JP6487049B2 - 蒸着源、蒸着装置および蒸着膜製造方法 - Google Patents

蒸着源、蒸着装置および蒸着膜製造方法

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Description

本発明は、蒸着材料が蒸着粒子として射出する穴（以下、ノズルと称する）を備えた蒸着源、上記蒸着源を備えた蒸着装置、上記蒸着源を用いた蒸着膜製造方法に関するものである。
近年、さまざまなフラットパネルディスプレイが開発されており、特に、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示装置は、低消費電力化、薄型化および高画質化などを実現できる点から、優れたフラットパネルディスプレイとして高い注目を浴びている。
このような有機ＥＬ表示装置の分野においては、表示画面の大型化や製造コストの抑制の観点から、より大型のマザー基板を用いることが好ましい。このような大面積基板である大型のマザー基板に蒸着膜の成膜を行う場合、ラインソースまたはリニアソースと称される蒸着源が使用される。上記蒸着源は、蒸着材料が蒸着粒子として射出するノズルが一方向に沿って配置されているので、第１方向の蒸着源の長さが、上記第１方向と直交し、かつ、蒸着源または基板が移動する第２方向の蒸着源の長さより長くなっているのが一般的である。なお、以後、大型のマザー基板に蒸着膜の成膜を行う場合に用いられる蒸着源をラインソースと称する。
図１０の（ａ）は従来のラインソースの概略形状を示す上面図であり、図１０の（ｂ）は従来のラインソースの概略形状を示す斜視図である。
大型のマザー基板に蒸着膜の成膜を行う場合、成膜される蒸着膜の膜厚分布を均一にすることは非常に重要であるため、図１０の（ａ）および図１０の（ｂ）に図示されているように、ラインソース１００には、通常、蒸着材料が蒸着粒子として射出する丸型のノズル１０１が複数個設けられている。
ラインソース１００は、その加熱方法などは特に限定されないが、加熱されることにより、蒸着材料を、ノズル１０１を介して外部に蒸着粒子として射出する。ラインソース１００の材質は特に限定されないが、熱の影響による伸縮が少ない材質を用いるのが一般的である。なお、ラインソース１００の形状は、図中Ｘ方向の長さが上記Ｘ方向と直交する図中Ｙ方向の長さより長い形状となっている。
ラインソース１００の射出面の各々のノズル１０１から射出された蒸着粒子が基板上にて重畳することにより、大面積にわたって均一な蒸着が可能となる。
日本国公開特許公報「特開２００３‐２９７５７０号公報（２００３年１０月１７日公開）」 日本国特許公報「特公平７‐９３２４９号公報（１９９５年１０月９日公告）」
しかしながら、図１０の（ａ）および図１０の（ｂ）に図示されている従来のラインソース１００を用いた場合には、蒸着材料の利用効率が悪いという問題が生じる。
図１１の（ａ）および図１１の（ｂ）は、従来のラインソース１００を用いた場合に、蒸着材料の利用効率が悪くなる理由を説明するための図である。
従来のラインソース１００（図１０の（ａ）および図１０の（ｂ）参照）には、一般的に、丸型のノズル１０１が設けられている。このように丸型のノズル１０１が設けられている場合、図１１の（ａ）に図示されているように、図中Ｘ方向において、各々のノズル１０１から射出する蒸着粒子は大きく拡がりながら射出する。このため、基板１０４が存在しない領域である非蒸着領域にまで蒸着粒子が拡がるのを防止するため、蒸着粒子が飛散する方向上には、防着板１０２が設けられている。なお、基板１０４が存在する領域である蒸着領域においては、マスク１０３を介して、蒸着粒子を基板１０４上に蒸着することにより、基板１０４の幅方向全体に所定形状の蒸着膜を形成することができる。
ここで、図中Ｘ方向における蒸着材料の利用効率について考えて見ると、ラインソース１００の長軸方向（図中Ｘ方向）の長さは、基板１０４の幅とほぼ同じであるため、拡がった蒸着粒子の多くは、基板１０４が存在する領域である蒸着領域に到達して有効に活用される割合が高いことがわかる。すなわち、一部の蒸着粒子、具体的には、ラインソース１００の長軸方向（図中Ｘ方向）の中心からずれた両端に近い領域に設けられたノズル１０１から射出する蒸着粒子の一部が基板１０４に到達せず、防着板１０２に付着するか、防着板１０２が形成されていない箇所においては、そのまま真空チャンバー内に飛散することとなる。
一方、ラインソース１００は、図１１の（ｂ）に図示されているように、基板１０４の長さ方向、すなわち、図中のラインソースの移動方向の何れか一方向に移動するが、ラインソース１００が基板１０４上の非蒸着領域を通過する際には蒸着粒子が射出せず、ラインソース１００が基板１０４上の蒸着領域に留まっている際にのみ蒸着粒子が射出する構成となっている。
上述したように、従来のラインソース１００には、丸型のノズル１０１が設けられているので、図中Ｙ方向においても、各々のノズル１０１から射出する蒸着粒子は大きく拡がりながら射出することとなり、基板１０４上の非蒸着領域にまで蒸着粒子が拡がるのを防止するため防着板１０５が設けられている。
ここで、図中Ｙ方向における蒸着材料の利用効率について考えて見ると、ラインソース１００の短軸方向（図中Ｙ方向）の長さは、基板１０４の長さと比較すると、大幅に短く、ラインソース１００と基板１０４とが対向する部分も小さいので、基板１０４上における蒸着領域はごく一部で、非蒸着領域が大半を占めることとなる。ノズル１０１から射出した蒸着粒子中、基板１０４上における蒸着領域に到達しない蒸着粒子は、全て材料のロスにつながるとともに、防着板１０５に付着するか、防着板１０５が形成されていない箇所においては、そのまま真空チャンバー内に飛散することとなる。
したがって、各々のノズル１０１から射出し拡がった蒸着粒子の多くは、基板１０４上における蒸着領域に到達せず、蒸着粒子が有効に活用される割合が低いことがわかる。
このような問題を改善するために、ラインソース１００の短軸方向（図中Ｙ方向）の長さをより長くし、基板１０４上における蒸着領域を大きく広げることも考えられるが、このようにした場合には、蒸着装置の極端な大型化や量産性の低下を招いてしまう。
さらに、近年の有機ＥＬ表示装置の場合、そのデバイス特性への悪影響の懸念や、ＦＭＭ（Fine Metal Mask）といったマスク塗分け方法を用いる場合のシャドウの懸念などから、基板１０４に対する蒸着粒子の入射角を高く制限する必要があり、ラインソース１００の短軸方向（図中Ｙ方向）の長さは、ますます制限されることとなってしまっている。
以上のように、従来のラインソース１００は、結果として著しい蒸着材料の利用効率の低下を引き起こしてしまっている。
なお、特許文献１および２には、丸型とは異なるノズル形状(開口形状)を備えている場合について記載されている。
特許文献１には、蒸気流出開口部のサイズおよび隣接する蒸気流出開口部間の間隔の少なくとも一方を変えることにより、ラインソースの長さ方向に沿って格納された蒸着材料の射出量の均一性を実質的に改善することについて記載されている。
図１２は、特許文献１に開示されているラインソースを構成する気化ヒータおよび電気絶縁性容器の概略構成を示す図である。
図示されているように、固体有機材料が入っている細長い電気絶縁性容器２３０は、側壁２３２、側壁２３２と対向する側壁（図示せず）、末端壁２３６・２３８および底壁２３５によって画定されており、上記側壁と上記末端壁とは共通の上面を共有している。電気絶縁性容器２３０の蓋を形成する気化ヒータ２４０は、気化ヒータ２４０の一部を形成する封止フランジ２４６によって、電気絶縁性容器２３０の共通上面の上に封止配置されている。気化ヒータ２４０は、実質的に平面状であり電気接続フランジ２４１・２４３を備えている。
複数の蒸気流出開口部２４２は、気化ヒータ２４０の長さ方向に沿った中心に形成されており、気化ヒータ２４０を貫通して、電気絶縁性容器２３０内で形成された有機材料の蒸気を、蒸気流出開口部２４２から流出させるようになっている。
図示されているように、複数の蒸気流出開口部２４２の一部は、その長さと幅が異なるスリット形状に形成されている。しかしながら、蒸気流出開口部２４２の長さと幅は、ラインソースの長軸方向に沿って格納された蒸着材料の射出量の均一性を実質的に改善することのみを考慮しているため、少なくとも、ラインソースの短軸方向に平行に配列された蒸気流出開口部２４２の幅方向において、蒸着粒子の飛散範囲を狭く制御できるようには規定されてない。また、ラインソースの長さ方向の中央部分の蒸気流出開口部２４２は、スリット形状でもない。さらに、気化ヒータ２４０に形成された蒸気流出開口部２４２の深さについても、特に考慮しておらず、ラインソースの短軸方向に平行に配列された蒸気流出開口部２４２の幅方向において、蒸着粒子の飛散範囲を狭く制御できるような深さには規定されていない。
したがって、特許文献１に開示されている蒸気流出開口部２４２の各々は、蒸気流出開口部２４２の長さ方向と蒸気流出開口部２４２の幅方向とで十分な異方性効果が得られる特定のスリット形状ではないので、特許文献１に開示されているラインソースを用いた場合にも、著しい蒸着材料の利用効率の低下を招いてしまう。
特許文献２には、開口部が形成されたマスクを備えた蒸着源装置について記載されており、上記マスクにおいては、開口部の短軸方向を橋絡することで複数のスリット状の開口部とし、熱の影響により伸びが発生して上記開口部のスリット幅が変化するのを抑制し、フィルム幅方向の金属膜厚の均一性を向上できると記載されている。
しかしながら、特許文献２に開示されている蒸着源装置においては、マスクに形成された複数のスリット状の開口部の深さについては、特に考慮しておらず、上記マスクの短軸方向に平行に配列されたスリット状の開口部の幅方向において、蒸着粒子の飛散範囲を狭く制御できるような深さには規定されていない。
したがって、特許文献２に開示されている蒸着源装置を用いた場合にも、蒸着材料の利用効率の向上を図ることはできない。
本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、成膜分布が均一でありながら、高い蒸着材料の利用効率を実現できる蒸着源、蒸着装置および蒸着膜を形成する方法を提供することを目的とする。
本発明の蒸着源は、上記の課題を解決するために、蒸着粒子を射出する複数の開口部が一つの面に形成され、第１方向の長さが同一平面内において上記第１方向と直交する第２方向の長さより長い蒸着源であって、上記複数の開口部の各々は、上記第１方向に平行で、互いに対向する同じ長さの２つの第１辺と、上記第２方向に平行で、互いに対向する同じ長さの２つの第２辺とに囲まれてスリット形状で形成されているとともに、上記第１方向に沿って直線状に一定間隔で形成されており、上記第１辺の長さは、上記第２辺の長さの４倍以上、５０倍以下であり、上記第２辺の長さは１ｍｍ以上、５ｍｍ以下であり、上記第１方向および上記第２方向と直交する第３方向における上記開口部の深さは５ｍｍ以上、２０ｍｍ以下である。
上記構成によれば、上記開口部の各々においては、上記第１辺の長さは、上記第２辺の長さの４倍以上、５０倍以下であり、上記第２辺の長さは１ｍｍ以上、５ｍｍ以下であり、上記第１方向および上記第２方向と直交する第３方向における上記開口部の深さは５ｍｍ以上、２０ｍｍ以下であるので、上記複数の開口部の各々は、上記開口部の第１方向と第２方向とで十分な異方性効果が得られるある特定のスリット形状となる。また、上記複数の開口部の各々は、上記開口部のより長い方が上記蒸着源の第１方向に沿って形成されている。
したがって、上記開口部によれば、上記蒸着粒子の上記第１方向の飛散範囲は広く、上記蒸着粒子の上記第２方向の飛散範囲は狭く制御することができるので、成膜分布が均一でありながら、高い蒸着材料の利用効率を実現できる蒸着源を実現できる。
本発明の蒸着装置は、上記蒸着源を備えている。
上記構成によれば、上記蒸着装置は、上記蒸着源を備えているので、成膜分布が均一でありながら、高い蒸着材料の利用効率を実現できる。
本発明の蒸着膜製造方法は、上記蒸着源を用いた、基板への蒸着膜製造方法であって、上記基板および上記蒸着源の少なくとも一つを、上記第２方向に移動させながら蒸着を行う。
上記方法によれば、基板上に形成される成膜分布が均一でありながら、高い蒸着材料の利用効率を実現できる。
本発明の一態様によれば、成膜分布が均一でありながら、高い蒸着材料の利用効率を実現できる蒸着源、蒸着装置および蒸着膜製造方法を提供できる。
（ａ）〜（ｃ）は、本発明の実施の形態１に係るラインソースおよびラインソースに備えられたスリットノズルの形状を示す図である。 （ａ）は、本発明の実施の形態１に係るラインソースの天板を示す図であり、（ｂ）は、上記ラインソースと基板とを備えた蒸着装置を示す図である。 （ａ）は、スリットノズルの幅方向における蒸着粒子の指向性を説明するための図であり、（ｂ）は、スリットノズルの長さ方向における蒸着粒子の指向性を説明するための図である。 （ａ）は、蒸着粒子のスリットノズル幅方向の指向性（ｎ値）とスリットノズル長さ/幅比率との関係を示す図であり、（ｂ）は、蒸着粒子のスリットノズル長さ方向の指向性（ｎ値）とスリットノズル長さ/幅比率との関係を示す図である。 基板上に形成された蒸着膜のスリットノズル幅方向における膜厚分布とスリットノズル幅方向ｎ値との関係を示す図である。 図２に図示した蒸着装置を用いて基板上に蒸着膜を形成した場合であって、（ａ）は、基板上に形成された蒸着膜のラインソース長軸方向における膜厚分布を示す図であり、（ｂ）は、基板上に形成された蒸着膜のラインソース短軸方向における膜厚分布を示す図である。 （ａ）は、本発明の実施の形態２に係るラインソースの天板を示す図であり、（ｂ）は、上記ラインソースと基板とを備えた蒸着装置を示す図である。 図７に図示した蒸着装置を用いて蒸着膜を形成した場合であって、（ａ）は、基板上に形成された蒸着膜のラインソース長軸方向における膜厚分布を示す図であり、（ｂ）は、基板上に形成された蒸着膜のラインソース短軸方向における膜厚分布を示す図である。 本発明の実施の形態３に係るラインソースの天板を示す図である。 （ａ）は、従来のラインソースの概略形状を示す上面図であり、（ｂ）は、従来のラインソースの概略形状を示す斜視図である。 （ａ）および（ｂ）は、図１０に図示した従来のラインソースを用いた場合に、蒸着材料の利用効率が悪くなる理由を説明するための図である。 特許文献１に開示されているラインソースを構成する気化ヒータおよび電気絶縁性容器の概略構成を示す図である。
本発明の実施の形態について図１から図９に基づいて説明すれば、次の通りである。以下、説明の便宜上、特定の実施形態にて説明した構成と同一の機能を有する構成については、同一の符号を付記し、その説明を省略する場合がある。
〔実施の形態１〕
図１から図６に基づき、例えば、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示装置の製造工程において、基板上に蒸着膜を形成する際に用いられるラインソース１０（蒸着源）と、ラインソース１０を備えている蒸着装置３０とについて説明する。
図１の（ａ）は、ラインソース１０に備えられたスリットノズル１の形状を示す平面図であり、図１の（ｂ）はラインソース１０の形状を示す平面図であり、図１の（ｃ）はラインソース１０の形状を示す斜視図である。
図１の（ａ）は、ラインソース１０に備えられたスリットノズル１の形状を示しており、図示しているように、スリットノズル１のＸ軸方向（第１方向）の長さをＬとし、スリットノズル１のＹ軸方向（第２方向）の長さ（すなわち、幅）をＷとすると、スリットノズル１は、その長さＬが、その幅Ｗよりも長い形状を有しているとともに、上記Ｘ軸方向および上記Ｙ軸方向と直交するＺ軸方向（第３方向）に所定の深さを有する。なお、スリットノズル１のＹ軸方向（第２方向）は、同一平面内においてスリットノズル１のＸ軸方向（第１方向）と直交する。すなわち、スリットノズル１は、互いに対向する同じ長さの２つの第１辺Ａと、互いに対向する同じ長さの２つの第２辺Ｂとに囲まれたスリット形状を有している。
図１の（ｂ）・（ｃ）に図示されているように、ラインソース１０は、Ｘ軸方向（第１方向）の長さが、Ｘ軸方向と直交するＹ軸方向（第２方向）の長さより長い四角柱状を有している。以下、Ｘ軸方向を長さ方向とし、Ｙ軸方向を幅方向として説明する。
ラインソース１０は、蒸着粒子を射出する蒸着源である。ラインソース１０は、容器内部に蒸着材料を直接収容する容器であってもよく、ロードロック式の配管を有し、外部から蒸着材料が供給されるように形成されていてもよい。
ラインソース１０の天板１１に設けられた複数のスリットノズル１は、ノズル状（筒状）の射出口であり、平面視で、上記Ｘ軸方向に平行で、互いに対向する同じ長さの２つの第１辺Ａと、Ｙ軸方向（すなわち、ラインソース１０の短軸方向）に平行で、互いに対向する同じ長さの２つの第２辺Ｂとに囲まれたスリット形状を有している。
なお、本実施の形態においては、アップデポジションを行う場合の例として、複数のスリットノズル１をラインソース１０の天板１１に設けた場合を例に挙げて説明したが、これに限定されることはなく、例えば、複数のスリットノズル１をラインソース１０の下側の一つの面に設けてもよく、この場合には、ダウンデポジションに好適に用いることができる。
ラインソース１０は、蒸着材料を加熱して蒸発（蒸着材料が液体材料である場合）または昇華（蒸着材料が固体材料である場合）させることで気体状の蒸着粒子を発生させ、スリットノズル１から外部に射出する。なお、ラインソース１０の天板１１は、蒸着材料の詰まりを防ぐため、蒸着材料の蒸発温度または、昇華温度以上に加熱されている。
ラインソース１０の天板１１には、複数のスリットノズル１が、ラインソース１０の長軸方向であるＸ軸方向に沿って、直線状に一定間隔で形成されている。
図２の（ａ）は、ラインソース１０の形状を示す平面図でその一例としての寸法を示した図であり、図２の（ｂ）は、ラインソース１０と基板２０とを備えた蒸着装置３０の要部の概略構成を示す図である。
図２の（ａ）および図２の（ｂ）に図示されているように、本実施の形態においては、幅が６００ｍｍである基板２０を用いていることや、ラインソース１０の天板１１から基板２０までの距離が２００ｍｍであることを考慮した上で、この基板２０の幅方向において均一な蒸着膜を形成するため、長軸方向（図中Ｘ軸方向）の長さが８５０ｍｍであるラインソース１０を用いたが、これに限定されることはなく、ラインソース１０長軸方向（図中Ｘ軸方向）の長さは、基板２０の幅やラインソース１０の天板１１に設けられたスリットノズル１の数やラインソース１０の天板１１から基板２０までの距離に応じて、その好ましい値は変わり得る。
図２の（ａ）に図示されているように、ラインソース１０の長軸方向（図中Ｘ軸方向）の長さは８５０ｍｍであり、各々のスリットノズル１の幅は２ｍｍで、各々のスリットノズル１の長さは３６ｍｍで形成されている。そして、スリットノズル１は、スリットノズル１の長さ３６ｍｍとスリットノズル１の間の間隙８４ｍｍとを合わせて１２０ｍｍとなるように、ラインソース１０の長軸方向（図中Ｘ軸方向）に沿って、７個が直線状に配置されており、スリットノズル１は、ラインソース１０の短軸方向（図中Ｙ軸方向）においては、略中心に配置されている。すなわち、スリットノズル１は、そのピッチ（スリットノズル１の左端から隣接するスリットノズル１の左端までの距離）が１２０ｍｍとなるように、配置されている。なお、ラインソース１０の長軸方向（図中Ｘ軸方向）の両端から最隣接するスリットノズル１までは４７ｍｍであり、最隣接するスリットノズル１の間には８４ｍｍの間隙がある。なお、図２の（ａ）に図示した具体的な寸法やスリットノズル１の個数が一例であることは言うまでもない。
なお、本実施の形態においては、各々のスリットノズル１の幅が２ｍｍの場合を例に挙げて説明するが、これに限定されることはなく、各々のスリットノズル１の幅は、１ｍｍ以上、５ｍｍ以下であればよい。各々のスリットノズル１の幅が１ｍｍ未満の場合は、加工性や蒸着粒子の射出効率が悪くなるという問題があり、５ｍｍより大きい場合には、蒸着粒子のスリットノズル１の幅方向の飛散範囲を狭く制御するのが困難となってしまう。
なお、本実施の形態においては、図２の（ａ）および図２の（ｂ）に図示されているように、ラインソース１０は、基板２０に対して、ラインソース１０をスリットノズル１の幅方向（図中Ｙ軸方向）が走査方向（基板走査方向）となるように移動（相対移動）させながら蒸着を行ったが、これに限定されるものではない。スリットノズル１の幅方向（図中Ｙ軸方向）が走査方向となるように、ラインソース１０に対して、基板２０を移動（相対移動）させてもよい。さらには、スリットノズル１の幅方向（図中Ｙ軸方向）が走査方向となるように、ラインソース１０と基板２０とをともにスリットノズル１の幅方向（図中Ｙ軸方向）に移動させてもよい。
そして、図２の（ｂ）に図示されているように、ラインソース１０の天板１１に設けられた複数のスリットノズル１のＺ軸方向（第３方向）の深さは、本実施の形態においては、１０ｍｍである場合を例に挙げて説明するが、これに限定されることはなく、以下の理由から５ｍｍ以上、２０ｍｍ以下であればよい。スリットノズル１の深さが、浅すぎると（５ｍｍ未満の場合）、蒸着分布の異方性が弱まってしまう問題が生じ、深すぎると（２０ｍｍより厚い場合）、加工性が悪くなったり、つまりなどが生じやすくなってしまう。
ラインソースのスリットノズルから射出した蒸着粒子に方向分布（異方性とも言う）、すなわち、指向性が生じる詳細なメカニズムは明らかになっていないが、スリットノズルからの熱エネルギーの供与や、スリットノズルを通過する際に個々の蒸着粒子が相互に衝突を起こす現象が相互に関係し、最終的な方向分布を形成するものと考えられている。
そして、ラインソースのスリットノズルから射出した蒸着粒子に生じる方向分布、すなわち、指向性を表すパラメーターとして、一般にｎ値というパラメーターが使用されている。このｎ値は、下記式（１）で表すことができ、下記式（１）中のｎ＋３をｎ値とする場合もある。
Ｒ＝Ｒ０×ｃｏｓｎ＋３θ 式（１）
上記式（１）中、Ｒは基板２０上における、ノズル直上方向に対して角度θの位置（第１の位置）における蒸着膜厚を示しており、Ｒ０は基板２０上の位置であって、ノズル直上の位置（第２の位置）の蒸着膜厚を示しており、θは上記第１の位置と上記第２の位置との間の角度を示している。
上記式（１）からわかるように、基板２０上に蒸着される蒸着膜の厚さは、ノズル直上で最も大きく、ノズル直上から離れるにつれて小さくなる。また、上記ｎ値はノズルの指向性を表すパラメーターであるので、大きければ大きいほど、その指向性が高くなることを意味し、言い換えると、上記ｎ値が大きければ大きいほど、一つのノズルのみが存在する蒸着源を想定すると、この蒸着源から射出した蒸着粒子が形成する蒸着膜の膜厚分布は悪くなっていくと言える。
図３は、上記式（１）を本実施の形態に適用した場合であって、図３の（ａ）は、スリットノズル１の幅方向における蒸着粒子の指向性を説明するための図であり、図３の（ｂ）は、スリットノズル１の長さ方向における蒸着粒子の指向性を説明するための図である。
図３の（ａ）に図示されているように、スリットノズル１の幅方向（図中Ｙ方向）においては、詳しくは後述するが、上記ｎ値が比較的大きい値となり、一つのスリットノズル１のみが存在する蒸着源１０Ｕから射出した蒸着粒子が形成する蒸着膜２１の膜厚は、スリットノズル１の直上から少し離れた位置でも小さくなることがわかる。これは、スリットノズル１が、幅方向（図中Ｙ方向）において、指向性が高い形状に形成されていることを意味する。
一方、図３の（ｂ）に図示されているように、スリットノズル１の長さ方向（図中Ｘ方向）においては、詳しくは後述するが、上記ｎ値が比較的小さい値となり、一つのスリットノズル１のみが存在する蒸着源１０Ｕから射出した蒸着粒子が形成する蒸着膜２１の膜厚は、スリットノズル１の直上から少し離れた位置でも比較的大きくなることがわかる。これは、スリットノズル１は、長さ方向（図中Ｘ方向）において、指向性が低い形状に形成されていることを意味する。
図４は、図２の（ｂ）に図示した蒸着装置３０を用いて基板２０上に蒸着膜を形成した場合であって、図４の（ａ）は、蒸着粒子のスリットノズル幅方向の指向性（ｎ値）とスリットノズル長さ/幅比率との関係を示す図であり、図４の（ｂ）は、蒸着粒子のスリットノズル長さ方向の指向性（ｎ値）とスリットノズル長さ/幅比率との関係を示す図である。
図４の（ａ）に図示されているように、ラインソース１０の各々のスリットノズル１の幅は２ｍｍで、各々のスリットノズル１の長さは３６ｍｍで形成されているので、図中の横軸であるスリットノズル長さ/幅比率は１８であり、図中の縦軸であるスリットノズル幅方向ｎ値は、約２５０であり、スリットノズル１が、スリットノズル１の幅方向において、指向性が高い形状に形成されていることがわかる。
一方、図４の（ｂ）に図示されているように、ラインソース１０の各々のスリットノズル１の幅は２ｍｍで、各々のスリットノズル１の長さは３６ｍｍで形成されているので、図中の横軸であるスリットノズル長さ/幅比率は１８であり、図中の縦軸であるスリットノズル長さ方向ｎ値は、約３であり、スリットノズル１が、スリットノズル１の長さ方向において、指向性が低い形状に形成されていることがわかる。
すなわち、ラインソース１０の各々のスリットノズル１は、スリットノズル１の幅方向と長さ方向とで十分な異方性効果が得られる特定のスリット形状に形成されている。
図５は、図２の（ｂ）に図示した蒸着装置３０を用いて基板２０上に蒸着膜を形成した場合であって、基板２０上に形成された蒸着膜のスリットノズル１の幅方向における膜厚分布とスリットノズル１の幅方向ｎ値との関係を示す図である。
基板２０上に形成された蒸着膜のスリットノズル１の幅方向における膜厚分布からわかるように、スリットノズル１の幅方向ｎ値が大きくなるほど、基板２０のスリットノズル１の幅方向の非常に狭い領域にのみ蒸着膜が形成されることがわかる。
図６は、図２の（ｂ）に図示した蒸着装置３０を用いて基板２０上に蒸着膜を形成した場合であって、図６の（ａ）は、基板２０上に形成された蒸着膜のラインソース１０の長軸方向における膜厚分布を示す図であり、図６の（ｂ）は、基板２０上に形成された蒸着膜のラインソース１０の短軸方向における膜厚分布を示す図である。
図６の（ａ）に図示されているように、基板２０上に形成された蒸着膜のラインソース１０の長軸方向の膜厚分布は、概ねフラットであり、均一な膜厚分布を得ることができる。具体的には、基板幅６００ｍｍの領域においては±５％の膜厚分布を得ることができ、そのさらに内側である５００ｍｍの領域おいては、±２％の膜厚分布を得ることができた。
一方、図６の（ｂ）に図示されているように、ラインソース１０の各々のスリットノズル１のスリットノズル幅方向ｎ値は、約２５０であるので、基板２０のスリットノズル幅方向の±３０ｍｍの範囲より外側には、ほとんど蒸着粒子が到達せず、基板２０のスリットノズル幅方向の非常に狭い領域（基板２０のスリットノズル幅方向の±３０ｍｍの範囲以内）にのみ蒸着膜を形成することができる。
したがって、スリットノズル幅方向においては、従来のように、防着板（制御板ともいう）を用いなくても、蒸着粒子が真空チャンバー内に飛散するのを抑制できる。
よって、蒸着膜の高い面内均一性、高い材料利用効率、高精度なマスク蒸着および小型化が実現できるラインソース１０および蒸着装置３０を提供できる。
本実施の形態においては、図４の（ａ）および図４の（ｂ）に図示されているように、ラインソース１０の各々のスリットノズル１の幅が２ｍｍで、各々のスリットノズル１の長さが３６ｍｍで形成され、スリットノズル長さ/幅比率が１８である場合を一例に挙げて説明しているが、これに限定されることはなく、スリットノズル幅方向ｎ値とスリットノズル長さ方向ｎ値との差が、スリットノズルの幅方向と長さ方向とで十分な異方性効果が得られるスリットノズル長さ/幅比率以上であればよく、スリットノズルの幅方向と長さ方向とで十分な異方性効果が得られるスリットノズル長さ/幅比率は４以上であればよい。また、スリットノズル長さ/幅比率は、スリットノズル幅方向ｎ値とスリットノズル長さ方向ｎ値との差がさらに大きくなることから、１０以上であることが好ましく、スリットノズル幅方向ｎ値が２５０程度となる１５以上であることがさらに好ましい。
以下では、スリットノズル長さ/幅比率が少なくとも４以上必要な理由について説明する。スリットノズル長さ/幅比率は、上述したように材料利用効率を十分に確保するとともに、さらには特に近年の有機ＥＬ表示装置における、デバイス特性への悪影響の懸念や、ＦＭＭ（Fine Metal Mask）といったマスク塗分け方法を用いる場合のシャドウの懸念を無くすことができる値に設定されるべきである。これらを考慮すると、スリットノズル幅方向（図２の（ａ）および図２の（ｂ）におけるＹ方向）での蒸着範囲は基板２０上±５０ｍｍ程度の範囲に収めるべきであり、その時に材料利用ロスを無くすためには、図５より、スリットノズル幅方向ｎ値はｎ＝１００程度の値を有する必要がある。したがって、スリットノズル長さ/幅比率は、図４の（ａ）より、４以上とするべきである。
一方で、スリットノズル長さ/幅比率があまりにも大きい場合には、基板２０上に蒸着される蒸着膜のスリットノズル長さ方向の膜厚分布の悪化を招く恐れがある。図４の（ｂ）に示すように、スリットノズル長さ方向ｎ値は、スリットノズル長さ/幅比率に比例する。このため、スリットノズル長さ方向ｎ値は、スリットノズル長さ/幅比率から、計算によって求めることができる。基板２０の幅方向全体において面内均一性を確保する観点からすると、スリットノズル長さ方向ｎ値は、５以下であることが好ましく、４未満であることが特に好ましい。このため、スリットノズル長さ/幅比率は、５０以下であることが好ましく、蒸着レートやラインソース１０の熱分布の変動による蒸着分布形状の変動が著しく大きくなってしまうのを抑制する観点からすると、スリットノズル長さ/幅比率は、３０以下であることがより好ましい。
また、本発明のような蒸着分布の異方性を発現するためのメカニズムは詳細には見出していないが、多数の蒸着粒子がスリットノズル１を通過する際に強く通路制限を受けるためと推察される。実際のところ、蒸着分布はスリットノズル１の形状だけでなく、スリットノズル１のサイズ（長さ、幅および深さ）にも影響を受ける。したがって、本発明のような強い蒸着分布の異方性を発現するためには、図２の（ａ）および図２の（ｂ）に図示されているように、スリットノズル１の深さを５ｍｍ以上、２０ｍｍ以下とし、スリットノズル１の幅は１ｍｍ以上、５ｍｍ以下とし、スリットノズル１の長さ（第１辺の長さ）は、スリットノズル１の幅（第２辺の長さ）の４倍以上、５０倍以下である必要がある。なお、スリットノズル１の深さが、浅すぎると（５ｍｍ未満の場合）、蒸着分布の異方性が弱まってしまう問題が生じ、深すぎると（２０ｍｍより厚い場合）、加工性が悪くなったり、つまりなどが生じやすくなってしまう。
また、上述したように、基板２０上に蒸着される蒸着膜のラインソース１０の長軸方向全体においては、膜厚分布の均一化を行う必要があるが、そのためには複数のスリットノズル１から射出された蒸着粒子が基板２０上にて重畳する必要がある。このような観点から、図２の（ａ）に図示されているように、スリットノズル１を設ける数は決定され、通常のサイズのラインソースの場合、スリットノズル１は、少なくとも５個以上設けられていることが好ましく、このように、スリットノズル１を設ける数によってもスリットノズル１の長さは制限されることとなる。
また、本実施の形態においては、図２の（ａ）に図示されているように、スリットノズル１は、スリットノズル１の長さ３６ｍｍとスリットノズル１の間の間隙８４ｍｍとを合わせて１２０ｍｍとなるように、すなわち、スリットノズル１を、そのピッチ（スリットノズル１の左端から隣接するスリットノズル１の左端までの距離）が１２０ｍｍとなるように、配置した場合を例に挙げて説明したが、スリットノズル１の間の間隙をあまりにも狭く設定すると、部材の加工精度が追い付かなくなったり、熱膨張による歪の影響が発生するので好ましくない。一方で、スリットノズル１の間の間隙をあまりにも広く設定すると、蒸着膜の基板２０の幅方向全体において面内均一性を確保するのが困難となってしまう。したがって、スリットノズル１の間の間隙とスリットノズル１の長さとを合わせた長さは、スリットノズル１の長さの１．５倍以上、ラインソース１０の長さの０．２倍以下であることが好ましい。
本実施の形態においては、ラインソース１０や蒸着装置３０が有機ＥＬ表示装置の製造工程において用いられる場合を一例に挙げて説明しているが、これに限定されることはなく、ラインソース１０や蒸着装置３０は、蒸着をはじめとする気相成長技術の全てに適用可能である。
〔実施の形態２〕
次に、図７の（ａ）〜（ｂ）および図８に基づいて、本発明の実施の形態２について説明する。本実施の形態においては、スリットノズル１ａの間の間隙を２４ｍｍに縮め、そのピッチ（スリットノズル１ａの左端から隣接するスリットノズル１ａの左端までの距離）が６０ｍｍとなるようにし、ラインソース１０ａの天板１１ａに形成されたスリットノズル１ａの数を増やし、その分、基板２０とラインソース１０ａの天板１１ａとの間の距離を短く設定した点において実施の形態１とは異なり、その他については実施の形態１において説明したとおりである。説明の便宜上、実施の形態１の図面に示した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付し、その説明を省略する。
図７の（ａ）は、ラインソース１０ａの天板１１ａを示す図であり、図７の（ｂ）は、ラインソース１０ａと基板２０とを備えた蒸着装置３０ａを示す図である。
図７の（ａ）に図示されているように、スリットノズル１ａは、幅が２ｍｍで、長さが３６ｍｍで、上述した実施の形態１におけるスリットノズル１と同じである。異なる点は、本実施の形態においては、最隣接するスリットノズル１ａの間に２４ｍｍの間隙があるように、スリットノズル１ａを一定間隔で形成しているのに対し、上述した実施の形態１においては、最隣接するスリットノズル１の間に８４ｍｍの間隙があるように、スリットノズル１を一定間隔で形成している。
最隣接するスリットノズル１ａの間に設けられる間隙を２４ｍｍに縮めることによって、ラインソース１０ａの天板１１ａには、１３個のスリットノズル１ａを設けることができ、ラインソース１０ａの天板１１ａに形成されたスリットノズル１ａの形成密度を上げることができる。なお、スリットノズル１ａは、スリットノズル１ａの長さ３６ｍｍとスリットノズル１ａの間の間隙２４ｍｍとを合わせて６０ｍｍとなるように、ラインソース１０ａの長軸方向（図中Ｘ軸方向）に沿って、１３個が直線状に配置されており、スリットノズル１ａは、ラインソース１０ａの短軸方向（図中Ｙ軸方向）においては、略中心に配置されている。
図７の（ｂ）に図示されているように、ラインソース１０ａにおいては、ラインソース１０ａの天板１１ａに形成されたスリットノズル１ａの密度を実施の形態１の約２倍（正確には１．８６倍）に上げているので、ラインソース１０ａの天板１１ａと基板２０との間の距離を実施の形態１の半分である１００ｍｍに設定しても、ラインソース１０ａの長軸方向（図中Ｘ軸方向）の膜厚均一性を確保することができる。
なお、図７の（ａ）および図７の（ｂ）に図示されているように、ラインソース１０ａの天板１１ａに設けられた複数のスリットノズル１ａのＺ軸方向（第３方向）の深さは、上述した実施の形態１と同様に、１０ｍｍとしたが、これに限定されることはなく、５ｍｍ以上、２０ｍｍ以下であればよい。
なお、本実施の形態においては、図７の（ａ）および図７の（ｂ）に図示されているように、ラインソース１０ａは、基板２０に対して、ラインソース１０ａをスリットノズル１ａの幅方向（図中Ｙ軸方向）が走査方向（基板走査方向）となるように移動（相対移動）させながら蒸着を行ったが、これに限定されるものではない。スリットノズル１ａの幅方向（図中Ｙ軸方向）が走査方向となるように、ラインソース１０ａに対して、基板２０を移動（相対移動）させてもよい。さらには、スリットノズル１ａの幅方向（図中Ｙ軸方向）が走査方向となるように、ラインソース１０ａと基板２０とをともにスリットノズル１ａの幅方向（図中Ｙ軸方向）に移動させてもよい。
図８は、図７の（ｂ）に図示した蒸着装置３０ａを用いて基板２０上に蒸着膜を形成した場合であって、図８の（ａ）は、基板２０上に形成された蒸着膜のラインソース１０ａの長軸方向における膜厚分布を示す図であり、図８の（ｂ）は、基板２０上に形成された蒸着膜のラインソース１０ａの短軸方向における膜厚分布を示す図である。
なお、スリットノズル１ａの幅は２ｍｍで、長さは３６ｍｍと上述した実施の形態１と同様であるので、ラインソース１０ａの各々のスリットノズル１ａのスリットノズル幅方向ｎ値は、約２５０で、スリットノズル長さ方向ｎ値は、約３で上述した実施の形態１と同じである。
すなわち、ラインソース１０ａの各々のスリットノズル１ａは、スリットノズル１ａの幅方向と長さ方向とで十分な異方性効果が得られる特定のスリット形状に形成されている。
図８の（ａ）に図示されているように、基板２０上に形成された蒸着膜のラインソース長軸方向の膜厚分布は、概ねフラットであり、均一な膜厚分布を得ることができる。具体的には、基板幅６００ｍｍの領域においては±２％の膜厚分布を得ることができ、そのさらに内側である５００ｍｍの領域おいては、±０．５％の膜厚分布を得ることができ、上述した実施の形態１よりさらに良好な膜厚分布を得ることができる。
一方、図８の（ｂ）に図示されているように、基板２０のスリットノズル幅方向の±２０ｍｍの範囲より外側には、ほとんど蒸着粒子が到達せず、基板２０のスリットノズル幅方向の非常に狭い領域（基板２０のスリットノズル幅方向の±２０ｍｍの範囲以内）にのみ蒸着膜を形成することができる。上述した実施の形態１に比べても、基板２０のスリットノズル幅方向のさらに非常に狭い領域にのみ蒸着膜を形成することができる。
以上のように、基板２０とラインソース１０ａの天板１１ａとの間の距離を短く設定できると、蒸着レートが向上し、量産性の向上を図れるとともに、蒸着装置自体のコンパクト化も可能となるため、メリットが大きい。
しかしながら、単純に基板２０とラインソース１０ａの天板１１ａとの間の距離を短くした場合には、蒸着膜のラインソース１０ａの長軸方向の膜厚分布の均一性を得るのは困難である。そこで、本実施の形態においては、スリットノズル１ａの間の間隙を２４ｍｍに縮め、そのピッチが６０ｍｍとなるようにし、ラインソース１０ａの天板１１ａに形成されたスリットノズル１ａの数を増やすことで、基板２０とラインソース１０ａの天板１１ａとの間の距離を短くした場合にも、蒸着膜のラインソース１０ａの長軸方向の膜厚分布の均一性を確保できるようにした。
したがって、スリットノズル幅方向においては、従来のように、防着板（制御板ともいう）を用いなくても、蒸着粒子が真空チャンバー内に飛散するのを抑制できるので、コンパクト化や高い蒸着材料の利用効率を実現できるラインソース１０ａや蒸着装置３０ａを提供できる。また、ラインソース１０ａの天板１１ａのスリットノズル１ａから射出された蒸着粒子が蒸着される基板２０を備えた蒸着装置３０ａにおいては、ラインソース１０ａの天板１１ａと基板２０との間の距離は、スリットノズル１ａの間の間隙とスリットノズル１ａの長さとを合わせた長さが短い程、短く設定されるので、蒸着装置３０ａをさらにコンパクト化することができる。
〔実施の形態３〕
次に、図９に基づいて、本発明の実施の形態３について説明する。本実施の形態においては、スリットノズル長さ/幅比率は、上述した実施の形態１および２と同じで１８で、実際、スリットノズルの幅が４ｍｍと大きくなっているため、上述した実施の形態１および２からは多少のｎ値の変動が生じるものと考えられるが、ラインソース１０ｂの各々のスリットノズル１ｂのスリットノズル幅方向ｎ値は、約２５０で、スリットノズル長さ方向ｎ値は、約３となる。なお、スリットノズル１ｂ・１ｂ’の長さが７２ｍｍで、スリットノズル１ｂ・１ｂ’の幅が４ｍｍと、実施の形態１および２のスリットノズル１・１ａの長さおよび幅の各々の２倍となっている点において実施の形態１および２とは異なり、その他については実施の形態１において説明したとおりである。説明の便宜上、実施の形態１および２の図面に示した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付し、その説明を省略する。
図９は、ラインソース１０ｂの天板１１ｂを示す図である。
図９に図示されているように、スリットノズル１ｂ・１ｂ’は、幅が４ｍｍで、長さが７２ｍｍで、最隣接する第１列目のスリットノズル１ｂの間および最隣接する第２列目のスリットノズル１ｂ’の間に４８ｍｍの間隙があるように、スリットノズル１ｂ・１ｂ’を複数列の直線状に一定間隔で形成している。スリットノズル１ｂ・１ｂ’のサイズそのものが上述した実施の形態１および２におけるスリットノズル１・１ａのサイズの２倍になったため、上述した実施の形態１および２のように、１３個のスリットノズル１ｂ・１ｂ’をラインソース１０ｂの長軸方向に１列で形成することはできない。したがって、本実施の形態においては、第１列目に７つのスリットノズル１ｂを配置し、第２列目に６つのスリットノズル１ｂ’を配置し、さらに、ラインソース１０ｂの長軸方向の膜厚均一性を向上させるため、ラインソース１０ｂの短軸方向において互いに隣接する第１列目のスリットノズル１ｂと第２列目のスリットノズル１ｂ’とは、ラインソース１０ｂの長軸方向の中心が互いにずれるように配置されており、具体的には、例えば、図中Ｘ方向に隣り合う２つの第１列目のスリットノズル１ｂ間の中点が、第２列目のスリットノズル１ｂ’の図中Ｘ方向の中点と一致するように配置されている（または、図中Ｘ方向に隣り合う２つの第２列目のスリットノズル１ｂ’間の中点が、第１列目のスリットノズル１ｂの図中Ｘ方向の中点と一致するように配置されている）。すなわち、図中Ｙ方向において互いに隣接するスリットノズルのうち一方のスリットノズルと該一方のスリットノズルに図中Ｘ方向において隣接するスリットノズルとの間の領域の中心は、図中Ｙ方向において互いに隣接するスリットノズルのうち他方のスリットノズルの図中Ｘ方向の中心と一致する。
なお、本実施の形態においては、ラインソース１０ｂを図中の走査方向中、上方向であるＹ方向に走査した場合に、基板２０に先に到達するスリットノズルを第１列目のスリットノズル１ｂとし、基板２０に後で到達するスリットノズルを第２列目のスリットノズル１ｂ’とした。
本実施の形態においては、２列で形成し、１列当りのスリットノズル１ｂの個数を６つおよび７つにした場合を例に挙げて説明したが、列の数や１列当りのスリットノズル１ｂの個数はこれに限定されることはない。また、ラインソース１０ｂの短軸方向において互いに隣接する第１列目のスリットノズル１ｂと第２列目のスリットノズル１ｂ’とは、必ずしも、ラインソース１０ｂの長軸方向の中心が互いにずれるように配置されなくてもよく、例えば、図中Ｘ方向に隣り合う２つの第１列目のスリットノズル１ｂ間の中点が、第２列目のスリットノズル１ｂ’の図中Ｘ方向の中点と一致するように配置されなくてもよい。
なお、本実施の形態においては、スリットノズル１ｂ・１ｂ’は、スリットノズル１ｂ・１ｂ’の長さ７２ｍｍとスリットノズル１ｂ・１ｂ’の間の間隙４８ｍｍとを合わせて１２０ｍｍとなるように、すなわち、そのピッチが実施の形態１と同様に、１２０ｍｍとなるように配置されているので、ラインソース１０ｂの長軸方向の膜厚均一性を確保するため、ラインソース１０ｂの天板１１ｂと基板２０との間の距離を実施の形態１と同様に２００ｍｍに設定した。
また、本実施の形態においても、上述した実施の形態１および２と同様に、ラインソース１０ｂの天板１１ｂに設けられた複数のスリットノズル１ｂ・１ｂ’のＺ軸方向（第３方向）の深さは、１０ｍｍとしたが、これに限定されることはなく、５ｍｍ以上、２０ｍｍ以下であればよい。
スリットノズル１ｂ・１ｂ’のサイズそのものが大きいラインソース１０ｂを用いることにより、蒸着レートを増大でき、高いスループットを得ることができる。
その反面、単純にスリットノズル１ｂ・１ｂ’のサイズそのもののみを大きくしただけでは、膜厚分布の変動や所定個数のスリットノズル１ｂをラインソース１０ｂ内に形成できなくなる現象が生じるだけである。
本実施の形態においては、スリットノズル１ｂ・１ｂ’のサイズそのものを大きくしながらも、スリットノズル１ｂ・１ｂ’の深さを５ｍｍ以上、２０ｍｍ以下とし、スリットノズル１ｂ・１ｂ’の幅は１ｍｍ以上、５ｍｍ以下とし、スリットノズル１ｂ・１ｂ’の長さ（第１辺の長さ）は、スリットノズル１ｂ・１ｂ’の幅（第２辺の長さ）の４倍以上、５０倍以下であるという強い蒸着分布の異方性を発現するための条件を満たすようにした。
したがって、成膜分布が均一でありながら、高い蒸着材料の利用効率を実現できるラインソース１０ｂおよび蒸着装置を実現できるとともに、蒸着レートを増大でき、高いスループットを得ることもできる。
〔まとめ〕
本発明の態様１に係る蒸着源は、蒸着粒子を射出する複数の開口部が一つの面に形成され、第１方向の長さが同一平面内において上記第１方向と直交する第２方向の長さより長い蒸着源であって、上記複数の開口部の各々は、上記第１方向に平行で、互いに対向する同じ長さの２つの第１辺と、上記第２方向に平行で、互いに対向する同じ長さの２つの第２辺とに囲まれてスリット形状で形成されているとともに、上記第１方向に沿って直線状に一定間隔で形成されており、上記第１辺の長さは、上記第２辺の長さの４倍以上、５０倍以下であり、上記第２辺の長さは１ｍｍ以上、５ｍｍ以下であり、上記第１方向および上記第２方向と直交する第３方向における上記開口部の深さは５ｍｍ以上、２０ｍｍ以下であることを特徴としている。
上記構成によれば、上記開口部の各々においては、上記第１辺の長さは、上記第２辺の長さの４倍以上、５０倍以下であり、上記第２辺の長さは１ｍｍ以上、５ｍｍ以下であり、上記第１方向および上記第２方向と直交する第３方向における上記開口部の深さは５ｍｍ以上、２０ｍｍ以下であるので、上記複数の開口部の各々は、上記開口部の第１方向と第２方向とで十分な異方性効果が得られるある特定のスリット形状となる。また、上記複数の開口部の各々は、上記開口部のより長い方が上記蒸着源の第１方向に沿って形成されている。
したがって、上記開口部によれば、上記蒸着粒子の上記第１方向の飛散範囲は広く、上記蒸着粒子の上記第２方向の飛散範囲は狭く制御することができるので、成膜分布が均一でありながら、高い蒸着材料の利用効率を実現できる蒸着源を実現できる。
本発明の態様２に係る蒸着源は、上記態様１において、上記第１辺の長さは、上記第２辺の長さの１０倍以上であることが好ましい。
上記構成によれば、上記開口部の第１方向と第２方向とでさらに大きい異方性効果が得られる。
本発明の態様３に係る蒸着源は、上記態様１または２において、上記第１辺の長さは、上記第２辺の長さの３０倍以下であることが好ましい。
上記構成によれば、蒸着レートや蒸着源の熱分布の変動による蒸着分布形状の変動が著しく大きくなってしまうのを抑制することができる。
本発明の態様４に係る蒸着源は、上記態様１から３の何れかにおいて、上記一つの面には、上記複数の開口部が少なくとも５個以上設けられていることが好ましい。
上記構成によれば、上記蒸着粒子の上記第１方向の飛散範囲は広く、上記第１方向において均一な成膜分布を得ることができる。
本発明の態様５に係る蒸着源は、上記態様１から４の何れかにおいて、上記一定間隔と上記第１辺の長さとを合わせた長さは、上記第１辺の長さの１．５倍以上、上記蒸着源の上記第１方向の長さの０．２倍以下であることが好ましい。
上記構成によれば、上記第１方向において均一な成膜分布を得ることができる。
本発明の態様６に係る蒸着源は、上記態様１から５の何れかにおいて、上記複数の開口部の各々は、上記第１方向に沿って複数列の直線状に一定間隔で形成されていてもよい。
上記構成によれば、上記開口部のサイズが大きい場合にも、上記開口部の全てを上記蒸着源の上記一つの面に形成することができる。
本発明の態様７に係る蒸着源は、上記態様６において、上記第２方向において互いに隣接する開口部同士は、上記開口部の第１方向の中心が互いにずれていることが好ましい。
上記構成によれば、膜厚均一性の悪化を招くのを抑制できる。
本発明の態様８に係る蒸着源は、上記態様７において、上記第２方向において互いに隣接する開口部のうち一方の開口部と該一方の開口部に上記第１方向において隣接する開口部との間の領域の中心は、上記第２方向において互いに隣接する開口部のうち他方の開口部の上記第１方向の中心と一致することが好ましい。
上記構成によれば、膜厚均一性の悪化を招くのを抑制できる。
本発明の態様９に係る蒸着装置は、上記態様１から８の何れかの蒸着源を備えていることを特徴としている。
上記構成によれば、上記蒸着装置は、上記蒸着源を備えているので、成膜分布が均一でありながら、高い蒸着材料の利用効率を実現できる。
本発明の態様１０に係る蒸着装置は、上記態様９において、上記蒸着源から射出された蒸着粒子を基板に蒸着させるとともに、上記蒸着源の上記一つの面と上記基板との間の距離は、上記一定間隔と上記第１辺の長さとを合わせた長さが短い程、短く設定されることが好ましい。
上記構成によれば、成膜分布が均一でありながら、高い蒸着材料の利用効率を実現できるとともに、蒸着装置のコンパクト化も実現することができる。
本発明の態様１１に係る蒸着膜製造方法は、上記態様１から８の何れかに記載の蒸着源を用いた、基板への蒸着膜製造方法であって、上記基板および上記蒸着源の少なくとも一つを、上記第２方向に移動させながら蒸着を行うことが好ましい。
上記方法によれば、基板上に形成される成膜分布が均一でありながら、高い蒸着材料の利用効率を実現できる。
本発明の態様１２に係る蒸着膜製造方法は、上記態様１１において、上記蒸着源の上記一つの面と上記基板との間の距離を、上記一定間隔と上記第１辺の長さとを合わせた長さが短い程、短く設定することが好ましい。
上記方法によれば、基板上に形成される成膜分布が均一でありながら、高い蒸着材料の利用効率を実現できる。
〔付記事項〕
本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。さらに、各実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を組み合わせることにより、新しい技術的特徴を形成することができる。
本発明は、蒸着源、蒸着装置および蒸着膜製造方法に利用することができる。
１ スリットノズル（開口部）
１ａ スリットノズル（開口部）
１ｂ スリットノズル（開口部）
１ｂ’ スリットノズル（開口部）
１０ ラインソース（蒸着源）
１０ａ ラインソース（蒸着源）
１０ｂ ラインソース（蒸着源）
１０Ｕ 一つのスリットノズルのみが存在する蒸着源
１１ 天板
１１ａ 天板
１１ｂ 天板
２０ 基板
２１ 蒸着膜
３０ 蒸着装置
３０ａ 蒸着装置
Ｗ スリットノズルの幅（第２辺の長さ）
Ｌ スリットノズルの長さ（第１辺の長さ）
Ａ 第１辺
Ｂ 第２辺

Claims (12)

  1. 蒸着粒子を射出する複数の開口部が一つの面に形成され、第１方向の長さが同一平面内において上記第１方向と直交する第２方向の長さより長い蒸着源であって、
    上記複数の開口部の各々は、上記第１方向に平行で、互いに対向する同じ長さの２つの第１辺と、上記第２方向に平行で、互いに対向する同じ長さの２つの第２辺とに囲まれてスリット形状で形成されているとともに、上記第１方向に沿って直線状に一定間隔で形成されており、
    上記第１辺の長さは、上記第２辺の長さの４倍以上、５０倍以下であり、
    上記第２辺の長さは１ｍｍ以上、５ｍｍ以下であり、
    上記第１方向および上記第２方向と直交する第３方向における上記開口部の深さは５ｍｍ以上、２０ｍｍ以下であることを特徴とする蒸着源。
  2. 上記第１辺の長さは、上記第２辺の長さの１０倍以上であることを特徴とする請求項１に記載の蒸着源。
  3. 上記第１辺の長さは、上記第２辺の長さの３０倍以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の蒸着源。
  4. 上記一つの面には、上記複数の開口部が少なくとも５個以上設けられていることを特徴とする請求項１から３の何れか１項に記載の蒸着源。
  5. 上記一定間隔と上記第１辺の長さとを合わせた長さは、上記第１辺の長さの１．５倍以上、上記蒸着源の上記第１方向の長さの０．２倍以下であることを特徴とする請求項１から４の何れか１項に記載の蒸着源。
  6. 上記複数の開口部の各々は、上記第１方向に沿って複数列の直線状に一定間隔で形成されていることを特徴とする請求項１から５の何れか１項に記載の蒸着源。
  7. 上記第２方向において互いに隣接する開口部同士は、上記開口部の第１方向の中心が互いにずれていることを特徴とする請求項６に記載の蒸着源。
  8. 上記第２方向において互いに隣接する開口部のうち一方の開口部と該一方の開口部に上記第１方向において隣接する開口部との間の領域の中心は、上記第２方向において互いに隣接する開口部のうち他方の開口部の上記第１方向の中心と一致することを特徴とする請求項７に記載の蒸着源。
  9. 請求項１から８の何れか１項に記載の蒸着源を備えていることを特徴とする蒸着装置。
  10. 上記蒸着源から射出された蒸着粒子を基板に蒸着させるとともに、
    上記蒸着源の上記一つの面と上記基板との間の距離は、上記一定間隔と上記第１辺の長さとを合わせた長さが短い程、短く設定されることを特徴とする請求項９に記載の蒸着装置。
  11. 上記請求項１から８の何れか１項に記載の蒸着源を用いた、基板への蒸着膜製造方法であって、
    上記基板および上記蒸着源の少なくとも一つを、上記第２方向に移動させながら蒸着を行うことを特徴とする蒸着膜製造方法。
  12. 上記蒸着源の上記一つの面と上記基板との間の距離を、上記一定間隔と上記第１辺の長さとを合わせた長さが短い程、短く設定することを特徴とする請求項１１に記載の蒸着膜製造方法。
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