JP6538881B2 - 受動素子 - Google Patents

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Description

本発明は、分割リング共振器を用いたメタマテリアル受動素子に関するものである。
ミリ波/テラヘルツ波は、その物質に対する透過性や高い分解能からイメージングやレーダー技術への応用が期待されている。また、波長がサブミリメートルのオーダとなるため、アンテナサイズもサブミリオーダと小さくて良く、シリコンIC(Integrated Circuit)にアンテナを集積したオンチップアンテナの研究が盛んに行われている。しかし、その高い周波数ゆえに、回路内での伝送損失が大きく、ミリ波/テラヘルツ波帯の回路内での伝送損失を抑える技術が求められる。例えば非特許文献1では、100GHz以上の周波数で4×4の平面アレーアンテナを用いる場合、ディバイダー等で構成されるアンテナへの給電ネットワークにおけるオーミック損失が10dB以上生じている。
材料の屈折率を設計し、空間系にて超高周波信号の伝搬を制御可能なメタマテリアル技術は、超高周波帯空間系デバイスを実現する技術として期待されている。例えば非特許文献2では、分割リング共振器をメタマテリアルデバイスの単位セルとして用い、分割リング共振器のギャップの寸法を変化させることにより共振周波数をシフトさせている。この共振周波数のシフトにより、低損失な透過特性を示す周波数領域における透過移相量を変化させ、メタマテリアルデバイスを透過する電磁波の伝搬を制御している。以上のように、回路内での伝送損失が大きい超高周波の波面形成手法として、電磁波の波面を、回路内ではなく空間系デバイスにて形成する技術は、伝送損失を抑制する上で効果的である。
図9に、関連する代表的な分割リング共振器の構造を示す。分割リング共振器は、金属からなる導体部100と、導体部100に設けられたギャップ101とから構成される。ギャップ101と平行なy軸方向の電界成分を有する入射電磁波により、ギャップ101に起電力が励起され周回電流ICが生じる。この周回電流ICは、ギャップ101および導体部100に由来する容量成分および誘導成分により決定されるLC共振周波数において最大となる。
ギャップ101の寸法Gを変化させることにより、共振周波数をシフトさせる場合、寸法Gが大きい程、容量成分が小さいため、共振周波数は高くなり、また入射電磁波により励起される起電力V1は大きくなる。一方でギャップ101の寸法Gが小さいと容量成分が大きくなるため、共振周波数も低くなり、また入射電磁波により励起される起電力V1は小さくなる。
よって、図10の(a)に示すように、ギャップ101の寸法Gが大きく、共振周波数(Frequency)が高く、ギャップ101の容量C1が小さい分割リング共振器ほど、共振のピーク強度(共振強度S)が大きく、電磁波の透過率(Transmittance)が小さい特性になる。それに伴い、図10の(b)に示すように、透過移相量(Transmission phase)の特性も共振周波数が高い分割リング共振器の方がより大きな位相変化特性を示すため、共振周波数より高い損失の少ない周波数領域を動作周波数OFとすると、周波数が変化しても透過移相量分布が変化しない広帯域特性となる。
以上のように分割リング共振器のギャップ101の寸法Gを変化させ、分割リング共振器の共振周波数をシフトさせる方式を用いると、共振周波数より高い損失の少ない周波数領域では原理的に、周波数変化による透過移相量の変化が少ない特性となり、非特許文献2においては15%以上の広帯域特性を実現している。
15%以上の広帯域な特性を有する単位セルを用いたメタマテリアルデバイスは、一般的に10%程度の比帯域が求められる無線システム等において集光/偏向レンズとして用いることができる。
一方で透過移相量特性が入射電磁波周波数に強く依存する単位セル構造を用いると、プリズムのように入射電磁波周波数によって偏向角度が異なるような、周波数掃引型のビームステアラーを実現でき、レーダーやイメージング等のシステムに適用できる。しかしながら、図9に示した関連する単位セルでは、ギャップ101の寸法Gを大きくするほど共振強度が大きくなるため、原理的に15%程度の広帯域な透過移相量特性となる。よって、関連する単位セルを用いたメタマテリアルデバイスを周波数掃引型のビームステアラーとして用いる場合、少なくとも15%以上の周波数掃引が必要となってしまうという問題点があった。
W.Shin,et.al.,"A 108-112 GHz 4x4 Wafer-Scale Phased Array Transmitter with High-Efficiency On-Chip Antennas",IEEE JOURNAL OF SOLID-STATE CIRCUITS,Vol.48,No.9,pp.2041-2055,2013 D.Kitayama,et.al.,"Laminated metamaterial flat lens at millimeter-wave frequencies",OPTICS EXPRESS,Vol.23,No.18,2015
本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、入射電磁波の透過移相量を狭帯域で変化させることができる受動素子を提供することを目的とする。
本発明の受動素子は、第1のギャップおよび前記第1のギャップと異なる第2のギャップによって分断された環状の金属からなる第1の導体部と、前記第1の導体部によって囲まれた空間内に、前記第1の導体部の複数点の方向に延伸するように形成された金属からなる第2の導体部とを備え、前記第1のギャップと前記第2のギャップとは、前記第1の導体部と前記第2の導体部との交差点に設けられ、前記第1の導体部を分割すると共に、前記第1の導体部と前記第2の導体部とを隔て、前記第1のギャップによって生じる第1の容量は、前記第2のギャップによって生じる第2の容量と異なることを特徴とするものである。
本発明によれば、導体部と第1のギャップとを備えた受動素子において、第2のギャップを追加することにより、電磁波の透過移相量を狭帯域で変化させることができる。また、受動素子の共振強度を極端に小さくすることにより入射電磁場の散乱源とならない素子も実現可能である。
図1は、本発明の参考例に係る分割リング共振器の構造を示す平面図である。 図2は、分割リング共振器をアレイ状に配置した構造を示す平面図である。 図3は、本発明の参考例に係る分割リング共振器の透過特性を示す図である。 図4A−図4Bは、電磁界シミュレーションで用いた分割リング共振器の構造を示す平面図である。 図5A−図5Dは、周波数掃引による電磁波の偏向角制御の概念を説明する図である。 図6A−図6Dは、周波数掃引による電磁波の偏向角制御の概念を説明する図である。 図7A−図7Eは、本発明の第1の実施例に係る分割リング共振器の構造を示す平面図である。 図8A−図8Bは、本発明の第2の実施例に係る分割リング共振器の構造を示す平面図である。 図9は、関連する分割リング共振器の構造を示す平面図である。 図10は、関連する分割リング共振器の透過特性を示す図である。
[発明の原理]
図1は本発明の参考例に係る分割リング共振器の構造を示す平面図であるが、この図1を用いて本発明の原理を説明する。本発明の分割リング共振器10は、分断された環状の金属からなる導体部1と導体部1に設けられた第1のギャップ2とを備えている。さらに、本発明の分割リング共振器10は、外部電場(入射電磁波)によって第1のギャップ2に励起される起電力に起因した周回電流ICの経路において、第1のギャップ2における起電力とは逆方向の起電力を励起するための第2のギャップ3を1つ以上設けたものである。図1におけるx,y,zは座標軸を表し、Hは磁場の方向、Eは電場の方向、kは波数の方向を表している。
本発明では、図2に示すように、例えば誘電体からなる誘電体基板4上に図1に示したような分割リング共振器10(単位セル)を周期的にアレイ状に形成する。このとき、第2のギャップ3によって生じる容量成分C2が第1のギャップ2によって生じる容量成分C1に比べて小さくなるようにして(例えば第2のギャップ3の寸法Gsが第1のギャップ2の寸法Gよりも大)、複数個の分割リング共振器10を誘電体基板4上に配置する。
あるいは、第2のギャップ3によって生じる容量成分C2が第1のギャップ2によって生じる容量成分C1に比べて大きくなるようにして(例えば第2のギャップ3の寸法Gsが第1のギャップ2の寸法Gよりも小)、複数個の分割リング共振器10を誘電体基板4上に配置する。
本発明では、分割リング共振器10を金属パターンにより形成しているため、アレイ状に配置した分割リング共振器10の多層化(図1、図2のz軸方向を積層方向とする分割リング共振器10の多層化)が可能である。
本発明では、以下のような効果を実現可能なフラット形状のデバイスを、金属パターンの作製により実現できる。
(I)本発明では、第1のギャップ2の寸法Gを大きくするほど共振強度が弱くなる周波数領域を形成することが可能で、移相量特性を狭帯域で変化させることができる(狭帯域な周波数掃引でも移相量が変化する)。また、共振強度を極端に小さくすることにより入射電磁場の散乱源とならない金属パターンも実現可能である。
(II)本発明では、共振周波数より高い周波数領域を動作周波数とすることで、空間的な移相量分布が入射電磁波の周波数に強く依存する特性を実現することができる。動作周波数において式(1)のような偏向型の移相量分布を形成すると、動作周波数から入射電磁波周波数をずらすことで透過波の偏向角度が変化する。式(1)においてφ(x,y)は移相量、xはx軸方向における分割リング共振器10の位置、θは分割リング共振器10を透過した電磁波の偏向角度、λは動作周波数の波長である。
Figure 0006538881
また、動作周波数において式(2)のようなレンズ型の移相量分布を形成すると、動作周波数から入射電磁波周波数をずらすことで焦点距離や透過ビーム幅が変化する。式(2)におけるyはy軸方向における分割リング共振器10の位置、f0はレンズの焦点距離である。
Figure 0006538881
(III)本発明では、共振周波数より高い周波数領域を動作周波数とすることで、空間的な移相量分布の入射電磁波周波数依存性が弱い特性を実現できる。動作周波数において式(1)のような偏向型の移相量分布を形成すると、透過波の偏向角度の入射電磁波依存性が弱い特性を実現できる。動作周波数において式(2)のようなレンズ型の移相量分布を形成すると、焦点距離やビーム幅の入射電磁波依存性が弱い特性を実現できる。
(IV)また、本発明では、分割リング共振器10を多層化する層数により、透過電磁波伝搬特性の周波数掃引による変化量を変えることができる。
なお、本発明の分断された環状の導体部は、複数片に分割された導体部でもよいし、後述のように一箇所のみギャップが存在する一体型の導体部であってもよい。
参考例
以下、本発明の参考例について図面を参照して説明する。図1に、本参考例に係るメタマテリアル受動素子の単位セルとなる分割リング共振器の平面図を示す。
図9に示した関連する分割リング共振器は、導体部100とギャップ101とから構成されている。この分割リング共振器では、外部電場によりギャップ101に励起される起電力V1に起因して導体部100に周回電流ICが流れ、LC共振周波数の電磁波が入射することにより周回電流ICは最大となる。
関連する分割リング共振器の構造では、導体部100の周方向に沿ったギャップ101の寸法Gが大きくなるほど、ギャップ101によって生じる容量成分C1が小さくなり、共振周波数が高くなる。また、ギャップ101に励起される起電力V1も大きくなるため、共振周波数が高いほど共振強度も大きい。そのため、損失の少ない動作周波数における移相量差も原理的に広帯域となってしまう。
一方で、図1に示した本参考例の分割リング共振器10では、外部電場により誘起される周回電流ICは、第1のギャップ2および第2のギャップ3の両方に励起される起電力V1,V2によって決まる。第2のギャップ3に励起される起電力V2を用いることにより、関連する技術とは異なる特性、すなわち共振周波数が高いほど共振強度が弱くなるような特性を実現し、移相量特性を狭帯域で変化させることが可能となる。
ここで、第2のギャップ3によって生じる容量C2を固定した場合を考える。第1のギャップ2によって生じる容量C1がC2より小さい範囲で徐々に大きくなるとき、LC共振周波数は徐々に低くなり、第1のギャップ2に励起される起電力V1が第2のギャップ3に励起される起電力V2に近づくため共振強度も弱くなる。そして、C1=C2となった時に第1のギャップ2と第2のギャップ3に励起される起電力V1,V2が釣り合って周回電流ICが流れなくなり、共振強度が最小となる。
さらに容量C1を大きくしていくとLC共振周波数が低くなるが、第1のギャップ2に励起される起電力V1も小さくなるため、第2のギャップ3に励起される起電力V2の方が大きくなり周回電流ICが誘起される。この、C1>C2の領域において、関連する分割リング共振器では得られない、共振周波数が高いほど共振強度が弱くなる透過特性を実現できる。共振強度の周波数特性は、そのまま透過移相量の周波数特性に反映され、共振周波数よりわずかに高い周波数領域にて狭帯域に透過移相量が変化する特性を得られる。
図3の(a)に電磁界シミュレーションにより本参考例の分割リング共振器の電磁波の透過率(Transmittance)を計算した結果を示し、図3の(b)に本参考例の分割リング共振器の電磁波の透過移相量(Transmission phase)を計算した結果を示す。本シミュレーションにおいては、本参考例の分割リング共振器の具体例である、図4Aに示したような構造の分割リング共振器10Aを用いた。
図4Aに示した分割リング共振器10Aは、分断された環状の金属からなる導体部1と、導体部1によって囲まれた空間内に、導体部1の複数点(ここでは2点)と繋がるように形成された金属からなる導体部5と、導体部5に設けられた第1のギャップ2と、導体部1に設けられた2つの第2のギャップ3とから構成される。ここでは、同一パターンの分割リング共振器10Aを図2と同様に二次元に無限かつ周期的に配置した平面に垂直に平面波が入射された際の透過率および透過移相量特性を計算した。
図4Aに示した構造は、入射電磁波の電界面に対して対称の構造を有する分割リング共振器であり、導体部1の2点を結ぶ導体部5によって2分割される導体部1の右側と左側に同じ大きさで逆向きの周回電流ICが流れるため、磁気的な応答はキャンセルされる。
図4Bに示すように、導体部1のx軸方向の外径寸法をAx、y軸方向の外径寸法をAy、導体部1の幅をW、第2のギャップ3の寸法をGsとし、Ax=5mm、Ay=5mm、W=0.5mm、Gs=0.05mmとした。そして、分割リング共振器10Aを配置するx軸方向およびy軸方向の周期を5.5mmとし、寸法G=1mmの第1のギャップ2に生じる容量C1の値を0〜4pFの範囲で変化させた。図3の(a)、(b)に示すように、およそ14GHzよりも低い周波数領域にてC1>C2となり、この周波数領域では、共振周波数が高いほど共振強度が弱い特性が得られていることが分かる(動作周波数において狭帯域特性)。反対に14GHzよりも高い周波数領域にてC1<C2となり、この周波数領域では、共振周波数が高いほど共振が強くなる特性が得られている(動作周波数において広帯域特性)。
上記に基づき、例えば式(1)のような透過移相量分布を形成するように本参考例の分割リング共振器10Aを誘電体基板上に2次元的に配置することを考える。図5A〜図5Dは本参考例の分割リング共振器10AにおいてC1<C2の場合の周波数掃引による電磁波の偏向角制御の概念を説明する図である。
ここでは、図5Bに示すように誘電体からなる誘電体基板4上にC1<C2の条件を満たす本参考例の分割リング共振器10Aを2次元的に配置する。このとき、図5Bの領域aの分割リング共振器10Aについては図5Aの50aのような透過移相量を有するように分割リング共振器10Aの構造を設定する。図5Bの領域bの分割リング共振器10Aについては図5Aの50bのような透過移相量を有するように分割リング共振器10Aの構造を設定する。図5Bの領域cの分割リング共振器10Aについては図5Aの50cのような透過移相量を有するように分割リング共振器10Aの構造を設定する。
このように、C1<C2とし、共振周波数より高い周波数領域を動作周波数f1〜f2とすれば、動作周波数f1〜f2の領域内の入射電磁波の透過移相量分布、つまり透過波の偏向角が入射電磁波の周波数にほとんど依存しないメタマテリアルデバイスを得ることができる。図5Cは動作周波数f1の入射電磁波の波面WSが偏向する様子を表し、図5Dは動作周波数f2の入射電磁波の波面WSが偏向する様子を表している。図5C、図5Dの矢印EWは電磁波の伝搬方向を表している。
一方、図6A〜図6Dは本参考例の分割リング共振器10AにおいてC1>C2の場合の周波数掃引による電磁波の偏向角制御の概念を説明する図である。図5Bの場合と同様に、誘電体からなる誘電体基板4上にC1>C2の条件を満たす本参考例の分割リング共振器10Aを2次元的に配置する(図6B)。このとき、図6Bの領域dの分割リング共振器10Aについては図6Aの60dのような透過移相量を有するように分割リング共振器10Aの構造を設定する。図6Bの領域eの分割リング共振器10Aについては図6Aの60eのような透過移相量を有するように分割リング共振器10Aの構造を設定する。図6Bの領域fの分割リング共振器10Aについては図6Aの60fのような透過移相量を有するように分割リング共振器10Aの構造を設定する。
このように、C1>C2とし、共振周波数より高い周波数領域を動作周波数f1〜f2とすれば、動作周波数f1〜f2の領域内の入射電磁波の透過移相量分布、つまり透過波の偏向角が入射電磁波の周波数に依存するメタマテリアルデバイスを得ることができる。図6Cは動作周波数f1の入射電磁波の波面が偏向する様子を表し、図6Dは動作周波数f2の入射電磁波の波面が偏向しない様子を表している。このように、C1>C2の条件を満たす分割リング共振器10Aは、イメージングやレーダーシステム応用において、周波数掃引によるビームステアリングを実現するデバイスとして用いることができる。
なお、図3、図5A〜図5D、図6A〜図6Dでは、分割リング共振器10Aの特性について説明したが、本参考例の基本形である分割リング共振器10においても同様の特性を得ることが可能である。
第1の実施例
本発明の分割リング共振器の構造は、第1のギャップ2を有した金属リング構造において、外部電場によって誘起される周回電流ICの経路に第2のギャップ3を追加した構造を有していればよい。図1、図4A、図4Bに示した構造は、入射電磁波の偏波依存性が強い構造(すなわち、入射電磁波の偏波の方向が特定の方向のときに所望の透過特性が得られる構造)となるが、本発明はこのような構造に限るものではない。
図7A〜図7Eは本発明の第1の実施例に係る分割リング共振器の構造を示す平面図である。図7Aに示す分割リング共振器10Bは、平面視四角形の導体部1に第1のギャップ2を4箇所設け、さらに導体部1の4点に接続された導体部5に第2のギャップ3を4箇所設けた例である。
図7Bに示す分割リング共振器10Cは、平面視四角形の導体部1と、導体部1の4点の方向に延伸するように形成された導体部5とを設け、導体部1と導体部5との4箇所の交差点のうち2箇所に第1のギャップ2を設け、残りの2箇所に第2のギャップ3を設けた例である。したがって、第1のギャップ2と第2のギャップ3とは、導体部1を分割すると共に、導体部1と導体部5とを隔てることになる。
図7Cに示す分割リング共振器10Dは、平面視六角形の導体部1に第1のギャップ2を6箇所設け、さらに導体部1の6点に接続された導体部5の中心部に第2のギャップ3を設けた例である。図7Dに示す分割リング共振器10Eは、平面視円形の導体部1に第1のギャップ2を4箇所設け、さらに導体部1の4点に接続された導体部5に第2のギャップ3を4箇所設けた例である。図7Eに示す分割リング共振器10Fは、平面視三角形の導体部1に第1のギャップ2を3箇所設け、さらに導体部1の3点に接続された導体部5の中心部に第2のギャップ3を設けた例である。
以上のような図7A〜図7Eの構造によれば、偏波の向きを変えても同様の形状となるような偏波依存性の弱い構造(すなわち、入射電磁波の偏波の方向が変わっても所望の透過特性が得られる構造)を実現することができる。
なお、図1、図4A、図4B、図7A〜図7Eにおいて、第1のギャップ2と第2のギャップ3の位置を入れ替えてもよい。また、上記のとおり、C1<C2としてもよいし、C1>C2としてもよい。
第2の実施例
参考例および第1の実施例では、複数の第2のギャップ3が存在する場合に、これら第2のギャップ3によって生じる容量C2が全て同一(複数の第2のギャップ3の寸法が同一)の場合について説明したが、複数の第2のギャップ3のうち少なくとも1つの第2のギャップ3によって生じる容量が他の第2のギャップ3によって生じる容量と異なるようにしてもよい。
図8A、図8Bは本発明の第2の実施例に係る分割リング共振器の構造を示す平面図である。図8Aに示す分割リング共振器10Gは、図1に示した分割リング共振器10において導体部1に2つの第2のギャップ3a,3bを設け、第2のギャップ3aの寸法Gsaと第2のギャップ3bの寸法Gsbを変えることにより、2つの第2のギャップ3a,3bによって生じる容量を異なる値に設定したものである。
図8Bに示す分割リング共振器10Hは、図4Aに示した分割リング共振器10Aにおいて導体部1に2つの第2のギャップ3c,3dを設け、第2のギャップ3cの寸法Gscと第2のギャップ3dの寸法Gsdを変えることにより、2つの第2のギャップ3c,3dによって生じる容量を異なる値に設定したものである。
図8A、図8Bに示した構造において第2のギャップ3を3つ以上設けるようにしてもよい。
また、図7A〜図7Eに示した構造において、複数の第2のギャップ3のうち少なくとも1つの第2のギャップ3によって生じる容量が他の第2のギャップ3によって生じる容量と異なるようにしてもよい。
本発明の受動素子の単位セル(分割リング共振器)は、導体部1と第1のギャップ2と第2のギャップ3とを含む面内で回転させたとき、または導体部1,5と第1のギャップ2と第2のギャップ3とを含む面内で回転させたときに、元の形と重なる回転対称の形状であってもよい。また、受動素子の単位セルは、上記の面内に対称軸が存在する線対称の形状であってもよいし、回転対称かつ線対称の形状であってもよい。また、受動素子の単位セルは、上記の面内で回転させたときに元の形と重なることがなく、かつ上記の面内に線対称の対称軸が存在しない非対称形状であってもよい。
また、本発明の受動素子の単位セル(分割リング共振器)は、導体部1が第1のギャップ2または第2のギャップ3によって複数片に分割されていてもよいし、分割されていなくてもよい。例えば図4Aに示した導体部1の構造において左右2つの第2のギャップ3のうちどちらか一方が無い構造は、平面視四角形の一箇所に第2のギャップ3による欠けが存在する一体型の導体部1となる。
本発明は、分割リング共振器を用いたメタマテリアル受動素子に適用することができる。
1…導体部、2…第1のギャップ、3,3a〜3d…第2のギャップ、4…誘電体基板、5…導体部、10,10A〜10H…分割リング共振器。

Claims (6)

  1. 第1のギャップおよび前記第1のギャップと異なる第2のギャップによって分断された環状の金属からなる第1の導体部と、
    前記第1の導体部によって囲まれた空間内に、前記第1の導体部の複数点の方向に延伸するように形成された金属からなる第2の導体部とを備え、
    前記第1のギャップと前記第2のギャップとは、前記第1の導体部と前記第2の導体部との交差点に設けられ、前記第1の導体部を分割すると共に、前記第1の導体部と前記第2の導体部とを隔て、
    前記第1のギャップによって生じる第1の容量は、前記第2のギャップによって生じる第2の容量と異なることを特徴とする受動素子。
  2. 請求項記載の受動素子において、
    複数の前記第2のギャップのうち少なくとも1つの第2のギャップによって生じる第2の容量が、他の第2のギャップによって生じる第2の容量と異なることを特徴とする受動素子。
  3. 請求項1または2記載の受動素子において、
    前記第1の導体部と前記第2の導体部と前記第1のギャップと前記第2のギャップとを各々含む複数の単位セルを備え、
    前記複数の単位セルは、アレイ状に配置され、
    前記複数の単位セルの各々は、入射電磁波に対する所望の透過移相量を有するように前記第1のギャップおよび前記第2のギャップの寸法が単位セル毎に設定されることを特徴とする受動素子。
  4. 請求項記載の受動素子において、
    前記第1の導体部が配置される平面と垂直な方向を積層方向として、前記単位セルを複数積層したことを特徴とする受動素子。
  5. 請求項1乃至のいずれか1項に記載の受動素子において、
    前記第2のギャップによって生じる第2の容量が前記第1のギャップによって生じる第1の容量に比べて小さいことを特徴とする受動素子。
  6. 請求項1乃至のいずれか1項に記載の受動素子において、
    前記第2のギャップによって生じる第2の容量が前記第1のギャップによって生じる第1の容量に比べて大きいことを特徴とする受動素子。
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