JP6535601B2 - 投影露光装置に使用される出力ビームを発生させるためのeuv光源 - Google Patents
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Description
30 生出力ビーム
31 円偏光
37 位相遅延構成要素
38 反射コーティング
Claims (13)
- 投影リソグラフィのための投影露光装置(1)に対して使用されるEUV照明光の出力ビーム(3)を発生させるためのEUV光源(2)であって、
EUV生出力ビーム(30)を発生させるEUV発生デバイス(2c)を含み、
前記EUV生出力ビーム(30)は、2つの直線偏光波の重ね合わせによって説明される偏光(31;41)を有し、その偏光の方向が、互いに対して垂直であり、かつ消滅もせず、πの整数倍数でもない互いに対する位相差を有し、
前記使用される出力ビーム(3)の偏光を設定する目的のために、前記偏光方向に関して直線偏光させる効果(34)を前記生出力ビーム(30)に対して作用する使用される偏光設定デバイス(32)を含み、
前記使用される偏光設定デバイス(32)は、少なくとも1つの位相遅延構成要素(33;37;37i;37i,37j)を有し、これは、前記生出力ビーム(30)のビーム経路に配置され、かつ重ね合わされて該生出力ビーム(30)の前記偏光を形成する前記2つの直線偏光波に対して位相シフト効果を作用させ、
前記少なくとも1つの位相遅延構成要素(37;37i;37i,37j)は、反射性構成要素として具現化され、
前記反射性位相遅延構成要素(37;37i;37i,37j)は、該位相遅延構成要素(37;37i;37i,37j)の反射面に対して垂直である軸(39;39i)の周りに回転可能な方式で配置される、
ことを特徴とするEUV光源(2)。 - 重ね合わされて前記生出力ビーム(30)の前記偏光を形成する前記2つの直線偏光波の間の正味位相シフトが、前記EUV照明光の前記使用される出力ビーム(3)の波長λの半分よりも小さいことを特徴とする請求項1に記載のEUV光源。
- 前記反射性位相遅延構成要素(37;37i;37i,37j)は、前記生出力ビーム(30)が一度通過するときに、前記EUV照明光の前記使用される出力ビーム(3)の前記波長λの4分の1よりも小さい正味位相遅延をもたらす反射コーティング(38)を担持することを特徴とする請求項1又は2に記載のEUV光源。
- 各々が前記生出力ビーム(30)の異なる部分ビーム(30i)を反射する複数の反射性位相遅延構成要素(37i;37i,37j)を特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載のEUV光源。
- 前記反射性位相遅延構成要素(37i)のうちのどれが前記生出力ビーム(30)の与えられた部分ビーム(30i)による入射を受けるかを事前定義することを可能にすることができる該反射性位相遅延構成要素(37i)の上流の該生出力ビーム(30)の前記ビーム経路内の光学選択構成要素(40)を特徴とする請求項4に記載のEUV光源。
- 前記生出力ビーム(30)の同じ部分ビーム(30i)を反射する複数の反射性位相遅延構成要素(37i,37j)を特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載のEUV光源。
- 前記少なくとも1つの位相遅延構成要素(33)は、透過性構成要素として具現化されることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載のEUV光源。
- 請求項1から請求項7のいずれか1項に記載のEUV光源の生出力ビーム(30)の偏光に影響を及ぼすために使用される偏光設定デバイス(32)。
- 投影露光装置(1)のための照明系であって、
請求項1から請求項7のいずれか1項に記載のEUV光源(2)を含み、
レチクル平面(15)内の照明視野(14)を使用される出力ビーム(3)で照明するための照明光学ユニット(5)を含む、
ことを特徴とする照明系。 - 投影露光装置(1)のための照明系であって、
−EUV生出力ビーム(30)を発生させるEUV発生デバイス(2c)を含み、
前記生出力ビーム(30)が、2つの直線偏光波の重ね合わせによって説明される偏光(31;41)を有し、その偏光の方向が、互いに対して垂直であり、かつ消滅もせず、πの整数倍数でもない互いに対する位相差を有する、
投影リソグラフィのための投影露光装置(1)のために使用されるEUV照明光の使用される出力ビーム(3)を発生させるためのEUV光源(2)を含み、
−レチクル平面(15)内の照明視野(14)を前記使用される出力ビーム(3)で照明するための照明光学ユニット(5)を含み、
−前記照明光学ユニット(5)は、前記使用される出力ビーム(3)の偏光を設定する目的のために、前記偏光方向に関して直線偏光させる効果(34)を前記生出力ビーム(30)に対して作用するのに使用される偏光設定デバイス(32)を有し、
−前記使用される偏光設定デバイス(32)は、少なくとも1つの位相遅延構成要素(33;37i;37i,37j)を有し、これが、前記生出力ビーム(30)のビーム経路に配置され、かつ重ね合わされて該生出力ビーム(30)の前記偏光を形成する前記2つの直線偏光波に対して位相シフト効果を作用させ、
前記少なくとも1つの位相遅延構成要素(37;37i;37i,37j)は、反射性構成要素として具現化され、
前記反射性位相遅延構成要素(37;37i;37i,37j)は、該位相遅延構成要素(37;37i;37i,37j)の反射面に対して垂直である軸(39;39i)の周りに回転可能な方式で配置される、
ことを特徴とする照明系。 - 投影露光装置のための光学系であって、
請求項9又は請求項10に記載の照明系を含み、
照明視野(14)を像視野(20)内に結像するための投影光学ユニット(16)を含む、
ことを特徴とする光学系。 - EUVリソグラフィのための投影露光装置(1)であって、
請求項1から請求項7のいずれか1項に記載のEUV光源を含み、
請求項11に記載の光学系を含み、
前記光学系の照明光(3)による入射を受けるレチクル(17)をレチクル平面(15)に装着するためのレチクルホルダ(18)を含み、
照明視野(14)を像平面(21)の像視野(20)内に結像するための投影光学ユニット(16)を含み、
投影露光中に前記照明視野(14)に配置されたレチクル構造が前記像視野(20)に配置されたウェーハ区画上に結像されるように前記像平面(21)にウェーハ(22)を装着するためのウェーハホルダ(23)を含む、
ことを特徴とする投影露光装置(1)。 - 構造化構成要素を生成する方法であって、
レチクル(17)とウェーハ(22)を与える段階と、
請求項12に記載の投影露光装置の使用される出力ビーム(3)に対して偏光設定を実施する段階と、
前記投影露光装置(1)を用いて前記レチクル(17)上の構造を前記ウェーハ(22)の感光層上に投影する段階と、
前記ウェーハ(22)上に微細及び/又はナノ構造を生成する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
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