JP6532408B2 - パルス磁場によりレーザープラズマを磁化するための装置 - Google Patents
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Description
− 該リエントラントチャンバーは、2つの軸方向端部を備えている軸方向真空貫通導管を備え、該軸方向端部の各々は該真空チャンバーと連絡している;
− 該巻き線は、該軸方向真空貫通導管を取り巻くコイルを少なくとも1つ備えている;
− 該巻き線は、該軸方向真空貫通導管を取り巻く2つのコイルを備え、上記コイルは中央プレートにより分離されている;
− 該リエントラントチャンバーはさらに、2つの半径方向端部を備えている半径方向真空貫通導管を少なくとも1つ備え、該半径方向端部の各々は該真空チャンバーと連絡している;
− 該半径方向真空貫通導管は、該2つのコイルを分離する中央プレート内に置かれている;
− ターゲットは、該巻き線の実質的に中央に置かれている;
− 該ターゲットは、該巻き線の実質的に1つの端部に置かれている;
− 該冷却用流体は、気体または低温流体、特に液体窒素または液体ヘリウムである;
− 該リエントラントチャンバーは、低い伝導性の真空‐抵抗物質、特にステンレス鋼を備えている;
− 該パルス磁場は、その強さが、数テスラを超える、好ましくは約10テスラを超える、さらに好ましくは40テスラを超える磁場である;
− 該装置はさらに、該レーザープラズマを生成するために、該ターゲットと相互作用することが可能なレーザーパルスを放射するためのレーザー源を備え、かつ該レーザーパルスは、実質的に1ギガワットと1ペタワットの間、特に1テラワットと約100テラワットの間に含まれる出力を有している;
− 該レーザーパルスは、実質的に10フェムト秒と約10ナノ秒の間、特に約10フェムト秒と約10ピコ秒の間に含まれる持続時間を有している。
2 レーザー源
3 レーザーパルス
4 真空チャンバー
5 ターゲット
6 レーザープラズマ
7 荷電粒子ビーム
8 巻き線
9 パルス磁場
10 リエントラントチャンバー
11 冷却用流体
12 軸方向導管(軸方向真空貫通導管)
13,14 軸方向端部
15,16 コイル
17 中央プレート
18 半径方向導管(半径方向真空貫通導管)
19、20 半径方向端部
21 交差帯域
Claims (13)
- パルス磁場によりレーザープラズマを磁化するための装置であって、
ターゲット(5)とレーザーパルス(3)との相互作用がある間、レーザープラズマ(6)を生成しうるところの該ターゲット(5)がその中に置かれるところの真空チャンバー(4)、および、
パルス磁場(9)を該レーザープラズマ内に生成するために電気的に給電されうるところの巻き線(8)、
を備え、
該巻き線が、該真空チャンバー(4)の実質的に内部へ貫通しているリエントラントチャンバー(10)内に置かれ、かつ該リエントラントチャンバー(10)は冷却用流体(11)を収容している、ここで、該リエントラントチャンバー(10)は、2つの軸方向端部(13、14)を備える軸方向真空貫通導管(12)を備え、該軸方向端部の各々は、該真空チャンバー(4)と連絡していることを特徴とする、
上記装置。 - 該巻き線(8)は、該軸方向真空貫通導管(12)を取り巻くコイル(15)を少なくとも1つ備えている、請求項1に記載の装置。
- 該巻き線(8)は、該軸方向真空貫通導管(12)を取り巻く2つのコイル(15、16)を備え、前記複数のコイルは、中央プレート(17)により分離されている、請求項1または2に記載の装置。
- 該リエントラントチャンバー(10)はさらに、2つの半径方向端部(19、20)を備える半径方向真空貫通導管(18)を少なくとも1つ備え、該半径方向端部の各々は、該真空チャンバー(4)と連絡している、請求項1〜3のいずれか1項に記載の装置。
- 該半径方向真空貫通導管(18)は、該2つのコイル(15、16)を分離する中央プレート(17)内に置かれている、請求項3に従属するときの請求項4に記載の装置。
- 該ターゲット(5)は、該巻き線(8)の実質的に中央に置かれている、請求項1〜5のいずれか1項に記載の装置。
- 該ターゲット(5)は、該巻き線(8)の実質的に1つの端部に置かれている、請求項1〜5のいずれか1項に記載の装置。
- 該冷却用流体(11)は、気体または流体である、請求項1〜7のいずれか1項に記載の装置。
- 該冷却用流体は、液体窒素または液体ヘリウムである、請求項8に記載の装置。
- 該リエントラントチャンバー(10)は、ステンレス鋼を備えている、請求項1〜9のいずれか1項に記載の装置。
- 該パルス磁場(9)は、その強さが、約10テスラを超える磁場である、請求項1〜10のいずれか1項に記載の装置。
- さらに、該レーザープラズマ(6)を生成するために、該ターゲット(5)と相互作用することが可能なレーザーパルス(3)を放射するためのレーザー源(2)を備え、かつ該レーザーパルスは、1ギガワットと1ペタワットの間に含まれる出力を有している、請求項1〜11のいずれか1項に記載の装置。
- 該レーザーパルス(3)は、約10フェムト秒と約10ナノ秒の間に含まれる持続時間を有している、請求項12に記載の装置。
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