JP6509026B2 - 配線構造体の製造方法および当該製造方法により製造された配線構造体 - Google Patents
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Description
図1に表したように、本実施形態に係る立体配線構造体1は、絶縁性基材10と導体パターン20とを備える。
図2は、本発明の一実施形態に係る立体配線構造体の製造方法を例示するフローチャートである。
図3(a)〜図5(b)は、本発明の一実施形態に係る立体配線構造体の製造方法を例示する模式斜視図である。
先ず、ステップS101に示す触媒層30の形成を行う。すなわち、図3(a)に表したように、絶縁性基材10を用意し、図3(b)に表したように、絶縁性基材10の表面に触媒層30を形成する処理を行う。本実施形態では、段差部11を有する絶縁性基材10が用いられる。触媒層30を構成する材料は限定されない。触媒層30を構成する材料として公知の材料を用いてもよい。具体例として、パラジウムや銀が挙げられる。触媒層30を形成する方法は限定されない。触媒層30を形成する方法として公知の方法により形成してもよい。触媒層30を形成する方法の一例として、パラジウムや銀等の触媒核を含む処理液に絶縁性基材10を浸漬する方法が挙げられる。こうして形成された触媒層30は、絶縁性基材11の表面にパラジウムや銀を含有する粒子が密に配置された構成を有する。触媒層30の厚さは限定されない。触媒層30が形成された領域に、次のステップで適切に無電解めっき層が形成されればよい。
10…絶縁性基材
11…段差部
20…導体パターン
30…触媒層
40…導体層
41…第1導体層
42…第2導体層
50…絶縁性保護膜
60…無電解めっき層
LSR…レーザ光
Claims (6)
- 絶縁性基材の上に形成された導体パターンを有する配線構造体の製造方法であって、
前記絶縁性基材の上に形成された互いに独立した複数の導体層のうち、一つの導体層を分離して、前記導体パターンを形成する位置に対応した第1導体層と前記第1導体層とは異なる第2導体層とを得る導体層分離工程と、
前記第2導体層上に通電することを含む電着塗装処理を行って、前記第2導体層の上に絶縁性保護膜を形成する電着塗装工程と、
前記絶縁性保護膜を前記第2導体層のマスク材として無電解めっき処理を行って、前記第1導体層の上に無電解めっき層を形成する無電解めっき工程と、
前記絶縁性保護膜を除去して、前記第2導体層を露出させる保護膜除去工程と、
前記露出した第2導体層を除去して、前記絶縁性基材の上に形成された導体パターンを得る第2導体層除去工程と、
を備えたことを特徴とする配線構造体の製造方法。 - 前記第1導体層および前記第2導体層は無電解めっき層からなる、請求項1に記載の配線構造体の製造方法。
- 前記導体層分離工程は、前記絶縁性基材の上に形成された一つの導体層にレーザー光を照射して、前記導体層における照射領域に位置する部分を消失させることにより前記導体層を分離して、前記第1導体層および前記第2導体層を得ることを含む、請求項1または請求項2に記載の配線構造体の製造方法。
- 前記絶縁性基材は立体的な部材である、請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の配線構造体の製造方法。
- 前記第1導体層は、島状パターンを含む請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の配線構造体の製造方法。
- 請求項1から5のいずれかに記載される製造方法により製造された配線構造体であって、配線パターンが無電解めっき層からなる配線構造体。
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