JP6508078B2 - Conductive adhesive, conductive adhesive sheet, and wiring device - Google Patents
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Description
本発明は、導電性接着剤、導電性接着シート、および配線デバイスに関する。具体的には、電子部品等を実装する工程等において使用可能である導電性接着剤、かかる導電性接着剤から形成した導電性接着剤層を備える導電性接着シート、配線板と補強板とを、導電性接着剤層の硬化物で構成される接合層で接合してなる配線デバイスに関する。 The present invention relates to a conductive adhesive, a conductive adhesive sheet, and a wiring device. Specifically, a conductive adhesive that can be used in a process of mounting electronic components and the like, a conductive adhesive sheet provided with a conductive adhesive layer formed from the conductive adhesive, a wiring board and a reinforcing plate The present invention relates to a wiring device formed by bonding with a bonding layer composed of a cured product of a conductive adhesive layer.
OA機器、通信機器、携帯電話などの電子機器の更なる高性能化、小型化が進行している。フレキシブルプリント配線板は、湾曲可能な特性を有する。このため、フレキシブルプリント配線板は、電子回路を組み込むことにより、電子機器の狭く複雑な空間に配置する内部基板等として使用されている。この場合、発生する電磁波から、電子回路を遮蔽するために、フレキシブルプリント配線板(以下、「FPC」と表記する。)に、電磁波シールド層を設けることが一般的である。しかしながら、近年の電子回路に供給される情報量の増大による高周波化、および電子回路の小型化に起因して、電磁波対策は、さらに重要度を増している。 Further advances in performance and miniaturization of electronic devices such as OA devices, communication devices, and mobile phones are in progress. Flexible printed wiring boards have bendable characteristics. For this reason, the flexible printed wiring board is used as an internal board etc. which are arrange | positioned in the narrow and complex space of an electronic device by incorporating an electronic circuit. In this case, in order to shield the electronic circuit from the generated electromagnetic waves, it is general to provide an electromagnetic shielding layer on a flexible printed wiring board (hereinafter referred to as "FPC"). However, due to the increase in frequency due to the increase in the amount of information supplied to electronic circuits in recent years and the miniaturization of electronic circuits, measures against electromagnetic waves are further increasing in importance.
電磁波シールド層を設けたFPCとして、特許文献1及び特許文献2には、導電性補強板とグランド回路とを導電性接着剤層で接続したFPCが開示されている。具体的には、導電性接着剤を用いて、ステンレス等の金属を使用した導電性補強板をFPCに貼り付けることにより、導電性補強板をグランド回路に電気的に相互接続する。これにより、電磁波シールド性が得られるため、FPCは、回路信号を安定的に伝送することができる。 Patent Document 1 and Patent Document 2 disclose an FPC in which a conductive reinforcing plate and a ground circuit are connected by a conductive adhesive layer as an FPC provided with an electromagnetic wave shielding layer. Specifically, the conductive reinforcing plate is electrically interconnected with the ground circuit by attaching a conductive reinforcing plate using a metal such as stainless steel to the FPC using a conductive adhesive. Thereby, since electromagnetic wave shielding property is obtained, FPC can transmit a circuit signal stably.
上述の導電性接着剤は、経時的な安定性も含めて優れた導電特性が求められており、シート中に含有される導電性フィラーの特性が重要となる。導電性フィラーとしては、銀粉が導電特性において優れるので、これまで銀粉を含有する導電性シート等が実用化されてきた。しかしながら、銀粉の価格は、導電性シート等に使用される樹脂や他の原料と比較して高価であり、コスト高となる。その上、昨今の銀価格の高騰により、銀粉を使用した導電性シート等の価格上昇が深刻な問題となっている。電子機器の低価格化を達成するためには、導電性フィラーの使用割合を減らす必要に迫られているが、導電性フィラーの使用割合を減らすと、所望の導電性を維持することができなくなるという問題に直面する。 The above-mentioned conductive adhesive is required to have excellent conductive properties including stability over time, and the properties of the conductive filler contained in the sheet become important. As a conductive filler, since silver powder is excellent in a conductive characteristic, the conductive sheet etc. which contain silver powder until now are utilized. However, the price of silver powder is expensive and expensive as compared with resins and other materials used for conductive sheets and the like. Moreover, with the recent increase in silver price, price increase of conductive sheets and the like using silver powder has become a serious problem. In order to achieve lower prices for electronic devices, it is necessary to reduce the use ratio of the conductive filler, but when the use ratio of the conductive filler is reduced, the desired conductivity can not be maintained. Face the problem of
そのため、銀の安価な代替導電性フィラーとして、銅の表面に、銀などの導電性物質によりメッキされた、導電性物質からなる被覆層を有する導電性フィラーを用いる方法が検討されている。しかし、さらなるコストダウンのため導電性物質からなる被覆層の被覆量を減らしていくと、内部の銅が露出しやすくなり、銅イオンの溶出によって導電性接着剤の粘度安定性が悪化するといった問題がある。また、銅および上述のような銅の露出面が多い導電性フィラーを用いた導電性接着剤層は、高温高湿環境下(例えば85℃85%)に長時間晒されると、銅の酸化によって導電性が劣化しシールド特性が悪化したり、接着強度が悪化し金属補強板が剥がれやすくなるといった問題があった。 Therefore, a method using a conductive filler having a coating layer made of a conductive material plated with a conductive material such as silver on a surface of copper as a low cost alternative conductive filler of silver is studied. However, if the coating amount of the coating layer made of a conductive material is reduced for further cost reduction, there is a problem that the copper inside is easily exposed and the viscosity stability of the conductive adhesive is deteriorated due to the elution of copper ions. There is. In addition, the conductive adhesive layer using the conductive filler having copper and the above-described exposed surface of copper as described above is oxidized by copper when exposed to a high temperature and high humidity environment (for example, 85 ° C. 85%) for a long time There is a problem that the conductivity is deteriorated to deteriorate the shield characteristics, or the adhesive strength is deteriorated to make the metal reinforcing plate easily peeled off.
また、導電性接着剤を用いて導電性補強板をグランド回路に接続するにあたって、スルーホールに導電性接着剤が埋め込まれて硬化することで、導電性補強板を固定すると同時にグランド接続するが、銅を主成分とする導電性フィラーを用いる場合、スルーホールの段差が高い場合には接続信頼性が低い問題があった。 In addition, when connecting the conductive reinforcing plate to the ground circuit using the conductive adhesive, the conductive reinforcing plate is fixed and grounded at the same time as the conductive reinforcing plate is fixed by embedding and curing the conductive adhesive in the through holes. In the case of using a conductive filler containing copper as a main component, there is a problem that the connection reliability is low when the through hole has a large step.
従って、本発明の目的は、銅を主成分とする導電性フィラーを用い、コストダウンが可能でありながら、導電性接着剤の粘度が安定であり、長期にわたって湿熱環境に晒された後においても良好な接続信頼性と接着力を有し、グランド配線基板スルーホールの段差が高い回路でも接続信頼性が良好である、導電性接着剤、導電性接着シート、および配線デバイスを提供することを目的とする。 Therefore, it is an object of the present invention to use a conductive filler based on copper and to reduce the cost, yet the viscosity of the conductive adhesive is stable, even after being exposed to a moist heat environment for a long period of time An object of the present invention is to provide a conductive adhesive, a conductive adhesive sheet, and a wiring device having good connection reliability and adhesiveness, and having good connection reliability even in a circuit having a high level difference in ground wiring board through holes. I assume.
本発明者らが鋭意検討を重ねた結果、銅を主成分とする導電性フィラーを用いる場合に、カルボキシル基を有する熱硬化性樹脂(A)、エポキシ樹脂、硬化剤、およびシランカップリング剤を含有する導電性接着剤を用いることにより、上記した課題を解決し得ることを見出し、本発明に至った。 As a result of intensive studies by the present inventors, when using a conductive filler containing copper as a main component, a thermosetting resin (A) having a carboxyl group, an epoxy resin, a curing agent, and a silane coupling agent are used. By using the electroconductive adhesive to contain, it discovered that the above-mentioned subject could be solved, and came to this invention.
すなわち、本発明は、カルボキシル基を有する熱硬化性樹脂(A)、エポキシ樹脂、銅を主成分とする導電性フィラー(B)、硬化剤、およびシランカップリング剤を含有することを特徴とする導電性接着剤に関する。 That is, the present invention is characterized by containing a thermosetting resin (A) having a carboxyl group, an epoxy resin, a conductive filler (B) containing copper as a main component, a curing agent, and a silane coupling agent. It relates to a conductive adhesive.
また、本発明は、導電性フィラー(B)が、銅からなる核体と、銅とは異なる導電性物質からなる被覆層とを具備することを特徴とする前記導電性接着剤に関する。 The present invention also relates to the conductive adhesive, wherein the conductive filler (B) comprises a core made of copper and a coating layer made of a conductive material different from copper.
また、本発明は、導電性フィラー(B)の前記核体100重量部に対し、前記被覆層が40重量部以下であることを特徴とする前記導電性接着剤に関する。 The present invention also relates to the conductive adhesive, wherein the coating layer is 40 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the core of the conductive filler (B).
また、本発明は、シランカップリング剤が、ビニル系シランカップリング剤、エポキシ系シランカップリング剤、およびアミノ系シランカップリング剤からなる群より選ばれる少なくともいずれかであることを特徴とする前記導電性接着剤に関する。 Further, the present invention is characterized in that the silane coupling agent is at least one selected from the group consisting of a vinyl based silane coupling agent, an epoxy based silane coupling agent, and an amino based silane coupling agent. It relates to a conductive adhesive.
また、本発明は、熱硬化性樹脂(A)が、ポリカーボネート系ポリウレタン樹脂、ポリエステル系ポリウレタン樹脂、ポリエーテル系ポリウレタン樹脂、およびメタクリル系ポリウレタン熱硬化性樹脂からなる群より選ばれることを特徴とする前記導電性接着剤に関する。 Furthermore, the present invention is characterized in that the thermosetting resin (A) is selected from the group consisting of polycarbonate polyurethane resins, polyester polyurethane resins, polyether polyurethane resins, and methacrylic polyurethane thermosetting resins. The present invention relates to the conductive adhesive.
また、本発明は、剥離性シート上に、前記導電性接着剤より形成されてなる導電性接着剤層を備えることを特徴とする導電性接着シートに関する。 The present invention also relates to a conductive adhesive sheet comprising a conductive adhesive layer formed of the conductive adhesive on a peelable sheet.
また、本発明は信号配線を備える配線板と、
前記配線板の少なくとも一方の面側に設けられた補強板と、
前記配線板と前記補強板とを接合する導電性接着剤層とからなる配線デバイスであって、
該導電性接着剤層が、前記導電性接着剤より形成されてなることを特徴とする配線デバイスに関する。
Further, the present invention provides a wiring board including signal wiring,
A reinforcing plate provided on at least one surface side of the wiring board;
A wiring device comprising a conductive adhesive layer for bonding the wiring board and the reinforcing plate,
The wiring device is characterized in that the conductive adhesive layer is formed of the conductive adhesive.
前記補強板が、導電性を有しており、
前記配線板が、さらに、前記補強板に接続されたグランド配線を備える前記配線デバイスに関する。
The reinforcing plate has conductivity.
The wiring device further includes a ground wiring connected to the reinforcing plate.
上記構成の本発明によれば、銅を主成分とする導電性フィラーを用い、コストダウンが可能でありながら、導電性接着剤の粘度が安定であり、長期にわたって湿熱環境に晒された後においても良好な接続信頼性と接着力を有し、グランド配線基板スルーホールの段差が高い回路でも接続信頼性が良好である、導電性接着剤、導電性接着シート、および配線デバイスを提供することが可能となる。 According to the present invention of the above configuration, it is possible to reduce the cost while using the conductive filler whose main component is copper, while the viscosity of the conductive adhesive is stable and after being exposed to a moist heat environment for a long time To provide a conductive adhesive, a conductive adhesive sheet, and a wiring device having good connection reliability and adhesiveness, and having good connection reliability even in a circuit having a high level difference in ground wiring board through holes. It becomes possible.
本発明の導電性接着剤は、カルボキシル基を有する熱硬化性樹脂(A)(以下、「熱硬化性樹脂(A)」ということもある。)と、エポキシ樹脂と、導電性フィラーと、硬化剤と、シランカップリング剤とを含む。導電性接着剤は、そのまま、一般的な接着剤と同様に所望の場所に塗布して、部材同士を接着するために使用することができる。また、その他、導電性接着剤は、剥離性シートのような基材等に塗工して導電性接着シートを形成した後、部材同士を接着するために使用することも好ましい。 The conductive adhesive of the present invention comprises a thermosetting resin (A) having a carboxyl group (hereinafter sometimes referred to as "thermosetting resin (A)"), an epoxy resin, a conductive filler, and curing. Agent and a silane coupling agent. The conductive adhesive can be applied as it is to a desired place as in a general adhesive and used to bond the members together. In addition, it is also preferable to use a conductive adhesive for bonding members after forming a conductive adhesive sheet by coating it on a base material such as a peelable sheet.
前記導電性接着剤の硬化方法としては、例えば、これをシート状に形成する際に、硬化剤を熱硬化性樹脂(A)と硬化反応させ、導電性接着剤をいわゆる半硬化状態とした後、本硬化工程で、さらにエポキシ樹脂を熱硬化性樹脂(A)とシランカップリング剤とを硬化反応させることで、ハンダリフロー温度に耐えうる高い耐熱性を有する硬化状態とする硬化方法、または、本硬化工程で硬化剤およびエポキシ樹脂を、熱硬化性樹脂(A)と硬化反応させる硬化方法が挙げられる。なお、導電性接着剤の硬化方法には、他の硬化方法を任意に採用できることはいうまでもない。 As a method of curing the conductive adhesive, for example, when forming the conductive adhesive into a sheet, the curing agent is cured with the thermosetting resin (A) to make the conductive adhesive into a so-called semi-cured state. In the main curing step, the epoxy resin is subjected to curing reaction between the thermosetting resin (A) and the silane coupling agent to obtain a cured state having a high heat resistance that can withstand the solder reflow temperature, or In the main curing step, there is a curing method in which a curing agent and an epoxy resin are cured and reacted with the thermosetting resin (A). Needless to say, any other curing method can be adopted as the method of curing the conductive adhesive.
<カルボキシル基を有する熱硬化性樹脂(A)>
本発明において熱硬化性樹脂は、導電性接着剤の用途で使用可能であり、硬化後において優れた耐熱性を発現しうる熱硬化性樹脂である。そのため、熱硬化性樹脂(A)は、反応性官能基としてカルボキシル基を含むことが必要である。具体的には、熱硬化性樹脂としては、例えば、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド系樹脂およびフェノール系樹脂等にカルボキシル基を導入することで得られた樹脂等を用いることができる。これらの中でも、その硬化後の耐湿熱性と段差追従性との面から、ポリウレタン系熱硬化性樹脂が好ましい。特に、ポリカーボネート系ポリウレタン樹脂、ポリエステル系ポリウレタン樹脂、ポリエーテル系ポリウレタン樹脂、およびメタクリル系ポリウレタン樹脂は、接続信頼性、および耐湿熱性試験後の接着力に優れるために好ましい。
<Thermosetting resin (A) having a carboxyl group>
In the present invention, the thermosetting resin is a thermosetting resin that can be used in the application of the conductive adhesive and can exhibit excellent heat resistance after curing. Therefore, the thermosetting resin (A) needs to contain a carboxyl group as a reactive functional group. Specifically, as the thermosetting resin, for example, a resin obtained by introducing a carboxyl group into a polyurethane resin, a polyester resin, an acrylic resin, a polyamide resin, a phenol resin, etc. may be used. Can. Among these, polyurethane-based thermosetting resins are preferable from the viewpoint of moisture heat resistance after curing and level difference followability. In particular, polycarbonate-based polyurethane resins, polyester-based polyurethane resins, polyether-based polyurethane resins, and methacrylic polyurethane resins are preferable because they are excellent in connection reliability and adhesion after a wet heat resistance test.
熱硬化性樹脂(A)の酸価は、1〜100mgKOH/gであることが好ましく、3〜50mgKOH/gであることがより好ましい。酸価が1mgKOH/g以上であると、エポキシ樹脂との架橋効率(反応効率)が高まり、導電性接着剤の湿熱経時後の抵抗値と接着力がより向上する。また、酸価が100mgKOH/g以下であると、導電性接着剤の粘度安定性がより向上する。 The acid value of the thermosetting resin (A) is preferably 1 to 100 mg KOH / g, and more preferably 3 to 50 mg KOH / g. When the acid value is 1 mg KOH / g or more, the crosslinking efficiency (reaction efficiency) with the epoxy resin is enhanced, and the resistance value and adhesion after wet heat aging of the conductive adhesive are further improved. Moreover, the viscosity stability of a conductive adhesive improves more that an acid value is 100 mgKOH / g or less.
熱硬化性樹脂(A)の重量平均分子量(Mw)は、5,000〜300,000であることが好ましい。重量平均分子量が5,000以上であると、導電性接着剤の段差追従性が良化し接続信頼性がより向上する。また、重量平均分子量が300,000以下であると、導電性接着剤の粘度が低下し、取り扱いがより容易になる。 The weight average molecular weight (Mw) of the thermosetting resin (A) is preferably 5,000 to 300,000. When the weight average molecular weight is 5,000 or more, the step following property of the conductive adhesive is improved, and the connection reliability is further improved. Moreover, the viscosity of a conductive adhesive falls that a weight average molecular weight is 300,000 or less, and handling becomes easier.
以下、熱硬化性樹脂(A)の1例としてポリウレタン系熱硬化性樹脂の合成方法について説明する。しかしながら、熱硬化性樹脂(A)は、ポリウレタン系熱硬化性樹脂に限定して解釈されないことはいうまでもない。 Hereinafter, a method of synthesizing a polyurethane-based thermosetting resin will be described as one example of the thermosetting resin (A). However, it goes without saying that the thermosetting resin (A) is not interpreted as being limited to the polyurethane-based thermosetting resin.
ポリウレタン系熱硬化性樹脂は、カルボキシル基を有するポリウレタン系熱硬化性樹脂で有ればよい。かかるポリウレタン系熱硬化性樹脂は、まず、カルボキシル基を有するジオール化合物(a)と、カルボキシル基を有しないポリオール化合物(b)と、有機ジイソシアネート(c)とを反応させて、カルボキシル基およびイソシアネート基を有するウレタンプレポリマー(d)を得る第一の工程と、次に、得られたカルボキシル基およびイソシアネート基を有するウレタンプレポリマー(d)とポリアミノ化合物(e)とを反応させる第二の工程とを経て得ることができる。なお、前記第二の工程では、必要に応じて、反応停止剤を使用することもできる。 The polyurethane-based thermosetting resin may be a polyurethane-based thermosetting resin having a carboxyl group. The polyurethane-based thermosetting resin is prepared by first reacting a diol compound (a) having a carboxyl group, a polyol compound (b) not having a carboxyl group, and an organic diisocyanate (c) to form a carboxyl group and an isocyanate group. A first step of obtaining a urethane prepolymer (d) having the following, and a second step of reacting the obtained urethane prepolymer (d) having a carboxyl group and an isocyanate group with a polyamino compound (e). You can get through. In the second step, a reaction terminator may be used, if necessary.
カルボキシル基を有するジオール化合物(a)としては、例えば、ジメチロール酢酸、ジメチロールプロピオン酸、ジメチロールブタン酸、ジメチロールペンタン酸のようなジメチロールアルカン酸、ジヒドロキシコハク酸、ジヒドロキシ安息香酸等が挙げられる。これらの中でも、カルボキシル基を有するジオール化合物(a)としては、ジメチロールプロピオン酸およびジメチロールブタン酸が好ましい。これらは、反応性、溶解性が特に高いためである。 Examples of the diol compound (a) having a carboxyl group include dimethylolacetic acid, dimethylolpropionic acid, dimethylolbutanoic acid, dimethylolalkanoic acid such as dimethylolpentanoic acid, dihydroxysuccinic acid, dihydroxybenzoic acid and the like. . Among these, as the diol compound (a) having a carboxyl group, dimethylol propionic acid and dimethylol butanoic acid are preferable. These are because the reactivity and solubility are particularly high.
カルボキシル基を有しないポリオール化合物(b)としては、一般にポリウレタン樹脂を構成するポリオール成分として知られている各種のポリオール類が挙げられる。かかるポリオール類としては、例えば、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリブタジエングリコール等が挙げられる。なお、これらのポリオール類は、単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。 As a polyol compound (b) which does not have a carboxyl group, the various polyols generally known as a polyol component which comprises a polyurethane resin are mentioned. Examples of such polyols include polyether polyols, polyester polyols, polycarbonate polyols, polybutadiene glycol and the like. In addition, these polyols can be used individually or in combination of 2 or more types.
前記ポリエーテルポリオールとしては、例えば、酸化エチレン、酸化プロピレン、テトラヒドロフラン等の単独重合体または共重合体などが挙げられる。 Examples of the polyether polyols include homopolymers or copolymers of ethylene oxide, propylene oxide, tetrahydrofuran and the like.
前記ポリエステルポリオールとしては、例えば、1)飽和または不飽和の低分子ジオール類と、ジカルボン酸類および/またはこれらの無水物とを脱水縮合して得られるポリエステルポリオール、2)環状エステル化合物を開環重合して得られるポリエステルポリオール等が挙げられる。
飽和または不飽和の低分子ジオール類としては、例えば、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、ペンタンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、ヘキサンジオール、オクタンジオール、1,4−ブチレンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ダイマージオール等が挙げられる。
一方、ジカルボン酸類としては、例えば、アジピン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレイン酸、フマル酸、コハク酸、シュウ酸、マロン酸、グルタル酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸等が挙げられる。
As the polyester polyol, for example, 1) a polyester polyol obtained by dehydration condensation of a saturated or unsaturated low molecular weight diol and a dicarboxylic acid and / or an anhydride thereof, 2) ring-opening polymerization of a cyclic ester compound And polyester polyols etc. obtained.
Examples of saturated or unsaturated low molecular weight diols include ethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, neopentyl glycol, pentane Diol, 3-methyl-1,5-pentanediol, hexanediol, octanediol, 1,4-butylenediol, diethylene glycol, triethylene glycol, dipropylene glycol, dimer diol and the like can be mentioned.
On the other hand, as dicarboxylic acids, for example, adipic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, maleic acid, fumaric acid, succinic acid, oxalic acid, malonic acid, glutaric acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid Etc.
前記ポリカーボネートポリオールとしては、例えば、1)ジオールまたはビスフェノールと炭酸エステルとの反応生成物、2)ジオールまたはビスフェノールにアルカリの存在下でホスゲンを作用させて得られる反応生成物等を使用することができる。炭酸エステルとしては、例えば、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジフェニルカーボネート、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等が挙げられる。
また、ジオールとしては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ブチレングリコール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、2−メチル−1,8−オクタンジオール、3,3’−ジメチロールヘプタン、ポリオキシエチレングリコール、ポリオキシプロピレングリコール、プロパンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、ネオペンチルグリコール、オクタンジオール、ブチルエチルペンタンジオール、2−エチル−1,3−ヘキサンジオール、シクロヘキサンジオール、3,9−ビス(1,1−ジメチル−2−ヒドロキシエチル、2,2,8,10−テトラオキソスピロ〔5.5〕ウンデカン等が挙げられる。
また、ビスフェノールとしては、例えば、ビスフェノールAやビスフェノールF、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイドのようなアルキレンオキサイドを付加したビスフェノール類等が挙げられる。
これらのポリオール類の中でも、カルボキシル基を有しないポリオール化合物(b)としては、ポリエステルポリオールが好ましく、ポリエステルジオールがより好ましい。
As the polycarbonate polyol, for example, 1) a reaction product of a diol or a bisphenol and a carbonic ester, 2) a reaction product obtained by reacting phosgene with a diol or a bisphenol in the presence of an alkali can be used. . Examples of the carbonate include dimethyl carbonate, diethyl carbonate, diphenyl carbonate, ethylene carbonate, propylene carbonate and the like.
Also, as the diol, for example, ethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, butylene glycol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 2-methyl-1,8-octanediol, 3 1,3'-dimethylolheptane, polyoxyethylene glycol, polyoxypropylene glycol, propanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 1 , 9-nonanediol, neopentyl glycol, octanediol, butylethylpentanediol, 2-ethyl-1,3-hexanediol, cyclohexanediol, 3,9-bis (1,1-dimethyl-2-hydroxyethyl, 2 , 2,8,10-tetraoxo spiro [5.5] undecane etc. are mentioned.
Further, examples of the bisphenol include bisphenol A, bisphenol F, and bisphenols to which an alkylene oxide such as ethylene oxide or propylene oxide is added.
Among these polyols, as a polyol compound (b) which does not have a carboxyl group, polyester polyol is preferable and polyester diol is more preferable.
カルボキシル基を有しないポリオール化合物(b)の数平均分子量(Mn)は、通常は500〜8,000であることが好ましく、1,000〜5,000であることがより好ましい。カルボキシル基を有しないポリオール化合物(b)のMnが500以上であると、ポリウレタンポリウレア樹脂に適度な数のウレタン結合を導入することができ、よって高い接着強度を有する導電性接着剤が得易くなる。また、カルボキシル基を有しないポリオール化合物(b)のMnが8,000以下であると、ウレタン結合同士の間の距離が適切になりやすく、優れた硬化後の耐熱性を有する導電性接着剤が得易くなる。 The number average molecular weight (Mn) of the polyol compound (b) not having a carboxyl group is usually preferably 500 to 8,000, and more preferably 1,000 to 5,000. When the Mn of the polyol compound (b) not having a carboxyl group is 500 or more, an appropriate number of urethane bonds can be introduced into the polyurethane polyurea resin, which makes it easy to obtain a conductive adhesive having high adhesive strength. . In addition, when the Mn of the polyol compound (b) having no carboxyl group is 8,000 or less, the distance between the urethane bonds tends to be appropriate, and the conductive adhesive having excellent heat resistance after curing It becomes easy to get.
有機ジイソシアネート(c)としては、芳香族ジイソシアネート、脂肪族ジイソシアネート、脂環族ジイソシアネート等が好ましい。
前記芳香族ジイソシアネートとしては、例えば、1,5−ナフチレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルジメチルメタンジイソシアネート、4,4’−ベンジルイソシアネート、ジアルキルジフェニルメタンジイソシアネート、テトラアルキルジフェニルメタンジイソシアネート、1,3−フェニレンジイソシアネート、1,4−フェニレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等が挙げられる。
As the organic diisocyanate (c), aromatic diisocyanate, aliphatic diisocyanate, alicyclic diisocyanate and the like are preferable.
Examples of the aromatic diisocyanate include 1,5-naphthyl diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 4,4'-diphenyldimethylmethane diisocyanate, 4,4'-benzylisocyanate, dialkyldiphenylmethane diisocyanate, and tetraalkyldiphenylmethane. Diisocyanate, 1,3-phenylene diisocyanate, 1,4-phenylene diisocyanate, tolylene diisocyanate, xylylene diisocyanate and the like can be mentioned.
前記脂肪族ジイソシアネートとしては、例えば、ブタン−1,4−ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート等が挙げられる。 Examples of the aliphatic diisocyanate include butane-1,4-diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, and lysine diisocyanate.
前記脂環族ジイソシアネートとしては、例えば、シクロヘキサン−1,4−ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアナートメチル、ビス(4−イソシアネートシクロヘキシル)メタン、1,3−ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンジイソシアネート等が挙げられる。 Examples of the alicyclic diisocyanate include cyclohexane-1,4-diisocyanate, isophorone diisocyanate, norbornane diisocyanate methyl, bis (4-isocyanatocyclohexyl) methane, 1,3-bis (isocyanatemethyl) cyclohexane, methylcyclohexane diisocyanate Etc.
なお、これらのジイソシアネートは、単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。これらの中でも、有機ジイソシアネート(c)としては、イソホロンジイソシアネートが好ましい。 In addition, these diisocyanates can be used individually or in combination of 2 or more types. Among these, as organic diisocyanate (c), isophorone diisocyanate is preferable.
前記第一の工程の反応条件は、イソシアネート基の量が水酸基の量に対して過剰になるように、各成分(a)〜(c)を配合しさえすればよく、その他特に限定はない。具体的には、イソシアネート基/水酸基の当量比が、1.05/1〜3/1であることが好ましく、1.2/1〜2/1であることがより好ましい。また、反応温度は、好ましくは20〜150℃の範囲内、より好ましくは60〜120℃の範囲内で適宜設定される。 The reaction conditions of the first step are not particularly limited, as long as the components (a) to (c) may be blended so that the amount of isocyanate groups is excessive to the amount of hydroxyl groups. Specifically, the equivalent ratio of isocyanate group / hydroxyl group is preferably 1.05 / 1 to 3/1, and more preferably 1.2 / 1 to 2/1. Moreover, reaction temperature is suitably set within the range of preferably 20 to 150 ° C., more preferably within the range of 60 to 120 ° C.
前記第二の工程で使用するポリアミノ化合物(e)は、鎖延長剤として使用される。ポリアミノ化合物(e)の具体例としては、例えば、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、イソホロンジアミン、ジシクロヘキシルメタン−4,4’−ジアミン、ノルボルナンジアミン、2−(2−アミノエチルアミノ)エタノール、2−ヒドロキシエチルエチレンジアミン、2−ヒドロキシエチルプロピレンジアミン、ジ−2−ヒドロキシエチルエチレンジアミン、ジ−2−ヒドロキシプロピルエチレンジアミン等が挙げられる。これらの中でも、ポリアミノ化合物(e)としては、イソホロンジアミンが好ましい。 The polyamino compound (e) used in the second step is used as a chain extender. Specific examples of the polyamino compound (e) include, for example, ethylenediamine, propylenediamine, hexamethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine, isophoronediamine, dicyclohexylmethane-4,4'-diamine, norbornane diamine, 2- (2-amino) Ethylamino) ethanol, 2-hydroxyethylethylenediamine, 2-hydroxyethylpropylenediamine, di-2-hydroxyethylethylenediamine, di-2-hydroxypropylethylenediamine and the like can be mentioned. Among these, as the polyamino compound (e), isophorone diamine is preferable.
前記第二の工程で使用可能な反応停止剤としては、例えば、ジ−n−ブチルアミンのようなジアルキルアミン類、ジエタノールアミンのようなジアルカノールアミン類、エタノール、イソプロピルアルコールのようなアルコール類等が挙げられる。 Examples of the reaction terminator usable in the second step include dialkylamines such as di-n-butylamine, dialkanolamines such as diethanolamine, alcohols such as ethanol and isopropyl alcohol, and the like. Be
前記第二の工程の反応条件は、ウレタンプレポリマー(d)の両末端に存在する遊離のイソシアネート基を1当量とした場合、アミノ基の当量が0.5〜1.3であることが好ましく、0.8〜1.05であることがより好ましい。アミノ基の当量が0.5以上であると、ポリウレタン系熱硬化性樹脂の分子量をより大きくすることができる。また、アミノ基の当量が1.3以下であると、導電性接着剤の保存時の条件等によっては、その保存安定性が低下する恐れがある。
なお、アミノ基の当量は、反応停止剤としてアミン類(例えば、ジアルキルアミン類、ジアルカノールアミン類)を使用する場合、ポリアミノ化合物(e)が有するアミノ基と反応停止剤が有するアミノ基との合計当量とされる。
The reaction condition of the second step is that the equivalent of amino group is preferably 0.5 to 1.3, where one equivalent of the free isocyanate group present at both ends of the urethane prepolymer (d) is used. And 0.8 to 1.05 are more preferable. The molecular weight of a polyurethane-type thermosetting resin can be enlarged more that the equivalent of an amino group is 0.5 or more. In addition, when the equivalent weight of the amino group is 1.3 or less, the storage stability may be lowered depending on the storage condition of the conductive adhesive.
When an amine (for example, dialkylamines or dialkanolamines) is used as a reaction terminator, the amino group equivalent is an amino group of the polyamino compound (e) and an amino group of the reaction terminator. It is the total equivalent.
ポリウレタン系熱硬化性樹脂の重量平均分子量は、5,000〜200,000であることが好ましい。重量平均分子量が5,000以上であると、導電性接着剤の硬化後の耐熱性がより向上する。また、重量平均分子量が200,000以下であると、導電性接着剤の粘度が低下し、取り扱いより容易になる。 The weight average molecular weight of the polyurethane thermosetting resin is preferably 5,000 to 200,000. The heat resistance after hardening of a conductive adhesive improves more that a weight average molecular weight is 5,000 or more. Moreover, the viscosity of a conductive adhesive falls that a weight average molecular weight is 200,000 or less, and it becomes easier to handle.
ポリウレタン系熱硬化性樹脂の合成には、例えば、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、グリコールエーテル系溶剤、脂肪族系溶剤、芳香族系溶剤、アルコール系溶剤、カーボネート系溶剤、水等から適宜選択した溶剤を使用することができる。なお、これらの溶剤は、単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。 For the synthesis of the polyurethane-based thermosetting resin, for example, it is appropriately selected from ester solvents, ketone solvents, glycol ether solvents, aliphatic solvents, aromatic solvents, alcohol solvents, carbonate solvents, water, etc. Solvents can be used. In addition, these solvents can be used individually or in combination of 2 or more types.
前記エステル系溶剤としては、例えば、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸n−ブチル、酢酸イソブチル、酢酸アミル、乳酸エチル等が挙げられる。 Examples of the ester solvents include ethyl acetate, isopropyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, amyl acetate, ethyl lactate and the like.
前記ケトン系溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、ジアセトンアルコール、イソホロン、シクロヘキサンノン等が挙げられる。 Examples of the ketone-based solvent include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diisobutyl ketone, diacetone alcohol, isophorone, cyclohexanenon and the like.
前記グリコールエーテル系溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルまたはこれらのモノエーテル類の酢酸エステル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルまたはこれらのモノエーテル類の酢酸エステル等が挙げられる。 Examples of the glycol ether solvents include ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether or acetates of these monoethers, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol mono ether Examples thereof include butyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, and acetic acid esters of these monoethers.
前記脂肪族系溶剤としては、例えば、n−ヘプタン、n−ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン等が挙げられる。 Examples of the aliphatic solvents include n-heptane, n-hexane, cyclohexane, methylcyclohexane and ethylcyclohexane.
前記芳香族系溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン等が挙げられる。 Examples of the aromatic solvents include toluene and xylene.
前記アルコール系溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、シクロヘキサノール等が挙げられる。 As said alcohol solvent, methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, cyclohexanol etc. are mentioned, for example.
前記カーボネート系溶剤としては、例えば、ジメチルカーボネート、エチルメチルカーボネート、ジ−n−ブチルカーボネート等が挙げられる。 Examples of the carbonate solvents include dimethyl carbonate, ethyl methyl carbonate, di-n-butyl carbonate and the like.
<エポキシ樹脂>
本発明において、エポキシ樹脂は、1分子中に2個以上のエポキシ基を有する化合物である。エポキシ樹脂の性状としては、液状および固形状を問わない。
エポキシ樹脂としては、例えば、グリジシルエーテル型エポキシ樹脂、グリジシルアミン型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、環状脂肪族(脂環型)エポキシ樹脂等が好ましい。
<Epoxy resin>
In the present invention, the epoxy resin is a compound having two or more epoxy groups in one molecule. The properties of the epoxy resin may be liquid or solid.
As the epoxy resin, for example, a glycidyl ether type epoxy resin, a glycidyl amine type epoxy resin, a glycidyl ester type epoxy resin, a cyclic aliphatic (alicyclic type) epoxy resin and the like are preferable.
グリシジルエーテル型エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビスフェノールAD型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、α−ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型ノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、テトラブロムビスフェノールA型エポキシ樹脂、臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹脂、トリス(グリシジルオキシフェニル)メタン、テトラキス(グリシジルオキシフェニル)エタン等が挙げられる。 As a glycidyl ether type epoxy resin, for example, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, bisphenol AD type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, α-naphthol novolac Epoxy resin, bisphenol A novolac epoxy resin, dicyclopentadiene epoxy resin, tetrabromobisphenol A epoxy resin, brominated phenol novolac epoxy resin, tris (glycidyloxyphenyl) methane, tetrakis (glycidyloxyphenyl) ethane Etc.
前記グリシジルアミン型エポキシ樹脂としては、例えば、テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジルパラアミノフェノール、トリグリシジルメタアミノフェノール、テトラグリシジルメタキシリレンジアミン等が挙げられる。 Examples of the glycidyl amine type epoxy resin include tetraglycidyldiaminodiphenylmethane, triglycidyl paraaminophenol, triglycidyl metaaminophenol, tetraglycidyl metaxylylene diamine and the like.
前記グリシジルエステル型エポキシ樹脂としては、例えば、ジグリシジルフタレート、ジグリシジルヘキサヒドロフタレート、ジグリシジルテトラヒドロフタレート等が挙げられる。 As said glycidyl ester type epoxy resin, a diglycidyl phthalate, a diglycidyl hexahydro phthalate, a diglycidyl tetrahydro phthalate etc. are mentioned, for example.
前記環状脂肪族(脂環型)エポキシ樹脂としては、例えば、エポキシシクロヘキシルメチル−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス(エポキシシクロヘキシル)アジペート等が挙げられる。
これらの中でも、エポキシ樹脂としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、トリス(グリシジルオキシフェニル)メタン、およびテトラキス(グリシジルオキシフェニル)エタンが好ましい。これらのエポキシ樹脂を用いることにより、導電性接着剤の湿熱経時後の抵抗値と接着力がより向上する。
Examples of the cycloaliphatic (alicyclic) epoxy resin include epoxycyclohexylmethyl-epoxycyclohexanecarboxylate and bis (epoxycyclohexyl) adipate.
Among these, as the epoxy resin, bisphenol A epoxy resin, cresol novolac epoxy resin, phenol novolac epoxy resin, tris (glycidyloxyphenyl) methane, and tetrakis (glycidyloxyphenyl) ethane are preferable. By using these epoxy resins, the resistance value and adhesion after wet heat aging of the conductive adhesive can be further improved.
導電性接着剤中へのエポキシ樹脂の配合量は、熱硬化性樹脂(A)100重量部に対して、3〜200重量部であることが好ましく、5〜100重量部であることがより好ましく、5〜40重量部であることがさらに好ましい。熱硬化性樹脂(A)100重量部に対して、3〜200重量部のエポキシ樹脂を配合することで、より高い湿熱経時後の接続信頼性と接着力を有する導電性接着剤が得られる。 The compounding amount of the epoxy resin in the conductive adhesive is preferably 3 to 200 parts by weight, and more preferably 5 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the thermosetting resin (A). And 5 to 40 parts by weight. By blending 3 to 200 parts by weight of the epoxy resin with 100 parts by weight of the thermosetting resin (A), a conductive adhesive having higher connection reliability after a wet heat aging and adhesion can be obtained.
<導電性フィラー(B)>
本発明の導電性フィラー(B)は、銅を主成分とする導電性フィラーである。導電性フィラーは、導電性接着剤に導電性を付与する機能を有する。導電性フィラー(B)は、銅を主成分としていればよく、その他の元素との合金であってもよい。その他の合金元素としては、亜鉛、マンガン、鉄、鉛、リン、銀、ニッケル、シリカ、錫、アルミニウム、ベリリウム、チタンが挙げられる。
導電性フィラー(B)は、さらに、主成分である銅を核体とし、該核体の表面を導電性物質で被覆した被覆層を有する複合微粒子を使用することもできる。ここで核体となる銅は純粋な銅であってもよく、上記記載した元素との合金化した銅であってもよい。被覆層は、導電性を有する素材であればよく、導電性金属または導電性ポリマーが好ましい。導電性金属は、例えば、金、白金、銀、ニッケル、マンガン、およびインジウム等、ならびにその合金が挙げられる。また導電性ポリマーは、ポリアニリン、ポリアセチレン等が挙げられる。これらの中でも価格と導電性の面から銀が好ましい。
<Conductive filler (B)>
The conductive filler (B) of the present invention is a conductive filler containing copper as a main component. The conductive filler has a function of imparting conductivity to the conductive adhesive. The conductive filler (B) may contain copper as a main component, and may be an alloy with another element. Other alloying elements include zinc, manganese, iron, lead, phosphorus, silver, nickel, silica, tin, aluminum, beryllium and titanium.
The conductive filler (B) can also use composite fine particles having a coating layer in which the main component copper is a core and the surface of the core is coated with a conductive material. Here, copper serving as a core may be pure copper or copper alloyed with the above-described elements. The covering layer may be a material having conductivity, and preferably a conductive metal or a conductive polymer. Conductive metals include, for example, gold, platinum, silver, nickel, manganese, and indium, and alloys thereof. The conductive polymer may, for example, be polyaniline or polyacetylene. Among these, silver is preferable in terms of cost and conductivity.
被覆層は、導電性フィラーの核体100重量部に対して、40重量部以下であることが好ましく、20重量部以下がより好ましく、10重量部以下がより好ましい。被覆層を40重量部以下にすることで導電性接着剤のコストダウンが可能となる。
本発明の導電性接着剤は、このようなコストダウンが可能となる、導電性物質の被覆量が少ない場合にも、導電性接着剤の粘度安定性が良好であり、かつ、高温高湿環境下に長時間晒されても、導電性が良好であり、シールド特性や金属補強板への接着強度も優れる導電性シートとすることが可能となるものである。
The coating layer is preferably 40 parts by weight or less, more preferably 20 parts by weight or less, and more preferably 10 parts by weight or less, with respect to 100 parts by weight of the core of the conductive filler. By reducing the coating layer to 40 parts by weight or less, the cost of the conductive adhesive can be reduced.
The conductive adhesive of the present invention is capable of achieving such cost reduction, and the viscosity stability of the conductive adhesive is good even when the coating amount of the conductive material is small, and the high temperature and high humidity environment Even when exposed to the lower side for a long time, it is possible to obtain a conductive sheet which is excellent in conductivity and excellent in shield characteristics and adhesion strength to a metal reinforcing plate.
導電性フィラーの形状は、所望の導電性が得られればよく、形状は限定されない。具体的には、例えば、球状、フレーク状、葉状、樹枝状、プレート状、針状、棒状、ブドウ状が好ましい。
導電性フィラーは、単独または2種類以上を併用してもよい。
The shape of the conductive filler may be any shape as long as desired conductivity can be obtained, and the shape is not limited. Specifically, for example, a spherical shape, a flake shape, a leaf shape, a dendritic shape, a plate shape, a needle shape, a rod shape, and a grape shape are preferable.
The conductive fillers may be used alone or in combination of two or more.
導電性フィラーの平均粒子径は、1〜100μmが好ましく、3〜50μmがより好ましい。平均粒子径が所定の範囲にあることで接続信頼性と粘度安定性を高度に両立できる。さらに、導電性フィラーの沈降を抑制する観点から12μm未満が好ましい。なお、平均粒子径は、レーザー回折・散乱法粒度分布測定装置によって求めることが出来る。ここで、平均粒子径とは、粒子径累積分布における累積値が50%の粒子径である。
上記方法以外にも、走査型電子顕微鏡による導電性フィラーの拡大画像(例えば、千〜一万倍)から、約10〜20個程度の粒子を選択し、その粒子の直径を測定することで平均粒子径を測定することもできる。導電性フィラーの長手方向の長さと短手方向の長さとが大きく異なる場合は、長手方向の長さを使用して、導電性フィラーの平均粒子径を算出する。さらに、導電性フィラーが球状以外の形状である場合、導電性フィラーの平均粒子サイズは、導電性フィラーの最大長さを使用して算出する。
1-100 micrometers is preferable and, as for the average particle diameter of a conductive filler, 3-50 micrometers is more preferable. Connection reliability and viscosity stability can be both highly compatible by the average particle diameter being in a predetermined range. Furthermore, from a viewpoint of suppressing sedimentation of a conductive filler, less than 12 micrometers is preferred. The average particle size can be determined by a laser diffraction / scattering particle size distribution measuring apparatus. Here, the average particle size is a particle size having a cumulative value of 50% in the particle size cumulative distribution.
In addition to the above method, about 10 to about 20 particles are selected from a magnified image (for example, 1,000 to 10,000 times) of the conductive filler by a scanning electron microscope, and the average diameter is measured. Particle size can also be measured. When the length in the longitudinal direction of the conductive filler and the length in the lateral direction are significantly different, the length in the longitudinal direction is used to calculate the average particle diameter of the conductive filler. Furthermore, when the conductive filler is in a shape other than spherical, the average particle size of the conductive filler is calculated using the maximum length of the conductive filler.
導電性フィラー(B)において、核体を被覆する場合の、導電性物質の被覆層は、銅を主成分とする核体の少なくとも一部を被覆していればよいが、より優れた導電特性を得るためには、被覆率が高い方が好ましい。導電特性を良好に保つ観点からは、被覆層による平均被覆率を60%以上とすることが好ましく、70%以上とすることがより好ましく、80%以上とすることがさらに好ましい。尚、本明細書における平均被覆率は、後述するESCAによる紛体の測定により求めた値をいう。 In the conductive filler (B), in the case of coating the core, the coating layer of the conductive material only needs to cover at least a part of the core containing copper as a main component, but more excellent conductive properties The higher the coverage, the better. From the viewpoint of maintaining good conductivity, the average coverage by the coating layer is preferably 60% or more, more preferably 70% or more, and still more preferably 80% or more. In addition, the average coverage in this specification says the value calculated | required by the measurement of the powder by ESCA mentioned later.
導電性接着剤中への導電性フィラー(B)の配合量は、熱硬化性樹脂(A)100重量部に対して、200〜1,000重量部であることが好ましく、300〜600重量部であることがより好ましい。熱硬化性樹脂(A)100重量部に対して、200〜1,000重量部の導電性フィラー(B)を配合することで、導電性接着剤の導電性および導電性接着剤層の膜強度がより向上する。 The compounding amount of the conductive filler (B) in the conductive adhesive is preferably 200 to 1,000 parts by weight, and 300 to 600 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the thermosetting resin (A). It is more preferable that By blending 200 to 1,000 parts by weight of the conductive filler (B) with respect to 100 parts by weight of the thermosetting resin (A), the conductivity of the conductive adhesive and the film strength of the conductive adhesive layer Improve more.
本発明の導電性接着剤は、導電性フィラー(B)以外の導電性フィラーを併用することもできる。導電性フィラー(B)以外の導電性フィラーは、例えば、金、白金、銀、ニッケル、マンガン、およびインジウム等、ならびにその合金が挙げられる。 The conductive adhesive of the present invention can also use a conductive filler other than the conductive filler (B). Conductive fillers other than the conductive filler (B) include, for example, gold, platinum, silver, nickel, manganese, and indium, and alloys thereof.
<硬化剤>
本発明において、硬化剤は、導電性接着剤をシート状に形成して導電性接着剤層を得る際に、架橋反応により導電性接着剤層を半硬化状態とする機能を有するが、かかる機能を有さず、本硬化の際に架橋反応する機能を有していてもよい。硬化剤としては、例えば、イソシアネート系硬化剤、アミン系硬化剤、アジリジン系硬化剤、イミダゾール系硬化剤等が好ましい。熱硬化性樹脂及び後述するエポキシ樹脂、シランカップリング剤が不飽和結合を有する場合は、過酸化物系硬化剤、アゾ系硬化剤が好ましい。
<Hardening agent>
In the present invention, the curing agent has a function of bringing the conductive adhesive layer into a semi-cured state by a crosslinking reaction when forming the conductive adhesive into a sheet to obtain the conductive adhesive layer, And may have a function of causing a crosslinking reaction during main curing. As the curing agent, for example, an isocyanate-based curing agent, an amine-based curing agent, an aziridine-based curing agent, an imidazole-based curing agent and the like are preferable. When the thermosetting resin and the epoxy resin described later and the silane coupling agent have unsaturated bonds, peroxide curing agents and azo curing agents are preferred.
イソシアネート系硬化剤としては、例えば、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジシクロへキシルメタンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等が挙げられる。 Examples of isocyanate curing agents include tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, tetramethyl xylylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate. Etc.
アミン系硬化剤としては、例えば、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、メチレンビス(2−クロロアニリン)、メチレンビス(2−メチル−6−メチルアニリン)、1,5−ナフタレンジイソシアネート、n−ブチルベンジルフタル酸等が挙げられる。 Examples of amine curing agents include diethylenetriamine, triethylenetetramine, methylenebis (2-chloroaniline), methylenebis (2-methyl-6-methylaniline), 1,5-naphthalenediisocyanate, n-butylbenzylphthalic acid and the like. It can be mentioned.
アジリジン系硬化剤としては、例えば、トリメチロールプロパン−トリ−β−アジリジニルプロピオネート、テトラメチロールメタン−トリ−β−アジリジニルプロピオネート、N,N’−ジフェニルメタン−4,4’−ビス(1−アジリジンカルボキシアミド)、N,N’−ヘキサメチレン−1,6−ビス(1−アジリジンカルボキシアミド)等が挙げられる。 As an aziridine type curing agent, for example, trimethylolpropane-tri-β-aziridinyl propionate, tetramethylolmethane-tri-β-aziridinyl propionate, N, N′-diphenylmethane-4,4 ′ And -bis (1-aziridinecarboxamide), N, N'-hexamethylene-1,6-bis (1-aziridinecarboxamide), and the like.
イミダゾール系硬化剤としては、例えば、2−メチルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテイト等が挙げられる。 Examples of the imidazole-based curing agent include 2-methylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazolium trimellitate and the like.
過酸化物系硬化剤としては、例えば、クメンヒドロペルオキシド、t−ブチルぺルオキシ−2−エチルヘキサノエート等が挙げられる。 Examples of the peroxide curing agent include cumene hydroperoxide, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate and the like.
アゾ系硬化剤としては、例えば、2、2’−アゾビスイソブチルニトリル、2、2’−アゾビス(2、4−ジメチルバレロニトリル)等が挙げられる。
導電性接着剤中への硬化剤の配合量は、熱硬化性樹脂(A)100重量部に対して、0.3〜20重量部であることが好ましく、1〜15重量部であることがより好ましい。熱硬化性樹脂(A)100重量部に対して、0.3〜20重量部の硬化剤を配合することで、半硬化後の導電性接着剤層を流動しにくくすることができるため、導電性接着剤層のブロッキングを抑制しやすくなる。
Examples of the azo curing agent include 2,2′-azobisisobutyl nitrile, 2,2′-azobis (2,4-dimethyl valeronitrile) and the like.
The compounding amount of the curing agent in the conductive adhesive is preferably 0.3 to 20 parts by weight, and 1 to 15 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the thermosetting resin (A). More preferable. By blending 0.3 to 20 parts by weight of the curing agent with respect to 100 parts by weight of the thermosetting resin (A), the conductive adhesive layer after being semi-cured can be made less likely to flow, so that it is possible to conduct electricity. It becomes easy to suppress blocking of the adhesive layer.
<シランカップリング剤>
本発明において、シランカップリング剤は、シランカップリング剤のアルコキシシリル基が架橋反応することで、硬化後の塗膜の架橋密度が増し、導電性接着剤の耐湿熱性を向上することができる。その結果、耐湿熱性試験後においても抵抗値の上昇が抑制され、接着力が低下し難くなる。
シランカップリング剤としては、例えば、ビニル系シランカップリング剤、エポキシ系シランカップリング剤、アミノ系シランカップリング剤、ビニル系シランカップリング剤、メタクリル系カップリング剤、チオール系カップリング剤、イソシアネート系シランカップリング剤等が好ましい。
特に好ましくは、シランカップリング剤が、ビニル系シランカップリング剤、エポキシ系シランカップリング剤、またはアミノ系シランカップリング剤である場合、導電性接着剤の粘度安定性に優れたものとなる。
<Silane coupling agent>
In the present invention, the crosslinking reaction of the alkoxysilyl group of the silane coupling agent causes the silane coupling agent to crosslink, thereby increasing the crosslink density of the coating after curing and improving the heat and moisture resistance of the conductive adhesive. As a result, even after the heat and humidity resistance test, the increase in resistance value is suppressed, and the adhesion is less likely to be reduced.
As a silane coupling agent, For example, a vinyl type silane coupling agent, an epoxy type silane coupling agent, an amino type silane coupling agent, a vinyl type silane coupling agent, a methacryl type coupling agent, a thiol type coupling agent, an isocyanate Preferred are silane coupling agents and the like.
Particularly preferably, when the silane coupling agent is a vinyl based silane coupling agent, an epoxy based silane coupling agent, or an amino based silane coupling agent, the viscosity stability of the conductive adhesive is excellent.
ビニル系シランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等が挙げられる。 As a vinyl type silane coupling agent, vinyl trimethoxysilane, vinyl triethoxysilane, etc. are mentioned, for example.
エポキシ系シランカップリング剤としては、例えば、2−(3,4−エポキシシクロへキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。 Examples of epoxy-based silane coupling agents include 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3- Examples include glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, and the like.
アミノ系シランカップリング剤としては、例えば、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−トリエトキシシリル−N−(1,3−ジメチル−ブチリデン)プロピルアミン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。 As an amino type silane coupling agent, for example, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrile. Examples thereof include methoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N- (1,3-dimethyl-butylidene) propylamine, and N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane.
ビニル系シランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等が挙げられる。 As a vinyl type silane coupling agent, vinyl trimethoxysilane, vinyl triethoxysilane, etc. are mentioned, for example.
メタクリル系シランカップリング剤としては、例えば、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。 Examples of the methacrylic silane coupling agent include 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane and the like.
チオール系シランカップリング剤としては、例えば、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。 As a thiol system silane coupling agent, 3-mercapto propyl methyl dimethoxysilane, 3-mercapto propyl trimethoxysilane, etc. are mentioned, for example.
イソシアネート系シランカップリング剤としては、例えば、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。 As an isocyanate type silane coupling agent, 3-isocyanate propyl triethoxysilane etc. are mentioned, for example.
導電性接着剤中へのシランカップリング剤の配合量は、熱硬化性樹脂(A)100重量部に対して、0.1〜25重量部であることが好ましく、0.5〜15重量部であることがより好ましい。熱硬化性樹脂(A)100重量部に対して、0.5〜25重量部のシランカップリング剤を配合することで、導電性接着剤の硬化後の耐熱性がさらに向上する。 The compounding amount of the silane coupling agent in the conductive adhesive is preferably 0.1 to 25 parts by weight, and 0.5 to 15 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the thermosetting resin (A). It is more preferable that By blending 0.5 to 25 parts by weight of the silane coupling agent with respect to 100 parts by weight of the thermosetting resin (A), the heat resistance after curing of the conductive adhesive is further improved.
<無機フィラー>
本発明の導電性接着剤は、さらに無機フィラーを含むことが好ましい。無機フィラーを含むことで、導電性接着剤の耐湿熱信頼性及び打ち抜き加工性がより向上する。
無機フィラーとしては、例えば、シリカ、アルミナ、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、酸化チタン、酸化亜鉛、三酸化アンチモン、酸化マグネシウム、タルク、モンモロリナイト、カオリン、ベントナイト等の無機化合物が挙げられる。これらの中でも、無機フィラーとしては、シリカ表面のシラノール基とハロゲン化シランとを反応させることにより得られる疎水性シリカが好ましい。疎水性シリカを使用することにより、導電性接着剤の含水率を低減することができる。なお、本発明において、無機フィラーは、導電性フィラーと異なる。
<Inorganic filler>
The conductive adhesive of the present invention preferably further contains an inorganic filler. By including the inorganic filler, the moisture and heat resistance and the punching processability of the conductive adhesive are further improved.
As the inorganic filler, for example, inorganic materials such as silica, alumina, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, barium sulfate, calcium carbonate, titanium oxide, zinc oxide, antimony trioxide, magnesium oxide, talc, montmorillonite, kaolin, bentonite and the like Compounds are mentioned. Among these, as the inorganic filler, hydrophobic silica obtained by reacting a silanol group on the surface of silica with a halogenated silane is preferable. By using hydrophobic silica, the moisture content of the conductive adhesive can be reduced. In the present invention, the inorganic filler is different from the conductive filler.
無機フィラーの平均粒子径(平均粒子径D50)は、0.01〜10μmであることが好ましく、0.05〜8μmであることがより好ましい。無機フィラーの平均粒子径が0.01〜10μmであることで、打ち抜き加工性をより向上することができる。なお、無機フィラーの平均粒子サイズも、導電性フィラーと同様の方法で特定することができる。 The average particle size (average particle size D50) of the inorganic filler is preferably 0.01 to 10 μm, and more preferably 0.05 to 8 μm. Punching processability can be further improved by the average particle diameter of the inorganic filler being 0.01 to 10 μm. The average particle size of the inorganic filler can also be specified by the same method as the conductive filler.
本発明の導電性接着剤には、他の任意成分として、耐熱安定剤、顔料、染料、粘着付与樹脂、可塑剤、紫外線吸収剤、消泡剤、レベリング調整剤等を配合することができる。例えば、耐熱安定剤を配合すると、樹脂の分解を抑制することができるため、導電性接着剤の硬化後の耐熱性をより向上することができる。具体的には、耐熱安定剤としては、ヒンダートフェノール系化合物、リン系化合物、ラクトン系化合物、ヒドロキシルアミン系化合物、イオウ系化合物等が好ましく、ヒンダートフェノール系化合物がより好ましい。 In the conductive adhesive of the present invention, a heat resistant stabilizer, a pigment, a dye, a tackifier resin, a plasticizer, an ultraviolet absorber, an antifoaming agent, a leveling regulator, and the like can be blended as other optional components. For example, when the heat resistant stabilizer is blended, the decomposition of the resin can be suppressed, so that the heat resistance after curing of the conductive adhesive can be further improved. Specifically, as the heat resistant stabilizer, hindered phenol compounds, phosphorus compounds, lactone compounds, hydroxylamine compounds, sulfur compounds and the like are preferable, and hindered phenol compounds are more preferable.
導電性接着剤は、これまで説明した材料を混合し攪拌して作成できる。攪拌は、例えばディスパーマット、ホモジナイザー等の公知の攪拌装置を使用できる。 The conductive adhesive can be made by mixing and stirring the materials described above. Stirring can use well-known stirring apparatuses, such as a disper mat | matte and a homogenizer, for example.
<導電性接着シートの製造方法>
本発明の導電性接着シートは、剥離性シートと、この剥離性シートの一方の面側に設けられた導電性接着剤層とを備えるシートである。導電性接着剤層は、例えば、導電性接着剤を剥離性シート上に塗工して形成され、好ましくは半硬化状態となっている。前記導電性接着シートの導電性接着剤層は、例えば、補強板(導電性補強板)と仮貼りした後に、高温加熱により本硬化することで、高い接続信頼性と耐湿熱性が得られる。
<Method of manufacturing conductive adhesive sheet>
The conductive adhesive sheet of the present invention is a sheet comprising a peelable sheet and a conductive adhesive layer provided on one side of the peelable sheet. The conductive adhesive layer is formed, for example, by applying a conductive adhesive on a peelable sheet, and is preferably in a semi-cured state. The conductive adhesive layer of the conductive adhesive sheet is, for example, temporarily attached to a reinforcing plate (conductive reinforcing plate), and then main curing is performed by high temperature heating, whereby high connection reliability and heat and humidity resistance can be obtained.
前記導電性接着剤層は、剥離性シートの剥離面に、例えば、ナイフコート、ダイコート、リップコート、ロールコート、カーテンコート、バーコート、グラビアコート、フレキソコート、ディップコート、スプレーコート、スピンコート等の方法で、導電性接着剤を塗工して塗膜を形成した後、通常、40〜150℃の温度で塗膜を加熱することで形成することができる。 The conductive adhesive layer is, for example, a knife coat, a die coat, a lip coat, a roll coat, a curtain coat, a bar coat, a gravure coat, a flexo coat, a dip coat, a spray coat, a spin coat, etc. on the release surface of the release sheet. After the conductive adhesive is applied to form a coating film by the method described above, the coating film can be generally formed by heating the coating film at a temperature of 40 to 150 ° C.
導電性接着剤層の厚さは、5〜500μmであることが好ましく、10〜100μmであることがより好ましい。
前記導電性接着剤層は、その表面に剥離性シートを貼り合わせることで、その取り扱いが容易になる。
The thickness of the conductive adhesive layer is preferably 5 to 500 μm, and more preferably 10 to 100 μm.
The conductive adhesive layer is easy to handle by bonding a peelable sheet to the surface thereof.
本発明の導電性接着シートは、その導電性接着剤を補強板へ仮貼りして積層体(補強板付き導電接着シート)を作製した後、積層体を打ち抜き加工により所望の形状に加工する場合が多い。この場合、半硬化状態の導電性接着剤層は、所定の伸び率を有することで、積層体は、さらに良好な打ち抜き加工性を発揮する。 The conductive adhesive sheet of the present invention is prepared by temporarily sticking the conductive adhesive onto a reinforcing plate to produce a laminate (conductive adhesive sheet with a reinforcing plate), and processing the laminate into a desired shape by punching. There are many. In this case, the conductive adhesive layer in the semi-cured state has a predetermined elongation rate, and the laminate exhibits better punching processability.
<配線デバイス>
本発明の配線デバイスは、信号配線を備える配線板と、前記配線板の少なくとも一方の面側に設けられた補強板と、前記配線板と前記補強板とを接合する本発明の導電性接着剤より形成されてなる導電性接着剤層とからなる。
かかる配線デバイスは、例えば、配線板と導電性補強板とを半硬化状態の導電性接着剤層を介して仮貼りして積層体を形成した後、この積層体を高温で加熱することで、導電性接着剤層を本硬化することにより接合層を形成して得ることができる。本硬化により優れた接着強度および耐熱性を有する接合層(導電性接着剤層の硬化物)が得られる。
<Wiring device>
A wiring device according to the present invention comprises a wiring board having signal wiring, a reinforcing board provided on at least one surface of the wiring board, and the conductive adhesive according to the present invention for bonding the wiring board and the reinforcing board And a conductive adhesive layer formed by
Such a wiring device is, for example, temporarily laminating a wiring board and a conductive reinforcing plate via a semi-cured conductive adhesive layer to form a laminate, and then heating the laminate at a high temperature, It can be obtained by forming the bonding layer by fully curing the conductive adhesive layer. The main curing provides a bonding layer (cured product of the conductive adhesive layer) having excellent adhesive strength and heat resistance.
また、本硬化での加熱温度は、130〜210℃であることが好ましく、140〜200℃であることがより好ましい。加熱の際に積層体を加圧することができるが、その圧力は、0.2〜12MPaであることが好ましく、0.3〜10MPaであることがより好ましい。
なお、配線板は、絶縁性基板と、この絶縁性基板上に設けられた信号配線と、この信号配線を覆うように絶縁性基板上に設けられた絶縁性層とを備える。通常、配線デバイスでは、配線板の絶縁性層と補強板とが接合層により接合される。
Moreover, it is preferable that it is 130-210 degreeC, and, as for the heating temperature in this curing | hardening, it is more preferable that it is 140-200 degreeC. While the laminate can be pressurized during heating, the pressure is preferably 0.2 to 12 MPa, and more preferably 0.3 to 10 MPa.
The wiring board includes an insulating substrate, a signal wiring provided on the insulating substrate, and an insulating layer provided on the insulating substrate so as to cover the signal wiring. Usually, in the wiring device, the insulating layer and the reinforcing plate of the wiring board are bonded by the bonding layer.
また、配線板は、信号配線に加えて、さらにグランド配線を備えることが好ましい。補強板として、導電性を有する補強板(導電性補強板)を用いて、グランド配線と電気的な接続を取ることで、この導電性補強板をシールド層(電磁波シールド層)として機能させることができる。導電性補強板の構成材料としては、導電性の金属およびその合金が好ましい。導電性補強板の構成材料の具体例としては、例えば、スレンレス、アルミニウム等が挙げられる。
なお、前記電気的な接続を取る方法としては、絶縁性層に貫通孔を形成し、当該貫通孔内に導電性接着剤を充填する方法、本硬化時の加熱圧着により導電性接着剤層を流動させて貫通孔内に充填する方法等が挙げられる。
In addition to the signal wiring, the wiring board preferably further includes a ground wiring. Using a conductive reinforcing plate (conductive reinforcing plate) as a reinforcing plate to electrically connect with the ground wiring to make the conductive reinforcing plate function as a shield layer (electromagnetic wave shielding layer) it can. As a constituent material of the conductive reinforcing plate, a conductive metal and its alloy are preferable. Specific examples of the constituent material of the conductive reinforcing plate include, for example, stainless steel, aluminum and the like.
In addition, as a method of taking the electrical connection, a method of forming a through hole in the insulating layer, and filling a conductive adhesive in the through hole, a conductive adhesive layer by thermocompression bonding at the time of main curing The method of making it flow and filling in a through-hole etc. are mentioned.
また、配線板は、フレキシブルプリント配線板(FPC)であることが好ましい。配線板がFPCである場合、絶縁性基板および絶縁性の構成材料としては、ポリイミド、液晶ポリマー等の耐熱性を有する樹脂材料が好ましい。一方、配線板がリジッド配線板の場合、絶縁性基板および絶縁性層(絶縁性基材)の構成材料としては、ガラスエポキシが好ましい。このような材料で絶縁性基板および絶縁性層を構成することにより、絶縁性基板および絶縁性層は、高い耐熱性を発揮する。 The wiring board is preferably a flexible printed wiring board (FPC). When the wiring board is an FPC, heat-resistant resin materials such as polyimide and liquid crystal polymer are preferable as the insulating substrate and the insulating constituent material. On the other hand, when the wiring board is a rigid wiring board, glass epoxy is preferable as a constituent material of the insulating substrate and the insulating layer (insulating base material). By forming the insulating substrate and the insulating layer with such materials, the insulating substrate and the insulating layer exhibit high heat resistance.
以上説明した本発明の配線デバイスは、タッチパネル式の液晶ディスプレイ等またはこれらを組み込んだ携帯電話、スマートフォン、タブレット端末等に使用することができる。また、本発明の導電性接着剤および導電性接着シートは、配線デバイスの製造に使用することができる他、導電性が必要な各種用途に使用することができる。好適な例として、電磁波シールドシート用の導電接着剤層、異方導電性シート、静電除去シート、グランド接続用シート、熱伝導性シート、ジャンパー回路用導電シート等が挙げられる。なお、配線板が有する信号配線およびグランド配線は、所望の機能を備える回路を形成していてもよい。 The wiring device of the present invention described above can be used for a touch panel liquid crystal display or the like or a mobile phone, a smart phone, a tablet terminal or the like incorporating the same. Further, the conductive adhesive and the conductive adhesive sheet of the present invention can be used in the manufacture of wiring devices and can be used in various applications where conductivity is required. As preferable examples, a conductive adhesive layer for an electromagnetic wave shield sheet, an anisotropic conductive sheet, an antistatic sheet, a sheet for ground connection, a thermally conductive sheet, a conductive sheet for a jumper circuit and the like can be mentioned. Note that the signal wiring and the ground wiring of the wiring board may form a circuit having a desired function.
次に、実施例を示して本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。
なお、「部」は「重量部」を、「%」は「重量%」を表すものとする。また、「Mn」は数平均分子量を、「Mw」は重量平均分子量を表す。
EXAMPLES The present invention will next be described in more detail by way of examples, which should not be construed as limiting the invention thereto.
In addition, "part" shall represent "weight part" and "%" shall represent "weight%." Moreover, "Mn" represents a number average molecular weight and "Mw" represents a weight average molecular weight.
なお、樹脂の酸価、樹脂のガラス転移温度(Tg)、樹脂の重量平均分子量、導電性フィラーの被覆層の被覆率、および導電性フィラーの平均粒子径は以下の方法で測定した。 The acid value of the resin, the glass transition temperature (Tg) of the resin, the weight average molecular weight of the resin, the coverage of the coating layer of the conductive filler, and the average particle diameter of the conductive filler were measured by the following methods.
<酸価の測定>
熱硬化性樹脂1gをメチルエチルケトン40mlに溶解し、京都電子工業社製自動滴定装置「AT−510」にビュレットとして同社製「APB−510−20B」を接続したものを使用した。滴定試薬としては0.1mol/Lのエタノール性KOH溶液を用いて電位差滴定を行い、樹脂1gあたりのKOHのmg数を算出した。
<Measurement of acid number>
1 g of a thermosetting resin was dissolved in 40 ml of methyl ethyl ketone, and an automatic titrator "AT-510" manufactured by Kyoto Electronics Industries, Ltd. was connected to "APB-510-20B" manufactured by the same company as a burette. Potentiometric titration was performed using a 0.1 mol / L ethanolic KOH solution as a titration reagent, and the mg number of KOH per 1 g of resin was calculated.
<ガラス転移温度(Tg)>
Tgの測定は、示差走査熱量測定(メトラー・トレド社製「DSC−1」)によって測定した。
<Glass transition temperature (Tg)>
The measurement of Tg was measured by differential scanning calorimetry ("DSC-1" manufactured by METTLER TOLEDO).
<重量平均分子量の測定方法(Mw)>
重量平均分子量(Mw)は、GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)測定で求めたポリスチレン換算の数値である。測定条件は、以下のとおりである。
装置:Shodex GPC System−21(昭和電工社製)
カラム:1本のShodex KF−802(昭和電工社製)と、1本のShodex
KF−803L(昭和電工社製)と、1本のShodex KF−805L(昭和電工社製)とを直列に連結した連結カラム
溶媒:テトラヒドロフラン
流速:1.0mL/min
温度:40℃
試料濃度:0.2%
試料注入量:100μL
<Method of measuring weight average molecular weight (Mw)>
The weight average molecular weight (Mw) is a value in terms of polystyrene calculated by GPC (gel permeation chromatography) measurement. The measurement conditions are as follows.
Device: Shodex GPC System-21 (made by Showa Denko)
Column: One Shodex KF-802 (made by Showa Denko) and one Shodex
Connection column in which KF-803L (made by Showa Denko) and 1 Shodex KF-805L (made by Showa Denko) are connected in series Solvent: tetrahydrofuran Flow rate: 1.0 mL / min
Temperature: 40 ° C
Sample concentration: 0.2%
Sample injection volume: 100 μL
<導電性フィラーの被覆層の被覆率の測定方法>
導電性フィラーの被覆層の被覆率の測定方法として、銅からなる核体に対し、被覆層を銀とした場合における、銀の被覆率を例に示す。
AXIS−HS(島津製作所社製/Kratos)、X線源:Dual(Mg)15kV,10mA Pass energy 80eV、Step:0.1 eV/Step、Speed:120秒/元素、Dell:300、積算回数:8の条件でAg3d:2とCu2P:1のピーク面積から銀と銅の質量濃度を求め、銀の質量濃度の割合を被覆率とした。
導電性フィラーの被覆層の被覆率は、X線光電子分光分析(ESCA)で測定した。核体に銅、被覆層に銀を使用した導電性フィラー測定を例に説明する。まず専用台座に両面粘着テープを貼り、導電性フィラーを均一に付着させ、余分をエアーで除去したものを測定試料とした。測定試料を下記条件で、3箇所場所を変えて測定した。
装置:AXIS−HS(島津製作所社製/Kratos)
試料チャンバー内真空度:1×10−8Torr以下
X線源:Dual(Mg)15kV,5mA Pass energy 80eV
Step:0.1 eV/Step
Speed:120秒/元素
Dell:300、積算回数:5
光電子取り出し角:試料表面に対して90度
結合エネルギー:C1s主ピークを284.6eVとしてシフト補正
Cu(2p)ピーク領域:926〜936eV
Ag(3d)ピーク領域:376〜362eV
上記ピーク領域に出現したピークをスムージング処理し、直線法にてベースラインを引き、銀と銅の原子濃度「Atomic Conc」を求め、下記式にて算出した3箇所の値の平均値を導電性フィラーの被覆率とした。
被覆率=[銀の原子濃度]/([銅の原子濃度]+[銀の原子濃度])×100
尚、被覆層をニッケルとした場合、ピーク領域はNi(2p):848〜870eVとした。
<Method of measuring coverage of coating layer of conductive filler>
As a method of measuring the coverage of the coating layer of the conductive filler, the coverage of silver in the case where the coating layer is silver with respect to the core made of copper is shown as an example.
AXIS-HS (Shimadzu Corporation / Kratos), X-ray source: Dual (Mg) 15 kV, 10 mA Pass energy 80 eV, Step: 0.1 eV / Step, Speed: 120 seconds / element, Dell: 300, number of integrations: The mass concentration of silver and copper was determined from the peak areas of Ag3d: 2 and Cu2P: 1 under the conditions of 8, and the ratio of mass concentration of silver was taken as the coverage.
The coverage of the coating layer of the conductive filler was measured by X-ray photoelectron spectroscopy (ESCA). The conductive filler measurement using copper for the core and silver for the coating layer will be described as an example. First, a double-sided pressure-sensitive adhesive tape was attached to a dedicated pedestal, the conductive filler was uniformly attached, and the excess was removed with air to obtain a measurement sample. The measurement sample was measured at three different places under the following conditions.
Device: AXIS-HS (Shimadzu Corporation / Kratos)
Vacuum level in sample chamber: 1 x 10 -8 Torr or less X-ray source: Dual (Mg) 15 kV, 5 mA Pass energy 80 eV
Step: 0.1 eV / Step
Speed: 120 seconds / Element Dell: 300, accumulated number of times: 5
Photoelectron take-off angle: 90 degrees with respect to the sample surface Binding energy: C1s main peak shift corrected to 284.6 eV Cu (2p) peak area: 926 to 936 eV
Ag (3d) peak region: 376 to 362 eV
The peak appearing in the above peak area is subjected to smoothing treatment, a baseline is drawn by the linear method, the atomic concentration of silver and copper "Atomic Conc" is determined, and the average value of the three values calculated by the following formula is conducted. It was the coverage of the filler.
Coverage = [atomic concentration of silver] / ([atomic concentration of copper] + [atomic concentration of silver]) × 100
When the covering layer is nickel, the peak region is Ni (2p): 848 to 870 eV.
<導電性フィラーのD50平均粒子径の測定方法>
D50平均粒子径はレーザー回折・散乱法粒度分布測定装置LS13320(ベックマン・コールター社製)を使用し、トルネードドライパウダーサンプルモジュールにて、導電性フィラーを測定した。なお、屈折率の設定は1.6とした。
<Method of measuring D50 average particle diameter of conductive filler>
The D50 average particle size was measured using a laser diffraction / scattering particle size distribution analyzer LS13320 (manufactured by Beckman Coulter, Inc.), and the conductive filler was measured with a tornado dry powder sample module. The refractive index was set to 1.6.
以下、実施例で使用した材料を示す。 The materials used in the examples are shown below.
<熱硬化性樹脂>
(熱硬化性樹脂1)
[合成例1:ポリカーボネート系ポリウレタンの合成]
攪拌機、温度計、還流冷却器、滴下装置、窒素導入管を備えた反応容器に、ポリカーボネート系ジオール「ダイセル社製、プラクセルCD220」194部、ジメチロールブタン酸7部、イソホロンジイソシアネート42部、及びトルエン70部を仕込み、窒素雰囲気下90℃で3時間反応させた。これに、トルエン250部を加えて、末端にイソシアネート基を有するウレタンプレポリマーの溶液を得た。次に、イソホロンジアミン6部、ジ−n−ブチルアミン0.6部、2−プロノール113部、及びトルエン185部を混合したものに、得られたウレタンプレポリマーの溶液506部を添加し、70℃で3時間反応させ、Mw=50000、Tgは3℃、酸価7mgKOH/gであるポリカーボネート系ポリウレタン樹脂の溶液を得た。これに、トルエン、2−プロパノールを加えて、固形分30%である熱硬化性樹脂1(ポリカーボネート系ポリウレタン樹脂)溶液を得た。
<Thermosetting resin>
(Thermosetting resin 1)
Synthesis Example 1: Synthesis of Polycarbonate-Based Polyurethane
In a reaction vessel equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser, dropping device, nitrogen introducing pipe, 194 parts of a polycarbonate-based diol "Dacel Co., Ltd., Plaxel CD 220", 7 parts of dimethylol butanoic acid, 42 parts of isophorone diisocyanate, and toluene 70 parts were charged and reacted at 90 ° C. for 3 hours under nitrogen atmosphere. To this, 250 parts of toluene was added to obtain a solution of a urethane prepolymer having an isocyanate group at the end. Next, 506 parts of the solution of the obtained urethane prepolymer is added to a mixture of 6 parts of isophorone diamine, 0.6 parts of di-n-butylamine, 113 parts of 2-pronol, and 185 parts of toluene, and 70 ° C. The reaction was carried out for 3 hours to obtain a solution of a polycarbonate-based polyurethane resin having Mw = 50000, Tg of 3 ° C. and acid value of 7 mg KOH / g. Toluene and 2-propanol were added to this to obtain a thermosetting resin 1 (polycarbonate polyurethane resin) solution having a solid content of 30%.
(熱硬化性樹脂2)
[合成例2:ポリエステル系ポリウレタンの合成]
攪拌機、温度計、還流冷却器、滴下装置、窒素導入管を備えた反応容器に、ポリエステル系ジオール「クラレ株式会社製、P−2011」195部、ジメチロールブタン酸7部、イソホロンジイソシアネート40部、及びトルエン70部を仕込み、窒素雰囲気下90℃で3時間反応させた。これに、トルエン250部を加えて、末端にイソシアネート基を有するウレタンプレポリマーの溶液を得た。次に、イソホロンジアミン6部、ジ−n−ブチルアミン0.6部、2−プロノール113部、及びトルエン185部を混合したものに、得られたウレタンプレポリマーの溶液506部を添加し、70℃で3時間反応させ、Mw=43,000、Tgは−5℃、酸価10mgKOH/gであるポリウレタン系熱硬化性樹脂の溶液を得た。これに、トルエン、2−プロパノールを加えて、固形分30%である熱硬化性樹脂2(ポリエステル系ポリウレタン樹脂)溶液を得た。
(Thermosetting resin 2)
Synthesis Example 2: Synthesis of Polyester-Based Polyurethane
In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, a dropping device, and a nitrogen introducing pipe, 195 parts of polyester-based diol "Kuraray Co., Ltd., P-2011", 7 parts of dimethylol butanoic acid, 40 parts of isophorone diisocyanate, And 70 parts of toluene were charged and reacted at 90.degree. C. for 3 hours under a nitrogen atmosphere. To this, 250 parts of toluene was added to obtain a solution of a urethane prepolymer having an isocyanate group at the end. Next, 506 parts of the solution of the obtained urethane prepolymer is added to a mixture of 6 parts of isophorone diamine, 0.6 parts of di-n-butylamine, 113 parts of 2-pronol, and 185 parts of toluene, and 70 ° C. The reaction was carried out for 3 hours to obtain a polyurethane-based thermosetting resin solution having a Mw of 43,000, a Tg of -5.degree. C. and an acid value of 10 mg KOH / g. Toluene and 2-propanol were added to this, and the thermosetting resin 2 (polyester type polyurethane resin) solution which is solid content 30% was obtained.
(熱硬化性樹脂3)
[合成例3:ポリエーテル系ポリウレタンの合成]
攪拌機、温度計、還流冷却器、滴下装置、窒素導入管を備えた反応容器に、ポリエーテル系ジオール「保土ヶ谷工業株式会社製、PTG−2000sn」196部、ジメチロールブタン酸6部、イソホロンジイソシアネート41部、及びトルエン70部を仕込み、窒素雰囲気下90℃で3時間反応させた。これに、トルエン250部を加えて、末端にイソシアネート基を有するウレタンプレポリマーの溶液を得た。次に、イソホロンジアミン6部、ジ−n−ブチルアミン0.6部、2−プロノール113部、及びトルエン185部を混合したものに、得られたウレタンプレポリマーの溶液506部を添加し、70℃で3時間反応させ、Mw=70000、Tgは−10℃、酸価15mgKOH/gであるポリエーテル系ポリウレタン樹脂の溶液を得た。これに、トルエン、2−プロパノールを加えて、固形分30%である熱硬化性樹脂3(ポリエーテル系ポリウレタン樹脂)溶液を得た。
(Thermosetting resin 3)
Synthesis Example 3: Synthesis of Polyether-Based Polyurethane
A reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, a dropping device, and a nitrogen introducing pipe, 196 parts of polyether-based diol "PTG-2000sn manufactured by Hodogaya Kogyo Co., Ltd.", 6 parts of dimethylol butanoic acid, isophorone diisocyanate 41 Parts and 70 parts of toluene were charged and reacted at 90 ° C. for 3 hours under a nitrogen atmosphere. To this, 250 parts of toluene was added to obtain a solution of a urethane prepolymer having an isocyanate group at the end. Next, 506 parts of the solution of the obtained urethane prepolymer is added to a mixture of 6 parts of isophorone diamine, 0.6 parts of di-n-butylamine, 113 parts of 2-pronol, and 185 parts of toluene, and 70 ° C. The reaction was carried out for 3 hours to obtain a solution of polyether polyurethane resin having Mw = 70,000, Tg of -10.degree. C. and acid value of 15 mg KOH / g. Toluene and 2-propanol were added to this to obtain a thermosetting resin 3 (polyether polyurethane resin) solution having a solid content of 30%.
(熱硬化性樹脂4)
[合成例4:ビニル系ポリウレタンの合成]
攪拌機、温度計、還流冷却器、滴下装置、窒素導入管を備えた反応容器に、ポリブタジエン系ジオール「日本宗達株式会社製、G−2000」196部、ジメチロールブタン酸6部、イソホロンジイソシアネート41部、及びトルエン70部を仕込み、窒素雰囲気下90℃で3時間反応させた。これに、トルエン250部を加えて、末端にイソシアネート基を有するウレタンプレポリマーの溶液を得た。次に、イソホロンジアミン6部、ジ−n−ブチルアミン0.6部、2−プロノール113部、及びトルエン185部を混合したものに、得られたウレタンプレポリマーの溶液506部を添加し、70℃で3時間反応させ、Mw=30000、Tgは5℃、酸価13mgKOH/gであるポリブタジエン系ポリウレタン樹脂の溶液を得た。これに、トルエン、2−プロパノールを加えて、固形分30%である熱硬化性樹脂4(ポリブタジエン系ポリウレタン樹脂)溶液を得た。
(Thermosetting resin 4)
Synthesis Example 4 Synthesis of Vinyl-Based Polyurethane
A reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, a dropping device, a nitrogen introducing pipe, a polybutadiene-based diol "Nihon Soda Co., Ltd. G-2000" 196 parts, 6 parts dimethylol butanoic acid, 41 parts isophorone diisocyanate And 70 parts of toluene were charged and reacted at 90 ° C. for 3 hours under a nitrogen atmosphere. To this, 250 parts of toluene was added to obtain a solution of a urethane prepolymer having an isocyanate group at the end. Next, 506 parts of the solution of the obtained urethane prepolymer is added to a mixture of 6 parts of isophorone diamine, 0.6 parts of di-n-butylamine, 113 parts of 2-pronol, and 185 parts of toluene, and 70 ° C. The reaction was carried out for 3 hours to obtain a solution of a polybutadiene-based polyurethane resin having a Mw of 30,000, a Tg of 5 ° C. and an acid value of 13 mg KOH / g. Toluene and 2-propanol were added to this to obtain a thermosetting resin 4 (polybutadiene-based polyurethane resin) solution having a solid content of 30%.
(熱硬化性樹脂5)
[合成例5:ポリエステルの合成]
撹拌機、温度計、窒素ガス導入管及び還流脱水装置を備えたフラスコに、テレフタル酸ジメチル184.4部、ネオペンチルグリコール94.8部、エチレングリコール94.2部、2−メチル−1,3−プロパンジオール54.7部及び酢酸亜鉛0.035部を仕込んだ。原料を加熱溶融して撹拌できるようになったら撹拌を開始して、留出するメタノールを常圧下で反応系外に除きながら170℃から220℃まで3時間かけて徐々に昇温し、220℃で1時間保持した。内温を一旦170℃まで冷却し、アジピン酸92.6部、イソフタル酸65.8部、及び1,4−シクロヘキサンジカルボン酸113.6部を加え、留出する水を常圧下で反応系外に除きながら240℃まで3時間かけて昇温し、さらに240℃で保持して、生成物の酸価が15mgKOH/gになるまで反応を続けた。次に、装置を真空減圧装置に替えて、テトラブチルチタネート0.06部を加え、240℃の温度で2トールの減圧下で6時間反応を続けた後、ポリフッ化エチレン樹脂製の容器に取り出した。この樹脂の数平均分子量は18000、ガラス転移温度は27℃であった。続いて、得られたポリエステル樹脂100部に対して、トルエン100部を加えて溶解した。次いでそれぞれのフラスコにエチレングリコールビストリメリテート二無水物を5部添加し、100℃の温度で5時間反応させ、Mw=50000、酸価19mgKOH/gであるポリエステル樹脂の溶液を得た。これにトルエンを加え希釈して、固形分が30%である熱硬化性樹脂5(カルボキシル基を有するポリエステル樹脂)溶液を得た。
(Thermosetting resin 5)
Synthesis Example 5 Synthesis of Polyester
In a flask equipped with a stirrer, thermometer, nitrogen gas inlet tube and reflux dehydrating apparatus, 184.4 parts of dimethyl terephthalate, 94.8 parts of neopentyl glycol, 94.2 parts of ethylene glycol, 2-methyl-1, 3 54.7 parts of propanediol and 0.035 parts of zinc acetate were charged. Stirring is started when the raw materials are melted by heating and stirring becomes possible, and the temperature is gradually raised from 170 ° C. to 220 ° C. over 3 hours while removing distilled methanol out of the reaction system under normal pressure, 220 ° C. Hold for 1 hour. Once the internal temperature is cooled to 170 ° C, 92.6 parts of adipic acid, 65.8 parts of isophthalic acid, and 113.6 parts of 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid are added, and distilled water is removed from the reaction system under normal pressure. The temperature was raised to 240 ° C. over 3 hours while maintaining the temperature at 240 ° C., and the reaction was continued until the acid value of the product reached 15 mg KOH / g. Next, the apparatus is replaced with a vacuum decompression apparatus, 0.06 parts of tetrabutyl titanate is added, and the reaction is continued at a temperature of 240 ° C. under a reduced pressure of 2 Torr for 6 hours, and then taken out in a container made of polytetrafluoroethylene resin. The The number average molecular weight of this resin was 18,000, and the glass transition temperature was 27 ° C. Subsequently, 100 parts of toluene was added to and dissolved in 100 parts of the obtained polyester resin. Subsequently, 5 parts of ethylene glycol bis trimellitate dianhydride was added to each flask and reacted at a temperature of 100 ° C. for 5 hours to obtain a polyester resin solution having Mw = 50000 and an acid value of 19 mg KOH / g. Toluene was added and diluted to this, and the solid content obtained the thermosetting resin 5 (polyester resin which has a carboxyl group) solution which is 30%.
(熱硬化性樹脂6)
[合成例6:ポリアミドの合成]
攪拌機及び還流脱水装置を備えたフラスコに、ジカルボン酸成分としてダイマー酸100重量部、ジアミン成分としてブタンジアミン7.62重量部、ピペラジン7.44重量部を仕込んだ。内温25℃から115℃/時間の割合で230℃にまで昇温し、その温度で6時間反応を継続したのち冷却を行い、熱硬化性樹脂6(ポリアミド樹脂)を得た。なお、ポリアミド樹脂の酸価は4(mgKOH/g)、重量平均分子量は66000であった。
(Thermosetting resin 6)
Synthesis Example 6: Synthesis of Polyamide
In a flask equipped with a stirrer and a reflux dehydrator, 100 parts by weight of dimer acid as a dicarboxylic acid component, 7.62 parts by weight of butanediamine as a diamine component, and 7.44 parts by weight of piperazine were charged. The temperature was raised to 230 ° C. at an internal temperature of 25 ° C. to 115 ° C./hour, the reaction was continued at that temperature for 6 hours, and then cooling was performed to obtain a thermosetting resin 6 (polyamide resin). The acid value of the polyamide resin was 4 (mg KOH / g), and the weight average molecular weight was 66000.
<その他の樹脂>
(その他の樹脂1)
[合成例7:カルボン酸レス−ポリエステル系ポリウレタンの合成]
攪拌機、温度計、還流冷却器、滴下装置、窒素導入管を備えた反応容器に、アジピン酸と3−メチル−1,5−ペンタンジオール及び1,6−ヘキサンカーボネートジオールとから得られるMn=981であるジオール432部、イソホロンジイソシアネート137部、及びトルエン40部を仕込み、窒素雰囲気下90℃で3時間反応させた。これに、トルエン300部を加えて、末端にイソシアネート基を有するウレタンプレポリマーの溶液を得た。次に、イソホロンジアミン25部、ジ−n−ブチルアミン3部、2−プロパノール342部、及びトルエン576部を混合したものに、得られたウレタンプレポリマーの溶液818部を添加し、70℃で3時間反応させ、Mw=100000、酸価0mgKOH/gであるポリエステル系ウレタン樹脂の溶液を得た。これに、トルエン144部、2−プロパノール72部を加えて、固形分30%であるその他の樹脂1(ポリエステル系ウレタン樹脂)溶液を得た。
<Other resin>
(Other resin 1)
Synthesis Example 7: Synthesis of carboxylic acid-less-polyester polyurethane
Mn = 981 obtained from adipic acid and 3-methyl-1,5-pentanediol and 1,6-hexane carbonate diol in a reaction vessel equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser, dropping device, and nitrogen introducing pipe Then, 432 parts of diol, 137 parts of isophorone diisocyanate, and 40 parts of toluene were charged, and reacted at 90 ° C. for 3 hours under a nitrogen atmosphere. To this, 300 parts of toluene was added to obtain a solution of a urethane prepolymer having an isocyanate group at an end. Next, 818 parts of the solution of the obtained urethane prepolymer is added to a mixture of 25 parts of isophorone diamine, 3 parts of di-n-butylamine, 342 parts of 2-propanol and 576 parts of toluene, and 3 The mixture was reacted for time to obtain a solution of polyester-based urethane resin having Mw = 100000 and an acid value of 0 mg KOH / g. To this, 144 parts of toluene and 72 parts of 2-propanol were added to obtain another resin 1 (polyester-based urethane resin) solution having a solid content of 30%.
合成した熱硬化性樹脂、およびその他の樹脂の特性を表1にまとめた。
<導電性フィラー>
実施例において用いた導電性フィラーを下記に記す。
The conductive fillers used in the examples are described below.
熱硬化性樹脂および導電性フィラー以外に使用した材料はそれぞれ以下の通りである。
エポキシ樹脂1:エポキシ当量190g/eqのビスフェノールAタイプエポキシ(「アデカレジンEP−4100」、ADEKA社製)
エポキシ樹脂2:エポキシ当量150g/eqの3官能反応型エポキシ(「ED−505」、ADEKA社製)
硬化剤1:トリメチロールプロパン−トリ−β−アジリジニルプロピオネート
硬化剤2:クメンハイドロパーオキサイド
エポキシ系シランカップリング剤:3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
アミン系シランカップリング剤:n−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン
ビニル系シランカップリング剤:ビニルトリエトキシシラン
メタクリル系シランカップリング剤:3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン
チオール系シランカップリング剤:3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン
無機フィラー1:平均粒子径1.2μmの市販疎水性シリカ
無機フィラー2:平均粒子径3.8μmの市販超微粒子タルク
The materials used other than the thermosetting resin and the conductive filler are as follows.
Epoxy resin 1: Bisphenol A type epoxy having an epoxy equivalent weight of 190 g / eq ("ADECAResin EP-4100", manufactured by ADEKA)
Epoxy resin 2: A trifunctional reactive epoxy of 150 g / eq of epoxy equivalent ("ED-505", manufactured by ADEKA)
Hardener 1: Trimethylolpropane-tri-β-aziridinyl propionate Hardener 2: Cumene hydroperoxide
Epoxy-based silane coupling agent: 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane amine-based silane coupling agent: n-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane vinyl-based silane coupling agent: vinyltriethoxysilane Methacrylic silane coupling agent: 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane thiol based silane coupling agent: 3-mercaptopropyltrimethoxysilane Inorganic filler 1: commercially available hydrophobic silica having an average particle diameter of 1.2 μm inorganic filler 2: average Commercially available ultrafine particle talc of 3.8 μm in particle diameter
[実施例1]
熱硬化性樹脂1(ポリカーボネート系ポリウレタン樹脂)(固形分)100部と、エポキシ樹脂2を30部と、導電性フィラー5を350部と、硬化剤1を2部と、エポキシ系シランカップリング剤を3部と、を容器に仕込み、不揮発分濃度が45重量%になるようトルエン:イソプロピルアルコール(重量比2:1)の混合溶剤を加えディスパーで10分攪拌することで導電性接着剤を得た。
この導電性接着剤を乾燥厚みが60μmになるようにドクターブレードを使用して剥離性シートに塗工し、100℃で2分間乾燥することで導電性接着シートを得た。
Example 1
100 parts of thermosetting resin 1 (polycarbonate-based polyurethane resin) (solid content), 30 parts of epoxy resin 2, 350 parts of conductive filler 5, 2 parts of curing agent 1, epoxy-based silane coupling agent 3 parts and 3 parts in a container, mixed solvent of toluene: isopropyl alcohol (weight ratio 2: 1) is added so that nonvolatile content concentration becomes 45% by weight, and a conductive adhesive is obtained by stirring with a disper for 10 minutes. The
The conductive adhesive was applied to a peelable sheet using a doctor blade so as to have a dry thickness of 60 μm, and dried at 100 ° C. for 2 minutes to obtain a conductive adhesive sheet.
[実施例2〜25および比較例1〜4]
各成分およびその配合量(重量部)を表3〜5に示すように変更した以外は、実施例1と同様にして、導電性接着剤および導電性接着シートを作成した。
なお、表3〜5に示す樹脂の配合量は固形分重量である。
[Examples 2 to 25 and Comparative Examples 1 to 4]
A conductive adhesive and a conductive adhesive sheet were produced in the same manner as in Example 1 except that the respective components and the blending amounts (parts by weight) thereof were changed as shown in Tables 3 to 5.
In addition, the compounding quantity of resin shown to Tables 3-5 is solid content weight.
得られた導電性接着剤、および導電性接着シートについて、下記物性を評価した。その結果を表3〜5に示す。 The following physical properties of the obtained conductive adhesive and the conductive adhesive sheet were evaluated. The results are shown in Tables 3 to 5.
<導電性接着剤の粘度安定性>
導電性接着シートは、導電性接着剤を塗工して形成するが、導電性接着剤の粘度安定化が不十分である場合、塗工中に導電性接着剤が急激に増粘し均一な膜厚の導電性接着シートを得ることができない。
作製直後の導電性接着剤を140mlマヨビンに仕込み、「VISCOMERER TVB−10M」東機産業社製で6rpmにおける初期粘度を測定した。その後、上記マヨビンを室温25度の恒温環境にてミックスローターで攪拌しながら24時間放置した。24時間後の導電性接着剤の粘度を経時粘度として、初期と同じ条件で粘度を測定した。下記式にて増粘率を算出した。
増粘率(%)=経時粘度/初期粘度×100
評価基準は以下の通りである。
◎:増粘率が110%未満。良好な結果である。
○:増粘率が110%以上、130%未満。実用上問題ない。
△:増粘率が130%以上、150%未満。実用上問題ない。
×:増粘率が150%以上。実用不可
<Viscosity stability of conductive adhesive>
The conductive adhesive sheet is formed by applying a conductive adhesive, but if the viscosity stabilization of the conductive adhesive is insufficient, the conductive adhesive is rapidly thickened during coating to be uniform. A conductive adhesive sheet of film thickness can not be obtained.
A conductive adhesive immediately after preparation was charged in 140 ml mayobin, and the initial viscosity at 6 rpm was measured by "VISCOMERER TVB-10M" manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd. Thereafter, the above-mentioned mayobin was left to stand for 24 hours while being stirred by a mix rotor in a constant temperature environment of 25 ° C. The viscosity of the conductive adhesive after 24 hours was taken as the temporal viscosity, and the viscosity was measured under the same conditions as the initial condition. The thickening rate was calculated by the following equation.
Viscosity ratio (%) = viscosity over time / initial viscosity × 100
Evaluation criteria are as follows.
◎: The thickening rate is less than 110%. It is a good result.
○: The thickening rate is 110% or more and less than 130%. There is no problem in practical use.
Δ: The thickening rate is 130% or more and less than 150%. There is no problem in practical use.
X: The thickening rate is 150% or more. Not practical
<接続信頼性(段差37.5μm)>
金属補強板が電磁波シールド性を発現するためには金属補強板が導電性接着剤層を介してグランド回路に接続し導通パスが確保されていることが重要である。グランド回路上に設置されたカバーレイ層のスルーホールから導電性接着剤層が充填され接着することで導通が確保されるが、スルーホールへの埋め込み性と接着性が十分でないと、電磁波シールド性、つまり初期の接続信頼性が悪化してしまう。
幅15mm・長さ20mmの導電性接着シートと、幅20mm・長さ20mmのSUS板(厚さ0.2mmの市販のSUS304板の表面に厚さ2μmのニッケル層を形成したもの)を重ねて、ロールラミネーターで90℃、3Kgf/cm2、1M/minの条件で貼り付けて試料を得た。
図1(1)の平面図を示して説明すると試料から剥離性フィルムを剥がし、露出した面を別に作製したフレキシブルプリント配線板(厚み25μmのポリイミドフィルム11上に、互いに電気的に接続されていない厚み18μmの銅箔回路12A、および銅箔回路12Bが形成されており、銅箔回路12A上に、接着剤付きの、厚み37.5μm、直径1.2mmのスルーホール14を有するカバーフィルム13が積層された配線板)にロールラミネーターで90℃、3Kgf/cm2、1M/minの条件で貼り付けた。
そして、これらを170℃、2MPa、5分の条件で圧着をした後、160℃の電気オーブンで60分間加熱を行なうことで測定試料を得た。
次いで、図1(4)の平面図に示す12A−12B間の接続信頼性を、抵抗値測定器とBSPプローブを用いて接続抵抗値を測定することにより評価した。なお、図1(2)は、図1(1)のD−D’断面図、図1(3)は図1(1)のC−C’断面図である。同様に図1(5)は、図1(4)のD−D’断面図、図1(6)は図1(4)のC−C’断面図である。
評価基準は以下の通りである。
◎:接続抵抗値が20mΩ/□未満。良好な結果である。
○:接続抵抗値が20mΩ/□以上、100mΩ/□未満。実用上問題ない。
△:接続抵抗値が100mΩ/□以上、300mΩ/□未満。実用上問題ない。
×:接続抵抗値が300mΩ/□以上。実用不可
<Connection reliability (step 37.5 μm)>
In order for the metal reinforcing plate to exhibit electromagnetic wave shielding properties, it is important that the metal reinforcing plate is connected to the ground circuit via the conductive adhesive layer to secure a conduction path. The conductive adhesive layer is filled and adhered from the through holes of the coverlay layer disposed on the ground circuit to ensure conductivity, but if the embedding and adhesion to the through holes are not sufficient, the electromagnetic wave shielding property is ensured. In other words, the initial connection reliability is degraded.
A conductive adhesive sheet with a width of 15 mm and a length of 20 mm, and a SUS plate of 20 mm width and a length of 20 mm (a commercially available SUS304 plate with a thickness of 0.2 mm and a nickel layer with a thickness of 2 μm formed on it) A sample was obtained by pasting with a roll laminator at 90 ° C., 3 Kgf / cm 2 , 1 M / min.
A peelable film is peeled off from the sample, and the exposed surface is prepared separately. A flexible printed wiring board (not electrically connected to each other on a polyimide film 11 with a thickness of 25 μm is shown in FIG. 1 (1). A copper foil circuit 12A having a thickness of 18 μm and a copper foil circuit 12B are formed, and a cover film 13 having a through hole 14 having a thickness of 37.5 μm and a diameter of 1.2 mm is attached on the copper foil circuit 12A. The laminated wiring board was pasted with a roll laminator at 90 ° C., 3 Kgf / cm 2 , 1 M / min.
Then, these were pressure-bonded under the conditions of 170 ° C., 2 MPa, and 5 minutes, and then heated for 60 minutes in an electric oven at 160 ° C. to obtain a measurement sample.
Subsequently, the connection reliability between 12A-12B shown in the top view of FIG. 1 (4) was evaluated by measuring a connection resistance value using a resistance value measuring device and a BSP probe. 1 (2) is a cross-sectional view taken along the line DD 'in FIG. 1 (1), and FIG. 1 (3) is a cross-sectional view taken along the line CC' in FIG. 1 (1). Similarly, FIG. 1 (5) is a cross-sectional view taken along the line DD 'in FIG. 1 (4), and FIG. 1 (6) is a cross-sectional view taken along the line CC' in FIG.
Evaluation criteria are as follows.
◎: The connection resistance value is less than 20 mΩ / □. It is a good result.
○: Connection resistance value is 20 mΩ / □ or more and less than 100 mΩ / □. There is no problem in practical use.
:: The connection resistance value is 100 mΩ / □ or more and less than 300 mΩ / □. There is no problem in practical use.
×: Connection resistance value is 300 mΩ / □ or more. Not practical
<接続信頼性(段差60μm)>
図1(1)のカバーフィルム13の厚みを60μmに変えた以外は、接続抵抗値(段差37.5μm)と同様の方法、評価基準で接続信頼性を評価した。
<Connection reliability (step 60μm)>
The connection reliability was evaluated by the same method as the connection resistance value (step 37.5 μm) and evaluation criteria except that the thickness of the cover film 13 in FIG. 1 (1) was changed to 60 μm.
<耐湿熱性試験後の接続信頼性>
FPCが組み込まれた電子部品は多様な環境下で使用される。耐湿熱経時後の接続信頼性が十分でないと、たとえば高温多湿な環境で長時間使用された際に、電磁波シールド性が悪化し、貼り付けた信号回路の周波数特性が悪化してしまう。
接続信頼性(段差37.5μm)の試験で作成した測定試料を85℃85%のオーブンに500時間投入した。その後、図1(4)の平面図に示す12A−12B間の接続信頼性(湿熱経時後の接続信頼性)を、抵抗値測定器とBSPプローブを用いて抵抗値を測定することにより耐湿熱経時後の接続信頼性を評価した。
評価基準は以下の通りである。
◎:接続抵抗値が20mΩ/□未満。良好な結果である。
○:接続抵抗値が20mΩ/□以上、100mΩ/□未満。実用上問題ない。
△:接続抵抗値が100mΩ/□以上、300mΩ/□未満。実用上問題ない。
×:接続抵抗値が300mΩ/□以上。実用不可
<Connection reliability after moisture and heat resistance test>
Electronic components incorporating an FPC are used in various environments. If the connection reliability after heat and humidity resistance is not sufficient, for example, when used for a long time in a high temperature and high humidity environment, the electromagnetic wave shielding property is deteriorated, and the frequency characteristic of the attached signal circuit is deteriorated.
The measurement sample prepared in the test of connection reliability (step 37.5 μm) was put into an oven at 85 ° C. and 85% for 500 hours. After that, the connection reliability between 12A and 12B (the connection reliability after wet heat aging) shown in the plan view of FIG. 1 (4) is measured by measuring the resistance value using a resistance value measuring device and a BSP probe. The connection reliability over time was evaluated.
Evaluation criteria are as follows.
◎: The connection resistance value is less than 20 mΩ / □. It is a good result.
○: Connection resistance value is 20 mΩ / □ or more and less than 100 mΩ / □. There is no problem in practical use.
:: The connection resistance value is 100 mΩ / □ or more and less than 300 mΩ / □. There is no problem in practical use.
×: Connection resistance value is 300 mΩ / □ or more. Not practical
<耐湿熱性試験後の接着力>
導電性接着シートを幅25mm×長さ100mmの大きさに切断した後、剥離性シートを剥がして導電性接着剤層を得た。この導電性接着剤層を、厚さ40μmの銅張積層板(「エスパーフレックス」、住友金属鉱山社製)のポリイミド面と、厚さ200μmのステンレス板(SUS304)との間に挟んで積層体を形成した。その後、得られた積層体を170℃、2MPa、5分の条件で圧着した後、160℃の電気オーブンで60分間加熱した。これにより、「銅張積層板/導電性接着剤層の硬化物/SUS板」の積層体を得た。この積層体を85℃85%のオーブンに500時間投入した後、23℃、相対湿度50%の雰囲気下、引っ張り速度50mm/minでTピール剥離試験を行い、その接着強度(N/cm)を測定した。
◎:接着強度が10N/cm以上。良好な結果である。
○:接着強度が10N/cm未満、7N/cm以上。実用上問題ない。
△:接着強度が7N/cm未満、4N/cm以上。実用上問題ない。
×:接着強度が4N/cm未満。実用不可。
<Adhesive force after wet heat resistance test>
The conductive adhesive sheet was cut into a size of 25 mm wide × 100 mm long, and then the peelable sheet was peeled off to obtain a conductive adhesive layer. A laminate obtained by sandwiching this conductive adhesive layer between the polyimide surface of a 40 μm thick copper-clad laminate (“Esperflex”, manufactured by Sumitomo Metal Mining Co., Ltd.) and a 200 μm thick stainless plate (SUS 304) Formed. Then, after pressure bonding the obtained laminated body on 170 degreeC and 2 MPa and the conditions for 5 minutes, it heated for 60 minutes in a 160 degreeC electric oven. Thus, a laminate of “cured product of copper-clad laminate / conductive adhesive layer / SUS plate” was obtained. This laminate is put into an oven at 85 ° C. and 85% for 500 hours, and then subjected to T peel peel test at 23 ° C. and an atmosphere of 50% relative humidity at a tension rate of 50 mm / min. It was measured.
◎: Adhesive strength is 10 N / cm or more. It is a good result.
○: Adhesive strength is less than 10 N / cm, 7 N / cm or more. There is no problem in practical use.
Δ: Adhesive strength less than 7 N / cm, 4 N / cm or more. There is no problem in practical use.
X: Adhesive strength is less than 4 N / cm. Not practical.
<打ち抜き加工性>
実施例及び比較例で得られた導電性接着シートと、SUS板(厚さ0.2mmの市販のSUS304板の表面に厚さ2μmのニッケル層を形成したもの)を重ねて、ロールラミネーターで90℃、3Kgf/cm2、1M/minの条件で貼り付けて試料を得た。
この試料を10mm×30mmのサイズに100ピース抜き加工機にて型抜きし、不良品が何ピースあるかを下記の通り評価した。なお、不良品とは、型抜きの形に加工された後に、部分的に抜けていないもの、SUS板と導電性接着剤層が剥がれたもの、および導電性接着剤層を打ち抜いた端部の形状が歪であるもののことである。
◎・・・10%未満
○・・・10%以上15%未満
△・・・15%以上25%未満
×・・・25%以上
<Punching processability>
The conductive adhesive sheets obtained in Examples and Comparative Examples and a SUS plate (a commercially available SUS304 plate having a thickness of 0.2 mm on which a nickel layer having a thickness of 2 μm is formed) are overlapped, and 90 using a roll laminator A sample was obtained by sticking under the conditions of 3 ° C., 3 Kgf / cm 2 and 1 M / min.
This sample was punched out into a size of 10 mm × 30 mm with a 100-piece punching machine, and the number of defective products was evaluated as follows. Defective products are those that are not partially removed after being processed into a die-cut shape, those in which the SUS plate and the conductive adhesive layer are peeled off, and those at the end where the conductive adhesive layer is punched out. It is something whose shape is distortion.
・ ・ ・ ... less than 10% ○ ... 10% or more and less than 15% 10 ... 15% or more and less than 25% × ... 25% or more
表3〜5の結果から、実施例の導電性接着剤により、銅を主成分とする導電性フィラーを用いた場合にも、コストダウンが可能でありながら、導電性接着剤の粘度が安定であり、長期にわたって湿熱環境に晒された後においても良好な接続信頼性と接着力を有し、グランド配線基板スルーホールの段差が高い回路でも接続信頼性が良好な導電性接着層、および配線デバイスを提供可能であることが確認できた。 From the results of Tables 3 to 5, it is possible to reduce the cost even when using a conductive filler containing copper as a main component by the conductive adhesive of the example, but the viscosity of the conductive adhesive is stable. A conductive adhesive layer having good connection reliability and adhesiveness even after being exposed to a moist and heat environment for a long time, and good connection reliability even in a circuit having a high level difference in the through holes of the ground wiring substrate, and a wiring device It could be confirmed that it could be provided.
11 ポリイミドフィルム
12A、12B 銅箔回路
13 カバーフィルム
14 スルーホール
15a 金属補強板
15b 導電性接着剤層
11 polyimide film 12A, 12B copper foil circuit 13 cover film 14 through hole 15a metal reinforcing plate 15b conductive adhesive layer
Claims (9)
前記カルボキシル基を有する熱硬化性樹脂(A)は、酸価1mgKOH/g以上のポリウレタン系熱硬化性樹脂であり、
前記ポリウレタン系熱硬化性樹脂が、ポリカーボネート系ポリウレタン樹脂、ポリエステル系ポリウレタン樹脂、ポリエーテル系ポリウレタン樹脂、およびポリブタジエン系ポリウレタン樹脂からなる群より選ばれる少なくともいずれかであって、カルボキシル基を有するジオール化合物(a)と、カルボキシル基を有しないポリオール化合物(b)と、有機ジイソシアネート(c)とを反応させて得られるものであり、
前記カルボキシル基を有するジオール化合物(a)は、ジメチロールアルカン酸、ジヒドロキシコハク酸、およびジヒドロキシ安息香酸の少なくともいずれかであり、
導電性フィラー(B)が、銅からなる核体と、銀からなる被覆層とを具備するとともに、少なくとも次のいずれかを満たし;
前記核体100質量部に対し、前記被覆層が5質量部以上である;又は
被覆率が90%以上である、
前記熱硬化性樹脂(A)100質量部に対して、1〜15質量部のシランカップリング剤が配合されている、
ことを特徴とする導電性接着剤。 A thermosetting resin (A) having a carboxyl group, an epoxy resin, a conductive filler (B) containing copper as a main component, a curing agent, and a silane coupling agent,
The thermosetting resin (A) having a carboxyl group is a polyurethane thermosetting resin having an acid value of 1 mg KOH / g or more,
The diol compound having a carboxyl group, wherein the polyurethane-based thermosetting resin is at least one selected from the group consisting of a polycarbonate-based polyurethane resin, a polyester-based polyurethane resin, a polyether-based polyurethane resin, and a polybutadiene-based polyurethane resin It is obtained by reacting a), a polyol compound (b) having no carboxyl group, and an organic diisocyanate (c),
The diol compound (a) having a carboxyl group is at least one of dimethylolalkanoic acid, dihydroxysuccinic acid and dihydroxybenzoic acid,
The conductive filler (B) has a core made of copper and a coating layer made of silver, and at least one of the following is satisfied:
The coating layer is 5 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the core; or the coverage is 90% or more.
1 to 15 parts by mass of a silane coupling agent is blended with 100 parts by mass of the thermosetting resin (A),
A conductive adhesive characterized by
前記カルボキシル基を有する熱硬化性樹脂(A)は、酸価1mgKOH/g以上のポリウレタン系熱硬化性樹脂であり、
前記ポリウレタン系熱硬化性樹脂が、ポリカーボネート系ポリウレタン樹脂、ポリエステル系ポリウレタン樹脂、ポリエーテル系ポリウレタン樹脂、およびポリブタジエン系ポリウレタン樹脂からなる群より選ばれる少なくともいずれかであって、カルボキシル基を有するジオール化合物(a)と、カルボキシル基を有しないポリオール化合物(b)と、有機ジイソシアネート(c)とを反応させて得られるものであり、
前記カルボキシル基を有するジオール化合物(a)は、ジメチロールアルカン酸、ジヒドロキシコハク酸、およびジヒドロキシ安息香酸の少なくともいずれかであり、
導電性フィラー(B)が、銅からなる核体と、銅とは異なる導電性物質からなる被覆層とを具備するとともに、少なくとも次のいずれかを満たし;
前記核体100質量部に対し、前記被覆層が5質量部以上である;又は
被覆率が90%以上である、
シランカップリング剤が、ビニル系シランカップリング剤、エポキシ系シランカップリング剤、およびアミノ系シランカップリング剤からなる群より選ばれる少なくともいずれかであり、
前記熱硬化性樹脂(A)100質量部に対して、1〜3質量部のシランカップリング剤が配合されている、
ことを特徴とする導電性接着剤。 A thermosetting resin (A) having a carboxyl group, an epoxy resin, a conductive filler (B) containing copper as a main component, a curing agent, and a silane coupling agent,
The thermosetting resin (A) having a carboxyl group is a polyurethane thermosetting resin having an acid value of 1 mg KOH / g or more,
The diol compound having a carboxyl group, wherein the polyurethane-based thermosetting resin is at least one selected from the group consisting of a polycarbonate-based polyurethane resin, a polyester-based polyurethane resin, a polyether-based polyurethane resin, and a polybutadiene-based polyurethane resin It is obtained by reacting a), a polyol compound (b) having no carboxyl group, and an organic diisocyanate (c),
The diol compound (a) having a carboxyl group is at least one of dimethylolalkanoic acid, dihydroxysuccinic acid and dihydroxybenzoic acid,
The conductive filler (B) has a core made of copper and a covering layer made of a conductive material different from copper, and at least one of the following is satisfied:
The coating layer is 5 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the core; or the coverage is 90% or more.
The silane coupling agent is at least one selected from the group consisting of a vinyl based silane coupling agent, an epoxy based silane coupling agent, and an amino based silane coupling agent,
1 to 3 parts by mass of a silane coupling agent is blended with 100 parts by mass of the thermosetting resin (A),
A conductive adhesive characterized by
請求項2記載の導電性接着剤。 Before Kishirube conductive material is silver,
The conductive adhesive according to claim 2 .
前記カルボキシル基を有する熱硬化性樹脂(A)は、酸価1mgKOH/g以上のポリウレタン系熱硬化性樹脂であり、
前記ポリウレタン系熱硬化性樹脂が、ポリカーボネート系ポリウレタン樹脂、ポリエステル系ポリウレタン樹脂、ポリエーテル系ポリウレタン樹脂、およびポリブタジエン系ポリウレタン樹脂からなる群より選ばれる少なくともいずれかであって、カルボキシル基を有するジオール化合物(a)と、カルボキシル基を有しないポリオール化合物(b)と、有機ジイソシアネート(c)とを反応させて得られるものであり、
前記カルボキシル基を有するジオール化合物(a)は、ジメチロールアルカン酸、ジヒドロキシコハク酸、およびジヒドロキシ安息香酸の少なくともいずれかであり、
前記エポキシ樹脂は1分子中に3個以上のエポキシ基を有する化合物であり、
導電性フィラー(B)が、銅からなる核体と、銅とは異なる導電性物質からなる被覆層とを具備し、
前記熱硬化性樹脂(A)100質量部に対して、3〜10質量部のシランカップリング剤が配合されている、
ことを特徴とする導電性接着剤。 A thermosetting resin (A) having a carboxyl group, an epoxy resin, a conductive filler (B) containing copper as a main component, a curing agent, and a silane coupling agent,
The thermosetting resin (A) having a carboxyl group is a polyurethane thermosetting resin having an acid value of 1 mg KOH / g or more,
The diol compound having a carboxyl group, wherein the polyurethane-based thermosetting resin is at least one selected from the group consisting of a polycarbonate-based polyurethane resin, a polyester-based polyurethane resin, a polyether-based polyurethane resin, and a polybutadiene-based polyurethane resin It is obtained by reacting a), a polyol compound (b) having no carboxyl group, and an organic diisocyanate (c),
The diol compound (a) having a carboxyl group is at least one of dimethylolalkanoic acid, dihydroxysuccinic acid and dihydroxybenzoic acid,
The epoxy resin is a compound having three or more epoxy groups in one molecule,
The conductive filler (B) has a core made of copper and a covering layer made of a conductive material different from copper,
3 to 10 parts by mass of a silane coupling agent is blended with 100 parts by mass of the thermosetting resin (A),
A conductive adhesive characterized by
前記核体100質量部に対し、前記被覆層が3質量部以上である;又は
被覆率が84%以上である、
請求項4記載の導電性接着剤。 With the previous Kishirube conductive material is silver, satisfy at least one of the following;
The coating layer is 3 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the core; or the coverage is 84% or more.
The conductive adhesive according to claim 4.
前記配線板の少なくとも一方の面側に設けられた補強板と、
前記配線板と前記補強板とを接合する導電性接着剤層とからなる配線デバイスであって、
該導電性接着剤層が、請求項1〜6いずれか1項記載の導電性接着剤より形成されてなることを特徴とする配線デバイス。 A wiring board provided with signal wiring;
A reinforcing plate provided on at least one surface side of the wiring board;
A wiring device comprising a conductive adhesive layer for bonding the wiring board and the reinforcing plate,
A wiring device characterized in that the conductive adhesive layer is formed of the conductive adhesive according to any one of claims 1 to 6 .
前記配線板が、さらに、前記補強板に接続されたグランド配線を備える請求項8に記載の配線デバイス。 The reinforcing plate has conductivity.
The wiring device according to claim 8 , wherein the wiring board further comprises a ground wiring connected to the reinforcing plate.
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