JP6526377B2 - エッジランピング - Google Patents
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Description
本発明は、たとえば、以下のような態様で実現することもできる。
適用例1:
システムであって、
第1のRF信号を生成するためのベースRF生成器であって、前記第1のRF信号は、ある状態から別の状態へ遷移し、前記第1のRF信号のある状態から別の状態への遷移は、プラズマインピーダンスの変化をもたらす、ベースRF生成器と、
第2のRF信号を生成するための二次RF生成器であって、前記第2のRF信号は、前記プラズマインピーダンスの変化を安定化させるために、ある状態から別の状態へ遷移する、二次RF生成器と、
前記二次RF生成器につながれたコントローラであって、前記第2のRF信号がある状態から別の状態へ遷移するときに前記第2のRF信号のエッジランピングを実施するために、前記二次RF生成器にパラメータ値を提供するためのものであるコントローラと、
を備えるシステム。
適用例2:
適用例1に記載のシステムであって、
前記エッジランピングは、正または負の傾きを有する、システム。
適用例3:
適用例1に記載のシステムであって、
前記パラメータ値は、周波数値、電力値、またはそれらの組み合わせを含む、システム。
適用例4:
無線周波数(RF)信号の電力レベルの変化がプラズマインピーダンスに及ぼす影響を軽減するためのシステムであって、
一次生成器と、
二次生成器と、を備え、
前記一次生成器は、
一次RF信号を生成するための一次駆動・増幅器と、
デジタルパルス信号の状態を識別するための一次デジタル信号プロセッサ(DSP)であって、前記状態は、第1の状態と、第2の状態とを含み、前記一次DSPは、前記デジタルパルス信号が前記第1の状態にあるときの第1の一次周波数入力を識別するため、および前記デジタルパルス信号が前記第2の状態にあるときの第2の一次周波数入力を識別するため、のものである、一次DSPと、
前記一次DSPにおよび前記一次駆動・増幅器につながれた第1の一次自動周波数調整器(AFT)であって、前記第1の一次AFTは、前記一次DSPから前記第1の一次周波数入力を受信するため、および前記第1の一次周波数入力に対応するプラズマインピーダンスを達成するように前記一次RF信号を調整するため、のものである、第1の一次AFTと、
前記一次DSPにおよび前記一次駆動・増幅器につながれた第2の一次AFTであって、前記第2の一次AFTは、前記一次DSPから前記第2の一次周波数入力を受信するため、および前記第2の一次周波数入力に対応するプラズマインピーダンスを達成するように前記一次RF信号を調整するため、のものである、第2の一次AFTと、を含み、
前記一次RF信号は、前記第1の一次周波数入力から前記第2の一次周波数入力への一次遷移速度を有し、
前記二次生成器は、
二次RF信号を生成するための二次駆動・増幅器と、
前記デジタルパルス信号の状態を識別するための二次デジタル信号プロセッサ(DSP)であって、前記二次DSPは、前記デジタルパルス信号が前記第1の状態にあるときの第1の二次周波数入力を識別するため、および前記デジタルパルス信号が前記第2の状態にあるときの第2の二次周波数入力を識別するため、のものである、二次DSPと、
前記二次DSPにおよび前記二次駆動・増幅器につながれた第1の二次AFTであって、前記第1の二次AFTは、前記二次DSPから前記第1の二次周波数入力を受信するため、および前記第1の二次周波数入力に対応するプラズマインピーダンスを達成するように前記二次RF信号を調整するため、のものである、第1の二次AFTと、
前記二次DSPにおよび前記二次駆動・増幅器につながれた第2の二次AFTであって、前記第2の二次AFTは、前記二次DSPから前記第2の二次周波数入力を受信するため、および前記第2の二次周波数入力に対応するプラズマインピーダンスを達成するように前記二次RF信号を調整するため、のものである、第2の二次AFTと、を含み、
前記二次DSPは、前記第1の二次周波数入力から前記第2の二次周波数入力への二次遷移速度を決定するように構成され、前記二次遷移速度は、前記一次遷移速度と異なる、システム。
適用例5:
適用例4に記載のシステムであって、
前記二次遷移速度は、前記一次遷移速度未満である、システム。
適用例6:
適用例4に記載のシステムであって、
前記第1の二次周波数入力から前記第2の二次周波数入力への遷移にかかる第1の時間の長さは、前記第1の一次周波数入力から前記第2の一次周波数入力への遷移にかかる第2の時間の長さよりも長い、システム。
適用例7:
適用例6に記載のシステムであって、
前記第1の時間の長さは、プラズマインピーダンスが安定化するためにかかる第3の時間の長さよりも短い、システム。
適用例8:
適用例6に記載のシステムであって、
前記第1の時間の長さは、インピーダンス整合回路が前記二次RF生成器の1つまたはそれ以上の部分のインピーダンスをプラズマチャンバの1つまたはそれ以上の部分のインピーダンスに一致させるためにかかる第3の時間の長さよりも短い、システム。
適用例9:
適用例4に記載のシステムであって、
前記第1の状態は、ハイの状態であり、前記第2の状態は、ロウの状態である、システム。
適用例10:
適用例4に記載のシステムであって、
前記第1の状態は、オン状態であり、前記第2の状態は、オフ状態である、システム。
適用例11:
無線周波数(RF)信号の電力レベルの変化がプラズマインピーダンスに及ぼす影響を軽減するためのシステムであって、
一次生成器と、
二次生成器と、を備え、
前記一次生成器は、
一次RF信号を生成するための一次駆動・増幅器と、
前記一次駆動・増幅器につながれた1つまたはそれ以上の一次コントローラであって、
前記デジタルパルス信号の状態を識別することであって、前記状態は、第1の状態と、第2の状態とを含む、前記デジタルパルス信号の状態の識別と、
前記デジタルパルス信号が前記第1の状態にあるときに、第1の一次電力入力に対応するプラズマインピーダンスを達成するように前記一次RF信号を調整することと、
前記デジタルパルス信号が前記第2の状態にあるときに、第2の一次電力入力に対応するプラズマインピーダンスを達成するように前記一次RF信号を調整することと、を行うように構成された1つまたはそれ以上の一次コントローラと、を含み、
前記一次RF信号は、前記第1の一次電力入力から前記第2の一次電力入力への一次遷移速度を有し、
前記二次生成器は、
二次RF信号を生成するための二次駆動・増幅器と、
前記二次駆動・増幅器につながれた1つまたはそれ以上の二次コントローラであって、
前記デジタルパルス信号が前記第1の状態にあるときに、第1の二次電力入力に対応するプラズマインピーダンスを達成するように前記二次RF信号を調整することと、
前記デジタルパルス信号が前記第2の状態にあるときに、第2の二次電力入力に対応するプラズマインピーダンスを達成するように前記二次RF信号を調整することと、
前記第1の二次電力入力から前記第2の二次電力入力への二次遷移速度を決定することと、を行うように構成された1つまたはそれ以上の二次コントローラと、を含み、
前記二次遷移速度は、前記一次遷移速度と異なる、システム。
適用例12:
適用例11に記載のシステムであって、
前記二次遷移速度は、前記一次遷移速度未満である、システム。
適用例13:
適用例11に記載のシステムであって、
前記第1の二次電力入力から前記第2の二次電力入力への遷移にかかる第1の時間の長さは、前記第1の一次電力入力から前記第2の一次電力入力への遷移にかかる第2の時間の長さよりも長い、システム。
適用例14:
適用例13に記載のシステムであって、
前記第1の時間の長さは、プラズマインピーダンスが前記第2の状態で安定化するためにかかる第3の時間の長さよりも短い、システム。
適用例15:
適用例13に記載のシステムであって、
前記第1の時間の長さは、インピーダンス整合回路が前記二次生成器の1つまたはそれ以上の部分のインピーダンスをプラズマチャンバの1つまたはそれ以上の部分のインピーダンスに一致させるためにかかる第3の時間の長さよりも短い、システム。
適用例16:
適用例11に記載のシステムであって、
前記第1の状態は、ハイの状態であり、前記第2の状態は、ロウの状態である、システム。
適用例17:
適用例11に記載のシステムであって、
前記第1の状態は、オン状態であり、前記第2の状態は、オフ状態である、システム。
適用例18:
無線周波数(RF)信号の電力レベルの変化がプラズマインピーダンスに及ぼす影響を軽減するための方法であって、
デジタルパルス信号の状態を識別することであって、前記状態は、第1の状態と、第2の状態とを含む、前記デジタルパルス信号の状態の識別と、
前記デジタルパルス信号が前記第1の状態にあるときの第1の一次周波数入力を識別することと、
前記デジタルパルス信号が前記第2の状態にあるときの第2の一次周波数入力を識別することと、
前記デジタルパルス信号が前記第1の状態にあるときに、前記第1の一次周波数入力に対応するプラズマインピーダンスを達成するように一次RF信号を調整することと、
前記デジタルパルス信号が前記第2の状態にあるときに、前記第2の一次周波数入力に対応するプラズマインピーダンスを達成するように前記一次RF信号を調整することであって、前記一次RF信号は、前記第1の一次周波数入力から前記第2の一次周波数入力への一次遷移速度を有する、前記一次RF信号の調整と、
前記デジタルパルス信号が前記第1の状態にあるときの第1の二次周波数入力を識別することと、
前記デジタルパルス信号が前記第2の状態にあるときの第2の二次周波数入力を識別することと、
前記デジタルパルス信号が前記第1の状態にあるときに、前記第1の二次周波数入力に対応するプラズマインピーダンスを達成するように二次RF信号を調整することと、
前記デジタルパルス信号が前記第2の状態にあるときに、前記第2の二次周波数入力に対応するプラズマインピーダンスを達成するように前記二次RF信号を調整することと、
前記第1の二次周波数入力から前記第2の二次周波数入力への二次遷移速度を決定することであって、前記二次遷移速度は、前記一次遷移速度と異なる、二次遷移速度の決定と、を備える方法。
適用例19:
適用例18に記載の方法であって、
前記二次遷移速度は、前記一次遷移速度未満である、方法。
適用例20:
適用例18に記載の方法であって、
前記第1の二次周波数入力から前記第2の二次周波数入力への遷移にかかる第1の時間の長さは、前記第1の一次周波数入力から前記第2の一次周波数入力への遷移にかかる第2の時間の長さよりも長い、方法。
適用例21:
適用例20に記載の方法であって、
前記第1の時間の長さは、プラズマインピーダンスが前記第2の状態で安定化するためにかかる第3の時間の長さよりも短い、方法。
適用例22:
適用例20に記載の方法であって、
前記第1の時間の長さは、前記二次生成器の1つまたはそれ以上の部分のインピーダンスをプラズマチャンバの1つまたはそれ以上の部分のインピーダンスに一致させるためにかかる第3の時間の長さよりも短い、方法。
適用例23:
適用例20に記載の方法であって、
前記第1の状態は、ハイの状態であり、前記第2の状態は、ロウの状態である、方法。
Claims (23)
- システムであって、
第1のRF信号を生成するためのベースRF生成器であって、前記第1のRF信号は、ある状態から別の状態へ遷移し、前記第1のRF信号のある状態から別の状態への遷移は、プラズマインピーダンスの変化をもたらす、ベースRF生成器と、
第2のRF信号を生成するための二次RF生成器であって、前記第2のRF信号は、前記プラズマインピーダンスの変化を安定化させるために、ある状態から別の状態へ遷移する、二次RF生成器と、
一つの電極を備えるプラズマチャンバであって、前記ベースRF生成器と前記二次RF生成器とは、前記一つの電極に接続されるように構成されるプラズマチャンバと、
前記二次RF生成器につながれたコントローラであって、前記第2のRF信号がある状態から別の状態へ遷移するときに前記第2のRF信号の遷移の速度を変更するために、前記二次RF生成器にパラメータ値を提供するためのものであるコントローラであって、前記第2のRF信号の遷移の速度は、前記第1のRF信号の遷移の速度とは異なるように変更される、コントローラと、
を備えるシステム。 - 請求項1に記載のシステムであって、
前記第2のRF信号の遷移の速度は、正または負の傾きを有し、
前記第2のRF信号の遷移の速度が正の傾きを有する場合とは、前記第2のRF信号のロウ電力レベルが、時間の経過により、ハイ電力レベルに移行する場合のことを意味し、
前記第2のRF信号の遷移の速度が負の傾きを有する場合とは、前記第2のRF信号の前記ハイ電力レベルが、時間の経過により、前記ロウ電力レベルに移行する場合のことを意味する、システム。 - 請求項1に記載のシステムであって、
前記パラメータ値は、周波数値、電力値、またはそれらの組み合わせを含む、システム。 - 無線周波数(RF)信号の電力レベルの変化がプラズマインピーダンスに及ぼす影響を軽減するためのシステムであって、
一次生成器と、
二次生成器と、を備え、
前記一次生成器は、
一次RF信号を生成するための一次駆動・増幅器と、
デジタルパルス信号の状態を識別するための一次デジタル信号プロセッサ(DSP)であって、前記状態は、第1の状態と、第2の状態とを含み、前記一次DSPは、前記デジタルパルス信号が前記第1の状態にあるときの第1の一次周波数入力を識別するため、および前記デジタルパルス信号が前記第2の状態にあるときの第2の一次周波数入力を識別するため、のものである、一次DSPと、
前記一次DSPにおよび前記一次駆動・増幅器につながれた第1の一次自動周波数調整器(AFT)であって、前記第1の一次AFTは、前記一次DSPから前記第1の一次周波数入力を受信するため、および前記第1の一次周波数入力に対応するプラズマインピーダンスを達成するように前記一次RF信号を調整するため、のものである、第1の一次AFTと、
前記一次DSPにおよび前記一次駆動・増幅器につながれた第2の一次AFTであって、前記第2の一次AFTは、前記一次DSPから前記第2の一次周波数入力を受信するため、および前記第2の一次周波数入力に対応するプラズマインピーダンスを達成するように前記一次RF信号を調整するため、のものである、第2の一次AFTと、を含み、
前記一次RF信号は、前記第1の一次周波数入力から前記第2の一次周波数入力への一次遷移速度を有し、
前記二次生成器は、
二次RF信号を生成するための二次駆動・増幅器と、
前記デジタルパルス信号の状態を識別するための二次デジタル信号プロセッサ(DSP)であって、前記二次DSPは、前記デジタルパルス信号が前記第1の状態にあるときの第1の二次周波数入力を識別するため、および前記デジタルパルス信号が前記第2の状態にあるときの第2の二次周波数入力を識別するため、のものである、二次DSPと、
前記二次DSPにおよび前記二次駆動・増幅器につながれた第1の二次AFTであって、前記第1の二次AFTは、前記二次DSPから前記第1の二次周波数入力を受信するため、および前記第1の二次周波数入力に対応するプラズマインピーダンスを達成するように前記二次RF信号を調整するため、のものである、第1の二次AFTと、
前記二次DSPにおよび前記二次駆動・増幅器につながれた第2の二次AFTであって、前記第2の二次AFTは、前記二次DSPから前記第2の二次周波数入力を受信するため、および前記第2の二次周波数入力に対応するプラズマインピーダンスを達成するように前記二次RF信号を調整するため、のものである、第2の二次AFTと、を含み、
前記二次DSPは、前記第1の二次周波数入力から前記第2の二次周波数入力への二次遷移速度を決定するように構成され、前記二次遷移速度は、前記一次遷移速度と異なる、システム。 - 請求項4に記載のシステムであって、
前記二次遷移速度は、前記一次遷移速度未満である、システム。 - 請求項4に記載のシステムであって、
前記第1の二次周波数入力から前記第2の二次周波数入力への遷移にかかる第1の時間の長さは、前記第1の一次周波数入力から前記第2の一次周波数入力への遷移にかかる第2の時間の長さよりも長い、システム。 - 請求項6に記載のシステムであって、
前記第1の時間の長さは、プラズマインピーダンスが安定化するためにかかる第3の時間の長さよりも短い、システム。 - 請求項6に記載のシステムであって、
前記第1の時間の長さは、インピーダンス整合回路が前記二次生成器の1つまたはそれ以上の部分のインピーダンスをプラズマチャンバの1つまたはそれ以上の部分のインピーダンスに一致させるためにかかる第3の時間の長さよりも短い、システム。 - 請求項4に記載のシステムであって、
前記第1の状態は、ハイの状態であり、前記第2の状態は、ロウの状態である、システム。 - 請求項4に記載のシステムであって、
前記第1の状態は、オン状態であり、前記第2の状態は、オフ状態である、システム。 - 無線周波数(RF)信号の電力レベルの変化がプラズマインピーダンスに及ぼす影響を軽減するためのシステムであって、
一次生成器と、
二次生成器と、を備え、
前記一次生成器は、
一次RF信号を生成するための一次駆動・増幅器と、
前記一次駆動・増幅器につながれた1つまたはそれ以上の一次コントローラであって、
デジタルパルス信号の状態を識別することであって、前記状態は、第1の状態と、第2の状態とを含む、前記デジタルパルス信号の状態の識別と、
前記デジタルパルス信号が前記第1の状態にあるときに、第1の一次電力入力に対応するプラズマインピーダンスを達成するように前記一次RF信号を調整することと、
前記デジタルパルス信号が前記第2の状態にあるときに、第2の一次電力入力に対応するプラズマインピーダンスを達成するように前記一次RF信号を調整することと、を行うように構成された1つまたはそれ以上の一次コントローラと、を含み、
前記一次RF信号は、前記第1の一次電力入力から前記第2の一次電力入力への一次遷移速度を有し、
前記二次生成器は、
二次RF信号を生成するための二次駆動・増幅器と、
前記二次駆動・増幅器につながれた1つまたはそれ以上の二次コントローラであって、
前記デジタルパルス信号が前記第1の状態にあるときに、第1の二次電力入力に対応するプラズマインピーダンスを達成するように前記二次RF信号を調整することと、
前記デジタルパルス信号が前記第2の状態にあるときに、第2の二次電力入力に対応するプラズマインピーダンスを達成するように前記二次RF信号を調整することと、
前記第1の二次電力入力から前記第2の二次電力入力への二次遷移速度を決定することと、を行うように構成された1つまたはそれ以上の二次コントローラと、を含み、
前記二次遷移速度は、前記一次遷移速度と異なる、システム。 - 請求項11に記載のシステムであって、
前記二次遷移速度は、前記一次遷移速度未満である、システム。 - 請求項11に記載のシステムであって、
前記第1の二次電力入力から前記第2の二次電力入力への遷移にかかる第1の時間の長さは、前記第1の一次電力入力から前記第2の一次電力入力への遷移にかかる第2の時間の長さよりも長い、システム。 - 請求項13に記載のシステムであって、
前記第1の時間の長さは、プラズマインピーダンスが前記第2の状態で安定化するためにかかる第3の時間の長さよりも短い、システム。 - 請求項13に記載のシステムであって、
前記第1の時間の長さは、インピーダンス整合回路が前記二次生成器の1つまたはそれ以上の部分のインピーダンスをプラズマチャンバの1つまたはそれ以上の部分のインピーダンスに一致させるためにかかる第3の時間の長さよりも短い、システム。 - 請求項11に記載のシステムであって、
前記第1の状態は、ハイの状態であり、前記第2の状態は、ロウの状態である、システム。 - 請求項11に記載のシステムであって、
前記第1の状態は、オン状態であり、前記第2の状態は、オフ状態である、システム。 - 無線周波数(RF)信号の電力レベルの変化がプラズマインピーダンスに及ぼす影響を軽減するための方法であって、
デジタルパルス信号の状態を識別することであって、前記状態は、第1の状態と、第2の状態とを含む、前記デジタルパルス信号の状態の識別と、
前記デジタルパルス信号が前記第1の状態にあるときの第1の一次周波数入力を識別することと、
前記デジタルパルス信号が前記第2の状態にあるときの第2の一次周波数入力を識別することと、
前記デジタルパルス信号が前記第1の状態にあるときに、前記第1の一次周波数入力に対応するプラズマインピーダンスを達成するように一次RF信号を調整することと、
前記デジタルパルス信号が前記第2の状態にあるときに、前記第2の一次周波数入力に対応するプラズマインピーダンスを達成するように前記一次RF信号を調整することであって、前記一次RF信号は、前記第1の一次周波数入力から前記第2の一次周波数入力への一次遷移速度を有する、前記一次RF信号の調整と、
前記デジタルパルス信号が前記第1の状態にあるときの第1の二次周波数入力を識別することと、
前記デジタルパルス信号が前記第2の状態にあるときの第2の二次周波数入力を識別することと、
前記デジタルパルス信号が前記第1の状態にあるときに、前記第1の二次周波数入力に対応するプラズマインピーダンスを達成するように二次RF信号を調整することと、
前記デジタルパルス信号が前記第2の状態にあるときに、前記第2の二次周波数入力に対応するプラズマインピーダンスを達成するように前記二次RF信号を調整することと、
前記第1の二次周波数入力から前記第2の二次周波数入力への二次遷移速度を決定することであって、前記二次遷移速度は、前記一次遷移速度と異なる、二次遷移速度の決定と、を備える方法。 - 請求項18に記載の方法であって、
前記二次遷移速度は、前記一次遷移速度未満である、方法。 - 請求項18に記載の方法であって、
前記第1の二次周波数入力から前記第2の二次周波数入力への遷移にかかる第1の時間の長さは、前記第1の一次周波数入力から前記第2の一次周波数入力への遷移にかかる第2の時間の長さよりも長い、方法。 - 請求項20に記載の方法であって、
前記第1の時間の長さは、プラズマインピーダンスが前記第2の状態で安定化するためにかかる第3の時間の長さよりも短い、方法。 - 請求項20に記載の方法であって、
前記第1の時間の長さは、二次RF信号を生成する生成器の1つまたはそれ以上の部分のインピーダンスをプラズマチャンバの1つまたはそれ以上の部分のインピーダンスに一致させるためにかかる第3の時間の長さよりも短い、方法。 - 請求項20に記載の方法であって、
前記第1の状態は、ハイの状態であり、前記第2の状態は、ロウの状態である、方法。
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