JP2014141603A - Adhesive agent composition excellent in dielectric property, adhesive agent sheet using the same and printed wiring board - Google Patents

Adhesive agent composition excellent in dielectric property, adhesive agent sheet using the same and printed wiring board Download PDF

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Go Sakaguchi
豪 阪口
Naoto Ogiwara
直人 荻原
Nozomi Hatano
望 秦野
Hidenori Kobayashi
英宣 小林
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a highly thermostable adhesive agent composition having a low dielectric constant and a low dielectric dissipation factor, and further excellent in adhesiveness to metals, an adhesive sheet obtained by molding the adhesive agent composition into a sheet shape, and an insulation film with an adhesive sheet in which the adhesive sheet consisting of the adhesive agent composition is arranged on a single-side of the insulation film.SOLUTION: The problem is solved by an adhesive agent composition containing an epoxy compound having at least one or more tertiary nitrogen atoms in a molecule (A) and a carboxyl group-containing polymer (B).

Description

本発明は、低誘電率、低誘電正接であり、さらには金属への接着性に優れた高耐熱性の接着剤組成物に関するものであり、この接着剤組成物をシート状に成型してなる接着シート、及び、絶縁フィルムの片面にこの接着剤組成物からなる接着シートを設けた接着シート付き絶縁フィルムを提供することを目的とするものである。   The present invention relates to a high heat-resistant adhesive composition having a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent and excellent in adhesion to metal, and is formed by molding this adhesive composition into a sheet shape. The object is to provide an adhesive sheet and an insulating film with an adhesive sheet in which an adhesive sheet made of the adhesive composition is provided on one side of the insulating film.

近年、エレクトロニクス分野の発展が目覚ましく、大量の情報を高速で処理する必要が生じ、電子機器、通信機器等に用いられるプリント配線板に使用される信号の周波数帯は、メガHz帯からギガHz帯に移行しつつある。しかしながら、電気信号は周波数が高くなるほど、電気信号の伝送損失が大きくなるという問題があり、このような問題に対応するため、高周波帯域での優れた誘電特性を有する電子材料とそれを用いたプリント配線板の開発が強く求められている。   In recent years, the development of the electronics field has been remarkable, and it has become necessary to process a large amount of information at a high speed, and the frequency band of signals used for printed wiring boards used in electronic devices, communication devices, etc. ranges from megahertz to gigahertz. It is moving to. However, there is a problem that the transmission loss of the electric signal increases as the frequency of the electric signal increases. To cope with such a problem, an electronic material having excellent dielectric characteristics in a high frequency band and a print using the same There is a strong demand for the development of wiring boards.

一般に電気信号の伝送損失は、配線周りの絶縁層の誘電特性等に起因する誘電体損失と、導体の形状、表皮抵抗、特性インピーダンス等に起因する導体損失からなるとされているが、高周波回路の場合は誘電体損失の影響が大きく、誘電体損失が材料の比誘電率の平方根と材料の誘電正接の積に比例して大きくなるため、比誘電率と誘電正接がいずれも小さい材料が求められている。そのため、プリント配線板の配線周りの接着剤およびコーティング剤には、従来から求められていた高度なフレキシブル性、接着性、高い電気絶縁性、熱安定性等に加え、低い誘電特性が求められているのが現状である。   In general, transmission loss of electrical signals is said to be composed of dielectric loss due to dielectric properties of insulation layers around wiring and conductor loss due to conductor shape, skin resistance, characteristic impedance, etc. In this case, the influence of the dielectric loss is large, and the dielectric loss increases in proportion to the product of the square root of the relative dielectric constant of the material and the dielectric loss tangent of the material. Therefore, a material having a small relative dielectric constant and dielectric loss tangent is required. ing. For this reason, adhesives and coating agents around the wiring of printed wiring boards are required to have low dielectric properties in addition to the high flexibility, adhesiveness, high electrical insulation, thermal stability, etc. that have been conventionally required. The current situation is.

こういった高周波電気信号が伝播するプリント配線板周りの接着剤およびコーティング剤への高い要求に応えるため、様々な検討が行われているが、全ての特性を充分に満足させるものは得られていない。   Various studies have been conducted to meet the high demands for adhesives and coating agents around printed wiring boards through which such high-frequency electrical signals propagate, but those that fully satisfy all the characteristics have been obtained. Absent.

例えば、シロキサン変性イミドとマレイミド化合物からなる組成物が開示されている(特許文献1)。この系ではシロキサン骨格特有の屈曲性と優れた耐熱性とを有するものの、シロキサン骨格自体が、基材への密着性に乏しいため、充分な接着強度が得られないという問題や、プレス等の熱硬化の際にはみ出しが発生するといった加工性の悪さが問題であった。また、他の成分との相溶性が著しく悪いために、組成物設計の自由度に乏しく、組成物としても塗膜の耐性が不充分である等の問題があった。   For example, a composition comprising a siloxane-modified imide and a maleimide compound is disclosed (Patent Document 1). Although this system has flexibility specific to the siloxane skeleton and excellent heat resistance, the siloxane skeleton itself has poor adhesion to the substrate, so that sufficient adhesive strength cannot be obtained, and heat such as press Poor processability such as the occurrence of protrusion during curing has been a problem. Further, since the compatibility with other components is remarkably poor, there is a problem that the degree of freedom in designing the composition is poor and the coating film has insufficient resistance as a composition.

また、柔軟な骨格であるポリブタジエンを含む樹脂組成物が開示されている(特許文献2〜6)。しかし、ポリブタジエンは低誘電率であるが、ポリブタジエンの配合量が多くなるとブタジエン骨格特有の酸化により、分子内架橋を引き起こし、樹脂が反応中にゲル化したり、組成物としての保存安定性が著しく低下したりするという問題があり、高温加湿の電気絶縁性や耐薬品性など、一般的な電気回路基板の絶縁材料としての基本特性には問題があった。   Moreover, the resin composition containing the polybutadiene which is a flexible frame | skeleton is disclosed (patent documents 2-6). However, polybutadiene has a low dielectric constant, but if the amount of polybutadiene increases, the butadiene skeleton oxidizes, causing intramolecular cross-linking, causing the resin to gel during the reaction or significantly reducing the storage stability of the composition. There are problems with basic characteristics as insulating materials for general electric circuit boards, such as electrical insulation and chemical resistance at high temperature humidification.

また、熱硬化性樹脂の中では最も誘電率が低いシアネートエステル樹脂を含む接着剤組成物が開示されている(特許文献7〜11)。ポリフェニレンエーテル樹脂やその他の樹脂を配合した組成物が検討されているが、これらはシアネートエステルを用いているため誘電率は他の組成物よりは比較的良好ではあるものの、誘電正接が誘電率の割に高く、高周波特性が不十分であるという問題があり、また、樹脂同士の相溶性が悪く溶媒溶解性が悪いという汎用性の面での問題もあった。   Moreover, the adhesive composition containing the cyanate ester resin with the lowest dielectric constant among thermosetting resins is disclosed (patent documents 7 to 11). Compositions containing polyphenylene ether resins and other resins have been studied, but since these use cyanate esters, the dielectric constant is relatively better than other compositions, but the dielectric loss tangent is the dielectric constant. There is a problem that it is relatively high and high-frequency characteristics are insufficient, and there is also a problem in versatility that the compatibility between resins is poor and the solvent solubility is poor.

また、ポリオレフィンを含む接着剤組成物が開示されている(特許文献12)。ポリオレフィンは大きな極性基を持たないため、電気特性、特に比誘電率、誘電正接等の数値は小さくて優れているが、線膨張係数が大きく、加熱により変形したりするなど、耐熱性が十分でないという欠点がある。さらに、熱可塑性水素化開環ノルボルネン系樹脂に対して有機過酸化物を配合した組成物も開示されている(特許文献13)。しかし、このような配合では高周波領域での誘電特性と半田耐熱性のバランスがとれた架橋成形品を得ることができていないのが現状である。   Moreover, the adhesive composition containing polyolefin is disclosed (patent document 12). Polyolefin does not have a large polar group, so its electrical properties, especially its relative permittivity and dielectric loss tangent, are small and excellent, but it has a large coefficient of linear expansion and is not sufficiently heat resistant, such as being deformed by heating. There is a drawback. Furthermore, the composition which mix | blended the organic peroxide with respect to the thermoplastic hydrogenated ring-opening norbornene-type resin is also disclosed (patent document 13). However, the present situation is that a cross-linked molded product having a balance between dielectric characteristics in the high frequency region and solder heat resistance cannot be obtained with such a blend.

また、比較的耐熱性が良好な樹脂としてエポキシ化合物を含む接着剤組成物が開示されている。一般に、エポキシ樹脂に関しては電気絶縁性、耐熱性に関しては要求性能を満たしているが、エポキシ基と活性水素の反応により極性の高いヒドロキシル基が発生することにより、比誘電率が3以上と高く、満足される特性が得られていない。そこで、エポキシ樹脂の改良目的で、フェノールノボラック樹脂やビニルトリアジン樹脂等との組み合わせ等が検討されている(特許文献14〜18)。しかし、これらはエポキシの割合が減ることで誘電特性を向上させることができる一方で、フィルムとして使用した場合に基材への濡れ性が低下し、接着強度が低下するという問題や、低分子化合物が多いことによりプレス等で熱硬化する際にはみ出しが多く発生するという加工性の悪さが問題であった。   Moreover, the adhesive composition containing an epoxy compound as resin with comparatively favorable heat resistance is disclosed. In general, the epoxy resin satisfies the required performance with respect to electrical insulation and heat resistance, but a highly polar hydroxyl group is generated by the reaction of the epoxy group and active hydrogen, resulting in a high relative dielectric constant of 3 or more, Satisfactory properties have not been obtained. Then, the combination with a phenol novolak resin, a vinyl triazine resin, etc. is examined for the purpose of improvement of an epoxy resin (patent documents 14-18). However, these can improve the dielectric properties by reducing the proportion of epoxy, but when used as a film, the wettability to the substrate is reduced, the adhesive strength is reduced, and low molecular compounds Due to the large amount, there is a problem of poor workability that a lot of protrusion occurs when thermosetting with a press or the like.

特開2000−143734号公報JP 2000-143734 A 特開1998−77387号公報JP 1998-77387 A 特開1994−248074号公報Japanese Patent Laid-Open No. 1994-248074 特開1995−157559号公報JP 1995-157559 A 特開2004−161828号公報JP 2004-161828 A 特開2008−81678号公報JP 2008-81678 A 特開2002−339997号公報JP 2002-339997 A 特開2005−120173号公報JP 2005-120173 A 特開2003−138133号公報JP 2003-138133 A 特開2002−317085号公報JP 2002-317085 A 特開2011−252152号公報JP 2011-252152 A 特開2003−238761号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2003-238761 特開平6−248164号公報JP-A-6-248164 特開1995−157540号公報JP 1995-157540 A 特開2005−187800号公報JP-A-2005-187800 特開2009−227992号公報JP 2009-227992 A 特開平6−192393号公報JP-A-6-192393 特開平8−325355号公報JP-A-8-325355

本発明は、低誘電率、低誘電正接であり、さらには金属への接着性に優れた高耐熱性の接着剤組成物に関するものであり、この接着剤組成物をシート状に成型してなる接着剤シート、及び、絶縁フィルムの片面にこの接着剤組成物からなる接着剤シートを設けた接着剤付き絶縁フィルムを提供することを目的とするものである。すなわち、プリント配線板をはじめとする電子材料周辺に用いられる接着剤およびコーティング剤として、従来から求められていた高度なフレキシブル性、接着性、高い電気絶縁性、熱安定性等に加え、優れた誘電特性を有する接着剤組成物を提供することを目的とする。   The present invention relates to a high heat-resistant adhesive composition having a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent and excellent in adhesion to metal, and is formed by molding this adhesive composition into a sheet shape. The object is to provide an adhesive sheet and an insulating film with an adhesive in which an adhesive sheet made of the adhesive composition is provided on one side of the insulating film. That is, as an adhesive and coating agent used around electronic materials such as printed wiring boards, in addition to the high flexibility, adhesiveness, high electrical insulation, thermal stability, etc. that have been conventionally required, It is an object of the present invention to provide an adhesive composition having dielectric properties.

本発明者らは前記課題を解決するため、鋭意検討の結果、本発明を完成させるに至った。
すなわち本発明は、分子内に少なくとも1個以上の3級窒素原子を有するエポキシ化合物(A)と、カルボシキル基含有高分子化合物(B)とを含有することを特徴とする接着剤組成物に関する。
また、本発明は、カルボキシル基含有高分子化合物(B)が、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、エステル樹脂、フェノキシ樹脂、アミド樹脂、イミド樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種の樹脂であることを特徴とする前記接着剤組成物に関する。
また、本発明は、カルボキシル基含有高分子化合物(B)の酸価が、1〜100KOHmg/gであることを特徴とする前記接着剤組成物に関する。
また、本発明は、カルボキシル基含有高分子化合物(B)の重量平均分子量が、5000〜500000であることを特徴とする前記接着剤組成物に関する。
また、本発明は、フィラー(C)を含有することを特徴とする前記接着剤組成物に関する。
また、本発明は、前記接着剤組成物を加熱により硬化させて得られる、周波数が1GHzで、誘電率が3.0以下、誘電正接が0.03以下である硬化物に関する。
また、本発明は、前記硬化物からなる層を有することを特徴とする接着剤シートに関する。
さらに、本発明は、前記硬化物からなる層を有することを特徴とするプリント配線板に関する。
In order to solve the above-mentioned problems, the present inventors have intensively studied to complete the present invention.
That is, this invention relates to the adhesive composition characterized by containing the epoxy compound (A) which has an at least 1 or more tertiary nitrogen atom in a molecule | numerator, and a carboxyl group-containing high molecular compound (B).
In the present invention, the carboxyl group-containing polymer compound (B) is at least one resin selected from the group consisting of acrylic resins, urethane resins, ester resins, phenoxy resins, amide resins, and imide resins. It relates to the adhesive composition.
The present invention also relates to the adhesive composition, wherein the carboxyl group-containing polymer compound (B) has an acid value of 1 to 100 KOHmg / g.
The present invention also relates to the adhesive composition, wherein the carboxyl group-containing polymer compound (B) has a weight average molecular weight of 5,000 to 500,000.
Moreover, this invention relates to the said adhesive composition characterized by containing a filler (C).
The present invention also relates to a cured product obtained by curing the adhesive composition by heating, having a frequency of 1 GHz, a dielectric constant of 3.0 or less, and a dielectric loss tangent of 0.03 or less.
Moreover, this invention relates to the adhesive sheet characterized by having the layer which consists of the said hardened | cured material.
Furthermore, this invention relates to the printed wiring board characterized by having the layer which consists of the said hardened | cured material.

本発明により、プリント配線板をはじめとする電子材料周辺に用いられる接着剤およびコーティング剤として、分子内に少なくとも1個以上の窒素原子を有するエポキシ化合物とカルボシキル基含有高分子化合物からなる接着剤組成物を用いることで、低い誘電特性と高度なフレキシブル性、接着性、高い電気絶縁性、熱安定性等を両立することができた。   According to the present invention, an adhesive composition comprising an epoxy compound having at least one nitrogen atom in a molecule and a carboxyl group-containing polymer compound as an adhesive and coating agent used around an electronic material such as a printed wiring board By using the product, it was possible to achieve both low dielectric properties and high flexibility, adhesion, high electrical insulation, thermal stability, and the like.

本発明の誘電特性に優れる接着剤組成物は、分子内に少なくとも1個以上の窒素原子を有するエポキシ化合物(A)と、カルボシキル基含有高分子化合物(B)を含むことにより得ることができ、
この接着剤組成物を用いることにより、高周波電気信号が伝播するプリント配線板で非常に重要となる誘電特性をはじめ、高度なフレキシブル性、接着性、高い電気絶縁性、熱安定性等を著しく改善できる。これは熱硬化性組成物に、分子内に少なくとも1個以上の窒素原子を有するエポキシ化合物(A)を用いているためであり、従来のエポキシ化合物を有する組成物に比べ、窒素原子と銅の相互作用を利用した密着性を付与できるからである。また、カルボシキル基含有高分子化合物(B)を分子内に少なくとも1個以上の窒素原子を有するエポキシ化合物(A)のバインダー樹脂として用いるため、架橋速度や架橋密度、凝集力を調節することが可能であり、各種物性を著しく向上できるのである。
The adhesive composition having excellent dielectric properties of the present invention can be obtained by including an epoxy compound (A) having at least one nitrogen atom in the molecule and a carboxyl group-containing polymer compound (B),
By using this adhesive composition, it is possible to remarkably improve high flexibility, adhesion, high electrical insulation, thermal stability, etc., as well as dielectric properties, which are very important for printed wiring boards that propagate high-frequency electrical signals. it can. This is because the epoxy compound (A) having at least one nitrogen atom in the molecule is used for the thermosetting composition. Compared with the composition having the conventional epoxy compound, the nitrogen atom and copper are used. This is because adhesion using interaction can be imparted. In addition, since the carboxyl group-containing polymer compound (B) is used as a binder resin for the epoxy compound (A) having at least one nitrogen atom in the molecule, the crosslinking speed, crosslinking density, and cohesive force can be adjusted. Therefore, various physical properties can be remarkably improved.

<分子内に少なくとも1個以上の3級窒素原子を有するエポキシ化合物(A)>
本発明の分子内に少なくとも1個以上の3級窒素原子を有するエポキシ化合物(A)について詳細に説明する。
<Epoxy compound (A) having at least one tertiary nitrogen atom in the molecule>
The epoxy compound (A) having at least one tertiary nitrogen atom in the molecule of the present invention will be described in detail.

本発明の誘電特性に優れた接着剤組成物は、エポキシ化合物として、分子内に少なくとも1個以上の3級窒素原子を有するエポキシ化合物(A)を用いることが最大の特徴であり、分子内に少なくとも1個以上の3級窒素原子を有するエポキシ化合物(A)を用いることにより、高周波電気信号が伝播するプリント配線板周りの接着剤およびコーティング剤として非常に重要となる誘電率や誘電正接、金属接着性、耐熱性を著しく改善できるのである。
これは、3級窒素原子を有するエポキシ化合物特有の性質である高い反応性により、所定の硬化条件での反応率を高くすることができ、硬化物の架橋密度が向上し、高い弾性率を得ることができるため、結果として誘電特性を左右する吸水率を抑えることができるためである。また、窒素原子は様々な配位形態をとることが可能であることから、金属と有機化合物間の接着を強くサポートしていると推察され、銅をはじめとする金属接着性という観点でも優れた熱硬化性樹脂化合物を得ることができる。
The adhesive composition having excellent dielectric properties according to the present invention is characterized in that the epoxy compound (A) having at least one tertiary nitrogen atom in the molecule is used as the epoxy compound. By using an epoxy compound (A) having at least one tertiary nitrogen atom, a dielectric constant, dielectric loss tangent, metal which is very important as an adhesive and coating agent around a printed wiring board through which a high-frequency electric signal propagates Adhesiveness and heat resistance can be remarkably improved.
This is because of the high reactivity that is characteristic of an epoxy compound having a tertiary nitrogen atom, the reaction rate under a predetermined curing condition can be increased, the crosslinking density of the cured product is improved, and a high elastic modulus is obtained. This is because, as a result, the water absorption that affects the dielectric characteristics can be suppressed. In addition, since nitrogen atoms can take various coordination forms, it is presumed that they strongly support adhesion between metals and organic compounds, and are excellent in terms of adhesion to metals such as copper. A thermosetting resin compound can be obtained.

例えば、分子内に少なくとも1個以上の3級窒素原子を有するエポキシ化合物(A)の代わりに、分子内に少なくとも1個以上の3級窒素原子を有するエポキシ化合物(A)には属しないエポキシ化合物を使用した場合、一般的には硬化物の耐熱性やエポキシ化合物の硬化後に生成する水酸基由来の極性による基材密着性により、ある程度の耐熱性や接着性は得られるものの、高温加湿のような厳しい条件下では、吸水による誘電特性の悪化が顕著となり、本発明で課題としている高周波電気信号が伝播するプリント配線板周りの接着剤およびコーティング剤で求められている誘電特性と各種特性との両立を満足することができない。   For example, an epoxy compound that does not belong to an epoxy compound (A) having at least one tertiary nitrogen atom in the molecule instead of an epoxy compound (A) having at least one tertiary nitrogen atom in the molecule In general, heat resistance of the cured product and adhesion to the substrate due to the polarity derived from the hydroxyl group generated after curing of the epoxy compound can provide some heat resistance and adhesion, but high temperature humidification, etc. Under severe conditions, the deterioration of dielectric properties due to water absorption becomes remarkable, and the dielectric properties and various properties required for adhesives and coating agents around printed wiring boards, which are the subject of the present invention, propagate high-frequency electrical signals. Can not be satisfied.

一方、本発明の分子内に少なくとも1個以上の3級窒素原子を有するエポキシ化合物(A)を用いた場合、化合物(A)中に含まれる窒素原子によって所定硬化条件での反応率を高くすることができるため、未反応の低分子化合物による弾性率の低下や吸水率の増加を抑制することができ、更には窒素原子由来の金属密着性を高められることから、良好な誘電特性と各種特性とを同時に満足できるのである。
本発明において、分子内に少なくとも1個以上の3級窒素原子を有するエポキシ化合物(A)は、エポキシ基を分子内に含有する化合物中に窒素化合物を少なくとも1個以上有していればよく、特に限定されるものではない。分子内に少なくとも1個以上の3級窒素原子を有するエポキシ化合物(A)としては、具体的にはN−グリシジルフタルイミドや下記式(11)から(21)で表される構造のエポキシ化合物が挙げられる。
On the other hand, when the epoxy compound (A) having at least one tertiary nitrogen atom in the molecule of the present invention is used, the reaction rate under a predetermined curing condition is increased by the nitrogen atom contained in the compound (A). Therefore, it is possible to suppress a decrease in elastic modulus and an increase in water absorption rate due to unreacted low molecular weight compounds, and further, it is possible to improve metal adhesion derived from nitrogen atoms, so that it has good dielectric properties and various properties. Can be satisfied at the same time.
In the present invention, the epoxy compound (A) having at least one tertiary nitrogen atom in the molecule may have at least one nitrogen compound in the compound containing an epoxy group in the molecule, It is not particularly limited. Specific examples of the epoxy compound (A) having at least one tertiary nitrogen atom in the molecule include N-glycidylphthalimide and epoxy compounds having a structure represented by the following formulas (11) to (21). It is done.

式(11)

Figure 2014141603
Formula (11)
Figure 2014141603

式(12)

Figure 2014141603
Formula (12)
Figure 2014141603

式(13)

Figure 2014141603
Formula (13)
Figure 2014141603

式(14)

Figure 2014141603
Formula (14)
Figure 2014141603

式(15)

Figure 2014141603
Formula (15)
Figure 2014141603

式(16)

Figure 2014141603
Formula (16)
Figure 2014141603

式(17)

Figure 2014141603
Formula (17)
Figure 2014141603

式(18)

Figure 2014141603
Formula (18)
Figure 2014141603

式(19)

Figure 2014141603
Formula (19)
Figure 2014141603

式(20)

Figure 2014141603
Formula (20)
Figure 2014141603

式(21)

Figure 2014141603
Formula (21)
Figure 2014141603

ただし、Xはそれぞれ、炭素数0〜6の脂肪族基、または芳香族基を表し、Yはメチレン基、エチレン基、トリメチレン基 、エチリデン基、イソプロピリデン基、ビニレン基、ビニリデン基、オキシ基、イミノ基、チオ基、スルホニル基のいずれかを表し、R1〜R3は水素原子または、炭素数1〜6の脂肪族基を表し、jは0〜4の整数を表す。 X represents an aliphatic group having 0 to 6 carbon atoms or an aromatic group, and Y represents a methylene group, an ethylene group, a trimethylene group, an ethylidene group, an isopropylidene group, a vinylene group, a vinylidene group, an oxy group, It represents any of an imino group, a thio group, and a sulfonyl group, R 1 to R 3 represent a hydrogen atom or an aliphatic group having 1 to 6 carbon atoms, and j represents an integer of 0 to 4.

いずれも熱硬化性および、低い吸湿性の観点から誘電特性の面で優れており好ましいが、特に、1,3−ビス(N,N−ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、N,N,N',N'−テトラグリシジル−m−キシレンジアミン、トリグリシジル−m−アミノフェノール、トリグリシジル−p−アミノフェノール、4,4’−メチレンビス[N,N−ビス(オキシラニルメチル)アニリン]は多官能であり、本発明に使用した場合、誘電特性に加え、硬化塗膜の耐熱性が向上する傾向があり、特に好ましい。また、N,N−ジグリシジルアニリンやN,N−ジグリシジルトルイジンは2官能であり、本発明に使用した場合、誘電特性に加え、硬化塗膜のフレキシブル性やポリイミドや銅に対する接着性が向上する傾向があり、好ましい。このように本発明において、分子内に少なくとも1個以上の3級窒素原子を有するエポキシ化合物(A)は目的に応じて選択することが可能であり、これらは単独で使用しても良いし、複数を併用することも好ましい。   Both are excellent in terms of dielectric properties from the viewpoints of thermosetting and low hygroscopicity, and are particularly preferable. In particular, 1,3-bis (N, N-diglycidylaminomethyl) cyclohexane, N, N, N ′, N'-tetraglycidyl-m-xylenediamine, triglycidyl-m-aminophenol, triglycidyl-p-aminophenol, 4,4'-methylenebis [N, N-bis (oxiranylmethyl) aniline] is multifunctional When used in the present invention, the heat resistance of the cured coating film tends to improve in addition to the dielectric properties, which is particularly preferable. N, N-diglycidyl aniline and N, N-diglycidyl toluidine are bifunctional, and when used in the present invention, in addition to dielectric properties, the flexibility of the cured coating and the adhesion to polyimide and copper are improved. This is preferable. Thus, in the present invention, the epoxy compound (A) having at least one tertiary nitrogen atom in the molecule can be selected according to the purpose, and these may be used alone, It is also preferable to use a plurality.

また本発明では、物性を損なわない範囲で、硬化物の架橋密度を調整する目的で、分子内に窒素化合物を有さないエポキシ化合物を併用しても良い。具体的には、例えば、分子中に1個のエポキシ基を有する化合物としては、グリシドール、グリシジル(メタ)アクリレート等の化合物が挙げられる。
また、分子中に2個のエポキシ基を有する化合物としては、例えば、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、テトラメチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリテトラメチレングリコールジグリシジルエーテル、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ビスフェノールA・エピクロロヒドリン型エポキシ樹脂、ビスフェノールF・エピクロロヒドリン型エポキシ樹脂、ビフェノール・エピクロロヒドリン型エポキシ樹脂、グリセリン・エピクロロヒドリン付加物のポリグリシジルエーテル、レゾルシノールジグリシジルエーテル、ポリブタジエンジグリシジルエーテル、ヒドロキノンジグリシジルエーテル、ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、水添ビスフェノールA型ジグリシジルエーテル、ジヒドロキシアントラセン型エポキシ樹脂、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ジフェニルスルホンジグリシジルエーテル、ジヒドロキシベンゾフェノンジグリシジルエーテル、ビフェノールジグリシジルエーテル、ジフェニルメタンジグリシジルエーテル、ビスフェノールフルオレンジグリシジルエーテル、ビスクレゾールフルオレンジグリシジルエーテル、ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル、特開2004−156024号公報、特開2004−315595号公報、特開2004−323777号公報に開示されているフレキシブル性に優れたエポキシ化合物や、下記式(1)−(3)で表される構造のエポキシ化合物等が挙げられる。
Moreover, in this invention, you may use together the epoxy compound which does not have a nitrogen compound in a molecule | numerator in order to adjust the crosslinking density of hardened | cured material in the range which does not impair a physical property. Specifically, for example, compounds having one epoxy group in the molecule include compounds such as glycidol and glycidyl (meth) acrylate.
Examples of the compound having two epoxy groups in the molecule include ethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, tetramethylene glycol diglycidyl ether, poly Tetramethylene glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, bisphenol A / epichlorohydrin type epoxy resin, bisphenol F / epichlorohydrin type epoxy resin, biphenol / epichlorohydrin type epoxy resin, glycerin・ Epichlorohydrin adduct polyglycidyl ether, resorcinol diglycidyl ether, polybutadiene diglycidyl ether, hydro Non diglycidyl ether, dibromoneopentyl glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, hexahydrophthalic acid diglycidyl ester, hydrogenated bisphenol A type diglycidyl ether, dihydroxyanthracene type epoxy resin, polypropylene glycol diglycidyl ether, diphenyl sulfone Diglycidyl ether, dihydroxybenzophenone diglycidyl ether, biphenol diglycidyl ether, diphenylmethane diglycidyl ether, bisphenol full orange glycidyl ether, biscresol full orange glycidyl ether, bisphenoxyethanol full orange glycidyl ether, JP 2004-156024 A, JP No. 2004-315595 And an epoxy compound excellent in flexibility disclosed in JP 2004-323777 A, an epoxy compound having a structure represented by the following formulas (1) to (3), and the like.

式(1)

Figure 2014141603
Formula (1)
Figure 2014141603

式(2)

Figure 2014141603
Formula (2)
Figure 2014141603

式(3)

Figure 2014141603
さらに、分子中に3個以上のエポキシ基を有する化合物としては、三菱化学株式会社製「エピコート1031S」、「エピコート1032H60」の他、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、特開2001-240654号公報に開示されているジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、エチレングリコール・エピクロルヒドリン付加物のポリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル等が挙げられる。また、エポキシ基以外の他の熱硬化性基を併有する化合物も使用できる。例えば、特開2001−59011号公報や、2003−48953号公報に開示されているシラン変性エポキシ樹脂が挙げられる。 Formula (3)
Figure 2014141603
Further, examples of the compound having three or more epoxy groups in the molecule include “Epicoat 1031S” and “Epicoat 1032H60” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, phenol novolac type epoxy resins, cresol novolac type epoxy resins, Examples thereof include dicyclopentadiene type epoxy resins, naphthalene type epoxy resins, polyglycidyl ethers of ethylene glycol / epichlorohydrin adducts, pentaerythritol polyglycidyl ethers, trimethylolpropane polyglycidyl ethers and the like disclosed in Japanese Patent No. 240654. Moreover, the compound which has other thermosetting groups other than an epoxy group can also be used. For example, the silane modified epoxy resin currently disclosed by Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-59011 and 2003-48953 is mentioned.

このように本発明では硬化物の架橋密度を調整する目的で、分子内に窒素化合物を有さないエポキシ化合物を、分子内に少なくとも1個以上の窒素原子を有するエポキシ化合物(A)と併用しても良く、目的に応じて選択することが可能である。また、分子内に窒素化合物を有さないエポキシ化合物は、単一種類を使用しても良いし、複数を併用してもよい。   As described above, in the present invention, for the purpose of adjusting the crosslinking density of the cured product, an epoxy compound having no nitrogen compound in the molecule is used in combination with an epoxy compound (A) having at least one nitrogen atom in the molecule. It is possible to select according to the purpose. Moreover, the epoxy compound which does not have a nitrogen compound in a molecule | numerator may use a single kind, and may use multiple.

<カルボキシル基含有高分子化合物(B)>
次に、本発明のカルボキシル基含有高分子化合物(B)について詳細に説明する。
<Carboxyl group-containing polymer compound (B)>
Next, the carboxyl group-containing polymer compound (B) of the present invention will be described in detail.

本発明の低誘電率接着剤組成物で用いられるカルボキシル基含有高分子化合物(B)は、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、エステル樹脂、フェノキシ樹脂、アミド樹脂、イミド樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物であればよい。これらの樹脂を用いることにより、分子内に少なくとも1個以上の窒素原子を有するエポキシ化合物(A)を用いることで付与することができる誘電特性に加え、接着性、フレキシブル性、電気絶縁性、耐熱性等の各種特性とのバランスに優れた硬化物を得ることができ、フレキシブルプリント配線板を物理的、化学的なストレスから保護することができるようになるのである。   The carboxyl group-containing polymer compound (B) used in the low dielectric constant adhesive composition of the present invention is at least one selected from the group consisting of acrylic resins, urethane resins, ester resins, phenoxy resins, amide resins, and imide resins. As long as it is a compound of By using these resins, in addition to dielectric properties that can be imparted by using an epoxy compound (A) having at least one nitrogen atom in the molecule, adhesion, flexibility, electrical insulation, heat resistance Therefore, a cured product having an excellent balance with various properties such as properties can be obtained, and the flexible printed wiring board can be protected from physical and chemical stresses.

具体的には、分子内に少なくとも1個以上の窒素原子を有するエポキシ化合物(A)のみを使用した場合、誘電特性や耐熱性、各種基材に対する接着性は著しく向上するが、硬化物が全体として脆くなりやすいため、フレキシブル性や接着シートとしてのハンドリング性が良くない。しかしながらカルボキシル基含有高分子化合物(B)を用いることにより、これら課題を解決することができるようになり、誘電特性、接着性、フレキシブル性、電気絶縁性、耐熱性とのバランスに優れた硬化物を得ることができるようになるのである。   Specifically, when only an epoxy compound (A) having at least one nitrogen atom in the molecule is used, the dielectric properties, heat resistance, and adhesion to various substrates are remarkably improved, but the cured product as a whole Therefore, the flexibility and handling properties as an adhesive sheet are not good. However, by using the carboxyl group-containing polymer compound (B), these problems can be solved, and a cured product having an excellent balance of dielectric properties, adhesiveness, flexibility, electrical insulation, and heat resistance. Can be obtained.

<カルボキシル基含有アクリル樹脂>
本発明におけるカルボキシル基含有アクリル樹脂の製造方法としては従来公知のものも含めて以下の合成方法が挙げられる。例えば、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和モノマーをその他のモノマーと共重合する方法や、ヒドロキシル基含有エチレン性不飽和モノマーをその他のモノマーと共重合して得られたポリマー中の水酸基を多塩基酸無水物中の酸無水物基と反応させることで製造することができる。なお、本発明において、(メタ)アクリル酸エステルモノマーとは、アクリル酸エステルモノマー及びメタクリル酸エステルモノマーの両方を意味する。
<Carboxyl group-containing acrylic resin>
Examples of the method for producing a carboxyl group-containing acrylic resin in the present invention include the following synthesis methods including those conventionally known. For example, a method in which an ethylenically unsaturated monomer having a carboxyl group is copolymerized with another monomer, or a hydroxyl group in a polymer obtained by copolymerizing a hydroxyl group-containing ethylenically unsaturated monomer with another monomer is converted to a polybasic acid. It can be produced by reacting with an acid anhydride group in an anhydride. In the present invention, the (meth) acrylic acid ester monomer means both an acrylic acid ester monomer and a methacrylic acid ester monomer.

カルボキシル基を有するエチレン性不飽和モノマーとしては特に制限はなく、例えば、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸2−カルボキシエチル、(メタ)アクリル酸2−カルボキシプロピル、(メタ)アクリル酸3−カルボキシプロピル、(メタ)アクリル酸4−カルボキシブチル、(メタ)アクリル酸ダイマー、マレイン酸、フマル酸、モノメチルマレイン酸、モノメチルフマル酸、アコニチン酸、ソルビン酸、ケイ皮酸、α−クロロソルビン酸、グルタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、チグリン酸、アンゲリカ酸、セネシオ酸、クロトン酸、イソククロトン酸、ムコブロム酸、ムコクロル酸、ソルビン酸、ムコン酸、アコニット酸、ペニシル酸、ゲラン酸、シトロネル酸、4−アクリルアミドブタン酸、6−アクリルアミドヘキサン酸、あるいはω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート等のラクトン環の開環付加により末端にカルボキシル基を有するポリラクトン系(メタ)アクリル酸エステル、あるいはエチレンオキサイドやプロピレンオキサイド等のアルキレンオキサイドの繰り返し付加した末端にカルボキシル基を有するアルキレンオキサイド付加系コハク酸(メタ)アクリレート等のカルボキシル基含有の脂肪族系のエチレン性不飽和カルボン酸類;、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタレート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルフタレート、2−(メタ)アクリロイルオキシプロピルフタレート、2−(メタ)アクリロイルオキシブチルフタレート、2−(メタ)アクリロイルオキシヘキシルフタレート、2−(メタ)アクリロイルオキシオクチルフタレート、2−(メタ)アクリロイルオキシデシルフタレート、2−ビニル安息香酸、3−ビニル安息香酸、4−ビニル安息香酸、4−イソプロペニルベンゼンカルボン酸、桂皮酸、7−アミノ−3−ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸等のカルボキシル基含有の脂環や芳香環を有するエチレン性不飽和カルボン酸類等が挙げられる。   There is no restriction | limiting in particular as an ethylenically unsaturated monomer which has a carboxyl group, For example, (meth) acrylic acid, (meth) acrylic acid 2-carboxyethyl, (meth) acrylic acid 2-carboxypropyl, (meth) acrylic acid 3 -Carboxypropyl, 4-carboxybutyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid dimer, maleic acid, fumaric acid, monomethylmaleic acid, monomethylfumaric acid, aconitic acid, sorbic acid, cinnamic acid, α-chlorosorbic acid , Glutaconic acid, citraconic acid, mesaconic acid, itaconic acid, tiglic acid, angelic acid, senecioic acid, crotonic acid, isococrotonic acid, mucobromic acid, mucochloric acid, sorbic acid, muconic acid, aconitic acid, penicillic acid, gellanic acid, citronel Acid, 4-acrylamidobutanoic acid, 6-a Rylamidohexanoic acid or polylactone (meth) acrylic acid ester having a carboxyl group at the terminal by ring-opening addition of lactone ring such as ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate, or alkylene oxide such as ethylene oxide or propylene oxide A carboxyl group-containing aliphatic ethylenically unsaturated carboxylic acid such as an alkylene oxide-added succinic acid (meth) acrylate having a carboxyl group at the terminal to which the compound is repeatedly added; 2- (meth) acryloyloxyethyl hexahydrophthalate; 2- (meth) acryloyloxyethyl phthalate, 2- (meth) acryloyloxypropyl phthalate, 2- (meth) acryloyloxybutyl phthalate, 2- (meth) acryloyloxyhexyl Phthalate, 2- (meth) acryloyloxyoctyl phthalate, 2- (meth) acryloyloxydecyl phthalate, 2-vinylbenzoic acid, 3-vinylbenzoic acid, 4-vinylbenzoic acid, 4-isopropenylbenzenecarboxylic acid, cinnamic acid And ethylenically unsaturated carboxylic acids having a carboxyl group-containing alicyclic ring or aromatic ring such as 7-amino-3-vinyl-3-cephem-4-carboxylic acid.

ヒドロキシル基含有エチレン性不飽和モノマーは、その構造中に水酸基を有するものであれば、特に制限はなく、例えば、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル〔アクリル酸2−ヒドロキシエチルとメタクリル酸2−ヒドロキシエチルとを併せて「(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル」と表記する。以下同様。〕、(メタ)アクリル酸1−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸3−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸1−ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸3−ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸4−ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸6−ヒドロキシヘキシル、(メタ)アクリル酸8−ヒドロキシオクチル、(メタ)アクリル酸10−ヒドロキシデシル、(メタ)アクリル酸12−ヒドロキシラウリル、(メタ)アクリル酸エチル−α−(ヒドロキシメチル)、単官能(メタ)アクリル酸グリセロール、あるいは(メタ)アクリル酸グリシジルラウリン酸エステル、(メタ)アクリル酸グリシジルオレイン酸エステル、(メタ)アクリル酸グリシジルステアリン酸エステル等の脂肪酸エステル系(メタ)アクリル酸エステル、あるいはラクトン環の開環付加により末端に水酸基を有するポリラクトン系(メタ)アクリル酸エステル、あるいはエチレンオキサイドやプロピレンオキサイド等のアルキレンオキサイドの繰り返し付加した末端に水酸基を有するアルキレンオキサイド付加系(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチルホスフェート等の水酸基含有の脂肪族(メタ)アクリル酸エステル類;   The hydroxyl group-containing ethylenically unsaturated monomer is not particularly limited as long as it has a hydroxyl group in its structure. For example, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate [2-hydroxyethyl acrylate and 2-methacrylic acid 2- Together with hydroxyethyl, it is expressed as “(2-hydroxyethyl) (meth) acrylate”. The same applies below. ], 1-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 1-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy (meth) acrylate Butyl, 3-hydroxybutyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth) acrylate, 8-hydroxyoctyl (meth) acrylate, 10-hydroxy (meth) acrylate Decyl, 12-hydroxylauryl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate-α- (hydroxymethyl), monofunctional (meth) acrylate glycerol, or (meth) acrylate glycidyl laurate, (meth) acryl Acid glycidyl oleate, (meth) acte Fatty acid ester (meth) acrylic acid esters such as glycidyl stearate ester, polylactone (meth) acrylic acid esters having a hydroxyl group at the terminal by ring-opening addition of a lactone ring, or alkylene oxides such as ethylene oxide and propylene oxide A hydroxyl group-containing aliphatic (meth) acrylic acid ester such as an alkylene oxide addition system (meth) acrylic acid ester having a hydroxyl group at the terminal repeatedly added, or (meth) acrylic acid 2-hydroxyethyl phosphate;

(メタ)アクリル酸1,2−シクロヘキサンジメタノール、(メタ)アクリル酸1,3−シクロヘキサンジメタノール、(メタ)アクリル酸1,4−シクロヘキサンジメタノール、(メタ)アクリル酸シクロヘキシルグリシジルエーテル、(メタ)アクリル酸フェニルグリシジルエーテル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシ−3−フェノキシメチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシ−3−フェノキシエチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシ−3−フェノキシブチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシ−3−フェノキシデシル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシ−3−フェノキシオクタデシル、(メタ)アクリル酸モノヒドロキシエチルフタレート、(メタ)アクリル酸2−(4−ベンゾイル−3−ヒドロキシフェノキシ)エチル、ジ(メタ)アクリル酸1,4−ビス(2−ヒドロキシプロピル)ベンゼン、ジ(メタ)アクリル酸1,3−ビス(2−ヒドロキシプロピル)ベンゼン等の水酸基含有の脂環あるいは芳香族(メタ)アクリル酸エステル類; (Meth) acrylic acid 1,2-cyclohexanedimethanol, (meth) acrylic acid 1,3-cyclohexanedimethanol, (meth) acrylic acid 1,4-cyclohexanedimethanol, (meth) acrylic acid cyclohexyl glycidyl ether, (meta ) Phenyl glycidyl ether acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxymethyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, ( 2-hydroxy-3-phenoxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxydecyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxyoctadecyl (meth) acrylate, monohydroxyethyl phthalate (meth) acrylate , (Meta) 2- (4-benzoyl-3-hydroxyphenoxy) ethyl oxalate, 1,4-bis (2-hydroxypropyl) benzene di (meth) acrylate, 1,3-bis (2-hydroxy) di (meth) acrylate Hydroxyl-containing alicyclic or aromatic (meth) acrylic acid esters such as propyl) benzene;

2−(2’−ヒドロキシ−5’−(メタ)アクリロイルオキシエチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール〔2−(2’−ヒドロキシ−5’−アクリロイルオキシエチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾールと2−(2’−ヒドロキシ−5’−メタクリロイルオキシエチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾールとを併せて「2−(2’−ヒドロキシ−5’−(メタ)アクリロイルオキシエチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール」と表記する。以下同様。〕、2−(2’−ヒドロキシ−5’−(メタ)アクリロイルオキシエチルフェニル)−5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’−(メタ)アクリロイルオキシプロピルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、
2−(2’−ヒドロキシ−5’−(メタ)アクリロイルオキシプロピルフェニル)−5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−tert−ブチル−5’−(メタ)アクリロイルオキシエチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−tert−ブチル−5’−(メタ)アクリロイルオキシエチルフェニル)−5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール等の水酸基含有ベンゾトリアゾール系(メタ)アクリル酸エステル類;
2- (2′-hydroxy-5 ′-(meth) acryloyloxyethylphenyl) -2H-benzotriazole [2- (2′-hydroxy-5′-acryloyloxyethylphenyl) -2H-benzotriazole and 2- ( 2′-Hydroxy-5′-methacryloyloxyethylphenyl) -2H-benzotriazole and “2- (2′-hydroxy-5 ′-(meth) acryloyloxyethylphenyl) -2H-benzotriazole” To do. The same applies hereinafter. ], 2- (2'-hydroxy-5 '-(meth) acryloyloxyethylphenyl) -5-chloro-2H-benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5'-(meth) acryloyloxypropylphenyl) -2H-benzotriazole,
2- (2′-hydroxy-5 ′-(meth) acryloyloxypropylphenyl) -5-chloro-2H-benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3′-tert-butyl-5 ′-(meth) Hydroxyl content such as acryloyloxyethylphenyl) -2H-benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3′-tert-butyl-5 ′-(meth) acryloyloxyethylphenyl) -5-chloro-2H-benzotriazole Benzotriazole-based (meth) acrylic acid esters;

2−ヒドロキシ−4−{2−(メタ)アクリロイルオキシ}エトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−{2−(メタ)アクリロイルオキシ}ブトキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4−{2−(メタ)アクリロイルオキシ}エトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−{2−(メタ)アクリロイルオキシ}エトキシ−4’−(2−ヒドロキシエトキシ)ベンゾフェノン等の水酸基含有ベンゾフェノン系(メタ)アクリル酸エステル類; 2-hydroxy-4- {2- (meth) acryloyloxy} ethoxybenzophenone, 2-hydroxy-4- {2- (meth) acryloyloxy} butoxybenzophenone, 2,2′-dihydroxy-4- {2- (meta ) Hydroxyl-containing benzophenone-based (meth) acrylic esters such as acryloyloxy} ethoxybenzophenone, 2-hydroxy-4- {2- (meth) acryloyloxy} ethoxy-4 ′-(2-hydroxyethoxy) benzophenone;

2,4−ジフェニル−6−[2−ヒドロキシ−4−{2−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ}]−S−トリアジン、24−ビス(2−メチルフェニル)−6−[2−ヒドロキシ−4−{2−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ}]−S−トリアジン、2,4−ビス(2−メトキシフェニル)−6−[2−ヒドロキシ−4−{2−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ}]−S−トリアジン、2,4−ビス(2−エチルフェニル)−6−[2−ヒドロキシ−4−{2−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ}]−S−トリアジン、2,4−ビス(2−エトキシフェニル)−6−[2−ヒドロキシ−4−{2−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ}]−S−トリアジン、2,4−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−6−[2−ヒドロキシ−4−{2−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ}]−S−トリアジン、2,4−ビス(2,4−ジエトキシルフェニル)−6−[2−ヒドロキシ−4−{2−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ}]−S−トリアジン、2,4−ビス(2,4−ジエチルフェニル)−6−[2−ヒドロキシ−4−{2−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ})]−S−トリアジン等の水酸基含有トリアジン系(メタ)アクリル酸エステル類; 2,4-diphenyl-6- [2-hydroxy-4- {2- (meth) acryloyloxyethoxy}]-S-triazine, 24-bis (2-methylphenyl) -6- [2-hydroxy-4- {2- (meth) acryloyloxyethoxy}]-S-triazine, 2,4-bis (2-methoxyphenyl) -6- [2-hydroxy-4- {2- (meth) acryloyloxyethoxy}]-S -Triazine, 2,4-bis (2-ethylphenyl) -6- [2-hydroxy-4- {2- (meth) acryloyloxyethoxy}]-S-triazine, 2,4-bis (2-ethoxyphenyl) ) -6- [2-hydroxy-4- {2- (meth) acryloyloxyethoxy}]-S-triazine, 2,4-bis (2,4-dimethylphenyl) -6- [2-hydroxy-4- {2- Meth) acryloyloxyethoxy}]-S-triazine, 2,4-bis (2,4-diethoxylphenyl) -6- [2-hydroxy-4- {2- (meth) acryloyloxyethoxy}]-S- Hydroxyl-containing triazine (meth) such as triazine, 2,4-bis (2,4-diethylphenyl) -6- [2-hydroxy-4- {2- (meth) acryloyloxyethoxy})]-S-triazine Acrylic esters;

(メタ)アクリル酸グリコシルメチル、(メタ)アクリル酸グリコシルエチル、(メタ)アクリル酸グリコシルプロピル、(メタ)アクリル酸グリコシルブチル等のグルコース環系(メタ)アクリル酸エステル類; Glucose ring system (meth) acrylates such as glycosylmethyl (meth) acrylate, glycosylethyl (meth) acrylate, glycosylpropyl (meth) acrylate, glycosylbutyl (meth) acrylate;

2−ヒドロキシスチレン、3−ヒドロキシスチレン、4−ヒドロキシスチレン、2−ヒドロキシ−α−メチルスチレン、3−ヒドロキシ−α−メチルスチレン、4−ヒドロキシ−α−メチルスチレン、2−メチル−3−ヒドロキシスチレン、4−メチル−3−ヒドロキシスチレン、5−メチル−3−ヒドロキシスチレン、2−メチル−4−ヒドロキシスチレン、3−メチル−4−ヒドロキシスチレン、3,4−ジヒドロキシスチレン、2,4,6−トリヒドロキシスチレン、2−ヒドロキシ−6−ビニルナフタレン等の水酸基含有の芳香族ビニル化合物類; 2-hydroxystyrene, 3-hydroxystyrene, 4-hydroxystyrene, 2-hydroxy-α-methylstyrene, 3-hydroxy-α-methylstyrene, 4-hydroxy-α-methylstyrene, 2-methyl-3-hydroxystyrene 4-methyl-3-hydroxystyrene, 5-methyl-3-hydroxystyrene, 2-methyl-4-hydroxystyrene, 3-methyl-4-hydroxystyrene, 3,4-dihydroxystyrene, 2,4,6- Hydroxyl group-containing aromatic vinyl compounds such as trihydroxystyrene and 2-hydroxy-6-vinylnaphthalene;

N−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド〔N−ヒドロキシエチルアクリルアミドとN−ヒドロキシエチルメタクリルアミドとを併せて「N−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド」と表記する。以下同様。〕、N−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシブチル(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシヘキシル(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシオクチル(メタ)アクリルアミド等の水酸基含有の(メタ)アクリルアミド類; N-hydroxyethyl (meth) acrylamide [N-hydroxyethylacrylamide and N-hydroxyethylmethacrylamide are collectively referred to as “N-hydroxyethyl (meth) acrylamide”. The same applies below. ], Hydroxyl-containing (meth) acrylamides such as N-hydroxypropyl (meth) acrylamide, N-hydroxybutyl (meth) acrylamide, N-hydroxyhexyl (meth) acrylamide, N-hydroxyoctyl (meth) acrylamide;

ヒドロキシスチレン、ビニルアルコール等の水酸基とアルケニル基を有する単量体類等が挙げられる。 Examples thereof include monomers having a hydroxyl group and an alkenyl group such as hydroxystyrene and vinyl alcohol.

カルボキシル基やヒドロキシル基を有さないその他のエチレン性不飽和モノマーとしては特に制限はなく、例えば、エステル部分のアルキル基の炭素数が1〜20の(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマーおよびビニル基含有モノマーを挙げることができる。エステル部分のアルキル基の炭素数が1〜20の(メタ)アクリル酸エステルモノマーの例としては、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸ペンチル、(メタ)アクリル酸へキシル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル酸デシル、(メタ)アクリル酸ドデシル、(メタ)アクリル酸ミリスチル、(メタ)アクリル酸パルミチル、(メタ)アクリル酸ステアリルなどが挙げられる。これらは単独で用いても良いし、2種以上を組み合わせて用いても良い。   There is no restriction | limiting in particular as another ethylenically unsaturated monomer which does not have a carboxyl group or a hydroxyl group, for example, the (meth) acrylic-acid alkylester monomer whose carbon number of the alkyl group of an ester part is 1-20, and vinyl group containing Mention may be made of monomers. Examples of (meth) acrylic acid ester monomers having 1 to 20 carbon atoms in the alkyl group of the ester moiety include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, and (meth) acrylic. Butyl acid, pentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, (meth) ) Dodecyl acrylate, myristyl (meth) acrylate, palmityl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

多塩基酸無水物としては、例えば、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水クロレンド酸、無水トリメリット酸等の多塩基酸無水物が挙げられる。   Examples of the polybasic acid anhydride include maleic anhydride, succinic anhydride, itaconic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, chlorendic anhydride, trimellitic anhydride And polybasic acid anhydrides.

カルボキシル基含有高分子化合物(B)としてアクリル樹脂を用いる場合、カルボキシル基含有エチレン性不飽和モノマー、又は/及び、ヒドロキシル基含有エチレン性不飽和モノマーの使用量は、エチレン性不飽和モノマーの合計100重量部中、10重量部以下で使用することが好ましい。10重量部以下で使用することにより、凝集力と接着性を両立しやすくなる。   When an acrylic resin is used as the carboxyl group-containing polymer compound (B), the carboxyl group-containing ethylenically unsaturated monomer and / or the hydroxyl group-containing ethylenically unsaturated monomer is used in a total of 100 ethylenically unsaturated monomers. It is preferable to use 10 parts by weight or less in parts by weight. By using it at 10 weight part or less, it becomes easy to make cohesion force and adhesiveness compatible.

<カルボキシル基含有ウレタン樹脂>
本発明におけるカルボキシル基含有ウレタン樹脂の製造方法としては従来公知のものも含めて以下の合成方法が挙げられる。例えば、ポリオール化合物、ジイソシアネート化合物及びカルボキシル基を有するジオール化合物を反応させることで製造することができる。また、前記カルボキシル基含有ウレタン樹脂の合成時に、ジイソシアネート化合物を過剰に配合し、末端にイソシアネート基を有するカルボキシル基含有ウレタンプレポリマーを合成し、次いでジアミン化合物を反応させることでウレア基を導入したウレタンウレア樹脂を製造することもできる。
<Carboxyl group-containing urethane resin>
Examples of the method for producing a carboxyl group-containing urethane resin in the present invention include the following synthesis methods including those conventionally known. For example, it can be produced by reacting a polyol compound, a diisocyanate compound and a diol compound having a carboxyl group. In addition, when synthesizing the carboxyl group-containing urethane resin, an excess of diisocyanate compound is synthesized, a carboxyl group-containing urethane prepolymer having an isocyanate group at the terminal is synthesized, and then a urea group is introduced by reacting with a diamine compound. Urea resins can also be produced.

本発明でポリオール化合物とは、重量平均分子量が500以上で水酸基を2個以上有する化合物をいう。具体的には例えば、ポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサイド、エチレンオキサイド/プロピレンオキサイドのブロック共重合体又はランダム共重合体、ポリテトラメチレングリコール、テトラメチレングリコールとネオペンチルグリコールとのブロック共重合体又はランダム共重合体等のポリエーテルポリオール類;
多価アルコール又はポリエーテルポリオールと無水マレイン酸、マレイン酸、フマル酸、無水イタコン酸、イタコン酸、アジピン酸、イソフタル酸等の多塩基酸との縮合物であるポリエステルポリオール類;
グリコールまたはビスフェノールと炭酸エステルとの反応、あるいは、グリコールまたはビスフェノールにアルカリの存在下でホスゲンを作用させる反応などで得られるポリカーボネートポリオール類;
カプロラクトン変性ポリテトラメチレンポリオール等のカプロラクトン変性ポリオール、ポリオレフィン系ポリオール、水添ポリブタジエンポリオール等のポリブタジエン系ポリオール、シリコーン系ポリオール等のポリオールが挙げられる。
これらポリオール化合物は1種のみを単独で用いても良いし、2種類以上を併用しても良い。
In the present invention, the polyol compound means a compound having a weight average molecular weight of 500 or more and having two or more hydroxyl groups. Specifically, for example, polyethylene oxide, polypropylene oxide, block copolymer or random copolymer of ethylene oxide / propylene oxide, polytetramethylene glycol, block copolymer of tetramethylene glycol and neopentyl glycol, or random copolymer Polyether polyols such as coalescence;
Polyester polyols which are condensates of polyhydric alcohols or polyether polyols with polybasic acids such as maleic anhydride, maleic acid, fumaric acid, itaconic anhydride, itaconic acid, adipic acid, isophthalic acid;
Polycarbonate polyols obtained by reaction of glycol or bisphenol with a carbonic acid ester or reaction of phosgene with glycol or bisphenol in the presence of alkali;
Examples thereof include caprolactone-modified polyol such as caprolactone-modified polytetramethylene polyol, polyolefin polyol, polybutadiene polyol such as hydrogenated polybutadiene polyol, and polyol such as silicone polyol.
These polyol compounds may be used alone or in combination of two or more.

カルボキシル基を有するジオール化合物としては、分子中に2個の水酸基と1個以上のカルボキシル基を有する化合物であれば特に制限はないが、例えば、ジメチロールブタン酸、ジメチロールプロピオン酸、およびこれらの誘導体(カプロラクトン付加物、エチレンオキサイド付加物、プロピレンオキサイド付加物など)、3−ヒドロキシサリチル酸、4−ヒドロキシサリチル酸、5−ヒドロキシサリチル酸、2−カルボキシー1,4−シクロヘキサンジメタノールなどが挙げられる。
これらのカルボキシル基を有するジオール化合物は1種のみを単独で用いても良いし、2種類以上を併用しても良い。
The diol compound having a carboxyl group is not particularly limited as long as it is a compound having two hydroxyl groups and one or more carboxyl groups in the molecule. For example, dimethylolbutanoic acid, dimethylolpropionic acid, and these Derivatives (caprolactone adducts, ethylene oxide adducts, propylene oxide adducts, etc.), 3-hydroxysalicylic acid, 4-hydroxysalicylic acid, 5-hydroxysalicylic acid, 2-carboxy-1,4-cyclohexanedimethanol and the like can be mentioned.
These diol compounds having a carboxyl group may be used alone or in combination of two or more.

ジイソシアネート化合物としては、芳香族ジイソシアネート、脂肪族ジイソシアネート、芳香脂肪族ジイソシアネート、脂環族ジイソシアネート等を挙げることができる。   Examples of the diisocyanate compound include aromatic diisocyanate, aliphatic diisocyanate, araliphatic diisocyanate, and alicyclic diisocyanate.

芳香族ジイソシアネートとしては、例えば、1,3−フェニレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルジイソシアネート、1,4−フェニレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、4,4’−トルイジンジイソシアネート、2,4,6−トリイソシアネートトルエン、1,3,5−トリイソシアネートベンゼン、ジアニシジンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルエーテルジイソシアネート、4,4’,4”−トリフェニルメタントリイソシアネート等が挙げられる。   Examples of the aromatic diisocyanate include 1,3-phenylene diisocyanate, 4,4′-diphenyl diisocyanate, 1,4-phenylene diisocyanate, 4,4′-diphenylmethane diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6- Tolylene diisocyanate, 4,4'-toluidine diisocyanate, 2,4,6-triisocyanate toluene, 1,3,5-triisocyanate benzene, dianisidine diisocyanate, 4,4'-diphenyl ether diisocyanate, 4,4 ', 4 "-Triphenylmethane triisocyanate and the like.

脂肪族ジイソシアネートは、例えば、トリメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネート、1,2−プロピレンジイソシアネート、2,3−ブチレンジイソシアネート、1,3−ブチレンジイソシアネート、ドデカメチレンジイソシアネート、2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等が挙げられる。   Aliphatic diisocyanates include, for example, trimethylene diisocyanate, tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, pentamethylene diisocyanate, 1,2-propylene diisocyanate, 2,3-butylene diisocyanate, 1,3-butylene diisocyanate, dodecamethylene diisocyanate, 2, Examples include 4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate.

芳香脂肪族ジイソシアネートは、例えばω,ω’−ジイソシアネート−1,3−ジメチルベンゼン、ω,ω’−ジイソシアネート−1,4−ジメチルベンゼン、ω,ω’−ジイソシアネート−1,4−ジエチルベンゼン、1,4−テトラメチルキシリレンジイソシアネート、1,3−テトラメチルキシリレンジイソシアネート等が挙げられる。   Examples of the araliphatic diisocyanate include ω, ω′-diisocyanate-1,3-dimethylbenzene, ω, ω′-diisocyanate-1,4-dimethylbenzene, ω, ω′-diisocyanate-1,4-diethylbenzene, 1, Examples include 4-tetramethylxylylene diisocyanate and 1,3-tetramethylxylylene diisocyanate.

脂環族ジイソシアネートは、例えば3−イソシアネートメチル−3,5,5−トリメチルシクロヘキシルイソシアネート[別名:イソホロンジイソシアネート]、1,3−シクロペンタンジイソシアネート、1,3−シクロヘキサンジイソシアネート、1,4−シクロヘキサンジイソシアネート、メチル−2,4−シクロヘキサンジイソシアネート、メチル−2,6−シクロヘキサンジイソシアネート、4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、1,3−ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキサン、1,4−ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキサン等が挙げられる。
これらのジイソシアネート化合物は1種のみを単独で用いても良いし、2種類以上を併用しても良い。
Examples of the alicyclic diisocyanate include 3-isocyanate methyl-3,5,5-trimethylcyclohexyl isocyanate [also known as isophorone diisocyanate], 1,3-cyclopentane diisocyanate, 1,3-cyclohexane diisocyanate, 1,4-cyclohexane diisocyanate, Methyl-2,4-cyclohexane diisocyanate, methyl-2,6-cyclohexane diisocyanate, 4,4′-methylenebis (cyclohexyl isocyanate), 1,3-bis (isocyanatemethyl) cyclohexane, 1,4-bis (isocyanatemethyl) cyclohexane Etc.
These diisocyanate compounds may be used alone or in combination of two or more.

ジアミン化合物は、鎖延長剤として働くものであり、例えば、ジアミノベンゼン、ジアミノトルエン、ジアミノジメチルベンゼン、ジアミノメシチレン、ジアミノクロロベンゼン、ジアミノニトロベンゼン、ジアミノアゾベンゼン、ジアミノナフタレン、ジアミノビフェニル、ジアミノジメトキシビフェニル、ジアミノジフェニルエーテル、ジアミノジメチルジフェニルエーテル、メチレンジアニリン、メチレンビス(メチルアニリン)、メチレンビス(ジメチルアニリン)、メチレンビス(メトキシアニリン)、メチレンビス(ジメトキシアニリン)、メチレンビス(エチルアニリン)、メチレンビス(ジエチルアニリン)、メチレンビス(エトキシアニリン)、メチレンビス(ジエトキシアニリン)、メチレンビス(ジブロモアニリン)、イソプロピリデンジアニリン、ヘキサフルオロイソプロピリデンジアニリン、ジアミノベンゾフェノン、ジアミノジメチルベンゾフェノン、ジアミノアントラキノン、ジアミノジフェニルチオエーテル、ジアミノジメチルジフェニルチオエーテル、ジアミノジフェニルスルホン、ジアミノジフェニルスルホキシドや、ジアミノフルオレンなどの芳香族ポリアミン;
エチレンポリアミン、プロパンポリアミン、ヒドロキシプロパンポリアミン、ブタンポリアミン、ヘプタンポリアミン、ヘキサンポリアミン、ジアミノジエチルアミン、ジアミノジプロピルアミン、アザペンタンポリアミンや、トリアザウンデカンポリアミン、ノナメチレンポリアミン、ウンデカメチレンポリアミン、ドデカメチレンポリアミン、メチルペンタメチレンポリアミン、2,2,4(または2,4,4)−トリメチルヘキサメチレンポリアミンや炭素数20〜48のポリアミン化合物などの脂肪族ポリアミン;
ビス−(4,4′−アミノシクロヘキシル)メタン、メタキシリレンポリアミン、パラキシリレンポリアミン、イソホロンポリアミン、ノルボルナンポリアミン、シクロペンタンポリアミン、シクロヘキサンポリアミン、ピペラジン、ホモピペラジンなどの脂環族ポリアミンを使用することができる。
The diamine compound serves as a chain extender, for example, diaminobenzene, diaminotoluene, diaminodimethylbenzene, diaminomesitylene, diaminochlorobenzene, diaminonitrobenzene, diaminoazobenzene, diaminonaphthalene, diaminobiphenyl, diaminodimethoxybiphenyl, diaminodiphenyl ether, Diaminodimethyldiphenyl ether, methylenedianiline, methylenebis (methylaniline), methylenebis (dimethylaniline), methylenebis (methoxyaniline), methylenebis (dimethoxyaniline), methylenebis (ethylaniline), methylenebis (diethylaniline), methylenebis (ethoxyaniline), Methylenebis (diethoxyaniline), methylenebis (dibromoaniline) Isopropylidene aniline, hexafluoro isopropylidene aniline, diaminobenzophenone, diamino dimethyl benzophenone, diaminoanthraquinone, diaminodiphenyl thioether, diaminodiphenyl dimethyl diphenyl thioether, diaminodiphenyl sulfone, and diaminodiphenyl sulfoxide, aromatic such as diaminofluorene polyamine;
Ethylene polyamine, propane polyamine, hydroxypropane polyamine, butane polyamine, heptane polyamine, hexane polyamine, diaminodiethylamine, diaminodipropylamine, azapentane polyamine, triazaundecane polyamine, nonamethylene polyamine, undecamethylene polyamine, dodecamethylene polyamine, Aliphatic polyamines such as methylpentamethylene polyamine, 2,2,4 (or 2,4,4) -trimethylhexamethylene polyamine and polyamine compounds having 20 to 48 carbon atoms;
Use alicyclic polyamines such as bis- (4,4'-aminocyclohexyl) methane, metaxylylene polyamine, paraxylylene polyamine, isophorone polyamine, norbornane polyamine, cyclopentane polyamine, cyclohexane polyamine, piperazine, homopiperazine Can do.

カルボキシル基含有高分子化合物(B)としてウレタン樹脂を用いる場合、ウレア基を導入したウレタンウレア樹脂を用いることが好ましい。ウレア基を導入することにより、接着性やフレキシブル性を向上しやすくなる。   When a urethane resin is used as the carboxyl group-containing polymer compound (B), it is preferable to use a urethane urea resin into which a urea group has been introduced. By introducing a urea group, it becomes easy to improve adhesiveness and flexibility.

<カルボキシル基含有エステル樹脂>
本発明におけるカルボキシル基含有エステル樹脂の製造方法としては従来公知のものも含めて以下の合成方法が挙げられる。例えば、分子中に2個のカルボキシル基を有する化合物と分子中に2個の水酸基を有する化合物とを、カルボキシル基のモル数が水酸基のモル数に対して過剰となる条件下で重縮合反応させて得る方法や、分子中に2個のカルボキシル基を有する化合物と分子中に2個のエポキシ基を有する化合物とを重付加反応させて側鎖水酸基含有エステル樹脂を合成した後、水酸基を多塩基酸無水物によりカルボキシル基に変性して得る方法がある。
<Carboxyl group-containing ester resin>
Examples of the method for producing a carboxyl group-containing ester resin in the present invention include the following synthesis methods including those conventionally known. For example, a compound having two carboxyl groups in the molecule and a compound having two hydroxyl groups in the molecule are subjected to a polycondensation reaction under conditions where the number of moles of carboxyl groups is excessive relative to the number of moles of hydroxyl groups. Or by synthesizing a side chain hydroxyl group-containing ester resin by polyaddition reaction of a compound having two carboxyl groups in the molecule and a compound having two epoxy groups in the molecule, There is a method obtained by modification to a carboxyl group with an acid anhydride.

分子中に2個のカルボキシル基を有する化合物としては、分子中に2個のカルボキシル基を有する化合物であれば特に限定されるものではない。例えば、炭素数20〜48の環状または非環状の炭化水素基を有する多塩基酸化合物;
フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、キシリレンジカルボン酸、ベンゼンジプロピオン酸、ビフェニル多塩基酸、オキシジ安息香酸、チオジ安息香酸、ジチオジ安息香酸、ジチオビス(ニトロ安息香酸)、カルボニルジ安息香酸、スルホニルジ安息香酸、ナフタレンジカルボン酸、メチレンジ安息香酸、イソプロピリデンジ安息香酸、ヘキサフルオロイソプロピリデンジ安息香酸、ピリジン多塩基酸などの芳香族多塩基酸化合物;
シュウ酸、マロン酸、メチルマロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、2,2,4−トリメチルアジピン酸、マレイン酸、フマル酸、りんご酸、酒石酸、(メタ)アクリロイルオキシコハク酸、ジ(メタ)アクリロイルオキシコハク酸、(メタ)アクリロイルオキシりんご酸、(メタ)アクリルアミドコハク酸、(メタ)アクリルアミドりんご酸、チオりんご酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカン二酸、ヘキサデカンジオン酸、エイコサンジオン酸、ジグリコール酸などの脂肪族多塩基酸化合物;
1,3−シクロヘキサンジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、1,3−シクロペンタンジカルボン酸などの脂環族多塩基酸化合物などが挙げられる。
The compound having two carboxyl groups in the molecule is not particularly limited as long as it is a compound having two carboxyl groups in the molecule. For example, a polybasic acid compound having a cyclic or acyclic hydrocarbon group having 20 to 48 carbon atoms;
Phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, xylylene dicarboxylic acid, benzenedipropionic acid, biphenyl polybasic acid, oxydibenzoic acid, thiodibenzoic acid, dithiodibenzoic acid, dithiobis (nitrobenzoic acid), carbonyldibenzoic acid, sulfonyldi Aromatic polybasic compounds such as benzoic acid, naphthalenedicarboxylic acid, methylenedibenzoic acid, isopropylidenedibenzoic acid, hexafluoroisopropylidenedibenzoic acid, pyridine polybasic acid;
Oxalic acid, malonic acid, methylmalonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, 2,2,4-trimethyladipic acid, maleic acid, fumaric acid, malic acid, tartaric acid, (meth) acryloyloxysuccinic acid, di ( (Meth) acryloyloxysuccinic acid, (meth) acryloyloxymalic acid, (meth) acrylamide succinic acid, (meth) acrylamide malic acid, thiomalic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, dodecanedioic acid, hexadecane Aliphatic polybasic acid compounds such as dionic acid, eicosandioic acid and diglycolic acid;
Examples include alicyclic polybasic acid compounds such as 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, and 1,3-cyclopentanedicarboxylic acid.

分子中に2個のエポキシ基を有する化合物としては、分子中に2個のエポキシ基を有する化合物であれば特に限定されるものでなく、上述の化合物を挙げることができる。   The compound having two epoxy groups in the molecule is not particularly limited as long as it is a compound having two epoxy groups in the molecule, and includes the above-mentioned compounds.

多塩基酸無水物としては、上述の多塩基酸無水物を用いることができる。   As the polybasic acid anhydride, the above-mentioned polybasic acid anhydrides can be used.

カルボキシル基含有高分子化合物(B)としてエステル樹脂を用いる場合、重付加反応させて得られるエステル樹脂を用いることが好ましい。重付加反応させて得られるエステル樹脂は最終的に側鎖にカルボキシル基を導入することができるため、化合物(A)と架橋反応する際に、硬化物の電気絶縁性や耐熱性がより向上する。   When using an ester resin as the carboxyl group-containing polymer compound (B), it is preferable to use an ester resin obtained by polyaddition reaction. Since the ester resin obtained by the polyaddition reaction can finally introduce a carboxyl group into the side chain, the electrical insulation and heat resistance of the cured product are further improved during the crosslinking reaction with the compound (A). .

<カルボキシル基含有フェノキシ樹脂>
本発明におけるカルボキシル基含有フェノキシ樹脂の製造方法としては従来公知のものも含めて以下の合成方法が挙げられる。例えば、分子中に2個のフェノール性水酸基を有する化合物と、分子中に2個のエポキシ基を有する化合物とを反応させて側鎖水酸基含有フェノキシ樹脂を合成した後、水酸基を多塩基酸無水物によりカルボキシル基に変性することで製造することができる。
<Carboxyl group-containing phenoxy resin>
Examples of the method for producing a carboxyl group-containing phenoxy resin in the present invention include the following synthesis methods including those conventionally known. For example, after reacting a compound having two phenolic hydroxyl groups in the molecule with a compound having two epoxy groups in the molecule to synthesize a side chain hydroxyl group-containing phenoxy resin, the hydroxyl group is converted into a polybasic acid anhydride. Can be produced by modification to a carboxyl group.

分子中に2個のフェノール性水酸基を有する化合物としては、分子中に2個のフェノール性水酸基を有する化合物であれば特に限定されるものではない。例えば、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン (別名:ビスフェノールA)が代表例であり、その
他にも、ビス(4−ヒドロキシフェノル)メタン(別名:ビスフェノールF)等の中心炭素に水素原子が結合しているビスフェノール類;
2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−n−ブタン、等の中心炭素に1つのメチル基
が結合しているビスフェノール類;
2,2−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン(通称ビスフェノールC
)等の中心炭素に2つのメチル基が結合しているビスフェノール類;
ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1,1−ジフェニルメタン等のジフェニルメタン誘導
体であるビスフェノール類;
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン(通称ビスフェノールZ)等の
シクロヘキサン誘導体であるビスフェノール類;
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン等の
−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン誘導体であるビスフェノール類;
9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(3−メチル−4−
ヒドロキシフェニル)フルオレン等のフルオレン誘導体であるビスフェノール類;
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−シクロペンタン等のシクロアルカン誘導体で
あるビスフェノール類;
4,4’−ビフェノール等の芳香族環が直接結合したビフェノール類;
ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン等のスルホン誘導体であるビスフェノール類;
ビス(4−ヒドロキシフェニル)エーテル等のエーテル結合を有するビスフェノール類;
ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルフィド等のスルフィド結合を有するビスフェノール
類;
ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホキシド等のスルホキシド誘導体であるビス フェ
ノール類;
フェノールフタレイン等のヘテロ原子含有脂肪族環を有するビスフェノール類;
2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン等の炭素−フッ素結合
を有するビスフェノール類等を挙げることができる。
さらに、ヒドロキノン、レゾルシノール、カテコール、メチルヒドロキノン等のジヒド
ロキシベンゼン類;
1,5−ジヒドロキシナフタレン、2,6−ジヒドロキシナフタレン等のジヒドロキシナ
フタレン類等が挙げられる。
The compound having two phenolic hydroxyl groups in the molecule is not particularly limited as long as it is a compound having two phenolic hydroxyl groups in the molecule. For example, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane (also known as bisphenol A) is a representative example, and in addition to the central carbon such as bis (4-hydroxyphenol) methane (also known as bisphenol F). Bisphenols to which hydrogen atoms are bonded;
Bisphenols in which one methyl group is bonded to the central carbon such as 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) -n-butane;
2,2-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) propane (commonly called bisphenol C)
Bisphenols in which two methyl groups are bonded to a central carbon such as
Bisphenols which are diphenylmethane derivatives such as bis (4-hydroxyphenyl) -1,1-diphenylmethane;
Bisphenols which are cyclohexane derivatives such as 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane (commonly called bisphenol Z);
Bisphenols which are -3,3,5-trimethylcyclohexane derivatives such as 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -3,3,5-trimethylcyclohexane;
9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (3-methyl-4-
Bisphenols which are fluorene derivatives such as hydroxyphenyl) fluorene;
Bisphenols that are cycloalkane derivatives such as 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -cyclopentane;
Biphenols directly linked with aromatic rings such as 4,4′-biphenol;
Bisphenols which are sulfone derivatives such as bis (4-hydroxyphenyl) sulfone;
Bisphenols having an ether bond such as bis (4-hydroxyphenyl) ether;
Bisphenols having a sulfide bond such as bis (4-hydroxyphenyl) sulfide;
Bisphenols which are sulfoxide derivatives such as bis (4-hydroxyphenyl) sulfoxide;
Bisphenols having a heteroatom-containing aliphatic ring such as phenolphthalein;
Examples thereof include bisphenols having a carbon-fluorine bond, such as 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane.
And dihydroxybenzenes such as hydroquinone, resorcinol, catechol, methylhydroquinone;
Examples include dihydroxynaphthalenes such as 1,5-dihydroxynaphthalene and 2,6-dihydroxynaphthalene.

分子中に2個のエポキシ基を有する化合物としては、分子中に2個のエポキシ基を有する化合物であればよく、特に限定されるものではない。上述の化合物を挙げることができる。   The compound having two epoxy groups in the molecule is not particularly limited as long as it is a compound having two epoxy groups in the molecule. Mention may be made of the compounds mentioned above.

多塩基酸無水物としては、上述の多塩基酸無水物を用いることができる。   As the polybasic acid anhydride, the above-mentioned polybasic acid anhydrides can be used.

カルボキシル基含有高分子化合物(B)としてフェノキシ樹脂を用いる場合、多塩基酸無水物としてはテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸を用いることが好ましい。これより、硬化物の電気絶縁性や耐熱性を向上しやすくなる。   When a phenoxy resin is used as the carboxyl group-containing polymer compound (B), it is preferable to use tetrahydrophthalic anhydride or hexahydrophthalic anhydride as the polybasic acid anhydride. This makes it easier to improve the electrical insulation and heat resistance of the cured product.

<カルボキシル基含有アミド樹脂>
本発明におけるカルボキシル基含有アミド樹脂の製造方法としては従来公知のものも含めて以下の合成方法が挙げられる。例えば、分子中に2個のカルボキシル基を有する化合物と分子中に2個のアミノ基を有する化合物とを、カルボキシル基のモル数がアミノ基のモル数に対して過剰となる条件下で脱水縮合反応させて得る方法や、分子中に2個のカルボキシル基を有する化合物と分子中に2個のイソシアネート基を有する化合物とを、カルボキシル基のモル数がイソシアネート基のモル数に対して過剰となる条件下で脱炭酸反応させて得る方法がある。
<Carboxyl group-containing amide resin>
Examples of the method for producing a carboxyl group-containing amide resin in the present invention include the following synthesis methods including those conventionally known. For example, dehydration condensation of a compound having two carboxyl groups in the molecule and a compound having two amino groups in the molecule under conditions where the number of moles of carboxyl groups is excessive relative to the number of moles of amino groups The method obtained by reacting the compound having two carboxyl groups in the molecule and the compound having two isocyanate groups in the molecule causes the number of moles of the carboxyl groups to be excessive with respect to the number of moles of the isocyanate groups. There is a method obtained by decarboxylation under conditions.

<カルボキシル基含有イミド樹脂>
同様に、本発明におけるカルボキシル基含有イミド樹脂ついても従来公知のものを含めて合成されているものを使用することができるが、具体的には、カルボキシル基含有アミド樹脂を製造する際に用いた分子中に2個のカルボキシル基を有する化合物の、一部あるいは全部を多塩基酸無水物に置き換えることで得ることができる。
<Carboxyl group-containing imide resin>
Similarly, as the carboxyl group-containing imide resin in the present invention, those synthesized conventionally including those known in the art can be used. Specifically, the carboxyl group-containing imide resin was used when producing the carboxyl group-containing amide resin. It can be obtained by replacing part or all of a compound having two carboxyl groups in the molecule with a polybasic acid anhydride.

多塩基酸無水物としては、上述の化合物の他に四塩基酸無水物を挙げることができ、例えば、無水ピロメリット酸、3,4,3’,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,3,2’,3’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,3,3’,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ジフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’ ,3,3’−ジフェニルテトラカルボン酸二無水物、4,4’−オキシジフタル酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン二無水物、3,4,9,10−ペリレンテトラカルボン酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,2,4,5−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、フェナンスレン−1,8,9,10−テトラカルボン酸二無水物、ピラジン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、チオフェン−2,3,4,5−テトラカルボン酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ジメチルシラン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ジフェニルシラン二無水物、1,4−ビス(3,4−ジカルボキシフェニルジメチルシリル)ベンゼン二無水物、1,3−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,1,3,3−テトラメチルジシクロヘキサン二無水物、p−フェニルビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)、エチレンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物、デカホドロナフタレン−1,4,5,8−テトラカルボン酸二無水物、4,8−ジメチル−1,2,3,5,6,7−ヘキサヒドロナフタレン−1,2,5,6−テトラカルボン酸二無水物、シクロペンタン−1,2,3,4−テトラカルボン酸二無水物、ピロリジン−2,3,4,5−テトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、ビス(エキソ−ビシクロ[2,2,1]ヘプタン−2,3−ジカルボン酸無水物)スルホン、ビシクロ−(2,2,2)−オクト(7)−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン二無水物、2,2−ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン二無水物、4,4’−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルスルフィド二無水物、1,4−ビス(2−ヒドロキシヘキサフルオロイソプロピル)ベンゼンビス(トリメリット酸無水物)、1,3−ビス(2−ヒドロキシヘキサフルオロイソプロピル)ベンゼンビス(トリメリット酸無水物)、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフリル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物、テトラヒドロフラン−2,3,4,5−テトラカルボン酸二無水物などが挙げられる。   Examples of the polybasic acid anhydride include tetrabasic acid anhydrides in addition to the above-mentioned compounds, such as pyromellitic anhydride, 3,4,3 ′, 4′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 2,3,2 ′, 3′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 2,3,3 ′, 4′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-diphenyltetracarboxylic acid Dianhydride, 2,2 ′, 3,3′-diphenyltetracarboxylic dianhydride, 4,4′-oxydiphthalic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (3,4- Dicarboxyphenyl) ethane Dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, 3 , 4,9,10-perylenetetracarboxylic dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2,3, 6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,2,4,5-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, phenanthrene-1,8, 9,10-tetracarboxylic dianhydride, pyrazine-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, thiophene-2,3,4,5-tetracarboxylic dianhydride, bis (3,4 -Zika Boxyphenyl) dimethylsilane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) diphenylsilane dianhydride, 1,4-bis (3,4-dicarboxyphenyldimethylsilyl) benzene dianhydride, 1,3-bis (3,4-dicarboxyphenyl) -1,1,3,3-tetramethyldicyclohexane dianhydride, p-phenylbis (trimellitic acid monoester acid anhydride), ethylenetetracarboxylic dianhydride, 1 , 2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride, decahodronaphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride, 4,8-dimethyl-1,2,3,5,6 , 7-hexahydronaphthalene-1,2,5,6-tetracarboxylic dianhydride, cyclopentane-1,2,3,4-tetracarboxylic dianhydride, pyrrolidine-2,3 4,5-tetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, bis (exo-bicyclo [2,2,1] heptane-2,3-dicarboxylic anhydride) Sulfone, bicyclo- (2,2,2) -oct (7) -ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoro Propane dianhydride, 2,2-bis [4- (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl] hexafluoropropane dianhydride, 4,4′-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) diphenyl sulfide dianhydride , 1,4-bis (2-hydroxyhexafluoroisopropyl) benzenebis (trimellitic anhydride), 1,3-bis (2-hydroxyhexafluoroisopropyl) benzene Bis (trimellitic anhydride), 5- (2,5-dioxotetrahydrofuryl) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride, tetrahydrofuran-2,3,4,5-tetra Examples thereof include carboxylic dianhydrides.

本発明において、カルボキシル基含有高分子化合物(B)は一種のみを単独で使用しても良いし、複数を併用しても良い。また、カルボキシル基含有高分子化合物(B)の使用量は、本発明の硬化性樹脂組成物の用途等を考慮して決定すればよく、特に限定されるものではないが、窒素原子を少なくとも1個以上有するエポキシ化合物(A)100重量部に対して、100重量部〜5000重量部の割合で加えることが好ましく、200重量部〜3000重量部の割合で加えることがより好ましい。カルボキシル基含有高分子化合物(B)の使用量が10重量部より少ないと、加熱硬化後の塗膜の架橋密度が高くなり、硬化物が脆弱となり、フレキシブル性や接着シートとしてのハンドリングを著しく悪化させる場合がある。また、該使用量が5000重量部より多いと、加熱硬化後の塗膜の架橋密度が低くなりすぎ、誘電特性や、接着性、耐熱性が不十分となる場合がある。このように、カルボキシル基含有高分子化合物(B)を使用することにより、本発明の硬化性樹脂組成物の架橋密度を適度な値に調節することができるので、硬化後の塗膜の誘電特性、接着性、フレキシブル性、電気絶縁性、耐熱性とのバランスをより一層向上させることができるのである。   In the present invention, the carboxyl group-containing polymer compound (B) may be used alone or in combination. The amount of the carboxyl group-containing polymer compound (B) used may be determined in consideration of the application of the curable resin composition of the present invention, and is not particularly limited. It is preferable to add at a ratio of 100 parts by weight to 5000 parts by weight, and more preferably 200 parts by weight to 3000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy compound (A) having at least one. If the amount of the carboxyl group-containing polymer compound (B) used is less than 10 parts by weight, the crosslinking density of the coating after heat curing becomes high, the cured product becomes brittle, and the flexibility and handling as an adhesive sheet are significantly deteriorated. There is a case to let you. On the other hand, when the amount used is more than 5000 parts by weight, the cross-linking density of the coating after heat curing becomes too low, and the dielectric properties, adhesiveness, and heat resistance may be insufficient. Thus, since the crosslinking density of the curable resin composition of the present invention can be adjusted to an appropriate value by using the carboxyl group-containing polymer compound (B), the dielectric properties of the coating film after curing can be adjusted. The balance of adhesiveness, flexibility, electrical insulation and heat resistance can be further improved.

本発明のカルボキシル基含有高分子化合物(B)の酸価は、1〜100KOHmg/gであることが好ましく、より好ましくは5〜90KOHmg/gである。酸価が1KOHmg/g未満では硬化性基として機能するカルボキシル基が少なく、硬化後の塗膜に十分な耐性を付与することができない場合がある。また、酸価が100KOHmg/gを超えると塗膜の硬度が高くなり、十分な接着性が得られない場合がある。また、酸価が1〜100KOHmg/gの範囲内において、1KOHmg/gに近い範囲で設計する場合、得られる塗膜の屈曲性や密着性が向上し、一方、100KOHmg/gに近い範囲で設計する場合、架橋点が多くなることから、最終的に得られる塗膜の耐熱性が向上する。このように、本発明においてカルボキシル基含有高分子化合物(B)の酸価は、1〜100KOHmg/gの範囲内で目的に応じて調整することが可能である。   The acid value of the carboxyl group-containing polymer compound (B) of the present invention is preferably 1 to 100 KOHmg / g, more preferably 5 to 90 KOHmg / g. When the acid value is less than 1 KOHmg / g, there are few carboxyl groups that function as curable groups, and sufficient resistance may not be imparted to the cured coating film. On the other hand, when the acid value exceeds 100 KOHmg / g, the hardness of the coating film increases and sufficient adhesiveness may not be obtained. In addition, when the acid value is designed in the range of 1 to 100 KOHmg / g and in the range close to 1 KOHmg / g, the flexibility and adhesion of the resulting coating are improved, while the design is made in the range close to 100 KOHmg / g. In that case, since the number of crosslinking points increases, the heat resistance of the finally obtained coating film is improved. Thus, in this invention, the acid value of a carboxyl group-containing high molecular compound (B) can be adjusted according to the objective within the range of 1-100 KOHmg / g.

本発明のカルボキシル基含有高分子化合物(B)の重量平均分子量は、5000〜500000の範囲内であることが好ましく、より好ましくは、10000〜300000である。重量平均分子量が5000未満では、十分なフレキシブル性や耐熱性が得られない場合がある。また、重量平均分子量が500000を超えると、塗工時の粘度やハンドリングが課題となる場合がある。また、重量平均分子量が5000〜500000の範囲内において、5000に近い値で設計する場合、カルボキシル基含有高分子化合物のモビリティが高くなり架橋性に富む樹脂となるため、最終的に得られる塗膜の耐熱性を向上することができ、一方、500000に近い値で設計する場合、最終的に得られる塗膜は、フレキシブル性や接着性に優れる。このように、本発明においてカルボキシル基含有高分子化合物(B)の重量平均分子量は、5000〜500000の範囲内で目的に応じて調整することが可能である。   The weight average molecular weight of the carboxyl group-containing polymer compound (B) of the present invention is preferably in the range of 5,000 to 500,000, more preferably 10,000 to 300,000. If the weight average molecular weight is less than 5000, sufficient flexibility and heat resistance may not be obtained. Moreover, when the weight average molecular weight exceeds 500,000, the viscosity at the time of coating and handling may become a subject. In addition, when the weight average molecular weight is designed to be close to 5000 within the range of 5,000 to 500,000, the mobility of the carboxyl group-containing polymer compound becomes high and the resin becomes rich in crosslinkability. On the other hand, when designing with a value close to 500,000, the finally obtained coating film is excellent in flexibility and adhesiveness. Thus, in this invention, the weight average molecular weight of a carboxyl group-containing high molecular compound (B) can be adjusted according to the objective within the range of 5000-500000.

<フィラー(C)>
次に、本発明のフィラー(C)について詳細に説明する。
本発明の接着剤組成物は、難燃性の付与、接着剤の流動性制御等の目的でフィラー(C)を含有することができる。
<Filler (C)>
Next, the filler (C) of the present invention will be described in detail.
The adhesive composition of the present invention can contain a filler (C) for the purpose of imparting flame retardancy and controlling the fluidity of the adhesive.

フィラー(C)としては、特に限定されないが、形状としては球状、粉状、繊維状、針状、鱗片状等が挙げられる。
フィラーとしては例えば、ポリテトラフルオロエチレン粉末、ポリエチレン粉末、ポリアクリル酸エステル粉末、エポキシ樹脂粉末、ポリアミド粉末、ポリウレタン粉末、ポリシロキサンン粉末等の他、シリコーン、アクリル、スチレンブタジエンゴム、ブタジエンゴム等を用いた多層構造のコアシェル等の高分子フィラー;
リン酸メラミン、ポリリン酸メラミン、リン酸グアニジン、ポリリン酸グアニジン、リン酸アンモニウム、ポリリン酸アンモニウム、リン酸アミドアンモニウム、ポリリン酸アミドアンモニウム、リン酸カルバメート、ポリリン酸カルバメート等の(ポリ)リン酸塩系化合物、有機リン酸エステル化合物、ホスファゼン化合物、ホスホン酸化合物、ジエチルホスフィン酸アルミニウム、メチルエチルホスフィン酸アルミニウム、ジフェニルホスフィン酸アルミニウム、エチルブチルホスフィン酸アルミニウム、メチルブチルホスフィン酸アルミニウム、ポリエチレンホスフィン酸アルミニウム等のホスフィン酸化合物、ホスフィンオキシド化合物、ホスホラン化合物、ホスホルアミド化合物等のリン系難燃フィラー;
ベンゾグアナミン、メラミン、メラム、メレム、メロン、メラミンシアヌレート、シアヌル酸化合物、イソシアヌル酸化合物、トリアゾール系化合物、テトラゾール化合物、ジアゾ化合物、尿素等の窒素系難燃フィラー;
シリカ、マイカ、タルク、カオリン、クレー、ハイドロタルサイト、ウォラストナイト、ゾノトライト、窒化ケイ素、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、リン酸水素カルシウム、リン酸カルシウム、ガラスフレーク、水和ガラス、チタン酸カルシウム、セピオライト、硫酸マグネシウム、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、水酸化ジルコニウム、水酸化バリウム、水酸化カルシウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化モリブデン、酸化アンチモン、酸化ニッケル、炭酸亜鉛、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、ホウ酸亜鉛、ホウ酸アルミニウム等の無機フィラー等が挙げられる。
Although it does not specifically limit as a filler (C), As a shape, spherical shape, powdery shape, fibrous shape, needle shape, scale shape, etc. are mentioned.
Examples of fillers include polytetrafluoroethylene powder, polyethylene powder, polyacrylic acid ester powder, epoxy resin powder, polyamide powder, polyurethane powder, polysiloxane powder, silicone, acrylic, styrene butadiene rubber, butadiene rubber, etc. Polymer filler such as core shell of multilayer structure used;
(Poly) phosphates such as melamine phosphate, melamine polyphosphate, guanidine phosphate, guanidine polyphosphate, ammonium phosphate, ammonium polyphosphate, ammonium amidophosphate, ammonium amidophosphate, carbamate phosphate, carbamate polyphosphate Compounds, organophosphate ester compounds, phosphazene compounds, phosphonic acid compounds, diethyl diethylphosphinate, aluminum methylethylphosphinate, aluminum diphenylphosphinate, aluminum ethylbutylphosphinate, aluminum methylbutylphosphinate, aluminum polyethylenephosphinate, etc. Phosphorus flame retardant fillers such as acid compounds, phosphine oxide compounds, phosphorane compounds, phosphoramide compounds;
Nitrogen-based flame retardant fillers such as benzoguanamine, melamine, melam, melem, melon, melamine cyanurate, cyanuric acid compound, isocyanuric acid compound, triazole compound, tetrazole compound, diazo compound, urea;
Silica, mica, talc, kaolin, clay, hydrotalcite, wollastonite, zonotlite, silicon nitride, boron nitride, aluminum nitride, calcium hydrogen phosphate, calcium phosphate, glass flakes, hydrated glass, calcium titanate, sepiolite, sulfuric acid Magnesium, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, zirconium hydroxide, barium hydroxide, calcium hydroxide, titanium oxide, tin oxide, aluminum oxide, magnesium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, molybdenum oxide, antimony oxide, nickel oxide, carbonic acid Examples include inorganic fillers such as zinc, magnesium carbonate, calcium carbonate, barium carbonate, zinc borate, and aluminum borate.

なかでもフィラー(C)としては、近年取り沙汰されている、環境への影響を配慮すると、リン系難燃フィラーや窒素系難燃フィラー等のノンハロゲン系難燃剤を使用することが望ましく、中でも本発明の接着剤組成物との併用によって、難燃性により効果のあるホスファゼン化合物、ホスフィン化合物、ポリリン酸メラミン、ポリリン酸アンモニウム、メラミンシアヌレート等を用いることが好ましい。また、誘電率や誘電正接をさらに低下させる点では、ポリテトラフルオロエチレン粉末を使用することが好ましく、誘電特性のみならず接着性、フレキシブル性、電気絶縁性、耐熱性とのバランスに優れた硬化物を得ることができるようになる。
本発明において、これらフィラー(C)は、単独又は複数を併用して用いることができる。
Among them, as the filler (C), it is desirable to use a non-halogen flame retardant such as a phosphorus flame retardant filler or a nitrogen flame retardant filler, which has been recently taken into consideration, considering the influence on the environment. It is preferable to use a phosphazene compound, a phosphine compound, melamine polyphosphate, ammonium polyphosphate, melamine cyanurate, etc., which are more effective in flame retardancy, in combination with the adhesive composition. In addition, it is preferable to use polytetrafluoroethylene powder in terms of further reducing the dielectric constant and dielectric loss tangent, and it has excellent balance not only with dielectric properties but also with adhesion, flexibility, electrical insulation, and heat resistance. You can get things.
In the present invention, these fillers (C) can be used alone or in combination.

これらフィラー(C)の平均粒子径としては、0.1μmから25μmであることが好ましい。0.1μmに近い平均粒子径を示すフィラーを用いた場合、フィラーによる改質効果が得やすく、さらに分散性や分散液の安定性が向上しやすい。また、25μmに近い平均粒子径を示すフィラーを用いた場合、硬化膜の機械特性が向上しやすくなる。   The average particle size of these fillers (C) is preferably 0.1 μm to 25 μm. When a filler having an average particle diameter close to 0.1 μm is used, a modification effect by the filler is easily obtained, and further, dispersibility and stability of the dispersion liquid are easily improved. Moreover, when the filler which shows the average particle diameter near 25 micrometers is used, the mechanical characteristic of a cured film becomes easy to improve.

フィラー(C)の添加量としては、分子内に少なくとも1個以上の3級窒素原子を有するエポキシ化合物(A)に対して0.01部〜500部であることが好ましい。フィラー添加量がこの範囲を下回るとフィラーによる改質効果が得られにくく、この範囲を上回ると硬化膜の機械的特性が大きく損なわれる恐れがある。   The addition amount of the filler (C) is preferably 0.01 part to 500 parts with respect to the epoxy compound (A) having at least one tertiary nitrogen atom in the molecule. If the amount of filler added is below this range, the modification effect by the filler is difficult to obtain, and if it exceeds this range, the mechanical properties of the cured film may be greatly impaired.

フィラー(C)の添加方法は特に制限されるものではなく、従来公知のいかなる方法を用いても良いが、具体的には、重合前または途中に重合反応液に添加する方法、3本ロールなどを用いてフィラーを混錬する方法、フィラーを含む分散液を用意しこれを混合する方法などが挙げられる。また、フィラーを良好に分散させ、また分散状態を安定化させるために分散剤、増粘剤等を接着シート物性に影響を及ぼさない範囲で用いることもできる。   The addition method of the filler (C) is not particularly limited, and any conventionally known method may be used. Specifically, a method of adding to the polymerization reaction solution before or during the polymerization, a three roll, etc. And a method of kneading the filler using, and a method of preparing a dispersion containing the filler and mixing them. Further, in order to disperse the filler satisfactorily and stabilize the dispersion state, a dispersant, a thickener and the like can be used as long as the physical properties of the adhesive sheet are not affected.

<熱硬化助剤>
さらに本発明では、分子内に少なくとも1個以上の窒素原子を有するエポキシ化合物(A)、カルボキシル基含有高分子化合物(B)以外にも、硬化反応に直接寄与する化合物、あるいは触媒的に寄与する熱硬化助剤を用いることができる。例えば、硬化反応に直接寄与する熱硬化助剤としては、アジリジン化合物、カルボジイミド基含有化合物、ベンゾオキサジン化合物、フェノール樹脂、マレイミド化合物、ジシアンジアミド、カルボン酸ヒドラジド、酸無水物、β−ヒドロキシアルキルアミド基含有化合物、ブロックイソシアネート等を挙げられる。また、触媒的に寄与する熱硬化助剤としては、アミン化合物、ホスフィン化合物等が挙げられる。
<Heat curing aid>
Furthermore, in the present invention, in addition to the epoxy compound (A) having at least one nitrogen atom in the molecule and the carboxyl group-containing polymer compound (B), a compound that directly contributes to the curing reaction or a catalytic contribution. A thermosetting aid can be used. For example, the thermosetting auxiliary agent that directly contributes to the curing reaction includes an aziridine compound, a carbodiimide group-containing compound, a benzoxazine compound, a phenol resin, a maleimide compound, dicyandiamide, a carboxylic acid hydrazide, an acid anhydride, and a β-hydroxyalkylamide group. Examples thereof include compounds and blocked isocyanates. In addition, examples of thermosetting aids that contribute catalytically include amine compounds and phosphine compounds.

[アジリジン化合物]
本発明におけるアジリジン化合物としては、分子内にアジリジン基を含有する化合物であればよく、特に限定されるものではない。
[Aziridine compound]
The aziridine compound in the present invention is not particularly limited as long as it is a compound containing an aziridine group in the molecule.

アジリジン化合物としては、例えば、N,N’−ジフェニルメタン−4,4’−ビス(1−アジリジンカルボキサイト)、N,N’−トルエン−2,4−ビス(1−アジリジンカルボキサイト)、ビスイソフタロイル−1−(2−メチルアジリジン)、トリ−1−アジリジニルホスフィンオキサイド、N,N’−ヘキサメチレン−1,6−ビス(1−アジリジンカルボキサイト)、トリメチロールプロパン−トリ−β−アジリジニルプロピオネート、テトラメチロールメタン−トリ−β−アジリジニルプロピオネート、トリス−2,4,6−(1−アジリジニル)−1、3、5−トリアジン、トリメチロールプロパントリス[3−(1−アジリジニル)プロピオネート]、トリメチロールプロパントリス[3−(1−アジリジニル)ブチレート]、トリメチロールプロパントリス[3−(1−(2−メチル)アジリジニル)プロピオネート]、トリメチロールプロパントリス[3−(1−アジリジニル)−2−メチルプロピオネート]、2,2’−ビスヒドロキシメチルブタノールトリス[3−(1−アジリジニル)プロピオネート]、ペンタエリスリトールテトラ[3−(1−アジリジニル)プロピオネート]、ジフェニルメタン−4,4−ビス−N,N’−エチレンウレア、1,6−ヘキサメチレンビス−N,N’−エチレンウレア、2,4,6−(トリエチレンイミノ)−Syn−トリアジン、ビス[1−(2−エチル)アジリジニル]ベンゼン−1,3−カルボン酸アミド等が挙げられる。   Examples of the aziridine compound include N, N′-diphenylmethane-4,4′-bis (1-aziridinecarboxite), N, N′-toluene-2,4-bis (1-aziridinecarboxite), bisiso Phthaloyl-1- (2-methylaziridine), tri-1-aziridinylphosphine oxide, N, N′-hexamethylene-1,6-bis (1-aziridinecarboxite), trimethylolpropane-tri-β -Aziridinylpropionate, tetramethylolmethane-tri-β-aziridinylpropionate, tris-2,4,6- (1-aziridinyl) -1,3,5-triazine, trimethylolpropane tris [ 3- (1-aziridinyl) propionate], trimethylolpropane tris [3- (1-aziridinyl) butyrate ], Trimethylolpropane tris [3- (1- (2-methyl) aziridinyl) propionate], trimethylolpropane tris [3- (1-aziridinyl) -2-methylpropionate], 2,2′-bishydroxy Methylbutanol tris [3- (1-aziridinyl) propionate], pentaerythritol tetra [3- (1-aziridinyl) propionate], diphenylmethane-4,4-bis-N, N′-ethyleneurea, 1,6-hexamethylene Bis-N, N′-ethylene urea, 2,4,6- (triethyleneimino) -Syn-triazine, bis [1- (2-ethyl) aziridinyl] benzene-1,3-carboxylic acid amide and the like can be mentioned. .

特に、2,2’−ビスヒドロキシメチルブタノールトリス[3−(1−アジリジニル)プロピオネート]は、本発明に使用した場合、熱プレス時のはみ出しを抑制でき、かつ硬化塗膜の柔軟性を保持したまま耐熱性を向上できるため、本発明において好ましく用いられる。   In particular, 2,2′-bishydroxymethylbutanol tris [3- (1-aziridinyl) propionate], when used in the present invention, can suppress protrusion during hot pressing and retain the flexibility of the cured coating film. Since heat resistance can be improved as it is, it is preferably used in the present invention.

[カルボジイミド基含有化合物]
カルボジイミド基含有化合物としては、日清紡績株式会社のカルボジライトシリーズが挙げられる。その中でもカルボジライトV−01、03、05、07、09は有機溶剤との相溶性に優れており好ましい。
[Carbodiimide group-containing compound]
Examples of the carbodiimide group-containing compound include the Carbodilite series of Nisshinbo Industries, Ltd. Among these, Carbodilite V-01, 03, 05, 07, and 09 are preferable because of excellent compatibility with organic solvents.

[ベンゾオキサジン化合物]
ベンゾオキサジン化合物としては、Macromolecules,36,6010(2003)記載の「P−a」、「P−alp」、「P−ala」、「B−ala」、Macromolecules,34,7257(2001)記載の「P−appe」、「B−appe」、四国化成株式会社製「B−a型ベンゾオキサジン」、「F−a型ベンゾオキサジン」、「B−m型ベンゾオキサジン」などが挙げられる。
[Benzoxazine compounds]
As the benzoxazine compound, described in Macromolecules, 36, 6010 (2003), “P-a”, “P-alp”, “P-ala”, “B-ala”, described in Macromolecules, 34, 7257 (2001). “P-appe”, “B-appe”, “Ba type benzoxazine”, “Fa type benzoxazine”, “Bm type benzoxazine” manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd. and the like can be mentioned.

[フェノール樹脂]
フェノール樹脂としては、フェノール、クレゾール類、およびビスフェノール類等の化合物とホルムアルデヒドとの付加化合物、またはその部分縮合物が挙げられる。具体的には、フェノール樹脂、クレゾール樹脂、t−ブチルフェノール樹脂、ジシクロペンタジエンクレゾール樹脂、ジシクロペンタジエンフェノール樹脂、キシリレン変性フェノール樹脂、テトラキスフェノール樹脂、ビスフェノールA樹脂、ポリ−p−ビニルフェノール樹脂のレゾール型樹脂やノボラック型樹脂が挙げられる。その他、ナフトール系化合物、トリスフェノール系化合物、フェノールアラルキル樹脂等が挙げられる。中でも、フェノール樹脂のレゾール型樹脂は、耐熱性および硬化性の面で非常に優れており、本発明において好適に用いることができる。
[Phenolic resin]
Examples of the phenol resin include addition compounds of compounds such as phenol, cresols, and bisphenols with formaldehyde, or partial condensates thereof. Specifically, phenol resin, cresol resin, t-butylphenol resin, dicyclopentadiene cresol resin, dicyclopentadiene phenol resin, xylylene-modified phenol resin, tetrakisphenol resin, bisphenol A resin, poly-p-vinylphenol resin resole Mold resin and novolac resin. Other examples include naphthol compounds, trisphenol compounds, phenol aralkyl resins, and the like. Among them, the resol type resin of phenol resin is very excellent in terms of heat resistance and curability and can be suitably used in the present invention.

[マレイミド化合物]
マレイミド化合物としては、分子中にマレイミド基を少なくとも1個有しているもので、例えば、フェニルマレイミド、1−メチル−2,4−ビスマレイミドベンゼン、N,N’−m−フェニレンビスマレイミド、N,N’−p−フェニレンビスマレイミド、N,N’−4,4−ビフェニレンビスマレイミド、N,N’−4,4−(3,3−ジメチルビフェニレン)ビスマレイミド、N,N’−4,4−(3,3−ジメチルジフェニルメタン)ビスマレイミド、N,N’−4,4−(3,3−ジエチルジフェニルメタン)ビスマレイミド、N,N’−4,4−ジフェニルメタンビスマレイミド、N,N’−4,4−ジフェニルプロパンビスマレイミド、N,N’−4,4−ジフェニルエーテルビスマレイミド、N,N’−4,4−ジフェニルスルフォンビスマレイミド、2,2−ビス[4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[3−s−ブチル−3,4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル]プロパン、1,1−ビス[4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル]デカン、4,4’−シクロヘキシリデン−ビス[1−(4−マレイミドフェノキシ)フェノキシ]−2−シクロヘキシルベンゼン、2,2−ビス[4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパンなどがあり、単独でも2種類以上を混合して使用しても良い。
[Maleimide compound]
The maleimide compound has at least one maleimide group in the molecule. For example, phenylmaleimide, 1-methyl-2,4-bismaleimidebenzene, N, N′-m-phenylenebismaleimide, N , N′-p-phenylene bismaleimide, N, N′-4,4-biphenylene bismaleimide, N, N′-4,4- (3,3-dimethylbiphenylene) bismaleimide, N, N′-4, 4- (3,3-dimethyldiphenylmethane) bismaleimide, N, N′-4,4- (3,3-diethyldiphenylmethane) bismaleimide, N, N′-4,4-diphenylmethane bismaleimide, N, N ′ -4,4-diphenylpropane bismaleimide, N, N'-4,4-diphenyl ether bismaleimide, N, N'-4,4-diphenylsulfone bis Maleimide, 2,2-bis [4- (4-maleimidophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [3-s-butyl-3,4- (4-maleimidophenoxy) phenyl] propane, 1,1- Bis [4- (4-maleimidophenoxy) phenyl] decane, 4,4′-cyclohexylidene-bis [1- (4-maleimidophenoxy) phenoxy] -2-cyclohexylbenzene, 2,2-bis [4- ( 4-maleimidophenoxy) phenyl] hexafluoropropane and the like, and may be used alone or in admixture of two or more.

[カルボン酸ヒドラジド]
カルボン酸ヒドラジドとしては、例えば、コハク酸ヒドラジド、アジピン酸ヒドラジドをはじめとする種々の化合物を挙げることができる。
[Carboxylic acid hydrazide]
Examples of the carboxylic acid hydrazide include various compounds including succinic acid hydrazide and adipic acid hydrazide.

[β−ヒドロキシアルキルアミド基含有化合物]
β−ヒドロキシアルキルアミド基含有化合物としては、例えば、N,N,N’,N’−テトラキス(ヒドロキシエチル)アジパミド(エムスケミー社製Primid XL-552)をはじめとする種々の化合物を挙げることができる。
[Β-Hydroxyalkylamide group-containing compound]
Examples of the β-hydroxyalkylamide group-containing compound include various compounds including N, N, N ′, N′-tetrakis (hydroxyethyl) adipamide (Primid XL-552 manufactured by Ems Chemie). .

[ブロックイソシアネート]
ブロックイソシアネートとしては、イソシアネート基がε−カプロラクタムやMEKオキシム等で保護されたイソシアネート基含有化合物であればよく、特に限定されるものではない。具体的には、上述のジイソシアネート化合物や該ジイソシアネート化合物のトリメチロールプロパンアダクト体、水と反応したビュウレット体、イソシアヌレート環を有する3量体を、ε−カプロラクタムやMEKオキシム、シクロヘキサノンオキシム、ピラゾール、フェノール等でブロックしたものを挙げることができる。
[Block isocyanate]
The blocked isocyanate is not particularly limited as long as it is an isocyanate group-containing compound in which an isocyanate group is protected with ε-caprolactam, MEK oxime, or the like. Specifically, the above-mentioned diisocyanate compound, trimethylolpropane adduct of the diisocyanate compound, a burette reacted with water, and a trimer having an isocyanurate ring are converted into ε-caprolactam, MEK oxime, cyclohexanone oxime, pyrazole, phenol. And the like blocked.

[アミン化合物]
アミン化合物としては、分子中に1級アミノ基、2級アミノ基または3級アミノ基を少なくとも1個有しているものであればよく、具体的には、
トリエチルアミン、トリブチルアミン、ベンジルジメチルアミン、2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、N−メチルピペラジン等の3級アミン類、およびその塩類;
2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、2,4−ジシアノ−6−[2−メチルイミダゾリル−1]−エチル−S−トリアジン、2−エチル−4−メチルイミダゾールテトラフェニルボレート、等のイミダゾール類、およびその塩類;
1,5−ジアザビシクロ[5,4,0]−7−ウンデカン、1,5−ジアザビシクロ[4,3,0]−5−ノネン、1,4−ジアビシクロ[2,2,2,]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7−テトラフェニルボレート等のジアザビシクロ化合物類等が挙げられる。
[Amine compound]
As the amine compound, any compound having at least one primary amino group, secondary amino group or tertiary amino group in the molecule may be used.
Tertiary amines such as triethylamine, tributylamine, benzyldimethylamine, 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, N-methylpiperazine, and salts thereof;
2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 2,4-dicyano-6- [2-methylimidazolyl-1] Imidazoles such as ethyl-S-triazine, 2-ethyl-4-methylimidazole tetraphenylborate, and salts thereof;
1,5-diazabicyclo [5,4,0] -7-undecane, 1,5-diazabicyclo [4,3,0] -5-nonene, 1,4-diabicyclo [2,2,2,] octane, , 8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7-tetraphenylborate and the like.

[ホスフィン化合物]
ホスフィン化合物としては、例えば、トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリス(ジメトキシフェニル)ホスフィン、トリス(ヒドロキシプロピル)ホスフィン、トリス(シアノエチル)ホスフィン等のホスフィン類;
テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、メチルトリブチルホスホニウムテトラフェニルボレート、メチルトリシアノエチルホスホニウムテトラフェニルボレート等のホスホニウム塩類等が挙げられる。
[Phosphine compound]
Examples of the phosphine compound include phosphines such as tributylphosphine, triphenylphosphine, tris (dimethoxyphenyl) phosphine, tris (hydroxypropyl) phosphine, and tris (cyanoethyl) phosphine;
Examples thereof include phosphonium salts such as tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, methyltributylphosphonium tetraphenylborate, and methyltricyanoethylphosphonium tetraphenylborate.

これら熱硬化助剤は、一種類のみを用いてもよく、また、二種類以上を併用してもよい。熱硬化助剤の使用量は、接着剤組成物の硬化物性を考慮して決定すればよく、特に限定されるものではないが、本発明の分子内に少なくとも1個以上の窒素原子を有するエポキシ化合物(A)100重量部に対して、1重量部〜50重量部の範囲内が好ましく、10重量部〜50重量部の範囲内がより好ましい。これにより、本発明の接着剤組成物の硬化速度や架橋密度、凝集力を調節することが可能であり、各種物性をより一層向上させることができる。熱硬化助剤の使用量を10重量部に近くすると、所望とする物性を損なうことなく、分子内に少なくとも1個以上の窒素原子を有するエポキシ化合物(A)とカルボキシル基含有高分子化合物(B)の硬化速度を促進することができ、また、該使用量を50重量部に近くすると、分子内に少なくとも1個以上の窒素原子を有するエポキシ化合物(A)とカルボキシル基含有高分子化合物(B)からなる塗膜の架橋密度をより密にすることができるため、電気絶縁性や耐熱性等を一層向上することができる。   Only one type of these thermosetting aids may be used, or two or more types may be used in combination. The amount of the thermosetting aid used may be determined in consideration of the cured material properties of the adhesive composition, and is not particularly limited, but is an epoxy having at least one nitrogen atom in the molecule of the present invention. The amount is preferably in the range of 1 to 50 parts by weight and more preferably in the range of 10 to 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the compound (A). Thereby, it is possible to adjust the curing rate, the crosslinking density, and the cohesive force of the adhesive composition of the present invention, and various physical properties can be further improved. When the amount of the thermosetting aid used is close to 10 parts by weight, an epoxy compound (A) having at least one nitrogen atom in the molecule and a carboxyl group-containing polymer compound (B) without impairing desired physical properties. ), And when the amount used is close to 50 parts by weight, the epoxy compound (A) having at least one nitrogen atom in the molecule and the carboxyl group-containing polymer compound (B) ), The cross-linking density of the coating film can be made denser, so that the electrical insulation and heat resistance can be further improved.

<その他添加剤>
この他、本発明の接着剤組成物には目的を損なわない範囲で任意成分とて更に溶剤、染料、顔料、酸化防止剤、重合禁止剤、消泡剤、レベリング剤、イオン捕集剤、保湿剤、粘度調整剤、防腐剤、抗菌剤、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、電磁波シールド剤等を添加することができる。
<Other additives>
In addition to the above, the adhesive composition of the present invention further includes optional components as long as the purpose is not impaired. Solvent, dye, pigment, antioxidant, polymerization inhibitor, antifoaming agent, leveling agent, ion scavenger, moisturizing agent An agent, a viscosity modifier, an antiseptic, an antibacterial agent, an antistatic agent, an antiblocking agent, an ultraviolet absorber, an infrared absorber, an electromagnetic shielding agent, and the like can be added.

消泡剤、レベリング剤としては、シリコーン系、炭化水素系、アクリル樹脂系の化合物などが挙げられる。   Examples of the antifoaming agent and leveling agent include silicone-based, hydrocarbon-based, and acrylic resin-based compounds.

イオン捕集剤としては、無機あるいは有機のイオン交換体が好適に用いられる。詳しくは東亜合成株式会社の無機イオン交換体イグゼや三菱化学株式会社のイオン交換樹脂ダイアイオンが用いられるが、イオン捕集能を有するものであればこれらに限定されない。   As the ion scavenger, inorganic or organic ion exchangers are preferably used. Specifically, inorganic ion exchangers Exe from Toa Gosei Co., Ltd. and ion exchange resin diion from Mitsubishi Chemical Corporation are used, but are not limited to these as long as they have ion collection ability.

本発明の接着剤組成物は、上記の分子内に少なくとも1個以上の窒素原子を有するエポキシ化合物(A)とカルボキシル基含有高分子化合物(B)及び必要により上記熱硬化助剤や添加剤等の任意成分を混合することにより得られる。   The adhesive composition of the present invention comprises an epoxy compound (A) having at least one nitrogen atom in the molecule and a carboxyl group-containing polymer compound (B) and, if necessary, the thermosetting aid or additive. It is obtained by mixing arbitrary components.

<接着シート>
本発明の接着剤組成物からなる接着シートは、剥離基材の少なくとも片面に、従来公知の方法、例えば、コンマコート、ナイフコート、ダイコート、リップコート、ロールコート、カーテンコート、バーコート、グラビア印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、ディップコート、スプレーコート、スピンコート等で接着剤組成物を塗布後、通常40〜150℃で乾燥することにより製造される。また、接着剤層の乾燥膜厚は、十分な接着性、ハンダ耐熱性を発揮させる為、また取り扱い易さの点から、5μm〜500μmであることが好ましく、更に好ましくは10μm〜100μmである。
<Adhesive sheet>
The adhesive sheet comprising the adhesive composition of the present invention is prepared on at least one surface of the release substrate by a conventionally known method, for example, comma coating, knife coating, die coating, lip coating, roll coating, curtain coating, bar coating, gravure printing. It is produced by applying an adhesive composition by flexographic printing, screen printing, dip coating, spray coating, spin coating or the like and then drying at 40 to 150 ° C. The dry film thickness of the adhesive layer is preferably 5 μm to 500 μm, more preferably 10 μm to 100 μm from the viewpoint of ease of handling in order to exhibit sufficient adhesion and solder heat resistance.

<接着シート付き絶縁フィルム>
本発明の接着剤組成物からなる接着シート付き絶縁フィルムは、絶縁フィルムの少なくとも片面に、上述の方法で接着剤組成物を塗布後、通常40〜150℃で乾燥することにより製造される。本発明で使用する絶縁フィルムとしては、例えば、ポリイミド、ポリエステル、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアリレート等によるものを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。本発明の接着シート付き絶縁フィルムは、従来技術におけるものと同様のカバーレイフィルムとして使用することができ、この際の接着シート付き絶縁フィルムの膜厚としては、例えば10μm〜500μmの範囲の厚みのものを挙げることができる。なお、接着剤組成物を塗布する絶縁フィルムの表面に対しては、必要に応じ、コロナ放電処理、定温プラズマ処理、物理的表面粗面化等の表面処理を施しても良い。
<Insulating film with adhesive sheet>
The insulating film with an adhesive sheet made of the adhesive composition of the present invention is produced by applying the adhesive composition to at least one surface of the insulating film by the above-described method and then usually drying at 40 to 150 ° C. Examples of the insulating film used in the present invention include, but are not limited to, those made of polyimide, polyester, polyphenylene sulfide, polyether sulfone, polycarbonate, polyether ether ketone, polyarylate, and the like. . The insulating film with an adhesive sheet of the present invention can be used as a coverlay film similar to that in the prior art, and the film thickness of the insulating film with an adhesive sheet at this time is, for example, in the range of 10 μm to 500 μm. Things can be mentioned. The surface of the insulating film to which the adhesive composition is applied may be subjected to surface treatment such as corona discharge treatment, constant temperature plasma treatment, physical surface roughening, etc., if necessary.

<プリント配線板>
次に本発明の接着剤組成物を用いたプリント配線板の製造方法について説明する。ポリエステルやポリイミド等のフレキシブル性、絶縁性のあるプラスチックフィルム上に、導体パターンをプリント技術によって形成したフレキシブルプリント配線板の導体パターンを覆うように本発明の接着剤組成物を重ね、加熱・加圧することによって、接着剤組成物を硬化させ、保護層を設けたフレキシブルプリント配線板を得ることができる。
<Printed wiring board>
Next, the manufacturing method of the printed wiring board using the adhesive composition of this invention is demonstrated. The adhesive composition of the present invention is overlaid on a flexible and insulating plastic film such as polyester or polyimide so as to cover the conductive pattern of the flexible printed wiring board in which the conductive pattern is formed by printing technology, and heated and pressurized. Thus, the adhesive composition can be cured to obtain a flexible printed wiring board provided with a protective layer.

導電性回路を設ける方法としては、例えば、接着剤層を介して又は介さずにベースフィルム上に銅箔を設けてなるフレキシブル銅張板の銅箔上に感光性エッチングレジスト層を形成し、回路パターンを持つマスクフィルムを通して露光させて、露光部のみを硬化させ、次いで未露光部の銅箔をエッチングにより除去した後、残っているレジスト層を剥離するなどして、銅箔から導電性回路を形成することができる。あるいは、ベースフィルム上にスパッタリングやメッキ等の手段で必要な回路のみを設けたものであってもよい。   As a method for providing a conductive circuit, for example, a photosensitive etching resist layer is formed on a copper foil of a flexible copper-clad plate in which a copper foil is provided on a base film with or without an adhesive layer. Expose the conductive circuit from the copper foil by exposing it through a mask film with a pattern, curing only the exposed area, then removing the unexposed area of the copper foil by etching, and then peeling off the remaining resist layer. Can be formed. Alternatively, only a necessary circuit may be provided on the base film by means such as sputtering or plating.

また、複数のフレキシブルプリント配線の間に、本発明の接着剤組成物から剥離性基材を剥がしてなる硬化性接着剤層を挟み、加熱・加圧することによって、接着剤組成物を硬化させ、多層フレキシブルプリント配線板を得ることもできる。さらに、本発明の接着剤組成物を用いて、銅箔と耐熱性絶縁性フレキシブル基材とを積層することもできる。   Moreover, by sandwiching a curable adhesive layer formed by peeling the peelable substrate from the adhesive composition of the present invention between a plurality of flexible printed wirings, the adhesive composition is cured by heating and pressing, A multilayer flexible printed wiring board can also be obtained. Furthermore, copper foil and a heat resistant insulating flexible base material can also be laminated | stacked using the adhesive composition of this invention.

本発明により、従来から求められていた高度なフレキシブル性、接着性、高い電気絶縁性、熱安定性等に加え、とりわけ優れた誘電特性を有する接着剤組成物が得られた。これらは、高周波電気信号が伝播するプリント配線板周りの接着剤およびコーティング剤として、カバーレイフィルム、電磁波シールド用接着剤、プリント配線板用層間電気絶縁材料、光導波路等に好適に用いることができる。   According to the present invention, an adhesive composition having particularly excellent dielectric properties in addition to the high flexibility, adhesiveness, high electrical insulation, thermal stability and the like that have been conventionally required has been obtained. These can be suitably used as coverlay films, electromagnetic wave shielding adhesives, interlayer electrical insulation materials for printed wiring boards, optical waveguides and the like as adhesives and coating agents around printed wiring boards through which high-frequency electrical signals propagate. .

以下、実施例により、本発明をさらに具体的に説明するが、以下の実施例は本発明の権利範囲を何ら制限するものではない。なお、実施例における、「部」および「%」は、それぞれ「重量部」および「重量%」を表し、Mwは重量平均分子量を意味する。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the following examples do not limit the scope of rights of the present invention. In the examples, “parts” and “%” represent “parts by weight” and “% by weight”, respectively, and Mw means a weight average molecular weight.

<重量平均分子量(Mw)の測定>
Mwの測定は東ソ−株式会社製GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィ)「HPC−8020」を用いた。GPCは溶媒(THF;テトラヒドロフラン)に溶解した物質をその分子サイズの差によって分離定量する液体クロマトグラフィ−である。本発明における測定は、カラムに「LF−604」(昭和電工株式会社製:迅速分析用GPCカラム:6mmID×150mmサイズ)を直列に2本接続して用い、流量0.6ml/min、カラム温度40℃の条件で行い、重量平均分子量(Mw)の決定はポリスチレン換算で行った。
<Measurement of weight average molecular weight (Mw)>
For measurement of Mw, GPC (gel permeation chromatography) “HPC-8020” manufactured by Tosoh Corporation was used. GPC is liquid chromatography that separates and quantifies substances dissolved in a solvent (THF; tetrahydrofuran) based on the difference in molecular size. For the measurement in the present invention, “LF-604” (manufactured by Showa Denko KK: GPC column for rapid analysis: 6 mm ID × 150 mm size) is connected in series to the column, the flow rate is 0.6 ml / min, the column temperature. It carried out on the conditions of 40 degreeC, and the determination of the weight average molecular weight (Mw) was performed in polystyrene conversion.

<酸価の測定>
精製物約1gを精秤し、THF100mlに完全に溶解させた後、0.1重量%アルコール性フェノールフタレイン溶液を加え0.1Nアルコール性水酸化カリウム溶液で滴定した。フェノールフタレインの赤変色が30秒間消えなくなったときを滴定の終点とした。酸価は次式により求めた。また、酸価は樹脂の乾燥状態の数値とした(単位:KOHmg/g)。
酸価(KOHmg/g)=(5.611×a×F)/S
ただし、S:サンプル精製物の採取量(g)
a:0.1Nアルコール性水酸化カリウム溶液の消費量(ml)
F:0.1Nアルコール性水酸化カリウム溶液の力価
<Measurement of acid value>
About 1 g of the purified product was precisely weighed and completely dissolved in 100 ml of THF, and then a 0.1 wt% alcoholic phenolphthalein solution was added and titrated with a 0.1 N alcoholic potassium hydroxide solution. The end point of titration was when the red discoloration of phenolphthalein did not disappear for 30 seconds. The acid value was determined by the following formula. Moreover, the acid value was made into the numerical value of the dry state of resin (unit: KOHmg / g).
Acid value (KOHmg / g) = (5.611 × a × F) / S
However, S: Amount of sample purified product (g)
a: Consumption of 0.1N alcoholic potassium hydroxide solution (ml)
F: Potency of 0.1N alcoholic potassium hydroxide solution

[アクリル樹脂の合成例1]
撹拌機、還流冷却管、窒素導入管、導入管、温度計を備えた4口フラスコに、MEK100部を入れ、容器に窒素ガスを注入しながら80℃に加熱して、同温度でアクリル酸2-エチルヘキシル45部、アクリル酸ブチル55部、アクリル酸5部、2,2’-アゾビスイソブチロニトリル4部の混合物を1時間かけて滴下して重合反応を行った。滴下終了後、さらに80℃で3時間反応させた後、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル1部をMEK50部に溶解させたものを添加し、80℃で1時間反応させて、カルボキシル基含有アクリル樹脂溶液を得た。重量平均分子量は3.9万、酸価は37KOHmg/gであった。
[Synthesis Example 1 of Acrylic Resin]
In a four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet tube, inlet tube, and thermometer, 100 parts of MEK was placed and heated to 80 ° C. while injecting nitrogen gas into the container. A mixture of 45 parts of ethylhexyl, 55 parts of butyl acrylate, 5 parts of acrylic acid and 4 parts of 2,2′-azobisisobutyronitrile was added dropwise over 1 hour to carry out the polymerization reaction. After completion of the dropwise addition, the mixture was further reacted at 80 ° C. for 3 hours, and then 1 part of 2,2′-azobisisobutyronitrile dissolved in 50 parts of MEK was added, and the mixture was reacted at 80 ° C. for 1 hour. A group-containing acrylic resin solution was obtained. The weight average molecular weight was 39,000, and the acid value was 37 KOHmg / g.

[アクリル樹脂の合成例2]
撹拌機、還流冷却管、窒素導入管、導入管、温度計を備えた4口フラスコに、MEK100部を入れ、容器に窒素ガスを注入しながら80℃に加熱して、同温度でアクリル酸2-エチルヘキシル20部、アクリル酸エチル78部、アクリル酸2部、2,2’-アゾビスイソブチロニトリル4部の混合物を1時間かけて滴下して重合反応を行った。滴下終了後、さらに80℃で3時間反応させた後、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル1部をMEK50部に溶解させたものを添加し、80℃で1時間反応させて、カルボキシル基含有アクリル樹脂溶液を得た。重量平均分子量は4.2万、酸価は16KOHmg/gであった。
[Synthesis Example 2 of Acrylic Resin]
In a four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet tube, inlet tube, and thermometer, 100 parts of MEK was placed and heated to 80 ° C. while injecting nitrogen gas into the container. A mixture of 20 parts of ethylhexyl, 78 parts of ethyl acrylate, 2 parts of acrylic acid and 4 parts of 2,2′-azobisisobutyronitrile was added dropwise over 1 hour to carry out the polymerization reaction. After completion of the dropwise addition, the mixture was further reacted at 80 ° C. for 3 hours, and then 1 part of 2,2′-azobisisobutyronitrile dissolved in 50 parts of MEK was added, and the mixture was reacted at 80 ° C. for 1 hour. A group-containing acrylic resin solution was obtained. The weight average molecular weight was 42,000, and the acid value was 16 KOHmg / g.

[ウレタン樹脂の合成例1]
撹拌機、還流冷却管、窒素導入管、導入管、温度計を備えた4口フラスコに、アジピン酸と3−メチルー1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオールから得られるMw=2000のポリエステルジオール313部、ジメチロールブタン酸11部、イソホロンジイソシアネート51部、トルエン300部を仕込み、窒素気流下、撹拌しながら60℃まで昇温し、均一に溶解させた。続いて、これに触媒としてジブチル錫ジラウレート0.16部を投入し、100℃で3時間反応させ、カルボキシル基含有ウレタン樹脂溶液を得た。重量平均分子量は20万、酸価は12KOHmg/gであった。
[Synthesis example 1 of urethane resin]
Mw = 2000 obtained from adipic acid and 3-methyl-1,5-pentanediol and 1,6-hexanediol in a four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet tube, inlet tube and thermometer. 313 parts of polyester diol, 11 parts of dimethylolbutanoic acid, 51 parts of isophorone diisocyanate, and 300 parts of toluene were charged, and the temperature was raised to 60 ° C. with stirring in a nitrogen stream to dissolve the mixture uniformly. Subsequently, 0.16 part of dibutyltin dilaurate was added thereto as a catalyst and reacted at 100 ° C. for 3 hours to obtain a carboxyl group-containing urethane resin solution. The weight average molecular weight was 200,000, and the acid value was 12 KOHmg / g.

[ウレタン樹脂の合成例2]
撹拌機、還流冷却管、窒素導入管、導入管、温度計を備えた4口フラスコに、1,4−シクロヘキサンジメタノールベースのポリカーボネートジオール(宇部興産(株)製「ETERNACOLL UC100」〕 96.8部、ジメチロールブタン酸6.87部、イソホロンジイソシアネート41.9部、及びトルエン70.0部を仕込み、窒素雰囲気下90℃で4時間反応させ、これにトルエン250部を加えて、イソシアネート基含有ウレタンプレポリマー溶液を得た。次に、イソホロンジアミン6.26部、ジ−n−ブチルアミン0.61部、2−プロパノール112.5部、及びトルエン184.5部の混合物中に、上記のイソシアネート基含有ウレタンプレポリマー溶液418.99部を添加し、85℃で4時間反応させ、トルエン63.0部、2−プロパノール27.0部で希釈して、カルボキシル基含有ウレタンウレア樹脂溶液を得た。重量平均分子量は11万、酸価は11KOHmg/gであった。
[Synthesis example 2 of urethane resin]
Polycarbonate diol based on 1,4-cyclohexanedimethanol (“ETERRNACOLL UC100” manufactured by Ube Industries, Ltd.) 96.8 is added to a four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet pipe, inlet pipe, and thermometer. Parts, 6.87 parts of dimethylol butanoic acid, 41.9 parts of isophorone diisocyanate, and 70.0 parts of toluene were reacted at 90 ° C. for 4 hours in a nitrogen atmosphere, and 250 parts of toluene was added thereto to contain isocyanate groups. A urethane prepolymer solution was then obtained, and the above isocyanate was then added to a mixture of 6.26 parts isophoronediamine, 0.61 part di-n-butylamine, 112.5 parts 2-propanol, and 184.5 parts toluene. 418.999 parts of a group-containing urethane prepolymer solution was added and reacted at 85 ° C. for 4 hours. .0 parts, was diluted with 2-propanol 27.0 parts, to obtain a carboxyl group-containing urethane urea resin solution. The weight average molecular weight 110,000, acid value was 11KOHmg / g.

[エステル樹脂の合成例1]
撹拌機、還流冷却管、窒素導入管、導入管、温度計を備えた4口フラスコに、1,4−シクロヘキサンジメタノールベースのポリカーボネートジオール(宇部興産(株)製「ETERNACOLL UC100」)106.6部、テトラヒドロ無水フタル酸33.4部、トルエン70部を仕込み、窒素気流下、攪拌しながら110℃に昇温し、3時間反応させた。その後、40℃に冷却後、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(新日鐵化学(株)製「YD−8125」)35.2部、トルエン10部、触媒としてトリフェニルホスフィン1部を添加して110℃に昇温し、8時間反応させた。室温まで冷却後、テトラヒドロ無水フタル酸6.7部、MEK90部を添加し、80℃で3時間反応させ、カルボキシル基含有エステル樹脂溶液を得た。重量平均分子量は3.1万、酸価は20KOHmg/gであった。
[Synthesis Example 1 of Ester Resin]
1,4-cyclohexanedimethanol-based polycarbonate diol ("ETERRNACOLL UC100" manufactured by Ube Industries, Ltd.) 106.6 was added to a 4-neck flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet tube, inlet tube, and thermometer. Part, 33.4 parts of tetrahydrophthalic anhydride and 70 parts of toluene were heated to 110 ° C. with stirring under a nitrogen stream and reacted for 3 hours. Thereafter, after cooling to 40 ° C., 35.2 parts of a bisphenol A type epoxy resin (“YD-8125” manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.), 10 parts of toluene, and 1 part of triphenylphosphine as a catalyst were added to form 110 ° C. The temperature was raised to 8 hours and reacted for 8 hours. After cooling to room temperature, 6.7 parts of tetrahydrophthalic anhydride and 90 parts of MEK were added and reacted at 80 ° C. for 3 hours to obtain a carboxyl group-containing ester resin solution. The weight average molecular weight was 31,000, and the acid value was 20 KOHmg / g.

[エステル樹脂の合成例2]
撹拌機、還流冷却管、窒素導入管、導入管、温度計を備えた4口フラスコに、芳香族系ポリエステルジオール((株)クラレ製「P2020」)203.7部、テトラヒドロ無水フタル酸30.4部、トルエン70部を仕込み、窒素気流下、攪拌しながら110℃に昇温し、3時間反応させた。その後、40℃に冷却後、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(新日鐵化学(株)製「YD−8125」)31.1部、トルエン10部、触媒としてトリフェニルホスフィン1部を添加して110℃に昇温し、8時間反応させた。室温まで冷却後、テトラヒドロ無水フタル酸11.6部、MEK90部を添加し、80℃で3時間反応させ、カルボキシル基含有エステル樹脂溶液を得た。重量平均分子量は3.4万、酸価は24KOHmg/gであった。
[Synthesis Example 2 of Ester Resin]
In a four-necked flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a nitrogen inlet tube, an inlet tube, and a thermometer, 203.7 parts of an aromatic polyester diol (“P2020” manufactured by Kuraray Co., Ltd.), tetrahydrophthalic anhydride 30. 4 parts and 70 parts of toluene were charged, and the temperature was raised to 110 ° C. with stirring under a nitrogen stream, and the reaction was performed for 3 hours. Then, after cooling to 40 ° C., 31.1 parts of bisphenol A type epoxy resin (“YD-8125” manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.), 10 parts of toluene, and 1 part of triphenylphosphine as a catalyst were added to form 110 ° C. The temperature was raised to 8 hours and reacted for 8 hours. After cooling to room temperature, 11.6 parts of tetrahydrophthalic anhydride and 90 parts of MEK were added and reacted at 80 ° C. for 3 hours to obtain a carboxyl group-containing ester resin solution. The weight average molecular weight was 34,000, and the acid value was 24 KOHmg / g.

[フェノキシ樹脂の合成例1]
撹拌機、還流冷却管、窒素導入管、導入管、温度計を備えた4口フラスコに、ビスフェノールA91.3部、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(新日鐵化学(株)製「YD−8125」)80.5部、ポリエチレングリコール型エポキシ樹脂(ナガセケムテックス(株)製「EX830」)82.5部、トルエン130部、触媒としてトリフェニルホスフィン2部、N,N−ジメチルベンジルアミン2部を仕込み、窒素気流下、撹拌しながら110℃に昇温し8時間反応させた。室温まで冷却後、テトラヒドロ無水フタル酸18.1部、MEK150部を添加し、80℃で3時間反応させ、カルボキシル基含有フェノキシ樹脂溶液を得た。重量平均分子量は2.0万、酸価は25KOHmg/gであった。
[Synthesis Example 1 of Phenoxy Resin]
A 4-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet tube, inlet tube, thermometer, bisphenol A 91.3 parts, bisphenol A epoxy resin (“YD-8125” manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) 80.5 parts, 82.5 parts of polyethylene glycol type epoxy resin (“EX830” manufactured by Nagase ChemteX Corporation), 130 parts of toluene, 2 parts of triphenylphosphine as catalyst, and 2 parts of N, N-dimethylbenzylamine are charged. The mixture was heated to 110 ° C. with stirring under a nitrogen stream and reacted for 8 hours. After cooling to room temperature, 18.1 parts of tetrahydrophthalic anhydride and 150 parts of MEK were added and reacted at 80 ° C. for 3 hours to obtain a carboxyl group-containing phenoxy resin solution. The weight average molecular weight was 20,000, and the acid value was 25 KOHmg / g.

[フェノキシ樹脂の合成例2]
撹拌機、還流冷却管、窒素導入管、導入管、温度計を備えた4口フラスコに、ビスフェノールF80.1部、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(新日鐵化学(株)製「YD−8125」)53.7部、ポリエチレングリコール型エポキシ樹脂(ナガセケムテックス(株)製「EX830」)123.8部、トルエン130部、触媒としてトリフェニルホスフィン2部、N,N−ジメチルベンジルアミン2部を仕込み、窒素気流下、撹拌しながら110℃に昇温し8時間反応させた。室温まで冷却後、テトラヒドロ無水フタル酸24.2部、MEK150部を添加し、80℃で3時間反応させ、カルボキシル基含有フェノキシ樹脂溶液を得た。重量平均分子量は2.5万、酸価は32KOHmg/gであった。
[Synthesis Example 2 of Phenoxy Resin]
In a four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet tube, inlet tube, thermometer, bisphenol F 80.1 parts, bisphenol A type epoxy resin (“YD-8125” manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) 53.7 parts, 123.8 parts of polyethylene glycol type epoxy resin (“EX830” manufactured by Nagase ChemteX Corporation), 130 parts of toluene, 2 parts of triphenylphosphine and 2 parts of N, N-dimethylbenzylamine as a catalyst The mixture was heated to 110 ° C. with stirring under a nitrogen stream and reacted for 8 hours. After cooling to room temperature, 24.2 parts of tetrahydrophthalic anhydride and 150 parts of MEK were added and reacted at 80 ° C. for 3 hours to obtain a carboxyl group-containing phenoxy resin solution. The weight average molecular weight was 25,000, and the acid value was 32 KOHmg / g.

[アミド樹脂の合成例1]
撹拌機、還流冷却管、窒素導入管、導入管、温度計を備えた4口フラスコに、ダイマー酸(クローダジャパン(株)製「プリオール1009」)115.7部、ダイマージアミン(クローダジャパン(株)製「プリアミン1074」)9.8部、ノルボルナンジアミン25.2部、イオン交換水100部を仕込み、発熱の温度が一定になるまで撹拌した。温度が安定したら110℃まで昇温し、水の流出を確認してから、30分後に温度を120℃に昇温し、その後、30分毎に10℃ずつ昇温しながら脱水反応を続けた。温度が230℃になったら、そのままの温度で3時間反応を続け、約2kPaの真空下で1時間保持し、温度を低下し、トルエン75部、2−プロパノール75部で希釈して、カルボキシル基含有アミド樹脂を得た。重量平均分子量は2.4万、酸価は15KOHmg/gであった。
[Synthesis Example 1 of Amide Resin]
In a four-necked flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a nitrogen inlet tube, an inlet tube, and a thermometer, 115.7 parts of dimer acid (“Priol 1009” manufactured by Croda Japan Co., Ltd.), Dimeramine (Croda Japan Co., Ltd.) ) "Preamine 1074")) 9.8 parts, norbornanediamine 25.2 parts, and ion-exchanged water 100 parts were charged and stirred until the temperature of the exotherm became constant. When the temperature was stabilized, the temperature was raised to 110 ° C., and after confirming the outflow of water, the temperature was raised to 120 ° C. after 30 minutes, and then the dehydration reaction was continued while raising the temperature by 10 ° C. every 30 minutes. . When the temperature reaches 230 ° C., the reaction is continued for 3 hours at the same temperature, kept under a vacuum of about 2 kPa for 1 hour, the temperature is lowered, diluted with 75 parts of toluene and 75 parts of 2-propanol, A containing amide resin was obtained. The weight average molecular weight was 24,000, and the acid value was 15 KOHmg / g.

[イミド樹脂の合成例1]
撹拌機、還流冷却管、窒素導入管、導入管、温度計を備えた4口フラスコに、セバシン酸20.2部、無水ピロメリット酸21.8部、ダイマージアミン(クローダジャパン(株)製「プリアミン1074」)97.6部を仕込み、発熱の温度が一定になるまで撹拌した。温度が安定したら110℃まで昇温し、水の流出を確認してから、30分後に温度を120℃に昇温し、その後、30分毎に10℃ずつ昇温しながら脱水反応を続けた。温度が230℃になったら、そのままの温度で3時間反応を続け、約2kPaの真空下で1時間保持し、温度を低下し、トルエン75部、2−プロパノール75部で希釈して、カルボキシル基含有イミド樹脂を得た。重量平均分子量は3.5万、酸価は22KOHmg/gであった。
[Imide resin synthesis example 1]
In a four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet tube, inlet tube, and thermometer, 20.2 parts of sebacic acid, 21.8 parts of pyromellitic anhydride, dimeramine (manufactured by Croda Japan Co., Ltd., “ 97.6 parts of preamine 1074 ") were charged and stirred until the temperature of the exotherm was constant. When the temperature was stabilized, the temperature was raised to 110 ° C., and after confirming the outflow of water, the temperature was raised to 120 ° C. after 30 minutes, and then the dehydration reaction was continued while raising the temperature by 10 ° C. every 30 minutes. . When the temperature reaches 230 ° C., the reaction is continued for 3 hours at the same temperature, kept under a vacuum of about 2 kPa for 1 hour, the temperature is lowered, diluted with 75 parts of toluene and 75 parts of 2-propanol, A containing imide resin was obtained. The weight average molecular weight was 35,000 and the acid value was 22 KOHmg / g.

(実施例1)
分子内に少なくとも1個以上の3級窒素原子を有するエポキシ化合物(A)として、jER604(三菱化学(株)製、多官能グリシジルアミン化合物)100部、カルボシキル基含有高分子化合物(B)として、アクリル樹脂の合成例1で得られた樹脂固形分1000部、熱硬化助剤としてケミタイトPZ(日本触媒(株)製、多官能アジリジン化合物)10部を混合し、接着剤組成物を得た。この接着剤組成物を剥離処理されたポリエステルフィルム上に、乾燥後の膜厚が30μmとなるように均一に塗工して乾燥させ、接着剤層を設けた。次に、剥離処理された別のポリエステルフィルムを接着剤層側にラミネートし、両面保護フィルム付きの接着シートを得た。
Example 1
As an epoxy compound (A) having at least one tertiary nitrogen atom in the molecule, 100 parts of jER604 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, polyfunctional glycidylamine compound), a carboxyl group-containing polymer compound (B), 1000 parts of resin solid content obtained in Synthesis Example 1 of acrylic resin and 10 parts of Chemitite PZ (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd., polyfunctional aziridine compound) as a heat curing aid were mixed to obtain an adhesive composition. This adhesive composition was uniformly applied onto a release-treated polyester film so that the film thickness after drying was 30 μm and dried to provide an adhesive layer. Next, another release-treated polyester film was laminated on the adhesive layer side to obtain an adhesive sheet with a double-sided protective film.

(実施例2〜30、比較例1〜10)
実施例1の原料を表1に記載された原料に変更した以外は、実施例1と同様に行い接着シートを作成した。
(Examples 2 to 30, Comparative Examples 1 to 10)
Except having changed the raw material of Example 1 into the raw material described in Table 1, it carried out similarly to Example 1 and created the adhesive sheet.

(実施例31)
分子内に少なくとも1個以上の3級窒素原子を有するエポキシ化合物(A)として、GAN(三菱ガス化学(株)製、二官能グリシジルアミン化合物)100部、カルボシキル基含有高分子化合物(B)として、エステル樹脂の合成例1で得られた樹脂固形分2000部、フィラー(C)として、KTL−500F((株)喜多村製、ポリテトラフルオロエチレン粉末)50部、熱硬化助剤としてEp1031s(三菱化学(株)製、多官能エポキシ化合物)50部を混合し、接着剤組成物を得た。この接着剤組成物を剥離処理されたポリエステルフィルム上に、乾燥後の膜厚が30μmとなるように均一に塗工して乾燥させ、接着剤層を設けた。次に、剥離処理された別のポリエステルフィルムを接着剤層側にラミネートし、両面保護フィルム付きの接着シートを得た。
(Example 31)
As an epoxy compound (A) having at least one tertiary nitrogen atom in the molecule, 100 parts of GAN (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., bifunctional glycidylamine compound), a carboxyl group-containing polymer compound (B) Resin solid content obtained in Synthesis Example 1 of ester resin 2000 parts, Filler (C) as KTL-500F (manufactured by Kitamura Co., Ltd., polytetrafluoroethylene powder), and thermosetting aid Ep1031s (Mitsubishi) 50 parts of Chemical Co., Ltd., polyfunctional epoxy compound) was mixed to obtain an adhesive composition. This adhesive composition was uniformly applied onto a release-treated polyester film so that the film thickness after drying was 30 μm and dried to provide an adhesive layer. Next, another release-treated polyester film was laminated on the adhesive layer side to obtain an adhesive sheet with a double-sided protective film.

(実施例32〜40、比較例11〜15)
実施例31の原料を表1に記載された原料に変更した以外は、実施例31と同様に行い接着シートを作成した。
(Examples 32-40, Comparative Examples 11-15)
Except having changed the raw material of Example 31 into the raw material described in Table 1, it carried out similarly to Example 31 and created the adhesive sheet.

Figure 2014141603
Figure 2014141603

jER604:三菱化学(株)製、多官能グリシジルアミン化合物
jER630:三菱化学(株)製、多官能グリシジルアミン化合物
TETRAD−C:三菱ガス化学(株)製、多官能グリシジルアミン化合物
GAN:日本化薬(株)製、2官能グリシジルアミン化合物
GOT:日本化薬(株)製、2官能グリシジルアミン化合物
KTL−500F:(株)喜多村製、ポリテトラフルオロエチレン粉末
SS50F:東ソーシリカ(株)製、疎水性シリカフィラー
OP935:クラリアントジャパン(株)製、ホスフィン酸アルミニウム化合物
Ep1031s:三菱化学(株)製、多官能芳香族エポキシ化合物
jER806:三菱化学(株)製、ビスフェノールF型エポキシ化合物
ケミタイトPZ:日本触媒(株)製、多官能アジリジン化合物
TD2131:DIC(株)製、フェノールノボラック樹脂
カルボジライトV07:日清紡(株)製、ポリカルボジイミド化合物
jER604: Mitsubishi Chemical Corporation, polyfunctional glycidylamine compound jER630: Mitsubishi Chemical Corporation, polyfunctional glycidylamine compound TETRAD-C: Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., multifunctional glycidylamine compound GAN: Nippon Kayaku Bifunctional glycidylamine compound GOT manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. Bifunctional glycidylamine compound KTL-500F: manufactured by Kitamura Co., Ltd., polytetrafluoroethylene powder SS50F: manufactured by Tosoh Silica Co., Ltd., hydrophobic Silica filler OP935: Clariant Japan Co., Ltd., aluminum phosphinate compound Ep1031s: Mitsubishi Chemical Corporation, polyfunctional aromatic epoxy compound jER806: Mitsubishi Chemical Corporation, bisphenol F type epoxy compound Chemitite PZ: Nippon Shokubai Co., Ltd., polyfunctional aziridine compound D2131: DIC (Ltd.), phenol novolak resin CARBODILITE V07: Nisshinbo Co., polycarbodiimide compound

<評価>
実施例および比較例で得られた接着シートについて、誘電特性、フレキシブル性、接着性、電気絶縁性、熱安定性の指標として半田浴耐性、半田後接着強度を以下の方法で評価した。評価結果を表2、表3に示す。
<Evaluation>
With respect to the adhesive sheets obtained in the examples and comparative examples, the solder bath resistance and post-solder adhesive strength were evaluated by the following methods as indices of dielectric properties, flexibility, adhesion, electrical insulation, and thermal stability. The evaluation results are shown in Tables 2 and 3.

(1)誘電率
実施例及び比較例で作成した両面保護フィルム付き接着シートの片側の保護フィルムを除去し、接着シート同士を真空ラミネートし、厚さ1mmの試験片を作製した後、160℃、1.0MPaの条件で1時間熱硬化させ、評価用試験片を作製した。この試験片について、(株)エー・イー・ティー製誘電率測定装置を用い、同軸共振器法により、測定温度23℃、測定周波数1GHzにおける誘電率および誘電正接を求めた。
◎・・・誘電率が2.8以下である
○・・・誘電率が2.8より大きく3.0以下である
△・・・誘電率が3.0より大きく3.2以下である
×・・・誘電率が3.2より大きい
(1) Dielectric constant After removing the protective film on one side of the adhesive sheet with the double-sided protective film prepared in Examples and Comparative Examples, vacuum-laminating the adhesive sheets to produce a test piece having a thickness of 1 mm, A test piece for evaluation was prepared by thermosetting for 1 hour under the condition of 1.0 MPa. About this test piece, the dielectric constant and dielectric loss tangent in the measurement temperature of 23 degreeC and the measurement frequency of 1 GHz were calculated | required with the coaxial resonator method using the dielectric constant measuring apparatus by AET Co., Ltd.
◎ ・ ・ ・ Dielectric constant is 2.8 or less ○ ・ ・ ・ Dielectric constant is larger than 2.8 and 3.0 or less Δ ・ ・ ・ Dielectric constant is larger than 3.0 and is 3.2 or less × ... Dielectric constant greater than 3.2

(2)誘電正接
◎・・・誘電正接が0.02以下である
○・・・誘電正接が0.02より大きく0.03以下である
△・・・誘電正接が0.03より大きく0.05以下である
×・・・誘電正接が0.05より大きい
(2) Dielectric loss tangent: The dielectric loss tangent is 0.02 or less. O: The dielectric loss tangent is larger than 0.02 and smaller than 0.03. Δ: The dielectric loss tangent is larger than 0.03. Less than 05 × ・ ・ ・ Dielectric loss tangent is larger than 0.05

(3)フレキシブル性
接着剤組成物を、厚さが75μmのポリイミドフィルム[東レ・デュポン(株)製「カプトン300H」]上に、乾燥後の膜厚が30μmになるように均一に塗工して乾燥させ、さらに、この試験片を160℃で1時間熱硬化させ、評価用試験片を作成した。評価用試験片を180度に折り曲げ、同じ部分を逆側にも180度折り曲げた。その時の塗膜の状態を次の基準で判断した。
○・・・膜面にクラック(ひび割れ)が見られない
△・・・膜面にわずかにクラックが見られる
×・・・膜が割れ、膜面にはっきりとクラックが見られる
(3) Flexibility The adhesive composition is uniformly coated on a 75 μm thick polyimide film [“Kapton 300H” manufactured by Toray DuPont Co., Ltd.] so that the film thickness after drying is 30 μm. The test piece was further heat-cured at 160 ° C. for 1 hour to prepare a test piece for evaluation. The test specimen for evaluation was bent 180 degrees, and the same part was bent 180 degrees on the opposite side. The state of the coating film at that time was judged according to the following criteria.
○ ・ ・ ・ No cracks are observed on the film surface △ ・ ・ ・ Slight cracks are observed on the film surface × ・ ・ ・ The film is cracked, and cracks are clearly seen on the film surface

(4)接着性
実施例及び比較例で作成した両面保護フィルム付き接着シートの片側の保護フィルムを除去した、65mm×65mmの大きさの接着シートを、厚さが75μmのポリイミドフィルム[東レ・デュポン(株)製「カプトン300H」]と厚さが45μmの銅張積層板との間に挟み、80℃でラミネートし、続いて160℃、1.0MPaの条件で5分間圧着処理を行った。さらに、この試験片を160℃1時間熱硬化させ、評価用試験片を作製した。この試験片を幅10mm、長さ65mmに切り出し、23℃相対湿度50%の雰囲気下で、引っ張り速度300mm/minでTピール剥離試験を行い、接着強度(N/cm)を測定した。この試験は、常温使用時における接着層の接着強度を評価するものであり、結果を次の基準で判断した。
◎・・・接着力が15(N/cm)以上である
○・・・接着力が10(N/cm)以上15(N/cm)未満である
△・・・接着力が5(N/cm)以上10(N/cm)未満である。
×・・・接着力が5(N/cm)未満である。
(4) Adhesiveness An adhesive sheet having a size of 65 mm × 65 mm, from which the protective film on one side of the adhesive sheet with a double-sided protective film prepared in Examples and Comparative Examples has been removed, is a polyimide film [Toray Dupont with a thickness of 75 μm. It was sandwiched between “Kapton 300H” manufactured by Co., Ltd.] and a copper-clad laminate having a thickness of 45 μm, laminated at 80 ° C., and then subjected to pressure bonding treatment at 160 ° C. and 1.0 MPa for 5 minutes. Further, this test piece was heat-cured at 160 ° C. for 1 hour to prepare an evaluation test piece. This test piece was cut into a width of 10 mm and a length of 65 mm, and a T peel peel test was performed at an elongation rate of 300 mm / min in an atmosphere of 23 ° C. and a relative humidity of 50%, and the adhesive strength (N / cm) was measured. This test evaluates the adhesive strength of the adhesive layer when used at room temperature, and the results were judged according to the following criteria.
◎ ・ ・ ・ Adhesive strength is 15 (N / cm) or more ○ ・ ・ ・ Adhesive strength is 10 (N / cm) or more and less than 15 (N / cm) △ ・ ・ ・ Adhesive strength is 5 (N / cm) cm) or more and less than 10 (N / cm).
X: Adhesive strength is less than 5 (N / cm).

(5)電気絶縁性
実施例及び比較例で作成した両面保護フィルム付き接着シートの片側の保護フィルムを除去した、65mm×65mmの大きさの接着シートを、厚さが25μmのポリイミドフィルム[東レ・デュポン(株)製「カプトン100H」]とポリイミド上に銅回路が形成された櫛型パターン(導体パターン幅/スペース幅=50μm/50μm)印刷回路基板との間に挟み、80℃でラミネートし、続いて160℃、1.0MPaの条件で5分間圧着処理を行った。さらに、この試験片を160℃1時間熱硬化させ、評価用試験片を作製した。この試験片の導体回路に、温度130℃、相対湿度85%の雰囲気下で直流電圧50Vを連続的に100時間加え、100時間後の導体間の絶縁抵抗値を測定した。評価基準は以下の通りである。
◎・・・絶縁抵抗値が108Ω以上である
○・・・絶縁抵抗値107以上108Ω未満である
△・・・絶縁抵抗値106以上107Ω未満である
×・・・絶縁抵抗値106Ω未満である
(5) Electrical insulation The adhesive sheet with a size of 65 mm × 65 mm, from which the protective film on one side of the adhesive sheet with a double-sided protective film prepared in Examples and Comparative Examples was removed, is a polyimide film [Toray “Kapton 100H” manufactured by DuPont Co., Ltd.] and a printed circuit board (copper pattern width / space width = 50 μm / 50 μm) in which a copper circuit is formed on polyimide, and laminated at 80 ° C. Subsequently, pressure bonding was performed for 5 minutes at 160 ° C. and 1.0 MPa. Further, this test piece was heat-cured at 160 ° C. for 1 hour to prepare an evaluation test piece. A DC voltage of 50 V was continuously applied to the conductor circuit of this test piece for 100 hours in an atmosphere of 130 ° C. and 85% relative humidity, and the insulation resistance value between the conductors after 100 hours was measured. The evaluation criteria are as follows.
◎ ・ ・ ・ Insulation resistance value is 10 8 Ω or more ○ ・ ・ ・ Insulation resistance value is 10 7 or more and less than 10 8 Ω △ ・ ・ ・ Insulation resistance value is 10 6 or more and less than 10 7 Ω × ・ ・ ・Insulation resistance value is less than 10 6 Ω

(6)半田浴耐性
上記(4)と同様に、幅10mm、長さ65mmに切り出した試験片を、260℃の溶融半田に、ポリイミドフィルム面を接触させて1分間浮かべた。その後、試験片の外観を目視で観察し、接着剤層の発泡、浮き、剥がれ等の接着異常の有無を評価した。この試験は、半田接触時における接着層の熱安定性を、外観で評価するものであり、耐熱性の良好なものは、半田処理の前後で外観が変化しないのに対して、耐熱性の悪いものは、半田処理後に発泡や剥がれが発生する。これらの評価結果を次の基準で判断した。
◎・・・外観変化無し
○・・・小さな発泡がわずかに観察される
△・・・発泡が観察される
×・・・激しい発泡や剥がれが観察される
(6) Resistance to Solder Bath Similar to the above (4), a test piece cut out to a width of 10 mm and a length of 65 mm was floated for 1 minute by bringing the polyimide film surface into contact with molten solder at 260 ° C. Thereafter, the appearance of the test piece was visually observed, and the presence or absence of adhesion abnormality such as foaming, floating, and peeling of the adhesive layer was evaluated. This test evaluates the thermal stability of the adhesive layer at the time of solder contact with the appearance. Those with good heat resistance have poor heat resistance, whereas the appearance does not change before and after soldering. Things are subject to foaming and peeling after soldering. These evaluation results were judged according to the following criteria.
◎ ・ ・ ・ No change in appearance ○ ・ ・ ・ Slight foaming is observed △ ・ ・ ・ Foaming is observed × ・ ・ ・ Strong foaming or peeling is observed

(7)半田後接着性
上記(6)の半田浴耐性評価後の試験片について、上記(4)と同様の方法で接着強度を測定し、半田処理前の接着強度と半田処理後の接着強度とを比較した。この試験は、半田接触時における接着層の熱安定性を、半田処理前後における接着強度の変化で評価するものであり、耐熱性の良好なものは、半田処理の前後で接着強度が変化しないのに対して、耐熱性の悪いものは、半田処理後に接着強度が著しく低下する。これらの評価結果を次の基準で判断した。
◎・・・接着強度が全く変化しない
○・・・接着強度がほとんど変化しない
△・・・接着強度がやや低下した
×・・・接着強度が著しく低下した
(7) Adhesiveness after soldering For the test piece after the evaluation of solder bath resistance in (6) above, the adhesive strength was measured by the same method as in (4) above, and the adhesive strength before soldering and the adhesive strength after soldering. And compared. This test is to evaluate the thermal stability of the adhesive layer at the time of solder contact by the change in the adhesive strength before and after the soldering treatment, and the one having good heat resistance does not change the adhesive strength before and after the soldering treatment. On the other hand, those having poor heat resistance have a marked decrease in adhesive strength after soldering. These evaluation results were judged according to the following criteria.
◎ ・ ・ ・ Adhesive strength does not change at all ○ ・ ・ ・ Adhesive strength hardly changes △ ・ ・ ・ Adhesive strength slightly decreases × ・ ・ ・ Adhesive strength decreases remarkably

(8)難燃性
実施例31−40で作成した両面保護フィルム付き接着シートの片側の保護フィルムを除去した、65mm×65mmの大きさの接着シートを、厚さが12.5μmのポリイミドフィルム[東レ・デュポン(株)製「カプトン50H」]に150℃、1MPa、30minの条件で圧着し難燃性試験用試料を得た。UL94規格V−0、VTM−0グレードを達成できるか否かにより難燃性を評価した。
◎:UL94規格V−0グレードを達成できる。
○:UL94規格VTM−0グレードを達成できる。
×:UL94規格VTM−0グレードを達成できない。
(8) Flame Retardant A 65 mm × 65 mm adhesive sheet obtained by removing the protective film on one side of the double-sided protective film-attached adhesive sheet prepared in Examples 31-40, and a polyimide film having a thickness of 12.5 μm [ A sample for flame retardancy test was obtained by pressure bonding to “Kapton 50H” manufactured by Toray DuPont Co., Ltd. under the conditions of 150 ° C., 1 MPa, and 30 min. Flame retardancy was evaluated based on whether UL94 standard V-0 and VTM-0 grades could be achieved.
A: UL94 standard V-0 grade can be achieved.
A: UL94 standard VTM-0 grade can be achieved.
X: UL94 standard VTM-0 grade cannot be achieved.

Figure 2014141603
Figure 2014141603

Figure 2014141603
Figure 2014141603

表2、3について、実施例と比較例をみてわかるとおり、比較例1〜10は、分子内に少なくとも1個以上の3級窒素原子を有するエポキシ化合物(A)を使用していないため、誘電率、誘電正接が著しく悪化した。一方、実施例1〜30では、分子内に少なくとも1個以上の3級窒素原子を有するエポキシ化合物(A)を使用したために、プリント配線板に用いられる接着剤およびコーティング剤において従来から求められていたフレキシブル性、接着性、高い電気絶縁性、熱安定性を損なうことなく、誘電特性を改善することができ、高周波電気信号が伝播するプリント配線板周りの接着剤およびコーティング剤に求められる全ての物性においてバランスよく良好な結果が得られた。これらは、3級窒素原子を有するエポキシ化合物特有の性質である高い反応性により、所定の硬化条件での反応率を高くすることができ、硬化物の架橋密度が向上し、高い弾性率を得ることができるため、結果として誘電特性を左右する吸水率を抑えることができたことが大きく影響していると考えられる。また、窒素原子は様々な配位形態をとることが可能であることから、金属と有機化合物間の接着を強くサポートしていると推察され、銅をはじめとする金属接着性という観点で優れた効果を発揮し、電気絶縁性や半田後接着性において良好な結果を示したと考えられる。
また、実施例31〜40はフィラー(C)を加えることにより、電気絶縁性や耐熱性を向上することができ、さらには難燃性試験において安定的に良好な結果を得ることができた。
As can be seen from Examples and Comparative Examples in Tables 2 and 3, Comparative Examples 1 to 10 do not use an epoxy compound (A) having at least one tertiary nitrogen atom in the molecule, The rate and dielectric loss tangent deteriorated significantly. On the other hand, in Examples 1-30, since the epoxy compound (A) which has at least 1 or more tertiary nitrogen atom in a molecule | numerator was used, it is calculated | required conventionally in the adhesive agent and coating agent which are used for a printed wiring board. All of the required adhesives and coatings around printed circuit boards that can improve the dielectric properties without sacrificing flexibility, adhesion, high electrical insulation, and thermal stability. Good results with a good balance in physical properties were obtained. These have high reactivity, which is a characteristic characteristic of an epoxy compound having a tertiary nitrogen atom, so that the reaction rate under a predetermined curing condition can be increased, the crosslinking density of the cured product is improved, and a high elastic modulus is obtained. Therefore, it can be considered that the result is that the water absorption rate that affects the dielectric characteristics can be suppressed. In addition, since nitrogen atoms can take various coordination forms, it is presumed that they strongly support adhesion between metals and organic compounds, and are excellent in terms of metal adhesion including copper. It is considered that the effect was exhibited and good results were shown in electrical insulation and post-solder adhesion.
In addition, Examples 31 to 40 were able to improve electrical insulation and heat resistance by adding the filler (C), and furthermore, good results were stably obtained in the flame retardancy test.

Claims (8)

分子内に少なくとも1個以上の3級窒素原子を有するエポキシ化合物(A)と、カルボシキル基含有高分子化合物(B)とを含有することを特徴とする接着剤組成物。   An adhesive composition comprising an epoxy compound (A) having at least one tertiary nitrogen atom in the molecule and a carboxyl group-containing polymer compound (B). カルボキシル基含有高分子化合物(B)が、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、エステル樹脂、フェノキシ樹脂、アミド樹脂、イミド樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種の樹脂であることを特徴とする請求項1記載の接着剤組成物。   2. The carboxyl group-containing polymer compound (B) is at least one resin selected from the group consisting of acrylic resins, urethane resins, ester resins, phenoxy resins, amide resins, and imide resins. Adhesive composition. カルボキシル基含有高分子化合物(B)の酸価が、1〜100KOHmg/gであることを特徴とする請求項1または2記載の接着剤組成物。   The adhesive composition according to claim 1 or 2, wherein the carboxyl group-containing polymer compound (B) has an acid value of 1 to 100 KOHmg / g. カルボキシル基含有高分子化合物(B)の重量平均分子量が、5000〜500000であることを特徴とする請求項1〜3いずれか記載の接着剤組成物。   The weight average molecular weight of a carboxyl group-containing high molecular compound (B) is 5000-500000, The adhesive composition in any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned. フィラー(C)を含有することを特徴とする請求項1〜4いずれか記載の接着剤組成物。   Filler (C) is contained, The adhesive composition in any one of Claims 1-4 characterized by the above-mentioned. 請求項1〜5いずれか記載の接着剤組成物を加熱により硬化させて得られる、周波数が1GHzで、誘電率が3.0以下、誘電正接が0.03以下である硬化物。   A cured product obtained by curing the adhesive composition according to any one of claims 1 to 5 by heating, having a frequency of 1 GHz, a dielectric constant of 3.0 or less, and a dielectric loss tangent of 0.03 or less. 請求項6に記載の硬化物からなる層を有することを特徴とする接着剤シート。   An adhesive sheet comprising a layer made of the cured product according to claim 6. 請求項6に記載の硬化物からなる層を有することを特徴とするプリント配線板。   A printed wiring board comprising a layer made of the cured product according to claim 6.
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