JP6536106B2 - Optical film, polarizing plate provided with the same, liquid crystal panel, image display device - Google Patents

Optical film, polarizing plate provided with the same, liquid crystal panel, image display device Download PDF

Info

Publication number
JP6536106B2
JP6536106B2 JP2015053917A JP2015053917A JP6536106B2 JP 6536106 B2 JP6536106 B2 JP 6536106B2 JP 2015053917 A JP2015053917 A JP 2015053917A JP 2015053917 A JP2015053917 A JP 2015053917A JP 6536106 B2 JP6536106 B2 JP 6536106B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
hard coat
coat layer
antistatic
antistatic agent
optical film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2015053917A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2016148825A (en
Inventor
真理子 林
真理子 林
尾 智 之 堀
尾 智 之 堀
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Publication of JP2016148825A publication Critical patent/JP2016148825A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6536106B2 publication Critical patent/JP6536106B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Polarising Elements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Description

本発明は、光学フィルム、これを備えた偏光板、液晶パネル、画像表示装置に関する。   The present invention relates to an optical film, a polarizing plate provided with the same, a liquid crystal panel, and an image display device.

液晶ディスプレイ(LCD)、陰極線管表示装置(CRT)、プラズマディスプレイ(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)、フィールドエミッションディスプレイ(FED)、電子ペーパー、タブレットPC等の画像表示装置の画像表示面には、画像表示面の傷付き、および帯電による塵の付着を防ぐために帯電防止性ハードコートフィルムが設けられていることがある。このような帯電防止性ハードコートフィルムとしては、例えば、透明基材フィルム上に、第四級アンモニウム塩を含む樹脂組成物を塗布して帯電防止性ハードコート層を形成したものが提案されている(特許文献1)。   The image display surface of an image display device such as a liquid crystal display (LCD), a cathode ray tube display (CRT), a plasma display (PDP), an electroluminescence display (ELD), a field emission display (FED), electronic paper, a tablet PC An antistatic hard coat film may be provided to prevent adhesion of dust due to scratching of the image display surface and charging. As such an antistatic hard coat film, for example, one in which a resin composition containing a quaternary ammonium salt is coated on a transparent substrate film to form an antistatic hard coat layer has been proposed. (Patent Document 1).

また、液晶ディスプレイにおいては、液晶セルに対して通常偏光板が設けられている。偏光板は、通常、ヨウ素を吸着し配向処理したポリビニルアルコールフィルムからなる偏光子に対して、その両面を保護フィルムで積層した構成となっている。また保護フィルムには、透明性、光学的無配向性等の点で通常トリアセチルセルロースフィルムが使用されており、偏光子との密着性を高めるためにアルカリ水溶液で表面を鹸化処理してから偏光子と積層している。   In the liquid crystal display, a polarizing plate is usually provided for the liquid crystal cell. The polarizing plate usually has a structure in which protective films are laminated on both sides of a polarizer made of a polyvinyl alcohol film in which iodine is adsorbed and oriented. In addition, a triacetylcellulose film is usually used as a protective film in terms of transparency, optical non-orientation, etc., and after the surface is saponified with an aqueous alkaline solution to enhance adhesion with a polarizer, it is polarized. It is stacked with a child.

特開2009−86660号公報JP, 2009-86660, A

ところで、画像表示装置においては薄型化が性能における重要な一要素であり、画像表示装置に組み込まれる光学フィルムにおいても、薄型化への対応が望まれている。このため、偏光板に加えて帯電防止性ハードコートフィルムをさらに設ける代わりに、帯電防止性ハードコートフィルムを偏光板の保護フィルムとして使用すれば、その分薄くできる。ここで、偏光子に積層する保護フィルムは、偏光子との密着性の観点から密着性向上処理としてアルカリ水溶液による鹸化処理が必要とされている。   By the way, in the image display device, thinning is an important factor in performance, and in the case of an optical film incorporated in the image display device, it is desired to cope with thinning. For this reason, if an antistatic hard coat film is used as a protective film of a polarizing plate instead of additionally providing an antistatic hard coat film in addition to the polarizing plate, the thickness can be reduced accordingly. Here, the protective film to be laminated on the polarizer is required to be saponified with an aqueous alkaline solution as the adhesion improving treatment from the viewpoint of adhesion to the polarizer.

しかしながら、帯電防止性ハードコートフィルムに鹸化処理を施すと、帯電防止性ハードコート層の表面に存在する帯電防止剤が脱落してしまい、この結果、帯電防止性および耐擦傷性が低下することがある。   However, when the antistatic hard coat film is subjected to a saponification treatment, the antistatic agent present on the surface of the antistatic hard coat layer may fall off, and as a result, the antistatic property and scratch resistance may be reduced. is there.

帯電防止性ハードコートフィルムにおいて耐鹸化性を持たせるために、帯電防止性ハードコート層上に一時的に耐鹸化処理用の保護フィルムを貼り付けることもなされているが、コストアップの問題がある。   In order to impart saponification resistance to the antistatic hard coat film, a protective film for saponification treatment is temporarily affixed on the antistatic hard coat layer, but there is a problem of cost increase. .

本発明は、上記課題を解決するためになされたものである。すなわち、鹸化処理を施した場合であっても、帯電防止性ハードコート層における優れた帯電防止性および耐擦傷性を維持できる光学フィルムを提供することを目的とする。また、このような光学フィルムを用いた、偏光板、液晶パネル及び画像表示装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above problems. That is, it is an object of the present invention to provide an optical film which can maintain excellent antistatic property and scratch resistance in the antistatic hard coat layer even when saponification treatment is performed. Another object of the present invention is to provide a polarizing plate, a liquid crystal panel and an image display device using such an optical film.

本発明の一の態様によれば、光透過性基材と、前記光透過性基材上に設けられた帯電防止性ハードコート層とを備える光学フィルムであって、前記帯電防止性ハードコート層が4μm以上10μm以下の膜厚を有し、前記帯電防止性ハードコート層が、第四級アンモニウム塩基を有する重量平均分子量が1,000以上30,000以下の帯電防止剤およびバインダ樹脂を含み、前記帯電防止剤が、前記帯電防止性ハードコート層の表面に存在せず、かつ前記帯電防止性ハードコート層中における前記帯電防止性ハードコート層の表面からの深さが0.2μm以上2.0μm未満の領域に存在し、前記光学フィルムの表面抵抗値が1×1011Ω/□以下であることを特徴とする、光学フィルムが提供される。 According to one aspect of the present invention, there is provided an optical film comprising a light transmitting substrate and an antistatic hard coat layer provided on the light transmitting substrate, wherein the antistatic hard coat layer is provided. Has a thickness of 4 μm to 10 μm, and the antistatic hard coat layer contains an antistatic agent having a quaternary ammonium base and a weight average molecular weight of 1,000 to 30,000 and a binder resin, The antistatic agent is not present on the surface of the antistatic hard coat layer, and the depth from the surface of the antistatic hard coat layer in the antistatic hard coat layer is 0.2 μm or more. An optical film is provided, which is present in an area of less than 0 μm and is characterized in that the surface resistance value of the optical film is 1 × 10 11 Ω / □ or less.

上記帯電防止性ハードコート層が、前記帯電防止剤と、4個以上の光重合性官能基を有する重量平均分子量が1,000以上70,000以下の光重合性ウレタンオリゴマーと、アルキレンオキシド基を有さず、かつ4個以上のアクリロイル基を有する重量平均分子量が400以上900以下の第1のアクリレートモノマーと、アルキレンオキシド基および2個以上のアクリロイル基を有する重量平均分子量が150以上400未満の第2のアクリレートモノマーと、浸透性溶剤とを含む帯電防止性ハードコート層用組成物の硬化物であり、前記光透過性基材が、前記帯電防止性ハードコート層との界面付近に、前記光透過性基材と、前記帯電防止性ハードコート層用組成物から前記光透過性基材に浸透した、前記第1のアクリレートモノマーおよび前記第2のアクリレートモノマーを含む浸透物の硬化物とを含む混在領域を有していてもよい。   The antistatic hard coat layer comprises the antistatic agent, a photopolymerizable urethane oligomer having a weight average molecular weight of 1,000 or more and 70,000 or less, and an alkylene oxide group having four or more photopolymerizable functional groups. And a first acrylate monomer having a weight average molecular weight of 400 to 900 having four or more acryloyl groups, and a weight average molecular weight of 150 to less than 400 having an alkylene oxide group and two or more acryloyl groups. It is a cured product of a composition for antistatic hard coat layer containing a second acrylate monomer and a penetrating solvent, and the light transmitting substrate is near the interface with the antistatic hard coat layer. A light transmitting substrate, and the first acrylate monomer permeating the light transmitting substrate from the composition for the antistatic hard coat layer The cured product of the pre-permeate comprising said second acrylate monomer and may have a mixed region comprising a.

上記帯電防止性ハードコート層用組成物が、2個以上のメタクリロイル基を有する重量平均分子量が300以上900以下のメタクリレートモノマーをさらに含んでもよい。   The composition for antistatic hard coat layer may further contain a methacrylate monomer having a weight average molecular weight of 300 or more and 900 or less having two or more methacryloyl groups.

上記バインダ樹脂が第1のバインダ樹脂と第2のバインダ樹脂とから構成されており、前記帯電防止性ハードコート層が、前記帯電防止剤および前記第1のバインダ樹脂を含む帯電防止剤含有ハードコート層と、前記帯電防止剤含有ハードコート層上に設けられ、前記帯電防止剤含有ハードコート層に密着し、帯電防止剤を含まず、かつ前記第2のバインダ樹脂を含む帯電防止剤非含有ハードコート層とを備え、前記領域内に前記帯電防止剤含有ハードコート層と前記帯電防止剤非含有ハードコート層との界面が存在していてもよい。   The above-mentioned binder resin is composed of a first binder resin and a second binder resin, and the antistatic hard coat layer contains an antistatic agent-containing hard coat containing the above-mentioned antistatic agent and the above-mentioned first binder resin. Layer, hard coating layer containing the antistatic agent, which is in close contact with the hard coating layer containing the antistatic agent, does not contain the antistatic agent, and does not contain the antistatic agent containing hard the second binder resin A coat layer may be provided, and an interface between the antistatic agent-containing hard coat layer and the antistatic agent-free hard coat layer may be present in the region.

上記帯電防止剤含有ハードコート層が、前記帯電防止剤と、アルキレンオキシド基を有さず、かつ4個以上のアクリロイル基を有する重量平均分子量が400以上900以下の第1のアクリレートモノマーと、アルキレンオキシド基および2個以上のアクリロイル基を有する重量平均分子量が150以上400未満の第2のアクリレートモノマーとを少なくとも含む帯電防止剤含有ハードコート層用組成物の硬化物であり、前記帯電防止剤非含有ハードコート層が、4個以上の光重合性官能基を有する重量平均分子量が1,000以上70,000以下の光重合性ウレタンオリゴマーの硬化物を少なくとも含む帯電防止剤非含有ハードコート層用組成物の硬化物であり、前記光透過性基材が、前記帯電防止剤含有ハードコート層との界面付近に、前記光透過性基材と、前記帯電防止剤含有ハードコート層用組成物から前記光透過性基材に浸透した、前記第1のアクリレートモノマーおよび前記第2のアクリレートモノマーを含む浸透物の硬化物とを含む混在領域を有していてもよい。   The antistatic agent-containing hard coat layer comprises the antistatic agent, a first acrylate monomer having no alkylene oxide group, and having a weight average molecular weight of 400 or more and 900 or less and four or more acryloyl groups, and an alkylene It is a cured product of a composition for an antistatic agent-containing hard coat layer containing at least a second acrylate monomer having a weight average molecular weight of 150 or more and less than 400 having an oxide group and 2 or more acryloyl groups. Antistatic agent-free hardcoat layer containing at least a cured product of a photopolymerizable urethane oligomer having a weight average molecular weight of 1,000 to 70,000 and having a photopolymerizable functional group having a content of 4 or more It is a cured product of the composition, and the light transmitting substrate is near the interface with the antistatic agent-containing hard coat layer. Cured product of permeated product containing the first acrylate monomer and the second acrylate monomer, which penetrates the light transmitting substrate from the light transmitting substrate and the composition for the antistatic agent-containing hard coat layer And a mixed region including

上記帯電防止性ハードコート層上に設けられ、前記帯電防止性ハードコート層に隣接し、かつ屈折率が前記帯電防止性ハードコート層より低い低屈折率層をさらに備えてもよい。   The antistatic hard coat layer may further include a low refractive index layer adjacent to the antistatic hard coat layer and having a refractive index lower than that of the antistatic hard coat layer.

本発明の他の態様によれば、上記の光学フィルムと、前記光学フィルムの前記光透過性基材における前記帯電防止性ハードコート層が形成されている面とは反対側の面に形成された偏光子とを備えることを特徴とする、偏光板が提供される。   According to another aspect of the present invention, the optical film is formed on the side opposite to the side on which the antistatic hard coat layer is formed on the light transmitting substrate of the optical film. There is provided a polarizing plate comprising: a polarizer.

本発明の他の態様によれば、上記の光学フィルム、または上記の偏光板を備えることを特徴とする、液晶表示パネルが提供される。   According to another aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display panel comprising the above optical film or the above polarizing plate.

本発明の他の態様によれば、上記の光学フィルム、または上記の偏光板を備えることを特徴とする、画像表示装置が提供される。   According to another aspect of the present invention, there is provided an image display comprising the above optical film or the above polarizing plate.

本発明の一の態様によれば、帯電防止剤が、帯電防止性ハードコート層中における帯電防止性ハードコート層の表面からの深さが0.2μm以上2.0μm未満の領域内に主に存在するので、光学フィルムの表面抵抗値を1×1011Ω/□以下とすることができる。また、帯電防止剤は、帯電防止性ハードコート層の表面に存在していないので、光学フィルムに鹸化処理を施した場合であっても、帯電防止剤が脱落しにくい。したがって、表面抵抗値が1×1011Ω/□以下の光学フィルムに鹸化処理を施した場合であっても、表面抵抗値の低下を抑制でき、優れた帯電防止性を維持できる。また、この光学フィルムに鹸化処理を施した場合であっても、帯電防止剤が脱落しにくいので、優れた耐擦傷性を維持することができる。これにより、鹸化処理を施した場合であっても、優れた帯電防止性および耐擦傷性を維持できる光学フィルムを提供することができる。また、本発明の他の態様によれば、このような光学フィルムを備えた偏光板、液晶パネルおよび画像表示装置を提供できる。 According to one aspect of the present invention, the antistatic agent is mainly in the region of 0.2 μm or more and less than 2.0 μm in depth from the surface of the antistatic hard coat layer in the antistatic hard coat layer. Since it exists, the surface resistance value of the optical film can be 1 × 10 11 Ω / □ or less. In addition, since the antistatic agent is not present on the surface of the antistatic hard coat layer, even when the optical film is saponified, the antistatic agent is unlikely to come off. Therefore, even when an optical film having a surface resistance value of 1 × 10 11 Ω / □ or less is subjected to a saponification treatment, a reduction in the surface resistance value can be suppressed, and excellent antistatic properties can be maintained. In addition, even when the optical film is subjected to a saponification treatment, the antistatic agent is unlikely to come off, so that excellent scratch resistance can be maintained. As a result, it is possible to provide an optical film capable of maintaining excellent antistatic properties and scratch resistance even when saponification treatment is performed. Moreover, according to the other aspect of this invention, the polarizing plate provided with such an optical film, a liquid crystal panel, and an image display apparatus can be provided.

また、上記帯電防止性ハードコート層が、上記帯電防止剤と、4個以上の光重合性官能基を有する重量平均分子量が1,000以上70,000以下の光重合性ウレタンオリゴマーと、アルキレンオキシド基を有さず、かつ4個以上のアクリロイル基を有する重量平均分子量が400以上900以下の第1のアクリレートモノマーと、アルキレンオキシド基および2個以上のアクリロイル基を有する重量平均分子量が150以上400未満の第2のアクリレートモノマーと、浸透性溶剤とを含む帯電防止性ハードコート層用組成物の硬化物であり、光透過性基材が、帯電防止性ハードコート層との界面付近に、光透過性基材と、帯電防止性ハードコート層用組成物から光透過性基材に浸透した、第1のアクリレートモノマーおよび第2のアクリレートモノマーを含む浸透物の硬化物とを含む混在領域を有している場合には、上記効果に加えて、干渉縞の発生を抑制できるとともに、膜厚が4μm以上10μm以下の帯電防止性ハードコート層においても、優れた硬度を得ることができる。また、鹸化処理前において1×1011Ω/□以下の表面抵抗値を有する光学フィルムを安定的に提供することができる。 Further, the antistatic hard coat layer comprises the above antistatic agent, a photopolymerizable urethane oligomer having a weight average molecular weight of 1,000 to 70,000, and an alkylene oxide having four or more photopolymerizable functional groups. Group having a weight average molecular weight of 400 or more and 900 or less having a weight average molecular weight of 400 or more and 900 or less and a weight average molecular weight of 150 or more and 400 or more having an alkylene oxide group and 2 or more of acryloyl groups. A cured product of the composition for antistatic hard coat layer containing less than the second acrylate monomer and the permeable solvent, and the light transmitting substrate is light near the interface with the antistatic hard coat layer A transparent substrate, and a first acrylate monomer and a second acrylate, which are permeated from the composition for antistatic hard coat layer to the light transparent substrate In addition to the above effects, in the case of having a mixed region containing a cured product of a permeated substance containing a monomer, it is possible to suppress the generation of interference fringes and to prevent an antistatic hard coat having a thickness of 4 μm to 10 μm. Also in the layer, excellent hardness can be obtained. In addition, an optical film having a surface resistance value of 1 × 10 11 Ω / □ or less before the saponification treatment can be stably provided.

第1の実施形態に係る光学フィルムの概略構成図である。It is a schematic block diagram of the optical film which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施形態に係る光学フィルムの上部領域付近の拡大図である。It is an enlarged view of upper region vicinity of the optical film which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施形態に係る光学フィルムの製造工程を模式的に示した図である。It is the figure which showed typically the manufacturing process of the optical film which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施形態に係る光学フィルムの製造工程を模式的に示した図である。It is the figure which showed typically the manufacturing process of the optical film which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施形態に係る偏光板の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the polarizing plate which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施形態に係る液晶パネルの概略構成図である。It is a schematic block diagram of the liquid crystal panel concerning 1st Embodiment. 第1の実施形態に係る画像表示装置の一例である液晶ディスプレイの概略構成図である。It is a schematic block diagram of the liquid crystal display which is an example of the image display apparatus which concerns on 1st Embodiment. 第2の実施形態に係る光学フィルムの概略構成図である。It is a schematic block diagram of the optical film which concerns on 2nd Embodiment. 第2の実施形態に係る光学フィルムの上部領域付近の拡大図である。It is an enlarged view of upper region vicinity of the optical film which concerns on 2nd Embodiment. 第2の実施形態に係る光学フィルムの製造工程を模式的に示した図である。It is the figure which showed typically the manufacturing process of the optical film which concerns on 2nd Embodiment. 第2の実施形態に係る光学フィルムの製造工程を模式的に示した図である。It is the figure which showed typically the manufacturing process of the optical film which concerns on 2nd Embodiment.

[第1の実施形態]
以下、本発明の実施形態に係る光学フィルムについて、図面を参照しながら説明する。図1は本実施形態に係る光学フィルムの概略構成図であり、図2は本実施形態に係る光学フィルムの上部領域付近の拡大図であり、図3および図4は本実施形態に係る光学フィルムの製造工程を模式的に示した図である。本明細書において、「フィルム」、「シート」、「板」等の用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。したがって、例えば、「フィルム」はシートや板とも呼ばれ得るような部材も含む概念である。本明細書において、微粒子の「平均粒径」は、微粒子が凝集粒子(二次粒子)の状態である場合には、凝集粒子の長径および短径の平均から個々の微粒子の粒子径を算出し、これを平均することにより算出できる。具体的には、原子間力顕微鏡(AFM)による光学フィルムの表面像または断面像、あるいは走査透過型電子顕微鏡(TEM、STEM)による光学フィルムの表面像または断面像から任意の2個の凝集粒子を抽出し(表面像の場合、無作為に2個選択できるが、断面の場合、微粒子のどこで切られているか不明であるため、可能な限り大きい粒子を2個選択する)、個々の凝集粒子の長径および短径を測定して、個々の凝集粒子の凝集径を算出し、同じサンプルの別画像の撮像において同様の作業を9回行って、合計20個分の微粒子の粒子径の数平均から得られる値を微粒子の平均粒径とした。なお、「長径」は、凝集粒子の画面上において最も長い径とし、「短径」は、長径を構成する線分の中点に直交する線分を引き、この線分が凝集粒子と交わる2点間の距離を言うものとする。また、本明細書において、微粒子が凝集粒子の状態でない、すなわち一次粒子の状態である場合には、微粒子の一次粒子の平均粒径は、以下の(1)〜(3)の作業により算出できる。なお、後述する低屈折率層に含まれる空隙を有する微粒子の平均粒径も同様の手法によって算出できる。(1)微粒子そのもの、または微粒子の分散液を光透過性基材上に塗布し、乾燥させたものをTEMまたはSTEMの表面像を撮像する。(2)表面像から任意の10個の微粒子を抽出し、個々の微粒子の長径および短径を測定し、長径および短径の平均から個々の微粒子の粒子径を算出する。(3)同じサンプルの別画像の撮像において同様の作業を5回行って、合計50個分の微粒子の数平均から得られる値を平均粒径とした。
First Embodiment
Hereinafter, an optical film according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic configuration view of an optical film according to the present embodiment, FIG. 2 is an enlarged view around the upper region of the optical film according to the present embodiment, and FIGS. 3 and 4 are optical films according to the present embodiment It is the figure which showed typically the manufacturing process of. In the present specification, terms such as "film", "sheet", "plate" and the like are not distinguished from one another based only on the difference in designation. Thus, for example, "film" is a concept that also includes members that may be called sheets or plates. In the present specification, when the fine particles are in the state of aggregated particles (secondary particles), the “average particle diameter” of the particles is calculated by calculating the particle diameter of the individual particles from the average of the major diameter and the minor diameter of the aggregated particles. , It can be calculated by averaging. Specifically, any two aggregated particles from the surface image or cross-sectional image of the optical film by an atomic force microscope (AFM) or the surface image or cross-sectional image of the optical film by a scanning transmission electron microscope (TEM, STEM) (In the case of the surface image, it is possible to select two at random, but in the case of the cross section, select two particles as large as possible because it is unclear where the particles are cut.) Measure the major diameter and minor diameter of each particle to calculate the aggregation diameter of each aggregate particle, and perform the same operation nine times in imaging another image of the same sample, and the number average particle diameter of 20 particles in total The value obtained from the above was taken as the average particle size of the fine particles. Note that “long diameter” is the longest diameter on the screen of aggregated particles, “short diameter” draws a line segment orthogonal to the middle point of the line segment that constitutes the long diameter, and this line segment intersects with the aggregated particles 2 Let us say the distance between points. In the present specification, when the fine particles are not in the state of aggregated particles, ie, in the state of primary particles, the average particle diameter of the primary particles of the fine particles can be calculated by the following operations (1) to (3) . In addition, the average particle diameter of the microparticles | fine-particles which have the space | gap contained in the low-refractive-index layer mentioned later can be calculated by the same method. (1) The fine particles themselves or a dispersion of the fine particles is coated on a light transmitting substrate and dried, and a surface image of a TEM or STEM is taken. (2) Arbitrary 10 fine particles are extracted from the surface image, the long diameter and the short diameter of each fine particle are measured, and the particle diameter of each fine particle is calculated from the average of the long diameter and the short diameter. (3) The same operation was carried out five times in the imaging of another image of the same sample, and the value obtained from the number average of 50 particles in total was taken as the average particle diameter.

<<<光学フィルム>>>
図1に示されるように、光学フィルム10は、少なくとも、光透過性基材11と、光透過性基材11上に設けられた帯電防止性ハードコート層12とを備えている。図1に示される光学フィルム10は、光透過性基材11および帯電防止性ハードコート層12以外に、帯電防止性ハードコート層12上に設けられ、かつ帯電防止性ハードコート層12と隣接した低屈折率層13を備えているが、光学フィルム10は低屈折率層13を備えていなくともよい。また、光透過性基材11における帯電防止性ハードコート層12の界面付近には、図1に示されるように光透過性基材11と、後述する帯電防止性ハードコート層用組成物から光透過性基材11に浸透した、第1のアクリレートモノマーおよび第2のアクリレートモノマーを含む浸透物の硬化物とが混在した混在領域11Aが形成されていることが好ましい。
<<< Optical film >>>
As shown in FIG. 1, the optical film 10 comprises at least a light transmitting substrate 11 and an antistatic hard coat layer 12 provided on the light transmitting substrate 11. The optical film 10 shown in FIG. 1 is provided on the antistatic hard coat layer 12 in addition to the light transmitting substrate 11 and the antistatic hard coat layer 12, and is adjacent to the antistatic hard coat layer 12. Although the low refractive index layer 13 is provided, the optical film 10 may not have the low refractive index layer 13. In the vicinity of the interface of the antistatic hard coat layer 12 in the light transmitting base 11, light is transmitted from the light transmitting base 11 and the composition for antistatic hard coat layer described later as shown in FIG. It is preferable that a mixed region 11A in which the cured product of the permeated material containing the first acrylate monomer and the second acrylate monomer, which has permeated the permeable substrate 11, is formed.

<<光透過性基材>>
光透過性基材11としては、光透過性を有すれば特に限定されないが、例えば、セルロースアシレート基材、シクロオレフィンポリマー基材、ポリカーボネート基材、アクリレート系ポリマー基材、ポリエステル基材が挙げられる。
<< light transmitting base material >>
The light transmitting substrate 11 is not particularly limited as long as it has light transmitting properties, and examples thereof include a cellulose acylate substrate, a cycloolefin polymer substrate, a polycarbonate substrate, an acrylate-based polymer substrate, and a polyester substrate. Be

セルロースアシレート基材としては、例えば、セルローストリアセテート基材、セルロースジアセテート基材が挙げられる。シクロオレフィンポリマー基材としては、例えばノルボルネン系モノマーおよび単環シクロオレフィンモノマー等の重合体からなる基材が挙げられる。   Examples of the cellulose acylate base include cellulose triacetate base and cellulose diacetate base. As a cycloolefin polymer base material, the base material which consists of polymers, such as a norbornene-type monomer and a single ring cycloolefin monomer, is mentioned, for example.

ポリカーボネート基材としては、例えば、ビスフェノール類(ビスフェノールA等)をベースとする芳香族ポリカーボネート基材、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート等の脂肪族ポリカーボネート基材等が挙げられる。   Examples of polycarbonate substrates include aromatic polycarbonate substrates based on bisphenols (such as bisphenol A), and aliphatic polycarbonate substrates such as diethylene glycol bis allyl carbonate.

アクリレート系ポリマー基材としては、例えば、ポリ(メタ)アクリル酸メチル基材、ポリ(メタ)アクリル酸エチル基材、(メタ)アクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸ブチル共重合体基材等が挙げられる。   As the acrylate-based polymer substrate, for example, a methyl poly (meth) acrylate substrate, a poly (ethyl) acrylate substrate, a methyl (meth) acrylate-butyl (meth) acrylate copolymer substrate, etc. It can be mentioned.

ポリエステル基材としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートの少なくとも1種を構成成分とする基材等が挙げられる。   As a polyester base material, the base material etc. which have at least 1 sort (s) of a polyethylene terephthalate, a polypropylene terephthalate, a polybutylene terephthalate, and a polyethylene naphthalate as a component are mentioned, for example.

これらの中でも、光透過性に優れていることからセルロースアシレート基材が好ましく、さらにセルロースアシレート基材の中でもトリアセチルセルロース基材(TAC基材)が好ましい。トリアセチルセルロース基材は、可視光域380〜780nmにおいて、平均光透過率を50%以上とすることが可能な光透過性基材である。トリアセチルセルロース基材の平均光透過率は70%以上、更に85%以上であることが好ましい。   Among these, a cellulose acylate substrate is preferable because it is excellent in light transmittance, and among cellulose acylate substrates, a triacetyl cellulose substrate (TAC substrate) is more preferable. The triacetyl cellulose base is a light transmitting base that can have an average light transmittance of 50% or more in the visible light range of 380 to 780 nm. The average light transmittance of the triacetyl cellulose base is preferably 70% or more, and more preferably 85% or more.

なお、トリアセチルセルロース基材としては、純粋なトリアセチルセルロース以外に、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートの如くセルロースとエステルを形成する脂肪酸として酢酸以外の成分も併用した物であってもよい。また、これらトリアセチルセルロースには、必要に応じて、ジアセチルセルロース等の他のセルロース低級脂肪酸エステル、或いは可塑剤、紫外線吸收剤、易滑剤等の各種添加剤が添加されていてもよい。   In addition to the pure triacetylcellulose, the triacetylcellulose base may be a combination of cellulose acetate propionate, cellulose acetate butyrate and other components other than acetic acid as fatty acids forming an ester with cellulose. Good. In addition, other additives such as cellulose lower fatty acid ester such as diacetyl cellulose, or plasticizers, ultraviolet absorbers, and lubricants may be added to these triacetyl celluloses, as necessary.

光透過性基材11の厚みは、特に限定されないが、通常、20μm以上1000μm以下程度であり、耐久性やハンドリング性等を考慮すると、25μm以上80μm以下がより好ましい。   The thickness of the light transmitting substrate 11 is not particularly limited, but is usually about 20 μm to 1000 μm, and more preferably 25 μm to 80 μm in consideration of durability, handling property, and the like.

光透過性基材11は、必要に応じて、例えば、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線(UV)処理、火炎処理、プライマー層形成などの密着強化の為の表面処理が施されたものであってもよい。   The light transmitting substrate 11 is, as required, subjected to surface treatment for strengthening adhesion such as glow discharge treatment, corona discharge treatment, ultraviolet light (UV) treatment, flame treatment, primer layer formation, etc. It may be.

<<混在領域>>
混在領域11Aは、干渉縞の発生を抑制するためのものである。すなわち、光透過性基材と帯電防止性ハードコート層との屈折率差に起因して、光透過性基材と帯電防止性ハードコート層との界面で反射する光と、帯電防止性ハードコート層の表面で反射する光とが干渉して、干渉縞と呼ばれる虹色状のムラ模様が発生するおそれがある。これに対し、図1のように混在領域11Aを形成した場合には、混在領域11Aには、後述する帯電防止性ハードコート層用組成物から光透過性基材11に浸透した、第1のアクリレートモノマーおよび第2のアクリレートモノマーを含む浸透物の硬化物が含まれているので、後述する理由から、干渉縞の発生を抑制することができる。また、混在領域11Aを形成することにより、光透過性基材11と帯電防止性ハードコート層12との密着性をより向上させることができる。
<< Mixed area >>
The mixed area 11A is for suppressing the occurrence of interference fringes. That is, light reflected at the interface between the light transmitting substrate and the antistatic hard coat layer due to the difference in refractive index between the light transmitting substrate and the antistatic hard coat layer, and the antistatic hard coat Interference with the light reflected by the surface of the layer may cause an iridescent unevenness pattern called interference fringes to occur. On the other hand, in the case where the mixed area 11A is formed as shown in FIG. 1, the mixed area 11A contains the first composition which penetrates the light transmitting substrate 11 from the composition for antistatic hard coat layer described later. Since the cured product of the permeate containing the acrylate monomer and the second acrylate monomer is included, the generation of interference fringes can be suppressed for the reason described later. Further, the adhesion between the light transmitting substrate 11 and the antistatic hard coat layer 12 can be further improved by forming the mixed region 11A.

混在領域11Aの厚みは、1μm以上6μm以下であることが好ましい。なお、従来の反射防止フィルムで形成される混在領域の厚みは、7μm〜20μm程度である場合が多いので、混在領域11Aの厚みは従来の反射防止フィルムで形成される混在領域に比べて薄いと言える。混在領域11Aの厚みを薄くできるのは、後述する第1のアクリレートモノマーと第2のアクリレートモノマーとを併用したからであると推測される。また、充分な厚さの混在領域を形成した場合には、混在領域は比較的柔らかいため、光学フィルムにおいて優れた硬度が得られないおそれがある。これに対し、本実施形態において混在領域11Aを薄くすることができるので、光学フィルム10において優れた硬度を得ることができる。   The thickness of the mixed area 11A is preferably 1 μm or more and 6 μm or less. In addition, since the thickness of the mixed area formed of the conventional antireflection film is often about 7 μm to 20 μm, it is assumed that the thickness of the mixed area 11A is thinner than that of the mixed area formed of the conventional antireflection film. I can say that. The reason why the thickness of the mixed region 11A can be reduced is presumed to be because the first acrylate monomer and the second acrylate monomer described later are used in combination. In addition, when a mixed region of a sufficient thickness is formed, the mixed region is relatively soft, and thus there is a possibility that an excellent hardness can not be obtained in the optical film. On the other hand, since the mixed region 11A can be thinned in the present embodiment, excellent hardness can be obtained in the optical film 10.

<<帯電防止性ハードコート層>>
帯電防止性ハードコート層12は、第四級アンモニウム塩基を有する重量平均分子量が1,000以上50,000以下の帯電防止剤14およびバインダ樹脂15を含むものであり、かつJIS K5600−5−4(1999)で規定される鉛筆硬度試験(4.9N荷重)で「H」以上の硬度を示すものである。
<< Antistatic Hard Coat Layer >>
The antistatic hard coat layer 12 contains an antistatic agent 14 having a quaternary ammonium base and having a weight average molecular weight of 1,000 to 50,000 and a binder resin 15, and JIS K5600-5-4. It shows a hardness of "H" or more in a pencil hardness test (4.9 N load) defined in (1999).

帯電防止性ハードコート層12は、4μm以上10μm以下の膜厚を有するものである。帯電防止性ハードコート層12の膜厚を4μm以上とすることにより、優れた硬度を得ることができる。また帯電防止性ハードコート層12の膜厚を10μm以下とすることにより、光学フィルム10の薄膜化を図ることができる。帯電防止性ハードコート層12の膜厚の上限は8μm以下であることが好ましい。帯電防止性ハードコート層の膜厚は、帯電防止性ハードコート層の断面を走査型電子顕微鏡(SEM)で観察することにより求めることができる。具体的には、走査型電子顕微鏡の画像を用い、1画像の中で3箇所帯電防止性ハードコート層の膜厚を計測し、これを5画像分行い、計測された膜厚の平均値を算出する。   The antistatic hard coat layer 12 has a thickness of 4 μm to 10 μm. By setting the film thickness of the antistatic hard coat layer 12 to 4 μm or more, excellent hardness can be obtained. Further, by setting the film thickness of the antistatic hard coat layer 12 to 10 μm or less, the optical film 10 can be thinned. The upper limit of the film thickness of the antistatic hard coat layer 12 is preferably 8 μm or less. The film thickness of the antistatic hard coat layer can be determined by observing the cross section of the antistatic hard coat layer with a scanning electron microscope (SEM). Specifically, the film thickness of three antistatic hard coat layers in one image is measured using an image of a scanning electron microscope, this is performed for five images, and the average value of the measured film thickness is calculated calculate.

帯電防止性ハードコート層12の屈折率層は、1.50以上1.60以下であってもよい。帯電防止ハードコート層12の屈折率の下限は、1.52であってもよく、帯電防止性ハードコート層12の屈折率の上限は、1.56以下であってもよい。光透過性基材11と帯電防止性ハードコート層12との屈折率差は、干渉縞の発生を抑制する観点から、0.10以内とすることが好ましく、0.06以内とすることがより好ましい。   The refractive index layer of the antistatic hard coat layer 12 may be 1.50 or more and 1.60 or less. The lower limit of the refractive index of the antistatic hard coat layer 12 may be 1.52, and the upper limit of the refractive index of the antistatic hard coat layer 12 may be 1.56 or less. The difference in refractive index between the light transmitting substrate 11 and the antistatic hard coat layer 12 is preferably 0.10 or less, more preferably 0.06 or less, from the viewpoint of suppressing the occurrence of interference fringes. preferable.

帯電防止性ハードコート層12の屈折率は、380nm〜780nmの波長領域における屈折率は一定とし、分光光度計により測定した反射スペクトルと、フレネルの式を用いた薄膜の光学モデルから算出したスペクトルとをフィッティングさせることによって求めることができる。また、帯電防止性ハードコート層12の屈折率は、単独の層を形成した後、アッベ屈折率計(アタゴ社製 NAR−4T)やエリプソメータによって測定して求めてもよい。また、光学フィルム10となった後に屈折率を測定する方法としては、帯電防止性ハードコート層12をカッターなどで削り取り、粉状態のサンプルを作製し、JIS K7142(2008)B法(粉体または粒状の透明材料用)に従ったベッケ法(屈折率が既知のカーギル試薬を用い、前記粉状態のサンプルをスライドガラスなどに置き、そのサンプル上に試薬を滴下し、試薬でサンプルを浸漬する。その様子を顕微鏡観察によって観察し、サンプルと試薬の屈折率が異なることによってサンプル輪郭に生じる輝線(ベッケ線)が目視で観察できなくなる試薬の屈折率を、サンプルの屈折率とする方法)を用いることができる。   The refractive index of the antistatic hard coat layer 12 is constant at a refractive index of 380 nm to 780 nm, and the reflection spectrum measured by a spectrophotometer and the spectrum calculated from the optical model of the thin film using the Fresnel equation It can be determined by fitting. In addition, the refractive index of the antistatic hard coat layer 12 may be obtained by measurement with an Abbe refractometer (NAR-4T manufactured by Atago Co.) or an ellipsometer after forming a single layer. In addition, as a method of measuring the refractive index after forming the optical film 10, the antistatic hard coat layer 12 is scraped off with a cutter or the like to prepare a powder sample, and JIS K7142 (2008) B method (powder or Using a Becke method (for a transparent material in the form of particles) (using a Cargill reagent of known refractive index), place the powdered sample on a slide glass or the like, drip the reagent onto the sample, and immerse the sample with the reagent. The situation is observed by microscopic observation, and the refractive index of the reagent is used as the refractive index of the sample, because the bright line (Becke line) generated on the sample contour can not be visually observed due to the difference in the refractive index of the sample and the reagent. be able to.

帯電防止剤14は、帯電防止性ハードコート層12の表面12Aに存在していない。「帯電防止性ハードコート層の表面」とは、帯電防止性ハードコート層における光透過性基材側の面(裏面)とは反対側の面を意味する。「帯電防止剤が、帯電防止性ハードコート層の表面に存在していない」ことは、鹸化処理前後の光学フィルムの耐擦傷性の変化を調べることによって確認することができる。すなわち、帯電防止剤が帯電防止性ハードコート層の表面に存在している場合には、光学フィルムに鹸化処理を施すと、帯電防止剤が脱落してしまうので、鹸化処理前よりも耐擦傷性が低下してしまうが、帯電防止剤が帯電防止性ハードコート層の表面に存在していなければ、光学フィルムに鹸化処理を施した場合であっても、帯電防止剤が脱落することがないので、鹸化処理前後において耐擦傷性はほぼ同じ評価となる。したがって、鹸化処理前後の光学フィルムの耐擦傷性が低下していなければ、帯電防止剤が、帯電防止性ハードコート層の表面に存在していないと言える。   The antistatic agent 14 is not present on the surface 12 A of the antistatic hard coat layer 12. The “surface of the antistatic hard coat layer” means the surface of the antistatic hard coat layer opposite to the surface (rear surface) on the light transmitting substrate side. The fact that "the antistatic agent is not present on the surface of the antistatic hard coat layer" can be confirmed by examining the change in the scratch resistance of the optical film before and after the saponification treatment. That is, when the antistatic agent is present on the surface of the antistatic hard coat layer, when the optical film is subjected to the saponification treatment, the antistatic agent is dropped, so that the scratch resistance is higher than before the saponification treatment. If the antistatic agent is not present on the surface of the antistatic hard coat layer, the antistatic agent does not fall off even when the optical film is saponified. Before and after the saponification treatment, the scratch resistance is evaluated almost the same. Therefore, if the scratch resistance of the optical film before and after the saponification treatment is not reduced, it can be said that the antistatic agent is not present on the surface of the antistatic hard coat layer.

帯電防止剤14は、図2に示されるように、帯電防止性ハードコート層12の表面12Aからの深さが0.2μm以上2.0μm未満の領域R(以下、この領域を「上部領域」と称する。)に存在している。上部領域に帯電防止剤が存在しているか否かは、以下のようにして評価することができる。まず、評価対象である光学フィルムの帯電防止性ハードコート層に含まれる帯電防止剤と同じ帯電防止剤とメチルエチルケトンとを含む組成物を複数のトリアセチルセルロースフィルムの片面に塗布し、乾燥させて、各トリアセチルセルロースフィルム上に膜厚0.5μmの帯電防止層を形成する。次いで、各帯電防止層上に、帯電防止剤を含まず、かつジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)と、トルエンと、重合開始剤とを含む組成物を塗布し、紫外線を照射してハードコート層を形成して、複数のサンプルを作製する。ただし、各サンプルのハードコート層は、膜厚がサンプル毎に0.1μm刻みで異なるように形成される。このような複数のサンプルを用意した後、評価対象に係る鹸化処理前の光学フィルムの表面抵抗値、および各サンプルのハードコート層の表面抵抗値を測定し、評価対象に係る光学フィルムの表面抵抗値とほぼ同じ表面抵抗値を示すサンプルを探し出す。ここで、評価対象に係る光学フィルムにおいては、探し出されたサンプルとほぼ同じ表面抵抗値を示すので、このサンプルとほぼ同じ位置に帯電防止剤が存在すると考えることができる。したがって、帯電防止性ハードコート層の表面から、帯電防止性ハードコート層の深さ方向に、探し出されたサンプルのハードコート層の膜厚に相当する距離離れた位置に、少なくとも帯電防止剤が存在すると考えることができる。そして、探し出されたサンプルのハードコート層の膜厚が0.2μm以上2.0μm未満の範囲内にあれば、帯電防止剤は上部領域に存在していると言え、探し出されたサンプルのハードコート層の膜厚が2.0μm以上であれば、帯電防止剤は上部領域に存在していないと言える。このように、サンプルを用いた帯電防止性の評価を行うことにより、帯電防止剤が、上部領域に存在しているか評価することができる。   As shown in FIG. 2, the antistatic agent 14 is a region R having a depth of 0.2 μm or more and less than 2.0 μm from the surface 12A of the antistatic hard coat layer 12 (hereinafter referred to as “upper region”). In the United States). Whether or not an antistatic agent is present in the upper region can be evaluated as follows. First, a composition containing the same antistatic agent and methyl ethyl ketone as the antistatic agent contained in the antistatic hard coat layer of the optical film to be evaluated is coated on one surface of a plurality of triacetyl cellulose films and dried. An antistatic layer having a thickness of 0.5 μm is formed on each triacetyl cellulose film. Next, a composition containing no antistatic agent and containing dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA), toluene, and a polymerization initiator is applied onto each antistatic layer, and the hard coat layer is irradiated with ultraviolet light. To make a plurality of samples. However, the hard coat layer of each sample is formed so that the film thickness is different every 0.1 μm for each sample. After preparing a plurality of such samples, the surface resistance value of the optical film before saponification treatment related to the evaluation target and the surface resistance value of the hard coat layer of each sample are measured, and the surface resistance of the optical film related to the evaluation target Find a sample that exhibits a surface resistance value approximately the same as the value. Here, in the optical film according to the evaluation object, since the surface resistance value substantially the same as that of the sample found is found, it can be considered that the antistatic agent is present at substantially the same position as this sample. Therefore, at least the antistatic agent is located at a distance from the surface of the antistatic hard coat layer in the depth direction of the antistatic hard coat layer, which corresponds to the thickness of the hard coat layer of the found sample. It can be considered to exist. Then, if the film thickness of the hard coat layer of the found sample is within the range of 0.2 μm or more and less than 2.0 μm, it can be said that the antistatic agent is present in the upper region, If the film thickness of the hard coat layer is 2.0 μm or more, it can be said that the antistatic agent is not present in the upper region. As described above, it is possible to evaluate whether the antistatic agent is present in the upper region by evaluating the antistatic property using the sample.

上部領域の範囲を、帯電防止性ハードコート層の表面からの深さが0.2μm以上2.0μm未満としたのは、鹸化処理による帯電防止剤の脱落を抑制し、かつ鹸化処理前後において優れた耐擦傷性を維持しようとすると、帯電防止剤を帯電防止性ハードコート層の表面からの深さが0.2μm以上の位置に存在させることが必要であり、また1×1011以下の帯電防止性を得るようとすると、帯電防止剤を帯電防止性ハードコート層の表面からの深さが2.0μm未満の位置に存在させることが必要であるからである。 If the depth of the upper region from the surface of the antistatic hard coat layer is 0.2 μm or more and less than 2.0 μm, dropping of the antistatic agent due to the saponification treatment is suppressed, and it is excellent before and after the saponification treatment and if you try to maintain the scratch resistance, the depth from the surface of the antistatic agent antistatic hard coat layer is required to be present in the 0.2μm or more locations, also 1 × 10 11 or less of the charge In order to obtain the prevention property, it is necessary for the antistatic agent to be present at a depth of less than 2.0 μm from the surface of the antistatic hard coat layer.

鹸化処理による帯電防止剤の脱落をより抑制し、かつ鹸化処理前後において優れた耐擦傷性をより維持する観点から、帯電防止剤14は、上部領域Rのうち、帯電防止性ハードコート層12の表面12Aからの深さが0.3μm以上の領域に存在していることが好ましい。   From the viewpoint of further suppressing the dropout of the antistatic agent due to the saponification treatment and maintaining the excellent scratch resistance before and after the saponification treatment, the antistatic agent 14 is one of the antistatic hard coat layer 12 in the upper region R. It is preferable that the depth from the surface 12A be in a region of 0.3 μm or more.

9×1010Ω/□以下の表面抵抗値を得る観点から、帯電防止剤14は、上部領域Rのうち、帯電防止性ハードコート層12の表面12Aからの深さが1.5μm以下の領域に存在していることが好ましい。また、9×10Ω/□以下の表面抵抗値を得る観点から、帯電防止剤14は、上部領域Rのうち、帯電防止性ハードコート層12の表面12Aからの深さが1.0μm以下の領域に存在していることが好ましい。 From the viewpoint of obtaining a surface resistance value of 9 × 10 10 Ω / □ or less, the antistatic agent 14 is a region of 1.5 μm or less in depth from the surface 12 A of the antistatic hard coat layer 12 in the upper region R. Are preferably present. Further, from the viewpoint of obtaining a surface resistance value of 9 × 10 9 Ω / sq or less, the antistatic agent 14 has a depth of 1.0 μm or less from the surface 12A of the antistatic hard coat layer 12 in the upper region R. It is preferably present in the region of

帯電防止剤14は、上部領域R内に局在していることが好ましい。「帯電防止剤が上部領域内に局在している」とは、上部領域内に帯電防止剤が集中して存在しており、上部領域外の領域においては帯電防止剤の存在割合が極めて低いことを意味する。したがって、上部領域内に帯電防止剤の濃度の最も高いピークが存在する。帯電防止剤14が上部領域R内に局在することにより、確実に優れた帯電防止性を維持することができる。また、帯電防止性ハードコート層12中に存在する帯電防止剤の総量に対して75質量%以上の割合の帯電防止剤14が上部領域R内に局在していることが好ましい。   The antistatic agent 14 is preferably localized in the upper region R. "The antistatic agent is localized in the upper region" means that the antistatic agent is concentrated in the upper region and the proportion of the antistatic agent is extremely low in the region outside the upper region. It means that. Thus, the highest peak of concentration of antistatic agent is present in the upper region. By localizing the antistatic agent 14 in the upper region R, the excellent antistatic property can be reliably maintained. Preferably, the antistatic agent 14 is localized in the upper region R in a proportion of 75% by mass or more based on the total amount of the antistatic agent present in the antistatic hard coat layer 12.

<帯電防止剤>
上記したように帯電防止剤14は、重量平均分子量が1,000以上30,000以下のものである。帯電防止剤の重量平均分子量が1,000以上であると、帯電防止性ハードコート層の表面に帯電防止剤がブリードアウトしにくく、また重量平均分子量が30,000以下であると、帯電防止性ハードコート層用組成物の粘度が高くなりすぎることもなく、塗工適性の低下を抑制できる。
<Antistatic agent>
As described above, the antistatic agent 14 has a weight average molecular weight of 1,000 to 30,000. When the weight average molecular weight of the antistatic agent is 1,000 or more, the antistatic agent hardly bleeds out on the surface of the antistatic hard coat layer, and when the weight average molecular weight is 30,000 or less, the antistatic property The decrease in coating suitability can be suppressed without the viscosity of the composition for hard coat layer becoming too high.

帯電防止剤14の重量平均分子量の下限は1,500以上であることが好ましく、2,000以上であることがより好ましい。帯電防止剤14の重量平均分子量の上限は25,000以下であることが好ましく、20,000以下であることがより好ましい。   The lower limit of the weight average molecular weight of the antistatic agent 14 is preferably 1,500 or more, and more preferably 2,000 or more. The upper limit of the weight average molecular weight of the antistatic agent 14 is preferably 25,000 or less, and more preferably 20,000 or less.

本明細書における「重量平均分子量」は、THF等の溶媒に溶解して、従来公知のゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法によるポリスチレン換算により得られる値である。   The "weight-average molecular weight" in the present specification is a value obtained by dissolving in a solvent such as THF and the like, and converting it to polystyrene by a gel permeation chromatography (GPC) method known to date.

帯電防止剤14としては、例えば、第四級アンモニウム塩基を有するモノマーと、第四級アンモニウム塩基を有さないモノマーとの共重合体を用いることができる。   As the antistatic agent 14, for example, a copolymer of a monomer having a quaternary ammonium base and a monomer having no quaternary ammonium base can be used.

上記共重合体としては、例えば、N,N−ジアルキルアミノ基含有モノマーを四級化した後、第四級アンモニウム塩基を有さないモノマーと重合することにより、又はN,N−ジアルキルアミノ基含有モノマーと第四級アンモニウム塩基を有さないモノマーとを共重合した後、得られた共重合体が有するN,N−ジアルキルアミノ基を四級化することにより得ることができる。   As the above-mentioned copolymer, for example, after quaternizing an N, N-dialkylamino group-containing monomer, it is polymerized with a monomer having no quaternary ammonium base, or N, N-dialkylamino group-containing After copolymerizing a monomer and the monomer which does not have a quaternary ammonium base, it can obtain by quaternizing the N, N- dialkyl amino group which the obtained copolymer has.

N,N−ジアルキルアミノ基含有モノマーとしては、例えば、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレート、N,N−ジエチルアミノプロピル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノブチル(メタ)アクリレート、N,N−ジエチルアミノブチル(メタ)アクリレート、N,N−ジヒドロキシエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチル(メタ)アクリルアミド等が挙げられ、なかでも、優れた耐鹸化性が得られる点で、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレートは好ましい化合物の一種である。   As the N, N-dialkylamino group-containing monomer, for example, N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, N, N-diethylaminoethyl (meth) acrylate, N, N-dimethylaminopropyl (meth) acrylate, N , N-diethylaminopropyl (meth) acrylate, N, N-dimethylaminobutyl (meth) acrylate, N, N-diethylaminobutyl (meth) acrylate, N, N-dihydroxyethylaminoethyl (meth) acrylate, N, N- Dimethyl (meth) acrylamide, N, N-diethyl (meth) acrylamide, etc. are mentioned, Among them, N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate is a kind of a preferable compound in that excellent saponification resistance can be obtained. It is.

上記共重合体を構成する、第四級アンモニウム塩基を有さないモノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸、或いは、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート等のアルキル(メタ)アクリレート、或いは、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、或いは、ベンジル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、等の環状構造を有するアルキル(メタ)アクリレート、或いは、エトキシエチル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート等のアルコキシアルキル(メタ)アクリレート、或いは、エチルカルビトール(メタ)アクリレート、シアノエチル(メタ)アクリレート等の各種(メタ)アクリレート、或いは、メチル(メタ)アクリルアミド、エチル(メタ)アクリルアミド、プロピル(メタ)アクリルアミド、ブチル(メタ)アクリルアミド、2−エチルヘキシル(メタ)アクリルアミド、ステアリル(メタ)アクリルアミド、ラウリル(メタ)アクリルアミド、トリデシル(メタ)アクリルアミド、ドデシル(メタ)アクリルアミド等のアルキル(メタ)アクリルアミド、或いは、ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリルアミド、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリルアミド、ヒドロキシブチル(メタ)アクリルアミド等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリルアミド、或いは、ベンジル(メタ)アクリルアミド、シクロヘキシル(メタ)アクリルアミド、イソボルニル(メタ)アクリルアミド、ジシクロペンテニル(メタ)アクリルアミド、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリルアミド、グリシジル(メタ)アクリルアミド、等の環状構造を有するアルキル(メタ)アクリルアミド、或いは、エトキシエチル(メタ)アクリルアミド、ブトキシエチル(メタ)アクリルアミド等のアルコキシアルキル(メタ)アクリルアミド、或いは、エチルカルビトール(メタ)アクリルアミド、シアノエチル(メタ)アクリルアミド等の各種(メタ)アクリルアミド、或いは、スチレン、メチルスチレン等が挙げられる。特に、得られる共重合体の有機溶媒に対する溶解性の高さ、及び疎水性の強さの面からドデシル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレートが好適に使用される。   As a monomer which does not have a quaternary ammonium base which constitutes the above-mentioned copolymer, for example, (meth) acrylic acid or methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl Alkyl (meth) acrylates such as (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate or 2-hydroxyethyl Hydroxyalkyl (meth) acrylates such as (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate or benzyl (meth) acrylate or cyclohexyl (meth) acrylate Alkyl (meth) acrylate having a cyclic structure such as isobornyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl oxyethyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, or ethoxyethyl (meth) acrylate And alkoxyalkyl (meth) acrylates such as butoxyethyl (meth) acrylate, or various (meth) acrylates such as ethyl carbitol (meth) acrylate and cyanoethyl (meth) acrylate, or methyl (meth) acrylamide, ethyl (meth) acrylate ) Acrylamide, propyl (meth) acrylamide, butyl (meth) acrylamide, 2-ethylhexyl (meth) acrylamide, stearyl (meth) acrylamide, lauryl (meth) a Alkyl (meth) acrylamides such as llylamide, tridecyl (meth) acrylamide, dodecyl (meth) acrylamide, or hydroxyethyl (meth) acrylamide, 2-hydroxyethyl (meth) acrylamide, hydroxypropyl (meth) acrylamide, 2-hydroxypropyl Hydroxyalkyl (meth) acrylamides such as (meth) acrylamides, hydroxybutyl (meth) acrylamides, or benzyl (meth) acrylamides, cyclohexyl (meth) acrylamides, isobornyl (meth) acrylamides, dicyclopentenyl (meth) acrylamides, dicyclo Alkyl (meth) acryl acid having a cyclic structure such as pentenyloxyethyl (meth) acrylamide, glycidyl (meth) acrylamide, etc. Or alkoxyalkyl (meth) acrylamides such as ethoxyethyl (meth) acrylamide and butoxyethyl (meth) acrylamide, or various (meth) acrylamides such as ethyl carbitol (meth) acrylamide and cyanoethyl (meth) acrylamide, or , Styrene, methyl styrene and the like. In particular, dodecyl (meth) acrylate and tridecyl (meth) acrylate are preferably used in terms of high solubility of the resulting copolymer in an organic solvent and hydrophobic strength.

また、第四級アンモニウム塩基を有さないモノマーとして、オルガノポリシロキサン系モノマー、例えば、(メタ)アクリロイル基を有するポリジメチルシロキサンを用いてもよい。   In addition, as a monomer not having a quaternary ammonium base, an organopolysiloxane based monomer, for example, polydimethylsiloxane having a (meth) acryloyl group may be used.

耐鹸化性などの点で好ましい共重合体を例示すれば、第四級アンモニウム塩基を有するモノマーがN,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレートであり、第四級アンモニウム塩基を有さないモノマーがドデシル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレートの群から1種又は2種以上であり、これらを共重合させた共重合体である。   As a preferable copolymer from the viewpoint of saponification resistance, for example, a monomer having a quaternary ammonium base is N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate and a monomer having no quaternary ammonium base is It is a copolymer obtained by copolymerizing one or two or more selected from the group of dodecyl (meth) acrylate and tridecyl (meth) acrylate.

第四級アンモニウム塩基は、カチオン化剤で変性して四級化処理して得ることができる。第四級アンモニウム塩基はN,N−ジアルキルアミノ基をカチオン化剤で変性し、第四級化処理をして得られたものであることが好ましい。カチオン化剤としては、例えばメチルハライド、エチルハライド、ノルマルプロピルハライド、イソプロピルハライド、ノルマルブチルハライド、イソプロピルハライド、ノルマルヘキシルハライド、2−エチルヘキシルハライド、オクチルハライド、ラウリルハライド、ステアリルハライドなどのアルキルハライド、或いは、モノクロロ酢酸ナトリウム、モノクロロ酢酸カリウムなどのモノクロロ酢酸塩、或いは、モノクロロ酢酸メチル、モノクロロ酢酸エチルなどのモノクロロ酢酸エステル、或いは、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピルトリメチルアンモニウムクロライドなどである。カチオン化剤は、これらから1種単独使用してもよく、また、2種以上を併用してもよい。   The quaternary ammonium base can be obtained by modification with a cationizing agent and quaternization treatment. The quaternary ammonium base is preferably one obtained by modifying the N, N-dialkylamino group with a cationizing agent and subjecting it to quaternization treatment. As a cationizing agent, for example, alkyl halides such as methyl halide, ethyl halide, normal propyl halide, isopropyl halide, normal butyl halide, isopropyl halide, normal hexyl halide, 2-ethylhexyl halide, octyl halide, lauryl halide, stearyl halide, or Monochloroacetic acid salts such as sodium monochloroacetate and potassium monochloroacetate; monochloroacetic acid esters such as methyl monochloroacetate and ethyl monochloroacetate; and 3-chloro-2-hydroxypropyltrimethylammonium chloride. One of these cationizing agents may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.

これらの中でも反応性の高さや帯電防止性等の点で、第四級アンモニウム塩基がN,N−ジアルキルアミノ基をアルキルハライド、モノクロロ酢酸塩、モノクロロ酢酸エステル、及び3−クロロ−2−ヒドロキシプロピルトリメチルアンモニウムクロライドから選ばれるカチオン化剤で変性して得られたものが好ましく、より好ましくはアルキルクロライド、更に好ましくは炭素数1〜2のアルキルクロライド、特に好ましくはメチルクロライドで変性して得られたものである。   Among these, the quaternary ammonium base is an N, N-dialkylamino group as an alkyl halide, monochloroacetic acid salt, monochloroacetic ester, and 3-chloro-2-hydroxypropyl from the viewpoint of high reactivity, antistatic property, etc. Those obtained by modification with a cationizing agent selected from trimethyl ammonium chloride are preferred, more preferably alkyl chloride, still more preferably alkyl chloride having 1 to 2 carbon atoms, particularly preferably obtained by modification with methyl chloride It is a thing.

また、帯電防止剤14は、光重合性官能基を有していてもよい。本明細書における、「光重合性官能基」とは、光照射により架橋し得る官能基である。また、本明細書においては、光重合性官能基の数を、「官能数」として表すこともある。光重合性官能基としては、例えば、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性二重結合を有する基が挙げられる。「(メタ)アクリロイル基」とは、「アクリロイル基」および「メタクリロイル基」の両方を含む概念である。光重合性官能基を有する帯電防止剤を使用することにより、帯電防止性ハードコート層用組成物の硬化の際に、帯電防止剤と第1のアクリレートモノマー等とを架橋させることができる。この結果、帯電防止性ハードコート層の表面上への経時的な帯電防止剤のブリードアウトを効果的に防ぐことができる。なお、帯電防止剤が光重合性官能基を有する場合、帯電防止剤はモノマー等と架橋するので、帯電防止剤が帯電防止性ハードコート層の表面に存在していても、帯電防止剤が脱落しにくいので、耐擦傷性が低下しないとも考えることもできるが、実際には、帯電防止剤が帯電防止性ハードコート層の表面に存在している場合には、耐擦傷性試験を行うと、帯電防止剤が脱落してしまい、耐擦傷性が低下してしまう。   In addition, the antistatic agent 14 may have a photopolymerizable functional group. In the present specification, the "photopolymerizable functional group" is a functional group that can be crosslinked by light irradiation. Moreover, in this specification, the number of photopolymerizable functional groups may be expressed as "functional number". As a photopolymerizable functional group, the group which has ethylenic double bonds, such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group, an allyl group, is mentioned, for example. The “(meth) acryloyl group” is a concept including both “acryloyl group” and “methacryloyl group”. By using an antistatic agent having a photopolymerizable functional group, the antistatic agent and the first acrylate monomer can be crosslinked at the time of curing of the composition for antistatic hard coat layer. As a result, it is possible to effectively prevent the bleeding out of the antistatic agent over time onto the surface of the antistatic hard coat layer. When the antistatic agent has a photopolymerizable functional group, the antistatic agent crosslinks with the monomer and the like, so the antistatic agent falls off even when the antistatic agent is present on the surface of the antistatic hard coat layer. It can be considered that the abrasion resistance does not decrease because it is difficult to do so, but in fact, when the antistatic agent is present on the surface of the antistatic hard coat layer, the abrasion resistance test is carried out. The antistatic agent falls off and the scratch resistance is reduced.

帯電防止剤14の市販品としては、例えば、大成ファインケミカル社製の1SX3000やコルコート社製のコルコートNR121Xが挙げられる。   Examples of commercial products of the antistatic agent 14 include 1SX3000 manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd. and Corcoat NR121X manufactured by Corcoat Co., Ltd.

第四級アンモニウム塩基が塩素を含んでいる場合には、帯電防止性ハードコート層12における塩素濃度を測定することにより帯電防止性ハードコート層12中の第四級アンモニウム塩の含有量を特定することができる。具体的には、帯電防止性の観点から、帯電防止性ハードコート層12における塩素濃度は100ppm以上700ppm以下であることが好ましく、150ppm以上550ppm以下であることがより好ましい。700ppmを超えると、鹸化処理前においては帯電防止性は向上するが、鹸化処理後においては帯電防止性が悪化し、耐鹸化性としては劣る。帯電防止性ハードコート層12における塩素濃度は、例えば、燃焼−イオンクロマトグラフ法によって測定することができる。   When the quaternary ammonium base contains chlorine, the content of the quaternary ammonium salt in the antistatic hard coat layer 12 is specified by measuring the chlorine concentration in the antistatic hard coat layer 12 be able to. Specifically, from the viewpoint of antistatic property, the chlorine concentration in the antistatic hard coat layer 12 is preferably 100 ppm to 700 ppm, and more preferably 150 ppm to 550 ppm. When it exceeds 700 ppm, the antistatic property is improved before the saponification treatment, but the antistatic property is deteriorated after the saponification treatment, and the saponification resistance is inferior. The chlorine concentration in the antistatic hard coat layer 12 can be measured, for example, by combustion-ion chromatography.

<バインダ樹脂>
本実施形態のバインダ樹脂15は、後述する光重合性ウレタンオリゴマー、第1のアクリレートモノマー、第2のアクリレートモノマー、メタクリレートモノマーを含む混合物の硬化物である。なお、この混合物は、光重合性ウレタンオリゴマー、第1のアクリレートモノマー、および第2のアクリレートモノマーを含んでいればよく、メタクリレートモノマーを含んでいなくともよい。
<Binder resin>
The binder resin 15 of the present embodiment is a cured product of a mixture containing a photopolymerizable urethane oligomer described later, a first acrylate monomer, a second acrylate monomer, and a methacrylate monomer. The mixture may contain the photopolymerizable urethane oligomer, the first acrylate monomer, and the second acrylate monomer, and may not contain the methacrylate monomer.

帯電防止性ハードコート層は、単層構造のみならず、2層以上積層された積層構造のものであってもよい。図1に示される帯電防止性ハードコート層12は、単層構造となっており、図8に示される帯電防止性ハードコート層52は、積層構造となっている。   The antistatic hard coat layer may have not only a single layer structure but also a laminated structure in which two or more layers are laminated. The antistatic hard coat layer 12 shown in FIG. 1 has a single layer structure, and the antistatic hard coat layer 52 shown in FIG. 8 has a laminated structure.

帯電防止性ハードコート層12は、帯電防止性ハードコート層用組成物の硬化物からなる層である。帯電防止性ハードコート層用組成物は、例えば、上記帯電防止剤、4個以上の光重合性官能基を有する重量平均分子量が1,000以上70,000以下の光重合性ウレタンオリゴマー、アルキレンオキシド基を有さず、4個以上のアクリロイル基を有する重量平均分子量が400以上900以下の第1のアクリレートモノマー、アルキレンオキシド基および2個以上のアクリロイル基を有する重量平均分子量が150以上400未満の第2のアクリレートモノマー、2個以上のメタクリロイル基を有する重量平均分子量が300以上1,000以下のメタクリレートモノマー、浸透性溶剤、および重合開始剤を含んでいる。なお、帯電防止性ハードコート層用組成物は、上記帯電防止剤、上記光重合性ウレタンオリゴマー、上記第1のアクリレートモノマー、上記第2のアクリレートモノマー、上記浸透性溶剤を含んでいればよく、上記メタクリレートモノマー、および上記重合開始剤を含んでいなくともよい。   The antistatic hard coat layer 12 is a layer formed of a cured product of the composition for antistatic hard coat layer. The composition for antistatic hard coat layer includes, for example, the above-mentioned antistatic agent, a photopolymerizable urethane oligomer having a weight average molecular weight of 1,000 to 70,000 or less, and an alkylene oxide having 4 or more photopolymerizable functional groups. The first acrylate monomer having no group and having a weight average molecular weight of 400 to 900 having four or more acryloyl groups, the weight average molecular weight having an alkylene oxide group and two or more acryloyl groups is 150 to less than 400 A second acrylate monomer, a methacrylate monomer having a weight average molecular weight of 300 or more and 1,000 or less having two or more methacryloyl groups, a permeable solvent, and a polymerization initiator are included. The composition for antistatic hard coat layer may contain the above antistatic agent, the above photopolymerizable urethane oligomer, the above first acrylate monomer, the above second acrylate monomer, and the above permeable solvent. The methacrylate monomer and the polymerization initiator may not be contained.

帯電防止性ハードコート層用組成物においては、帯電防止剤14を確実に上部領域Rに存在させる観点、干渉縞の発生を確実に抑制する観点、および優れた硬度を確実に得る観点から、帯電防止性ハードコート層用組成物の全固形分の合計質量に対して、帯電防止剤14が0.01質量%以上6質量%以下、上記光重合性ウレタンオリゴマーが5質量%以上62質量%以下、上記第1のアクリレートモノマーが5質量%以上52質量%以下、上記第2のアクリレートモノマーが5質量%以上50質量%以下の割合で含まれていることが好ましい。   In the composition for antistatic hard coat layer, charging is performed from the viewpoint of ensuring that the antistatic agent 14 is present in the upper region R, the viewpoint of surely suppressing the occurrence of interference fringes, and the viewpoint of surely obtaining excellent hardness. The antistatic agent 14 is 0.01% by mass or more and 6% by mass or less, and the photopolymerizable urethane oligomer is 5% by mass or more and 62% by mass or less based on the total mass of the total solid content of the composition for hard coat layer prevention Preferably, the first acrylate monomer is contained in an amount of 5% by mass to 52% by mass, and the second acrylate monomer is contained in a proportion of 5% by mass to 50% by mass.

また、帯電防止剤14の含有量が、帯電防止性ハードコート層用組成物の全固形分の合計質量に対して、6質量%を超えると、帯電防止性は向上するが、鹸化処理後に帯電防止性能が悪化し耐鹸化性としては劣る。より優れた帯電防止性を得る観点から、帯電防止剤14の含有量の下限は、帯電防止性ハードコート層用組成物の全固形分の合計質量に対して、0.1質量%以上であることが好ましく、0.3質量%以上であることがより好ましい。また、より優れた耐擦傷性を得る観点から、帯電防止剤14の含有量の上限は、5質量%以下であることが好ましく、3質量%以下であることがより好ましい。   When the content of the antistatic agent 14 exceeds 6% by mass with respect to the total mass of the total solid content of the composition for antistatic hard coat layer, the antistatic property is improved, but charging after the saponification treatment The prevention performance is deteriorated and the saponification resistance is inferior. From the viewpoint of obtaining more excellent antistatic properties, the lower limit of the content of the antistatic agent 14 is 0.1% by mass or more based on the total mass of the total solid content of the composition for antistatic hard coat layer Is preferably 0.3% by mass or more. Moreover, from the viewpoint of obtaining more excellent scratch resistance, the upper limit of the content of the antistatic agent 14 is preferably 5% by mass or less, and more preferably 3% by mass or less.

上記光重合性ウレタンオリゴマーの含有量が、帯電防止性ハードコート層用組成物の全固形分の合計質量に対して、15質量%以上であると、優れた硬度を得ることができ、また低屈折率層との密着性を向上させることができる。また、上記光重合性ウレタンオリゴマーの含有量が、62質量%以下であると、第1のアクリレートモノマーや第2のアクリレートモノマーの割合を増やすことができるので、所望の厚さの混在領域を形成することができ、干渉縞の発生をより抑制することができる。光学フィルムのカールを抑制する観点から、光重合性ウレタンオリゴマーの含有量の下限は、帯電防止性ハードコート層用組成物の全固形分の合計質量に対して、60%質量以下であることが好ましい。   Excellent hardness can be obtained when the content of the photopolymerizable urethane oligomer is 15% by mass or more based on the total mass of the total solid content of the composition for antistatic hard coat layer, and low The adhesion to the refractive index layer can be improved. Moreover, since the ratio of a 1st acrylate monomer and a 2nd acrylate monomer can be increased as content of the said photopolymerizable urethane oligomer is 62 mass% or less, the mixed area | region of desired thickness is formed. And the generation of interference fringes can be further suppressed. From the viewpoint of suppressing the curling of the optical film, the lower limit of the content of the photopolymerizable urethane oligomer is 60% by mass or less based on the total mass of the total solid content of the composition for antistatic hard coat layer preferable.

上記第1のアクリレートモノマーの含有量が、帯電防止性ハードコート層用組成物の全固形分の合計質量に対して、5質量%以上52質量%以下であると、光学フィルムのカールを抑制しつつ、硬度に優れた帯電防止性ハードコート層を得ることができる。光学フィルムのカールを抑制する観点から、第1のアクリレートモノマーの含有量の上限は、帯電防止性ハードコート層用組成物の全固形分の合計質量に対して、50質量%以下であることが好ましい。   The curling of the optical film is suppressed when the content of the first acrylate monomer is 5% by mass or more and 52% by mass or less based on the total mass of the total solid content of the composition for antistatic hard coat layer At the same time, an antistatic hard coat layer excellent in hardness can be obtained. From the viewpoint of suppressing the curl of the optical film, the upper limit of the content of the first acrylate monomer is 50% by mass or less based on the total mass of the total solid content of the composition for antistatic hard coat layer preferable.

上記第2のアクリレートモノマーの含有量は、帯電防止性ハードコート層用組成物の全固形分の合計質量に対して、5質量%以上50質量%以下であると、干渉縞およびカールの発生を抑制することができる。より耐擦傷性を向上させる観点から、第2のアクリレートモノマーの含有量の上限は、帯電防止性ハードコート層用組成物の全固形分の合計質量に対して、45質量%以下であることが好ましい。   When the content of the second acrylate monomer is 5% by mass or more and 50% by mass or less with respect to the total mass of the total solid content of the composition for antistatic hard coat layer, generation of interference fringes and curling It can be suppressed. From the viewpoint of further improving the abrasion resistance, the upper limit of the content of the second acrylate monomer is 45% by mass or less based on the total mass of the total solid content of the composition for antistatic hard coat layer preferable.

メタクリレートモノマーの含有量は、帯電防止性ハードコート層用組成物の全固形分の合計質量に対して、5質量%以上30質量%以下であることが好ましい。この範囲が好ましいとしたのは、メタクリレートモノマーの含有量が、5質量%未満であると、密着性を向上させることができないおそれがあり、また、30質量%を超えて添加すると、硬度が低下するおそれがあるからである。   The content of the methacrylate monomer is preferably 5% by mass or more and 30% by mass or less based on the total mass of the total solid content of the antistatic hard coat layer composition. If the content of the methacrylate monomer is less than 5% by mass, adhesion may not be improved, and if it exceeds 30% by mass, the hardness is lowered. There is a risk of

<光重合性ウレタンオリゴマー>
光重合性ウレタンオリゴマーは、帯電防止性ハードコート層用組成物の硬化後にバインダ樹脂15の成分となるものである。上記したように光重合性ウレタンオリゴマーは、4個以上の光重合性官能基を有する重量平均分子量が1,000以上70,000以下のオリゴマーである。
<Photopolymerizable urethane oligomer>
The photopolymerizable urethane oligomer is a component of the binder resin 15 after curing of the composition for antistatic hard coat layer. As described above, the photopolymerizable urethane oligomer is an oligomer having a weight average molecular weight of 1,000 or more and 70,000 or less having four or more photopolymerizable functional groups.

光重合性ウレタンオリゴマーは4個以上の光重合性官能基を有するものであるが、光重合性官能基が4個以上であると、優れた硬度を得ることができる。また帯電防止性ハードコート層上に低屈折率層を備える場合には低屈折率層との密着性を向上させることができるので、鹸化処理の際の低屈折率層の剥がれを抑制することができる。光重合性ウレタンオリゴマーは6個以上の光重合性官能基を有することが好ましい。   The photopolymerizable urethane oligomer has 4 or more photopolymerizable functional groups, but when the photopolymerizable functional group is 4 or more, excellent hardness can be obtained. Further, when the low refractive index layer is provided on the antistatic hard coat layer, the adhesion to the low refractive index layer can be improved, so that the peeling of the low refractive index layer in the saponification treatment can be suppressed. it can. The photopolymerizable urethane oligomer preferably has 6 or more photopolymerizable functional groups.

光重合性ウレタンオリゴマーは重量平均分子量が1,000以上70,000以下のものであるが、光重合性ウレタンオリゴマーの重量平均分子量が上記範囲内であると、優れた硬度を得ることができる。光重合性ウレタンオリゴマーは重量平均分子量が1,000以上50,000以下のものが好ましい。   The photopolymerizable urethane oligomer has a weight average molecular weight of 1,000 or more and 70,000 or less, and when the weight average molecular weight of the photopolymerizable urethane oligomer is in the above range, excellent hardness can be obtained. The photopolymerizable urethane oligomer preferably has a weight average molecular weight of 1,000 or more and 50,000 or less.

光重合性ウレタンオリゴマーとしては、例えば、ウレタン(メタ)アクリレートが挙げられる。ウレタン(メタ)アクリレートとしては、例えば、下記式[1]で表されるイソシアヌル酸骨格を有する(メタ)アクリロイル基が15官能のウレタン(メタ)アクリレートが挙げられる。

Figure 0006536106
(式[1]中、Acは(メタ)アクリロイル基であり、R−(Ac)はジペンタエリスリトールが有する6個のヒドロキシル基のうち5個のヒドロキシル基の水素原子が(メタ)アクリロイル基Acで置き換わった5官能(メタ)アクリレート基である。) As a photopolymerizable urethane oligomer, urethane (meth) acrylate is mentioned, for example. Examples of the urethane (meth) acrylate include urethane (meth) acrylate having a 15-functional (meth) acryloyl group having an isocyanuric acid skeleton represented by the following formula [1].
Figure 0006536106
(In the formula [1], Ac is a (meth) acryloyl group, and R- (Ac) 5 is a (meth) acryloyl group in which the hydrogen atoms of five hydroxyl groups among six hydroxyl groups possessed by dipentaerythritol are It is a pentafunctional (meth) acrylate group replaced by Ac.)

光重合性ウレタンオリゴマーは、市販品を用いても良く、市販品としては例えば、日本合成化学工業株式会社製のUV1700Bや新中村化学工業株式会社製のU−15HA等が挙げられる。   A commercial item may be used for a photopolymerizable urethane oligomer, and as a commercial item, for example, UV 1700 B manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., U-15 HA manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., and the like can be mentioned.

<第1のアクリレートモノマー>
第1のアクリレートモノマーは、帯電防止性ハードコート層用組成物の硬化後にバインダ樹脂15の成分となるものである。第1のアクリレートモノマーは、上記したように、アルキレンオキシド基を有さず、4個以上のアクリロイル基を有する重量平均分子量が400以上900以下のモノマーである。なお、第1のアクリレートモノマーがアルキレンオキシド基を有すると、硬度に劣り、また分子量が大きくなるとアクリロイル基の割合が少なくなるので、低屈折率層との密着性に劣ってしまう。
<First Acrylate Monomer>
The first acrylate monomer is a component of the binder resin 15 after curing of the antistatic hard coat layer composition. As described above, the first acrylate monomer is a monomer having no alkylene oxide group and having a weight average molecular weight of 400 or more and 900 or less having four or more acryloyl groups. If the first acrylate monomer has an alkylene oxide group, the hardness will be inferior, and if the molecular weight is large, the proportion of acryloyl groups will be small, so the adhesion to the low refractive index layer will be poor.

第1のアクリレートモノマーは4個以上のアクリロイル基を有するものであるが、アクリロイル基の数が4個以上であると、優れた硬度を得ることができ、また帯電防止性ハードコート層上に低屈折率層等を形成した場合に、低屈折率層等の密着性を向上させることができる。   The first acrylate monomer has four or more acryloyl groups, but when the number of acryloyl groups is four or more, excellent hardness can be obtained, and it is low on the antistatic hard coat layer. When the refractive index layer or the like is formed, the adhesion of the low refractive index layer or the like can be improved.

具体的には、第1のアクリレートモノマーとしては、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、トリペンタエリスリトールオクタアクリレート、テトラペンタエリスリトールデカアクリレート、ジグリセリンテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレートが挙げられる。   Specifically, examples of the first acrylate monomer include dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, tripentaerythritol octaacrylate, tetrapentaerythritol decaacrylate, diglycerin tetraacrylate, and ditrimethylolpropane tetraacrylate. .

これらの中でも硬度が高い帯電防止性ハードコート層を得る観点から、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)等が好ましい。   Among these, dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA) and the like are preferable from the viewpoint of obtaining an antistatic hard coat layer having high hardness.

<第2のアクリレートモノマー>
上記第2のアクリレートモノマーは、帯電防止性ハードコート層用組成物の硬化後にバインダ樹脂15の成分となるものである。第2のアクリレートモノマーは、上記したように、アルキレンオキシド基および2個以上の光重合性官能基を有する重量平均分子量が150以上400未満のモノマーである。第2のアクリレートモノマーの重量平均分子量の下限は、500以下であるものが好ましい。上記「アルキレンオキシド基」とは、エポキシ環が開環したものを意味するものとする。
<Second acrylate monomer>
The second acrylate monomer is to be a component of the binder resin 15 after curing of the composition for antistatic hard coat layer. As described above, the second acrylate monomer is a monomer having an alkylene oxide group and two or more photopolymerizable functional groups and having a weight average molecular weight of 150 or more and less than 400. The lower limit of the weight average molecular weight of the second acrylate monomer is preferably 500 or less. The above "alkylene oxide group" means that an epoxy ring is opened.

第2のアクリレートモノマーのアルキレンオキシド基としては、例えばエチレンオキシド基(−CH−CH−O−)、プロピレンオキシド基((−CH−CH−CH−O−)、(−CH−CH(CH)−O−)、または(−CH(CH)−CH−O−))が挙げられる。上記mは1〜6の整数を表し、nおよびpは1〜2の整数を表し、qは1〜4の整数を表す。第2のアクリレートモノマーにおいては、アルキレンオキシド基と、アルキレンオキシド基以外の部分とを合わせた分子量が400未満であれば、アルキレンオキシド基の数は問わない。第2のアクリレートモノマーが、アルキレンオキシド基を有することにより、帯電防止性ハードコート層用組成物中において、帯電防止剤を安定的に存在させることができる。 As an alkylene oxide group of the second acrylate monomer, for example, ethylene oxide group (-CH 2 -CH 2 -O-) m , propylene oxide group ((-CH 2 -CH 2 -CH 2 -O-) n , (- CH 2 -CH (CH 3) -O- ) p, or (-CH (CH 3) -CH 2 -O-) q) are mentioned. The m represents an integer of 1 to 6, n and p represent an integer of 1 to 2, and q represents an integer of 1 to 4. In the second acrylate monomer, the number of alkylene oxide groups does not matter as long as the combined molecular weight of the alkylene oxide group and the portion other than the alkylene oxide group is less than 400. When the second acrylate monomer has an alkylene oxide group, an antistatic agent can be stably present in the composition for antistatic hard coat layer.

第2のアクリレートモノマーは2個以上のアクリロイル基を有するものである。第2のアクリレートモノマーにおけるアクリロイル基の数を2個以上としたのは、アクリロイル基の数が1個(1官能)であると、硬度に劣り、また乾燥・紫外線照射工程で飛散するおそれあるからである。また、皮膚刺激性が強く、安全性に欠けるおそれがある。また、第2のアクリレートモノマーのアクリロイル基は4個以下であることが好ましい。   The second acrylate monomer is one having two or more acryloyl groups. The reason why the number of acryloyl groups in the second acrylate monomer is 2 or more is that the hardness is inferior when the number of acryloyl groups is one (one function) and there is a risk of scattering in the drying / ultraviolet irradiation step. It is. In addition, skin irritation may be strong, and safety may be lost. Further, the number of acryloyl groups of the second acrylate monomer is preferably 4 or less.

具体的には、第2のアクリレートモノマーとしては、プロピレンオキシド変性ジアクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド(EO)変性ジおよびトリアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート等が挙げられる。なお、プロピレンオキシド変性ジアクリレートにおけるプロピレンオキシドやイソシアヌル酸エチレンオキシド(EO)変性ジおよびトリアクリレートにおけるエチレンオキシドは、エポキシ環が開環した状態で分子中に存在している。   Specifically, as the second acrylate monomer, propylene oxide-modified diacrylate, ethylene oxide (EO) isocyanurate-modified di- and triacrylate, diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, trimethylolpropane Triacrylate etc. are mentioned. The propylene oxide in the propylene oxide-modified diacrylate and the ethylene oxide in the ethylene oxide (EO) -modified di and triacrylates of isocyanuric acid are present in the molecule in the state where the epoxy ring is opened.

第2のアクリレートモノマーの市販品としては、例えば、東亜合成株式会社製のM−240が挙げられる。   As a commercial item of the 2nd acrylate monomer, M-240 by Toagosei Co., Ltd. is mentioned, for example.

[メタクリレートモノマー]
メタクリレートモノマーは、帯電防止性ハードコート層用組成物の硬化後にバインダ樹脂15の成分となるものである。メタクリレートモノマーは、上記したように2個以上のメタクリロイル基を有する重量平均分子量が300以上1,000以下のモノマーである。
[Methacrylate monomer]
The methacrylate monomer is to be a component of the binder resin 15 after curing of the antistatic hard coat layer composition. The methacrylate monomer is a monomer having a weight average molecular weight of 300 or more and 1,000 or less having two or more methacryloyl groups as described above.

メタクリレートモノマーはメタクリロイル基を有するものであるが、メタクリロイル基を有することにより、後述するように帯電防止性ハードコート層12と低屈折率層13との密着性を向上させることができる。   The methacrylate monomer has a methacryloyl group, but the presence of the methacryloyl group can improve the adhesion between the antistatic hard coat layer 12 and the low refractive index layer 13 as described later.

メタクリレートモノマーは2個以上のメタクリロイル基を有するものであるが、メタクリレートモノマーにおけるメタクリロイル基の数を2個以上としたのは、メタクリロイル基の数が1個(1官能)であると、硬度に劣り、また乾燥・紫外線照射工程で飛散するおそれあるからである。また、皮膚刺激性が強く、安全性に欠けるおそれがある。   The methacrylate monomer has two or more methacryloyl groups, but the reason why the number of methacryloyl groups in the methacrylate monomer is two or more is inferior in hardness when the number of methacryloyl groups is one (one function). Also, it is likely to be scattered in the drying / ultraviolet irradiation step. In addition, skin irritation may be strong, and safety may be lost.

メタクリレートモノマーは重量平均分子量が300以上1,000以下のものであるが、重量平均分子量が上記範囲内であると、帯電防止性ハードコート層の硬度を向上させることができる。メタクリレートモノマーは重量平均分子量が300以上900以下のものが好ましい。   The methacrylate monomer has a weight average molecular weight of 300 or more and 1,000 or less. When the weight average molecular weight is within the above range, the hardness of the antistatic hard coat layer can be improved. The methacrylate monomer preferably has a weight average molecular weight of 300 or more and 900 or less.

具体的には、メタクリレートモノマーとしては、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、トリペンタエリスリトールオクタメタクリレート、テトラペンタエリスリトールデカメタクリレート、ジグリセリンテトラメタクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタクリレート等が挙げられる。   Specifically, as methacrylate monomers, trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, dipentaerythritol pentamethacrylate, tripentaerythritol octamethacrylate, tetrapentaerythritol decamethacrylate, diglycerin tetramethacrylate, Ditrimethylolpropane tetramethacrylate and the like can be mentioned.

これらの中でも、硬度を向上させる観点や帯電防止剤との相性の悪さによって帯電防止剤を上部領域に存在させることができる観点から、トリメチロールプロパントリメタクリレート等が好ましい。   Among these, trimethylolpropane trimethacrylate and the like are preferable from the viewpoint of improving the hardness and from the viewpoint that the antistatic agent can be present in the upper region due to the incompatibility with the antistatic agent.

<浸透性溶剤>
浸透性溶剤は、光透過性基材11に対して浸透性が高く、光透過性基材11を溶解または膨潤させる溶剤である。浸透性溶剤を用いることにより、光透過性基材11に浸透性溶剤のみならず、第1のアクリレートモノマーや第2のアクリレートモノマーをも浸透させることができる。
<Permeable solvent>
The permeable solvent is a solvent that has high permeability to the light transmitting substrate 11 and dissolves or swells the light transmitting substrate 11. By using a permeable solvent, not only the permeable solvent but also the first acrylate monomer and the second acrylate monomer can be permeated into the light transmitting substrate 11.

浸透性溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコール、シクロヘプタノン、ジエチルケトン等のケトン類;蟻酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、乳酸エチル等の沸点が85℃未満のエステル類;ニトロメタン、アセトニトリル、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド等の含窒素化合物;メチルグリコール、メチルグリコールアセテート等のグリコール類;テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、ジオキソラン、ジイソプロピルエーテル等の沸点が100℃未満のエーテル類;塩化メチレン、クロロホルム、テトラクロルエタン等のハロゲン化炭化水素;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のグリコールエーテル類;その他、ジメチルスルホキシド、炭酸プロピレンが挙げられる。また、これらの混合物であってもよい。これらの中でも、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル及びメチルエチルケトンからなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましい。   Examples of the osmotic solvent include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone (MEK), cyclohexanone, methyl isobutyl ketone, diacetone alcohol, cycloheptanone and diethyl ketone; methyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate , Esters having a boiling point of less than 85 ° C. such as ethyl lactate; nitrogen-containing compounds such as nitromethane, acetonitrile, N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide; glycols such as methyl glycol and methyl glycol acetate; Ethers having a boiling point of less than 100 ° C. such as 4-dioxane, dioxolane and diisopropyl ether; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform and tetrachloroethane; methyl cellosolve, ethyl cellosolve, Cellosolve, glycol ethers such as cellosolve acetate and the like; dimethyl sulfoxide, propylene carbonate. Moreover, these mixtures may be sufficient. Among these, at least one selected from the group consisting of methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate and methyl ethyl ketone is preferable.

浸透性溶剤の添加量は、帯電防止性ハードコート層用組成物の全固形分100質量部に対して、50質量部以上500質量部以下であることが好ましい。浸透性溶剤の添加量が50質量部以上であると、浸透性溶剤が充分に光透過性基材に浸透し、干渉縞の発生をより抑制でき、また、500質量部以下であると、浸透性溶剤が、光透過性基材を必要以上に溶解又は膨潤させるおそれがなく、光学フィルムとして優れた硬度を得ることができる。   The addition amount of the permeable solvent is preferably 50 parts by mass or more and 500 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the total solid content of the composition for antistatic hard coat layer. When the amount of the permeable solvent added is 50 parts by mass or more, the permeable solvent sufficiently penetrates the light transmitting substrate to further suppress the generation of interference fringes, and when the amount is 500 parts by mass or less There is no possibility that the organic solvent dissolves or swells the light transmitting substrate more than necessary, and an excellent hardness as an optical film can be obtained.

<重合開始剤>
重合開始剤は、光照射により分解されて、ラジカルを発生して第1のアクリレートモノマー等の架橋を開始または進行させる成分である。
<Polymerization initiator>
The polymerization initiator is a component that is decomposed by light irradiation to generate radicals to initiate or promote crosslinking of the first acrylate monomer or the like.

重合開始剤は、光照射によりラジカル重合を開始させる物質を放出することが可能であれば特に限定されない。重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ケタール類、アントラキノン類、ジスルフィド化合物類、チウラム化合物類、フルオロアミン化合物類等が挙げられる。より具体的には、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、ベンジルジメチルケトン、1−(4−ドテシルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、ベンゾフェノン等を例示できる。これらの中でも、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン、及び2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オンは、少量でも光照射による重合反応を開始または促進することができるので、好ましい。重合開始剤は、以上に示したいずれか一つを単独で、又は、複数を組み合わせて用いることができる。   The polymerization initiator is not particularly limited as long as it can release a substance that initiates radical polymerization by light irradiation. Examples of the polymerization initiator include acetophenones, benzophenones, ketals, anthraquinones, disulfide compounds, thiuram compounds, fluoroamine compounds and the like. More specifically, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl ketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, benzyl dimethyl ketone, 1- (4-do Tesylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methyl Propan-1-one, benzophenone and the like can be exemplified. Among these, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl ketone and 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one initiate polymerization reaction by light irradiation even in small amounts or It is preferable because it can be promoted. As the polymerization initiator, any one of the above-described ones can be used alone or in combination.

重合開始剤の市販品としては、例えば、BASFジャパン社製のイルガキュア(登録商標)184(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン)、イルガキュア(登録商標)907(2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン)、イルガキュア(登録商標)127(2−ヒドロキシ−1[4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル]−2−メチル−プロパン−1−オン)、ルシリン(登録商標)TPO(2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド)等が挙げられる。   As a commercial item of the polymerization initiator, for example, Irgacure (registered trademark) 184 (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone) manufactured by BASF Japan Ltd., Irgacure (registered trademark) 907 (2-methyl-1- (4-) Methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one), Irgacure® 127 (2-hydroxy-1 [4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] phenyl]- 2-methyl-propan-1-one), Lucillin (registered trademark) TPO (2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide), and the like.

帯電防止性ハードコート層用組成物に、その他、必要に応じて、浸透抑制溶剤、易滑剤、分散剤等を含ませてもよい。   The composition for antistatic hard coat layer may further contain a permeation suppressing solvent, a lubricant, a dispersant, and the like, if necessary.

<浸透抑制溶剤>
浸透抑制溶剤は、浸透性溶剤の光透過性基材11への浸透を適度に抑制するための成分である。すなわち、浸透性溶剤を用いると、光透過性基材の種類によっては、浸透性溶剤により光透過性基材が過度に荒らされてしまい、白化してしまうおそれがあるので、浸透性溶剤と併せて、浸透性抑制溶剤を用いることにより、光透過性基材が過度に荒らされることを抑制できる。浸透抑制溶剤としては、沸点が85℃以上125℃以下のエステル類や沸点が100℃以上150℃以下のエーテル類等が挙げられる。
<Permeation control solvent>
The permeation suppression solvent is a component for appropriately suppressing the permeation of the permeation solvent into the light transmitting substrate 11. That is, depending on the type of the light-transmissive substrate, the use of the permeable solvent may cause the light-transmissive substrate to be excessively roughened by the permeable solvent and cause whitening. By using the permeation suppressing solvent, it is possible to suppress the light transmissive substrate from being excessively roughened. Examples of the permeation suppressing solvent include esters having a boiling point of 85 ° C. or more and 125 ° C. or less, and ethers having a boiling point of 100 ° C. or more and 150 ° C. or less.

沸点が85℃以上125℃以下のエステル類としては、沸点が85℃以上110℃以下のものが好ましい。またこのようなエステル類の中でも、重量平均分子量が80以上110以下のものが好ましく、90以上105以下のものがより好ましい。エステル類としては、沸点が80℃以上125℃以下のものであれば、特に限定されないが、このようなエステル類としては、例えば、酢酸イソプロピル(沸点:88.6℃、重量平均分子量:102.13)、炭酸ジメチル(沸点:90℃、重量平均分子量:90.08)、炭酸エチルメチル(沸点:107℃、重量平均分子量:104.1)、が挙げられる。   As ester having a boiling point of 85 ° C. or more and 125 ° C. or less, one having a boiling point of 85 ° C. or more and 110 ° C. or less is preferable. Further, among such esters, those having a weight average molecular weight of 80 or more and 110 or less are preferable, and those having 90 or more and 105 or less are more preferable. The esters are not particularly limited as long as they have a boiling point of 80 ° C. or more and 125 ° C. or less. Examples of such esters include isopropyl acetate (boiling point: 88.6 ° C., weight average molecular weight: 102. 13), dimethyl carbonate (boiling point: 90 ° C., weight average molecular weight: 90.08), ethyl methyl carbonate (boiling point: 107 ° C., weight average molecular weight: 104.1).

沸点が100℃以上150℃以下のエーテル類としては、重量平均分子量が100以上150以下のものが好ましく、120以上140以下のものがより好ましい。このようなエーテル類としては、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(沸点:146℃、重量平均分子量:132.16)等が挙げられる。   As ethers having a boiling point of 100 ° C. or more and 150 ° C. or less, those having a weight average molecular weight of 100 or more and 150 or less are preferable, and those with 120 or more and 140 or less are more preferable. Examples of such ethers include propylene glycol monomethyl ether acetate (boiling point: 146 ° C., weight average molecular weight: 132.16) and the like.

<易滑剤>
易滑剤(アンチブロッキング剤)は、ロール状態にするなど帯電防止性ハードコート層12と光透過性基材11とを重ね合わせた際の貼り付きを防止する成分である。易滑剤としては、従来公知の易滑剤を使用することができ、例えば、平均一次粒径100nm以上1000nm以下の特開2004−284126号公報に記載のシリカ等の無機化合物の微粒子及び高密度ポリエチレンや、ポリスチレン、ポリスチレンアクリル等の有機化合物の微粒子を用いることができる。易滑剤の含有量は、ハードコート層用組成物の全固形分の合計質量に対して、0.1質量%以上5質量%以下であることが好ましい。
<Easy lubricant>
A lubricant (anti-blocking agent) is a component that prevents sticking when the antistatic hard coat layer 12 and the light transmitting substrate 11 are superimposed, for example, in a roll state. As the lubricant, conventionally known lubricants can be used. For example, fine particles of inorganic compounds such as silica described in JP-A No. 2004-284126 having an average primary particle diameter of 100 nm or more and 1000 nm or less and high density polyethylene Fine particles of organic compounds such as polystyrene and polystyrene acryl can be used. The content of the lubricant is preferably 0.1% by mass or more and 5% by mass or less based on the total mass of the total solid content of the composition for a hard coat layer.

<<低屈折率層>>
低屈折率層13は、外部からの光(例えば蛍光灯、自然光等)が光学フィルム10の表面にて反射する際に、その反射率を低下させるためのものである。低屈折率層13は帯電防止性ハードコート層12よりも低い屈折率を有する。具体的には、例えば、低屈折率は、1.45以下の屈折率を有することが好ましく、1.42以下の屈折率を有することがより好ましい。低屈折率層13の屈折率は、上記帯電防止ハードコート層12の屈折率と同様の方法によって測定することができる。
<< Low refractive index layer >>
The low refractive index layer 13 is for reducing the reflectance when light from the outside (for example, a fluorescent lamp, natural light, etc.) is reflected on the surface of the optical film 10. The low refractive index layer 13 has a lower refractive index than the antistatic hard coat layer 12. Specifically, for example, the low refractive index preferably has a refractive index of 1.45 or less, more preferably 1.42 or less. The refractive index of the low refractive index layer 13 can be measured by the same method as the refractive index of the antistatic hard coat layer 12 described above.

低屈折率層13の厚みは、限定されないが、通常は30nm以上1μm以下の範囲内から適宜設定すれば良い。低屈折率層13の厚みd(nm)は、下記式(1)を満たすものが好ましい。
d=mλ/(4n) …(1)
上記式中、nは低屈折率層の屈折率を表し、mは正の奇数を表し、好ましくは1であり、λは波長であり、好ましくは480nm以上580nm以下の範囲の値である。
Although the thickness of the low refractive index layer 13 is not limited, in general, it may be suitably set from the range of 30 nm or more and 1 μm or less. The thickness d (nm) of the low refractive index layer 13 preferably satisfies the following formula (1).
d = mλ / (4n) (1)
In the above formula, n represents the refractive index of the low refractive index layer, m represents a positive odd number, preferably is 1, and λ is the wavelength, preferably a value in the range of 480 nm to 580 nm.

低屈折率層13は、低反射率化の観点から、下記式(2)を満たすものが好ましい。
120<nd<145 …(2)
The low refractive index layer 13 preferably has the following formula (2) from the viewpoint of lowering the reflectance.
120 <nd <145 (2)

低屈折率層の膜厚は、低屈折率層の断面を透過型電子顕微鏡(TEM、STEM)で観察(倍率は1万倍以上であることが好ましい)することにより求めることができる。具体的には、透過型電子顕微鏡の画像を用い、1画像の中で3箇所低屈折率層の膜厚を計測し、これを5画像分行い、計測された膜厚の平均値を算出する。   The film thickness of the low refractive index layer can be determined by observing the cross section of the low refractive index layer with a transmission electron microscope (TEM, STEM) (the magnification is preferably 10,000 times or more). Specifically, using the image of a transmission electron microscope, the film thickness of three low refractive index layers in one image is measured, this is performed for five images, and the average value of the measured film thicknesses is calculated. .

低屈折率層は単層で効果が得られるが、より低い最低反射率、あるいはより高い最低反射率を調整する目的で、低屈折率層を2層以上設けることも適宜可能である。2層以上の低屈折率層を設ける場合、各々の低屈折率層の屈折率及び厚みに差異を設けることが好ましい。   Although the low refractive index layer is effective in a single layer, it is also possible to appropriately provide two or more low refractive index layers for the purpose of adjusting a lower minimum reflectance or a higher minimum reflectance. When providing two or more low refractive index layers, it is preferable to provide a difference in the refractive index and thickness of each low refractive index layer.

低屈折率層13としては、光硬化性低屈折率層用組成物の硬化物からなる層を用いることができる。光硬化性低屈折率層用組成物は、光照射によって硬化して低屈折率層となる組成物であり、例えば、(1)空隙を有する微粒子および金属フッ化物の少なくともいずれかとフッ素非含有光重合性化合物とを含む組成物、(2)フッ素含有光重合性化合物を含む組成物、または(3)空隙を有する微粒子および金属フッ化物の少なくともいずれかとフッ素含有光重合性化合物とを含む組成物が挙げられる。ここで、本明細書においては、「光重合性化合物」とは、光重合性モノマー、光重合性オリゴマー、光重合性プレポリマーのうち少なくともいずれかを意味するものである。   As the low refractive index layer 13, a layer formed of a cured product of the photocurable low refractive index layer composition can be used. The composition for a photocurable low refractive index layer is a composition which is cured by light irradiation to form a low refractive index layer, and, for example, (1) fine particles having voids and at least one of metal fluoride and non-fluorinated light A composition containing a polymerizable compound, (2) a composition containing a fluorine-containing photopolymerizable compound, or (3) a fine particle having a void and a composition containing at least one of a metal fluoride and a fluorine-containing photopolymerizable compound Can be mentioned. Here, in the present specification, the “photopolymerizable compound” means at least one of a photopolymerizable monomer, a photopolymerizable oligomer, and a photopolymerizable prepolymer.

(1)空隙を有する微粒子および金属フッ化物の少なくともいずれかとフッ素非含有光重合性化合物とを含む組成物
<空隙を有する微粒子>
空隙を有する微粒子は、屈折率を低下させるための成分である。空隙を有する微粒子は、微細な空隙を外部や内部に有しており、この空隙に例えば屈折率1.0の空気などの気体が充填されているために屈折率を低下させることができる。このような空隙を有する微粒子としては、無機系または有機系の多孔質微粒子、中空微粒子等が挙げられる。具体的には、多孔質シリカ微粒子、中空シリカ微粒子、アクリル樹脂等を用いて形成された多孔質ポリマー微粒子や中空ポリマー微粒子が挙げられる。
(1) Composition containing fine particles having voids and at least one of metal fluorides and fluorine-free photopolymerizable compounds <fine particles having voids>
The fine particles having voids are a component for reducing the refractive index. The fine particles having voids have fine voids inside and outside, and since the voids, for example, are filled with a gas such as air having a refractive index of 1.0, the refractive index can be reduced. As fine particles having such voids, inorganic or organic porous fine particles, hollow fine particles and the like can be mentioned. Specifically, porous polymer fine particles and hollow polymer fine particles formed using porous silica fine particles, hollow silica fine particles, acrylic resin and the like can be mentioned.

「多孔質シリカ微粒子」は多孔質構造を有するシリカ微粒子であり、「中空シリカ微粒子」は内部に気体が充填された構造のシリカ微粒子である。多孔質シリカ微粒子および中空シリカ微粒子は、気体の占有率に反比例して屈折率が低くなるので、一般的なシリカ微粒子の屈折率よりも屈折率が低い。具体的には、一般的なシリカ微粒子の屈折率が1.45程度であるのに対し、多孔質シリカ微粒子や中空シリカ微粒子の屈折率は1.20〜1.44程度である。このため、多孔質シリカ微粒子や中空シリカ微粒子は、低屈折率化の観点から好ましい。   The "porous silica fine particles" are silica fine particles having a porous structure, and the "hollow silica fine particles" are silica fine particles of a structure filled with a gas inside. The refractive index of the porous silica fine particles and the hollow silica fine particles is lower than the refractive index of the general silica fine particles because the refractive index is low in inverse proportion to the occupancy of the gas. Specifically, while the refractive index of general silica fine particles is about 1.45, the refractive index of porous silica fine particles and hollow silica fine particles is about 1.20 to 1.44. For this reason, porous silica fine particles and hollow silica fine particles are preferable from the viewpoint of lowering the refractive index.

中空シリカ微粒子としては特に限定されないが、例えば特開2001−233611号公報で開示されている技術を用いて形成された中空シリカ微粒子が好ましい。中空シリカ微粒子は、製造が容易でそれ自身の硬度が高いため、バインダ樹脂と混合して低屈折率層を形成した場合、低屈折率層の強度を向上させることができる。   The hollow silica fine particles are not particularly limited, but hollow silica fine particles formed using the technique disclosed in, for example, JP-A-2001-233611 are preferable. The hollow silica fine particles are easy to manufacture and have high hardness of their own, and therefore, when they are mixed with a binder resin to form a low refractive index layer, the strength of the low refractive index layer can be improved.

また、微粒子としては、その形態、構造、凝集状態、膜内部での分散状態により、内部および/または表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子も好ましい。   Further, as the fine particles, fine particles capable of forming a nanoporous structure in at least a part of the inside and / or the surface are also preferable depending on the form, structure, aggregation state, and dispersion state inside the film.

このような微粒子としては、上記したシリカの微粒子や、比表面積を大きくすることを目的として製造され、充填用カラムおよび表面の多孔質部に各種化学物質を吸収させる除放材、触媒固定用に使用される多孔質微粒子、または断熱材や低誘電材に用いられることを目的とする中空微粒子の分散体や凝集体等が挙げられる。具体的には、例えば、日本シリカ工業株式会社製のNipsil、Nipgelや日産化学工業株式会社製のコロイダルシリカUPシリーズ等が挙げられる。   Such fine particles are manufactured for the purpose of increasing the specific surface area, fine particles of the above-mentioned silica, release materials that allow various chemical substances to be absorbed in the packing column and the porous part of the surface, and for fixing the catalyst Examples thereof include porous fine particles to be used, and dispersions and aggregates of hollow fine particles intended to be used for heat insulating materials and low dielectric materials. Specific examples thereof include Nipsil and Nipgel manufactured by Nippon Silica Kogyo Co., Ltd., and colloidal silica UP series manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., and the like.

空隙を有する微粒子の一次粒子の平均粒径は、5nm以上200nm以下が好ましく、5nm以上100nm以下がより好ましく、10nm以上80nm以下がさらに好ましい。空隙を有する微粒子の平均粒径が上記範囲内であれば、低屈折率層の透明性を損なうことがなく、良好な微粒子の分散状態が得られる。また、本発明においては、平均粒径が上記範囲内にあれば、微粒子が鎖状に連なっていてもよい。   5 nm or more and 200 nm or less are preferable, as for the average particle diameter of the primary particle of the microparticles | fine-particles which has a space | gap, 5 nm or more and 100 nm or less are more preferable, and 10 nm or more and 80 nm or less are more preferable. If the average particle diameter of the fine particles having voids is within the above range, good transparency of the fine particles can be obtained without impairing the transparency of the low refractive index layer. Further, in the present invention, if the average particle diameter is in the above range, the fine particles may be chained.

空隙を有する微粒子は、表面処理されたものであることが好ましい。表面処理としては、シランカップリング剤を用いた表面処理が挙げられる。シランカップリング剤を用いた表面処理の中でも、(メタ)アクリロイル基を有するシランカップリング剤を用いた表面処理が好ましい。微粒子に表面処理を施すことにより、フッ素非含有光重合性化合物との親和性が向上し、微粒子の分散を均一化することができる。これにより、空隙を有する微粒子同士の凝集が生じにくくなるので、大粒径化による低屈折率層の透明化の低下や、光硬化性低屈折率層用組成物の塗布性、光硬化性低屈折率層用組成物の塗膜強度の低下を抑制することができる。   The fine particles having voids are preferably surface-treated. As surface treatment, surface treatment using a silane coupling agent is mentioned. Among surface treatments using a silane coupling agent, surface treatments using a silane coupling agent having a (meth) acryloyl group are preferable. By subjecting the particles to a surface treatment, the affinity with the fluorine-free photopolymerizable compound is improved, and the dispersion of the particles can be made uniform. This makes it difficult to cause aggregation of the fine particles having voids, so that the transparency of the low refractive index layer is reduced due to the increase in particle diameter, the coatability of the photocurable low refractive index layer composition, and the photocurable property is low. It is possible to suppress the decrease in the coating film strength of the composition for the refractive index layer.

シランカップリング剤が(メタ)アクリロイル基を有する場合、このシランカップリング剤は光重合性を有するため、フッ素非含有光重合性化合物と容易に架橋する。これにより、空隙を有する微粒子がバインダ樹脂中に固定される。その結果、バインダ樹脂が本来有する柔軟性を残したまま、防汚剤含有層に優れた表面硬度を付与することが可能となる。したがって、低屈折率層の柔軟性をいかして低屈折率層が変性するので、外部衝撃に対する吸収力や、復元力に優れている。これにより、傷の発生をさらに抑制することができのるので、より耐擦傷性に優れた光学フィルムを提供することができる。   When the silane coupling agent has a (meth) acryloyl group, the silane coupling agent is photopolymerizable and thus easily crosslinks with a fluorine-free photopolymerizable compound. Thereby, the fine particles having voids are fixed in the binder resin. As a result, it is possible to impart an excellent surface hardness to the antifouling agent-containing layer while leaving the flexibility originally possessed by the binder resin. Therefore, since the low refractive index layer is denatured by utilizing the flexibility of the low refractive index layer, it is excellent in the absorbing ability against external impact and the restoring force. As a result, the occurrence of scratches can be further suppressed, and thus an optical film having more excellent scratch resistance can be provided.

シランカップリング剤としては、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、2−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、2−(メタ)アクリロキシプロピルエトキシシラン等が挙げられる。シランカップリング剤としては、紫外線硬化型のシランカップリング剤が好ましい。   As a silane coupling agent, 3- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropyltriethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3- (meth) acryloxy Propylmethyldiethoxysilane, 2- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, 2- (meth) acryloxypropylethoxysilane and the like can be mentioned. As a silane coupling agent, the ultraviolet curing type silane coupling agent is preferable.

空隙を有する微粒と空隙を有さない微粒子(中実微粒子)と組み合わせて用いることも好ましい。空隙を有する微粒子で屈折率の低下を図り、空隙を有さない微粒子で表面硬度の向上を図ることができるからである。この場合、空隙を有する微粒子と空隙を有さない微粒子との配合比(質量比)は、1〜15:1が好ましく、1〜11:1がより好ましく、1〜9:1がさらに好ましく、1〜8:1が特に好ましい。   It is also preferable to use in combination with fine particles having voids and fine particles having no voids (solid fine particles). It is because the refractive index can be reduced by the fine particles having voids, and the surface hardness can be improved by the fine particles having no voids. In this case, the compounding ratio (mass ratio) of the fine particles having voids to the fine particles having no voids is preferably 1 to 15: 1, more preferably 1 to 11: 1, and still more preferably 1 to 9: 1, 1-8: 1 are particularly preferred.

空隙を有する微粒子の含有量は、フッ素非含有光重合性化合物100質量部に対して0.8質量部以上2.5質量部以下が好ましく、0.9質量部以上2.4質量部がより好ましく、1.0以上2.3以下がさらに好ましい。空隙を有する微粒子の含有量がフッ素非含有光重合性化合物100質量部に対して0.8質量部以上であれば反射率の上昇を抑制でき、また光重合性化合物100質量部に対して2.5質量部以下であれば耐擦傷性の低下を抑制できる。   The content of the fine particles having voids is preferably 0.8 parts by mass or more and 2.5 parts by mass or less, and more preferably 0.9 parts by mass or more and 2.4 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the fluorine-free photopolymerizable compound. Preferably, 1.0 or more and 2.3 or less are more preferable. If the content of the fine particles having voids is 0.8 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the fluorine-free photopolymerizable compound, the increase in reflectance can be suppressed, and 2 with respect to 100 parts by mass of the photopolymerizable compound If it is 5 parts by mass or less, the decrease in scratch resistance can be suppressed.

<金属フッ化物>
金属フッ化物は、屈折率を低下させるための成分である。金属フッ化物としては、例えば、フッ化マグネシウムやフッ化ナトリウムが挙げられる。
<Metal fluoride>
Metal fluoride is a component for reducing the refractive index. As a metal fluoride, magnesium fluoride and sodium fluoride are mentioned, for example.

<フッ素非含有光重合性化合物>
フッ素非含有光重合性化合物は、低屈折率層13の耐擦傷性を向上させるための成分である。フッ素非含有光重合性化合物は、フッ素原子を含有せず、かつ光重合性官能基を有するものである。フッ素非含有光重合性化合物としては、特に限定されないが、表面硬度、低屈折率層と帯電防止性ハードコート層との密着性の点で、光重合性官能基が2個以上の光重合性化合物が好ましく、より好ましくは光重合性官能基が3個以上9個以下の重合性化合物が好ましい。
<Fluorine-free photopolymerizable compound>
The fluorine-free photopolymerizable compound is a component for improving the scratch resistance of the low refractive index layer 13. The non-fluorine-containing photopolymerizable compound does not contain a fluorine atom and has a photopolymerizable functional group. The fluorine-free photopolymerizable compound is not particularly limited, but in view of surface hardness and adhesion between the low refractive index layer and the antistatic hard coat layer, the photopolymerizable compound has two or more photopolymerizable functional groups. Compounds are preferred, and more preferred are polymerizable compounds having 3 to 9 photopolymerizable functional groups.

これらの中でも、フッ素非含有光重合性化合物としてヒドロキシル基を分子中に有さないものを用いた場合には、耐鹸化性をより向上させることができるので、ヒドロキシル基を分子中に有さないフッ素非含有光重合性化合物が好ましい。   Among these, when a compound having no hydroxyl group in the molecule is used as the fluorine-free photopolymerizable compound, since it is possible to further improve the saponification resistance, the molecule does not have the hydroxyl group in the molecule. Non-fluorinated photopolymerizable compounds are preferred.

ヒドロキシル基を分子中に有さないフッ素非含有光重合性モノマーとしては、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート等の2官能(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸変性トリ(メタ)アクリレート等の3官能(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート等の4官能(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の6官能(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Examples of fluorine-free photopolymerizable monomers having no hydroxyl group in the molecule include hexanediol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (Meth) acrylate, difunctional (meth) acrylate such as neopentyl glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trifunctional (meth) acrylate such as isocyanuric acid modified tri (meth) acrylate, pentaerythritol Examples thereof include tetrafunctional (meth) acrylates such as tetra (meth) acrylate, and hexafunctional (meth) acrylates such as dipentaerythritol hexa (meth) acrylate.

ヒドロキシル基を分子中に有さないフッ素非含有光重合性オリゴマーやプレポリマーとしては、ポリエステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル−ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、ポリオール(メタ)アクリレート、メラミン(メタ)アクリレート、イソシアヌレート(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート等が挙げられる。   As non-fluorine-containing photopolymerizable oligomers and prepolymers having no hydroxyl group in the molecule, polyester (meth) acrylates, urethane (meth) acrylates, polyester-urethane (meth) acrylates, polyether (meth) acrylates, polyols Examples include (meth) acrylate, melamine (meth) acrylate, isocyanurate (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate and the like.

フッ素非含有光重合性化合物としては、ヒドロキシル基を分子中に有さないフッ素非含有光重合性化合物のみからなることが、耐鹸化性の点で最も好ましい。ただ、耐鹸化性を損なわない範囲内であれば、耐擦傷性、塗工適性などの物性調整等のために、ヒドロキシル基を分子中に有するフッ素非含有光重合性化合物を使用することができる。この場合、耐擦傷性の点で、ヒドロキシル基を分子中に有するフッ素非含有光重合性化合物としては、光重合性官能基が2個以上のフッ素非含有光重合性化合物(多官能フッ素非含有光重合性化合物)が好ましい。   As the non-fluorine-containing photopolymerizable compound, it is most preferable from the viewpoint of saponification resistance that the non-fluorine-containing photopolymerizable compound does not have a hydroxyl group in the molecule. However, within the range that does not impair the saponification resistance, it is possible to use a non-fluorine-containing photopolymerizable compound having a hydroxyl group in the molecule for adjusting physical properties such as scratch resistance and coating suitability. . In this case, as a non-fluorine-containing photopolymerizable compound having a hydroxyl group in the molecule from the viewpoint of scratch resistance, a non-fluorine-containing photopolymerizable compound having two or more photopolymerizable functional groups (polyfunctional fluorine-free Photopolymerizable compounds) are preferred.

分子中に1個のヒドロキシル基を有する多官能フッ素非含有光重合性モノマーとしては、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート(TMPDA)、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート(PETA)、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート(DPPA)等が挙げられる。また、分子中に2個のヒドロキシル基を有する多官能フッ素非含有光重合性モノマーとしては、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート(DPTA)が挙げられる。   As a polyfunctional fluorine-free photopolymerizable monomer having one hydroxyl group in the molecule, trimethylolpropane di (meth) acrylate (TMPDA), pentaerythritol tri (meth) acrylate (PETA), dipentaerythritol penta ( Meta) acrylate (DPPA) etc. are mentioned. Further, as a polyfunctional fluorine-free photopolymerizable monomer having two hydroxyl groups in the molecule, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate (DPTA) can be mentioned.

このように、ヒドロキシル基を分子中に有する多官能フッ素非含有光重合性化合物の場合、ヒドロキシル基が分子中に占める割合が大きいものは、耐鹸化性の点で好ましくない。そのため、なるべく、光硬化性低屈折率層用組成物の全量中における、ヒドロキシル基の割合が少ない方が、より確実に耐鹸化性をよくできる点で好ましい。   Thus, in the case of a polyfunctional fluorine-free photopolymerizable compound having a hydroxyl group in the molecule, one having a large proportion of the hydroxyl group in the molecule is not preferable in view of saponification resistance. Therefore, it is preferable that the proportion of the hydroxyl group in the total amount of the photocurable low refractive index layer composition be as small as possible, because the saponification resistance can be improved more surely.

そこで、本実施形態では、ヒドロキシル基を分子中に有する多官能フッ素非含有光重合性化合物の場合、ヒドロキシル基(OH基)が分子中に占める割合の指標として、1分子中に含まれるヒドロキシル基の数を分子量で除して100倍した値を「ヒドロキシル基含有率」として定義する。   Therefore, in the present embodiment, in the case of a polyfunctional fluorine-free photopolymerizable compound having a hydroxyl group in the molecule, the hydroxyl group contained in one molecule as an index of the ratio of the hydroxyl group (OH group) in the molecule The value obtained by dividing the number of H by the molecular weight by 100 times is defined as "hydroxyl group content".

ここで、ヒドロキシル基含有率の具体例を示せば、上記ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート(PETA)は、OH基数1で分子量298で0.33、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(DPPA)は、OH基数1で分子量約550で0.18である。   Here, to give a specific example of the hydroxyl group content, the above-mentioned pentaerythritol tri (meth) acrylate (PETA) has an OH group number of 1, a molecular weight of 298 and 0.33, and dipentaerythritol pentaacrylate (DPPA) has an OH group number And a molecular weight of about 550 and 0.18.

ヒドロキシル基含有率は、0.2以下が好ましい。多官能フッ素非含有光重合性化合物として、その1分子中に含有するヒドロキシル基の数が、ヒドロキシル基含有率で0.2以下の化合物を用いることによって、好ましい耐鹸化性が得られる。ヒドロキシル基含有率は1分子に対する指標であるが、光硬化性低屈折率層用組成物が、複数の多官能フッ素非含有光重合性化合物の混合物である場合、これら複数の多官能フッ素非含有光重合性化合物の全体として、ヒドロキシル基含有率を0.2以下とするのが好ましい。また、多官能フッ素非含有光重合性化合物の分子量が単一ではなく分布を有する場合は、上記計算式中の分子量に重量平均分子量を使う。   The hydroxyl group content is preferably 0.2 or less. By using a compound having a hydroxyl group content of 0.2 or less as the number of hydroxyl groups contained in one molecule as the polyfunctional fluorine-free photopolymerizable compound, preferable saponification resistance can be obtained. The hydroxyl group content is an index for one molecule, but when the composition for the photocurable low refractive index layer is a mixture of a plurality of polyfunctional fluorine-free photopolymerizable compounds, the plurality of polyfunctional fluorine-free compounds are included. As a whole of the photopolymerizable compound, it is preferable to set the hydroxyl group content to 0.2 or less. When the molecular weight of the polyfunctional fluorine-free photopolymerizable compound is not single but has a distribution, a weight average molecular weight is used as the molecular weight in the above formula.

光硬化性低屈折率層用組成物に含まれる多官能フッ素非含有光重合性化合物の分子量は、耐擦傷性の点から300〜1,000とするのが良い。分子量が小さすぎても、大きすぎても耐擦傷性が低下する。   The molecular weight of the polyfunctional fluorine-free photopolymerizable compound contained in the photocurable low refractive index layer composition is preferably 300 to 1,000 from the viewpoint of scratch resistance. If the molecular weight is too small or too large, the scratch resistance is reduced.

また、光硬化性低屈折率層用組成物には、物性調整等のために、多官能フッ素非含有光重合性化合物の他に、ヒドロキシル基を分子中に有さない1個の光重合性官能基を有するフッ素非含有光重合性化合物(単官能フッ素非含有光重合性化合物)を併用しても良い。ヒドロキシル基を分子中に有さない単官能重合性モノマーとしては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、メチルヘキシル(メタ)アクリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート等が挙げられる。   In addition, in the composition for a photocurable low refractive index layer, for the purpose of adjusting physical properties and the like, in addition to the polyfunctional fluorine-free photopolymerizable compound, one photopolymerizable having no hydroxyl group in the molecule You may use together the fluorine non-containing photopolymerizable compound (monofunctional fluorine non-containing photopolymerizable compound) which has a functional group. Examples of monofunctional polymerizable monomers having no hydroxyl group in the molecule include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, methylhexyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate and the like.

(2)フッ素含有光重合性化合物を含む組成物
<フッ素含有光重合性化合物>
フッ素含有光重合性化合物は、屈折率を低下させるための成分である。フッ素含有光重合性化合物は、フッ素原子を含有し、かつ光重合性官能基を有するものである。フッ素含有光重合性化合物としては、例えば、フルオロオレフィン類(例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロブタジエン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール等)が挙げられる。(メタ)アクリロイルオキシ基を有するものとしては、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロブチル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロヘキシル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロオクチル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロデシル)エチル(メタ)アクリレート、α−トリフルオロメタクリル酸メチル、α−トリフルオロメタクリル酸エチルのような、分子中にフッ素原子を有する(メタ)アクリレート化合物や、分子中に、フッ素原子を少なくとも3個持つ炭素数1〜14のフルオロアルキル基、フルオロシクロアルキル基又はフルオロアルキレン基と、少なくとも2個の(メタ)アクリロイルオキシ基とを有するフッ素含有多官能(メタ)アクリル酸エステル化合物等もある。
(2) Composition Containing Fluorine-Containing Photopolymerizable Compound <Fluorine-Containing Photopolymerizable Compound>
The fluorine-containing photopolymerizable compound is a component for reducing the refractive index. The fluorine-containing photopolymerizable compound contains a fluorine atom and has a photopolymerizable functional group. Examples of fluorine-containing photopolymerizable compounds include fluoroolefins (eg fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluorobutadiene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole, etc. Can be mentioned. As those having a (meth) acryloyloxy group, 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl (meth) acrylate, 2- (perfluorobutyl) ) Ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorohexyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorooctyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorodecyl) ethyl (meth) acrylate, α-trifluoro (Meth) acrylate compounds having a fluorine atom in the molecule, such as methyl methacrylate and α-trifluoroethyl methacrylate, or a fluoroalkyl group having 1 to 14 carbon atoms, having at least 3 fluorine atoms in the molecule, A fluorocycloalkyl group or a fluoroalkylene group, and at least two There are also fluorine-containing polyfunctional (meth) acrylic acid ester compounds having a (meth) acryloyloxy group and the like.

上記(1)〜(3)の組成物には、熱で硬化可能な熱硬化性樹脂、光でも熱でも硬化しない熱可塑性樹脂を含ませてもよい。熱硬化性樹脂としては、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられ、熱可塑性樹脂としては、アクリル系樹脂、熱可塑性ウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、スチレン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ビニル系樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられる。セルロース系樹脂としては、ニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース等が挙げられる。   The compositions (1) to (3) may contain a thermosetting resin that can be cured by heat, and a thermoplastic resin that is not cured by light or heat. The thermosetting resin may, for example, be a urethane resin, a melamine resin, a phenol resin or a silicone resin. The thermoplastic resin may, for example, be an acrylic resin, a thermoplastic urethane resin, a polyamide resin or a styrene resin. Cellulose resin, polycarbonate resin, vinyl resin, silicone resin etc. are mentioned. Examples of the cellulose-based resin include nitrocellulose, acetyl cellulose, cellulose acetate propionate, and ethyl hydroxyethyl cellulose.

さらに、上記(1)〜(3)の組成物には、重合開始剤、溶剤を含ませてもよい。重合開始剤や溶剤としては上記帯電防止性ハードコート層用組成物の欄で記載した化合物を用いることができる。また、塗工適性、低屈折率化剤の分散安定性等の物性調整のために、公知の各種添加剤を添加してもよい。このような添加剤としては、例えば、レベリング剤、分散安定剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、屈折率調整剤等が挙げられる。   Furthermore, the composition of said (1)-(3) may be made to contain a polymerization initiator and a solvent. As the polymerization initiator and the solvent, the compounds described in the section of the composition for antistatic hard coat layer can be used. In addition, various known additives may be added to adjust physical properties such as coating suitability and dispersion stability of the low refractive index forming agent. As such an additive, a leveling agent, a dispersion stabilizer, an antistatic agent, an ultraviolet absorber, an antioxidant, a refractive index regulator etc. are mentioned, for example.

<<光学フィルムの物性>>
鹸化処理前の光学フィルム10の表面抵抗値は、1×1011Ω/□以下であり、より優れた帯電防止性を得る観点から1×1010Ω/□以下であることがより好ましい。また、鹸化処理前の光学フィルムの表面抵抗値に対する鹸化処理後の光学フィルムの表面抵抗値の割合(鹸化処理後の表面抵抗値/鹸化処理前の表面抵抗値)は、500以下であることが好ましい。鹸化処理は、光学フィルムを、1.5〜4.5規定に調整された40℃〜70℃のNaOHまたはKOH水溶液に15秒〜5分浸漬することにより行われる。表面抵抗値の測定に使用できる機器としては、株式会社三菱化学アナリテック製のハイレスタUP−HT450等が挙げられる。
<< Physical Properties of Optical Film >>
The surface resistance value of the optical film 10 before the saponification treatment is 1 × 10 11 Ω / sq or less, and more preferably 1 × 10 10 Ω / sq or less from the viewpoint of obtaining more excellent antistatic properties. The ratio of the surface resistance of the optical film after saponification to the surface resistance of the optical film before saponification (the surface resistance after saponification / the surface resistance before saponification) is 500 or less preferable. The saponification treatment is carried out by immersing the optical film in a 40 ° C. to 70 ° C. NaOH or KOH aqueous solution adjusted to 1.5 to 4.5 N for 15 seconds to 5 minutes. As an apparatus which can be used for the measurement of surface resistance value, Hiresta UP-HT450 made from Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd. etc. is mentioned.

鹸化処理前の光学フィルム10の全光線透過率は、優れた光透過性を得る観点から90%以上であることが好ましく、92%以上であることがより好ましい。また、鹸化処理後であっても、光学フィルム10の全光線透過率は、90%以上であることが好ましく、92%以上であることがより好ましい。全光線透過率はJIS K7361に従って測定する。全光線透過率の測定に使用できる機器としては、村上色彩技術研究所製のHM−150等が挙げられる。   The total light transmittance of the optical film 10 before the saponification treatment is preferably 90% or more, more preferably 92% or more, from the viewpoint of obtaining excellent light transmittance. In addition, even after the saponification treatment, the total light transmittance of the optical film 10 is preferably 90% or more, and more preferably 92% or more. The total light transmittance is measured in accordance with JIS K7361. As an apparatus which can be used for measurement of total light transmittance, HM-150 made by Murakami Color Research Laboratory, etc. may be mentioned.

鹸化処理前の光学フィルム10のヘイズ値は、優れた透明性を得る観点から、1.0%以下であることが好ましく、0.7%以下であることがより好ましい。また、鹸化処理後であっても、光学フィルム10のヘイズ値は、1.0%以下であることが好ましく、0.7%以下であることがより好ましい。ヘイズ値はJIS K7136に従って測定する。全光線透過率およびヘイズ値の測定に使用できる機器としては、村上色彩技術研究所製のHM−150等が挙げられる。   The haze value of the optical film 10 before the saponification treatment is preferably 1.0% or less, more preferably 0.7% or less, from the viewpoint of obtaining excellent transparency. In addition, even after the saponification treatment, the haze value of the optical film 10 is preferably 1.0% or less, and more preferably 0.7% or less. The haze value is measured in accordance with JIS K7136. As an apparatus which can be used for measurement of a total light transmittance and a haze value, HM-150 etc. made from Murakami Color Research Laboratory are mentioned.

鹸化処理前の光学フィルム10の耐スチールウール摩耗性は、低屈折率層を備える場合には低屈折率層の表面を、また低屈折率層を備えない場合には帯電防止性ハードコート層の表面をスチールウール♯0000(製品名:ボンスター、日本スチールウール株式会社製)を用い、荷重を加えながら、速度100mm/秒で10往復擦った場合に傷がないことが好ましい。この場合、300g/cmの荷重で傷がないことが好ましく、さらには500g/cm以上の荷重で傷がないことがより好ましい。また、鹸化処理後であっても、光学フィルムは、鹸化処理前と同様の耐スチールウール摩耗性を有していることが好ましい。 The steel wool abrasion resistance of the optical film 10 before saponification treatment is determined by using the surface of the low refractive index layer when the low refractive index layer is provided and the antistatic hard coat layer when the low refractive index layer is not provided. It is preferable that the surface is scratched when rubbed back and forth 10 times at a speed of 100 mm / sec while applying load using steel wool # 0000 (product name: Bonstar, manufactured by Nippon Steel Wool Co., Ltd.). In this case, it is preferable that no damage occurs at a load of 300 g / cm 2 , and more preferably no damage occurs at a load of 500 g / cm 2 or more. In addition, even after the saponification treatment, the optical film preferably has the same steel wool abrasion resistance as that before the saponification treatment.

このような光学フィルム10は、例えば、以下のような方法によって得ることができる。まず、光透過性基材上11に、上記帯電防止性ハードコート層用組成物の塗膜16を形成する(図3A)。帯電防止性ハードコート層用組成物の塗膜16は、帯電防止性ハードコート層用組成物を光透過性基材11上に塗布することにより形成することができる。ハードコート層用組成物を塗布する方法としては、スピンコート、ディップ法、スプレー法、スライドコート法、バーコート法、ロールコート法、グラビアコート法、ダイコート法等の公知の塗布方法が挙げられる。   Such an optical film 10 can be obtained, for example, by the following method. First, the coating 16 of the composition for antistatic hard coat layer is formed on the light transmitting substrate 11 (FIG. 3A). The coating film 16 of the composition for antistatic hard coat layer can be formed by applying the composition for antistatic hard coat layer on the light transmitting substrate 11. Examples of the method for applying the composition for hard coat layer include known coating methods such as spin coating, dipping, spraying, slide coating, bar coating, roll coating, gravure coating, and die coating.

光透過性基材11上に上記帯電防止性ハードコート層用組成物の塗膜16を形成すると、光透過性基材1の上部に一部の浸透性溶剤ならびに一部の第1のアクリレートモノマーおよび第2のアクリレートモノマーが浸透し、図3Aに示されるように光透過性基材11の上部に、硬化後混在領域11Aとなる浸透領域11Bが形成される。なお、帯電防止剤14や光重合性ウレタンオリゴマーは重量平均分子量が大きいため、光透過性基材11中には浸透しない。   When the coating film 16 of the composition for antistatic hard coat layer is formed on the light transmitting substrate 11, a part of the permeable solvent and a part of the first acrylate monomer are formed on the upper part of the light transmitting substrate 1. The second acrylate monomer penetrates, and as shown in FIG. 3A, the permeation region 11B which becomes the mixed region 11A after curing is formed on the light transmissive substrate 11. The antistatic agent 14 and the photopolymerizable urethane oligomer do not penetrate into the light transmitting substrate 11 because the weight average molecular weight is large.

次いで、例えば30℃以上100℃以下で15秒以上塗膜16を乾燥させる。これにより、浸透性溶剤を除去する。塗膜16を乾燥させた後、例えば、塗膜16に積算光量が10mJ/cm以上100mJ/cm以下となるように光を照射して塗膜を半硬化(ハーフキュア)する(図3B)。ここで、本明細書における「塗膜」を硬化させる際に塗膜に照射される「光」としては、可視光線、並びに紫外線、X線、電子線、α線、β線、およびγ線のような電離放射線が挙げられる。また、「半硬化」とは、帯電防止性ハードコート層用組成物の塗膜を更に加熱および/または帯電防止性ハードコート層用組成物の塗膜に更に光を照射した場合には、硬化が実質的に進行する状態を意味する。 Next, for example, the coating film 16 is dried at 30 ° C. or more and 100 ° C. or less for 15 seconds or more. This removes the permeable solvent. After the coating film 16 is dried, for example, light is irradiated to the coating film 16 so that the integrated light quantity is 10 mJ / cm 2 or more and 100 mJ / cm 2 or less to semi-cure (half cure) the coating film (FIG. 3B) ). Here, as the "light" irradiated to the coating film when curing the "coating film" in the present specification, visible light, and ultraviolet light, X-ray, electron beam, alpha ray, beta ray, and gamma ray Such ionizing radiation is mentioned. In addition, “semi-curing” refers to curing when the coating of the composition for antistatic hard coat layer is further heated and / or the coating of the composition for antistatic hard coat layer is further irradiated with light. Means substantially progressing state.

塗膜16を半硬化させる光として紫外線を用いる場合には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等から発せられる紫外線等が利用できる。紫外線の波長としては、190nm以上380nm以下の波長域を使用することができる。これらの中でも高圧水銀灯が好ましく、上記波長域の範囲によって、混在領域の厚みを所望の厚みに調整することができる。   When ultraviolet light is used as light for semi-curing the coating film 16, ultraviolet light emitted from an ultrahigh pressure mercury lamp, high pressure mercury lamp, low pressure mercury lamp, carbon arc, xenon arc, metal halide lamp, etc. can be used. As a wavelength of an ultraviolet-ray, the wavelength range of 190 to 380 nm can be used. Among these, a high pressure mercury lamp is preferable, and the thickness of the mixed region can be adjusted to a desired thickness by the range of the above-mentioned wavelength range.

塗膜16を半硬化すると、主に、上記光重合性ウレタンオリゴマー、上記第1のアクリレートモノマー、および上記第2のアクリレートモノマーは架橋するが、上記メタクリレートモノマーは反応性に劣るので、架橋せずに塗膜16中にメタクリレートモノマーとして残存する。   When the coating film 16 is semi-cured, mainly, the photopolymerizable urethane oligomer, the first acrylate monomer, and the second acrylate monomer are crosslinked, but the methacrylate monomer is inferior in reactivity, so it is not crosslinked. In the coating film 16 as a methacrylate monomer.

次いで、半硬化した塗膜16上に、光硬化性低屈折率層用組成物の塗膜17を形成する(図4A)。光硬化性低屈折率層用組成物の塗膜17は、帯電防止性ハードコート層用組成物の塗膜16と同様の方法によって形成することができる。   Next, a coating 17 of the composition for a photocurable low refractive index layer is formed on the semi-cured coating 16 (FIG. 4A). The coating film 17 of the photocurable low refractive index layer composition can be formed by the same method as the coating film 16 of the antistatic hard coat layer composition.

その後、塗膜16、17に、例えば、積算光量が100mJ/cm以上500mJ/cm以下となるように光を照射して塗膜16、17を完全硬化(フルキュア)する(図4B)。本明細書において、「完全硬化」とは、帯電防止性ハードコート層用組成物の塗膜および光硬化性低屈折率層用組成物の塗膜を更に加熱および/またはこれらの塗膜に更に光を照射してもそれ以上硬化が実質的に進行せず、硬化の結果、所望の硬度を有する状態となっていることを意味する。これにより、混在領域11A、帯電防止性ハードコート層12および低屈折率層13が形成され、図1に示される光学フィルム10を得ることができる。 Thereafter, light is irradiated to the coating films 16 and 17 so that, for example, the integrated light amount is 100 mJ / cm 2 or more and 500 mJ / cm 2 or less, and the coating films 16 and 17 are completely cured (full cure) (FIG. 4B). In the present specification, "completely cured" means that the coating of the composition for antistatic hard coat layer and the coating of the composition for photocurable low refractive index layer are further heated and / or further applied to these coatings. Even when irradiated with light, it means that curing does not substantially proceed, and as a result of curing, it has a desired hardness. As a result, the mixed region 11A, the antistatic hard coat layer 12 and the low refractive index layer 13 are formed, and the optical film 10 shown in FIG. 1 can be obtained.

なお、上記の方法では、塗膜16を半硬化させた後に、半硬化させた塗膜16上に光硬化性低屈折率層用組成物の塗膜17を形成し、その後塗膜16、17を完全硬化させているが、これは望ましい形態であり、塗膜16を完全硬化させて帯電防止性ハードコート層12を形成し、その後帯電防止性ハードコート層12上に光硬化性低屈折率層用組成物の塗膜17を形成し、塗膜17を完全硬化させてもよい。   In the above method, after the coating film 16 is semi-cured, the coating film 17 for the photocurable low refractive index layer composition is formed on the semi-cured coating film 16 and then the coatings 16, 17 Is fully cured, which is a desirable form, and is fully cured of the coating 16 to form the antistatic hardcoat layer 12 and then photocurable low refractive index on the antistatic hardcoat layer 12 A coating 17 of the layer composition may be formed, and the coating 17 may be completely cured.

また、上記の方法では、低屈折率層13を備える光学フィルム10の製造方法について記載しているが、低屈折率層を備えない光学フィルムを得る場合には、帯電防止性ハードコート層用組成物の塗膜を形成した後に、この塗膜を完全硬化する。   Although the above method describes the method for producing the optical film 10 provided with the low refractive index layer 13, when an optical film not provided with the low refractive index layer is to be obtained, the composition for the antistatic hard coat layer After forming a coating of the article, the coating is completely cured.

本実施の形態の光学フィルム10においては、帯電防止剤14が、帯電防止性ハードコート層12の表面12Aからの深さが0.2μm以上2.0μm未満の上部領域Rに存在しているので、光学フィルム10の表面抵抗値を1×1011Ω/□以下とすることができる。また、帯電防止剤14は、帯電防止性ハードコート層12の表面12Aに存在していないので、光学フィルム10に鹸化処理を施した場合であっても、帯電防止剤14が脱落しにくい。したがって、表面抵抗値が1×1011Ω/□以下の光学フィルム10に鹸化処理を施した場合であっても、表面抵抗値の低下を抑制でき、優れた帯電防止性を維持できる。また、光学フィルム10に鹸化処理を施した場合であっても、帯電防止剤14が脱落しにくいので、優れた耐擦傷性を維持することができる。これにより、鹸化処理を施した場合であっても、優れた帯電防止性および耐擦傷性を維持できる光学フィルム10を提供することができる。 In the optical film 10 of the present embodiment, the antistatic agent 14 is present in the upper region R having a depth of 0.2 μm or more and less than 2.0 μm from the surface 12A of the antistatic hard coat layer 12. The surface resistance value of the optical film 10 can be 1 × 10 11 Ω / □ or less. In addition, since the antistatic agent 14 is not present on the surface 12 A of the antistatic hard coat layer 12, even when the optical film 10 is subjected to the saponification treatment, the antistatic agent 14 is unlikely to come off. Therefore, even when the optical film 10 having a surface resistance value of 1 × 10 11 Ω / □ or less is subjected to a saponification treatment, the reduction of the surface resistance value can be suppressed and the excellent antistatic property can be maintained. In addition, even when the optical film 10 is subjected to a saponification treatment, the antistatic agent 14 is unlikely to come off, so excellent scratch resistance can be maintained. Thus, it is possible to provide the optical film 10 capable of maintaining excellent antistatic property and scratch resistance even when saponification treatment is performed.

本実施形態においては、帯電防止性ハードコート層12が、帯電防止剤14と、上記光重合性ウレタンオリゴマーと、上記第1のアクリレートモノマーと、上記第2のアクリレートモノマーと、上記浸透性溶剤とを含む帯電防止性ハードコート層用組成物を用いて形成されているので、光学フィルム10の表面抵抗値を1×1011Ω/□以下とすることができるとともに、帯電防止剤14を上部領域Rに存在させることができる。これは、以下の理由からであると考えられる。すなわち、第2のアクリレートモノマーは、重量平均分子量が小さく、かつ第1のアクリレートモノマーと比較すると、直鎖状の部分が多い構造を有するため、光透過性基材11上に帯電防止性ハードコート層用組成物の塗膜16を形成すると、第2のアクリレートモノマーが第1のアクリレートモノマーよりも先に光透過性基材11に浸透する。一方で、第1のアクリレートモノマーは浸透性溶剤の作用によって光透過性基材11側に移動するが、第1のアクリレートモノマーは、若干分子量が大きく、かつ分子構造的に第2のアクリレートモノマーよりも嵩高いので、第2のアクリレートモノマーよりは光透過性基材11に浸透しにくい。このため、第1のアクリレートモノマーの一部は光透過性基材11に浸透するが、第1のアクリレートモノマーの多くは、浸透しないで塗膜16中の下部に存在するので、結果として帯電防止剤14が塗膜16の上部に存在するようになる。このように、帯電防止剤14が塗膜16の上部に存在するようになるので、光学フィルム10の表面抵抗値を1×1011Ω/□以下とすることができる。一方、帯電防止剤、光重合性ウレタンオリゴマー、第1のアクリレートモノマー、第2のアクリレートモノマーを含む組成物と、光重合性ウレタンオリゴマーを含まず、帯電防止剤、第1のアクリレートモノマー、および第2のアクリレートモノマーを含む組成物をそれぞれ用いて帯電防止性ハードコート層を形成するという実験を行ったところ、光重合性ウレタンオリゴマーを含む組成物を用いて形成された帯電防止性ハードコート層は、光重合性ウレタンオリゴマーを含まない組成物を用いて形成されたハードコート層に比べて、鹸化処理後の表面抵抗値および耐擦傷性が優れていた。この理由は定かではないが、光重合性ウレタンオリゴマーと帯電防止剤との分子構造上の差によって、光重合性ウレタンオリゴマーが帯電防止剤よりも帯電防止性ハードコート層の表面側に位置しやすいからであると推測される。そして、この実験結果から、帯電防止剤は帯電防止性ハードコート層の表面には存在しないと推測できる。したがって、上記光重合性ウレタンオリゴマーと、上記第1のアクリレートモノマーと、上記第2のアクリレートモノマーと、上記浸透性溶剤とを少なくとも含む帯電防止性ハードコート層用組成物を用いることによって、帯電防止剤14を上部領域Rに存在させることができる。 In the present embodiment, the antistatic hard coat layer 12 includes the antistatic agent 14, the photopolymerizable urethane oligomer, the first acrylate monomer, the second acrylate monomer, and the permeable solvent. And the surface resistance value of the optical film 10 can be made 1 × 10 11 Ω / □ or less, and the antistatic agent 14 is formed in the upper region. It can be present in R. This is considered to be due to the following reasons. That is, since the second acrylate monomer has a structure having a smaller weight average molecular weight and more linear portions as compared to the first acrylate monomer, the antistatic hard coat is formed on the light transmitting substrate 11 When the coating 16 of the layer composition is formed, the second acrylate monomer penetrates the light transmitting substrate 11 before the first acrylate monomer. On the other hand, the first acrylate monomer moves to the light transmitting substrate 11 by the action of the permeable solvent, but the first acrylate monomer has a slightly larger molecular weight and is molecularly structurally higher than the second acrylate monomer. Because it is also bulky, it does not penetrate the light transmitting substrate 11 more easily than the second acrylate monomer. For this reason, part of the first acrylate monomer penetrates the light transmitting substrate 11, but most of the first acrylate monomer does not penetrate and exists in the lower part in the coating film 16, resulting in antistatic The agent 14 will be present on top of the coating 16. Thus, since the antistatic agent 14 comes to exist in the upper part of the coating film 16, the surface resistance value of the optical film 10 can be 1 * 10 < 11 > ohms / square or less. On the other hand, a composition containing an antistatic agent, a photopolymerizable urethane oligomer, a first acrylate monomer, and a second acrylate monomer, and an antistatic agent, a first acrylate monomer, which does not contain a photopolymerizable urethane oligomer, and When an experiment was conducted to form an antistatic hard coat layer using a composition containing each of the acrylate monomers of No. 2, the antistatic hard coat layer formed using a composition containing a photopolymerizable urethane oligomer The surface resistance value and the scratch resistance after saponification treatment were superior to those of a hard coat layer formed using a composition containing no photopolymerizable urethane oligomer. The reason for this is not clear, but due to the difference in molecular structure between the photopolymerizable urethane oligomer and the antistatic agent, the photopolymerizable urethane oligomer is easier to be positioned on the surface side of the antistatic hard coat layer than the antistatic agent. It is guessed that it is from. And from this experimental result, it can be inferred that the antistatic agent is not present on the surface of the antistatic hard coat layer. Therefore, by using the composition for antistatic hard coat layer containing at least the photopolymerizable urethane oligomer, the first acrylate monomer, the second acrylate monomer, and the permeable solvent, the antistatic can be prevented. The agent 14 can be present in the upper region R.

帯電防止性ハードコート層12が、帯電防止剤14と、上記光重合性ウレタンオリゴマーと、上記第1のアクリレートモノマーと、上記第2のアクリレートモノマーと、上記浸透性溶剤とを含む帯電防止性ハードコート層用組成物を用いて形成されているので、干渉縞の発生を抑制できるとともに、優れた硬度を得ることができる。すなわち、従来、バインダ樹脂を構成するための(メタ)アクリレートモノマーとして、重量平均分子量が1000未満の(メタ)アクリレートモノマーを使用すれば、干渉縞の発生を抑制できると認識されていた。すなわち、上記第1のアクリレートモノマーと上記第2のアクリレートモノマーは、干渉縞の発生を抑制する観点からは同等に考えられていた。しかしながら、実際には重量平均分子量が1000未満の(メタ)アクリレートモノマーを使用した場合であっても、干渉縞の発生を抑制できないことがあった。例えば、重量平均分子量が1000未満の(メタ)アクリレートモノマーとして、第1のアクリレートモノマーのみを用いた場合には、第1のアクリレートモノマーは光透過性基材に浸透するが、浸透した第1のアクリレートモノマーによって新たな界面が生じてしまい、干渉縞の発生を防止することができなかった。一方、重量平均分子量が1000未満の(メタ)アクリレートモノマーとして、第2のアクリレートモノマーを含ませた場合には、干渉縞を防止することができるが、一方で混在領域が柔らかくなってしまい、硬度の低下を引き起こしてしまう。ここで、硬度の問題に関しては、第1のアクリレートモノマーを使用すると、第2のアクリレートモノマーを使用する場合よりも硬い架橋物が得られるが、第1のアクリレートモノマーのみを用いると、光透過性基材に浸透し過ぎて、混在領域の厚みが厚くなってしまい、これにより光透過性基材における混在領域以外の領域が薄くなるので、光透過性基材の強度が低下してしまう。これに対し、本実施形態のように、第1のアクリレートモノマーと、第2のアクリレートモノマーとを併用した場合には、まず、第2のアクリレートモノマーの作用により干渉縞の発生を抑制できる。さらに、第1のアクリレートモノマーよりも第2のアクリレートモノマーが先に光透過性基材11に浸透するので、第1のアクリレートモノマーの過度の浸透を抑制できる。これにより、混在領域11Aの厚みを薄くすることができるので、硬度を向上させることができる。さらに、上記したように光重合性ウレタンオリゴマーの架橋物を帯電防止性ハードコート層12の表面12Aに存在させることができるので、表面12Aにおける硬度を向上させることができる。これにより、膜厚が4μm以上10μm以下という極めて薄い帯電防止性ハードコート層12を形成した場合であっても、優れた硬度を得ることができる。   An antistatic hard coat layer 12 comprising an antistatic agent 14, the photopolymerizable urethane oligomer, the first acrylate monomer, the second acrylate monomer, and the permeable solvent. Since the coating layer composition is used, the generation of interference fringes can be suppressed, and excellent hardness can be obtained. That is, it has been conventionally recognized that the use of a (meth) acrylate monomer having a weight average molecular weight of less than 1000 as the (meth) acrylate monomer for forming the binder resin can suppress the occurrence of interference fringes. That is, the first acrylate monomer and the second acrylate monomer are considered to be equivalent from the viewpoint of suppressing the occurrence of interference fringes. However, in fact, even when a (meth) acrylate monomer having a weight average molecular weight of less than 1000 was used, the occurrence of interference fringes could not be suppressed. For example, when only the first acrylate monomer is used as a (meth) acrylate monomer having a weight average molecular weight of less than 1000, the first acrylate monomer penetrates the light transmitting substrate, but the first transparent monomer penetrates. The acrylate monomer causes a new interface to be generated, and the generation of interference fringes could not be prevented. On the other hand, when the second acrylate monomer is contained as a (meth) acrylate monomer having a weight average molecular weight of less than 1000, interference fringes can be prevented, but on the other hand, the mixed region becomes soft and hardness Cause a drop in Here, with regard to the problem of hardness, the use of the first acrylate monomer gives a crosslinker harder than the use of the second acrylate monomer, but the use of only the first acrylate monomer results in light transmission. When the material penetrates into the base material too much, the thickness of the mixed region becomes thick, and as a result, the region other than the mixed region in the light transmitting substrate becomes thin, so that the strength of the light transmitting substrate is lowered. On the other hand, when the first acrylate monomer and the second acrylate monomer are used in combination as in the present embodiment, the generation of interference fringes can be suppressed by the action of the second acrylate monomer. Furthermore, since the second acrylate monomer penetrates the light transmitting substrate 11 earlier than the first acrylate monomer, excessive penetration of the first acrylate monomer can be suppressed. As a result, the thickness of the mixed area 11A can be reduced, and therefore the hardness can be improved. Further, as described above, since the crosslinked product of the photopolymerizable urethane oligomer can be present on the surface 12A of the antistatic hard coat layer 12, the hardness on the surface 12A can be improved. As a result, even when the antistatic hard coat layer 12 having a very thin film thickness of 4 μm to 10 μm is formed, excellent hardness can be obtained.

また、従来、鹸化処理前において1×1011Ω/□以下の表面抵抗値を有する光学フィルムを安定的に提供することは困難であった。これに対し、本実施形態においては、帯電防止剤14と、上記光重合性ウレタンオリゴマーと、上記第1のアクリレートモノマーと、上記第2のアクリレートモノマーと、上記浸透性溶剤とを含む帯電防止性ハードコート層用組成物を用いて帯電防止性ハードコート層12を形成しているので、上記したように帯電防止剤14を上部領域Rに存在させることができる。これにより、鹸化処理前において1×1011Ω/□以下の表面抵抗値を有する光学フィルムを安定的に提供することができる。 Moreover, conventionally, it has been difficult to stably provide an optical film having a surface resistance value of 1 × 10 11 Ω / □ or less before the saponification treatment. On the other hand, in the present embodiment, the antistatic property including the antistatic agent 14, the photopolymerizable urethane oligomer, the first acrylate monomer, the second acrylate monomer, and the permeable solvent. Since the antistatic hard coat layer 12 is formed using the composition for hard coat layer, the antistatic agent 14 can be present in the upper region R as described above. Thereby, an optical film having a surface resistance value of 1 × 10 11 Ω / □ or less before the saponification treatment can be stably provided.

本実施の形態においては、帯電防止性ハードコート層12が、帯電防止剤14と、上記光重合性ウレタンオリゴマーと、上記第1のアクリレートモノマーと、上記第2のアクリレートモノマーと、2個以上のメタクリロイル基を有する重量平均分子量が300以上1,000以下のメタクリレートモノマーと、浸透性溶剤とを含む帯電防止性ハードコート層用組成物を用いて形成されているので、上記効果を阻害せずに、さらに帯電防止性ハードコート層12と低屈折率層13との密着性をより向上させることができる。すなわち、上記第1のアクリレートモノマー等の他に、上記メタクリレートモノマーを含ませた場合には、上記メタクリレートモノマーは反応性に劣るので、帯電防止性ハードコート層用組成物の塗膜16を半硬化させた場合には架橋せず、そのまま残る。そして、光硬化性低屈折率層用組成物の塗膜17を形成した後に、塗膜16、17を完全硬化させた場合には、半硬化させた塗膜16に残存しているメタクリレートモノマーは、塗膜17に含まれるフッ素非含有光重合性化合物やフッ素含有光重合性化合物と架橋するので、帯電防止性ハードコート層12と低屈折率層13との密着性をより向上させることができる。また、光重合性ウレタンオリゴマーも帯電防止性ハードコート層12と低屈折率層13との密着性を向上させることができる成分であるが、本実施形態では、この光重合性ウレタンオリゴマーを表面に存在させることができるので、メタクリレートモノマーの上記効果に加えて、さらに帯電防止性ハードコート層12と低屈折率層13との密着性を向上させることができる。   In the present embodiment, the antistatic hard coat layer 12 includes two or more of the antistatic agent 14, the photopolymerizable urethane oligomer, the first acrylate monomer, the second acrylate monomer, and the like. Since the composition for antistatic hard coat layer containing a methacrylate monomer having a weight average molecular weight of 300 or more and 1,000 or less having a methacryloyl group and a penetrating solvent, the above effect is not inhibited Furthermore, the adhesion between the antistatic hard coat layer 12 and the low refractive index layer 13 can be further improved. That is, when the methacrylate monomer is contained in addition to the first acrylate monomer etc., the methacrylate monomer is inferior in reactivity, so the coating 16 of the composition for antistatic hard coat layer is semi-cured If it is allowed to crosslink, it does not crosslink and remains as it is. Then, after forming the coating film 17 of the photocurable low refractive index layer composition, when the coating films 16 and 17 are completely cured, the methacrylate monomer remaining in the semi-cured coating film 16 is Since it crosslinks with the fluorine-free photopolymerizable compound and the fluorine-containing photopolymerizable compound contained in the coating film 17, the adhesion between the antistatic hard coat layer 12 and the low refractive index layer 13 can be further improved. . Further, the photopolymerizable urethane oligomer is also a component capable of improving the adhesion between the antistatic hard coat layer 12 and the low refractive index layer 13, but in the present embodiment, the photopolymerizable urethane oligomer is used as the surface. Since it can be made to exist, the adhesion between the antistatic hard coat layer 12 and the low refractive index layer 13 can be further improved in addition to the above effect of the methacrylate monomer.

<<<偏光板>>>
光学フィルム10は、例えば、偏光板に組み込んで使用することができる。図5は本実施形態に係る光学フィルムを組み込んだ偏光板の概略構成図である。図5に示されるように偏光板20は、光学フィルム10と、偏光子21と、保護フィルム22を備えている。光学フィルム10には、偏光子21との密着性を良好にするための鹸化処理が施されている。
<<< polarizing plate >>>
The optical film 10 can be used, for example, by being incorporated into a polarizing plate. FIG. 5 is a schematic configuration view of a polarizing plate incorporating the optical film according to the present embodiment. As shown in FIG. 5, the polarizing plate 20 includes an optical film 10, a polarizer 21, and a protective film 22. The optical film 10 is subjected to a saponification treatment to improve the adhesion to the polarizer 21.

偏光子21は、光透過性基材11における帯電防止性ハードコート層12が形成されている面とは反対側の面に形成されている。保護フィルム22は、偏光子21の光学フィルム10が設けられている面とは反対側の面に設けられている。保護フィルム22は位相差フィルムであってもよい。   The polarizer 21 is formed on the surface of the light transmitting substrate 11 opposite to the surface on which the antistatic hard coat layer 12 is formed. The protective film 22 is provided on the surface of the polarizer 21 opposite to the surface on which the optical film 10 is provided. The protective film 22 may be a retardation film.

偏光子21としては、例えば、ヨウ素等により染色し、延伸したポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等が挙げられる。   Examples of the polarizer 21 include, for example, a polyvinyl alcohol film, a polyvinyl formal film, a polyvinyl acetal film, and an ethylene-vinyl acetate copolymer-based saponified film which is dyed with iodine or the like and stretched.

<<<偏光板の製造方法>>>
このような偏光板20は、例えば、以下のような方法によって得ることができる。まず、光学フィルム10にアルカリ水溶液により鹸化処理を施す。具体的には、鹸化処理は、光学フィルム10を、1.5〜4.5規定に調整された40℃〜70℃のNaOHまたはKOH水溶液に15秒〜5分浸漬することにより行われる。
<<< Method of manufacturing polarizing plate >>>
Such a polarizing plate 20 can be obtained, for example, by the following method. First, the optical film 10 is saponified with an aqueous alkaline solution. Specifically, the saponification treatment is performed by immersing the optical film 10 in a 40 ° C. to 70 ° C. NaOH or KOH aqueous solution adjusted to 1.5 to 4.5 N for 15 seconds to 5 minutes.

その後、鹸化処理が施された光学フィルム10の光透過性基材11における帯電防止性ハードコート層12が形成されている面とは反対側の面に偏光子21を形成する。また、偏光子21の光学フィルム10が設けられている面とは反対側の面に鹸化処理が施された保護フィルム22を設ける。これにより、偏光板20を得ることができる。   Thereafter, the polarizer 21 is formed on the surface of the light transmitting substrate 11 of the optical film 10 subjected to the saponification treatment, which is opposite to the surface on which the antistatic hard coat layer 12 is formed. Moreover, the protective film 22 in which the saponification process was performed is provided in the surface on the opposite side to the surface in which the optical film 10 of the polarizer 21 is provided. Thereby, the polarizing plate 20 can be obtained.

本実施形態によれば、光学フィルム10に鹸化処理を施しているので、鹸化処理後であっても、帯電防止性ハードコート層における帯電防止性および耐擦傷性を維持できる。これにより、帯電防止性および耐擦傷性に優れた偏光板を提供することができる。   According to the present embodiment, since the optical film 10 is saponified, the antistatic property and scratch resistance of the antistatic hard coat layer can be maintained even after the saponification. Thereby, the polarizing plate excellent in antistatic property and abrasion resistance can be provided.

<<<液晶パネル>>>
光学フィルム10や偏光板20は、液晶パネルに組み込んで使用することができる。図6は本実施形態に係る光学フィルムを組み込んだ液晶パネルの概略構成図である。
<<< Liquid crystal panel >>>
The optical film 10 and the polarizing plate 20 can be incorporated into a liquid crystal panel and used. FIG. 6 is a schematic configuration view of a liquid crystal panel incorporating the optical film according to the present embodiment.

図6に示される液晶パネル30は、光源側(バックライトユニット側)から観察者側に向けて、トリアセチルセルロースフィルム(TACフィルム)等の保護フィルム31、偏光子32、位相差フィルム33、接着剤層34、液晶セル35、接着剤層36、位相差フィルム37、偏光子21、光学フィルム10の順に積層された構造を有している。液晶セル35は、2枚のガラス基材間に、液晶層、配向膜、電極層、カラーフィルタ等を配置したものである。   The liquid crystal panel 30 shown in FIG. 6 is a protective film 31 such as a triacetyl cellulose film (TAC film), a polarizer 32, a retardation film 33, and adhesion from the light source side (backlight unit side) to the viewer side. An agent layer 34, a liquid crystal cell 35, an adhesive layer 36, a retardation film 37, a polarizer 21 and an optical film 10 are laminated in this order. The liquid crystal cell 35 has a liquid crystal layer, an alignment film, an electrode layer, a color filter and the like disposed between two glass substrates.

位相差フィルム33、37としては、トリアセチルセルロースフィルムやシクロオレフィンポリマーフィルムが挙げられる。位相差フィルム37は、保護フィルム22と同一であってもよい。接着剤層34、36を構成する接着剤としては、感圧接着剤(PSA)が挙げられる。   Examples of the retardation films 33 and 37 include triacetyl cellulose films and cycloolefin polymer films. The retardation film 37 may be identical to the protective film 22. Adhesives that make up the adhesive layers 34, 36 include pressure sensitive adhesives (PSAs).

<<<画像表示装置>>>
光学フィルム10、偏光板20、液晶パネル30は、画像表示装置に組み込んで使用することができる。画像表示装置としては、例えば液晶ディスプレイ(LCD)、陰極線管表示装置(CRT)、プラズマディスプレイ(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)、フィールドエミッションディスプレイ(FED)、タッチパネル、タブレットPC、電子ペーパー等が挙げられる。図7は本実施形態に係る光学フィルムを組み込んだ画像表示装置の一例である液晶ディスプレイの概略構成図である。
<<< image display device >>>
The optical film 10, the polarizing plate 20, and the liquid crystal panel 30 can be incorporated into an image display device and used. Examples of the image display device include a liquid crystal display (LCD), a cathode ray tube display (CRT), a plasma display (PDP), an electroluminescence display (ELD), a field emission display (FED), a touch panel, a tablet PC, electronic paper and the like. It can be mentioned. FIG. 7 is a schematic configuration view of a liquid crystal display as an example of the image display device incorporating the optical film according to the present embodiment.

図7に示される画像表示装置40は、液晶ディスプレイである。画像表示装置40は、バックライトユニット41と、バックライトユニット41よりも観察者側に配置された、光学フィルム10を備える液晶パネル30とから構成されている。バックライトユニット41としては、公知のバックライトユニットが使用できる。   The image display device 40 shown in FIG. 7 is a liquid crystal display. The image display device 40 is configured of a backlight unit 41 and a liquid crystal panel 30 provided with the optical film 10, which is disposed closer to the viewer than the backlight unit 41. As the backlight unit 41, a known backlight unit can be used.

[第2の実施形態]
以下、本発明の第2の実施形態に係る光学フィルムについて、図面を参照しながら説明する。図8は本実施形態に係る光学フィルムの概略構成図であり、図9は本実施形態に係る光学フィルムの上部領域付近の拡大図であり、図10および図11は本実施形態に係る光学フィルムの製造工程を模式的に示した図である。
Second Embodiment
Hereinafter, an optical film according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 8 is a schematic configuration view of an optical film according to the present embodiment, FIG. 9 is an enlarged view around the upper region of the optical film according to the present embodiment, and FIGS. 10 and 11 are optical films according to the present embodiment. It is the figure which showed typically the manufacturing process of.

<<<光学フィルム>>>
図8に示されるように光学フィルム50は、第1の実施形態と同様に、光透過性基材51と、光透過性基材51上に設けられた帯電防止性ハードコート層52と、帯電防止性ハードコート層52上に設けられ、かつ帯電防止性ハードコート層52と隣接した低屈折率層53とを備えている。また、第1の実施形態と同様に、光透過性基材51における帯電防止性ハードコート層52の界面付近には、図8に示されるように混在領域51Aが形成されている。なお、光学フィルム50は、低屈折率層53を備えていなくともよい。光透過性基材51、低屈折率層53は、第1の実施形態で説明した光透過性基材11、低屈折率層13と同様であるので、ここでは説明を省略するものとする。
<<< Optical film >>>
As shown in FIG. 8, the optical film 50 includes the light transmitting substrate 51, the antistatic hard coat layer 52 provided on the light transmitting substrate 51, and the charge as in the first embodiment. A low refractive index layer 53 provided on the preventing hard coat layer 52 and adjacent to the antistatic hard coat layer 52 is provided. Further, as in the first embodiment, a mixed region 51A is formed in the vicinity of the interface of the antistatic hard coat layer 52 in the light transmitting substrate 51, as shown in FIG. The optical film 50 may not have the low refractive index layer 53. The light transmitting substrate 51 and the low refractive index layer 53 are the same as the light transmitting substrate 11 and the low refractive index layer 13 described in the first embodiment, and thus the description thereof is omitted here.

<<混在領域>>
混在領域51Aは、光透過性基材51と、後述する帯電防止剤含有ハードコート層用組成物から光透過性基材51に浸透した、第1のアクリレートモノマーおよび第2のアクリレートモノマーを含む浸透物の硬化物とを含む。混在領域51Aの厚みは、混在領域11Aの厚みと同様である。
<< Mixed area >>
The mixed region 51A includes a light transmitting base material 51, and a permeation including the first acrylate monomer and the second acrylate monomer which has penetrated the light transmitting base material 51 from the composition for an antistatic agent-containing hard coat layer described later. And cured products. The thickness of the mixed area 51A is the same as the thickness of the mixed area 11A.

<<帯電防止性ハードコート層>>
帯電防止性ハードコート層52は、4μm以上10μm以下の膜厚を有するものである。帯電防止性ハードコート層52の膜厚の上限は8μm以下であることが好ましい。帯電防止性ハードコート層52の膜厚は、上記帯電防止ハードコート層12の膜厚と同様の方法によって測定することができる。
<< Antistatic Hard Coat Layer >>
The antistatic hard coat layer 52 has a thickness of 4 μm to 10 μm. The upper limit of the film thickness of the antistatic hard coat layer 52 is preferably 8 μm or less. The film thickness of the antistatic hard coat layer 52 can be measured by the same method as the film thickness of the antistatic hard coat layer 12 described above.

帯電防止性ハードコート層52は、帯電防止剤54Aおよび第1のバインダ樹脂54Bを含む帯電防止剤含有ハードコート層54と、帯電防止剤含有ハードコート層54上に設けられ、帯電防止剤含有ハードコート層54に密着し、帯電防止剤を含まず、かつ第2のバインダ樹脂55Aを含む帯電防止剤非含有ハードコート層55とを備えている。   The antistatic hard coat layer 52 is provided on the antistatic agent-containing hard coat layer 54 including the antistatic agent 54A and the first binder resin 54B, and on the antistatic agent-containing hard coat layer 54, and the antistatic agent-containing hard coat layer The hard coat layer 55 is in close contact with the coat layer 54, contains no antistatic agent, and contains an antistatic agent-free hard coat layer 55 containing the second binder resin 55A.

帯電防止剤含有ハードコート層54の膜厚は、2.5μmを超え9.8μm以下となっていることが好ましい。帯電防止性ハードコート層54において優れた硬度を得る観点から、帯電防止剤含有ハードコート層54の膜厚は、2.5μmを超え7.8μm以下になっていることがより好ましい。   The film thickness of the antistatic agent-containing hard coat layer 54 is preferably more than 2.5 μm and not more than 9.8 μm. From the viewpoint of obtaining excellent hardness in the antistatic hard coat layer 54, the thickness of the antistatic agent-containing hard coat layer 54 is more preferably more than 2.5 μm and 7.8 μm or less.

帯電防止剤54Aは、図9に示されるように、帯電防止性ハードコート層52の表面52A(帯電防止剤非含有ハードコート層55の表面)に存在せず、かつ帯電防止性ハードコート層52の表面52Aからの深さが0.2μm以上2.0μm未満の上部領域R内に存在している。ここで、帯電防止剤含有ハードコート層54と帯電防止剤非含有ハードコート層55との界面IFは上部領域R内に存在している。   Antistatic agent 54A is not present on surface 52A of antistatic hardcoat layer 52 (surface of antistatic agent-free hardcoat layer 55), as shown in FIG. The depth from the surface 52A of the upper surface R is within the upper region R of 0.2 μm or more and less than 2.0 μm. Here, the interface IF between the antistatic agent-containing hard coat layer 54 and the antistatic agent-free hard coat layer 55 is present in the upper region R.

帯電防止剤54Aは、上部領域R内に局在していることが好ましい。また、帯電防止剤含有ハードコート層54中に存在する帯電防止剤の総量に対して75質量%以上の割合の帯電防止剤54Aが上部領域R内に局在していることが好ましい。   The antistatic agent 54A is preferably localized in the upper region R. Preferably, the antistatic agent 54A is localized in the upper region R at a ratio of 75% by mass or more based on the total amount of the antistatic agent present in the antistatic agent-containing hard coat layer 54.

帯電防止非含有ハードコート層55の膜厚は、0.2μm以上1.5μm未満となっていることが好ましい。また、帯電防止非含有ハードコート層55の膜厚は、鹸化処理による帯電防止剤の脱落をより抑制し、かつ鹸化処理前後において優れた耐擦傷性をより維持する観点から0.3μm以上1.5μm未満になっていることが好ましい。   The film thickness of the antistatic non-containing hard coat layer 55 is preferably 0.2 μm or more and less than 1.5 μm. Further, the film thickness of the antistatic non-containing hard coat layer 55 is 0.3 μm or more from the viewpoint of further suppressing the dropping of the antistatic agent due to the saponification treatment and maintaining the excellent scratch resistance before and after the saponification treatment. Preferably, it is less than 5 μm.

[帯電防止剤]
帯電防止剤54Aは、第1の実施形態で説明した帯電防止剤14と同様のものであるので、ここでは説明を省略するものとする。
[Antistatic agent]
Since the antistatic agent 54A is the same as the antistatic agent 14 described in the first embodiment, the description will be omitted here.

<第1のバインダ樹脂>
本実施形態の第1のバインダ樹脂54Bは、第1の実施形態で説明した、上記第1のアクリレートモノマー、上記第2のアクリレートモノマーを少なくとも含む混合物の硬化物である。
<First binder resin>
The first binder resin 54B of the present embodiment is a cured product of a mixture containing at least the first acrylate monomer and the second acrylate monomer described in the first embodiment.

上記第1のアクリレートモノマー、および上記第2のアクリレートモノマーについては、下記以外第1の実施の形態で説明したものと同様であるので、説明を省略するものとする。   About the said 1st acrylate monomer and said 2nd acrylate monomer, since it is the same as that of what was demonstrated by 1st Embodiment except the following, description shall be abbreviate | omitted.

<第2のバインダ樹脂>
本実施形態の第2のバインダ樹脂55Aは、第1の実施形態で説明した、上記光重合性ウレタンオリゴマーの硬化物、または上記光重合性ウレタンオリゴマーおよび上記第1のアクリレートモノマーを少なくとも含む混合物の硬化物である。
<Second binder resin>
The second binder resin 55A of this embodiment is a cured product of the photopolymerizable urethane oligomer described in the first embodiment, or a mixture containing at least the photopolymerizable urethane oligomer and the first acrylate monomer. It is a cured product.

帯電防止剤含有ハードコート層54は、帯電防止剤含有ハードコート層用組成物の硬化物からなる層である。帯電防止剤含有ハードコート層用組成物は、帯電防止剤54A、上記第1のアクリレートモノマー、および上記第2のアクリレートモノマー、上記浸透性溶剤、および上記重合開始剤を含んでいる。帯電防止剤含有ハードコート層用組成物は、帯電防止剤、上記第1のアクリレートモノマー、上記第2のアクリレートモノマー、および上記浸透性溶剤を含んでいればよく、重合開始剤を含んでいなくともよい。なお、浸透性溶剤、および重合開始剤は第1の実施の形態で説明した浸透性溶剤、および重合開始剤と同様のものであるので、ここでは説明を省略する。また、必要に応じて、帯電防止剤含有ハードコート層用組成物に、浸透抑制溶剤、易滑剤、分散剤等を含ませてもよい。   The antistatic agent-containing hard coat layer 54 is a layer formed of a cured product of the composition for the antistatic agent-containing hard coat layer. The composition for an antistatic agent-containing hard coat layer contains an antistatic agent 54A, the first acrylate monomer, and the second acrylate monomer, the permeable solvent, and the polymerization initiator. The composition for an antistatic agent-containing hard coat layer may contain an antistatic agent, the first acrylate monomer, the second acrylate monomer, and the permeable solvent, and does not contain a polymerization initiator. It is good. In addition, since the permeable solvent and the polymerization initiator are the same as the permeable solvent and the polymerization initiator described in the first embodiment, the description is omitted here. Further, if necessary, the composition for an antistatic agent-containing hard coat layer may contain a permeation suppression solvent, a lubricant, a dispersant, and the like.

帯電防止剤含有ハードコート層用組成物においては、帯電防止剤54Aを確実に上部領域Rに存在させる観点、干渉縞の発生を確実に抑制する観点、および優れた硬度を確実に得る観点から、帯電防止性ハードコート層用組成物の全固形分の合計質量に対して、帯電防止剤54Aが0.01質量%以上6質量%以下、上記第1のアクリレートモノマーが5質量%以上52質量%以下、上記第2のアクリレートモノマーが5質量%以上50質量%以下の割合で含まれていることが好ましい。   In the composition for an antistatic agent-containing hard coat layer, from the viewpoint of ensuring that the antistatic agent 54A is present in the upper region R, from the viewpoint of reliably suppressing the occurrence of interference fringes, and from the viewpoint of obtaining excellent hardness. The antistatic agent 54A is 0.01% by mass or more and 6% by mass or less, and the first acrylate monomer is 5% by mass or more and 52% by mass with respect to the total mass of the total solid content of the composition for antistatic hard coat layer Hereinafter, the second acrylate monomer is preferably contained in a proportion of 5% by mass or more and 50% by mass or less.

帯電防止剤非含有ハードコート層55は、帯電防止剤非含有ハードコート層用組成物の硬化物からなる層である。帯電防止剤非含有ハードコート層用組成物は、上記光重合性ウレタンオリゴマー、溶剤および重合開始剤を含んでいる。帯電防止剤非含有ハードコート層用組成物は、上記光重合性ウレタンオリゴマーを含んでいればよく、溶剤および重合開始剤を含んでいなくともよい。   The antistatic agent non-containing hard coat layer 55 is a layer formed of a cured product of the antistatic agent non-containing hard coat layer composition. The composition for an antistatic agent-free hard coat layer contains the above-mentioned photopolymerizable urethane oligomer, a solvent and a polymerization initiator. The composition for an antistatic agent-free hard coat layer may contain the above-described photopolymerizable urethane oligomer, and may not contain a solvent and a polymerization initiator.

<<光学フィルムの物性>>
鹸化処理前の光学フィルム50の表面抵抗値は、1×1011Ω/□以下であり、より優れた帯電防止性を得る観点から1×1010Ω/□以下であることがより好ましい。
<< Physical Properties of Optical Film >>
The surface resistance value of the optical film 50 before the saponification treatment is 1 × 10 11 Ω / sq or less, and more preferably 1 × 10 10 Ω / sq or less from the viewpoint of obtaining more excellent antistatic properties.

このような光学フィルム50は、例えば、以下のような方法によって得ることができる。まず、上記帯電防止剤含有ハードコート層用組成物と、上記帯電防止剤非含有ハードコート層用組成物とを用意する。   Such an optical film 50 can be obtained, for example, by the following method. First, the composition for the antistatic agent-containing hard coat layer and the composition for the antistatic agent-free hard coat layer are prepared.

次いで、帯電防止剤含有ハードコート層用組成物の塗膜56が帯電防止剤非含有ハードコート層用組成物の塗膜57よりも光透過性基材51側となるように、光透過性基材51上に、帯電防止剤含有ハードコート層用組成物の塗膜56および帯電防止剤非含有ハードコート層用組成物の塗膜57を形成する(図10A)。   Next, the light transmitting group is made such that the coating 56 of the composition for the antistatic agent-containing hard coat layer is closer to the light transmitting substrate 51 than the coating 57 of the composition for the non-static agent-containing hard coating layer. The coating film 56 of the composition for an antistatic agent-containing hard coat layer and the coating film 57 of the composition for an antistatic agent-free hard coat layer are formed on the material 51 (FIG. 10A).

光透過性基材51上に帯電防止剤含有ハードコート層用組成物を塗布し、帯電防止剤含有ハードコート層用組成物の塗膜56を形成した後に、塗膜56上に帯電防止剤非含有ハードコート層組成物を塗布して、帯電防止剤非含有ハードコート層用組成物の塗膜57を形成することによって、塗膜56、57を形成してもよいが、生産性の観点から同時多層塗布法によって塗膜56、57を形成することが好ましい。すなわち、帯電防止剤含有ハードコート層用組成物の塗膜56が帯電防止剤非含有ハードコート層用組成物の塗膜57よりも光透過性基材51側となるように、光透過性基材51上に、帯電防止剤含有ハードコート層用組成物および帯電防止剤非含有ハードコート層用組成物を同時に塗布して、塗膜56、57を同時に形成することが好ましい。   The composition for an antistatic agent-containing hard coat layer is coated on a light transmitting substrate 51 to form a coating film 56 of the composition for an antistatic agent-containing hard coat layer. The coated films 56 and 57 may be formed by applying the hard coat layer composition containing the composition to form the coating film 57 of the composition for a hard coat layer not containing an antistatic agent, but from the viewpoint of productivity It is preferable to form the coating films 56 and 57 by the simultaneous multilayer coating method. That is, the light transmitting group is made such that the coating 56 of the composition for the antistatic agent-containing hard coat layer is closer to the light transmitting substrate 51 than the coating 57 of the composition for the non-static agent-containing hard coating layer. It is preferable to simultaneously apply the composition for an antistatic agent-containing hard coat layer and the composition for an antistatic agent-free hard coat layer on the material 51 to simultaneously form the coating films 56, 57.

光透過性基材51上に帯電防止剤含有ハードコート層用組成物の塗膜56を形成すると、光透過性基材51の上部に一部の浸透性溶剤ならびに一部の第1のアクリレートモノマーおよび第2のアクリレートモノマーが浸透し、光透過性基材51の上部に硬化後混在領域51Aとなる浸透領域51Bが形成される。   When the coating 56 of the composition for an antistatic agent-containing hard coat layer is formed on the light transmitting substrate 51, a part of the permeable solvent and a part of the first acrylate monomer are formed on the upper part of the light transmitting substrate 51. The second acrylate monomer penetrates, and a penetration region 51B which becomes the mixed region 51A after curing is formed on the upper part of the light transmitting substrate 51.

そして、塗膜56、57を乾燥させた後、塗膜56、57に積算光量が、例えば、10mJ/cm以上200mJ/cm以下となるように光を照射して、塗膜56、57を硬化(完全硬化)させる(図10B)。これにより、帯電防止剤含有ハードコート層54および帯電防止剤非含有ハードコート層55が形成され、帯電防止性ハードコート層52が形成される。 Then, after the coated films 56 and 57 are dried, light is irradiated to the coated films 56 and 57 so that the integrated light amount is, for example, 10 mJ / cm 2 or more and 200 mJ / cm 2 or less, and the coated films 56, 57 Is cured (complete curing) (FIG. 10B). Thus, the antistatic agent-containing hard coat layer 54 and the antistatic agent-free hard coat layer 55 are formed, and the antistatic hard coat layer 52 is formed.

帯電防止性ハードコート層52を形成した後、帯電防止性ハードコート層52上に光硬化性低屈折率層用組成物の塗膜58を形成する(図11A)。なお、光硬化性低屈折率層用組成物は第1の実施の形態で説明した光硬化性低屈折率層用組成物と同様のものであるので、ここでは説明を省略する。   After the antistatic hard coat layer 52 is formed, a coating 58 of a photocurable low refractive index layer composition is formed on the antistatic hard coat layer 52 (FIG. 11A). The photocurable low refractive index layer composition is the same as the photocurable low refractive index layer composition described in the first embodiment, and thus the description thereof is omitted here.

その後、塗膜58に、例えば、積算光量が70mJ/cm以上200mJ/cm以下となるように光を照射して塗膜58を硬化させる(図11B)。これにより、帯電防止性ハードコート層52上に低屈折率層53が形成され、図8に示される光学フィルム50が得られる。 Thereafter, the coating film 58, for example, integrated light quantity to cure the coating film 58 is irradiated with light so that 70 mJ / cm 2 or more 200 mJ / cm 2 or less (FIG. 11B). Thereby, the low refractive index layer 53 is formed on the antistatic hard coat layer 52, and the optical film 50 shown in FIG. 8 is obtained.

なお、上記においては、塗膜56、57を完全硬化させた後に、光硬化性低屈折率層用組成物の塗膜58を形成し、その後塗膜58を硬化させているが、塗膜56、57を半硬化させた後に、半硬化させた塗膜57上に光硬化性低屈折率層用組成物の塗膜58を形成し、その後塗膜56〜58を完全硬化させてもよい。   In the above, after the coatings 56 and 57 are completely cured, the coating 58 of the photocurable low refractive index layer composition is formed, and thereafter the coating 58 is cured. After 57 is semi-cured, a coating 58 of the photocurable low refractive index layer composition may be formed on the semi-cured coating 57, and then the coatings 56 to 58 may be completely cured.

本実施の形態の光学フィルム50においては、帯電防止剤54Aが、帯電防止性ハードコート層52の表面52Aからの深さが0.2μm以上2.0μm未満の上部領域Rに存在しているので、光学フィルム50の表面抵抗値を1×1011Ω/□以下とすることができる。また、帯電防止剤54Aは、帯電防止性ハードコート層52の表面52Aに存在していないので、光学フィルム50に鹸化処理を施した場合であっても、帯電防止剤54Aが脱落しにくい。したがって、表面抵抗値が1×1011Ω/□以下の光学フィルム50に鹸化処理を施した場合であっても、表面抵抗値の低下を抑制でき、優れた帯電防止性を維持できる。また、光学フィルム50に鹸化処理を施した場合であっても、帯電防止剤54Aが脱落しにくいので、優れた耐擦傷性を維持することができる。これにより、鹸化処理を施した場合であっても、優れた帯電防止性および耐擦傷性を維持できる光学フィルム50を提供することができる。 In optical film 50 according to the present embodiment, antistatic agent 54A is present in upper region R having a depth from surface 52A of antistatic hard coat layer 52 of not less than 0.2 μm and less than 2.0 μm. The surface resistance value of the optical film 50 can be 1 × 10 11 Ω / □ or less. Further, since the antistatic agent 54A is not present on the surface 52A of the antistatic hard coat layer 52, even when the optical film 50 is subjected to a saponification treatment, the antistatic agent 54A is unlikely to come off. Therefore, even when the optical film 50 having a surface resistance value of 1 × 10 11 Ω / □ or less is subjected to a saponification treatment, the reduction of the surface resistance value can be suppressed, and the excellent antistatic property can be maintained. In addition, even when the optical film 50 is subjected to a saponification treatment, the antistatic agent 54A is unlikely to come off, so excellent scratch resistance can be maintained. Thus, it is possible to provide the optical film 50 capable of maintaining excellent antistatic property and scratch resistance even when saponification treatment is performed.

本実施形態においては、帯電防止剤含有ハードコート層54は、帯電防止剤含有ハードコート層54と、帯電防止剤非含有ハードコート層55とから構成されているが、このような構成によっても、光学フィルム50の表面抵抗値が1×1011Ω/□以下とすることができるとともに、帯電防止剤54Aを上部領域Rに存在させることができる。 In the present embodiment, the antistatic agent-containing hard coat layer 54 is composed of the antistatic agent-containing hard coat layer 54 and the antistatic agent-free hard coat layer 55, but even with such a configuration, The surface resistance value of the optical film 50 can be 1 × 10 11 Ω / □ or less, and the antistatic agent 54A can be present in the upper region R.

帯電防止剤含有ハードコート層54が、上記第1のアクリレートモノマーと、上記第2のアクリレートモノマーと、上記浸透性溶剤を含む帯電防止剤含有ハードコート層用組成物を用いて形成されているので、第1の実施形態と同様の理由から、干渉縞の発生を抑制できるとともに、優れた硬度を得ることができる。   Since the antistatic agent-containing hard coat layer 54 is formed using the composition for an antistatic agent-containing hard coat layer containing the first acrylate monomer, the second acrylate monomer, and the permeable solvent. For the same reason as in the first embodiment, the generation of interference fringes can be suppressed, and excellent hardness can be obtained.

また、帯電防止剤含有ハードコート層54が、上記第1のアクリレートモノマーと、上記第2のアクリレートモノマーと、上記浸透性溶剤とを含む帯電防止剤含有ハードコート層用組成物を用いて形成されているので、第1の実施の形態と同様に、鹸化処理前において1×1011Ω/□以下の表面抵抗値を有する光学フィルム50を安定的に提供することができる。 In addition, an antistatic agent-containing hard coat layer 54 is formed using the composition for an antistatic agent-containing hard coat layer containing the first acrylate monomer, the second acrylate monomer, and the permeable solvent. Accordingly, as in the first embodiment, it is possible to stably provide the optical film 50 having a surface resistance value of 1 × 10 11 Ω / □ or less before the saponification treatment.

本実施形態においては、帯電防止剤非含有ハードコート層55が、光重合性ウレタンオリゴマーを含む帯電防止剤非含有ハードコート層用組成物を用いて形成されているので、低屈折率層53との密着性を向上させることができる。   In the present embodiment, since the antistatic agent non-containing hard coat layer 55 is formed using the antistatic agent non-containing hard coat layer composition containing a photopolymerizable urethane oligomer, the low refractive index layer 53 and The adhesion of the above can be improved.

本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの記載に限定されない。   EXAMPLES The present invention will be described by way of examples to describe the present invention in detail, but the present invention is not limited to these descriptions.

<帯電防止性ハードコート層用組成物の調製>
下記に示す組成となるように各成分を配合して、帯電防止性ハードコート層用組成物を得た。
(帯電防止性ハードコート層用組成物1)
・第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤(帯電防止剤、製品名「1SX3000」、大成ファインケミカル株式会社製、重量平均分子量10,000〜20,000(推測値)):2質量部(固形分換算値)
・ウレタンアクリレート(光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「U−15HA」、新中村化学工業株式会社製、15官能、重量平均分子量4,000):37質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(第1のアクリレートモノマー、日本化薬株式会社製、6官能、重量平均分子量500):29質量部
・テトラエチレングリコールジアクリレート(第2のアクリレートモノマー、製品名「M−240」、東亞合成株式会社製、2官能、重量平均分子量302):32質量部
・メチルエチルケトン:100質量部(浸透性溶剤)
・重合開始剤(イルガキュア184、BASFジャパン社製):4質量部
<Preparation of composition for antistatic hard coat layer>
Each component was blended so as to have the composition shown below to obtain a composition for antistatic hard coat layer.
(Composition 1 for antistatic hard coat layer)
-Quaternary ammonium base-containing antistatic agent (antistatic agent, product name "1SX3000", manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 10,000 to 20,000 (estimated value)): 2 parts by mass (solid content conversion value)
-Urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name "U-15HA", manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 15 functions, weight average molecular weight 4,000): 37 parts by mass-Dipentaerythritol hexaacrylate (first Acrylate monomer, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., 6-functional, weight average molecular weight 500): 29 parts by mass Tetraethylene glycol diacrylate (second acrylate monomer, product name “M-240”, manufactured by Toagosei Co., Ltd., 2 Functionality, weight average molecular weight 302): 32 parts by mass · methyl ethyl ketone: 100 parts by mass (penetrating solvent)
Polymerization initiator (IRGACURE 184, manufactured by BASF Japan Ltd.): 4 parts by mass

(帯電防止性ハードコート層用組成物2)
・第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤(帯電防止剤、製品名「1SX3000」、大成ファインケミカル株式会社製、重量平均分子量10,000〜20,000(推測値)):2質量部(固形分換算値)
・ウレタンアクリレート(光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「U−15HA」、新中村化学工業株式会社製、15官能、重量平均分子量4,000):37質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(第1のアクリレートモノマー、日本化薬株式会社製、6官能、重量平均分子量500):45質量部
・テトラエチレングリコールジアクリレート(第2のアクリレートモノマー、製品名「M−240」、東亞合成株式会社製、2官能、重量平均分子量302):16質量部
・メチルエチルケトン(浸透性溶剤):100質量部
・重合開始剤(イルガキュア184、BASFジャパン社製):4質量部
(Composition for antistatic hard coat layer 2)
-Quaternary ammonium base-containing antistatic agent (antistatic agent, product name "1SX3000", manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 10,000 to 20,000 (estimated value)): 2 parts by mass (solid content conversion value)
-Urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name "U-15HA", manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 15 functions, weight average molecular weight 4,000): 37 parts by mass-Dipentaerythritol hexaacrylate (first Acrylate monomer, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., 6-functional, weight average molecular weight 500): 45 parts by mass Tetraethylene glycol diacrylate (second acrylate monomer, product name “M-240”, manufactured by Toagosei Co., Ltd., 2 Functionality, weight average molecular weight 302): 16 parts by mass · methyl ethyl ketone (penetrable solvent): 100 parts by mass · polymerization initiator (IRGACURE 184, manufactured by BASF Japan Ltd.): 4 parts by mass

(帯電防止性ハードコート層用組成物3)
・第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤(帯電防止剤、製品名「1SX3000」、大成ファインケミカル株式会社製、重量平均分子量10,000〜20,000(推測値)):2質量部(固形分換算値)
・ウレタンアクリレート(光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「U−15HA」、新中村化学工業株式会社製、15官能、重量平均分子量4,000):37質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(第1のアクリレートモノマー、日本化薬株式会社製、6官能、重量平均分子量500):19質量部
・テトラエチレングリコールジアクリレート(第2のアクリレートモノマー、製品名「M−240」、東亞合成株式会社製、2官能、重量平均分子量302):42質量部
・メチルエチルケトン(浸透性溶剤):100質量部
・重合開始剤(イルガキュア184、BASFジャパン社製):4質量部
(Composition for antistatic hard coat layer 3)
-Quaternary ammonium base-containing antistatic agent (antistatic agent, product name "1SX3000", manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 10,000 to 20,000 (estimated value)): 2 parts by mass (solid content conversion value)
-Urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name "U-15HA", manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 15 functions, weight average molecular weight 4,000): 37 parts by mass-Dipentaerythritol hexaacrylate (first Acrylate monomer, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., 6-functional, weight average molecular weight 500): 19 parts by mass tetraethylene glycol diacrylate (second acrylate monomer, product name “M-240”, manufactured by Toagosei Co., Ltd., 2 Functionality, weight average molecular weight 302): 42 parts by mass · methyl ethyl ketone (penetrable solvent): 100 parts by mass · polymerization initiator (IRGACURE 184, manufactured by BASF Japan Ltd.): 4 parts by mass

(帯電防止性ハードコート層用組成物4)
・第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤(帯電防止剤、製品名「1SX3000」、大成ファインケミカル株式会社製、重量平均分子量10,000〜20,000(推測値)):2質量部(固形分換算値)
・ウレタンアクリレート(光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「U−15HA」、新中村化学工業株式会社製、15官能、重量平均分子量4,000):57質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(第1のアクリレートモノマー、日本化薬株式会社製、6官能、重量平均分子量500):19質量部
・テトラエチレングリコールジアクリレート(第2のアクリレートモノマー、製品名「M−240」、東亞合成株式会社製、2官能、重量平均分子量302):22質量部
・メチルエチルケトン(浸透性溶剤):100質量部
・重合開始剤(イルガキュア184、BASFジャパン社製):4質量部
(Composition for antistatic hard coat layer 4)
-Quaternary ammonium base-containing antistatic agent (antistatic agent, product name "1SX3000", manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 10,000 to 20,000 (estimated value)): 2 parts by mass (solid content conversion value)
Urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name "U-15HA", manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 15 functions, weight average molecular weight 4,000): 57 parts by mass Dipentaerythritol hexaacrylate (first Acrylate monomer, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., 6-functional, weight average molecular weight 500): 19 parts by mass tetraethylene glycol diacrylate (second acrylate monomer, product name “M-240”, manufactured by Toagosei Co., Ltd., 2 Functionality, weight average molecular weight 302): 22 parts by mass · methyl ethyl ketone (penetrable solvent): 100 parts by mass · polymerization initiator (IRGACURE 184, manufactured by BASF Japan Ltd.): 4 parts by mass

(帯電防止性ハードコート層用組成物5)
・第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤(帯電防止剤、製品名「1SX3000」、大成ファインケミカル株式会社製、重量平均分子量10,000〜20,000(推測値)):0.1質量部(固形分換算値)
・ウレタンアクリレート(光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「U−15HA」、新中村化学工業株式会社製、15官能、重量平均分子量4,000):37.6質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(第1のアクリレートモノマー、日本化薬株式会社製、6官能、重量平均分子量500):29.7質量部
・テトラエチレングリコールジアクリレート(第2のアクリレートモノマー、製品名「M−240」、東亞合成株式会社製、2官能、重量平均分子量302):32.6質量部
・メチルエチルケトン(浸透性溶剤):100質量部
・重合開始剤(イルガキュア184、BASFジャパン社製):4質量部
(Composition 5 for antistatic hard coat layer)
-Quaternary ammonium base-containing antistatic agent (antistatic agent, product name "1SX3000", manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 10,000 to 20,000 (estimated value)): 0.1 parts by mass (solid) Minute conversion value)
-Urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name "U-15HA", Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 15 functions, weight average molecular weight 4,000): 37.6 parts by mass-Dipentaerythritol hexaacrylate (No. Acrylate monomer No. 1, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., 6-functional, weight average molecular weight 500): 29.7 parts by mass Tetraethylene glycol diacrylate (second acrylate monomer, product name “M-240”, Toho Synthetic Equity Made in the company, bifunctional, weight average molecular weight 302): 32.6 parts by mass · methyl ethyl ketone (penetrating solvent): 100 parts by mass · polymerization initiator (IRGACURE 184, manufactured by BASF Japan Ltd.): 4 parts by mass

(帯電防止性ハードコート層用組成物6)
・第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤(帯電防止剤、製品名「1SX3000」、大成ファインケミカル株式会社製、重量平均分子量10,000〜20,000(推測値)):0.3質量部(固形分換算値)
・ウレタンアクリレート(光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「U−15HA」、新中村化学工業株式会社製、15官能、重量平均分子量4,000):37.6質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(第1のアクリレートモノマー、日本化薬株式会社製、6官能、重量平均分子量500):29.6質量部
・テトラエチレングリコールジアクリレート(第2のアクリレートモノマー、製品名「M−240」、東亞合成株式会社製、2官能、重量平均分子量302):32.5質量部
・メチルエチルケトン(浸透性溶剤):100質量部
・重合開始剤(イルガキュア184、BASFジャパン社製):4質量部
(Composition 6 for antistatic hard coat layer)
-Quaternary ammonium base-containing antistatic agent (antistatic agent, product name "1SX3000", manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 10,000 to 20,000 (estimated value)): 0.3 parts by mass (solid) Minute conversion value)
-Urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name "U-15HA", Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 15 functions, weight average molecular weight 4,000): 37.6 parts by mass-Dipentaerythritol hexaacrylate (No. Acrylate monomer No. 1, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., 6-functional, weight average molecular weight 500): 29.6 parts by mass Tetraethylene glycol diacrylate (second acrylate monomer, product name "M-240", Toho Synthetic Equity Made by company, bifunctional, weight average molecular weight 302): 32.5 parts by mass · methyl ethyl ketone (penetrable solvent): 100 parts by mass · polymerization initiator (IRGACURE 184, manufactured by BASF Japan Ltd.): 4 parts by mass

(帯電防止性ハードコート層用組成物7)
・第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤(帯電防止剤、製品名「1SX3000、大成ファインケミカル株式会社製、重量平均分子量10,000〜20,000(推測値)):3質量部(固形分換算値)
・ウレタンアクリレート(光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「U−15HA」、新中村化学工業株式会社製、15官能、重量平均分子量4,000):36.5質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(第1のアクリレートモノマー、日本化薬株式会社製、6官能、重量平均分子量500):28.5質量部
・テトラエチレングリコールジアクリレート(第2のアクリレートモノマー、製品名「M−240、東亞合成株式会社製、2官能、重量平均分子量302):32.0質量部
・メチルエチルケトン(浸透性溶剤):100質量部
・重合開始剤(イルガキュア184、BASFジャパン社製):4質量部
(Composition 7 for antistatic hard coat layer)
-Quaternary ammonium base-containing antistatic agent (antistatic agent, product name "1SX3000, manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 10,000 to 20,000 (estimated value)): 3 parts by mass (solids equivalent value) )
· Urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name "U-15HA", Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 15 functions, weight average molecular weight 4,000): 36.5 parts by mass · Dipentaerythritol hexaacrylate (No. Acrylate monomer No. 1, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., 6-functional, weight average molecular weight 500): 28.5 parts by mass Tetraethylene glycol diacrylate (second acrylate monomer, product name “M-240, Toagosei Co., Ltd. Product, bifunctional, weight average molecular weight 302): 32.0 parts by mass · methyl ethyl ketone (penetrable solvent): 100 parts by mass · polymerization initiator (IRGACURE 184, manufactured by BASF Japan Ltd.): 4 parts by mass

(帯電防止性ハードコート層用組成物8)
・第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤(帯電防止剤、製品名「1SX3000」、大成ファインケミカル株式会社製、重量平均分子量10,000〜20,000(推測値)):6質量部(固形分換算値)
・ウレタンアクリレート(光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「U−15HA」、新中村化学工業株式会社製、15官能、重量平均分子量4,000):36.0質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(第1のアクリレートモノマー、日本化薬株式会社製、6官能、重量平均分子量500):27.0質量部
・テトラエチレングリコールジアクリレート(第2のアクリレートモノマー、製品名「M−240」、東亞合成株式会社製、2官能、重量平均分子量302):31.0質量部
・メチルエチルケトン(浸透性溶剤):100質量部
・重合開始剤(イルガキュア184、BASFジャパン社製):4質量部
(Composition for antistatic hard coat layer 8)
-Quaternary ammonium base-containing antistatic agent (antistatic agent, product name "1SX3000", manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 10,000 to 20,000 (estimated value)): 6 parts by mass (solid content conversion value)
-Urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name "U-15HA", Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 15 functions, weight average molecular weight: 4,000): 36.0 parts by mass-Dipentaerythritol hexaacrylate (No. Acrylate monomer No. 1, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., 6-functional, weight average molecular weight 500): 27.0 parts by mass Tetraethylene glycol diacrylate (second acrylate monomer, product name "M-240", Toho Synthetic Equity Made by company, bifunctional, weight average molecular weight 302): 31.0 parts by mass · methyl ethyl ketone (penetrable solvent): 100 parts by mass · polymerization initiator (IRGACURE 184, manufactured by BASF Japan Ltd.): 4 parts by mass

(帯電防止性ハードコート層用組成物9)
・第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤(帯電防止剤、製品名「コルコートNR121X」、コルコート株式会社製、重量平均分子量10,000〜20,000(推測値)):2質量部(固形分換算値)
・ウレタンアクリレート(光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「U−15HA」、新中村化学工業株式会社製、15官能、重量平均分子量4,000):37.0質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート(第1のアクリレートモノマー、製品名「M−450」、東亞合成株式会社製、4官能、重量平均分子量400):29.0質量部
・テトラエチレングリコールジアクリレート(第2のアクリレートモノマー、製品名「M−240」、東亞合成株式会社製、2官能、重量平均分子量302):32.0質量部
・メチルエチルケトン(浸透性溶剤):100質量部
・重合開始剤(イルガキュア184、BASFジャパン社製):4質量部
(Composition 9 for antistatic hard coat layer)
-Quaternary ammonium base-containing antistatic agent (antistatic agent, product name "Corcoat NR121X", manufactured by Corcoat Co., Ltd., weight average molecular weight 10,000 to 20,000 (estimated value)): 2 parts by mass (solid content conversion) value)
-Urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name "U-15HA", Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 15 functions, weight average molecular weight: 4,000): 37.0 parts by mass-Pentaerythritol tetraacrylate (first Acrylate monomer, product name “M-450”, manufactured by Toagosei Co., Ltd., tetrafunctional, weight average molecular weight 400): 29.0 parts by mass tetraethylene glycol diacrylate (second acrylate monomer, product name “M- 240 ", manufactured by Toagosei Co., Ltd., bifunctional, weight average molecular weight 302): 32.0 parts by mass · methyl ethyl ketone (penetrating solvent): 100 parts by mass · polymerization initiator (IRGACURE 184, manufactured by BASF Japan Ltd.): 4 parts Department

(帯電防止性ハードコート層用組成物10)
・第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤(帯電防止剤、製品名「1SX3000」、大成ファインケミカル株式会社製、重量平均分子量10,000〜20,000(推測値)):2質量部(固形分換算値)
・ウレタンアクリレート(光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「U−15HA」、新中村化学工業株式会社製、15官能、重量平均分子量4,000):37質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(第1のアクリレートモノマー、日本化薬株式会社製、6官能、重量平均分子量500):29質量部
・イソシアヌル酸EO変性ジおよびトリアクリレート(第2のアクリレートモノマー、製品名「M−315」、東亞合成株式会社製、2官能、重量平均分子量390):32質量部
・メチルエチルケトン(浸透性溶剤):100質量部
・重合開始剤(イルガキュア184、BASFジャパン社製):4質量部
(Composition 10 for antistatic hard coat layer)
-Quaternary ammonium base-containing antistatic agent (antistatic agent, product name "1SX3000", manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 10,000 to 20,000 (estimated value)): 2 parts by mass (solid content conversion value)
-Urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name "U-15HA", manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 15 functions, weight average molecular weight 4,000): 37 parts by mass-Dipentaerythritol hexaacrylate (first Acrylate monomer, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., 6-functional, weight average molecular weight 500): 29 parts by mass ・ Esocyanate EO modified di- and triacrylate (second acrylate monomer, product name "M-315", Toagosei Co., Ltd. Product, bifunctional, weight average molecular weight 390): 32 parts by mass · methyl ethyl ketone (penetrating solvent): 100 parts by mass · polymerization initiator (IRGACURE 184, manufactured by BASF Japan Ltd.): 4 parts by mass

(帯電防止性ハードコート層用組成物11)
・第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤(帯電防止剤、製品名「1SX3000」、大成ファインケミカル株式会社製、重量平均分子量10,000〜20,000(推測値)):2質量部(固形分換算値)
・ウレタンアクリレート(光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「U−15HA」、新中村化学工業株式会社製、15官能、重量平均分子量4,000):37.0質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート(第1のアクリレートモノマー、製品名「M−450」、東亞合成株式会社製、4官能、重量平均分子量400):29.0質量部
・テトラエチレングリコールジアクリレート(第2のアクリレートモノマー、製品名「M−240」、東亞合成株式会社製、2官能、重量平均分子量302):32.0質量部
・メチルエチルケトン(浸透性溶剤):100質量部
・重合開始剤(イルガキュア184、BASFジャパン社製):4質量部
(Composition 11 for antistatic hard coat layer)
-Quaternary ammonium base-containing antistatic agent (antistatic agent, product name "1SX3000", manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 10,000 to 20,000 (estimated value)): 2 parts by mass (solid content conversion value)
-Urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name "U-15HA", Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 15 functions, weight average molecular weight: 4,000): 37.0 parts by mass-Pentaerythritol tetraacrylate (first Acrylate monomer, product name “M-450”, manufactured by Toagosei Co., Ltd., tetrafunctional, weight average molecular weight 400): 29.0 parts by mass tetraethylene glycol diacrylate (second acrylate monomer, product name “M- 240 ", manufactured by Toagosei Co., Ltd., bifunctional, weight average molecular weight 302): 32.0 parts by mass · methyl ethyl ketone (penetrating solvent): 100 parts by mass · polymerization initiator (IRGACURE 184, manufactured by BASF Japan Ltd.): 4 parts Department

(帯電防止性ハードコート層用組成物12)
・第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤(帯電防止剤、製品名「1SX3000」、大成ファインケミカル株式会社製、重量平均分子量10,000〜20,000(推測値)):2質量部(固形分換算値)
・ウレタンアクリレート(光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「U−15HA」、新中村化学工業株式会社製、15官能、重量平均分子量4,000):37質量部
・ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート(第1のアクリレートモノマー、製品名「M−408」、4官能、重量平均分子量500):29質量部
・テトラエチレングリコールジアクリレート(第2のアクリレートモノマー、製品名「M−240」、東亞合成株式会社製、2官能、重量平均分子量302):32質量部
・メチルエチルケトン(浸透性溶剤):100質量部
・重合開始剤(イルガキュア184、BASFジャパン社製):4質量部
(Composition for antistatic hard coat layer 12)
-Quaternary ammonium base-containing antistatic agent (antistatic agent, product name "1SX3000", manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 10,000 to 20,000 (estimated value)): 2 parts by mass (solid content conversion value)
· Urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name "U-15HA", manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 15 functions, weight average molecular weight 4,000): 37 parts by mass · Ditrimethylolpropane tetraacrylate (first Acrylate monomer, product name "M-408", tetrafunctional, weight average molecular weight 500): 29 parts by mass Tetraethylene glycol diacrylate (second acrylate monomer, product name "M-240", manufactured by Toagosei Co., Ltd. Bifunctional, weight average molecular weight 302): 32 parts by mass · methyl ethyl ketone (penetrable solvent): 100 parts by mass · polymerization initiator (IRGACURE 184, manufactured by BASF Japan Ltd.): 4 parts by mass

(帯電防止性ハードコート層用組成物13)
・第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤(帯電防止剤、製品名「1SX3000」、大成ファインケミカル株式会社製、重量平均分子量10,000〜20,000(推測値)):2質量部(固形分換算値)
・ウレタンアクリレート(光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「ビームセット577」、荒川化学工業株式会社製、重量平均分子量1,000):37質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(第1のアクリレートモノマー、日本化薬株式会社製、6官能、重量平均分子量500):29質量部
・テトラエチレングリコールジアクリレート(第2のアクリレートモノマー、製品名「M−240」、東亞合成株式会社製、2官能、重量平均分子量302):32質量部
・メチルエチルケトン(浸透性溶剤):100質量部
・重合開始剤(イルガキュア184、BASFジャパン社製):4質量部
(Composition 13 for antistatic hard coat layer)
-Quaternary ammonium base-containing antistatic agent (antistatic agent, product name "1SX3000", manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 10,000 to 20,000 (estimated value)): 2 parts by mass (solid content conversion value)
-Urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name: "Beamset 577", manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd., weight average molecular weight: 1,000): 37 parts by mass-Dipentaerythritol hexaacrylate (first acrylate monomer, Japan Kayaku Co., Ltd., 6-functional, weight average molecular weight 500): 29 parts by mass · Tetraethylene glycol diacrylate (second acrylate monomer, product name "M-240", manufactured by Toagosei Co., Ltd., bifunctional, weight average Molecular weight 302): 32 parts by mass · Methyl ethyl ketone (penetrating solvent): 100 parts by mass · Polymerization initiator (IRGACURE 184, manufactured by BASF Japan Ltd.): 4 parts by mass

(帯電防止性ハードコート層用組成物14)
・第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤(帯電防止剤、製品名「1SX3000」、大成ファインケミカル株式会社製、重量平均分子量10,000〜20,000(推測値)):2質量部(固形分換算値)
・ウレタンアクリレート(光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「U−15HA」、新中村化学工業株式会社製、15官能、重量平均分子量4,000):37質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(第1のアクリレートモノマー、日本化薬株式会社製、6官能、重量平均分子量500):52質量部
・テトラエチレングリコールジアクリレート(第2のアクリレートモノマー、製品名「M−240」、東亞合成株式会社製、2官能、重量平均分子量302):9質量部
・メチルエチルケトン(浸透性溶剤):100質量部
・重合開始剤(イルガキュア184、BASFジャパン社製):4質量部
(Composition 14 for antistatic hard coat layer)
-Quaternary ammonium base-containing antistatic agent (antistatic agent, product name "1SX3000", manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 10,000 to 20,000 (estimated value)): 2 parts by mass (solid content conversion value)
-Urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name "U-15HA", manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 15 functions, weight average molecular weight 4,000): 37 parts by mass-Dipentaerythritol hexaacrylate (first Acrylate monomer, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., 6-functional, weight average molecular weight 500): 52 parts by mass Tetraethylene glycol diacrylate (second acrylate monomer, product name “M-240”, manufactured by Toagosei Co., Ltd., 2 Functionality, weight average molecular weight 302): 9 parts by mass · Methyl ethyl ketone (penetrable solvent): 100 parts by mass · Polymerization initiator (IRGACURE 184, manufactured by BASF Japan Ltd.): 4 parts by mass

(帯電防止性ハードコート層用組成物15)
・第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤(帯電防止剤、製品名「1SX3000」、大成ファインケミカル株式会社製、重量平均分子量10,000〜20,000(推測値)):2質量部(固形分換算値)
・ウレタンアクリレート(光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「U−15HA」、新中村化学工業株式会社製、15官能、重量平均分子量4,000):37質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(第1のアクリレートモノマー、日本化薬株式会社製、6官能、重量平均分子量500):11質量部
・テトラエチレングリコールジアクリレート(第2のアクリレートモノマー、製品名「M−240」、東亞合成株式会社製、2官能、重量平均分子量302):50質量部
・メチルエチルケトン(浸透性溶剤):100質量部
・重合開始剤(イルガキュア184、BASFジャパン社製):4質量部
(Composition 15 for antistatic hard coat layer)
-Quaternary ammonium base-containing antistatic agent (antistatic agent, product name "1SX3000", manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 10,000 to 20,000 (estimated value)): 2 parts by mass (solid content conversion value)
-Urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name "U-15HA", manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 15 functions, weight average molecular weight 4,000): 37 parts by mass-Dipentaerythritol hexaacrylate (first Acrylate monomer, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., 6-functional, weight average molecular weight 500): 11 parts by mass Tetraethylene glycol diacrylate (second acrylate monomer, product name “M-240”, manufactured by Toagosei Co., Ltd., 2 Functionality, weight average molecular weight 302): 50 parts by mass · methyl ethyl ketone (penetrable solvent): 100 parts by mass · polymerization initiator (IRGACURE 184, manufactured by BASF Japan Ltd.): 4 parts by mass

(帯電防止性ハードコート層用組成物16)
・第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤(帯電防止剤、製品名「1SX3000」、大成ファインケミカル株式会社製、重量平均分子量10,000〜20,000(推測値)):2質量部(固形分換算値)
・ウレタンアクリレート(光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「U−15HA」、新中村化学工業株式会社製、15官能、重量平均分子量4,000):62質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(第1のアクリレートモノマー、日本化薬株式会社製、6官能、重量平均分子量500):4質量部
・テトラエチレングリコールジアクリレート(第2のアクリレートモノマー、製品名「M−240」、東亞合成株式会社製、2官能、重量平均分子量302):32質量部
・メチルエチルケトン(浸透性溶剤):100質量部
・重合開始剤(イルガキュア184、BASFジャパン社製):4質量部
(Composition 16 for antistatic hard coat layer)
-Quaternary ammonium base-containing antistatic agent (antistatic agent, product name "1SX3000", manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 10,000 to 20,000 (estimated value)): 2 parts by mass (solid content conversion value)
· Urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name "U-15HA", Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 15 functions, weight average molecular weight 4,000): 62 parts by mass · Dipentaerythritol hexaacrylate (first Acrylate monomer, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., 6-functional, weight average molecular weight 500): 4 parts by mass Tetraethylene glycol diacrylate (second acrylate monomer, product name “M-240”, manufactured by Toagosei Co., Ltd., 2 Functionality, weight average molecular weight 302): 32 parts by mass · methyl ethyl ketone (penetrating solvent): 100 parts by mass · polymerization initiator (IRGACURE 184, manufactured by BASF Japan Ltd.): 4 parts by mass

(帯電防止性ハードコート層用組成物17)
・第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤(帯電防止剤、製品名「1SX3000」、大成ファインケミカル株式会社製、重量平均分子量10,000〜20,000(推測値)):2質量部(固形分換算値)
・ウレタンアクリレート(光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「U−15HA」、新中村化学工業株式会社製、15官能、重量平均分子量4,000):62質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(第1のアクリレートモノマー、日本化薬株式会社製、6官能、重量平均分子量500):26質量部
・テトラエチレングリコールジアクリレート(第2のアクリレートモノマー、製品名「M−240」、東亞合成株式会社製、2官能、重量平均分子量302):4質量部
・メチルエチルケトン(浸透性溶剤):100質量部
・重合開始剤(イルガキュア184、BASFジャパン社製):4質量部
(Composition 17 for antistatic hard coat layer)
-Quaternary ammonium base-containing antistatic agent (antistatic agent, product name "1SX3000", manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 10,000 to 20,000 (estimated value)): 2 parts by mass (solid content conversion value)
· Urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name "U-15HA", Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 15 functions, weight average molecular weight 4,000): 62 parts by mass · Dipentaerythritol hexaacrylate (first Acrylate monomer, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., 6-functional, weight average molecular weight 500): 26 parts by mass Tetraethylene glycol diacrylate (second acrylate monomer, product name “M-240”, manufactured by Toagosei Co., Ltd., 2 Functionality, weight average molecular weight 302): 4 parts by mass · methyl ethyl ketone (penetrable solvent): 100 parts by mass · polymerization initiator (IRGACURE 184, manufactured by BASF Japan Ltd.): 4 parts by mass

(帯電防止性ハードコート層用組成物18)
・第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤(帯電防止剤、製品名「1SX3000」、大成ファインケミカル株式会社製、重量平均分子量10,000〜20,000(推測値)):2質量部(固形分換算値)
・ウレタンアクリレート(光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「U−15HA」、新中村化学工業株式会社製、15官能、重量平均分子量4,000):37質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(第1のアクリレートモノマー、日本化薬株式会社製、6官能、重量平均分子量500):34質量部
・テトラエチレングリコールジアクリレート(第2のアクリレートモノマー、製品名「M−240」、東亞合成株式会社製、2官能、重量平均分子量302):16質量部
・トリメチロールプロパントリメタクリレート(メタクリレートモノマー、共栄社化学株式会社製、3官能、重量平均分子量300):11質量部
・メチルエチルケトン(浸透性溶剤):100質量部
・重合開始剤(イルガキュア184、BASFジャパン社製):4質量部
(Composition for antistatic hard coat layer 18)
-Quaternary ammonium base-containing antistatic agent (antistatic agent, product name "1SX3000", manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 10,000 to 20,000 (estimated value)): 2 parts by mass (solid content conversion value)
-Urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name "U-15HA", manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 15 functions, weight average molecular weight 4,000): 37 parts by mass-Dipentaerythritol hexaacrylate (first Acrylate monomer, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., 6-functional, weight average molecular weight 500): 34 parts by mass Tetraethylene glycol diacrylate (second acrylate monomer, product name “M-240”, manufactured by Toagosei Co., Ltd., 2 Functional, weight average molecular weight 302): 16 parts by weight · trimethylolpropane trimethacrylate (methacrylate monomer, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., trifunctional, weight average molecular weight 300): 11 parts by weight · methyl ethyl ketone (permeable solvent): 100 parts by weight Polymerization initiator (IRGACURE 184, BASF Japan Company): 4 parts by mass

(帯電防止性ハードコート層用組成物19(2液構成))
帯電防止剤含有ハードコート層用組成物
・第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤(帯電防止剤、製品名「1SX3000」、大成ファインケミカル株式会社製、重量平均分子量10,000〜20,000(推測値)):2質量部(固形分換算値)
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(第1のアクリレートモノマー、日本化薬株式会社製、6官能、重量平均分子量500):47.5質量部
・テトラエチレングリコールジアクリレート(第2のアクリレートモノマー、製品名「M−240」、東亞合成株式会社製、2官能、重量平均分子量302):50.5質量部
・メチルエチルケトン(浸透性溶剤):40質量部
・重合開始剤(イルガキュア184、BASFジャパン社製):4質量部
帯電防止剤非含有ハードコート層用組成物
・ウレタンアクリレート(光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「U−15HA」、新中村化学工業株式会社製、15官能、重量平均分子量4,000):100質量部
・メチルエチルケトン:40質量部(浸透性溶剤)
・重合開始剤(イルガキュア184、BASFジャパン社製):4質量部
(Composition 19 for antistatic hard coat layer (two-liquid composition))
Antistatic agent-containing composition for hard coat layer • quaternary ammonium base-containing antistatic agent (antistatic agent, product name “1SX3000”, manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 10,000 to 20,000 (estimated value) ): 2 parts by mass (solid content conversion value)
-Dipentaerythritol hexaacrylate (first acrylate monomer, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., 6-functional, weight average molecular weight 500): 47.5 parts by mass-Tetraethylene glycol diacrylate (second acrylate monomer, product name " M-240 ", manufactured by Toagosei Co., Ltd., bifunctional, weight average molecular weight 302): 50.5 parts by mass. Methyl ethyl ketone (penetrating solvent): 40 parts by mass. Polymerization initiator (IRGACURE 184, manufactured by BASF Japan Ltd.): 4 parts by mass
Antistatic agent-free composition for hard coat layer · Urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name "U-15HA", manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 15 functions, weight average molecular weight 4,000): 100 mass Part · Methyl ethyl ketone: 40 parts by mass (penetrable solvent)
Polymerization initiator (IRGACURE 184, manufactured by BASF Japan Ltd.): 4 parts by mass

(帯電防止性ハードコート層用組成物20)
・ジメチルアミノエチルアクリレート塩化メチル四級塩(製品名「DMAEA−Q」、株式会社興人製、重量平均分子量194):2質量部(固形分換算値)
・ウレタンアクリレート(光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「U−15HA」、新中村化学工業株式会社製、15官能、重量平均分子量4,000):37質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(第1のアクリレートモノマー、日本化薬株式会社製、6官能、重量平均分子量500):29質量部
・テトラエチレングリコールジアクリレート(第2のアクリレートモノマー、製品名「M−240」、東亞合成株式会社製、2官能、重量平均分子量302):32質量部
・メチルエチルケトン(浸透性溶剤):100質量部
・重合開始剤(イルガキュア184、BASFジャパン社製):4質量部
(Composition for antistatic hard coat layer 20)
-Dimethylamino ethyl acrylate methyl chloride quaternary salt (product name "DMAEA-Q", manufactured by Kojin Co., Ltd., weight average molecular weight 194): 2 parts by mass (solid content conversion value)
-Urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name "U-15HA", manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 15 functions, weight average molecular weight 4,000): 37 parts by mass-Dipentaerythritol hexaacrylate (first Acrylate monomer, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., 6-functional, weight average molecular weight 500): 29 parts by mass Tetraethylene glycol diacrylate (second acrylate monomer, product name “M-240”, manufactured by Toagosei Co., Ltd., 2 Functionality, weight average molecular weight 302): 32 parts by mass · methyl ethyl ketone (penetrating solvent): 100 parts by mass · polymerization initiator (IRGACURE 184, manufactured by BASF Japan Ltd.): 4 parts by mass

(帯電防止性ハードコート層用組成物21)
・ジメチルアミノプロピルアクリルアミド塩化メチル四級塩(製品名「DMAPAA−Q」、株式会社興人製、重量平均分子量207):2質量部(固形分換算値)
・ウレタンアクリレート(光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「U−15HA」、新中村化学工業株式会社製、15官能、重量平均分子量4,000):37質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(第1のアクリレートモノマー、日本化薬株式会社製、6官能、重量平均分子量500):29質量部
・テトラエチレングリコールジアクリレート(第2のアクリレートモノマー、製品名「M−240」、東亞合成株式会社製、2官能、重量平均分子量302):32質量部
・メチルエチルケトン(浸透性溶剤):100質量部
・重合開始剤(イルガキュア184、BASFジャパン社製):4質量部
(Composition 21 for antistatic hard coat layer)
-Dimethylaminopropyl acrylamide methyl chloride quaternary salt (product name "DMAPAA-Q", manufactured by Kojin Co., Ltd., weight average molecular weight 207): 2 parts by mass (solid content conversion value)
-Urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name "U-15HA", manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 15 functions, weight average molecular weight 4,000): 37 parts by mass-Dipentaerythritol hexaacrylate (first Acrylate monomer, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., 6-functional, weight average molecular weight 500): 29 parts by mass Tetraethylene glycol diacrylate (second acrylate monomer, product name “M-240”, manufactured by Toagosei Co., Ltd., 2 Functionality, weight average molecular weight 302): 32 parts by mass · methyl ethyl ketone (penetrating solvent): 100 parts by mass · polymerization initiator (IRGACURE 184, manufactured by BASF Japan Ltd.): 4 parts by mass

(帯電防止性ハードコート層用組成物22)
・第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤(重量平均分子量80,000):2質量部(固形分換算値)
・ウレタンアクリレート(光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「U−15HA、新中村化学工業株式会社製、15官能、重量平均分子量4,000):37質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(第1のアクリレートモノマー、日本化薬株式会社製、6官能、重量平均分子量500):29質量部
・テトラエチレングリコールジアクリレート(第2のアクリレートモノマー、製品名「M−240」、東亞合成株式会社製、2官能、重量平均分子量302):32質量部
・メチルエチルケトン(浸透性溶剤):100質量部
・重合開始剤(イルガキュア184、BASFジャパン社製):4質量部
(Composition 22 for antistatic hard coat layer)
· Quaternary ammonium base-containing antistatic agent (weight average molecular weight 80,000): 2 parts by mass (solid content conversion value)
-Urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name "U-15HA, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 15 functions, weight average molecular weight 4,000): 37 parts by mass-Dipentaerythritol hexaacrylate (first acrylate) Monomer, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., 6-functional, weight average molecular weight 500): 29 parts by mass Tetraethylene glycol diacrylate (second acrylate monomer, product name “M-240”, manufactured by Toagosei Co., Ltd., bifunctional Weight average molecular weight 302): 32 parts by mass · Methyl ethyl ketone (penetrable solvent): 100 parts by mass · Polymerization initiator (IRGACURE 184, manufactured by BASF Japan Ltd.): 4 parts by mass

(帯電防止性ハードコート層用組成物23)
・第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤(帯電防止剤、製品名「1SX3000」、大成ファインケミカル株式会社製、重量平均分子量10,000〜20,000(推測値)):2質量部(固形分換算値)
・ウレタンアクリレート(光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「U−15HA」、新中村化学工業株式会社製、15官能、重量平均分子量4,000):37質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(第1のアクリレートモノマー、日本化薬株式会社製、6官能、重量平均分子量500):29質量部
・ポリエステル系アクリレートオリゴマー(M−9050、東亞合成株式会社製、3官能、重量平均分子量400):32質量部
・メチルエチルケトン(浸透性溶剤):100質量部
・重合開始剤(イルガキュア184、BASFジャパン社製):4質量部
(Composition 23 for antistatic hard coat layer)
-Quaternary ammonium base-containing antistatic agent (antistatic agent, product name "1SX3000", manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 10,000 to 20,000 (estimated value)): 2 parts by mass (solid content conversion value)
-Urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name "U-15HA", manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 15 functions, weight average molecular weight 4,000): 37 parts by mass-Dipentaerythritol hexaacrylate (first Acrylate monomer, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., 6-functional, weight average molecular weight 500): 29 parts by mass · Polyester-based acrylate oligomer (M-9050, manufactured by Toagosei Co., Ltd., trifunctional, weight average molecular weight 400): 32 parts by mass -Methyl ethyl ketone (permeable solvent): 100 parts by mass-Polymerization initiator (IRGACURE 184, manufactured by BASF Japan Ltd.): 4 parts by mass

(帯電防止性ハードコート層用組成物24)
・第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤(帯電防止剤、製品名「1SX3000」、大成ファインケミカル株式会社製、重量平均分子量10,000〜20,000(推測値)):2質量部(固形分換算値)
・ウレタンアクリレート(光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「U−15HA」、新中村化学工業株式会社製、15官能、重量平均分子量4,000):37質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(第1のアクリレートモノマー、日本化薬株式会社製、6官能、重量平均分子量500):29質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート(光重合性化合物、製品名「PET−30」、株式会社ニッカファインテクノ製、3官能、重量平均分子量300):32質量部
・メチルエチルケトン(浸透性溶剤):100質量部
・重合開始剤(イルガキュア184、BASFジャパン社製):4質量部
(Composition for antistatic hard coat layer 24)
-Quaternary ammonium base-containing antistatic agent (antistatic agent, product name "1SX3000", manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 10,000 to 20,000 (estimated value)): 2 parts by mass (solid content conversion value)
-Urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name "U-15HA", manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 15 functions, weight average molecular weight 4,000): 37 parts by mass-Dipentaerythritol hexaacrylate (first Acrylate monomer, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., 6-functional, weight average molecular weight 500): 29 parts by mass · Pentaerythritol triacrylate (photopolymerizable compound, product name "PET-30", manufactured by Nikka Fine Techno Co., Ltd., trifunctional Weight average molecular weight 300): 32 parts by mass · Methyl ethyl ketone (penetrable solvent): 100 parts by mass · Polymerization initiator (IRGACURE 184, manufactured by BASF Japan Ltd.): 4 parts by mass

(帯電防止性ハードコート層用組成物25)
・第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤(帯電防止剤、製品名「1SX3000」、大成ファインケミカル株式会社製、重量平均分子量10,000〜20,000(推測値)):2質量部(固形分換算値)
・ウレタンアクリレート(製品名「EBECRYL5129」、ダイセル・サイテック株式会社製、6官能、重量平均分子量800):37質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(第1のアクリレートモノマー、日本化薬株式会社製、6官能、重量平均分子量500):29質量部
・テトラエチレングリコールジアクリレート(第2のアクリレートモノマー、製品名「M−240」、東亞合成株式会社製、2官能、重量平均分子量302):32質量部
・メチルエチルケトン(浸透性溶剤):100質量部
・重合開始剤(イルガキュア184、BASFジャパン社製):4質量部
(Composition for antistatic hard coat layer 25)
-Quaternary ammonium base-containing antistatic agent (antistatic agent, product name "1SX3000", manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 10,000 to 20,000 (estimated value)): 2 parts by mass (solid content conversion value)
Urethane acrylate (Product name “EBECRYL 5129”, manufactured by Daicel-Cytec, 6 functions, weight average molecular weight 800): 37 parts by mass Dipentaerythritol hexaacrylate (first acrylate monomer, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. 6 Functional, weight average molecular weight 500): 29 parts by weight · tetraethylene glycol diacrylate (second acrylate monomer, product name "M-240", manufactured by Toagosei Co., Ltd., bifunctional, weight average molecular weight 302): 32 parts by weight -Methyl ethyl ketone (permeable solvent): 100 parts by mass-Polymerization initiator (IRGACURE 184, manufactured by BASF Japan Ltd.): 4 parts by mass

(帯電防止性ハードコート層用組成物26)
・第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤(帯電防止剤、製品名「1SX3000」、大成ファインケミカル株式会社製、重量平均分子量10,000〜20,000(推測値)):2質量部(固形分換算値)
・ウレタンアクリレート(光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「U−15HA」、新中村化学工業株式会社製、15官能、重量平均分子量4,000):37質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート(製品名「PET−30」、株式会社ニッカファインテクノ製、3官能、重量平均分子量300):29質量部
・テトラエチレングリコールジアクリレート(第2のアクリレートモノマー、製品名「M−240」、東亞合成株式会社製、2官能、重量平均分子量302):32質量部
・メチルエチルケトン(浸透性溶剤):100質量部
・重合開始剤(製品名「イルガキュア184」、BASFジャパン社製):4質量部
(Composition 26 for antistatic hard coat layer)
-Quaternary ammonium base-containing antistatic agent (antistatic agent, product name "1SX3000", manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 10,000 to 20,000 (estimated value)): 2 parts by mass (solid content conversion value)
-Urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name "U-15HA", manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 15 functions, weight average molecular weight 4,000): 37 parts by mass-Pentaerythritol triacrylate (product name "PET" -30 ", manufactured by Nikka Fine Techno Co., Ltd., trifunctional, weight average molecular weight 300): 29 parts by mass Tetraethylene glycol diacrylate (second acrylate monomer, product name" M-240 ", manufactured by Toagosei Co., Ltd. Bifunctional, weight average molecular weight 302): 32 parts by mass ・ methyl ethyl ketone (penetrable solvent): 100 parts by mass ・ polymerization initiator (product name “IRGACURE 184”, manufactured by BASF Japan Ltd.): 4 parts by mass

<光硬化性低屈折率層用組成物の調製>
下記に示す組成となるように各成分を配合して、光硬化性低屈折率層用組成物を得た。
(光硬化性低屈折率層用組成物)
・トリメチロールプロパントリアクリレート(製品名「ライトアクリレートTMP−A」、共栄社化学製、3官能):100質量部
・中空シリカ微粒子分散液(微粒子、製品名「スルーリア4320」、日揮触媒化株式会社製、平均粒径60nm、固形分20質量%):100質量部(固形分値)
・メチルイソブチルケトン:70質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート:30質量部
・重合開始剤(イルガキュア127、BASFジャパン社製):0.07部
<Preparation of composition for photocurable low refractive index layer>
Each component was mix | blended so that it might become a composition shown below, and the composition for photocurable low-refractive-index layers was obtained.
(Composition for photocurable low refractive index layer)
· Trimethylolpropane triacrylate (product name "Light Acrylate TMP-A", manufactured by Kyoeisha Chemical, trifunctional): 100 parts by mass · Hollow silica fine particle dispersion (fine particles, product name "Surria 4320", manufactured by JGC Co., Ltd. , Average particle diameter 60 nm, solid content 20 mass%): 100 mass parts (solid content value)
Methyl isobutyl ketone: 70 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether acetate: 30 parts by mass Polymerization initiator (IRGACURE 127, manufactured by BASF Japan Ltd.): 0.07 parts

<実施例1>
光透過性基材としての厚さ60μmのトリアセチルセルロース基材(富士フィルム社製、TD60UL)を準備し、トリアセチルセルロースフィルムの片面に、帯電防止性ハードコート層用組成物1を塗布し、塗膜を形成した。次いで、形成した塗膜に対して、0.2m/sの流速で70℃の乾燥空気を15秒間流通させた後、さらに10m/sの流速で70℃の乾燥空気を30秒間流通させて乾燥させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させた。その後、紫外線を窒素雰囲気(酸素濃度200ppm以下)下にて積算光量が30mJ/cmになるように照射して塗膜を半硬化させた。塗膜を半硬化させた後、半硬化した塗膜上に光硬化性低屈折率層用組成物を塗布し、半硬化した帯電防止性ハードコート層用組成物1の塗膜上に光硬化性低屈折率層用組成物の塗膜を形成した。そして、形成した塗膜に対して、0.2m/sの流速で70℃の乾燥空気を15秒間流通させた後、さらに10m/sの流速で70℃の乾燥空気を30秒間流通させて乾燥させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させた。最後に、紫外線を窒素雰囲気(酸素濃度200ppm以下)下にて積算光量が150mJ/cmになるように照射して塗膜を完全硬化させて、膜厚が8μmの帯電防止性ハードコート層および膜厚が0.1μmの低屈折率層を形成し、実施例1に係る光学フィルムを作製した。
Example 1
Prepare a 60 μm thick triacetyl cellulose substrate (TD 60 UL, manufactured by Fuji Film Co., Ltd.) as a light transmitting substrate, and apply the composition 1 for antistatic hard coat layer on one side of the triacetyl cellulose film, A coating was formed. Next, after flowing dry air at 70 ° C. for 15 seconds at a flow rate of 0.2 m / s to the formed coating film, drying is further allowed to flow for 30 seconds at 70 ° C. at a flow rate of 10 m / s for drying The solvent in the coating was evaporated by Thereafter, ultraviolet light was irradiated in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) so that the integrated light amount was 30 mJ / cm 2 to semi-cure the coating. After the coating is semi-cured, the composition for a photocurable low refractive index layer is applied onto the semi-cured coating, and the composition is photocured on the coating of the composition 1 for antistatic hard coat layer semi-cured. Film of the composition for the low refractive index layer was formed. Then, after flowing dry air at 70 ° C. for 15 seconds at a flow rate of 0.2 m / s to the formed coating film, dry air at 70 ° C. for 30 seconds at a flow rate of 10 m / s further for drying The solvent in the coating was evaporated by Finally, ultraviolet rays are irradiated under a nitrogen atmosphere (oxygen concentration 200 ppm or less) so that the integrated light quantity is 150 mJ / cm 2 to completely cure the coating film, and an antistatic hard coat layer having a thickness of 8 μm and A low refractive index layer having a thickness of 0.1 μm was formed, and an optical film according to Example 1 was produced.

<実施例2〜18、比較例3〜9>
実施例2〜18、比較例3〜9においては、帯電防止性ハードコート層用組成物として表1に示すものを用いた以外は、実施例1と同様の方法により光学フィルムを作製した。
Examples 2 to 18 and Comparative Examples 3 to 9
In Examples 2 to 18 and Comparative Examples 3 to 9, an optical film was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition shown in Table 1 was used as the composition for antistatic hard coat layer.

<実施例19>
光透過性基材としての厚さ60μmのトリアセチルセルロース基材(富士フィルム社製、TD60UL)を準備し、トリアセチルセルロースフィルムの片面に、帯電防止性ハードコート層用組成物19における帯電防止剤含有ハードコート層用組成物の塗膜が、帯電防止性ハードコート層用組成物19における帯電防止剤非含有ハードコート層用組成物の塗膜よりもトリアセチルセルロース基材側となるように、帯電防止剤含有ハードコート層用組成物および帯電防止剤非含有ハードコート層用組成物を同時に塗布し、帯電防止剤含有ハードコート層用組成物の塗膜および帯電防止剤非含有ハードコート層用組成物の塗膜を形成した。次いで、形成したこれらの塗膜に対して、0.2m/sの流速で70℃の乾燥空気を15秒間流通させた後、さらに10m/sの流速で70℃の乾燥空気を30秒間流通させて乾燥させることによりこれらの塗膜中の溶剤を蒸発させた。その後、紫外線を窒素雰囲気(酸素濃度200ppm以下)下にて積算光量が30mJ/cmになるように照射してこれらの塗膜を半硬化させた。これらの塗膜を半硬化させた後、半硬化した帯電防止剤非含有ハードコート層用組成物の塗膜上に光硬化性低屈折率層用組成物を塗布し、半硬化した帯電防止剤非含有ハードコート層用組成物の塗膜上に光硬化性低屈折率層用組成物の塗膜を形成した。そして、形成した塗膜に対して、0.2m/sの流速で70℃の乾燥空気を15秒間流通させた後、さらに10m/sの流速で70℃の乾燥空気を30秒間流通させて乾燥させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させた。最後に、紫外線を窒素雰囲気(酸素濃度200ppm以下)下にて積算光量が150mJ/cmになるように照射して塗膜を完全硬化させて、膜厚が1.0μmの帯電防止剤非含有ハードコート層と膜厚が7.0μmの帯電防止剤含有ハードコート層とからなる8μmの帯電防止性ハードコート層および膜厚が0.1μmの低屈折率層を形成し、実施例19に係る光学フィルムを作製した。
Example 19
A 60 μm thick triacetyl cellulose substrate (TD 60 UL, manufactured by Fuji Film Co., Ltd.) as a light transmitting substrate is prepared, and the antistatic agent in the composition 19 for antistatic hard coat layer is formed on one side of the triacetyl cellulose film. In order that the coating film of the composition for containing hard coat layer is closer to the triacetyl cellulose substrate side than the coating film of the composition for containing no antistatic agent in the composition 19 for antistatic hard coat layer, An antistatic agent-containing hard coat layer composition and an antistatic agent-free hard coat layer composition are simultaneously applied, and the coating of the antistatic agent-containing hard coat layer composition and the antistatic agent-free hard coat layer A coating of the composition was formed. Then, after flowing dry air at 70 ° C. for 15 seconds at a flow rate of 0.2 m / s to these formed coatings, dry air at 70 ° C. for 30 seconds at a flow rate of 10 m / s The solvent in these coatings was evaporated by drying. Then, ultraviolet rays were irradiated in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) so that the integrated light amount was 30 mJ / cm 2 to semi-cure these coatings. After these coatings are semi-cured, the photocurable low refractive index layer composition is applied onto the coating of the semi-cured antistatic agent-free hard coat layer composition, and the semi-cured antistatic agent The coating film of the composition for photocurable low refractive index layers was formed on the coating film of the composition for non-containing hard-coat layers. Then, after flowing dry air at 70 ° C. for 15 seconds at a flow rate of 0.2 m / s to the formed coating film, dry air at 70 ° C. for 30 seconds at a flow rate of 10 m / s further for drying The solvent in the coating was evaporated by Finally, ultraviolet rays are irradiated in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) so that the integrated light quantity is 150 mJ / cm 2 to completely cure the coating film, and the film thickness is 1.0 μm, containing no antistatic agent. An 8 μm antistatic hard coat layer comprising a hard coat layer and an antistatic agent-containing hard coat layer having a thickness of 7.0 μm and a low refractive index layer having a thickness of 0.1 μm are formed. An optical film was produced.

<比較例1>
比較例1においては、帯電防止性ハードコート層の膜厚を3μmとした以外は、実施例1と同様の方法により光学フィルムを作製した。
Comparative Example 1
In Comparative Example 1, an optical film was produced in the same manner as in Example 1 except that the film thickness of the antistatic hard coat layer was 3 μm.

<比較例2>
比較例2においては、帯電防止性ハードコート層の膜厚を12μmとした以外は、実施例1と同様の方法により光学フィルムを作製した。
Comparative Example 2
In Comparative Example 2, an optical film was produced in the same manner as in Example 1 except that the film thickness of the antistatic hard coat layer was 12 μm.

<光学フィルムの評価>
上記実施例および比較例において作製された光学フィルムについて、それぞれ以下に示す試験を行って、評価した。ここで、以下に示す試験のうち表面抵抗値測定および耐擦傷性試験は、鹸化処理を施す前の光学フィルムと鹸化処理を施した後の光学フィルムについてそれぞれ行った。鹸化処理は、光学フィルムを、2規定に調整された55℃のNaOH水溶液に15秒〜5分浸漬することにより行われた。
<Evaluation of optical film>
The following tests were performed and evaluated about the optical film produced in the said Example and comparative example, respectively. Here, among the tests shown below, the surface resistance measurement and the abrasion resistance test were respectively performed on the optical film before the saponification treatment and the optical film after the saponification treatment. The saponification treatment was performed by immersing the optical film in a 55 ° C. NaOH aqueous solution adjusted to 2N for 15 seconds to 5 minutes.

(帯電防止剤の位置評価)
上記実施例および比較例で作製したそれぞれの光学フィルムについて、光学フィルム毎に複数のサンプルを用いて、帯電防止性ハードコート層中の帯電防止剤の位置を評価した。具体的には、実施例1に係る光学フィルムを評価するための複数のサンプルは、以下のようにして作製された。まず、実施例1で用いた帯電防止剤(第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤)と同じ帯電防止剤とメチルエチルケトンとを含む組成物を複数のトリアセチルセルロースフィルムの片面に塗布し、乾燥させて、各トリアセチルセルロースフィルム上に膜厚0.5μmの帯電防止層を形成した。次いで、各帯電防止層上に、帯電防止剤を含まず、かつジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)と、トルエンと、重合開始剤(製品名「イルガキュア184」、BASFジャパン社製)とを含む組成物を塗布し、紫外線を照射してハードコート層を形成して、複数のサンプルを作製した。ただし、各サンプルのハードコート層は、膜厚がサンプル毎に0.1μm刻みで異なるように形成された。複数のサンプルを用意した後、実施例1に係る鹸化処理前の光学フィルムの表面抵抗値、および各サンプルのハードコート層の表面抵抗値を測定し、実施例1に係る光学フィルムの表面抵抗値とほぼ同じ表面抵抗値を示すサンプルを探し出した。ここで、実施例1に係る光学フィルムにおいては、探し出されたサンプルとほぼ同じ表面抵抗値を示すので、このサンプルとほぼ同じ位置に帯電防止剤が存在すると評価できる。したがって、実施例1においては、帯電防止性ハードコート層の表面から、帯電防止性ハードコート層の深さ方向に、探し出されたサンプルのハードコート層の膜厚に相当する距離離れた位置に、帯電防止剤が存在すると評価できる。このように評価方法によって、求めた帯電防止剤の位置を表1に記載した。なお、表1における「帯電防止剤の位置」の欄に記載されている数値は、帯電防止性ハードコート層の表面からの深さを意味し、その位置に帯電防止剤が少なくとも存在することを意味する。実施例2〜19および比較例1〜9も同様に、上記のような評価方法によって、帯電防止性ハードコート層中の帯電防止剤の位置を求めた。
(Position evaluation of antistatic agent)
About each optical film produced by the said Example and comparative example, the position of the antistatic agent in an antistatic hard-coat layer was evaluated using several samples for every optical film. Specifically, a plurality of samples for evaluating the optical film according to Example 1 were produced as follows. First, a composition containing the same antistatic agent and methyl ethyl ketone as the antistatic agent (quaternary ammonium base-containing antistatic agent) used in Example 1 is applied to one surface of a plurality of triacetyl cellulose films and dried. Then, an antistatic layer with a film thickness of 0.5 μm was formed on each triacetyl cellulose film. Next, a composition containing no antistatic agent and containing dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA), toluene, and a polymerization initiator (product name “IRGACURE 184”, manufactured by BASF Japan Ltd.) on each antistatic layer. The product was applied and irradiated with ultraviolet light to form a hard coat layer to prepare a plurality of samples. However, the hard coat layer of each sample was formed so that the film thickness was different every 0.1 μm for each sample. After preparing a plurality of samples, the surface resistance value of the optical film before saponification treatment according to Example 1 and the surface resistance value of the hard coat layer of each sample are measured, and the surface resistance value of the optical film according to Example 1 The sample which shows the surface resistance value almost the same as and was searched out. Here, in the optical film according to Example 1, since the surface resistance value is substantially the same as that of the sample found, it can be evaluated that the antistatic agent is present at substantially the same position as this sample. Therefore, in Example 1, at a position away from the surface of the antistatic hard coat layer in the depth direction of the antistatic hard coat layer, by a distance corresponding to the thickness of the hard coat layer of the found sample. It can be evaluated that an antistatic agent is present. Thus, the position of the antistatic agent calculated | required by the evaluation method was described in Table 1. In addition, the numerical value described in the column of "the position of the antistatic agent" in Table 1 means the depth from the surface of the antistatic hard coat layer, and at least the antistatic agent is present at that position. means. Similarly, in Examples 2 to 19 and Comparative Examples 1 to 9, the position of the antistatic agent in the antistatic hard coat layer was determined by the evaluation method as described above.

(表面抵抗値測定)
上記実施例および比較例で作製したそれぞれの光学フィルムについて、表面抵抗値測定器(ハイレスタUP−HT450、株式会社三菱化学アナリテック製)を用いて表面抵抗値を測定した。
(Surface resistance measurement)
The surface resistance value of each of the optical films produced in the above Examples and Comparative Examples was measured using a surface resistance measurement device (Hiresta UP-HT450, manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd.).

(耐擦傷性評価)
上記実施例および比較例で作製したそれぞれの光学フィルムにおいて、スチールウール♯0000(製品名:ボンスター、日本スチールウール株式会社製)を用い、荷重300g/cmを加えながら、速度100mm/秒で10往復擦った後、トリアセチルセルロース基材における低屈折率層が形成されている面とは反対側の面に黒いテープを貼り、傷の有無を3波長蛍光ランプ下での目視により評価した。耐擦傷性試験の評価基準は以下の通りとした。
◎:傷が確認されなかった。
○:傷が若干確認されたが実用上問題のないレベルであった。
△:傷が○より多く確認された。
×:傷が多数確認された。
(Abrasion resistance evaluation)
In each of the optical films produced in the above Examples and Comparative Examples, steel wool # 0000 (product name: Bonstar, manufactured by Nippon Steel Wool Co., Ltd.) is used, and a load of 300 g / cm 2 is applied at a speed of 100 mm / sec. After reciprocal rubbing, a black tape was attached to the surface of the triacetylcellulose substrate opposite to the surface on which the low refractive index layer was formed, and the presence or absence of a scratch was visually evaluated under a three-wavelength fluorescent lamp. The evaluation criteria of the abrasion resistance test were as follows.
◎: no scratch was found.
○: Some scratches were observed but at a level that causes no practical problems.
Fair: more scratches were observed than ○.
X: Many scratches were confirmed.

(干渉縞観察評価)
実施例及び比較例で得られた各光学フィルムのトリアセチルセルロースフィルムにおける帯電防止性ハードコート層が形成されている面とは反対側の面に、透明粘着剤を介して、裏面反射を防止するための黒アクリル板を貼り、帯電防止性ハードコート層または低屈折率層側から各光学フィルムに光を照射し、目視で観察した。光源としては、フナテック社製の干渉縞検査ランプ(ナトリウムランプ)を使用した。干渉縞の発生を以下の基準により評価した。
◎:干渉縞は確認されなかった。
○:干渉縞はわずかに確認されたが、問題ないレベルであった。
×:干渉縞が明確に確認された。
(Interfering fringe observation evaluation)
The back surface reflection is prevented via a transparent adhesive on the surface of the triacetyl cellulose film of each of the optical films obtained in Examples and Comparative Examples on the opposite side to the surface on which the antistatic hard coat layer is formed. A black acryl plate for the purpose was attached, each optical film was irradiated with light from the side of the antistatic hard coat layer or the low refractive index layer, and was visually observed. As a light source, an interference fringe inspection lamp (sodium lamp) manufactured by Funatech Co., Ltd. was used. The occurrence of interference fringes was evaluated according to the following criteria.
◎: interference fringes were not confirmed.
○: The interference fringes were slightly confirmed, but at a level without any problem.
X: Interference fringes were clearly confirmed.

(鉛筆硬度評価)
実施例及び比較例で得られた各光学フィルムの表面に対して、4.9N荷重にて、鉛筆硬度が2Hの鉛筆を用いて、JIS K5600−5−4(1999)に規定される鉛筆硬度試験を3回行い、傷が付くか否かを評価した。なお、光学フィルムが低屈折率層を備えている場合には、低屈折率層の表面に対して鉛筆硬度試験を行い、光学フィルムが低屈折率層を備えていない場合には、帯電防止性ハードコート層の表面に対して鉛筆硬度試験を行った。
○:3回とも全く傷が付かなかった。
×:1回以上傷が付いた。
(Pencil hardness evaluation)
The pencil hardness defined in JIS K 5600-5-4 (1999) using a pencil having a pencil hardness of 2 H at a load of 4.9 N with respect to the surface of each optical film obtained in Examples and Comparative Examples The test was performed 3 times and it was evaluated whether it got damaged. When the optical film has a low refractive index layer, a pencil hardness test is performed on the surface of the low refractive index layer, and when the optical film does not have a low refractive index layer, the antistatic property is The pencil hardness test was performed on the surface of the hard coat layer.
○: No damage was found at all three times.
X: Scratched more than once.

(カール防止性評価)
実施例及び比較例で得られた各光学フィルムを、10cm×10cmにカットして、サンプル片を作製した。そして、このサンプル片を光透過性基材側が下となるように水平な台(平面)の上に置き、サンプル片の四隅が何mm浮いているかを測り、平均値(mm)でカール性を評価した。カール性評価の評価基準は以下の通りとした。
◎:10mm以下
○:10mm超15mm以下
△:15mm超20mm以下
×:20mm超
(Anti-curl evaluation)
Each optical film obtained in Examples and Comparative Examples was cut into 10 cm × 10 cm to produce sample pieces. Then, place this sample piece on a horizontal table (plane) with the light transmitting substrate side facing down, measure how many mm the four corners of the sample piece are floating, and curl the average value (mm) evaluated. The evaluation criteria of curling evaluation were as follows.
:: 10 mm or less ○: 10 mm or more 15 mm or less △: 15 mm or more 20 mm or less ×: 20 mm or more

評価結果を表1に示す。

Figure 0006536106
The evaluation results are shown in Table 1.
Figure 0006536106

比較例1においては、表面抵抗値は優れているが、帯電防止剤が帯電防止性ハードコート層の表面からの深さが0.2μm以上2.0μm未満の領域である上部領域に存在せず、また鹸化処理前に比べて鹸化処理後の表面抵抗値が著しく増大し、また鹸化処理前に比べて鹸化処理後の耐擦傷性も低下していた。これは、帯電防止性ハードコート層の膜厚が3μmと薄すぎたために帯電防止剤が帯電防止性ハードコート層の表面に近すぎる位置に存在してしまい、鹸化処理によって帯電防止剤が脱落してしまったためであると考えられる。   In Comparative Example 1, although the surface resistance value is excellent, the antistatic agent is not present in the upper region which is a region having a depth of 0.2 μm or more and less than 2.0 μm from the surface of the antistatic hard coat layer. In addition, the surface resistance value after saponification treatment significantly increased as compared with that before saponification treatment, and the abrasion resistance after saponification treatment also decreased as compared with that before saponification treatment. This is because the film thickness of the antistatic hard coat layer is as thin as 3 μm, the antistatic agent is present at a position too close to the surface of the antistatic hard coat layer, and the antistatic agent is dropped off by the saponification treatment. It is believed that this is because the

比較例2においては、帯電防止剤が上部領域内に存在せず、また鹸化処理前後問わず1×1011Ω/□以下の表面抵抗値が得られなかった。これは、帯電防止性ハードコート層の膜厚が12μmと厚すぎたために、膜厚が8μmの帯電防止性ハードコート層と、乾燥時や硬化時に膜内で生じる帯電防止剤の挙動が異なり、帯電防止剤が帯電防止性ハードコート層の表面から離れすぎた位置に存在してしまったためであると考えられる。 In Comparative Example 2, the antistatic agent was not present in the upper region, and a surface resistance value of 1 × 10 11 Ω / □ or less was not obtained regardless of before or after the saponification treatment. This is because the film thickness of the antistatic hard coat layer is too thick, 12 μm, so the behavior of the antistatic hard coat layer with a film thickness of 8 μm differs from that of the antistatic agent generated in the film during drying or curing, It is considered that the antistatic agent is present at a position too far from the surface of the antistatic hard coat layer.

比較例3および4においては、帯電防止剤が上部領域内に存在せず、また鹸化処理前後問わず1×1011Ω/□以下の表面抵抗値が得られなかった。これは、帯電防止剤の分子量が小さすぎたために、帯電防止剤が帯電防止性ハードコート層の表面から離れすぎた位置に存在してしまったためであると考えられる。 In Comparative Examples 3 and 4, the antistatic agent was not present in the upper region, and a surface resistance value of 1 × 10 11 Ω / □ or less was not obtained regardless of before or after the saponification treatment. This is considered to be because the antistatic agent was present at a position too far from the surface of the antistatic hard coat layer because the molecular weight of the antistatic agent was too small.

比較例5においては、帯電防止剤が上部領域内に存在せず、また鹸化処理前の表面抵抗値は非常に優れているが、鹸化処理前に比べて鹸化処理後の表面抵抗値が著しく増大し、かつ鹸化処理前後問わず耐擦傷性が得られなかった。これは、帯電防止剤の分子量が大きすぎたため、帯電防止剤が帯電防止性ハードコート層の表面に集中し、鹸化処理によって帯電防止剤が脱落してしまったためであると考えられる。   In Comparative Example 5, the antistatic agent is not present in the upper region, and the surface resistance value before saponification treatment is very excellent, but the surface resistance value after saponification treatment is significantly increased compared to that before saponification treatment. And scratch resistance was not obtained before or after the saponification treatment. It is considered that this is because the antistatic agent was concentrated on the surface of the antistatic hard coat layer because the molecular weight of the antistatic agent was too large, and the antistatic agent was dropped off by the saponification treatment.

比較例6においては、第2のアクリレートモノマーとしてのテトラエチレングリコールジアクリレートと同様の分子量および官能基数を有するモノマーを添加したが、帯電防止剤が上部領域内に存在せず、また鹸化処理前後問わず1×1011Ω/□以下の表面抵抗値が得られず、また干渉縞が明確に観察された。これは、第2のアクリレートモノマーが添加されていなかったため、および第2のアクリレートモノマーが添加されていなかったことにより帯電防止剤が帯電防止性ハードコート層の表面から離れすぎた位置に存在してしまったためであると考えられる。 In Comparative Example 6, a monomer having the same molecular weight and functional group number as tetraethylene glycol diacrylate as the second acrylate monomer was added, but no antistatic agent was present in the upper region, and either before or after the saponification treatment The surface resistance value of not more than 1 × 10 11 Ω / □ was not obtained, and interference fringes were clearly observed. This is because the second acrylate monomer was not added, and because the second acrylate monomer was not added, the antistatic agent was present too far from the surface of the antistatic hard coat layer. It is thought that it is because it

比較例7においては、帯電防止剤が上部領域内に存在せず、また鹸化処理前後問わず1×1011Ω/□以下の表面抵抗値が得られず、また干渉縞が明確に観察された。これは、第2のアクリレートモノマーが添加されていなかったため、および第2のアクリレートモノマーが添加されていなかったことにより帯電防止剤が帯電防止性ハードコート層の表面から離れすぎた位置に存在してしまったためであると考えられる。 In Comparative Example 7, the antistatic agent was not present in the upper region, and a surface resistance value of 1 × 10 11 Ω / □ or less was not obtained regardless of before and after the saponification treatment, and interference fringes were clearly observed. . This is because the second acrylate monomer was not added, and because the second acrylate monomer was not added, the antistatic agent was present too far from the surface of the antistatic hard coat layer. It is thought that it is because it

比較例8においては、帯電防止剤が上部領域内に存在せず、鹸化処理前後問わず1×1011Ω/□以下の表面抵抗値が得られず、また鹸化処理前に比べて鹸化処理後の耐擦傷性も低下していた。これは、光重合性ウレタンオリゴマーの分子量が小さすぎたため、および帯電防止剤が帯電防止性ハードコート層の表面から離れすぎた位置に存在してしまったためであると考えられる。 In Comparative Example 8, no antistatic agent is present in the upper region, and a surface resistance value of 1 × 10 11 Ω / □ or less can not be obtained before and after saponification treatment, and after saponification treatment as compared to before saponification treatment The scratch resistance was also reduced. This is considered to be because the molecular weight of the photopolymerizable urethane oligomer was too small, and the antistatic agent was present at a position too far from the surface of the antistatic hard coat layer.

比較例9においては、帯電防止剤が上部領域内に存在せず、鹸化処理前後問わず1×1011Ω/□以下の表面抵抗値が得られなかった。これは、第1のアクリレートモノマーが添加されていかなったため、および第1のアクリレートモノマーが添加されていなかったことにより帯電防止剤が帯電防止性ハードコート層の表面から離れすぎた位置に存在してしまったためであると考えられる。また、比較例9においては、鹸化処理前に比べて鹸化処理後の耐擦傷性が低下していた。これは、帯電防止性ハードコート層の一部の表面に存在しているペンタエリスリトールトリアクリレートの架橋物が鹸化処理によって損傷したためであると考えられる。さらに、比較例9においては、鉛筆硬度が若干劣っていた。 In Comparative Example 9, the antistatic agent was not present in the upper region, and a surface resistance value of 1 × 10 11 Ω / □ or less was not obtained regardless of before or after the saponification treatment. This is because the first acrylate monomer has been added, and the first acrylate monomer has not been added, so that the antistatic agent is present too far from the surface of the antistatic hard coat layer. It is thought that it is because it Moreover, in Comparative Example 9, the abrasion resistance after the saponification treatment was lower than that before the saponification treatment. It is considered that this is because the crosslinked product of pentaerythritol triacrylate present on the surface of part of the antistatic hard coat layer was damaged by the saponification treatment. Furthermore, in Comparative Example 9, the pencil hardness was slightly inferior.

これに対し、実施例1〜19においては、いずれも帯電防止剤が上部領域内に存在していた。また、鹸化処理前後で1×1011Ω/□以下の表面抵抗値および耐擦傷性が維持されていた。なお、実施例7、8においては、鹸化処理後の表面抵抗値が鹸化処理前の表面抵抗値に比べて若干上昇しているが、この程度の上昇であれば鹸化処理前後で表面抵抗値が維持されていたとみなすことができる。 On the other hand, in each of Examples 1 to 19, the antistatic agent was present in the upper region. Moreover, before and after the saponification treatment, the surface resistance value and the scratch resistance of 1 × 10 11 Ω / □ or less were maintained. In Examples 7 and 8, although the surface resistance after saponification was slightly higher than the surface resistance before saponification, the surface resistance before and after the saponification was higher than this level. It can be considered as maintained.

また、実施例および比較例に係る鹸化処理後の光学フィルムにおいて、荷重を300g/cmから500g/cmに代えて、上記と同様の耐擦傷性試験を行ったところ、実施例18に係る光学フィルムのみ傷が確認されなかった。 Further, in the optical films after the saponification treatment according to Examples and Comparative Examples, when the load was changed from 300 g / cm 2 to 500 g / cm 2 and the same abrasion resistance test as described above was performed, the Example 18 was obtained. Only the optical film was not damaged.

さらに、帯電防止性ハードコート層用組成物1から、ウレタンアクリレートを除いた帯電防止性ハードコート層用組成物を用いて実施例1と同様の方法により光学フィルムを形成したところ、この光学フィルムは、実施例1に係る光学フィルムよりも、鉛筆硬度が劣っていた。また、帯電防止性ハードコート層用組成物1に含まれるウレタンアクリレートを重量平均分子量が100,000のウレタンアクリレートに代えた帯電防止性ハードコート層用組成物を用いて実施例1と同様の方法により光学フィルムを形成したところ、この光学フィルムは、実施例1に係る光学フィルムよりも、鉛筆硬度が劣っていた。   Furthermore, when an optical film was formed in the same manner as in Example 1 using the antistatic hard coat layer composition from which the urethane acrylate was removed from the antistatic hard coat layer composition 1, the optical film The pencil hardness was inferior to that of the optical film according to Example 1. In addition, the same method as in Example 1 using the composition for antistatic hard coat layer in which the urethane acrylate contained in the composition for antistatic hard coat layer 1 is replaced with the urethane acrylate having a weight average molecular weight of 100,000. As a result, an optical film was formed, and this optical film was inferior in pencil hardness to the optical film according to Example 1.

10、50…光学フィルム
11、51…光透過性基材
11A、51A…混在領域
12、52…帯電防止性ハードコート層
13、53…低屈折率層
14、54A…帯電防止剤
15…バインダ樹脂
16、17、56〜58…塗膜
20…偏光板
21…偏光子
30…液晶パネル
40…画像表示装置
54…帯電防止剤含有ハードコート層
54B…第1のバインダ樹脂
55…帯電防止剤非含有ハードコート層
55A…第2のバインダ樹脂
R…上部領域
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10, 50 ... Optical film 11, 51 ... Light transmissive base material 11A, 51A ... Mixed area | region 12, 52 ... Antistatic property hard-coat layer 13, 53 ... Low-refractive-index layer 14, 54A ... Antistatic agent 15 ... Binder resin 16, 17, 56 to 58: Coating film 20: Polarizing plate 21: Polarizer 30: Liquid crystal panel 40: Image display device 54: Antistatic agent-containing hard coat layer 54B: First binder resin 55: Antistatic agent not contained Hard coat layer 55A ... second binder resin R ... upper region

Claims (10)

光透過性基材と、前記光透過性基材上に設けられた帯電防止性ハードコート層とを備える光学フィルムであって、
前記帯電防止性ハードコート層が4μm以上10μm以下の膜厚を有し、
前記帯電防止性ハードコート層が、第四級アンモニウム塩基を有する重量平均分子量が1,000以上30,000以下の帯電防止剤およびバインダ樹脂を含み、
前記帯電防止剤が、前記帯電防止性ハードコート層の表面に存在せず、かつ前記帯電防止性ハードコート層中における前記帯電防止性ハードコート層の表面からの深さが0.2μm以上2.0μm未満の領域に存在し、
前記光学フィルムの表面抵抗値が1×1011Ω/□以下であり、
前記帯電防止性ハードコート層が、前記帯電防止剤と、4個以上の光重合性官能基を有する重量平均分子量が1,000以上70,000以下の光重合性ウレタンオリゴマーと、アルキレンオキシド基を有さず、かつ4個以上のアクリロイル基を有する重量平均分子量が400以上900以下の第1のアクリレートモノマーと、アルキレンオキシド基および2個以上のアクリロイル基を有する重量平均分子量が150以上400未満の第2のアクリレートモノマーと、浸透性溶剤とを含む帯電防止性ハードコート層用組成物(但し、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートおよびテトラエチレングリコールジアクリレートの両方を含む帯電防止性ハードコート層用組成物を除く。)の硬化物であり、
前記光透過性基材が、前記帯電防止性ハードコート層との界面付近に、前記光透過性基材と、前記帯電防止性ハードコート層用組成物から前記光透過性基材に浸透した、前記第1のアクリレートモノマーおよび前記第2のアクリレートモノマーを含む浸透物の硬化物とを含む混在領域を有することを特徴とする、光学フィルム。
An optical film comprising: a light transmitting substrate; and an antistatic hard coat layer provided on the light transmitting substrate,
The antistatic hard coat layer has a thickness of 4 μm to 10 μm,
The antistatic hard coat layer comprises an antistatic agent having a weight average molecular weight of 1,000 to 30,000 and a binder resin having a quaternary ammonium base,
The antistatic agent is not present on the surface of the antistatic hard coat layer, and the depth from the surface of the antistatic hard coat layer in the antistatic hard coat layer is 0.2 μm or more. Exists in the area less than 0 μm,
The surface resistance of the optical film is 1 × 10 11 Ω / □ Ri der below,
The antistatic hard coat layer comprises the antistatic agent, a photopolymerizable urethane oligomer having a weight average molecular weight of 1,000 or more and 70,000 or less, and an alkylene oxide group having four or more photopolymerizable functional groups. And a first acrylate monomer having a weight average molecular weight of 400 to 900 having four or more acryloyl groups, and a weight average molecular weight of 150 to less than 400 having an alkylene oxide group and two or more acryloyl groups. Composition for antistatic hardcoat layer comprising second acrylate monomer and penetrating solvent (with the exception of composition for antistatic hardcoat layer comprising both dipentaerythritol hexaacrylate and tetraethylene glycol diacrylate) Is a cured product of
The light transmitting substrate penetrates the light transmitting substrate from the light transmitting substrate and the composition for the antistatic hard coat layer in the vicinity of the interface with the antistatic hard coat layer. An optical film characterized by having a mixed region containing a cured product of a permeate containing the first acrylate monomer and the second acrylate monomer .
前記第2のアクリレートモノマーが、プロピレンオキシド変性ジアクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド(EO)変性ジおよびトリアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ならびに、トリメチロールプロパントリアクリレートから選択される、請求項1に記載の光学フィルム。The second acrylate monomer is selected from propylene oxide modified diacrylate, ethylene oxide (EO) isocyanurate modified di and triacrylate, diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, and trimethylolpropane triacrylate. The optical film as described in 1. 前記第1のアクリレートモノマーが、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、トリペンタエリスリトールオクタアクリレート、テトラペンタエリスリトールデカアクリレート、ジグリセリンテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、および、ペンタエリスリトールテトラアクリレートから選択される、請求項1または2に記載の光学フィルム。The said first acrylate monomer is selected from dipentaerythritol pentaacrylate, tripentaerythritol octaacrylate, tetrapentaerythritol decaacrylate, diglycerin tetraacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, and pentaerythritol tetraacrylate. The optical film as described in 1 or 2. 前記帯電防止性ハードコート層用組成物が、2個以上のメタクリロイル基を有する重量平均分子量が300以上1,000以下のメタクリレートモノマーをさらに含む、請求項1〜3のいずれか一項に記載の光学フィルム。 The composition for an antistatic hard coat layer according to any one of claims 1 to 3, wherein the composition further comprises a methacrylate monomer having a weight average molecular weight of 300 or more and 1,000 or less having two or more methacryloyl groups. Optical film. 前記バインダ樹脂が第1のバインダ樹脂と第2のバインダ樹脂とから構成されており、
前記帯電防止性ハードコート層が、前記帯電防止剤および前記第1のバインダ樹脂を含む帯電防止剤含有ハードコート層と、前記帯電防止剤含有ハードコート層上に設けられ、前記帯電防止剤含有ハードコート層に密着し、帯電防止剤を含まず、かつ前記第2のバインダ樹脂を含む帯電防止剤非含有ハードコート層とを備え、前記領域内に前記帯電防止剤含有ハードコート層と前記帯電防止剤非含有ハードコート層との界面が存在している、請求項1〜4のいずれか一項に記載の光学フィルム。
The binder resin is composed of a first binder resin and a second binder resin,
The antistatic hard coat layer is provided on an antistatic agent-containing hard coat layer containing the antistatic agent and the first binder resin, and the antistatic agent-containing hard coat layer, and the antistatic agent-containing hard coat layer An antistatic agent-free hard coat layer which is in close contact with the coating layer, does not contain an antistatic agent, and contains the second binder resin, and the antistatic agent-containing hard coat layer and the antistatic agent in the region The optical film according to any one of claims 1 to 4 , wherein an interface with the agent-free hard coat layer is present.
前記帯電防止剤含有ハードコート層が、前記帯電防止剤と、アルキレンオキシド基を有さず、かつ4個以上のアクリロイル基を有する重量平均分子量が400以上900以下の第1のアクリレートモノマーと、アルキレンオキシド基および2個以上のアクリロイル基を有する重量平均分子量が150以上400未満の第2のアクリレートモノマーとを少なくとも含む帯電防止剤含有ハードコート層用組成物の硬化物であり、
前記帯電防止剤非含有ハードコート層が、4個以上の光重合性官能基を有する重量平均分子量が1,000以上70,000以下の光重合性ウレタンオリゴマーを少なくとも含む帯電防止剤非含有ハードコート層用組成物の硬化物であり、
前記光透過性基材が、前記帯電防止剤含有ハードコート層との界面付近に、前記光透過性基材と、前記帯電防止剤含有ハードコート層用組成物から前記光透過性基材に浸透した、前記第1のアクリレートモノマーおよび前記第2のアクリレートモノマーを含む浸透物の硬化物とを含む混在領域を有する、請求項に記載の光学フィルム。
The antistatic agent-containing hard coat layer comprises the antistatic agent, a first acrylate monomer having no alkylene oxide group and a weight average molecular weight of 400 to 900, and an alkylene having a acryloyl group of 4 or more. A cured product of an antistatic agent-containing hard coat layer composition comprising at least a second acrylate monomer having a weight average molecular weight of 150 or more and less than 400 having an oxide group and 2 or more acryloyl groups,
The antistatic agent-free hard coat at least containing a photopolymerizable urethane oligomer having a weight average molecular weight of 1,000 to 70,000 having at least four photopolymerizable functional groups. A cured product of the layer composition,
The light transmitting base material penetrates the light transmitting base material from the light transmitting base material and the composition for the antistatic agent containing hard coat layer in the vicinity of the interface with the antistatic agent containing hard coat layer. The optical film according to claim 5 , further comprising: a mixed region including the cured product of the first acrylate monomer and the cured product of the permeate including the second acrylate monomer.
前記帯電防止性ハードコート層上に設けられ、前記帯電防止性ハードコート層に隣接し、かつ前記帯電防止性ハードコート層の屈折率より低い屈折率を有する低屈折率層をさらに備える、請求項1〜6のいずれか一項に記載の光学フィルム。 The method further comprises a low refractive index layer provided on the antistatic hard coat layer, adjacent to the antistatic hard coat layer, and having a refractive index lower than that of the antistatic hard coat layer. The optical film according to any one of 1 to 6 . 請求項1〜7のいずれか一項に記載の光学フィルムと、
前記光学フィルムの前記光透過性基材における前記帯電防止性ハードコート層が形成されている面とは反対側の面に形成された偏光子とを備えることを特徴とする、偏光板。
An optical film according to any one of claims 1 to 7 ;
A polarizing plate, comprising: a polarizer formed on the surface of the light transmitting substrate of the optical film opposite to the surface on which the antistatic hard coat layer is formed.
請求項1〜7のいずれか一項に記載の光学フィルム、または請求項に記載の偏光板を備えることを特徴とする、液晶表示パネル。 A liquid crystal display panel comprising the optical film according to any one of claims 1 to 7 or the polarizing plate according to claim 8 . 請求項1〜7のいずれか一項に記載の光学フィルム、または請求項に記載の偏光板を備えることを特徴とする、画像表示装置。 An image display device comprising the optical film according to any one of claims 1 to 7 or the polarizing plate according to claim 8 .
JP2015053917A 2015-02-09 2015-03-17 Optical film, polarizing plate provided with the same, liquid crystal panel, image display device Active JP6536106B2 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015023287 2015-02-09
JP2015023287 2015-02-09

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2016148825A JP2016148825A (en) 2016-08-18
JP6536106B2 true JP6536106B2 (en) 2019-07-03

Family

ID=56691754

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015053917A Active JP6536106B2 (en) 2015-02-09 2015-03-17 Optical film, polarizing plate provided with the same, liquid crystal panel, image display device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6536106B2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7131695B2 (en) * 2019-04-10 2022-09-06 Dic株式会社 Active energy ray-curable resin composition, cured product, laminate and article

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007246699A (en) * 2006-03-16 2007-09-27 Aica Kogyo Co Ltd Hard coat agent and anti-reflection film
US20070292089A1 (en) * 2006-06-14 2007-12-20 3M Innovative Properties Company Optical article having antistatic hardcoat layer
JP5359137B2 (en) * 2007-09-12 2013-12-04 大日本印刷株式会社 OPTICAL LAMINATE, ITS MANUFACTURING METHOD, POLARIZING PLATE, AND IMAGE DISPLAY DEVICE
CN102199305B (en) * 2011-03-22 2013-03-20 苏州斯迪克新材料科技股份有限公司 Manufacturing process for antistatic hard coating plastic film
WO2013035627A1 (en) * 2011-09-06 2013-03-14 大日本印刷株式会社 Antistatic hardcoat film, polarizing plate and image display device
CN104903763B (en) * 2013-01-11 2018-02-16 大日本印刷株式会社 Optical laminate, its manufacture method and use its polarizer and liquid crystal display device

Also Published As

Publication number Publication date
JP2016148825A (en) 2016-08-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5359137B2 (en) OPTICAL LAMINATE, ITS MANUFACTURING METHOD, POLARIZING PLATE, AND IMAGE DISPLAY DEVICE
JP5779863B2 (en) Manufacturing method of optical film, optical film, polarizing plate and display
KR101870473B1 (en) Anti-reflective film, anti-reflective film production method, polarization plate and image display device
JP6040936B2 (en) Antireflection film manufacturing method, antireflection film, polarizing plate, and image display device
JP2017182080A (en) Optical film, polarizing plate, and image display device
JP5659471B2 (en) OPTICAL LAMINATE, ITS MANUFACTURING METHOD, POLARIZING PLATE, AND IMAGE DISPLAY DEVICE
TWI531810B (en) An antistatic hard coat film, a method for manufacturing the same, a polarizing plate, and an image display device
KR101441829B1 (en) Curable resin composition for hardcoat layer, process for production of hardcoat film, hardcoat film, polarizing plate, and display panel
JP4893840B2 (en) Antiglare film, method for producing antiglare film, polarizing plate and image display device
JP5304111B2 (en) OPTICAL LAMINATE, ITS MANUFACTURING METHOD, POLARIZING PLATE, AND IMAGE DISPLAY DEVICE
KR20180082631A (en) Optical laminate, polarizing plate and image display device
KR20180101463A (en) A hard coating film, a polarizing plate using the same, a hard coated film processed product, a display member
JP2012053178A (en) Antiglare and antistatic hard-coat film and polarizing plate
JP5895657B2 (en) Manufacturing method of optical film
JP2013222125A (en) Method for manufacturing optical film, optical film, and optical functional member and image display device having the same
TWI482705B (en) Curable resin composition for antistatic layer, optical film, polarizing plate and display panel
KR101949558B1 (en) Optical laminate and method for manufacturing thereof
JPWO2017073756A1 (en) Optical film, polarizing film, manufacturing method of polarizing film, and image display device
JP6536106B2 (en) Optical film, polarizing plate provided with the same, liquid crystal panel, image display device
JP6300128B2 (en) Optical film manufacturing method, optical film, optical functional member including the same, and image display device
JP2016173492A (en) Production method of optical film
JP2011081266A (en) Optical laminate, polarizing plate and image display apparatus
JP2016173493A (en) Production method of optical film
JP2007070455A (en) Antistatic and glare-proof hard coating agent and film using the same
JP5413494B2 (en) Method for producing optical laminate

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180122

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20180905

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180914

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20181112

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20190507

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20190520

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6536106

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150