JP6528010B1 - イリゲーション型高密度電極カテーテル - Google Patents

Abstract

イリゲーション型高密度電極カテーテルは、カテーテル・シャフトを含むことが可能である。カテーテル・シャフトは、近位端部および遠位端部を含むことが可能であり、また、カテーテル・シャフト長手方向軸線を画定することが可能である。可撓性の先端部部分は、カテーテル・シャフトの遠位端部に隣接して位置し得る。イリゲーション型カプラは、カテーテル・シャフトの遠位端部の上に配設され得、また、可撓性の先端部部分を覆って流体を吐出するように構成され得る。【選択図】図１Ａ

Description

関連出願の相互参照
本出願は、２０１６年５月３日に出願された「Ｉｒｒｉｇａｔｅｄ Ｈｉｇｈ Ｄｅｎｓｉｔｙ Ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ Ｃａｔｈｅｔｅｒ」と題する米国特許出願第６２／３３１，２９２号に対する優先権を主張し、それは参照により本明細書に完全に記載されているように組み込まれる。

本開示は、イリゲーション型高密度電極カテーテルに関する。

カテーテルは長年にわたって、心臓医療処置に使用されている。カテーテルは、例えば、そうでなければより侵襲的な処置を用いなければアクセス不可能な、身体内の特定の箇所に配置されながら、心不整脈を診断および処置するために使用することができる。

従来のマッピングカテーテルは、例えば、カテーテルの長手方向軸を囲み、白金または何らかの他の金属から構築される複数の隣接するリング電極を含むことができる。これらのリング電極は、相対的に剛性である。同様に、従来のアブレーションカテーテルは、治療を送達する（例えば、ＲＦアブレーションエネルギーを送達する）ための相対的に剛性の先端電極を備えることができ、複数の隣接するリング電極を含むこともできる。特に急な勾配および起伏が存在するときに、これらの従来のカテーテルおよびそれらの相対的に剛性の（即ち、変形しない）金属電極を使用するときは、心臓組織との良好な電気的接触を維持することが困難である可能性がある。

心臓内の損傷のマッピングまたは形成にかかわらず、心臓の拍動が、特に不安定または不規則である場合、事態を複雑にし、十分に長い時間にわたって電極と組織との間の十分な接触を維持するのが困難になる。これらの問題は、起伏または肉柱のある表面上で悪化する。電極と組織との間の接触を十分に維持することができない場合、良質の損傷または正確なマッピングがもたらされる可能性は低い。

上記の論述は、当該技術分野を解説することのみを意図しており、特許請求の範囲の否認として解釈されるべきではない。

本開示のさまざまな実施形態は、イリゲーション型高密度電極カテーテルを含むことが可能であり、イリゲーション型高密度電極カテーテルは、カテーテル・シャフトを含むことが可能である。カテーテル・シャフトは、近位端部および遠位端部を含むことが可能であり、カテーテル・シャフト長手方向軸線を画定することが可能である。可撓性の先端部部分は、カテーテル・シャフトの遠位端部に隣接して位置し得る。イリゲーション型カプラは、カテーテル・シャフトの遠位端部の上に配設され得、また、可撓性の先端部部分を覆って流体を吐出するように構成され得る。

本開示のさまざまな実施形態は、カテーテルを含むことが可能である。カテーテルは、近位端部および遠位端部を含む細長いシャフトを含むことが可能であり、細長いシャフトは、シャフト長手方向軸線を画定している。カプラは、細長いシャフトの遠位端部の中に配設され得、カプラは、カプラの外部表面の中に第１のセンサ溝部および第２のセンサ溝部を画定しており、また、カプラ長手方向軸線を画定している。第１の５自由度磁気位置センサは、第１のセンサ溝部の中に配設され得、第２の５自由度磁気位置センサは、第２のセンサ溝部の中に配設され得、第１の５自由度磁気位置センサは、第１のセンサ長手方向軸線を画定しており、第２の５自由度磁気位置センサは、第２のセンサ長手方向軸線を画定している。第１のセンサ長手方向軸線および第２のセンサ長手方向軸線は、互いに、および、カプラ長手方向軸線に対して発散することが可能である。

本開示のさまざまな実施形態は、医療用デバイスを含むことが可能である。医療用デバイスは、近位端部および遠位端部を含む細長いシャフトを含むことが可能であり、細長いシャフトは、シャフト長手方向軸線を画定している。可撓性の先端部マウントが、細長いシャフトの遠位端部の中に配設され得、可撓性の先端部マウントは、上部接続ステム部分および底部接続ステム部分を含む接続ステム部分、ならびに、可撓性の先端部マウントの遠位端部に接続されているイリゲーション型カプラを含む。可撓性の先端部部分は、近位装着部分および遠位可撓性の部分を含むことが可能であり、近位装着部分は、上部接続ステム部分と底部接続ステム部分との間に配設されている。第１のセンサ溝部は、上部接続ステム部分の中に画定され得、第２のセンサ溝部は、底部接続ステム部分の中に画定され得る。第１の５自由度磁気位置センサは、第１のセンサ溝部の中に配設され得、第２の５自由度磁気位置センサは、第２のセンサ溝部の中に配設され得、第１の５自由度磁気位置センサは、第１のセンサ長手方向軸線を画定しており、第２の５自由度磁気位置センサは、第２のセンサ長手方向軸線を画定している。

本開示のさまざまな実施形態による、高密度電極カテーテルの上面図である。

本開示のさまざまな実施形態による、図１Ａの高密度電極カテーテルの側面および上面の等角図である。

本開示のさまざまな実施形態によるイリゲーション型高密度電極カテーテルの上面および側面の等角図である。

本開示のさまざまな実施形態による、イリゲーション型カプラを備えたイリゲーション型高密度電極カテーテルの側面、上面、および正面の等角図である。

本開示のさまざまな実施形態による、図３Ａに示されているイリゲーション型カプラを備えたイリゲーション型高密度電極カテーテルの側面、底面、および正面の等角図である。

本開示のさまざまな実施形態による、図３Ａに示されているイリゲーション型カプラおよびイリゲーション経路を備えたイリゲーション型高密度電極カテーテルの底面図である。

本開示のさまざまな実施形態による、図３Ａに示されているイリゲーション型カプラを備えたイリゲーション型高密度電極カテーテルの側面および正面の図であり、イリゲーション型カプラが、第１のパターンでイリゲーション型カプラの遠位端部に配設されているイリゲーション・ポートを含むことを示す図である。

本開示のさまざまな実施形態による、イリゲーション型カプラを備えたイリゲーション型高密度電極カテーテルの側面および正面の図であり、イリゲーション型カプラが、第２のパターンでイリゲーション型カプラの遠位端部に配設されているイリゲーション・ポートを含むことを示す図である。

本開示のさまざまな実施形態による、図４Ａに示されているイリゲーション型カプラおよびイリゲーション経路を備えたイリゲーション型高密度電極カテーテルの底面図である。

本開示のさまざまな実施形態による、イリゲーション型カプラを備えたイリゲーション型高密度電極カテーテルの側面および正面の図であり、イリゲーション型カプラが、第３のパターンでイリゲーション型カプラの遠位端部に配設されているイリゲーション・ポートを含むことを示す図である。

本開示のさまざまな実施形態による、イリゲーション型カプラを備えたイリゲーション型高密度電極カテーテルの側面および正面の図であり、イリゲーション型カプラが、第４のパターンでイリゲーション型カプラの遠位端部に配設されているイリゲーション・ポートを含むことを示す図である。

本開示のさまざまな実施形態による、流体を吐出しているイリゲーション型カプラを備えたイリゲーション型高密度電極カテーテルの上面図である。

本開示のさまざまな実施形態による、医療処置の実施の後の、非イリゲーション型高密度電極カテーテルの上面図である。

本開示のさまざまな実施形態による、医療処置の実施の後の、イリゲーション型カプラを備えたイリゲーション型高密度電極カテーテルの上面図である。

本開示のさまざまな実施形態による、イリゲーション型高密度電極カテーテルの側面、上面、および正面の等角図であり、イリゲーション型高密度電極カテーテルが、イリゲーション型カプラおよび接続ステムとともに、可撓性の先端部部分を含むことを示す図である。

本開示のさまざまな実施形態による、イリゲーション型高密度電極カテーテルの側面、底面、および正面の等角図であり、イリゲーション型高密度電極カテーテルが、イリゲーション型カプラおよびリブ付きの接続ステムとともに、可撓性の先端部部分を含むことを示す図である。

本開示のさまざまな実施形態による、カテーテル・シャフトの遠位端部の中へ挿入された、図８Ａのイリゲーション型高密度電極マッピング・カテーテルの上面および側面の等角図である。

本開示のさまざまな実施形態による、図８Ａおよび図８Ｂに示されているイリゲーション型高密度電極カテーテルの側面、底面、および背面の等角図であり、イリゲーション型高密度電極カテーテルが、イリゲーション型カプラおよび底部接続ステム部分とともに、可撓性の先端部部分を含むことを示す図である。

本開示のさまざまな実施形態による、図８Ａから図８Ｃに示されているイリゲーション型高密度電極カテーテルの側面、底面、および背面の等角図であり、イリゲーション型高密度電極カテーテルが、可撓性の先端部部分と、イリゲーション・クロスオーバを含む底部接続ステム部分とを含むことを示す図である。

本開示のさまざまな実施形態による、図８Ａから図８Ｄに示されているイリゲーション型高密度電極カテーテルの背面図であり、イリゲーション型高密度電極カテーテルが、可撓性の先端部部分と、イリゲーション・クロスオーバを含む底部接続ステム部分とを含むことを示す図である。

本開示のさまざまな実施形態による、図８Ａから図８Ｅに示されているイリゲーション型高密度電極カテーテルの等角背面図であり、イリゲーション型高密度電極カテーテルが、イリゲーション型カプラおよびリブ付きの底部接続ステム部分とともに、可撓性の先端部部分を含むことを示す図である。

本開示のさまざまな実施形態による、図８Ａから図８Ｆに示されているイリゲーション型高密度電極カテーテルのイリゲーション型カプラおよび可撓性の先端部部分の背面図である。

本開示のさまざまな実施形態による、図８Ａから図８Ｇに示されている接続ステムの正面図である。

本開示のさまざまな実施形態による、図８Ａから図８Ｈに示されている接続ステムおよびイリゲーション型カプラの等角側面図である。

本開示の実施形態による、イリゲーション型高密度電極カテーテルの概略上面図であり、それは、イリゲーション型高密度電極カテーテルを通る流体フローを図示する図である。

本開示のさまざまな実施形態による、可撓性の先端部マウントの側面および背面の等角図である。

本開示の実施形態による、長手方向軸線であり、長手方向軸線に沿って接続ステムが延在していることを示す図である。

本開示のさまざまな実施形態による、図９Ａに示されている可撓性の先端部マウントの側面および正面の等角図である。

本開示のさまざまな実施形態による、図９Ａおよび図９Ｃに事前に示されている底部接続ステム部分および上部接続ステム部分の側面および正面の等角図である。 本開示のさまざまな実施形態による、図９Ａおよび図９Ｃに事前に示されている底部接続ステム部分および上部接続ステム部分の側面および正面の等角図である。

本開示のさまざまな実施形態による、図９Ａおよび図９Ｃから図９Ｅに事前に示されている上部接続ステム部分および底部接続ステム部分の遠位端部の等角図である。

本開示のさまざまな実施形態による、図９Ａおよび図９Ｃから図９Ｆに事前に示されているような底部接続ステム部分および上部接続ステム部分の近位端面図である。

本開示のさまざまな実施形態による、上部接続ステム部分および底部接続ステム部分の上面および近位端面の等角図である。 本開示のさまざまな実施形態による、図９Ａおよび図９Ｃから図９Ｇに事前に示されている底部接続ステム部分および上部接続ステム部分の底面および背面の等角図である。

本開示の実施形態による、上部接続ステム部分、底部接続ステム部分、およびイリゲーション型カプラの等角側面図である。 本開示の実施形態による、図９Ａおよび図９Ｃから図９Ｉに事前に示されている上部接続ステム部分、底部接続ステム部分、およびイリゲーション型カプラの側面および背面の等角図である。 本開示の実施形態による、図９Ａおよび図９Ｃから図９Ｉに事前に示されている上部接続ステム部分、底部接続ステム部分、およびイリゲーション型カプラの側面および背面の等角図である。 本開示の実施形態による、図９Ａおよび図９Ｃから図９Ｉに事前に示されている上部接続ステム部分、底部接続ステム部分、およびイリゲーション型カプラの側面および背面の等角図である。 本開示の実施形態による、図９Ａおよび図９Ｃから図９Ｉに事前に示されている上部接続ステム部分、底部接続ステム部分、およびイリゲーション型カプラの側面および背面の等角図である。

本開示の実施形態による、カテーテル・シャフトの中へ挿入される前の、可撓性の先端部部分、イリゲーション型カプラ、上部接続ステム部分、および底部接続ステム部分を示す図である。

本開示の実施形態による、カテーテル・シャフトの遠位端部の中への挿入の前の、図９Ｏに示されている底部接続ステム部分および上部接続ステム部分の底面および側面の等角図を示す図である。

本開示の実施形態による、カテーテル・シャフトの遠位端部の中への挿入の前の、図９Ｏに示されている上部接続ステム部分および底部接続ステム部分の上面および側面の等角図を示す図である。

本開示の実施形態による、イリゲーション型カプラの側面および遠位端面の等角図である。 本開示の実施形態による、イリゲーション型カプラの側面および遠位端面の等角図である。

本開示のさまざまな実施形態による、図１０Ａおよび図１０Ｂに示されているイリゲーション型カプラの背面図である。

本開示の実施形態による、底部接続ステム部分を示す図である。

本開示の実施形態による、上部接続ステム部分を示す図である。

本開示のさまざまな実施形態による、組み立てたときの、図１１Ａおよび図１１Ｂの底部接続ステム部分および上部接続ステム部分を示す図である。

本開示のさまざまな実施形態による、組み立てたときの、図１１Ａから図１１Ｃに示されているような底部接続ステム部分および上部接続ステム部分の遠位端面図である。

本開示のさまざまな実施形態による、組み立てたときの、図１１Ａから図１１Ｄに事前に示されている底部接続ステム部分および上部接続ステム部分の遠位端部の等角図である。

本開示のさまざまな実施形態による、細長いシャフトおよびループ状の遠位端部を含む、医療用デバイスの側面および端面の等角図である。

本開示のさまざまな実施形態による、図１２Ａの医療用デバイスの側面図であり、医療用デバイスが、ループ状の遠位端部の近位端部に連結されている細長いシャフトの遠位端部の中に配設されているカプラを含むことを示す図である。

本開示の実施形態による、図１２Ｂに示されているカプラの側面および背面の等角図である。

本開示の実施形態による、図１２Ｂおよび図１２Ｃに示されているカプラの底面および背面の等角図である。

本開示の実施形態による、図１２Ｂおよび図１２Ｄに示されているカプラの側面図である。

本開示の実施形態による、線ｋｋの方向における図１２Ｂの断面概略図である。

本開示の実施形態による、カプラの概略側面図である。

本開示の実施形態による、シャフトの遠位端部の中へ挿入したときの、図１３Ａのカプラの概略断面端面図である。

本開示の実施形態による、医療用デバイスの側面図であり、医療用デバイスが、カプラと、センサ溝部の中に配設されている磁気位置センサとを含むことを示す図である。

本開示の実施形態による、ルーメンのいずれかの側に配設されている磁気センサ・ペアの側面図である。

本開示の実施形態による、図１５Ａに示されている磁気センサ・ペアの上面図である。

本開示の実施形態による、５自由度磁気位置センサの回転を表すモデルである。

本開示の実施形態による、一対の位置センサをテストするためのフィクスチャの側面、上面、および背面の等角図である。

本開示の実施形態による、一対の位置センサをテストするための、図１７Ａに示されているフィクスチャの上面図である。

本開示の実施形態による、一対の位置センサをテストするための、図１７Ａおよび図１７Ｂに示されているフィクスチャの側面図である。

本開示の実施形態による、一対の位置センサをテストするための、図１７Ａから図１７Ｃに示されているフィクスチャの近位端面図である。

図１Ａは、本開示の様々な実施形態による、高密度電極カテーテル１０１の上面図であり、図１Ｂは、高密度電極カテーテル１０１の等角上側面図である。いくつかの実施形態において、高密度電極カテーテル１０１は、微小電極１０２の可撓性アレイを形成する可撓性先端部分１１０を含むことができる。微小電極１０２のこの平面アレイ（または「パドル」構成）は、微小電極１０２が配置される可撓性フレームワークを形成することができる、４つの隣接した長手方向に延伸するアーム１０３、１０４、１０５、１０６を備える。４つの微小電極キャリアアームは、第１のアウトボード・アーム１０３と、第２のアウトボード・アーム１０６と、第１のインボード・アーム１０４と、第２のインボード・アーム１０５とを備えることができ、これらは遠位接合部２０９によって遠位端において結合され得る。これらのアームは、互いから側方に分離することができる。

４つのアームの各々は、複数の微小電極１０２を担持することができる。例えば、４つのアームの各々は、４つのアームの各々の長さに沿って離間した微小電極１０２を担持することができる。図１Ａおよび図１Ｂに示す高密度電極カテーテル１０１の各々は４つのアームを示しているが、高密度電極カテーテル１０１は、より多いまたはより少ないアームを備えてもよい。加えて、図１Ａおよび図１Ｂに示す高密度電極カテーテル１０１は１８個の電極（例えば、第１のアウトボード・アーム１０３および第２のアウトボード・アーム１０６上に５つの微小電極、ならびに、第１のインボード・アーム１０４および第２のインボード・アーム１０５上に４つの微小電極）を示しているが、カテーテルは、１８個よりも多いまたは少ない電極を含んでもよい。加えて、第１のアウトボード・アーム１０３および第２のアウトボード・アーム１０６は、５つよりも多いまたは少ない電極を含んでもよく、第１のインボード・アーム１０４および第２のインボード・アーム１０５は、４つよりも多いまたは少ない電極を含んでもよい。

いくつかの実施形態において、微小電極１０２は、診断、治療、および／またはマッピング処置において使用することができる。例えば、限定ではなく、微小電極１０２は、電気生理学的研究、ペーシング、心臓マッピング、およびアブレーションに使用することができる。いくつかの実施形態において、微小電極１０２は、単極または双極アブレーションを実施するために使用することができる。この単極または双極アブレーションは、特定のラインまたはパターンの損傷を形成することができる。いくつかの実施形態において、微小電極１０２は、心臓から、電気生理学的研究に使用することができる電気信号を受信することができる。いくつかの実施形態において、微小電極１０２は、心臓マッピングに関連する所在または位置検知機能を実施することができる。

いくつかの実施形態において、高密度電極カテーテル１０１は、カテーテルシャフト１０７を含むことができる。カテーテルシャフト１０７は、近位端および遠位端を含むことができる。遠位端は、カテーテルシャフト１０７の遠位端を平面アレイの近位端に結合することができるコネクタ１０８を含むことができる。カテーテルシャフト１０７は、図１Ａに示すようにカテーテルシャフト長手方向軸ａａを規定することができ、カテーテルシャフト長手方向軸ａａに沿って、第１のアウトボード・アーム１０３、第１のインボード・アーム１０４、第２のインボード・アーム１０５、および第２のアウトボード・アーム１０６は、カテーテルシャフト長手方向軸ａａとの関係において概して平行に延伸することができる。カテーテルシャフト１０７は、患者の蛇行した血管系を通じて縫うように進むことができるように、可撓性材料から作製することができる。いくつかの実施形態において、カテーテルシャフト１０７は、カテーテルシャフト１０７の長さに沿って配置されている１つまたは複数のリング電極１１１を含むことができる。リング電極１１１は、一例において、診断、治療、および／またはマッピング処置に使用することができる。

図１Ｂに示すように、可撓性先端部分１１０は、組織（例えば、心臓組織）に応じて変形するようにすることができる。例えば、可撓性先端部分１１０が組織に接触すると、この可撓性先端部分１１０は屈曲することができ、可撓性フレームワークが組織に応じて変形することが可能になる。いくつかの実施形態において、図１Ａおよび図１Ｂに示すカテーテルの遠位端においてパドル構造（またはマルチアーム、電極担持、可撓性のフレームワーク）を備えるアーム（またはアームの下部構造）は、本明細書において論じるように、ニチノールおよび／または可撓性基板のような可撓性またはばね状材料から構築されることが好ましい。アームの構造（例えば、アームの長さおよび／または直径を含む）および材料は、例えば、単一のアームの近位端からそのアームの遠位端までで、または、単一のパドル構造を備える複数のアームの間で変化することができる１つまたは複数の特性を含む、所望の弾性、可撓性、折り曲げ性、なじみ性、および剛性の特性に作製されるように、調整または調節することができる。ニチノールおよび／または可撓性基板のような材料の折り曲げ性は、カテーテルを身体内に送達している間、または、処置の終わりにカテーテルを身体から除去している間にかかわらず、パドル構造を送達カテーテルまたはイントロデューサに挿入することを容易にするという利点を、さらにもたらす。

とりわけ、開示されているカテーテルは、それらの複数の微小電極によって、（１）心臓の心房壁内の特定サイズの領域（例えば、１平方センチメートルの領域）の局所伝搬マップを規定し、（２）アブレーションのために複雑な分画心房電位図を特定し、（３）電位図の解像度をより高くするために微小電極間の局所的な限局電位を特定し、および／または、（４）アブレーションのための領域をより正確に標的化するのに有用である。これらのマッピングカテーテルおよびアブレーションカテーテルは、不安定である可能性がある心臓の動きにかかわらず、心臓組織に応じて変形し、心臓組織と接触したままであるように構築される。心臓が動いている間のカテーテルの心臓に対するそのような増強した安定性によって、組織と電極との接触が持続することに起因して、より正確なマッピングおよびアブレーションが可能である。加えて、本明細書において説明されているカテーテルは、心外膜および／または心内膜用途にとって有用であり得る。例えば、本明細書において示されている平面アレイ電極は、微小電極の平面アレイが心筋表面と心膜との間に配置される、心外膜処置において使用されてもよい。代替的に、平面アレイ実施形態は、心内膜処置において、心筋の内表面を迅速に掃引および／または解析し、心臓組織の電気的特性の高密度マップを迅速に生成するために使用されてもよい。

いくつかの実施形態では、高密度電極カテーテル１０１の使用は、ときには、高密度電極カテーテル１０１のさまざまな部分の上の血液の凝固によって苦しめられ得る。たとえば、血液の凝固は、可撓性の先端部部分１１０の上で起こる可能性があり、および／または、高密度電極カテーテル１０１のコネクタ１０８の上で起こる可能性がある。血液の凝固が本明細書で論じられているが、いくつかの場合には、たとえば、組織細胞などのような、他の材料が、可撓性の先端部部分１１０の上に、および／または、コネクタ１０８の上に収集される可能性がある。血液の凝固は、血液がマイクロ電極の上に凝固する場合には、マイクロ電極の機能性を損なう可能性がある。さらに、可撓性の先端部部分１１０の上の、および／または、コネクタ１０８の上の血液の凝固は、凝固された血液が自由になる場合には、血栓を生じさせる可能性がある。したがって、可撓性の先端部部分１１０の上の、および／または、コネクタ１０８の上の、血液の凝固および／または他の材料の蓄積を防止することが有益である可能性があり、それは、本開示の中で論じられている実施形態の使用を通して達成され得る。

「Ｆｌｅｘｉｂｌｅ Ｈｉｇｈ−Ｄｅｎｓｉｔｙ Ｍａｐｐｉｎｇ Ｃａｔｈｅｔｅｒ Ｔｉｐｓ ａｎｄ Ｆｌｅｘｉｂｌｅ Ａｂｌａｔｉｏｎ Ｃａｔｈｅｔｅｒ Ｔｉｐｓ ｗｉｔｈ Ｏｎｂｏａｒｄ Ｈｉｇｈ−Ｄｅｎｓｉｔｙ Ｍａｐｐｉｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｄｅｓ」という標題の国際出願第ＰＣＴ／ＵＳ２０１４／０１１９４０号、「Ｈｉｇｈ Ｄｅｎｓｉｔｙ Ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ Ｍａｐｐｉｎｇ Ｃａｔｈｅｔｅｒ」という標題の米国出願第１５／３３１，５６２号、「Ｈｉｇｈ Ｄｅｎｓｉｔｙ Ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ Ｍａｐｐｉｎｇ Ｃａｔｈｅｔｅｒ」という標題の米国出願第６２／３２４，０６７号、「Ｈｉｇｈ Ｄｅｎｓｉｔｙ Ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ Ｍａｐｐｉｎｇ Ｃａｔｈｅｔｅｒ」という標題の米国出願第１５／３３１，３６９号、および、「Ｕｌｔｒａｓｏｎｉｃ Ｔｒａｎｓｄｕｃｅｒ Ａｒｒａｙ Ｃａｔｈｅｔｅｒ ｗｉｔｈ Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ Ｃｏｕｐｌｅｒ」という標題の米国出願第６２／４８４，２６７号の内容が、本明細書に完全に記載されているかのように、参照により本明細書に組み込まれている。本開示のいくつかの実施形態は、診断用電極および／または治療用電極を含む可撓性の先端部部分を含むが、本開示の実施形態は、可撓性の先端部部分の代わりに、または、可撓性の先端部部分に加えて、可撓性のおよび／または硬質の先端部部分（たとえば、遠位アセンブリ）を含むことが可能であり、それは、電極アセンブリ、または、任意の数の最終使用の治療用デバイスおよび／もしくは診断用デバイスであることが可能である。たとえば、先端部部分は、心腔内心エコー（ＩＣＥ）カテーテル、レーザ、バルーン、または、任意の他の数の治療用デバイスおよび／または診断用デバイスに関連付けられるものなどのような、超音波センサおよび／またはトランスデューサを含むことが可能である。

図２は、本開示のさまざまな実施形態による、イリゲーション型高密度電極カテーテル１２０の上面および側面の等角図である。いくつかの実施形態では、イリゲーション型高密度電極カテーテル１２０は、マイクロ電極１２４の可撓性のアレイを形成する可撓性の先端部部分（たとえば、平面的なアレイ）１２２を含むことが可能であり、マイクロ電極１２４は、長手方向に延在するアーム１２６、１２８、１３０、１３２の上に担持されている。イリゲーション型高密度電極カテーテル１２０は、カテーテル・シャフト１３４を含むことが可能であり、カテーテル・シャフト１３４は、近位端部および遠位端部を含み、長手方向軸線に沿って延在している。いくつかの実施形態では、カテーテル・シャフトの遠位端部は、イリゲーション型カプラ１３６を含むことが可能であり、イリゲーション型カプラ１３６は、カテーテル・シャフト１３４の遠位端部を平面的なアレイ１２２の近位端部に連結することが可能である。本明細書で論じられているように、カテーテル・シャフト１３４は、カテーテル・シャフト１３４の長さに沿って配設されている１つまたは複数のリング電極１３８−１、１３８−２を含むことが可能である。

いくつかの実施形態では、イリゲーション型カプラ１３６は、流体（たとえば、イリゲーション流体）を吐出するように構成されている１つまたは複数のイリゲーション・ポートを含むことが可能であり、それは、図３Ａから図４Ｃに関連してさらに示されている。いくつかの実施形態では、イリゲーション・ポートは、それらが平面的なアレイ１２２を実質的にカバーするように流体を分配するように配設され得る。いくつかの実施形態では、イリゲーション・ポートは、平面的なアレイ１２２を覆って流体を分配するように構成されており、平面的なアレイの上での血液の凝固または他の材料の蓄積を防止することが可能である。いくつかの実施形態では、平面的なアレイ１２２の遠位部分、たとえば、平面的なアレイ・カプラ２０９を取り囲む平面的なアレイの部分（図１Ａおよび図１Ｂに示されている）が、血液の凝固の影響を受けやすい可能性がある。たとえば、図６Ａを参照すると、血液は、第２のインボード・アームと第２のアウトボード・アームとの間の平面的なアレイの遠位部分の上で凝固している。さらに、血液は、たとえば、図１Ａおよび図１Ｂに示されているように、非イリゲーション型コネクタ１０８の周りなど、平面的なアレイ１２２の他の部分に沿って凝固する可能性がある。したがって、本開示の実施形態は、平面的なアレイ１２２のこれらの部分のうちの１つまたは複数に流体を分配するように構成され得る。

図３Ａは、本開示のさまざまな実施形態による、イリゲーション型カプラ１５２を備えたイリゲーション型高密度電極カテーテル１５０の側面、上面、および正面の等角図である。イリゲーション型カプラ１５２は、カテーテル・シャフト１５４（たとえば、細長いシャフト）の遠位端部に配設され得、可撓性の先端部部分１５６（それは、長手方向に延在するアーム１５８、１６０、１６２、１６４を含むことが可能である）をカテーテル・シャフト１５４に接続することが可能である。いくつかの実施形態では、イリゲーション型カプラ１５２およびカテーテル・シャフト１５４は、イリゲーション型高密度電極カテーテル１５０によって画定された長手方向軸線に沿って延在することが可能である。いくつかの実施形態では、イリゲーション型カプラ１５２は、スロット１６６を含むことが可能であり、スロット１６６は、イリゲーション型カプラの遠位端部を通過しており、スロット１６６は、第１のスロット壁部１６８−１および第２のスロット壁部１６８−２ならびにベース壁部１７０によって画定されている。いくつかの実施形態では、第１のスロット壁部１６８−１および第２のスロット壁部１６８−２は、イリゲーション型カプラ１５２の遠位端部を通って延在することが可能である。第１のスロット壁部１６８−１および第２のスロット壁部１６８−２は、イリゲーション型高密度電極カテーテル１５０によって画定される長手方向軸線のいずれかの側に延在することが可能であり、長手方向軸線と平行になっていることが可能である。いくつかの実施形態では、第１のスロット壁部１６８−１および第２のスロット壁部１６８−２は、互いに平行になっていることが可能である。ベース壁部１７０は、開口部を含むことが可能であり、開口部は、長手方向に延在するアーム１５８、１６０、１６２、１６４の近位端部を受け入れるように構成され得る。

いくつかの実施形態では、イリゲーション型カプラ１５２は、１つまたは複数のイリゲーション・ポート１７２、１７４を含むことが可能である。３つ以上のイリゲーション・ポートが示されているが、図示しやすくするために、イリゲーション・ポート１７２およびイリゲーション・ポート１７４だけが、図３Ａの中でラベル付けされている。図３Ａに示されているように、イリゲーション型カプラ１５２は、可撓性の先端部部分１５６の第１の側に配設されているイリゲーション・ポートの第１の列１７６と、可撓性の先端部部分１５６の第２の側に配設されているイリゲーション・ポートの第２の列１７８とを含むことが可能である。５つのイリゲーション・ポート１７２、１７４が、可撓性の先端部部分１５６のいずれかの側に配設されているものとして示されているが、５つよりも多くのまたは少ないイリゲーション・ポート１７２、１７４が、可撓性の先端部部分１５６のいずれかの側に配設され得る。同様に、イリゲーション・ポートの１つの列が、イリゲーション型カプラ１５２の中の可撓性の先端部部分１５６のいずれかの側に配設されているものとして示されているが、イリゲーション・ポートの２つ以上の列が、イリゲーション型カプラ１５２の中の可撓性の先端部部分１５６のいずれかの側に配設され得る。いくつかの実施形態では、イリゲーション・ポートの１つまたは複数の列が、イリゲーション型カプラ１５２の第１の側に配設され得、イリゲーション型カプラ１５２の第２の側には、イリゲーション・ポートが配設されないことも可能である。イリゲーション・ポート１７２、１７４は、円形として示されているが、イリゲーション・ポート１７２、１７４は、他の形状のものであることも可能である。たとえば、イリゲーション・ポート１７２、１７４は、楕円形、正方形、長方形、三角形などであることが可能である。

図３Ｂは、本開示のさまざまな実施形態による、図３Ａに示されているイリゲーション型カプラ１５２を備えたイリゲーション型高密度電極カテーテル１５０の側面、底面、および正面の等角図である。示されているように、イリゲーション・ポートの第２の列１７８は、５つのイリゲーション・ポート１７４−１、１７４−２、…、１７４−５を含むことが可能である。いくつかの実施形態では、イリゲーション・ポート１７４−１、１７４−２、…、１７４−５は、可撓性の先端部部分１５６の１つまたは複数の部分へ流体フローを方向付けるように構成され得る。流体フローは、いくつかの実施形態では、平面的なファン形状の流体フローであることが可能であり、それは、可撓性の先端部部分１５６の大部分の周りに流体が分配されることを確保することを助けることが可能である。

図３Ｃは、本開示のさまざまな実施形態による、図３Ａに示されているイリゲーション型カプラ１５２およびイリゲーション経路１７７−１、１７７−２、…、１７７−５を備えたイリゲーション型高密度電極カテーテル１５０の底面図である。いくつかの実施形態では、第１のイリゲーション経路１７７−１は、第１のイリゲーション・ポート１７４−１に関連付けられ得、第２のイリゲーション経路１７７−２は、第２のイリゲーション・ポート１７４−２に関連付けられ得、第３のイリゲーション経路１７７−３は、第３のイリゲーション・ポート１７４−３に関連付けられ得、第４のイリゲーション経路１７７−４は、第４のイリゲーション・ポート１７４−４に関連付けられ得、第５のイリゲーション経路１７７−５は、第５のイリゲーション・ポート１７４−５に関連付けられ得る。イリゲーション・ポート１７４−１、１７４−２、…、１７４−５は、イリゲーション経路１７７−１、１７７−２、…、１７７−５に沿って流体フローを方向付けるように構成され得る。たとえば、第３のイリゲーション・ポート１７４−３は、ルーメンを含むことが可能であり、そのルーメンは、第３のイリゲーション経路１７７−３に沿って流体を方向付けるために、高密度電極カテーテル１５０の長手方向軸線と平行にイリゲーション型カプラ１５２を通って延在している。第２および第４のイリゲーション・ポート１７４−２、１７４−４は、ルーメンを含むことが可能であり、そのルーメンは、第２および第４のイリゲーション経路１７７−２、１７７−４に沿って流体を方向付けるために、イリゲーション型カプラ１５２を通って延在し、イリゲーション型高密度電極カテーテル１５０の長手方向軸線に対して発散する。たとえば、第２および第４のイリゲーション・ポート１７４−２、１７４−４に関連付けられたルーメンは、長手方向軸線に対して非ゼロの角度で配設され得る。第１および第５のイリゲーション・ポート１７４−１、１７４−５は、ルーメンを含むことが可能であり、そのルーメンは、第１および第５のイリゲーション経路１７７−１、１７７−５に沿って流体を方向付けるために、イリゲーション型カプラ１５２を通って延在し、イリゲーション型高密度電極カテーテル１５０の長手方向軸線に対して発散する。たとえば、第１および第５のイリゲーション・ポート１７４−１、１７４−５に関連付けられたルーメンは、長手方向軸線に対して非ゼロの角度で配設され得、それは、第２および第４のイリゲーション・ポート１７４−２、１７４−４に関連付けられたそれらの角度よりも大きくなっている。

いくつかの実施形態では、イリゲーション型カプラ１５２は、イリゲーション・ポート１７４−１、１７４−２、…、１７４−５およびそれらのそれぞれのルーメンを形成するために、形成され得る（たとえば、成形される、機械加工される）。イリゲーション・ポート１７４−１、１７４−２、…、１７４−５のそれぞれに関連付けられたルーメンは、本明細書で議論されているように、イリゲーション型高密度電極カテーテル１５０の長手方向軸線に対してさまざまな角度で形成され得る。いくつかの実施形態では、イリゲーション・ポート１７４−１、１７４−２、…、１７４−５のそれぞれに関連付けられたルーメンのうちの１つまたは複数は、イリゲーション型高密度電極カテーテル１５０の長手方向軸線に対して非ゼロの角度で形成され得る。先に論じられているように、第３のイリゲーション・ポート１７４−３は、長手方向軸線に対して非ゼロの角度で形成され得るが、しかし、他のイリゲーション・ポートも、イリゲーション型高密度電極カテーテル１５０の長手方向軸線に対して非ゼロの角度で形成され得る。いくつかの実施形態では、イリゲーション・ポート１７４−１、１７４−２、…、１７４−５のすべてが、イリゲーション型高密度電極カテーテル１５０の長手方向軸線に対して非ゼロの角度で形成され得る。

図３Ｄは、本開示のさまざまな実施形態による、図３Ａに示されているイリゲーション型カプラ１５２を備えたイリゲーション型高密度電極カテーテル１５０の側面および正面の図であり、イリゲーション型カプラ１５２は、第１のパターンでイリゲーション型カプラ１５２の遠位端部に配設されているイリゲーション・ポート１７２−１、１７２−２、…、１７２−５、および、１７４−１、１７４−２、…、１７４−５を含む。先に論じられているように、イリゲーション・ポート１７４−１、１７４−２、…、１７４−５、１７２は、第１の列１７６および第２の列１７８の中に配置され得、第１の列１７６および第２の列１７８は、可撓性の先端部部分１５６によって形成される平面に対して平行になっている。

いくつかの実施形態では、第１のスロット壁部１６８−１および第２のスロット壁部１６８−２は、第１のスロット壁部１６８−１および第２のスロット壁部１６８−２の中に画定されたイリゲーション・ポートを含むことが可能である。いくつかの実施形態では、それぞれのスロット壁部１６８−１、１６８−２と可撓性の先端部部分１５６との間に、スペースが存在することが可能であり、流体がイリゲーション・ポートから出ていくこと、および、流体が可撓性の先端部部分１５６の遠位端部に向けて遠位に進行することを可能にする。いくつかの実施形態では、イリゲーション型カプラ１５２の遠位端部に配設されているイリゲーション・ポート１７２−１、１７２−２、…、１７２−５およびイリゲーション・ポート１７４−１、１７４−２、…、１７４−５の代わりにまたはそれに加えて、第１のスロット壁部１６８−１および第２のスロット壁部１６８−２の上に配設されているポートが含まれ得る。

図４Ａは、本開示のさまざまな実施形態による、イリゲーション型カプラ２００を備えたイリゲーション型高密度電極カテーテル１９０の側面および正面の図を示しており、イリゲーション型カプラ２００は、第２のパターンでイリゲーション型カプラ２００の遠位端部に配設されているイリゲーション・ポート１９２−１、１９２−２、…、１９２−４、および、１９４−１、１９４−２、…、１９４−４を含む。示されているように、イリゲーション型高密度電極カテーテル１９０は、イリゲーション・ポート１９２−１、１９２−２、…、１９２−４の第１の列１９６と、イリゲーション・ポート１９４−１、１９４−２、…、１９４−４の第２の列１９８とを含むことが可能であり、それらは、遠位端部の上に配設されており、より具体的には、イリゲーション型カプラ２００の遠位面に配設されている。第１および第２の列１９６、１９８は、先に論じられているように、可撓性の先端部部分２０２のいずれかの側に配設され得る。

いくつかの実施形態では、それぞれの列の中のイリゲーション・ポートの数は、可撓性の先端部部分２０２の中に含まれている長手方向に延在するアームの数にマッチすることが可能である。たとえば、図４Ａには示されていないが、可撓性の先端部部分２０２は、４つの長手方向に延在するアームを含むことが可能である。したがって、４つのイリゲーション・ポート１９２−１、１９２−２、…、１９２−４が、第１の列１９６の中でイリゲーション型カプラ２００の第１の側に含まれ得、また、４つのイリゲーション・ポート１９４−１、１９４−２、…、１９４−４が、第２の列１９８の中でイリゲーション型カプラ２００の第２の側に含まれ得る。

いくつかの実施形態では、イリゲーション・ポート１９２−１、１９２−２、…、１９２−４、および、１９４−１、１９４−２、…、１９４−４のそれぞれは、可撓性の先端部部分２０２の４つの長手方向に延在するアームのそれぞれを覆って流体を方向付けるように構成され得る。図３Ａから図３Ｄに関連して論じられているものと同様にして、イリゲーション・ポートのそれぞれは、可撓性の先端部部分２０２の長手方向に延在するアームのうちのそれぞれ１つを覆って流体を方向付けるように構成され得る。

図４Ｂは、本開示のさまざまな実施形態による、図４Ａに示されているイリゲーション型カプラ２００およびイリゲーション経路１１２−１、２１２−２、…、２１２−４を備えたイリゲーション型高密度電極カテーテル１９０の底面図を示している。いくつかの実施形態では、第１のイリゲーション経路２１２−１は、第１のイリゲーション・ポート１９４−１に関連付けられ得、第２のイリゲーション経路２１２−２は、第２のイリゲーション・ポート１９４−２に関連付けられ得、第３のイリゲーション経路２１２−３は、第３のイリゲーション・ポート１９４−３に関連付けられ得、第４のイリゲーション経路２１２−４は、第４のイリゲーション・ポート１９４−４に関連付けられ得る。イリゲーション・ポート１９４−１、１９４−２、…、１９４−４は、イリゲーション経路２１２−１、２１２−２、…、２１２−４に沿って流体フローを方向付けるように構成され得る。

たとえば、第１および第４のイリゲーション・ポート１９４−１、１９４−４は、ルーメンを含むことが可能であり、そのルーメンは、所定の角度でイリゲーション型カプラ２００を通って延在しており、所定の角度は、それぞれ、第１および第４のイリゲーション経路２１２−１、２１２−４に沿って、ならびに、第１のアウトボード・アーム２１０および第２のアウトボード・アーム２０４に向けて、流体を方向付けるために、イリゲーション型高密度電極マッピング・カテーテル１９０の長手方向軸線に対して発散する。第２および第３のイリゲーション・ポート１９４−２、１９４−３は、ルーメンを含むことが可能であり、そのルーメンは、それぞれ、第２および第３のイリゲーション経路２１２−２、２１２−３に沿って、ならびに、第１のインボード・アーム２０８および第２のインボード・アーム２０６に向けて、流体を方向付けるために、イリゲーション型カプラ２００を通って延在し、イリゲーション型高密度電極マッピング・カテーテル１９０の長手方向軸線に対して発散する。たとえば、第２および第３のイリゲーション・ポート１９４−２、１９４−３に関連付けられたルーメンは、長手方向軸線に対して非ゼロの角度で配設され得る。いくつかの実施形態では、第２および第３のイリゲーション・ポート１９４−２、１９４−３が長手方向軸線に対して配設されている角度は、第１および第４のイリゲーション・ポート１９４−１、１９４−４が長手方向軸線に対して配設されている角度よりも小さくなっていることが可能である。いくつかの実施形態では、イリゲーション・ポート１９２−１、１９２−２、…、１９２−４、および、１９４−１、１９４−２、…、１９４−４は、すべて、長手方向軸線に対して非ゼロの角度で配設され得る。いくつかの実施形態では、イリゲーション・ポート１９２−１、１９２−２、…、１９２−４、および、１９４−１、１９４−２、…、１９４−４のそれぞれが配設されている非ゼロの角度は、同じであることが可能である。いくつかの実施形態では、イリゲーション・ポート１９２−１、１９２−２、…、１９２−４、および、１９４−１、１９４−２、…、１９４−４のそれぞれが、ゼロの角度で配設され得る。本明細書で議論されているように、いくつかの実施形態では、イリゲーション型カプラ２００は、イリゲーション・ポート１９２−１、１９２−２、…、１９２−４、および、１９４−１、１９４−２、…、１９４−４、ならびに、それらのそれぞれのルーメンを形成するために、形成され得る（たとえば、成形される、機械加工される）。

図４Ｃは、本開示のさまざまな実施形態による、イリゲーション型カプラ２２２を備えたイリゲーション型高密度電極マッピング・カテーテル２２０の側面および正面の図を示しており、イリゲーション型カプラ２２２は、第３のパターンでイリゲーション型カプラ２２２の遠位端部に配設されているイリゲーション・ポートを含む。示されているように、イリゲーション型高密度電極マッピング・カテーテル２２０は、第１の細長いイリゲーション・ポート２２４および第２の細長いイリゲーション・ポート２２６を含み、第１の細長いイリゲーション・ポート２２４は、イリゲーション型カプラ２２２の遠位端部（たとえば、遠位面）の中に、カテーテル２２０の可撓性の先端部部分２２８の第１の側に画定されており、第２の細長いイリゲーション・ポート２２６は、イリゲーション型カプラ２２２の遠位端部（たとえば、遠位面）の中に、カテーテル２２０の可撓性の先端部部分２２８の第２の側に画定されている。細長いイリゲーション・ポート２２４、２２６は、イリゲーション型カプラ２２２の遠位面に沿って延在することが可能であり、また、可撓性の先端部部分２２８によって形成される平面と平行になっていることが可能である。いくつかの実施形態では、第１および第２の細長いイリゲーション・ポート２２４、２２６は、それぞれ、スロット２３２の第１および第２のスロット壁部２３０−１、２３０−２と平行になっていることが可能である。いくつかの実施形態では、細長いイリゲーション・ポート２２４、２２６は、可撓性の先端部部分２２８を覆って平面的な流体フローを分配するように構成され得る。

図４Ｄは、本開示のさまざまな実施形態による、イリゲーション型カプラ２４２を備えたイリゲーション型高密度電極カテーテル２４０の側面および正面の図を示しており、イリゲーション型カプラ２４２は、第４のパターンでイリゲーション型カプラ２４２の遠位端部に配設されているイリゲーション・ポートを含む。いくつかの実施形態では、イリゲーション・ポート２４４−１、２４４−２、２４６−１、２４６−２は、図４Ｃに論じられているように、細長くなっていることが可能である。しかし、図４Ｃに示されているように、複数の細長いイリゲーション・ポートは、可撓性の先端部部分２４８のいずれかの側に含まれ得る。たとえば、第１の対の細長いイリゲーション・ポート２４４−１、２４４−２は、可撓性の先端部部分２４８の第１の側に互いに隣り合って配設され得、第２の対の細長いイリゲーション・ポート２４６−１、２４６−２は、可撓性の先端部部分２４８の第２の側に互いに隣り合って配設され得る。細長いイリゲーション・ポートの対が図４Ｃに開示されているが、３つ以上のイリゲーション・ポート、または、２つ未満のイリゲーション・ポートが、可撓性の先端部部分のいずれかの側に配設され得る。いくつかの実施形態では、図４Ｃに示されているように、第１の側の細長いイリゲーション・ポート２４４−１、２４４−２が、互いに対して長手方向に整合され得、また、第２の側の細長いイリゲーション・ポート２４６−１、２４６−２が、互いに対して長手方向に整合され得る。いくつかの実施形態では、細長いイリゲーション・ポート２４４−１、２４４−２、２４６−１、２４６−２は、流体の平面的なフローを作り出すことを支援することが可能であり、それは、可撓性の先端部部分２４８にわたって分配され得る。

いくつかの実施形態では、図３Ｃおよび図４Ｂに関連して議論されているものと同様にして、イリゲーション・ポート２４４−１、２４４−２、２４６−１、２４６−２は、ルーメンを含むことが可能であり、ルーメンは、イリゲーション型高密度電極カテーテル２４０によって形成される長手方向軸線に対して非ゼロの角度で配設され得る。したがって、イリゲーション・ポート２４４−１、２４４−２、２４６−１、２４６−２は、可撓性の先端部部分２４８のターゲットとされた部分に向けて流体を方向付けることが可能である。

図５は、本開示のさまざまな実施形態による、流体２６４を吐出しているイリゲーション型カプラ２６２を備えたイリゲーション型高密度電極カテーテル２６０の上面図を示している。イリゲーション型高密度電極カテーテル２６０は、本明細書で論じられているように、イリゲーション・ポートを含むことが可能であり、イリゲーション・ポートは、イリゲーション型高密度電極カテーテル２６０の可撓性の先端部部分２６６を覆って流体を吐出するように構成され得る。示されているように、流体は、可撓性の先端部部分を覆って吐出されているものとして示されている。図５にさらに示されているように、イリゲーション型カプラ２６２のイリゲーション・ポートを通して吐出される流体の流量は、毎分２ミリリットル（ｍｌ／ｍｉｎ）であるが、しかし、この流量は、単に例示の目的のためだけに提供されており、流量は、２ｍｌ／ｍｉｎよりも大きくなるか、または、２ｍｌ／ｍｉｎよりも小さくなることが可能である。

図６Ａは、本開示のさまざまな実施形態による、医療処置の実施の後の、非イリゲーション型高密度電極カテーテル２８０の上面図を示している。非イリゲーション型高密度電極カテーテル２８０は、可撓性の先端部部分２８２を含み、可撓性の先端部部分２８２は、可撓性の先端部部分２８２の遠位端部の上に存在する凝固された血液２８４−１を有するものとして示されている。それに加えて、凝固された血液２８４−２は、可撓性の先端部部分２８２のマイクロ電極のうちの１つまたは複数の上にあるものとして示されており、また、電極カテーテル２８０の非イリゲーション型カプラ２８６の上に存在するものとして、凝固された血液２８４−３を示している。

図６Ｂは、本開示のさまざまな実施形態による、医療処置の実施の後の、イリゲーション型カプラ２８６を備えたイリゲーション型高密度電極カテーテル３００の上面図を示している。示しているように、イリゲーション型高密度電極カテーテル３００は、一般的に、図６Ａに示されている電極カテーテル２８０の非イリゲーション型カプラ２８６とは対照的に、凝固された血液がない。

図７は、本開示のさまざまな実施形態による、イリゲーション型高密度電極カテーテル３２０の側面、上面、および正面の等角図を示しており、イリゲーション型高密度電極カテーテル３２０は、イリゲーション型カプラ３２４および接続ステム３２６とともに、可撓性の先端部部分３２２を含む。イリゲーション型カプラ３２４は、本明細書で論じられているように、イリゲーション・ポートを含むことが可能である。いくつかの実施形態では、イリゲーション型カプラ３２４の近位端部は、接続ステム３２６の遠位端部と接続され得る。いくつかの実施形態では、接続ステム３２６は、カテーテル・シャフトの遠位端部の中へ挿入され得、また、カテーテル・シャフトと接続され得る。たとえば、接続ステム３２６の外径は、カテーテル・シャフトの内径よりも小さくなっていることが可能である。

いくつかの実施形態では、接続ステム３２６は、６自由度（ＤＯＦ）センサ・アセンブリを保持するように構成され得、６自由度（ＤＯＦ）センサ・アセンブリは、一対の磁気位置センサ３２８−１、３２８−２を含む。いくつかの実施形態では、磁気位置センサ３２８−１、３２８−２のそれぞれは、それぞれの長手方向軸線の周りに配設され得る。いくつかの実施形態では、磁気位置センサ３２８−１、３２８−２のそれぞれは、長手方向軸線（たとえば、センサ長手方向軸線）の周りに巻かれたコイルを含むことが可能である。例では、さらに本明細書で論じられているように、第１の磁気位置センサ３２８−１は、第１のセンサ長手方向軸線の周りに巻かれたコイルを含むことが可能であり、また、第２の磁気位置センサ３２８−２は、第２のセンサ長手方向軸線の周りに巻かれたコイルを含むことが可能である。いくつかの実施形態では、磁気位置センサ３２８−１、３２８−２は、図７に示されているように、細長くなっていることが可能である。接続ステム３２６は、接続ステム３２６の外側部分の中に形成されたセンサ溝部３３０−１、３３０−２を含むことが可能であり、その中に６自由度センサ・アセンブリが設置され得る。磁気位置センサ３２８−１、３２８−２は、接続ステム３２６によって形成される長手方向軸線から特定の角度だけそれぞれオフセットされ得る。それぞれのセンサは、接続ステム３２６によって形成される長手方向軸線に対して特定の角度だけオフセットされ得、２つの５ＤＯＦセンサに共に６ＤＯＦセンサ・アセンブリを形成させ、６ＤＯＦセンサ・アセンブリは、位置（たとえば、ｘ、ｙ、ｚ）および配向（たとえば、ロール、ピッチ、ヨー）をセンシングすることができる。たとえば、２つの磁気位置センサ３２８−１、３２８−２が互いに対してわずかな角度にあるので、それらは、磁界の軸線に対して異なる回転角度にあることが可能である。したがって、磁気位置センサ３２８−１、３２８−２が任意の角度に回転するときに、電圧の差、および、また、それらのベクトルが、ピックアップされ得、結果的に、６ＤＯＦセンサが生成され得る。

いくつかの実施形態では、センサ溝部３３０−１、３３０−２は、接続ステム３２６によって形成される長手方向軸線に対して特定の角度だけオフセットされ得、また、直径方向に対向することが可能である。そうすることによって、磁気位置センサ３２８−１、３２８−２は、センサ溝部３３０−１、３３０−２の中へ挿入され得、したがって、互いに対して適当な角度で設定され得、２つの５ＤＯＦ磁気位置センサ３２８−１、３２８−２が６ＤＯＦセンサ・アセンブリとして作用することを可能にする。例では、第１のセンサ溝部３３０−１は、接続ステム３２６によって形成される長手方向軸線に対してプラスの５度の角度で配設され得、また、第２のセンサ溝部３３０−２は、接続ステム３２６によって形成される長手方向軸線に対してマイナスの５度の角度で配設され得、磁気位置センサ３２８−１と３２８−２との間に１０度の分離を生成する。いくつかの実施形態では、磁気位置センサ３２８−１、３２８−２とセンサ溝部３３０−１、３３０−２との間の分離の程度は、１度から２０度、５度から１５度、および、好ましくは、１０度から１２度の範囲にあることが可能である。しかし、分離の程度は、１度未満であるかまたは２０度を上回ることが可能である。いくつかの実施形態では、磁気位置センサ３２８−１、３２８−２およびセンサ溝部３３０−１、３３０−２のそれぞれは、接続ステム３２６によって形成される長手方向軸線に対して同じ角度で配設され得る。いくつかの実施形態では、磁気位置センサ３２８−１、３２８−２およびセンサ溝部３３０−１、３３０−２のうちの一方は、他方の磁気位置センサ３２８−１、３２８−２およびセンサ溝部３３０−１、３３０−２よりも大きい角度で配設され得るが、しかし、磁気位置センサ３２８−１、３２８−２とセンサ溝部３３０−１、３３０−２との間の分離の程度は、依然として、本明細書で論じられている範囲内にあることが可能である。

いくつかの実施形態では、接続ステム３２６は、接続ステム３２６の長手方向軸線に沿って分割されており、上部接続ステム部分３３２および底部接続ステム部分３３４を形成することが可能である。いくつかの実施形態では、シーム３３６が、上部接続ステム部分３３２と底部接続ステム部分３３４との間に延在することが可能である。

接続ステム３２６は、いくつかの実施形態では、ステム・キー３３８を含むことが可能であり、また、イリゲーション型カプラ３２４は、対応する凹んだキー・エリア（本明細書でさらに示されている）を含むことが可能であり、対応する凹んだキー・エリアは、ステム・キー３３８を受け入れるように構成されている。ステム・キー３３８および対応する凹んだキー・エリアは、接続ステム３２６とイリゲーション型カプラ３２４との間のアライメントに役立つことが可能である。いくつかの実施形態では、接続ステム３２６を受け入れるように構成されているカテーテル・シャフトの内側表面は、凹んだシャフト・キー・エリアを含むことが可能であり、凹んだシャフト・キー・エリアは、ステム・キー３３８を受け入れるように構成されており、接続ステム３２６とカテーテル・シャフトとの間のアライメントに役立つ。

いくつかの実施形態では、接続ステム３２６は、長手方向のイリゲーション・ルーメン３４０を画定することが可能であり、長手方向のイリゲーション・ルーメン３４０は、流体フローのために構成され得る。長手方向のイリゲーション・ルーメン３４０は、接続ステム３２６の中に含有され得、および／または、イリゲーション・ルーメン３４０は、接続ステム３２６の外側表面に沿って長手方向のスリットを含むことが可能であり、それは、長手方向のイリゲーション・ルーメン３４０の内部を接続ステム３２６の外部に露出させる。いくつかの実施形態では、イリゲーション・チューブ３４２は、長手方向のイリゲーション・ルーメン３４０の一部分を通って延在することが可能である。長手方向のイリゲーション・ルーメン３４０および／またはイリゲーション・チューブ３４２は、イリゲーション型カプラ３２４のイリゲーション・ポートへの流体フローを提供するように構成され得る。

接続ステム３２６は、可撓性の先端部部分３２２の長手方向に延在するアームを形成する下部構造を収容するように構成され得る。図７に示されているように、可撓性の先端部部分３２２のアウトボード下部構造の第１のアウトボード装着アーム３４４が、上部接続ステム部分３３２と底部接続ステム部分３３４との間に含有され得る。

図８Ａは、本開示のさまざまな実施形態による、イリゲーション型高密度電極カテーテル３６０の側面、底面、および正面の等角図を示しており、イリゲーション型高密度電極カテーテル３６０は、イリゲーション型カプラ３６４およびリブ付きの接続ステム３６６とともに、可撓性の先端部部分３６２を含む。図８Ａに開示されている実施形態は、図７に関連して議論されているものと同じ特徴を含むことが可能であり、リブ付きの接続ステム３６６の周りに円周方向に延在するリブ３６８の追加を伴う。いくつかの実施形態では、リブ３６８は、リブ付きの接続ステム３６６の本体部の周りに、ステム・キー３７０まで円周方向に延在することが可能である。リブの半径方向の高さは、ステム・キー３７０の半径方向の高さよりも低いか、それに等しいか、または、それよりも大きくなっていることが可能である。いくつかの実施形態では、リブ３６８は、円周方向の溝部３７２を画定することが可能であり、円周方向の溝部３７２は、リブ３６８同士の間でリブ付きの接続ステム３６６の本体部の周りに延在している。リブ３６８の半径方向の高さは、リブ付きの接続ステム３６６の直径を提供するように構成され得、それは、カテーテル・シャフトの直径よりも小さくなっており、カテーテル・シャフトは、リブ付きの接続ステム３６６を受け入れる。いくつかの実施形態では、溝部は、カテーテル・シャフトによって画定されるルーメンの中へリブ付きの接続ステム３６６を挿入することに関連付けられる摩擦を低減させることが可能であり、および／または、カテーテル・シャフトによって画定されるルーメンの中へリブ付きの接続ステム３６６が挿入されるときに、接着剤が収集するためのエリアを提供することが可能である。

示されているように、接続ステム３６６は、図７に関連して論じられているように、第１の５ＤＯＦ磁気位置センサ３８２−１、第２の５ＤＯＦ磁気位置センサ３８２−２、およびイリゲーション・チューブ３８３を含むことが可能である。図７に関連してさらに論じられているように、接続ステム３６６は、上部接続ステム部分３８０および底部接続ステム部分３７８を含むことが可能であり、それは、可撓性の先端部部分３６２の長手方向に延在するアームを形成する下部構造を含有している。たとえば、接続ステム３６６は、第１のアウトボード装着アーム３７４−１および第２のアウトボード装着アーム（それは、図８Ｂに示されている）を含むアウトボード下部構造と、第１のインボード装着アーム３７６−１および第２のインボード装着アーム３７６−２を含むインボード下部構造とを収容することが可能である。

図８Ｂは、本開示のさまざまな実施形態による、カテーテル・シャフト３８９の遠位端部の中へ挿入された、図８Ａのイリゲーション型高密度電極カテーテル３６０の上面および側面の等角図を示している。いくつかの実施形態では、カテーテル・シャフト３８９は、シャフト長手方向軸線に沿って延在する細長いシャフトを含むことが可能であり、また、シャフト近位端部およびシャフト遠位端部を含むことが可能である。いくつかの実施形態では、図８Ｂに示されているように、イリゲーション型高密度電極カテーテル３６０は、カテーテル・シャフト３８９の遠位端部の中へ挿入され得る。たとえば、リブ付きの接続ステム３６６は、イリゲーション・チューブ３８３および第１および第２の５ＤＯＦ磁気センサ３８２−１、３８２−２を収容しており、リブ付きの接続ステム３６６は、カテーテル・シャフト３８９の遠位端部に形成されたルーメンの中へ挿入され得る。カテーテル・シャフト３８９は、材料３９１から形成され得、材料３９１は、いくつかの実施形態では、可撓性、硬質、および／または半硬質になっている。図８Ｂに示されているように、可撓性の材料３９１は、半透明になっていることが可能である。

いくつかの実施形態では、カテーテル・シャフト３８９は、イリゲーション型カプラ３６４の近位端部まで、イリゲーション型カプラ３６４の中へ、または、イリゲーション型カプラ３６４の周りに挿入され得る。図２に関連してさらに議論されているように、カテーテル・シャフト１３４は、カテーテル・シャフト３８９の長さに沿って配設されている１つまたは複数のリング電極３９３−１、３９３−２を含むことが可能である。

図８Ｂは、本開示のさまざまな実施形態による、図８Ａに示されているイリゲーション型高密度電極カテーテル３６０の側面、上面、および背面の等角図を示しており、それは、イリゲーション型カプラ３６４および上部接続ステム部分３８０とともに、可撓性の先端部部分３６２を含む。いくつかの実施形態では、上部接続ステム部分３８０は、平面的な内側表面を含むことが可能である。いくつかの実施形態では、複数の長手方向の隆起部３８４−１、３８４−２、３８４−３が、上部接続ステム部分３８０の平面的な内側表面に対して垂直に延在することが可能である。

図８Ｃは、本開示のさまざまな実施形態による、図８Ａおよび図８Ｂに示されているイリゲーション型高密度電極カテーテル３６０の側面、底面、および背面の等角図であり、イリゲーション型高密度電極カテーテル３６０は、イリゲーション型カプラ３６４および底部接続ステム部分３７８とともに、可撓性の先端部部分３６２を含む。示されているように、底部接続ステム部分３７８は、図７に関連して論じられているように、５ＤＯＦ磁気位置センサ３８２−１を含むことが可能である。図８Ｃは、可撓性の先端部部分３６２の長手方向に延在するアームを形成する下部構造を示している。たとえば、底部接続ステム部分３７８は、第１のアウトボード装着アーム３７４−１および第２のアウトボード装着アーム３７４−２を含むアウトボード下部構造と、第１のインボード装着アーム３７６−１および第２のインボード装着アーム３７６−２を含むインボード下部構造とを収容することが可能である。底部接続ステム部分３７８および上部接続ステム部分３８０（図８Ａ）は、共に接続ステム３６６を形成することが可能である。接続ステム３６６に対して遠位に位置する、アウトボードインボード下部構造および／またはインボード下部構造の部分が、ハウジング（たとえば、チューブ、被覆）の中に配設され得る。たとえば、第２のアウトボード装着アーム３７４−２を参照すると、第２のアウトボード装着アーム３７４−２は、チューブ４１２の中に配設され得る。いくつかの実施形態では、底部接続ステム部分３７８および上部接続ステム部分３８０は、対向する相補的な平面的な面を含むことが可能である。底部接続ステム部分３７８および上部接続ステム部分３８０を組み立てると、接続ステム部分３７８、３８０は、接続ステム３６６を形成することが可能である。

いくつかの実施形態では、図８Ｃに示されているように、底部接続ステム部分３７８および／または上部接続ステム部分３８０は、底部接続ステム部分３７８および上部接続ステム部分３８０の相補的な平面的な面のうちの１つまたは複数に沿って延在する長手方向に延在するスロット（たとえば、チャネル）を画定することが可能である。長手方向に延在するスロットは、いくつかの実施形態では、長手方向に延在する隆起部３８４−１、３８４−２、…、３８４−９によって画定され得、それは、以降では、複数形で長手方向に延在する隆起部３８４と称される。長手方向に延在する隆起部は、底部接続ステム部分３７８および／または上部接続ステム部分３８０の平面的な面に対して、上向きにおよび横断方向に延在することが可能である。いくつかの実施形態では、図８Ｃに示されているように、第１のアウトボード装着アーム３７４−１、第２のアウトボード装着アーム３７４−２、第１のインボード装着アーム３７６−１、および第２のインボード装着アーム３７６−２は、長手方向に延在する隆起部３８４のそれぞれのもの同士の間に、および／または、長手方向に延在する隆起部３８４に隣接して配設され得る。

いくつかの実施形態では、３つのセットの長手方向に延在する隆起部３８４が示されている。たとえば、第１のセットの長手方向に延在する隆起部３８４−１、３８４−２、３８４−３が、第１のアウトボード装着アーム３７４−１と第１のインボード装着アーム３７６−１との間に配設されており、第２のセットの長手方向に延在する隆起部３８４−４、３８４−５、３８４−６が、第１のインボード装着アーム３７６−１と第２のインボード装着アーム３７６−２との間に配設されており、第３のセットの長手方向に延在する隆起部３８４−７、３８４−８、３８４−９が、第２のアウトボード装着アーム３７４−２と第２のインボード装着アーム３７６−２との間に配設されている。

いくつかの実施形態では、長手方向に延在する隆起部３８４は、遠位セットの長手方向に延在する隆起部３８４−１、３８４−４、３８４−７、中間セットの長手方向に延在する隆起部３８４−２、３８４−５、３８４−８、および、近位セットの長手方向に延在する隆起部３８４−３、３８４−６、３８４−９へと分割され得る。いくつかの実施形態では、遠位セットの長手方向に延在する隆起部３８４−１、３８４−４、３８４−７、および、中間セットの長手方向に延在する隆起部３８４−２、３８４−５、３８４−８は、それらの間に延在する遠位の横方向装着ギャップ３８６−１、３８６−２、３８６−３を画定することが可能であり、また、近位セットの長手方向に延在する隆起部３８４−３、３８４−６、３８４−９、および、中間セットの長手方向に延在する隆起部３８４−２、３８４−５、３８４−８は、それらの間に延在する近位の横方向装着ギャップ３８６−４、３８６−５、３８６−６を画定することが可能である。いくつかの実施形態では、長手方向に延在する隆起部３８４の３つの列が示されており、同様に、近位セット、中間セット、および遠位セットの長手方向に延在する隆起部が示されているが、３つよりも少ないもしくは３つよりも多い列、および／または、３つよりも少ないもしくは３つよりも多いセットが、本開示の実施形態の中に含まれ得る。

いくつかの実施形態では、インボード装着アーム３７６−１、３７６−２のそれぞれは、インボード・フレーム・ロック・タブ３８８−１、３８８−２を含むことが可能であり、インボード・フレーム・ロック・タブ３８８−１、３８８−２は、米国出願第１５／３３１，３６９号に論じられているようなものであり、それは、本明細書に完全に記載されているかのように、参照により本明細書に組み込まれている。第１のインボード装着アーム３７６−１は、長手方向に延在する隆起部３８４−１、３８４−２、３８４−３の第１の列と、長手方向に延在する隆起部３８４−４、３８４−５、３８４−６の第２の列との間に配設され得、また、第２のインボード装着アーム３７６−２は、長手方向に延在する隆起部３８４−４、３８４−５、３８４−６の第２の列と、長手方向に延在する隆起部３８４−７、３８４−８、３８４−９の第３の列との間に配設され得る。第１のインボード・フレーム・ロック・タブ３８８−１は、第１のインボード装着アーム３７６−１の上に含まれ得、また、中央近位の装着ギャップ３８６−５の中に配設され得る。第２のインボード・フレーム・ロック・タブ３８８−２は、第２のインボード装着アーム３７６−２の上に含まれ得、また、中央遠位の装着ギャップ３８６−２の中に配設され得る。したがって、フレーム・ロック・タブ３８８−１、３８８−２は、中央近位の装着ギャップ３８６−５および中央遠位の装着ギャップ３８６−２を介して、適切な場所へロックされ得る。

さらに、第１のアウトボード装着アーム３７４−１は、アウトボード・フレーム・ロック・タブ３９０−１、３９０−２を含むことが可能であり、また、第２のアウトボード装着アーム３７４−２は、アウトボード・フレーム・ロック・タブ３９０−３、３９０−４を含むことが可能である。アウトボード・フレーム・ロック・タブ３９０−１、３９０−２は、それぞれ、右遠位の装着ギャップ３８６−１および右近位の装着ギャップ３８６−４の中に配設され得る。同様に、アウトボード・フレーム・ロック・タブ３９０−３、３９０−４は、それぞれ、左遠位の装着ギャップ３８６−３および左近位の装着ギャップ３８６−６の中に配設され得る。したがって、第１のインボード装着アーム３７６−１および第２のインボード装着アーム３７６−２、ならびに、第１のアウトボード装着アーム３７４−１および第２のアウトボード装着アーム３７４−２は、フレーム・ロック・タブを介して底部接続ステム部分３７８にロックされ得る。

いくつかの実施形態では、底部接続ステム部分３７８は、イリゲーション・クロスオーバ３９２を含むことが可能である。いくつかの実施形態では、上部接続ステム部分３８０は、イリゲーション・ルーメンを含むことが可能であり、イリゲーション・ルーメンは、上部接続ステム部分３８０を通って長手方向に延在しており、また、イリゲーション・クロスオーバ３９２によって画定されたクロスオーバ・ルーメン３９４と流体連結されている。いくつかの実施形態では、イリゲーション・ルーメンは、上部接続ステム部分３８０によって画定されるルーメンであることが可能であり、および／または、上部接続ステム部分３８０に取り付けられているイリゲーション・チューブ３８３（図８Ａ）であることが可能である。本明細書でさらに論じられているように、イリゲーション・ルーメンは、イリゲーション型カプラ３６４の第１の側に流体を提供することが可能である。流体は、イリゲーション型カプラ３６４によって画定されるイリゲーション・ポートから排出され得、また、クロスオーバ・ルーメン３９４を介して、イリゲーション型カプラの別の側へ移送され得る。たとえば、イリゲーション・クロスオーバ・ルーメン３９４は、イリゲーション型カプラ３６４の反対側に流体を提供することが可能である。

図８Ｄは、本開示のさまざまな実施形態による、図８Ａ〜図８Ｃに示されているイリゲーション型高密度電極カテーテル３６０の側面、底面、および背面の等角図であり、イリゲーション型高密度電極カテーテル３６０は、可撓性の先端部部分３６２と、イリゲーション・クロスオーバ３９２を含む底部接続ステム部分３７８とを含む。先に論じられているように、イリゲーション・クロスオーバ３９２は、クロスオーバ・ルーメン３９４を画定することが可能である。いくつかの実施形態では、イリゲーション・クロスオーバ３９２は、示されているように、底部接続ステム部分３７８の平面的な面に対して上向きにおよび垂直に延在することが可能である。いくつかの実施形態では、イリゲーション・クロスオーバ３９２は、バレル部分４０２を含むことが可能であり、バレル部分４０２は、クロスオーバ・ルーメン３９４を画定している。先に論じられているように、クロスオーバ・ルーメン３９４は、イリゲーション・チューブ３８３（図８Ａ）などのようなイリゲーション・ルーメンに流体連通していることが可能である。

いくつかの実施形態では、第１のインボード装着アーム３７６−１および／または第２のインボード装着アーム３７６−２は、バレル・カットアウト４０４−１、４０４−２を含むことが可能である。たとえば、第１のインボード装着アーム３７６−１は、第１のバレル・カットアウト４０４−１を画定することが可能であり、第２のインボード装着アーム３７６−２は、第２のバレル・カットアウト４０４−２を画定することが可能である。第１のバレル・カットアウト４０４−１および第２のバレル・カットアウト４０４−２は、バレル部分４０２が第１のインボード装着アーム３７６−１および第２のインボード装着アーム３７６−２を越えて上向きに延在することを可能にすることができる。

図８Ｅは、本開示のさまざまな実施形態による、図８Ａ〜図８Ｄに示されているイリゲーション型高密度電極カテーテル３６０の背面図であり、イリゲーション型高密度電極カテーテル３６０は、可撓性の先端部部分３６２と、イリゲーション・クロスオーバ３９２を含む底部接続ステム部分３７８とを含む。先に論じられているように、高密度電極カテーテル３６０は、イリゲーション・クロスオーバ３９２を含むことが可能である。イリゲーション・クロスオーバ３９２は、バレル部分４０２を含むことが可能であり、バレル部分４０２は、ルーメンを画定することが可能であり、ルーメンは、いくつかの実施形態では、イリゲーション・チューブと流体連結され得る。イリゲーション・チューブは、イリゲーション型カプラ３６４の遠位面の中に配設されているイリゲーション・ポート４０６−１、４０６−２、…、４０６−５へ流体を提供することが可能である。示されているように、イリゲーション・ポート４０６−１、４０６−２、…、４０６−５は、テーパを付けられ得る。たとえば、イリゲーション・ポート４０６−１、４０６−２、…、４０６−５のそれぞれの直径が遠位に減少してノズルを形成するようにイリゲーション・ポート４０６−１、４０６−２、…、４０６−５はテーパを付けられ得る。いくつかの実施形態では、イリゲーション・ポート４０６−１、４０６−２、…、４０６−５にテーパを付けることは、イリゲーション・ポート４０６−１、４０６−２、…、４０６−５を通る流体フローの速度の増加を可能にすることができる。

図８Ｅにさらに示されているように、イリゲーション型高密度電極カテーテル３６０は、第１のアウトボード装着アーム３７４−１と第１のインボード装着アーム３７６−１との間に配設されている、長手方向に延在する隆起部３８４−３と、第１のインボード装着アーム３７６−１と第２のインボード装着アーム３７６−２との間に配設されている、第２の長手方向に延在する隆起部３８４−６と、第２のアウトボード装着アーム３７４−２と第２のインボード装着アーム３７６−２との間に配設されている、第３の長手方向に延在する隆起部３８４−９とを含む。いくつかの実施形態では、底部接続ステム部分３７８は、インボード装着アーム３７６−１、３７６−２およびアウトボード装着アーム３７４−１、３７４−２のそれぞれのものの下に画定されている、複数のワイヤ・スロット４０８−１、４０８−２、４０８−３、４０８−４を画定することが可能である。例では、Ｕ字形状のスロットが、インボード装着アーム３７６−１、３７６−２およびアウトボード装着アーム３７４−１、３７４−２のそれぞれのものの下に画定されている。しかし、Ｕ字形状のスロットは、別の形状のものであることが可能である。いくつかの実施形態では、１つまたは複数のワイヤが、それぞれのスロットの中に配設され得、また、インボード装着アーム３７６−１、３７６−２および／またはアウトボード装着アーム３７４−１、３７４−２のそれぞれのものの上に配設されている、１つもしくは複数の電極および／またはセンサを電気的に結合することが可能である。Ｕ字形状のスロットは、いくつかの実施形態では、ワイヤが配設されるためのスペースを提供することが可能である。

いくつかの実施形態では、イリゲーション型カプラ３６４は、キー・スロット４１０−１、４１０−２を含むことが可能であり、キー・スロット４１０−１、４１０−２は、底部接続ステム部分３７８および上部接続ステム部分３８０がイリゲーション型カプラ３６４と整合されることを可能にすることができる。図８Ｅに示されているように、底部接続ステム部分３７８は、ステム・キー３７０を含むことが可能であり、ステム・キー３７０は、それぞれのキー・スロット４１０−１の中に配設され得る。いくつかの実施形態では、底部接続ステム部分３７８は、１つまたは複数の凹んだ縁部４１４−１、４１４−２、４１４−３を含むことが可能であり、１つまたは複数の凹んだ縁部４１４−１、４１４−２、４１４−３は、イリゲーション型カプラ３６４とインターフェース接続する。例では、１つまたは複数の凹んだ縁部４１４−１、４１４−２、４１４−３は、底部接続ステム部分３７８をイリゲーション型カプラ３６４に接続するときに、接着剤が蓄積するためのエリアを提供することが可能である。

図８Ｆは、本開示のさまざまな実施形態による、図８Ａ〜図８Ｅに示されているイリゲーション型高密度電極カテーテル３６０の等角背面図であり、イリゲーション型高密度電極カテーテル３６０は、イリゲーション型カプラ３６４およびリブ付きの底部接続ステム部分３７８とともに、可撓性の先端部部分３６２を含む。いくつかの実施形態では、リブ３６８は、底部接続ステム部分３７８の外側表面の周りに円周方向に延在することが可能である。いくつかの実施形態では、リブ３６８は、ステム・キー３７０まで、底部接続ステム部分３７８の外側表面の周りに円周方向に延在することが可能であり、ステム・キー３７０は、キー・スロット４１０−１の中に配設されているものとして示されている。リブの半径方向の高さは、ステム・キー３７０の半径方向の高さよりも低いか、それに等しいか、または、それよりも大きくなっていることが可能である。いくつかの実施形態では、リブ３６８は、円周方向の溝部３７２を画定することが可能であり、円周方向の溝部３７２は、リブ３６８同士の間で底部接続ステム部分３７８の外側表面の周りに延在している。リブ３６８の半径方向の高さは、底部接続ステム部分３７８の直径を提供するように構成され得、それは、カテーテル・シャフトの直径よりも小さくなっており、カテーテル・シャフトは、底部接続ステム部分３７８を受け入れる。いくつかの実施形態では、溝部は、カテーテル・シャフトによって画定されるルーメンの中へ底部接続ステム部分３７８を挿入することに関連付けられる摩擦を低減させることが可能であり、および／または、カテーテル・シャフトによって画定されるルーメンの中へ底部接続ステム部分３７８が挿入されるときに、接着剤が収集するためのエリアを提供することが可能である。

図８Ｆは、５ＤＯＦ磁気位置センサ３８２−２をさらに示している。いくつかの実施形態では、５ＤＯＦ磁気位置センサ３８２−２の外側表面は、リブ３６８の外側表面に等しくなっている（たとえば、リブ３６８の外側表面と同一面上にある）ことが可能である。いくつかの実施形態では、５ＤＯＦ磁気位置センサ３８２−２の外側表面は、リブ３６８の外側表面から内側に設定され得る（たとえば、リブ３６８の外側表面に対して凹んでいる）。

図８Ｇは、本開示のさまざまな実施形態による、図８Ａ〜図８Ｆに示されているイリゲーション型高密度電極カテーテル３６０のイリゲーション型カプラ３６４および可撓性の先端部部分３６２の背面図である。イリゲーション型高密度電極カテーテル３６０は、アウトボード装着アーム３７４−１、３７４−２、および、インボード装着アーム３７６−１、３７６−２を含むことが可能である。先に論じられているように、装着アームは、１つまたは複数のフレーム・ロック・タブを含むことが可能である。たとえば、第１のインボード装着アーム３７６−１に関して、第１のインボード装着アーム３７６−１は、フレーム・ロック・タブ３８８−２を含むことが可能である。

示されているように、イリゲーション型カプラは、イリゲーション・ポート４０６−１、４０６−２、…、４０６−５の第１の列、および、イリゲーション・ポート４０６−６、４０６−７、…、４０６−１０の第２の列を含み、それらを通して、イリゲーション流体が排出され得る。例では、イリゲーション型高密度電極カテーテル３６０は、第１のマニホールド・エリア４２０−１および第２のマニホールド・エリア４２０−２を含むことが可能であり、それは、イリゲーション・ポート４０６−１、４０６−２、…、４０６−１０のそれぞれのものへ流体を分配することが可能である。示されているように、第１のマニホールド・エリア４２０−１および第２のマニホールド・エリア４２０−２は、凹んだエリアであることが可能であり、その凹んだエリアを通って流体が流れることが可能である。

図８Ｈは、本開示のさまざまな実施形態による、接続ステム３６６の正面図である。接続ステムは、底部接続ステム部分３７８および上部接続ステム部分３８０を含むことが可能である。先に論じられているように、底部接続ステム部分３７８は、複数の長手方向の隆起部（たとえば、長手方向の隆起部３８４−１、３８４−７）を含むことが可能であり、また、底部接続ステム部分３７８は、複数のワイヤ・スロットを画定することが可能である。本明細書で論じられているように、１つまたは複数のフレーム部材が、長手方向の隆起部（たとえば、長手方向の隆起部３８４−１、３８４−７）のそれぞれのもの同士の間に、または、それに隣接して配設され得、また、ワイヤが、ワイヤ・スロットのそれぞれのものの中に配設されており、フレーム部材から形成される可撓性のフレームワークの上に配設されている１つもしくは複数の電極および／またはセンサを電気的に結合する方式を提供することが可能である。さらに示されているように、底部接続ステム部分３７８は、底部ステム・キー３７０を含むことが可能であり、上部接続ステム部分３８０は、上部ステム・キー４３０を含むことが可能であり、それは、イリゲーション型カプラ３６４との接続に役立つことが可能である。

いくつかの実施形態では、上部接続ステム部分３８０は、上部接続ステム部分３８０の平面的な表面４３４の中に、１つまたは複数の長手方向のスロット４３２−１、４３２−２を画定することが可能である。示されているように、長手方向の隆起部３８４−１、３８４−７は、長手方向のスロット４３２−１、４３２−２のそれぞれのものの中に配設され得る。

上部接続ステム部分３８０は、上部接続ステム部分３８０の遠位面の上に上部入口マニホールド４３６を画定することが可能であり、また、イリゲーション・チューブ・ルーメン４３８をさらに画定することが可能であり、いくつかの実施形態では、イリゲーション・チューブがイリゲーション・チューブ・ルーメン４３８の中へ配設され得る。イリゲーション・チューブは、イリゲーション流体のフローを上部入口マニホールド４３６に提供することが可能であり、上部入口マニホールド４３６は、イリゲーション・ポート４０６−１、４０６−２、…、４０６−５の第１の列にイリゲーション流体を分配することが可能である。接続ステム３６６は、イリゲーション・クロスオーバ３９２を含むことが可能であり、イリゲーション・クロスオーバ３９２は、上部入口マニホールド４３６から底部入口マニホールド４４０へ、クロスオーバ・ルーメン３９４を介して流体を移送することが可能であり、クロスオーバ・ルーメン３９４は、バレル部分４０２によって画定されている。底部入口マニホールド４４０は、イリゲーション・ポート４０６−６、４０６−７、…、４０６−１０の第２の列にイリゲーション流体を分配することが可能である。

図８Ｉは、本開示のさまざまな実施形態による、接続ステム３６６およびイリゲーション型カプラ３６４の等角側面図である。いくつかの実施形態では、本明細書で論じられているように、接続ステム３６６は、接続ステム３６６の中に画定されている一対のセンサ溝部を含むことが可能である。例では、本明細書でさらに論じられているように、第１のセンサ溝部４５０−１が、底部接続ステム部分３７８の中に画定され得、第２のセンサ溝部４５０−２が、上部接続ステム部分３８０の中に画定され得る。第１および第２のセンサ溝部４５０−１、４５０−２は、接続ステム３６６を通って延在する長手方向軸線に対して発散する角度で配設され得る。さらに、第１のセンサ溝部４５０−１は、第２のセンサ溝部４５０−２に対して発散する角度で配設され得る。

図８Ｉは、接続ステム３６６に沿って長手方向に延在するイリゲーション・チューブ３８３をさらに示している。接続ステム３６６は、接続ステム３６６に沿って長手方向に延在するイリゲーション・チューブ・チャネル４５２を画定することが可能である。いくつかの実施形態では、イリゲーション・チューブ・チャネル４５２が、いくつかの実施形態では、上部接続ステム部分３８０に沿って長手方向に延在することが可能である。イリゲーション・チューブ３８３は、いくつかの実施形態では、ポリマーなどのような可撓性の材料から形成され得る。

図８Ｊは、本開示の実施形態による、イリゲーション型高密度電極カテーテル３６０の概略上面図であり、それは、イリゲーション型高密度電極カテーテル３６０を通る流体フロー３９６−１、３９６−２、３９６−３を図示している。例では、イリゲーション・チューブ３８３は、本明細書で先に論じられているように、イリゲーション型高密度電極カテーテル３６０の接続ステム３６６の中に配設され得る。接続ステム３６６は、第１の５ＤＯＦ磁気位置センサ３８２−１を含むことが可能であり、また、イリゲーション型カプラ３６４と接続され得る。可撓性の先端部部分３６２は、イリゲーション型カプラ３６４に対して遠位に延在することが可能である。いくつかの実施形態では、初期のイリゲーション流体フロー３９６−１が、イリゲーション・チューブ３８３を通して提供され得る。クロスオーバ・イリゲーション・フロー３９６−２が、イリゲーション・クロスオーバ３９２によって画定されるクロスオーバ・ルーメン３９４を通して、底部入口マニホールド（たとえば、底部入口マニホールド４４０、図８Ｈ）の中へ、そして、イリゲーション・ポート（たとえば、イリゲーション・ポート４０６−６、４０６−７、…、４０６−１０、図８Ｇ）の第２の列を通して方向付けられ得る。クロスオーバ・ルーメン３９４を通して方向付けられなかった初期のイリゲーション流体フロー３９６−１の残りのフロー３９６−３は、上部入口マニホールド４３６の中へ、そして、イリゲーション・ポート４０６−１、４０６−２、…、４０６−５の第１の列を通して方向付けられ得る。

図９Ａは、本開示のさまざまな実施形態による、可撓性の先端部マウント４６０の側面および背面の等角図である。本開示のいくつかの実施形態は、診断カテーテルによる使用を参照しているが、本開示の実施形態は、また、可撓性の先端部または硬質の先端部を含むアブレーション・カテーテルとともに使用され得る。たとえば、マウント４６０は、可撓性の先端部または硬質の先端部を備えたアブレーション・カテーテルとともに使用され得る。可撓性の先端部マウント４６０は、イリゲーション型カプラ４６２を含むことが可能である。イリゲーション型カプラ４６２は、たとえば、図８Ａから図８Ｉに関連して、本明細書で先に論じられているようなそれらの特徴を有することが可能である。可撓性の先端部マウント４６０は、接続ステム４５８を含むことが可能であり、接続ステム４５８は、上部接続ステム部分４６４および底部接続ステム部分４６６を含むことが可能である。上部接続ステム部分４６４は、イリゲーション・チャネル４６８を画定することが可能である。上部接続ステム部分４６４は、イリゲーション・ルーメン４７０をさらに画定することが可能である。例では、イリゲーション・チューブは、イリゲーション・チャネル４６８の中に配設され得、また、イリゲーション・チャネル４６８と流体連結され得る。イリゲーション流体は、イリゲーション・チューブを介してイリゲーション・チャネル４６８に提供され得、また、イリゲーション型カプラ４６２の中に画定されているイリゲーション・ポートを通って流れることが可能である。

上部接続ステム部分４６４は、イリゲーション型カプラ４６２とさらに連結され得、また、上部ステム・キー４７２を含むことが可能であり、上部ステム・キー４７２は、イリゲーション型カプラ４６２の中に画定されているそれぞれのキー・スロット４７３の中に配設され得る。さらに示されているように、イリゲーション型カプラ４６２は、凹んだ縁部４７４−１、４７４−２を画定することが可能であり、凹んだ縁部４７４−１、４７４−２は、イリゲーション型カプラ４６２と接続ステム４５８との間のインターフェースに沿って延在することが可能である。凹んだ縁部４７４−１、４７４−２は、接着剤が蓄積するためのエリアを提供することが可能である。例では、接着剤は、接続ステム４５８およびイリゲーション型カプラ４６２を接続するために使用され得る。

いくつかの実施形態では、底部接続ステム部分４６６は、複数の長手方向の隆起部４７６−１、４７６−２、４７６−３を含むことが可能であり、複数の長手方向の隆起部４７６−１、４７６−２、４７６−３は、底部接続ステム部分４６６の内側の平面的な表面に対して垂直に延在している。上部接続ステム部分４６４は、上部接続ステム部分４６４の内側の平面的な表面の中に、複数の長手方向のスロット（たとえば、チャネル）４７８−１、４７８−２、４７８−３を画定することが可能である。本明細書で先に論じられているように、複数の長手方向の隆起部４７６−１、４７６−２、４７６−３は、複数の長手方向のスロット４７８−１、４７８−２、４７８−３のそれぞれのものの中に配設され得る。いくつかの実施形態では、可撓性の先端部部分のためのフレームワークは、長手方向のスロット４７８−１、４７８−２、４７８−３のそれぞれのもの同士の間に、および／または、それに隣接して配設され得る。

可撓性の先端部部分のフレームワークは、複数の長手方向の隆起部４７６−１、４７６−２、４７６−３の間に、および／または、それに隣接して配設され得る。いくつかの実施形態では、底部接続ステム部分４６６は、本明細書で先に議論されているように、複数のワイヤ・スロット４９０−１、４９０−２、４９０−３、４９０−４を画定することが可能である。例では、Ｕ字形状のスロットが、長手方向の隆起部４７６−１、４７６−２、４７６−３のそれぞれのもの同士の間に、および／または、それに隣接して画定され得るが、Ｕ字形状のスロットは、別の形状のものであることも可能である。いくつかの実施形態では、１つまたは複数のワイヤが、それぞれのスロットの中に配設され得、また、可撓性の先端部部分のフレームワークの上に配設されている、１つもしくは複数の電極および／またはセンサと電気的に結合され得る。Ｕ字形状のスロットは、いくつかの実施形態では、ワイヤが配設されるためのスペースを提供することが可能である。

いくつかの実施形態では、イリゲーション型カプラ４６２は、複数のイリゲーション・ポートを含むことが可能である。図９Ｃに示されているように、イリゲーション型カプラ４６２は、可撓性のフレームワーク・スロット４９２のいずれかの側に、イリゲーション・ポートの第１の列、および、イリゲーション・ポートの第２の列を含むことが可能である。図示しやすくするために、イリゲーション・ポートの第１の列からの第１のイリゲーション・ポート４９４−１、および、イリゲーション・ポートの第２の列からの第２のイリゲーション・ポート４９４−２だけが、ラベル付けされている。

いくつかの実施形態では、接続ステム４５８は、第１のセンサ溝部４８０−１および第２のセンサ溝部４８０−２を画定することが可能である。示されているように、第１および第２のセンサ溝部４８０−１、４８０−２は、接続ステム４５８を通って延在する長手方向軸線に対して発散する角度で配設され得る。さらに、第１のセンサ溝部４８０−１は、第２のセンサ溝部４８０−２に対して発散する角度で配設され得る。

図９Ｂは、本開示の実施形態による、長手方向軸線４８２であり、長手方向軸線４８２に沿って接続ステム４５８が延在している。いくつかの実施形態では、第１のセンサは、第１のセンサ溝部４８０−１の中に配設され得、第１のセンサ長手方向軸線４８４−１に沿って延在することが可能であり、また、第２のセンサは、第２のセンサ溝部４８０−２の中に配設され得、第２のセンサ長手方向軸線４８４−２に沿って延在することが可能である。いくつかの実施形態では、第１のセンサ長手方向軸線４８４−１、および、第２のセンサ長手方向軸線４８４−２は、互いに対して角度４８６−１、４８６−２で配設され得る。例では、角度４８６−１、４８６−２は、互いに等しくなっていることが可能である。いくつかの実施形態では、角度４８６−１、４８６−２は、１度から２０度の範囲にあることが可能である。いくつかの実施形態では、角度４８６−１、４８６−２は、６度から１２度の範囲にあることが可能である。例では、それぞれのセンサ長手方向軸線４８４−１、４８４−２は、長手方向軸線４８２に対して所定の角度で配置され得る。たとえば、それぞれのセンサ長手方向軸線４８４−１、４８４−２が長手方向軸線４８２に対して配設され得る角度は、０．５度から１０度の範囲にあることが可能である。いくつかの実施形態では、それぞれのセンサ長手方向軸線４８４−１、４８４−２が長手方向軸線４８２に対して配設され得る角度は、３度から６度の範囲にあることが可能である。いくつかの実施形態では、それぞれのセンサ長手方向軸線４８４−１、４８４−２が長手方向軸線４８２に対して配設され得る角度は、互いに等しくなっていることが可能である。

図９Ｃは、本開示のさまざまな実施形態による、図９Ａに示されている可撓性の先端部マウント４６０の側面および正面の等角図である。可撓性の先端部マウント４６０は、イリゲーション型カプラ４６２を含むことが可能である。イリゲーション型カプラ４６２は、たとえば、図８Ａから図８Ｉに関連して、本明細書で先に論じられているようなそれらの特徴を有することが可能である。たとえば、イリゲーション型カプラ４６２は、複数のイリゲーション・ポートを有することが可能である。示されているように、可撓性の先端部マウント４６０は、接続ステム４５８を含むことが可能であり、接続ステム４５８は、上部接続ステム部分４６４および底部接続ステム部分４６６を含むことが可能である。上部接続ステム部分４６４は、イリゲーション・チャネル４６８を画定することが可能である。上部接続ステム部分４６４は、イリゲーション・ルーメン４７０をさらに画定することが可能である。例では、イリゲーション・チューブは、イリゲーション・チャネル４６８の中に配設され得、また、イリゲーション・ルーメン４７０と流体連結され得る。イリゲーション流体が、イリゲーション・チューブを介してイリゲーション・ルーメン４７０に提供され得、また、イリゲーション型カプラ４６２の中に画定されているイリゲーション・ポートを通って流れることが可能である。

上部接続ステム部分４６４は、イリゲーション型カプラ４６２とさらに連結され得、上部ステム・キー４７２を含むことが可能であり、上部ステム・キー４７２は、イリゲーション型カプラ４６２の中に画定されているそれぞれのキー・スロット４７３の中に配設され得る。さらに示されているように、イリゲーション型カプラ４６２は、凹んだ縁部４７４−１、４７４−２を画定することが可能であり、凹んだ縁部４７４−１、４７４−２は、イリゲーション型カプラ４６２と接続ステム４５８との間のインターフェースに沿って延在することが可能である。凹んだ縁部４７４−１、４７４−２は、接着剤が蓄積するためのエリアを提供することが可能である。例では、接着剤は、接続ステム４５８およびイリゲーション型カプラ４６２を接続するために使用され得る。

いくつかの実施形態では、底部接続ステム部分４６６は、複数の長手方向の隆起部４７６−１、４７６−２、４７６−３を含むことが可能である。上部接続ステム部分４６４は、上部接続ステム部分４６４の平面的な表面の中に複数の長手方向のスロット４７８−１、４７８−２、４７８−３を画定することが可能である。本明細書で先に議論されているように、複数の長手方向の隆起部４７６−１、４７６−２、４７６−３は、複数の長手方向のスロット４７８−１、４７８−２、４７８−３のそれぞれのものの中に配設され得る。いくつかの実施形態では、可撓性の先端部部分のためのフレームワークは、長手方向のスロット４７８−１、４７８−２、４７８−３のそれぞれのもの同士の間に、および／または、それに隣接して配設され得る。

いくつかの実施形態では、接続ステム４５８は、第１のセンサ溝部４８０−１および第２のセンサ溝部４８０−２を画定することが可能である。示されているように、第１および第２のセンサ溝部４８０−１、４８０−２は、接続ステム４５８を通って延在する長手方向軸線に対して発散する角度で配設され得る。さらに、第１のセンサ溝部４８０−１は、第２のセンサ溝部４８０−２に対して発散する角度で配設され得る。

図９Ｄおよび図９Ｅは、本開示のさまざまな実施形態による、図９Ａおよび図９Ｃに示されている底部接続ステム部分４６６および上部接続ステム部分４６４の側面および正面の等角図である。いくつかの実施形態では、底部接続ステム部分４６６は、底部フレア型遠位装着部分５００を含むことが可能である。底部フレア型遠位装着部分５００は、底部フレア型遠位装着部分５００の近位に位置する底部接続ステム部分４６６の部分を上回る増加した直径を有することが可能である。同様に、いくつかの実施形態では、上部接続ステム部分４６４は、上部フレア型遠位装着部分５０２を含むことが可能である。上部フレア型遠位装着部分５０２は、上部フレア型遠位装着部分５０２の近位に位置する上部接続ステム部分４６４の部分を上回る増加した直径を有することが可能である。上部フレア型装着部分５０２および底部フレア型遠位装着部分５００のそれぞれは、本明細書で先に論じられているように、上部接続ステム・キー４７２および底部接続ステム・キー５０４をそれぞれ含むことが可能である。

いくつかの実施形態では、上部接続ステム部分４６４は、上部アライメント・フレームワーク機構５０６を含むことが可能であり、底部接続ステム部分４６６は、底部フレームワーク・アライメント機構５０８を含むことが可能である。上部フレームワーク・アライメント機構５０６は、上部接続ステム部分４６４の遠位端部に対して遠位に延在することが可能であり、また、より良好に図９Ｅに図示されているように、上部の平面的なイリゲーション面５０９および平面的な内側面５１０を含むことが可能である。底部フレームワーク・アライメント機構５０８は、底部接続ステム部分４６６の遠位端部に対して遠位に延在することが可能であり、また、底部の平面的なイリゲーション面５２２および平面的な内側面５２４を含むことが可能である。いくつかの実施形態では、イリゲーション・クロスオーバ・ルーメン５１２は、上部の平面的なイリゲーション面５０９の中に画定され得る。例では、イリゲーション流体は、イリゲーション・チャネル４６８を介して提供され得、イリゲーション・チャネル４６８は、いくつかの実施形態では、本明細書で論じられているように、イリゲーション・チューブを保持することが可能である。イリゲーション流体は、イリゲーション・チャネル４６８の中に配設されているイリゲーション・チューブから、イリゲーション・ルーメン４７０を通して、上部イリゲーション・マニホールド５１４の中へ通ることが可能である。いくつかの実施形態では、上部イリゲーション・マニホールド５１４は、上部フレア型装着部分５０２と上部の平面的なイリゲーション面５０９との間に画定されているスペースであることが可能である。上部イリゲーション・マニホールド５１４は、図９Ｃに示されているように、イリゲーション・ポート（たとえば、第１のイリゲーション・ポート４９４−１）の第１の列と流体連通していることが可能であり、したがって、イリゲーション・ポートの第１の列にイリゲーション流体を提供することが可能である。

いくつかの実施形態では、上部イリゲーション・マニホールド５１４の中へ流れるイリゲーション流体は、また、イリゲーション・クロスオーバ・ルーメン５１２を通って流れることが可能であり、イリゲーション・クロスオーバ・ルーメン５１２は、平面的なイリゲーション面５０９の中に画定され得、平面的なイリゲーション面５０９を通って延在することが可能である。イリゲーション流体は、バレル部分５１８を通って、イリゲーション・クロスオーバ・ルーメン５１２の反対側から、底部イリゲーション・マニホールド５２０の中へ流れることが可能である。底部イリゲーション・マニホールド５２０は、底部フレア型装着部分５００と底部平面的なイリゲーション面５２２との間に画定されているスペースであることが可能である。底部イリゲーション・マニホールド５２０は、図９Ｃに示されているように、イリゲーション・ポート（たとえば、第２のイリゲーション・ポート４９４−２）の第２の列と流体連通していることが可能であり、したがって、イリゲーション・ポートの第１の列にイリゲーション流体を提供することが可能である。したがって、イリゲーション流体は、イリゲーション・クロスオーバ・ルーメン５１２を介して、イリゲーション・ポートの第１および第２の列を介して排出され得る。

いくつかの実施形態では、平面的な内側面５１０、５２４は、長手方向に延在するアライメント機構をそれぞれ含むことが可能であり、長手方向に延在するアライメント機構は、平面的な面５１０、５２４のそれぞれのものに沿って延在している。たとえば、平面的な内側面５１０を参照すると、平面的な内側面５１０は、平面的な内側面５１０に沿って長手方向に延在する３つのアライメント機構５２６−１、５２６−２、５２６−３を含むことが可能である。アライメント機構５２６−１、５２６−２、５２６−３のそれぞれのものは、形状が半円筒形状であることが可能である。いくつかの実施形態では、アライメント機構５２６−１、５２６−２、５２６−３は、長手方向の隆起部４７６−１０、４７６−１１と一致して配設され得、したがって、上部接続ステム部分４６４と底部接続ステム部分４６６との間に配設されている可撓性のフレームワークを分離することを助けることが可能である。いくつかの実施形態では、アライメント機構５２６−１、５２６−２、５２６−３は、強化部材としての役割を果たすことが可能である。たとえば、底部および上部フレームワーク・アライメント機構５０８、５０６のそれぞれのものは、平面的な内側面５１０、５２４に沿って延在する、長手方向におよび軸線方向に延在するアライメント機構を含むことが可能である。アライメント機構５２６−１、５２６−２、５２６−３は、平面的な内側面５１０、５２４に余分な材料を追加することによって、底部および上部フレームワーク・アライメント機構５０８、５０６のそれぞれのものの剛性および／または強度を増加させることが可能である。いくつかの実施形態では、上部接続ステム部分４６４および底部接続ステム部分４６６は、ポリマーから形成され得る。ポリマーは、上部接続ステム部分４６４および底部接続ステム部分４６６を形成するために、射出成形、機械加工などが行われ得る。

図９Ｆは、本開示のさまざまな実施形態による、図９Ａおよび図９Ｃから図９Ｅに事前に示されている上部接続ステム部分４６４および底部接続ステム部分４６６の遠位端部の等角図である。示されているように、底部接続ステム部分４６６は、第２のセンサ溝部４８０−２を画定しており、第２のセンサ溝部４８０−２の中にセンサが設置され得る。いくつかの実施形態では、底部接続ステム部分４６６は、底部フレア型遠位装着部分５００を含むことが可能であり、先に論じられているように、底部フレア型遠位装着部分５００から底部接続ステム・キー５０４が延在している。同様に、上部接続ステム部分４６４は、上部フレア型遠位装着部分５０２を含むことが可能であり、上部フレア型遠位装着部分５０２から上部接続ステム・キー４７２が延在している。上部接続ステム部分４６４は、上部アライメント・フレームワーク機構５０６を含むことが可能であり、底部接続ステム部分４６６は、底部フレームワーク・アライメント機構５０８を含むことが可能である。

いくつかの実施形態では、溝部５４０は、底部フレア型遠位装着部分５００の近位部分の中に画定され得、および／または、上部フレア型遠位装着部分５０２の近位部分の中に形成され得る。底部フレア型遠位装着部分５００を参照すると、溝部は、底部フレア型遠位装着部分５００の周りに円周方向に延在することが可能である。

図９Ｇは、本開示のさまざまな実施形態による、図９Ａおよび図９Ｃから図９Ｆに事前に示されているような底部接続ステム部分４６６および上部接続ステム部分４６４の近位端面図である。さらに示されているように、イリゲーション・ルーメン４７０は、上部イリゲーション・マニホールド５１４と流体連結され得、したがって、上部イリゲーション・マニホールド５１４にイリゲーション流体を提供することが可能である。イリゲーション流体の一部分が、先に論じられているように、バレル部分によって画定されているクロスオーバ・ルーメンを介して、底部イリゲーション・マニホールド５２０に移送され得る。いくつかの実施形態では、テーパ付きの壁部５５０が、イリゲーション・ルーメン４７０を画定することが可能である。例では、テーパ付きの壁部５５０は、イリゲーション・ルーメン４７０の近位開口部から、テーパ付きのポイント５５２へ、テーパを付けられ得る。例では、テーパ付きの壁部５５０は、イリゲーション・ルーメン４７０を通る流体のフローを改善することが可能である。たとえば、イリゲーション・ルーメン４７０を通る流体のフローは、流体のフローの乱れを低減させることによって改善され得る。イリゲーション・ルーメン４７０がテーパ付きの壁部５５０を含まない例では、流体のフローは、より乱れたものになる可能性があり、圧力を上昇させ、イリゲーション型カプラ４６２の中に画定されているイリゲーション・ポート４９４からのフローの中に擾乱を引き起こす。

図９Ｈは、本開示のさまざまな実施形態による、上部接続ステム部分４６４および底部接続ステム部分４６６の上面および近位端面の等角図であり、図９Ｉは、底部接続ステム部分４６６および上部接続ステム部分４６４の底面および背面の等角図である。示されているように、第１のセンサ溝部４８０−１は、上部接続ステム部分４６４および底部接続ステム部分４６６がそれに沿って延在する長手方向軸線に対して所定の角度で配設され得る。図９Ｂに関連して論じられているように、第２のセンサ溝部４８０−２は、第１のセンサ溝部４８０−１に対して所定の角度で配設され得る。図９Ｇおよび図９Ｈは、接続ステム部分４６４、４６６の周囲部の周りに延在する円周方向の溝部４８１−１、４８１−２、４８１−３、４８１−４をさらに示している。

図９Ｊは、本開示の実施形態による、上部接続ステム部分４６４、底部接続ステム部分４６６、およびイリゲーション型カプラ４６２の等角側面図であり、図９Ｋから図９Ｎは、上部接続ステム部分４６４、底部接続ステム部分４６６、およびイリゲーション型カプラ４６２の側面および背面の等角図である。示されているように、底部接続ステム部分４６６は、底部接続ステム部分４６６の内側の平面的な表面５１６に対して垂直に延在する、複数の長手方向の隆起部４７６−１、４７６−２、４７６−３、４７６−４、４７６−５、４７６−６、４７６−７、４７６−８、４７６−９、４７６−１０、４７６−１１（以降では、複数形で、長手方向の隆起部４７６と称される）を含むことが可能である。いくつかの実施形態では、下部構造の可撓性のフレームワークは、長手方向の隆起部４７６同士の間に配設され得る。底部接続ステム部分４６６は、バレル部分５１８をさらに含み、バレル部分５１８は、底部接続ステム部分４６６の内側の平面的な表面５１６に対して垂直に延在している。バレル部分は、本明細書で議論されているように、イリゲーション・クロスオーバ・ルーメンを画定することが可能である。

図９Ｊにさらに示されているように、上部接続ステム部分４６４は、第１のセンサ溝部４８０−１を画定しており、第１のセンサ溝部４８０−１の中に位置センサ（たとえば、磁気センサ）が配設され得る。底部接続ステム部分４６６は、第２のセンサ溝部４８０−２およびイリゲーション・チャネル４６８を画定することが可能である。底部接続ステム部分４６６の内側の平面的な表面５１６の上に配設されている長手方向の隆起部４７６が、上部接続ステム部分４６４の内側の平面的な表面の中に画定されている長手方向のスロット４７８−１、４７８−２、４７８−３と整合し、それらの中に配設されるように、上部接続ステム部分４６４および底部接続ステム部分４６６が組み立てられ得る。上部接続ステム部分４６４および底部接続ステム部分４６６を組み立てると、上部接続ステム部分４６４および底部接続ステム部分４６６は、イリゲーション型カプラ４６２の中に配設され得る。

いくつかの実施形態では、イリゲーション型カプラ４６２は、イリゲーション・ポート（たとえば、イリゲーション・ポート４７７−１、４７７−２）を含むことが可能であり、本明細書で論じられているように、イリゲーション流体がイリゲーション・ポートを通って流れることが可能である。イリゲーション型カプラ４６２は、可撓性のフレームワーク・スロット４９２をさらに画定することが可能であり、可撓性のフレームワーク・スロット４９２の中に、カテーテルの可撓性の先端部部分が配設され得る。図９Ｋに示されているように、イリゲーション型カプラ４６２は、長手方向のサイド・スロット５２８を画定することが可能であり、上部接続ステム部分４６４および底部接続ステム部分４６６が長手方向のサイド・スロット５２８の中へ摺動され得る。例では、長手方向のサイド・スロット５２８は、イリゲーション型カプラ４６２の内側壁部の中に画定され得る。上部接続ステム部分４６４および底部接続ステム部分４６６の遠位端部は、長手方向のサイド・スロット５２８の中へ、および、イリゲーション型カプラによって画定されている装着ルーメン５３０の中へ摺動され得る。いくつかの実施形態では、底部接続ステム部分４６６および上部接続ステム部分４６４のそれぞれは、本明細書で先に論じられているように、ステム・キー４７２、５０４を含むことが可能である。例では、イリゲーション型カプラ４６２は、それぞれのキー・スロットを含むことが可能である。たとえば、イリゲーション型カプラ４６２は、イリゲーション型カプラ４６２の内側壁部の中に画定されているキー・スロット４７３を含むことが可能である。底部接続ステム部分４６６および上部接続ステム部分４６４は、装着ルーメン５３０の中へ摺動され得、ステム・キー４７２、５０４がそれぞれのキー・スロット４７３、５０５と整合されるようになっている。

図９Ｋから図９Ｎに示されているように、イリゲーション型カプラ４６２は、上部イリゲーション・マニホールド５３４および底部イリゲーション・マニホールド５３６を画定することが可能である。上部接続ステム部分４６４および底部接続ステム部分４６６をイリゲーション型カプラ４６２と組み立てると、上部イリゲーション・チャンバーは、上部の平面的なイリゲーション面５０９および上部イリゲーション・マニホールド５３４を介して形成され得、底部イリゲーション・チャンバーは、底部平面的なイリゲーション面５２２および底部イリゲーション・マニホールド５３６を介して形成され得る。したがって、イリゲーション流体は、イリゲーション・クロスオーバ・ルーメン５１２を介して、上部イリゲーション・チャンバーおよび底部イリゲーション・チャンバーの中へ導入され得る。上部イリゲーション・チャンバーおよび底部イリゲーション・チャンバーの中へ流体を導入すると、流体は、それぞれのイリゲーション・ポート（たとえば、イリゲーション・ポート４７７−１、４７７−２）から排出され得る。

図９Ｏは、本開示の実施形態による、カテーテル・シャフト４９５の中へ挿入される前の、可撓性の先端部部分４９１、イリゲーション型カプラ４６２、上部接続ステム部分４６４、および底部接続ステム部分４６６を示している。示されているように、イリゲーション型カプラ４６２は、可撓性の先端部部分４９１と近位下部構造４９３との間において、可撓性の先端部部分４９１の近位端部に配設され得る。近位下部構造４９３は、本明細書で論じられているように、上部接続ステム部分４６４と底部接続ステム部分４６６との間に挿入され得、それは、上部接続ステム部分４６４および底部接続ステム部分４６６に対して固定された関係で、近位下部構造４９３を保持することが可能である。上部接続ステム部分４６４および底部接続ステム部分４６６は、先に論じられているように、イリゲーション型カプラ４６２の中へ挿入され得る。

いくつかの実施形態では、上部接続ステム部分４６４は、第１の５ＤＯＦ磁気位置センサ４９９−１（図９Ｑ）を含むことが可能であり、底部接続ステム部分４６６は、第２の５ＤＯＦ磁気位置センサ４９９−２（図９Ｐ）を含むことが可能である。図９Ｏは、第１、第２、第３、および第４のセットのワイヤ／ワイヤを担持するチューブ４９７−１、４９７−２、４９７−３、４９７−４を示しており、それは、可撓性の先端部部分４９１の上に配設されている電気部品（たとえば、電極）と関連付けられ得る。さらに、図９Ｏは、イリゲーション・チューブ４９６を示しており、イリゲーション・チューブ４９６は、上部接続ステム部分４６４に接続されており、イリゲーション型カプラ４６２に流体を提供することが可能である。組み立てると、イリゲーション型カプラ４６２は、カテーテル・シャフト４９５の遠位端部５０１と接続され得る。さらに示されているように、カテーテル・シャフト４９５は、第１および第２のリング電極５０３−１、５０３−２を含むことが可能である。

図９Ｐは、本開示の実施形態による、カテーテル・シャフト４９５の遠位端部５０１の中への挿入の前の、図９Ｏに示されている底部接続ステム部分４６６および上部接続ステム部分４６４の底面および側面の等角図を示している。図９Ｑは、本開示の実施形態による、カテーテル・シャフト４９５の遠位端部５０１の中への挿入の前の、図９Ｏに示されている上部接続ステム部分４６４および底部接続ステム部分４６６の上面および側面の等角図を示している。さらに示されているように、第２の５ＤＯＦ磁気位置センサ４９９−２は、底部接続ステム部分４６６の中のそれぞれのセンサ溝部の中に配設され得、第１の５ＤＯＦ磁気位置センサ４９９−１は、上部接続ステム部分４６４の中のそれぞれのセンサ溝部の中に配設され得る。イリゲーション・チューブ４９６は、イリゲーション・チャネル４６８の中に配設され得る。

図１０Ａは、本開示の実施形態による、イリゲーション型カプラ５６０の側面および遠位端面の等角図である。いくつかの実施形態では、イリゲーション型カプラ５６０は、長手方向軸線に沿って延在する円筒形状の本体部５６２を含むことが可能である。いくつかの実施形態では、イリゲーション型カプラ５６０は、円筒形状の本体部５６２から近位に延在する近位装着機構５６３を含むことが可能である。半球形のヘッド５６４が、円筒形状の本体部５６２に接続され得る。いくつかの実施形態では、フレームワーク装着スロット５６６が、半球形のヘッド５６４の中に画定され得る。例では、可撓性のフレームワークは、フレームワーク装着スロット５６６の中に配設され得、円筒形状の本体部５６２の中へ、および、半球形のヘッド５６４から遠位に延在することが可能である。フレームワーク装着スロット５６６は、第１の平面的なスロット壁部５６８および第２の平面的なスロット壁部５７０によって画定され得る。いくつかの実施形態では、第１の平面的なスロット壁部５６８および／または第２の平面的なスロット壁部５７０は、イリゲーション型カプラ５６０がそれに沿って延在する長手方向軸線と平行になっていることが可能である。いくつかの実施形態では、第１の平面的なスロット壁部５６８および第２の平面的なスロット壁部５７０は、互いに対して平行になっていることが可能である。いくつかの実施形態では、第１の平面的なスロット壁部５６８および第２の平面的なスロット壁部５７０は、互いに対して発散することが可能である。たとえば、第１の平面的なスロット壁部５６８および第２の平面的なスロット壁部５７０は、近位から遠位への方向に、互いに離れるように延在することが可能である。いくつかの実施形態では、これは、イリゲーション型カプラ５６０から遠位に延在する可撓性のフレームワークが、第１の平面的なスロット壁部５６８および／または第２の平面的なスロット壁部５７０に対して垂直の方向により良好に撓むことを可能にすることができる。

いくつかの実施形態では、フレームワーク装着スロット５６６は、端部スロット壁部５７２、５７４によってさらに画定され得る。いくつかの実施形態では、端部スロット壁部５７２、５７４は、湾曲した内部面を含むことが可能であり、湾曲した内部面は、可撓性のフレームワークを受け入れるように構成され得る。端部スロット壁部５７２、５７４は、示されているように、円筒形状の本体部５６２から遠位に延在することが可能である。

いくつかの実施形態では、複数のイリゲーション・ポートは、平面的なスロット壁部５６８、５７０のそれぞれのものに沿って形成され得る。示されているように、イリゲーション・ポート５７６−１、５７６−２、５７６−３の第１の列が、第１の平面的なスロット壁部５６８の中に画定され得、イリゲーション・ポート５７８−１、５７８−２、５７８−３の第２の列が、第２の平面的なスロット壁部５７０の中に画定され得る。いくつかの実施形態では、イリゲーション・ポート５７６−１、５７６−２、５７６−３の第１の列は、図１０Ｃに示されているように、第１のイリゲーション・ルーメン５９０−１と流体連結され得る。いくつかの実施形態では、イリゲーション・ポート５７８−１、５７８−２、５７８−３の第２の列は、図１０Ｃにさらに示されているように、第２のイリゲーション・ルーメン５９０−２と流体連結され得る。図１０Ｃは、本開示のさまざまな実施形態による、図１０Ａおよび図１０Ｂに示されているイリゲーション型カプラ５６０の背面図である。流体は、第１のイリゲーション・ルーメン５９０−１および第２のイリゲーション・ルーメン５９０−２に提供され得、また、それぞれ、第１のイリゲーション・ルーメン５９０−１および第２のイリゲーション・ルーメン５９０−２を介して、イリゲーション・ポート５７６−１、５７６−２、５７６−３、５７８−１、５７８−２、５７８−３のそれぞれのものに分配され得る。

いくつかの実施形態では、近位装着機構は、第１および／または第２のキー・スロット５９２、５９４を画定することが可能であり、本明細書で論じられているように、第１および／または第２のキー・スロット５９２、５９４の中にステム・キーが配設され得る。さらに示されているように、イリゲーション型カプラは、一対の直径方向に対向するスロット５９６、５９８を画定することが可能であり、スロット５９６、５９８の中に可撓性のフレームワークが配設され得る。

図１１Ａは、本開示の実施形態による、底部接続ステム部分６１０を示している。いくつかの実施形態では、底部接続ステム部分６１０は、長手方向軸線に沿って延在することが可能であり、形状が半円筒形状になっていることが可能である。例では、底部接続ステム部分６１０の外部表面は、半円筒形状になっていることが可能であり、底部接続ステム部分６１０の内部表面は、平面的な表面であることが可能である。たとえば、底部本体部部分６１４の第１の内部表面６１２は、底部接続ステム部分６１０がそれに沿って延在する長手方向軸線と平行になっている平面的な表面であることが可能である。いくつかの実施形態では、１つまたは複数のフレームワーク・デバイダ６１６−１、６１６−２、６１６−３、６１６−４（たとえば、隆起部）が、第１の内部平面的な表面６１２に対して垂直に延在することが可能である。いくつかの実施形態では、フレームワーク・デバイダ６１６−１、６１６−２、６１６−３、６１６−４は、底部接続ステム部分６１０を介して保持される可撓性のフレームワークのそれぞれの部材を分離することが可能である。

いくつかの実施形態では、フレームワーク・デバイダ６１６−１、６１６−２、６１６−３、６１６−４に対して遠位に位置する、第１の内部表面６１２の遠位部分は凹んでいることが可能であり、したがって、底部凹面６３４−１、６３４−２を形成している。例では、外側保持機構６３６−１、６３６−２が、それぞれ、底部凹面６３４−１、６３４−２の外側横方向縁部に配設され得る。いくつかの実施形態では、下部構造（たとえば、可撓性のフレームワーク）は、底部接続ステム部分６１０と上部接続ステム部分６４０（図１１Ｂに示されている）との間に配設され得る。いくつかの実施形態では、ハウジング（たとえば、チューブ、被覆）が、図８Ｄに関連して論じられているように、下部構造を覆って配設され得る。ハウジングは、いくつかの実施形態では、下部構造よりも大きい厚さを有することが可能であり、また、外側保持機構６３６−１、６３６−２と底部凹面６３４−１、６３４−２との間に配設され得る。

いくつかの実施形態では、底部接続ステム部分６１０は、イリゲーション型ヘッド６２０を含むことが可能であり、イリゲーション型ヘッド６２０は、底部本体部部分６１４の遠位端部から遠位に延在している。いくつかの実施形態では、底部接続ステム部分６１０は、第２の内部表面６１８を含むことが可能である。たとえば、イリゲーション型ヘッドは、第２の内部表面６１８を含むことが可能であり、第２の内部表面６１８は、平面的な表面であることが可能である。いくつかの実施形態では、凹んだ底部マニホールド６２２が、第２の内部面６１８の中に画定され得る。イリゲーション型ヘッド６２０は、遠位面を含むことが可能であり、遠位面の中に、１つまたは複数のイリゲーション・ポートが画定され得る。図１１Ａに示されているように、遠位面６２４は、第１の細長いイリゲーション・ポート６２６−１、ならびに、第２のイリゲーション・ポート６２６−２および第３のイリゲーション・ポート６２６−３を含むことが可能であり、第２のイリゲーション・ポート６２６−２および第３のイリゲーション・ポート６２６−３は、第１の細長いイリゲーション・ポート６２６−１のいずれかの側において、遠位面６２４の中に画定されている。

いくつかの実施形態では、凹んだ底部マニホールド６２２およびイリゲーション・ポート６２６−１、６２６−２、６２６−３は、イリゲーション・チャネル６２８と流体連通していることが可能である。イリゲーション・チャネル６２８は、底部接続ステム部分６１０の内部表面の中に画定され得る。たとえば、イリゲーション・チャネル６２８は、近位チャネル壁部６３０から凹んだ底部マニホールド６２２へ、軸線方向におよび遠位に延在することが可能である。

図１１Ｂは、本開示の実施形態による、上部接続ステム部分６４０を示している。いくつかの実施形態では、上部接続ステム部分６４０は、長手方向軸線に沿って延在することが可能であり、形状が半円筒形状になっていることが可能である。例では、上部接続ステム部分６４０の外部表面は、半円筒形状になっていることが可能であり、底部接続ステム部分６１０の内部表面は、平面的な表面であることが可能である。たとえば、上部本体部部分６４４の第１の内部表面６４２は、上部接続ステム部分６４０がそれに沿って延在する長手方向軸線と平行になっている平面的な表面であることが可能である。いくつかの実施形態では、１つまたは複数のフレームワーク・デバイダ６４６−１、６４６−２（たとえば、隆起部）が、第１の内部平面的な表面に対して垂直に延在することが可能である。いくつかの実施形態では、フレームワーク・デバイダ６４６−１、６４６−２は、上部接続ステム部分６４０を介して保持される可撓性のフレームワークのそれぞれの部材を分離することが可能である。いくつかの実施形態では、デバイダ凹部６６８−１、６６８−２が、第１の内部表面６４２の遠位部分の中に画定され得る。例では、デバイダ凹部６６８−１、６６８−２は、底部接続ステム部分６１０および上部接続ステム部分６４０が組み立てられるときに、フレームワーク・デバイダ６１６−２、６１６−３を受け入れるように構成され得る。

いくつかの実施形態では、フレームワーク・デバイダ６４６−１、６４６−２に対して遠位に位置する、内部表面６４２の遠位部分は凹んでいることが可能であり、したがって、上部凹面６６４を形成している。例では、外側保持機構６６６−１、６６６−２が、それぞれ、凹面６６４の外側横方向縁部に配設され得る。いくつかの実施形態では、下部構造（たとえば、可撓性のフレームワーク）は、上部接続ステム部分６４０と底部接続ステム部分６１０（図１１Ａに示されている）との間に配設され得る。いくつかの実施形態では、ハウジング（たとえば、チューブ、被覆）が、図８Ｄに関連して論じられているように、下部構造を覆って配設され得る。ハウジングは、いくつかの実施形態では、下部構造よりも大きい厚さを有することが可能であり、また、外側保持機構６６６−１、６６６−２と上部凹面６６４との間に配設され得る。図１１Ｃおよび図１１Ｄにさらに示されているように、上部接続ステム部分６４０および底部接続ステム部分６１０は接続され得る。したがって、下部構造、および、下部構造をカバーするハウジングは、底部凹面６３４−１、６３４−２と上部凹面６６４との間に配設され得、外側保持機構６３６−１、６３６−２、６６６−１、６６６−２を介して横方向に移動することが防止され得る。

いくつかの実施形態では、上部接続ステム部分６４０は、イリゲーション型ヘッド６４８を含むことが可能であり、イリゲーション型ヘッド６４８は、上部本体部部分６４４の遠位端部から遠位に延在している。いくつかの実施形態では、上部接続ステム部分６４０は、第２の内部表面６５０を含むことが可能である。たとえば、イリゲーション型ヘッド６４８は、第２の内部表面６５０を含むことが可能であり、第２の内部表面６５０は、平面的な表面であることが可能である。いくつかの実施形態では、凹んだ上部マニホールド６５２が、第２の内部面６５０の中に画定され得る。イリゲーション型ヘッド６４８は、遠位面６５４を含むことが可能であり、遠位面６５４の中に、１つまたは複数のイリゲーション・ポートが画定され得る。図１１Ｂに示されているように、遠位面６５４は、第１の細長いイリゲーション・ポート６５６−１を含み、また、第１の細長いイリゲーション・ポート６５６−１のいずれかの側において、遠位面６５４の中に、第２のイリゲーション・ポート６５６−２および第３のイリゲーション・ポート６５６−３をさらに画定することが可能である。

いくつかの実施形態では、凹んだ上部マニホールド６５２およびイリゲーション・ポート６５６−１、６５６−２、６５６−３は、上部イリゲーション・ルーメン６５８と流体連通していることが可能である。上部イリゲーション・ルーメン６５８は、上部接続ステム部分６４０の近位端部へ近位に延在することが可能である。いくつかの実施形態では、上部イリゲーション・ルーメン６５８は、クロスオーバ・マニホールド６６２の中に画定されている細長いクロスオーバ・ルーメン６６０に流体連通していることが可能である。本明細書でさらに示されているように、クロスオーバ・マニホールドは、底部接続ステム部分６１０のイリゲーション・チャネル６３２の中にフィットするように構成され得る。例では、イリゲーション流体は、上部接続ステム部分６４０の近位端部から提供され得、また、上部イリゲーション・ルーメン６５８を通り、凹んだ上部マニホールド６５２の中へ、そして、イリゲーション・ポート６５６−１、６５６−２、６５６−３から外へ進行することが可能である。さらに、イリゲーション流体は、細長いクロスオーバ・ルーメン６６０の中へ進行することが可能であり、細長いクロスオーバ・ルーメン６６０は、上部イリゲーション・ルーメン６５８と流体連通している。次いで、イリゲーション流体は、細長いクロスオーバ・ルーメン６６０から、イリゲーション・チャネル６２８の中へ流れることが可能であり、また、イリゲーション・チャネル６２８に沿って、凹んだ底部マニホールド６２２の中へ、そして、イリゲーション・ポート６２６−１、６２６−２、６２６−３を通って流れることが可能である。

図１１Ｃは、本開示のさまざまな実施形態による、組み立てたときの、図１１Ａおよび図１１Ｂの底部接続ステム部分６１０および上部接続ステム部分６４０を示している。示されているように、スロット６５５は、上部凹面６６４および外側保持機構６６６−１、６６６−２、ならびに、底部凹面６３４−１、６３４−２および外側保持機構６３６−１、６３６−２を介して画定され得る。いくつかの実施形態では、たとえば、図８Ｄに関連して論じられているものなど、下部構造をカバーするハウジングが、スロット６５５の中に位置決めされ得る。

図１１Ｄは、本開示のさまざまな実施形態による、組み立てたときの底部接続ステム部分６１０および上部接続ステム部分６４０の遠位端面図である。示されているように、フレームワーク・デバイダ６１６−１、６１６−２、６１６−３、６１６−４、６４６−１、６４６−２、およびクロスオーバ・マニホールド６６２は、フレームワーク通路６８０−１、６８０−２、６８０−３、６８０−４を画定することが可能である。下部構造に関連付けられるフレームワークが、フレームワーク通路６８０−１、６８０−２、６８０−３、６８０−４の中に配設され得、フレームワークは、底部接続ステム部分６１０および上部接続ステム部分６４０に対して適切な場所に固定して保持され得る。

また、底部イリゲーション・ルーメン６８２が図１１Ｄに示されている。底部イリゲーション・ルーメンは、凹んだ底部マニホールド６２２へ、そして、イリゲーション・ポート６２６−１、６２６−２、６２６−３を通して、イリゲーション流体を提供することが可能である。いくつかの実施形態では、底部イリゲーション・ルーメン６８２は、クロスオーバ・マニホールド６６２がイリゲーション・チャネル６２８の中に配設されているときに形成され得る。例では、イリゲーション流体の供給は、供給源ルーメン６９２（図１１Ｅ）を介して提供され得、供給源ルーメン６９２は、図１１Ｅにさらに示されているように、上部接続ステム部分６４０を通って長手方向に延在している。上部イリゲーション・ルーメン６５８およびクロスオーバ・ルーメン６６０は、長手方向に延在するルーメンと流体連結され得る。したがって、イリゲーション流体のいくらかは、凹んだ上部マニホールド６５２の中へ、そして、イリゲーション・ポート６５６−１、６５６−２、６５６−３を通って流れることが可能であり、また、イリゲーション流体のいくらかは、クロスオーバ・ルーメン６６０から外へ、そして、クロスオーバ・マニホールド６６２によって形成される底部イリゲーション・ルーメン６８２、および、イリゲーション・チャネル６２８の中へ流れることが可能である。イリゲーション流体は、底部イリゲーション・ルーメン６８２を通って遠位に、凹んだ底部マニホールド６２２の中へ、そして、イリゲーション・ポート６２６−１、６２６−２、６２６−３を通って流れることが可能である。

図１１Ｅは、本開示のさまざまな実施形態による、組み立てたときの底部接続ステム部分６１０および上部接続ステム部分６４０の遠位端部の等角図である。示されているように、上部接続ステム部分６４０は、それを通って長手方向に延在する供給源ルーメン６９２を画定することが可能である。いくつかの実施形態では、イリゲーション流体は、供給源ルーメン６９２を通って流れることが可能であり、クロスオーバ・ルーメン６６０へ、および、上部イリゲーション・ルーメン６５８へ提供され得る。さらに示されているように、底部接続ステム部分６１０および上部接続ステム部分６４０は、センサ・ルーメン６９０−１、６９０−２をそれぞれ画定することが可能である。センサ・ルーメン６９０−１、６９０−２は、底部接続ステム部分６１０および上部接続ステム部分６４０を通って長手方向にそれぞれ延在することが可能である。いくつかの実施形態では、センサ・ルーメン６９０−１、６９０−２は、たとえば、図９Ａおよび図９Ｂに関連して、本明細書で先に論じられているように、互いに対して所定の角度で配設され得る。示されているように、センサ・ルーメン６９０−１、６９０−２は、底部接続ステム部分６１０および上部接続ステム部分６４０の中に内部に配設され得る。いくつかの実施形態では、センサ・ルーメン６９０−１、６９０−２は、有底のルーメンであることが可能である。たとえば、センサ・ルーメン６９０−１、６９０−２は、底部接続ステム部分６１０および上部接続ステム部分６４０の遠位端部の中に形成され得、底部接続ステム部分６１０および上部接続ステム部分６４０のそれぞれのものの中へ遠位に延在することが可能である。

図１２Ａは、本開示のさまざまな実施形態による、細長いシャフト７０２およびループ状の遠位端部７０４を含む、医療用デバイスの側面および端面の等角図である。いくつかの実施形態では、細長いシャフト７０２は、可撓性の操縦可能なシャフトであることが可能である。たとえば、複数のプル・ワイヤが、細長いシャフト７０２の１つまたは複数の部分を通って延在することが可能であり、また、細長いシャフト７０２を１つまたは複数の方向に曲げるように動かされ得る。いくつかの実施形態では、１つまたは複数の電極７０８−１、７０８−２が、細長いシャフト７０２の周りに配設され得る。いくつかの実施形態では、電極７０８−１、７０８−２は、診断用電極（たとえば、センシング）および／または治療用電極（たとえば、エネルギーを組織に送達するように構成されている）であることが可能である。

いくつかの実施形態では、ループ状の遠位端部７０４は、細長いシャフト７０２の遠位端部に接続され得、遠位先端部７１２を有することが可能である。ループ状の遠位端部７０４は、可撓性の材料から形成され得る。いくつかの実施形態では、ループ状の遠位端部７０４は、ループ状の遠位端部７０４を通って延在する１つまたは複数のプル・ワイヤを介して、その形状を変更するように構成され得る。たとえば、いくつかの実施形態では、ループ状の遠位端部７０４の直径は、いくつかの実施形態では、ループ状の遠位端部７０４を通って延在する１つまたは複数のプル・ワイヤを介して、増加および／または減少され得る。ループ状の遠位端部７０４は、いくつかの実施形態では、１つまたは複数の電極を含むことが可能である。たとえば、１つまたは複数の電極７１０−１、７１０−２は、ループ状の遠位端部７０４の周りに配設され得る。

いくつかの実施形態では、一対の磁気位置センサが、細長いシャフト７０２の中に配設され得る。図１２Ａに示されているように、第１の磁気位置センサ７１４−１が、細長いシャフト７０２の中に配設されている。本明細書で先に論じられているように、一対の磁気位置センサは、互いに対して所定の角度で配設され得る。磁気位置センサのそれぞれのものは、５ＤＯＦセンサであることが可能であるが、センサは互いに対して所定の角度で配設されているので、２つの５ＤＯＦセンサのそれぞれのものによって発生される信号は、６ＤＯＦによって一対のセンサの位置を決定するように分析され得る。

図１２Ｂは、本開示のさまざまな実施形態による、図１２Ａの医療用デバイス７００の側面図であり、医療用デバイス７００は、ループ状の遠位端部７０４の近位端部に連結されている細長いシャフト７０２の遠位端部の中に配設されているカプラ７２０を含む。細長いシャフト７０２は、いくつかの実施形態では、細長いシャフト長手方向軸線を画定することが可能であり、カプラ７２０は、カプラ長手方向軸線を画定することが可能であり、それは、いくつかの実施形態では、細長いシャフト長手方向軸線と同じ軸線を共有することが可能である。示されているように、細長いシャフト７０２は、プル・リング７２２を含むことが可能であり、プル・ワイヤはプル・リング７２２に接続され得る。先に論じられているように、プル・ワイヤを動かすと、細長いシャフト７０２は、いくつかの実施形態では、曲げられ得る。複数のワイヤおよび／またはチューブ７２４は、プル・リング７２２の中央を通って延在することが可能である。例では、ワイヤは、いくつかの実施形態では、１つまたは複数のセンサおよび／または電極（たとえば、リング電極７２６−１、７２６−２）と電気的に結合され得、チューブは、医療用デバイス７００の遠位端部にイリゲーション流体を提供するように構成され得る。

カプラ７２０は、いくつかの実施形態では、ループ状の遠位端部７０４を細長いシャフト７０２の遠位端部に連結することが可能である。カプラ７２０は、近位端部７４２（図１２Ｃ）および遠位先端部７２８を有することが可能であり、長手方向軸線に沿って軸線方向に延在することが可能である。例では、本体部部分７３０は、細長いシャフト７０２の遠位端部の中へ挿入され得る。いくつかの実施形態では、遠位端部７０４は、所定の直径を有することが可能であり、所定の直径は、本体部部分７３０よりも大きく、かつ、細長いシャフト７０２の内径よりも大きくなっており、遠位端部７０４は、カプラが細長いシャフト７０２の中へあまりにも挿入され過ぎることを防止するようになっている。

いくつかの実施形態では、カプラ７２０は、第１のセンサ溝部７３２−１および第２のセンサ溝部７３２−２（図１２Ｃ）を画定することが可能であり、第１のセンサ溝部７３２−１および第２のセンサ溝部７３２−２の中に、第１のセンサ７１４−１および第２のセンサ７１４−２（図１２Ｃ）が配設され得る。本明細書で議論されているように、第１のセンサ溝部７３２−１および第２のセンサ溝部７３２−２は、互いに対して所定の角度で形成され得、第１のセンサ７１４−１および第２のセンサ７１４−２は、第１のセンサ溝部７３２−１および第２のセンサ溝部７３２−２の中に配設され得、第１のセンサ７１４−１および第２のセンサ７１４−２が互いに対して所定の角度で配設されるようになっている。

示されているように、設置スロット（たとえば、第１の設置スロット７３４−１、図１２Ｃに示されている第２の設置スロット７３４−２）が、カプラ７２０の本体部部分７３０の外側表面の中に画定され得る。設置スロットは、それぞれのセンサ溝部の遠位端部に位置し得る。たとえば、第１のセンサ溝部７３２−１を参照すると、第１の設置スロット７３４−１は、第１のセンサ溝部７３２−１の遠位端部に位置し得る。いくつかの実施形態では、示されているように、第１の設置スロット７３４−１は、本体部部分７３０の外部表面の中に規定されている長手交差方向（ｃｒｏｓｓ−ｌｏｎｇｉｔｕｄｉｎａｌ）のスロットであることが可能である。例では、設置スロットは、センサ溝部のそれぞれのものに対して垂直に延在することが可能である。たとえば、第１の設置スロット７３４−１に関して示されているように、第１の設置スロット７３４−１は、第１のセンサ溝部７３２−１に対して垂直に延在することが可能である。

いくつかの実施形態では、第１の設置スロット７３４−１は、第１のセンサ７１４−１が第１のセンサ溝部７３２−１の中に正しく設置されたかどうかについての指示を提供することが可能である。例では、医療用デバイスの位置の正確な決定は、リング電極７２６−１、７２６−２のうちの１つまたは複数に対する第１のセンサ７１４−１の設置に依存することが可能である。たとえば、リング電極７２６−１、７２６−２のうちの１つまたは複数に対するセンサの軸線方向の設置は、一貫しているべきである。したがって、第１の設置スロット７３４−１は、第１のセンサ７１４−１の正しい設置のための目視検査を可能にする。たとえば、本明細書でさらに論じられているように、第１のセンサ７１４−１は、第１のセンサ溝部７３２−１の中に配設され得、第１のセンサ７１４−１の遠位端部が第１の設置スロット７３４−１の中に配設されるようになっている。目視検査のときに、第１の設置スロット７３４−１の中の第１のセンサ７１４−１の遠位端部の設置が検証され得、したがって、第１のセンサ７１４−１の正しい設置を確認する。

いくつかの実施形態では、本体部部分７３０は、本体部部分７３０の中に複数の孔部（たとえば、第１の孔部７３６−１）を画定することが可能である。第２の孔部７３６−２（図１２Ｅ）は、本体部部分の中に画定されているが、リング電極７２６−１によって図１２Ｂの視界からは隠されている。図１２Ｅに関連してさらに論じられているように、孔部７３６−１、７３６−２は、通路を提供することが可能であり、下記にさらに論じられているように、通路の中で、本体部部分７３０の中に形成された長手方向に延在するスロットへ接着剤が導入され得る。

図１２Ｃは、本開示の実施形態による、図１２Ｂに示されているカプラ７２０の側面および背面の等角図である。示されているように、複数のワイヤおよび／またはチューブ７２４が、カプラ７２０の遠位端部から延在することが可能である。論じられているように、ワイヤは、いくつかの実施形態では、１つまたは複数のセンサおよび／または電極（たとえば、リング電極７２６−１、７２６−２）と電気的に結合されており、チューブは、医療用デバイス７００の遠位端部にイリゲーション流体を提供するように構成され得る。

カプラ７２０は、近位端部（図１２Ｃ）および遠位先端部７２８を有することが可能であり、長手方向軸線に沿って軸線方向に延在することが可能である。いくつかの実施形態では、カプラ７２０は、第１のセンサ溝部７３２−１（図１２Ｂ）および第２のセンサ溝部７３２−２を画定することが可能であり、第１のセンサ溝部７３２−１（図１２Ｂ）および第２のセンサ溝部７３２−２の中に、第１のセンサ７１４−１および第２のセンサ７１４−２（図１２Ｃ）が配設され得る。本明細書で議論されているように、第１のセンサ溝部７３２−１および第２のセンサ溝部７３２−２は、互いに対して所定の角度で形成され得、また、第１のセンサ７１４−１および第２のセンサ７１４−２は、第１のセンサ溝部７３２−１および第２のセンサ溝部７３２−２の中に配設され得、第１のセンサ７１４−１および第２のセンサ７１４−２が互いに対して所定の角度で配設されるようになっている。

示されているように、設置スロット（たとえば、図１２Ｂに示されている第１の設置スロット７３４−１、第２の設置スロット７３４−２）は、カプラ７２０の本体部部分７３０の外側表面の中に画定され得る。設置スロットは、それぞれのセンサ溝部の遠位端部に位置し得る。たとえば、第２のセンサ溝部７３２−２を参照すると、第２の設置スロット７３４−２は、第２のセンサ溝部７３２−２の遠位端部に位置し得る。いくつかの実施形態では、示されているように、第２の設置スロット７３４−２は、本体部部分７３０の外部表面の中に規定されている長手交差方向のスロットであることが可能である。例では、設置スロットは、それが必要というわけではないが、それぞれのセンサ溝部のそれぞれのものに対して垂直に延在することが可能である。たとえば、第２の設置スロット７３４−２に関して示されているように、第２の設置スロット７３４−２は、第２のセンサ溝部７３２−２に対して垂直に延在することが可能である。

いくつかの実施形態では、第２の設置スロット７３４−２は、第２のセンサ７１４−２が第２のセンサ溝部７３２−２の中に正しく設置されたかどうかについての指示を提供することが可能である。たとえば、いくつかの実施形態では、医療用デバイスの位置の正確な決定は、リング電極７２６−１、７２６−２のうちの１つまたは複数に対する第２のセンサ７１４−２の設置に依存することが可能である。たとえば、リング電極７２６−１、７２６−２のうちの１つまたは複数に対するセンサの軸線方向の設置は、一貫しているべきである。したがって、第２の設置スロット７３４−２は、第２のセンサ７１４−２の正しい設置のための目視検査を可能にする。

いくつかの実施形態では、カプラ７２０は、長手方向に延在するチャネル７４０を含むことが可能である。長手方向に延在するチャネル７４０は、カプラ７２０の本体部部分７３０に沿って延在することが可能である。たとえば、長手方向に延在するチャネル７４０は、カプラ７２０の本体部部分の外側表面の中に画定され得る。いくつかの実施形態では、複数のワイヤおよび／またはチューブ７２４が、長手方向に延在するチャネル７４０の中に配設され得る。いくつかの実施形態では、フレックス回路が、長手方向に延在するチャネル７４０の中に配設され得、それは、フレックス回路が第１のセンサ７１４−１および第２のセンサ７１４−２と整合されることを可能にすることができる。

図１２Ｄは、本開示の実施形態による、図１２Ｂおよび図１２Ｃに示されているカプラ７２０の底面および背面の等角図である。先に論じられているように、カプラ７２０は、遠位先端部７２８および近位端部７４２を含むことが可能である。本体部部分７３０は、遠位先端部７２８の近位端部に連結され得、いくつかの実施形態では、遠位先端部７２８よりも小さい直径を有することが可能である。しかし、いくつかの実施形態では、本体部７３０の直径は、遠位先端部７２８のものに等しいか、または、遠位先端部７２８のものよりも大きくなっていることが可能である。本体部部分７３０は、本体部部分７３０の外部表面の中に、第１のセンサ溝部７３２−１および第２のセンサ溝部７３２−２を画定することが可能である。代替的に、センサ溝部は、カプラ７２０の近位端部７４２から延在する有底の孔部であることが可能である。第１および第２の設置スロット７３４−１、７３４−２は、本明細書で先に論じられているように、センサ溝部７３２−１、７３２−２のそれぞれのものの遠位端部に画定され得る。

いくつかの実施形態では、長手方向に延在するチャネル７４０は、本体部部分７３０の一部分を通って延在することが可能である。例では、示されているように、長手方向に延在するチャネル７４０は、一対の内側側壁部７５０−１、７５０−２および内側上部壁部７５２によって画定され得る。示されているように、一対の内側側壁部７５０−１、７５０−２は、いくつかの実施形態では、それが必要というわけではないが、平行になっていることが可能である。たとえば、一対の内側側壁部７５０−１、７５０−２は、いくつかの実施形態では、発散することが可能であり、一対の内側側壁部７５０−１、７５０−２の間の距離が内側上部壁部７５２に向けて狭くなっているフレア型チャネルを形成しており、および／または、一対の内側側壁部７５０−１、７５０−２の間の距離が内側上部壁部７５２に向けて増加する縮小型チャネルを形成している。

いくつかの実施形態では、フレックス回路が、長手方向に延在するチャネル７４０の中に配設され得る。例では、フレックス回路は、一対の内側側壁部７５０−１、７５０−２および内側上部壁部７５２のうちの１つまたは複数の上に配設され得る。たとえば、フレックス回路は、点線によって識別される領域７５４の中に、第２の内側側壁部７５０−２の上に配設され得る。しかし、フレックス回路は、長手方向に延在するチャネル７４０の中の他の場所に配設され得る。いくつかの実施形態では、フレックス回路は、近位端部７４２から突出することが可能であり、ワイヤのセットへのフレックス回路および／または追加的な回路の間の電気的な接続を可能にする。

いくつかの実施形態では、カプラ７２０は、超音波トランスデューサを含むことが可能である。たとえば、図１Ａの可撓性の先端部部分１１０、および／または、図１２Ａのループ状の遠位端部７０４の代わりに、または、それに加えて、カプラ７２０は、超音波トランスデューサを含むことが可能である。例では、超音波トランスデューサは、フレックス回路に電気的に結合され、および／または、フレックス回路に機械的に固定され得る。たとえば、超音波トランスデューサは、領域７５４の中に配設されているフレックス回路に電気的に結合され、および／または、それに機械的に固定され得る。

図１２Ｅは、本開示の実施形態による、図１２Ｂおよび図１２Ｄに示されているカプラ７２０の側面図である。先に論じられているように、カプラ７２０は、遠位先端部７２８および本体部部分７３０を含むことが可能であり、本体部部分７３０は、近位端部７４２および遠位端部を含み、本体部部分７３０の遠位端部は、遠位先端部７３８に接続されている。示されているように、本体部部分７３０は、第１のセンサ溝部７３２−１および第１の設置スロット７３４−１を画定することが可能であり、第１の設置スロット７３４−１は、第１のセンサ溝部７３２−１の遠位端部に位置する。いくつかの実施形態では、第１の孔部７３６−１および第２の孔部７３６−２は、本体部部分の側部に沿って形成され得る。いくつかの実施形態では、第１および第２の孔部７３６−１、７３６−２は、カプラ７２０の長手方向軸線と軸線方向に整合され得る。例では、第１の孔部および第２の孔部７３６−１、７３６−２は、内側上部壁部７５２（図１２Ｄ）の中に画定され得、本体部部分７３０の外部表面を通って延在することが可能であり、したがって、長手方向に延在するチャネル７４０へのアクセスを提供する。いくつかの実施形態では、第１および第２の孔部７３６−１、７３６−２は、充填孔部として作用することが可能であり、長手方向に延在するチャネルの中に、特に、長手方向に延在するチャネル７４０の中心エリアの中に追加的な接着剤を設置するために、長手方向に延在するチャネル７４０へのアクセスを可能にする。第１および第２の孔部７３６−１、７３６−２を含まないいくつかの実施形態では、長手方向に延在するチャネル７４０のすべての部分が接着剤によって埋め込まれることを確保することが困難である可能性がある。したがって、接着剤は、第１および第２の孔部を介して、長手方向に延在するチャネル７４０に導入され得、長手方向に延在するチャネル７４０が接着剤によって充填されることを確保する。

図１２Ｆは、本開示の実施形態による、線ｋｋの方向における図１２Ｂの断面概略図である。示されているように、カプラ７２０は、細長いシャフト７０２の遠位端部によって画定されているルーメンの中に配設され得、それは、プル・ワイヤ７４３−１、７４３−２を含むことが可能であり、プル・ワイヤ７４３−１、７４３−２は、細長いシャフト７０２の側壁部を通って延在しており、細長いシャフト７０２を操作／湾曲させるように構成され得る。遠位先端部７２８は、細長いシャフト７０２の遠位端部から遠位に延在することが可能であり、また、遠位先端部ルーメン７４１を含むことが可能であり、ループ状の遠位端部７０４または他のタイプのデバイス（たとえば、可撓性の先端部部分１１０）に関連付けられたシャフトが、遠位先端部ルーメン７４１の中に挿入され得る。カプラ７２０は、長手方向に延在するチャネル７４０を画定することが可能であり、長手方向に延在するチャネル７４０の中に、複数のワイヤおよび／またはチューブ７２４が延在することが可能である。いくつかの実施形態では、ワイヤおよび／またはチューブ７２４は、長手方向に延在するチャネル７４０を通って、遠位先端部ルーメン７４１を通って、遠位端部７０４の中へ延在することが可能である。

示されているように、第１のセンサ７１４−１および第２のセンサ７１４−２は、それぞれ、第１および第２のセンサ溝部７３２−１、７３２−２の中に配設され得、第１および第２のセンサ溝部７３２−１、７３２−２は、カプラ７２０の本体部部分７３０の外部表面の中にそれぞれ画定されている。示されているように、第１のセンサ７１４−１および第２のセンサ７１４−２の断面は、角のある断面になっている。その理由は、それぞれのセンサ７１４−１、７１４−２が、カプラ７２０がそれに沿って延在する長手方向軸線に対して所定の角度で配設されているからである。示されているように、いくつかの実施形態では、センサ７１４−１、７１４−２は、チューブからそれぞれ形成され得、第１のセンサ・ルーメン７４５−１および第２のセンサ・ルーメン７４５−２を含むことが可能である。

図１２Ｆにさらに示されているように、第１の設置スロット７３４−１は、第１のセンサ溝部７３２−１の遠位端部に画定され得る。いくつかの実施形態では、第１および第２の設置スロット７３４−１、７３４−２は、センサ溝部７３２−１、７３２−２のそれぞれのものの遠位端部に画定され得る。いくつかの実施形態では、第１および第２のセンサ７１４−１、７１４−２は、第１および第２のセンサ溝部７３２−１、７３２−２の中に配設され得、第１および第２のセンサ７１４−１、７１４−２のそれぞれのものの遠位端部が、第１および第２の設置スロット７３４−１、７３４−２のそれぞれのものの中に配設されるようになっている。例では、設置スロット７３４−１、７３４−２は、カプラ７２０に沿って一貫した場所にセンサが配設されることになることを確保することが可能であり、また、リング電極７２６−１および／またはリング電極７２６−２などのような、他の機構の必要な距離の中にセンサが配設されることになることを確保することが可能である。電極７２６−１、７２６−２はリング電極として示されているが、電極７２６−１、７２６−２は、他のタイプの電極（たとえば、スポット電極）であることが可能である。

いくつかの実施形態では、それぞれのセンサ７１４−１、７１４−２の中心が、湾曲可能な細長いシャフト７０２の上の電極のうちの１つ（たとえば、第１の電極７２６−１）から（特定の公差内で）特定の距離に配設され得る。いくつかの実施形態では、第１の電極７２６−１の遠位端部は、遠位先端部７２８の近位端部から特定の距離に位置し得る（線ｌｌによって画定されている）。例では、この距離は、０．０２８５インチから０．０４９５インチの範囲にあることが可能であるが、距離は、０．０２８５インチよりも小さくなっているか、または、０．０４９５インチよりも大きくなっていることが可能である。

カプラ７２０が設置スロット７３４−１、７３４−２を含まない例では、スタック・アップ（ｓｔａｃｋ ｕｐ）が、生成される必要がある可能性があり、それは、センサが適正に整合されることを確保するために複数の測定を含む。例では、スタック・アップに関する重要な測定は、センサ７１４−１、７１４−２がそれぞれのセンサ溝部７３２−１、７３２−２の中へ着座された後に、センサ７１４−１、７１４−２の遠位縁部がカプラ７２０に対してどこにあるかということである可能性がある。例では、設置スロット７３４−１、７３４−２は、カプラ７２０に対するセンサ７１４−１、７１４−２の相対的な設置の検査を可能にする。たとえば、それぞれのセンサの遠位縁部が、設置スロット７３４−１、７３４−２のスロット（たとえば、ウィンドウ）の中に配設されている場合には、センサ７１４−１、７１４−２およびカプラ７２０の設置に関する特定の仕様が満たされ得る。

図１３Ａは、本開示の実施形態による、カプラ７６０の概略側面図である。先に論じられているように、カプラ７６０は、遠位先端部７６２および近位端部７６４を含むことが可能であり、長手方向軸線ｂｂに沿って延在することが可能である。本体部部分７６６は、遠位先端部７６２の近位端部に連結され得、いくつかの実施形態では、遠位先端部７６２よりも小さい直径を有することが可能である。一対のセンサ溝部７６８−１、７６８−２（図１３Ｂ）は、本体部部分７６６の外部表面の中に画定され得る。示されているように、第１のセンサ溝部７６８−１は、長手方向軸線ｂｂに対して特定の角度で配設され得る。したがって、第１のセンサ溝部７６８−１および／または第２のセンサ溝部７６８−２の中にセンサを設置すると、センサは、長手方向軸線ｂｂに対して特定の角度で配設され得る。たとえば、いくつかの実施形態では、第１のセンサ溝部７６８−１および第２のセンサ溝部７６８−２は、長手方向軸線ｂｂに対して、４．０±０．５度の範囲の角度でそれぞれ配設され得る。しかし、いくつかの実施形態では、本明細書で先に論じられているように、第１のセンサ溝部７６８−１および第２のセンサ溝部７６８−２が長手方向軸線ｂｂに対して配設されている角度は、４．０度よりも大きくなっているか、または、４．０度よりも小さくなっていることが可能である。いくつかの実施形態では、磁気センサを通って延在する長手方向軸線が、長手方向軸線ｂｂに対して９０度の角度で配置されているときに、磁気センサ（たとえば、巻き付けられたコイル）が最高の力を発揮することができるが、しかし、カプラ７６０に関連付けられるスペースについての制約は、磁気センサが長手方向軸線ｂｂに対してそのような角度で配設されることを防止することが可能である。

いくつかの実施形態では、第１のセンサ溝部７６８−１および第２のセンサ溝部７６８−２は、互いに対して、等しいが反対の角度で配設され得る。例では、第１のセンサ溝部７６８−１は、長手方向軸線ｂｂに対して４度の角度で配設され得、第２のセンサ溝部７６８−２は、長手方向軸線ｂｂに対して−４度の角度で配設され得る。したがって、第１のセンサ溝部７６８−１および第２のセンサ溝部７６８−２は、互いに対して８度で配設され得る。したがって、第１のセンサ溝部７６８−１、７６８−２のそれぞれのものの中に配設されている磁気センサは、互いに対して８度で配設され得る。しかし、本明細書で論じられているように、第１のセンサ溝部７６８−１および第２のセンサ溝部７６８−２は、互いに対して他の角度で配設され得る。

示されているように、第１の設置スロット７７０−１が、第１のセンサ溝部７６８−１の遠位端部に画定され得、第２の設置スロット（図示せず）が、第２のセンサ溝部（図示せず）の遠位端部に画定され得る。いくつかの実施形態では、設置スロット溝部の軸線方向の長さ（線ｃｃによって画定されている）は、いくつかの実施形態では、おおよそ０．００７±０．００１インチであることが可能である。しかし、センサ設置スロットの軸線方向の長さは、０．００７±０．００１インチよりも小さくなっているか、または、０．００７±０．００１インチよりも大きくなっていることが可能である。いくつかの実施形態では、センサ溝部の直径（線ｄｄによって画定されている）は、おおよそ０．０１９±０．００１インチであることが可能であるが、しかし、センサ溝部の直径は、０．０１９インチよりも小さくなっているか、または、０．０１９インチよりも大きくなっていることが可能である。いくつかの実施形態では、本体部部分７６６の軸線方向の長さは、おおよそ０．２６６インチであることが可能であるが、しかし、軸線方向の長さは、０．２６６インチよりも小さくなっているか、または、０．２６６インチよりも大きくなっていることが可能である。いくつかの実施形態では、センサ溝部７６８−１および第１の設置スロット７７０−１の組み合わせた軸線方向の長さは、０．２５６インチであることが可能であるが、しかし、組み合わせた軸線方向の長さは、０．２５６インチよりも小さくなっているか、または、０．２５６インチよりも大きくなっていることが可能である。いくつかの実施形態では、センサ設置スロット７７０−１を画定する遠位壁部は、線ｅｅによって示されているように、遠位先端部７６２の近位端部から０．００９６±０．００１インチの距離に配設され得るが、しかし、その距離は、０．００９６インチよりも大きくなっているか、または、０．００９６インチよりも小さくなっていることが可能である。いくつかの実施形態では、遠位先端部７６２は、開口部を画定することが可能であり、ループ状の遠位端部７０４または別のデバイス（たとえば、可撓性の先端部部分１１０）が、開口部の中に挿入され得る。例では、開口部７７２の内径は、いくつかの実施形態では、おおよそ０．０５９±０．００１インチであることが可能であるが、開口部７７２の直径は、０．０５９インチよりも大きくなっているか、または、０．０５９インチよりも小さくなっていることが可能である。

図１３Ｂは、本開示の実施形態による、シャフト７８０の遠位端部の中へ挿入したときの、図１３Ａのカプラ７６０の概略断面端面図である。いくつかの実施形態では、シャフト７８０は、０．０９２±０．００３インチの外径を有することが可能であり、本体部部分７６６は、シャフト７８０の内側ルーメンの中へ挿入され得る。いくつかの実施形態では、本体部部分７６６は、０．７４±０．００１インチの外径を有することが可能である。示されているように、シャフト７８０は、第１および第２のセンサ溝部７６８−１、７６８−２をカバーすることが可能である。したがって、第１および第２のセンサ溝部７６８−１、７６８−２の中に配設されているセンサは、シャフト７８０の下に隠され得る。第１および第２のセンサ溝部７６８−１、７６８−２は、本体部部分７６６の真ん中を通って長手方向に延在する垂直方向の平面７８４のいずれかの側に位置し得る。いくつかの実施形態では、垂直方向の平面から第１のセンサ溝部７６８−１および／または第２のセンサ溝部７６８−２の中央への距離は、線ｇｇによって画定され得、おおよそ０．０１０±０．００１であることが可能であるが、その距離は、０．０１０よりも大きくなっているか、または、０．０１０よりも小さくなっていることが可能である。

本明細書で先に論じられているように、カプラ７６０は、長手方向に延在するチャネル７８２を画定することが可能であり、長手方向に延在するチャネル７８２は、カプラ７６０の本体部部分７６６を通って延在することが可能である。示されているように、水平方向の平面７８６は、本体部部分７６６の真ん中を通って長手方向に延在することが可能であり、垂直方向の平面７８４に対して横断方向になっていることが可能である。長手方向に延在するチャネル７８２は、線ｈｈによって画定されている０．０５４±０．００１の幅を有することが可能であるが、長手方向に延在するチャネル７８２の幅は、０．０５４よりも大きくなっているか、または、０．０５４よりも小さくなっていることが可能である。いくつかの実施形態では、長手方向に延在するチャネル７８２は、線ｉｉによって画定されている０．０２９±０．００１の高さを有することが可能であるが、長手方向に延在するチャネル７８２の高さは、０．０２９よりも大きくなっているか、または、０．０２９よりも小さくなっていることが可能である。いくつかの実施形態では、水平方向の平面からセンサ溝部７６８−１、７６８−２のそれぞれのものへの距離（線ｊｊによって画定されている）は、０．０２７±０．００１であることが可能であるが、その距離は、０．０２７よりも大きくなっているか、または、０．０２７よりも小さくなっていることが可能である。

図１４は、本開示の実施形態による、医療用デバイス８００の側面図であり、医療用デバイス８００は、カプラ８０２と、センサ溝部８０６−１の中に配設されている磁気位置センサ８０４−１とを含む。先に論じられているように、カプラ８０２は、遠位先端部８１２を有することが可能であり、細長いシャフト８０８の遠位端部によって画定されているルーメンの中に配設され得る。ループ状の遠位端部８１４は、遠位先端部８１２に取り付けられ得る。カプラ８０２は、第１の孔部８１０−１および第２の孔部８１０−２を画定することが可能であり、第１の孔部８１０−１および第２の孔部８１０−２は、カプラ８０２によって画定されている長手方向に延在するチャネル７４０の中へ接着剤が導入されることを可能にすることができる。いくつかの実施形態では、カプラ８０２は、第１のセンサ溝部８０６−１および第２のセンサ溝部（図示せず）を画定することが可能であり、第１のセンサ溝部８０６−１および第２のセンサ溝部の中に、第１のセンサ８０４−１および第２のセンサ（図示せず）がそれぞれ配設され得る。先に論じられているように、センサ（たとえば、第１のセンサ８０４−１）が、医療用デバイス８００の上に配設されているカプラ８０２および電極（たとえば、電極８１６−１）に対して特定の配置を有することが重要である可能性がある。

いくつかの実施形態では、本明細書で論じられているように、設置スロット８１８−１は、第１のセンサ溝部８０６−１および第２のセンサ溝部のそれぞれのものの遠位端部において、カプラの外部表面の中に画定され得る。例では、第１のセンサに関して、第１のセンサ８０４−１は、第１のセンサ・スロット８０６−１の中に配設され得、第１のセンサ８０４−１の遠位端部が設置スロット８１８−１の中に配設され得るようになっている。したがって、第１のセンサ８０４−１の遠位端部が設置スロット８１８−１の中に配設されるので、第１のセンサ８０４−１の遠位端部が設置スロット８１８−１の中に配設されていることを確認する視覚的な検証が行われ得る。したがって、第１のセンサ８０４−１がカプラ８０２の上に適正に位置するという確認が、設置スロット８１８−１を通して行われ得る。図１４には示されていないが、同様の検証が、第２の設置スロットおよび第２のセンサによって行われ得る。

いくつかの実施形態では、医療用デバイス８００を組み立てると、カプラ８０２は、ループ状の遠位端部８１４または別のデバイス（たとえば、可撓性の先端部部分１１０）に関連付けられているワイヤおよび／またはチューブの上に結ばれ（ｓｔｒｕｎｇ）得る。いくつかの実施形態では、第１のセンサ８０４−１の遠位端部が設置スロット８１８−１の中に配設されていることの検証が行われ得る。したがって、第１のセンサ８０４−１および第２のセンサの遠位端部が設置スロットの中に配設されているという検証が行われると、デバイスの残りが組み立てられ、したがって、センサがセンサ溝部８０６−１の中に正しく配設されたことを確保することができる。カプラ８０２が設置スロットを含まない場合には、センサがセンサ溝部の中に誤って配設されている可能性があり、したがって、デバイスが構築された後のデバイスの最終的なテストのときに、デバイスは、検査を通過しない可能性があり、その時点でデバイスをスクラップにすることを結果として生じさせるか、または、新しいセンサを備えた新しいカプラ８０２の使用を結果として生じさせる。したがって、設置スロットの使用を通して、センサが溝部の中に適正に設置されていることを、設置スロットを介して検証することの結果として、作り出されるスクラップが削減され得る。

いくつかの実施形態では、カプラ８０２は、ポリマー（たとえば、プラスチック）から形成された成形コンポーネントであることが可能である。例では、カプラ８０２のさまざまな機構が、モールドを介して形成され得、および／または、機械加工され得る。いくつかの実施形態では、設置スロット８１８−１は、おおよそ０．００７インチの軸線方向の長さを有することが可能であるが、設置スロット８１８−１の軸線方向の長さは、０．００７インチよりも小さくなっているか、または、０．００７インチよりも大きくなっていることが可能である。例では、デバイスの目視検査によって、センサ８０４−１の遠位端部が設置スロット８１８−１の中に配設されていることを決定することを可能にするように、設置スロット８１８−１の軸線方向の長さが決定された。たとえば、設置スロット８１８−１が０．００７インチよりも小さい軸線方向の長さを有する場合、センサ８０４−１の遠位端部が設置スロット８１８−１の中に配設されたことを視覚的に検証することは困難である可能性がある。述べられているように、設置スロット８１８−１の側部は変化され得るが、しかし、カプラ８０１および／または医療用デバイス８００の組み立てに関する公差スタック・アップは、再評価される必要がある可能性がある。

設置スロットの１つの利点は、湾曲可能なシャフトがデバイス８００の上に結ばれる前に、センサ設置が検査され得ることであり、スクラップを低減させる。たとえば、センサが正しい場所にない場合には、２つのセンサおよびカプラだけが取り外され得、新しいカプラが結ばれ得る。この機構が検査されなかった場合、デバイス全体がスクラップされなければならないことになる。また、これは、直接的に測定されることができず、測定のスタック・アップの中で測定されなければならない、任意の寸法に有利である。

図１５Ａは、本開示の実施形態による、ルーメン８３２のいずれかの側に配設されている磁気センサ・ペア８３０−１、８３０−２の側面図である。示されているように、磁気センサ８３０−１、８３０−２のそれぞれは、線ｎｎおよび線ｐｐによって画定されている長手方向軸線に沿って配設され得る。たとえば、第１の磁気センサ８３０−１は、軸線ｎｎに沿って配設され得、第２の磁気センサ８３０−２は、軸線ｐｐに沿って配設され得る。いくつかの実施形態では、第１の磁気センサ８３０−１および第２の磁気センサ８３０−２は、ルーメン８３２のいずれかの側に配設され得、線ｏｏによって画定されている軸線に沿って延在している。例では、ルーメンは、ワイヤおよび／または流体（たとえば、イリゲーション流体）がその中を通るチューブおよび／または通路であることが可能である。示されているように、それぞれの磁気センサ８３０−１、８３０−２は、細長い円筒形状のセンサ・コアの周りに巻き付けられたワイヤを含むことが可能である。いくつかの実施形態では、センサ・コアは、ミューメタルなどのような磁気透過性材料から形成され得る。それぞれの磁気センサ８３０−１、８３０−２の中心は、互いに特定の距離に配設され得、その距離は、線ｍｍによって画定されている。

例では、それぞれの磁気センサ８３０−１、８３０−２は、５自由度のセンサであることが可能である。それぞれの磁気センサ８３０−１、８３０−２から作り出される信号は、一対の磁気センサ８３０−１、８３０−２の位置および／または配向を６自由度で決定するために、共に分析され得る。いくつかの６自由度センサは、２つのコイルとして構築され得、それぞれが、互いに対して小さい角度で配設されている。２つのコイルは、プリント回路基板に接着され得、個別に較正され得る。これは、高価になり得るとともに、いくつかのカテーテルの中にフィットしないセンサ・パッケージ・サイズになる可能性がある。結果的に、本開示の実施形態は、ほとんどのカテーテルの中にフィットするように２つの５自由度センサを配置して単一の６自由度センサを生成する、よりコスト効率の良い手段を提供する。

図１５Ｂは、本開示の実施形態による、図１５Ａに示されている磁気センサ・ペア８３０−１、８３０−２の上面図である。示されているように、磁気センサ・ペア８３０−１、８３０−２は、互いに対して角度θで配設され得る。たとえば、長手方向軸線ｎｎ（第１の磁気センサ８３０−１が長手方向軸線ｎｎに沿って延在している）は、第２の磁気センサ８３０−２に対して角度θで配設され得る。いくつかの実施形態では、磁気センサ・ペア８３０−１、８３０−２が互いに対して配設されている角度θは、１度から２０度の範囲、５度から１５度の範囲、および、好ましくは、１０度から１２度の範囲にあることが可能である。しかし、角度θは、いくつかの実施形態では、１度よりも小さくなっているか、または、２０度を上回ることも可能である。

いくつかの実施形態では、医療用デバイス（たとえば、カテーテル）シャフトのサイズに応じて、磁気センサ８３０−１と磁気センサ８３０−２との間の角度は、最大で約１６度であることが可能である。例では、センサ８３０−１とセンサ８３０−２との間の角度が増加するにつれて、センサ８３０−１の遠位端部８３４−１とセンサ８３０−２の遠位端部８３４−２との間の距離、および／または、センサ８３０−１の近位端部８３６−１とセンサ８３０−２の近位端部８３６−２との間の距離が、所定のサイズまで増加することが可能であり、その所定のサイズにおいて、遠位端部８３４−１、８３４−２および／または近位端部８３６−１、８３６−２は、それらが露出されるカテーテル・シャフトの外側表面を通って突出する。一般的に、磁気センサ８３０−１と磁気センサ８３０−２との間の角度が増加するにつれて、磁気センサ・ペア８３０−１、８３０−２の決定される場所の精度が向上することが可能である。たとえば、磁気センサ８３０−１と磁気センサ８３０−２との間の角度θが９０度になっているときに、最大精度が取得され得る。しかし、かなりの量のスペースが、磁気センサ８３０−１、８３０−２によって占有され得、磁気センサ８３０−１、８３０−２が細長いシャフト（たとえば、カテーテル・シャフト）の中に位置決めされなくなる。

図１６は、本開示の実施形態による、５自由度磁気位置センサの回転を表すモデル８５０である。モデル８５０は、５自由度磁気位置センサの回転度に対して、５自由度磁気位置センサによって作り出されるコイル電圧をミリボルト（ｍＶ）で表している。例では、５自由度位置センサが回転されるにつれて、５自由度位置センサによって作り出される信号の強度は、センサが回転されるのに従って変化することが可能である。たとえば、図１６を参照すると、０度、１８０度、および３６０度におけるピークは、５自由度磁気位置センサと磁気位置センサがその中に配設されている磁界の軸線とのアライメントに対応することが可能である。したがって、２つの５自由度センサが、互いに対してわずかな角度で、デバイス（たとえば、医療用デバイスの細長いシャフト）の中に含まれる場合には、それらは、磁界の軸線に対して異なる回転角度にあることになる。したがって、２つの５自由度磁気位置センサが回転するときに、電圧の差、および、また、それらのベクトルの差がピックアップされ得、結果的に、６自由度センサが生成され得る。

図１７Ａは、本開示の実施形態による、一対の位置センサをテストするためのフィクスチャ８６０の側面、上面、および背面の等角図である。いくつかの実施形態では、フィクスチャ８６０は、本体部部分８６２を含むことが可能である。本体部部分８６２は、近位端部８６４および遠位端部８６６を含むことが可能である。示されているように、本体部部分８６２は、長方形断面を有することが可能であるが、本体部部分８６２の断面は別の形状のものであることも可能である。いくつかの実施形態では、半円筒形状のチャネル８６８は、本体部部分８６２の上部表面８７０の中に画定され得る。半円筒形状のチャネル８６８は、図１７Ａに示されているように、長手方向軸線ｑｑに沿って延在することが可能である。いくつかの実施形態では、段付き部分８７２は、本体部部分の遠位端部８６６から遠位に延在することが可能であり、段付き遠位端部８８０を含むことが可能である。例では、段付き部分８７２は、上部段付き表面８７４および底部段付き表面８７６を含むことが可能である。例では、上部段付き表面８７４は、本体部部分８６２の上部表面８７０から上方に、遠位に延在することが可能であり、底部段付き表面８７６は、本体部部分８６２の底部表面８７８の上方に、遠位に延在することが可能である。

いくつかの実施形態では、半円筒形状のチャネル８６８は、細長いシャフトを受け入れるように構成され得る。例では、細長いシャフトは、半円筒形状のチャネル８６８の中に配設され得、細長いシャフトの遠位端部は、本体部部分８６２と段付き部分８７２との間の接合部において、遠位チャネル面８８２に当接することが可能である。いくつかの実施形態では、段付き部分８７２の上部段付き表面８７４は、第１のセンサ溝部８８４−１を画定することが可能である。いくつかの実施形態では、第１のセンサ溝部８８４−１は、長手方向軸線ｑｑに対して所定の角度で配設され得る。たとえば、第１のセンサ溝部８８４−１は、図１７Ａに示されているように、長手方向軸線ｑｑを通って延在することが可能である。さらに、底部段付き表面８７６は、第２のセンサ溝部８８４−２（図１７Ｂの中に仮想線で示されている）を画定することが可能である。図１７Ａに示されているように、遠位チャネル面８８２は、開口部８８６を画定することが可能であり、開口部８８６は、第２のセンサ溝部８８４−２と連通しており、ワイヤなどが遠位チャネル面８８２を通過することを可能にすることができる。また、第２のセンサ溝部８８４−２は、長手方向軸線ｑｑを通って延在することが可能であり、長手方向軸線ｑｑに対して所定の角度で配設され得る。いくつかの実施形態では、第１のセンサ溝部８８４−１が長手方向軸線ｑｑに対して配設されている角度は、第２のセンサ溝部８８４−２が長手方向軸線ｑｑに対して配設されている角度に等しいが反対になっていることが可能である。たとえば、第１のセンサ溝部８８４−１が長手方向軸線ｑｑに対して５度の角度で配設されている場合には、第２のセンサ溝部８８４−２は、長手方向軸線ｑｑに対してマイナス５度の角度で配設され得る。いくつかの実施形態では、磁気位置センサは、センサ溝部８８４−１、８８４−２のそれぞれのものの中に配設され得、フィクスチャ８６０は、長手方向軸線ｑｑの周りに回転され得る。長手方向軸線ｑｑの周りのフィクスチャの回転に基づいて、磁気位置センサは、フィクスチャが磁界の中で回転された量を示す可変信号を作り出すことが可能である。

図１７Ｂは、本開示の実施形態による、一対の位置センサをテストするための、図１７Ａに示されているフィクスチャ８６０の上面図である。いくつかの実施形態では、フィクスチャ８６０は、本体部部分８６２を含むことが可能である。本体部部分８６２は、近位端部８６４を含むことが可能である。いくつかの実施形態では、半円筒形状のチャネル８６８は、本体部部分８６２の上部表面８７０の中に画定され得る。半円筒形状のチャネル８６８は、長手方向軸線ｑｑに沿って延在することが可能である。いくつかの実施形態では、段付き部分８７２は、本体部部分の遠位端部８６６（図１７Ａ）から遠位に延在することが可能であり、段付き遠位端部８８０を含むことが可能である。例では、段付き部分８７２は、上部段付き表面８７４を含むことが可能である。

いくつかの実施形態では、半円筒形状のチャネル８６８は、細長いシャフトを受け入れるように構成され得る。半円筒形状のチャネル８６８は、半円筒形状のチャネル８６８の中に配設される細長いシャフト（たとえば、カテーテル、シース）の横方向の幅に同等の横方向の幅を有することが可能である。たとえば、半円筒形状のチャネル８６８の横方向の幅は、いくつかの実施形態では、おおよそ０．１インチであることが可能であるが、チャネル８６８の横方向の幅は、０．１インチよりも大きくなっているか、または、０．１インチよりも小さくなっていることが可能である。例では、細長いシャフトは、半円筒形状のチャネル８６８の中に配設され得、細長いシャフトの遠位端部は、本体部部分８６２と段付き部分８７２との間の接合部において、遠位チャネル面８８２に当接することが可能である。いくつかの実施形態では、段付き部分８７２の上部段付き表面８７４は、第１のセンサ溝部８８４−１を画定することが可能である。いくつかの実施形態では、第１のセンサ溝部８８４−１は、長手方向軸線ｑｑに対して所定の角度で配設され得る。たとえば、第１のセンサ溝部８８４−１は、図１７Ｂに示されているように、長手方向軸線ｑｑを通って延在することが可能である。さらに、底部段付き表面８７６（図１７Ｂ）は、第２のセンサ溝部８８４−２（仮想線で示されている）を画定することが可能である。また、第２のセンサ溝部８８４−２は、長手方向軸線ｑｑを通って延在することが可能であり、長手方向軸線ｑｑに対して所定の角度で配設され得、第１のセンサ溝部８８４−１が第２のセンサ溝部に対して角度θ’で配設されるようになる。いくつかの実施形態では、第１のセンサ溝部８８４−１が長手方向軸線ｑｑに対して配設されている角度は、第２のセンサ溝部８８４−２が長手方向軸線ｑｑに対して配設されている角度に等しいが反対になっていることが可能である。たとえば、第１のセンサ溝部８８４−１が長手方向軸線ｑｑに対して５度の角度で配設されている場合には、第２のセンサ溝部８８４−２は、長手方向軸線ｑｑに対してマイナス５度の角度で配設され得る。いくつかの実施形態では、磁気位置センサは、センサ溝部８８４−１、８８４−２のそれぞれのものの中に配設され得、フィクスチャ８６０は、長手方向軸線ｑｑの周りに回転され得る。長手方向軸線ｑｑの周りのフィクスチャの回転に基づいて、磁気位置センサは、フィクスチャが磁界の中で回転された量を示す可変信号を作り出すことが可能である。

図１７Ｃは、本開示の実施形態による、一対の位置センサをテストするための、図１７Ａおよび図１７Ｂに示されているフィクスチャ８６０の側面図である。本体部部分８６２は、おおよそ０．１２５インチの厚さ（線ｒｒによって表されている）を有することが可能であるが、その厚さは、０．１２５インチよりも大きくなっているか、または、０．１２５インチよりも小さくなっていることが可能である。示されているように、半円筒形状のチャネル８６８は、上部表面８７０の中に画定され得る。いくつかの実施形態では、段付き部分８７２の上部段付き表面８７４は、第１のセンサ溝部８８４−１を画定することが可能であり、底部段付き表面８７６は、第２のセンサ溝部８８４−２を画定することが可能である。いくつかの実施形態では、段付き部分８７２は、おおよそ０．０５５インチの厚さ（線ｓｓによって表されている）を有することが可能であるが、その厚さは、０．０５５インチよりも大きくなっているか、または、０．０５５インチよりも小さくなっていることが可能である。例では、おおよそ０．０３７インチの距離（線ｔｔによって表されている）が、第１のセンサ溝部８８４−１を第２のセンサ溝部８８４−２から分離することが可能であるが、その距離は、０．０３７インチよりも大きくなっているか、または、０．０３７インチよりも小さくなっていることが可能である。

図１７Ｄは、本開示の実施形態による、一対の位置センサをテストするための、図１７Ａから図１７Ｃに示されているフィクスチャ８６０の近位端部図である。本体部部分８６２は、上部表面８７０およびａ底部表面８７８を含むことが可能である。本体部部分８６２は、本体部部分８６２の上部表面の中に半円筒形状のチャネル８６８を画定することが可能である。示されているように、第１のセンサ溝部８８４−１および第２のセンサ溝部８８４−１は、本明細書で事前に説明されているように、遠位チャネル面８８２を通って延在することが可能であり、段付き部分８７２の中に形成され得る。いくつかの実施形態では、フィクスチャ８６０は、おおよそ０．２５０インチの幅を有することが可能であるが、その幅は、いくつかの実施形態では、０．２５０インチよりも大きくなっているか、または、０．２５０インチよりも小さくなっていることが可能である。

いくつかの実施形態では、先に論じられているように、細長いシャフトは、半円筒形状のチャネル８６８の中に配設され得、およびフィクスチャ８６０に接続され得る。さらに、第１の磁気センサは、第１のセンサ溝部８８４−１の中に配設され得、第２の磁気センサは、第２のセンサ溝部８８４−２の中に配設され得る。細長いシャフトは、いくつかの実施形態では、回され得、フィクスチャ８６０を軸線ｑｑの周りで回転させる。フィクスチャおよび磁気センサが軸線ｑｑの周りで回転するときに、磁気センサのそれぞれのものによって作り出される信号が変化することが可能である。したがって、信号は分析され得、フィクスチャおよびセンサの回転度の決定が決定され得る。

いくつかの実施形態では、フィクスチャ８６０は、第１の磁気センサが第２の磁気センサに対して配設されている角度の効果を測定するために使用され得る。たとえば、本明細書で先に論じられているように、第１の磁気センサが第２の磁気センサに対して配設されている角度が増加するにつれて、第１および第２の磁気センサの場所が決定され得る精度が向上する。したがって、第１の磁気センサが第２の磁気センサに対して配設されている角度は、精度とセンサのサイズの観点からフィクスチャ８６０を使用して最適化され得る。たとえば、先に論じられているように、第１の磁気センサが第２の磁気センサに対して配設されている角度を増加させると、センサ・ペアのサイズ（たとえば、センサ・ペアのそれぞれの近位端部および遠位端部同士の間の距離）を拡大することが可能である。本明細書で事前に説明されているようなフィクスチャおよび／またはデバイスの上に、第２の磁気センサに対してより大きい角度で第１の磁気センサを配設すると、センサ設置同士の間の製造差は、第１および第２の磁気センサによって作り出される信号出力に対する劇的な影響を有しない、わずかなものにすることができる。結果として、第１の磁気センサおよび第２の磁気センサを含むデバイスの較正は、重大な問題ではなくなる可能性がある。その理由は、センサ設置同士の間の製造差がわずかであれば、信号出力に対する劇的な影響がなくなる可能性があるためである。そのうえ、第１および第２のセンサ溝部を含むフィクスチャおよび／またはデバイスの中に第１の磁気センサおよび第２の磁気センサを配設することによって、較正が、より容易に実施され得る。たとえば、センサ溝部８８４−１、８８４−２を含むデバイスおよび／またはフィクスチャ８６０を構築すると、磁気センサが、センサ溝部８８４−１、８８４−２の中に正確に設置され得、１つのデバイスから別のデバイスへのセンサの設置同士の間の相違が少なくなる。

本明細書において、様々な装置、システム、および／または方法の実施形態が説明されている。多数の特定の詳細が、本明細書において説明され、添付の図面に示されている実施形態の全体的な構造、機能、製造、および使用の完全な理解をもたらすために記載されている。しかしながら、実施形態はこのような特定の詳細なしに実践することができることは当業者には理解されよう。他の事例において、本明細書において説明されている実施形態を不必要に不明瞭にしないように、既知の動作、構成要素、および要素は説明されていない。本明細書において説明され、示されている実施形態は非限定例であることは当業者には理解され、したがって、本明細書において開示されている特定の構造的および機能的詳細は代表的なものであり得、必ずしも実施形態の範囲を限定するものではなく、その範囲は添付の特許請求の範囲によってのみ確定されることが諒解され得る。

本明細書全体を通じて「様々な実施形態」、「いくつかの実施形態」、「１つの実施形態」、または「一実施形態」などが参照されている場合、これは、その実施形態と関連して説明されている特定の特徴、構造、または特性が、少なくとも１つの実施形態に含まれることを意味する。したがって、「様々な実施形態において」、「いくつかの実施形態において」、「１つの実施形態において」、または「一実施形態において」などの語句が、本明細書全体を通じた箇所に見られるとき、これは必ずしもすべてが同じ実施形態を参照しているとは限らない。さらに、特定の特徴、構造、または特性は、１つまたは複数の実施形態において、任意の適切な様式で組み合わせることができる。したがって、１つの実施形態に関連して示し、または説明されている特定の特徴、構造、または特性は、組み合わせが非論理的または非機能的でないことを所与として、限定はせず、１つまたは複数の他の実施形態の特徴、構造、または特性と、全体的にまたは部分的に組み合わせることができる。

「近位」および「遠位」という用語は、本明細書全体を通じて、患者を処置するために使用される機器の一端を操作している臨床医を参照して使用され得る。「近位」という用語は、機器の、臨床医に最も近い部分を参照し、「遠位」という用語は、臨床医から最も遠くに位置する部分を参照する。簡潔かつ明瞭にするために、「垂直」、「水平」、「上」および「下」のような特定の用語は、本明細書においては、示されている実施形態を参照して使用され得る。しかしながら、手術器具は、多くの向きおよび位置において使用することができ、これらの用語は、限定的で絶対的であるようには意図されていない。

イリゲーション型高密度電極カテーテルの少なくとも１つの実施形態が、一定の詳細度で上述されているが、当業者であれば、本開示の精神または範囲から逸脱することなく、開示されている実施形態に多くの改変を行うことができる。すべての方向の参照（例えば、上方、下方、上向き、下向き、左、右、左側、右側、上部、下部、上、下、垂直、水平、時計回り、および反時計回り）は、読者の本開示の理解を助けるための識別を目的として使用されているに過ぎず、特にデバイスの位置、向き、または使用に関する限定を成すものではない。結合の参照（例えば、固定されている、取り付けられている、結合されている、接続されている、など）は、広範に解釈されるべきであり、要素の接続の間の中間部材、および、要素間の相対運動を含んでもよい。そのため、結合の参照は、必ずしも、２つの要素が直に接続され、互いに固定された関係にあることを意味するとは限らない。上記の説明に含まれ、添付の図面に示されているすべての事項は、限定ではなく例示としてのみ解釈されるべきであることが意図されている。添付の特許請求の範囲に規定されている本開示の精神から逸脱することなく、詳細または構造の変更を行うことができる。

その全体または一部が参照により本明細書に組み込まれると記載されている任意の特許、刊行物、または他の公開資料は、その組み込まれる資料が既存の定義、記述、または他の本開示において記載されている他の公開資料と矛盾しない限りにおいてのみ本明細書に組み込まれている。このようなものとして、かつ必要な限りにおいて、本明細書において明示的に記載されているような本開示は、参照により組み込まれている、いかなる矛盾する資料にも優先する。参照により本明細書に組み込まれると記載されているが、本明細書に記載されている既存の定義、記述、または他の開示資料と矛盾する任意の資料またはその一部は、その組み込まれている資料と既存の公開資料との間に矛盾が生じない限りにおいてのみ組み込まれることになる。
以下の項目は、国際出願時の特許請求の範囲に記載の要素である。
（項目１）
近位端部および遠位端部を含むカテーテル・シャフトであって、カテーテル・シャフト長手方向軸線を画定している、カテーテル・シャフトと、
前記カテーテル・シャフトの前記遠位端部に隣接して位置する可撓性の先端部部分と、
前記可撓性の先端部部分を覆って流体を吐出するように構成されている、前記カテーテル・シャフトの前記遠位端部の上に配設されているイリゲーション型カプラと
を含む、イリゲーション型高密度電極カテーテル。
（項目２）
前記イリゲーション型カプラは、前記可撓性の先端部部分を前記カテーテル・シャフトと接続するように構成されている、項目１に記載のイリゲーション型高密度電極カテーテル。
（項目３）
前記イリゲーション型カプラは、前記可撓性の先端部部分のターゲットとされた部分に向けて流体を吐出するように構成されている、項目１に記載のイリゲーション型高密度電極カテーテル。
（項目４）
接続ステムの遠位端部は、前記イリゲーション型カプラに接続されており、前記接続ステムの一部分は、前記カテーテル・シャフトの前記遠位端部の中へ挿入されている、項目１に記載のイリゲーション型高密度電極カテーテル。
（項目５）
前記接続ステムは、６自由度センサ・アセンブリを含む、項目４に記載のイリゲーション型高密度電極カテーテル。
（項目６）
前記６自由度センサ・アセンブリは、一対の５自由度磁気位置センサを含み、
前記一対の５自由度磁気位置センサのうちの第１のものは、第１のセンサ長手方向軸線の周りに巻かれた第１のコイルを含み、
前記一対の５自由度磁気位置センサのうちの第２のものは、第２のセンサ長手方向軸線の周りに巻かれた第２のコイルを含む、項目５に記載のイリゲーション型高密度電極カテーテル。
（項目７）
前記第１のセンサ長手方向軸線は、前記第２のセンサ長手方向軸線および前記カテーテル・シャフト長手方向軸線に対して発散する、項目６に記載のイリゲーション型高密度電極カテーテル。
（項目８）
前記第２のセンサ長手方向軸線は、前記第１のセンサ長手方向軸線および前記カテーテル・シャフト長手方向軸線に対して発散する、項目７に記載のイリゲーション型高密度電極カテーテル。
（項目９）
前記第１のセンサ長手方向軸線は、前記第２のセンサ長手方向軸線に対して所定の角度で配置されており、
前記角度は、１度から２０度の範囲にある、項目８に記載のイリゲーション型高密度電極カテーテル。
（項目１０）
前記角度は、５度から１５度の範囲にある、項目９に記載のイリゲーション型高密度電極カテーテル。
（項目１１）
前記角度は、１０度から１２度の範囲にある、項目９に記載のイリゲーション型高密度電極カテーテル。
（項目１２）
前記接続ステムは、上部接続ステム部分および底部接続ステム部分を含み、
前記可撓性の先端部部分の近位端部は、前記上部接続ステム部分と前記底部接続ステム部分との間に配設されている、項目６に記載のイリゲーション型高密度電極カテーテル。
（項目１３）
前記一対の５自由度磁気位置センサのうちの前記第１のものは、前記上部接続ステム部分の中に配設されており、
前記一対の５自由度磁気位置センサのうちの前記第２のものは、前記底部接続ステム部分の中に配設されている、項目１２に記載のイリゲーション型高密度電極カテーテル。
（項目１４）
前記上部接続ステム部分は、外部表面の中に第１のセンサ溝部を画定しており、前記一対の５自由度磁気位置センサのうちの前記第１のものは、前記第１のセンサ溝部の中に配設されており、
前記底部接続ステム部分は、外部表面の中に第２のセンサ溝部を画定しており、前記一対の５自由度磁気位置センサのうちの前記第２のものは、前記第２のセンサ溝部の中に配設されている、項目１３に記載のイリゲーション型高密度電極カテーテル。
（項目１５）
前記上部接続ステム部分は、その中に第１のセンサ・ルーメンを画定しており、前記一対の５自由度磁気位置センサのうちの前記第１のものが、前記第１のセンサ・ルーメンの中に配設されており、
前記底部接続ステム部分は、その中に第２のセンサ・ルーメンを画定しており、前記一対の５自由度磁気位置センサのうちの前記第２のものが、前記第２のセンサ・ルーメンの中に配設されている、項目１３に記載のイリゲーション型高密度電極カテーテル。
（項目１６）
近位端部および遠位端部を含む細長いシャフトであって、シャフト長手方向軸線を画定している、細長いシャフトと、
前記細長いシャフトの遠位端部の中に配設されているカプラであって、前記カプラの外部表面の中に第１のセンサ溝部および第２のセンサ溝部を画定しており、また、カプラ長手方向軸線を画定している、カプラと、
前記第１のセンサ溝部の中に配設されている第１の５自由度磁気位置センサ、および、前記第２のセンサ溝部の中に配設されている第２の５自由度磁気位置センサであって、前記第１の５自由度磁気位置センサは、第１のセンサ長手方向軸線を画定しており、前記第２の５自由度磁気位置センサは、第２のセンサ長手方向軸線を画定している、第１の５自由度磁気位置センサ、および、第２の５自由度磁気位置センサと
を含み、
前記第１のセンサ長手方向軸線および前記第２のセンサ長手方向軸線は、互いに対して、および、前記カプラ長手方向軸線に対して発散する、カテーテル。
（項目１７）
前記第１のセンサ溝部および前記第２のセンサ溝部は、前記カプラの両側に配設されている、項目１６に記載のカテーテル。
（項目１８）
前記カプラは、前記第１のセンサ溝部の遠位端部において第１の設置スロットを画定しており、前記第２のセンサ溝部の遠位端部において第２の設置スロットを画定している、項目１６に記載のカテーテル。
（項目１９）
前記第１の設置スロットおよび前記第２の設置スロットのそれぞれは、前記カプラの前記外部表面の中に画定されている長手交差方向のスロットである、項目１８に記載のカテーテル。
（項目２０）
前記カプラは、本体部部分と、前記本体部部分の遠位端部に連結されている遠位先端部とを含み、
前記長手交差方向のスロットは、前記カプラの前記本体部部分の中に画定されており、
前記第１の５自由度磁気位置センサの遠位端部は、前記第１の設置スロットの中に配設されており、前記第２の５自由度磁気位置センサの前記遠位端部は、前記第２の設置スロットの中に配設されている、項目１９に記載のカテーテル。
（項目２１）
近位端部および遠位端部を含む細長いシャフトであって、シャフト長手方向軸線を画定している、細長いシャフトと、
前記細長いシャフトの前記遠位端部の中に配設されている可撓性の先端部マウントであって、上部接続ステム部分および底部接続ステム部分を含む接続ステム部分、ならびに、前記可撓性の先端部マウントの遠位端部に接続されているイリゲーション型カプラを含む、可撓性の先端部マウントと、
近位装着部分および遠位可撓性の部分を含む可撓性の先端部部分であって、前記近位装着部分は、前記上部接続ステム部分と前記底部接続ステム部分との間に配設されている、可撓性の先端部部分と、
前記上部接続ステム部分の中に画定されている第１のセンサ溝部と、前記底部接続ステム部分の中に画定されている第２のセンサ溝部と、
前記第１のセンサ溝部の中に配設されている第１の５自由度磁気位置センサ、および、前記第２のセンサ溝部の中に配設されている第２の５自由度磁気位置センサであって、前記第１の５自由度磁気位置センサは、第１のセンサ長手方向軸線を画定しており、前記第２の５自由度磁気位置センサは、第２のセンサ長手方向軸線を画定している、第１の５自由度磁気位置センサ、および、第２の５自由度磁気位置センサと
を含む、医療用デバイス。
（項目２２）
前記第１のセンサ長手方向軸線は、前記第２のセンサ長手方向軸線および前記シャフト長手方向軸線に対して発散しおり、前記第２のセンサ長手方向軸線は、前記第１のセンサ長手方向軸線および前記シャフト長手方向軸線に対して発散する、項目２１に記載の医療用デバイス。

Claims (20)

1. 近位端部および遠位端部を含むカテーテル・シャフトであって、カテーテル・シャフト長手方向軸線を画定している、カテーテル・シャフトと、
   前記カテーテル・シャフトの前記遠位端部に隣接して位置する可撓性の先端部部分と、
   前記可撓性の先端部部分を覆って流体を吐出するように構成されている、前記カテーテル・シャフトの前記遠位端部の上に配設されているイリゲーション型カプラと
   を含み、
   接続ステムの遠位端部は、前記イリゲーション型カプラに接続されており、前記接続ステムの一部分は、前記カテーテル・シャフトの前記遠位端部の中へ挿入されており、
   前記接続ステムは、６自由度センサ・アセンブリを含む、イリゲーション型高密度電極カテーテル。
2. 前記イリゲーション型カプラは、前記可撓性の先端部部分を前記カテーテル・シャフトと接続するように構成されている、請求項１に記載のイリゲーション型高密度電極カテーテル。
3. 前記イリゲーション型カプラは、前記可撓性の先端部部分のターゲットとされた部分に向けて流体を吐出するように構成されている、請求項１又は２に記載のイリゲーション型高密度電極カテーテル。
4. 前記６自由度センサ・アセンブリは、一対の５自由度磁気位置センサを含み、
   前記一対の５自由度磁気位置センサのうちの第１のものは、第１のセンサ長手方向軸線の周りに巻かれた第１のコイルを含み、
   前記一対の５自由度磁気位置センサのうちの第２のものは、第２のセンサ長手方向軸線の周りに巻かれた第２のコイルを含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載のイリゲーション型高密度電極カテーテル。
5. 前記第１のセンサ長手方向軸線は、前記第２のセンサ長手方向軸線および前記カテーテル・シャフト長手方向軸線に対して発散する、請求項４に記載のイリゲーション型高密度電極カテーテル。
6. 前記第２のセンサ長手方向軸線は、前記第１のセンサ長手方向軸線および前記カテーテル・シャフト長手方向軸線に対して発散する、請求項５に記載のイリゲーション型高密度電極カテーテル。
7. 前記第１のセンサ長手方向軸線は、前記第２のセンサ長手方向軸線に対して所定の角度で配置されており、
   前記角度は、１度から２０度の範囲にある、請求項６に記載のイリゲーション型高密度電極カテーテル。
8. 前記角度は、５度から１５度の範囲にある、請求項７に記載のイリゲーション型高密度電極カテーテル。
9. 前記角度は、１０度から１２度の範囲にある、請求項７に記載のイリゲーション型高密度電極カテーテル。
10. 前記接続ステムは、上部接続ステム部分および底部接続ステム部分を含み、
    前記可撓性の先端部部分の近位端部は、前記上部接続ステム部分と前記底部接続ステム部分との間に配設されている、請求項４〜９のいずれか一項に記載のイリゲーション型高密度電極カテーテル。
11. 前記一対の５自由度磁気位置センサのうちの前記第１のものは、前記上部接続ステム部分の中に配設されており、
    前記一対の５自由度磁気位置センサのうちの前記第２のものは、前記底部接続ステム部分の中に配設されている、請求項１０に記載のイリゲーション型高密度電極カテーテル。
12. 前記上部接続ステム部分は、外部表面の中に第１のセンサ溝部を画定しており、前記一対の５自由度磁気位置センサのうちの前記第１のものは、前記第１のセンサ溝部の中に配設されており、
    前記底部接続ステム部分は、外部表面の中に第２のセンサ溝部を画定しており、前記一対の５自由度磁気位置センサのうちの前記第２のものは、前記第２のセンサ溝部の中に配設されている、請求項１１に記載のイリゲーション型高密度電極カテーテル。
13. 前記上部接続ステム部分は、その中に第１のセンサ・ルーメンを画定しており、前記一対の５自由度磁気位置センサのうちの前記第１のものが、前記第１のセンサ・ルーメンの中に配設されており、
    前記底部接続ステム部分は、その中に第２のセンサ・ルーメンを画定しており、前記一対の５自由度磁気位置センサのうちの前記第２のものが、前記第２のセンサ・ルーメンの中に配設されている、請求項１１に記載のイリゲーション型高密度電極カテーテル。
14. 近位端部および遠位端部を含む細長いシャフトであって、シャフト長手方向軸線を画定している、細長いシャフトと、
    前記細長いシャフトの遠位端部の中に配設されているカプラであって、前記カプラの外部表面の中に第１のセンサ溝部および第２のセンサ溝部を画定しており、また、カプラ長手方向軸線を画定している、カプラと、
    前記第１のセンサ溝部の中に配設されている第１の５自由度磁気位置センサ、および、前記第２のセンサ溝部の中に配設されている第２の５自由度磁気位置センサであって、前記第１の５自由度磁気位置センサは、第１のセンサ長手方向軸線を画定しており、前記第２の５自由度磁気位置センサは、第２のセンサ長手方向軸線を画定している、第１の５自由度磁気位置センサ、および、第２の５自由度磁気位置センサと
    を含み、
    前記第１のセンサ長手方向軸線および前記第２のセンサ長手方向軸線は、互いに対して、および、前記カプラ長手方向軸線に対して発散する、カテーテル。
15. 前記第１のセンサ溝部および前記第２のセンサ溝部は、前記カプラの両側に配設されている、請求項１４に記載のカテーテル。
16. 前記カプラは、前記第１のセンサ溝部の遠位端部において第１の設置スロットを画定しており、前記第２のセンサ溝部の遠位端部において第２の設置スロットを画定している、請求項１４又は１５に記載のカテーテル。
17. 前記第１の設置スロットおよび前記第２の設置スロットのそれぞれは、前記カプラの前記外部表面の中に画定されている長手交差方向のスロットである、請求項１６に記載のカテーテル。
18. 前記カプラは、本体部部分と、前記本体部部分の遠位端部に連結されている遠位先端部とを含み、
    前記長手交差方向のスロットは、前記カプラの前記本体部部分の中に画定されており、
    前記第１の５自由度磁気位置センサの遠位端部は、前記第１の設置スロットの中に配設されており、前記第２の５自由度磁気位置センサの遠位端部は、前記第２の設置スロットの中に配設されている、請求項１７に記載のカテーテル。
19. 近位端部および遠位端部を含む細長いシャフトであって、シャフト長手方向軸線を画定している、細長いシャフトと、
    前記細長いシャフトの前記遠位端部の中に配設されている可撓性の先端部マウントであって、上部接続ステム部分および底部接続ステム部分を含む接続ステム部分、ならびに、前記可撓性の先端部マウントの遠位端部に接続されているイリゲーション型カプラを含む、可撓性の先端部マウントと、
    近位装着部分および遠位可撓性の部分を含む可撓性の先端部部分であって、前記近位装着部分は、前記上部接続ステム部分と前記底部接続ステム部分との間に配設されている、可撓性の先端部部分と、
    前記上部接続ステム部分の中に画定されている第１のセンサ溝部と、前記底部接続ステム部分の中に画定されている第２のセンサ溝部と、
    前記第１のセンサ溝部の中に配設されている第１の５自由度磁気位置センサ、および、前記第２のセンサ溝部の中に配設されている第２の５自由度磁気位置センサであって、前記第１の５自由度磁気位置センサは、第１のセンサ長手方向軸線を画定しており、前記第２の５自由度磁気位置センサは、第２のセンサ長手方向軸線を画定している、第１の５自由度磁気位置センサ、および、第２の５自由度磁気位置センサと
    を含む、医療用デバイス。
20. 前記第１のセンサ長手方向軸線は、前記第２のセンサ長手方向軸線および前記シャフト長手方向軸線に対して発散しおり、前記第２のセンサ長手方向軸線は、前記第１のセンサ長手方向軸線および前記シャフト長手方向軸線に対して発散する、請求項１９に記載の医療用デバイス。

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