JP5895657B2 - Manufacturing method of optical film - Google Patents

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Description

本発明は、光学フィルム、光学フィルムの製造方法、当該光学フィルムを用いた偏光板、画像表示装置用ガラス飛散防止フィルム、タッチパネル及び液晶表示装置に関する。   The present invention relates to an optical film, a method for producing the optical film, a polarizing plate using the optical film, a glass scattering prevention film for an image display device, a touch panel, and a liquid crystal display device.

光学レンズ、携帯端末機、タッチパネル機能を有する携帯端末機、コンピュータやテレビなどの画像表示装置等を中心に、透過率及びコントラストの向上、映り込み低減のために、表面反射を減少させる反射防止層を有した反射防止フィルムが提案されている。   Anti-reflective layer that reduces surface reflection to improve transmittance and contrast and reduce glare mainly in optical lenses, portable terminals, portable terminals with touch panel functions, image display devices such as computers and televisions, etc. An antireflection film having the following has been proposed.

一方、携帯端末機、タッチパネル機能を有する携帯端末機などは、屋外で使用されることや小型化、薄膜化といったことが求められており、当該携帯端末機に用いられる部材も薄膜化が望まれている。また、当該携帯端末機は屋外で使用されることが多いため、使用される部材については耐久性が求められる。反射防止層としては、光学干渉層として屈折率と光学膜厚が適当な値を有する層をいくつか積層することにより、積層体と空気界面における光反射を減少させることが有効である。   On the other hand, portable terminals, portable terminals having a touch panel function, and the like are required to be used outdoors, downsized, and thinned, and the members used in the portable terminals are also desired to be thinned. ing. In addition, since the portable terminal is often used outdoors, durability is required for a member to be used. As the antireflection layer, it is effective to reduce light reflection at the interface between the laminate and the air by laminating several layers having appropriate values of refractive index and optical film thickness as the optical interference layer.

前記光学干渉層としては、低屈折率層が少なくとも設けられている。低屈折率層は基材フィルムよりも屈折率が低い微粒子(例えば、外殻層を有し内部が多孔質又は空洞である中空シリカ微粒子、フッ化マグネシウム微粒子など)を含有させ、低屈折率化するのが一般的である。また、反射防止フィルムは、機械強度を付与するために、基材フィルム上に中間層としてハードコート層を形成し、ハードコート性が付与された反射防止フィルムが一般的であり、通常ハードコート性を有した反射防止フィルムは、ハードコート層を塗布した後、ハードコート層に反射防止層が塗設される。   As the optical interference layer, at least a low refractive index layer is provided. The low refractive index layer contains fine particles having a lower refractive index than the base film (for example, hollow silica fine particles having an outer shell layer that is porous or hollow inside, magnesium fluoride fine particles, etc.) to lower the refractive index. It is common to do. In addition, in order to impart mechanical strength, the antireflection film is generally an antireflection film in which a hard coat layer is formed as an intermediate layer on a base film, and hard coat properties are imparted, and usually hard coat properties. In the antireflection film having, after the hard coat layer is applied, the antireflection layer is coated on the hard coat layer.

近年、生産性や低コストの観点から、一度の塗布工程でハードコート層と反射防止層(具体的には微粒子局在(偏在)相)を形成する技術については、種々検討されており、例えば特許文献1や特許文献2に開示されている。   In recent years, from the viewpoint of productivity and low cost, various techniques for forming a hard coat layer and an antireflection layer (specifically, a fine particle localized (localized) phase) in a single coating process have been studied, for example, It is disclosed in Patent Literature 1 and Patent Literature 2.

特許文献1は、(A)重合性化合物、(B)屈折率が1.40以下である粒子、(D)溶剤を含有する硬化性組成物をセルロース樹脂基材上に塗布する工程、硬化性組成物を硬化させてセルロース樹脂基材上に硬化膜を形成する工程を含み、硬化膜中においてセルロース樹脂基材と接する面とは反対の面側に前記粒子が偏在している反射防止用積層体の製造方法であって、(D)溶剤100質量%中に、(D1)基材のセルロース樹脂を溶解し、かつ、0.1MPaにおける沸点が80℃以上250℃以下である溶剤を特定範囲で含有する反射防止用積層体の製造方法である。前記技術は、セルロース樹脂基材上に硬化性組成物を一度塗布して硬化させることで、セルロース樹脂基材と接触する面とは反対の面側に屈折率が1.40以下である粒子が高密度に存在する層を形成し、耐擦傷性及び低屈折率性の双方を兼ね備えた反射防止用積層体を提供する技術である。
特許文献2は、成分(A)〜(D)を含む紫外線硬化性樹脂組成物を塗布して塗膜を形成し、1つの塗膜から溶媒を蒸発させることにより、2以上の層を形成する積層体の製造方法である。(A)重合性不飽和基を有する有機化合物を結合させてなる金属酸化物粒子、(B)エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体、(C)速揮発溶剤、(D)遅揮発溶剤。前記技術では、基材上、紫外線硬化性樹脂組成物を塗布して得られる1つの塗膜から溶媒を蒸発させることにより、2以上の層を形成し、最外層にフッ素含量が高い層が得られることで、反射防止に優れるフィルムである。
Patent Document 1 discloses (A) a polymerizable compound, (B) a particle having a refractive index of 1.40 or less, and (D) a step of applying a curable composition containing a solvent on a cellulose resin substrate, curable properties. An antireflection laminate comprising the step of curing the composition to form a cured film on the cellulose resin substrate, wherein the particles are unevenly distributed on the surface opposite to the surface in contact with the cellulose resin substrate in the cured film A method for producing a body, wherein (D) in 100% by mass of a solvent, (D1) a base material cellulose resin is dissolved, and a solvent having a boiling point at 0.1 MPa of 80 ° C. or more and 250 ° C. or less is a specific range. It is a manufacturing method of the laminated body for reflection prevention contained in. In the technique, particles having a refractive index of 1.40 or less are formed on a surface opposite to the surface in contact with the cellulose resin substrate by applying and curing the curable composition once on the cellulose resin substrate. This is a technique for forming an anti-reflection laminate that forms both high-density layers and has both scratch resistance and low refractive index.
Patent Document 2 forms a coating film by applying an ultraviolet curable resin composition containing components (A) to (D), and forms two or more layers by evaporating the solvent from one coating film. It is a manufacturing method of a laminated body. (A) Metal oxide particles obtained by bonding an organic compound having a polymerizable unsaturated group, (B) an ethylenically unsaturated group-containing fluoropolymer, (C) a fast volatile solvent, and (D) a slow volatile solvent. In the technique, two or more layers are formed by evaporating the solvent from one coating film obtained by applying the ultraviolet curable resin composition on the substrate, and a layer having a high fluorine content is obtained as the outermost layer. The film is excellent in antireflection.

しかしながら、小型化、薄膜化の要望から薄膜基材フィルムを用いて一度の塗布工程でハードコート層と微粒子偏在(局在)相を形成した反射防止フィルムを作製し、当該フィルムを用いて、携帯端末機などの屋外用途の使用を想定して耐久試験を実施したところ、カールや可とう性(屈曲性、フレキシブル性)が劣化する問題があった。これらによって商品価値の低下を招いており、早急な解決が望まれていた。   However, in response to demands for miniaturization and thinning, an antireflection film in which a hard coat layer and fine particle unevenly distributed (localized) phases are formed in a single coating process using a thin film substrate film is used, and the film is used for carrying When durability tests were conducted assuming the use of outdoor applications such as terminals, there was a problem that curling and flexibility (flexibility, flexibility) deteriorated. These have led to a decline in the commercial value, and an immediate solution has been desired.

特開2011−203560号公報JP 2011-203560 A 特許第474825号公報Japanese Patent No. 474825

本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、薄膜基材フィルムを用いて一度の塗布工程でハードコート層と微粒子局在相を形成した(以下、単層で形成された機能性層ともいう。)反射防止に優れた光学フィルムであって、耐久試験後のカールと可とう性(屈曲性)に優れた光学フィルムを提供することである。また、当該光学フィルムの製造方法、当該光学フィルムを用いた偏光板、画像表示装置用ガラス飛散防止フィルム、タッチパネル及び液晶表示装置を提供することである。   The present invention has been made in view of the above-described problems and situations, and the problem to be solved is that a hard coat layer and a fine particle localized phase are formed in a single coating process using a thin film substrate film (hereinafter referred to as a single layer). It is also an optical film excellent in antireflection and providing an optical film excellent in curling and flexibility (flexibility) after a durability test. Moreover, it is providing the manufacturing method of the said optical film, the polarizing plate using the said optical film, the glass scattering prevention film for image display apparatuses, a touch panel, and a liquid crystal display device.

本発明者は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討する過程において、樹脂材料と該樹脂材料中に分散された微粒子を含有し、単層で形成された機能性層を有する光学フィルムであって、前記機能性層が、層の厚さをLとしたとき、基材フィルムと反対側の表面から厚さ方向1/2L未満の領域に、特定の屈折率を有する微粒子を特定の割合で含有する局在相を有し、かつ、前記機能性層が、前記基材フィルムのマット剤が局在する面に形成されたことを特徴とする光学フィルムによって、耐久試験後のカールと可とう性(屈曲性)に優れた光学フィルムが得られることを見いだし本発明に至った。   In order to solve the above-mentioned problems, the present inventor has a functional layer formed of a single layer containing a resin material and fine particles dispersed in the resin material in the process of examining the cause of the above-mentioned problem. An optical film, wherein the functional layer includes fine particles having a specific refractive index in a region less than ½ L in the thickness direction from the surface opposite to the base film when the layer thickness is L. An optical film having a localized phase contained at a specific ratio and having the functional layer formed on a surface on which the matting agent of the base film is localized is used after an endurance test. The present inventors have found that an optical film excellent in curling and flexibility (flexibility) can be obtained, and have reached the present invention.

すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。   That is, the said subject which concerns on this invention is solved by the following means.

1.1次平均粒子径が20nm以下のマット剤を含有する基材フィルムの少なくとも一方の面に、樹脂材料と該樹脂材料中に分散された微粒子を含有する機能性層を単層で形成する光学フィルムの製造方法であって、前記基材フィルムを、前記マット剤をベルト流延製膜時の空気面側に局在するように、ベルト状の金属支持体上にドープを流延する溶液流延製膜法によって形成し、前記機能性層を形成する塗布組成物が下記(A)〜(C)を満たし、該塗布組成物を乾燥後の厚さが1μm以上となるように基材フィルムに塗布後、硬化を行い、前記機能性層の厚さをLとしたとき、基材フィルムと反対側の表面から厚さ方向1/2L未満の領域に、前記機能性層に含有される前記微粒子の50質量%以上を含有する局在相を形成し、かつ前記機能性層を、前記基材フィルムの前記マット剤が局在する面に形成することを特徴とする光学フィルムの製造方法
(A)前記樹脂材料が硬化性樹脂である。
(B)前記微粒子が前記樹脂材料よりも屈折率が0.04以上低い。
(C)前記基材フィルムを膨潤又は溶解する有機溶媒を含有する。
1. An optical film in which a functional layer containing a resin material and fine particles dispersed in the resin material is formed as a single layer on at least one surface of a base film containing a matting agent having a primary average particle size of 20 nm or less The substrate film is a solution casting in which a dope is cast on a belt-like metal support so that the matting agent is localized on the air surface side during belt casting. The coating composition formed by the film forming method and forming the functional layer satisfies the following (A) to (C), and the coating composition is formed on the base film so that the thickness after drying becomes 1 μm or more. After coating, curing is performed, and when the thickness of the functional layer is L, the fine particles contained in the functional layer in a region less than 1/2 L in the thickness direction from the surface opposite to the base film containing more than 50 wt% localized phase is formed, and the functions of Method for producing an optical film, wherein the layer, thereby forming the surface on which the matting agent of the base film is localized.
(A) The resin material is a curable resin.
(B) The fine particles have a refractive index lower than that of the resin material by 0.04 or more.
(C) An organic solvent that swells or dissolves the base film is contained.

2.前記微粒子の屈折率が、1.35〜1.45の範囲内であることを特徴とする第1項に記載の光学フィルムの製造方法2. 2. The method for producing an optical film according to item 1, wherein the fine particles have a refractive index in the range of 1.35 to 1.45.

3.前記基材フィルムが、セルロースエステルフィルムであることを特徴とする第1項又は第2項に記載の光学フィルムの製造方法3. The method for producing an optical film according to item 1 or 2 , wherein the substrate film is a cellulose ester film .

4.前記基材フィルムの膜厚が、5〜40μmの範囲内であることを特徴とする第1項〜第3項のいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法4). The film thickness of the said base film exists in the range of 5-40 micrometers, The manufacturing method of the optical film as described in any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned.

本発明の上記手段により、薄膜基材フィルムを用いて一度の塗布工程でハードコート層と微粒子局在相を形成した反射防止に優れた光学フィルムであり、耐久試験後のカールと可とう性(屈曲性)に優れた光学フィルムを提供することができる。   By the above means of the present invention, an optical film excellent in antireflection in which a hard coat layer and a fine particle localized phase are formed in a single coating process using a thin film substrate film, and curls and flexibility after a durability test ( An optical film excellent in flexibility can be provided.

また、当該光学フィルムを用いた偏光板、画像表示装置用ガラス飛散防止フィルム、タッチパネル及び液晶表示装置を提供することができる。   Moreover, the polarizing plate using the said optical film, the glass scattering prevention film for image display apparatuses, a touch panel, and a liquid crystal display device can be provided.

本発明の効果の発現機構ないし作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。   The expression mechanism or action mechanism of the effect of the present invention is not clear, but is presumed as follows.

本発明者は、薄膜基材フィルムを用いて、一度の塗布工程で機能性層としてハードコート層と微粒子局在相を形成した反射防止に優れた光学フィルムであって、耐久試験後のカールと可とう性(屈曲性)が劣化する課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討した結果、基材フィルムの製膜時に、可塑効果等を得るために添加される添加剤や基材フィルムのブロッキング防止や取り扱性から添加されるマット剤が一様に混ざった基材フィルム上に、機能性層を形成すると、基材フィルム中の可塑剤等が該機能性層に一部溶解し、基材フィルムの弾性率が低下し、更に耐久試験において基材フィルムの弾性率が著しく低下することが原因で、カール劣化が引き起こすと推定している。特に薄膜基材フィルムでは、基材フィルム自体のコシが弱いためカール劣化が顕著であった。   The inventor is an optical film excellent in antireflection in which a thin film base film is used and a hard coat layer and a fine particle localized phase are formed as a functional layer in a single coating process, As a result of studying the cause of the above-mentioned problems in order to solve the problem of deterioration of flexibility (flexibility), additives and base films added to obtain a plastic effect and the like when forming the base film When a functional layer is formed on a base film that is uniformly mixed with a matting agent added to prevent blocking and handleability, the plasticizer in the base film partially dissolves in the functional layer. It is estimated that curl degradation is caused by the decrease in the elastic modulus of the base film and the significant decrease in the elastic modulus of the base film in the durability test. In particular, in a thin film substrate film, curl deterioration was significant because the stiffness of the substrate film itself was weak.

また耐久試験によって、基材フィルムの添加剤と機能性層の樹脂成分との反応等が生じ、可とう性(屈曲性)が劣化すると考えられる。   In addition, it is considered that the durability test causes a reaction between the additive of the base film and the resin component of the functional layer, and the flexibility (flexibility) is deteriorated.

このため、添加剤とマット剤が表裏の各表層領域で偏在(局在)する製膜方法で作製した薄膜基材フィルムのマット剤偏在(局在)面に、前記機能性層を設けることで、添加剤との反応が抑性され、基材フィルムの弾性率低下も抑制でき、耐久試験後のカールと可とう性(屈曲性)に優れた反射防止に優れた光学フィルムが得られたと推定している。   For this reason, by providing the functional layer on the mat agent unevenly distributed (localized) surface of the thin film base film produced by the film forming method in which the additive and the mat agent are unevenly distributed (localized) in the front and back surface regions. It is estimated that an optical film excellent in antireflection with excellent curling and flexibility (flexibility) after durability test can be obtained because the reaction with additives is suppressed, and the elastic modulus of the base film can be suppressed. doing.

本発明のハードコートフィルムの断面写真Cross-sectional photograph of the hard coat film of the present invention 画像表示装置用ガラス飛散防止フィルムを画像表示装置に使用した概略断面図Schematic cross-sectional view using glass scattering prevention film for image display device in image display device 偏光板101の模式図Schematic diagram of polarizing plate 101

本発明の光学フィルムの製造方法は、1次平均粒子径が20nm以下のマット剤を含有する基材フィルムの少なくとも一方の面に、樹脂材料と該樹脂材料中に分散された微粒子を含有する機能性層を単層で形成する光学フィルムの製造方法であって、前記基材フィルムを、前記マット剤をベルト流延製膜時の空気面側に局在するように、ベルト状の金属支持体上にドープを流延する溶液流延製膜法によって形成し、前記機能性層を形成する塗布組成物が下記(A)〜(C)を満たし、該塗布組成物を乾燥後の厚さが1μm以上となるように基材フィルムに塗布後、硬化を行い、前記機能性層の厚さをLとしたとき、基材フィルムと反対側の表面から厚さ方向1/2L未満の領域に、前記機能性層に含有される前記微粒子の50質量%以上を含有する局在相を形成し、かつ前記機能性層を、前記基材フィルムの前記マット剤が局在する面に形成することを特徴とする。
(A)前記樹脂材料が硬化性樹脂である。
(B)前記微粒子が前記樹脂材料よりも屈折率が0.04以上低い。
(C)前記基材フィルムを膨潤又は溶解する有機溶媒を含有する。
The method for producing an optical film of the present invention has a function of containing a resin material and fine particles dispersed in the resin material on at least one surface of a base film containing a matting agent having a primary average particle diameter of 20 nm or less. A method for producing an optical film in which a conductive layer is formed as a single layer, wherein the base film is a belt-like metal support so that the matting agent is localized on the air surface side during belt casting. The coating composition that is formed by a solution casting film forming method in which a dope is cast on the coating layer and that forms the functional layer satisfies the following (A) to (C), and the coating composition has a thickness after drying. After applying to the base film to be 1 μm or more and curing, when the thickness of the functional layer is L, from the surface on the opposite side of the base film to a region less than 1/2 L in the thickness direction, Contains 50% by mass or more of the fine particles contained in the functional layer. The localized phase is formed, and the functional layer, the matting agent of the substrate film and forming the surface to be localized.
(A) The resin material is a curable resin.
(B) The fine particles have a refractive index lower than that of the resin material by 0.04 or more.
(C) An organic solvent that swells or dissolves the base film is contained.

この特徴は、請求項1から請求項までの請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。 This feature is a technical feature common to the inventions according to claims 1 to 4 .

なお、本発明における「単層で形成された機能性層」とする場合における「単層」とは、一度の塗布工程で形成可能な層であることを意味しており、同一の樹脂材料が連続して存在する層であることを意味する。   The “single layer” in the case of the “functional layer formed by a single layer” in the present invention means a layer that can be formed by a single coating step, and the same resin material is used. It means that the layer exists continuously.

また、本明細書における「屈折率」とは、25℃におけるNa−D線(波長589nm)の屈折率をいう。本明細書における「粒子の屈折率」は、同一マトリックス中に、固形分中の粒子含量を、1質量%、10質量%、20質量%とした組成物を成膜し、JIS K7105に従い、25℃におけるNa−D線での屈折率を測定し、検量線法で計算した粒子含量100質量%の値をいう。   In addition, the “refractive index” in this specification refers to the refractive index of Na-D line (wavelength 589 nm) at 25 ° C. The “refractive index of the particles” in the present specification is 25% in accordance with JIS K7105, in which a composition having a particle content of 1% by mass, 10% by mass, and 20% by mass is formed in the same matrix. The refractive index of Na-D line at ° C. is measured, and the value of the particle content of 100% by mass calculated by the calibration curve method is used.

また、本発明における「基材フィルムのマット剤が局在する面」とは、以下のように定義される。   The “surface on which the matting agent of the base film is localized” in the present invention is defined as follows.

透過型電子顕微鏡で基材フィルムの断層写真を撮影後、基材フィルムの両面において、空気に接する側から内側に向かった厚み2μm、幅25μmの範囲のマット剤数を観察し、断層写真におけるマット剤の個数の大きい面をA面として、そのマット剤の個数をAとし、断層写真におけるマット剤の個数の小さい面をB面として、そのマット剤の個数をBとした際に、A/Bが1.01倍よりも大きい場合に、マット剤はA面に局在している、と定義する。より好ましくはA/Bが1.05倍以上である。   After taking a tomographic photograph of the base film with a transmission electron microscope, the number of matting agents in the range of 2 μm in thickness and 25 μm in width from the side in contact with air was observed on both sides of the base film. When the number of matting agents is A, the number of matting agents is A, the number of matting agents in tomography is B, and the number of matting agents is B, the A / B Is greater than 1.01 times, the matting agent is defined to be localized on the A plane. More preferably, A / B is 1.05 times or more.

本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、前記微粒子の屈折率が、1.35〜1.45の範囲内であることが好ましい。また、機能性層が硬化性樹脂を含有することが好ましく、前記基材フィルムが、セルロースエステルフィルムであることが好ましく、前記基材フィルムの膜厚が、5〜40μmの範囲内であることが、反射防止性、カール、可とう性改善の効果が得られることから、好ましい。   As an embodiment of the present invention, the refractive index of the fine particles is preferably in the range of 1.35 to 1.45 from the viewpoint of manifesting the effects of the present invention. Moreover, it is preferable that a functional layer contains curable resin, it is preferable that the said base film is a cellulose ester film, and the film thickness of the said base film is in the range of 5-40 micrometers. In view of the effects of antireflection, curling and flexibility, it is preferable.

さらに、本発明においては、前記基材フィルムが、ベルト状の金属支持体上にドープを流延する溶液流延製膜法で形成されマット剤がベルト流延製膜時の空気面側に局在している。これにより、耐久試験後のカールと可とう性(屈曲性)に優れた光学フィルムが得られる。 Further, in the present invention, the base film is formed by a solution casting film forming method in which a dope is cast on a belt-shaped metal support, and the matting agent is locally formed on the air surface side during belt casting film forming. that have Mashimashi. This ensures that the optical film is obtained having excellent curl and flexibility after the durability test (bending property).

本発明の光学フィルムは、偏光板、画像表示装置用ガラス飛散防止フィルム、タッチパネル及び液晶表示装置に好適に具備され得る。   The optical film of the present invention can be suitably included in a polarizing plate, a glass scattering prevention film for an image display device, a touch panel and a liquid crystal display device.

以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。   Hereinafter, the present invention, its components, and modes and modes for carrying out the present invention will be described in detail. In addition, in this application, "-" is used in the meaning which includes the numerical value described before and behind that as a lower limit and an upper limit.

<機能性層>
(樹脂材料)
樹脂材料は、本発明の目的効果が得られやすく、機械的膜強度(耐擦傷性、鉛筆硬度)にも優れる点から、紫外線や電子線のような活性線(活性エネルギー線ともいう)照射により、架橋反応を経て硬化する樹脂(硬化性樹脂)が好ましい。具体的には、紫外線硬化型アクリレート系樹脂(紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂など)、又は紫外線硬化型エポキシ樹脂等が好ましく用いられ、中でも紫外線硬化型アクリレート系樹脂が好ましい。
<Functional layer>
(Resin material)
The resin material is easy to obtain the object effect of the present invention, and is excellent in mechanical film strength (abrasion resistance, pencil hardness). Therefore, the resin material is irradiated with active rays (also called active energy rays) such as ultraviolet rays and electron beams. A resin (curable resin) that cures through a crosslinking reaction is preferable. Specifically, UV curable acrylate resins (UV curable urethane acrylate resins, UV curable polyester acrylate resins, UV curable epoxy acrylate resins, UV curable polyol acrylate resins, etc.), or UV curable resins An epoxy resin or the like is preferably used, and an ultraviolet curable acrylate resin is particularly preferable.

紫外線硬化型アクリレート系樹脂としては、多官能アクリレートが好ましい。該多官能アクリレートとしては、ペンタエリスリトール多官能アクリレート、ジペンタエリスリトール多官能アクリレート、ペンタエリスリトール多官能メタクリレート、及びジペンタエリスリトール多官能メタクリレートよりなる群から選ばれることが好ましい。ここで、多官能アクリレートとは、分子中に2個以上のアクリロイルオキシ基又はメタクロイルオキシ基を有する化合物である。多官能アクリレートのモノマーとしては、例えばエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリ/テトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、グリセリントリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、テトラメチロールメタントリメタクリレート、テトラメチロールメタンテトラメタクリレート、ペンタグリセロールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、グリセリントリメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、活性エネルギー線硬化型のイソシアヌレート誘導体等が好ましく挙げられる。これらの中ではペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレートが好ましい。活性エネルギー線硬化型のイソシアヌレート誘導体としては、イソシアヌル酸骨格に1個以上のエチレン性不飽和基が結合した構造を有する化合物であればよく、イソシアヌル酸トリアクリレート、イソシアヌル酸ジアクリレート、ε−カプロラクトン変性トリス−(アクリロキシエチル)イソシアヌレートなどが挙げられる。イソシアヌル酸トリアクリレート化合物の市販品としては、例えば新中村化学工業株式会社製A−9300などが挙げられる。イソシアヌル酸ジアクリレート化合物の市販品としては、例えば東亞合成株式会社製アロニックスM−215などが挙げられる。イソシアヌル酸トリアクリレート化合物及びイソシアヌル酸ジアクリレート化合物の混合物としては、例えば東亞合成株式会社製アロニックスM−315、アロニックスM−313などが挙げられる。ε−カプロラクトン変性トリス−(アクリロキシエチル)イソシアヌレートとしては、新中村化学工業株式会社製A−9300−1CL、東亞合成株式会社製アロニックスM−327などを挙げることができる。   As the ultraviolet curable acrylate resin, a polyfunctional acrylate is preferable. The polyfunctional acrylate is preferably selected from the group consisting of pentaerythritol polyfunctional acrylate, dipentaerythritol polyfunctional acrylate, pentaerythritol polyfunctional methacrylate, and dipentaerythritol polyfunctional methacrylate. Here, the polyfunctional acrylate is a compound having two or more acryloyloxy groups or methacryloyloxy groups in the molecule. Examples of the polyfunctional acrylate monomer include ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolethane triacrylate, and tetramethylolmethane triacrylate. , Tetramethylolmethane tetraacrylate, pentaglycerol triacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tri / tetraacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, ethoxylated pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, glycerol triacrylate relay , Dipentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, 1,6-hexanediol di Methacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, tetramethylolmethane trimethacrylate, tetramethylolmethane tetramethacrylate, pentaglycerol trimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pen Pentaerythritol tetramethacrylate, glycerol trimethacrylate, dipentaerythritol trimethacrylate, dipentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol penta methacrylate, dipentaerythritol hexa methacrylate, etc. isocyanurate derivatives of the active energy ray-curable are preferably exemplified. Among these, pentaerythritol tri (meth) acrylate and pentaerythritol tetra (meth) acrylate are preferable. The active energy ray-curable isocyanurate derivative may be a compound having a structure in which one or more ethylenically unsaturated groups are bonded to the isocyanuric acid skeleton, and isocyanuric acid triacrylate, isocyanuric acid diacrylate, ε-caprolactone. Examples include modified tris- (acryloxyethyl) isocyanurate. As a commercial item of an isocyanuric acid triacrylate compound, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. A-9300 etc. are mentioned, for example. As a commercial item of an isocyanuric acid diacrylate compound, Toagosei Co., Ltd. Aronix M-215 etc. are mentioned, for example. Examples of the mixture of the isocyanuric acid triacrylate compound and the isocyanuric acid diacrylate compound include Aronix M-315 and Aronix M-313 manufactured by Toagosei Co., Ltd. Examples of ε-caprolactone-modified tris- (acryloxyethyl) isocyanurate include A-9300-1CL manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. and Aronix M-327 manufactured by Toagosei Co., Ltd.

活性エネルギー線硬化型のイソシアヌレート誘導体以外の市販品としては、アデカオプトマーNシリーズ、サンラッドH−601、RC−750、RC−700、RC−600、RC−500、RC−611、RC−612(三洋化成工業(株)製)、アロニックスM−6100、M−8030、M−8060、アロニックスM−215、アロニックスM−315、アロニックスM−313、アロニックスM−327(東亞合成(株)製)、NK−エステルA−TMM−3L、NK−エステルAD−TMP、NK−エステルATM−35E、NKエステルA−DOG、NKエステルA−IBD−2E、A−9300、A−9300−1CL(新中村化学工業(株))、PE−3A(共栄社化学)などが挙げられる。   Commercial products other than the active energy ray-curable isocyanurate derivatives include Adekaoptomer N series, Sunrad H-601, RC-750, RC-700, RC-600, RC-500, RC-611, RC-612. (Sanyo Chemical Industries, Ltd.), Aronix M-6100, M-8030, M-8060, Aronix M-215, Aronix M-315, Aronix M-313, Aronix M-327 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) , NK-ester A-TMM-3L, NK-ester AD-TMP, NK-ester ATM-35E, NK ester A-DOG, NK ester A-IBD-2E, A-9300, A-9300-1CL (Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.), PE-3A (Kyoeisha Chemical) and the like.

上記硬化性樹脂を単独又は2種以上混合しても良い。また、単官能アクリレートを用いても良い。
単官能アクリレートとしては、イソボロニルアクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、イソステアリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ラウリルアクリレート、イソオクチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベヘニルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、シクロヘキシルアクリレートなどが挙げられる。このような単官能アクリレートは、日本化成工業株式会社、新中村化学工業株式会社、大阪有機化学工業株式会社等から入手できる。
You may mix the said curable resin individually or in mixture of 2 or more types. A monofunctional acrylate may also be used.
Monofunctional acrylates include isobornyl acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, isostearyl acrylate, benzyl acrylate, ethyl carbitol acrylate, phenoxyethyl acrylate, lauryl acrylate, isooctyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, behenyl Examples include acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, and cyclohexyl acrylate. Such monofunctional acrylates can be obtained from Nippon Kasei Kogyo Co., Ltd., Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., Osaka Organic Chemical Co., Ltd., etc.

単官能アクリレートを用いる場合には、多官能アクリレートと単官能アクリレートの含有質量比で、多官能アクリレート:単官能アクリレート=80:20〜98:2の範囲で含有することが好ましい。その他の樹脂材料としては、ビニル化合物、エポキシ化合物、アルコキシメチルアミン化合物が挙げられる。ビニル化合物類としては、ジビニルベンゼン、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル等を挙げることができる。エポキシ化合物としては、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル等が挙げることができる。アルコキシメチルアミン化合物としては、ヘキサメトキシメチル化メラミン、ヘキサブトキシメチル化メラミン、テトラメトキシメチル化グリコールウリル、テトラブトキシメチル化グリコールウリル等が挙げられる。また、前記樹脂材料の屈折率としては、1.49以上が好ましくは、更に好ましくは、1.49〜1.6の範囲である。   When using a monofunctional acrylate, it is preferable to contain in the range of polyfunctional acrylate: monofunctional acrylate = 80: 20-98: 2 by the mass ratio of polyfunctional acrylate and monofunctional acrylate. Examples of other resin materials include vinyl compounds, epoxy compounds, and alkoxymethylamine compounds. Examples of vinyl compounds include divinylbenzene, ethylene glycol divinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, and triethylene glycol divinyl ether. As epoxy compounds, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, etc. Can be mentioned. Examples of the alkoxymethylamine compound include hexamethoxymethylated melamine, hexabutoxymethylated melamine, tetramethoxymethylated glycoluril, tetrabutoxymethylated glycoluril and the like. Moreover, as a refractive index of the said resin material, 1.49 or more are preferable, More preferably, it is the range of 1.49-1.6.

(基材フィルムを溶解、又は膨潤する溶媒)
基材フィルムを溶解、又は膨潤させる溶媒について説明する。基材フィルムを溶解、又は膨潤させる溶媒は、基材フィルムがセルロースエステル樹脂フィルムからなる場合、以下の溶媒を挙げることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。
(Solvent that dissolves or swells the base film)
The solvent for dissolving or swelling the base film will be described. Examples of the solvent for dissolving or swelling the base film include the following solvents when the base film is made of a cellulose ester resin film, but the present invention is not limited thereto.

炭素子数が3〜12のエーテル類:具体的には、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキソラン、1,3,5−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール及びフェネトール等。   Ethers having 3 to 12 carbon atoms: specifically, propylene glycol monomethyl ether, dibutyl ether, dimethoxymethane, diethoxyethane, propylene oxide, 1,4-dioxane, 1,3-dioxolane, 1,3, 5-trioxane, tetrahydrofuran, anisole and phenetole.

炭素数が3〜12のケトン類:具体的にはアセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等。   Ketones having 3 to 12 carbon atoms: specifically, acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, dipropyl ketone, diisobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, and the like.

炭素数が3〜12のエステル類:具体的には、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸−n−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸−n−ペンチル、乳酸エチル、及びγ−プチロラクトン等。   Esters having 3 to 12 carbon atoms: specifically, ethyl formate, propyl formate, formic acid-n-pentyl, methyl acetate, ethyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, acetic acid-n-pentyl, ethyl lactate, And γ-ptyrolactone.

2種類以上の官能基を有する有機溶媒:具体的には2−メトキシ酢酸メチル、2−エトキシ酢酸エチル、2−エトキシプロピオン酸エチル、2−メトキシエタノール、2−プロポキシエタノール、2−ブトキシエタノール、1,2−アセトキシアセトン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、アセト酢酸メチル、及びアセト酢酸エチル等。
アミド類:ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等。
これらは1種単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることかできる。
Organic solvent having two or more kinds of functional groups: Specifically, methyl 2-methoxyacetate, ethyl 2-ethoxyacetate, ethyl 2-ethoxypropionate, 2-methoxyethanol, 2-propoxyethanol, 2-butoxyethanol, 1 , 2-acetoxyacetone, acetylacetone, diacetone alcohol, methyl acetoacetate, and ethyl acetoacetate.
Amides: dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone and the like.
These can be used singly or in combination of two or more.

基材フィルムを溶解、又は膨潤する溶媒溶剤としてはシクロヘキサノン、メチルエチルケトン、γ−ブチロラクトンが好ましい。   As the solvent for dissolving or swelling the base film, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, and γ-butyrolactone are preferable.

セルロースエステル樹脂からなる基材フィルム上に塗布された機能性組成物中に基材フィルムを膨潤又は溶解する溶媒が存在すると、セルロースエステル樹脂の一部を溶解する。溶解したセルロースエステル樹脂は親水性であるため、塗布された機能性組成物は基材フィルム付近の親水性が高まり、相対的に疎水性である後述する微粒子が基材と反対側に偏在化(局在化)するものと考えられる。   When a solvent that swells or dissolves the base film is present in the functional composition coated on the base film made of cellulose ester resin, part of the cellulose ester resin is dissolved. Since the dissolved cellulose ester resin is hydrophilic, the applied functional composition has increased hydrophilicity in the vicinity of the base film, and the relatively hydrophobic particles described later are unevenly distributed on the side opposite to the base ( Is considered to be localized).

機能性組成物中の基材フィルムを溶解、又は膨潤させる溶媒の含有量としては、樹脂材料100質量部に対して1〜200質量%の範囲であり、好ましくは1〜100質量%の範囲である。   As content of the solvent which melt | dissolves or swells the base film in a functional composition, it is the range of 1-200 mass% with respect to 100 mass parts of resin materials, Preferably it is the range of 1-100 mass%. is there.

(基材フィルムを溶解、又は膨潤しない溶媒)
機能性組成物は、基材フィルムを溶解、又は膨潤しない溶媒を含有することもできる。基材フィルムを溶解又は膨潤しない溶媒としては、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、tert−ブタノール、1−ペンタノール、2−メチル−2−ブタノール、シクロヘキサノール、プロピレングリコールモノエチルエーテル、酢酸イソブチル、メチルイソブチルケトン、2−オクタノン、2−ペンタノン、2−ヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ペンタノン、3−ヘプタノン、4−ヘプタノン、トルエン等が挙げられる。含有量としては、樹脂材料100質量部に対して、1〜200質量%の範囲である。
(Solvent that does not dissolve or swell the base film)
The functional composition can also contain a solvent that does not dissolve or swell the base film. Solvents that do not dissolve or swell the base film include methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, tert-butanol, 1-pentanol, 2-methyl-2-butanol, cyclohexane Examples include hexanol, propylene glycol monoethyl ether, isobutyl acetate, methyl isobutyl ketone, 2-octanone, 2-pentanone, 2-hexanone, 2-heptanone, 3-pentanone, 3-heptanone, 4-heptanone, and toluene. As content, it is the range of 1-200 mass% with respect to 100 mass parts of resin materials.

(微粒子)
本発明に係る機能性層に含有する微粒子について説明する。本発明に係る機能性層に含有する微粒子とは、透過型電子顕微鏡により測定した場合における数平均粒子径が400nm以下である粒子を指す。この場合、各粒子の粒径は透過型電子顕微鏡における投影面を同体積の円に換算した場合の直径として定義される。不要な散乱を発生させないためには、微粒子の粒径は可視光より十分に小さいことが好ましく、具体的には1〜200nmが好ましい範囲であり、より好ましくは1〜100nmの範囲であり、特に好ましくは5〜60nmの範囲である。粒子の形状は、球状に限定されず不定形の形状であってもよい。
(Fine particles)
The fine particles contained in the functional layer according to the present invention will be described. The fine particles contained in the functional layer according to the present invention refer to particles having a number average particle diameter of 400 nm or less when measured with a transmission electron microscope. In this case, the particle diameter of each particle is defined as the diameter when the projection plane in the transmission electron microscope is converted into a circle of the same volume. In order not to cause unnecessary scattering, the particle diameter of the fine particles is preferably sufficiently smaller than that of visible light, specifically 1 to 200 nm is preferable, more preferably 1 to 100 nm, particularly Preferably it is the range of 5-60 nm. The shape of the particles is not limited to a spherical shape, and may be an irregular shape.

また、微粒子としては、前記樹脂材料よりも屈折率が0.04以上低い微粒子であり、具体的には屈折率が1.35〜1.45の範囲内であり、更に疎水性を有することが好ましい。このような微粒子を含有させることで、機能性層の厚さをLとしたとき、前記機能性層の基材フィルムと反対側の表面から厚さ方向1/2L未満の領域に、前記機能性層に含有される前記微粒子の50質量%以上を含有する局在相が形成され、更には局在相が形成された際に、優れた低屈折率性が得られ、反射防止効果に優れる。   Further, the fine particles are fine particles having a refractive index lower than that of the resin material by 0.04 or more. Specifically, the refractive index is in the range of 1.35 to 1.45, and further has hydrophobicity. preferable. By including such fine particles, when the thickness of the functional layer is L, the functional layer is formed in a region less than ½ L in the thickness direction from the surface of the functional layer opposite to the base film. When a localized phase containing 50% by mass or more of the fine particles contained in the layer is formed, and further when the localized phase is formed, an excellent low refractive index property is obtained and the antireflection effect is excellent.

具体的な微粒子としては、(オルガノ)シリカゾル、酸化チタンゾル、酸化アルミナゾル、酸化スズゾ、中空シリカ粒子、フッ化金属粒子等が挙げられる。これら微粒子の中では、オルガノシリカゾル、中空シリカ粒子が好ましく、より好ましくは中空シリカ粒子である。また、微粒子は、均一に微細に分散されていることが好ましく、一次粒子で存在していることが好ましい。市販のオルガノシリカゾルとしては、例えば日産化学工業(株)製:MEK−AC−2101(溶媒:メチルエチルケトン、比重(20℃):1.011、平均一次粒子径12nm、粘度(20℃):1.1mPa・s SiO:30.6% 水分:0.16)、日産化学工業(株)製:MEK−AC−4101(溶媒:メチルエチルケトン、比重(20℃):1.006、平均一次粒子径43nm、粘度(20℃):3.2mPa・s SiO:30.7% 水分:0.06%)等が挙げられる。 Specific examples of the fine particles include (organo) silica sol, titanium oxide sol, alumina oxide sol, tin oxide, hollow silica particles, and metal fluoride particles. Among these fine particles, organosilica sol and hollow silica particles are preferable, and hollow silica particles are more preferable. Further, the fine particles are preferably uniformly and finely dispersed, and are preferably present as primary particles. As a commercially available organosilica sol, for example, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd .: MEK-AC-2101 (solvent: methyl ethyl ketone, specific gravity (20 ° C.): 1.011, average primary particle size 12 nm, viscosity (20 ° C.): 1. 1 mPa · s SiO 2 : 30.6% moisture: 0.16), manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd .: MEK-AC-4101 (solvent: methyl ethyl ketone, specific gravity (20 ° C.): 1.006, average primary particle size 43 nm , Viscosity (20 ° C.): 3.2 mPa · s SiO 2 : 30.7% moisture: 0.06%) and the like.

中空シリカ粒子は、その内部に空洞を有するため、中空でない粒子と比べてより低屈折率化することができる。   Since hollow silica particles have cavities inside, hollow silica particles can have a lower refractive index than non-hollow particles.

中空シリカ粒子の市販品としては、例えば、日揮触媒化成株式会社製の「JX1008SIV」(透過型電子顕微鏡で求めた数平均粒子径50nm、固形分20質量%、イソプロピルアルコール溶媒)、「JX1009SIV」(透過型電子顕微鏡で求めた数平均粒子径50nm、固形分20質量%、メチルイソブチルケトン溶媒)等が挙げられる。   Examples of commercially available hollow silica particles include “JX1008SIV” manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd. (number average particle diameter 50 nm, solid content 20% by mass, isopropyl alcohol solvent obtained with a transmission electron microscope), “JX1009SIV” ( And a number average particle diameter of 50 nm, a solid content of 20% by mass, and a methyl isobutyl ketone solvent) obtained with a transmission electron microscope.

また、中空シリカ粒子などの微粒子を変性されることで、疎水化処理を施すことができる。中空シリカ粒子などの微粒子を変性する粒子変性剤としては、重合性不飽和基及び加水分解性シリル基を有する化合物(以下、「重合性粒子変性剤」ともいう。)等が挙げられる。重合性粒子変性剤の重合性不飽和基としては、ビニル基、(メタ)アクリロイル基が挙げられる。なお、加水分解性シリル基とは、水と反応してシラノール基(Si−OH)を生成するものであって、例えば、ケイ素に1以上のメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基等のアルコキシル基、アリールオキシ基、アセトキシ基、アミノ基、ハロゲン原子が結合したものをいう。   In addition, hydrophobic treatment can be performed by modifying fine particles such as hollow silica particles. Examples of the particle modifier that modifies fine particles such as hollow silica particles include compounds having a polymerizable unsaturated group and a hydrolyzable silyl group (hereinafter also referred to as “polymerizable particle modifier”). Examples of the polymerizable unsaturated group of the polymerizable particle modifier include a vinyl group and a (meth) acryloyl group. The hydrolyzable silyl group is a group that reacts with water to produce a silanol group (Si—OH). For example, one or more methoxy groups, ethoxy groups, n-propoxy groups, isopropoxy groups on silicon. A group, an alkoxyl group such as an n-butoxy group, an aryloxy group, an acetoxy group, an amino group, or a halogen atom is bonded.

重合性粒子変性剤は、メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等の市販品を使用することもできる。また、粒子変性剤として、フッ素を含有する加水分解性シリル基を有する化合物(以下、「含フッ素粒子変性剤」ともいう。)を使用することもできる。   Commercially available products such as methacryloyloxypropyltrimethoxysilane can also be used as the polymerizable particle modifier. Further, as the particle modifier, a compound having a hydrolyzable silyl group containing fluorine (hereinafter, also referred to as “fluorine-containing particle modifier”) can be used.

含フッ素粒子変性剤を使用することで、中空シリカ粒子を効率よく基材フィルムと反対側の表面に偏在させることができる。   By using the fluorine-containing particle modifier, the hollow silica particles can be unevenly distributed on the surface opposite to the base film efficiently.

含フッ素粒子変性剤は、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン等の市販品を使用することができる。また、アルキル基を有する粒子変性剤や、シリコーン鎖を有する粒子変性剤も、含フッ素粒子変性剤と同様に使用することができる。上記の各種粒子変性剤は1種を用いても、複数種を組み合わせて用いてもよい。   As the fluorine-containing particle modifier, commercially available products such as tridecafluorooctyltrimethoxysilane can be used. Moreover, the particle modifier which has an alkyl group, and the particle modifier which has a silicone chain can be used similarly to a fluorine-containing particle modifier. The above various particle modifiers may be used alone or in combination of two or more.

中空シリカ粒子などの微粒子を変性させるためには、中空シリカ粒子などの微粒子と粒子変性剤とを混合し、加水分解させることにより両者を結合させることで変性できる。   In order to modify the fine particles such as the hollow silica particles, the fine particles such as the hollow silica particles and the particle modifier may be mixed and hydrolyzed to bond them together.

中空シリカ粒子などの微粒子の粒子変性剤の結合量は、変性後の中空シリカ粒子などの微粒子を100質量%とした場合、好ましくは0.01〜40質量%の範囲であり、より好ましくは0.1〜30質量%、特に好ましくは1〜20質量%の範囲である。中空シリカ粒子などの微粒子に反応させる粒子変性剤の量を上記範囲とすることで、機能性組成物における中空シリカ粒子などの微粒子の分散性を向上させることができるだけでなく、得られる硬化物の透明性を高める効果が期待できる。   The binding amount of the particle modifier for fine particles such as hollow silica particles is preferably in the range of 0.01 to 40% by mass, more preferably 0, when the fine particles such as hollow silica particles after modification are 100% by mass. 0.1 to 30% by mass, particularly preferably 1 to 20% by mass. By setting the amount of the particle modifier to be reacted with fine particles such as hollow silica particles in the above range, not only can the dispersibility of the fine particles such as hollow silica particles in the functional composition be improved, but also the cured product obtained can be obtained. The effect of increasing transparency can be expected.

機能性組成物において、微粒子の含有量は、形成する硬化膜の膜厚に応じて適宜調整できる。例えば、硬化膜の膜厚が10μmの場合、溶剤を除く成分の合計を100質量%としたときに、好ましくは0.4〜1.2質量%の範囲、より好ましくは0.5〜1質量%の範囲である。例えば、硬化膜の膜厚が7μmの場合、好ましくは0.6〜1.8質量%の範囲、より好ましくは0.7〜1.5質量%の範囲であり、硬化膜の膜厚が1μm以上、3μmの場合、好ましくは1.2〜4質量%の範囲、より好ましくは1.5〜3質量%の範囲である。
微粒子の含有量が上記の範囲未満であると、反射防止能(低屈折率性)が得られない場合がある。一方、微粒子の含有量が上記の範囲を超えると、反射防止能を発現する微粒子が高密度に存在する層の厚さが大きくなりすぎて、反射率低減効果が発現しない場合がある。
In the functional composition, the content of the fine particles can be appropriately adjusted according to the thickness of the cured film to be formed. For example, when the thickness of the cured film is 10 μm, when the total of components excluding the solvent is 100% by mass, the range is preferably 0.4 to 1.2% by mass, more preferably 0.5 to 1% by mass. % Range. For example, when the thickness of the cured film is 7 μm, it is preferably in the range of 0.6 to 1.8 mass%, more preferably in the range of 0.7 to 1.5 mass%, and the thickness of the cured film is 1 μm. As described above, in the case of 3 μm, the range is preferably 1.2 to 4% by mass, more preferably 1.5 to 3% by mass.
When the content of the fine particles is less than the above range, the antireflection ability (low refractive index) may not be obtained. On the other hand, if the content of the fine particles exceeds the above range, the thickness of the layer in which fine particles exhibiting antireflection ability exist at a high density becomes too large, and the reflectance reduction effect may not be exhibited.

(局在相)
図1は本発明の機能性層の実際の断面写真である。図1(b)は(a)の局在相部分を拡大したものである。
(Localized phase)
FIG. 1 is an actual cross-sectional photograph of the functional layer of the present invention. FIG. 1B is an enlarged view of the localized phase portion of FIG.

本発明でいう局在相とは、機能性層の全厚さをLとしたとき、透明基材フィルムと反対側の厚さ方向1/2L未満の領域に、該機能性層に含有される微粒子の50質量%以上が含有される相をいう。   The localized phase referred to in the present invention is contained in the functional layer in a region less than 1/2 L in the thickness direction opposite to the transparent substrate film, where L is the total thickness of the functional layer. A phase containing 50% by mass or more of fine particles.

該断面写真を観察すると、機能性層の全厚さをLとしたとき、基材フィルムと反対側の厚さ方向1/2L未満の領域に、微粒子が局在分布して局在相を形成していることが分かる。本発明では、該局在相中に機能性層に含有される全微粒子の50質量%以上を含有していることが特徴である。より好ましくは70質量%以上を含有することが、耐傷性とヘイズを両立する上で好ましく、特に好ましくは90質量%以上含有することである。   When the cross-sectional photograph is observed, when the total thickness of the functional layer is L, fine particles are locally distributed in a region less than 1/2 L in the thickness direction opposite to the base film to form a localized phase. You can see that In the present invention, the localized phase contains 50% by mass or more of all fine particles contained in the functional layer. More preferably 70% by mass or more is preferable for achieving both scratch resistance and haze, and particularly preferably 90% by mass or more.

本発明における機能性層中の微粒子が、局在分布する層(局在相)は、倍率5000倍の透過型電子顕微鏡で光学フィルムの断層写真を撮影後、その断層写真から厚さ方向1/2L未満の領域に含有される微粒子の含有質量%を求めることで確認できる。   The layer in which the fine particles in the functional layer in the present invention are locally distributed (localized phase) is obtained by taking a tomographic image of an optical film with a transmission electron microscope at a magnification of 5000 times, It can confirm by calculating | requiring the content mass% of the fine particle contained in the area | region less than 2L.

また、元素分析による元素マッピングを行うことで領域別の微粒子の含有質量%を求めることもできる。   In addition, by performing element mapping by elemental analysis, it is possible to determine the content mass% of fine particles by region.

局在相の厚さは、機能性層表面近傍に薄く形成されることが反射防止や耐久試験後のカールと可とう性耐に優れる点で好ましく、具体的には0.03〜0.5μmの範囲内であることが好ましい。より好ましくは0.05〜0.5μmの範囲内である。   The thickness of the localized phase is preferably thin in the vicinity of the functional layer surface from the viewpoint of antireflection and excellent curling and flexibility resistance after the durability test, specifically 0.03-0.5 μm. It is preferable to be within the range. More preferably, it exists in the range of 0.05-0.5 micrometer.

(機能性層の膜厚)
機能性層は後述する塗布方式で形成され、その際の塗布量としては、ウェット膜厚として1〜40μmの範囲が適当で、好ましくは2〜30μmの範囲である。
(Functional layer thickness)
The functional layer is formed by a coating method to be described later, and the coating amount at that time is suitably in the range of 1 to 40 μm, preferably in the range of 2 to 30 μm, as the wet film thickness.

ドライ膜厚としては、1μm以上であり、好ましくは1〜10μmの範囲である。ドライ膜厚が1μm以上において、前記した局在相が形成されやすく、優れた機械強度も得られる。上記成分以外にも機能性組成物は、以下に示すような化合物を含有しても良い。   As a dry film thickness, it is 1 micrometer or more, Preferably it is the range of 1-10 micrometers. When the dry film thickness is 1 μm or more, the above-mentioned localized phase is easily formed, and excellent mechanical strength can be obtained. In addition to the above components, the functional composition may contain the following compounds.

(その他化合物:重合開始剤)
樹脂材料の硬化促進から重合開始剤を含有させても良い。重合開始剤としては、熱的に活性ラジカル種を発生させる化合物(熱重合開始剤)及び放射線(光)照射により活性ラジカル種を発生させる化合物(放射線(光)ラジカル重合開始剤)等を挙げることができる。また、酸性化合物及び放射線(光)照射により酸を発生させる化合物(放射線(光)酸発生剤)等も挙げることができる。これらの中では、放射線(光)重合開始剤が好ましい。
(Other compounds: polymerization initiator)
A polymerization initiator may be added to accelerate the curing of the resin material. Examples of the polymerization initiator include a compound that thermally generates active radical species (thermal polymerization initiator) and a compound that generates active radical species by radiation (light) irradiation (radiation (light) radical polymerization initiator). Can do. Moreover, the compound (radiation (light) acid generator) etc. which generate | occur | produce an acid by irradiation with an acidic compound and radiation (light) can also be mentioned. Among these, a radiation (photo) polymerization initiator is preferable.

放射線(光)ラジカル重合開始剤としては、光照射により分解してラジカルを発生して重合を開始させられるものであれば特に制限はなく、例えば、アセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、キサントン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、3−メチルアセトフェノン、4−クロロベンゾフェノン、4,4′−ジメトキシベンゾフェノン、4,4′−ジアミノベンゾフェノン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノ−プロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノン−1,4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス−(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルホスフィンオキシド、オリゴ(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−(4−(1−メチルビニル)フェニル)プロパノン)等が挙げられる。放射線(光)ラジカル重合開始剤の市販品としては、例えば、BASFジャパン社製のイルガキュア184、369、651、500、819、907、784、2959、CGI1700、CGI1750、CGI1850、CG24−61等が挙げられる。   The radiation (photo) radical polymerization initiator is not particularly limited as long as it can be decomposed by light irradiation to generate radicals to initiate polymerization. For example, acetophenone, acetophenone benzyl ketal, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, xanthone, fluorenone, benzaldehyde, fluorene, anthraquinone, triphenylamine, carbazole, 3-methylacetophenone, 4-chlorobenzophenone, 4,4'-dimethoxy Benzophenone, 4,4'-diaminobenzophenone, benzoin propyl ether, benzoin ethyl ether, benzyl dimethyl ketal, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-o 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, thioxanthone, diethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2- Morpholino-propan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1,4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy-2-propyl) ketone 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis- (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, oligo (2-hydroxy-2-methyl-1- (4- (1-methylvinyl) phenyl) propanone) and the like. Examples of commercially available radiation (photo) radical polymerization initiators include Irgacure 184, 369, 651, 500, 819, 907, 784, 2959, CGI 1700, CGI 1750, CGI 1850, CG 24-61, etc., manufactured by BASF Japan. It is done.

熱ラジカル重合開始剤としては、加熱により分解してラジカルを発生して重合を開始するものであれば特に制限はなく、例えば、過酸化物、アゾ化合物を挙げることができ、具体例としては、ベンゾイルパーオキサイド、t−ブチル−パーオキシベンゾエート、アゾビスイソブチロニトリル等が挙げられる。   The thermal radical polymerization initiator is not particularly limited as long as it is decomposed by heating to generate radicals to initiate polymerization, and examples thereof include peroxides and azo compounds. Specific examples include: Examples include benzoyl peroxide, t-butyl-peroxybenzoate, and azobisisobutyronitrile.

放射線(光)酸発生剤としては、トリアリールスルホニウム塩類、ジアリールヨードニウム塩類の化合物を使用することができる。放射線(光)酸発生剤の市販品としては、サンアプロ社製のCPI−100P、101A等が挙げられる。
重合開始剤は、機能性組成物中において、溶剤を除く成分の合計を100質量%としたときに、好ましくは0.01〜20質量%の範囲、より好ましくは0.1〜10質量%の範囲である。0.01〜20質量%の範囲であると、硬化物としたときの硬度が十分となり、塗膜の硬度も損なわれない。なお、重合開始剤は複数種の化合物を併用しても良い。
As the radiation (photo) acid generator, compounds of triarylsulfonium salts and diaryliodonium salts can be used. Examples of commercially available radiation (light) acid generators include CPI-100P and 101A manufactured by San Apro.
In the functional composition, the polymerization initiator is preferably in the range of 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 10% by mass, when the total of components excluding the solvent is 100% by mass. It is a range. When it is in the range of 0.01 to 20% by mass, the hardness when cured is sufficient, and the hardness of the coating film is not impaired. In addition, a polymerization initiator may use a multiple types of compound together.

(その他化合物:導電剤)
機能性層には、帯電防止性を付与するために導電剤が含まれていても良い。好ましい導電剤としては、π共役系導電性ポリマーやイオン液体などが挙げられる。
(Other compounds: Conductive agent)
The functional layer may contain a conductive agent in order to impart antistatic properties. Preferred conductive agents include π-conjugated conductive polymers and ionic liquids.

(その他化合物:添加剤)
機能性層には、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤、アニオン界面活性剤、及びフッ素−シロキサングラフト化合物、フッ素系化合物、アクリル共重合物などの添加剤を含有させても良い。また、HLB値が3〜18の化合物を含有しても良い。HLB値とは、Hydrophile−Lipophile−Balance、親水性−親油性−バランスのことであり、化合物の親水性又は親油性の大きさを示す値である。HLB値が小さいほど親油性が高く、値が大きいほど親水性が高くなる。また、HLB値は以下のような計算式によって求めることができる。
(Other compounds: additives)
The functional layer may contain an additive such as a silicone surfactant, a fluorine surfactant, an anionic surfactant, and a fluorine-siloxane graft compound, a fluorine compound, and an acrylic copolymer. Moreover, you may contain the compound whose HLB value is 3-18. The HLB value is Hydrophile-Lipophile-Balance, hydrophilic-lipophilic-balance, and is a value indicating the hydrophilicity or lipophilicity of a compound. The smaller the HLB value, the higher the lipophilicity, and the higher the value, the higher the hydrophilicity. The HLB value can be obtained by the following calculation formula.

HLB=7+11.7Log(Mw/Mo)
式中、Mwは親水基の分子量、Moは親油基の分子量を表し、Mw+Mo=M(化合物の分子量)である。あるいはグリフィン法によれば、HLB値=20×親水部の式量の総和/分子量(J.Soc.Cosmetic Chem.,5(1954),294)等が挙げられる。HLB値が3〜18の化合物の具体的化合物を下記に挙げるが、本発明はこれに限定されるものでない。( )内はHLB値を示す。
HLB = 7 + 11.7Log (Mw / Mo)
In the formula, Mw represents the molecular weight of the hydrophilic group, Mo represents the molecular weight of the lipophilic group, and Mw + Mo = M (molecular weight of the compound). Alternatively, according to the Griffin method, HLB value = 20 × total formula weight of hydrophilic part / molecular weight (J. Soc. Cosmetic Chem., 5 (1954), 294) and the like. Specific examples of the compound having an HLB value of 3 to 18 are listed below, but the present invention is not limited thereto. Figures in parentheses indicate HLB values.

花王株式会社製:エマルゲン102KG(6.3)、エマルゲン103(8.1)、エマルゲン104P(9.6)、エマルゲン105(9.7)、エマルゲン106(10.5)、エマルゲン108(12.1)、エマルゲン109P(13.6)、エマルゲン120(15.3)、エマルゲン123P(16.9)、エマルゲン147(16.3)、エマルゲン210P(10.7)、エマルゲン220(14.2)、エマルゲン306P(9.4)、エマルゲン320P(13.9)、エマルゲン404(8.8)、エマルゲン408(10.0)、エマルゲン409PV(12.0)、エマルゲン420(13.6)、エマルゲン430(16.2)、エマルゲン705(10.5)、エマルゲン707(12.1)、エマルゲン709(13.3)、エマルゲン1108(13.5)、エマルゲン1118S−70(16.4)、エマルゲン1135S−70(17.9)、エマルゲン2020G−HA(13.0)、エマルゲン2025G(15.7)、エマルゲンLS−106(12.5)、エマルゲンLS−110(13.4)、エマルゲンLS−114(14.0)、日信化学工業株式会社製:サーフィノール104E(4)、サーフィノール104H(4)、サーフィノール104A(4)、サーフィノール104BC(4)、サーフィノール104DPM(4)、サーフィノール104PA(4)、サーフィノール104PG−50(4)、サーフィノール104S(4)、サーフィノール420(4)、サーフィノール440(8)、サーフィノール465(13)、サーフィノール485(17)、サーフィノールSE(6)、信越化学工業株式会社製:X−22−4272(7)、X−22−6266(8)、KF−351(12)、KF−352(7)、KF−353(10)、KF−354L(16)、KF−355A(12)、KF−615A(10)、KF−945(4)、KF−618(11)、KF−6011(12)、KF−6015(4)、KF−6004(5)。シリコーン系界面活性剤としては、ポリエーテル変性シリコーンなどを挙げることができ、上記信越化学工業社製のKFシリーズなどを挙げることができる。アクリル共重合物としては、ビックケミー・ジャパン社製のBYK−350、BYK−352などの市販品化合物を挙げることができる。フッ素系界面活性剤としては、DIC株式会社製のメガファック RSシリーズ、メガファックF−444メガファックF−556などを挙げることができる。フッ素−シロキサングラフト化合物とは、少なくともフッ素系樹脂に、シロキサン及び/又はオルガノシロキサン単体を含むポリシロキサン及び/又はオルガノポリシロキサンをグラフト化させて得られる共重合体の化合物をいう。このようなフッ素−シロキサングラフト化合物は、後述の実施例に記載されているような方法で調製することができる。あるいは、市販品としては、富士化成工業株式会社製のZX−022H、ZX−007C、ZX−049、ZX−047−D等を挙げることができる。またフッ素系化合物としては、ダイキン工業株式会社製のオプツールDSX、オプツールDACなどを挙げることができる。これら添加剤は、機能性組成物中の溶剤を除く成分に対し、0.005質量部以上、5質量部以下の範囲で添加することが好ましい。   Made by Kao Corporation: Emulgen 102KG (6.3), Emulgen 103 (8.1), Emulgen 104P (9.6), Emulgen 105 (9.7), Emulgen 106 (10.5), Emulgen 108 (12. 1), Emulgen 109P (13.6), Emulgen 120 (15.3), Emulgen 123P (16.9), Emulgen 147 (16.3), Emulgen 210P (10.7), Emulgen 220 (14.2) , Emulgen 306P (9.4), Emulgen 320P (13.9), Emulgen 404 (8.8), Emulgen 408 (10.0), Emulgen 409PV (12.0), Emulgen 420 (13.6), Emulgen 430 (16.2), Emulgen 705 (10.5), Emulgen 707 (12.1), Emulgen 7 9 (13.3), Emulgen 1108 (13.5), Emulgen 1118S-70 (16.4), Emulgen 1135S-70 (17.9), Emulgen 2020G-HA (13.0), Emulgen 2025G (15. 7), Emulgen LS-106 (12.5), Emulgen LS-110 (13.4), Emulgen LS-114 (14.0), manufactured by Nissin Chemical Industry Co., Ltd .: Surfynol 104E (4), Surfynol 104H (4), Surfinol 104A (4), Surfinol 104BC (4), Surfinol 104DPM (4), Surfinol 104PA (4), Surfinol 104PG-50 (4), Surfinol 104S (4), Surfi Knoll 420 (4), Surfynol 440 (8), Surfynol 46 (13), Surfinol 485 (17), Surfinol SE (6), manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: X-22-4272 (7), X-22-6266 (8), KF-351 (12), KF-352 (7), KF-353 (10), KF-354L (16), KF-355A (12), KF-615A (10), KF-945 (4), KF-618 (11), KF -6011 (12), KF-6015 (4), KF-6004 (5). Examples of the silicone surfactant include polyether-modified silicone, and the KF series manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. can be used. Examples of the acrylic copolymer include commercially available compounds such as BYK-350 and BYK-352 manufactured by BYK Japan. Examples of the fluorosurfactant include Megafac RS series manufactured by DIC Corporation, Megafac F-444 Megafac F-556, and the like. The fluorine-siloxane graft compound refers to a compound of a copolymer obtained by grafting polysiloxane and / or organopolysiloxane containing siloxane and / or organosiloxane alone on at least a fluorine-based resin. Such a fluorine-siloxane graft compound can be prepared by a method as described in Examples described later. Or as a commercial item, Fuji Chemical Industries Ltd. ZX-022H, ZX-007C, ZX-049, ZX-047-D etc. can be mentioned. Moreover, as a fluorine-type compound, Daikin Industries Ltd. OPTOOL DSX, OPTOOL DAC, etc. can be mentioned. These additives are preferably added in the range of 0.005 parts by mass or more and 5 parts by mass or less with respect to the components excluding the solvent in the functional composition.

(その他化合物:紫外線吸収剤)
機能性層は、後述する基材フィルムで説明する紫外線吸収剤をさらに含有しても良い。紫外線吸収剤の含有量としては質量比で、紫外線吸収剤:樹脂材料=0.01:100〜10:100の範囲で含有することが好ましい。
(Other compounds: UV absorber)
The functional layer may further contain an ultraviolet absorber described in the base film described later. The content of the ultraviolet absorber is preferably in the range of mass ratio and ultraviolet absorber: resin material = 0.01: 100 to 10: 100.

(その他化合物)
機能性層は、必要に応じて、粒子分散剤、酸化防止剤、光安定剤、シランカップリング、熱重合禁止剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤等を含有することができる。これらの内、粒子分散剤として、フッ素原子を含有する化合物、シロキサン鎖を有する化合物を使用することで、中空シリカ粒子などの微粒子の偏在化を促進し、塗膜の屈折率を低下させることができる。
(Other compounds)
The functional layer can contain a particle dispersant, an antioxidant, a light stabilizer, a silane coupling, a thermal polymerization inhibitor, a colorant, a storage stabilizer, a plasticizer, a lubricant, and the like, if necessary. Among these, by using a compound containing a fluorine atom or a compound having a siloxane chain as a particle dispersant, it is possible to promote uneven distribution of fine particles such as hollow silica particles and to lower the refractive index of the coating film. it can.

(機能性層の製造方法)
機能性層の製造方法は、樹脂材料である硬化性樹脂、微粒子、基材フィルムを膨潤又は溶解する有機溶媒、及び必要に応じて基材フィルムを膨潤又は溶解しない溶媒、重合開始剤、及びその他の添加剤を含有した機能性組成物を、室温又は加熱条件下で混合することにより調製し、これら混合した機能性組成物を、基材フィルムのマット剤が偏在する面上に塗布する工程と、前記機能性組成物を硬化させ、硬化膜を形成する工程とを含む。かかる機能性層の製造方法によれば、基材フィルム上に機能性組成物を一度塗布して硬化させることで、基材フィルムと接触する面とは反対の面側(機能性層の厚さをLとしたとき、前記機能性層の基材フィルムと反対側の表面から厚さ方向1/2L未満の領域に、前記機能性層に含有される前記微粒子の50質量%以上を含有する局在相)に微粒子が高密度に存在する層が形成される。以下、工程ごとに説明する。
(Method for producing functional layer)
The method for producing the functional layer includes a curable resin that is a resin material, fine particles, an organic solvent that swells or dissolves the base film, and a solvent that does not swell or dissolve the base film as necessary, a polymerization initiator, and others. A functional composition containing the additive is prepared by mixing at room temperature or under heating conditions, and the mixed functional composition is applied on the surface of the base film on which the matting agent is unevenly distributed. And curing the functional composition to form a cured film. According to such a method for producing a functional layer, the functional composition is once applied on the base film and cured, so that the side opposite to the side in contact with the base film (the thickness of the functional layer) Where L is 50% by mass or more of the fine particles contained in the functional layer in a region less than ½ L in the thickness direction from the surface opposite to the base film of the functional layer. A layer in which fine particles are present in a high density in the existing phase) is formed. Hereinafter, it demonstrates for every process.

(塗布工程)
機能性組成物を基材フィルム上に塗布する方法としては、特に制限されず、例えばダイ塗工、減押しダイ塗工、バーコート塗工、エアナイフ塗工、グラビア塗工、グラビアリバース塗工、リバースロール塗工、リップ塗工、ディップ塗工、オフセット印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷等の公知の方法を用いることができる。これらの中でもダイ塗工、減押しダイ塗工、グラビア塗工が好ましい。
(Coating process)
The method for applying the functional composition on the base film is not particularly limited, and examples thereof include die coating, reduced-press die coating, bar coat coating, air knife coating, gravure coating, gravure reverse coating, Known methods such as reverse roll coating, lip coating, dip coating, offset printing, flexographic printing, and screen printing can be used. Among these, die coating, reduced pressing die coating, and gravure coating are preferable.

(硬化工程)
基材フィルム上に塗布された機能性組成物を硬化させて、硬化膜を形成する。硬化条件については、特に限定されるものではない。具体的には、0〜200℃の範囲、好ましくは80〜120℃の範囲で乾燥処理して揮発成分を乾燥させた後、放射線及び/又は熱で硬化処理を行うことにより機能性層を形成することができる。熱で硬化させる場合の好ましい条件は、20〜150℃の範囲であり、10秒〜24時間の範囲で行われる。放射線で硬化させる場合、紫外線又は電子線を用いることが好ましい。紫外線の照射光量は、好ましくは0.01〜10J/cmの範囲であり、より好ましくは0.1〜2J/cmの範囲である。また、電子線の照射条件は、加圧電圧が10〜300kVの範囲、電子密度が0.02〜0.30mA/cmの範囲、電子線照射量が1〜10Mradの範囲である。
(Curing process)
The functional composition applied on the base film is cured to form a cured film. The curing conditions are not particularly limited. Specifically, a functional layer is formed by performing a curing treatment with radiation and / or heat after drying a volatile component by drying in a range of 0 to 200 ° C., preferably 80 to 120 ° C. can do. Preferable conditions for curing with heat are in the range of 20 to 150 ° C. and in the range of 10 seconds to 24 hours. When curing with radiation, it is preferable to use ultraviolet rays or electron beams. The amount of ultraviolet irradiation is preferably in the range of 0.01 to 10 J / cm 2 , and more preferably in the range of 0.1 to 2 J / cm 2 . Moreover, the irradiation conditions of an electron beam are the range whose pressurization voltage is 10-300 kV, the electron density is 0.02-0.30 mA / cm < 2 >, and the electron beam irradiation amount is the range of 1-10 Mrad.

(乾燥工程)
硬化工程の前に、乾燥工程を設けても良い。乾燥工程としては、機能性組成物中の溶媒を揮発させて除去する機能を有していればよい。乾燥温度としては、0〜200℃の範囲、好ましくは80〜120℃の範囲である。
(Drying process)
A drying step may be provided before the curing step. As a drying process, what is necessary is just to have the function to volatilize and remove the solvent in a functional composition. As drying temperature, it is the range of 0-200 degreeC, Preferably it is the range of 80-120 degreeC.

セルロースエステル樹脂からなる基材フィルム上に塗布された機能性組成物中の基材フィルムを膨潤又は溶解する溶媒が、基材フィルムであるセルロースエステル樹脂の一部を溶解する。   A solvent that swells or dissolves the base film in the functional composition applied on the base film made of the cellulose ester resin dissolves a part of the cellulose ester resin that is the base film.

溶け出したセルロースエステル樹脂は親水性であるため、塗布された機能性組成物は基材フィルム付近の親水性が高まり、相対的に疎水性である微粒子が基材フィルムと反対側に乾燥工程で偏在化(局在化)し、硬化工程で硬化されることで、機能性層の厚さをLとしたとき、前記機能性層の基材フィルムと反対側の表面から厚さ方向1/2L未満の領域に、機能性層に含有される微粒子の50質量%以上を含有する局在相が得られると推定している。   Since the dissolved cellulose ester resin is hydrophilic, the applied functional composition has increased hydrophilicity in the vicinity of the base film, and relatively hydrophobic fine particles are separated from the base film in the drying step. When the thickness of the functional layer is L by being unevenly distributed (localized) and cured in the curing process, the thickness of the functional layer from the surface opposite to the base film is ½ L in the thickness direction. It is estimated that a localized phase containing 50% by mass or more of fine particles contained in the functional layer can be obtained in a region less than the above.

(反射率)
本発明の光学フィルムの視感度反射率は、数値が低いほど反射防止能に優れていることを示す。具体的には、視感度反射率は4.0%以下が好ましく、より好ましくは3.0%以下である。視感度反射率は得られた光学フィルムの裏面を黒スプレー等で処理し、分光測色計CM−3700d(コニカミノルタ社製)により測定して求めた値である。
(Reflectance)
The visibility reflectance of the optical film of the present invention indicates that the lower the numerical value, the better the antireflection performance. Specifically, the visibility reflectance is preferably 4.0% or less, more preferably 3.0% or less. The visibility reflectance is a value obtained by treating the back surface of the obtained optical film with black spray or the like and measuring with a spectrocolorimeter CM-3700d (manufactured by Konica Minolta).

(ヘイズ)
光学フィルムのヘイズは、画像表示装置に用いた場合の視認性から0.2〜10%の範囲内であることが好ましい。ヘイズは、JIS−K7105及びJIS K7136に準じて測定できる。
(Haze)
The haze of the optical film is preferably in the range of 0.2 to 10% from the visibility when used in an image display device. Haze can be measured according to JIS-K7105 and JIS K7136.

(硬度)
本発明の光学フィルムは、硬度の指標である鉛筆硬度がH以上、より好ましくは2H以上である。H以上であれば、偏光板化工程で、傷が付きにくい。鉛筆硬度は、作製した光学性フィルムを温度23℃、相対湿度55%の条件で2時間以上調湿した後、加重500g条件でJIS S 6006が規定する試験用鉛筆を用いて、機能性層をJIS K5400が規定する鉛筆硬度評価方法に従い測定した値である。次いで、本発明に係る基材フィルムについて説明する。
(hardness)
The optical film of the present invention has a pencil hardness, which is an index of hardness, of H or higher, more preferably 2H or higher. If it is more than H, it will be hard to be damaged in the polarizing plate forming step. The pencil hardness is determined by conditioning the prepared optical film at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 55% for 2 hours or more and then using a test pencil specified by JIS S 6006 under a weight of 500 g. It is the value measured according to the pencil hardness evaluation method prescribed | regulated by JISK5400. Next, the base film according to the present invention will be described.

<基材フィルム>
本発明に係る光学フィルムの基材フィルムは、本発明の目的効果が得られやすい点からセルロースエステル樹脂フィルムが好ましい。以下、セルロースエステル樹脂フィルムについて説明する。
<Base film>
The base film of the optical film according to the present invention is preferably a cellulose ester resin film from the viewpoint that the objective effect of the present invention is easily obtained. Hereinafter, the cellulose ester resin film will be described.

セルロースエステル樹脂フィルム(以下、セルロースエステルフィルム、セルロースアセテートフィルムともいう。)は、例えばトリアセチルセルロースフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム等が挙げられる。またセルロースエステルフィルムは、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ノルボルネン系樹脂、フッ素樹脂、シクロオレフィンポリマー等を併用してもよい。セルロースエステルフィルムの市販品としては、例えばコニカミノルタタックKC8UX、KC4UX、KC8UY、KC4UY、KC6UA、KC4UA、KC4UE及びKC4UZ(以上、コニカミノルタオプト(株)製)が挙げられる。セルロースエステルフィルムの屈折率は1.45〜1.55であることが好ましい。屈折率は、JIS K7142−2008に準じて測定することができる。   Examples of the cellulose ester resin film (hereinafter also referred to as cellulose ester film or cellulose acetate film) include a triacetyl cellulose film, a cellulose acetate propionate film, a cellulose diacetate film, and a cellulose acetate butyrate film. The cellulose ester film may be used in combination with polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polycarbonate resins, polyethylene resins, polypropylene resins, norbornene resins, fluororesins, and cycloolefin polymers. Examples of commercially available cellulose ester films include Konica Minoltak KC8UX, KC4UX, KC8UY, KC4UY, KC6UA, KC4UA, KC4UE, and KC4UZ (manufactured by Konica Minolta Opto, Inc.). The refractive index of the cellulose ester film is preferably 1.45 to 1.55. The refractive index can be measured according to JIS K7142-2008.

(セルロースエステル樹脂)
セルロースエステル樹脂(以下、セルロースエステルともいう)は、セルロースの低級脂肪酸エステルであることが好ましい。セルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは炭素原子数が6以下の脂肪酸を意味し、例えば、セルロースアセテート、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート等や、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等の混合脂肪酸エステルを用いることができる。
(Cellulose ester resin)
The cellulose ester resin (hereinafter also referred to as cellulose ester) is preferably a lower fatty acid ester of cellulose. The lower fatty acid in the lower fatty acid ester of cellulose means a fatty acid having 6 or less carbon atoms. For example, cellulose acetate, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate propionate, etc. Further, mixed fatty acid esters such as cellulose acetate butyrate can be used.

上記記載の中でも、特に好ましく用いられるセルロースの低級脂肪酸エステルはセルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネートである。これらのセルロースエステルは単独あるいは混合して用いることができる。   Among the above descriptions, the lower fatty acid esters of cellulose that are particularly preferably used are cellulose diacetate, cellulose triacetate, and cellulose acetate propionate. These cellulose esters can be used alone or in combination.

セルロースジアセテートは、平均酢化度(結合酢酸量)51.0%〜56.0%が好ましく用いられる。市販品としては、(株)ダイセル製のL20、L30、L40、L50、イーストマンケミカルジャパン(株)製のCa398−3、Ca398−6、Ca398−10、Ca398−30、Ca394−60Sが挙げられる。   Cellulose diacetate preferably has an average degree of acetylation (bound acetic acid amount) of 51.0% to 56.0%. Examples of commercially available products include L20, L30, L40, and L50 manufactured by Daicel Corporation, and Ca398-3, Ca398-6, Ca398-10, Ca398-30, and Ca394-60S manufactured by Eastman Chemical Japan Co., Ltd. .

セルローストリアセテートは、平均酢化度(結合酢酸量)54.0〜62.5%の範囲ものが好ましく用いられ、更に好ましいのは、平均酢化度が58.0〜62.5%の範囲のセルローストリアセテートである。   Cellulose triacetate preferably has an average degree of acetylation (bound acetic acid amount) in the range of 54.0 to 62.5%, and more preferably has an average degree of acetylation in the range of 58.0 to 62.5%. Cellulose triacetate.

セルローストリアセテートとしては、数平均分子量(Mn)が125000以上、155000未満、重量平均分子量(Mw)は、265000以上310000未満、Mw/Mnが1.9〜2.1の範囲であるセルローストリアセテートA、アセチル基置換度が2.75〜2.90であり、数平均分子量(Mn)が155000以上、180000未満、Mwは290000以上360000未満、Mw/Mnは、1.8〜2.0の範囲であるセルローストリアセテートBを含有することが好ましい。   As the cellulose triacetate, a cellulose triacetate A having a number average molecular weight (Mn) of 125,000 or more and less than 155000, a weight average molecular weight (Mw) of 265,000 or more and less than 310,000, and Mw / Mn of 1.9 to 2.1. The degree of acetyl group substitution is 2.75 to 2.90, the number average molecular weight (Mn) is 155000 or more and less than 180000, Mw is 290000 or more and less than 360,000, and Mw / Mn is in the range of 1.8 to 2.0. It is preferable to contain a certain cellulose triacetate B.

セルロースアセテートプロピオネートは、炭素原子数2〜4のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をXとし、プロピオニル基又はブチリル基の置換度をYとした時、下記式(I)及び(II)を同時に満たすものが好ましい。   Cellulose acetate propionate has an acyl group having 2 to 4 carbon atoms as a substituent. When the substitution degree of acetyl group is X and the substitution degree of propionyl group or butyryl group is Y, the following formula (I ) And (II) are preferably satisfied at the same time.

式(I) 2.6≦X+Y≦3.0
式(II) 0≦X≦2.5
中でも1.9≦X≦2.5、0.1≦Y≦0.9であることが好ましい。
Formula (I) 2.6 ≦ X + Y ≦ 3.0
Formula (II) 0 ≦ X ≦ 2.5
Among them, it is preferable that 1.9 ≦ X ≦ 2.5 and 0.1 ≦ Y ≦ 0.9.

上記アシル基の置換度の測定方法は、ASTM−D817−96に準じて測定することができる。   The method for measuring the substitution degree of the acyl group can be measured according to ASTM-D817-96.

セルロースエステルの数平均分子量(Mn)及び分子量分布(Mw)は、高速液体クロマトグラフィーを用い測定できる。測定条件は以下のとおりである。   The number average molecular weight (Mn) and molecular weight distribution (Mw) of the cellulose ester can be measured using high performance liquid chromatography. The measurement conditions are as follows.

溶媒:メチレンクロライド
カラム:Shodex K806、K805、K803G
(昭和電工(株)製を3本接続して使用した)
カラム温度:25℃
試料濃度:0.1質量%
検出器:RI Model 504(GLサイエンス社製)
ポンプ:L6000(日立製作所(株)製)
流量:1.0ml/min
校正曲線:標準ポリスチレンSTK standard ポリスチレン(東ソー(株)製)Mw=1000000〜500迄の13サンプルによる校正曲線を使用した。13サンプルは、ほぼ等間隔に用いることが好ましい。
Solvent: Methylene chloride Column: Shodex K806, K805, K803G
(Used by connecting three Showa Denko Co., Ltd.)
Column temperature: 25 ° C
Sample concentration: 0.1% by mass
Detector: RI Model 504 (GL Science Co., Ltd.)
Pump: L6000 (manufactured by Hitachi, Ltd.)
Flow rate: 1.0 ml / min
Calibration curve: Standard polystyrene STK standard polystyrene (manufactured by Tosoh Corp.) Mw = 100000 to 500 samples were used. The 13 samples are preferably used at approximately equal intervals.

(熱可塑性アクリル樹脂)
セルロースエステルフィルムは、熱可塑性アクリル樹脂を併用しても良い。併用する場合には、熱可塑性アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂の含有質量比が、熱可塑性アクリル樹脂:セルロースエステル樹脂=95:5〜50:50の範囲内が好ましい。
(Thermoplastic acrylic resin)
The cellulose ester film may be used in combination with a thermoplastic acrylic resin. When used in combination, the mass ratio of the thermoplastic acrylic resin to the cellulose ester resin is preferably in the range of thermoplastic acrylic resin: cellulose ester resin = 95: 5 to 50:50.

アクリル樹脂には、メタクリル樹脂も含まれる。アクリル樹脂としては、特に制限されるものではないが、メチルメタクリレート単位50〜99質量%の範囲、及びこれと共重合可能な他の単量体単位1〜50質量%の範囲からなるものが好ましい。共重合可能な他の単量体としては、アルキル数の炭素数が2〜18のアルキルメタクリレート、アルキル数の炭素数が1〜18のアルキルアクリレート、アクリル酸、メタクリル酸等のα,β−不飽和酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の不飽和基含有二価カルボン酸、スチレン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル化合物、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のα,β−不飽和ニトリル、無水マレイン酸、マレイミド、N−置換マレイミド、グルタル酸無水物等が挙げられ、これらは単独あるいは2種以上を併用してよい。   Acrylic resin also includes methacrylic resin. Although it does not restrict | limit especially as an acrylic resin, What consists of the range of 50-99 mass% of methyl methacrylate units, and the range of 1-50 mass% of other monomer units copolymerizable with this is preferable. . Other monomers that can be copolymerized include alkyl methacrylates having 2 to 18 carbon atoms, alkyl acrylates having 1 to 18 carbon atoms, acrylic acid, methacrylic acid, and the like. Unsaturated group-containing divalent carboxylic acids such as saturated acid, maleic acid, fumaric acid and itaconic acid, aromatic vinyl compounds such as styrene and α-methylstyrene, α, β-unsaturated nitriles such as acrylonitrile and methacrylonitrile, Maleic anhydride, maleimide, N-substituted maleimide, glutaric anhydride and the like may be mentioned, and these may be used alone or in combination of two or more.

これらの中でも共重合体の耐熱分解性や流動性の観点から、メチルアクリレート、エチルアクリレート、n−プロピルアクリレート、n−ブチルアクリレート、s−ブチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート等が好ましく、メチルアクリレートやn−ブチルアクリレートが特に好ましく用いられる。また、重量平均分子量(Mw)は80000〜500000の範囲であることが好ましく、更に好ましくは110000〜500000の範囲である。   Among these, methyl acrylate, ethyl acrylate, n-propyl acrylate, n-butyl acrylate, s-butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, and the like are preferable from the viewpoint of thermal decomposition resistance and fluidity of the copolymer, and methyl acrylate and n -Butyl acrylate is particularly preferably used. Moreover, it is preferable that a weight average molecular weight (Mw) is the range of 80000-500000, More preferably, it is the range of 110000-500000.

アクリル樹脂の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定することができる。アクリル樹脂の市販品としては、例えばデルペット60N、80N(旭化成ケミカルズ(株)製)、ダイヤナールBR52、BR80、BR83、BR85、BR88(三菱レイヨン(株)製)、KT75(電気化学工業(株)製)等が挙げられる。アクリル樹脂は2種以上を併用することもできる。
(マット剤)
本発明に係る基材フィルムは、取扱性を向上させるため、例えばアクリル粒子、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等の無機微粒子や架橋高分子などの公知のマット剤を含有する。これらの中でも二酸化ケイ素が基材フィルムのヘイズを小さくできる点やマット剤が局在する面が形成されやすい点から好ましい。マット剤の1次平均粒子径としては、20nm以下であり、更に好ましくは、5〜16nmの範囲内であり、特に好ましくは、5〜12nmの範囲内である。
The weight average molecular weight of the acrylic resin can be measured by gel permeation chromatography. Commercially available acrylic resins include, for example, Delpet 60N, 80N (Asahi Kasei Chemicals Corporation), Dialnal BR52, BR80, BR83, BR85, BR88 (Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), KT75 (Electrochemical Industry Co., Ltd.) )) And the like. Two or more acrylic resins can be used in combination.
(Matting agent)
In order to improve the handleability, the base film according to the present invention, for example, acrylic particles, silicon dioxide, titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, kaolin, talc, calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate, It contains a known matting agent such as inorganic fine particles such as aluminum silicate, magnesium silicate and calcium phosphate, and a crosslinked polymer. Among these, silicon dioxide is preferable from the viewpoint that the haze of the base film can be reduced and the surface where the matting agent is localized is easily formed. The average primary particle diameter of the matting agent is at 2 0 nm or less, more preferably in the range of 5 to 16 nm, especially preferably in the range of 5~12Nm.

基材フィルムは、環境変化での寸法安定性から、下記一般式(X)で表されるエステル化合物又は糖エステルを含有することが好ましい。先ずは、一般式(X)で表されるエステル化合物について説明する。   It is preferable that a base film contains the ester compound or sugar ester represented by the following general formula (X) from the dimensional stability by an environmental change. First, the ester compound represented by the general formula (X) will be described.

一般式(X) B−(G−A)−G−B
(式中、Bはヒドロキシ基又はカルボン酸残基、Gは炭素数2〜12のアルキレングリコール残基又は炭素数6〜12のアリールグリコール残基又は炭素数が4〜12のオキシアルキレングリコール残基、Aは炭素数4〜12のアルキレンジカルボン酸残基又は炭素数6〜12のアリールジカルボン酸残基を表す。nは1以上の整数を表す。)
一般式(X)において、炭素数2〜12のアルキレングリコール成分としては、エチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,3−プロピレングリコール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,2−プロパンジオール、2−メチル−1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール(ネオペンチルグリコール)、2,2−ジエチル−1,3−プロパンジオール(3,3−ジメチロールペンタン)、2−n−ブチル−2−エチル−1,3プロパンジオール(3,3−ジメチロールヘプタン)、3−メチル−1,5−ペンタンジオール1,6−ヘキサンジオール、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール、2−エチル−1,3−ヘキサンジオール、2−メチル−1,8−オクタンジオール、1,9−ノナンジオール、1,10−デカンジオール、1,12−オクタデカンジオール等があり、これらのグリコールは、1種又は2種以上の混合物として使用される。特に炭素数2〜12のアルキレングリコールがセルロースアセテートとの相溶性に優れているため、特に好ましい。炭素数6〜12のアリールグリコール成分としては、例えば、ハイドロキノン、レゾルシン、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノール等があり、これらのグリコールは、1種又は2種以上の混合物として使用できる。
Formula (X) B- (GA) n -GB
(Wherein B is a hydroxy group or carboxylic acid residue, G is an alkylene glycol residue having 2 to 12 carbon atoms, an aryl glycol residue having 6 to 12 carbon atoms, or an oxyalkylene glycol residue having 4 to 12 carbon atoms) , A represents an alkylene dicarboxylic acid residue having 4 to 12 carbon atoms or an aryl dicarboxylic acid residue having 6 to 12 carbon atoms, and n represents an integer of 1 or more.)
In the general formula (X), as the alkylene glycol component having 2 to 12 carbon atoms, ethylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 1,2-propanediol, 2-methyl-1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol (neopentyl glycol), 2,2-diethyl-1,3-propanediol (3,3-dimethylolpentane), 2-n-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol (3,3-dimethylolheptane), 3-methyl -1,5-pentanediol 1,6-hexanediol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, 2-ethyl There are 1,3-hexanediol, 2-methyl-1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, 1,10-decanediol, 1,12-octadecanediol, and the like. Used as a mixture of two or more. In particular, an alkylene glycol having 2 to 12 carbon atoms is particularly preferable because of excellent compatibility with cellulose acetate. Examples of the aryl glycol component having 6 to 12 carbon atoms include hydroquinone, resorcin, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol and the like, and these glycols can be used as one kind or a mixture of two or more kinds.

また、炭素数4〜12のオキシアルキレングリコール成分としては、例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等があり、これらのグリコールは、1種又は2種以上の混合物として使用できる。炭素数4〜12のアルキレンジカルボン酸成分としては、例えば、コハク酸、マレイン酸、フマール酸、グルタール酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸等があり、これらは、それぞれ1種又は2種以上の混合物として使用される。炭素数6〜12のアリーレンジカルボン酸成分としては、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、1,5−ナフタレンジカルボン酸、1,4−ナフタレンジカルボン酸等がある。以下に、一般式(X)で表される化合物の具体例(化合物X−1〜化合物X−17)を示すが、これに限定されない。   Examples of the oxyalkylene glycol component having 4 to 12 carbon atoms include diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, and the like. These glycols are one kind or two or more kinds. Can be used as a mixture. Examples of the alkylene dicarboxylic acid component having 4 to 12 carbon atoms include succinic acid, maleic acid, fumaric acid, glutaric acid, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, dodecanedicarboxylic acid, and the like. Used as a mixture of two or more. Examples of the arylene dicarboxylic acid component having 6 to 12 carbon atoms include phthalic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, 1,5-naphthalenedicarboxylic acid, 1,4-naphthalenedicarboxylic acid, and the like. Although the specific example (compound X-1-compound X-17) of a compound represented by general formula (X) below is shown, it is not limited to this.

次に糖エステル化合物について説明する。糖エステル化合物としては、セルロースエステル以外の糖エステルであって、下記単糖、二糖、三糖又はオリゴ糖などの糖のOH基の全て若しくは一部をエステル化した化合物である。糖としては例えば、グルコース、ガラクトース、マンノース、フルクトース、キシロース、アラビノース、ラクトース、スクロース、ニストース、1F−フラクトシルニストース、スタキオース、マルチトール、ラクチトール、ラクチュロース、セロビオース、マルトース、セロトリオース、マルトトリオース、ラフィノース及びケストースを挙げることができる。このほか、ゲンチオビオース、ゲンチオトリオース、ゲンチオテトラオース、キシロトリオース、ガラクトシルスクロースなども挙げられる。これらの化合物の中で、特にフラノース構造及び/又はピラノース構造を有する化合物が好ましい。これらの中でも、スクロース、ケストース、ニストース、1F−フラクトシルニストース、スタキオースなどが好ましく、さらに好ましくは、スクロースである。また、オリゴ糖として、マルトオリゴ糖、イソマルトオリゴ糖、フラクトオリゴ糖、ガラクトオリゴ糖、キシロオリゴ糖も好ましく使用することができる。   Next, the sugar ester compound will be described. The sugar ester compound is a sugar ester other than cellulose ester, and is a compound obtained by esterifying all or part of the OH group of a sugar such as the following monosaccharide, disaccharide, trisaccharide or oligosaccharide. Examples of the sugar include glucose, galactose, mannose, fructose, xylose, arabinose, lactose, sucrose, nystose, 1F-fructosyl nystose, stachyose, maltitol, lactitol, lactulose, cellobiose, maltose, cellotriose, maltotriose, raffinose And kestose. In addition, gentiobiose, gentiotriose, gentiotetraose, xylotriose, galactosyl sucrose, and the like are also included. Among these compounds, compounds having a furanose structure and / or a pyranose structure are particularly preferable. Among these, sucrose, kestose, nystose, 1F-fructosyl nystose, stachyose and the like are preferable, and sucrose is more preferable. As oligosaccharides, maltooligosaccharides, isomaltooligosaccharides, fructooligosaccharides, galactooligosaccharides, and xylo-oligosaccharides can also be preferably used.

糖をエステル化するのに用いられるモノカルボン酸は、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることができる。使用するカルボン酸は1種類でもよいし、2種以上の混合であってもよい。好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、2−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸、オクテン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、又はそれらの誘導体を挙げることができる。好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、安息香酸のベンゼン環にアルキル基、アルコキシ基を導入した芳香族モノカルボン酸、ケイ皮酸、ベンジル酸、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を2個以上有する芳香族モノカルボン酸、又はそれらの誘導体を挙げることができ、より具体的には、キシリル酸、ヘメリト酸、メシチレン酸、プレーニチル酸、γ−イソジュリル酸、ジュリル酸、メシト酸、α−イソジュリル酸、クミン酸、α−トルイル酸、ヒドロアトロパ酸、アトロパ酸、ヒドロケイ皮酸、サリチル酸、o−、m、p−アニス酸、クレオソート酸、o−、m、p−ホモサリチル酸、o−ピロカテク酸、β−レソルシル酸、バニリン酸、イソバニリン酸、ベラトルム酸、o−ベラトルム酸、没食子酸、アサロン酸、マンデル酸、ホモアニス酸、ホモバニリン酸、ホモベラトルム酸、o−ホモベラトルム酸、フタロン酸、p−クマル酸を挙げることができるが、特に安息香酸が好ましい。エステル化したエステル化合物の中では、エステル化によりアセチル基が導入されたアセチル化合物が好ましい。以下に本発明に用いられ得る糖エステル化合物の具体例を示すが、これらに限定されない。   The monocarboxylic acid used for esterifying the sugar is not particularly limited, and known aliphatic monocarboxylic acid, alicyclic monocarboxylic acid, aromatic monocarboxylic acid and the like can be used. The carboxylic acid to be used may be one kind or a mixture of two or more kinds. Preferred aliphatic monocarboxylic acids include acetic acid, propionic acid, butyric acid, isobutyric acid, valeric acid, caproic acid, enanthic acid, caprylic acid, pelargonic acid, capric acid, 2-ethyl-hexanecarboxylic acid, undecylic acid, lauric acid , Saturated fatty acids such as tridecylic acid, myristic acid, pentadecylic acid, palmitic acid, heptadecylic acid, stearic acid, nonadecanoic acid, arachidic acid, behenic acid, lignoceric acid, cerotic acid, heptacosanoic acid, montanic acid, melicic acid, and laccelic acid, Examples include unsaturated fatty acids such as undecylenic acid, oleic acid, sorbic acid, linoleic acid, linolenic acid, arachidonic acid and octenoic acid. Examples of preferred alicyclic monocarboxylic acids include cyclopentane carboxylic acid, cyclohexane carboxylic acid, cyclooctane carboxylic acid, or derivatives thereof. Examples of preferred aromatic monocarboxylic acids include benzoic acid, aromatic monocarboxylic acids having an alkyl group or alkoxy group introduced into the benzene ring of benzoic acid, cinnamic acid, benzylic acid, biphenylcarboxylic acid, naphthalenecarboxylic acid, tetralin An aromatic monocarboxylic acid having two or more benzene rings such as carboxylic acid, or a derivative thereof can be mentioned, and more specifically, xylic acid, hemelic acid, mesitylene acid, planicylic acid, γ-isojurylic acid, Julylic acid, mesitic acid, α-isoduric acid, cumic acid, α-toluic acid, hydroatropic acid, atropic acid, hydrocinnamic acid, salicylic acid, o-, m, p-anisic acid, creosote acid, o-, m, p-homosalicylic acid, o-pyrocatechuic acid, β-resorcylic acid, vanillic acid, isovanillic acid, veratrum acid o- veratric acid, gallic acid, asarone acid, mandelic acid, homoanisic acid, homovanillic acid, homoveratric acid, o- homoveratric acid, Futaron acid, can be mentioned p- coumaric acid, especially benzoic acid. Among the ester compounds esterified, an acetyl compound into which an acetyl group has been introduced by esterification is preferable. Although the specific example of the sugar ester compound which can be used for this invention below is shown, it is not limited to these.

糖エステル化合物は、一般式(Y)で示される化合物が好ましい。以下に、一般式(Y)で示される化合物について説明する。   The sugar ester compound is preferably a compound represented by the general formula (Y). Below, the compound shown by general formula (Y) is demonstrated.

(式中、R〜Rは、水素原子、置換若しくは無置換の炭素数2〜22のアルキルカルボニル基、あるいは、置換又は無置換の炭素数2〜22のアリールカルボニル基を表し、R〜Rは、同じであっても、異なっていてもよい。)
以下に一般式(Y)で示される化合物をより具体的(化合物Y−1〜化合物Y−23)に示すが、これらに限定はされない。なお、下表において平均置換度が8.0未満の場合、R〜Rのうちのいずれかは水素原子を表す。
(Wherein R 1 to R 8 represent a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkylcarbonyl group having 2 to 22 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted arylcarbonyl group having 2 to 22 carbon atoms; R 1 to R 8 may be the same or different.)
Although the compound shown with general formula (Y) below is shown more concretely (compound Y-1-compound Y-23), it is not limited to these. In the following table, when the average degree of substitution is less than 8.0, any one of R 1 to R 8 represents a hydrogen atom.

置換度分布は、エステル化反応時間の調節、又は置換度違いの化合物を混合することにより目的の置換度に調整できる。   The substitution degree distribution can be adjusted to the desired substitution degree by adjusting the esterification reaction time or mixing compounds having different substitution degrees.

一般式(X)で表されるエステル化合物又は糖エステル化合物は、基材フィルムに、1〜30質量%の範囲含有させることが好ましく、5〜25質量%の範囲含有させることがより好ましく、5〜20質量%含有させることが特に好ましい。   The ester compound or sugar ester compound represented by the general formula (X) is preferably contained in the base film in the range of 1 to 30% by mass, more preferably in the range of 5 to 25% by mass. It is particularly preferable to contain ~ 20% by mass.

(その他の添加剤)
〔可塑剤〕
本発明に係る基材フィルムは、必要に応じて可塑剤を含有しても良い。可塑剤としては、特に限定されないが、多価カルボン酸エステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、リン酸エステル系可塑剤、及び多価アルコールエステル系可塑剤、アクリル系可塑剤等が挙げられる。これらの中では、後述するリターデーション値にセルロースエステルフィルムを制御しやすい点から、アクリル系可塑剤が好ましい。
(Other additives)
[Plasticizer]
The base film according to the present invention may contain a plasticizer as necessary. The plasticizer is not particularly limited, but is a polyvalent carboxylic ester plasticizer, glycolate plasticizer, phthalate ester plasticizer, phosphate ester plasticizer, and polyhydric alcohol ester plasticizer, acrylic. A plasticizer etc. are mentioned. In these, an acrylic plasticizer is preferable from the point which can control a cellulose-ester film to the retardation value mentioned later.

多価アルコールエステル系可塑剤は、2価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなる可塑剤であり、分子内に芳香環又はシクロアルキル環を有することが好ましい。好ましくは2〜20価の脂肪族多価アルコールエステルである。以下に、多価アルコールエステル系可塑剤の具体的例を示すがこれらに限定されるものではない。   The polyhydric alcohol ester plasticizer is a plasticizer comprising an ester of a divalent or higher aliphatic polyhydric alcohol and a monocarboxylic acid, and preferably has an aromatic ring or a cycloalkyl ring in the molecule. Preferably it is a 2-20 valent aliphatic polyhydric alcohol ester. Specific examples of the polyhydric alcohol ester plasticizer are shown below, but are not limited thereto.

グリコレート系可塑剤としては、特に限定されないが、アルキルフタリルアルキルグリコレート類が好ましく用いることができる。アルキルフタリルアルキルグリコレート類としては、例えばメチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等が挙げられる。   The glycolate plasticizer is not particularly limited, but alkylphthalylalkyl glycolates can be preferably used. Examples of alkyl phthalyl alkyl glycolates include methyl phthalyl methyl glycolate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, propyl phthalyl propyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate, octyl phthalyl octyl glycolate, methyl phthalyl ethyl Glycolate, ethyl phthalyl methyl glycolate, ethyl phthalyl propyl glycolate, methyl phthalyl butyl glycolate, ethyl phthalyl butyl glycolate, butyl phthalyl methyl glycolate, butyl phthalyl ethyl glycolate, propyl phthalyl butyl glycol Butyl phthalyl propyl glycolate, methyl phthalyl octyl glycolate, ethyl phthalyl octyl glycolate, octyl phthalyl methyl glycolate, octyl phthalate Ethyl glycolate, and the like.

フタル酸エステル系可塑剤としては、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−2−エチルヘキシルフタレート、ジオクチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジシクロヘキシルテレフタレート等が挙げられる。   Examples of the phthalate ester plasticizer include diethyl phthalate, dimethoxyethyl phthalate, dimethyl phthalate, dioctyl phthalate, dibutyl phthalate, di-2-ethylhexyl phthalate, dioctyl phthalate, dicyclohexyl phthalate, and dicyclohexyl terephthalate.

リン酸エステル系可塑剤としては、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等が挙げられる。   Examples of the phosphate ester plasticizer include triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, octyl diphenyl phosphate, diphenyl biphenyl phosphate, trioctyl phosphate, tributyl phosphate and the like.

多価カルボン酸エステル系可塑剤は2価以上、好ましくは2価〜20価の多価カルボン酸とアルコールのエステルよりなる化合物である。具体例としては、トリエチルシトレート、トリブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート(ATEC)、アセチルトリブチルシトレート(ATBC)、ベンゾイルトリブチルシトレート、アセチルトリフェニルシトレート、アセチルトリベンジルシトレート、酒石酸ジブチル、酒石酸ジアセチルジブチル、トリメリット酸トリブチル、ピロメリット酸テトラブチル等が挙げられるが、これらに限定されない。   The polyvalent carboxylic acid ester plasticizer is a compound composed of an ester of a divalent or higher valent, preferably a divalent to -20 valent polyvalent carboxylic acid and an alcohol. Specific examples include triethyl citrate, tributyl citrate, acetyl triethyl citrate (ATEC), acetyl tributyl citrate (ATBC), benzoyl tributyl citrate, acetyl triphenyl citrate, acetyl tribenzyl citrate, dibutyl tartrate, tartaric acid Examples include, but are not limited to, diacetyldibutyl, tributyl trimellitic acid, tetrabutyl pyromellitic acid, and the like.

アクリル系可塑剤としてはアクリル系ポリマーが好ましく、アクリル系ポリマーはアクリル酸又はメタクリル酸アルキルエステルのホモポリマー又はコポリマーが好ましい。アクリル酸エステルのモノマーとしては、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル(i−、n−)、アクリル酸ブチル(n−、i−、s−、t−)、アクリル酸ペンチル(n−、i−、s−)、アクリル酸ヘキシル(n−、i−)、アクリル酸ヘプチル(n−、i−)、アクリル酸オクチル(n−、i−)、アクリル酸ノニル(n−、i−)、アクリル酸ミリスチル(n−、i−)、アクリル酸(2−エチルヘキシル)、アクリル酸(ε−カプロラクトン)、アクリル酸(2−ヒドロキシエチル)、アクリル酸(2−ヒドロキシプロピル)、アクリル酸(3−ヒドロキシプロピル)、アクリル酸(4−ヒドロキシブチル)、アクリル酸(2−ヒドロキシブチル)、アクリル酸(2−メトキシエチル)、アクリル酸(2−エトキシエチル)等、又は上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたものを挙げることができる。アクリル系ポリマーは上記モノマーのホモポリマー又はコポリマーであるが、アクリル酸メチルエステルモノマー単位が30質量%以上を有していることが好ましく、またメタクリル酸メチルエステルモノマー単位が40質量%以上有することが好ましい。特にアクリル酸メチル又はメタクリル酸メチルのホモポリマーが好ましい。   The acrylic plasticizer is preferably an acrylic polymer, and the acrylic polymer is preferably a homopolymer or copolymer of acrylic acid or alkyl methacrylate. Examples of the acrylate monomer include methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate (i-, n-), butyl acrylate (n-, i-, s-, t-), pentyl acrylate ( n-, i-, s-), hexyl acrylate (n-, i-), heptyl acrylate (n-, i-), octyl acrylate (n-, i-), nonyl acrylate (n-, i-), myristyl acrylate (n-, i-), acrylic acid (2-ethylhexyl), acrylic acid (ε-caprolactone), acrylic acid (2-hydroxyethyl), acrylic acid (2-hydroxypropyl), acrylic Acid (3-hydroxypropyl), acrylic acid (4-hydroxybutyl), acrylic acid (2-hydroxybutyl), acrylic acid (2-methoxyethyl), acrylic acid 2-ethoxyethyl), etc., or the acrylic acid ester may include those obtained by changing the methacrylic acid ester. The acrylic polymer is a homopolymer or copolymer of the above-mentioned monomers, but the acrylic acid methyl ester monomer unit preferably has 30% by mass or more, and the methacrylic acid methyl ester monomer unit has 40% by mass or more. preferable. In particular, a homopolymer of methyl acrylate or methyl methacrylate is preferred.

なお、上述した可塑剤を含有させる場合、その使用量は例えばセルロースアセテートに対し、1〜50質量%の範囲含有させることが好ましく、5〜35質量%の範囲含有させることがより好ましく、5〜25質量%の範囲含有させることが特に好ましい。   In addition, when it contains the plasticizer mentioned above, it is preferable to make the usage-amount contain in the range of 1-50 mass% with respect to a cellulose acetate, for example, and it is more preferable to make it contain in the range of 5-35 mass%, It is especially preferable to make it contain in 25 mass%.

(紫外線吸収剤)
本発明に係る基材フィルムは、紫外線吸収剤を含有してもよい。紫外線吸収剤は400nm以下の紫外線を吸収することため、耐久性を向上させるができる。紫外線吸収剤は、特に波長370nmでの透過率が10%以下であることが好ましく、より好ましくは5%以下、更に好ましくは2%以下である。紫外線吸収剤の具体例としては特に限定されないが、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物、無機粉体等が挙げられる。
(UV absorber)
The base film according to the present invention may contain an ultraviolet absorber. Since the ultraviolet absorber absorbs ultraviolet rays of 400 nm or less, durability can be improved. In particular, the ultraviolet absorber preferably has a transmittance of 10% or less at a wavelength of 370 nm, more preferably 5% or less, and still more preferably 2% or less. Specific examples of the ultraviolet absorber are not particularly limited. For example, oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, triazine compounds, nickel complex salts, inorganic powders. Examples include the body.

より具体的には、例えば、5−クロロ−2−(3,5−ジ−sec−ブチル−2−ヒドロキシルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、(2−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(直鎖及び側鎖ドデシル)−4−メチルフェノール、2−ヒドロキシ−4−ベンジルオキシベンゾフェノン、2,4−ベンジルオキシベンゾフェノン等を用いることができる。これらは、市販品を用いてもよく、例えば、BASFジャパン社製のチヌビン109、チヌビン171、チヌビン234、チヌビン326、チヌビン327、チヌビン328等のチヌビン類を好ましく使用できる。   More specifically, for example, 5-chloro-2- (3,5-di-sec-butyl-2-hydroxylphenyl) -2H-benzotriazole, (2-2H-benzotriazol-2-yl) -6 -(Linear and side chain dodecyl) -4-methylphenol, 2-hydroxy-4-benzyloxybenzophenone, 2,4-benzyloxybenzophenone, etc. can be used. Commercially available products may be used. For example, TINUVIN such as TINUVIN 109, TINUVIN 171, TINUVIN 234, TINUVIN 326, TINUVIN 327, and TINUVIN 328 manufactured by BASF Japan Ltd. can be preferably used.

好ましく用いられる紫外線吸収剤は、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤であり、特に好ましくはベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤などである。   Preferred ultraviolet absorbers are benzotriazole ultraviolet absorbers, benzophenone ultraviolet absorbers, and triazine ultraviolet absorbers, and particularly preferred are benzotriazole ultraviolet absorbers and benzophenone ultraviolet absorbers.

この他、1,3,5トリアジン環を有する化合物等の円盤状化合物も紫外線吸収剤として好ましく用いられる。また、紫外線吸収剤としては高分子紫外線吸収剤も好ましく用いることができ、特にポリマータイプの紫外線吸収剤が好ましく用いられる。
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、市販品であるBASFジャパン社製のTINUVIN 109(オクチル−3−[3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(5−クロロ―2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル]プロピオネートと2−エチルヘキシル−3−[3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(5−クロロ―2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル]プロピオネートの混合物)、TINUVIN 928(2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(1−メチル−1−フェニルエチル)−4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノール)などを用いることができる。トリアジン系紫外線吸収剤としては、市販品であるBASFジャパン社製のTINUVIN 400(2−(4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル)−5−ヒドロキシフェニルとオキシランとの反応生成物)、TINUVIN 460(2,4−ビス[2−ヒドロキシ−4−ブトキシフェニル]−6−(2,4−ジブトキシフェニル)−1,3−5−トリアジン)、TINUVIN 405(2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4,6−ビス―(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジンと(2−エチルヘキシル)−グリシド酸エステルの反応生成物)などを用いることができる。
In addition, a discotic compound such as a compound having a 1,3,5 triazine ring is also preferably used as the ultraviolet absorber. As the UV absorber, a polymer UV absorber can be preferably used, and a polymer type UV absorber is particularly preferably used.
As a benzotriazole ultraviolet absorber, TINUVIN 109 (octyl-3- [3-tert-butyl-4-hydroxy-5- (5-chloro-2H-benzotriazole-2-) manufactured by BASF Japan Ltd., which is a commercial product, is available. Yl) phenyl] propionate and 2-ethylhexyl-3- [3-tert-butyl-4-hydroxy-5- (5-chloro-2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate), TINUVIN 928 (2 -(2H-benzotriazol-2-yl) -6- (1-methyl-1-phenylethyl) -4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenol) and the like can be used. As the triazine-based ultraviolet absorber, TINUVIN 400 (2- (4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazin-2-yl) -manufactured by BASF Japan Ltd., which is a commercial product, is available. Reaction product of 5-hydroxyphenyl and oxirane), TINUVIN 460 (2,4-bis [2-hydroxy-4-butoxyphenyl] -6- (2,4-dibutoxyphenyl) -1,3-5 Triazine), TINUVIN 405 (2- (2,4-dihydroxyphenyl) -4,6-bis- (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazine and (2-ethylhexyl) -glycidic acid ester Reaction products) and the like.

紫外線吸収剤の添加方法は、メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコールやメチレンクロライド、酢酸メチル、アセトン、ジオキソラン等の有機溶媒あるいはこれらの混合溶媒に紫外線吸収剤を溶解してから、基材フィルムとなる樹脂溶液(ドープ)に添加するか、又は直接ドープ組成中に添加してもよい。無機粉体のように有機溶剤に溶解しないものは、有機溶剤とセルロースアセテート中にディゾルバーやサンドミルを使用し、分散してからドープに添加する。   The ultraviolet absorber is added by dissolving the ultraviolet absorber in an alcohol such as methanol, ethanol, butanol or the like, an organic solvent such as methylene chloride, methyl acetate, acetone, dioxolane, or a mixed solvent thereof, and then becomes a base film. It may be added to the resin solution (dope) or directly during the dope composition. For an inorganic powder that does not dissolve in an organic solvent, a dissolver or a sand mill is used in the organic solvent and cellulose acetate to disperse and then added to the dope.

紫外線吸収剤の使用量は、基材フィルムに対して0.5〜10質量%の範囲が好ましく、0.6〜4質量%の範囲が更に好ましい。   The amount of the ultraviolet absorber used is preferably in the range of 0.5 to 10% by mass, more preferably in the range of 0.6 to 4% by mass with respect to the base film.

(酸化防止剤)
本発明に係る基材フィルムは、さらに酸化防止剤(劣化防止剤)を含有していてもよい。酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系の化合物が好ましく用いられ、例えば2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、1,6−ヘキサンジオール−ビス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、2,4−ビス−(n−オクチルチオ)−6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルアニリノ)−1,3,5−トリアジン、2,2−チオ−ジエチレンビス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、オクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、N,N′−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド)、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、トリス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−イソシアヌレート等を挙げることができる。これら化合物の添加量は、基材フィルムに対して、質量割合で1〜10000ppmの範囲が好ましく、10〜1000ppmの範囲が更に好ましい。
(Antioxidant)
The base film according to the present invention may further contain an antioxidant (deterioration inhibitor). As the antioxidant, hindered phenol compounds are preferably used. For example, 2,6-di-tert-butyl-p-cresol, pentaerythrityl-tetrakis [3- (3,5-di-tert-butyl). -4-hydroxyphenyl) propionate], triethylene glycol-bis [3- (3-tert-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 1,6-hexanediol-bis [3- (3 5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 2,4-bis- (n-octylthio) -6- (4-hydroxy-3,5-di-t-butylanilino) -1,3 5-triazine, 2,2-thio-diethylenebis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], octadecyl-3- 3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, N, N'-hexamethylenebis (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxy-hydrocinnamamide), 1,3 5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, tris- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -isocyanurate Etc. The addition amount of these compounds is preferably in the range of 1 to 10000 ppm, more preferably in the range of 10 to 1000 ppm by mass ratio with respect to the base film.

(欠点)
基材フィルムは、直径5μm以上の欠点が1個/10cm四方以下であることが好ましい。更に好ましくは0.5個/10cm四方以下、一層好ましくは0.1個/10cm四方以下である。ここで欠点の直径とは、欠点が円形の場合はその直径を示し、円形でない場合は欠点の範囲を下記方法により顕微鏡で観察して決定し、その最大径(外接円の直径)とする。
(Disadvantage)
The substrate film preferably has a defect of 5 μm or more in diameter of 1 piece / 10 cm square or less. More preferably, it is 0.5 piece / 10 cm square or less, more preferably 0.1 piece / 10 cm square or less. Here, the diameter of the defect indicates the diameter when the defect is circular, and when the defect is not circular, the range of the defect is determined by observing with a microscope by the following method, and the maximum diameter (diameter of circumscribed circle) is determined.

欠点の範囲は、欠点が気泡や異物の場合は、欠点を微分干渉顕微鏡の透過光で観察したときの影の大きさである。欠点が、ローラ傷の転写や擦り傷など、表面形状の変化の場合は、欠点を微分干渉顕微鏡の反射光で観察して大きさを確認できる。   The range of the defect is the size of the shadow when the defect is observed with the transmitted light of the differential interference microscope when the defect is a bubble or a foreign object. When the defect is a change in the surface shape such as transfer of a roller scratch or an abrasion, the size can be confirmed by observing the defect with the reflected light of a differential interference microscope.

欠点の個数が1個/10cm四方より多いと、例えば後工程での加工時などでフィルムに張力がかかると、欠点を基点としてフィルムが破断して生産性が低下する場合がある。また、欠点の直径が5μm以上になると、偏光板観察などにより目視で確認でき、光学部材として用いたとき輝点が生じる場合がある。   When the number of defects is greater than 1/10 cm square, for example, when the film is tensioned during processing in a later process, the film may break with the defects as a starting point, and productivity may decrease. Moreover, when the diameter of a defect becomes 5 micrometers or more, it can confirm visually by polarizing plate observation etc., and when used as an optical member, a bright spot may arise.

また、目視で確認できない場合でも、機能性層を形成したときに、塗膜が均一に形成できず欠点(塗布抜け)となる場合がある。ここで、欠点とは、溶液製膜の乾燥工程において溶媒の急激な蒸発に起因して発生するフィルム中の空洞(発泡欠点)や、製膜原液中の異物や製膜中に混入する異物に起因するフィルム中の異物(異物欠点)をいう。また、基材フィルムは、JIS−K7127−1999に準拠した測定において、少なくとも一方向の破断伸度が、10%以上であることが好ましく、より好ましくは20%以上である。破断伸度の上限は特に限定されるものではないが、現実的には250%程度である。破断伸度を大きくするには異物や発泡に起因するフィルム中の欠点を抑制することが有効である。   Moreover, even when it cannot be visually confirmed, when a functional layer is formed, a coating film cannot be formed uniformly, resulting in a defect (missing coating). Here, the defect is a void in the film (foaming defect) generated due to the rapid evaporation of the solvent in the drying process of the solution casting, a foreign matter in the film forming stock solution, or a foreign matter mixed in the film forming. This refers to foreign matter (foreign matter defect) in the film. In addition, the base film preferably has a breaking elongation of at least one direction of 10% or more, more preferably 20% or more, in the measurement based on JIS-K7127-1999. The upper limit of the elongation at break is not particularly limited, but is practically about 250%. In order to increase the elongation at break, it is effective to suppress defects in the film caused by foreign matter and foaming.

(光学特性)
基材フィルムは、全光線透過率が90%以上であることが好ましく、より好ましくは92%以上である。また、現実的な上限としては、99%程度である。ヘイズ値は10%以下が好ましく、より好ましくは2%以下である。全光線透過率、ヘイズ値はJIS K7361及びJIS K7136に準じて測定することができる。
(optical properties)
The base film preferably has a total light transmittance of 90% or more, more preferably 92% or more. Moreover, as a realistic upper limit, it is about 99%. The haze value is preferably 10% or less, more preferably 2% or less. The total light transmittance and haze value can be measured according to JIS K7361 and JIS K7136.

また、基材フィルムの面内リターデーション値Roが0〜20nm、厚さ方向のリターデーション値Rthが−100〜100nmの範囲が好ましい。更にRthは−50〜50nmの範囲であることがより好ましい。   The in-plane retardation value Ro of the base film is preferably in the range of 0 to 20 nm, and the retardation value Rth in the thickness direction is preferably in the range of −100 to 100 nm. Further, Rth is more preferably in the range of −50 to 50 nm.

Ro及びRthは下記式(i)及び(ii)で定義された値である。   Ro and Rth are values defined by the following formulas (i) and (ii).

式(i) Ro=(n−n)×d
式(ii) Rth={(n+n)/2−n}×d
(式中、nは基材フィルム面内の遅相軸方向の屈折率、nは基材フィルム面内で遅相軸に直交する方向の屈折率、nは基材フィルムの厚さ方向の屈折率、dは基材フィルムの厚さ(nm)をそれぞれ表す。)
上記リターデーションは、例えばKOBRA−21ADH(王子計測機器(株)製)を用いて、23℃、55%RH(相対湿度)の環境下で、波長が590nmで求めることができる。上記リターデーション値に制御した基材フィルムを用いることで、タッチパネルや液晶表示装置などの画像表示装置に用いた際の視認性に優れる点から好ましい。リターデーションは、前述した可塑剤の種類や添加量及び基材フィルムの膜厚や延伸条件等で調整できる。
Formula (i) Ro = (n x -n y) × d
Formula (ii) Rth = {(n x + ny ) / 2−n z } × d
(Wherein, n x is a refractive index in a slow axis direction in the substrate film surface, n y is the refractive index in the direction perpendicular to the slow axis in the base film surface, the thickness of the n z is a substrate film (The refractive index in the direction, d represents the thickness (nm) of the substrate film, respectively.)
The retardation can be determined at a wavelength of 590 nm in an environment of 23 ° C. and 55% RH (relative humidity) using, for example, KOBRA-21ADH (manufactured by Oji Scientific Instruments). Use of the base film controlled to the retardation value is preferable from the viewpoint of excellent visibility when used in an image display device such as a touch panel or a liquid crystal display device. Retardation can be adjusted by the kind and addition amount of a plasticizer mentioned above, the film thickness of a base film, stretching conditions, and the like.

(基材フィルムの製膜方法)
次に、基材フィルムの製膜方法の例を説明するが、これに限定されるものではない。セルロースエステルフィルムの製膜方法としては、インフレーション法、T−ダイ法、カレンダー法、切削法、流延法、エマルジョン法、ホットプレス法等の製造法が使用できるが、マット剤が偏在する面が形成されやすい点から流延法が好ましい。
(Method for forming base film)
Next, although the example of the film forming method of a base film is demonstrated, it is not limited to this. As a method for forming a cellulose ester film, a production method such as an inflation method, a T-die method, a calendar method, a cutting method, a casting method, an emulsion method, or a hot press method can be used. The casting method is preferred from the viewpoint of easy formation.

(有機溶媒)
また、基材フィルムを溶液流延製膜法で製造する場合の樹脂溶液(ドープ)を形成するのに有用な有機溶媒は、セルロースエステル樹脂などの樹脂や、その他の添加剤を同時に溶解するものであれば制限なく用いることができる。例えば、塩素系有機溶媒としては、塩化メチレン、非塩素系有機溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、1,3−ジオキソラン、1,4−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、2,2,2−トリフルオロエタノール、2,2,3,3−ヘキサフルオロ−1−プロパノール、1,3−ジフルオロ−2−プロパノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−メチル−2−プロパノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロパノール、2,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プロパノール、ニトロエタン、メタノール、エタノール、n−プロパノール、iso−プロパノール、n−ブタノール、sec−ブタノール、tert−ブタノール等を挙げることができ、塩化メチレン、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトンを好ましく使用し得る。前記溶媒はセルロースエステル樹脂、マット剤、可塑剤及びその他添加剤を計15〜45質量%溶解させたドープであることが好ましい。
(Organic solvent)
In addition, organic solvents useful for forming a resin solution (dope) when a base film is produced by a solution casting method are those that simultaneously dissolve resins such as cellulose ester resins and other additives. If it is, it can be used without limitation. For example, as the chlorinated organic solvent, methylene chloride, as the non-chlorinated organic solvent, methyl acetate, ethyl acetate, amyl acetate, acetone, tetrahydrofuran, 1,3-dioxolane, 1,4-dioxane, cyclohexanone, ethyl formate, 2,2,2-trifluoroethanol, 2,2,3,3-hexafluoro-1-propanol, 1,3-difluoro-2-propanol, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro- 2-methyl-2-propanol, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propanol, 2,2,3,3,3-pentafluoro-1-propanol, nitroethane, methanol, ethanol, n-propanol, iso-propanol, n-butanol, sec-butanol, tert-butanol, etc. Can, methylene chloride, methyl acetate, ethyl acetate, may be used preferably acetone. The solvent is preferably a dope in which a total of 15 to 45% by mass of cellulose ester resin, matting agent, plasticizer and other additives are dissolved.

〔溶液流延製膜法〕
溶液流延製膜法では、樹脂、マット剤及び添加剤を溶剤に溶解させたドープを調製する工程、ドープをベルト状若しくはドラム状の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体から剥離する工程、延伸又は幅保持する工程、更に乾燥する工程、仕上がったセルロースエステルフィルムを巻き取る工程により行われる。
[Solution casting film forming method]
In the solution casting film forming method, a step of preparing a dope in which a resin, a matting agent and an additive are dissolved in a solvent, a step of casting the dope on a belt-like or drum-like metal support, and a cast dope It is performed by a step of drying as a web, a step of peeling from a metal support, a step of stretching or maintaining the width, a step of further drying, and a step of winding up the finished cellulose ester film.

金属支持体としては、ステンレススティールベルト若しくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。   As the metal support, a stainless steel belt or a drum whose surface is plated with a casting is preferably used.

ベルト状の金属支持体上にドープを流延する溶液流延製膜法によって本発明に係る基材フィルムを形成することで、ベルト面側と空気面側において、ドープの乾燥速度が異なることで、ドープ中の成分の比重の違いによって、マット剤が局在する面(空気面側)と可塑剤が局在する面(ベルト面側)を有する基材フィルムが得られるため、基材フィルムの製膜方法としては、ベルト製膜を用いた溶液流延製膜法が好ましい。該製膜法を用いて作製した基材フィルムを用いて、マット剤局在面に本発明に係る機能性層を塗設することで、基材フィルムの弾性率の低下や混合層領域での反応を抑制でき、耐久試験後も優れたカール特性や可とう性が得られるため好ましい。   By forming the base film according to the present invention by a solution casting film forming method in which a dope is cast on a belt-like metal support, the drying speed of the dope is different on the belt surface side and the air surface side. The base film having a surface on which the matting agent is localized (air surface side) and a surface on which the plasticizer is localized (belt surface side) is obtained depending on the specific gravity of the components in the dope. As the film forming method, a solution casting film forming method using belt film forming is preferable. By applying the functional layer according to the present invention to the matting agent localizing surface using the base film produced using the film forming method, the elastic modulus of the base film is reduced or the mixed layer region is used. It is preferable because the reaction can be suppressed and excellent curling characteristics and flexibility can be obtained after the durability test.

基材フィルムのマット剤や可塑剤の局在状態の確認は、前述の透過型電子顕微鏡で基材フィルムの断層写真を撮影し解析する方法に加えて、各面を飛行時間型二次イオン質量分析計(TOF−SIMS)やX線光電子分析装置(ESCA)によって分析することで確認することもできる。   In addition to the method of taking and analyzing tomographic images of the substrate film with the transmission electron microscope described above, the confirmation of the localized state of the matting agent and plasticizer of the substrate film is also possible with the time-of-flight secondary ion mass for each surface. It can also be confirmed by analyzing with an analyzer (TOF-SIMS) or an X-ray photoelectron analyzer (ESCA).

ここで、飛行時間型二次イオン質量分析法とは、固体試料上の原子や分子の化学情報を一分子層以下の感度で測定でき、特定の原子や分子の分布を100nm以下の空間分解能で観察可能な質量分析法である。飛行時間型二次イオン質量分析法は、二次イオン質量分析法(SIMS)の1種であり、一次イオンビームを固体試料に照射し、その際に試料の最表面から放出されるイオン(二次イオン)を検出することによって、分析が行われる。質量分析計として飛行時間型質量分析計(TOF−MS)が用いられることから、TOF−SIMSと称される。   Here, time-of-flight secondary ion mass spectrometry can measure the chemical information of atoms and molecules on a solid sample with a sensitivity of one molecular layer or less, and the distribution of specific atoms and molecules with a spatial resolution of 100 nm or less. This is an observable mass spectrometry method. Time-of-flight secondary ion mass spectrometry is a type of secondary ion mass spectrometry (SIMS), in which a solid sample is irradiated with a primary ion beam, and ions emitted from the outermost surface of the sample (two Analysis is performed by detecting (secondary ions). Since a time-of-flight mass spectrometer (TOF-MS) is used as the mass spectrometer, it is referred to as TOF-SIMS.

飛行時間型二次イオン質量分析法によれば、イオンビームをパルス的に試料に照射することによって、実質的に非破壊的な試料測定が可能であることから、現在では有機材料、高分子材料の分析にも広く応用されるに至っている。   According to time-of-flight secondary ion mass spectrometry, it is possible to measure a sample substantially non-destructively by irradiating the sample with an ion beam in a pulsed manner. It has been widely applied to the analysis of

基材フィルムのキャストの幅は1〜4mの範囲が好ましい。流延工程の金属支持体の表面温度は、−50℃〜溶剤が沸騰して発泡しない温度の範囲に設定される。温度が高い方がウェブの乾燥速度が速くできるので好ましいが、余り高すぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。   The width of the base film cast is preferably in the range of 1 to 4 m. The surface temperature of the metal support in the casting step is set in a range of −50 ° C. to a temperature at which the solvent boils and does not foam. A higher temperature is preferred because the web can be dried faster, but if it is too high, the web may foam or the flatness may deteriorate.

好ましい支持体温度としては0〜100℃の範囲で適宜決定され、5〜30℃の範囲が更に好ましい。又は、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風又は冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。   A preferable support temperature is appropriately determined in the range of 0 to 100 ° C, and more preferably in the range of 5 to 30 ° C. Alternatively, it is also a preferable method that the web is gelled by cooling and peeled from the drum in a state containing a large amount of residual solvent. The method for controlling the temperature of the metal support is not particularly limited, and there are a method of blowing warm air or cold air, and a method of contacting hot water with the back side of the metal support. It is preferable to use warm water because heat transfer is performed efficiently, so that the time until the temperature of the metal support becomes constant is short.

温風を用いる場合は溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。   When using warm air, considering the temperature drop of the web due to the latent heat of vaporization of the solvent, while using warm air above the boiling point of the solvent, there may be cases where wind at a temperature higher than the intended temperature is used while preventing foam .

特に、流延から剥離するまでの間で支持体の温度及び乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。   In particular, it is preferable to perform drying efficiently by changing the temperature of the support and the temperature of the drying air during the period from casting to peeling.

基材フィルムが良好な平面性を得るためには、金属支持体からウェブを剥離する際の残留溶媒量が10〜150質量%の範囲であることが好ましく、更に好ましくは20〜40質量%の範囲又は60〜130質量%の範囲であり、特に好ましくは、20〜30質量%の範囲又は70〜120質量%の範囲である。残留溶媒量は下記式で定義される。   In order for the base film to obtain good flatness, the amount of residual solvent when peeling the web from the metal support is preferably in the range of 10 to 150% by mass, more preferably 20 to 40% by mass. The range or the range of 60 to 130% by mass, particularly preferably the range of 20 to 30% by mass or the range of 70 to 120% by mass. The amount of residual solvent is defined by the following formula.

残留溶媒量(質量%)={(M−N)/N}×100
なお、Mはウェブ又はフィルムを製造中又は製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、NはMを115℃で1時間の加熱後の質量である。
Residual solvent amount (% by mass) = {(MN) / N} × 100
Note that M is the mass of a sample collected during or after the production of the web or film, and N is the mass after heating M at 115 ° C. for 1 hour.

また基材フィルムの乾燥工程は、ウェブを金属支持体より剥離し、乾燥し、残留溶媒量を1質量%以下にすることが好ましく、更に好ましくは0.1質量%以下であり、特に好ましくは0〜0.01質量%の範囲である。   Further, in the drying process of the base film, the web is peeled off from the metal support and dried, and the residual solvent amount is preferably 1% by mass or less, more preferably 0.1% by mass or less, particularly preferably. It is the range of 0-0.01 mass%.

フィルム乾燥工程では一般にローラ乾燥方式(上下に配置した多数のローラにウェブを交互に通し乾燥させる方式)やテンター方式でウェブを搬送させながら乾燥する方式が採られる。   In the film drying step, generally, a roller drying method (a method in which webs are alternately passed through a plurality of rollers arranged above and below) and a method in which the web is dried while being conveyed by a tenter method are employed.

好ましい支持体温度としては0〜100℃の範囲で適宜決定され、5〜30℃の範囲が更に好ましい。又は、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風又は冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。   A preferable support temperature is appropriately determined in the range of 0 to 100 ° C, and more preferably in the range of 5 to 30 ° C. Alternatively, it is also a preferable method that the web is gelled by cooling and peeled from the drum in a state containing a large amount of residual solvent. The method for controlling the temperature of the metal support is not particularly limited, and there are a method of blowing warm air or cold air, and a method of contacting hot water with the back side of the metal support. It is preferable to use warm water because heat transfer is performed efficiently, so that the time until the temperature of the metal support becomes constant is short.

温風を用いる場合は溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。   When using warm air, considering the temperature drop of the web due to the latent heat of vaporization of the solvent, while using warm air above the boiling point of the solvent, there may be cases where wind at a temperature higher than the intended temperature is used while preventing foam .

特に、流延から剥離するまでの間で支持体の温度及び乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。   In particular, it is preferable to perform drying efficiently by changing the temperature of the support and the temperature of the drying air during the period from casting to peeling.

延伸工程では、フィルムの長手方向(MD方向)、及び幅手方向(TD方向)に対して、逐次又は同時に延伸することができる。互いに直交する2軸方向の延伸倍率は、それぞれ最終的にはMD方向に1.0〜2.0倍の範囲、TD方向に1.05〜2.0倍の範囲の範囲とすることが好ましく、MD方向に1.0〜1.5倍の範囲、TD方向に1.05〜2.0倍の範囲の範囲で行うことが好ましい。例えば、複数のローラに周速差をつけ、その間でローラ周速差を利用してMD方向に延伸する方法、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に広げてMD方向に延伸する方法、同様に横方向に広げてTD方向に延伸する方法、あるいはMD方向及びTD方向を同時に広げて両方向に延伸する方法等が挙げられる。   In the stretching step, the film can be sequentially or simultaneously stretched in the longitudinal direction (MD direction) and the width direction (TD direction) of the film. It is preferable that the draw ratios in the biaxial directions orthogonal to each other are finally in the range of 1.0 to 2.0 times in the MD direction and in the range of 1.05 to 2.0 times in the TD direction. It is preferable to carry out in the range of 1.0 to 1.5 times in the MD direction and in the range of 1.05 to 2.0 times in the TD direction. For example, a method of making a difference in peripheral speed between a plurality of rollers and stretching in the MD direction using the difference in peripheral speed of the roller between them, fixing both ends of the web with clips and pins, and widening the interval between the clips and pins in the traveling direction And a method of stretching in the MD direction, a method of stretching in the transverse direction and stretching in the TD direction, a method of stretching the MD direction and the TD direction at the same time, and stretching in both directions.

製膜工程のこれらの幅保持あるいは幅手方向の延伸はテンターによって行うことが好ましく、ピンテンターでもクリップテンターでもよい。   These width maintenance or width direction stretching in the film forming process is preferably performed by a tenter, and may be a pin tenter or a clip tenter.

テンター等の製膜工程でのフィルム搬送張力は温度にもよるが、120〜200N/mの範囲が好ましく、140〜200N/mの範囲が更に好ましい。140〜160N/mの範囲が最も好ましい。   The film transport tension in the film forming process such as a tenter depends on the temperature, but is preferably in the range of 120 to 200 N / m, and more preferably in the range of 140 to 200 N / m. A range of 140 to 160 N / m is most preferred.

延伸する際の温度は、基材フィルムのガラス転移温度をTgとすると(Tg−30)〜(Tg+100)℃の範囲、より好ましくは(Tg−20)〜(Tg+80)℃の範囲、更に好ましく(Tg−5)〜(Tg+20)℃の範囲である。   When the glass transition temperature of the base film is Tg, the temperature during stretching is in the range of (Tg-30) to (Tg + 100) ° C., more preferably in the range of (Tg-20) to (Tg + 80) ° C., and more preferably ( The range is from Tg-5) to (Tg + 20) ° C.

基材フィルムのTgは、フィルムを構成する材料種及び構成する材料の比率によって制御することができる。基材フィルムの乾燥時のTgは、110℃以上が好ましく、更に120℃以上が好ましい。特に好ましくは150℃以上である。ガラス転移温度は190℃以下、より好ましくは170℃以下であることが好ましい。基材フィルムのTgはJIS K7121に記載の方法等によって求めることができる。延伸する際の温度は、150℃以上、延伸倍率は1.15倍以上にすると、表面が適度に粗れるため、好ましい。基材フィルム表面を粗らすことにより、滑り性が向上するとともに、表面加工性が向上するため好ましい。   The Tg of the base film can be controlled by the material type constituting the film and the ratio of the constituting materials. The Tg at the time of drying the base film is preferably 110 ° C. or higher, more preferably 120 ° C. or higher. Especially preferably, it is 150 degreeC or more. The glass transition temperature is preferably 190 ° C. or lower, more preferably 170 ° C. or lower. The Tg of the base film can be determined by the method described in JIS K7121. The stretching temperature is preferably 150 ° C. or more and the stretching ratio is 1.15 times or more because the surface is appropriately roughened. Roughening the surface of the base film is preferable because it improves slipperiness and improves surface processability.

〔溶融流延製膜法〕
基材フィルムは、溶融流延製膜法によって製膜しても良い。溶融流延製膜法は、樹脂、可塑剤等のその他の添加剤を含む組成物を、流動性を示す温度まで加熱溶融し、その後、流動性のセルロースエステルを含む溶融物を流延することをいう。
[Melt casting method]
The base film may be formed by a melt casting film forming method. In the melt casting film forming method, a composition containing other additives such as a resin and a plasticizer is heated and melted to a temperature showing fluidity, and then a melt containing a fluid cellulose ester is cast. Say.

溶融流延製膜法では、機械的強度及び表面精度等の点から、溶融押出し法が好ましい。溶融押出しに用いる複数の原材料は、通常あらかじめ混錬してペレット化しておくことが好ましい。   In the melt casting film forming method, the melt extrusion method is preferable from the viewpoint of mechanical strength and surface accuracy. A plurality of raw materials used for melt extrusion are usually preferably kneaded and pelletized in advance.

ペレット化は、公知の方法でよく、例えば、乾燥セルロースエステルや可塑剤、その他添加剤をフィーダーで押出し機に供給し1軸や2軸の押出し機を用いて混錬し、ダイからストランド状に押出し、水冷又は空冷し、カッティングすることでできる。   Pelletization may be performed by a known method. For example, dry cellulose ester, plasticizer, and other additives are fed to an extruder with a feeder and kneaded using a single-screw or twin-screw extruder, and formed into a strand from a die. It can be done by extrusion, water cooling or air cooling and cutting.

添加剤は、押出し機に供給する前に混合しておいてもよいし、それぞれ個別のフィーダーで供給してもよい。   The additives may be mixed before being supplied to the extruder, or may be supplied by individual feeders.

粒子や酸化防止剤等の少量の添加剤は、均一に混合するため、事前に混合しておくことが好ましい。   A small amount of additives such as particles and antioxidants are preferably mixed in advance in order to mix uniformly.

押出し機は、剪断力を抑え、樹脂が劣化(分子量低下、着色、ゲル生成等)しないように、ペレット化できる程度になるべく低温で加工することが好ましい。例えば、2軸押出し機の場合、深溝タイプのスクリューを用いて、同方向に回転させることが好ましい。混錬の均一性から、噛み合いタイプが好ましい。   The extruder is preferably processed at a temperature as low as possible so that it can be pelletized so that the shearing force is suppressed and the resin does not deteriorate (molecular weight reduction, coloring, gel formation, etc.). For example, in the case of a twin screw extruder, it is preferable to rotate in the same direction using a deep groove type screw. From the uniformity of kneading, the meshing type is preferable.

以上のようにして得られたペレットを用いてフィルム製膜を行う。もちろんペレット化せず、原材料の粉末をそのままフィーダーで押出し機に供給し、そのままフィルム製膜することも可能である。   A film is formed using the pellets obtained as described above. Of course, the raw material powder can be directly fed to the extruder by a feeder without being pelletized to form a film as it is.

上記ペレットを1軸や2軸タイプの押出し機を用いて、押出す際の溶融温度を200〜300℃程度とし、リーフディスクタイプのフィルター等で濾過し異物を除去した後、Tダイからフィルム状に流延し、冷却ローラと弾性タッチローラでフィルムをニップし、冷却ローラ上で固化させることにより、基材フィルムを製膜する。   Using a single or twin screw extruder, the pellets are melted at a temperature of about 200 to 300 ° C., filtered through a leaf disk type filter or the like to remove foreign matter, and then formed into a film from a T die. Then, the film is nipped between the cooling roller and the elastic touch roller, and solidified on the cooling roller to form a substrate film.

また、上記のようにして得られた基材フィルムは、冷却ローラに接する工程を通過後、更に延伸することが好ましい。   Moreover, it is preferable that the base film obtained as described above is further stretched after passing through the step of contacting the cooling roller.

延伸方法は、公知のローラ延伸機やテンター等を好ましく用いることができる。延伸温度は、通常フィルムを構成する樹脂のTg〜(Tg+60)℃の温度範囲で行われることが好ましい。   As the stretching method, a known roller stretching machine or tenter can be preferably used. The stretching temperature is preferably carried out in the temperature range of Tg to (Tg + 60) ° C. of the resin that usually constitutes the film.

巻き取る前に、製品となる幅に端部をスリットして裁ち落とし、巻き中の貼り付きやすり傷防止のために、ナール加工(エンボッシング加工)を両端に施してもよい。ナール加工の方法は凹凸のパターンを側面に有する金属リングを用いて加熱や加圧をすることにより加工することができる。フィルム両端部のクリップの把持部分は通常、基材フィルムが変形しており製品として使用できないので切除され、再利用される。   Prior to winding, the ends may be slit and cut to the width of the product, and knurling (embossing) may be applied to both ends to prevent sticking or scratching during winding. The knurling method can be performed by heating or pressurizing using a metal ring having an uneven pattern on the side surface. Since the base film is deformed and cannot be used as a product, the clip holding portions at both ends of the film are usually cut out and reused.

(フィルムの物性)
本発明に係る基材フィルムの膜厚は、5〜100μmの範囲であることが好ましく、より好ましくは5〜40μmの範囲である。前記のような薄膜領域において、耐久試験後のカール低減効果が特に発揮されやすい。
(Physical properties of film)
The film thickness of the substrate film according to the present invention is preferably in the range of 5 to 100 μm, more preferably in the range of 5 to 40 μm. In the thin film region as described above, the curl reduction effect after the durability test is particularly easily exhibited.

基材フィルムの長さは、500〜10000mの範囲が好ましく、より好ましくは1000〜8000mの範囲である。前記長さの範囲とすることで、機能性層等の塗布における加工適正や基材フィルム自体のハンドリング性に優れる。   The length of the base film is preferably in the range of 500 to 10000 m, more preferably in the range of 1000 to 8000 m. By setting it as the range of the said length, it is excellent in the processability in application | coating of a functional layer etc., and the handleability of the base film itself.

基材フィルムの算術平均粗さRaは、好ましくは2〜10nmの範囲、より好ましくは2〜5nmの範囲である。算術平均粗さRaは、JIS B0601:1994に準じて測定できる。   The arithmetic average roughness Ra of the substrate film is preferably in the range of 2 to 10 nm, more preferably in the range of 2 to 5 nm. The arithmetic average roughness Ra can be measured according to JIS B0601: 1994.

<偏光板>
本発明の光学フィルムを用いた偏光板について述べる。偏光板は一般的な方法で作製することができる。例えば、本発明の光学フィルムをアルカリ鹸化処理し、処理した光学フィルムを、ヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。
<Polarizing plate>
A polarizing plate using the optical film of the present invention will be described. The polarizing plate can be produced by a general method. For example, the optical film of the present invention is subjected to alkali saponification treatment, and the treated optical film is bonded to at least one surface of a polarizing film produced by immersing and stretching in an iodine solution using a completely saponified polyvinyl alcohol aqueous solution. Is preferred.

もう一方の面は、前記した基材フィルムや市販品であるKC8UX、KC4UX、KC4UY、KC8UY、KC6UA、KC4UA、KC4UE、KC4CZ、KC8UCR、KC4FR(コニカミノルタオプト(株)製)、アートンフィルム(JSR(株)製)、ゼオノアフィルム(日本ゼオン(株)製)等を用いることができる。   The other side is KC8UX, KC4UX, KC4UY, KC8UA, KC6UA, KC4UA, KC4UE, KC4CZ, KC8UCR, KC4FR (manufactured by Konica Minolta Opto), Arton Film (JSR) Zeonor Film (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) and the like can be used.

偏光板の主たる構成要素である偏光膜とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがあるが、これのみに限定されるものではない。   The polarizing film, which is the main component of the polarizing plate, is an element that transmits only light having a polarization plane in a certain direction. A typical polarizing film known at present is a polyvinyl alcohol polarizing film, which is a polyvinyl alcohol film. There are those in which iodine is dyed on a system film and those in which dichroic dye is dyed, but it is not limited to this.

偏光膜は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられる。偏光膜の膜厚は5〜30μm、好ましくは8〜15μmである。   As the polarizing film, a polyvinyl alcohol aqueous solution is formed and dyed by uniaxial stretching or dyed, or uniaxially stretched after dyeing, and then preferably subjected to a durability treatment with a boron compound. The thickness of the polarizing film is 5 to 30 μm, preferably 8 to 15 μm.

該偏光膜の面上に、本発明に係る光学フィルムの片面を貼り合わせて偏光板を形成する。好ましくは完全鹸化ポリビニルアルコール等を主成分とする水系の接着剤によって貼り合わせる。   On the surface of the polarizing film, one side of the optical film according to the present invention is bonded to form a polarizing plate. It is preferably bonded with an aqueous adhesive mainly composed of completely saponified polyvinyl alcohol or the like.

(粘着層)
液晶セルの基板と貼り合わせるためにフィルム片面に用いられる粘着剤層は、光学的に透明であることはもとより、適度な粘弾性や粘着特性を示すものが好ましい。
(Adhesive layer)
The pressure-sensitive adhesive layer used on one side of the film to be bonded to the substrate of the liquid crystal cell is preferably optically transparent and exhibits moderate viscoelasticity and adhesive properties.

具体的な粘着層としては、例えばアクリル系共重合体やエポキシ系樹脂、ポリウレタン、シリコーン系ポリマー、ポリエーテル、ブチラール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、合成ゴムなどの接着剤若しくは粘着剤等のポリマーを用いて、乾燥法、化学硬化法、熱硬化法、熱熔融法、光硬化法等により膜形成させ、硬化させることができる。なかでも、アクリル系共重合体は、最も粘着物性を制御しやすく、かつ透明性や耐候性、耐久性などに優れていて好ましく用いることができる。   Specific examples of the adhesive layer include adhesives or adhesives such as acrylic copolymers, epoxy resins, polyurethanes, silicone polymers, polyethers, butyral resins, polyamide resins, polyvinyl alcohol resins, and synthetic rubbers. A film such as a drying method, a chemical curing method, a thermal curing method, a thermal melting method, a photocuring method, or the like can be formed and cured using a polymer such as the above. Among them, the acrylic copolymer can be preferably used because it is most easy to control the physical properties of the adhesive and is excellent in transparency, weather resistance, durability and the like.

<画像表示装置>
本発明の光学フィルムは、画像表示装置に使用することで、視認性やムラに優れた性能が発揮される点で好ましい。画像表示装置としては、反射型、透過型、半透過型液晶表示装置又は、TN型、STN型、OCB型、VA型、IPS型、ECB型等の各種駆動方式の液晶表示装置、タッチパネル表示装置、有機EL表示装置やプラズマディスプレイ等が挙げられる。これら画像表示装置の中でも液晶表示装置やタッチパネル表示装置に本発明の光学フィルムを用いた場合、視認性やムラに特に優れる点で好ましい。
<Image display device>
The optical film of this invention is preferable at the point by which the performance excellent in visibility and nonuniformity is exhibited by using it for an image display apparatus. As an image display device, a reflection type, a transmission type, a transflective type liquid crystal display device, a liquid crystal display device of various drive systems such as a TN type, STN type, OCB type, VA type, IPS type, ECB type, etc., a touch panel display device And organic EL display devices and plasma displays. Among these image display devices, when the optical film of the present invention is used for a liquid crystal display device or a touch panel display device, it is preferable in view of particularly excellent visibility and unevenness.

<タッチパネル>
本発明の光学フィルムは、例えば液晶表示装置(上面側偏光板/液晶セル/下面側偏光板構成)の上面側偏光板の下にタッチパネル部材を用いたインナータッチパネルや静電容量方式のタッチパネル等にも使用することができる。
<Touch panel>
The optical film of the present invention can be used, for example, in an inner touch panel or a capacitive touch panel using a touch panel member under the upper surface side polarizing plate of a liquid crystal display device (upper surface side polarizing plate / liquid crystal cell / lower surface side polarizing plate configuration). Can also be used.

<画像表示装置用ガラス飛散防止フィルム>
次に、本発明の光学フィルムを用いた画像表示装置用ガラス飛散防止フィルムについて説明する。本発明の光学フィルムを用いた画像表示装置用ガラス飛散防止フィルムを画像表示装置に使用した概略断面図の一例を図2に示す。
画像表示装置30は、画像表示パネル31と、画像表示パネル31の表示部(表示面)上に、粘着剤層32を介して配置された導電性ガラス基板33と、導電性ガラス基板33上に貼着された画像表示装置用ガラス飛散防止フィルム41とから概略構成されている。
導電性ガラス基板33は、ガラス基板34と、導電性膜35とから構成されている。
画像表示装置用ガラス飛散防止フィルム41は、ガラス基板34に粘着剤層43によって貼着されている。
<Glass scattering prevention film for image display device>
Next, a glass scattering prevention film for an image display device using the optical film of the present invention will be described. FIG. 2 shows an example of a schematic sectional view in which the glass scattering prevention film for an image display device using the optical film of the present invention is used in the image display device.
The image display device 30 includes an image display panel 31, a conductive glass substrate 33 disposed on the display unit (display surface) of the image display panel 31 via an adhesive layer 32, and a conductive glass substrate 33. It is comprised roughly from the glass scattering prevention film 41 for image display apparatuses stuck.
The conductive glass substrate 33 includes a glass substrate 34 and a conductive film 35.
The glass scattering prevention film 41 for an image display device is adhered to the glass substrate 34 with an adhesive layer 43.

本発明の光学フィルム42からなる画像表示装置用ガラス飛散防止フィルム41は、粘着剤などとの密着性が高く、易接着処理を施す必要がない。また、ガラス飛散防止フィルムに十分な飛散防止性を得ることができる。また、耐久試験後も変形等が生じにくく、視認性に優れる。   The glass scattering prevention film 41 for an image display device comprising the optical film 42 of the present invention has high adhesiveness with an adhesive or the like and does not need to be subjected to an easy adhesion treatment. Moreover, sufficient scattering prevention property can be obtained for the glass scattering prevention film. Further, deformation and the like hardly occur after the durability test, and the visibility is excellent.

光学フィルム42は、JIS K7142−2008に準拠して測定した波長589nmにおける屈折率が1.45〜1.55の範囲が好ましい。また粘着剤層43もJIS K7142−2008に準拠して測定した波長589nmにおける屈折率が1.40〜1.55の範囲が好ましく、更に好ましくは1.45〜1.52の範囲である。
粘着剤層43の屈折率は、例えば芳香環を含有させることで屈折率を高くする方法、又は、フッ素原子を含有させることで屈折率を低くする方法などで調節できる。
粘着剤層43と画像表示装置用ガラス飛散防止フィルム41の屈折率を前記範囲とすることで、ガラス基板等に貼り合わせた際の屈折率が小さく、干渉縞に優れる。
The optical film 42 preferably has a refractive index in the range of 1.45 to 1.55 at a wavelength of 589 nm measured according to JIS K7142-2008. The pressure-sensitive adhesive layer 43 also preferably has a refractive index of 1.40 to 1.55 at a wavelength of 589 nm measured in accordance with JIS K7142-2008, more preferably 1.45 to 1.52.
The refractive index of the pressure-sensitive adhesive layer 43 can be adjusted by, for example, a method of increasing the refractive index by including an aromatic ring or a method of decreasing the refractive index by including a fluorine atom.
By setting the refractive index of the pressure-sensitive adhesive layer 43 and the glass scattering prevention film 41 for an image display device within the above range, the refractive index when bonded to a glass substrate or the like is small, and the interference fringes are excellent.

粘着剤層の厚さは、5〜30μmの範囲が好ましく、10〜25μmの範囲がより好ましい。粘着剤層を構成する粘着剤としては、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ゴム系粘着剤、ポリエステル系粘着剤などが挙げられる。これらの粘着剤は、エマルション型、溶剤型、無溶剤型のいずれであってもよい。また、これらの粘着剤の中でも、粘着力制御の容易性、耐候性の観点から、アクリル系粘着剤が好ましい。アクリル系粘着剤は、重量平均分子量50〜200万の範囲、好ましくは70〜170万の範囲のアクリル系樹脂が架橋処理されたものが好しい。重量平均分子量が上記の範囲にあれば、粘着力及び保持力のバランスがとれた飛散防止用フィルムが得られる。前述の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法により測定したポリスチレン換算の値である。   The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably in the range of 5 to 30 μm, and more preferably in the range of 10 to 25 μm. As an adhesive which comprises an adhesive layer, an acrylic adhesive, a silicone adhesive, a urethane adhesive, a rubber adhesive, a polyester adhesive, etc. are mentioned. These pressure-sensitive adhesives may be emulsion type, solvent type, or solventless type. Among these pressure-sensitive adhesives, acrylic pressure-sensitive adhesives are preferable from the viewpoints of easy adhesion control and weather resistance. The acrylic pressure-sensitive adhesive is preferably a cross-linked acrylic resin having a weight average molecular weight in the range of 500 to 2,000,000, preferably in the range of 7,000 to 1,700,000. When the weight average molecular weight is in the above range, a film for preventing scattering can be obtained in which the adhesive force and the holding force are balanced. The aforementioned weight average molecular weight is a value in terms of polystyrene measured by a gel permeation chromatography (GPC) method.

アクリル系粘着剤に含まれるアクリル系樹脂としては、(メタ)アクリル酸エステル系共重合体が用いられる。この(メタ)アクリル酸エステル系共重合体としては、エステル部分のアルキル基の炭素数が1〜20の(メタ)アクリル酸エステルと、活性水素をもつ官能基を有する単量体と、所望により用いられる他の単量体との共重合体を好ましい。エステル部分のアルキル基の炭素数が1〜20の(メタ)アクリル酸エステルの例としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレートなどが挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。活性水素をもつ官能基を有する単量体の例としては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキブチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートなどの(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルや、アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチルアクリルアミド、N−メチルメタクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミドなどのアクリルアミド類や、メチルアミノエチル(メタ)アクリレート、モノエチルアミノエチル(メタ)アクリレートなどの(メタ)アクリル酸モノアルキルアミノアルキル、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸などのエチレン性不飽和カルボン酸などが挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   As the acrylic resin contained in the acrylic pressure-sensitive adhesive, a (meth) acrylic ester copolymer is used. As this (meth) acrylic acid ester copolymer, the (meth) acrylic acid ester having 1 to 20 carbon atoms in the alkyl group of the ester portion, a monomer having a functional group having active hydrogen, and, if desired, Copolymers with other monomers used are preferred. Examples of the (meth) acrylic acid ester having 1 to 20 carbon atoms in the alkyl group of the ester moiety include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, Examples include isobutyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, and isooctyl (meth) acrylate. These may be used alone or in combination of two or more. Examples of the monomer having a functional group having active hydrogen include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, and 2-hydroxybutyl (meth). (Meth) acrylic acid hydroxyalkyl esters such as acrylate, 3-hydroxybutyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, acrylamide, methacrylamide, N-methylacrylamide, N-methylmethacrylamide, N-methylol Acrylamides such as acrylamide and N-methylolmethacrylamide, monoalkylaminoalkyl (meth) acrylates such as methylaminoethyl (meth) acrylate and monoethylaminoethyl (meth) acrylate, Le acid, methacrylic acid, crotonic acid, maleic acid, itaconic acid, ethylenically unsaturated carboxylic acids such as citraconic acid. These may be used alone or in combination of two or more.

アクリル系粘着剤において、樹脂成分として用いられる(メタ)アクリル酸エステル系共重合体は、その共重合形態についてはランダム、ブロック、グラフト共重合体のいずれであってもよい。架橋処理に用いられる架橋剤としてはポリイソシアネート化合物やエポキシ化合物が好ましく用いられる。架橋剤は1種を単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。また使用量は、架橋剤の種類にもよるが、前記(メタ)アクリル酸エステル系共重合体固形分100質量部に対し、通常0.01〜20質量部、好ましくは、0.1〜10質量部の範囲である。アクリル系粘着剤には、粘着付与剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、軟化剤、シランカップリング剤、充填剤などを添加することができる。さらに、粘着剤層42には保護フィルムと剥離シートを貼付されても良い。剥離シートの基材としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレンフィルムなどが挙げられる。剥離シート用基材の表面に剥離性を持たせるには、その表面にフッ素系樹脂、シリコーン系樹脂、長鎖アルキル基含有カルバメートなどの剥離剤を塗布により付着させる。剥離シート基材の厚さは5〜300μmの範囲が好ましく、10〜200μmの範囲がより好ましい。   In the acrylic pressure-sensitive adhesive, the (meth) acrylic acid ester copolymer used as a resin component may be any of random, block, and graft copolymers with respect to the copolymerization form. As the crosslinking agent used for the crosslinking treatment, a polyisocyanate compound or an epoxy compound is preferably used. A crosslinking agent may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type. Moreover, although the usage-amount is based also on the kind of crosslinking agent, it is 0.01-20 mass parts normally with respect to 100 mass parts of said (meth) acrylic acid ester-type copolymer solid content, Preferably, 0.1-10 It is the range of mass parts. A tackifier, antioxidant, ultraviolet absorber, light stabilizer, softener, silane coupling agent, filler and the like can be added to the acrylic pressure-sensitive adhesive. Furthermore, a protective film and a release sheet may be attached to the pressure-sensitive adhesive layer 42. Examples of the base material of the release sheet include polyethylene terephthalate, polyethylene, and polypropylene film. In order to make the surface of the release sheet substrate have release properties, a release agent such as a fluorine resin, a silicone resin, or a long-chain alkyl group-containing carbamate is attached to the surface by coating. The thickness of the release sheet substrate is preferably in the range of 5 to 300 μm, more preferably in the range of 10 to 200 μm.

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「%」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量%」を表す。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. In addition, although the display of "part" or "%" is used in an Example, unless otherwise indicated, "part by mass" or "mass%" is represented.

実施例1
(セルロースエステルフィルム1の作製)
・二酸化珪素分散液の調製
アエロジルR812(日本アエロジル(株)製、一次粒子の平均径7nm)
10質量部
エタノール 90質量部
以上をディゾルバーで30分間撹拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。二酸化珪素分散液に88質量部のメチレンクロライドを撹拌しながら投入し、ディゾルバーで30分間撹拌混合し、二酸化珪素分散希釈液を作製した。微粒子分散希釈液濾過器(アドバンテック東洋(株):ポリプロピレンワインドカートリッジフィルターTCW−PPS−1N)で濾過した。
Example 1
(Preparation of cellulose ester film 1)
-Preparation of silicon dioxide dispersion Aerosil R812 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., average diameter of primary particles 7 nm)
10 parts by mass Ethanol 90 parts by mass The above was stirred and mixed with a dissolver for 30 minutes, and then dispersed with Manton Gorin. 88 parts by mass of methylene chloride was added to the silicon dioxide dispersion while stirring, and the mixture was stirred and mixed for 30 minutes with a dissolver to prepare a silicon dioxide dispersion dilution. It filtered with the fine particle dispersion | distribution dilution liquid filter (Advantech Toyo Co., Ltd .: Polypropylene wind cartridge filter TCW-PPS-1N).

〈ドープ1の調製〉
(セルロースエステル樹脂)
セルローストリアセテートA(リンター綿から合成されたセルローストリアセテート、
アセチル基置換度2.88、Mn=140000) 90質量部
(添加剤)
X−1 5質量部
X−12 4質量部
(紫外線吸収剤)
TINUVIN 928(BASFジャパン(株)製) 3質量部
(微粒子)
二酸化珪素分散希釈液 4質量部
(溶媒)
メチレンクロライド 432質量部
エタノール 38質量部
以上を密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解し、安積濾紙(株)製の安積濾紙No.24を使用して濾過し、ドープ(ドープ1)を調製した。
<Preparation of dope 1>
(Cellulose ester resin)
Cellulose triacetate A (cellulose triacetate synthesized from linter cotton,
Acetyl group substitution degree 2.88, Mn = 14000) 90 parts by mass (additive)
X-1 5 parts by mass X-12 4 parts by mass (UV absorber)
TINUVIN 928 (manufactured by BASF Japan Ltd.) 3 parts by mass (fine particles)
Silicon dioxide dispersion dilution 4 parts by mass (solvent)
Methylene chloride 432 parts by mass Ethanol 38 parts by mass The above was put into a sealed container, heated and stirred, and dissolved completely. Azumi filter paper No. Azumi filter paper No. 24 was used to prepare a dope (Dope 1).

次に、ベルト流延製膜装置を用い、ステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶剤量が100%になるまで溶剤を蒸発させ、ステンレスバンド支持体上から剥離した。セルロースエステルフィルムのウェブを35℃で溶剤を蒸発させ、1.15m幅にスリットし、テンターでTD方向(フィルムの幅手方向)に1.2倍に延伸しながら、160℃の乾燥温度で乾燥させた。その後、130℃の乾燥装置内を多数のローラで搬送させながら15分間乾燥させた後、1.3m幅にスリットし、フィルム両端に幅10mm、高さ5μmのナーリング加工を施し、巻芯に巻き取り、セルロースエステルフィルム1を得た。セルロースエステルフィルム1の膜厚は40μm、巻長は5000mであった。なお、ステンレスバンド支持体の回転速度とテンターの運転速度から算出されるMD方向の延伸倍率は1.01倍であった。   Next, it cast | flow_spreaded uniformly on the stainless steel band support body using the belt casting film forming apparatus. With the stainless steel band support, the solvent was evaporated until the residual solvent amount reached 100%, and the stainless steel band support was peeled off. The cellulose ester film web was evaporated at 35 ° C., slit to 1.15 m width, and dried at a drying temperature of 160 ° C. while stretching 1.2 times in the TD direction (film width direction) with a tenter. I let you. Then, after drying for 15 minutes while transporting the inside of a drying device at 130 ° C. with many rollers, slitting to a width of 1.3 m, applying a knurling process with a width of 10 mm and a height of 5 μm on both ends of the film, and winding it around a winding core The cellulose ester film 1 was obtained. The film thickness of the cellulose ester film 1 was 40 μm, and the winding length was 5000 m. In addition, the draw ratio of MD direction computed from the rotational speed of a stainless steel band support body and the driving speed of a tenter was 1.01 times.

セルロースエステルフィルム1を、ミクロトームを用いて、電子顕微鏡観察用超薄切片サンプルを作製後、セルロースエステルフィルム1の断面を以下のように透過電子顕微鏡にて観察した。   The cellulose ester film 1 was prepared using a microtome to prepare an ultrathin slice sample for electron microscope observation, and then the cross section of the cellulose ester film 1 was observed with a transmission electron microscope as follows.

透過型電子顕微鏡でセルロースエステルフィルム1の断層写真を撮影後、セルロースエステルフィルム1の空気面側、及びベルト面側の両面において、空気に接する側から内側に向かった厚み2μm、幅25μmの範囲のマット剤数を観察した。   After taking a tomographic photograph of the cellulose ester film 1 with a transmission electron microscope, both the air surface side and the belt surface side of the cellulose ester film 1 have a thickness of 2 μm and a width of 25 μm inward from the side in contact with air. The number of matting agents was observed.

その結果、上記マット剤数は、空気面側がベルト面側に対し1.1倍多く、セルロースエステルフィルム1の場合は、空気面側にマット剤が局在していることを確認した。   As a result, the number of matting agents was 1.1 times greater on the air surface side than on the belt surface side, and in the case of the cellulose ester film 1, it was confirmed that the matting agent was localized on the air surface side.

また、得られたセルロースエステルフィルム1の空気面側とベルト面側について、TOF−SIMS分析装置を用いて分析した。TOF−SIMS分析の結果、空気面側にマット剤が局在していることを確認した。   Moreover, about the air surface side and belt surface side of the obtained cellulose-ester film 1, it analyzed using the TOF-SIMS analyzer. As a result of TOF-SIMS analysis, it was confirmed that the matting agent was localized on the air surface side.

なお、TOF−SIMS分析は下記測定条件によって行った。   The TOF-SIMS analysis was performed under the following measurement conditions.

測定装置 :2100TRIFT2(Physical Electronics社製)
測定モード:冷却測定(温度範囲−95〜−105℃)
一次イオン:Ga(15kV)
測定領域 :60μm角
積算時間 :2分
なお、測定及び解析は、Physical Electronics社製WIN−Cadence Ver4.0.0.14にて行った。
Measuring apparatus: 2100TRIFT2 (manufactured by Physical Electronics)
Measurement mode: Cooling measurement (temperature range -95 to -105 ° C)
Primary ion: Ga (15 kV)
Measurement area: 60 μm square Integration time: 2 minutes Measurement and analysis were performed with WIN-Cadence Ver4.0.14 manufactured by Physical Electronics.

(セルロースエステルフィルム2〜5の作製)
セルロースエステルフィルム1の作製において、膜厚を表1に記載した如く変化させた以外は、同様にしてセルロースエステルフィルム2〜5を作製した。
(Production of cellulose ester films 2 to 5)
In producing the cellulose ester film 1, cellulose ester films 2 to 5 were produced in the same manner except that the film thickness was changed as described in Table 1.

セルロースエステルフィルム2〜5についても空気面側とベルト面側のTOF−SIMS分析、及び透過電子顕微鏡による断層写真を観察した結果、セルロースエステルフィルム2〜5も空気面側にマット剤が局在していることを確認した。   As a result of observing TOF-SIMS analysis of the air surface side and the belt surface side of the cellulose ester films 2 to 5 and tomographic photographs by a transmission electron microscope, the matting agent was also localized on the air surface side of the cellulose ester films 2 to 5. Confirmed that.

(セルロースエステルフィルム6〜9の作製)
セルロースエステルフィルム1〜5の作製において、ベルト流延製膜装置をドラム流延製膜装置に変更した以外は、同様にしてセルロースエステルフィルム6〜9を作製した。
(Production of cellulose ester films 6-9)
In producing the cellulose ester films 1 to 5, cellulose ester films 6 to 9 were produced in the same manner except that the belt casting film forming apparatus was changed to the drum casting film forming apparatus.

次いで、セルロースエステルフィルム6〜9について、空気面側とベルト面側のTOF−SIMS分析、及び透過電子顕微鏡による断層写真を観察した結果、可塑剤やマット剤が一様に混ざっており、空気面側にマット剤が局在していないことを確認した。   Next, as a result of observing the TOF-SIMS analysis on the air surface side and the belt surface side of the cellulose ester films 6 to 9 and the tomographic photograph by a transmission electron microscope, the plasticizer and the matting agent are uniformly mixed. It was confirmed that the matting agent was not localized on the side.

[光学フィルム1の作製]
上記作製したセルロースエステルフィルム1の空気面側(マット剤局在面)上に、下記の機能性組成物1を孔径1μmのポリプロピレン製フィルターで濾過したものを、押し出しコーターを用いて塗布し、乾燥温度80℃で乾燥の後、酸素濃度が0.2体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、紫外線ランプを用い照射部の照度が100mW/cmで、照射量を0.3J/cmとして塗布層を硬化させ、ドライ膜厚3μmの機能性層1を形成して、巻き取りロール状光学フィルム1を作製した。
[Preparation of optical film 1]
On the air surface side (mat agent localized surface) of the produced cellulose ester film 1, the following functional composition 1 filtered through a polypropylene filter having a pore diameter of 1 μm is applied using an extrusion coater and dried. After drying at a temperature of 80 ° C., while purging with nitrogen so that the oxygen concentration is 0.2 vol% or less, the illuminance of the irradiated part is 100 mW / cm 2 using an ultraviolet lamp, and the irradiation dose is 0.3 J / The coating layer was cured as cm 2 to form a functional layer 1 having a dry film thickness of 3 μm, and a take-up roll-shaped optical film 1 was produced.

(機能性組成物1)
紫外線を遮蔽した容器中において、中空シリカ粒子分散液1(固形分濃度20質量%、商品名「JX−1009SIV」、メチルイソブチルケトンゾル、屈折率1.36、日揮触媒化成株式会社製)5質量部、ペンタエリスリトールトリ/テトラアクリレート(商品名「NKエステルA−TMM−3L」、屈折率1.49、新中村化学工業(株)製)96質量部、2−メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モリホリノプロパン−1−オン(商品名「イルガキュア(登録商標)907」、BASFジャパン株式会社製)3質量部、サイラプレーンFM0725(チッソ株式会社製)0.1質量部、さらにメチルイソブチルケトンを75質量部、シクロヘキサノン20質量部、γ−ブチロラクトンを5質量部加えて室温で2時間撹拌することにより機能性組成物1を得た。
(Functional composition 1)
In a container shielded from ultraviolet rays, hollow silica particle dispersion 1 (solid content concentration 20% by mass, trade name “JX-1009SIV”, methyl isobutyl ketone sol, refractive index 1.36, manufactured by JGC Catalysts and Chemicals) 5 mass Parts, pentaerythritol tri / tetraacrylate (trade name “NK Ester A-TMM-3L”, refractive index 1.49, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), 96 parts by mass, 2-methyl-1 [4- (methylthio ) Phenyl] -2-Morpholinopropan-1-one (trade name “Irgacure (registered trademark) 907”, manufactured by BASF Japan Ltd.) 3 parts by mass, Silaplane FM0725 (manufactured by Chisso Corporation) 0.1 parts by mass Further, 75 parts by mass of methyl isobutyl ketone, 20 parts by mass of cyclohexanone and 5 parts by mass of γ-butyrolactone were added and stirred at room temperature for 2 hours. To give a functional composition 1 by Rukoto.

[光学フィルム2の作製]
光学フィルム1の作製において、機能性組成物1の中空シリカ粒子分散液1を以下のように変性処理した中空シリカ粒子分散液2とし、添加量を4.4質量部に変更した以外は同様にして光学フィルム2を作製した。
[Preparation of optical film 2]
In the production of the optical film 1, the hollow silica particle dispersion 1 of the functional composition 1 was changed to the hollow silica particle dispersion 2 modified as follows, and the addition amount was changed to 4.4 parts by mass. Thus, an optical film 2 was produced.

(中空シリカ粒子分散液2の調製)
中空シリカ粒子(商品名「JX−1009SIV」、メチルイソブチルケトンゾル、日揮触媒化成株式会社製)90.9質量部(固形分濃度;20質量%)、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン(GE東芝シリコーン(株)製)1質量部、イソプロパノール0.1質量部及びイオン交換水0.05質量部の混合液を、80℃で3時間攪拌後、オルトギ酸メチルエステル0.7質量部を添加し、さらに1時間同一温度で加熱攪拌することで無色透明の中空シリカ粒子分散液2を得た。固形分濃度は22.5質量%であった。
(Preparation of hollow silica particle dispersion 2)
90.9 parts by mass (solid content concentration: 20% by mass) of hollow silica particles (trade name “JX-1009SIV”, methyl isobutyl ketone sol, manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd.), tridecafluorooctyltrimethoxysilane (GE Toshiba Silicone) (Made by Co., Ltd.) 1 part by mass, 0.1 part by mass of isopropanol and 0.05 part by mass of ion-exchanged water were stirred at 80 ° C. for 3 hours, and then 0.7 part by mass of methyl orthoformate was added. Furthermore, a colorless and transparent hollow silica particle dispersion 2 was obtained by heating and stirring at the same temperature for 1 hour. The solid content concentration was 22.5% by mass.

[光学フィルム3〜5の作製]
光学フィルム1の作製において機能性層の膜厚を表1に記載の如く変更した以外は同様に光学フィルム3〜5を作製した。
[Preparation of optical films 3 to 5]
Optical films 3 to 5 were similarly produced except that the thickness of the functional layer was changed as shown in Table 1 in the production of the optical film 1.

[光学フィルム6〜14の作製]
光学フィルム1の作製においてセルロースエステルフィルム1を表1に記載の如く変更した以外は同様に光学フィルム6〜14を作製した。
[Preparation of optical films 6 to 14]
Optical films 6 to 14 were similarly prepared except that the cellulose ester film 1 was changed as shown in Table 1 in the production of the optical film 1.

[光学フィルム15及び16の作製]
光学フィルム1及び光学フィルム2の作製において、機能性組成物の塗布面をベルト面側(非マット剤局面)に変更した以外は同様に光学フィルム15及び16を作製した。
[Production of optical films 15 and 16]
Optical films 15 and 16 were prepared in the same manner except that the application surface of the functional composition was changed to the belt surface side (non-mat agent phase) in the production of the optical film 1 and the optical film 2.

《評価》
(耐久試験)
それぞれアルミ包装したロール状光学フィルムを85℃80%の条件で30日間保存し、湿熱処理を実施した。次に湿熱処理した。
ロール状光学フィルムの各ロールから3m切り出し、切り出した光学フィルムを、温度23℃、相対湿度55%の条件で2時間調湿後、下記のカール及び可とう性について評価した。
<Evaluation>
(An endurance test)
Each roll-shaped optical film packaged in aluminum was stored for 30 days under conditions of 85 ° C. and 80%, and was subjected to wet heat treatment. Next, wet heat treatment was performed.
3 m was cut from each roll of the roll-shaped optical film, and the cut optical film was conditioned for 2 hours under the conditions of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 55%, and then evaluated for the following curls and flexibility.

1.カール
耐久試験後の各光学フィルムのカールの測定を、JIS K7619−1988の「写真フィルムのカールの測定法」中の方法Aのカール測定用型板を用いて行った。ここで、カールがプラスとはフィルムのハードコート層塗設側が湾曲の内側になるカールをいい、マイナスとは、塗設側が湾曲の外側になるカールをいう。また、カールは以下の数式Aで表される。
1. Curl Measurement of the curl of each optical film after the endurance test was performed using the curl measurement template of Method A in “Measurement Method of Curling of Photographic Film” of JIS K7619-1988. Here, the curl is positive when the hard coat layer coating side of the film is on the inside of the curve, and the minus is the curl when the coating side is on the outside of the curve. Further, the curl is expressed by the following formula A.

(数式A) カール=1/R Rは曲率半径(m)
測定結果のカール量により、以下のようにランク付した。
○(優れる):マイナス10〜プラス10
×(やや劣り、実用上問題がある):マイナス15〜マイナス10超過、プラス10超過〜プラス15
××(劣る):マイナス15以下、プラス15以上
2.可とう性(屈曲性)
耐久性試験後の各光学フィルムを、JIS K5600−5−1に準拠する方法で、タイプ1の試験装置を用いて円筒型マンドレル法により可とう性(マンドレルの直径の数値)を評価した。マンドレルの直径の数値が低い程、可とう性に優れることを示す。なお、JIS K5600−5−1では、円筒型マンドレルは直径2mmまでしかないため、直径1mmは試作した。
(Formula A) Curl = 1 / R R is the radius of curvature (m)
The ranking was as follows according to the curl amount of the measurement result.
○ (excellent): minus 10 to plus 10
× (slightly inferior, practically problematic): minus 15 to minus 10 excess, plus 10 excess to plus 15
XX (Inferior): minus 15 or less, plus 15 or more Flexibility (flexibility)
Each optical film after the durability test was evaluated for flexibility (numerical diameter of the mandrel) by a cylindrical mandrel method using a type 1 test apparatus in accordance with JIS K5600-5-1. It shows that it is excellent in the flexibility, so that the numerical value of the diameter of a mandrel is low. In JIS K5600-5-1, the cylindrical mandrel has a diameter of only 2 mm, so a 1 mm diameter was prototyped.

次いで、耐久試験前の光学フィルムについて、視感度反射率の測定及び局在相を以下の方法で観察した。   Next, with respect to the optical film before the durability test, the measurement of the visibility reflectance and the localized phase were observed by the following method.

3.視感度反射率
上記作製した各光学フィルムの機能性層を塗設していない面(裏面)を黒スプレーで処理した。次いで、黒処理後の光学フィルムを用いて機能性層面を分光測色計CM−3700d(コニカミノルタ社製)を用いて測定し、視感度反射率を求めた。数値が低いほど反射防止能に優れていることを示す。
3. Visibility reflectance The surface (back surface) on which the functional layer of each of the produced optical films was not coated was treated with black spray. Next, the functional layer surface was measured using a spectrocolorimeter CM-3700d (manufactured by Konica Minolta Co., Ltd.) using the optical film after black treatment, and the visibility reflectance was determined. The lower the value, the better the antireflection performance.

4.局在相の確認
上記作製した各光学フィルムについて、ミクロトームを用いて、透過電子顕微鏡観察用超薄切片サンプルを作製後、作製した光学フィルムを用いて、倍率5000倍により、透過型電子顕微鏡(日立製作所(株)製:H−7650)にて、断層写真を撮影した。撮影後の断層写真から、フィルムの厚さ方向に500個の微粒子を観察し、その粒子分布から基材フィルムとは反対側の表面から厚さ方向1/2L未満の領域に含有される微粒子の含有質量%を以下の基準で評価し、局在相を確認した。
4). Confirmation of Localized Phase For each of the optical films prepared above, a microtome was used to prepare an ultrathin section sample for transmission electron microscope observation, and then the transmission optical microscope (Hitachi) was used at a magnification of 5000 times using the prepared optical film. A tomographic photograph was taken at Seisakusho Co., Ltd. (H-7650). From the tomogram after photographing, 500 fine particles were observed in the thickness direction of the film, and from the particle distribution, the fine particles contained in a region less than 1/2 L in the thickness direction from the surface opposite to the base film. The mass% contained was evaluated according to the following criteria to confirm the localized phase.

◎:厚さ方向1/2L未満の領域に70質量%以上含有
○:厚さ方向1/2L未満の領域に50質量%以上70質量%未満含有
×:局在相が形成されていない
なお、局在相が形成されなかった機能性層は、添加した微粒子が機能性層内に均一に散されていた。また、上記透過型電子顕微鏡観察で微粒子が局在している局在相の膜厚を測定した。
A: 70% by mass or more contained in a region less than 1/2 L in the thickness direction. ○: 50% by mass or more contained less than 70% by mass in a region less than 1/2 L in the thickness direction. X: No localized phase formed In the functional layer in which the localized phase was not formed, the added fine particles were uniformly dispersed in the functional layer. Further, the film thickness of the localized phase in which the fine particles are localized was measured by observation with the transmission electron microscope.

5.総合評価
以下の基準で上記評価結果を基に光学フィルム1〜16について総合評価を行った。
5. Comprehensive evaluation Comprehensive evaluation was performed about the optical films 1-16 based on the said evaluation result with the following references | standards.

○:視感度反射率3.0%以下で、かつ耐久性試験後のカールが○、可とう性(マンド レルの直径の数値)の数値が4mm以下
×:視感度反射率3.0%超過で、かつ耐久性試験後のカールが×以下、可とう性(マンドレルの直径)の数値が4mm超過
上記の得られた結果について表1に示した。
○: Visibility reflectance 3.0% or less, curl after durability test is ○, flexibility (mandrel diameter) is 4mm or less ×: Visibility reflectance exceeds 3.0% In addition, the curl after the durability test is less than x, and the numerical value of the flexibility (mandrel diameter) exceeds 4 mm. The results obtained above are shown in Table 1.

表1の結果から判るように、基材フィルム(セルロースエステルフィルム)のマット剤(偏在)局在面に硬化性樹脂、微粒子及び基材フィルムを膨潤又は溶解する溶剤(シクロヘキサノン、γ−ブチロラクトン」を含有する機能性組成物を塗布後、硬化して単層で形成された厚さが1μm以上の機能性層を形成することで、機能性層の厚さをLとしたとき、基材フィルムと反対側の表面から厚さ方向1/2L未満の領域に、微粒子が偏在(局在)する相が得られることで、反射防止に優れ、かつ耐久試験後のカールや可とう性に優れた光学フィルムが得られるため、好ましいことがわかる。   As can be seen from the results in Table 1, a solvent (cyclohexanone, γ-butyrolactone) that swells or dissolves the curable resin, fine particles, and the base film on the matting agent (localized) localized surface of the base film (cellulose ester film). When the functional layer containing the composition is cured and then cured to form a functional layer having a thickness of 1 μm or more, the thickness of the functional layer is L, Optics with excellent antireflection, curl and durability after endurance test by obtaining a phase in which fine particles are unevenly distributed (localized) in a region less than 1/2 L in the thickness direction from the surface on the opposite side Since a film is obtained, it turns out that it is preferable.

なかでも基材フィルムの膜厚が5〜40μmの範囲で構成される本発明の光学フィルム(光学フィルム1、6及び7)は、基材フィルムの膜厚が同じ、比較例の光学フィルム(光学フィルム10〜12)と比較し、特にカールに優れているため、特に好ましい構成であることがわかる。   In particular, the optical film of the present invention (optical films 1, 6 and 7) having a thickness of the base film in the range of 5 to 40 μm has the same thickness as the optical film of the comparative example (optical). Compared with the films 10 to 12), the curl is particularly excellent, and it can be seen that this is a particularly preferable configuration.

光学フィルム1〜16について、鉛筆硬度試験で硬度を確認した。JIS−S6006が規定する試験用鉛筆を用いて、JIS−K5400が規定する鉛筆硬度評価法に従い、500gのおもりを用いて各硬度の鉛筆で光学フィルム1〜16のハードコート層面を5回繰り返し引っ掻き、傷が1本までの硬度を測定した結果、本発明の光学フィルムの鉛筆硬度は全て2H以上であった。   About the optical films 1-16, hardness was confirmed by the pencil hardness test. Using the test pencil specified by JIS-S6006, according to the pencil hardness evaluation method specified by JIS-K5400, the hard coat layer surface of the optical films 1 to 16 is repeatedly scratched with a pencil of each hardness using a 500 g weight. As a result of measuring the hardness of up to one scratch, the pencil hardness of the optical film of the present invention was all 2H or higher.

実施例2
[偏光板101の作製]
耐久試験後の光学フィルム1とセルロースエステルフィルム1を用いて、偏光板101を作製した。
Example 2
[Preparation of Polarizing Plate 101]
A polarizing plate 101 was prepared using the optical film 1 and the cellulose ester film 1 after the durability test.

(a)偏光膜の作製
鹸化度99.95モル%、重合度2400のポリビニルアルコール(以下、PVAと略記する)100質量部に、グリセリン10質量部、及び水170質量部を含浸させたものを溶融混練し、脱泡後、Tダイから金属ローラ上に溶融押出し、製膜した。その後、乾燥・熱処理して、PVAフィルムを得た。
(A) Production of Polarizing Film What was impregnated with 10 parts by mass of glycerin and 170 parts by mass of water in 100 parts by mass of polyvinyl alcohol (hereinafter abbreviated as PVA) having a saponification degree of 99.95 mol% and a polymerization degree of 2400 After melt-kneading and defoaming, the film was melt-extruded from a T die onto a metal roller to form a film. Then, it dried and heat-processed and obtained the PVA film.

得られたPVAフィルムは、平均厚さが25μm、水分率が4.4%、フィルム幅が3mであった。次に、得られたPVAフィルムを、予備膨潤、染色、湿式法による一軸延伸、固定処理、乾燥、熱処理の順番で、連続的に処理して、偏光膜を作製した。すなわち、PVAフィルムを温度30℃の水中に30秒間浸して予備膨潤し、ヨウ素濃度0.4g/リットル、ヨウ化カリウム濃度40g/リットルの温度35℃の水溶液中に3分間浸した。続いて、ホウ酸濃度4%の50℃の水溶液中でフィルムにかかる張力が700N/mの条件下で、6倍に一軸延伸を行い、ヨウ化カリウム濃度40g/リットル、ホウ酸濃度40g/リットル、塩化亜鉛濃度10g/リットルの温度30℃の水溶液中に5分間浸漬して固定処理を行った。その後、PVAフィルムを取り出し、温度40℃で熱風乾燥し、更に温度100℃で5分間熱処理を行った。得られた偏光膜は、平均厚さが13μm、偏光性能については透過率が43.0%、偏光度が99.5%、2色性比が40.1であった。   The obtained PVA film had an average thickness of 25 μm, a moisture content of 4.4%, and a film width of 3 m. Next, the obtained PVA film was continuously processed in the order of preliminary swelling, dyeing, uniaxial stretching by a wet method, fixing treatment, drying, and heat treatment to prepare a polarizing film. That is, the PVA film was preliminarily swollen in water at a temperature of 30 ° C. for 30 seconds, and immersed in an aqueous solution having an iodine concentration of 0.4 g / liter and a potassium iodide concentration of 40 g / liter at a temperature of 35 ° C. for 3 minutes. Subsequently, the film was uniaxially stretched 6 times in a 50% aqueous solution with a boric acid concentration of 4% under the condition that the tension applied to the film was 700 N / m, and the potassium iodide concentration was 40 g / liter and the boric acid concentration was 40 g / liter. Then, it was immersed in an aqueous solution having a zinc chloride concentration of 10 g / liter and a temperature of 30 ° C. for 5 minutes for fixing. Thereafter, the PVA film was taken out, dried with hot air at a temperature of 40 ° C., and further heat-treated at a temperature of 100 ° C. for 5 minutes. The obtained polarizing film had an average thickness of 13 μm, a polarizing performance of a transmittance of 43.0%, a polarization degree of 99.5%, and a dichroic ratio of 40.1.

(b)偏光板の作製
下記工程1〜4に従って、偏光膜とセルロースエステルフィルム1と光学フィルム1を貼り合わせて偏光板101を作製した。
(B) Production of Polarizing Plate A polarizing plate 101 was produced by bonding the polarizing film, the cellulose ester film 1 and the optical film 1 according to the following steps 1 to 4.

工程1:前述の偏光膜を固形分2質量%のポリビニルアルコール接着剤溶液の貯留槽中に1〜2秒間浸漬した。   Process 1: The above-mentioned polarizing film was immersed in the storage tank of the polyvinyl alcohol adhesive agent solution of 2 mass% of solid content for 1-2 seconds.

工程2:光学フィルム1はアルカリ処理前に保護フィルムを張り合わせた後、セルロースエステルフィルム1と光学フィルム1を下記条件で、アルカリ処理を実施した。次いで、工程1でポリビニルアルコール接着剤溶液に偏光膜を浸漬した。浸漬した偏光膜に付着した過剰の接着剤を取り除き、この偏光膜にセルロースエステルフィルム1と、光学フィルム1とを図3に示したとおりに挟み込んで、積層配置して、偏光板101を作製した。偏光板作製後、光学フィルム1の保護フィルムを剥がした。
(アルカリ処理)
鹸化工程 3mol/L−NaOH 50℃ 90秒
水洗工程 水 30℃ 60秒
中和工程 10質量部HCl 30℃ 45秒
水洗工程 水 30℃ 60秒
鹸化処理後、水洗、中和、水洗の順に行い、次いで100℃で乾燥。
Step 2: The optical film 1 was subjected to alkali treatment on the cellulose ester film 1 and the optical film 1 under the following conditions after pasting protective films before alkali treatment. Next, in Step 1, the polarizing film was immersed in the polyvinyl alcohol adhesive solution. Excess adhesive adhered to the immersed polarizing film was removed, and the cellulose ester film 1 and the optical film 1 were sandwiched between the polarizing films as shown in FIG. . After producing the polarizing plate, the protective film of the optical film 1 was peeled off.
(Alkali treatment)
Saponification step 3 mol / L-NaOH 50 ° C. 90 seconds Water washing step Water 30 ° C. 60 seconds Neutralization step 10 parts HCl 30 ° C. 45 seconds Water washing step Water 30 ° C. 60 seconds After saponification treatment, water washing, neutralization and water washing are performed in this order. Then dried at 100 ° C.

工程3:積層物を、2つの回転するローラにて20〜30N/cmの圧力で約2m/minの速度で貼り合わせた。このとき、気泡が入らないように注意した。 Step 3: The laminate was bonded at a speed of about 2 m / min at a pressure of 20 to 30 N / cm 2 with two rotating rollers. At this time, care was taken to prevent bubbles from entering.

工程4:工程3で作製した試料を、温度100℃の乾燥機中にて5分間乾燥処理し、偏光板を作製した。   Step 4: The sample prepared in Step 3 was dried in a dryer at a temperature of 100 ° C. for 5 minutes to prepare a polarizing plate.

<偏光板102〜116の作製>
偏光板101の作製において、光学フィルム1を光学フィルム2〜16に、それぞれ変更した以外は同様にして偏光板102〜116を作製した。
<Production of Polarizing Plates 102 to 116>
Polarizers 102 to 116 were produced in the same manner except that the optical film 1 was changed to the optical films 2 to 16 in the production of the polarizer 101.

<液晶表示装置201の作製>
(耐久試験評価)
上記作製したロール状偏光板101を、アルミ防湿シートに包み、長期輸送を想定して50℃相対湿度80%の恒温槽で25日保存した。25日間保存後、以下のようにして粘着層を設けたのち、液晶表示装置に組み込み、液晶表示装置201を作製した。
<Production of Liquid Crystal Display Device 201>
(Durability test evaluation)
The produced roll-shaped polarizing plate 101 was wrapped in an aluminum moisture-proof sheet and stored for 25 days in a thermostatic bath at 50 ° C. and 80% relative humidity assuming long-term transportation. After storage for 25 days, an adhesive layer was provided as follows and then incorporated into a liquid crystal display device to produce a liquid crystal display device 201.

(粘着層)
偏光板101のセルロースエステルフィルム1に市販のアクリル系粘着剤を乾燥後の厚さが25μmとなるように塗布し、110℃のオーブンで5分間乾燥して粘着層を形成後、粘着層に剥離性の保護フィルムを張り付けた。
(Adhesive layer)
A commercially available acrylic pressure-sensitive adhesive was applied to the cellulose ester film 1 of the polarizing plate 101 so that the thickness after drying was 25 μm, dried in an oven at 110 ° C. for 5 minutes to form an adhesive layer, and then peeled off to the adhesive layer A protective film was attached.

(液晶表示装置201)
液晶表示装置(VS239H−P ASUS社製)に液晶層を挟んで設置されている2対の偏光板のうち、観察者側の片面の偏光板を剥がし、上記作製した偏光板101を機能性層が視認側となるようにして、粘着剤層と液晶セルガラスとを貼合した。観察者側の偏光板の透過軸とバックライト側の偏光板の透過軸とが直交するように配置して、液晶表示装置201を作製した。
(Liquid crystal display device 201)
Of the two pairs of polarizing plates installed on the liquid crystal display device (VS239H-P ASUS) with the liquid crystal layer sandwiched between them, the polarizing plate on one side on the viewer side is peeled off, and the polarizing plate 101 produced above is used as the functional layer. The pressure-sensitive adhesive layer and the liquid crystal cell glass were bonded together so that was on the viewing side. The liquid crystal display device 201 was manufactured by arranging the transmission axis of the polarizing plate on the viewer side and the transmission axis of the polarizing plate on the backlight side to be orthogonal to each other.

<液晶表示装置202〜216の作製>
液晶表示装置201の作製において、偏光板101を偏光板102〜116に、それぞれ変更した以外は同様にして、偏光板の耐久試験後、液晶表示装置に組み込み、液晶表示装置202〜216を作製した。
<Production of Liquid Crystal Display Devices 202 to 216>
In the production of the liquid crystal display device 201, except that the polarizing plate 101 was changed to the polarizing plates 102 to 116, respectively, after the endurance test of the polarizing plate, it was incorporated into the liquid crystal display device to produce the liquid crystal display devices 202 to 216. .

《評価》
上記作製した液晶表示装置について以下の内容について評価した。
<Evaluation>
The following contents were evaluated about the produced liquid crystal display device.

a.ムラ評価
上記作製した各液晶表示装置を黒表示で正面から観察し、以下の基準でムラを評価した。
a. Unevenness Evaluation Each of the liquid crystal display devices produced above was observed from the front with a black display, and unevenness was evaluated according to the following criteria.

◎:変形起因のムラが全く認められない。   A: Unevenness due to deformation is not recognized at all.

○:僅かに変形起因のムラが認められる。   ○: Slight unevenness due to deformation is observed.

△:細かな変形起因のムラが認められる。実用上問題となるレベル。   Δ: Unevenness due to fine deformation is observed. This is a practically problematic level.

×:変形起因のムラが認められる。   X: Unevenness due to deformation is observed.

b.視認性評価
上記作製した各液晶表示装置を、床から80cmの高さの机上に配置し、床から3mの高さの天井部に、昼色光直管蛍光灯(FLR40S・D/M−X パナソニック株式会社製)40W×2本を1セットとして、1.5m間隔で10セット配置した。この場合、評価者が液晶表示パネルの表示面の正面にいるときに、評価者の頭上より後方に向けて天井部に蛍光灯がくるように配置した。次いで、各液晶表示パネルを机に対する垂直方向から25°傾けて、蛍光灯が写り込むようにして画面の見易さ(視認性)を、下記のランクに分けて評価した。
b. Visibility evaluation Each of the liquid crystal display devices prepared above was placed on a desk 80 cm high from the floor, and a daylight direct fluorescent lamp (FLR40S • D / MX Panasonic was placed on the ceiling 3 m high from the floor. (Made by Co., Ltd.) One set of 40W × 2 was arranged in 10 sets at 1.5 m intervals. In this case, when the evaluator is in front of the display surface of the liquid crystal display panel, the fluorescent lamp is arranged so that the fluorescent lamp comes to the ceiling portion from the evaluator's overhead to the rear. Next, each liquid crystal display panel was tilted by 25 ° from the vertical direction with respect to the desk, and the visibility (visibility) of the screen was evaluated by dividing it into the following ranks so that a fluorescent lamp was reflected.

○ :蛍光灯の写り込みが気にならない。   ○: I don't mind the reflection of fluorescent lights.

× :近くの蛍光灯の写り込みが僅かに気になる。実用上問題となるレベル。   X: Slightly worried about reflection of nearby fluorescent lamp. This is a practically problematic level.

××:蛍光灯の写り込みが気になる。   XX: I am worried about the reflection of fluorescent lights.

以上の評価結果を表2に示した。   The above evaluation results are shown in Table 2.

表2の結果から判るように、本発明の光学フィルムを用いて作製した偏光板を組み込んだ液晶表示装置は、ムラや視認性といった画像表示性能に優れるため、好ましいことが判る。   As can be seen from the results in Table 2, it can be seen that a liquid crystal display device incorporating a polarizing plate produced using the optical film of the present invention is preferable because of its excellent image display performance such as unevenness and visibility.

実施例3
(基材レス粘着シートの作製)
剥離シート(商品名:SP−PET381031、厚さ38μm、リンテック社製)の剥離面に、ダイコーターを用いて、乾燥後の厚さが15μmとなるように粘着剤含有組成物1を塗布し、120℃で2分間乾燥して、粘着剤層を形成し、剥離シートと、剥離面に形成された粘着剤層とからなる基材レス粘着シートを得た。
《粘着剤含有組成物1》
以下の組成物を撹拌して、粘着剤含有組成物1を調製した。
・n−ブチルアクリレート79質量%、メチルアクリレート20質量%、2−ヒドロキシ
エチルアクリレート1質量%を共重合して得られたアクリル酸エステル共重合体(分子量
80万、濃度35質量%) 100質量部
・トルエン及びキシリレンジイソシアネート系3官能性アダクト体
(商品名:TD−75、濃度75質量%、綜研化学社製) 0.1質量部
[画像表示装置用ガラス飛散防止フィルム、及び画像表示装置の作製]
実施例1で作製したロール状光学フィルム1〜16をアルミ防湿シートに包み、長期輸送を想定して温度80℃、相対湿度80%の恒温槽で30日保存し、耐久試験を実施した。
Example 3
(Production of substrate-less adhesive sheet)
On the release surface of the release sheet (trade name: SP-PET 381031, thickness 38 μm, manufactured by Lintec Corporation), using a die coater, the pressure-sensitive adhesive-containing composition 1 was applied so that the thickness after drying was 15 μm. It dried at 120 degreeC for 2 minute (s), the adhesive layer was formed, and the base material-less adhesive sheet which consists of a peeling sheet and the adhesive layer formed in the peeling surface was obtained.
<< Adhesive-containing composition 1 >>
The following composition was stirred to prepare an adhesive-containing composition 1.
-Acrylate ester copolymer (molecular weight 800,000, concentration 35% by mass) obtained by copolymerizing 79% by mass of n-butyl acrylate, 20% by mass of methyl acrylate, and 1% by mass of 2-hydroxyethyl acrylate 100 parts by mass -Toluene and xylylene diisocyanate-based trifunctional adduct (trade name: TD-75, concentration 75% by mass, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 0.1 part by mass [for glass scattering prevention film for image display device and image display device Production]
The roll-shaped optical films 1 to 16 produced in Example 1 were wrapped in an aluminum moisture-proof sheet, stored for 30 days in a thermostatic bath at a temperature of 80 ° C. and a relative humidity of 80% assuming long-term transportation, and a durability test was performed.

耐久試験後、光学フィルム1〜16の両面に基材レス粘着シートの粘着剤層を貼り合せて、画像表示装置用ガラス飛散防止フィルム1〜16を得た。   After the durability test, the adhesive layers of the substrate-less pressure-sensitive adhesive sheet were bonded to both surfaces of the optical films 1 to 16 to obtain glass scattering prevention films 1 to 16 for an image display device.

次に、厚さ1mmのガラス板と機能性層が設けられている面とは反対側を貼り合せた後、各機能性層の基材レス粘着シートの粘着剤層をタッチパネル付き液晶表示装置(型名:LCD−USB10XB−T、(株)アイ・オー・データ機器製)に貼り合わせて画像表示装置1〜16を作製し、以下の基準で視認性を評価した。   Next, after bonding the glass plate having a thickness of 1 mm and the side opposite to the surface on which the functional layer is provided, the adhesive layer of the base material-less pressure-sensitive adhesive sheet of each functional layer is attached to a liquid crystal display device with a touch panel ( Image display devices 1 to 16 were prepared by bonding to a model name: LCD-USB10XB-T (manufactured by I / O Data Equipment Co., Ltd.), and the visibility was evaluated according to the following criteria.

《評価》
・視認性評価
天井部に、昼色光直管蛍光灯(FLR40S・D/M−X パナソニック(株)製)40W×2本を1セットとして、1.5m間隔で10セット配置した室内で、画像表示装置を黒表示の状態で、様々な角度から観察し、画像表示装置に写った反射光の状態を以下の基準で評価した。
<Evaluation>
・ Visibility evaluation In the room where 10 sets are arranged at 1.5m intervals with 2 sets of 40W x 2 daylight straight tube fluorescent lamps (FLR40S, D / MX manufactured by Panasonic Corporation) on the ceiling. The display device was observed from various angles in a black display state, and the state of reflected light reflected on the image display device was evaluated according to the following criteria.

評価基準
○ :画像表示装置に写った反射光が全く見えないレベル。
Evaluation criteria ○: The level at which the reflected light reflected on the image display device cannot be seen at all.

× :画像表示装置に写った反射光が僅かに見え、実用上問題となるレベル
××:画像表示装置に写った反射光がはっきりと確認できるレベル。
・画像表示装置用ガラス飛散防止フィルムの飛散防止性評価
耐久試験後の光学フィルム1〜16の非コート面(機能性層が設けられている面とは反対側の面)だけに、基材レス粘着シートの粘着剤層を貼り合せた画像表示装置用ガラス飛散防止フィルム1〜16を、厚さ1mmのガラス板と貼り合わせた。
×: Level at which reflected light reflected on the image display device is slightly seen and causes a problem in practice XX: Level at which reflected light reflected on the image display device can be clearly confirmed.
・ Evaluation of scattering prevention of glass scattering prevention film for image display device Substrate-free only on the uncoated surface (surface opposite to the surface on which the functional layer is provided) of optical films 1 to 16 after the durability test The glass scattering prevention films 1-16 for image display apparatuses which bonded the adhesive layer of the adhesive sheet were bonded together with the glass plate of thickness 1mm.

続いて、高さ10mmの台上に、ガラス板と飛散防止フィルムからなる積層体を、飛散防止フィルムが上向きになるようにして配置した。次に、高さ30cmから鉄球を積層体の飛散防止フィルム上に落下させ、ガラスの飛散状況を目視により観察し、以下の基準で評価した。
《評価》
・ガラス飛散防止性
評価基準
○:飛散防止フィルムが裂けなかった。
Then, the laminated body which consists of a glass plate and a scattering prevention film was arrange | positioned so that a scattering prevention film might face upwards on a stand with a height of 10 mm. Next, an iron ball was dropped from a height of 30 cm onto the anti-scattering film of the laminate, and the glass scattering state was visually observed and evaluated according to the following criteria.
<Evaluation>
-Glass scattering prevention evaluation criteria ○: The scattering prevention film did not tear.

△:飛散防止フィルムが僅かに裂けた。実用上問題となるレベル。   Δ: The scattering prevention film was slightly torn. This is a practically problematic level.

×:飛散防止フィルムが裂けた。   X: The scattering prevention film was torn.

表3の結果から判るように、本発明の光学フィルムから構成される画像表示装置用ガラス飛散防止フィルムはタッチパネル付き液晶表示装置に用いた際の、視認性に優れ、かつガラス飛散防止性にも優れることがわかる。   As can be seen from the results in Table 3, the glass scattering prevention film for an image display device composed of the optical film of the present invention has excellent visibility when used in a liquid crystal display device with a touch panel, and also has a glass scattering prevention property. It turns out that it is excellent.

1 局在相
2 機能性層
3 基材フィルム
4 微粒子
5 硬化性樹脂
L 機能性層の厚さ
30 画像表示装置
31 画像表示パネル
32 粘着剤層
33 導電性ガラス基板
34 ガラス基板
35 導電性膜
41 画像表示装置用ガラス飛散防止フィルム
42 ハードコートフィルム
43 粘着剤層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Localized phase 2 Functional layer 3 Base film 4 Fine particle 5 Curable resin L Thickness of functional layer 30 Image display apparatus 31 Image display panel 32 Adhesive layer 33 Conductive glass substrate 34 Glass substrate 35 Conductive film 41 Glass scattering prevention film 42 for image display device Hard coat film 43 Adhesive layer

Claims (4)

1次平均粒子径が20nm以下のマット剤を含有する基材フィルムの少なくとも一方の面に、樹脂材料と該樹脂材料中に分散された微粒子を含有する機能性層を単層で形成する光学フィルムの製造方法であって、
前記基材フィルムを、前記マット剤をベルト流延製膜時の空気面側に局在するように、ベルト状の金属支持体上にドープを流延する溶液流延製膜法によって形成し、前記機能性層を形成する塗布組成物が下記(A)〜(C)を満たし、該塗布組成物を乾燥後の厚さが1μm以上となるように基材フィルムに塗布後、硬化を行い、前記機能性層の厚さをLとしたとき、基材フィルムと反対側の表面から厚さ方向1/2L未満の領域に、前記機能性層に含有される前記微粒子の50質量%以上を含有する局在相を形成し、かつ前記機能性層を、前記基材フィルムの前記マット剤が局在する面に形成することを特徴とする光学フィルムの製造方法
(A)前記樹脂材料が硬化性樹脂である。
(B)前記微粒子が前記樹脂材料よりも屈折率が0.04以上低い。
(C)前記基材フィルムを膨潤又は溶解する有機溶媒を含有する。
An optical film in which a functional layer containing a resin material and fine particles dispersed in the resin material is formed as a single layer on at least one surface of a base film containing a matting agent having a primary average particle size of 20 nm or less A manufacturing method of
The base film is formed by a solution casting film forming method in which a dope is cast on a belt-like metal support so that the matting agent is localized on the air surface side during belt casting film formation. The coating composition for forming the functional layer satisfies the following (A) to (C), the coating composition is applied to a base film so that the thickness after drying is 1 μm or more, and then cured, When the thickness of the functional layer is L, 50% by mass or more of the fine particles contained in the functional layer is contained in a region less than 1/2 L in the thickness direction from the surface opposite to the base film. method for producing an optical film, characterized in that the localized phase is formed, and the functional layer, the matting agent of the base film is formed on a surface localized.
(A) The resin material is a curable resin.
(B) The fine particles have a refractive index lower than that of the resin material by 0.04 or more.
(C) An organic solvent that swells or dissolves the base film is contained.
前記微粒子の屈折率が、1.35〜1.45の範囲内であることを特徴とする請求項1に記載の光学フィルムの製造方法The method for producing an optical film according to claim 1, wherein a refractive index of the fine particles is in a range of 1.35 to 1.45. 前記基材フィルムが、セルロースエステルフィルムであることを特徴とする請求項1又は2に記載の光学フィルムの製造方法 The method for producing an optical film according to claim 1 , wherein the base film is a cellulose ester film . 前記基材フィルムの膜厚が、5〜40μmの範囲内であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法 The film thickness of the said base film is in the range of 5-40 micrometers, The manufacturing method of the optical film as described in any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned.
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