divides the space formed by the upper tank 801 u and the lower tank 801 d (that is, the tank body 801) into a + X-side portion and a −X-side portion .

図6は、仕切壁900の斜視図である。図6(A)は、仕切壁900の−X側を示し、図6(B)は、仕切壁900の+X側を示している。また、図7は、仕切壁900を−X側から+X方向を向いて見た概略図である。図7中の太線は、外壁801の内面801sを示している。   FIG. 6 is a perspective view of the partition wall 900. FIG. 6A illustrates the −X side of the partition wall 900, and FIG. 6B illustrates the + X side of the partition wall 900. FIG. 7 is a schematic view of the partition wall 900 as viewed from the −X side toward the + X direction. A thick line in FIG. 7 indicates the inner surface 801s of the outer wall 801.

図6に示すように、仕切壁900は、X方向におおよそ垂直な方向に延びる板状の部材である。仕切壁900の−Y側には、外周縁が内周側に向かって凹んだ部分である凹部990が形成されている。図7に示すように、仕切壁900の外周縁は、凹部990を除いて、槽本体801の内面801sに接合されている。図中では、凹部990と外壁801の内面801sとの間の隙間に、ハッチングが付されている。この隙間が、移流開口814(図2、図3)に対応している。このように、移流開口814は、仕切壁900の貫通孔ではなく、凹部990と槽本体801とによって形成されているので、移流開口814が仕切壁900の貫通孔によって形成される場合と比べて、仕切壁900の強度が低下することを抑制できる。また、仕切壁900に移流開口のための貫通孔を開ける作業を省略できるので、仕切壁900の製造を容易にできる。また、貫通孔を開ける場合に生じる材料のロスを防止できる。また、移流開口のための貫通孔を開ける場合と比べて、仕切壁900に対する移流開口の位置ズレを抑制できる。   As shown in FIG. 6, the partition wall 900 is a plate-like member extending in a direction approximately perpendicular to the X direction. On the -Y side of the partition wall 900, a recessed portion 990 is formed, which is a portion where the outer peripheral edge is recessed toward the inner peripheral side. As shown in FIG. 7, the outer peripheral edge of the partition wall 900 is joined to the inner surface 801 s of the tank main body 801 except for the concave portion 990. In the figure, the gap between the recess 990 and the inner surface 801s of the outer wall 801 is hatched. This gap corresponds to the advection opening 814 (FIG. 2, FIG. 3). As described above, the advection opening 814 is formed not by the through hole of the partition wall 900 but by the recess portion 990 and the tank main body 801, so that the advection opening 814 is formed by the through hole of the partition wall 900. The strength of the partition wall 900 can be suppressed from decreasing. Moreover, since the operation of opening the through hole for the advection opening in the partition wall 900 can be omitted, the partition wall 900 can be easily manufactured. In addition, it is possible to prevent the loss of material which occurs when the through hole is opened. Further, positional deviation of the advection opening with respect to the partition wall 900 can be suppressed as compared with the case of forming a through hole for the advection opening.

また、図6(B)に示すように、仕切壁900は、X方向におおよそ垂直に拡がる主壁部910と、主壁部910の外周縁に設けられ+X側へ突出する突出部930と、を有している。主壁部910の−X側の面(図6(A))は、夾雑物除去槽810の内面のうち+X側の部分を形成する。主壁部910の+X側の面(図6(B))は、嫌気濾床槽820の内面のうち−X側の部分を形成する。また、主壁部910のうち凹部990の縁を形成する部分992は、移流開口814の縁の一部を形成している(以下、「開口縁部992」とも呼ぶ)。突出部930は、主壁部910の縁から突出しており、また、仕切壁900の外周縁の全周に亘って設けられている(以下、突出部930を「外周突出部930」とも呼ぶ)。   Further, as shown in FIG. 6B, the partition wall 900 includes a main wall 910 extending approximately perpendicularly in the X direction, and a projection 930 provided on the outer peripheral edge of the main wall 910 and projecting to the + X side. have. The surface on the −X side of the main wall portion 910 (FIG. 6A) forms a portion on the + X side of the inner surface of the contaminant removal tank 810. The surface on the + X side of the main wall portion 910 (FIG. 6B) forms a portion on the −X side of the inner surface of the anaerobic filter bed tank 820. Further, a portion 992 of the main wall portion 910 which forms the edge of the recess 990 forms a part of the edge of the advection opening 814 (hereinafter, also referred to as “opening edge 992”). The protruding portion 930 protrudes from the edge of the main wall portion 910, and is provided along the entire outer periphery of the partition wall 900 (hereinafter, the protruding portion 930 is also referred to as "the outer peripheral protruding portion 930") .

図中の突出部939は、外周突出部930のうち、開口縁部992に接続される部分である。このように、仕切壁900は、移流開口814の縁の一部である開口縁部992から突出する突出部939を有している。この突出部939は、仕切壁900の拡がる方向(ここでは、X方向に垂直な方向)に交差する方向側(ここでは、+X側)に突出している。従って、仕切壁900が、凹部990のように仕切壁900の一部が欠けたような形状を有する場合であっても、仕切壁900(特に、凹部990の近傍)の強度が低下することを抑制できる。例えば、仕切壁900が水圧で変形することを抑制できる。   The protrusion 939 in the figure is a portion of the outer circumferential protrusion 930 connected to the opening edge 992. Thus, the partition wall 900 has a protrusion 939 projecting from the opening edge 992 which is a part of the edge of the advection opening 814. The projecting portion 939 protrudes in the direction (here, the + X side) intersecting with the expanding direction of the partition wall 900 (here, the direction perpendicular to the X direction). Therefore, even if the partition wall 900 has a shape in which a part of the partition wall 900 is missing like the recess 990, the strength of the partition wall 900 (especially, in the vicinity of the recess 990) is reduced. It can be suppressed. For example, deformation of the partition wall 900 by water pressure can be suppressed.

また、移流開口814が小さい場合には、ピーク流入時に、移流開口814の上流側の水処理槽(ここでは、夾雑物除去槽810)の水位が意図せず上昇する場合がある。移流開口814を通る水の移流をスムーズに行って意図しない水位上昇を抑制するために、大きな移流開口814が採用される場合がある。一般的には、移流開口814が大きいほど、仕切壁900の強度が低下し易い。本実施例では、仕切壁900の移流開口814の近傍が突出部939によって補強されている。従って、仕切壁900の強度が低下することを抑制しつつ、移流開口814を大きくできる。   In addition, when the advection opening 814 is small, the water level of the water treatment tank (here, the foreign substance removing tank 810) upstream of the advection opening 814 may increase unintentionally at the time of peak inflow. A large advection opening 814 may be employed to facilitate the advection of the water through the advection opening 814 and to control the unintended rise in water level. In general, as the advection opening 814 is larger, the strength of the partition wall 900 is likely to be reduced. In the present embodiment, the vicinity of the advection opening 814 of the partition wall 900 is reinforced by the projecting portion 939. Therefore, the advection opening 814 can be enlarged while suppressing the strength of the partition wall 900 from being reduced.

また、突出部939は、凹部990の全体(すなわち、開口縁部992の全体)に亘って設けられている。従って、突出部939が開口縁部992の一部のみに設けられている場合と比べて、仕切壁900の強度を向上できる。   Also, the protrusion 939 is provided over the entire recess 990 (that is, the entire opening edge 992). Therefore, the strength of the partition wall 900 can be improved as compared with the case where the protrusion 939 is provided only in a part of the opening edge 992.

また、外周突出部930は、仕切壁900の外周縁の全周に亘って設けられている。そして、外周突出部930は、仕切壁900の拡がる方向に交差する方向側に突出している。従って、仕切壁900の全体の強度を向上できる。また、開口縁部992から突出する突出部939は、外周突出部930の一部である。従って、突出部939を外周突出部930とは別に成形せずに済むので、仕切壁900を容易に製造できる。   Further, the outer circumferential protruding portion 930 is provided over the entire circumference of the outer circumferential edge of the partition wall 900. The outer peripheral projection 930 protrudes in the direction intersecting the expanding direction of the partition wall 900. Accordingly, the overall strength of the partition wall 900 can be improved. Further, a protruding portion 939 protruding from the opening edge 992 is a part of the outer peripheral protruding portion 930. Therefore, since it is not necessary to form the protrusion 939 separately from the outer peripheral protrusion 930, the partition wall 900 can be easily manufactured.

図3の第2部分説明図PE2には、仕切壁900と下部槽801dとの−Y側の接続部分が拡大して示されている。第2部分説明図PE2には、Z方向に垂直な断面が示されている。下部槽801dの第1凸部210dは、第1部分212と内部分214と第2部分216とを有している。これらの部分212、214、216は、−X側から+X側に向かって、この順番に接続されている。これらの部分212、214、216は、内側(ここでは、+Y側)に向かって徐々に細くなるテーパ状の凸部を形成している。具体的には、内部分214は、第1凸部210dのうちの最も内側(ここでは、+Y側)の部分である。第1部分212は、内部分214の−X側の端部214e1から、X方向に対して斜めに−X側に向かって延びて、主壁部200dに至る。第2部分216は、内部分214の+X側の端部214e2から、X方向に対して斜めに+X側に向かって延びて、主壁部200dに至る。   The connection part by the side of -Y of the partition wall 900 and lower tank 801d is expanded and shown by 2nd part explanatory drawing PE2 of FIG. In the second partial explanatory view PE2, a cross section perpendicular to the Z direction is shown. The first convex portion 210 d of the lower tank 801 d has a first portion 212, an inner portion 214 and a second portion 216. The portions 212, 214, and 216 are connected in this order from the -X side to the + X side. These portions 212, 214, and 216 form a tapered convex portion that gradually narrows inward (here, the + Y side). Specifically, the inner portion 214 is the innermost (here, the + Y side) portion of the first convex portion 210d. The first portion 212 extends obliquely from the end portion 214 e 1 on the −X side of the inner portion 214 toward the −X side with respect to the X direction to the main wall portion 200 d. The second portion 216 extends obliquely from the end portion 214 e 2 on the + X side of the inner portion 214 toward the + X side with respect to the X direction to the main wall portion 200 d.

仕切壁900の外周突出部930は、第1部分931と第2部分932とを有している。これらの部分931、932は、主壁部910の−Y側の端部910eから、複数の段階を経て+X側に向かって曲がる突出部930を形成している。具体的には、第1部分931は、主壁部910の端部910eから、X方向に対して斜めに、+X側かつ−Y側に向かって延びて、第2部分932に至る。第2部分932は、第1部分931の+X側の端部931eから、X方向に対して斜めに、+X側かつ−Y側に向かって延びている。第2部分932の延びる方向は、第1部分931の延びる方向と比べて、X方向に近い。   The outer peripheral projection 930 of the partition wall 900 has a first portion 931 and a second portion 932. These portions 931 and 932 form a protrusion 930 that bends from the end portion 910e on the -Y side of the main wall portion 910 toward the + X side through a plurality of stages. Specifically, the first portion 931 extends from the end portion 910 e of the main wall portion 910 obliquely toward the + X side and the −Y side with respect to the X direction, and reaches the second portion 932. The second portion 932 extends obliquely from the end portion 931 e of the first portion 931 on the + X side toward the + X side and the −Y side with respect to the X direction. The extension direction of the second portion 932 is closer to the X direction than the extension direction of the first portion 931.

外周突出部930の第1部分931は、第1凸部210dの第2部分216に対向している。また、外周突出部930の第2部分932は、下部槽801dの主壁部200dに対向している。この状態で、仕切壁900は、下部槽801d(ひいては、槽本体801)に固定される。仕切壁900を槽本体801に固定する方法としては、任意の方法を採用可能である。例えば、リベットを用いて、仕切壁900を槽本体801に固定してもよい。この場合、槽本体801の凸部210d、220d、210u、220uと、仕切壁900とが接する部分をリベットで固定してもよい。例えば、仕切壁900の第1部分931と下部槽801dの第2部分216とを貫通するように、リベットを取り付けてもよい。この代わりに、接着剤を用いて、仕切壁900を槽本体801に固定してもよい。いずれの場合も、仕切壁900を槽本体801の凸部210d、220d、210u、220uに固定すれば、槽本体801の対する仕切壁900の位置のズレを抑制できる。ただし、仕切壁900を、凸部210d、220d、210u、220uから離れた主壁部200d、200uに固定してもよい。   The first portion 931 of the outer circumferential protrusion 930 faces the second portion 216 of the first protrusion 210 d. Further, the second portion 932 of the outer peripheral protruding portion 930 faces the main wall portion 200d of the lower tank 801d. In this state, the partition wall 900 is fixed to the lower tank 801 d (as a result, the tank body 801). As a method of fixing the partition wall 900 to the tank main body 801, any method can be adopted. For example, the partition wall 900 may be fixed to the tank body 801 using a rivet. In this case, the portions where the convex portions 210 d, 220 d, 210 u, 220 u of the tank body 801 and the partition wall 900 are in contact may be fixed by rivets. For example, a rivet may be attached so as to penetrate the first portion 931 of the partition wall 900 and the second portion 216 of the lower tank 801 d. Alternatively, the partition wall 900 may be fixed to the tank main body 801 using an adhesive. In any case, if the partition wall 900 is fixed to the convex portions 210 d, 220 d, 210 u, and 220 u of the tank main body 801, it is possible to suppress the displacement of the position of the partition wall 900 with respect to the tank main body 801. However, the partition wall 900 may be fixed to the main wall portions 200d and 200u apart from the convex portions 210d, 220d, 210u and 220u.

また、仕切壁900と槽本体801との接合部分は、シーリング材(例えば、シリコン系のシーリング材)でシールされる。例えば、仕切壁900の第1部分931と下部槽801dの第2部分216との間は、シーリング材でシールされる。なお、接合部分の一部または全部において、シーリング材が省略されてもよい。例えば、高水位HWLよりも高い部分では、シーリング材が省略されてもよい。   Further, the joint between the partition wall 900 and the tank body 801 is sealed with a sealing material (for example, a silicon-based sealing material). For example, the sealing material seals between the first portion 931 of the partition wall 900 and the second portion 216 of the lower tank 801 d. In addition, a sealing material may be abbreviate | omitted in part or all of a junction part. For example, the sealing material may be omitted in a portion higher than the high water level HWL.

図8は、移流開口814の近傍における水の流れを示す概略図である。図中には、Z方向に垂直な断面が示されている。水処理槽内では、種々の方向の水の流れが生じ得る。そして、水の流れが壁に衝突する場合がある。このような場合、水は、壁に沿って流れ得る。図8中の流れF1、F2、F3は、壁に沿って移動する水の流れの例を示している。   FIG. 8 is a schematic view showing the flow of water in the vicinity of the advection opening 814. As shown in FIG. In the figure, a cross section perpendicular to the Z direction is shown. In the water treatment tank, water flow in various directions can occur. And the flow of water may collide with the wall. In such cases, water can flow along the wall. Flows F1, F2 and F3 in FIG. 8 show an example of the flow of water moving along the wall.

第1流F1は、夾雑物除去槽810内において、外壁801に沿って移流開口814に近づく水の流れを示している。このような水は、移流開口814を通り抜けて、嫌気濾床槽820に移流する。   The first flow F 1 indicates a flow of water approaching the advection opening 814 along the outer wall 801 in the contaminant removal tank 810. Such water passes through the advection opening 814 and flows into the anaerobic filter bed 820.

第2流F2は、夾雑物除去槽810内において、仕切壁900の主壁部910に沿って移流開口814に近づく水の流れを示している。このような水は、移流開口814を通り抜けて、嫌気濾床槽820に移流し得る。   The second flow F 2 indicates the flow of water approaching the advection opening 814 along the main wall portion 910 of the partition wall 900 in the contaminant removal tank 810. Such water may pass through the advection opening 814 and be transferred to the anaerobic filter bed 820.

第3流F3は、嫌気濾床槽820内において、仕切壁900の主壁部910に沿って移流開口814に近づく水の流れを示している。本実施例では、主壁部910の開口縁部992には、嫌気濾床槽820側に向かって突出する突出部939が接続されている。水の流れは、突出部939によって、突出部939の突出する方向(ここでは、+X方向)に向けられる。突出部939の突出する方向は、開口縁部992から嫌気濾床槽820側に向かう方向であり、移流開口814を通じて上流側の夾雑物除去槽810へ向かう方向とは反対側の方向である。従って、第3流F3が示すように、水は、移流開口814を通じて夾雑物除去槽810へ移流せずに、移流開口814から離れる方向に流れる。この結果、移流開口814を通じて上流側(ここでは、夾雑物除去槽810側)へ水が逆流することを抑制できる。また、本実施例では、開口縁部992の全体に亘って、突出部939が設けられている。従って、移流開口814から見て種々の方向から主壁部910に沿って水が近づく場合であっても、移流開口814を通じて水が逆流することを抑制できる。   The third flow F3 indicates the flow of water approaching the advection opening 814 along the main wall 910 of the partition wall 900 in the anaerobic filter bed 820. In the present embodiment, the opening edge 992 of the main wall 910 is connected to a protrusion 939 that protrudes toward the anaerobic filter bed tank 820 side. The flow of water is directed by the protrusion 939 in the protruding direction of the protrusion 939 (here, the + X direction). The projecting direction of the projecting portion 939 is a direction from the opening edge 992 toward the anaerobic filter bed tank 820, and is a direction opposite to the direction toward the upstream contaminant removal tank 810 through the advection opening 814. Thus, as the third flow F3 shows, water flows away from the advection opening 814 without advection to the contaminant removal tank 810 through the advection opening 814. As a result, it is possible to suppress the backflow of water to the upstream side (here, the contaminant removal tank 810 side) through the advection opening 814. Further, in the present embodiment, a projection 939 is provided over the entire opening edge 992. Therefore, even if water approaches along the main wall 910 from various directions as viewed from the advection opening 814, backflow of water through the advection opening 814 can be suppressed.

また、図7には、移流開口814の大きさを示す2つの長さLV、LHが示されている。第1長LVは、鉛直方向の長さであり、第2長LHは、水平方向の長さである。本実施例では、LV>LHである。従って、移流開口814が仕切壁900の内側部分に向かって拡がることが抑制される。この結果、仕切壁900の内側部分の設計の自由度を向上できる。例えば、仕切壁900の中央部分の夾雑物除去槽810側の面に、第2移流管863からの循環水を下方側へ導くバッフルを固定してもよい。   Also shown in FIG. 7 are two lengths LV, LH which indicate the size of the advection aperture 814. The first length LV is a vertical length, and the second length LH is a horizontal length. In the present embodiment, LV> LH. Accordingly, the spread of the advection opening 814 toward the inner portion of the partition wall 900 is suppressed. As a result, the degree of freedom in the design of the inner portion of the partition wall 900 can be improved. For example, a baffle that guides the circulating water from the second advection pipe 863 to the lower side may be fixed to the surface on the contaminant removal tank 810 side of the central portion of the partition wall 900.

また、図2に示すように、本実施例では、移流開口814の上端814uは、流入バッフル812の下端812dよりも高い位置に配置され、移流開口814の下端814dは、流入バッフル812の下端812dよりも低い位置に配置されている。従って、流入バッフル812を通じて夾雑物除去槽810に流入した水が、夾雑物除去槽810内の更に深い位置を移動せずに、移流開口814に到達可能である。この結果、夾雑物除去槽810の底部に堆積した堆積物(例えば、汚泥など)が夾雑物除去槽810内を移動する水によって撹拌されることを抑制できる。   Also, as shown in FIG. 2, in the present embodiment, the upper end 814 u of the advection opening 814 is located higher than the lower end 812 d of the inflow baffle 812, and the lower end 814 d of the advection opening 814 is the lower end 812 d of the inflow baffle 812. It is located at a lower position. Therefore, the water flowing into the contaminant removing tank 810 through the inflow baffle 812 can reach the advection opening 814 without moving further deeper in the contaminant removing tank 810. As a result, it is possible to suppress that the sediment (for example, sludge etc.) deposited on the bottom of the contaminant removal tank 810 is agitated by the water moving in the contaminant removal tank 810.

また、図3に示すように、本実施例では、下方を向いて見る場合に、仕切壁900の主壁部910は、Y方向に平行である(以下、下方を向いて見る場合に主壁部910に平行な方向を「主壁方向」とも呼ぶ)。凹部990(すなわち、移流開口814)は、仕切壁900の主壁方向の端に形成されている(ここでは、−Y側の端)。また、流入バッフル812の主壁方向(ここでは、Y方向)の位置は、夾雑物除去槽810の主壁方向の端から内側に離れた位置である(本実施例では、夾雑物除去槽810内のおおよそ中央の位置)。従って、移流開口814が仕切壁900の主壁方向の端よりも内側(例えば、夾雑物除去槽810内の主壁方向の中央の位置)に形成されている場合と比べて、流入バッフル812と移流開口814との間の水平距離を長くできる。この結果、流入バッフル812から夾雑物除去槽810へ流入する水に含まれる夾雑物が、夾雑物除去槽810の底部に沈降せずに、移流開口814に到達することを抑制できる。すなわち、夾雑物除去槽810の夾雑物分離能力を向上できる。   Further, as shown in FIG. 3, in the present embodiment, when looking downward, the main wall 910 of the partition wall 900 is parallel to the Y direction (hereinafter referred to as the main wall when looking downward) The direction parallel to the part 910 is also referred to as “main wall direction”. The recess 990 (i.e., the advection opening 814) is formed at the end in the main wall direction of the partition wall 900 (here, the end on the -Y side). Further, the position in the main wall direction (here, the Y direction) of the inflow baffle 812 is a position separated inward from the end in the main wall direction of the foreign substance removing tank 810 (in the present embodiment, the foreign substance removing tank 810 Roughly in the middle position). Therefore, compared with the case where the advection opening 814 is formed inside the end in the main wall direction of the partition wall 900 (for example, in the middle position in the main wall direction in the foreign substance removal tank 810), The horizontal distance to the advection opening 814 can be increased. As a result, the contaminants contained in the water flowing into the contaminant removal tank 810 from the inflow baffle 812 can be prevented from reaching the advection opening 814 without settling to the bottom of the contaminant removal tank 810. That is, the foreign matter separation capability of the foreign matter removal tank 810 can be improved.

なお、仕切壁900は、例えば、成形型を用いる成形によって製造される(例えば、ハンドレイアップ成形、スプレーアップ成形、射出成形など)。仕切壁900の材料としては、例えば、繊維強化プラスチック(FRP)、ジシクロペンタジエン等の種々の樹脂を採用可能である。成形を容易に行うためには、外周突出部930を主壁部910から突出する方向に向かって辿る場合に、徐々に外側に向かって拡がっていることが好ましい。この構成によれば、1回の成形で仕切壁900の全体を成形した後に、容易に離型できる。ただし、仕切壁900が、複数回の成形によって一部分ずつ成形されてもよい。   The partition wall 900 is manufactured, for example, by molding using a molding die (for example, hand lay up molding, spray up molding, injection molding, etc.). As a material of the partition wall 900, for example, various resins such as fiber reinforced plastic (FRP) and dicyclopentadiene can be adopted. In order to facilitate molding, when the outer peripheral projection 930 is traced in the direction of protruding from the main wall 910, it is preferable that the outer peripheral projection 930 gradually expand outward. According to this configuration, it is possible to easily release the mold after the entire partition wall 900 is molded in one molding. However, the partition wall 900 may be partially molded by multiple moldings.

B.第2実施例:
図9は、仕切壁の別の実施例を示す斜視図である。図9(A)は、仕切壁900Bの−X側を示し、図9(B)は、仕切壁900Bの+X側を示している。図6の仕切壁900との差異は、凹部990が省略され、この代わりに、貫通孔990Bが設けられている点だけである。仕切壁900Bの他の部分の構成は、仕切壁900の対応する部分の構成と同じである。この仕切壁900Bは、図6の仕切壁900の代わりに、適用可能である。
B. Second embodiment:
FIG. 9 is a perspective view showing another embodiment of the partition wall. FIG. 9A shows the −X side of the partition wall 900B, and FIG. 9B shows the + X side of the partition wall 900B. The difference from the partition wall 900 of FIG. 6 is that the recess 990 is omitted, and instead, a through hole 990B is provided. The configuration of the other parts of partition wall 900B is the same as the configuration of the corresponding parts of partition wall 900. This partition wall 900B is applicable instead of the partition wall 900 of FIG.

仕切壁900Bは、主壁部910Bと、外周突出部930Bと、貫通孔990Bと、突出部939Bと、を有している。主壁部910Bは、図6の主壁部910と同じく、X方向におおよそ垂直な方向に拡がる壁部である。主壁部910Bの−X側の面(図9(A))は、夾雑物除去槽810の内面のうち+X側の部分を形成する。主壁部910Bの+X側の面(図9(B))は、嫌気濾床槽820の内面のうち−X側の部分を形成する。外周突出部930Bは、図6の外周突出部930と同じく、仕切壁900Bの外周縁に設けられ+X側へ突出している。外周突出部930Bは、主壁部910Bの縁から突出しており、また、仕切壁900Bの外周縁の全周に亘って設けられている。   The partition wall 900B has a main wall portion 910B, an outer peripheral protruding portion 930B, a through hole 990B, and a protruding portion 939B. The main wall 910B is a wall that extends in a direction approximately perpendicular to the X direction, similarly to the main wall 910 in FIG. The surface on the −X side of the main wall portion 910 </ b> B (FIG. 9A) forms a + X side portion of the inner surface of the contaminant removal tank 810. The + X side surface (FIG. 9B) of the main wall portion 910 </ b> B forms a portion on the −X side of the inner surface of the anaerobic filter bed tank 820. The outer peripheral protruding portion 930B is provided on the outer peripheral edge of the partition wall 900B and protrudes to the + X side, similarly to the outer peripheral protruding portion 930 in FIG. The outer peripheral protruding portion 930B protrudes from the edge of the main wall portion 910B, and is provided over the entire periphery of the outer peripheral edge of the partition wall 900B.

貫通孔990Bは、主壁部910Bのうち、図6の凹部990の位置に近い位置に設けられている。また、貫通孔990Bは、仕切壁900Bの外周縁から内側に離れた位置に、設けられている。そして、貫通孔990Bは、図2、図3の移流開口814の代わりに、夾雑物除去槽810から嫌気濾床槽820へ水を移流させる移流開口として、機能する。以下、貫通孔990Bを、「移流開口990B」とも呼ぶ。また、主壁部910Bのうち貫通孔990Bの縁を形成する環状の部分992Bは、移流開口990Bの縁の全体を形成している(以下、「開口縁部992B」とも呼ぶ)。   The through hole 990B is provided at a position near the position of the recess 990 in FIG. 6 in the main wall 910B. Further, the through hole 990B is provided at a position spaced inward from the outer peripheral edge of the partition wall 900B. Then, the through holes 990 B function as advection openings for advection of water from the contaminant removal tank 810 to the anaerobic filter bed tank 820 instead of the advection openings 814 in FIGS. 2 and 3. Hereinafter, the through hole 990B is also referred to as "advection opening 990B". Further, an annular portion 992B of the main wall portion 910B that forms the edge of the through hole 990B forms the entire edge of the advection opening 990B (hereinafter, also referred to as "opening edge 992B").

突出部939Bは、移流開口990Bの開口縁部992Bから+X側(すなわち、嫌気濾床槽820側)に突出している。突出部939Bは、仕切壁900Bの拡がる方向(ここでは、X方向に垂直な方向)に交差する方向側(ここでは、+X側)に突出している。従って、仕切壁900Bが、貫通孔990Bのように仕切壁900Bの一部が欠けたような形状を有する場合であっても、仕切壁900B(特に、貫通孔990Bの近傍)の強度が低下することを抑制できる。また、突出部939Bは、移流開口990Bの開口縁部992Bの全周に亘って設けられている。従って、突出部939Bが移流開口990Bの開口縁部992Bの一部のみに設けられている場合と比べて、仕切壁900Bの強度を向上できる。   The protrusion 939B protrudes from the opening edge 992B of the advection opening 990B to the + X side (that is, the side of the anaerobic filter bed 820). The protrusion 939B protrudes in the direction (here, the + X side) which intersects the expanding direction of the partition wall 900B (here, the direction perpendicular to the X direction). Therefore, even in the case where the partition wall 900B has a shape in which a part of the partition wall 900B is chipped like the through hole 990B, the strength of the partition wall 900B (particularly, in the vicinity of the through hole 990B) is reduced. Can be suppressed. Further, the protrusion 939B is provided over the entire circumference of the opening edge 992B of the advection opening 990B. Therefore, the strength of the partition wall 900B can be improved as compared with the case where the protrusion 939B is provided only in a part of the opening edge 992B of the advection opening 990B.

また、移流開口990Bの上端990Buは、流入バッフル812(図2)の下端812dよりも高い位置に配置されている。そして、移流開口990Bの下端990Bdは、流入バッフル812の下端812dよりも低い位置に配置されている。従って、流入バッフル812を通じて夾雑物除去槽810に流入した水が、夾雑物除去槽810内の更に深い位置を移動せずに、移流開口990Bに到達可能である。この結果、夾雑物除去槽810の底部に堆積した堆積物(例えば、汚泥など)が夾雑物除去槽810内を移動する水によって撹拌されることを抑制できる。   Further, the upper end 990Bu of the advection opening 990B is located higher than the lower end 812d of the inflow baffle 812 (FIG. 2). The lower end 990 Bd of the advection opening 990 B is located lower than the lower end 812 d of the inflow baffle 812. Therefore, the water flowing into the contaminant removing tank 810 through the inflow baffle 812 can reach the advection opening 990 B without moving at a deeper position in the contaminant removing tank 810. As a result, it is possible to suppress that the sediment (for example, sludge etc.) deposited on the bottom of the contaminant removal tank 810 is agitated by the water moving in the contaminant removal tank 810.

図10は、移流開口990Bの近傍における水の流れを示す概略図である。図中には、Z方向に垂直な断面が示されている。図10中の流れF11〜F14は、壁に沿って移動する水の流れの例を示している。   FIG. 10 is a schematic view showing the flow of water in the vicinity of the advection opening 990B. In the figure, a cross section perpendicular to the Z direction is shown. Flows F11 to F14 in FIG. 10 show an example of the flow of water moving along the wall.

第1流F11と第2流F12とは、夾雑物除去槽810内において、主壁部910Bに沿って移流開口990Bに近づく水の流れを示している。このような水は、移流開口990Bを通り抜けて、嫌気濾床槽820に移流し得る。   The first flow F11 and the second flow F12 indicate the flow of water approaching the advection opening 990B along the main wall 910B in the contaminant removal tank 810. Such water may pass through the advection opening 990 B and be transferred to the anaerobic filter bed 820.

第3流F13と第4流F14とは、嫌気濾床槽820内において、主壁部910Bに沿って移流開口990Bに近づく水の流れを示している。本実施例では、主壁部910Bの開口縁部992Bには、嫌気濾床槽820側に向かって突出する突出部939Bが接続されている。水の流れは、突出部939Bによって、突出部939Bの突出する方向(ここでは、+X方向)に向けられる。突出部939Bの突出する方向は、開口縁部992Bから嫌気濾床槽820側に向かう方向であり、移流開口990Bを通じて上流側の夾雑物除去槽810へ向かう方向とは反対側の方向である。従って、第3流F13と第4流F14とが示すように、水は、移流開口990Bを通じて夾雑物除去槽810へ移流せずに、移流開口990Bから離れる方向に流れる。この結果、移流開口990Bを通じて上流側(ここでは、夾雑物除去槽810側)へ水が逆流することを抑制できる。また、本実施例では、開口縁部992Bの全体に亘って、突出部939Bが設けられている。従って、移流開口990Bから見て種々の方向から主壁部910Bに沿って水が近づく場合であっても、移流開口990Bを通じて水が逆流することを抑制できる。   The third flow F13 and the fourth flow F14 indicate the flow of water approaching the advection opening 990B along the main wall 910B in the anaerobic filter bed 820. In the present embodiment, a protrusion 939B protruding toward the anaerobic filter bed tank 820 is connected to the opening edge 992B of the main wall 910B. The flow of water is directed by the protrusion 939B in the protruding direction of the protrusion 939B (here, the + X direction). The projecting direction of the projecting portion 939B is a direction from the opening edge 992B toward the anaerobic filter bed tank 820, and is a direction opposite to the direction toward the upstream contaminant removing tank 810 through the advection opening 990B. Accordingly, as indicated by the third flow F13 and the fourth flow F14, the water flows away from the advection opening 990B without advection to the contaminant removal tank 810 through the advection opening 990B. As a result, it is possible to suppress the backflow of water to the upstream side (here, the contaminant removal tank 810 side) through the advection opening 990B. Further, in the present embodiment, a projection 939B is provided over the entire opening edge 992B. Therefore, even when water approaches along the main wall 910B from various directions as viewed from the advection opening 990B, it is possible to suppress backflow of water through the advection opening 990B.

C.変形例:
(1)仕切壁の開口縁部に設けられる突出部の構成としては、上記の構成に代えて、他の種々の構成を採用可能である。例えば、開口縁部の一部分のみに突出部が設けられていても良い。また、仕切壁の外周縁に設けられる外周突出部の突出方向が、開口縁部から突出する突出部の突出方向とは反対側の方向であってもよい。例えば、凸部210d(図3)の−X側の内面に仕切壁が固定される場合、仕切壁900、900B(図6、図9)の外周突出部930、930Bが−X側に突出していてもよい。この場合も、開口縁部992、992Bから突出する突出部939、939Bは、下流側の水処理槽側(ここでは、+X側)に突出することが好ましい。ただし、開口縁部から上流側の水処理槽側に突出部が突出してもよい。
C. Modification:
(1) As a structure of the protrusion provided in the opening edge part of a partition wall, it can replace with said structure and can employ | adopt other various structures. For example, the protrusion may be provided on only a part of the opening edge. Further, the projecting direction of the outer peripheral projecting portion provided on the outer peripheral edge of the partition wall may be a direction opposite to the projecting direction of the projecting portion projecting from the opening edge. For example, when the partition wall is fixed to the inner surface on the −X side of the convex portion 210d (FIG. 3), the outer peripheral protruding portions 930 and 930B of the partition walls 900 and 900B (FIG. 6, FIG. 9) protrude to the −X side. May be Also in this case, it is preferable that the protrusions 939 and 939B protruding from the opening edges 992 and 992B protrude to the water treatment tank side (here, the + X side) on the downstream side. However, the projecting portion may project from the opening edge toward the water treatment tank side on the upstream side.

図11は、排水処理装置の変形例を示す概略図である。図中には、図8と同様に移流開口814Cの近傍のZ方向に垂直な断面が示されている。この排水処理装置800Cでは、図6で説明した仕切壁900が、図5で説明した槽本体801の第1凸部210d、210uの−X側の面(例えば、図3の第2部分説明図PE2中の凸部210dの第1部分212の内面)に固定されている。また、図3の実施例とは異なり、仕切壁900の向きは、Z方向を回転軸として180度回転している。従って、仕切壁900の凹部990は、仕切壁900の+Y側の端に位置する。そして、仕切壁900の凹部990は、凹部990と槽本体801とで囲まれる移流開口814Cを形成する。夾雑物除去槽810からの水は、矢印F20のように、移流開口814Cを通って、嫌気濾床槽820へ流入する。この変形例では、仕切壁900の外周突出部930は、−X側、すなわち、移流開口814Cから上流側の夾雑物除去槽810側に、突出している。このように、外周突出部が、開口縁部から上流側の水処理槽側へ向かって突出してもよい。   FIG. 11 is a schematic view showing a modification of the waste water treatment apparatus. In the figure, a cross section perpendicular to the Z direction near the advection opening 814C is shown as in FIG. In this drainage treatment apparatus 800C, the partition wall 900 described in FIG. 6 is the surface on the −X side of the first convex portions 210d and 210u of the tank main body 801 described in FIG. 5 (for example, the second portion explanatory view of FIG. 3) It is being fixed to the inner surface of the 1st portion 212 of convex part 210d in PE2. Further, unlike the embodiment of FIG. 3, the direction of the partition wall 900 is rotated 180 degrees with the Z direction as the rotation axis. Accordingly, the recess 990 of the partition wall 900 is located at the end on the + Y side of the partition wall 900. The recess 990 of the partition wall 900 forms an advection opening 814 C surrounded by the recess 990 and the tank body 801. Water from the contaminant removal tank 810 flows into the anaerobic filter bed 820 through the advection opening 814C as indicated by arrow F20. In this modification, the outer circumferential protrusion 930 of the partition wall 900 protrudes on the −X side, that is, the side of the contaminant removal tank 810 upstream from the advection opening 814C. Thus, the outer peripheral projection may project toward the water treatment tank side upstream from the opening edge.

また、開口縁部から突出する突出部の突出する方向(すなわち、突出部の延びる方向)は、主壁部に垂直な方向(例えば、図6の主壁部910に垂直な+X方向)であってもよく、主壁部に垂直な方向に対して斜めに傾斜した方向であってもよい。   Also, the projecting direction of the projection projecting from the opening edge (that is, the extending direction of the projection) is the direction perpendicular to the main wall (for example, the + X direction perpendicular to the main wall 910 in FIG. 6) It may be inclined in a direction oblique to the direction perpendicular to the main wall.

(2)仕切壁によって形成される移流開口の構成としては、上記の構成に代えて、他の種々の構成を採用可能である。例えば、移流開口の上端と下端とが(すなわち、移流開口の全体が)、仕切壁の上流側の水処理槽の流入バッフルの下端(例えば、図2の流入バッフル812の下端812d)よりも高い位置に配置されるように、仕切壁が構成されてもよい。また、移流開口の上端と下端とが(すなわち、移流開口の全体が)、仕切壁の上流側の水処理槽の流入バッフルの下端(例えば、図2の下端812d)よりも低い位置に配置されるように、仕切壁が構成されてもよい。また、移流開口の水平方向の長さが鉛直方向の長さよりも長くなるように、仕切壁が構成されてもよい。例えば、図7の実施例で、LH>LVであってもよい。 (2) As the configuration of the advection opening formed by the partition wall, various other configurations can be adopted instead of the above configuration. For example, the upper and lower ends of the advection opening (ie, the entire advection opening) are higher than the lower end of the inflow baffle (eg, lower end 812d of the inflow baffle 812 of FIG. 2) of the water treatment vessel upstream of the partition wall. The dividing wall may be configured to be arranged in position. In addition, the upper end and the lower end of the advection opening (that is, the entire advection opening) are disposed at a position lower than the lower end (for example, the lower end 812d of FIG. 2) of the inflow baffle of the water treatment tank upstream of the partition wall. The partition wall may be configured to In addition, the partition wall may be configured such that the horizontal length of the advection opening is longer than the vertical length. For example, in the embodiment of FIG. 7, LH> LV may be satisfied.

いずれの場合も、移流開口の下端は、設計上の最低水位以下の高さに配置されていることが好ましい。この構成によれば、エアリフトポンプなどの動力を用いる移送手段を用いずに、移流開口を通じて水を自然に移送できる。移流開口の上端は、設計上の最低水位以下の高さに配置されてもよく、設計上の最高水位以上の高さに配置されてもよい。また、移流開口の位置としては、仕切壁の外周縁に近い位置に代えて、他の任意の位置を採用可能である。例えば、仕切壁の中央部分に移流開口が形成されてもよい。なお、移流開口の上端と下端と鉛直方向の長さと水平方向の長さとは、主壁部に垂直な方向を向いて移流開口を見る場合に仕切壁の上流側から下流側へ貫通している領域に基づいて特定すればよい。   In any case, the lower end of the advection opening is preferably disposed at a height equal to or lower than the design minimum water level. According to this configuration, water can be naturally transferred through the advection opening without using a powered transfer means such as an air lift pump. The upper end of the advection opening may be disposed at a height below the design low water level, or may be disposed at a height above the design high water level. Further, as the position of the advection opening, any other position can be adopted instead of the position close to the outer peripheral edge of the partition wall. For example, an advection opening may be formed in a central portion of the partition wall. The upper end and the lower end of the advection opening, the vertical length, and the horizontal length pass through from the upstream side to the downstream side of the partition wall when looking at the advection opening while facing the direction perpendicular to the main wall portion It may be specified based on the area.

(3)仕切壁の外周縁に設けられる外周突出部の構成としては、上記の構成に代えて、他の種々の構成を採用可能である。例えば、仕切壁の外周縁の全周のうち一部分のみに外周突出部が設けられていても良い。例えば、設計上の最高水位よりも高い位置では、外周突出部を省略してもよい。また、外周突出部の全体を省略してもよい。 (3) As the configuration of the outer peripheral protruding portion provided on the outer peripheral edge of the partition wall, other various configurations can be adopted instead of the above configuration. For example, the outer peripheral protruding portion may be provided on only a part of the entire circumference of the outer peripheral edge of the partition wall. For example, the outer peripheral protrusion may be omitted at a position higher than the design maximum water level. In addition, the entire outer peripheral protrusion may be omitted.

(4)仕切壁の構成としては、上記の構成に代えて、他の種々の構成を採用可能である。例えば、仕切壁と他の壁(例えば、槽本体)とが接合される場合に、設計上の最高水位よりも高い位置では、仕切壁と他の壁との間に隙間があいていてもよい。また、仕切壁は、排水処理装置の外壁(槽本体)に限らず、他の壁(例えば、他の仕切壁)に接合されてもよい。また、移流開口に連通する流路を形成するバッフルが仕切壁に固定されてもよい。また、仕切壁は、1つの連続な部材である代わりに、複数の部材を接合して構成されてもよい。ただし、仕切壁の全体が1つの連続な部材によって構成されていることが好ましい。こうすれば、仕切壁の強度を向上できる。 (4) As a structure of a partition, it can replace with said structure and can employ | adopt other various structures. For example, when the partition wall and another wall (for example, the tank body) are joined, there may be a gap between the partition wall and the other wall at a position higher than the design maximum water level. . Moreover, a partition wall may be joined not only to the outer wall (tank main body) of a waste-water-treatment apparatus but other walls (for example, other partition walls). Moreover, the baffle which forms the flow path connected to an advection opening may be fixed to a partition wall. Also, the partition wall may be configured by joining a plurality of members instead of being one continuous member. However, it is preferable that the whole of the partition be constituted by one continuous member. This can improve the strength of the partition wall.

(5)仕切壁の上流側の水処理槽に設けられる流入バッフルの構成としては、上記の構成に代えて、水を上方側から下方側へ導く他の種々の構成を採用可能である。例えば、流入バッフルから水が流出する流出口が、図2の流入バッフル812のように底部ではなく、流入バッフルの側面に設けられていてもよい。いずれの場合も、流入バッフルから流出する水は、流入バッフルの下端よりも下方に移動し得る。従って、流入バッフルから移流開口に移動する水が底部に堆積した堆積物(例えば、汚泥)を撹拌することを抑制するためには、仕切壁によって形成される移流開口が、流入バッフルの下端よりも高い位置から流入バッフルの下端よりも低い位置まで拡がっていることが好ましい。換言すれば、移流開口の上端は、流入バッフルの下端よりも高い位置に配置され、移流開口の下端は、流入バッフルの下端よりも低い位置に配置されていることが好ましい。なお、流入バッフルを省略してもよい。 (5) As the configuration of the inflow baffle provided in the water treatment tank on the upstream side of the partition wall, various other configurations for guiding water from the upper side to the lower side may be employed instead of the above configuration. For example, the outlet from which the water flows out of the inflow baffle may be provided on the side of the inflow baffle instead of the bottom as in the inflow baffle 812 of FIG. In any case, the water flowing out of the inflow baffle may move below the lower end of the inflow baffle. Therefore, to prevent the water moving from the inflow baffle to the advection opening from agitating the sediment (e.g., sludge) deposited at the bottom, the advection opening formed by the partition wall is more than the lower end of the inflow baffle It is preferable to extend from a high position to a position lower than the lower end of the inflow baffle. In other words, the upper end of the advection opening is preferably located higher than the lower end of the inflow baffle, and the lower end of the advection opening is preferably located lower than the lower end of the inflow baffle. The inflow baffle may be omitted.

(6)排水処理装置の外壁(槽本体)の構成としては、図5に示す槽本体801の構成に代えて、複数の水処理槽を収容する空間を形成する他の種々の構成を採用可能である。例えば、排水処理装置の外壁は、水平な方向に延びる円筒状の胴部と、胴部の両端を塞ぐ2つのキャップ部と、で構成されてもよい。 (6) As the configuration of the outer wall (tank body) of the waste water treatment apparatus, various other configurations forming a space for accommodating a plurality of water treatment tanks may be employed instead of the configuration of the tank body 801 shown in FIG. It is. For example, the outer wall of the waste water treatment apparatus may be composed of a cylindrical body extending in a horizontal direction and two cap parts closing both ends of the body.

(7)排水処理装置の構成としては、上記の構成に代えて、他の種々の構成を採用可能である。例えば、夾雑物除去槽810に嫌気濾材が充填されてもよい。また、接触濾床槽830に代えて、微生物を保持する担体が流動する担体流動槽を採用してもよい。また、仕切壁900の中央部分の夾雑物除去槽810側の面に、他の水処理槽を固定してもよい。他の水処理槽としては、例えば、鉄電極を用いて水中に鉄イオンを溶出させ、鉄とリンとの不溶性の化合物を生成して沈殿させることによって、排水処理装置から放流される水のリン酸イオンの濃度を低減するリン除去槽を採用してもよい。 (7) As a structure of a waste-water-treatment apparatus, it can replace with said structure and can employ | adopt another various structure. For example, the contaminant removal tank 810 may be filled with an anaerobic filter medium. Moreover, it may replace with the contact filter bed tank 830, and may employ | adopt the carrier fluid tank which the support | carrier holding microorganisms flows. In addition, another water treatment tank may be fixed to the surface on the contaminant removal tank 810 side of the central portion of the partition wall 900. As another water treatment tank, for example, an iron electrode is used to elute iron ions in water, and an insoluble compound of iron and phosphorus is generated and precipitated, whereby the phosphorus of the water discharged from the wastewater treatment device You may employ | adopt the phosphorus removal tank which reduces the density | concentration of an acid ion.

また、ピークカット機構としては、図2の実施例の放流エアリフトポンプ870に限らず、種々の構成を採用可能である。例えば、排水処理装置が、好気処理部(例えば、接触濾床槽830)と、原水を受け入れて、受け入れた原水を好気処理部へ供給するための前段処理部(図1の実施例では、夾雑物除去槽810と嫌気濾床槽820との全体)とを有する場合には、前段処理部から好気処理部へ被処理水を少量ずつ移送するエアリフトポンプを採用可能である。また、前段処理部から好気処理部への単位時間当たりの移流量を制限する堰(例えば、V型堰や小孔)を採用してもよい。このようなピークカット機構を設けることによって、好気処理部から未処理の水が流出する可能性を低減できる。ただし、ピークカット機構が省略されてもよい。この場合、排水処理装置の各水処理槽内では、通常の使用状態では、水位は、変動せずにおおよそ一定である。このような一定の水位は、設計上の最高水位ということができる。   Moreover, as a peak cut mechanism, not only the discharge air lift pump 870 of the embodiment of FIG. 2 but various configurations can be adopted. For example, the wastewater treatment apparatus includes an aerobic treatment unit (for example, a contact filter bed 830) and a pre-treatment unit for receiving raw water and supplying the received raw water to the aerobic treatment unit (in the embodiment of FIG. 1) In the case of having the contaminant removal tank 810 and the anaerobic filter bed 820), it is possible to employ an air lift pump for transferring the water to be treated little by little from the pre-treatment unit to the aerobic treatment unit. Further, a weir (for example, a V-shaped weir or a small hole) may be adopted which limits the flow rate per unit time from the pre-processing unit to the aerobic processing unit. By providing such a peak cut mechanism, it is possible to reduce the possibility of untreated water flowing out from the aerobic treatment unit. However, the peak cut mechanism may be omitted. In this case, in each water treatment tank of the wastewater treatment device, the water level is approximately constant without fluctuation in a normal use condition. Such a constant water level can be said to be a design high water level.

また、処理フローとしては、図1に示すフローに限らず、他の任意のフローを採用可能である。例えば、水位センサと、水位センサによって特定される水位に応じて制御される移送ポンプと、を有する流量調整槽が設けられても良い。また、家庭からの排水に限らず、産業排水を処理する排水処理装置を採用してもよい。   Moreover, as a processing flow, not only the flow shown in FIG. 1 but another arbitrary flow can be adopted. For example, a flow control tank having a water level sensor and a transfer pump controlled according to the water level specified by the water level sensor may be provided. Moreover, you may employ | adopt the waste-water-treatment apparatus which processes not only the drainage from a home but industrial drainage.

いずれの場合も、開口縁部から突出する突出部を有する仕切壁は、夾雑物除去槽810と嫌気濾床槽820とを仕切る壁に限らず、他の任意の2つの水処理槽の間を仕切る壁に適用可能である。例えば、図3の仕切壁803が、移流開口824の縁から接触濾床槽830側に突出する突出部を有していても良い。   In any case, the partition wall having a protrusion projecting from the opening edge is not limited to the wall partitioning the contaminant removal tank 810 and the anaerobic filter tank 820, and between any other two water treatment tanks. It is applicable to the dividing wall. For example, the partition wall 803 in FIG. 3 may have a protrusion that protrudes from the edge of the advection opening 824 toward the contact filter bed 830 side.

以上、実施例、変形例に基づき本発明について説明してきたが、上記した発明の実施の形態は、本発明の理解を容易にするためのものであり、本発明を限定するものではない。本発明は、その趣旨並びに特許請求の範囲を逸脱することなく、変更、改良され得ると共に、本発明にはその等価物が含まれる。   Although the present invention has been described above based on the examples and modifications, the above-described embodiment of the present invention is for the purpose of facilitating the understanding of the present invention, and does not limit the present invention. The present invention can be modified and improved without departing from the spirit and the scope of the claims, and the present invention includes the equivalents thereof.

100d、100u...フランジ、200d、200u...主壁部、210d、210u...第1凸部、212...第1部分、214...内部分、216...第2部分、220d、220u...第2凸部、800...排水処理装置、801...外壁(槽本体)、801d...下部槽、801s...内面、801u...上部槽、802...流入口、803...仕切壁、804...放流口、805...マンホール開口、810...夾雑物除去槽、812...流入バッフル、812d...下端、814...移流開口、814d...下端、814u...上端、820...嫌気濾床槽、822...濾材、824...移流開口、830...接触濾床槽、832...第1接触材、833...第2接触材、834...散気装置、836...移流開口、840...処理水槽、842...第2側壁部、842d...傾斜部、843...第3側壁部、843e...接続部分、844...第4側壁部、844e...接続部分、849...ホッパー部分、849L...下部分、850...消毒槽、854...薬剤筒、860...循環エアリフトポンプ、861...第1移流管、862...吸入口、863...第2移流管、864...流出口、870...放流エアリフトポンプ、872...吸入口、874...流出口、900、900B...仕切壁、910、910B...主壁部、910e...端部、930、930B...外周突出部、931...第1部分、931e...端部、932...第2部分、939、939B...突出部、990...凹部、990B...貫通孔(移流開口)、990Bd...下端、990Bu...上端、992、992B...開口縁部、214e1、214e2...端部、842e1、842e2...端部、803e1...端、WL...水面(水位)、LWL...低水位、HWL...高水位、LV...第1長、LH...第2長、PE1...第1部分説明図、PE2...第2部分説明図、 100d, 100u ... flange, 200d, 200u ... main wall, 210d, 210u ... first protrusion, 212 ... first portion, 214 ... inner portion, 216 ... second Part, 220d, 220u: second convex part, 800: drainage treatment device, 801: outer wall (tank body), 801d: lower tank, 801s: inner surface, 801u: upper tank , 802: inlet, 803: partition wall, 804: outlet, 805: manhole opening, 810: foreign matter removing tank, 812: inflow baffle, 812d: lower end 814 ... Advection opening 814 d ... Lower end, 814 u ... Upper end, 820 ... Anaerobic filter bed, 822 ... Filter medium, 824 ... Advection opening, 830 ... Contact filter bed 832: first contact material, 833: second contact material, 834: aeration device, 836: advection opening, 840: treated water tank, 842: second side wall, 842 d ... inclined portion, 843 ... third Wall portion, 843 e ... connection portion, 844 ... fourth side wall portion, 844 e ... connection portion, 849 ... hopper portion, 849 L ... lower portion, 850 ... disinfection tank, 854 .. .. Drug cylinder, 860: circulating air lift pump, 861: first advection pipe, 862: suction port, 863: second advection pipe, 864: outlet, 870: discharge air lift Pump, 872 ... suction port, 874 ... outflow port, 900, 900 B ... partition wall, 910, 910 B ... main wall, 910 e ... end portion, 930, 930 B ... perimeter protrusion Portion 931: First portion 931 e: End portion 932: Second portion 939, 939 B: Projection portion 990: Concave portion 990 B: Through hole (advection opening) 990 Bd lower end 990 Bu upper end 992 992 B opening edge 214e 1 214 e 2 end 842 e 1 842 e 2 end 803 e 1 end W ... Water surface (water level), LWL ... Low water level, HWL ... High water level, LV ... 1st length, LH ... 2nd length, PE 1 ... 1st part explanatory view, PE 2. .. Second part illustration,

Claims (4)

排水処理装置であって、
第1水処理槽と第2水処理槽とを含む複数の水処理槽を収容する空間を形成する外壁と、
前記外壁によって形成される前記空間内で前記第1水処理槽と前記第2水処理槽との間を仕切る仕切壁と、
を備え、
前記仕切壁は、
前記第1水処理槽の内面の一部と前記第2水処理槽の内面の一部とを形成し、さらに、前記第1水処理槽と前記第2水処理槽とを連通する移流開口の縁の少なくとも一部である開口縁部を形成する主壁部と、
前記開口縁部の少なくとも一部から前記第2水処理槽側へ向かって突出する突出部と、
を含み、
前記仕切壁は、前記仕切壁の外周縁が前記仕切壁の内周側に向かって凹んだ部分である凹部を有し、
前記凹部と前記外壁との間の隙間が、前記移流開口に対応し、
前記移流開口の鉛直方向の長さは、前記移流開口の水平方向の長さよりも長く、
前記凹部の全体は、前記仕切壁の下端よりも高い位置に設けられている、
排水処理装置。
Waste water treatment equipment,
An outer wall forming a space for accommodating a plurality of water treatment tanks including a first water treatment tank and a second water treatment tank,
A partition wall which partitions between the first water treatment tank and the second water treatment tank in the space formed by the outer wall;
Equipped with
The partition wall is
A part of the inner surface of the first water treatment tank and a part of the inner surface of the second water treatment tank, and further, in the advection opening communicating the first water treatment tank and the second water treatment tank A main wall forming an opening edge which is at least part of the edge;
A protrusion which protrudes toward the second water treatment tank side from at least a part of the opening edge;
Only including,
The partition wall has a recess in which the outer peripheral edge of the partition wall is recessed toward the inner peripheral side of the partition wall,
A gap between the recess and the outer wall corresponds to the advection opening,
The vertical length of the advection opening is longer than the horizontal length of the advection opening,
The whole of the recess is provided at a position higher than the lower end of the partition wall.
Waste water treatment equipment.
請求項1に記載の排水処理装置であって、
前記移流開口は、前記第1水処理槽から前記第2水処理槽へ水が移流する開口である、
排水処理装置。
The waste water treatment apparatus according to claim 1, wherein
The advection opening is an opening through which water is transferred from the first water treatment tank to the second water treatment tank.
Waste water treatment equipment.
請求項1または2に記載の排水処理装置であって
前記第1水処理槽と前記第2水処理槽のうち上流側の水処理槽を上流水処理槽と呼ぶときに、
前記上流水処理槽は、前記上流水処理槽へ流入する水を上方側から下方側へ導くバッフルを有し、
前記移流開口の上端は、前記バッフルの下端よりも高い位置に配置され、
前記移流開口の下端は、前記バッフルの下端よりも低い位置に配置されている、
排水処理装置。
It is a waste water treatment apparatus according to claim 1 or 2 , and when the upstream water treatment tank among the first water treatment tank and the second water treatment tank is called an upstream water treatment tank,
The upstream water treatment tank has a baffle for guiding water flowing into the upstream water treatment tank from the upper side to the lower side,
The upper end of the advection opening is located higher than the lower end of the baffle,
The lower end of the advection opening is located lower than the lower end of the baffle,
Waste water treatment equipment.
請求項1から3のいずれか1項に記載の排水処理装置であって、
前記仕切壁は、前記仕切壁の外周縁の全周に亘って設けられ前記第2水処理槽側へ突出する外周突出部を含み、
前記開口縁部から突出する前記突出部は、前記外周突出部の一部である、
排水処理装置。
It is the waste water treatment apparatus of any one of Claim 1 to 3, Comprising :
The partition wall includes an outer peripheral protruding portion provided along the entire periphery of the outer peripheral edge of the partition wall and protruding toward the second water treatment tank side.
The protruding portion protruding from the opening edge is a part of the outer peripheral protruding portion,
Waste water treatment equipment.
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