JP6497293B2 - 端子用金属板、端子及び端子対 - Google Patents
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Description
上記めっき被膜は、
上記母材上に積層された中間Ag(銀)層と、
該中間Ag層上に積層され、最表面に露出しているAg−Sn(銀−スズ)合金層とを有しており、
上記中間Ag層の厚みは上記Ag−Sn合金層の厚みよりも薄い、端子用金属板にある。
該端子は、相手端子に当接する突起状接点部を有しており、
少なくとも上記突起状接点部に上記めっき被膜が配置されている、端子にある。
上記相手端子は、上記端子の上記接点部に当接する平板状接点部を有しており、
該平板状接点部は、最表面に露出している表面Ag層を有している、端子対にある。
上記金属板及び該金属板から構成されている上記端子の実施例を、図を用いて説明する。本例の金属板1は、母材11と、母材11の全面を覆うめっき被膜12とを有している。図2に示すように、めっき被膜12は、母材11上に積層された中間Ag層121と、中間Ag層121上に積層され、最表面に露出しているAg−Sn合金層122とを有している。
本例は、端子2と、端子2と嵌合する相手端子3とからなる端子対の例である。端子対のうち一方の端子がめっき被膜12を有する端子2である場合、図3及び図4に示すように、相手端子3は、突起状接点部21に当接する平板状接点部31を有していることが好ましい。
本例は、母材上の金属層の構成を種々変更した金属板について、曲げ加工性を評価した例である。本例においては、以下に示す4種の金属板(供試材1〜4)を準備した。
母材として、厚さ0.25mmの銅合金板を準備し、脱脂洗浄を行った。次いで、母材上に膜厚2μmのAgめっき膜及び膜厚1μmのSnめっき膜を順次積層した。その後、加熱温度300℃、加熱時間60秒の条件で母材を加熱してリフロー処理を行い、供試材1を得た。供試材1は、母材11上に、膜厚0.5μmのAg層121と、膜厚3μmのAg−Sn合金層122とが順次積層されためっき被膜12を有していた。
母材として、厚さ0.25mmの銅合金板を準備し、脱脂洗浄を行った。次いで、母材上に膜厚1μmのNiめっき膜、膜厚1μmのSnめっき膜及び膜厚2μmのAgめっき膜を順次積層した。その後、加熱温度290℃、加熱時間60秒の条件で母材を加熱してリフロー処理を行い、供試材2を得た。供試材2は、母材上に、膜厚1μmのNi層、膜厚0.5μmのNi−Sn合金層、膜厚1.5μmのAg−Sn合金層及び膜厚1μmのAg層が順次積層されためっき被膜を有していた。
母材として、厚さ0.25mmの銅合金板を準備し、脱脂洗浄を行った。次いで、母材上に膜厚1μmのNiめっき膜、膜厚2μmのAgめっき膜、膜厚2μmのSnめっき膜及び膜厚3μmのAgめっき膜を順次積層した。その後、加熱温度290℃、加熱時間60秒の条件で母材を加熱してリフロー処理を行い、供試材3を得た。供試材3は、母材上に、膜厚1μmのNi層、膜厚1μmのAg層、膜厚3.5μmのAg−Sn合金層及び膜厚2μmのAg層が順次積層されためっき被膜を有していた。
母材として、厚さ0.25mmの銅合金板を準備し、脱脂洗浄を行った。次いで、母材上に膜厚1μmのNiめっき膜、膜厚1.5μmのAgめっき膜及び膜厚0.5μmのSnめっき膜を順次積層した。その後、加熱温度290℃、加熱時間60秒の条件で母材を加熱してリフロー処理を行い、供試材4を得た。供試材4は、母材上に、膜厚1μmのNi層、膜厚0.5μmのAg層及び膜厚2μmのAg−Sn合金層が順次積層されためっき被膜を有していた。
本例は、実験例1の供試材を用いて微摺動が加わった際の耐摩耗性を評価した例である。耐摩耗性の評価には、以下の手順により作成した可動試験片及び固定試験片を用いた。
供試材1、3及び4を長方形状に切断した。この切断片にプレス加工を施し、半径3mmの半球状を呈するエンボス部を形成した。以上により可動試験片を作成した。なお、可動試験片は、実施例1における端子2(メス型端子201)の突起状接点部21を模擬している。また、エンボス部の表面に配置されためっき被膜12は割れていなかった。
供試材1、3、4及び純Ag板を長方形状に切断し、平板状を呈する固定試験片を採取した。なお、固定試験片は、実施例2における相手端子3(オス型端子301)の平板状接点部31を模擬した形状を有している。
可動試験片6と固定試験片7とを鉛直方向に重ね合わせ、固定試験片7の表面にエンボス部61を当接させた(図10参照)。この状態において、ピエゾアクチュエータにより可動試験片6に3Nの鉛直荷重を印加し、エンボス部61を固定試験片7に押し付けた。この鉛直荷重を維持した状態で、可動試験片6を水平方向(図10、矢印60)に振動させた。また、可動試験片6を振動させている間、可動試験片6と固定試験片7との接触電気抵抗を測定した。なお、振動の周期は1Hzとし、振幅200μmとした。
以下、参考形態の例を付記する。
[1]
母材と、該母材の少なくとも一部を覆うめっき被膜とを有する端子用金属板であって、
上記めっき被膜は、
上記母材上に積層された中間Ag層と、
該中間Ag層上に積層され、最表面に露出しているAg−Sn合金層とを有している、端子用金属板。
[2]
上記中間Ag層の厚みは上記Ag−Sn合金層の厚みよりも薄い、[1]に記載の端子用金属板。
[3]
上記中間Ag層の厚みは0.3μm以上である、[1]または[2]に記載の端子用金属板。
[4]
[1]〜[3]のいずれか1に記載の端子用金属板から構成された端子であって、
該端子は、相手端子に当接する突起状接点部を有しており、
上記めっき被膜は、少なくとも上記突起状接点部に配置されている、端子。
[5]
[4]に記載の端子と、該端子と嵌合する相手端子とを有する端子対であって、
上記相手端子は、上記端子の上記突起状接点部に当接する平板状接点部を有しており、
該平板状接点部は、最表面に露出している表面Ag層を有している、端子対。
11 母材
12 めっき被膜
121 Ag層
122 Ag−Sn合金層
2 端子
21 突起状接点部
3 相手端子
Claims (4)
- 母材と、該母材の少なくとも一部を覆うめっき被膜とを有する端子用金属板であって、
上記めっき被膜は、
上記母材上に積層された中間Ag層と、
該中間Ag層上に積層され、最表面に露出しているAg−Sn合金層とを有しており、
上記中間Ag層の厚みは上記Ag−Sn合金層の厚みよりも薄い、端子用金属板。 - 上記中間Ag層の厚みは0.3μm以上である、請求項1に記載の端子用金属板。
- 請求項1または2に記載の端子用金属板から構成された端子であって、
該端子は、相手端子に当接する突起状接点部を有しており、
上記めっき被膜は、少なくとも上記突起状接点部に配置されている、端子。 - 請求項3に記載の端子と、該端子と嵌合する相手端子とを有する端子対であって、
上記相手端子は、上記端子の上記突起状接点部に当接する平板状接点部を有しており、
該平板状接点部は、最表面に露出している表面Ag層を有している、端子対。
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