JPS63304596A - レ−ザ−プラズマによるｘ線発生装置 - Google Patents
レ−ザ−プラズマによるｘ線発生装置Info
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- JPS63304596A JPS63304596A JP14020487A JP14020487A JPS63304596A JP S63304596 A JPS63304596 A JP S63304596A JP 14020487 A JP14020487 A JP 14020487A JP 14020487 A JP14020487 A JP 14020487A JP S63304596 A JPS63304596 A JP S63304596A
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- plasma
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- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 abstract description 2
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- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000005457 Black-body radiation Effects 0.000 description 2
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05G—X-RAY TECHNIQUE
- H05G2/00—Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
- H05G2/001—Production of X-ray radiation generated from plasma
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- X-Ray Techniques (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、Ｘ線発生のためのレーザープラズマの高温
・高密度化技術に関するものである。
・高密度化技術に関するものである。
第２図は例えば刊行物（Ｊ、Ｖａｏ、 Ｓｏｉ、 Ｔｅ
ｏｈｎｏｌＢ３（１９８５） ２＋５８）に示された従
来のレーザープラズマＸ線発生装置の構成図である。図
において、（１）は金属ターゲット、（２）はレーザー
光、（３）はレーザー光（２）をターゲット（１）の表
面上に集光させるための集光レンズ、（４）はレーザー
発振器、（５）はＸ線取出しｇ 、（６）はレーザー光
（２）をターゲット（１）上に集光したことにより生成
するレーザープラズマ、（７）はレーザープラズマ（６
）より発生するＸ線、（８）はターゲット（１）を収納
する真空容器である。
ｏｈｎｏｌＢ３（１９８５） ２＋５８）に示された従
来のレーザープラズマＸ線発生装置の構成図である。図
において、（１）は金属ターゲット、（２）はレーザー
光、（３）はレーザー光（２）をターゲット（１）の表
面上に集光させるための集光レンズ、（４）はレーザー
発振器、（５）はＸ線取出しｇ 、（６）はレーザー光
（２）をターゲット（１）上に集光したことにより生成
するレーザープラズマ、（７）はレーザープラズマ（６
）より発生するＸ線、（８）はターゲット（１）を収納
する真空容器である。
次に動作について説明する。金属ターゲット（１）の表
面上にレーザー強度が１０ Ｗ／ａｍ 以上になるよ
うにレーザー光（２）を集光レンズ（３）で集光する０
集光されたレーザー光（２）がターゲット（１）上に照
射されると、ターゲット（１）は−瞬のうちにプラズマ
化（６）する。生成されたプラズマ（６）はレーザー光
（２）と相互作用を行ないレーザーのもつエネルギーを
吸収して高温化する。高温になったプラズマ（６）は、
はぼプラズマ温度に対応した黒体輻射あるいはターゲッ
ト（１）により決まる特性Ｘ線を放射する。放射された
Ｘ線（７）は、Ｘ線取出窓（５）より外部に取り出され
る。
面上にレーザー強度が１０ Ｗ／ａｍ 以上になるよ
うにレーザー光（２）を集光レンズ（３）で集光する０
集光されたレーザー光（２）がターゲット（１）上に照
射されると、ターゲット（１）は−瞬のうちにプラズマ
化（６）する。生成されたプラズマ（６）はレーザー光
（２）と相互作用を行ないレーザーのもつエネルギーを
吸収して高温化する。高温になったプラズマ（６）は、
はぼプラズマ温度に対応した黒体輻射あるいはターゲッ
ト（１）により決まる特性Ｘ線を放射する。放射された
Ｘ線（７）は、Ｘ線取出窓（５）より外部に取り出され
る。
従来のレーザープラズマによるＸ線発生装置け以上のよ
うに構成されているので、レーザープラズマが短時間で
拡散されてしまい、レーザー光のもつエネルギーを有効
にプラズマ中に注入できないため、Ｘ線発生効率を高め
ることができないという問題点があった。
うに構成されているので、レーザープラズマが短時間で
拡散されてしまい、レーザー光のもつエネルギーを有効
にプラズマ中に注入できないため、Ｘ線発生効率を高め
ることができないという問題点があった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、プラズマの拡散を防止し、レーザーエネルギ
ーを効率良くプラズマ中に注入し１Ｘ線発生効率の高い
レーザープラズマによるＸ線発生装置を得ることを目的
とする。
たもので、プラズマの拡散を防止し、レーザーエネルギ
ーを効率良くプラズマ中に注入し１Ｘ線発生効率の高い
レーザープラズマによるＸ線発生装置を得ることを目的
とする。
Ｃ問題点を解決するための手段〕
この発明に係るレーザープラズマによるＸ線発生装置は
、レーザープラズマを生成する金属ターゲット表面に外
部磁場を与えるためのコイルを設置したものである。
、レーザープラズマを生成する金属ターゲット表面に外
部磁場を与えるためのコイルを設置したものである。
この発明における磁場発生用コイルは、レーザー光が金
属表面上に集光されて生成されるプラズマを局所的に閉
じ込めるためのものであり、レーザー光と生成プラズマ
の相互作用を行なう時間を長くすることができ、プラズ
マを高温・高密度化できる。
属表面上に集光されて生成されるプラズマを局所的に閉
じ込めるためのものであり、レーザー光と生成プラズマ
の相互作用を行なう時間を長くすることができ、プラズ
マを高温・高密度化できる。
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第１
図において、（１）は金属ターゲット、（２）はレーザ
ー光、（３）はターゲット（１）表面上にレーザー光を
集光させるための集光レンズ、（４）ｑレーザー発振器
、（５）はＸ線取出し窓、（６）はレーザーを金属表面
上に集光したことによって生成されるプラズマ、（７）
はプラズマ（６）から発生するＸ線、（８）はターゲラ
） （１）を収容する真空容器、（９）はターゲット（
１）を内部に収容するパルス磁場発生用コイル、αＯは
レーザー発振器（４）に同期してパルス磁場発生用コイ
ル（９）に電流を供給するパルス電源である。
図において、（１）は金属ターゲット、（２）はレーザ
ー光、（３）はターゲット（１）表面上にレーザー光を
集光させるための集光レンズ、（４）ｑレーザー発振器
、（５）はＸ線取出し窓、（６）はレーザーを金属表面
上に集光したことによって生成されるプラズマ、（７）
はプラズマ（６）から発生するＸ線、（８）はターゲラ
） （１）を収容する真空容器、（９）はターゲット（
１）を内部に収容するパルス磁場発生用コイル、αＯは
レーザー発振器（４）に同期してパルス磁場発生用コイ
ル（９）に電流を供給するパルス電源である。
次に動作について説明する。レーザー光（２）をターゲ
ット（１）表面でユ０１２Ｗ／Ｃｍ２以上の強度になる
ように集光レンズ（３）ｆｔ通して照射する。レーザー
光（２）の照射時刻と同期して磁場発生用コイル（９）
に通電を行ない１ターゲツト（１）表面上に数ｔｅｓ１
ａから数百上ｅｓｌ＆のパルス磁場を与える。レーザー
光（２）をターゲット（１）上に集光したことにより発
生するプラズマ（６）は、パルス磁場発生中だけ局所化
される。パルス磁場をレーザー照射時間より長時間印加
すれば、局所化された高密度プラズマ（６）にレーザー
エネルギーが効率良く注入でき、高温・高密度プラズマ
が生成される。発生Ｘ線部）の波長はプラズマ温度の黒
体輻射にほぼ従うこと、およびＸ線強度がプラズマ密度
に比例することから、パルス磁場によるプラズマ閉じ込
めにより短波長のＸ線を効率良く発生することができる
。
ット（１）表面でユ０１２Ｗ／Ｃｍ２以上の強度になる
ように集光レンズ（３）ｆｔ通して照射する。レーザー
光（２）の照射時刻と同期して磁場発生用コイル（９）
に通電を行ない１ターゲツト（１）表面上に数ｔｅｓ１
ａから数百上ｅｓｌ＆のパルス磁場を与える。レーザー
光（２）をターゲット（１）上に集光したことにより発
生するプラズマ（６）は、パルス磁場発生中だけ局所化
される。パルス磁場をレーザー照射時間より長時間印加
すれば、局所化された高密度プラズマ（６）にレーザー
エネルギーが効率良く注入でき、高温・高密度プラズマ
が生成される。発生Ｘ線部）の波長はプラズマ温度の黒
体輻射にほぼ従うこと、およびＸ線強度がプラズマ密度
に比例することから、パルス磁場によるプラズマ閉じ込
めにより短波長のＸ線を効率良く発生することができる
。
なお、上記実施例では、磁場発生用のコイルにパルス電
源を与えてレーザーパルスに同期したパルス磁場を発生
させる場合について説明したが、コイルを超電導コイル
にして、数ｔｅｓｌａから数十ｔｅｌｌａを永久電流モ
ードで動作させ、ターゲット上にプラズマ閉じ込めのた
めの磁場を発生させても同様の効果が得られる。
源を与えてレーザーパルスに同期したパルス磁場を発生
させる場合について説明したが、コイルを超電導コイル
にして、数ｔｅｓｌａから数十ｔｅｌｌａを永久電流モ
ードで動作させ、ターゲット上にプラズマ閉じ込めのた
めの磁場を発生させても同様の効果が得られる。
以上のように、この発明によれば、金属ターゲットを内
部に収容する磁場発生用コイルを備えたので、レーザー
プラズマを磁場によって閉じ込めプラズマへのレーザー
エネルギー注入効率が向上し、Ｘ線発生効率の高いレー
ザープラズマによるＸ線発生装置が得られる。
部に収容する磁場発生用コイルを備えたので、レーザー
プラズマを磁場によって閉じ込めプラズマへのレーザー
エネルギー注入効率が向上し、Ｘ線発生効率の高いレー
ザープラズマによるＸ線発生装置が得られる。
第１図は、この発明の一実施例によるレーザープラズマ
によるＸ線発生装置を示す構成図、第２図は従来のレー
ザープラズマによるＸ線発生装置を示す構成図である◇ 図において、（１）は金属ターゲット、（２）はレーザ
ー光、（３）は集光レンズ、（４）はレーザー発振器、
（５）はＸ線取出窓、（６）Ｆｉレーザープラズマ、（
７）は発生したＸ線、（８）は真空容器、（９）はパル
ス磁場発生用コイル、αＧはパルス電源である。 なお、図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。
によるＸ線発生装置を示す構成図、第２図は従来のレー
ザープラズマによるＸ線発生装置を示す構成図である◇ 図において、（１）は金属ターゲット、（２）はレーザ
ー光、（３）は集光レンズ、（４）はレーザー発振器、
（５）はＸ線取出窓、（６）Ｆｉレーザープラズマ、（
７）は発生したＸ線、（８）は真空容器、（９）はパル
ス磁場発生用コイル、αＧはパルス電源である。 なお、図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。
Claims (1)
- 金属ターゲットと、レーザー光を発振するレーザー発振
器と、上記金属ターゲット表面に上記レーザー光を集光
する集光レンズと、上記金属ターゲットを内部に収容す
る磁場発生用コイルと、上記レーザー発振器に同期して
上記コイルに電流を供給する電源とを備えたレーザープ
ラズマによるＸ線発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14020487A JPS63304596A (ja) | 1987-06-04 | 1987-06-04 | レ−ザ−プラズマによるｘ線発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14020487A JPS63304596A (ja) | 1987-06-04 | 1987-06-04 | レ−ザ−プラズマによるｘ線発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63304596A true JPS63304596A (ja) | 1988-12-12 |
Family
ID=15263340
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14020487A Pending JPS63304596A (ja) | 1987-06-04 | 1987-06-04 | レ−ザ−プラズマによるｘ線発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63304596A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0723385A1 (en) * | 1995-01-18 | 1996-07-24 | Shimadzu Corporation | X-ray generating apparatus and x-ray microscope |
| JP2016516257A (ja) * | 2013-02-27 | 2016-06-02 | エコール ポリテクニック | パルス磁場によりレーザープラズマを磁化するための装置 |
-
1987
- 1987-06-04 JP JP14020487A patent/JPS63304596A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0723385A1 (en) * | 1995-01-18 | 1996-07-24 | Shimadzu Corporation | X-ray generating apparatus and x-ray microscope |
| JP2016516257A (ja) * | 2013-02-27 | 2016-06-02 | エコール ポリテクニック | パルス磁場によりレーザープラズマを磁化するための装置 |
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