JP6524461B2 - 放熱構造体 - Google Patents
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Description
そこで、本願の課題は、電子部品の熱をより広げ、または、熱を逃がし、局所的温度上昇を防止することとする。
また、基板に実施された部品と、部品の上面と側面とを覆う多孔質のグラファイト多孔質体と、グラファイト多孔質体に接続される放熱体と、グラファイト多孔質体に接続される筐体と、を含む放熱構造体を用いる。
また、基板に実施された部品と、部品の上面と側面とを覆う多孔質のグラファイト多孔質体と、グラファイト多孔質体に接続される異方性熱伝導シートと、異方性熱伝導シートに接続される放熱体または筐体と、を含む放熱構造体を用いる。
グラファイト多孔質体に接続される放熱体と、を含み、グラファイト多孔質体において、部品側と放熱体の側の少なくともいずれか1方の面に、熱伝導性ペーストが保持されている放熱構造体を用いる。
また、冷媒体と、冷媒体中の第1グラファイト多孔質体と、温媒体と、温媒体中の第2グラファイト多孔質体と、第1グラファイト多孔質体と第2グラファイト多孔質体との間の金属部材と、を含む熱交換部材である放熱構造体を用いる。
この発明で用いるグラファイト多孔質体であるグラファイトモノリスについて以下で説明する。次の方法で作製するものである。
一定の形状の容器内で、水及び触媒の存在下にフェノール化合物とアルデヒド化合物を反応させて得られる樹脂のゲルを脱水し、得られた乾燥ゲルを不活性ガス雰囲気中で焼成する方法を用いる。
フェノール化合物とアルデヒド化合物の反応は、水及び触媒の存在下に行われる。
フェノール化合物としては、例えば、下数式(1)
上記R1において、ハロゲン原子若しくは置換基で置換されていてもよいアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、s−ブチル基、n−オクチル基、ノニル基、p−t−ブチル基、2−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシプロピル基、3−ヒドロキシプロピル基、2−ヒドロキシブチル基、3−ヒドロキシブチル基、4−ヒドロキシブチル基、2,3−ジヒドロキシプロピル基、3,4−ジヒドロキシブチル基、シアノメチル基、2−シアノエチル基、3−シアノプロピル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、2−メトキシエチル基、2−エトキシエチル基、3−メトキシプロピル基、3−エトキシプロピル基、2−ヒドロキシ−3−メトキシプロピル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、3−クロロプロピル基、3−ブロモプロピル基、4−クロロブチル基、4−ブロモブチル基、カルボキシメチル基、2−カルボキシエチル基、3−カルボキシプロピル基、4−カルボキシブチル基、1,2−ジカルボキシエチル基、カルバモイルメチル基、2−カルバモイルエチル基、3−カルバモイルプロピル基、4−カルバモイルブチル基、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−エトキシカルボニルエチル基、3−メトキシカルボニルプロピル基、3−エトキシカルボニルプロピル基、4−メトキシカルボニルブチル基、4−エトキシカルボニルブチル基、メチルカルボニルオキシメチル基、エチルカルボニルオキシメチル基、2−メチルカルボニルオキシエチル基、2−エチルカルボニルオキシエチル基、3−メチルカルボニルオキシプロピル基、3−エチルカルボニルオキシプロピル基、4−メチルカルボニルオキシブチル基、4−エチルカルボニルオキシブチル基、スルホメチル基、2−スルホエチル基、3−スルホプロピル基、4−スルホブチル基、スルファモイルメチル基、2−スルファモイルエチル基、3−スルファモイルプロピル基及び4−スルファモイルブチル基等を挙げることができる。
式(1)において、nとしては、3又は4が好ましく、4が特に好ましい。
式(1)で表される化合物の具体例としては、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、2,3−キシレノール、2,4−キシレノール、2,5−キシレノール、2,6−キシレノール、3,4−キシレノール、3,5−キシレノール、o−エチルフェノール、i−プロピルフェノール、ブチルフェノール、p−t−ブチルフェノール、p−オクチルフェノール、p−ノニルフェノール、2−クロロフェノール、4−メトキシフェノール、2,4−ジクロロフェノール、3,5−ジクロロフェノール、4−クロロ−3−メチルフェノール、カテコール、3−メチルカテコール、4−t−ブチルカテコール、レゾルシノール、2−メチルレゾルシノール、4−エチルレゾルシノール、4−クロロレゾルシノール、5−メチルレゾルシノール、2,5−ジメチルレゾルシノール、5−メトキシレゾルシノール、5−ペンチルレゾルシノールやピロガロール等を挙げることができる。
この方法におけるアルデヒド化合物としては、例えば、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ブチルアルデヒド、サリチルアルデヒド、ベンズアルデヒド等が挙げられる。
この方法において、フェノール化合物とアルデヒド化合物の使用割合は特に限定されない。
この方法において、フェノール化合物に対するアルデヒド化合物のモル比は、通常は1〜3の範囲であり、好ましくは1.2〜2.5の範囲である。
実施の形態のゾル−ゲル反応において、反応温度は、通常は0〜100℃の範囲であり、好ましくは30〜90℃の範囲である。
湿潤ゲルの脱水は、例えば、前記湿潤ゲル中の水を親水性有機溶媒で置換することにより行われる。
このようにして得られた親水性有機溶媒で湿潤されたゲルは、好ましくは凍結乾燥され、乾燥ゲルが得られる。ただし、常温乾燥・凍結乾燥・超臨界乾燥のどれでもよい。
凍結乾燥における凍結温度は、通常は−70〜−5℃の範囲であり、好ましくは−30〜−10℃の範囲である。
この実施の形態では、所望の形状(実施の形態2以降)の容器内で、上記溶液からゲルを生成できる。または、ゲル状態時に、所望の形状(実施の形態2以降)の容器へ入れる。このことで、所望の形状のカーボン乾燥ゲルが得られる。カーボン乾燥ゲルは、容器から取り出される。以下の各実施の形態で使用できる。
低い温度で成形後、高い温度で焼成できる。
<物性>
この材料を以下、グラファイトモノリスとする。多孔質体であるが、グラファイトである。熱伝導性もあるレベルある。グラファイトとしての(002)面のX線回折の半値幅は、約0.5°であった。
メソ孔体積は、0.6〜3cm3/g、ミクロ孔体積は、0.2〜0.6cm3/gである。大きな孔から小さな孔まであり、孔がつながっている。流体を流しやすい。
<グラファイトモノリスの範囲>
このグラファイトモノリスは、グラファイトの多孔質体である。高分子フィルムでなく、有機化合物のゾルゲル反応により生成されたものである。特に、ベンゼン化合物とアルデヒド化合物のゾルゲル反応で生成されるものである。
(実施の形態2)
実施の形態2を、以下、図1(a)〜図1(d)の断面図を用いて説明する。
電子部品102の熱を、グラファイトモノリス10を経由して筐体101へ伝達する。電子部品102の冷却をする。
図1(b)は、図1(a)の変形例である。差異は、グラファイトモノリス10が、基板103にも、つながっている点である。
図1(c)、図1(d)は、変形例である。グラファイトモノリス10の形状が異なる。筐体側へ向かって水平断面積が大きくなっている。熱を上方へ行くにしたがって、水平方向へ広げ、熱の集中を防止する。
特徴は、グラファイトモノリス10により、電子部品102の上面だけでなく、側面を覆い、電子部品102の熱を広げ、熱の集中を防止する。
(実施の形態3)
実施の形態3を、以下、図2(a)から図2(d)の断面図で説明する。
電子部品102の熱を、グラファイトモノリス10を経由して筐体101へ伝達する。電子部品102の冷却をする。断熱材11は、グラファイトモノリス10において集中しているところの熱を、筐体101へ伝達しないようにしている。つまり、グラファイトモノリス10において、電子部品102の真上部分は、温度が高く、真上以外のところの温度は、低い。このため、断熱材11で、一端熱の伝達を留め、平均化してから、筐体101へ熱を伝達するものである。
この構造とすることで、断熱材11とグラファイトモノリス10との接着シート、接着剤が不要で、薄型化、工程削減ができる。また、断熱材11は、通常、脆く粉などがでるが、グラファイトモノリス10に入れ込めば、粉が防止できる。混合領域12は断熱材11により断熱部となる。
図2(d)では、断熱材11とグラファイトモノリス10の多段の積層体である。多段とすることで、全体としての一体化、断熱材11の補強、熱伝達の均質性がでる。
(実施の形態4)
実施の形態4を、以下、図3(a)〜図3(d)の断面図で説明する。
グラファイトモノリス10には、細孔があり、ファン13の空気を流すことがよりできる。結果、グラファイトモノリス10は、十分に冷却され、電子部品102を冷却できる。
図3(c)では、グラファイトモノリス10上部にファン13を設けている。さらに、グラファイトモノリス10に開口を設けている。垂直方向の開口に空気が流せ、冷却がさらにされる。
(実施の形態5)
実施の形態5を、以下、図4(a)、図4(b)で説明する。
実施の形態1の構成に異方性伝導シート20を追加したところが異なる。グラファイトモノリス10に、異方性伝導シート20を追加している。この異方性伝導シート20のより、グラファイトモノリス10からの熱を水平方向へ広げ、筐体101へ伝達する。
(実施の形態6)
実施の形態6を、以下、図5(a)、図5(b)で説明する。熱交換器の熱交換する部分に用いるものである。
グラファイトモノリス10aは、温媒体19から、熱を受けとり、金属材料16へ、熱を伝える。金属材料16は、熱をグラファイトモノリス10bへ伝え、グラファイトモノリス10bは熱を冷媒体18へ放熱する。
結果、熱効率より熱交換ができる。
温媒体の管19aは、グラファイトモノリス10中に配置されている。
結果、温媒体の熱は、冷媒体へ伝達される。
(実施の形態7)
実施の形態7を、以下、図6(a)、図6(b)で説明する。
なお、グラファイトモノリス10の全体に熱伝導性のペースト52を含ませてもよい。また、グラファイトモノリス10は、電子部品102の周辺を込んでもよい。
(実施の形態8)
実施の形態8を、以下、図7で説明する。
このゴムシート30は、図8のグラファイトシート100の代わりに使用できる。図6の電子部品102と放熱器31との間にも用いることができる。
実施の形態9を、以下、図8(a)、図8(b)の断面図で説明する。
図8(a)、図8(b)は、流体管40にグラファイトモノリス100を配置したものである。流れる流体の熱を交換する。
(なお書き)
上記実施の形態は、組み合わせることができる。
10a グラファイトモノリス
10b グラファイトモノリス
11 断熱材
12 混合領域
13 ファン
14 放熱器
16 金属材料
18 冷媒体
18a 管
19 温媒体
19a 管
20 異方性熱伝導シート
30 ゴムシート
31 放熱器
40 流体管
52 ペースト
100 グラファイトシート
101 筐体
102 電子部品
103 基板
Claims (6)
- 基板に実装された部品と、
前記部品の上面と側面とを覆う多孔質のグラファイト多孔質体と、
前記グラファイト多孔質体の側面と前記基板とに接続されるファンと、を含む放熱構造体。 - 基板に実装された部品と、
前記部品の上面と側面とを覆う多孔質のグラファイト多孔質体と、
前記グラファイト多孔質体の側面に接続される放熱体と、
前記グラファイト多孔質体に接続される筐体と、
を含み、
前記放熱体は、前記筐体と前記基板と前記グラファイト多孔質体とに接続される放熱構造体。 - 基板に実装された部品と、
前記部品の上面と側面とを覆う多孔質のグラファイト多孔質体と、
前記グラファイト多孔質体の上面に接続されるファンと、を含み、前記グラファイト多孔質体には開口があり、前記ファンからの空気を通過できる放熱構造体。 - 前記グラファイト多孔質体には垂直方向に前記開口があり、前記ファンからの空気を通過できる請求項3記載の放熱構造体。
- 基板に実装された部品と、
前記部品の上面と側面とを覆う多孔質のグラファイト多孔質体と、
前記グラファイト多孔質体の側面に接続されるファンと、を含み、前記グラファイト多孔質体には開口があり、前記ファンからの空気を通過できる放熱構造体であり、
前記グラファイト多孔質体には水平方向に前記開口があり、前記ファンからの空気を通過できる放熱構造体。 - 前記グラファイト多孔質体は、高分子フィルムでなく、有機化合物のゾルゲル反応により生成されたものである請求項1〜5のいずれか1項に記載の放熱構造体。
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