JP6491042B2 - Optical device substrate, optical device package, optical device and projector - Google Patents

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Description

本発明は、例えば、ミラーデバイス等の光学素子が搭載される光学装置用基体、当該光学用基体を備える光学装置用パッケージ、当該光学装置用基体を有する光学装置、および当該光学装置を備えるプロジェクターに関するものである。   The present invention relates to an optical device base on which an optical element such as a mirror device is mounted, an optical device package including the optical base, an optical device including the optical device base, and a projector including the optical device. Is.

従来、光学素子を気密に収容するための光学素子収納用パッケージ(以下、パッケージともいう)として、酸化アルミニウム質焼結体等のセラミックスから成り、上面に凹部を有しており該凹部の底面に光学素子の搭載部を有する絶縁基体と、絶縁基体の上面に搭載されるガラス板と、から構成されるものがあった。   2. Description of the Related Art Conventionally, an optical element storage package (hereinafter also referred to as a package) for storing optical elements in an airtight manner is made of ceramics such as an aluminum oxide sintered body, and has a recess on the top surface. There has been an insulating base having an optical element mounting portion and a glass plate mounted on the upper surface of the insulating base.

しかしながら、ガラス板と絶縁基体とをろう付け等で接合する際の高温の加熱によって光学素子の機能が低下するおそれがあった。   However, the function of the optical element may be lowered by high-temperature heating when the glass plate and the insulating substrate are joined by brazing or the like.

従って、絶縁基体と、この絶縁基体の上面に接合された接合用金属枠体とを有する光学装置用基体を準備し、また、ガラス板と、このガラス板の下面に接合された金属フレームとを有する蓋体を準備し、光学装置用基体の接合用金属枠体と、蓋体の金属フレームとをシーム溶接することによってパッケージを形成していた(特許文献1を参照)。   Therefore, an optical device base having an insulating base and a joining metal frame joined to the upper surface of the insulating base is prepared, and a glass plate and a metal frame joined to the lower surface of the glass plate are provided. The lid was prepared, and the package was formed by seam welding the metal frame for joining the optical device substrate and the metal frame of the lid (see Patent Document 1).

このようなシーム溶接によるパッケージ形成によれば、従来のろう付け時のリフロー工程と比較して、接合部が局所的に加熱されるだけなので、光学素子の機能低下を防ぐことができる。   According to such package formation by seam welding, compared with the conventional reflow process at the time of brazing, since the joint is only heated locally, it is possible to prevent functional degradation of the optical element.

特開2005-203669号公報JP 2005-203669 A

しかしながら、特許文献1のパッケージにおいて、ガラス板は、金属フレームおよび接合用金属枠体を介して、絶縁基体の上面に配置されることとなるので、絶縁基体の上面に配置される光学素子とガラス板との距離が大きくなりやすかった。よって、光学素子の反射角が小さくなりやすかった。従って、光学素子への入射光と反射光との距離が近接しやすかった。よって、従来のパッケージをプロジェクター等の機器に使用した場合、光源とレンズの位置が重なるおそれがあった。   However, in the package of Patent Document 1, since the glass plate is disposed on the upper surface of the insulating base via the metal frame and the joining metal frame, the optical element and the glass disposed on the upper surface of the insulating base are disposed. The distance to the board was likely to increase. Therefore, the reflection angle of the optical element tends to be small. Therefore, the distance between the incident light on the optical element and the reflected light is easy to approach. Therefore, when the conventional package is used for a device such as a projector, the position of the light source and the lens may overlap.

本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、光学素子の反射角を大きくすることによって、プロジェクター等の機器に使用した場合、光源とレンズの位置が重なることを防止することが可能となる光学装置用基体、光学装置およびプロジェクターを提供することである。   The present invention has been made in view of the above problems, and its purpose is to increase the reflection angle of an optical element so that the position of a light source and a lens overlap when used in a device such as a projector. It is an object to provide a substrate for an optical device, an optical device, and a projector that can be prevented.

本発明の1つの態様による光学装置用パッケージは、上面に光学素子搭載部を有する絶
縁基体、および該絶縁基体の下面に接合されており、外周部が前記絶縁基体よりも外側に突き出ている接合用金属枠体を有しており、前記外周部の上面は、蓋体搭載領域を有する光学装置用基体と、枠状部材および該枠状部材に接合されたガラス部材を含んでおり、前記枠状部材が前記蓋体搭載領域上に設けられる蓋体とを有しており、前記枠状部材が四角枠状であり、前記枠状部材の互いに対向し合う一対の辺の一方から他方にかけて、前記枠状部材の前記上面が傾斜し、前記枠状部材の互いに対向し合う他の一対の辺の一方から他方にかけて、前記枠状部材の前記上面がさらに傾斜している。
An optical device package according to one aspect of the present invention has an optical element mounting portion on an upper surface.
An edge base, and a joining metal frame that is joined to the lower surface of the insulating base and has an outer peripheral portion protruding outward from the insulating base, the upper surface of the outer peripheral portion being a lid mounting region a substrate for an optical device having a includes a glass member bonded to the frame member and the frame member, the frame-like member has been closed and a lid provided on the lid mounting region, The frame-shaped member has a square frame shape, and the upper surface of the frame-shaped member is inclined so that the frame-shaped member faces each other from one side to the other of the pair of sides facing each other. while other toward from the pair of sides, the upper surface of the frame-like member it is further inclined.

本発明の一つの態様による光学装置は、前記蓋体が前記接合用金属枠体の前記蓋体搭載領域に設けられた、上記の光学装置用パッケージと、前記絶縁基体の前記光学素子搭載部に設けられた光学素子と、を有する。
An optical device according to an aspect of the present invention includes the optical device package, in which the lid is provided in the lid mounting region of the joining metal frame, and the optical element mounting portion of the insulating base. And an optical element provided.

本発明の一つの態様によるプロジェクターは、上述の光学装置と、該光学装置の前記光学素子の駆動を制御する制御回路と、前記光学素子に照射される光源と、前記光学素子で反射された光が透過するレンズと、を有する。   A projector according to an aspect of the present invention includes the above-described optical device, a control circuit that controls driving of the optical element of the optical device, a light source that is applied to the optical element, and light reflected by the optical element. Through which the lens is transmitted.

本発明の光学装置用パッケージによれば、接合用金属枠体の外周部は前記絶縁基体よりも外側に突き出ており、当該外周部の上面は、蓋体搭載領域を有する。よって、接合用金属枠体、および接合用金属枠体と蓋体との接合部は、絶縁基体の下面側に位置することとなる。従って、絶縁基体の上面からガラス部材までの距離が小さくなりやすくなる。よって、絶縁基体の上面に光学素子が配置された場合、光学素子からガラス部材までの距離も小さくなり、光学素子の反射角が大きくなりやすくなる。従って、光学素子への入射光と反射光との距離を離しやすくなる。よって、プロジェクター等の機器に本基体を使用した場合、光源とレンズの位置が重なることを防止することができる。また、光学素子の上面とガラス部材とが互いに平行ではなくなるため、ガラス部材の下面と光学素子の上面との間で、ぞれぞれに発生する反射光が互いに繰り返し反射される現象(共振現象)が発生しにくくなる。そのため、この光学装置用パッケージに光学素子として発光素子が収容されてなる光学装置をプロジェクター用として使用した場合には、映像のエッジ部にゴーストがさらに発生しにくくなる。したがって、映像の品質がさらに向上する。
According to the optical device package of the present invention, the outer peripheral portion of the bonding metal frame projects outward from the insulating base, and the upper surface of the outer peripheral portion has a lid mounting region. Drunk, the junction of the junction metal frame, and bonding metal frame and lid may be positioned at the lower surface side of the insulating substrate. Therefore, the distance from the upper surface of the insulating base to the glass member tends to be small. Therefore, when the optical element is disposed on the upper surface of the insulating substrate, the distance from the optical element to the glass member is also reduced, and the reflection angle of the optical element is likely to be increased. Therefore, it becomes easy to increase the distance between the incident light to the optical element and the reflected light. Therefore, when this base is used in a device such as a projector, the positions of the light source and the lens can be prevented from overlapping. In addition, since the upper surface of the optical element and the glass member are not parallel to each other, the reflected light that is generated between the lower surface of the glass member and the upper surface of the optical element is reflected repeatedly (resonance phenomenon). ) Is less likely to occur. Therefore, when an optical device in which a light emitting element is accommodated as an optical element in this optical device package is used for a projector, a ghost is less likely to occur at the edge portion of the image. Accordingly, the quality of the video is further improved.

本発明の光学装置によれば、上記の光学装置用パッケージを有することから、光学素子
の反射角を大きくでき、ガラス部材の下面と光学素子の上面との間で共振現象が発生しにくくなるので、プロジェクター等の機器に本装置を使用した場合、光源とレンズの位置が重なることを防止することができ、映像のエッジ部にゴーストがさらに発生しにくくなるので、映像の品質がさらに向上する
According to the optical device of the present invention, since it has a package above optical device, can increase the reflection angle of the optical element, that resonance phenomena is hardly generated between the upper surface of the lower surface and the optical element of glass member Therefore, when this device is used in equipment such as a projector, the position of the light source and the lens can be prevented from overlapping, and ghosts are less likely to occur at the edge of the image, further improving the image quality. .

本発明の一つの態様によるプロジェクターは、上述の光学装置を有するので、光学素子の反射角を大きくでき、ガラス部材の下面と光学素子の上面との間で共振現象が発生しにくくなるので、光源とレンズの位置が重なることを防止することができ、映像のエッジ部にゴーストがさらに発生しにくくなるので、映像の品質がさらに向上する。 Projector according to one aspect of the present invention has the above optical device, can increase the reflection angle of the optical element, a resonance phenomenon between the upper surface of the lower surface and the optical element of glass member hardly occurs Runode, position of the light source and the lens that can be prevented overlapping, because the ghost at the edge of the image becomes further unlikely to occur, further improve the quality of the video.

(a)は、本発明の実施形態における光学装置用基体の上面図、(b)は(a)に示す光学装置用基体のA−Aにおける縦断面図、(c)は(a)に示す光学装置用基体の下面図である。(A) is a top view of the optical device substrate in the embodiment of the present invention, (b) is a longitudinal sectional view taken along line AA of the optical device substrate shown in (a), and (c) is shown in (a). It is a bottom view of the base for optical devices. (a)は、図1に示す光学装置用基体を有する光学装置の平面図、(b)は(a)に示す光学装置のA−Aにおける縦断面図である。(A) is a top view of the optical apparatus which has a base | substrate for optical apparatuses shown in FIG. 1, (b) is a longitudinal cross-sectional view in AA of the optical apparatus shown to (a). 図2に示す光学装置において符号Bによって示された部分の拡大図である。FIG. 3 is an enlarged view of a portion indicated by reference numeral B in the optical device shown in FIG. 2. 本発明の実施形態における光学装置用パッケージを示す斜視図である。It is a perspective view which shows the package for optical devices in embodiment of this invention. 本発明の実施形態における光学装置が配線基板に実装されてなる構造体を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the structure by which the optical apparatus in embodiment of this invention is mounted in a wiring board. 図3の変形例を示す拡大図である。It is an enlarged view which shows the modification of FIG. 図4の変形例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the modification of FIG. 図4の他の変形例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the other modification of FIG.

以下、本発明の例示的な実施の形態について図面を参照しながら説明する。なお、以下
の説明で用いられる図面は模式的なものであり、図面上の寸法比率等は現実のものとは必ずしも一致していない。また、説明の便宜上、直交座標系xyzを定義するとともに、z方向の正側を上方として、上面(表面)、もしくは下面の語を用いるものとする。
Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. Note that the drawings used in the following description are schematic, and the dimensional ratios and the like on the drawings do not necessarily match the actual ones. For convenience of explanation, an orthogonal coordinate system xyz is defined, and the word “upper surface (front surface)” or “lower surface” is used with the positive side in the z direction as the upper side.

また、実施の形態等の説明において、既に説明した構成と同一もしくは類似する構成については、同一の符号を付して説明を省略することがある。   In the description of the embodiments and the like, the same or similar configurations as those already described may be denoted by the same reference numerals and description thereof may be omitted.

本発明の実施の形態に係る光学装置用基体について、図1乃至図5を参照しながら以下に説明する。   An optical device substrate according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.

本発明の実施の形態1における光学装置用基体1は、図1に示すように、上面に光学素子搭載部を有する絶縁基体11と、該絶縁基体11の下面に接合されており、外周部が絶縁基体11よりも外側に突き出ている接合用金属枠体12と、を有しており、外周部の上面は、蓋体搭載領域12aを有する。   As shown in FIG. 1, an optical device substrate 1 according to Embodiment 1 of the present invention is bonded to an insulating substrate 11 having an optical element mounting portion on the upper surface and a lower surface of the insulating substrate 11, and an outer peripheral portion is formed. A bonding metal frame 12 protruding outward from the insulating base 11, and the upper surface of the outer peripheral portion has a lid mounting region 12a.

絶縁基体11は、上面に光学素子搭載部を有する。この絶縁基体11は、例えば、セラミックス材料から成る。また、絶縁基体11は、例えば、セラミックス材料から成る場合、焼成によって一体的に形成されているものである。また、図1に示すように、光学素子2は、上面の光学素子搭載部に搭載されてワイヤボンディング法を用いて絶縁基体11に実装されている。   The insulating base 11 has an optical element mounting portion on the upper surface. The insulating base 11 is made of, for example, a ceramic material. For example, when the insulating base 11 is made of a ceramic material, it is integrally formed by firing. As shown in FIG. 1, the optical element 2 is mounted on the optical element mounting portion on the upper surface and mounted on the insulating base 11 using a wire bonding method.

また、図1に示す例において、絶縁基体11の上面、下面または内部には、配線導体(図1(a)、(b)には図示せず)が設けられる。絶縁基体11の上面に設けられる配線導体は、この上面に搭載される光学素子2のボンディングワイヤとの接続等に利用される。   In the example shown in FIG. 1, wiring conductors (not shown in FIGS. 1A and 1B) are provided on the upper surface, the lower surface, or the inside of the insulating base 11. The wiring conductor provided on the upper surface of the insulating base 11 is used for connection with a bonding wire of the optical element 2 mounted on the upper surface.

図1(c)に示すように、絶縁基体11の下面に設けられる配線導体は、接合用金属枠体12の内周側に格子状に設けられている。この下面の配線導体は、外部の配線基板との接続端子として利用される(図5を参照)。   As shown in FIG. 1C, the wiring conductors provided on the lower surface of the insulating base 11 are provided in a grid pattern on the inner peripheral side of the bonding metal frame 12. The wiring conductor on the lower surface is used as a connection terminal with an external wiring board (see FIG. 5).

絶縁基体11の内部に設けられる配線導体は、前述した絶縁基体11の上面および下面に設けられる配線導体を接続する役割等を果たす。   The wiring conductor provided in the insulating base 11 serves to connect the wiring conductors provided on the upper and lower surfaces of the insulating base 11 described above.

また、図3に示す例のように、絶縁基体11の下面には、接合用メタライズ層13が設けられている。後述するように、この接合用メタライズ層13に、ろう材14を介して、接合用金属枠体12が接合される。   Further, as in the example shown in FIG. 3, a bonding metallization layer 13 is provided on the lower surface of the insulating substrate 11. As will be described later, the joining metal frame 12 is joined to the joining metallized layer 13 via the brazing filler metal 14.

絶縁基体11が、例えば、セラミックス材料から成る場合、その例は、酸化アルミニウム(アルミナ:Al)質焼結体または窒化アルミニウム(AlN)質焼結体等である。絶縁基体11上には、上述の配線導体および接合用メタライズ層13等が形成されている。 When the insulating substrate 11 is made of, for example, a ceramic material, an example thereof is an aluminum oxide (alumina: Al 2 O 3 ) sintered body or an aluminum nitride (AlN) sintered body. On the insulating substrate 11, the above-described wiring conductor, bonding metallization layer 13, and the like are formed.

図1に示す例のように、接合用金属枠体12は、絶縁基体11の下面に接合されており、外周部が絶縁基体11よりも外側に突き出ている。この外周部の上面は、蓋体搭載領域12aを有する。この構成により、蓋体搭載領域12aに蓋体3を配置した場合、接合用金属枠体12、および接合用金属枠体12と蓋体3との接合部は、絶縁基体11の下面側に位置することとなる。よって、絶縁基体11の上面からガラス部材33までの距離が小さくなりやすくなる。従って、絶縁基体11の上面に光学素子2が配置された場合、光学素子2からガラス部材33までの距離も小さくなるので、図2に示す例のように光学素子2に入射角θで入射した光の反射角θが大きくなっても光学素子2のミラーエリアの反射
光をガラス部材33を透過して表示できるようになる。従って、光学素子2への入射光と反射光との距離を離しやすくなる。よって、プロジェクター等の機器に本基体を使用した場合、光源とレンズの位置が重なることを防止することができる。また、反射角を大きくできるほうが光源の大きさや位置の設計自由度を高めることができるので好ましい。
As in the example shown in FIG. 1, the bonding metal frame 12 is bonded to the lower surface of the insulating base 11, and the outer peripheral portion protrudes outward from the insulating base 11. The upper surface of the outer peripheral portion has a lid mounting area 12a. With this configuration, when the lid 3 is disposed in the lid mounting region 12a, the joining metal frame 12 and the joining portion between the joining metal frame 12 and the lid 3 are located on the lower surface side of the insulating base 11. Will be. Therefore, the distance from the upper surface of the insulating base 11 to the glass member 33 tends to be small. Therefore, when the optical element 2 is disposed on the upper surface of the insulating base 11, the distance from the optical element 2 to the glass member 33 is also reduced, so that the optical element 2 is incident on the optical element 2 at an incident angle θ as in the example shown in FIG. Even if the reflection angle θ of light increases, the reflected light of the mirror area of the optical element 2 can be transmitted through the glass member 33 and displayed. Therefore, it becomes easy to increase the distance between the incident light to the optical element 2 and the reflected light. Therefore, when this base is used in a device such as a projector, the positions of the light source and the lens can be prevented from overlapping. In addition, it is preferable to increase the reflection angle because the degree of freedom in designing the size and position of the light source can be increased.

また、同じ反射角で良い場合には、より小型のガラス板とすることが可能になるので、装置を小型化することができる。   Further, when the same reflection angle is sufficient, a smaller glass plate can be obtained, and the apparatus can be downsized.

図1に示す例において、接合用金属枠体12の形状は、その中央部に貫通孔を有する枠体形状となっている。また、接合用金属枠体12の内周部の上面は、絶縁基体11の下面の外周部に接合されている。接合用金属枠体12において、この絶縁基体11との接合部より外側である前記外周部が、絶縁基体11よりも外方に位置している。この外周部の上面に、蓋体搭載領域12aが設けられている。   In the example shown in FIG. 1, the shape of the bonding metal frame 12 is a frame shape having a through hole at the center thereof. In addition, the upper surface of the inner peripheral portion of the bonding metal frame 12 is bonded to the outer peripheral portion of the lower surface of the insulating base 11. In the bonding metal frame 12, the outer peripheral portion that is outside the bonded portion with the insulating base 11 is located outward from the insulating base 11. A lid mounting area 12a is provided on the upper surface of the outer peripheral portion.

次に、図1に示す実施形態に係る本発明の光学装置用基体1の製造方法を、以下に示す。   Next, the manufacturing method of the base | substrate 1 for optical devices of this invention which concerns on embodiment shown in FIG. 1 is shown below.

まず、絶縁基体11は、例えば、酸化アルミニウム質焼結体から成る場合であれば、アルミナ(Al)とシリカ(SiO)、カルシア(CaO)またはマグネシア(MgO)等との原料粉末に適当な有機溶剤、溶媒を添加混合して泥漿状とし、これを周知のドクターブレード法またはカレンダーロール法等を用いてシート状に成形してセラミックグリーンシート(以下、グリーンシートともいう)を得る。 First, if the insulating substrate 11 is made of, for example, an aluminum oxide sintered body, a raw material powder of alumina (Al 2 O 3 ) and silica (SiO 2 ), calcia (CaO), magnesia (MgO), or the like. A suitable organic solvent and solvent are added and mixed to form a slurry, which is then formed into a sheet using a well-known doctor blade method or calendar roll method to obtain a ceramic green sheet (hereinafter also referred to as a green sheet). .

次に、スクリーン印刷法等を用いてグリーンシートの所定位置に、配線導体および接合用メタライズ層13となる導体ペースト層を10(μm)〜20(μm)程度の厚みに形成する。なお、接合用メタライズ層13は、絶縁基体11の下面の外周部に設ける。   Next, a conductor paste layer to be a wiring conductor and a bonding metallization layer 13 is formed to a thickness of about 10 (μm) to 20 (μm) at a predetermined position of the green sheet using a screen printing method or the like. The bonding metallized layer 13 is provided on the outer peripheral portion of the lower surface of the insulating substrate 11.

導体ペーストは、タングステン(W)、モリブデン(Mo)またはモリブデン−マンガン(Mo−Mn)合金等の融点の高い金属粉末と適当な樹脂バインダおよび溶剤とを混練することにより作製される。   The conductive paste is produced by kneading a metal powder having a high melting point such as tungsten (W), molybdenum (Mo), or molybdenum-manganese (Mo-Mn) alloy with an appropriate resin binder and solvent.

次に、これらグリーンシートを重ね合わせて圧着して積層体を作製して、この積層体を1600(℃)程度の高温で焼成することによって絶縁基体11を作製する。また、多数個取り状態の母基板を作製してもよい。   Next, these green sheets are superposed and pressure-bonded to produce a laminate, and the laminate is fired at a high temperature of about 1600 (° C.) to produce the insulating substrate 11. Also, a large number of mother substrates may be manufactured.

次に、上述の絶縁基体11は、必要に応じてめっき層が接合用メタライズ層13上に設けられる。また、同様のめっき層を、絶縁基体11の上面および下面に設けられた配線導体に設けても良い。なお、めっき層は、例えば、ニッケル等の金属材料で形成される。母基板は、接合用メタライズ層13上に、例えば、銀銅共晶合金を用いたろう材14が組み立て治具を用いて所定形状に設けられる。   Next, in the insulating base 11 described above, a plating layer is provided on the bonding metallization layer 13 as necessary. Moreover, you may provide the same plating layer in the wiring conductor provided in the upper surface and lower surface of the insulation base | substrate 11. FIG. Note that the plating layer is formed of a metal material such as nickel, for example. The mother board is provided with a brazing material 14 using, for example, a silver-copper eutectic alloy in a predetermined shape on the joining metallized layer 13 using an assembly jig.

そして、銀銅共晶合金のろう材14上に、接合用金属枠体12が配置される。また、接合用金属枠体12は、例えば、FeNi29Co17合金を周知のプレス加工法等を用いて所定形状に形成して作製される。なお、接合用金属枠体12は、後述する金属フレーム31にシームウエルド接合するためのものである。   And the metal frame 12 for joining is arrange | positioned on the solder | brazing | wax material 14 of a silver copper eutectic alloy. Further, the joining metal frame 12 is produced, for example, by forming a FeNi29Co17 alloy into a predetermined shape using a known press working method or the like. The joining metal frame 12 is used for seam weld joining to a metal frame 31 described later.

還元雰囲気中で、ろう材14の融点を超えた温度に保持することで、絶縁基体11上の接合用メタライズ層13と接合用金属枠体12とをろう材14を介して接合する。必要に応じて、接合用金属枠体12等にめっき法を用いてニッケルめっき層または金めっき層を形成して、光学装置用基体1となる。なお、接合用金属枠体12へのめっき層形成は、絶
縁基体11の配線導体へのめっき層形成と同一工程で行っても良い。
By maintaining the temperature exceeding the melting point of the brazing material 14 in a reducing atmosphere, the joining metallized layer 13 on the insulating substrate 11 and the joining metal frame 12 are joined via the brazing material 14. If necessary, a nickel plating layer or a gold plating layer is formed on the bonding metal frame 12 or the like by using a plating method to form the optical device substrate 1. The formation of the plating layer on the bonding metal frame 12 may be performed in the same process as the formation of the plating layer on the wiring conductor of the insulating substrate 11.

絶縁基体11が酸化アルミニウム質焼結体からなる場合には、絶縁基体11は、機械強度が高いので、反り等が発生しにくく、また、適度な熱伝導率を有しているので、光学素子2が発生する熱を外部に放散しやすくなる。このように、絶縁基体11は、酸化アルミニウム質焼結体である場合には、機械強度、熱伝導率またはコストの観点において好ましいものとなる。   When the insulating substrate 11 is made of an aluminum oxide sintered body, the insulating substrate 11 has high mechanical strength, so that warpage or the like hardly occurs and has an appropriate thermal conductivity. It becomes easy to dissipate the heat generated by 2 to the outside. Thus, when the insulating substrate 11 is an aluminum oxide sintered body, it is preferable in terms of mechanical strength, thermal conductivity, or cost.

また、例えば、本発明の光学装置用基体1を有する光学装置を配線基板に実装する場合、接合用金属枠体12の下面を、ろう材(図示せず)を介して、配線基板の上面に接合させることによって、接合用金属枠体12を介した放熱性を向上させることができる。   Further, for example, when an optical device having the optical device base 1 of the present invention is mounted on a wiring board, the lower surface of the bonding metal frame 12 is placed on the upper surface of the wiring substrate via a brazing material (not shown). By joining, the heat dissipation through the joining metal frame 12 can be improved.

次に、本発明の実施の形態に係る光学装置用パッケージおよび光学装置について、図1乃至図5を参照しながら以下に説明する。上記実施形態の光学装置用基体1と蓋体3とによって光学装置用パッケージ4が形成され、光学装置用パッケージ4に光学素子2が収容されて光学装置20が形成される。   Next, an optical device package and an optical device according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. An optical device package 4 is formed by the optical device substrate 1 and the lid 3 of the above embodiment, and the optical element 2 is accommodated in the optical device package 4 to form the optical device 20.

図2に示す例のように、光学装置20は、上記の光学装置用基体1と、絶縁基体11の光学素子搭載部に設けられた光学素子2と、接合用金属枠体12の蓋体搭載領域12aに設けられた蓋体3と、を有する。   As in the example shown in FIG. 2, the optical device 20 includes the optical device base 1, the optical element 2 provided in the optical element mounting portion of the insulating base 11, and the lid mounting of the bonding metal frame 12. And a lid 3 provided in the region 12a.

光学素子2は、例えば、ミラーデバイスであり、例えば、ミラーデバイスに入射した光を反射させて画像等をスクリーン上に映写するものである。また、光学素子2は、発光ダイオード等の発光素子であってもよい。   The optical element 2 is, for example, a mirror device. For example, the optical element 2 reflects light incident on the mirror device to project an image or the like on a screen. The optical element 2 may be a light emitting element such as a light emitting diode.

図2に示す例のように、蓋体3は、接合用金属枠体12の蓋体搭載領域12aに設けられている。図2に示す例において、この蓋体3は、枠状部材32と、この枠状部材32に接合されたガラス部材33とを含んでいる。   As in the example shown in FIG. 2, the lid 3 is provided in the lid mounting region 12 a of the joining metal frame 12. In the example shown in FIG. 2, the lid 3 includes a frame-shaped member 32 and a glass member 33 bonded to the frame-shaped member 32.

図3に示す例において、枠状部材32は、その下面に接合材35を介して接合された金属フレーム31をさらに有する。この金属フレーム31の下面が、接合用金属枠体12の蓋体搭載領域12aに、シーム溶接によって接合される。   In the example shown in FIG. 3, the frame-shaped member 32 further includes a metal frame 31 bonded to the lower surface thereof with a bonding material 35. The lower surface of the metal frame 31 is joined to the lid mounting region 12a of the joining metal frame 12 by seam welding.

上記構成の光学装置用基体1と蓋体3とによって、例えば図4に示すような、光学素子2を封止するための光学装置用パッケージ4が構成されている。   An optical device package 4 for sealing the optical element 2 as shown in FIG. 4 is constituted by the optical device substrate 1 and the lid 3 having the above-described configuration.

蓋体3は、枠状部材32および枠状部材32に接合されたガラス部材33を含んでいる。この枠状部材32が、蓋体搭載領域12a上に設けられる。枠状部材32は、例えばその下面が接合用金属枠体12の上面の一部である蓋体搭載領域12aに接合材35を介して接合されて、上記のように設けられる。光学装置用基体1と、光学装置用基体1に接合された蓋体3との間の空間(容器)内に光学素子2が封止される。   The lid 3 includes a frame member 32 and a glass member 33 joined to the frame member 32. The frame-shaped member 32 is provided on the lid mounting area 12a. The frame-shaped member 32 is provided as described above, for example, by bonding the lower surface thereof to the lid mounting region 12a, which is a part of the upper surface of the bonding metal frame 12, via the bonding material 35. The optical element 2 is sealed in a space (container) between the optical device substrate 1 and the lid 3 bonded to the optical device substrate 1.

このような光学装置用パッケージ4によれば、上記構成の光学装置用基体1を有することから、接合用金属枠体12および接合用金属枠体12と蓋体3との接合部が絶縁基体11の下面側に位置することとなり、絶縁基体11の上面からガラス部材33までの距離が小さくなりやすくなる。従って、封止される光学素子2からガラス部材33までの距離も小さくなり、光学素子2への入射光と反射光との距離を離しやすくなる。そのため、この光学装置用パッケージ4に光学素子2が収容されたときに、光源とレンズの位置が重なることが抑制される。また、反射角を大きくできるほうが光源の大きさや位置の設計自由度を高めることができるので好ましい。また、同じ反射角で良い場合には、より小型のガラ
ス板とすることが可能になるので、より小型の光学装置を作製する上でも有利な光学装置用パッケージ4を提供することができる。
According to the optical device package 4 as described above, since the optical device substrate 1 having the above-described configuration is provided, the bonding metal frame 12 and the bonding portion between the bonding metal frame 12 and the lid 3 are the insulating substrate 11. Therefore, the distance from the upper surface of the insulating base 11 to the glass member 33 tends to be small. Accordingly, the distance from the sealed optical element 2 to the glass member 33 is also reduced, and the distance between the incident light and the reflected light on the optical element 2 can be easily separated. For this reason, when the optical element 2 is accommodated in the optical device package 4, the positions of the light source and the lens are suppressed from overlapping. In addition, it is preferable to increase the reflection angle because the degree of freedom in designing the size and position of the light source can be increased. In addition, when the same reflection angle is sufficient, a smaller glass plate can be used, so that it is possible to provide an optical device package 4 that is advantageous in producing a smaller optical device.

なお、本実施の形態の例における光学装置用パッケージ4は、上記のように枠状部材32の下面に接合された金属フレーム31をさらに含んでいる。   Note that the optical device package 4 in the example of the present embodiment further includes the metal frame 31 bonded to the lower surface of the frame-shaped member 32 as described above.

金属フレーム31は、平面視において矩形状であり、厚み方向に貫通する第1貫通孔が中央部に設けられている。また、この第1貫通孔は、例えば、矩形状を有している。金属フレーム31の形状は、枠状部材32の外周と重なるような形状である。この第1貫通孔は、絶縁基体11より外形が大きい。よって、上面視において、絶縁基体11の周囲を金属フレーム31が囲んでいる構成となっている。   The metal frame 31 has a rectangular shape in plan view, and a first through hole penetrating in the thickness direction is provided in the center portion. Further, the first through hole has, for example, a rectangular shape. The shape of the metal frame 31 is a shape that overlaps the outer periphery of the frame-shaped member 32. The first through hole has a larger outer shape than the insulating substrate 11. Therefore, the metal frame 31 surrounds the insulating base 11 in a top view.

金属フレーム31は、外形の一辺の長さが、例えば、15(mm)〜40(mm)であり、また、金属フレーム31の第1貫通孔は、一辺の長さが、例えば、10(mm)〜30(mm)で開口されている。   The metal frame 31 has a side length of, for example, 15 (mm) to 40 (mm), and the first through hole of the metal frame 31 has a side length of, for example, 10 (mm). ) To 30 (mm).

また、金属フレーム31は、その上面に接合される枠状部材32、ガラス部材33および絶縁基体11と類似した熱膨張係数を有するものが好ましい。絶縁基体11は、窒化アルミニウム質焼結体またはアルミナ質焼結体等のセラミックス材料が熱伝導性に優れており、放熱性の点で好ましく、そのため、金属フレーム31は、窒化アルミニウム質焼結体またはアルミナ質焼結体の熱膨張係数に類似した熱膨張係数を有するものが好ましい。   The metal frame 31 preferably has a thermal expansion coefficient similar to that of the frame-shaped member 32, the glass member 33, and the insulating substrate 11 bonded to the upper surface thereof. The insulating substrate 11 is preferably made of a ceramic material such as an aluminum nitride sintered body or an alumina sintered body because of its excellent thermal conductivity and heat dissipation. Therefore, the metal frame 31 is made of an aluminum nitride sintered body. Or what has a thermal expansion coefficient similar to the thermal expansion coefficient of an alumina sintered compact is preferable.

例えば、金属フレーム31は、42アロイまたはFeNi29Co17合金を用いるのが好ましい。42アロイ(熱膨張係数約5.0(×10−6/℃))またはFeNi29Co17合金(熱膨張係数約4.8(×10−6/℃))は、窒化アルミニウム質焼結体の熱膨張係数(線熱膨張係数が約4.6(×10−6/℃))またはアルミナ質焼結体の熱膨張係数(線熱膨張係数が約7.2(×10−6/℃))に類似した熱膨張係数を有しているからである。 For example, the metal frame 31 is preferably made of 42 alloy or FeNi29Co17 alloy. 42 alloy (coefficient of thermal expansion of about 5.0 (× 10 −6 / ° C.)) or FeNi29Co17 alloy (coefficient of thermal expansion of about 4.8 (× 10 −6 / ° C.)) is the thermal expansion of the aluminum nitride sintered body. Coefficient (linear thermal expansion coefficient is about 4.6 (× 10 −6 / ° C.)) or the thermal expansion coefficient of alumina sintered body (linear thermal expansion coefficient is about 7.2 (× 10 −6 / ° C.)) This is because they have similar thermal expansion coefficients.

また、金属フレーム31は、従来周知のエッチング法またはプレス加工法等を用いることで、中央部に第1貫通孔を形成することができる。   Moreover, the metal frame 31 can form a 1st through-hole in a center part using the conventionally well-known etching method or press work method.

枠状部材32は、図1に示すように、四方が4つの側壁で囲まれており、第2の貫通孔を有しており、平面視において矩形状である。また、枠状部材32は、ガラス部材33より剛性の高い材料、例えば、絶縁基体11と同じセラミックス材料からなる。また、枠状部材32は、平面視において、一辺の長さが、例えば、8(mm)〜27(mm)である。また、図1に示す例においては、第2貫通孔の大きさは、第1の貫通孔と同じである。   As shown in FIG. 1, the frame-shaped member 32 is surrounded by four side walls, has a second through hole, and has a rectangular shape in plan view. The frame member 32 is made of a material having higher rigidity than the glass member 33, for example, the same ceramic material as that of the insulating base 11. The frame-like member 32 has a side length of, for example, 8 (mm) to 27 (mm) in plan view. In the example shown in FIG. 1, the size of the second through hole is the same as that of the first through hole.

枠状部材32は、例えば、酸化アルミニウム(アルミナ:Al、アルミナのヤング率:370(Gpa))質焼結体または窒化アルミニウム(AlN、窒化アルミニウムのヤング率:320(Gpa))質焼結体等であり、このように、ガラス部材33(D2
63ガラスのヤング率:72(Gpa))より剛性の高い材料を用いると、ガラス部材3
3に加わる応力を減少させることができるので好ましい。
The frame-shaped member 32 is made of, for example, aluminum oxide (alumina: Al 2 O 3 , alumina Young's modulus: 370 (Gpa)) sintered body or aluminum nitride (AlN, aluminum nitride Young's modulus: 320 (Gpa)). A sintered body or the like, and thus the glass member 33 (D2
If a material with rigidity higher than that of 63 glass (Young's modulus: 72 (Gpa)) is used, the glass member 3
This is preferable because the stress applied to 3 can be reduced.

また、枠状部材32は、光学装置用基体1と同様にグリーンシートを重ね合わせて積層して打ち抜くことで第2貫通孔を形成すればよい。その後、光学装置用基体1と同様に焼成することでセラミックス材料からなる枠状部材32とすることができる。   Further, the frame-like member 32 may be formed with the second through-holes by stacking and stacking green sheets and punching them in the same manner as the optical device substrate 1. Then, it can be set as the frame-shaped member 32 which consists of ceramic materials by baking similarly to the base | substrate 1 for optical apparatuses.

枠状部材32は、側壁の下面が金属フレーム31の上面に接合されている。ガラス部材33は、直方体状(板状)であり、図2に示すように、第2貫通孔を塞ぐようにガラス接合材34を介して枠状部材32の側壁の上面に設けられている。   In the frame-shaped member 32, the lower surface of the side wall is joined to the upper surface of the metal frame 31. The glass member 33 has a rectangular parallelepiped shape (plate shape), and is provided on the upper surface of the side wall of the frame-shaped member 32 via the glass bonding material 34 so as to close the second through hole, as shown in FIG.

また、蓋体3(ガラス部材33、枠状部材32および金属フレーム31)と絶縁基体11とは、互いに熱膨張係数が類似した材料を用いることが好ましい。また、ガラス部材33は、複屈折または破損等の可能性を低減させるために、また、温度サイクル等の信頼性を向上させるために、例えば、熱膨張係数が4(×10−6/℃)〜8(×10−6/℃)程度を有するガラス材料を用いるのが好ましい。 The lid 3 (glass member 33, frame member 32, and metal frame 31) and the insulating base 11 are preferably made of materials having similar thermal expansion coefficients. Further, the glass member 33 has a thermal expansion coefficient of, for example, 4 (× 10 −6 / ° C.) in order to reduce the possibility of birefringence or breakage and to improve the reliability of the temperature cycle and the like. It is preferable to use a glass material having about ˜8 (× 10 −6 / ° C.).

ガラス部材33は、例えば、BK7(HOYA社製、線熱膨張係数が約7.5(×10−6/℃))またはD263(ショット社製、線熱膨張係数が約7.2(×10−6/℃))等のガラス材料を用いて、従来周知のダイシング法またはレーザーカット法等を用いることによって矩形状に成形することができる。 The glass member 33 is, for example, BK7 (manufactured by HOYA, linear thermal expansion coefficient is approximately 7.5 (× 10 −6 / ° C.)) or D263 (manufactured by Schott, linear thermal expansion coefficient is approximately 7.2 (× 10 Using a glass material such as −6 / ° C.), a conventionally known dicing method or laser cutting method can be used to form a rectangular shape.

また、ガラス部材33は、図においては、直方体状の各稜線の面取り加工を行っていない形状となっているが、直方体状の各稜線をC面またはR面で面取り加工することで、例えば、ガラス部材33の加工によってガラス部材33を所定の形状にする場合にマイクロクラックからの割れ等を低減させることができる。   In addition, the glass member 33 has a shape in which chamfering of each cuboid ridge line is not performed in the figure, but by chamfering each cuboid ridge line on the C surface or the R surface, for example, When the glass member 33 is formed into a predetermined shape by processing the glass member 33, it is possible to reduce cracks from microcracks.

次に、図5を用いて、本発明の実施形態における光学装置が、外部の配線基板に実装されてなる構造体を説明する。   Next, a structure in which the optical device according to the embodiment of the present invention is mounted on an external wiring board will be described with reference to FIG.

図5に示す例においては、前述した、絶縁基体11の下面の配線導体(不図示)が、外部の配線基板15上の電極(不図示)に実装されている。また、接合用金属枠体12の下面もまた、配線基板15上に接合されている。下面の配線導体、および接合用金属枠体12は、ろう材等から成る接合材16によって、配線基板15上に接合されている。   In the example shown in FIG. 5, the above-described wiring conductor (not shown) on the lower surface of the insulating base 11 is mounted on an electrode (not shown) on the external wiring board 15. The lower surface of the bonding metal frame 12 is also bonded to the wiring board 15. The wiring conductor on the lower surface and the bonding metal frame 12 are bonded onto the wiring board 15 by a bonding material 16 made of a brazing material or the like.

なお、図5に示す例においては、絶縁基体11の下面において、接合用金属枠体12の貫通孔から露出している領域が、接合用金属枠体12と接合されている領域よりも、下方に突き出て、凸部が形成されている。このような凸部の下面に配線導体を設けることによって、配線導体を配線基板15側の電極に接続させやすくなる。   In the example shown in FIG. 5, the region exposed from the through hole of the bonding metal frame 12 on the lower surface of the insulating base 11 is lower than the region bonded to the bonding metal frame 12. Protruding portions are formed. By providing the wiring conductor on the lower surface of such a convex portion, the wiring conductor can be easily connected to the electrode on the wiring board 15 side.

また、この光学装置がプロジェクター等の機器で使用される場合、配線基板15上には、プロセッサーやメモリー素子等が実装されていても良い。   Further, when this optical apparatus is used in a device such as a projector, a processor, a memory element, or the like may be mounted on the wiring board 15.

また、本発明のプロジェクターは、上述の光学装置と、該光学装置の前記光学素子2の駆動を制御する制御回路と、前記光学素子2に照射される光源と、前記光学素子2で反射された光が透過するレンズと、を有する。従って、光学素子2の反射角を大きくできるので、光源とレンズの位置が重なることを防止することができる。また、光学素子2への入射光と反射光との間の距離を同じ分だけ確保したい場合であっても、光学素子2の反射角を大きくすることによって、光源の位置を光学素子2に近接させることができるので、小型のプロジェクターを提供することができる。   Further, the projector according to the present invention is reflected by the optical element, the control circuit for controlling the driving of the optical element 2 of the optical apparatus, the light source irradiated to the optical element 2, and the optical element 2. A lens that transmits light. Therefore, since the reflection angle of the optical element 2 can be increased, it is possible to prevent the positions of the light source and the lens from overlapping. Further, even when it is desired to secure the same distance between the incident light and the reflected light on the optical element 2, the position of the light source is brought closer to the optical element 2 by increasing the reflection angle of the optical element 2. Therefore, a small projector can be provided.

ここで、図2に示す例のような、本発明の実施形態に係る光学装置の製造方法について説明する。   Here, a method for manufacturing an optical device according to an embodiment of the present invention, such as the example shown in FIG. 2, will be described.

(1)第1工程
まず、蓋体3を準備する。この蓋体3は、金属フレーム31、枠状部材32、およびガラス部材33を有する。
(1) First Step First, the lid 3 is prepared. The lid 3 includes a metal frame 31, a frame member 32, and a glass member 33.

枠状部材32は、図2および図3に示すように、第2貫通孔を金属フレーム31の第1貫通孔に対応させて、接合材35を介して金属フレーム31上に接合される。なお、接合
材35は、例えば、活性金属ろう材等である。
As shown in FIGS. 2 and 3, the frame-shaped member 32 is bonded onto the metal frame 31 via the bonding material 35 with the second through hole corresponding to the first through hole of the metal frame 31. Note that the bonding material 35 is, for example, an active metal brazing material.

接合材35が活性金属ろう材である場合には、そのペーストは、銀および銅粉末、銀−銅合金粉末、またはこれらの混合粉末から成る銀ろう材(例えば、銀:72質量(%)−銅:28質量(%))粉末に対して、チタン、ハフニウム、ジルコニウムまたはその水素化物等の活性金属を銀ろう材に対して2〜5質量(%)添加混合して、適当なバインダと有機溶剤、溶媒とを添加混合して、混練することによって作製される。   When the bonding material 35 is an active metal brazing material, the paste is a silver brazing material composed of silver and copper powder, silver-copper alloy powder, or a mixed powder thereof (for example, silver: 72% by mass) Copper: 28 mass (%)) powder, active metal such as titanium, hafnium, zirconium or hydride thereof is added to and mixed with silver brazing filler in an amount of 2-5 mass (%). It is produced by adding and mixing a solvent and a solvent and kneading.

金属フレーム31と枠状部材32とを活性金属ろう材の接合材35で接合する場合は、各部材の接合面の少なくとも一方に活性金属ろう材ペーストを周知のスクリーン印刷等を用いて、例えば、30(μm)〜50(μm)の厚さで所定パターンに印刷塗布する。   When joining the metal frame 31 and the frame-shaped member 32 with the joining material 35 of the active metal brazing material, an active metal brazing paste is used for at least one of the joining surfaces of each member by using a well-known screen printing, for example, A predetermined pattern is printed and applied in a thickness of 30 (μm) to 50 (μm).

そして、所定の構造となるように金属フレーム31を枠状部材32上に載置した後に、金属フレーム31に荷重をかけながら、真空中、水素ガス雰囲気または窒素ガス雰囲気等の非酸化性雰囲気中で780(℃)〜900(℃)、10(分)〜120(分)間加熱し、ろう材ペーストの有機溶剤、溶媒、分散剤を気体に変えて発散させるとともにろう材を溶融させることによって接合が行なわれる。また、金属フレーム31は、ニッケル等のめっき層を設けることによって、腐食を抑制することができるので、例えば、枠状部材32との接合後にめっき法を用いてニッケル層等を設けるのが好ましい。   Then, after placing the metal frame 31 on the frame-like member 32 so as to have a predetermined structure, the metal frame 31 is loaded in a non-oxidizing atmosphere such as a hydrogen gas atmosphere or a nitrogen gas atmosphere while applying a load. By heating for 780 (° C.) to 900 (° C.), 10 (min) to 120 (min), changing the organic solvent, solvent, and dispersant of the brazing material paste into a gas and releasing the brazing material Joining is performed. Moreover, since the metal frame 31 can suppress corrosion by providing a plated layer of nickel or the like, for example, it is preferable to provide a nickel layer or the like using a plating method after joining with the frame-like member 32.

ガラス部材33は、図2に示すように、金属フレーム31を接合した枠状部材32の上面にガラス接合材34を用いて接合される。これによって、金属フレーム31と、枠状部材32と、ガラス部材33とを含む蓋体3になる。ガラス接合材34としては、例えば、低融点ガラス等を用いることができる。   As shown in FIG. 2, the glass member 33 is bonded to the upper surface of the frame-shaped member 32 to which the metal frame 31 is bonded using a glass bonding material 34. As a result, the lid 3 including the metal frame 31, the frame-shaped member 32, and the glass member 33 is obtained. As the glass bonding material 34, for example, low melting point glass or the like can be used.

ガラス接合材34は、枠状部材32またはガラス部材33と同程度の熱膨張係数を有する材料が好ましい。例えば、ガラス接合材34として低融点ガラスを用いる場合には、低融点ガラスは、枠状部材32またはガラス部材33と同程度の熱膨張係数を有することが好ましい。これによって、ガラス部材33は、加わる応力が抑制されて、高い接合強度でもって枠状部材32に接合される。   The glass bonding material 34 is preferably a material having a thermal expansion coefficient comparable to that of the frame-shaped member 32 or the glass member 33. For example, when a low melting glass is used as the glass bonding material 34, the low melting glass preferably has a thermal expansion coefficient comparable to that of the frame-shaped member 32 or the glass member 33. Thereby, the stress applied to the glass member 33 is suppressed, and the glass member 33 is bonded to the frame-shaped member 32 with high bonding strength.

また、低融点ガラスの熱膨張係数が大きめの場合には、ガラス接合材34は、コージェライト系化合物等の低熱膨張性の材料をフィラーとして加えて、熱膨張係数を4〜8(×10−6/℃)程度以下とすることによって、ガラス部材33に加わる応力を抑制するとともに接合強度を向上させることができる。 When the low-melting glass has a large thermal expansion coefficient, the glass bonding material 34 is obtained by adding a low thermal expansion material such as a cordierite-based compound as a filler to a thermal expansion coefficient of 4 to 8 (× 10 − By controlling the temperature to about 6 / ° C. or less, the stress applied to the glass member 33 can be suppressed and the bonding strength can be improved.

また、低融点ガラスは、例えば、従来周知の鉛系の低融点ガラスを用いてもよいが、環境に与える影響から、鉛フリーガラスからなるものが好ましい。低融点ガラスは、例えば、約450(℃)程度の低温で接合できるビスマス系鉛フリーガラスまたは約400(℃)程度の低温で接合できる五酸化バナジウム系鉛フリーガラスからなるのが好ましい。   The low-melting glass may be, for example, a conventionally known lead-based low-melting glass, but is preferably made of lead-free glass because of its influence on the environment. The low melting point glass is preferably made of, for example, bismuth-based lead-free glass that can be bonded at a low temperature of about 450 (° C.) or vanadium pentoxide-based lead-free glass that can be bonded at a low temperature of about 400 (° C.).

低融点ガラスをガラス接合材34として使用する場合には、ガラス部材33の下側主面の外周縁部の全周にわたってスクリーン印刷法を用いて低融点ガラスとなるペーストを形成する。そして、ペーストを加熱して溶剤を蒸発させた後に、金属フレーム31が接合された枠状部材32の上面にガラス部材33を載置して、低融点ガラスの融点以上となる温度に保持して、溶融接着すればよい。それによって、金属フレーム31と、枠状部材32と、ガラス部材33とを含む蓋体3となる。   When low-melting glass is used as the glass bonding material 34, a paste that becomes low-melting glass is formed by screen printing over the entire circumference of the outer peripheral edge of the lower main surface of the glass member 33. And after heating a paste and evaporating a solvent, the glass member 33 is mounted on the upper surface of the frame-shaped member 32 with which the metal frame 31 was joined, and it hold | maintains to the temperature which becomes more than melting | fusing point of low melting glass. What is necessary is just to melt-bond. Thereby, the lid 3 including the metal frame 31, the frame-shaped member 32, and the glass member 33 is obtained.

(2)第2工程
次に、光学装置用基体1を準備する。この光学装置用基体1は、絶縁基体11、接合用金
属枠体12を有する。この本発明の光学装置用基体1の製造方法については、前述した通りである。
(2) Second Step Next, the optical device substrate 1 is prepared. The optical device substrate 1 includes an insulating substrate 11 and a bonding metal frame 12. The method for producing the optical device substrate 1 of the present invention is as described above.

(3)第3工程
次に、光学素子2を光学装置用基体1に搭載する。例えば、光学素子2はワイヤボンディング法を用いてボンディングワイヤで絶縁基体11上の配線導体に電気的に接続される。
(3) Third Step Next, the optical element 2 is mounted on the optical device substrate 1. For example, the optical element 2 is electrically connected to a wiring conductor on the insulating substrate 11 by a bonding wire using a wire bonding method.

(4)第4工程
次に、蓋体3を、光学装置用基体1に接合する。
(4) Fourth Step Next, the lid 3 is bonded to the optical device substrate 1.

本工程では、シームウエルド接合によって、蓋体3の金属フレーム31の全周の外縁部と、光学装置用基体1の接合用金属枠体12とが接合される。このようにして、光学装置は、光学装置用基体1と、光学装置用基体1に実装された光学素子2と、光学装置用基体1に接合された蓋体3とを含んだものとなる。   In this step, the outer peripheral edge of the entire circumference of the metal frame 31 of the lid 3 and the bonding metal frame 12 of the optical device substrate 1 are bonded together by seam weld bonding. In this way, the optical device includes the optical device base 1, the optical element 2 mounted on the optical device base 1, and the lid 3 bonded to the optical device base 1.

本工程のように、蓋体3と光学装置用基体1とを、シームウエルド接合で接合する場合には、凹部を有する絶縁基体の上面にガラス基板をろう付け等で接合することによって光学素子を封止する場合(図示せず)と比較して、接合時の温度上昇を抑えることができる。従って、光学素子2の機能を低下させることを防ぐことができる。また、絶縁基体11の下面に接続した接合用金属枠体12の上面に金属フレーム31の外周縁部をシームウエルドで接合することで光学素子2が封止されるので、接合用金属枠体12と金属フレーム31で、接合時の応力を緩和されるので、強度が比較的小さいガラス部材33やガラス接合材34に加わる応力が小さくなり装置の気密信頼性が高いパッケージ封止構造となる。   When the lid 3 and the optical device substrate 1 are bonded by seam weld bonding as in this step, the optical element is bonded by bonding a glass substrate to the upper surface of the insulating substrate having a recess. Compared with the case of sealing (not shown), the temperature rise at the time of joining can be suppressed. Accordingly, it is possible to prevent the function of the optical element 2 from being lowered. In addition, since the optical element 2 is sealed by joining the outer peripheral edge of the metal frame 31 to the upper surface of the bonding metal frame 12 connected to the lower surface of the insulating substrate 11, the bonding metal frame 12. Since the stress at the time of bonding is relieved by the metal frame 31, the stress applied to the glass member 33 and the glass bonding material 34 having a relatively low strength is reduced, resulting in a package sealing structure with high hermetic reliability of the apparatus.

本発明は、上述の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、種々の変更、改良等が可能である。以下、他の実施の形態について説明する。なお、他の実施の形態に係る光学装置または光学装置用基体のうち、上記の実施の形態に係る光学装置または光学装置用基体と同様な部分については、同一の符号を付して適宜説明を省略する。   The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various changes and improvements can be made without departing from the scope of the present invention. Hereinafter, other embodiments will be described. Note that, in the optical device or the optical device base according to another embodiment, the same parts as those of the optical device or the optical device base according to the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals and appropriately described. Omitted.

図6は、図3の変形例を示す拡大図である。図6に示す例においては、枠状部材32の下面にメタライズ層36が設けられている。このメタライズ層36の形成方法は、接合用メタライズ層13と同様である。この枠状部材32のメタライズ層36は、低温ろう材等から成る接続材37によって、接合用金属枠体12に接続されている。この構成により、シームウエルド接合以外にも、ろう付けでの接合方法が可能となる。ろう付けで接合する場合、レーザー光を使用して、接合部を局所的に加熱することによって、リフロー工程と比較して、加熱による光学素子2の機能低下を防ぐことができる。また、前述したように、接合用金属枠体12の下面を、ろう材を介して外部の配線基板(図6では図示せず)に接合することで、接合用金属枠体12の接合部で発生したろう付けの熱を配線基板に放熱することができ、さらに、光学素子2の機能低下を防ぐことができる。   FIG. 6 is an enlarged view showing a modification of FIG. In the example shown in FIG. 6, a metallized layer 36 is provided on the lower surface of the frame-shaped member 32. The formation method of the metallized layer 36 is the same as that of the bonding metallized layer 13. The metallized layer 36 of the frame-like member 32 is connected to the joining metal frame 12 by a connecting material 37 made of a low temperature brazing material or the like. With this configuration, a joining method by brazing is possible in addition to seam weld joining. When joining by brazing, the function part of the optical element 2 by a heating can be prevented by heating compared with a reflow process by locally heating a junction part using a laser beam. Further, as described above, the lower surface of the bonding metal frame 12 is bonded to an external wiring board (not shown in FIG. 6) via a brazing material, so that the bonding portion of the bonding metal frame 12 is joined. The generated brazing heat can be dissipated to the wiring board, and further, the functional degradation of the optical element 2 can be prevented.

また、図3に示す例において、枠状部材32は、セラミックス材料から成ると記載したが、金属材料であっても良い。また、枠状部材32が金属材料である場合、図3では、金属フレーム31と別体となっているが、枠状部材32は金属フレーム31と一体物となっていてもよい。   In the example shown in FIG. 3, the frame member 32 is described as being made of a ceramic material, but may be a metal material. Further, when the frame-shaped member 32 is a metal material, it is separate from the metal frame 31 in FIG. 3, but the frame-shaped member 32 may be integrated with the metal frame 31.

また、図7は、図4の変形例を示す斜視図である。図7に示す例において、枠状部材32は上記の各例と同様に四角枠状であるが、その枠状部材32の互いに対向し合う一対の辺の一方から他方にかけて、枠状部材32の上面が傾斜している。これにともない、傾斜した枠状部材32の上面に接合されたガラスも傾斜している。   FIG. 7 is a perspective view showing a modification of FIG. In the example shown in FIG. 7, the frame-shaped member 32 has a rectangular frame shape as in each of the above examples, but the frame-shaped member 32 extends from one side of the pair of sides facing each other to the other. The upper surface is inclined. Accordingly, the glass bonded to the upper surface of the inclined frame-shaped member 32 is also inclined.

この変形例においては、枠状部材32の上面の傾斜以外は図4の例と同様であり、この同様の点については説明を省略する。この変形例においても、上記の各例と同様に、接合用金属枠体12の外周部が絶縁基体11よりも外側に突き出ており、収容される光学素子2への入射光と反射光との距離を離すことができる。   This modification is the same as the example of FIG. 4 except for the inclination of the upper surface of the frame-shaped member 32, and the description of the same points is omitted. Also in this modified example, as in each of the above examples, the outer peripheral portion of the bonding metal frame 12 protrudes outside the insulating base 11, and the incident light and the reflected light to the optical element 2 to be accommodated are reflected. The distance can be separated.

また、図7のような形態の場合には、光学素子2の上面とガラス部材33とが互いに平行ではなくなる。そのため、ガラス部材33の下面と光学素子2の上面との間で、ぞれぞれに発生する反射光が互いに繰り返し反射される現象(共振現象)が発生しにくくなる。そのため、この光学装置用パッケージ4に光学素子2として発光素子が収容されてなる光学装置をプロジェクター用として使用した場合には、映像のエッジ部にゴーストがさらに発生しにくくなる。したがって、映像の品質がさらに向上する。   In the case of the configuration as shown in FIG. 7, the upper surface of the optical element 2 and the glass member 33 are not parallel to each other. Therefore, a phenomenon (resonance phenomenon) in which reflected light generated in each of them is repeatedly reflected between the lower surface of the glass member 33 and the upper surface of the optical element 2 is less likely to occur. Therefore, when an optical device in which a light emitting element is accommodated as the optical element 2 in the optical device package 4 is used for a projector, a ghost is less likely to occur at the edge portion of the image. Accordingly, the quality of the video is further improved.

枠状部材32の上面を上記のように傾斜させるには、例えば枠状部材32がセラミックス材料からなる場合には、成形金型を対応した形状として粉体プレスで成形し、焼成すればよい。また、枠状部材32が金属部材であれば、枠状部材32となる枠状の金属材料の上側を所定の角度で切断すればよい。   In order to incline the upper surface of the frame-shaped member 32 as described above, for example, when the frame-shaped member 32 is made of a ceramic material, the molding die may be formed into a corresponding shape by a powder press and fired. Moreover, if the frame-shaped member 32 is a metal member, the upper side of the frame-shaped metal material used as the frame-shaped member 32 should just be cut | disconnected by a predetermined angle.

また、枠状部材32の上面の傾斜角度(収容される光学素子2の上面を基準面(0度)としたときの基準面に対する枠状部材32の上面傾斜の角度)は、1度程度以上であればよい。すなわち、基準面に対して少しでも枠状部材32の上面、つまりはガラス部材33が傾斜していれば、反射光の繰り返しの反射(共振)を抑制することができる。   The inclination angle of the upper surface of the frame-shaped member 32 (the angle of inclination of the upper surface of the frame-shaped member 32 with respect to the reference surface when the upper surface of the optical element 2 to be accommodated is the reference surface (0 degree)) is about 1 degree or more. If it is. That is, as long as the upper surface of the frame-shaped member 32, that is, the glass member 33 is inclined with respect to the reference surface, repeated reflection (resonance) of reflected light can be suppressed.

また、単に共振を防ぐだけでなく反射光の画質への影響の排除を考え、反射光がより元の位置から離れるためには5度以上傾斜があった方がよい。ただし、この傾斜角度が大きくなるとガラス部材33への入射角と素子で反射された反射光のガラス部材33からの出射角の差が大きくなる。そのため、例えば無反射コート等がガラス部材33に設けられているときに、その無反射コート等を含めたガラス部材33の光透過特性に差が出やすくなる。この場合には、撮像された映像における色調に影響が出やすくなる。したがって、枠状部材32の上面の傾斜角度は20度以下が好ましい。ゆえに、画質も考慮すれば、傾斜角度は5〜20度の範囲であることがより一層好ましい。   Further, considering not only the prevention of resonance but also the elimination of the influence of the reflected light on the image quality, it is better to have an inclination of 5 degrees or more so that the reflected light is further away from the original position. However, when this inclination angle increases, the difference between the incident angle to the glass member 33 and the exit angle of the reflected light reflected by the element from the glass member 33 increases. Therefore, for example, when a non-reflective coating or the like is provided on the glass member 33, a difference is easily generated in the light transmission characteristics of the glass member 33 including the non-reflective coating or the like. In this case, the color tone in the captured image is likely to be affected. Therefore, the inclination angle of the upper surface of the frame-shaped member 32 is preferably 20 degrees or less. Therefore, if the image quality is taken into consideration, the inclination angle is more preferably in the range of 5 to 20 degrees.

なお、枠状部材32は上から見たときに長方形状であるときに、その互いに対向し合う長辺同士の間で傾斜をつけるようにすると、同じ傾斜を互いに対向し合う短辺同士の間で傾斜をつけた場合に比べて高さを抑えることができるようになるので好ましい。言い換えれば、低背化に関して、上から見たときに長方形状である枠状部材32の上面は、短辺方向に傾いているものである方が、長辺方向に傾いているものであるよりも好ましい。なお、枠状部材32が例えば図7のように、短辺方向に傾いている場合には、図2に示した入射光、反射光と同様に、光が長辺方向に傾いて入射、反射されるようにすることが次の点で好ましい。すなわち、この場合には、枠状部材32が傾いていても入射光と反射光のガラス部材33に対する傾きが入射時と反射時で同じ角度となるので、ガラス部材33の光透過特性への影響が最も少なくなるので好ましい。   In addition, when the frame-shaped member 32 is rectangular when viewed from above, if the inclination is made between the long sides facing each other, the same inclination is made between the short sides facing each other. It is preferable because the height can be suppressed as compared with the case where an inclination is applied. In other words, regarding the reduction in the height, the upper surface of the frame-shaped member 32 that is rectangular when viewed from above is inclined in the long side direction when it is inclined in the short side direction. Is also preferable. In addition, when the frame-shaped member 32 is inclined in the short side direction as shown in FIG. 7, for example, the light is inclined in the long side direction and incident and reflected in the same manner as the incident light and reflected light shown in FIG. It is preferable in the following points to make it. That is, in this case, even if the frame-shaped member 32 is inclined, the inclination of the incident light and the reflected light with respect to the glass member 33 is the same angle at the time of incidence and at the time of reflection. Is preferable because it is the smallest.

また、図8は、図4の他の変形例を示す斜視図である。図8に示す例においては、枠状部材32の互いに対向し合う一対の辺の一方から他方にかけて枠状部材32の上面が傾斜しているとともに、枠状部材32の互いに対向し合う他の一対の辺の一方から他方にかけて、枠状部材32の上面がさらに傾斜している。言い換えれば、四角枠状の枠状部材32について、その上面は互いに直行し合う2つの方向において同じ方向に傾斜している。さらに言い換えれば、四角枠状の枠状部材32の上面の高さ位置は、平面視における枠状部材32の1つの角部で最も高く、これと対角線上に位置する他の角部で最も低い。これに
ともない、傾斜した枠状部材32の上面に接合されたガラスも、枠状部材32の上面と同様に傾斜している。
FIG. 8 is a perspective view showing another modification of FIG. In the example shown in FIG. 8, the upper surface of the frame-shaped member 32 is inclined from one side of the pair of opposite sides of the frame-shaped member 32 to the other side, and another pair of the frame-shaped members 32 facing each other. The upper surface of the frame-shaped member 32 is further inclined from one side to the other side. In other words, the upper surface of the rectangular frame-shaped member 32 is inclined in the same direction in two directions orthogonal to each other. In other words, the height position of the upper surface of the rectangular frame-shaped member 32 is the highest at one corner of the frame-shaped member 32 in plan view, and the lowest at the other corner positioned diagonally thereto. . Accordingly, the glass bonded to the upper surface of the inclined frame-shaped member 32 is also inclined similarly to the upper surface of the frame-shaped member 32.

この変形例においても、枠状部材32の上面の傾斜以外は図4の例と同様であり、この同様の点については説明を省略する。この変形例においても、上記の各例と同様に、接合用金属枠体12の外周部が絶縁基体11よりも外側に突き出ており、収容される光学素子2への入射光と反射光との距離を離すことができる。   This modification is also the same as the example of FIG. 4 except for the inclination of the upper surface of the frame-like member 32, and the description of the same points is omitted. Also in this modified example, as in each of the above examples, the outer peripheral portion of the bonding metal frame 12 protrudes outside the insulating base 11, and the incident light and the reflected light to the optical element 2 to be accommodated are reflected. The distance can be separated.

また、図8のような形態の場合にも光学素子2の上面とガラス部材33とが互いに平行ではなくなる。さらにこの場合には、光学装置用パッケージ4の平面視における対角線方向に反射光が反射されるようになる。そのため、ガラス部材33の下面と光学素子2の上面との間で、ぞれぞれに発生する反射光が互いに繰り返し反射される現象がさらに発生しにくくなる。そのため、この光学装置用パッケージ4に光学素子2として発光素子が収容されてなる光学装置をプロジェクター用として使用した場合には、映像のエッジ部にゴーストがさらに発生しにくくなる。したがって、この場合にも、映像の品質がさらに向上する。   Also in the case of the configuration as shown in FIG. 8, the upper surface of the optical element 2 and the glass member 33 are not parallel to each other. Further, in this case, the reflected light is reflected in the diagonal direction in plan view of the optical device package 4. Therefore, the phenomenon that the reflected light generated in each of them is repeatedly reflected between the lower surface of the glass member 33 and the upper surface of the optical element 2 is further less likely to occur. Therefore, when an optical device in which a light emitting element is accommodated as the optical element 2 in the optical device package 4 is used for a projector, a ghost is less likely to occur at the edge portion of the image. Therefore, also in this case, the quality of the video is further improved.

また、このような形態の場合には、例えば、四角枠状の枠状部材32のうち上記のように最も高さ位置が高い角部において絶縁基体11と蓋体3(ガラス部材33)との間の空間内にスペースを確保しやすい。例えば光学素子2が発光素子の場合には、反射光を利用して発光素子の出力をモニターする素子を上記のスペースに収容することもできる。すなわち、光学素子2のモニター等の補助用の素子を、いわゆる外付けではなく、光学装置用パッケージ4内に収容することも容易である。その収容のための寸法的な余裕を確保しやすい。したがって、この場合には、光学装置の集約化(小型化および高密度化等)の点でより有効な光学装置用パッケージ4を提供することができる。   Moreover, in the case of such a form, for example, the insulating base 11 and the lid 3 (the glass member 33) are formed at the corner portion having the highest height position as described above in the frame member 32 having a square frame shape. It is easy to secure space in the space between. For example, when the optical element 2 is a light emitting element, an element for monitoring the output of the light emitting element using reflected light can be accommodated in the space. That is, auxiliary elements such as a monitor of the optical element 2 can be easily accommodated in the optical device package 4 instead of so-called external attachment. It is easy to ensure a dimensional allowance for the accommodation. Therefore, in this case, it is possible to provide the optical device package 4 that is more effective in terms of integration of optical devices (such as downsizing and higher density).

また、枠状部材32の上面の傾斜角度(収容される光学素子2の上面を基準面(0度)としたときの基準面に対する枠状部材32の上面傾斜の角度)は、一対の辺同士の間および他の一対の辺同士の間において、例えば次のように設定されていればよい。すなわち、図8においては、枠状部材32の上面は2方向に傾斜している。そのため、光学装置用パッケージに収容される光学素子2の上面視における縦横方向(x−y方向)の比が1:2より小さい場合には図7の例(一方向のみの傾斜)における傾斜角度の約87%程度の傾斜角度で、図7の例と同程度に反射光が元の位置から離れる。そのため、同程度の共振防止の効果を小さい傾斜角で実現することができるようになる。   The inclination angle of the upper surface of the frame-shaped member 32 (the angle of the upper surface inclination of the frame-shaped member 32 with respect to the reference surface when the upper surface of the optical element 2 to be accommodated is the reference surface (0 degree)) is a pair of sides. For example, it may be set as follows between the two sides and between the other pair of sides. That is, in FIG. 8, the upper surface of the frame-shaped member 32 is inclined in two directions. Therefore, when the ratio of the vertical and horizontal directions (xy directions) in the top view of the optical element 2 accommodated in the optical device package is smaller than 1: 2, the inclination angle in the example of FIG. 7 (inclination in only one direction). At a tilt angle of about 87%, the reflected light leaves the original position as much as in the example of FIG. Therefore, the same level of resonance prevention effect can be realized with a small inclination angle.

そのため、傾斜角度を小さく抑える上でより有利となり、装置の高さが高くなることを防ぐことができるので好ましい。   Therefore, it is more advantageous in suppressing the tilt angle, and it is preferable because the height of the apparatus can be prevented from increasing.

また、一対の辺同士の間と他の一対の辺同士の間で、互いに傾斜角度が同じであってもよく、互いに異なっていてもよい。この傾斜角度が互いに同じである場合には、図7に示す例のように枠状部材32の上面が互いに対向し合う一対の辺の一方から他方にかけて一方向に傾斜している場合に比べると、枠状部材32の各辺に加わる応力の差が小さくなる。そのため、光学素子2に加わる応力が小さく抑えられて信頼性のより高い光学装置用パッケージ4としやすいので有利である。また、この傾斜角度が互いに異なる場合に、例えば上面視で光学装置用パッケージ4の長辺と短辺との寸法差が大きいときには、長辺側(長辺に沿った方向)の傾斜角度を小さく、短辺側(短辺に沿った方向)の傾斜角度を大きく設定することで、光学装置用パッケージ4の高さを抑えることができるようになるので有利である。   In addition, the inclination angles may be the same or different from each other between a pair of sides and between another pair of sides. When the inclination angles are the same as each other, the upper surface of the frame-shaped member 32 is inclined in one direction from one of a pair of sides facing each other as in the example shown in FIG. The difference in stress applied to each side of the frame-shaped member 32 is reduced. For this reason, the stress applied to the optical element 2 is suppressed to be small, and the optical device package 4 can be easily obtained, which is advantageous. Further, when the inclination angles are different from each other, for example, when the dimensional difference between the long side and the short side of the optical device package 4 is large in a top view, the inclination angle on the long side (direction along the long side) is reduced. By setting the inclination angle on the short side (direction along the short side) large, it is advantageous because the height of the optical device package 4 can be suppressed.

1 光学装置用基体
11 絶縁基体
12 接合用金属枠体
12a 蓋体搭載領域
13 接合用メタライズ層
14 ろう材
15 配線基板
16 接合材
2 光学素子
3 蓋体
31 金属フレーム
32 枠状部材
33 ガラス部材
34 ガラス接合材
35 接合材
36 メタライズ層
37 接続材
4 光学装置用パッケージ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Optical apparatus base | substrate 11 Insulating base | substrate 12 Joining metal frame 12a Lid | mounting body mounting region 13 Joining metallization layer 14 Brazing material 15 Wiring board 16 Joining material 2 Optical element 3 Lid 31 Metal frame 32 Frame-shaped member 33 Glass member 34 Glass bonding material 35 Bonding material 36 Metallized layer 37 Connection material 4 Package for optical device

Claims (3)

上面に光学素子搭載部を有する絶縁基体、および該絶縁基体の下面に接合されており、外周部が前記絶縁基体よりも外側に突き出ている接合用金属枠体を有しており、前記外周部の上面は、蓋体搭載領域を有する光学装置用基体と、
枠状部材および該枠状部材に接合されたガラス部材を含んでおり、前記枠状部材が前記蓋体搭載領域上に設けられる蓋体とを有しており、
前記枠状部材が四角枠状であり、前記枠状部材の互いに対向し合う一対の辺の一方から他方にかけて、前記枠状部材の前記上面が傾斜し、前記枠状部材の互いに対向し合う他の一対の辺の一方から他方にかけて、前記枠状部材の前記上面がさらに傾斜している光学装置用パッケージ。
Insulating substrate having an optical element mounting portion on the upper surface, and is bonded to the lower surface of the insulating substrate has a bonding metal frame member outer peripheral portion is protruded outward from the insulating base, before Kigaishu The upper surface of the part includes a base for an optical device having a lid mounting area ,
A frame member and a glass member bonded to the frame member, the frame member having a lid provided on the lid mounting region;
The frame-shaped member has a square frame shape, and the upper surface of the frame-shaped member is inclined so that the frame-shaped member faces each other from one side to the other of the pair of sides facing each other. An optical device package in which the upper surface of the frame-shaped member is further inclined from one of the pair of sides to the other.
前記蓋体が前記接合用金属枠体の前記蓋体搭載領域に設けられた、請求項1に記載の光学装置用パッケージと、
前記絶縁基体の前記光学素子搭載部に設けられた光学素子と、
を有する光学装置。
The optical device package according to claim 1, wherein the lid is provided in the lid mounting region of the bonding metal frame .
An optical element provided in the optical element mounting portion of the insulating base;
An optical device.
請求項に記載の光学装置と、
該光学装置の前記光学素子の駆動を制御する制御回路と、
前記光学素子に照射される光源と、
前記光学素子で反射された光が透過するレンズと、
を有するプロジェクター。
An optical device according to claim 2 ;
A control circuit for controlling the driving of the optical element of the optical device;
A light source irradiated to the optical element;
A lens through which the light reflected by the optical element passes,
Projector.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2018060988A (en) * 2016-10-04 2018-04-12 日本特殊陶業株式会社 Lid member, light-emitting device, and manufacturing method therefor
JP6889017B2 (en) * 2017-04-21 2021-06-18 京セラ株式会社 Package for mounting semiconductor laser element and semiconductor laser device
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10256595A (en) * 1997-03-14 1998-09-25 Sony Corp Semiconductor device
JP4057897B2 (en) * 2002-01-30 2008-03-05 京セラ株式会社 Optical semiconductor device
JP2007212576A (en) * 2006-02-07 2007-08-23 Shinko Electric Ind Co Ltd Optical device
JP4967481B2 (en) * 2006-07-03 2012-07-04 ソニー株式会社 Functional device, and electronic device, module and electronic equipment provided with the functional device
JP4823155B2 (en) * 2006-10-27 2011-11-24 京セラ株式会社 Electronic component storage package, electronic device, and optical semiconductor device

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