JP6502909B2 - リフロー装置 - Google Patents

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Description

本発明は、リフロー装置に関し、特に、電子部品間の熱容量の相違によるはんだ付けの不良を防止するようにしたものである。
電子部品又はプリント回路基板に対して、予めはんだ組成物を供給しておき、リフロー炉の中にプリント回路基板を搬送コンベヤで搬送するリフロー装置が使用されている。リフロー装置は、被加熱物を搬送する搬送コンベヤと、この搬送コンベヤによって被加熱物が供給されるリフロー炉本体とを備えている。リフロー炉は、例えば、搬入口から搬出口に至る搬送経路に沿って、複数のゾーンに分割されており、これらの複数のゾーンがインライン状に配列されている。複数のゾーンは、その機能によって、加熱ゾーン、冷却ゾーンなどの役割を有する。
加熱ゾーンにおいて、プリント回路基板に対して熱風を吹き付けることによってはんだ付けがなされる。同一のプリント回路基板上に実装されている複数の電子部品の熱容量は一定ではない。QFP(Quad Flat Package)、BGA(Ball Grid Array)等の大型部品は、熱容量が大きく、アルミ電解コンデンサ等の小型部品は、熱容量が小さい。これらの電子部品が混合して実装されている場合には、リフロー工程において、熱容量が小さい電子部品の温度上昇と熱容量が大きい電子部品の温度上昇の間に差が生じる。熱容量が小さい電子部品に熱風の温度を合わせると、熱容量が大きな電子部品の加熱が不十分となり、はんだ付けの不良が発生するおそれがあった。逆に、熱容量の大きい電子部品に熱風の温度を合わせると、熱容量の小さい電子部品の損傷が発生するおそれがあった。
かかる温度差を少なくするリフロー装置が特許文献1に記載されている。特許文献1では、複数のパイプノズルから回路基板へ熱風を吹き出すことで、回路基板平面上に複数の熱風吹き付け点を分散させると共に、吹き付けられた熱風が回路基板から跳ね返った後、配列されたパイプノズル同士間の空間により形成される流路を通して熱風を炉体内に循環させる構成としている。
特許第4043694号公報
特許文献1に記載されているリフロー装置は、被加熱物としてのプリント回路基板上で熱風の温度の均一化を図るもので、電子部品間の熱容量の相違による温度差を解消するには不十分であった。
したがって、本発明の目的は、被加熱物上に熱容量の相違する電子部品が混合して実装されている場合でも、はんだ付けの不良や電子部品の損傷を防止することができるリフロー装置を提供することにある。
本発明は、被加熱物に対してはんだ付けを行う炉体を有する加熱ゾーンと、はんだ付けがされた被加熱物を冷却する冷却ゾーンを有し、加熱ゾーン及び冷却ゾーンを搬送装置によって被加熱物を通過させるリフロー装置において、
加熱ゾーンは、
送風機と、
送風機により形成される気体流路中に配置される第1のヒーターと、
複数の小孔を有し、第1のヒーターにより形成される熱風を小孔を通じて被加熱物に吹き付ける加熱パネルと、
熱風の流路中に被加熱物の搬送方向と平行及び/又は直交して配置された複数の第2のヒーターとを備え、
複数の第2のヒーターは、第1のヒーターと加熱パネルの間に配置され、且つ、加熱パネルの被加熱物に対向しない面に接触しており、
熱容量の大きな電子部品が被加熱物に実装されている場合に、複数の第2のヒーターの中で、熱容量の大きな電子部品に対する熱風の温度を高くするように、熱容量の大きな電子部品の実装位置に対応する第2のヒーターをONとするようにしたリフロー装置である。
少なくとも一つの実施形態によれば、熱容量が大きな電子部品に対しては、第1のヒーターによって形成された熱風を第2のヒーターによって追加加熱して当該電子部品に吹き付けるので、被加熱物の熱容量の相違による問題の発生を低減できる。なお、ここに記載された効果は必ずしも限定されるものではなく、本開示中に記載されたいずれの効果であってもよい。また、以下の説明における例示された効果により本開示の内容が限定して解釈されるものではない。
本発明を適用できる従来のリフロー装置の概略を示す略線図である。 リフロー時の温度プロファイルの例を示すグラフである。 リフロー装置の一つの加熱ゾーンの構成の一例を示す断面図である。 リフロー装置の一つの加熱ゾーンの構成の一例を示す断面図である。 本発明の一実施の形態の説明に用いるリフロー装置の断面を示す断面図である。 本発明の一実施の形態の説明に用いるリフロー装置の断面を示す断面図である。 本発明の一実施の形態の一部の拡大図である。 本発明の一実施の形態の一部の拡大図である。 本発明の一実施の形態の一部の拡大図である。
以下、本発明を実施の形態について説明する。なお、説明は、以下の順序で行う。
<1.リフロー装置の一例>
<2.一実施の形態>
<3.変形例>
なお、以下に説明する一実施の形態は、本発明の好適な具体例であり、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の範囲は、以下の説明において、特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの実施の形態に限定されないものとする。
<1.リフロー装置の一例>
図1は、本発明を適用できる従来のリフロー装置の概略的構成を示す。図1では、説明の便宜上リフロー炉外に配置されるフラックス回収装置の図示が省略されている。プリント回路基板の両面に表面実装用電子部品が搭載された被加熱物が搬送コンベヤの上に置かれ、搬入口11からリフロー装置の炉体内に搬入される。搬送コンベヤが所定速度で矢印方向(図1に向かって左から右方向)へ被加熱物を搬送し、被加熱物が搬出口12から取り出される。搬送コンベアの搬送方向が水平方向とされている。
搬入口11から搬出口12に至る搬送経路に沿って、リフロー炉が例えば9個のゾーンZ1からZ9に順次分割され、これらのゾーンZ1〜Z9がインライン状に配列されている。入口側から7個のゾーンZ1〜Z7が加熱ゾーンであり、出口側の2個のゾーンZ8及びZ9が冷却ゾーンである。冷却ゾーンZ8及びZ9に関連して強制冷却ユニット14が設けられている。
上述した複数のゾーンZ1〜Z9がリフロー時の温度プロファイルにしたがって被加熱物の温度を制御する。図2に温度プロファイルの一例の概略を示す。横軸が時間であり、縦軸が被加熱物例えば電子部品が実装されたプリント回路基板の表面温度である。加熱のための熱風の温度は、より高いものとされる。最初の区間が加熱によって温度が上昇する昇温部R1であり、次の区間が温度がほぼ一定のプリヒート(予熱)部R2であり、次の区間が本加熱部R3であり、最後の区間が冷却部R4である。
昇温部R1は、常温からプリヒート部R2(例えば150°C〜170°C)まで基板を加熱する期間である。プリヒート部R2は、等温加熱を行い、フラックスを活性化し、電極、はんだ粉の表面の酸化膜を除去し、また、プリント回路基板の加熱ムラをなくすための期間である。本加熱部R3(例えばピーク温度で220°C〜240°C)は、はんだが溶融し、接合が完成する期間である。本加熱部R3では、はんだの溶融温度を超える温度まで昇温が必要とされる。本加熱部R3は、プリヒート部R2を経過していても、温度上昇のムラが存在するので、はんだの溶融温度を超える温度までの加熱が必要とされる。最後の冷却部R4は、急速にプリント回路基板を冷却し、はんだ組成を形成する期間である。
図2において、曲線1は、鉛フリーはんだの温度プロファイルを示す。Sn−Pb共晶はんだの場合の温度プロファイルは、曲線2で示すものとなる。鉛フリーはんだの融点は、共晶はんだの融点より高いので、プリヒート部R2における設定温度が共晶はんだに比して高いものとされている。また、プリント回路基板の表面温度よりも高い温度に熱風の温度が設定される。例えば熱風の温度が300℃〜350℃に設定される。
リフロー装置では、図2における昇温部R1の温度制御を、主として加熱ゾーンZ1及びZ2が受け持つ。プリヒート部R2の温度制御は、主として加熱ゾーンZ3、Z4及びZ5が受け持つ。本加熱部R3の温度制御は、加熱ゾーンZ6及びZ7が受け持つ。冷却部R4の温度制御は、冷却ゾーンZ8及びゾーンZ9が受け持つ。
加熱ゾーンZ1〜Z7のそれぞれは、それぞれ送風機を含む上部炉体15及び下部炉体35を有する。例えばゾーンZ1の上部炉体15及び下部炉体35から搬送される被加熱物Wに対して熱風が吹きつけられる。
図3を参照して加熱ゾーン(加熱装置)の一例について説明する。例えばZ1〜Z7の何れかの加熱ゾーンを搬送方向と平行な面で切断した場合の断面が図3に示されており、搬送方向に対して直交する面で切断した場合の断面が図4に示されている。上部炉体15と下部炉体35との対向間隙内で、プリント回路基板の片面又は両面に表面実装用電子部品が搭載された被加熱物(ワークとも称される)Wが搬送コンベア41上に置かれて搬送される。上部炉体15内及び下部炉体35内は、雰囲気ガスである例えば窒素(N2)ガスが充満している。上部炉体15及び下部炉体35は、被加熱物Wに対して熱風(熱せられた雰囲気ガス)を噴出して被加熱物Wを加熱する。なお、熱風と共に赤外線を照射しても良い。
上部炉体15は、例えばターボファンの構成の送風機16(モータ及び回転羽根からなる)と、送風機16からの風を分散させて炉体内の温度分布の均一化を図るために設けられた整流機構17と、ヒーター線を複数回折り返して構成したヒーター18を有する。整流機構17は、多数の小孔が均等間隔で穿設されたパンチング板などで構成される。
さらに、ヒーター18により形成された熱風が通過する多数の小孔例えば噴射ノズル19が平板状の支持板20から被加熱物Wに対して突出されてなる加熱パネル21を有し、加熱パネル21の噴射ノズル19を通過した熱風が被加熱物Wに対して上側から吹きつけられる。加熱パネル21の支持板20及び噴射ノズル19は、アルミニウム、亜鉛またはマグネシウムなどを材料とするダイカスト法を含む鋳造法、または絞り加工法により一体に成形されている。
加熱パネル21の支持板20と所定の間隙を介して平行に回収板22が配置されている。回収板22は、加熱パネル21が被加熱物Wに吹き付けた熱風の戻り気体を回収するための孔又はスリットを有する。
噴射ノズル19から噴出され回収板22によって回収された被加熱物加熱後の熱風は、加熱パネル21の支持板20及び回収板22の対向間隙を通り、さらに回収通路を通って送風機16の中心部の吸い込み口から吸い込まれ、下方に吹き出される。吹き出された気体がヒーター18により加熱される。
下部炉体35も上述した上部炉体15と同様の構成を有する。すなわち、例えばターボファンの構成の送風機26と、送風機26からの風を分散させて炉体内の温度分布の均一化を図るために対向して配置された整流機構27と、ヒーター線を複数回折り返して構成したヒーター28とを有する。
さらに、ヒーター28により形成された熱風が通過する多数の小孔例えば噴射ノズル29が平板状の支持板30から被加熱物Wに対して突出されてなる加熱パネル31を有する。加熱パネル31の噴射ノズル29を通過した熱風が被加熱物Wに対して下側から吹きつけられる。支持板30に対して碁盤状又は五の目格子状に複数の噴射ノズル29が形成されている。
加熱パネル31の支持板30と所定の間隙を介して平行に回収板32が配置されている。回収板32は、加熱パネル31が被加熱物Wに吹き付けた熱風の戻り気体を回収するための孔又はスリットを有する。
噴射ノズル29から噴出され回収板32によって回収された被加熱物加熱後の熱風は、加熱パネル31の支持板30及び回収板32の間隙を通り、さらに回収通路を通って送風機26の中心部の吸い込み口から吸い込まれ、上方に吹き出される。吹き出された気体がヒーター28により加熱される。
冷却ゾーンZ8、Z9は、加熱ゾーンと異なり、ヒーター18及び28を有しない構成とされ、上下に設けられている送風機によって冷却用気体(N2ガス等の不活性ガス又は大気)が冷却パネルを介して被加熱物Wに吹きつけられる構成とされている。冷却パネルは、アルミニウム等の金属板に多数の小孔が形成されたものである。
かかるリフロー装置において、BGA等の熱容量が大きな電子部品と、アルミ電解コンデンサのような熱容量が小さな電子部品が混合して実装されている被加熱物Wの場合には、リフロー工程(予熱工程及び本加熱工程)において良好なはんだ付けがされなかったり、電子部品が損傷するおそれがある。本発明は、かかるリフロー工程時に生じる温度差をなるべく小さくするものである。
<2.一実施の形態>
図5及び図6を参照して本発明の一実施の形態について説明する。一実施の形態は、図3及び図4に示すようなリフロー装置に対して本発明を適用したものである。したがって、図5及び図6において、図3及び図4と対応する部分には同一の参照符号を付すことにする。
送風機16により形成された気体は、その周辺から下方に吹き出され、整流機構17を介して加熱パネル21に吹き付けられる。加熱パネル21の噴射ノズル19を通じて被加熱物Wに対して吹き付けられる。この気体の流路中に第1のヒーターとしてのヒーター18が設けられ、ヒーター18によって気体が加熱され、熱風が形成される。被加熱物Wにおいて反射した戻り気体が回収板22の孔又はスリットを通じて送風機16の中心部に吸い込まれる。
図7A及び図7Bに拡大して示すように、ヒーター18により加熱された熱風の流路中例えば加熱パネル21の支持板20の被加熱物Wと対向しない面に接触して第2のヒーターとしてのヒーターHaが設けられる。図7Aは、図6と同様に被加熱物Wの搬送方向と直交する面で切断した断面の拡大図であり、図7Bは、図7Aの上から加熱パネル21及びヒーターHaを見た拡大平面図である。加熱物Wの搬送方向を図7Bにおいて矢印で示す。ヒーターHaは、棒状のもので、その延長方向が被加熱物Wの搬送方向と平行するように複数本のヒーターHaが配置されている。ヒーターHaとしては、シーズヒーター、セラミックヒーター、石英管ヒーター等の種々のものを使用できる。
図7Cに噴射ノズルの一つを拡大して示し、図7DがヒーターHaの一つを拡大して示す。図7Cに示すように、噴射ノズル19の少なくとも一つの噴出孔に、ヒーターHaの温度を検出するために熱電対などの温度検出センサー23が熱風の流通を妨げないように挿入されている。温度検出センサー23は、図7Dに示すように、ヒーターHaの少なくとも一つの表面に取り付けてもよい。
さらに、図8は、ヒーターHaの配置の変形例を説明するための拡大平面図であり、被加熱物Wの搬送方向を矢印で示す。図8Aに示すように、ヒーターHaは、被加熱物Wの搬送方向と直交するように設けるようにしてもよい。さらに、図8Bに示すように、搬送方向と平行する方向に配置されたヒーターHa1と、搬送方向と直交する方向に配置されたヒーターHa2を設けるようにしてもよい。
上述した上部炉体15のヒーターHaと同様に、下部炉体35においても、第2のヒーターとしてのヒーターHbが設けられている。第1のヒーター28により加熱されることで形成された熱風の流路中にヒーターHbが配置される。例えば加熱パネル21の支持板30と接触してヒーターHbが設けられている。なお、ヒーターHa及びHbは、長手方向を複数に分割して、分割部分を独立してON/OFF可能としてもよい。
ヒーターHa及びHbのそれぞれは、被加熱物Wに実装される電子部品の熱容量と関連して独立にON/OFF可能となされている。この場合、熱容量が大きい電子部品に対する熱風の温度を高くするように、ヒーターHa及びHbがONとされる。リフロー処理の対象とする被加熱物Wの大きさ、搭載される部品、その配置等の情報は、例えば基板のガーバーデータ等をもとに予め作成しておき、その情報に基づいて本発明のリフロー装置の例えば制御部によってヒーターHa及びHbのON/OFFが制御される。例えば高熱容量部品であるBGAが配置されている被加熱物Wのライン上近傍のヒーターのみを所定の温度に設定の上ONさせるといったヒーターHa及びHbのON/OFF制御がされる。
例えば図9に拡大して示すように、被加熱物Wが熱容量の大きな電子部品(BGA等)P1,P2と、熱容量が小さな電子部品(アルミ電解コンデンサ等)Q1,Q2の両者が実装されている場合、図9において円で囲んだヒーターHa及びHbが選択的にONとされる。この結果、細線の温度プロファイルで示すように、電子部品P1及びP2に対しての加熱温度は、熱風の温度(例えば200℃)がヒーターHaの追加加熱によって、例えば230℃となる。一方、電子部品Q1及びQ2に対する加熱は、ヒーターHaがOFFであるため、追加加熱がなされず200℃の熱風による加熱となる。電子部品P1及びP2の熱容量が大きいので、このように加熱の温度をより高くした結果、電子部品P1及びP2の表面温度と電子部品Q1及びQ2の表面温度がほぼ等しくなり、熱容量の違いによる温度差を少ないものとできる。
被加熱物Wは、搬送コンベア41によって搬送されるので、静止しているわけではない。したがって、搬送中の被加熱物Wの電子部品のそれぞれに対して適切な加熱温度となるように、ヒーターHa及びHbがON/OFFされる。但し、被加熱物Wの搬送速度を変化させたり、被加熱物Wの搬送を停止した状態で加熱処理を行うことも可能である。
<2.変形例>
以上、本開示の実施の形態について具体的に説明したが、上述の各実施の形態に限定されるものではなく、本開示の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。例えばヒーターHa及びHbを複数の噴射ノズル毎に一つ配置するようにしてもよい。さらに、上側炉体と下側炉体の一方のみを有する構成としてもよい。さらに、複数の加熱ゾーンの全てに第2のヒーターを設けてもよいし、その一部の加熱ゾーンに第2のヒーターを設けてもよい。また、上述の実施の形態において挙げた構成、方法、工程、形状、材料及び数値などはあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる構成、方法、工程、形状、材料及び数値などを用いてもよい。また、上述の実施の形態の構成、方法、工程、形状、材料及び数値などは、本開示の主旨を逸脱しない限り、互いに組み合わせることが可能である。
11・・・搬入口
12・・・搬出口
14・・・強制冷却ユニット
15・・・上部炉体
16,26・・・送風機
18,28・・・第1のヒーター
19,29・・・噴射ノズル
20,30・・・支持板
35・・・下部炉体
41・・・搬送コンベヤ
Ha,Hb・・・第2のヒーター

Claims (6)

  1. 被加熱物に対してはんだ付けを行う炉体を有する加熱ゾーンと、前記はんだ付けがされた被加熱物を冷却する冷却ゾーンを有し、前記加熱ゾーン及び冷却ゾーンを搬送装置によって前記被加熱物を通過させるリフロー装置において、
    前記加熱ゾーンは、
    送風機と、
    前記送風機により形成される気体流路中に配置される第1のヒーターと、
    複数の小孔を有し、前記第1のヒーターにより形成される熱風を前記小孔を通じて被加熱物に吹き付ける加熱パネルと、
    前記熱風の流路中に被加熱物の搬送方向と平行及び/又は直交して配置された複数の第2のヒーターとを備え、
    複数の前記第2のヒーターは、前記第1のヒーターと前記加熱パネルの間に配置され、且つ、前記加熱パネルの前記被加熱物に対向しない面に接触しており、
    熱容量の大きな電子部品が前記被加熱物に実装されている場合に、複数の前記第2のヒーターの中で、前記熱容量の大きな電子部品に対する熱風の温度を高くするように、前記熱容量の大きな電子部品の実装位置に対応する前記第2のヒーターをONとするようにしたリフロー装置。
  2. 前記加熱パネルは、平板状の支持板と、前記支持板から前記被加熱物の側に対して突出する複数の噴射ノズルを有する請求項1に記載のリフロー装置。
  3. 前記加熱パネルが被加熱物に吹き付けた熱風の戻り気体を通過させる孔又はスリットを有する請求項1又は2に記載のリフロー装置。
  4. 前記加熱パネルに温度検出センサーを設けた請求項1乃至の何れかに記載のリフロー装置。
  5. 前記第2のヒーターに温度検出センサーを設けた請求項1乃至の何れかに記載のリフロー装置。
  6. 前記第2のヒーターが棒状である請求項1乃至の何れかに記載のリフロー装置。
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