JP6522078B2 - エチレンオキシドの製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、エチレンオキシドの製造方法に関する。

エチレンオキシドは、今日ではエチレンを銀触媒の存在下で分子状酸素含有ガスにより
接触気相酸化して製造される。そして、エチレンオキシドの製造プロセスにおける精製方
法は大略以下のとおりである（例えば、特許文献１を参照）。

まず、エチレンと分子状酸素含有ガスとを銀触媒上で接触気相酸化して、エチレンオキ
シドを含む反応生成ガスを得る（反応工程）。次いで、得られた反応生成ガスをエチレン
オキシド吸収塔へ導き、水を主成分とする吸収液と接触させて、エチレンオキシドを水溶
液として回収する（吸収工程）。次いで、回収されたエチレンオキシド水溶液をエチレン
オキシドの精製系へと送り、いくつかの段階を経て高純度エチレンオキシドが得られる。
このエチレンオキシドの精製系は通常、放散工程、精留工程、脱水工程、軽質分分離工程
、重質分分離工程などからなっている。

なお、エチレンオキシド吸収塔の塔頂部から排出される未反応エチレン、副生した炭酸
ガス（二酸化炭素；ＣＯ_２）や水、さらには不活性ガス（窒素、アルゴン、メタン、エタ
ン等）を含む排出ガスについては、そのままエチレン酸化工程に循環させるか、またはそ
の一部を抜き出し、炭酸ガス吸収塔に導きアルカリ性吸収液により炭酸ガスを選択的に吸
収させ、この吸収液を炭酸ガス放散塔に供給して炭酸ガスを放散回収することが通常行わ
れている（例えば、特許文献２を参照）。

特開昭６２−１０３０７２号公報 特開昭６０−１３１８１７号公報

ここで、エチレンオキシド精製系から排出される未凝縮ガスはエチレンオキシドを含有
していることから、当該未凝縮ガスについてはエチレンオキシド再吸収塔へ供給すること
でエチレンオキシドを再度吸収し、得られた吸収液をエチレンオキシド精製系へ再循環さ
せることでエチレンオキシドを回収することが行われている。

しかしながら、このようにエチレンオキシド再吸収塔においてエチレンオキシドを回収
しようとすると、エチレンオキシドを吸収した後のエチレンオキシド吸収塔の塔底液をエ
チレンオキシド放散塔へ送る過程やエチレンオキシド放散塔において、エチレンオキシド
の一部に水分子が付加してエチレングリコールが生成する反応が起こる。このようなエチ
レングリコールの副生は、より高純度のエチレンオキシドをより高い取得率で製造するた
めの障害となる。したがって、かようなエチレングリコールの副生を抑制する手段の開発
が望まれている。なお、エチレンオキシド製造プロセスの系内でのエチレングリコールの
濃縮を防止する目的で、エチレングリコールの一部を系外へ排出したりエチレングリコー
ル製造プラントへ送ったりするという対処が従来採られているが、これらの対処ではエチ
レンオキシドの取得率が低下してしまうという問題がある。

そこで本発明は、エチレンオキシドの製造プロセスにおけるエチレングリコールの副生
量を低減させ、エチレンオキシドの取得率を向上させうる手段を提供することを目的とす
る。

本発明者らは、上述した課題の解決を図るべく、鋭意研究を行った。その結果、エチレ
ンオキシド再吸収塔の運転圧力を従来よりも小さくすることにより、上記課題が解決され
うることを見出し、本発明を完成させるに至った。

すなわち、本発明の一形態は、エチレンオキシドの製造方法に関する。当該製造方法は
、エチレンを銀触媒の存在下、分子状酸素含有ガスにより接触気相酸化させるエチレン酸
化反応工程において生成したエチレンオキシドを含有する反応生成ガスをエチレンオキシ
ド吸収塔へ供給し、前記エチレンオキシド吸収塔へ供給された吸収液と接触させ、エチレ
ンオキシドを含有する前記エチレンオキシド吸収塔の塔底液をエチレンオキシド精製系へ
供給し、前記エチレンオキシド精製系から排出されるエチレンオキシド含有未凝縮ガスを
エチレンオキシド再吸収塔へ供給する工程を含む。そして、当該製造方法は、エチレンオ
キシド再吸収塔の運転圧力を３〜５０ｋＰａ ｇａｕｇｅとする点に特徴がある。

本発明によれば、エチレンオキシドの製造プロセスにおけるエチレングリコールの副生
量が低減され、エチレンオキシドの取得率が向上する。また、副次的な効果として、エチ
レンオキシド製造プロセスの系外へ排出すべき副生エチレングリコールの濃縮に要する蒸
気量や、副生エチレングリコール系外へ排出する際に必要になる投入水量が削減されると
いう、工業的に見てきわめて有利な効果が奏される。

本発明の一実施形態に係るエチレンオキシドの製造方法を実施するエチレンオキシドの製造プロセスの構成例を示すブロック図である。 図２は、本発明の一実施形態に係るエチレンオキシドの製造プロセスを実施するためのプロセスの構成例を示すブロック図である。図２は、後述する実施例で採用された放散工程に対応している。 放散されたエチレンオキシドが最終的に精製されるまでの精留工程の構成例を示すブロック図である。

以下、図面を参照しながら、本発明を実施するための具体的な形態について詳細に説明
するが、本発明の技術的範囲は特許請求の範囲の記載に基づいて定められるべきであり、
下記の形態のみには限定されない。

≪反応系≫
まず、図１を参照しつつ、エチレンの酸化反応によってエチレンオキシドを製造する系
（以下、単に「反応系」とも称する）について説明する。図１は、本発明の一実施形態に
係るエチレンオキシドの製造方法を実施するエチレンオキシドの製造プロセスの構成例を
示すブロック図である。図１に示すエチレンオキシドの製造プロセスは、大きく分けて反
応系、炭酸ガス系、および精製系の３つの系から構成されている。

本発明で用いられる「エチレンオキシドを含有する反応生成ガス」は、エチレンを銀触
媒の存在下、分子状酸素含有ガスにより接触気相酸化させる工程（以下、「エチレン酸化
反応工程」とも称する）で生成したものであればよい。この接触気相酸化反応の技術自体
は広く知られたものであり、本発明の実施にあたっても、従来公知の知見が適宜参照され
うる。なお、反応生成ガスの組成等の具体的な形態に特に制限はない。一例として、反応
生成ガスは、通常０．５〜５容量％のエチレンオキシドの他、未反応酸素、未反応エチレ
ン、生成水、二酸化炭素、窒素、アルゴン、メタン、エタン等のガスに加えて、ホルムア
ルデヒド、アセトアルデヒドのアルデヒド類、酢酸等の有機酸類を微量含有している。

図１を参照すると、まず、エチレンや分子状酸素を含有する原料ガスは、昇圧ブロワ４
で昇圧された後、熱交換器（図示せず）で加熱されてエチレン酸化反応器１に供給される
。エチレン酸化反応器１は通常、銀触媒が充填された反応管を多数備えた多管式反応器で
ある。エチレン酸化反応工程で生成した反応生成ガスは、熱交換器（図示せず）を通過す
ることで冷却された後、エチレンオキシド吸収塔（以下、単に「吸収塔」とも称する）２
に供給される。具体的には、反応生成ガスは吸収塔２の塔底部から供給される。一方、吸
収塔２の塔頂部からは、水を主成分とする吸収液が供給される。これにより、吸収塔２の
内部において気液の向流接触が行われ、反応生成ガスに含まれるエチレンオキシド（通常
は９９質量％以上）が吸収液に吸収される。また、エチレンオキシドの他にも、エチレン
、酸素、二酸化炭素、不活性ガス（窒素、アルゴン、メタン、エタン等）、並びにエチレ
ン酸化反応工程で生成したホルムアルデヒド等の低沸点不純物、アセトアルデヒド、酢酸
等の高沸点不純物もその実質量が同時に吸収される。なお、吸収塔２に供給される反応生
成ガスの温度は、好ましくは約２０〜８０℃である。また、吸収液の組成について特に制
限はなく、水を主成分とするもののほか、特開平８−１２７５７３号公報に開示されてい
るようなプロピレンカーボネートが吸収液として用いられてもよい。また、必要に応じて
、吸収液には添加剤が添加されうる。吸収液に添加されうる添加剤としては、例えば、消
泡剤やｐＨ調整剤が挙げられる。消泡剤としては、エチレンオキシドおよび副生エチレン
グリコール等に対して不活性であり、吸収液の消泡効果を有するものであればいかなる消
泡剤も使用されうるが、代表的な例としては、水溶性シリコンエマルションが吸収液への
分散性、希釈安定性、熱安定性が優れているため、効果的である。また、ｐＨ調整剤とし
ては、例えば、カリウム、ナトリウムといったアルカリ金属の水酸化物や炭酸塩等の、吸
収液に溶解しうる化合物が挙げられ、水酸化カリウムまたは水酸化ナトリウムが好ましい
。なお、吸収液のｐＨは、好ましくは５〜１２であり、より好ましくは６〜１１である。

吸収塔２としては、通常、棚段塔形式または充填塔形式の吸収塔が用いられうる。吸収
塔２の操作条件としては、反応生成ガス中のエチレンオキシド濃度が０．５〜５容量％、
好ましくは１．０〜４容量％であり、吸収塔２の操作圧は０．２〜４．０ＭＰａ ｇａｕ
ｇｅ、好ましくは１．０〜３．０ＭＰa ｇａｕｇｅである。吸収操作は、高圧ほど有利
であるが、そのとりうる値は酸化反応器の運転圧力に応じて決定されうる。また、反応生
成ガスに対する吸収液のモル流量比（Ｌ／Ｖ）は、通常０．３０〜２．００である。また
、反応生成ガスの標準状態における空間線速度（ＧＨＳＶ［ＮＴＰ］）は、通常４００〜
６０００ｈ^−１である。

吸収塔２において吸収されなかったエチレン、酸素、二酸化炭素、不活性ガス（窒素、
アルゴン、メタン、エタン）、アルデヒド、酸性物質等を含有するガスは、吸収塔２の塔
頂部から導管３を通じて排出される。そして、この排出ガスは、昇圧ブロワ４によって圧
力を高められた後、導管５を通じてエチレン酸化反応器１へと循環される。なお、エチレ
ン酸化反応工程の詳細については上述したとおりである。ここで、エチレン酸化反応工程
は通常、銀触媒が充填された反応管を多数備えた酸化反応器中で、加圧（１．０〜３．０
ＭＰａ ｇａｕｇｅ程度の圧力）条件下にて行われる。このため、吸収塔２の塔頂部から
の排出ガスをエチレン酸化反応工程へと循環する前に、昇圧ブロワ４等の昇圧手段を用い
て昇圧する必要があるのである。

≪炭酸ガス系≫
好ましい実施形態においては、図１に示すように、吸収塔２の塔頂部から排出されるガ
スの少なくとも一部を、昇圧ブロワ４等の昇圧手段により昇圧し、導管６を通じて炭酸ガ
ス吸収塔７へ供給する。以下、図１を参照しつつ、炭酸ガス吸収塔７へのガスの導入に始
まる炭酸ガス回収系（以下、単に「炭酸ガス系」とも称する）について説明する。

上述したように吸収塔２の塔頂部から排出されるガスが加圧されて炭酸ガス吸収塔７へ
導入される場合、その際のガス圧力は０．２〜４．０ＭＰａ ｇａｕｇｅ程度に調節され
、ガス温度は８０〜１２０℃程度に調節される。炭酸ガス吸収塔７の後段には炭酸ガス放
散塔８が設置されており、この炭酸ガス放散塔８の塔底部からはアルカリ性吸収液が炭酸
ガス吸収塔７の上部へ供給される。そして、このアルカリ性吸収液との向流接触により、
炭酸ガス吸収塔７へ導入されたガスに含まれる炭酸ガスや、少量の不活性ガス（例えば、
エチレン、メタン、エタン、酸素、窒素、アルゴン等）が吸収される。炭酸ガス吸収塔７
の塔頂部から排出される未吸収ガスは導管３へ循環され、新たに補充される酸素、エチレ
ン、メタン等と混合された後、エチレン酸化反応器１へ循環される。

炭酸ガス吸収塔７において炭酸ガスを吸収した炭酸ガス濃厚吸収液は、炭酸ガス吸収塔
の塔底部から抜き出された後、圧力０．０１〜０．５ＭＰａ ｇａｕｇｅ、温度８０〜１
２０℃程度に調節され、塔底部にリボイラー９を備えた炭酸ガス放散塔８の上部に供給さ
れる。炭酸ガス放散塔８の上部の供液部において吸収液は、炭酸ガス吸収塔７と炭酸ガス
放散塔８との圧力差によって圧力フラッシュを起こす。これにより、吸収液中の１０〜３
０容量％の炭酸ガスおよび大部分の不活性ガスは吸収液から分離され、炭酸ガス放散塔８
の塔頂部から排出される。

上述した圧力フラッシュにより炭酸ガスの一部を分離された残りの炭酸ガス吸収液は、
供液部の下方に設けられた気液接触部１０に入り、リボイラー９より発生した蒸気および
気液接触部１０以下の部分から発生した炭酸ガスを主とするガスと向流接触して吸収液中
の炭酸ガスの一部およびその他の不活性ガスの大部分が吸収液から分離される。炭酸ガス
系におけるこれら一連のプロセスにより、気液接触部１０の最上部から下方、好ましくは
気液接触に必要な一理論段数以上に相当する気液接触部の下部の炭酸ガス放散塔８の内部
から、高純度の炭酸ガスが得られる。すなわち、気液接触部１０で炭酸ガス吸収液中の不
活性ガスは、下部から上昇してくるごく微量の不活性ガスを含む炭酸ガスと水蒸気とによ
って向流気液接触を起こして放散され、これにより不活性ガスの濃度は極めて低くなる。
したがって、この放散後のガスを取り出せば高純度の炭酸ガスが得られる。

≪精製系≫
吸収塔２においてエチレンオキシドを吸収した吸収液は、当該吸収塔２の塔底液として
、エチレンオキシド精製系（以下、単に「精製系」とも称する）へと送られる。精製系の
具体的な形態について特に制限はなく、従来公知の知見が適宜参照されうる。一例として
、精製系は通常、放散工程、精留工程、脱水工程、軽質分分離工程、重質分分離工程など
からなっている。以下、図２および図３を参照しつつ、これらのうちのいくつかの工程か
らなる精製系について説明する。図２は、本発明の一実施形態に係るエチレンオキシドの
製造プロセスを実施するためのプロセスの構成例を示すブロック図である。

吸収塔２の塔底液（吸収液）は、エチレンオキシド放散塔（以下、単に「放散塔」とも
称する）１１へ供給される前に、通常は放散塔１１における放散に適した温度にまで予め
加熱される。具体的には、図２に示すように、吸収塔２の塔底液（吸収液）は導管１２を
通じて熱交換器１３へ供給される。そして、この熱交換器１３において、放散塔１１の塔
底液との間での熱交換が行われ、さらに必要であれば加熱器１４によって加熱され、吸収
塔２の塔底液（吸収液）は７０〜１１０℃程度の温度まで加熱される。本実施形態におい
て、放散塔１１の塔底液との熱交換によって加熱された吸収塔２の塔底液（吸収液）は、
導管１５を通じて気液分離タンク１６に供給される。気液分離タンク１６においては、一
部エチレンオキシドおよび水を含む不活性ガスの軽質分ガスが分離され、導管１７を通じ
て排出される。一方、軽質分ガスをフラッシュした残部の吸収液は、導管１８を通じて放
散塔１１の上部へ供給される。なお、導管１８のように特に高温条件下でエチレンオキシ
ドが水と共存する部位については、その配設距離を可能な限り短くするように配慮するこ
とで、吸収液の滞留時間を短くすることができ、その結果、エチレングリコールの副生の
防止に資することができる。

続いて、例えば、図２に示すように水蒸気等の加熱媒体を加熱器１９へ供給し、当該加
熱器１９において加熱された加熱媒体を用いて放散塔１１を加熱するか、または、放散塔
１１の塔底部へ直接水蒸気を供給することによって放散塔１１を加熱する。このようにし
て放散塔１１が加熱されることによって、放散塔１１の上部から供給された吸収液に含ま
れるエチレンオキシド（通常はその９９質量％以上）が放散し、放散塔１１の塔頂部から
導管２０を経て排出される。なお、放散塔１１の操作条件は、運転圧力（塔頂圧力）が３
〜６０ｋＰａ ｇａｕｇｅであり、好ましくは３〜３０ｋＰａ ｇａｕｇｅである。塔頂
圧力は小さいほど塔内の温度が低下し、その結果として塔内におけるエチレンオキシドか
らのエチレングリコールの副生が抑制される傾向がある。しかしながら、エチレンオキシ
ドは比較的着火しやすい物質であるため、系内への酸素の漏れ込みを防止するという観点
から、大気圧以下での運転は通常行われず、上述したように大気圧よりもやや大きい圧力
で運転される。なお、放散塔１１の温度条件としては、塔頂温度は好ましくは８２〜９３
℃であり、塔底温度は好ましくは１０１〜１１５℃である。

エチレンオキシドが放散された後の残部の吸収液は、図２に示すように、放散塔１１の
塔底液として抜き出され、吸収塔２における吸収液として吸収塔２の上部へ供給され、循
環使用されうる。ただし、吸収液の組成を調節する目的で、別途設けた導管を通じて、新
鮮な水や、必要に応じて上述した添加剤を吸収塔２へと供給してもよい。また、吸収塔２
へ供給される吸収液中のエチレングリコール濃度を一定に保持することが好ましい。この
ため、吸収塔２と放散塔１１との間を循環する吸収液の一部は放散塔１１の塔底部から抜
き出される。ここで、放散塔１１の塔底液はエチレンオキシドを実質的に含まない。具体
的には、当該塔底液中に含まれるエチレンオキシドの濃度は、好ましくは１０質量ｐｐｍ
以下であり、より好ましくは０．５質量ｐｐｍ以下である。この塔底液は、エチレン酸化
反応工程とエチレンオキシド放散工程との間で吸収液中に副生したエチレングリコールを
含有しており、その一部は、導管２１および導管２２を通じて抜き出される。抜き出され
た液は、燃焼処理に供されるか、または、含有するエチレングリコールを濃縮して回収す
るためのエチレングリコール濃縮工程に供給される。さらに、場合によっては、抜き出さ
れた液に含まれるエチレングリコールをそのまま、またはエチレングリコール濃縮工程を
経た後に、特公昭４５−９９２６号公報や特公平４−２８２４７号公報等に開示されてい
るような化学的処理のほか、場合によっては物理的処理を施すことによって、繊維グレー
ド製品として回収することも可能である。

なお、放散塔１１の塔底液は、ホルムアルデヒド等の低沸点不純物、アセトアルデヒド
および酢酸等の高沸点不純物をも含有していることから、上述したようにその一部を系外
に抜き出すことで、吸収塔２に循環される吸収液中へのこれらの不純物の蓄積を防止する
ことができるという利点も得られる。

放散塔１１の塔頂部から放散された、エチレンオキシドを含む放散物は、導管２０を通
じて、導管２３および導管２４に冷却水が通る放散塔凝縮器２５へ送り、凝縮液は導管２
６を通じて放散塔１１の塔頂部へ還流し、未凝縮蒸気は導管２７を通じて脱水塔２８（図
３）へ供給される。

脱水塔２８に供給されたエチレンオキシドを含む蒸気は、導管２９を通して還流される
液と接触してよりエチレンオキシド濃度の高い蒸気となり、塔底から抜き出されるエチレ
ンオキシド濃度の低い液は導管を通して放散塔凝縮器２５へ送られる。

脱水塔２８の塔頂部から排出された、エチレンオキシドを含む蒸気は、導管３０を通じ
て、導管３１および導管３２に冷却水が通る脱水塔凝縮器３３へ送り、凝縮液の一部は導
管２９を通して脱水塔２８の塔頂部へ還流し、脱水塔凝縮器３３の未凝縮蒸気（エチレン
オキシド含有未凝縮ガス）は導管３４を通して図１に示すエチレンオキシド再吸収塔（以
下、単に「再吸収塔」とも称する）３５へ供給される。

脱水塔凝縮器３３の凝縮液の残部は導管３６を通して軽質分分離塔３７へ供給される。
軽質分分離塔３７の加熱器３８により水蒸気等の加熱媒体で導管３９を通じて加熱する方
式により加熱し、軽質分分離塔３７の塔頂部より軽質分を含むエチレンオキシド蒸気は導
管４０を通じて導管４１および導管４２に冷却水が通る軽質分分離塔凝縮器４３へ送り、
凝縮液は導管４４を通じて軽質分分離塔３７の塔頂部へ還流し、軽質分分離塔凝縮器４３
の未凝縮蒸気（エチレンオキシド含有未凝縮ガス）は導管４５を通してエチレンオキシド
を回収するため図１に示す再吸収塔３５へ供給される。

軽質分分離塔３７の塔底液は導管４６を通してエチレンオキシド精留塔（以下、単に「
精留塔」とも称する）４７へ供拾される。精留塔４７の加熱器４８へ圧力０．０５〜０．
１０ＭＰａ ｇａｕｇｅ程度の水蒸気を供給し、精留塔４７の塔底温度３５〜８０℃、精
留塔４７の塔底圧力０．１０〜０．８０ＭＰａ ｇａｕｇｅで精留を行い、精留塔４７の
塔頂部から、塔頂温度３５〜７５℃、塔頂部圧力０．１０〜０．８０ＭＰａ ｇａｕｇｅ
のエチレンオキシド蒸気を、導管４９および導管５０に冷却水が通る精留塔凝縮器５１へ
送り、エチレンオキシドを液化させ、一部は導管５２を通して精留塔４７の塔頂部へ還流
液として供給し、残部は導管５３を通して製品エチレンオキシド（製品ＥＯ）として抜き
出す。精留塔凝縮器５１の未凝縮蒸気（エチレンオキシド含有未凝縮ガス）は導管５４を
通してエチレンオキシドを回収するため図１に示す再吸収塔３５へ供給される。

なお、精留塔４７の塔底液は、アセトアルデヒド、水、および酢酸等の高沸点不純物の
重質分分離のため、必要により導管５５を通して抜き出される。

上述したように、精製系から排出される未凝縮蒸気（図３に示す実施形態では、脱水塔
凝縮器３３、軽質分分離塔凝縮器４３、および精留塔凝縮器５１由来の未凝縮蒸気）はエ
チレンオキシドを含有している。このため、これらの未凝縮蒸気は、図１に示す再吸収塔
３５へ供給される。

再吸収塔３５では、上述した吸収塔２と同様に、吸収液との向流接触によってエチレン
オキシドが再吸収される。ここで、再吸収塔３５においてエチレンオキシドの再吸収に用
いられる吸収液の組成やｐＨ、再吸収塔の形態（棚段塔形式または充填塔形式）などにつ
いては、吸収塔２について上述したのと同様であるため、ここでは詳細な説明を省略する
。一方、本発明は、再吸収塔３５の運転圧力に特徴を有するものである。従来、再吸収塔
３５の運転圧力は、１００〜１５０ｋＰａ ｇａｕｇｅ程度に設定されていた（後述する
比較例を参照）。これに対し、本発明では、後述する実施例に示すように、再吸収塔３５
の運転圧力を３〜５０ｋＰａ ｇａｕｇｅとする。このような構成とすることによって、
驚くべきことに、エチレンオキシドの製造プロセスにおけるエチレングリコールの副生量
が低減され、エチレンオキシドの取得率が向上することが本発明者らの検討によって見出
された。また、その結果として、エチレンオキシド製造プロセスの系外へ排出すべき副生
エチレングリコールの濃縮に要する蒸気量や、副生エチレングリコール系外へ排出する際
に必要になる投入水量が削減されるという、工業的に見てきわめて有利な効果も奏される
ことが判明した。なお、このような優れた効果が奏されるメカニズムとしては、再吸収塔
の上流工程である放散塔の運転圧力が低下することで、放散塔の運転温度や吸収塔から放
散塔への導管を流れる吸収液の温度が低下し、エチレングリコールの副生が抑制されるも
のと推定されている。なお、エチレンオキシド放散塔１１から脱水塔２８経由でエチレン
オキシド再吸収塔３５へ至る導管２０、２７、３４には、圧力調節弁を設けないことが好
ましい。

再吸収塔３５の塔底液は、導管５６を通じて、上述した吸収塔２の塔底液と同様に精製
系（本実施形態では、具体的には放散塔１１）へと循環される。より詳細には、図２に示
す導管１２へと循環され、予め加熱された後に、放散塔１１へ導入される。

一方、再吸収塔３５において吸収されなかった未凝縮ガスは、再吸収塔３５の塔頂部か
ら導管５７を通じて排出される。一実施形態において、導管５７を通じて排出された未凝
縮ガスは、ガス圧縮機５８によって圧力を高められた後、吸収塔２へと循環される。ただ
し、再吸収塔３５の塔頂部から排出される未凝縮ガスには炭酸ガスが多く（通常は５〜６
０体積％程度）含まれていることから、当該未凝縮ガスを吸収塔２に循環させると、吸収
塔２から炭酸ガス吸収塔７に供給されるガス中の炭酸ガス量が増加する。そうすると、炭
酸ガス吸収塔７および炭酸ガス放散塔８で処理される炭酸ガス量が増加し、炭酸ガス放散
塔８のリボイラー９に投入する蒸気量を増やす必要が生じたり、炭酸ガス吸収促進剤の投
入量を増やす必要が生じたりする可能性がある。したがって、再吸収塔３５の塔頂部から
導管５７を通じて排出された未凝縮ガスは、ガス圧縮機５８によって圧力を高められた後
、炭酸ガス吸収塔７へ供給してもよい。このような構成とすることによって炭酸ガス吸収
塔７へ供給されるガスの流量はわずかに増加するにすぎないが、上述したようにエチレン
オキシド再吸収塔の塔頂部から排出される未凝縮ガスには炭酸ガスが多く（通常は５〜６
０体積％程度）含まれている。したがって、再吸収塔３５の塔頂部から排出されるエチレ
ンオキシド含有未凝縮ガスを炭酸ガス吸収塔７へ供給すると、炭酸ガス吸収塔７へ供給さ
れるガス中の炭酸ガス濃度はわずかに増加することになる。このように、本発明によれば
、より高濃度の炭酸ガスを含有するガスを炭酸ガス系へ導入することによって、工業的に
有利な種々の効果を奏することができるのである。

なお、再吸収塔３５の塔頂部から導管５７を通じて排出される未凝縮ガスの圧力を高め
るためのガス圧縮機５８の吸込圧力は、微加圧であることが好ましい。具体的には、３〜
５ｋＰａ ｇａｕｇｅであることが好ましい。かような構成とすることで、大気からガス
圧縮機５８への酸素流入を防ぐことができ、ガス圧縮機５８にて、酸素と可燃性ガスとの
混合ガスを圧縮することによる爆発の危険を回避することができる。

また、再吸収塔３５の塔頂部から排出される未凝縮ガス中には反応原料であるエチレン
が含まれているが、上述したように炭酸ガス吸収塔７の塔頂部から排出される未吸収ガス
は導管３を経由してエチレン酸化反応器１へ循環されるし、エチレンは炭酸ガス吸収塔７
においてほとんど吸収されないことから、上述のような構成を採ったとしても、反応原料
であるエチレンのロスが生じる虞はない。

以下、実施例を用いて本発明の実施形態をより詳細に説明するが、本発明の技術的範囲
は下記の形態のみには限定されない。

［比較例］
図１〜図３に示すエチレンオキシドの製造プロセスによりエチレンオキシドを製造した
。この際、エチレンオキシド放散塔１１から脱水塔２８経由でエチレンオキシド再吸収塔
３５へ至る導管２０、２７、３４には圧力調節弁を設けず、また、再吸収塔３５の運転圧
力（塔頂圧力）を１２０ｋＰａ ｇａｕｇｅとした。

［実施例］
図１〜図３に示すエチレンオキシドの製造プロセスによりエチレンオキシドを製造した
。この際、再吸収塔３５の運転圧力（塔頂圧力）を１０ｋＰａ ｇａｕｇｅとした。

上述した比較例および実施例に係る製造プロセスを実施した結果、エチレンオキシド放
散塔の各種の運転条件は下記の表１に示す通りとなった。

また、上述した比較例および実施例に係る製造プロセスを実施した結果、製造プロセス
における各部位におけるエチレンオキシド流量は下記の表２に示す通りとなった。

表２に示す結果から明らかなように、本実施例では、上述した比較例と比べて、エチレ
ンオキシドの取得率が大幅に向上していることがわかる。また、エチレンオキシドの取得
率が向上することによりもたらされる副次的な効果として、エチレンオキシド製造プロセ
スの系外へ排出すべき副生エチレングリコールの濃縮に要する蒸気量や、副生エチレング
リコール系外へ排出する際に必要になる投入水量が削減されるという効果も奏される。

上述した実施例と比較例との対比から、本発明に係るエチレンオキシドの製造プロセス
におけるエチレンオキシドの製造方法によれば、エチレンオキシドの製造プロセスにおけ
る種々の有利な効果がもたらされることが示された。年産数十万トン規模というエチレン
オキシド生産量に鑑みれば、本発明が果たす産業上の貢献には計り知れないものがある。

１ エチレン酸化反応器
２ エチレンオキシド吸収塔
４ 昇圧ブロワ
７ 炭酸ガス吸収塔
８ 炭酸ガス放散塔
９ リボイラー
１０ 気液接触部
１１ エチレンオキシド放散塔
１３ 熱交換器
１４ 加熱器
１６ 気液分離タンク
１９ 放散塔加熱器
２５ 放散塔凝縮器
２８ 脱水塔
３３ 脱水塔凝縮器
３５ エチレンオキシド再吸収塔
３７ 軽質分分離塔
３８ 軽質分分離塔加熱器
４３ 軽質分分離塔凝縮器
４７ エチレンオキシド精留塔
４８ 精留塔加熱器
５１ 精留塔凝縮器
５８ ガス圧縮機

Claims (5)

1. エチレンを銀触媒の存在下、分子状酸素含有ガスにより接触気相酸化させるエチレン酸化反応工程において生成したエチレンオキシドを含有する反応生成ガスをエチレンオキシド吸収塔へ供給し、前記エチレンオキシド吸収塔へ供給された吸収液と接触させ、エチレンオキシドを含有する前記エチレンオキシド吸収塔の塔底液をエチレンオキシド精製系のエチレンオキシド放散塔へ供給し、前記エチレンオキシド精製系から排出されるエチレンオキシド含有未凝縮ガスをエチレンオキシド再吸収塔へ供給する工程を含むエチレンオキシドの製造方法であって、
   前記エチレンオキシド再吸収塔の塔底液を前記エチレンオキシド放散塔へ循環させる工程を含み、
   前記エチレンオキシド再吸収塔の運転圧力（塔頂圧力）を３〜５０ｋＰａ ｇａｕｇｅとし、前記エチレンオキシド放散塔の塔底温度を１０１〜１１５℃とし、かつ、
   前記エチレンオキシド放散塔からエチレンオキシド脱水塔経由で前記エチレンオキシド再吸収塔へ未凝縮ガスを供給するための導管に圧力調節弁を設けないことを特徴とする、エチレンオキシドの製造方法。
2. 前記エチレンオキシド放散塔の塔底温度を１０１〜１１０℃とする、請求項１に記載のエチレンオキシドの製造方法。
3. 前記エチレンオキシド放散塔の運転圧力（塔頂圧力）を３〜６０ｋＰａ ｇａｕｇｅとすることを特徴とする、請求項１または２に記載の製造方法。
4. 前記エチレンオキシド再吸収塔の未凝縮ガスを昇圧するために用いられる圧縮機の吸込圧力が３〜５ｋＰａ ｇａｕｇｅである、請求項１〜３のいずれか１項に記載の製造方法。
5. 前記エチレンオキシド再吸収塔の塔頂部から排出されるエチレンオキシド含有未凝縮ガスを炭酸ガス吸収塔へ供給して炭酸ガスを回収する工程を含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載のエチレンオキシドの製造方法。

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